JP2007179605A - Semiconductor storage - Google Patents

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Marefusa Kurumada
希総 車田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor storage capable of reducing areas of a row decoder and control circuit by integrating a plurality of memories. <P>SOLUTION: The storage is provided with columns I/O 103 and 105 having column selectors 124 and 130 which differ in the number of bit lines to be selected or has sense amplifiers 127 and 132 connected to the different number of the column selectors 124 or individually connected to the column selectors 124, and is provided with the columns I/O 103 and 105 having sense amplifying selecting circuits which differ in the number of sense amplifiers to be selected according to the number of sense amplifiers 127 and 132. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、システムLSIに混載される半導体記憶装置(メモリ)に関するものである。特に、複数のメモリを統合して一つのメモリに置き換え、それによってシステムLSIに搭載される半導体記憶装置の占有面積を削減し、統合後も統合前の個別の機能を実現するのに有効な技術に関するものである。   The present invention relates to a semiconductor memory device (memory) embedded in a system LSI. In particular, a technology that integrates multiple memories and replaces them with a single memory, thereby reducing the area occupied by the semiconductor storage device mounted on the system LSI and enabling individual functions after integration before integration. It is about.

システムLSIには様々なメモリが搭載される。図24には、メモリ統合前のシステムLSIのブロック図を示している。図24において、符号171は統合前の第1メモリマクロを示し、符号172は統合前の第2メモリマクロを示し、符号174は第1メモリマクロ171および第2メモリマクロ172に対して、コマンドおよびアドレスを与えるロジック回路を示している。第1メモリマクロ171はワード線が32本、ビット線が8対の構成を有し、第2メモリマクロ172はワード線が64本、ビット線が8対の構成を有する。   Various memories are mounted on the system LSI. FIG. 24 shows a block diagram of a system LSI before memory integration. In FIG. 24, reference numeral 171 denotes a first memory macro before integration, reference numeral 172 denotes a second memory macro before integration, and reference numeral 174 denotes commands and commands for the first memory macro 171 and the second memory macro 172. A logic circuit for giving an address is shown. The first memory macro 171 has a configuration of 32 word lines and 8 pairs of bit lines, and the second memory macro 172 has a configuration of 64 word lines and 8 pairs of bit lines.

今回開示するメモリを統合する技術は、図24に示すように、従来ロジック回路174により制御される、複数のメモリ、すなわち第1メモリマクロ171および第2メモリマクロ172を統合する技術である。従来、システムLSIにおいて、メモリは、図24に示すように、容量やワード数等の構成が異なる場合、個別のメモリマクロとして、すなわち第1メモリマクロ171および第2メモリマクロ172としてシステムLSIに搭載され、ロジック回路174により制御が行なわれていた。   The technology for integrating the memories disclosed this time is a technology for integrating a plurality of memories, that is, a first memory macro 171 and a second memory macro 172, which are controlled by a conventional logic circuit 174, as shown in FIG. Conventionally, in the system LSI, as shown in FIG. 24, when the configuration such as the capacity and the number of words is different, the memory is mounted on the system LSI as individual memory macros, that is, as the first memory macro 171 and the second memory macro 172. Thus, the logic circuit 174 has been controlled.

また、メモリを統合する技術では、第一のメモリアレイ部と第二のメモリアレイ部がひとまとめに統合されたメモリアレイを含み、第一のメモリアレイ部と第二のメモリアレイ部は別々にアドレス可能である。外部から受け取ったアドレスデータを使用して第一のメモリアレイ部をアドレス指定するために第一のアクセス手段が設けられ、受け取った制御データを第二のメモリアレイ部へのアドレス信号として使用して第二のメモリアレイ部にアクセスするために第二のアクセス手段が設けられている。このように異なるメモリを統合する方法が特許文献1に記載されている。
特開平7−281943号公報
Further, in the technology for integrating the memory, the memory array unit includes a memory array in which the first memory array unit and the second memory array unit are integrated together, and the first memory array unit and the second memory array unit are separately addressed. Is possible. A first access means is provided for addressing the first memory array unit using address data received from outside, and using the received control data as an address signal to the second memory array unit Second access means is provided for accessing the second memory array section. A method for integrating different memories in this manner is described in Patent Document 1.
Japanese Patent Laid-Open No. 7-281943

しかしながら、従来の半導体記憶装置では、システムLSIに混載される場合において、システムLSI上に複数のメモリが搭載される場合、複数のメモリ毎に制御回路やロウデコーダが存在し、面積が増加するという課題があった。特許文献1に記載されている構成では、第1のメモリアレイ部と第2のメモリアレイ部は統合されているがロウデコーダ部は個別に存在している。   However, in the conventional semiconductor memory device, when a plurality of memories are mounted on the system LSI when they are mixedly mounted on the system LSI, a control circuit and a row decoder exist for each of the plurality of memories, and the area increases. There was a problem. In the configuration described in Patent Document 1, the first memory array unit and the second memory array unit are integrated, but the row decoder unit exists separately.

したがって、本発明の目的は、ワード数や容量の異なる複数のメモリを統合して、ロウデコーダや制御回路などの面積を削減することができる半導体記憶装置を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can reduce the area of a row decoder, a control circuit, etc. by integrating a plurality of memories having different numbers of words and different capacities.

上記課題を解決するために、本発明の請求項1記載の半導体記憶装置は、選択対象ビット線数が異なるビット線選択回路を有する複数種類のデータ入出力回路を備えるものである。   In order to solve the above problems, a semiconductor memory device according to claim 1 of the present invention comprises a plurality of types of data input / output circuits having bit line selection circuits having different numbers of selection target bit lines.

この構成によれば、データ入出力回路毎にワード数が異なっていても、ワード線の数を合わせる事で、複数のメモリアレイを統合することができるので、ロウデコーダや制御回路などの面積を削減する作用効果を有する。   According to this configuration, even if the number of words is different for each data input / output circuit, it is possible to integrate a plurality of memory arrays by matching the number of word lines. Has the effect of reducing.

上記課題を解決するために、本発明の請求項2記載の半導体記憶装置は、異なる個数のビット線選択回路および前記ビット線選択回路に個別に接続されるセンスアンプと前記ビット線選択回路に個別に接続されるライトバッファとを有し、かつ前記センスアンプの個数に応じて選択対象センスアンプ数が異なるセンスアンプ選択回路と前記ライトバッファの個数に応じて選択対象ライトバッファ数が異なるライトバッファ選択回路とを有する複数種類のデータ入出力回路を備えるものである。   In order to solve the above-described problem, a semiconductor memory device according to claim 2 of the present invention is configured so that different numbers of bit line selection circuits, sense amplifiers individually connected to the bit line selection circuits, and the bit line selection circuits are individually provided. And a write buffer selection having a number of selection target write buffers different depending on the number of the write buffers and a sense amplifier selection circuit having a number of selection target sense amplifiers different depending on the number of the sense amplifiers And a plurality of types of data input / output circuits.

この構成によれば、データ入出力回路毎にワード数が異なっていても、ワード線の数を合わせる事で、複数のメモリアレイを統合することができるので、ロウデコーダや制御回路などの面積を削減する作用効果を有する。   According to this configuration, even if the number of words is different for each data input / output circuit, it is possible to integrate a plurality of memory arrays by matching the number of word lines. Has the effect of reducing.

上記課題を解決するために、本発明の請求項3記載の半導体記憶装置は、請求項1または2記載の半導体記憶装置において、複数のデータ入出力回路のうち、第1のデータ入出力回路に対応する第1のメモリセルアレイは全てのメモリセルにビット線が接続され、第2のデータ入出力回路に対応する第2のメモリセルアレイは一部はビット線が接続されないメモリセルを備える。   In order to solve the above-mentioned problem, a semiconductor memory device according to claim 3 of the present invention is the semiconductor memory device according to claim 1 or 2, wherein the first data input / output circuit among the plurality of data input / output circuits is used. The corresponding first memory cell array has bit lines connected to all the memory cells, and the second memory cell array corresponding to the second data input / output circuit partially includes memory cells to which no bit lines are connected.

この構成によれば、第2のデータ入出力回路に対応する第2のメモリセルアレイはビット線が接続されない一部のメモリセルを備えるので、ビット線の負荷を低減する事が可能となり、請求項1または2と同様の作用効果に加え、データの読み出し特性を向上させるという作用効果を有する。   According to this configuration, since the second memory cell array corresponding to the second data input / output circuit includes a part of the memory cells to which the bit lines are not connected, it is possible to reduce the load on the bit lines. In addition to the same effect as 1 or 2, it has the effect of improving data read characteristics.

上記課題を解決するために、本発明の請求項4記載の半導体記憶装置は、請求項1または2記載の半導体記憶装置において、複数のデータ入出力回路のうち、第1のデータ入出力回路に対応する第1のメモリセルアレイと、第2のデータ入出力回路に対応する第2のメモリセルアレイとは、メモリ容量が異なる。   In order to solve the above problems, a semiconductor memory device according to a fourth aspect of the present invention is the semiconductor memory device according to the first or second aspect, wherein the first data input / output circuit among the plurality of data input / output circuits is used. The corresponding first memory cell array and the second memory cell array corresponding to the second data input / output circuit have different memory capacities.

