JP2007184524A - Dry cleaning apparatus for substrate storing container - Google Patents

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キム セ ホ
Jon Suu Park
ジョン スー パク
Cheol-Nam Yoon
チュル ナム ユン
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate storing container cleaning apparatus for cleaning a substrate storing container by using dry ice particles. <P>SOLUTION: The cleaning apparatus comprises a loader for loading the substrate storing container, a cleaner for cleaning the substrate storing container by dry ice particles, and an unloader for unloading the substrate storing container cleaned by the cleaning part. Since the substrate storing container is cleaned by using dry ice particles, no waste is discharged, and an environmental state can be improved; the use of dry ice can achieve fine cleaning and minimize the deformation and damage of the substrate storing container to induce an effect for extending the application life of the substrate storing container. Further, since a cleaning process can be simply progressed as compared with a conventional wet cleaning apparatus, the size of the apparatus can be remarkably reduced and an economical effect can be obtained. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は基板収納容器用の乾式洗浄装置に関し、より詳しくは基板収納容器の本体及び蓋をドライアイス粒子で個別的に乾式洗浄する基板収納容器用の乾式洗浄装置に関する。   The present invention relates to a dry cleaning apparatus for a substrate storage container, and more particularly to a dry cleaning apparatus for a substrate storage container for individually dry cleaning a main body and a lid of a substrate storage container with dry ice particles.

一般に、半導体装置やディスプレー装置は半導体ウエハー或いはフラットパネルディスプレー(FPD,Flat panel display)基板を用いて蒸着工程、エッチング工程、写真工程、イオン注入工程などのような多様な製造工程を経て製造される。   Generally, semiconductor devices and display devices are manufactured through various manufacturing processes such as a vapor deposition process, an etching process, a photographic process, and an ion implantation process using a semiconductor wafer or a flat panel display (FPD) substrate. .

前記のような多様な工程の円滑な進行のために、半導体ウエハー或いはフラットパネルディスプレー基板は、各パート別に移送されることをもちろん、同一のパート内でも製造装置間に移送される。   In order to smoothly perform the various processes as described above, the semiconductor wafer or the flat panel display substrate is transferred not only in each part but also in the same part between the manufacturing apparatuses.

例えば、基板は自動化された台車やロボット型移送アームを介して移動可能である。   For example, the substrate can be moved via an automated carriage or robotic transfer arm.

かかる基板は、同一のパート内における比較的短い距離は一枚単位で移動でき、比較的
長距離若しくは安定性が重要時される場合はロット(lot)単位でキャリヤーやカセットなどの基板収納容器に収められて移動できる。
Such a substrate can be moved in units of a relatively short distance within the same part, and in a case where a relatively long distance or stability is important, it can be placed in a substrate storage container such as a carrier or a cassette in units of lots. Can be moved by being contained.

その一例として、基板収納容器のうちポリプロピレン材質からなるものはPPボックスと称する。   As an example, a substrate container made of polypropylene is called a PP box.

前記PPボックスは、内部に基板の収容される収容空間部が形成される本体と、前記本体の入口の周りに取り付けられる蓋とを含む。   The PP box includes a main body in which an accommodation space for accommodating a substrate is formed, and a lid attached around an entrance of the main body.

一方、基板はたとえ微細な異物やパーチクル(particle)でもその表面に付着されると、品質が著しく低下する。   On the other hand, even if a fine foreign substance or particle is attached to the surface of the substrate, the quality is significantly lowered.

このため、基板を収容する基板収容容器は高水準の清浄度が求められる。   For this reason, the substrate container which accommodates a substrate is required to have a high level of cleanliness.

従って、基板収納容器は、基板を収容する前に基板収納容器用の洗浄装置により洗浄工程を経るようになる。   Accordingly, the substrate storage container is subjected to a cleaning process by the substrate storage container cleaning device before the substrate is stored.

一般に、基板収納容器は、前記本体及び蓋に洗浄液を処理した後、乾燥空気を噴射して残留液を乾燥させる湿式洗浄工程を経る。   In general, the substrate storage container is subjected to a wet cleaning process in which a cleaning liquid is processed on the main body and the lid, and then the residual liquid is dried by spraying dry air.

しかし、従来の基板収納容器用の洗浄装置は湿式洗浄方式であるので、洗浄液処理工程及び乾燥空気噴射工程からなる2段階を経なければならないという不都合があった。   However, since the conventional cleaning apparatus for the substrate storage container is a wet cleaning system, there is a disadvantage that two steps including a cleaning liquid treatment process and a dry air injection process must be performed.

また、従来の基板収納容器用の洗浄装置は、洗浄液を処理する装置及び、乾燥空気を噴射する装置がそれぞれ備えられなければならず、このため装置が大型化し、製造コストも高くなるという短所があった。   In addition, the conventional cleaning apparatus for the substrate storage container must be provided with an apparatus for processing the cleaning liquid and an apparatus for injecting dry air, which causes the disadvantage that the apparatus becomes large and the manufacturing cost increases. there were.

更に、従来の基板収納容器用の洗浄装置は、基板収納容器がボックス形状であるため、その内部を乾燥空気により全体として均一に乾燥し難く、精密に洗浄を完了することが容易でないという不具合があった。   Furthermore, since the substrate storage container has a box shape in the conventional substrate storage container cleaning device, it is difficult to dry the inside uniformly with dry air as a whole, and it is not easy to complete cleaning precisely. there were.

