JP2007184524A - Dry cleaning apparatus for substrate storing container - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は基板収納容器用の乾式洗浄装置に関し、より詳しくは基板収納容器の本体及び蓋をドライアイス粒子で個別的に乾式洗浄する基板収納容器用の乾式洗浄装置に関する。 The present invention relates to a dry cleaning apparatus for a substrate storage container, and more particularly to a dry cleaning apparatus for a substrate storage container for individually dry cleaning a main body and a lid of a substrate storage container with dry ice particles.
一般に、半導体装置やディスプレー装置は半導体ウエハー或いはフラットパネルディスプレー(FPD,Flat panel display)基板を用いて蒸着工程、エッチング工程、写真工程、イオン注入工程などのような多様な製造工程を経て製造される。 Generally, semiconductor devices and display devices are manufactured through various manufacturing processes such as a vapor deposition process, an etching process, a photographic process, and an ion implantation process using a semiconductor wafer or a flat panel display (FPD) substrate. .
前記のような多様な工程の円滑な進行のために、半導体ウエハー或いはフラットパネルディスプレー基板は、各パート別に移送されることをもちろん、同一のパート内でも製造装置間に移送される。 In order to smoothly perform the various processes as described above, the semiconductor wafer or the flat panel display substrate is transferred not only in each part but also in the same part between the manufacturing apparatuses.
例えば、基板は自動化された台車やロボット型移送アームを介して移動可能である。 For example, the substrate can be moved via an automated carriage or robotic transfer arm.
かかる基板は、同一のパート内における比較的短い距離は一枚単位で移動でき、比較的
長距離若しくは安定性が重要時される場合はロット(lot)単位でキャリヤーやカセットなどの基板収納容器に収められて移動できる。
Such a substrate can be moved in units of a relatively short distance within the same part, and in a case where a relatively long distance or stability is important, it can be placed in a substrate storage container such as a carrier or a cassette in units of lots. Can be moved by being contained.
その一例として、基板収納容器のうちポリプロピレン材質からなるものはPPボックスと称する。 As an example, a substrate container made of polypropylene is called a PP box.
前記PPボックスは、内部に基板の収容される収容空間部が形成される本体と、前記本体の入口の周りに取り付けられる蓋とを含む。 The PP box includes a main body in which an accommodation space for accommodating a substrate is formed, and a lid attached around an entrance of the main body.
一方、基板はたとえ微細な異物やパーチクル(particle)でもその表面に付着されると、品質が著しく低下する。 On the other hand, even if a fine foreign substance or particle is attached to the surface of the substrate, the quality is significantly lowered.
このため、基板を収容する基板収容容器は高水準の清浄度が求められる。 For this reason, the substrate container which accommodates a substrate is required to have a high level of cleanliness.
従って、基板収納容器は、基板を収容する前に基板収納容器用の洗浄装置により洗浄工程を経るようになる。 Accordingly, the substrate storage container is subjected to a cleaning process by the substrate storage container cleaning device before the substrate is stored.
一般に、基板収納容器は、前記本体及び蓋に洗浄液を処理した後、乾燥空気を噴射して残留液を乾燥させる湿式洗浄工程を経る。 In general, the substrate storage container is subjected to a wet cleaning process in which a cleaning liquid is processed on the main body and the lid, and then the residual liquid is dried by spraying dry air.
しかし、従来の基板収納容器用の洗浄装置は湿式洗浄方式であるので、洗浄液処理工程及び乾燥空気噴射工程からなる2段階を経なければならないという不都合があった。 However, since the conventional cleaning apparatus for the substrate storage container is a wet cleaning system, there is a disadvantage that two steps including a cleaning liquid treatment process and a dry air injection process must be performed.
また、従来の基板収納容器用の洗浄装置は、洗浄液を処理する装置及び、乾燥空気を噴射する装置がそれぞれ備えられなければならず、このため装置が大型化し、製造コストも高くなるという短所があった。 In addition, the conventional cleaning apparatus for the substrate storage container must be provided with an apparatus for processing the cleaning liquid and an apparatus for injecting dry air, which causes the disadvantage that the apparatus becomes large and the manufacturing cost increases. there were.
