JP2007179605A - Semiconductor storage - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、システムLSIに混載される半導体記憶装置(メモリ)に関するものである。特に、複数のメモリを統合して一つのメモリに置き換え、それによってシステムLSIに搭載される半導体記憶装置の占有面積を削減し、統合後も統合前の個別の機能を実現するのに有効な技術に関するものである。 The present invention relates to a semiconductor memory device (memory) embedded in a system LSI. In particular, a technology that integrates multiple memories and replaces them with a single memory, thereby reducing the area occupied by the semiconductor storage device mounted on the system LSI and enabling individual functions after integration before integration. It is about.
システムLSIには様々なメモリが搭載される。図24には、メモリ統合前のシステムLSIのブロック図を示している。図24において、符号171は統合前の第1メモリマクロを示し、符号172は統合前の第2メモリマクロを示し、符号174は第1メモリマクロ171および第2メモリマクロ172に対して、コマンドおよびアドレスを与えるロジック回路を示している。第1メモリマクロ171はワード線が32本、ビット線が8対の構成を有し、第2メモリマクロ172はワード線が64本、ビット線が8対の構成を有する。 Various memories are mounted on the system LSI. FIG. 24 shows a block diagram of a system LSI before memory integration. In FIG. 24, reference numeral 171 denotes a first memory macro before integration, reference numeral 172 denotes a second memory macro before integration, and reference numeral 174 denotes commands and commands for the first memory macro 171 and the second memory macro 172. A logic circuit for giving an address is shown. The first memory macro 171 has a configuration of 32 word lines and 8 pairs of bit lines, and the second memory macro 172 has a configuration of 64 word lines and 8 pairs of bit lines.
今回開示するメモリを統合する技術は、図24に示すように、従来ロジック回路174により制御される、複数のメモリ、すなわち第1メモリマクロ171および第2メモリマクロ172を統合する技術である。従来、システムLSIにおいて、メモリは、図24に示すように、容量やワード数等の構成が異なる場合、個別のメモリマクロとして、すなわち第1メモリマクロ171および第2メモリマクロ172としてシステムLSIに搭載され、ロジック回路174により制御が行なわれていた。 The technology for integrating the memories disclosed this time is a technology for integrating a plurality of memories, that is, a first memory macro 171 and a second memory macro 172, which are controlled by a conventional logic circuit 174, as shown in FIG. Conventionally, in the system LSI, as shown in FIG. 24, when the configuration such as the capacity and the number of words is different, the memory is mounted on the system LSI as individual memory macros, that is, as the first memory macro 171 and the second memory macro 172. Thus, the logic circuit 174 has been controlled.
また、メモリを統合する技術では、第一のメモリアレイ部と第二のメモリアレイ部がひとまとめに統合されたメモリアレイを含み、第一のメモリアレイ部と第二のメモリアレイ部は別々にアドレス可能である。外部から受け取ったアドレスデータを使用して第一のメモリアレイ部をアドレス指定するために第一のアクセス手段が設けられ、受け取った制御データを第二のメモリアレイ部へのアドレス信号として使用して第二のメモリアレイ部にアクセスするために第二のアクセス手段が設けられている。このように異なるメモリを統合する方法が特許文献1に記載されている。
しかしながら、従来の半導体記憶装置では、システムLSIに混載される場合において、システムLSI上に複数のメモリが搭載される場合、複数のメモリ毎に制御回路やロウデコーダが存在し、面積が増加するという課題があった。特許文献1に記載されている構成では、第1のメモリアレイ部と第2のメモリアレイ部は統合されているがロウデコーダ部は個別に存在している。
However, in the conventional semiconductor memory device, when a plurality of memories are mounted on the system LSI when they are mixedly mounted on the system LSI, a control circuit and a row decoder exist for each of the plurality of memories, and the area increases. There was a problem. In the configuration described in
したがって、本発明の目的は、ワード数や容量の異なる複数のメモリを統合して、ロウデコーダや制御回路などの面積を削減することができる半導体記憶装置を提供することである。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can reduce the area of a row decoder, a control circuit, etc. by integrating a plurality of memories having different numbers of words and different capacities.
上記課題を解決するために、本発明の請求項1記載の半導体記憶装置は、選択対象ビット線数が異なるビット線選択回路を有する複数種類のデータ入出力回路を備えるものである。
In order to solve the above problems, a semiconductor memory device according to
この構成によれば、データ入出力回路毎にワード数が異なっていても、ワード線の数を合わせる事で、複数のメモリアレイを統合することができるので、ロウデコーダや制御回路などの面積を削減する作用効果を有する。 According to this configuration, even if the number of words is different for each data input / output circuit, it is possible to integrate a plurality of memory arrays by matching the number of word lines. Has the effect of reducing.
上記課題を解決するために、本発明の請求項2記載の半導体記憶装置は、異なる個数のビット線選択回路および前記ビット線選択回路に個別に接続されるセンスアンプと前記ビット線選択回路に個別に接続されるライトバッファとを有し、かつ前記センスアンプの個数に応じて選択対象センスアンプ数が異なるセンスアンプ選択回路と前記ライトバッファの個数に応じて選択対象ライトバッファ数が異なるライトバッファ選択回路とを有する複数種類のデータ入出力回路を備えるものである。 In order to solve the above-described problem, a semiconductor memory device according to claim 2 of the present invention is configured so that different numbers of bit line selection circuits, sense amplifiers individually connected to the bit line selection circuits, and the bit line selection circuits are individually provided. And a write buffer selection having a number of selection target write buffers different depending on the number of the write buffers and a sense amplifier selection circuit having a number of selection target sense amplifiers different depending on the number of the sense amplifiers And a plurality of types of data input / output circuits.
この構成によれば、データ入出力回路毎にワード数が異なっていても、ワード線の数を合わせる事で、複数のメモリアレイを統合することができるので、ロウデコーダや制御回路などの面積を削減する作用効果を有する。 According to this configuration, even if the number of words is different for each data input / output circuit, it is possible to integrate a plurality of memory arrays by matching the number of word lines. Has the effect of reducing.
上記課題を解決するために、本発明の請求項3記載の半導体記憶装置は、請求項1または2記載の半導体記憶装置において、複数のデータ入出力回路のうち、第1のデータ入出力回路に対応する第1のメモリセルアレイは全てのメモリセルにビット線が接続され、第2のデータ入出力回路に対応する第2のメモリセルアレイは一部はビット線が接続されないメモリセルを備える。
In order to solve the above-mentioned problem, a semiconductor memory device according to claim 3 of the present invention is the semiconductor memory device according to
この構成によれば、第2のデータ入出力回路に対応する第2のメモリセルアレイはビット線が接続されない一部のメモリセルを備えるので、ビット線の負荷を低減する事が可能となり、請求項1または2と同様の作用効果に加え、データの読み出し特性を向上させるという作用効果を有する。 According to this configuration, since the second memory cell array corresponding to the second data input / output circuit includes a part of the memory cells to which the bit lines are not connected, it is possible to reduce the load on the bit lines. In addition to the same effect as 1 or 2, it has the effect of improving data read characteristics.