また、前記のようにポリプロピレン材質の基板収納容器は乾燥工程で高温の乾燥空気に露出されることによって容易く変形でき、このため寿命が短縮されるという短所があった。   In addition, as described above, the substrate container made of polypropylene can be easily deformed by being exposed to high-temperature dry air in the drying process, and thus has a disadvantage that the life is shortened.

尚、前記した湿式洗浄を含んでブラシや超音波や化学薬品などを用いた種々の洗浄方式が提示されている。   Various cleaning methods using brushes, ultrasonic waves, chemicals, and the like including the above-described wet cleaning have been proposed.

しかし、前記のような洗浄方式は半導体製造技術に発達による精密洗浄に対する要求を充足するには限界が存在する。   However, the above-described cleaning method has a limit to satisfy the demand for precision cleaning due to development in semiconductor manufacturing technology.

更に、近年環境に対する関心が高まることにつれ、環境親和的な洗浄方式に対する要求が増加しているが、前記した洗浄方式はこれを充足できなかった。   Furthermore, as the interest in the environment has increased in recent years, the demand for an environmentally friendly cleaning method has increased, but the above-described cleaning method has not been sufficient.

最近、環境親和的でありながらも前記した従来の洗浄方式の問題点を克服することができる洗浄方式が提案されたことがある。   Recently, there has been proposed a cleaning method that is environmentally friendly but can overcome the problems of the conventional cleaning methods described above.

その代表例として、二酸化炭素(CO2)ガスの相変化によって生じたドライアイス粒子を被洗浄物の表面に高速衝突させて異物又はパーチクルを取り除くドライアイス洗浄方式が提案されている。 As a representative example, a dry ice cleaning method has been proposed in which dry ice particles generated by the phase change of carbon dioxide (CO 2 ) gas collide with the surface of an object to be cleaned at high speed to remove foreign matters or particles.

前記ドライアイス洗浄方式は、ドライアイス粒子が被洗浄物の汚物を取り除き、昇華して残余物を残さないので、湿式洗浄方式に比べて新環境的である。   The dry ice cleaning method is more environmentally friendly than the wet cleaning method because the dry ice particles remove the filth from the object to be cleaned and sublimate to leave no residue.

また、ドライアイス洗浄方式はドライアイス粒子を噴射するただ1段階で洗浄が終わるので、洗浄工程が単純で、かつ装備のサイズも著しく減らすことができるので、クリーンルームの空間活用性の側面でも有利であり、微細洗浄が可能なので汚染粒子を除去し難い部分も洗浄できるという様々な長所を有する。   In addition, the dry ice cleaning method is advantageous in terms of space utilization in the clean room because the cleaning process is simple and the size of the equipment can be significantly reduced because the cleaning is completed in just one stage of spraying dry ice particles. In addition, since fine cleaning is possible, it has various advantages in that it is possible to clean even a portion where it is difficult to remove contaminating particles.

よって、ドライアイス粒子を用いて基板収納容器を洗浄する基板収納容器用の洗浄装置が提示されなければならない必要性がある。   Therefore, there is a need to provide a cleaning device for a substrate storage container that cleans the substrate storage container using dry ice particles.

従って、本発明は前述した従来の問題点に鑑みて案出されたもので、その目的はドライアイス粒子を用いて基板収納容器を洗浄する基板収納容器用の洗浄装置を提供することにある。   Accordingly, the present invention has been devised in view of the above-described conventional problems, and an object thereof is to provide a cleaning apparatus for a substrate storage container that cleans the substrate storage container using dry ice particles.

前記の目的を達成するために、本発明は基板収納容器をローディングするローディング部と、前記基板収納容器をドライアイス粒子により洗浄する洗浄部と、前記洗浄部で洗浄された前記基板収納容器をアンローディングするアンローディング部とを含む。   In order to achieve the above object, the present invention unloads a loading unit for loading a substrate storage container, a cleaning unit for cleaning the substrate storage container with dry ice particles, and the substrate storage container cleaned by the cleaning unit. And an unloading unit for loading.

また、前記ローディング部は、前記基板収納容器の本体及び蓋を相異なる経路で前記洗浄部にローディングし、前記洗浄部は、前記本体及び蓋の全ての内部に対してドライアイス粒子をそれぞれ噴射し、前記アンローディング部は、洗浄された前記本体及び蓋を相異なる経路でアンローディングすることを特徴とする。   The loading unit loads the main body and the lid of the substrate storage container into the cleaning unit through different paths, and the cleaning unit sprays dry ice particles to all the inside of the main body and the lid, respectively. The unloading unit unloads the cleaned main body and lid through different paths.

本発明は、ドライアイス粒子を用いて基板収納容器を洗浄するので、排出される廃棄物がなく新環境的であるという効果がある。   According to the present invention, since the substrate storage container is cleaned using dry ice particles, there is an effect that there is no waste to be discharged and the environment is new.

また、本発明はドライアイスを用いるので、微細洗浄が可能であり、基板収納容器の変形や破損を最小化することにより、その使用寿命を延長させるという効果がある。   In addition, since the present invention uses dry ice, it can be finely cleaned and has the effect of extending its service life by minimizing deformation and breakage of the substrate storage container.

更に、本発明は従来の湿式洗浄装置に比べて洗浄工程が単純に進行されるので、機器のサイズも著しく小型化でき、よって経済的であるという効果がある。   Further, the present invention has an effect that the cleaning process is simply performed as compared with the conventional wet cleaning apparatus, so that the size of the apparatus can be remarkably reduced, and thus it is economical.