更に、従来の基板収納容器用の洗浄装置は、基板収納容器がボックス形状であるため、その内部を乾燥空気により全体として均一に乾燥し難く、精密に洗浄を完了することが容易でないという不具合があった。 Furthermore, since the substrate storage container has a box shape in the conventional substrate storage container cleaning device, it is difficult to dry the inside uniformly with dry air as a whole, and it is not easy to complete cleaning precisely. there were.
また、前記のようにポリプロピレン材質の基板収納容器は乾燥工程で高温の乾燥空気に露出されることによって容易く変形でき、このため寿命が短縮されるという短所があった。 In addition, as described above, the substrate container made of polypropylene can be easily deformed by being exposed to high-temperature dry air in the drying process, and thus has a disadvantage that the life is shortened.
尚、前記した湿式洗浄を含んでブラシや超音波や化学薬品などを用いた種々の洗浄方式が提示されている。 Various cleaning methods using brushes, ultrasonic waves, chemicals, and the like including the above-described wet cleaning have been proposed.
しかし、前記のような洗浄方式は半導体製造技術に発達による精密洗浄に対する要求を充足するには限界が存在する。 However, the above-described cleaning method has a limit to satisfy the demand for precision cleaning due to development in semiconductor manufacturing technology.
更に、近年環境に対する関心が高まることにつれ、環境親和的な洗浄方式に対する要求が増加しているが、前記した洗浄方式はこれを充足できなかった。 Furthermore, as the interest in the environment has increased in recent years, the demand for an environmentally friendly cleaning method has increased, but the above-described cleaning method has not been sufficient.
最近、環境親和的でありながらも前記した従来の洗浄方式の問題点を克服することができる洗浄方式が提案されたことがある。 Recently, there has been proposed a cleaning method that is environmentally friendly but can overcome the problems of the conventional cleaning methods described above.
その代表例として、二酸化炭素(CO2)ガスの相変化によって生じたドライアイス粒子を被洗浄物の表面に高速衝突させて異物又はパーチクルを取り除くドライアイス洗浄方式が提案されている。 As a representative example, a dry ice cleaning method has been proposed in which dry ice particles generated by the phase change of carbon dioxide (CO 2 ) gas collide with the surface of an object to be cleaned at high speed to remove foreign matters or particles.
前記ドライアイス洗浄方式は、ドライアイス粒子が被洗浄物の汚物を取り除き、昇華して残余物を残さないので、湿式洗浄方式に比べて新環境的である。 The dry ice cleaning method is more environmentally friendly than the wet cleaning method because the dry ice particles remove the filth from the object to be cleaned and sublimate to leave no residue.
また、ドライアイス洗浄方式はドライアイス粒子を噴射するただ1段階で洗浄が終わるので、洗浄工程が単純で、かつ装備のサイズも著しく減らすことができるので、クリーンルームの空間活用性の側面でも有利であり、微細洗浄が可能なので汚染粒子を除去し難い部分も洗浄できるという様々な長所を有する。 In addition, the dry ice cleaning method is advantageous in terms of space utilization in the clean room because the cleaning process is simple and the size of the equipment can be significantly reduced because the cleaning is completed in just one stage of spraying dry ice particles. In addition, since fine cleaning is possible, it has various advantages in that it is possible to clean even a portion where it is difficult to remove contaminating particles.
よって、ドライアイス粒子を用いて基板収納容器を洗浄する基板収納容器用の洗浄装置が提示されなければならない必要性がある。 Therefore, there is a need to provide a cleaning device for a substrate storage container that cleans the substrate storage container using dry ice particles.
従って、本発明は前述した従来の問題点に鑑みて案出されたもので、その目的はドライアイス粒子を用いて基板収納容器を洗浄する基板収納容器用の洗浄装置を提供することにある。 Accordingly, the present invention has been devised in view of the above-described conventional problems, and an object thereof is to provide a cleaning apparatus for a substrate storage container that cleans the substrate storage container using dry ice particles.