この構成によれば、第1のデータ入出力回路に対応する第1のメモリアレイと、第2のデータ入出力回路に対応する第2のメモリアレイとは、メモリ容量が異なるので、ビット線の負荷を低減する事が可能となり、請求項1または2と同様の作用効果に加え、データの読み出し特性を向上させるという作用効果を有する。   According to this configuration, the first memory array corresponding to the first data input / output circuit and the second memory array corresponding to the second data input / output circuit have different memory capacities. The load can be reduced, and in addition to the same function and effect as those of the first or second aspect, the data reading characteristic is improved.

上記課題を解決するために、本発明の請求項5記載の半導体記憶装置は、請求項1または2記載の半導体記憶装置において、複数のデータ入出力回路で共通に使用するアドレスは外部アドレスとそのまま接続され、複数のデータ入出力回路で共通に使用しないアドレスは最上位アドレスとして外部アドレスと接続される。   In order to solve the above-described problem, the semiconductor memory device according to claim 5 of the present invention is the semiconductor memory device according to claim 1 or 2, wherein the address commonly used in the plurality of data input / output circuits is the same as the external address. An address that is connected and not used in common by a plurality of data input / output circuits is connected to an external address as the highest address.

この構成によれば、複数のデータ入出力回路で共通に使用するアドレスは外部アドレスとそのまま接続され、複数のデータ入出力回路で共通に使用しないアドレスは最上位アドレスとして外部アドレスと接続されるので、請求項1または2と同様の作用効果に加え、共通の容量内での論理的なアドレス空間を統一し、検査を容易化するという作用効果を有する。   According to this configuration, an address commonly used by a plurality of data input / output circuits is directly connected to an external address, and an address not commonly used by a plurality of data input / output circuits is connected to an external address as the highest address. In addition to the operational effects similar to those of the first or second aspect, the logical address space within the common capacity is unified to facilitate the inspection.

上記課題を解決するために、本発明の請求項6記載の半導体記憶装置は、請求項1または2に記載の半導体記憶装置において、複数のデータ入出力回路のうち、いずれか一つがレイテンシー回路を備える。   In order to solve the above problem, according to a sixth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the first or second aspect, any one of the plurality of data input / output circuits includes a latency circuit. Prepare.

この構成によれば、複数のデータ入出力回路のうち、いずれか一つがレイテンシー回路を備えるので、請求項1または2と同様の作用効果に加え、複数のデータ入出力回路のうち、レイテンシー回路を備えたデータ入出力回路は、レイテンシー回路を備えないデータ入出力回路よりも、読出しサイクルは遅くなるが、データの読出し時間は早くなるという
作用効果を有する。
According to this configuration, since any one of the plurality of data input / output circuits includes the latency circuit, the latency circuit among the plurality of data input / output circuits includes the latency circuit. The provided data input / output circuit has an effect that the read cycle is delayed but the data read time is earlier than that of the data input / output circuit not provided with the latency circuit.

上記課題を解決するために、本発明の請求項7記載の半導体記憶装置は、請求項1または2に記載の半導体記憶装置において、複数のデータ入出力回路のうち、いずれか一つが冗長回路を備える。   In order to solve the above problems, according to a seventh aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the first or second aspect, any one of the plurality of data input / output circuits includes a redundant circuit. Prepare.

この構成によれば、複数のデータ入出力回路のうち、いずれか一つが冗長回路を備えるので、不良個所を冗長回路によって救済することができ、請求項1または2と同様の作用効果に加え、歩留まりを向上させるという作用効果を有する。   According to this configuration, since any one of the plurality of data input / output circuits includes the redundant circuit, the defective portion can be remedied by the redundant circuit. In addition to the same effects as those of the first or second aspect, It has the effect of improving the yield.

上記課題を解決するために、本発明の請求項8記載の半導体記憶装置は、請求項1または2に記載の半導体記憶装置において、複数のデータ入出力回路は、制御タイミングの異なる制御信号に接続される。   In order to solve the above problems, according to an eighth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the first or second aspect, the plurality of data input / output circuits are connected to control signals having different control timings. Is done.

この構成によれば、請求項1または2と同様の作用効果に加え、読出し時間の微調整を可能にするという作用効果を有する。   According to this configuration, in addition to the operational effect similar to that of the first or second aspect, it has the operational effect of enabling fine adjustment of the readout time.

上記課題を解決するために、本発明の請求項9記載の半導体記憶装置は、請求項1または2に記載の半導体記憶装置において、複数のデータ入出力回路の間に配置されて制御回路の制御信号を遅延させる制御遅延回路と、複数のデータ入出力回路に対応する複数のメモリアレイの間に配置されロウデコーダの出力であるワード線の信号を遅延させるワード線遅延回路とを備え、複数のデータ入出力回路のうちの第1のデータ入出力回路は、制御回路から出力される制御信号に接続され、複数のデータ入出力回路のうちの第2のデータ入出力回路は、制御遅延回路の出力に接続され、複数のデータ入出力回路に対応する複数のメモリアレイのうちの第1のメモリアレイはワード線に接続され、複数のメモリアレイのうちの第2のメモリアレイはワード線遅延回路に接続される。   In order to solve the above problems, a semiconductor memory device according to claim 9 of the present invention is the semiconductor memory device according to claim 1 or 2, wherein the semiconductor memory device is arranged between a plurality of data input / output circuits and controlled by a control circuit. A control delay circuit that delays a signal, and a word line delay circuit that is disposed between a plurality of memory arrays corresponding to a plurality of data input / output circuits and delays a signal of a word line that is an output of a row decoder. A first data input / output circuit of the data input / output circuits is connected to a control signal output from the control circuit, and a second data input / output circuit of the plurality of data input / output circuits is connected to the control delay circuit. The first memory array of the plurality of memory arrays connected to the output and corresponding to the plurality of data input / output circuits is connected to the word line, and the second memory array of the plurality of memory arrays is It is connected to a lead wire delay circuit.

この構成によれば、制御遅延回路とワード線遅延回路とを設けたことにより、サイクル時間は同じで、位相のずれた動作タイミングの複数のメモリを統合してロウデコーダや制御回路などの面積を削減し、共通の容量内での論理的なアドレス空間を統一し、検査を容易化するという作用効果を有する。   According to this configuration, by providing the control delay circuit and the word line delay circuit, the cycle time is the same, and a plurality of memories with operation timings out of phase are integrated to reduce the area of the row decoder, the control circuit, etc. It has the effect of reducing, unifying the logical address space within a common capacity, and facilitating the inspection.

上記課題を解決するために、本発明の請求項10記載の半導体記憶装置は、請求項9記載の半導体記憶装置において、制御遅延回路とワード線遅延回路とは、共に同じ段数のインバータ素子を備える。   In order to solve the above problem, a semiconductor memory device according to claim 10 of the present invention is the semiconductor memory device according to claim 9, wherein both the control delay circuit and the word line delay circuit have inverter elements of the same number of stages. .

この構成によれば、制御遅延回路とワード線遅延回路とは、共に同じ段数のインバータ素子を備えるので、サイクル時間は同じで、位相のずれた動作タイミングの複数のメモリを統合し、位相の調整を容易化し、ロウデコーダや制御回路などの面積を削減し、共通の容量内での論理的なアドレス空間を統一し、検査を容易化するという作用効果を有する。   According to this configuration, since both the control delay circuit and the word line delay circuit are provided with the same number of inverter elements, the cycle time is the same, and a plurality of memories having operation phases shifted in phase are integrated to adjust the phase. This reduces the area of the row decoder and the control circuit, unifies the logical address space within the common capacity, and facilitates the inspection.

以上説明したように、本発明によれば、複数のメモリを統合し、ロウデコーダや制御回路などの面積を削減することができる。また、共通の容量内での論理的なアドレス空間を統一し、検査を容易化することもできる。更に、統合されるメモリ毎に個別の機能を実現することもできる。   As described above, according to the present invention, it is possible to integrate a plurality of memories and reduce the area of a row decoder, a control circuit, and the like. In addition, it is possible to unify the logical address space within a common capacity and facilitate inspection. Furthermore, individual functions can be realized for each integrated memory.

以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

(実施の形態1)
以下、本発明の実施の形態1の半導体記憶装置について、以下図面を参照しながら説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において同一の部材には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。ここでは、4ビット線対と8ビット線対の2つの構成のデータ入出力回路について説明するが、他の構成のデータ入出力回路を備える場合でも同様である。また、メモリアレイ内のワード線やビット線、データ入出力の数は実施の形態の数とは限らない。
(Embodiment 1)
The semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. Note that the same members are denoted by the same reference symbols throughout the drawings for describing the embodiments, and the repetitive description thereof is omitted. Here, a data input / output circuit having two configurations of a 4-bit line pair and an 8-bit line pair will be described, but the same applies to a case where a data input / output circuit having another configuration is provided. Further, the number of word lines, bit lines, and data inputs / outputs in the memory array is not necessarily the number in the embodiment.