また、本発明は基板収納容器の本体及び蓋をドライアイス粒子の噴射方向によって覆したりすることなく運搬状態のままでローディング及びアンローディングするので、作業効率を向上させるという効果がある。   In addition, the present invention has an effect of improving working efficiency because loading and unloading are performed while the substrate container is not transported without covering the main body and lid of the container with the direction of spraying dry ice particles.

以下、添付図面を参照して本発明による好適な実施形態をより詳細に説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は、一般的な基板収納容器を示す断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing a general substrate storage container.

図1に示したように、前記基板収納容器100は、その内部に基板の収容される収容空間部101aが形成される本体101と、前記本体101の収容空間部101aを開閉する蓋102とを含む。   As shown in FIG. 1, the substrate storage container 100 includes a main body 101 in which an accommodation space 101 a in which a substrate is accommodated is formed, and a lid 102 that opens and closes the accommodation space 101 a of the main body 101. Including.

図2は、本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置を示す概略的な平面図である。   FIG. 2 is a schematic plan view showing a dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to an embodiment of the present invention.

図2に示したように、本発明の一実施形態による基板収納容器用の乾式洗浄装置は、本体101と蓋102とからなる基板収納容器100を、本体101と蓋102に分離してそれぞれ相異なる経路でローディングするローディング部200と、前記ローディング部200によってローディングされた本体101及び蓋102の内部にドライアイス粒子を噴射して洗浄する洗浄部300と、前記洗浄部300で洗浄された本体101及び蓋102を相異なる経路でアンローディングするアンローディング部400と、を含む。   As shown in FIG. 2, the dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to an embodiment of the present invention separates the substrate storage container 100 composed of the main body 101 and the lid 102 into the main body 101 and the lid 102, respectively. A loading unit 200 that loads in a different path, a main body 101 loaded by the loading unit 200 and a cleaning unit 300 that sprays and cleans dry ice particles inside the lid 102, and a main body 101 that is cleaned by the cleaning unit 300. And an unloading unit 400 for unloading the lid 102 through different paths.

前記ローディング部200は、基板収納容器100の本体101をローディングする第
1ローディング部210(211、212)と、基板収納容器100の蓋102をローディングする第2ローディング部220とを含む。
The loading unit 200 includes a first loading unit 210 (211, 212) that loads the main body 101 of the substrate storage container 100 and a second loading unit 220 that loads the lid 102 of the substrate storage container 100.

このローディング部200は、オペレータが本体101及び蓋102をローディングし易いように第1ローディング210と第2ローディング部220とが隣接して並んで設置されることが望ましい。   In the loading unit 200, it is desirable that the first loading unit 210 and the second loading unit 220 be installed adjacent to each other so that the operator can easily load the main body 101 and the lid 102.

前記洗浄部300は、第1ローディング部210によりローディングされる本体101が移送される第1洗浄移送部310と、第2ローディング部220によりローディングされる蓋102が移送される第2洗浄移送部320と、本体101及び蓋102の内部にドライアイス粒子を噴射する乾式噴射手段330とをそれぞれ含む。   The cleaning unit 300 includes a first cleaning transfer unit 310 to which the main body 101 loaded by the first loading unit 210 is transferred, and a second cleaning transfer unit 320 to which the lid 102 loaded by the second loading unit 220 is transferred. And dry spray means 330 for spraying dry ice particles into the main body 101 and the lid 102, respectively.

前記アンローディング部400は、洗浄部300で洗浄された本体101をアンローディングする第1アンローディング部410と、洗浄部300で洗浄された蓋102をアンローディングする第2アンローディング部420とを含む。   The unloading unit 400 includes a first unloading unit 410 that unloads the main body 101 cleaned by the cleaning unit 300 and a second unloading unit 420 that unloads the lid 102 cleaned by the cleaning unit 300. .

前記本体101は、一般的な運搬状態で、例えば上方に開口された状態でローディング及びアンローディングが行われることが別途に覆したりする必要がなく好ましい。   It is preferable that the main body 101 be loaded and unloaded in a general carrying state, for example, opened upward, without the need for separate covering.

そして、本体101は、その内部に乾式噴射手段330によってドライアイス粒子が噴射された後、前記ドライアイス粒子と共に除去された異物の重力作用により自然落下するように、下方に開口された状態で洗浄部300に投入されることが望ましい。   Then, the main body 101 is washed in a state where it is opened downward so that the dry ice particles are sprayed by the dry spray means 330 into the main body 101 and then fall naturally due to the gravitational action of the foreign matter removed together with the dry ice particles. It is desirable that the unit 300 is charged.

また、本体101は、洗浄部300において乾式噴射手段330の設置空間を考慮して最初の投入高さよりも一層高い位置に上昇されなければならない。   Further, the main body 101 must be raised to a position higher than the initial charging height in consideration of the installation space of the dry injection means 330 in the cleaning unit 300.

従って、ローディング部200は、容易な投入作業のために、最初の上方に開口された状態でローディングされた本体101を、下方に開口された状態に上下逆転させるとともに、最初の投入高さよりも一層高い位置に上昇させて洗浄部300にローディングする。   Therefore, the loading unit 200 causes the main body 101 loaded in the first opened state to be turned upside down in an upwardly opened state, and further than the first loaded height for an easy loading operation. It is raised to a high position and loaded onto the cleaning unit 300.