上記課題を解決するために、本発明の請求項4記載の半導体記憶装置は、請求項1または2記載の半導体記憶装置において、複数のデータ入出力回路のうち、第1のデータ入出力回路に対応する第1のメモリセルアレイと、第2のデータ入出力回路に対応する第2のメモリセルアレイとは、メモリ容量が異なる。 In order to solve the above problems, a semiconductor memory device according to a fourth aspect of the present invention is the semiconductor memory device according to the first or second aspect, wherein the first data input / output circuit among the plurality of data input / output circuits is used. The corresponding first memory cell array and the second memory cell array corresponding to the second data input / output circuit have different memory capacities.
この構成によれば、第1のデータ入出力回路に対応する第1のメモリアレイと、第2のデータ入出力回路に対応する第2のメモリアレイとは、メモリ容量が異なるので、ビット線の負荷を低減する事が可能となり、請求項1または2と同様の作用効果に加え、データの読み出し特性を向上させるという作用効果を有する。 According to this configuration, the first memory array corresponding to the first data input / output circuit and the second memory array corresponding to the second data input / output circuit have different memory capacities. The load can be reduced, and in addition to the same function and effect as those of the first or second aspect, the data reading characteristic is improved.
上記課題を解決するために、本発明の請求項5記載の半導体記憶装置は、請求項1または2記載の半導体記憶装置において、複数のデータ入出力回路で共通に使用するアドレスは外部アドレスとそのまま接続され、複数のデータ入出力回路で共通に使用しないアドレスは最上位アドレスとして外部アドレスと接続される。
In order to solve the above-described problem, the semiconductor memory device according to claim 5 of the present invention is the semiconductor memory device according to
この構成によれば、複数のデータ入出力回路で共通に使用するアドレスは外部アドレスとそのまま接続され、複数のデータ入出力回路で共通に使用しないアドレスは最上位アドレスとして外部アドレスと接続されるので、請求項1または2と同様の作用効果に加え、共通の容量内での論理的なアドレス空間を統一し、検査を容易化するという作用効果を有する。 According to this configuration, an address commonly used by a plurality of data input / output circuits is directly connected to an external address, and an address not commonly used by a plurality of data input / output circuits is connected to an external address as the highest address. In addition to the operational effects similar to those of the first or second aspect, the logical address space within the common capacity is unified to facilitate the inspection.
上記課題を解決するために、本発明の請求項6記載の半導体記憶装置は、請求項1または2に記載の半導体記憶装置において、複数のデータ入出力回路のうち、いずれか一つがレイテンシー回路を備える。 In order to solve the above problem, according to a sixth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the first or second aspect, any one of the plurality of data input / output circuits includes a latency circuit. Prepare.
この構成によれば、複数のデータ入出力回路のうち、いずれか一つがレイテンシー回路を備えるので、請求項1または2と同様の作用効果に加え、複数のデータ入出力回路のうち、レイテンシー回路を備えたデータ入出力回路は、レイテンシー回路を備えないデータ入出力回路よりも、読出しサイクルは遅くなるが、データの読出し時間は早くなるという
作用効果を有する。
According to this configuration, since any one of the plurality of data input / output circuits includes the latency circuit, the latency circuit among the plurality of data input / output circuits includes the latency circuit. The provided data input / output circuit has an effect that the read cycle is delayed but the data read time is earlier than that of the data input / output circuit not provided with the latency circuit.
上記課題を解決するために、本発明の請求項7記載の半導体記憶装置は、請求項1または2に記載の半導体記憶装置において、複数のデータ入出力回路のうち、いずれか一つが冗長回路を備える。 In order to solve the above problems, according to a seventh aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the first or second aspect, any one of the plurality of data input / output circuits includes a redundant circuit. Prepare.
この構成によれば、複数のデータ入出力回路のうち、いずれか一つが冗長回路を備えるので、不良個所を冗長回路によって救済することができ、請求項1または2と同様の作用効果に加え、歩留まりを向上させるという作用効果を有する。 According to this configuration, since any one of the plurality of data input / output circuits includes the redundant circuit, the defective portion can be remedied by the redundant circuit. In addition to the same effects as those of the first or second aspect, It has the effect of improving the yield.
上記課題を解決するために、本発明の請求項8記載の半導体記憶装置は、請求項1または2に記載の半導体記憶装置において、複数のデータ入出力回路は、制御タイミングの異なる制御信号に接続される。 In order to solve the above problems, according to an eighth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the first or second aspect, the plurality of data input / output circuits are connected to control signals having different control timings. Is done.
この構成によれば、請求項1または2と同様の作用効果に加え、読出し時間の微調整を可能にするという作用効果を有する。 According to this configuration, in addition to the operational effect similar to that of the first or second aspect, it has the operational effect of enabling fine adjustment of the readout time.
上記課題を解決するために、本発明の請求項9記載の半導体記憶装置は、請求項1または2に記載の半導体記憶装置において、複数のデータ入出力回路の間に配置されて制御回路の制御信号を遅延させる制御遅延回路と、複数のデータ入出力回路に対応する複数のメモリアレイの間に配置されロウデコーダの出力であるワード線の信号を遅延させるワード線遅延回路とを備え、複数のデータ入出力回路のうちの第1のデータ入出力回路は、制御回路から出力される制御信号に接続され、複数のデータ入出力回路のうちの第2のデータ入出力回路は、制御遅延回路の出力に接続され、複数のデータ入出力回路に対応する複数のメモリアレイのうちの第1のメモリアレイはワード線に接続され、複数のメモリアレイのうちの第2のメモリアレイはワード線遅延回路に接続される。
In order to solve the above problems, a semiconductor memory device according to claim 9 of the present invention is the semiconductor memory device according to
この構成によれば、制御遅延回路とワード線遅延回路とを設けたことにより、サイクル時間は同じで、位相のずれた動作タイミングの複数のメモリを統合してロウデコーダや制御回路などの面積を削減し、共通の容量内での論理的なアドレス空間を統一し、検査を容易化するという作用効果を有する。 According to this configuration, by providing the control delay circuit and the word line delay circuit, the cycle time is the same, and a plurality of memories with operation timings out of phase are integrated to reduce the area of the row decoder, the control circuit, etc. It has the effect of reducing, unifying the logical address space within a common capacity, and facilitating the inspection.