図1は本発明の実施の形態1の半導体記憶装置のブロック図を示す。図1において、符号101はロウデコーダを示し、符号102は制御回路を示す。符号103は4カラムI/O部を示し、符号104は4カラムI/O部103を構成する一つの4カラムI/Oを示す。符号105は8カラムI/O部を示し、符号106は8カラムI/O部105を構成する8カラムI/Oを示す。符号107はロウプリデコーダを示し、符号108はプリチャージ制御回路を示し、符号109はカラムデコーダ(ビット線選択回路)を示し、符号110は制御部を示し、符号111はアドレスラッチを示す。   FIG. 1 is a block diagram of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention. In FIG. 1, reference numeral 101 denotes a row decoder, and reference numeral 102 denotes a control circuit. Reference numeral 103 indicates a four-column I / O unit, and reference numeral 104 indicates one 4-column I / O constituting the four-column I / O unit 103. Reference numeral 105 denotes an 8-column I / O section, and reference numeral 106 denotes an 8-column I / O constituting the 8-column I / O section 105. Reference numeral 107 denotes a row predecoder, reference numeral 108 denotes a precharge control circuit, reference numeral 109 denotes a column decoder (bit line selection circuit), reference numeral 110 denotes a control unit, and reference numeral 111 denotes an address latch.

符号121はメモリアレイを示し、符号122は4ビット線対に対応するメモリセルアレイを示し、メモリアレイ121を構成している。符号123は4ビット線対に対応したプリチャージ回路Aを示し、符号124は4ビット線対に対応したカラムセレクタAを示し、符号125はライトバッファを示し、符号126は入力データラッチを示し、符号127はセンスアンプを示し、符号128は出力回路を示す。符号129は8ビット線対に対応したプリチャージ回路Bを示し、符号130は8ビット線対に対応したカラムセレクタBを示す。   Reference numeral 121 denotes a memory array, and reference numeral 122 denotes a memory cell array corresponding to a 4-bit line pair, which constitutes the memory array 121. Reference numeral 123 denotes a precharge circuit A corresponding to a 4-bit line pair, reference numeral 124 denotes a column selector A corresponding to a 4-bit line pair, reference numeral 125 denotes a write buffer, reference numeral 126 denotes an input data latch, Reference numeral 127 represents a sense amplifier, and reference numeral 128 represents an output circuit. Reference numeral 129 indicates a precharge circuit B corresponding to an 8-bit line pair, and reference numeral 130 indicates a column selector B corresponding to the 8-bit line pair.

符号WL0〜WL63はワード線を示し、符号B0〜B3、NB0〜NB3、B80〜B87、NB80〜NB87はビット線対を示す。   Symbols WL0 to WL63 indicate word lines, and symbols B0 to B3, NB0 to NB3, B80 to B87, and NB80 to NB87 indicate bit line pairs.

図2は図1に示すメモリアレイ121の具体構成を示す。図2において、符号120はメモリセルを示す。   FIG. 2 shows a specific configuration of the memory array 121 shown in FIG. In FIG. 2, reference numeral 120 denotes a memory cell.

図3は図2に示すメモリセルアレイ122に含まれるメモリセル120の具体構成を示す。図3において、符号P1はPMOSトランジスタを示し、符号N1、N1はNMOSトランジスタを示し、記号B、NBはビット線対を示し、記号WLはワード線を示す。   FIG. 3 shows a specific configuration of the memory cell 120 included in the memory cell array 122 shown in FIG. In FIG. 3, symbol P1 indicates a PMOS transistor, symbols N1 and N1 indicate NMOS transistors, symbols B and NB indicate bit line pairs, and symbol WL indicates a word line.

図4は図1に示すプリチャージ回路A123とカラムセレクタA124の具体構成を示す。図4において、記号P2、P3はPMOSトランジスタを示し、記号N3はNMOSトランジスタを示し、記号I1、I2はインバータを示す。記号DBUS、NDBUSはデータ線対を示す。記号CAD0〜CAD3はカラムデコード信号を示す。符号PCGはプリチャージ信号を示す。   FIG. 4 shows a specific configuration of the precharge circuit A123 and the column selector A124 shown in FIG. In FIG. 4, symbols P2 and P3 indicate PMOS transistors, symbol N3 indicates an NMOS transistor, and symbols I1 and I2 indicate inverters. Symbols DBUS and NDBUS indicate a data line pair. Symbols CAD0 to CAD3 indicate column decode signals. Symbol PCG indicates a precharge signal.

図5は図1に示すプリチャージ回路B129とカラムセレクタB130の具体構成を示す。図5において、記号CAD0〜CAD7はカラムデコード信号を示す。   FIG. 5 shows a specific configuration of the precharge circuit B129 and the column selector B130 shown in FIG. In FIG. 5, symbols CAD0 to CAD7 indicate column decode signals.

図6は図1に示すライトバッファ125の具体構成を示す。図6において、記号N4はNMOSトランジスタを示し、記号I3、I4はインバータを示し、記号NA1はNAND回路を示す。記号WDは入力データラッチ信号を示し、記号WENはライトバッファ起動信号を示す。   FIG. 6 shows a specific configuration of the write buffer 125 shown in FIG. In FIG. 6, symbol N4 indicates an NMOS transistor, symbols I3 and I4 indicate inverters, and symbol NA1 indicates a NAND circuit. Symbol WD indicates an input data latch signal, and symbol WEN indicates a write buffer activation signal.

図7は図1に示すセンスアンプ127の具体構成を示す。図7において、記号P4〜P6はPMOSトランジスタを示し、記号N5はNMOSトランジスタを示し、記号I5、I6はインバータを示し、記号CI1はクロックドインバータを示す。記号RDはセンスアンプ出力を示し、記号SAEはセンスアンプ起動信号を示す。   FIG. 7 shows a specific configuration of the sense amplifier 127 shown in FIG. In FIG. 7, symbols P4 to P6 indicate PMOS transistors, symbol N5 indicates an NMOS transistor, symbols I5 and I6 indicate inverters, and symbol CI1 indicates a clocked inverter. Symbol RD indicates a sense amplifier output, and symbol SAE indicates a sense amplifier activation signal.

図11aは図1に示すアドレスラッチ111と外部ピンPINとの接続図を示す。図11aにおいて、符号111aはカラムアドレスラッチ回路を示し、符号111bはロウアドレスラッチ回路を示す。記号A0〜A8は外部入力アドレスを示し、記号ADCnはカラムアドレスラッチ信号を示し、記号ADRnはロウアドレスラッチ信号を示し、記号INTCLKはアドレスラッチ起動信号を示す。   FIG. 11a shows a connection diagram between the address latch 111 and the external pin PIN shown in FIG. In FIG. 11a, reference numeral 111a indicates a column address latch circuit, and reference numeral 111b indicates a row address latch circuit. Symbols A0 to A8 indicate external input addresses, symbol ADCn indicates a column address latch signal, symbol ADRn indicates a row address latch signal, and symbol INTCLK indicates an address latch activation signal.

図13は図1に示す出力回路128の具体構成を示す。図13において、符号I7〜I10はインバータを示す。記号RD、RD8はセンスアンプ出力を示し、記号DOxは出力データを示す。   FIG. 13 shows a specific configuration of the output circuit 128 shown in FIG. In FIG. 13, reference numerals I7 to I10 denote inverters. Symbols RD and RD8 indicate sense amplifier outputs, and symbol DOx indicates output data.

図1に示すごとく、メモリアレイ121とロウデコーダ101とはワード線WL0〜WL63で接続され、メモリアレイ121とプリチャージ回路A123とはビット線対B0〜B3、NB0〜NB3で接続され、メモリアレイ121とプリチャージ回路B129とはビット線対B80〜B87、NB80〜NB87で接続される。ロウデコーダ101とロウプリデコーダ107とはロウプリデコード信号RADnで接続され、ロウプリデコーダ107とアドレスラッチ111とはロウアドレスラッチ信号ADRnで接続され、ロウプリデコーダ107と制御部110とはメインパルス信号MPで接続される。   As shown in FIG. 1, the memory array 121 and the row decoder 101 are connected by word lines WL0 to WL63, and the memory array 121 and the precharge circuit A123 are connected by bit line pairs B0 to B3 and NB0 to NB3. 121 and the precharge circuit B129 are connected by bit line pairs B80 to B87 and NB80 to NB87. The row decoder 101 and the row predecoder 107 are connected by a row predecode signal RADn, the row predecoder 107 and the address latch 111 are connected by a row address latch signal ADRn, and the row predecoder 107 and the control unit 110 are main pulses. Connected by signal MP.