そして、洗浄部300は、自然落下により異物が取り除かれるように下方に開口された本体101の内部へ下から上に進入してドライアイス粒子を噴射する。   And the washing | cleaning part 300 enters into the inside of the main body 101 opened below so that a foreign material may be removed by natural fall, and sprays dry ice particles from the bottom up.

更に、アンローディング部400は、容易な搬出作業のために、洗浄部300から下方に開口された状態で搬出される本体101を、上方に開口された状態に上下逆転させるとともに、最初の投入高さに下降させてアンローディングする。   Further, the unloading unit 400 reverses the main body 101, which is unloaded from the cleaning unit 300 in a state of being opened downward, upside down to the state of being opened upward for easy unloading work, and the initial loading height. Lower it to unload.

このために、ローディング部200及びアンローディング部300には後述する一対の逆転手段500がそれぞれ設置される。 For this purpose, the loading unit 200 and the unloading unit 300 are each provided with a pair of reverse rotation means 500 described later.

図3は本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置のローディング部を示す側面図であり、図4は本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置のローディング部を示す正面図である。   FIG. 3 is a side view illustrating a loading unit of a dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a loading view of the dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to an embodiment of the present invention. It is a front view which shows a part.

前記ローディング部200には、基板収納容器100が運搬状態のまま、例えば本体1101が上方に開口された状態で第1ローディング部210(211、212)に投入され、蓋102は下方に開口された状態で第2ローディング部220に投入される。   The loading unit 200 is loaded into the first loading unit 210 (211 and 212), for example, with the main body 1101 opened upward while the substrate storage container 100 is in a transported state, and the lid 102 is opened downward. In this state, the second loading unit 220 is loaded.

また、本体101は前記のように洗浄作業に必要な高さまで上昇される同時に下方に開口されるように上下逆転された後、洗浄部300にローディングされなければならない。 Further, the main body 101 must be loaded on the cleaning unit 300 after being turned upside down so that it is raised to the height required for the cleaning operation and opened downward as described above.

このために、ローディング部200には本体101が上昇及び下方へ開口されるように上下逆転させる逆転手段500が具備される。   For this purpose, the loading unit 200 is provided with a reversing means 500 for vertically reversing the main body 101 so that the main body 101 is opened upward and downward.

例えば、第1ローディング部212には逆転手段500が設置される区間において、本体101の進入如何を感知する本体感知センサ(図示せず)が設置されることができる。   For example, the first loading unit 212 may be provided with a main body sensor (not shown) that detects whether the main body 101 has entered in a section where the reversing unit 500 is installed.

これにより、本体101が前記本体感知センサに感知されると、第1ローディング部212を停止させ、逆転手段500によって押圧支持されて上昇及び回転されることが望ましい。   Accordingly, it is preferable that when the main body 101 is detected by the main body detection sensor, the first loading unit 212 is stopped and supported by the reverse rotation unit 500 to be lifted and rotated.

前記逆転手段500は、本体101の両側面を押圧支持して回転させる押圧回転部材510と、前記押圧回転部材510を乗降させる乗降部材520とを含む。   The reversing means 500 includes a pressing rotation member 510 that presses and supports both side surfaces of the main body 101 and rotates, and a boarding member 520 that moves the pressing rotation member 510 on and off.

前記押圧回転部材510は、本体101の両側に対向設置される一対の押圧パッド511と、前記各押圧パッド511を回転させる一対の駆動部512と、前記各駆動部512を本体101の側面へ移送させて押圧パッド511を本体101の側面に押圧接触させる一対のシリンダー513とを含む。   The pressing rotation member 510 is configured to transfer a pair of pressing pads 511 opposed to both sides of the main body 101, a pair of driving units 512 that rotate the pressing pads 511, and the driving units 512 to the side surfaces of the main body 101. And a pair of cylinders 513 that make the pressing pad 511 press-contact with the side surface of the main body 101.

前記押圧パッド511は、駆動部512に直接連結されて本体101の一側面を1点支持することができ、図3に示したように本体101を安定に押圧支持できるように本体101の一側面を2点支持可能に構成した方がもっと望ましい。   The pressing pad 511 is directly connected to the driving unit 512 and can support one side of the main body 101 at one point. As shown in FIG. 3, one side of the main body 101 can stably support the main body 101. It is more desirable to configure so that two points can be supported.

このため、本体101の一側の各押圧パッド511は、設置バー514の両側にそれぞれ結合され、設置バー514の中央に駆動部512が連結される。   Therefore, each pressing pad 511 on one side of the main body 101 is coupled to both sides of the installation bar 514, and the drive unit 512 is coupled to the center of the installation bar 514.

従って、本体101が第1ローディング部210に沿って上方に開口された状態で洗浄部300の直前まで至ると、押圧パッド511がシリンダー513によって本体101の両側面へ突き出して本体101を押圧支持する。   Therefore, when the main body 101 is opened upward along the first loading portion 210 and reaches just before the cleaning portion 300, the pressing pad 511 protrudes to both side surfaces of the main body 101 by the cylinder 513 and presses and supports the main body 101. .

このように、本体101が押圧パッド511によって押圧支持された状態でシリンダー513が乗降部材520に沿って上昇されるので、本体101も一緒に上昇される。これと同時に、駆動部512は設置バー514を180度回転させて本体101が下方に開口されるように上下逆転させる。   Thus, since the cylinder 513 is raised along the getting-on / off member 520 while the main body 101 is pressed and supported by the pressing pad 511, the main body 101 is also raised together. At the same time, the driving unit 512 rotates the installation bar 514 180 degrees so that the main body 101 is opened downward.