前記の目的を達成するために、本発明は基板収納容器をローディングするローディング部と、前記基板収納容器をドライアイス粒子により洗浄する洗浄部と、前記洗浄部で洗浄された前記基板収納容器をアンローディングするアンローディング部とを含む。 In order to achieve the above object, the present invention unloads a loading unit for loading a substrate storage container, a cleaning unit for cleaning the substrate storage container with dry ice particles, and the substrate storage container cleaned by the cleaning unit. And an unloading unit for loading.
また、前記ローディング部は、前記基板収納容器の本体及び蓋を相異なる経路で前記洗浄部にローディングし、前記洗浄部は、前記本体及び蓋の全ての内部に対してドライアイス粒子をそれぞれ噴射し、前記アンローディング部は、洗浄された前記本体及び蓋を相異なる経路でアンローディングすることを特徴とする。 The loading unit loads the main body and the lid of the substrate storage container into the cleaning unit through different paths, and the cleaning unit sprays dry ice particles to all the inside of the main body and the lid, respectively. The unloading unit unloads the cleaned main body and lid through different paths.
本発明は、ドライアイス粒子を用いて基板収納容器を洗浄するので、排出される廃棄物がなく新環境的であるという効果がある。 According to the present invention, since the substrate storage container is cleaned using dry ice particles, there is an effect that there is no waste to be discharged and the environment is new.
また、本発明はドライアイスを用いるので、微細洗浄が可能であり、基板収納容器の変形や破損を最小化することにより、その使用寿命を延長させるという効果がある。 In addition, since the present invention uses dry ice, it can be finely cleaned and has the effect of extending its service life by minimizing deformation and breakage of the substrate storage container.
更に、本発明は従来の湿式洗浄装置に比べて洗浄工程が単純に進行されるので、機器のサイズも著しく小型化でき、よって経済的であるという効果がある。 Further, the present invention has an effect that the cleaning process is simply performed as compared with the conventional wet cleaning apparatus, so that the size of the apparatus can be remarkably reduced, and thus it is economical.
また、本発明は基板収納容器の本体及び蓋をドライアイス粒子の噴射方向によって覆したりすることなく運搬状態のままでローディング及びアンローディングするので、作業効率を向上させるという効果がある。 In addition, the present invention has an effect of improving working efficiency because loading and unloading are performed while the substrate container is not transported without covering the main body and lid of the container with the direction of spraying dry ice particles.
以下、添付図面を参照して本発明による好適な実施形態をより詳細に説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
図1は、一般的な基板収納容器を示す断面図である。 FIG. 1 is a cross-sectional view showing a general substrate storage container.
図1に示したように、前記基板収納容器100は、その内部に基板の収容される収容空間部101aが形成される本体101と、前記本体101の収容空間部101aを開閉する蓋102とを含む。
As shown in FIG. 1, the
図2は、本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置を示す概略的な平面図である。 FIG. 2 is a schematic plan view showing a dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to an embodiment of the present invention.
図2に示したように、本発明の一実施形態による基板収納容器用の乾式洗浄装置は、本体101と蓋102とからなる基板収納容器100を、本体101と蓋102に分離してそれぞれ相異なる経路でローディングするローディング部200と、前記ローディング部200によってローディングされた本体101及び蓋102の内部にドライアイス粒子を噴射して洗浄する洗浄部300と、前記洗浄部300で洗浄された本体101及び蓋102を相異なる経路でアンローディングするアンローディング部400と、を含む。
As shown in FIG. 2, the dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to an embodiment of the present invention separates the
前記ローディング部200は、基板収納容器100の本体101をローディングする第
1ローディング部210(211、212)と、基板収納容器100の蓋102をローディングする第2ローディング部220とを含む。
The
このローディング部200は、オペレータが本体101及び蓋102をローディングし易いように第1ローディング210と第2ローディング部220とが隣接して並んで設置されることが望ましい。
In the
前記洗浄部300は、第1ローディング部210によりローディングされる本体101が移送される第1洗浄移送部310と、第2ローディング部220によりローディングされる蓋102が移送される第2洗浄移送部320と、本体101及び蓋102の内部にドライアイス粒子を噴射する乾式噴射手段330とをそれぞれ含む。