プリチャージ回路A123とプリチャージ制御回路108とはプリチャージ信号PCGで接続され、プリチャージ回路A123とカラムセレクタA124とはビット線対B0〜B3、NB0〜NB3で接続される。   The precharge circuit A123 and the precharge control circuit 108 are connected by a precharge signal PCG, and the precharge circuit A123 and the column selector A124 are connected by bit line pairs B0 to B3 and NB0 to NB3.

プリチャージ回路B129とプリチャージ制御回路108とはプリチャージ信号PCGで接続され、プリチャージ回路B129とカラムセレクタB130とはビット線対B80〜B87、NB80〜NB87で接続される。   The precharge circuit B129 and the precharge control circuit 108 are connected by a precharge signal PCG, and the precharge circuit B129 and the column selector B130 are connected by bit line pairs B80 to B87 and NB80 to NB87.

また、カラムセレクタA124とライトバッファ125とはデータ線対DBUS、NDBUSで接続され、カラムセレクタA124とカラムデコーダ109とはカラムデコード信号CADnで接続され、カラムセレクタA124とセンスアンプ127とはデータ線対DBUS、NDBUSで接続される。   The column selector A 124 and the write buffer 125 are connected by a data line pair DBUS, NDBUS, the column selector A 124 and the column decoder 109 are connected by a column decode signal CADn, and the column selector A 124 and the sense amplifier 127 are connected by a data line pair. Connected by DBUS and NDBUS.

また、カラムセレクタB130とライトバッファ125とはデータ線対DBUS8、NDBUS8で接続され、カラムセレクタB130とカラムデコーダ109とはカラムデコード信号CADnで接続され、カラムセレクタB130とセンスアンプ127とはデータ線対DBUS8、NDBUS8で接続される。   The column selector B130 and the write buffer 125 are connected by data line pairs DBUS8 and NDBUS8, the column selector B130 and the column decoder 109 are connected by a column decode signal CADn, and the column selector B130 and the sense amplifier 127 are connected by a data line pair. Connected by DBUS8 and NDBUS8.

また、カラムデコーダ109とアドレスラッチ111とはカラムアドレスラッチ信号ADCnで接続される。   The column decoder 109 and the address latch 111 are connected by a column address latch signal ADCn.

また、ライトバッファ125と入力データラッチ126とは入力データラッチ信号WDで接続され、ライトバッファ125と制御部110とはライトバッファ起動信号WENで接続される。   The write buffer 125 and the input data latch 126 are connected by an input data latch signal WD, and the write buffer 125 and the control unit 110 are connected by a write buffer activation signal WEN.

また、センスアンプ127と出力回路128とはセンスアンプ出力RDで接続され、センスアンプ127と制御部110とはセンスアンプ起動信号SAEで接続される。   The sense amplifier 127 and the output circuit 128 are connected by a sense amplifier output RD, and the sense amplifier 127 and the controller 110 are connected by a sense amplifier activation signal SAE.

また、入力データラッチ126と制御部110とはデータラッチ起動信号DICLKで接続され、入力データラッチ126と外部とは入力データDIxで接続される。   The input data latch 126 and the control unit 110 are connected by a data latch activation signal DICLK, and the input data latch 126 and the outside are connected by input data DIx.

また、出力回路128と外部とは出力データDOxで接続される。   Further, the output circuit 128 and the outside are connected by output data DOx.

また、プリチャージ制御回路108と制御部110とはプリチャージ起動信号PRで接続され、また、アドレスラッチ111と制御部110とはアドレスラッチ起動信号INTCLKで接続される。   The precharge control circuit 108 and the control unit 110 are connected by a precharge activation signal PR, and the address latch 111 and the control unit 110 are connected by an address latch activation signal INTCLK.

また、アドレスラッチ111と外部とはアドレス信号で接続され、制御部110と外部とはクロック信号CLKとライトイネーブル信号NWEとで接続される。   The address latch 111 and the outside are connected by an address signal, and the control unit 110 and the outside are connected by a clock signal CLK and a write enable signal NWE.

図2はメモリアレイ121の内部構造を示している。それぞれが行列状に配置された各メモリセル120は、複数のビット線対B0〜B3、NB0〜NB3、B80〜B87、NB80〜NB87のうちの1対と、複数のワード線WL0〜WL63のうちの1本と接続されている。   FIG. 2 shows the internal structure of the memory array 121. Each memory cell 120 arranged in a matrix is composed of a pair of a plurality of bit line pairs B0 to B3, NB0 to NB3, B80 to B87, and NB80 to NB87, and a plurality of word lines WL0 to WL63. It is connected with one of these.

図11aは、図1に示すアドレスラッチ111と外部ピンPINの接続図を示しており、外部アドレス信号と、制御部からのINTCLKが入力され、内部にアドレスラッチ信号ADRn、ADCnを出力する。   FIG. 11a shows a connection diagram between the address latch 111 and the external pin PIN shown in FIG. 1. The external address signal and INTCLK from the control unit are input, and the address latch signals ADRn and ADCn are output inside.

図24はメモリ統合前のシステムLSIを示し、記号171はワード線が32本のメモリマクロを示し、記号172はワード線が64本のメモリマクロを示し、記号174はロジック回路を示す。   24 shows a system LSI before memory integration, symbol 171 indicates a memory macro with 32 word lines, symbol 172 indicates a memory macro with 64 word lines, and symbol 174 indicates a logic circuit.

図25はメモリ統合後のシステムLSIを示し、記号173はワード線が64本の統合後のメモリマクロを示し、記号173の統合後のメモリマクロは図1の本発明の実施の形態1の半導体記憶装置を示す。   FIG. 25 shows a system LSI after memory integration, symbol 173 indicates a memory macro after integration of 64 word lines, and the memory macro after integration of symbol 173 indicates the semiconductor according to the first embodiment of the present invention in FIG. A storage device is shown.

以上のように構成された本発明の実施の形態1において、以下その動作を説明する。   The operation of the first embodiment of the present invention configured as described above will be described below.

外部より、書き込みが行われると、ライトイネーブル信号NWEは“L”レベルとなり、外部クロック信号CLKは“H”レベルとなる。このとき制御回路102内の制御部110において、アドレスラッチ起動信号INTCLKとデータラッチ起動信号DICLKとが出力され、アドレスラッチ111で外部のアドレスがラッチされ、ロウアドレスラッチ信号ADRnとカラムアドレスラッチ信号ADCnとが出力される。また、入力データラッチ126で入力データDIxがラッチされ、入力データラッチ信号WDが出力される。更に制御部110でプリチャージ起動信号PRが停止し、プリチャージ制御回路108でプリチャージ信号PCGが停止して、プリチャージ回路A123とプリチャージ回路B129が停止し、プリチャージ動作が終了する。また、カラムアドレスラッチ信号ADCnを受けて、カラムデコーダ109でカラムデコード信号CADnが出力され、カラムデコード信号CADnを受けて、カラムセレクタA124およびカラムセレクタB130で、それぞれ一つのビット線対が選択される。   When writing is performed from the outside, the write enable signal NWE becomes “L” level and the external clock signal CLK becomes “H” level. At this time, the control unit 110 in the control circuit 102 outputs the address latch start signal INTCLK and the data latch start signal DICLK, the external address is latched by the address latch 111, the row address latch signal ADRn and the column address latch signal ADCn. Are output. The input data DIx is latched by the input data latch 126, and the input data latch signal WD is output. Further, the precharge activation signal PR is stopped by the controller 110, the precharge signal PCG is stopped by the precharge control circuit 108, the precharge circuit A123 and the precharge circuit B129 are stopped, and the precharge operation is finished. Further, the column decoder 109 receives the column address latch signal ADCn, outputs the column decode signal CADn at the column decoder 109, receives the column decode signal CADn, and selects one bit line pair at each of the column selector A124 and the column selector B130. .

更に、制御部110からメインパルス信号MPが出力され、ロウプリデコーダ107でロウプリデコード信号RADnが出力され、ロウデコーダ101で、所望のワード線が選択され、所望のワード線から信号が出力される。更に制御部110からライトバッファ起動信号WENが出力され、ライトバッファ125からデータ線対DBUS、NDBUSへデータが出力される。   Further, a main pulse signal MP is output from the control unit 110, a row predecode signal RADn is output from the row predecoder 107, a desired word line is selected by the row decoder 101, and a signal is output from the desired word line. The Further, a write buffer activation signal WEN is output from the control unit 110, and data is output from the write buffer 125 to the data line pair DBUS and NDBUS.

このデータは先に選択された、カラムセレクタA124および、カラムセレクタB130の中のそれぞれ一つのビット線対を通して、先に選択されたワード線に接続されるメモリセルに書き込まれる。   This data is written into the memory cell connected to the previously selected word line through each bit line pair in column selector A 124 and column selector B 130 selected previously.

