JP2007188905A - 荷電粒子線装置用試料ホールダ - Google Patents
荷電粒子線装置用試料ホールダ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007188905A JP2007188905A JP2007112482A JP2007112482A JP2007188905A JP 2007188905 A JP2007188905 A JP 2007188905A JP 2007112482 A JP2007112482 A JP 2007112482A JP 2007112482 A JP2007112482 A JP 2007112482A JP 2007188905 A JP2007188905 A JP 2007188905A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- charged particle
- particle beam
- holder
- sample holder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
本発明の目的は、複数方向からの加工や観察の可能な試料ホールダを提供することにある。
【解決手段】
上記目的は、荷電粒子線装置用試料ホールダにおいて、ホールダに備え付けた試料台が、任意の角度に方向付けられる機構と、微動装置を備えることで達成される。このような構成によれば、微小試料片を試料台から取り外すことなく、イオンビームによる加工および任意の方向からの二次電子像および電子顕微鏡観察が可能となる。
【選択図】図3
Description
mrad以内で散乱を受けた透過電子を検出して走査像表示装置11により、明視野透過電子像を表示する。円環状検出器12についても同様であり、電子線17の照射によって、試料7から散乱角度が半角約80〜500mradの範囲で散乱した電子(弾性散乱電子)を検出し、走査像表示装置11により、暗視野透過電子像を表示する。また、照射レンズ3の条件を変えることにより、試料7面上に、ある広がりをもった電子線17が照射され、試料7を透過した電子は対物レンズ4により、結像され、その像は投射レンズ5により拡大され、TVカメラ14上に投影される。投影された透過電子像はTVカメラ制御部15を介し、TVモニター16上に表示される。試料7は試料ホールダ8に接続されたホールダ制御部9により、電子線光軸上で角度を変えることが可能で、様々な角度から二次電子像,走査透過像,透過電子像を観察することが可能である。
FIB加工により作製した微小試料の運搬のためのマイクロプローブ26がとりつけられている。二次電子検出器24には走査像表示装置27が接続されている。走査像表示装置27は走査電極制御部28を介して走査電極22に接続されている。また、マイクロプローブ26にはマイクロプローブ26の位置制御のためのマイクロプローブ制御装置29が接続されている。また、試料ホールダ8は、ホールダ制御部9に接続されている。イオン銃19から放出されたイオンビーム30は、コンデンサーレンズ20と絞り21により収束され、対物レンズ23を通過し、試料7上に収束する。対物レンズ23上方の走査電極22は、走査電極制御部28の指示により、試料7に入射するイオンビーム30を偏向し走査させる。イオンビーム30が試料7に照射されると、試料7はスパッタされるとともに二次電子を発生する。発生した二次電子は、二次電子検出器24により検出され走査像表示装置27に表示される。デポジション銃25より試料7方向に放出されたガスはイオンビーム30と反応し分解され、金属が試料7面上のイオンビーム30照射領域に堆積する。この堆積膜は、FIB加工前の試料7表面の保護膜の形成および微小試料片の試料台への固定に用いられる。試料7は試料ホールダ8に接続されたホールダ制御部9により、イオンビーム30光軸上で角度を変えることが可能で、様々な角度から加工することが可能である。
34が回転する。また、試料ホールダ8はFIB装置18内でイオンビーム30が入射する際、ホールダ8の構造物がイオンビーム30をさえぎることの無いよう一部解放された構造となっている。
(試料支持部)を固定した例を示す。傘歯車32および34は中空状になっており、試料台35を差し込むように装着することができる。FIBによる加工を行うときは、試料台35を傘歯車34に装着し、FIB装置18に試料ホールダ8を挿入し、試料台35上方よりイオンビーム30を入射させ、微小試料片36を加工する。イオンビーム30を一点に留まらせたまま試料台35を回転させると、円筒状の微小試料片36を加工することができる。加工が終わったら、ホールダ軸31自体を90°回転させ透過電子顕微鏡1試料室にホールダ8を挿入し、試料台35の側面から電子線17を入射させる。すなわち、紙面に垂直方向から電子線17を入射させて透過像を観察する。この際、試料回転軸33を動かすことにより、傘歯車34が回転し、試料36の周囲360°の方向から観察することが可能である。また、図5(b)に示したように試料台35を付け替えるようにしてもよい。これにより、X線分析時において効率よくX線の取り出しが可能な方向を選択することができる。
31自体が回転する機構、傘歯車32と38が設けられている。ホールダ8先端部全体は軸周りに360°回転可能である。試料回転軸33の先端には、傘歯車32が備え付けられている。また、傘歯車32と傘歯車38は噛み合うように接しているので、試料回転軸33を動作させることにより、傘歯車38を360°回転させることができる。試料台
35は傘歯車38上の固定台39に装着する。微小試料片36は試料台35の先端に取り付けられている。
(b)に示すように電子線17を入射させ、その二次電子像および透過像を観察する。
Claims (6)
- 液体金属を備えたイオン源と、該イオン源から発せられたイオンビームを加速する高電圧電源と、イオンビームを試料面上に集束するレンズと、集束されたイオンビームを試料面上で走査する偏向装置と試料を固定した試料ホールダを挿入する試料室を備えた集束イオンビーム加工装置,電子を放出する電子源と該電子を加速する高電圧電源と試料上への電子の集束と、試料を透過した電子像を観察する機能を備えた電子線装置の双方に使用可能な共用試料ホールダにおいて、試料台を集束イオンビームの光軸を中心として、軸に垂直な面内を360°回転する機能を有することを特徴とする荷電粒子線装置用試料ホールダ。