The
前記アンローディング部400は、洗浄部300で洗浄された本体101をアンローディングする第1アンローディング部410と、洗浄部300で洗浄された蓋102をアンローディングする第2アンローディング部420とを含む。
The
前記本体101は、一般的な運搬状態で、例えば上方に開口された状態でローディング及びアンローディングが行われることが別途に覆したりする必要がなく好ましい。
It is preferable that the
そして、本体101は、その内部に乾式噴射手段330によってドライアイス粒子が噴射された後、前記ドライアイス粒子と共に除去された異物の重力作用により自然落下するように、下方に開口された状態で洗浄部300に投入されることが望ましい。
Then, the
また、本体101は、洗浄部300において乾式噴射手段330の設置空間を考慮して最初の投入高さよりも一層高い位置に上昇されなければならない。
Further, the
従って、ローディング部200は、容易な投入作業のために、最初の上方に開口された状態でローディングされた本体101を、下方に開口された状態に上下逆転させるとともに、最初の投入高さよりも一層高い位置に上昇させて洗浄部300にローディングする。
Therefore, the
そして、洗浄部300は、自然落下により異物が取り除かれるように下方に開口された本体101の内部へ下から上に進入してドライアイス粒子を噴射する。
And the washing | cleaning
更に、アンローディング部400は、容易な搬出作業のために、洗浄部300から下方に開口された状態で搬出される本体101を、上方に開口された状態に上下逆転させるとともに、最初の投入高さに下降させてアンローディングする。
Further, the
このために、ローディング部200及びアンローディング部300には後述する一対の逆転手段500がそれぞれ設置される。
For this purpose, the
図3は本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置のローディング部を示す側面図であり、図4は本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置のローディング部を示す正面図である。 FIG. 3 is a side view illustrating a loading unit of a dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a loading view of the dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to an embodiment of the present invention. It is a front view which shows a part.
前記ローディング部200には、基板収納容器100が運搬状態のまま、例えば本体1101が上方に開口された状態で第1ローディング部210(211、212)に投入され、蓋102は下方に開口された状態で第2ローディング部220に投入される。
The
また、本体101は前記のように洗浄作業に必要な高さまで上昇される同時に下方に開口されるように上下逆転された後、洗浄部300にローディングされなければならない。
Further, the
このために、ローディング部200には本体101が上昇及び下方へ開口されるように上下逆転させる逆転手段500が具備される。
For this purpose, the
例えば、第1ローディング部212には逆転手段500が設置される区間において、本体101の進入如何を感知する本体感知センサ(図示せず)が設置されることができる。
For example, the
これにより、本体101が前記本体感知センサに感知されると、第1ローディング部212を停止させ、逆転手段500によって押圧支持されて上昇及び回転されることが望ましい。
Accordingly, it is preferable that when the
前記逆転手段500は、本体101の両側面を押圧支持して回転させる押圧回転部材510と、前記押圧回転部材510を乗降させる乗降部材520とを含む。
The reversing means 500 includes a
前記押圧回転部材510は、本体101の両側に対向設置される一対の押圧パッド511と、前記各押圧パッド511を回転させる一対の駆動部512と、前記各駆動部512を本体101の側面へ移送させて押圧パッド511を本体101の側面に押圧接触させる一対のシリンダー513とを含む。
The
前記押圧パッド511は、駆動部512に直接連結されて本体101の一側面を1点支持することができ、図3に示したように本体101を安定に押圧支持できるように本体101の一側面を2点支持可能に構成した方がもっと望ましい。
The
このため、本体101の一側の各押圧パッド511は、設置バー514の両側にそれぞれ結合され、設置バー514の中央に駆動部512が連結される。
Therefore, each
従って、本体101が第1ローディング部210に沿って上方に開口された状態で洗浄部300の直前まで至ると、押圧パッド511がシリンダー513によって本体101の両側面へ突き出して本体101を押圧支持する。
Therefore, when the
このように、本体101が押圧パッド511によって押圧支持された状態でシリンダー513が乗降部材520に沿って上昇されるので、本体101も一緒に上昇される。これと同時に、駆動部512は設置バー514を180度回転させて本体101が下方に開口されるように上下逆転させる。
Thus, since the
このように、下方に開口されて本体101が一定の高さに浮かされると、第1ローディング部212を上昇させて本体101の底面を支持する。これにより、本体101が第1ローディング部212に支持されると、逆転手段500は本体101と解除されて下降する。かかる状態で第1ローディング部212が回転駆動されて本体101を洗浄部300の第1洗浄移送部310にローディングする。
As described above, when the
前述のように、本体101は手動に持ち上げるか覆す必要なく、逆転手段500によって自動に上昇及び下方に開口されるように上下逆転されて洗浄部300に投入される。
As described above, the
一方、蓋102は第2ローディング部220に沿って水平に移送されて第2洗浄移送部320にローディングされる。
Meanwhile, the
図5は本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置の洗浄部を示す側面図であり、図6は本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置の洗浄部を示す正面図である。 FIG. 5 is a side view showing a cleaning unit of a dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a cleaning of the dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to an embodiment of the present invention. It is a front view which shows a part.