その後、制御部110からメインパルス信号MPが停止され、ワード線の信号が停止し、ライトバッファ起動信号WENが停止され、更にプリチャージ起動信号PRが出力され、ビット線対がプリチャージされ、書き込み動作が終了する。   Thereafter, the main pulse signal MP is stopped from the control unit 110, the signal of the word line is stopped, the write buffer start signal WEN is stopped, the precharge start signal PR is further output, the bit line pair is precharged, and the write operation is performed. The operation ends.

次に、外部より読出し動作が行なわれるとライトイネーブル信号NWEは“H”レベルとなり、外部クロック信号CLKは“H”レベルとなる。このとき制御回路内の制御部110において、アドレスラッチ起動信号INTCLKとデータラッチ起動信号DICLKとが出力され、アドレスラッチ111でアドレスがラッチされ、ロウアドレスラッチ信号ADRnとカラムアドレスラッチ信号ADCnとが出力される。また、制御部110でプリチャージ起動信号PRが停止し、プリチャージ制御回路108でプリチャージ信号PCGが停止して、プリチャージ回路A123とプリチャージ回路B129が停止し、プリチャージ動作が終了する。また、カラムアドレスラッチ信号ADCnを受けて、カラムデコーダ109でカラムデコード信号CADnが出力され、カラムデコード信号CADnを受けて、カラムセレクタA124および、カラムセレクタB130で、それぞれ一つのビット線対が選択される。   Next, when a read operation is performed from the outside, the write enable signal NWE becomes "H" level and the external clock signal CLK becomes "H" level. At this time, the control unit 110 in the control circuit outputs the address latch start signal INTCLK and the data latch start signal DICLK, the address is latched by the address latch 111, and the row address latch signal ADRn and the column address latch signal ADCn are output. Is done. Further, the precharge activation signal PR is stopped by the control unit 110, the precharge signal PCG is stopped by the precharge control circuit 108, the precharge circuit A123 and the precharge circuit B129 are stopped, and the precharge operation is finished. Also, the column decoder 109 receives the column address latch signal ADCn, and the column decoder 109 outputs the column decode signal CADn. The column decoder A124 and the column selector B130 select one bit line pair. The

更に、制御部110からメインパルス信号MPが出力され、ロウプリデコーダ107でロウプリデコード信号RADnが出力され、ロウデコーダ101で、所望のワード線が選択され、所望のワード線の信号が出力される。このとき、先に選択された、カラムセレクタA124および、カラムセレクタB130の中のそれぞれ一つのビット線対を通して、先に選択されたワード線に接続されるメモリセルからデータが読み出され、更に制御部110からセンスアンプ起動信号SAEが出力され、センスアンプ127で読み出されたデータを増幅し、出力回路128でデータをラッチし、外部へ出力データDOxが出力される。   Further, the main pulse signal MP is output from the control unit 110, the row predecode signal RADn is output from the row predecoder 107, the desired word line is selected by the row decoder 101, and the signal of the desired word line is output. The At this time, data is read out from the memory cell connected to the previously selected word line through each bit line pair in the previously selected column selector A124 and column selector B130, and further controlled. The sense amplifier activation signal SAE is output from the unit 110, the data read by the sense amplifier 127 is amplified, the data is latched by the output circuit 128, and the output data DOx is output to the outside.

以上のように構成された本発明の実施の形態1においては、1つのメモリマクロ内に4ビット線対から1ビット線対を選択する4カラムI/O104と、8ビット線対から1ビット線対を選択する8カラムI/O106とが存在するので、4カラムI/O部103、8カラムI/O部105毎に適したワード数を選択でき、図24のように個別に配置されていたメモリマクロを図25のように統合して、ロウデコーダや制御回路の面積、ロジック回路からの制御線等の面積を削減することが可能であり、その実用的効果は大きい。   In the first embodiment of the present invention configured as described above, 4 column I / O 104 for selecting one bit line pair from 4 bit line pairs and one bit line from 8 bit line pairs in one memory macro. Since there is an 8-column I / O 106 for selecting a pair, an appropriate number of words can be selected for each of the 4-column I / O unit 103 and the 8-column I / O unit 105, which are arranged individually as shown in FIG. The memory macros can be integrated as shown in FIG. 25 to reduce the area of the row decoder and the control circuit, the area of the control line from the logic circuit, etc., and its practical effect is great.

(実施の形態2)
次に、本発明の実施の形態2について、以下図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 2)
Next, a second embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図8は本発明の実施の形態2の半導体記憶装置のブロック図を示す。この半導体記憶装置では、8カラムI/O106内で、プリチャージ回路B129の代わりにプリチャージ回路A123を備え、カラムセレクタB130の代わりにカラムセレクタA124を備え、ライトバッファ125の代わりにライトバッファ131を備え、センスアンプ127の代わりにセンスアンプ132を備えている。ライトバッファ131は内部にライトバッファ選択回路131aを備え、センスアンプ132は内部にセンスアンプ選択回路132aを備える(図9、図10参照)。   FIG. 8 is a block diagram of the semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention. This semiconductor memory device includes a precharge circuit A123 instead of the precharge circuit B129, a column selector A124 instead of the column selector B130, and a write buffer 131 instead of the write buffer 125 in the 8-column I / O 106. In addition, a sense amplifier 132 is provided instead of the sense amplifier 127. The write buffer 131 includes a write buffer selection circuit 131a, and the sense amplifier 132 includes a sense amplifier selection circuit 132a (see FIGS. 9 and 10).

そして、8カラムI/O106に対応するメモリアレイ121中のメモリセルアレイ122とプリチャージ回路A123とカラムセレクタA124とはビット線対B80〜B87、NB80〜NB87で接続され、カラムセレクタA124とライトバッファ131とセンスアンプ132とはデータ線対DBUS81〜DBUS82、NDBUS81〜NDBUS82とで接続され、カラムデコーダ109とライトバッファ131内のライトバッファ選択回路131aとセンスアンプ132内のセンスアンプ選択回路132aとがアドレスデコード線SADnで接続され、ライトバッファ選択回路131aと制御部110とはライトバッファ起動信号WENで接続され、センスアンプ選択回路132aと制御部110とはセンスアンプ起動信号SAEで接続され、ライトバッファ131と入力データラッチ126とが入力データラッチ信号WD8で接続され、センスアンプ132と出力回路128とがセンスアンプ出力RD8で接続される。   The memory cell array 122, the precharge circuit A123, and the column selector A124 in the memory array 121 corresponding to the 8-column I / O 106 are connected by bit line pairs B80 to B87 and NB80 to NB87, and the column selector A124 and the write buffer 131 are connected. And the sense amplifier 132 are connected by data line pairs DBUS81 to DBUS82 and NDBUS81 to NDBUS82, and the column decoder 109, the write buffer selection circuit 131a in the write buffer 131, and the sense amplifier selection circuit 132a in the sense amplifier 132 are address-decoded. Connected by a line SADn, the write buffer selection circuit 131a and the control unit 110 are connected by a write buffer activation signal WEN, and the sense amplifier selection circuit 132a and the control unit 110 are sense amplifier activation signals. Are connected by AE, the write buffer 131 and the input data latch 126 is connected with the input data latch signal WD8, a sense amplifier 132 and the output circuit 128 is connected with the sense amplifier output RD8.

図9は図8に示すライトバッファ131の具体構成を示す。図9において、記号N4はNMOSトランジスタを示し、記号I3、I4はインバータを示し、記号NA1はNAND回路を示し、記号131aはライトバッファ選択回路を示し、記号A1はAND回路を示す。   FIG. 9 shows a specific configuration of the write buffer 131 shown in FIG. In FIG. 9, symbol N4 indicates an NMOS transistor, symbols I3 and I4 indicate inverters, symbol NA1 indicates a NAND circuit, symbol 131a indicates a write buffer selection circuit, and symbol A1 indicates an AND circuit.

図10は図8に示すセンスアンプ132の具体構成を示す。図10において、記号P4〜P6はPMOSトランジスタを示し、記号N5はNMOSトランジスタを示し、記号I5、I6はインバータを示し、記号CI1はクロックドインバータを示し、記号132aはセンスアンプ選択回路を示し、記号A2はAND回路を示す。   FIG. 10 shows a specific configuration of the sense amplifier 132 shown in FIG. 10, symbols P4 to P6 indicate PMOS transistors, symbol N5 indicates an NMOS transistor, symbols I5 and I6 indicate inverters, symbol CI1 indicates a clocked inverter, symbol 132a indicates a sense amplifier selection circuit, Symbol A2 indicates an AND circuit.

他の構成は本発明の実施の形態1と同様である。   Other configurations are the same as those of the first embodiment of the present invention.

本発明の実施の形態2において、入力データラッチ信号WD8はアドレスデコード線SADnで選択されるライトバッファ131でのみ書き込まれる。また読出し時にはアドレスデコード線SADnで選択されるセンスアンプ132のみで増幅される。   In the second embodiment of the present invention, the input data latch signal WD8 is written only in the write buffer 131 selected by the address decode line SADn. At the time of reading, the signal is amplified only by the sense amplifier 132 selected by the address decode line SADn.