上記課題を解決するために、本発明の請求項10記載の半導体記憶装置は、請求項9記載の半導体記憶装置において、制御遅延回路とワード線遅延回路とは、共に同じ段数のインバータ素子を備える。 In order to solve the above problem, a semiconductor memory device according to claim 10 of the present invention is the semiconductor memory device according to claim 9, wherein both the control delay circuit and the word line delay circuit have inverter elements of the same number of stages. .
この構成によれば、制御遅延回路とワード線遅延回路とは、共に同じ段数のインバータ素子を備えるので、サイクル時間は同じで、位相のずれた動作タイミングの複数のメモリを統合し、位相の調整を容易化し、ロウデコーダや制御回路などの面積を削減し、共通の容量内での論理的なアドレス空間を統一し、検査を容易化するという作用効果を有する。 According to this configuration, since both the control delay circuit and the word line delay circuit are provided with the same number of inverter elements, the cycle time is the same, and a plurality of memories having operation phases shifted in phase are integrated to adjust the phase. This reduces the area of the row decoder and the control circuit, unifies the logical address space within the common capacity, and facilitates the inspection.
以上説明したように、本発明によれば、複数のメモリを統合し、ロウデコーダや制御回路などの面積を削減することができる。また、共通の容量内での論理的なアドレス空間を統一し、検査を容易化することもできる。更に、統合されるメモリ毎に個別の機能を実現することもできる。 As described above, according to the present invention, it is possible to integrate a plurality of memories and reduce the area of a row decoder, a control circuit, and the like. In addition, it is possible to unify the logical address space within a common capacity and facilitate inspection. Furthermore, individual functions can be realized for each integrated memory.
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
(実施の形態1)
以下、本発明の実施の形態1の半導体記憶装置について、以下図面を参照しながら説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において同一の部材には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。ここでは、4ビット線対と8ビット線対の2つの構成のデータ入出力回路について説明するが、他の構成のデータ入出力回路を備える場合でも同様である。また、メモリアレイ内のワード線やビット線、データ入出力の数は実施の形態の数とは限らない。
(Embodiment 1)
The semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. Note that the same members are denoted by the same reference symbols throughout the drawings for describing the embodiments, and the repetitive description thereof is omitted. Here, a data input / output circuit having two configurations of a 4-bit line pair and an 8-bit line pair will be described, but the same applies to a case where a data input / output circuit having another configuration is provided. Further, the number of word lines, bit lines, and data inputs / outputs in the memory array is not necessarily the number in the embodiment.
図1は本発明の実施の形態1の半導体記憶装置のブロック図を示す。図1において、符号101はロウデコーダを示し、符号102は制御回路を示す。符号103は4カラムI/O部を示し、符号104は4カラムI/O部103を構成する一つの4カラムI/Oを示す。符号105は8カラムI/O部を示し、符号106は8カラムI/O部105を構成する8カラムI/Oを示す。符号107はロウプリデコーダを示し、符号108はプリチャージ制御回路を示し、符号109はカラムデコーダ(ビット線選択回路)を示し、符号110は制御部を示し、符号111はアドレスラッチを示す。
FIG. 1 is a block diagram of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention. In FIG. 1,
符号121はメモリアレイを示し、符号122は4ビット線対に対応するメモリセルアレイを示し、メモリアレイ121を構成している。符号123は4ビット線対に対応したプリチャージ回路Aを示し、符号124は4ビット線対に対応したカラムセレクタAを示し、符号125はライトバッファを示し、符号126は入力データラッチを示し、符号127はセンスアンプを示し、符号128は出力回路を示す。符号129は8ビット線対に対応したプリチャージ回路Bを示し、符号130は8ビット線対に対応したカラムセレクタBを示す。
符号WL0〜WL63はワード線を示し、符号B0〜B3、NB0〜NB3、B80〜B87、NB80〜NB87はビット線対を示す。 Symbols WL0 to WL63 indicate word lines, and symbols B0 to B3, NB0 to NB3, B80 to B87, and NB80 to NB87 indicate bit line pairs.
図2は図1に示すメモリアレイ121の具体構成を示す。図2において、符号120はメモリセルを示す。
FIG. 2 shows a specific configuration of the
図3は図2に示すメモリセルアレイ122に含まれるメモリセル120の具体構成を示す。図3において、符号P1はPMOSトランジスタを示し、符号N1、N1はNMOSトランジスタを示し、記号B、NBはビット線対を示し、記号WLはワード線を示す。
FIG. 3 shows a specific configuration of the
図4は図1に示すプリチャージ回路A123とカラムセレクタA124の具体構成を示す。図4において、記号P2、P3はPMOSトランジスタを示し、記号N3はNMOSトランジスタを示し、記号I1、I2はインバータを示す。記号DBUS、NDBUSはデータ線対を示す。記号CAD0〜CAD3はカラムデコード信号を示す。符号PCGはプリチャージ信号を示す。 FIG. 4 shows a specific configuration of the precharge circuit A123 and the column selector A124 shown in FIG. In FIG. 4, symbols P2 and P3 indicate PMOS transistors, symbol N3 indicates an NMOS transistor, and symbols I1 and I2 indicate inverters. Symbols DBUS and NDBUS indicate a data line pair. Symbols CAD0 to CAD3 indicate column decode signals. Symbol PCG indicates a precharge signal.
図5は図1に示すプリチャージ回路B129とカラムセレクタB130の具体構成を示す。図5において、記号CAD0〜CAD7はカラムデコード信号を示す。 FIG. 5 shows a specific configuration of the precharge circuit B129 and the column selector B130 shown in FIG. In FIG. 5, symbols CAD0 to CAD7 indicate column decode signals.