- 請求項1記載の荷電粒子線装置用試料ホールダにおいて、ホールダ軸を中心として、軸に垂直な面内を360°回転する機能をホールダ軸内部に有することを特徴とする荷電粒子線装置用試料ホールダ。
- 請求項1の回転機構と請求項2の回転機構の双方に装着可能な試料台を有することを特徴とする荷電粒子線装置用試料ホールダ。
- 請求項2および請求項3記載の荷電粒子線装置用試料ホールダにおいて、電子線の進行方向に対し直角に固定した試料を電子線光軸を円心とし、360°回転できる機能を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置用試料ホールダ。
- 請求項2および請求項3記載の荷電粒子線装置用試料ホールダにおいて、集束イオンビームの進行方向に対し直角に固定した試料を集束イオンビーム光軸を円心とし、360°回転できる機能を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置用試料ホールダ。
- 荷電粒子線が照射される個所で、荷電粒子線の照射対象である試料を保持すると共に、荷電粒子線照射装置鏡体の側部から挿入可能に構成される試料ホールダにおいて、
前記挿入方向に回転軸を有する第1の傘歯車と、当該第1の傘歯車に噛み合うと共に、前記荷電粒子線の照射方向に回転軸を有する第2の傘歯車と、当該第2の傘歯車に固着、或いは取り付けられ、前記試料を支持する試料支持部を備えたことを特徴とする試料ホールダ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007112482A JP4654216B2 (ja) | 2007-04-23 | 2007-04-23 | 荷電粒子線装置用試料ホールダ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007112482A JP4654216B2 (ja) | 2007-04-23 | 2007-04-23 | 荷電粒子線装置用試料ホールダ |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002244504A Division JP2004087214A (ja) | 2002-08-26 | 2002-08-26 | 荷電粒子線装置用試料ホールダ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007188905A true JP2007188905A (ja) | 2007-07-26 |
JP4654216B2 JP4654216B2 (ja) | 2011-03-16 |
Family
ID=38343887
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007112482A Expired - Lifetime JP4654216B2 (ja) | 2007-04-23 | 2007-04-23 | 荷電粒子線装置用試料ホールダ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4654216B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010133739A (ja) * | 2008-12-02 | 2010-06-17 | Hitachi High-Technologies Corp | 観察試料作製方法及び観察試料作製装置 |
JP2010146957A (ja) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Nippon Steel Corp | 試料ホルダー |
WO2011011659A2 (en) * | 2009-07-24 | 2011-01-27 | Omniprobe, Inc. | Variable-tilt tem specimen holder for charged-particle beam instruments |
WO2011011661A2 (en) * | 2009-07-24 | 2011-01-27 | Omniprobe, Inc. | Method and apparatus for the monitoring of sample milling in a charged particle instrument |
WO2011052489A1 (ja) | 2009-10-26 | 2011-05-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における三次元情報の表示方法 |
WO2013108711A1 (ja) * | 2012-01-20 | 2013-07-25 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線顕微鏡、荷電粒子線顕微鏡用試料ホルダ及び荷電粒子線顕微方法 |
CN110010435A (zh) * | 2019-04-18 | 2019-07-12 | 山东省分析测试中心 | 一种原位失效分析样品台及扫描电镜 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112021007286T5 (de) | 2021-05-17 | 2024-01-25 | Hitachi High-Tech Corporation | Probenhalter und analysesystem |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6097537A (ja) * | 1983-11-01 | 1985-05-31 | Internatl Precision Inc | 電子線装置の試料装置 |
JPH09306403A (ja) * | 1996-05-20 | 1997-11-28 | Hitachi Ltd | 試料処理装置 |
JPH10111223A (ja) * | 1996-10-04 | 1998-04-28 | Hitachi Ltd | 3次元構造観察用試料作製装置、電子顕微鏡及びその方法 |
JP2001084951A (ja) * | 1999-09-17 | 2001-03-30 | Hitachi Ltd | 加工観察装置及び試料加工方法 |
JP2002025490A (ja) * | 2000-07-13 | 2002-01-25 | Mitsubishi Electric Corp | 電子顕微鏡の試料ホルダー、試料台および試料台用治具 |