前記洗浄部300には、本体101及び蓋102が下方に開口された状態で第1洗浄移送部310及び第2洗浄移送部320にそれぞれ投入される。
The
このように、洗浄部300は第1洗浄移送部310及び第2洗浄移送部320に移送された本体101及び蓋102の全ての内部に対してドライアイス粒子を噴射するように第1洗浄移送部310及び第2洗浄移送部320の下側に乾式噴射手段330がそれぞれ設置される。
As described above, the
また、第1洗浄移送部310及び第2洗浄移送部320は、同図に示したように、その回転軸の中央部が除去された状態で本体101及び蓋102の周縁部を支持する。これにより、前記各乾式噴射手段330は本体101及び蓋102の内部にドライアイス粒子を噴射する際に干渉を受けないようになる。
Moreover, the 1st washing | cleaning
また、乾式噴射手段330は、本体101及び蓋の内部は相異なる複数の部位に放射状にドライアイス粒子を噴射する。
The dry spray means 330 sprays dry ice particles radially to a plurality of different parts inside the
特に、本体101の内部にドライアイス粒子を噴射する乾式噴射手段330は乗降可能に構成して本体101の内部へ上昇進入した方が望ましい。
In particular, it is preferable that the dry injection means 330 for injecting dry ice particles into the
かかる乾式噴射手段330は、駆動軸331と結合された回転板332に偏心結合されて前記回転板332の回転によって放射状にドライアイス粒子を噴射する複数のドライアイス噴射ノズル333を含む。
The
従って、各ドライアイス噴射ノズル333は放射状にドライアイス粒子を噴射するので、本体101及び蓋102の全ての内部に対して乾式洗浄を行うようになる。
Accordingly, since each dry
前記の構成において、乾式噴射手段330は本体101の内部に乾燥空気を噴射するエア噴射ノズル334を更に含む。
In the above-described configuration, the
前記エア噴射ノズル334は、本体101が蓋102に比してその奥が深くてドライアイス粒子によって洗浄できない部位が発生することを予防するために設置されるものである。
The
即ち、各ドライアイス噴射ノズル333によって噴射されるドライアイス粒子は前記エア噴射ノズル334から噴射される乾燥空気によって本体101及び蓋102の全ての内部に円滑に誘導されることにより、漏れ箇所がないように完全に洗浄する。
That is, the dry ice particles ejected by each dry
前記の構成において、洗浄部300は本体101及び蓋102の外面に乾燥空気を押圧噴射するエアナイフ340を更に含む。
In the above configuration, the
かかるエアナイフ340によって本体101及び蓋102の外面までも洗浄されて、基板収納容器100による基板の汚染要因が完璧に除去される。
Even the outer surfaces of the
また、エアナイフ340は、第1洗浄移送部310及び第2洗浄移送部320の入口の近くに固設されて本体101及び蓋102が移送されながらシャワーされるようにすることが好ましい。
In addition, the
前記の構成において、洗浄部300はハウジング301内に設置され、前記ハウジング301は本体101が投入される入口又は搬出される出口を開閉するゲート350を更に含む。
In the above-described configuration, the
例えば、ゲート350は上下部がハウジング301に摺動しながらエアシリンダー(図示せず)などと結合されて自動に作動されるものでもよい。
For example, the
従って、洗浄部30において洗浄中に発生されるパーチクルや異物がローディング部200又はアンローディング部400に流入することが防止される。
Therefore, particles and foreign matters generated during cleaning in the cleaning unit 30 are prevented from flowing into the
また、ゲート350は本体101が投入される入口及び搬出される出口に全部設置されることで洗浄部300を密閉させることもできる。
Further, the
前記の構成において、洗浄部300はその内部から脱落される異物を集める除去手段360を更に含む。
In the above-described configuration, the
従って、洗浄部300でドライアイス粒子と反応して発生される各種の異物は除去手段360を介して外部へ排出されるので、洗浄効率を一層増大させることができる。
Therefore, various foreign matters generated by reacting with the dry ice particles in the
かかる除去手段360は乾式噴射手段330の下側に結合されて一緒に乗降されることが望ましい。
It is preferable that the removing
図7は本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置のアンローディング部を示す側面図であり、図8本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置のアンローディング部を示す正面図である。 7 is a side view showing an unloading portion of the dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to an embodiment of the present invention. FIG. 8 is an unloading unit of the dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to an embodiment of the present invention. It is a front view which shows a loading part.