図6は図1に示すライトバッファ125の具体構成を示す。図6において、記号N4はNMOSトランジスタを示し、記号I3、I4はインバータを示し、記号NA1はNAND回路を示す。記号WDは入力データラッチ信号を示し、記号WENはライトバッファ起動信号を示す。
FIG. 6 shows a specific configuration of the
図7は図1に示すセンスアンプ127の具体構成を示す。図7において、記号P4〜P6はPMOSトランジスタを示し、記号N5はNMOSトランジスタを示し、記号I5、I6はインバータを示し、記号CI1はクロックドインバータを示す。記号RDはセンスアンプ出力を示し、記号SAEはセンスアンプ起動信号を示す。
FIG. 7 shows a specific configuration of the
図11aは図1に示すアドレスラッチ111と外部ピンPINとの接続図を示す。図11aにおいて、符号111aはカラムアドレスラッチ回路を示し、符号111bはロウアドレスラッチ回路を示す。記号A0〜A8は外部入力アドレスを示し、記号ADCnはカラムアドレスラッチ信号を示し、記号ADRnはロウアドレスラッチ信号を示し、記号INTCLKはアドレスラッチ起動信号を示す。
FIG. 11a shows a connection diagram between the
図13は図1に示す出力回路128の具体構成を示す。図13において、符号I7〜I10はインバータを示す。記号RD、RD8はセンスアンプ出力を示し、記号DOxは出力データを示す。
FIG. 13 shows a specific configuration of the
図1に示すごとく、メモリアレイ121とロウデコーダ101とはワード線WL0〜WL63で接続され、メモリアレイ121とプリチャージ回路A123とはビット線対B0〜B3、NB0〜NB3で接続され、メモリアレイ121とプリチャージ回路B129とはビット線対B80〜B87、NB80〜NB87で接続される。ロウデコーダ101とロウプリデコーダ107とはロウプリデコード信号RADnで接続され、ロウプリデコーダ107とアドレスラッチ111とはロウアドレスラッチ信号ADRnで接続され、ロウプリデコーダ107と制御部110とはメインパルス信号MPで接続される。
As shown in FIG. 1, the
プリチャージ回路A123とプリチャージ制御回路108とはプリチャージ信号PCGで接続され、プリチャージ回路A123とカラムセレクタA124とはビット線対B0〜B3、NB0〜NB3で接続される。
The precharge circuit A123 and the
プリチャージ回路B129とプリチャージ制御回路108とはプリチャージ信号PCGで接続され、プリチャージ回路B129とカラムセレクタB130とはビット線対B80〜B87、NB80〜NB87で接続される。
The precharge circuit B129 and the
また、カラムセレクタA124とライトバッファ125とはデータ線対DBUS、NDBUSで接続され、カラムセレクタA124とカラムデコーダ109とはカラムデコード信号CADnで接続され、カラムセレクタA124とセンスアンプ127とはデータ線対DBUS、NDBUSで接続される。
The
また、カラムセレクタB130とライトバッファ125とはデータ線対DBUS8、NDBUS8で接続され、カラムセレクタB130とカラムデコーダ109とはカラムデコード信号CADnで接続され、カラムセレクタB130とセンスアンプ127とはデータ線対DBUS8、NDBUS8で接続される。
The column selector B130 and the
また、カラムデコーダ109とアドレスラッチ111とはカラムアドレスラッチ信号ADCnで接続される。
The
また、ライトバッファ125と入力データラッチ126とは入力データラッチ信号WDで接続され、ライトバッファ125と制御部110とはライトバッファ起動信号WENで接続される。
The
また、センスアンプ127と出力回路128とはセンスアンプ出力RDで接続され、センスアンプ127と制御部110とはセンスアンプ起動信号SAEで接続される。
The
また、入力データラッチ126と制御部110とはデータラッチ起動信号DICLKで接続され、入力データラッチ126と外部とは入力データDIxで接続される。
The input data latch 126 and the
また、出力回路128と外部とは出力データDOxで接続される。
Further, the
また、プリチャージ制御回路108と制御部110とはプリチャージ起動信号PRで接続され、また、アドレスラッチ111と制御部110とはアドレスラッチ起動信号INTCLKで接続される。
The
また、アドレスラッチ111と外部とはアドレス信号で接続され、制御部110と外部とはクロック信号CLKとライトイネーブル信号NWEとで接続される。
The
図2はメモリアレイ121の内部構造を示している。それぞれが行列状に配置された各メモリセル120は、複数のビット線対B0〜B3、NB0〜NB3、B80〜B87、NB80〜NB87のうちの1対と、複数のワード線WL0〜WL63のうちの1本と接続されている。
FIG. 2 shows the internal structure of the
図11aは、図1に示すアドレスラッチ111と外部ピンPINの接続図を示しており、外部アドレス信号と、制御部からのINTCLKが入力され、内部にアドレスラッチ信号ADRn、ADCnを出力する。
FIG. 11a shows a connection diagram between the
図24はメモリ統合前のシステムLSIを示し、記号171はワード線が32本のメモリマクロを示し、記号172はワード線が64本のメモリマクロを示し、記号174はロジック回路を示す。 24 shows a system LSI before memory integration, symbol 171 indicates a memory macro with 32 word lines, symbol 172 indicates a memory macro with 64 word lines, and symbol 174 indicates a logic circuit.
図25はメモリ統合後のシステムLSIを示し、記号173はワード線が64本の統合後のメモリマクロを示し、記号173の統合後のメモリマクロは図1の本発明の実施の形態1の半導体記憶装置を示す。 FIG. 25 shows a system LSI after memory integration, symbol 173 indicates a memory macro after integration of 64 word lines, and the memory macro after integration of symbol 173 indicates the semiconductor according to the first embodiment of the present invention in FIG. A storage device is shown.
以上のように構成された本発明の実施の形態1において、以下その動作を説明する。 The operation of the first embodiment of the present invention configured as described above will be described below.