JP2004087214A (ja) * | 2002-08-26 | 2004-03-18 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置用試料ホールダ |
-
2007
- 2007-04-23 JP JP2007112482A patent/JP4654216B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6097537A (ja) * | 1983-11-01 | 1985-05-31 | Internatl Precision Inc | 電子線装置の試料装置 |
JPH09306403A (ja) * | 1996-05-20 | 1997-11-28 | Hitachi Ltd | 試料処理装置 |
JPH10111223A (ja) * | 1996-10-04 | 1998-04-28 | Hitachi Ltd | 3次元構造観察用試料作製装置、電子顕微鏡及びその方法 |
JP2001084951A (ja) * | 1999-09-17 | 2001-03-30 | Hitachi Ltd | 加工観察装置及び試料加工方法 |
JP2002025490A (ja) * | 2000-07-13 | 2002-01-25 | Mitsubishi Electric Corp | 電子顕微鏡の試料ホルダー、試料台および試料台用治具 |
JP2004087214A (ja) * | 2002-08-26 | 2004-03-18 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置用試料ホールダ |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010133739A (ja) * | 2008-12-02 | 2010-06-17 | Hitachi High-Technologies Corp | 観察試料作製方法及び観察試料作製装置 |
JP2010146957A (ja) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Nippon Steel Corp | 試料ホルダー |
US8227781B2 (en) | 2009-07-24 | 2012-07-24 | Lyudmila Zaykova-Feldman | Variable-tilt specimen holder and method and for monitoring milling in a charged-particle instrument |
WO2011011659A2 (en) * | 2009-07-24 | 2011-01-27 | Omniprobe, Inc. | Variable-tilt tem specimen holder for charged-particle beam instruments |
WO2011011661A2 (en) * | 2009-07-24 | 2011-01-27 | Omniprobe, Inc. | Method and apparatus for the monitoring of sample milling in a charged particle instrument |
WO2011011661A3 (en) * | 2009-07-24 | 2011-04-28 | Omniprobe, Inc. | Method and apparatus for the monitoring of sample milling in a charged particle instrument |
WO2011011659A3 (en) * | 2009-07-24 | 2011-04-28 | Omniprobe, Inc. | Variable-tilt tem specimen holder for charged-particle beam instruments |
EP2495748A1 (en) * | 2009-10-26 | 2012-09-05 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle radiation apparatus, and method for displaying three-dimensional information in charged particle radiation apparatus |
WO2011052489A1 (ja) | 2009-10-26 | 2011-05-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における三次元情報の表示方法 |
EP2495748A4 (en) * | 2009-10-26 | 2013-12-04 | Hitachi High Tech Corp | CHARGED PARTICLE RADIATION APPARATUS, AND METHOD FOR DISPLAYING THREE DIMENSIONAL INFORMATION IN THE CHARGED PARTICLE RADIATION APPARATUS |
US9099281B2 (en) | 2009-10-26 | 2015-08-04 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle radiation apparatus, and method for displaying three-dimensional information in charged particle radiation apparatus |
WO2013108711A1 (ja) * | 2012-01-20 | 2013-07-25 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線顕微鏡、荷電粒子線顕微鏡用試料ホルダ及び荷電粒子線顕微方法 |
US8963102B2 (en) | 2012-01-20 | 2015-02-24 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam microscope, sample holder for charged particle beam microscope, and charged particle beam microscopy |