前記アンローディング部400は、本体101が下方に開口された状態で第1アンローディング部410(411、412)に搬出され、蓋102が下方に開口された状態で第2アンローディング部420に搬出される。
The
また、本体101は搬出されるための最初の投入高さまで下降されると同時に上方に開口されるように上下逆転されなければならない。
Further, the
これにより、アンローディング部400には、洗浄部300から搬出された本体101を下降させるとともに、上方に開口されるように上下逆転させる逆転手段500が具備される。
Accordingly, the
かかる逆転手段500は、ローディング部400に設置されるものと同様であるので、これに対する詳細な説明は省略する。
Since the reversing means 500 is the same as that installed in the
例えば、第1アンローディング部411には逆転手段500が設置される区間において本体101の搬出如何を感知する本体感知センサ(図示せず)が設置されることができる。
For example, the
これによって、本体101が前記本体感知センサに感知されると、第1アンローディング部411を停止させ、本体101は逆転手段500によって押圧支持されて下降及び回転されることが望ましい。
Accordingly, when the
従って、本体101が第1洗浄移送部310により洗浄されて下方に開口された状態で第1アンローディング部411に至ると、押圧パッド511がシリンダー513によって本体101の両側面へ突き出して本体101を押圧支持する。
Therefore, when the
前述のように、本体101が押圧パッド511によって押圧支持された状態で第1アンローディング部411を下降させる。このように、本体101が押圧パッド511によって押圧支持されて浮かされた状態で、第1アンローディング部411が最初の投入高さまで下降されると、シリンダー513が乗降部材520に沿って下降するので、本体101も一緒に下降される。これと同時に、駆動部512は設置バー514を180度回転させて本体101を上方に開口されるように上下逆転させる。
As described above, the
このように、本体101が上方に開口された状態で第1ローディング部411に支持されると、逆転手段500は本体101と解除されて上昇する。かかる状態で本体101は第1ローディング部411によってアンローディングされる。
As described above, when the
前述のように、本体101は手動に持ち下げるか覆す必要なく、逆転手段500によって自動に下降及び上方に開口されて最初の状態に復帰及び搬出される。
As described above, the
一方、蓋102は第2ローディング部220に沿って水平に移送されてアンローディングされる。
Meanwhile, the
尚、ローディング部100、洗浄部300、及びアンローディング部400には、本体101及び蓋102の位置を感知する複数の感知センサ(図示せず)が本体101及び蓋102の移送経路上に設置される。
In the
以上、本発明を特定の好適な実施形態及び図面に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるわけではなく、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者によって本発明の技術思想及び請求範囲のカテゴリ内で多様な修正及び変形が可能であるのは明らかである。 The present invention has been described above based on specific preferred embodiments and drawings. However, the present invention is not limited to these, and the technology of the present invention can be obtained by a person having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention belongs. Obviously, various modifications and variations are possible within the spirit and scope of the claims.