外部より、書き込みが行われると、ライトイネーブル信号NWEは“L”レベルとなり、外部クロック信号CLKは“H”レベルとなる。このとき制御回路102内の制御部110において、アドレスラッチ起動信号INTCLKとデータラッチ起動信号DICLKとが出力され、アドレスラッチ111で外部のアドレスがラッチされ、ロウアドレスラッチ信号ADRnとカラムアドレスラッチ信号ADCnとが出力される。また、入力データラッチ126で入力データDIxがラッチされ、入力データラッチ信号WDが出力される。更に制御部110でプリチャージ起動信号PRが停止し、プリチャージ制御回路108でプリチャージ信号PCGが停止して、プリチャージ回路A123とプリチャージ回路B129が停止し、プリチャージ動作が終了する。また、カラムアドレスラッチ信号ADCnを受けて、カラムデコーダ109でカラムデコード信号CADnが出力され、カラムデコード信号CADnを受けて、カラムセレクタA124およびカラムセレクタB130で、それぞれ一つのビット線対が選択される。
When writing is performed from the outside, the write enable signal NWE becomes “L” level and the external clock signal CLK becomes “H” level. At this time, the
更に、制御部110からメインパルス信号MPが出力され、ロウプリデコーダ107でロウプリデコード信号RADnが出力され、ロウデコーダ101で、所望のワード線が選択され、所望のワード線から信号が出力される。更に制御部110からライトバッファ起動信号WENが出力され、ライトバッファ125からデータ線対DBUS、NDBUSへデータが出力される。
Further, a main pulse signal MP is output from the
このデータは先に選択された、カラムセレクタA124および、カラムセレクタB130の中のそれぞれ一つのビット線対を通して、先に選択されたワード線に接続されるメモリセルに書き込まれる。
This data is written into the memory cell connected to the previously selected word line through each bit line pair in
その後、制御部110からメインパルス信号MPが停止され、ワード線の信号が停止し、ライトバッファ起動信号WENが停止され、更にプリチャージ起動信号PRが出力され、ビット線対がプリチャージされ、書き込み動作が終了する。
Thereafter, the main pulse signal MP is stopped from the
次に、外部より読出し動作が行なわれるとライトイネーブル信号NWEは“H”レベルとなり、外部クロック信号CLKは“H”レベルとなる。このとき制御回路内の制御部110において、アドレスラッチ起動信号INTCLKとデータラッチ起動信号DICLKとが出力され、アドレスラッチ111でアドレスがラッチされ、ロウアドレスラッチ信号ADRnとカラムアドレスラッチ信号ADCnとが出力される。また、制御部110でプリチャージ起動信号PRが停止し、プリチャージ制御回路108でプリチャージ信号PCGが停止して、プリチャージ回路A123とプリチャージ回路B129が停止し、プリチャージ動作が終了する。また、カラムアドレスラッチ信号ADCnを受けて、カラムデコーダ109でカラムデコード信号CADnが出力され、カラムデコード信号CADnを受けて、カラムセレクタA124および、カラムセレクタB130で、それぞれ一つのビット線対が選択される。
Next, when a read operation is performed from the outside, the write enable signal NWE becomes "H" level and the external clock signal CLK becomes "H" level. At this time, the
更に、制御部110からメインパルス信号MPが出力され、ロウプリデコーダ107でロウプリデコード信号RADnが出力され、ロウデコーダ101で、所望のワード線が選択され、所望のワード線の信号が出力される。このとき、先に選択された、カラムセレクタA124および、カラムセレクタB130の中のそれぞれ一つのビット線対を通して、先に選択されたワード線に接続されるメモリセルからデータが読み出され、更に制御部110からセンスアンプ起動信号SAEが出力され、センスアンプ127で読み出されたデータを増幅し、出力回路128でデータをラッチし、外部へ出力データDOxが出力される。
Further, the main pulse signal MP is output from the
以上のように構成された本発明の実施の形態1においては、1つのメモリマクロ内に4ビット線対から1ビット線対を選択する4カラムI/O104と、8ビット線対から1ビット線対を選択する8カラムI/O106とが存在するので、4カラムI/O部103、8カラムI/O部105毎に適したワード数を選択でき、図24のように個別に配置されていたメモリマクロを図25のように統合して、ロウデコーダや制御回路の面積、ロジック回路からの制御線等の面積を削減することが可能であり、その実用的効果は大きい。 In the first embodiment of the present invention configured as described above, 4 column I / O 104 for selecting one bit line pair from 4 bit line pairs and one bit line from 8 bit line pairs in one memory macro. Since there is an 8-column I / O 106 for selecting a pair, an appropriate number of words can be selected for each of the 4-column I / O unit 103 and the 8-column I / O unit 105, which are arranged individually as shown in FIG. The memory macros can be integrated as shown in FIG. 25 to reduce the area of the row decoder and the control circuit, the area of the control line from the logic circuit, etc., and its practical effect is great.
(実施の形態2)
次に、本発明の実施の形態2について、以下図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 2)
Next, a second embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
図8は本発明の実施の形態2の半導体記憶装置のブロック図を示す。この半導体記憶装置では、8カラムI/O106内で、プリチャージ回路B129の代わりにプリチャージ回路A123を備え、カラムセレクタB130の代わりにカラムセレクタA124を備え、ライトバッファ125の代わりにライトバッファ131を備え、センスアンプ127の代わりにセンスアンプ132を備えている。ライトバッファ131は内部にライトバッファ選択回路131aを備え、センスアンプ132は内部にセンスアンプ選択回路132aを備える(図9、図10参照)。
FIG. 8 is a block diagram of the semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention. This semiconductor memory device includes a precharge circuit A123 instead of the precharge circuit B129, a column selector A124 instead of the column selector B130, and a
そして、8カラムI/O106に対応するメモリアレイ121中のメモリセルアレイ122とプリチャージ回路A123とカラムセレクタA124とはビット線対B80〜B87、NB80〜NB87で接続され、カラムセレクタA124とライトバッファ131とセンスアンプ132とはデータ線対DBUS81〜DBUS82、NDBUS81〜NDBUS82とで接続され、カラムデコーダ109とライトバッファ131内のライトバッファ選択回路131aとセンスアンプ132内のセンスアンプ選択回路132aとがアドレスデコード線SADnで接続され、ライトバッファ選択回路131aと制御部110とはライトバッファ起動信号WENで接続され、センスアンプ選択回路132aと制御部110とはセンスアンプ起動信号SAEで接続され、ライトバッファ131と入力データラッチ126とが入力データラッチ信号WD8で接続され、センスアンプ132と出力回路128とがセンスアンプ出力RD8で接続される。
The
図9は図8に示すライトバッファ131の具体構成を示す。図9において、記号N4はNMOSトランジスタを示し、記号I3、I4はインバータを示し、記号NA1はNAND回路を示し、記号131aはライトバッファ選択回路を示し、記号A1はAND回路を示す。
FIG. 9 shows a specific configuration of the
図10は図8に示すセンスアンプ132の具体構成を示す。図10において、記号P4〜P6はPMOSトランジスタを示し、記号N5はNMOSトランジスタを示し、記号I5、I6はインバータを示し、記号CI1はクロックドインバータを示し、記号132aはセンスアンプ選択回路を示し、記号A2はAND回路を示す。
FIG. 10 shows a specific configuration of the
他の構成は本発明の実施の形態1と同様である。 Other configurations are the same as those of the first embodiment of the present invention.
本発明の実施の形態2において、入力データラッチ信号WD8はアドレスデコード線SADnで選択されるライトバッファ131でのみ書き込まれる。また読出し時にはアドレスデコード線SADnで選択されるセンスアンプ132のみで増幅される。
In the second embodiment of the present invention, the input data latch signal WD8 is written only in the
この実施の形態では、カラムセレクタB130ではなくカラムセレクタA124を備えているので、ビット線のデータ転送時にカラムセレクタの負荷容量が小さく、カラムセレクタA124のみを備えているので、開発工数も押さえた上で、実施の形態1と同様に、4カラムI/O部103、8カラムI/O部105毎に適したワード数を選択でき、ロウデコーダやコントロール回路、ロジック回路からの制御線等の面積を削減することが可能であり、その実用的効果は大きい。 In this embodiment, since the column selector A124 is provided instead of the column selector B130, the load capacity of the column selector is small at the time of bit line data transfer, and only the column selector A124 is provided. Thus, as in the first embodiment, the appropriate number of words can be selected for each of the 4-column I / O unit 103 and the 8-column I / O unit 105, and the area of control lines from the row decoder, control circuit, and logic circuit can be selected. Can be reduced, and its practical effect is great.