DE112013000437B4 (de) | 2012-01-20 | 2018-07-26 | Hitachi High-Technologies Corporation | Ladungsteilchenstrahl-Mikroskop, Probenhalter für ein Ladungsteilchenstrahl-Mikroskop und Ladungsteilchenstrahl-Mikroskopie |
CN110010435A (zh) * | 2019-04-18 | 2019-07-12 | 山东省分析测试中心 | 一种原位失效分析样品台及扫描电镜 |
CN110010435B (zh) * | 2019-04-18 | 2024-02-20 | 山东省分析测试中心 | 一种原位失效分析样品台及扫描电镜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4654216B2 (ja) | 2011-03-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4654216B2 (ja) | 荷電粒子線装置用試料ホールダ | |
JP6262453B2 (ja) | 粒子光学装置での薄片の調製及び可視化方法 | |
JP5048596B2 (ja) | 試料台,試料回転ホルダ,試料台作製方法,及び試料分析方法 | |
WO2013108711A1 (ja) | 荷電粒子線顕微鏡、荷電粒子線顕微鏡用試料ホルダ及び荷電粒子線顕微方法 | |
TWI768001B (zh) | 帶電粒子束裝置以及試樣加工方法 | |
US9293297B2 (en) | Correlative optical and charged particle microscope | |
US10483084B2 (en) | Object preparation device and particle beam device having an object preparation device and method for operating the particle beam device | |
JP2017174503A (ja) | 集束イオンビーム装置 | |
JP6207081B2 (ja) | 集束イオンビーム装置 | |
US10504691B2 (en) | Method for generating a composite image of an object and particle beam device for carrying out the method | |
JP2004087214A (ja) | 荷電粒子線装置用試料ホールダ | |
WO2014195998A1 (ja) | 荷電粒子線顕微鏡、荷電粒子線顕微鏡用試料ホルダ及び荷電粒子線顕微方法 | |
JP2011222426A (ja) | 複合荷電粒子ビーム装置 | |
JP4988175B2 (ja) | 荷電粒子装置用試料台 | |
JP3106846U (ja) | 荷電粒子線装置用試料ホールダ | |
KR20180109687A (ko) | 하전 입자 빔 장치 | |
TWI813760B (zh) | 試料加工觀察方法 | |
US20120080406A1 (en) | Method and system for preparing a lamela | |
WO2019168106A1 (ja) | 薄片試料作製装置および薄片試料作製方法 | |
JP7214262B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置、試料加工方法 | |
US20240038489A1 (en) | Method for attaching an object to a manipulator and for moving the object in a particle beam apparatus, computer program product, and particle beam apparatus | |
JP6487294B2 (ja) | 複合荷電粒子ビーム装置 | |
WO2023084773A1 (ja) | 荷電粒子ビーム装置、及び荷電粒子ビーム装置の制御方法 | |
US20230260744A1 (en) | Method for producing a sample on an object, computer program product, and material processing device for carrying out the method | |
JP3488075B2 (ja) | 薄膜試料作製方法及びシステム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070518 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070518 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070425 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070518 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100817 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101015 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101015 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101207 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101220 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4654216 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131224 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |