JP2007190660A - 研摩装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】研摩ヘッド2に固定され、先端が研摩定盤に接して研摩ヘッド2と研摩定盤の間隔を制御可能に保持するアクチュエータ4a付きの2個のマイクロメータと、研摩ヘッド2の研摩試料10上に設けられ、研摩試料10の厚さを測定する3個の膜厚測定器3a〜3cとを備え、膜厚測定器3a〜3cの測定値に基づき研摩試料10の平行度を修正するようにアクチュエータ4aを制御する。研摩中に研摩試料10の板厚分布を3個の膜厚測定器3a〜3cで検出し、その板厚分布を研摩中にアクチュエータ4aを制御して修正するから、平行度の高い薄片試料を作製することができる。
【選択図】図1
Description
(付記1)研摩ヘッドの下面に固定された研摩試料を研摩定盤上に押圧して、前記研摩試料を薄片に研磨する研摩装置において、
前記研摩ヘッドに固定され、先端が前記研摩定盤に接して前記研摩ヘッドと前記研摩定盤の間隔を制御可能に保持するアクチュエータ付きのマイクロメータと、
前記研摩ヘッドの前記研摩試料上に設けられた、前記研摩試料の厚さを測定する膜厚測定器と、
前記膜厚測定器の測定値に基づき、前記研摩試料の平行度を修正するように前記アクチュエータを制御する制御装置とを有することを特徴とする研摩装置。
(付記2)2個の前記マイクロメータを有することを特徴とする付記1記載の研摩装置。
(付記3)3個の前記膜厚測定器を有することを特徴とする付記1又は2記載の研摩装置。
(付記4)複数の前記膜厚測定器と前記マイクロメータが直線上に配設されたことを特徴とする付記1、2又は3記載の研摩装置。
(付記5)前記膜厚測定器は、第1膜厚測定器と、前記第1膜厚測定器と2個の前記マイクロメータとを結ぶ直線上にそれぞれ配設された第2及び第3膜厚測定器とを有することを特徴とする付記4記載の研摩装置。
(付記6)前記研摩ヘッドの前記研摩試料の外側に設けられ、前記研摩ヘッドと前記研摩定盤の間隔を測定する間隔測定器を有することを特徴とする付記1、2、3、4又は5記載の研摩装置。
(付記7)2個の前記間隔測定器を有することを特徴とする付記6記載の研摩装置。
(付記8)前記アクチュエータは、ピエゾ素子又はステッピングモータにより駆動される直線移動素子であることを特徴とする付記1、2、3、4、5、6又は7記載の研摩装置。
(付記9)前記膜厚測定装置は、ループコイル式、静電容量式または光学式の膜厚測定装置であることを特徴とする請求項1、2、3、4、5、6、7又は8記載の研摩装置。
2 研摩ヘッド
4 マイクロメータ
4a アクチュエータ
4b スピンドル
4c シンブル
3 膜厚測定器
3a 第1膜厚測定器
3b 第2膜厚測定器
3c 第3膜厚測定器
6 ウエイト
5 支持具
7 アーム
8 研摩定盤
10 研摩試料
11 スラリー供給装置
12 制御装置
13 間隔測定器
14 スラリー
Claims (5)
- 研摩ヘッドの下面に固定された研摩試料を研摩定盤上に押圧して、前記研摩試料を薄片に研磨する研摩装置において、
前記研摩ヘッドに固定され、先端が前記研摩定盤に接して前記研摩ヘッドと前記研摩定盤の間隔を制御可能に保持するアクチュエータ付きのマイクロメータと、
前記研摩ヘッドの前記研摩試料上に設けられた、前記研摩試料の厚さを測定する膜厚測定器と、
前記膜厚測定器の測定値に基づき、前記研摩試料の平行度を修正するように前記アクチュエータを制御する制御装置とを有することを特徴とする研摩装置。 - 複数の前記膜厚測定器と前記マイクロメータが直線上に配設されたことを特徴とする請求項1記載の研摩装置。
- 前記研摩ヘッドの前記研摩試料の外側に設けられ、前記研摩ヘッドと前記研摩定盤の間隔を測定する間隔測定器を有することを特徴とする請求項1又は2記載の研摩装置。
- 前記アクチュエータは、ピエゾ素子又はステッピングモータにより駆動される直線移動素子であることを特徴とする請求項1、2又は3記載の研摩装置。
- 前記膜厚測定装置は、ループコイル式、静電容量式または光学式の膜厚測定装置であることを特徴とする請求項1、2、3又は4記載の研摩装置。
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JP2006013210A JP4811027B2 (ja) | 2006-01-20 | 2006-01-20 | 研摩装置 |
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JP2006013210A JP4811027B2 (ja) | 2006-01-20 | 2006-01-20 | 研摩装置 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111113201A (zh) * | 2020-02-17 | 2020-05-08 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 用于光学元件快速抛光的浮动加压夹持装置及其方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0615562A (ja) * | 1992-07-02 | 1994-01-25 | Fujitsu Ltd | ラッピング加工装置 |
JPH07314327A (ja) * | 1994-05-20 | 1995-12-05 | Sony Corp | ウエハ研磨装置およびその方法 |
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---|---|---|---|---|
JPH0615562A (ja) * | 1992-07-02 | 1994-01-25 | Fujitsu Ltd | ラッピング加工装置 |
JPH07314327A (ja) * | 1994-05-20 | 1995-12-05 | Sony Corp | ウエハ研磨装置およびその方法 |
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