(実施の形態3)
次に、本発明の実施の形態3の半導体記憶装置について、以下図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 3)
Next, a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
図11bはアドレスラッチ111と外部ピンPINとの接続図を示す。図11aとの違いは、カラムアドレスを共通して使用できるアドレスは同じ接続で、共通化できないアドレスを、ロウアドレスも含む全てのアドレスの最上位に接続したことである。
FIG. 11b shows a connection diagram between the
表1は図11aの接続での論理アドレスマッピングを示す。 Table 1 shows the logical address mapping for the connection of FIG. 11a.
表2は図11bの接続での論理アドレスマッピングを示す。 Table 2 shows the logical address mapping for the connection of FIG. 11b.
他の構成は本発明の実施の形態1と同様である。
Other configurations are the same as those of the first embodiment of the present invention.
本発明の実施の形態3において、論理的なメモリマッピングは4カラム単位で最上位アドレスのみが変更されるメモリマッピングとなり、共通の容量内での論理的なアドレス空間を統一することができ、検査パターン作成時の容易性を高めて検査を容易化した上で、実施の形態1と同様の、ロウデコーダやコントロール回路、ロジック回路からの制御線等の面積を削減することが可能であり、その実用的効果は大きい。 In the third embodiment of the present invention, the logical memory mapping is a memory mapping in which only the highest address is changed in units of 4 columns, and the logical address space within a common capacity can be unified, It is possible to reduce the area of the control lines from the row decoder, the control circuit, and the logic circuit as in the first embodiment after enhancing the ease of pattern creation and facilitating the inspection. The practical effect is great.
(実施の形態4)
次に、本発明の実施の形態4の半導体記憶装置について、以下図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 4)
Next, a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
図12は本発明の実施の形態4の半導体記憶装置のブロック図を示す。この半導体記憶装置では、8カラムI/O106は出力回路133を備えている。制御部110と出力回路133とはレイテンシー制御クロックL2CLKで接続される。
FIG. 12 is a block diagram of the semiconductor memory device according to the fourth embodiment of the present invention. In this semiconductor memory device, the 8-column I / O 106 includes an
図14は出力回路133の具体構成を示す。図14において、記号P7はPMOSトランジスタを示し、記号N6はNMOSトランジスタを示し、記号I7〜I13はインバータを示す。記号L2CLKはレイテンシー制御クロックを示す。
FIG. 14 shows a specific configuration of the
他の構成は本発明の実施の形態2と同様である。 Other configurations are the same as those of the second embodiment of the present invention.
本発明の実施の形態4において、出力回路133は、センスアンプ出力RD8をラッチした後に、次サイクルでレイテンシー制御クロックL2CLKを受けて、データを出力する。このため、実施の形態1と同様の、ロウデコーダやコントロール回路、ロジック回路からの制御線等の面積を削減し、また、複数のデータ入出力回路のうち、いずれか一つがレイテンシー回路を備えるので、レイテンシー回路を備えたデータ入出力回路は、レイテンシー回路を備えないデータ入出力回路よりも、読出しサイクルは遅くなるが、データの読出し時間は早くなり、その実用的効果は大きい。
In the fourth embodiment of the present invention, after latching the sense amplifier output RD8, the
(実施の形態5)
次に、本発明の実施の形態5の半導体記憶装置について、以下図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 5)
Next, a semiconductor memory device according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
図15は本発明の実施の形態5の半導体記憶装置のブロック図を示す。この実施の形態では、8カラムI/O106が冗長回路134を備え、8カラムI/O106の最後の部分に冗長救済部141を備えている。冗長回路134と入力データラッチ126とは入力データラッチ信号WDATA8で接続され、冗長回路134とライトバッファ131とは入力データラッチ信号WD8Aで接続され、冗長回路134とセンスアンプ132とはセンスアンプ出力RD8Aで接続され、冗長回路134と出力回路133とはセンスアンプ出力RDATA8で接続され、冗長回路134内部の入力データラッチ信号WD8Bは次段の8カラムI/O内の冗長回路134内部の入力データラッチ信号WD8Aと接続され、次段の8カラムI/O内のライトバッファ131と接続される。冗長回路134内部のセンスアンプ出力RD8Bは次段の8カラムI/O内の冗長回路134内部のセンスアンプ出力RD8Aと接続され、次段の8カラムI/O内のセンスアンプ132と接続される。冗長回路134内部の冗長信号RAAは、次段の8カラムI/O内の冗長回路134内部の冗長信号RAと接続され、初段の冗長回路134は冗長信号が接地され、冗長回路134はリセット信号と接続される。
FIG. 15 is a block diagram of the semiconductor memory device according to the fifth embodiment of the present invention. In this embodiment, the 8-column I / O 106 includes a redundant circuit 134 and the redundant relief unit 141 is provided at the last portion of the 8-column I / O 106. Redundant circuit 134 and input data latch 126 are connected by input data latch signal WDATA8, redundant circuit 134 and write
図16は冗長回路の詳細を示す。図16において、記号N7、N8はNMOSトランジスタを示し、記号I14、I15、I16はインバータを示し、記号F1はヒューズを示す。 FIG. 16 shows details of the redundant circuit. In FIG. 16, symbols N7 and N8 indicate NMOS transistors, symbols I14, I15, and I16 indicate inverters, and symbol F1 indicates a fuse.
図17は冗長救済部の詳細を示す。図17において、記号142は8カラム冗長I/Oを示す。この8カラム冗長I/O142には、入力データラッチと出力回路は設けられていない。8カラム冗長I/O142内部のセンスアンプ132の出力RD8Bは前段の8カラムI/O内の冗長回路134内部のRD8Bと接続され、8カラム冗長I/O142内部のライトバッファ131の入力WD8Bは前段の8カラムI/O内の冗長回路134内部のWD8Bと接続される。
FIG. 17 shows details of the redundant relief unit. In FIG. 17, symbol 142 indicates 8-column redundancy I / O. The 8-column redundant I / O 142 is not provided with an input data latch and an output circuit. The output RD8B of the
他の構成は本発明の実施の形態2と同様である。 Other configurations are the same as those of the second embodiment of the present invention.