このように、下方に開口されて本体101が一定の高さに浮かされると、第1ローディング部212を上昇させて本体101の底面を支持する。これにより、本体101が第1ローディング部212に支持されると、逆転手段500は本体101と解除されて下降する。かかる状態で第1ローディング部212が回転駆動されて本体101を洗浄部300の第1洗浄移送部310にローディングする。   As described above, when the main body 101 is opened downward and floated at a certain height, the first loading unit 212 is raised to support the bottom surface of the main body 101. Accordingly, when the main body 101 is supported by the first loading unit 212, the reverse rotation means 500 is released from the main body 101 and descends. In this state, the first loading unit 212 is rotationally driven to load the main body 101 onto the first cleaning transfer unit 310 of the cleaning unit 300.

前述のように、本体101は手動に持ち上げるか覆す必要なく、逆転手段500によって自動に上昇及び下方に開口されるように上下逆転されて洗浄部300に投入される。   As described above, the main body 101 does not need to be lifted or covered manually, and is turned upside down by the reversing means 500 so as to be automatically opened and opened downward, and then put into the cleaning unit 300.

一方、蓋102は第2ローディング部220に沿って水平に移送されて第2洗浄移送部320にローディングされる。   Meanwhile, the lid 102 is horizontally transported along the second loading unit 220 and loaded onto the second cleaning transport unit 320.

図5は本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置の洗浄部を示す側面図であり、図6は本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置の洗浄部を示す正面図である。   FIG. 5 is a side view showing a cleaning unit of a dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a cleaning of the dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to an embodiment of the present invention. It is a front view which shows a part.

前記洗浄部300には、本体101及び蓋102が下方に開口された状態で第1洗浄移送部310及び第2洗浄移送部320にそれぞれ投入される。   The cleaning unit 300 is charged into the first cleaning transfer unit 310 and the second cleaning transfer unit 320 with the main body 101 and the lid 102 opened downward.

このように、洗浄部300は第1洗浄移送部310及び第2洗浄移送部320に移送された本体101及び蓋102の全ての内部に対してドライアイス粒子を噴射するように第1洗浄移送部310及び第2洗浄移送部320の下側に乾式噴射手段330がそれぞれ設置される。   As described above, the cleaning unit 300 is configured to inject the dry ice particles into all of the main body 101 and the lid 102 transferred to the first cleaning transfer unit 310 and the second cleaning transfer unit 320. The dry injection means 330 are installed below 310 and the second cleaning transfer unit 320, respectively.

また、第1洗浄移送部310及び第2洗浄移送部320は、同図に示したように、その回転軸の中央部が除去された状態で本体101及び蓋102の周縁部を支持する。これにより、前記各乾式噴射手段330は本体101及び蓋102の内部にドライアイス粒子を噴射する際に干渉を受けないようになる。   Moreover, the 1st washing | cleaning transfer part 310 and the 2nd washing | cleaning transfer part 320 support the peripheral part of the main body 101 and the lid | cover 102 in the state from which the center part of the rotating shaft was removed, as shown in the figure. As a result, each of the dry spray means 330 does not receive interference when spraying dry ice particles into the main body 101 and the lid 102.

また、乾式噴射手段330は、本体101及び蓋の内部は相異なる複数の部位に放射状にドライアイス粒子を噴射する。   The dry spray means 330 sprays dry ice particles radially to a plurality of different parts inside the main body 101 and the lid.

特に、本体101の内部にドライアイス粒子を噴射する乾式噴射手段330は乗降可能に構成して本体101の内部へ上昇進入した方が望ましい。   In particular, it is preferable that the dry injection means 330 for injecting dry ice particles into the main body 101 is configured to be able to get on and off and ascend into the main body 101.

かかる乾式噴射手段330は、駆動軸331と結合された回転板332に偏心結合されて前記回転板332の回転によって放射状にドライアイス粒子を噴射する複数のドライアイス噴射ノズル333を含む。   The dry spray unit 330 includes a plurality of dry ice spray nozzles 333 that are eccentrically coupled to a rotating plate 332 coupled to a drive shaft 331 and spray dry ice particles radially by the rotation of the rotating plate 332.

従って、各ドライアイス噴射ノズル333は放射状にドライアイス粒子を噴射するので、本体101及び蓋102の全ての内部に対して乾式洗浄を行うようになる。   Accordingly, since each dry ice spray nozzle 333 ejects dry ice particles radially, dry cleaning is performed on all the inside of the main body 101 and the lid 102.

前記の構成において、乾式噴射手段330は本体101の内部に乾燥空気を噴射するエア噴射ノズル334を更に含む。   In the above-described configuration, the dry spray unit 330 further includes an air spray nozzle 334 that sprays dry air into the main body 101.

前記エア噴射ノズル334は、本体101が蓋102に比してその奥が深くてドライアイス粒子によって洗浄できない部位が発生することを予防するために設置されるものである。   The air injection nozzle 334 is installed to prevent the occurrence of a portion where the main body 101 is deeper than the lid 102 and cannot be cleaned by dry ice particles.

即ち、各ドライアイス噴射ノズル333によって噴射されるドライアイス粒子は前記エア噴射ノズル334から噴射される乾燥空気によって本体101及び蓋102の全ての内部に円滑に誘導されることにより、漏れ箇所がないように完全に洗浄する。   That is, the dry ice particles ejected by each dry ice ejection nozzle 333 are smoothly guided to all the inside of the main body 101 and the lid 102 by the dry air ejected from the air ejection nozzle 334, so that there is no leakage point. Wash thoroughly.

前記の構成において、洗浄部300は本体101及び蓋102の外面に乾燥空気を押圧噴射するエアナイフ340を更に含む。   In the above configuration, the cleaning unit 300 further includes an air knife 340 that presses and sprays dry air onto the outer surfaces of the main body 101 and the lid 102.

かかるエアナイフ340によって本体101及び蓋102の外面までも洗浄されて、基板収納容器100による基板の汚染要因が完璧に除去される。   Even the outer surfaces of the main body 101 and the lid 102 are cleaned by the air knife 340, and the contamination factor of the substrate by the substrate storage container 100 is completely removed.

また、エアナイフ340は、第1洗浄移送部310及び第2洗浄移送部320の入口の近くに固設されて本体101及び蓋102が移送されながらシャワーされるようにすることが好ましい。   In addition, the air knife 340 is preferably fixed near the entrances of the first cleaning transfer unit 310 and the second cleaning transfer unit 320 so that the body 101 and the lid 102 are showered while being transferred.

前記の構成において、洗浄部300はハウジング301内に設置され、前記ハウジング301は本体101が投入される入口又は搬出される出口を開閉するゲート350を更に含む。   In the above-described configuration, the cleaning unit 300 is installed in the housing 301, and the housing 301 further includes a gate 350 that opens and closes an inlet through which the main body 101 is input or an outlet from which the main body 101 is discharged.

例えば、ゲート350は上下部がハウジング301に摺動しながらエアシリンダー(図示せず)などと結合されて自動に作動されるものでもよい。   For example, the gate 350 may be automatically operated by being coupled to an air cylinder (not shown) or the like while the upper and lower portions slide on the housing 301.

従って、洗浄部30において洗浄中に発生されるパーチクルや異物がローディング部200又はアンローディング部400に流入することが防止される。   Therefore, particles and foreign matters generated during cleaning in the cleaning unit 30 are prevented from flowing into the loading unit 200 or the unloading unit 400.

また、ゲート350は本体101が投入される入口及び搬出される出口に全部設置されることで洗浄部300を密閉させることもできる。   Further, the cleaning unit 300 can be hermetically sealed by installing all the gates 350 at the entrance where the main body 101 is inserted and the exit where the main body 101 is carried out.

前記の構成において、洗浄部300はその内部から脱落される異物を集める除去手段360を更に含む。   In the above-described configuration, the cleaning unit 300 further includes a removing unit 360 that collects foreign substances that are dropped from the inside.

従って、洗浄部300でドライアイス粒子と反応して発生される各種の異物は除去手段360を介して外部へ排出されるので、洗浄効率を一層増大させることができる。   Therefore, various foreign matters generated by reacting with the dry ice particles in the cleaning unit 300 are discharged to the outside through the removing unit 360, so that the cleaning efficiency can be further increased.

かかる除去手段360は乾式噴射手段330の下側に結合されて一緒に乗降されることが望ましい。   It is preferable that the removing unit 360 is coupled to the lower side of the dry-type spray unit 330 and gets on and off together.

図7は本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置のアンローディング部を示す側面図であり、図8本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置のアンローディング部を示す正面図である。   7 is a side view showing an unloading portion of the dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to an embodiment of the present invention. FIG. 8 is an unloading unit of the dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to an embodiment of the present invention. It is a front view which shows a loading part.

前記アンローディング部400は、本体101が下方に開口された状態で第1アンローディング部410(411、412)に搬出され、蓋102が下方に開口された状態で第2アンローディング部420に搬出される。   The unloading unit 400 is unloaded to the first unloading unit 410 (411, 412) with the main body 101 opened downward, and unloaded to the second unloading unit 420 with the lid 102 opened downward. Is done.

また、本体101は搬出されるための最初の投入高さまで下降されると同時に上方に開口されるように上下逆転されなければならない。   Further, the main body 101 must be turned upside down so as to be opened upward at the same time as it is lowered to the initial loading height for unloading.

これにより、アンローディング部400には、洗浄部300から搬出された本体101を下降させるとともに、上方に開口されるように上下逆転させる逆転手段500が具備される。   Accordingly, the unloading unit 400 is provided with a reversing unit 500 that lowers the main body 101 carried out from the cleaning unit 300 and reverses it upside down so as to be opened upward.

かかる逆転手段500は、ローディング部400に設置されるものと同様であるので、これに対する詳細な説明は省略する。   Since the reversing means 500 is the same as that installed in the loading unit 400, a detailed description thereof will be omitted.

例えば、第1アンローディング部411には逆転手段500が設置される区間において本体101の搬出如何を感知する本体感知センサ(図示せず)が設置されることができる。   For example, the first unloading unit 411 may be provided with a main body sensor (not shown) that detects whether the main body 101 is carried out in a section where the reversing unit 500 is installed.

これによって、本体101が前記本体感知センサに感知されると、第1アンローディング部411を停止させ、本体101は逆転手段500によって押圧支持されて下降及び回転されることが望ましい。   Accordingly, when the main body 101 is detected by the main body detection sensor, the first unloading unit 411 is stopped, and the main body 101 is preferably pressed and supported by the reverse rotation unit 500 to be lowered and rotated.

従って、本体101が第1洗浄移送部310により洗浄されて下方に開口された状態で第1アンローディング部411に至ると、押圧パッド511がシリンダー513によって本体101の両側面へ突き出して本体101を押圧支持する。   Therefore, when the main body 101 is cleaned by the first cleaning transfer unit 310 and reaches the first unloading unit 411 in a state where the main body 101 is opened downward, the pressing pad 511 protrudes to both side surfaces of the main body 101 by the cylinder 513 and lifts the main body 101. Press and support.

前述のように、本体101が押圧パッド511によって押圧支持された状態で第1アンローディング部411を下降させる。このように、本体101が押圧パッド511によって押圧支持されて浮かされた状態で、第1アンローディング部411が最初の投入高さまで下降されると、シリンダー513が乗降部材520に沿って下降するので、本体101も一緒に下降される。これと同時に、駆動部512は設置バー514を180度回転させて本体101を上方に開口されるように上下逆転させる。   As described above, the first unloading portion 411 is lowered while the main body 101 is pressed and supported by the pressing pad 511. As described above, when the first unloading portion 411 is lowered to the initial loading height in a state where the main body 101 is pressed and supported by the pressing pad 511, the cylinder 513 is lowered along the getting-on / off member 520. The main body 101 is also lowered together. At the same time, the driving unit 512 rotates the installation bar 514 180 degrees to reverse the main body 101 upside down so as to open upward.

このように、本体101が上方に開口された状態で第1ローディング部411に支持されると、逆転手段500は本体101と解除されて上昇する。かかる状態で本体101は第1ローディング部411によってアンローディングされる。   As described above, when the main body 101 is supported by the first loading portion 411 in a state where the main body 101 is opened upward, the reverse rotation means 500 is released from the main body 101 and moves up. In this state, the main body 101 is unloaded by the first loading unit 411.

前述のように、本体101は手動に持ち下げるか覆す必要なく、逆転手段500によって自動に下降及び上方に開口されて最初の状態に復帰及び搬出される。   As described above, the main body 101 does not need to be manually lowered or covered, but is automatically lowered and opened upward by the reversing means 500, and returned to the initial state and carried out.

一方、蓋102は第2ローディング部220に沿って水平に移送されてアンローディングされる。   Meanwhile, the lid 102 is horizontally transferred along the second loading unit 220 and unloaded.

尚、ローディング部100、洗浄部300、及びアンローディング部400には、本体101及び蓋102の位置を感知する複数の感知センサ(図示せず)が本体101及び蓋102の移送経路上に設置される。   In the loading unit 100, the cleaning unit 300, and the unloading unit 400, a plurality of detection sensors (not shown) that detect the positions of the main body 101 and the lid 102 are installed on the transfer path of the main body 101 and the lid 102. The

以上、本発明を特定の好適な実施形態及び図面に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるわけではなく、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者によって本発明の技術思想及び請求範囲のカテゴリ内で多様な修正及び変形が可能であるのは明らかである。   The present invention has been described above based on specific preferred embodiments and drawings. However, the present invention is not limited to these, and the technology of the present invention can be obtained by a person having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention belongs. Obviously, various modifications and variations are possible within the spirit and scope of the claims.

一般的な基板収納容器を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a common board | substrate storage container. 本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置を示す概略的な平面図である。1 is a schematic plan view showing a dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置のローディング部を示す側面図である。It is a side view which shows the loading part of the dry cleaning apparatus for substrate storage containers which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置のローディング部を示す正面図である。It is a front view which shows the loading part of the dry cleaning apparatus for substrate storage containers which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置の洗浄部を示す側面図である。It is a side view which shows the washing | cleaning part of the dry cleaning apparatus for substrate storage containers which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置の洗浄部を示す正面図である。It is a front view which shows the washing | cleaning part of the dry cleaning apparatus for substrate storage containers which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置のアンローディング部を示す側面図である。It is a side view which shows the unloading part of the dry cleaning apparatus for substrate storage containers which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る基板収納容器用の乾式洗浄装置のアンローディング部を示す正面図である。It is a front view which shows the unloading part of the dry cleaning apparatus for substrate storage containers which concerns on one Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

100 基板収納容器
101 本体
102 蓋
200 ローディング部
210 第1投入移送部
220 第2投入移送部
300 洗浄部
310 第1洗浄移送部
320 第2洗浄移送部
330 乾式噴射手段
333 ドライアイス噴射ノズル
334 エア噴射ノズル
340 エアナイフ
350 ゲート
360 除去手段
400 アンローディング部
410 第1搬出移送部
420 第2搬出移送部
500 逆転手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Substrate storage container 101 Main body 102 Lid 200 Loading unit 210 First input transfer unit 220 Second input transfer unit 300 Cleaning unit 310 First cleaning transfer unit 320 Second cleaning transfer unit 330 Dry injection means 333 Dry ice injection nozzle 334 Air injection Nozzle 340 Air knife 350 Gate 360 Removal means 400 Unloading section 410 First unloading / transferring section 420 Second unloading / transferring section 500 Reverse rotation section

Claims (12)

基板収納容器をローディングするローディング部と、
前記基板収納容器をドライアイス粒子により洗浄する洗浄部と、
前記洗浄部で洗浄された前記基板収納容器をアンローディングするアンローディング部と、
を含むことを特徴とする基板収納容器用の乾式洗浄装置。
A loading unit for loading a substrate storage container;
A cleaning section for cleaning the substrate storage container with dry ice particles;
An unloading unit for unloading the substrate storage container cleaned by the cleaning unit;
A dry cleaning apparatus for a substrate storage container.
前記ローディング部は、前記基板収納容器の本体及び蓋を相異なる経路で前記洗浄部にローディングし、
前記洗浄部は、前記本体及び蓋の全ての内部に対してドライアイス粒子をそれぞれ噴射し、
前記アンローディング部は、洗浄された前記本体及び蓋を相異なる経路でアンローディングすることを特徴とする請求項1記載の基板収納容器用の乾式洗浄装置。
The loading unit loads the main body and lid of the substrate storage container onto the cleaning unit through different paths,
The cleaning unit sprays dry ice particles to the inside of the main body and the lid, respectively.
2. The dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to claim 1, wherein the unloading unit unloads the cleaned main body and lid through different paths.
前記ローディング部は、前記本体を下方に開口させると同時に最初の投入高さよりも一層高い位置に上昇させて前記洗浄部に移送し、
前記洗浄部は、前記本体の内部へ下から上に進入してドライアイス粒子を噴射し、
前記アンローディング部は、前記洗浄部から搬出される前記本体を上方に開口させると同時に最初の投入高さに下降させて移送することを特徴とする請求項2記載の基板収納容器用の乾式洗浄装置。
The loading part opens the main body downward and at the same time raises it to a position higher than the initial charging height and transfers it to the cleaning part,
The cleaning unit enters the inside of the main body from the bottom to the top and sprays dry ice particles,
3. The dry cleaning for a substrate storage container according to claim 2, wherein the unloading unit opens the main body carried out from the cleaning unit upward and simultaneously lowers and transfers the main body to the initial charging height. apparatus.
前記ローディング部及び前記アンローディング部は、
前記ローディング部に投入された前記本体を上下逆転させ、前記洗浄部から前記アンローディング部へ搬出された前記本体を上方に開口されるように上下逆転させる一対の逆転手段を更に含むことを特徴とする請求項3記載の基板収納容器用の乾式洗浄装置。
The loading part and the unloading part are
The apparatus further comprises a pair of reversing means for reversing the main body put into the loading section upside down and reversing the main body carried out from the cleaning section to the unloading section so as to open upward. The dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to claim 3.
前記各逆転手段は、
前記本体の両側面を押圧支持して回転させる押圧回転部材と、
前記押圧回転部材を乗降させる乗降部材と、を含むことを特徴とする請求項4記載の基板収納容器用の乾式洗浄装置。
Each reversing means is
A pressing rotating member that presses and supports both side surfaces of the main body and rotates;
The dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to claim 4, further comprising a boarding / alighting member for getting on and off the pressing rotation member.
前記押圧回転部材は、
前記本体の両側に対向設置される押圧パッドと、
前記各押圧パッドを回転させる一対の駆動部と、
前記各駆動部を前記本体の側面へ移送させて前記押圧パッドを前記本体の側面に押圧接触させる一対のシリンダーと、
を含むことをことを特徴とする請求項5記載の基板収納容器用の乾式洗浄装置。
The pressing rotation member is
A pressure pad oppositely disposed on both sides of the main body;
A pair of drive units for rotating each of the pressing pads;
A pair of cylinders for transferring each driving unit to the side surface of the main body and pressing the pressing pad against the side surface of the main body;
The dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to claim 5, comprising:
前記洗浄部は、前記本体或いは前記蓋の内部における相異なる複数の箇所に放射状にドライアイス粒子を噴射する乾式噴射手段を含むことを特徴とする請求項3記載の基板収納容器用の乾式洗浄装置。   4. The dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to claim 3, wherein the cleaning section includes dry spray means for spraying dry ice particles radially to a plurality of different locations in the main body or the lid. . 前記乾式噴射手段は、駆動軸と結合された回転板に偏心結合されて前記回転板の回転によって放射状にドライアイス粒子を噴射する複数のドライアイス噴射ノズルを含むことを特徴とする請求項7記載の基板収納容器用の乾式洗浄装置。   8. The dry spray unit includes a plurality of dry ice spray nozzles that are eccentrically coupled to a rotating plate coupled to a drive shaft and spray dry ice particles radially by rotation of the rotating plate. Dry cleaning device for substrate storage containers. 前記乾式噴射手段は、前記本体又は蓋の内部に乾燥空気を噴射するエア噴射ノズルを更に含むことを特徴とする請求項8記載の基板収納容器用の乾式洗浄装置。   9. The dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to claim 8, wherein the dry spray means further includes an air spray nozzle that sprays dry air into the main body or the lid. 前記洗浄部は、前記本体又は蓋の外面に乾燥空気を押圧噴射するエアナイフを更に含むことを特徴とする請求項3記載の基板収納容器用の乾式洗浄装置。   The dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to claim 3, wherein the cleaning unit further includes an air knife that presses and sprays dry air onto the outer surface of the main body or the lid. 前記洗浄部は、ハウジング内に設置され、
前記ハウジングは、前記基板収納容器が投入される入口或いは前記基板収納容器が搬出される出口を開閉するゲートを更に含むことを特徴とする請求項10記載の基板収納容器用の乾式洗浄装置。
The cleaning unit is installed in a housing,
The dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to claim 10, wherein the housing further includes a gate that opens and closes an inlet through which the substrate storage container is inserted or an outlet through which the substrate storage container is unloaded.
前記洗浄部は、洗浄工程で発生した異物を外部へ排出して取り除く除去手段を更に含むことを特徴とする請求項3記載の基板収納容器用の乾式洗浄装置。   4. The dry cleaning apparatus for a substrate storage container according to claim 3, wherein the cleaning unit further includes a removing unit that discharges and removes foreign matters generated in the cleaning process.
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