100 基板収納容器
101 本体
102 蓋
200 ローディング部
210 第1投入移送部
220 第2投入移送部
300 洗浄部
310 第1洗浄移送部
320 第2洗浄移送部
330 乾式噴射手段
333 ドライアイス噴射ノズル
334 エア噴射ノズル
340 エアナイフ
350 ゲート
360 除去手段
400 アンローディング部
410 第1搬出移送部
420 第2搬出移送部
500 逆転手段
DESCRIPTION OF
Claims (12)
前記基板収納容器をドライアイス粒子により洗浄する洗浄部と、
前記洗浄部で洗浄された前記基板収納容器をアンローディングするアンローディング部と、
を含むことを特徴とする基板収納容器用の乾式洗浄装置。 A loading unit for loading a substrate storage container;
A cleaning section for cleaning the substrate storage container with dry ice particles;
An unloading unit for unloading the substrate storage container cleaned by the cleaning unit;
A dry cleaning apparatus for a substrate storage container.
前記洗浄部は、前記本体及び蓋の全ての内部に対してドライアイス粒子をそれぞれ噴射し、
前記アンローディング部は、洗浄された前記本体及び蓋を相異なる経路でアンローディングすることを特徴とする請求項1記載の基板収納容器用の乾式洗浄装置。 The loading unit loads the main body and lid of the substrate storage container onto the cleaning unit through different paths,
The cleaning unit sprays dry ice particles to the inside of the main body and the lid, respectively.
2. The dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to claim 1, wherein the unloading unit unloads the cleaned main body and lid through different paths.
前記洗浄部は、前記本体の内部へ下から上に進入してドライアイス粒子を噴射し、
前記アンローディング部は、前記洗浄部から搬出される前記本体を上方に開口させると同時に最初の投入高さに下降させて移送することを特徴とする請求項2記載の基板収納容器用の乾式洗浄装置。 The loading part opens the main body downward and at the same time raises it to a position higher than the initial charging height and transfers it to the cleaning part,
The cleaning unit enters the inside of the main body from the bottom to the top and sprays dry ice particles,
3. The dry cleaning for a substrate storage container according to claim 2, wherein the unloading unit opens the main body carried out from the cleaning unit upward and simultaneously lowers and transfers the main body to the initial charging height. apparatus.
前記ローディング部に投入された前記本体を上下逆転させ、前記洗浄部から前記アンローディング部へ搬出された前記本体を上方に開口されるように上下逆転させる一対の逆転手段を更に含むことを特徴とする請求項3記載の基板収納容器用の乾式洗浄装置。 The loading part and the unloading part are
The apparatus further comprises a pair of reversing means for reversing the main body put into the loading section upside down and reversing the main body carried out from the cleaning section to the unloading section so as to open upward. The dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to claim 3.
前記本体の両側面を押圧支持して回転させる押圧回転部材と、
前記押圧回転部材を乗降させる乗降部材と、を含むことを特徴とする請求項4記載の基板収納容器用の乾式洗浄装置。 Each reversing means is
A pressing rotating member that presses and supports both side surfaces of the main body and rotates;
The dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to claim 4, further comprising a boarding / alighting member for getting on and off the pressing rotation member.
前記本体の両側に対向設置される押圧パッドと、
前記各押圧パッドを回転させる一対の駆動部と、
前記各駆動部を前記本体の側面へ移送させて前記押圧パッドを前記本体の側面に押圧接触させる一対のシリンダーと、
を含むことをことを特徴とする請求項5記載の基板収納容器用の乾式洗浄装置。 The pressing rotation member is
A pressure pad oppositely disposed on both sides of the main body;
A pair of drive units for rotating each of the pressing pads;
A pair of cylinders for transferring each driving unit to the side surface of the main body and pressing the pressing pad against the side surface of the main body;
The dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to claim 5, comprising:
前記ハウジングは、前記基板収納容器が投入される入口或いは前記基板収納容器が搬出される出口を開閉するゲートを更に含むことを特徴とする請求項10記載の基板収納容器用の乾式洗浄装置。 The cleaning unit is installed in a housing,
The dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to claim 10, wherein the housing further includes a gate that opens and closes an inlet through which the substrate storage container is inserted or an outlet through which the substrate storage container is unloaded.
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