本発明の実施の形態5において、不良がない場合は、図16の冗長回路134において、ヒューズF1は切断されないので、リセット信号入力後、ノードAは“H”レベルとなり、書き込み時はWDATA8−WD8Aの経路で書き込みが行なわれ、読み出し時はRD8A−RDATA8の経路で読み出しが行なわれる。不良が存在する場合は、ヒューズF1が切断され、リセット信号入力後、ノードAは“L”レベルとなり、書き込み時はWDATA8−WD8Bの経路で書き込みが行なわれ、読み出し時はRD8B−RDATA8の経路で読み出しが行なわれる。このため、実施の形態1または2と同様の、ロウデコーダやコントロール回路、ロジック回路からの制御線等の面積を削減し、さらに歩留まりを向上を実現することが可能であり、その実用的効果は大きい。 In the fifth embodiment of the present invention, when there is no defect, the fuse F1 is not cut in the redundant circuit 134 of FIG. 16, so that the node A becomes “H” level after inputting the reset signal, and WDATA8-WD8A is written. Writing is performed through the path RD8, and reading is performed through the path RD8A-RDATA8 during reading. When there is a defect, the fuse F1 is cut, and after the reset signal is input, the node A becomes “L” level, writing is performed through the path WDATA8-WD8B, and writing is performed through the path RD8B-RDATA8. Reading is performed. For this reason, it is possible to reduce the area of the row decoder, the control circuit, the control line from the logic circuit, etc., as in the first or second embodiment, and further improve the yield. large.
(実施の形態6)
次に、本発明の実施の形態6の半導体記憶装置について、以下図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 6)
Next, a semiconductor memory device according to a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
図18は本発明の実施の形態6の半導体記憶装置のブロック図を示す。この半導体記憶装置は、4カラムI/O部103及び4カラムI/O部103に対応するメモリセルアレイ122と8カラムI/O部105及び8カラムI/O部105に対応するメモリセルアレイ122との間に、制御信号遅延回路135とワード線遅延回路136とを備えている。そして、4カラムI/O部103と制御信号遅延回路135とは制御回路102からの各制御信号PCG、CADn、SAE、WEN、DICLKが直接接続され、8カラムI/O部105と制御信号遅延回路135とは遅延された制御信号PCGA、CADnA、SAEA、WENA、DICLKAで接続される。また、4カラムI/O部103に対応するメモリセルアレイ122とロウデコーダ101とワード線遅延回路136とはワード線WL0〜WL63で接続され、8カラムI/O部105に対応するメモリセルアレイ122とワード線遅延回路136とは遅延ワード線WL0A〜WL63Aで接続される。
FIG. 18 is a block diagram of the semiconductor memory device according to the sixth embodiment of the present invention. The semiconductor memory device includes a
図19は制御信号遅延回路135の詳細を示す。図19において、記号I17〜I20遅延用のインバータを示す。
FIG. 19 shows details of the control
図20はワード線遅延回路136の詳細を示す。図20において、記号I21〜I24は遅延用のインバータを示す。 FIG. 20 shows details of the word line delay circuit 136. In FIG. 20, symbols I21 to I24 indicate inverters for delay.
他の構成は本発明の実施の形態1と同様である。 Other configurations are the same as those of the first embodiment of the present invention.
本発明の実施の形態6において、8カラムI/O部105及び8カラムI/O部105に対応するメモリセルアレイ122は、4カラムI/O部103及び4カラムI/O部103に対応するメモリセルアレイ122に対して、全ての信号が等しく遅延される。このため、実施の形態1と同様の、ロウデコーダやコントロール回路、ロジック回路からの制御線等の面積を削減し、ひとつのメモリ内で異なるカラムI/O部毎に、つまり4カラムI/O部103、8カラムI/O部105毎に動作周期が異なる制御を実現することが可能であり、その実用的効果は大きい。
In the sixth embodiment of the present invention, the
つまり、制御遅延回路135とワード線遅延回路136とを設けたことにより、サイクル時間は同じで、位相のずれた動作タイミングの複数のメモリを統合してロウデコーダや制御回路などの面積を削減し、共通の容量内での論理的なアドレス空間を統一し、検査を容易化することができる。
In other words, by providing the
また、制御遅延回路135とワード線遅延回路136とで、共に同じ段数のインバータ素子を備える構成では、サイクル時間は同じで、位相のずれた動作タイミングの複数のメモリを統合し、位相の調整を容易化し、ロウデコーダや制御回路などの面積を削減し、共通の容量内での論理的なアドレス空間を統一し、検査を容易化することができる。
In the configuration in which both the
(実施の形態7)
次に、本発明の実施の形態7の半導体記憶装置について、以下図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 7)
Next, a semiconductor memory device according to a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
図21は本発明の実施の形態7の半導体記憶装置のブロック図を示す。この実施の形態では、制御回路102内に遅延回路137を備えている。遅延回路137と制御部110とはセンスアンプ起動信号SAEで接続され、遅延回路137と8カラムI/O106のセンスアンプ127とはセンスアンプ起動信号SAE1で接続される。
FIG. 21 is a block diagram of the semiconductor memory device according to the seventh embodiment of the present invention. In this embodiment, a
他の構成は本発明の実施の形態1と同様である。 Other configurations are the same as those of the first embodiment of the present invention.
本発明の実施の形態7において、8カラムI/O部105は、4カラムI/O部103に対して、遅延されたセンスアンプ起動信号SAE1の制御を受ける。このため、実施の形態1と同様の、ロウデコーダやコントロール回路、ロジック回路からの制御線等の面積を削減し、4カラムI/O部103、8カラムI/O部105毎に、読出し時間の微調整を可能とし、より確実なタイミングでデータの読み出しを実現することが可能であり、その実用的効果は大きい。 In the seventh embodiment of the present invention, the 8-column I / O unit 105 is controlled by the 4-column I / O unit 103 to control the delayed sense amplifier activation signal SAE1. For this reason, as in the first embodiment, the area of the row decoder, the control circuit, the control line from the logic circuit, etc. is reduced, and the read time for each of the 4-column I / O unit 103 and the 8-column I / O unit 105 is reduced. Can be finely adjusted, and data can be read at a more reliable timing, which has a great practical effect.
(実施の形態8)
次に、本発明の実施の形態8の半導体記憶装置について、以下図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 8)
Next, a semiconductor memory device according to an eighth embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
図22は本発明の実施の形態8の半導体記憶装置におけるメモリアレイの構成を示している。この実施の形態では、メモリセルアレイ151は必要なメモリセルのみビット線対に接続され、ビット線は、必要なメモリセルと必要でないメモリセルとの間で切断され、必要ないメモリセルは一方のノード(ビット線)が接地されている。 FIG. 22 shows a configuration of a memory array in the semiconductor memory device according to the eighth embodiment of the present invention. In this embodiment, only the necessary memory cells are connected to the bit line pair in the memory cell array 151, the bit lines are disconnected between the necessary memory cells and the unnecessary memory cells, and the unnecessary memory cells are connected to one node. (Bit line) is grounded.
他の構成は本発明の実施の形態1と同様である。 Other configurations are the same as those of the first embodiment of the present invention.
本発明の実施の形態8において、8カラムI/O部105は、4カラムI/O部103に対して、ビット線の長さが短く、必要なメモリのみへのアクセスであるので、読み出しタイミングの高速化も可能となる。このため、実施の形態1と同様の、ロウデコーダやコントロール回路、ロジック回路からの制御線等の面積を削減し、4カラムI/O部、8カラムI/O部毎に、より確実なタイミングでデータの読み出しを実現することが可能であり、その実用的効果は大きい。 In the eighth embodiment of the present invention, the 8-column I / O unit 105 has a shorter bit line length than the 4-column I / O unit 103 and accesses only the necessary memory. It is also possible to increase the speed. Therefore, as in the first embodiment, the area of the control lines from the row decoder, control circuit, and logic circuit is reduced, and more reliable timing is provided for each of the four column I / O units and the eight column I / O units. Thus, it is possible to realize data reading, and its practical effect is great.
(実施の形態9)
次に、本発明の実施の形態9の半導体記憶装置について、以下図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 9)
Next, a semiconductor memory device according to a ninth embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
図23は本発明の実施の形態9の半導体記憶装置におけるメモリアレイの構成を示している。この実施の形態では、メモリセルアレイ151には必要なメモリセル120のみ配置されている。
FIG. 23 shows a configuration of a memory array in the semiconductor memory device according to the ninth embodiment of the present invention. In this embodiment, only
他の構成は本発明の実施の形態1と同様である。 Other configurations are the same as those of the first embodiment of the present invention.
本発明の実施の形態9において、8カラムI/O部105は、4カラムI/O部103に対して、ビット線の長さが短く、必要なメモリのみ配置されており、読み出しタイミングの高速化も可能で、かつ、面積削減も可能である。このため、実施の形態1と同様の、ロウデコーダやコントロール回路、ロジック回路からの制御線等の面積を削減し、4カラムI/O部103、8カラムI/O部105毎に、より確実なタイミングでデータの読み出しを実現することが可能であり、その実用的効果は大きい。 In the ninth embodiment of the present invention, the 8-column I / O unit 105 has a shorter bit line length than the 4-column I / O unit 103, and only necessary memory is arranged, so that the read timing is high. The area can also be reduced. Therefore, as in the first embodiment, the area of the control lines from the row decoder, control circuit, and logic circuit is reduced, and the 4-column I / O unit 103 and the 8-column I / O unit 105 are more reliable. It is possible to read data at an appropriate timing, and its practical effect is great.
本発明にかかるメモリを統合する技術は、一つのメモリの中にビット線対を選択する回路が異なる複数の入出力回路を有し、複数のメモリを統合し、ロウデコーダや制御回路を1つにして面積を削減するだけでなく、メモリに接続される配線も削減することが可能で、システムLSI上のメモリ等の面積削減に有用である。 The technology for integrating memories according to the present invention includes a plurality of input / output circuits having different circuits for selecting bit line pairs in one memory, integrating a plurality of memories, and providing one row decoder and one control circuit. Thus, not only the area can be reduced, but also the wiring connected to the memory can be reduced, which is useful for reducing the area of the memory on the system LSI.
101 ロウデコーダ
102 制御回路
103 4カラムI/O部
104 4カラムI/O
105 8カラムI/O部
106 8カラムI/O
107 ロウプリデコーダ
108 プリチャージ制御回路
109 カラムデコーダ
110 制御部
111 アドレスラッチ
111a カラムアドレスラッチ回路
111b ロウアドレスラッチ回路
120 メモリセル
121 メモリアレイ
122 メモリセルアレイ
123 プリチャージ回路A
124 カラムセレクタA
125 ライトバッファ
126 入力データラッチ
127 センスアンプ
128 出力回路
129 プリチャージ回路B
130 カラムセレクタB
131 ライトバッファ
131a ライトバッファ選択回路
132 センスアンプ
132a センスアンプ選択回路
133 出力回路
133a レイテンシー回路
134 冗長回路
135 制御信号遅延回路
136 ワード線遅延回路
137 遅延回路
141 冗長救済部
151 メモリセルアレイ
152 メモリセルアレイ
161 メモリアレイ
162 メモリアレイ
171 統合前のメモリ1
172 統合前のメモリ2
173 統合後のメモリ
174 ロジック回路
A1〜A2 AND回路
NA1 NAND回路
I1からI24 インバータ
CI1 クロックドインバータ
P1からP7 PMOSトランジスタ
N1からN8 NMOSトランジスタ
101
105 8-column I / O section 106 8-column I / O
107
124 Column selector A
125
130 Column selector B
131
172 Memory 2 before integration
173 Memory after integration 174 Logic circuit A1 to A2 AND circuit NA1 NAND circuit I1 to I24 Inverter CI1 Clocked inverter P1 to P7 PMOS transistor N1 to N8 NMOS transistor
Claims (10)
前記複数のデータ入出力回路のうちの第1のデータ入出力回路は、前記制御回路から出力される制御信号に接続され、前記複数のデータ入出力回路のうちの第2のデータ入出力回路は、前記制御遅延回路の出力に接続され、前記複数のデータ入出力回路に対応する複数のメモリアレイのうちの第1のメモリアレイは前記ワード線に接続され、前記複数のメモリアレイのうちの第2のメモリアレイは前記ワード線遅延回路に接続される請求項1または請求項2に記載の半導体記憶装置。 A control delay circuit disposed between the plurality of data input / output circuits for delaying a control signal of the control circuit; and a row decoder disposed between a plurality of memory arrays corresponding to the plurality of data input / output circuits. A word line delay circuit for delaying a signal of a certain word line,
A first data input / output circuit of the plurality of data input / output circuits is connected to a control signal output from the control circuit, and a second data input / output circuit of the plurality of data input / output circuits is A first memory array of a plurality of memory arrays connected to an output of the control delay circuit and corresponding to the plurality of data input / output circuits is connected to the word line, and a first memory array of the plurality of memory arrays 3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein two memory arrays are connected to the word line delay circuit.
Priority Applications (1)
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Cited By (1)
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-
2005
- 2005-12-27 JP JP2005373788A patent/JP2007179605A/en active Pending
Cited By (2)
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---|---|---|---|---|
CN109196585A (en) * | 2016-04-14 | 2019-01-11 | 美光科技公司 | For controlling the device and method of wordline and sense amplifier |
CN109196585B (en) * | 2016-04-14 | 2023-03-21 | 美光科技公司 | Apparatus and method for controlling word line and sense amplifier |
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