この実施の形態では、カラムセレクタB130ではなくカラムセレクタA124を備えているので、ビット線のデータ転送時にカラムセレクタの負荷容量が小さく、カラムセレクタA124のみを備えているので、開発工数も押さえた上で、実施の形態1と同様に、4カラムI/O部103、8カラムI/O部105毎に適したワード数を選択でき、ロウデコーダやコントロール回路、ロジック回路からの制御線等の面積を削減することが可能であり、その実用的効果は大きい。   In this embodiment, since the column selector A124 is provided instead of the column selector B130, the load capacity of the column selector is small at the time of bit line data transfer, and only the column selector A124 is provided. Thus, as in the first embodiment, the appropriate number of words can be selected for each of the 4-column I / O unit 103 and the 8-column I / O unit 105, and the area of control lines from the row decoder, control circuit, and logic circuit can be selected. Can be reduced, and its practical effect is great.

(実施の形態3)
次に、本発明の実施の形態3の半導体記憶装置について、以下図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 3)
Next, a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図11bはアドレスラッチ111と外部ピンPINとの接続図を示す。図11aとの違いは、カラムアドレスを共通して使用できるアドレスは同じ接続で、共通化できないアドレスを、ロウアドレスも含む全てのアドレスの最上位に接続したことである。   FIG. 11b shows a connection diagram between the address latch 111 and the external pin PIN. The difference from FIG. 11a is that the addresses that can use the column address in common are the same connection, and the addresses that cannot be shared are connected to the top of all the addresses including the row address.

表1は図11aの接続での論理アドレスマッピングを示す。   Table 1 shows the logical address mapping for the connection of FIG. 11a.

表2は図11bの接続での論理アドレスマッピングを示す。   Table 2 shows the logical address mapping for the connection of FIG. 11b.

Figure 2007179605
Figure 2007179605

Figure 2007179605

他の構成は本発明の実施の形態1と同様である。
Figure 2007179605

Other configurations are the same as those of the first embodiment of the present invention.

本発明の実施の形態3において、論理的なメモリマッピングは4カラム単位で最上位アドレスのみが変更されるメモリマッピングとなり、共通の容量内での論理的なアドレス空間を統一することができ、検査パターン作成時の容易性を高めて検査を容易化した上で、実施の形態1と同様の、ロウデコーダやコントロール回路、ロジック回路からの制御線等の面積を削減することが可能であり、その実用的効果は大きい。   In the third embodiment of the present invention, the logical memory mapping is a memory mapping in which only the highest address is changed in units of 4 columns, and the logical address space within a common capacity can be unified, It is possible to reduce the area of the control lines from the row decoder, the control circuit, and the logic circuit as in the first embodiment after enhancing the ease of pattern creation and facilitating the inspection. The practical effect is great.

(実施の形態4)
次に、本発明の実施の形態4の半導体記憶装置について、以下図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 4)
Next, a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図12は本発明の実施の形態4の半導体記憶装置のブロック図を示す。この半導体記憶装置では、8カラムI/O106は出力回路133を備えている。制御部110と出力回路133とはレイテンシー制御クロックL2CLKで接続される。   FIG. 12 is a block diagram of the semiconductor memory device according to the fourth embodiment of the present invention. In this semiconductor memory device, the 8-column I / O 106 includes an output circuit 133. Control unit 110 and output circuit 133 are connected by a latency control clock L2CLK.

図14は出力回路133の具体構成を示す。図14において、記号P7はPMOSトランジスタを示し、記号N6はNMOSトランジスタを示し、記号I7〜I13はインバータを示す。記号L2CLKはレイテンシー制御クロックを示す。   FIG. 14 shows a specific configuration of the output circuit 133. In FIG. 14, symbol P7 indicates a PMOS transistor, symbol N6 indicates an NMOS transistor, and symbols I7 to I13 indicate inverters. Symbol L2CLK indicates a latency control clock.

他の構成は本発明の実施の形態2と同様である。   Other configurations are the same as those of the second embodiment of the present invention.

本発明の実施の形態4において、出力回路133は、センスアンプ出力RD8をラッチした後に、次サイクルでレイテンシー制御クロックL2CLKを受けて、データを出力する。このため、実施の形態1と同様の、ロウデコーダやコントロール回路、ロジック回路からの制御線等の面積を削減し、また、複数のデータ入出力回路のうち、いずれか一つがレイテンシー回路を備えるので、レイテンシー回路を備えたデータ入出力回路は、レイテンシー回路を備えないデータ入出力回路よりも、読出しサイクルは遅くなるが、データの読出し時間は早くなり、その実用的効果は大きい。   In the fourth embodiment of the present invention, after latching the sense amplifier output RD8, the output circuit 133 receives the latency control clock L2CLK in the next cycle and outputs data. For this reason, the area of the control lines from the row decoder, the control circuit, and the logic circuit is reduced as in the first embodiment, and any one of the plurality of data input / output circuits includes a latency circuit. The data input / output circuit having the latency circuit has a read cycle slower than the data input / output circuit not having the latency circuit, but the data read time is faster, and its practical effect is great.

(実施の形態5)
次に、本発明の実施の形態5の半導体記憶装置について、以下図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 5)
Next, a semiconductor memory device according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図15は本発明の実施の形態5の半導体記憶装置のブロック図を示す。この実施の形態では、8カラムI/O106が冗長回路134を備え、8カラムI/O106の最後の部分に冗長救済部141を備えている。冗長回路134と入力データラッチ126とは入力データラッチ信号WDATA8で接続され、冗長回路134とライトバッファ131とは入力データラッチ信号WD8Aで接続され、冗長回路134とセンスアンプ132とはセンスアンプ出力RD8Aで接続され、冗長回路134と出力回路133とはセンスアンプ出力RDATA8で接続され、冗長回路134内部の入力データラッチ信号WD8Bは次段の8カラムI/O内の冗長回路134内部の入力データラッチ信号WD8Aと接続され、次段の8カラムI/O内のライトバッファ131と接続される。冗長回路134内部のセンスアンプ出力RD8Bは次段の8カラムI/O内の冗長回路134内部のセンスアンプ出力RD8Aと接続され、次段の8カラムI/O内のセンスアンプ132と接続される。冗長回路134内部の冗長信号RAAは、次段の8カラムI/O内の冗長回路134内部の冗長信号RAと接続され、初段の冗長回路134は冗長信号が接地され、冗長回路134はリセット信号と接続される。   FIG. 15 is a block diagram of the semiconductor memory device according to the fifth embodiment of the present invention. In this embodiment, the 8-column I / O 106 includes a redundant circuit 134 and the redundant relief unit 141 is provided at the last portion of the 8-column I / O 106. Redundant circuit 134 and input data latch 126 are connected by input data latch signal WDATA8, redundant circuit 134 and write buffer 131 are connected by input data latch signal WD8A, and redundant circuit 134 and sense amplifier 132 are sense amplifier output RD8A. The redundant circuit 134 and the output circuit 133 are connected by the sense amplifier output RDATA8, and the input data latch signal WD8B in the redundant circuit 134 is an input data latch in the redundant circuit 134 in the next 8-column I / O. It is connected to the signal WD8A and connected to the write buffer 131 in the next 8-column I / O. The sense amplifier output RD8B in the redundant circuit 134 is connected to the sense amplifier output RD8A in the redundant circuit 134 in the next-stage 8-column I / O, and is connected to the sense amplifier 132 in the next-stage 8-column I / O. . The redundancy signal RAA in the redundancy circuit 134 is connected to the redundancy signal RA in the redundancy circuit 134 in the next 8-column I / O, the redundancy signal 134 in the first stage is grounded, and the redundancy circuit 134 is reset. Connected.

図16は冗長回路の詳細を示す。図16において、記号N7、N8はNMOSトランジスタを示し、記号I14、I15、I16はインバータを示し、記号F1はヒューズを示す。   FIG. 16 shows details of the redundant circuit. In FIG. 16, symbols N7 and N8 indicate NMOS transistors, symbols I14, I15, and I16 indicate inverters, and symbol F1 indicates a fuse.

図17は冗長救済部の詳細を示す。図17において、記号142は8カラム冗長I/Oを示す。この8カラム冗長I/O142には、入力データラッチと出力回路は設けられていない。8カラム冗長I/O142内部のセンスアンプ132の出力RD8Bは前段の8カラムI/O内の冗長回路134内部のRD8Bと接続され、8カラム冗長I/O142内部のライトバッファ131の入力WD8Bは前段の8カラムI/O内の冗長回路134内部のWD8Bと接続される。   FIG. 17 shows details of the redundant relief unit. In FIG. 17, symbol 142 indicates 8-column redundancy I / O. The 8-column redundant I / O 142 is not provided with an input data latch and an output circuit. The output RD8B of the sense amplifier 132 in the 8-column redundancy I / O 142 is connected to the RD8B in the redundancy circuit 134 in the previous 8-column I / O, and the input WD8B of the write buffer 131 in the 8-column redundancy I / O 142 is the previous stage. Are connected to the WD 8B in the redundant circuit 134 in the 8-column I / O.

他の構成は本発明の実施の形態2と同様である。   Other configurations are the same as those of the second embodiment of the present invention.

本発明の実施の形態5において、不良がない場合は、図16の冗長回路134において、ヒューズF1は切断されないので、リセット信号入力後、ノードAは“H”レベルとなり、書き込み時はWDATA8−WD8Aの経路で書き込みが行なわれ、読み出し時はRD8A−RDATA8の経路で読み出しが行なわれる。不良が存在する場合は、ヒューズF1が切断され、リセット信号入力後、ノードAは“L”レベルとなり、書き込み時はWDATA8−WD8Bの経路で書き込みが行なわれ、読み出し時はRD8B−RDATA8の経路で読み出しが行なわれる。このため、実施の形態1または2と同様の、ロウデコーダやコントロール回路、ロジック回路からの制御線等の面積を削減し、さらに歩留まりを向上を実現することが可能であり、その実用的効果は大きい。   In the fifth embodiment of the present invention, when there is no defect, the fuse F1 is not cut in the redundant circuit 134 of FIG. 16, so that the node A becomes “H” level after inputting the reset signal, and WDATA8-WD8A is written. Writing is performed through the path RD8, and reading is performed through the path RD8A-RDATA8 during reading. When there is a defect, the fuse F1 is cut, and after the reset signal is input, the node A becomes “L” level, writing is performed through the path WDATA8-WD8B, and writing is performed through the path RD8B-RDATA8. Reading is performed. For this reason, it is possible to reduce the area of the row decoder, the control circuit, the control line from the logic circuit, etc., as in the first or second embodiment, and further improve the yield. large.

(実施の形態6)
次に、本発明の実施の形態6の半導体記憶装置について、以下図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 6)
Next, a semiconductor memory device according to a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図18は本発明の実施の形態6の半導体記憶装置のブロック図を示す。この半導体記憶装置は、4カラムI/O部103及び4カラムI/O部103に対応するメモリセルアレイ122と8カラムI/O部105及び8カラムI/O部105に対応するメモリセルアレイ122との間に、制御信号遅延回路135とワード線遅延回路136とを備えている。そして、4カラムI/O部103と制御信号遅延回路135とは制御回路102からの各制御信号PCG、CADn、SAE、WEN、DICLKが直接接続され、8カラムI/O部105と制御信号遅延回路135とは遅延された制御信号PCGA、CADnA、SAEA、WENA、DICLKAで接続される。また、4カラムI/O部103に対応するメモリセルアレイ122とロウデコーダ101とワード線遅延回路136とはワード線WL0〜WL63で接続され、8カラムI/O部105に対応するメモリセルアレイ122とワード線遅延回路136とは遅延ワード線WL0A〜WL63Aで接続される。   FIG. 18 is a block diagram of the semiconductor memory device according to the sixth embodiment of the present invention. The semiconductor memory device includes a memory cell array 122 corresponding to the 4-column I / O unit 103 and the 4-column I / O unit 103, a memory cell array 122 corresponding to the 8-column I / O unit 105 and the 8-column I / O unit 105, and A control signal delay circuit 135 and a word line delay circuit 136 are provided. The 4-column I / O unit 103 and the control signal delay circuit 135 are directly connected to the control signals PCG, CADn, SAE, WEN, and DICLK from the control circuit 102, and the 8-column I / O unit 105 and the control signal delay. The circuit 135 is connected by delayed control signals PCGA, CADnA, SAEA, WENA, DICLKA. The memory cell array 122 corresponding to the 4-column I / O unit 103, the row decoder 101, and the word line delay circuit 136 are connected by word lines WL0 to WL63, and the memory cell array 122 corresponding to the 8-column I / O unit 105 is connected to the memory cell array 122. The word line delay circuit 136 is connected by delay word lines WL0A to WL63A.

図19は制御信号遅延回路135の詳細を示す。図19において、記号I17〜I20遅延用のインバータを示す。   FIG. 19 shows details of the control signal delay circuit 135. FIG. 19 shows an inverter for delaying symbols I17 to I20.

図20はワード線遅延回路136の詳細を示す。図20において、記号I21〜I24は遅延用のインバータを示す。   FIG. 20 shows details of the word line delay circuit 136. In FIG. 20, symbols I21 to I24 indicate inverters for delay.

他の構成は本発明の実施の形態1と同様である。   Other configurations are the same as those of the first embodiment of the present invention.

本発明の実施の形態6において、8カラムI/O部105及び8カラムI/O部105に対応するメモリセルアレイ122は、4カラムI/O部103及び4カラムI/O部103に対応するメモリセルアレイ122に対して、全ての信号が等しく遅延される。このため、実施の形態1と同様の、ロウデコーダやコントロール回路、ロジック回路からの制御線等の面積を削減し、ひとつのメモリ内で異なるカラムI/O部毎に、つまり4カラムI/O部103、8カラムI/O部105毎に動作周期が異なる制御を実現することが可能であり、その実用的効果は大きい。   In the sixth embodiment of the present invention, the memory cell array 122 corresponding to the 8-column I / O unit 105 and the 8-column I / O unit 105 corresponds to the 4-column I / O unit 103 and the 4-column I / O unit 103. All signals are delayed equally with respect to the memory cell array 122. For this reason, the area of the row decoder, the control circuit, the control line from the logic circuit, etc. is reduced as in the first embodiment, and each column I / O unit in one memory is different, that is, four column I / O. It is possible to realize control with different operation cycles for each of the unit 103 and the 8-column I / O unit 105, and its practical effect is great.

つまり、制御遅延回路135とワード線遅延回路136とを設けたことにより、サイクル時間は同じで、位相のずれた動作タイミングの複数のメモリを統合してロウデコーダや制御回路などの面積を削減し、共通の容量内での論理的なアドレス空間を統一し、検査を容易化することができる。   In other words, by providing the control delay circuit 135 and the word line delay circuit 136, the cycle time is the same and a plurality of memories having operation timings that are out of phase are integrated to reduce the area of the row decoder, the control circuit, and the like. The logical address space within a common capacity can be unified and inspection can be facilitated.

また、制御遅延回路135とワード線遅延回路136とで、共に同じ段数のインバータ素子を備える構成では、サイクル時間は同じで、位相のずれた動作タイミングの複数のメモリを統合し、位相の調整を容易化し、ロウデコーダや制御回路などの面積を削減し、共通の容量内での論理的なアドレス空間を統一し、検査を容易化することができる。   In the configuration in which both the control delay circuit 135 and the word line delay circuit 136 have the same number of inverter elements, the cycle time is the same, and a plurality of memories having operation timings shifted in phase are integrated to adjust the phase. This makes it easy to reduce the area of the row decoder, the control circuit, etc., unify the logical address space within the common capacity, and facilitate the inspection.

(実施の形態7)
次に、本発明の実施の形態7の半導体記憶装置について、以下図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 7)
Next, a semiconductor memory device according to a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図21は本発明の実施の形態7の半導体記憶装置のブロック図を示す。この実施の形態では、制御回路102内に遅延回路137を備えている。遅延回路137と制御部110とはセンスアンプ起動信号SAEで接続され、遅延回路137と8カラムI/O106のセンスアンプ127とはセンスアンプ起動信号SAE1で接続される。   FIG. 21 is a block diagram of the semiconductor memory device according to the seventh embodiment of the present invention. In this embodiment, a delay circuit 137 is provided in the control circuit 102. The delay circuit 137 and the control unit 110 are connected by a sense amplifier activation signal SAE, and the delay circuit 137 and the sense amplifier 127 of the 8-column I / O 106 are connected by a sense amplifier activation signal SAE1.

他の構成は本発明の実施の形態1と同様である。   Other configurations are the same as those of the first embodiment of the present invention.

本発明の実施の形態7において、8カラムI/O部105は、4カラムI/O部103に対して、遅延されたセンスアンプ起動信号SAE1の制御を受ける。このため、実施の形態1と同様の、ロウデコーダやコントロール回路、ロジック回路からの制御線等の面積を削減し、4カラムI/O部103、8カラムI/O部105毎に、読出し時間の微調整を可能とし、より確実なタイミングでデータの読み出しを実現することが可能であり、その実用的効果は大きい。   In the seventh embodiment of the present invention, the 8-column I / O unit 105 is controlled by the 4-column I / O unit 103 to control the delayed sense amplifier activation signal SAE1. For this reason, as in the first embodiment, the area of the row decoder, the control circuit, the control line from the logic circuit, etc. is reduced, and the read time for each of the 4-column I / O unit 103 and the 8-column I / O unit 105 is reduced. Can be finely adjusted, and data can be read at a more reliable timing, which has a great practical effect.

(実施の形態8)
次に、本発明の実施の形態8の半導体記憶装置について、以下図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 8)
Next, a semiconductor memory device according to an eighth embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図22は本発明の実施の形態8の半導体記憶装置におけるメモリアレイの構成を示している。この実施の形態では、メモリセルアレイ151は必要なメモリセルのみビット線対に接続され、ビット線は、必要なメモリセルと必要でないメモリセルとの間で切断され、必要ないメモリセルは一方のノード(ビット線)が接地されている。   FIG. 22 shows a configuration of a memory array in the semiconductor memory device according to the eighth embodiment of the present invention. In this embodiment, only the necessary memory cells are connected to the bit line pair in the memory cell array 151, the bit lines are disconnected between the necessary memory cells and the unnecessary memory cells, and the unnecessary memory cells are connected to one node. (Bit line) is grounded.

他の構成は本発明の実施の形態1と同様である。   Other configurations are the same as those of the first embodiment of the present invention.

本発明の実施の形態8において、8カラムI/O部105は、4カラムI/O部103に対して、ビット線の長さが短く、必要なメモリのみへのアクセスであるので、読み出しタイミングの高速化も可能となる。このため、実施の形態1と同様の、ロウデコーダやコントロール回路、ロジック回路からの制御線等の面積を削減し、4カラムI/O部、8カラムI/O部毎に、より確実なタイミングでデータの読み出しを実現することが可能であり、その実用的効果は大きい。   In the eighth embodiment of the present invention, the 8-column I / O unit 105 has a shorter bit line length than the 4-column I / O unit 103 and accesses only the necessary memory. It is also possible to increase the speed. Therefore, as in the first embodiment, the area of the control lines from the row decoder, control circuit, and logic circuit is reduced, and more reliable timing is provided for each of the four column I / O units and the eight column I / O units. Thus, it is possible to realize data reading, and its practical effect is great.

(実施の形態9)
次に、本発明の実施の形態9の半導体記憶装置について、以下図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 9)
Next, a semiconductor memory device according to a ninth embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図23は本発明の実施の形態9の半導体記憶装置におけるメモリアレイの構成を示している。この実施の形態では、メモリセルアレイ151には必要なメモリセル120のみ配置されている。   FIG. 23 shows a configuration of a memory array in the semiconductor memory device according to the ninth embodiment of the present invention. In this embodiment, only necessary memory cells 120 are arranged in the memory cell array 151.

他の構成は本発明の実施の形態1と同様である。   Other configurations are the same as those of the first embodiment of the present invention.

本発明の実施の形態9において、8カラムI/O部105は、4カラムI/O部103に対して、ビット線の長さが短く、必要なメモリのみ配置されており、読み出しタイミングの高速化も可能で、かつ、面積削減も可能である。このため、実施の形態1と同様の、ロウデコーダやコントロール回路、ロジック回路からの制御線等の面積を削減し、4カラムI/O部103、8カラムI/O部105毎に、より確実なタイミングでデータの読み出しを実現することが可能であり、その実用的効果は大きい。   In the ninth embodiment of the present invention, the 8-column I / O unit 105 has a shorter bit line length than the 4-column I / O unit 103, and only necessary memory is arranged, so that the read timing is high. The area can also be reduced. Therefore, as in the first embodiment, the area of the control lines from the row decoder, control circuit, and logic circuit is reduced, and the 4-column I / O unit 103 and the 8-column I / O unit 105 are more reliable. It is possible to read data at an appropriate timing, and its practical effect is great.

本発明にかかるメモリを統合する技術は、一つのメモリの中にビット線対を選択する回路が異なる複数の入出力回路を有し、複数のメモリを統合し、ロウデコーダや制御回路を1つにして面積を削減するだけでなく、メモリに接続される配線も削減することが可能で、システムLSI上のメモリ等の面積削減に有用である。   The technology for integrating memories according to the present invention includes a plurality of input / output circuits having different circuits for selecting bit line pairs in one memory, integrating a plurality of memories, and providing one row decoder and one control circuit. Thus, not only the area can be reduced, but also the wiring connected to the memory can be reduced, which is useful for reducing the area of the memory on the system LSI.

本発明の実施の形態1の半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention. 図1に示すメモリアレイ121の具体構成を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing a specific configuration of a memory array 121 shown in FIG. 1. 図2に示すメモリセルアレイ122に含まれるメモリセル120の具体構成を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a specific configuration of a memory cell 120 included in the memory cell array 122 shown in FIG. 2. 図1に示すプリチャージ回路A123とカラムセレクタA124の具体構成を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing specific configurations of a precharge circuit A123 and a column selector A124 shown in FIG. 図1に示すプリチャージ回路B129とカラムセレクタB130の具体構成を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing specific configurations of a precharge circuit B129 and a column selector B130 shown in FIG. 図1に示すライトバッファ125の具体構成を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing a specific configuration of a write buffer 125 shown in FIG. 1. 図1に示すセンスアンプ127の具体構成を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing a specific configuration of a sense amplifier 127 shown in FIG. 1. 本発明の実施の形態2の半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the semiconductor memory device of Embodiment 2 of this invention. 図8におけるライトバッファ131の具体構成を示す回路図である。FIG. 9 is a circuit diagram showing a specific configuration of a write buffer 131 in FIG. 8. 図8におけるセンスアンプ132の具体構成を示す回路図である。FIG. 9 is a circuit diagram illustrating a specific configuration of a sense amplifier 132 in FIG. 8. 図1におけるアドレスラッチ111と外部ピンPINとの接続を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing a connection between an address latch 111 and an external pin PIN in FIG. 1. 本発明の実施の形態3におけるアドレスラッチ111と外部ピンPINとの接続を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the connection of the address latch 111 and external pin PIN in Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態4の半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the semiconductor memory device of Embodiment 4 of this invention. 図1に示す出力回路128の具体構成を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing a specific configuration of an output circuit 128 shown in FIG. 1. 図12に示す出力回路133の具体構成を示す回路図である。FIG. 13 is a circuit diagram showing a specific configuration of the output circuit 133 shown in FIG. 12. 本発明の実施の形態5の半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the semiconductor memory device of Embodiment 5 of this invention. 図15における冗長回路134の具体構成を示す回路図である。FIG. 16 is a circuit diagram showing a specific configuration of redundant circuit 134 in FIG. 15. 図15における冗長救済部141の具体構成を示す回路図である。FIG. 16 is a circuit diagram showing a specific configuration of a redundant relief unit 141 in FIG. 15. 本発明の実施の形態6の半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the semiconductor memory device of Embodiment 6 of this invention. 図18における制御信号遅延回路135の具体構成を示す回路図である。FIG. 19 is a circuit diagram showing a specific configuration of a control signal delay circuit 135 in FIG. 18. 図18におけるワード線遅延回路136の具体構成を示す回路図である。FIG. 19 is a circuit diagram showing a specific configuration of a word line delay circuit 136 in FIG. 本発明の実施の形態7の半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the semiconductor memory device of Embodiment 7 of this invention. 本発明の実施の形態8の半導体記憶装置におけるメモリアレイの構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the memory array in the semiconductor memory device of Embodiment 8 of this invention. 本発明の実施の形態9の半導体記憶装置におけるメモリアレイの構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the memory array in the semiconductor memory device of Embodiment 9 of this invention. メモリ統合前のシステムLSIを示すブロック図である。It is a block diagram which shows the system LSI before memory integration. メモリ統合後のシステムLSIを示すブロック図である。It is a block diagram which shows the system LSI after memory integration.

符号の説明Explanation of symbols

101 ロウデコーダ
102 制御回路
103 4カラムI/O部
104 4カラムI/O
105 8カラムI/O部
106 8カラムI/O
107 ロウプリデコーダ
108 プリチャージ制御回路
109 カラムデコーダ
110 制御部
111 アドレスラッチ
111a カラムアドレスラッチ回路
111b ロウアドレスラッチ回路
120 メモリセル
121 メモリアレイ
122 メモリセルアレイ
123 プリチャージ回路A
124 カラムセレクタA
125 ライトバッファ
126 入力データラッチ
127 センスアンプ
128 出力回路
129 プリチャージ回路B
130 カラムセレクタB
131 ライトバッファ
131a ライトバッファ選択回路
132 センスアンプ
132a センスアンプ選択回路
133 出力回路
133a レイテンシー回路
134 冗長回路
135 制御信号遅延回路
136 ワード線遅延回路
137 遅延回路
141 冗長救済部
151 メモリセルアレイ
152 メモリセルアレイ
161 メモリアレイ
162 メモリアレイ
171 統合前のメモリ1
172 統合前のメモリ2
173 統合後のメモリ
174 ロジック回路
A1〜A2 AND回路
NA1 NAND回路
I1からI24 インバータ
CI1 クロックドインバータ
P1からP7 PMOSトランジスタ
N1からN8 NMOSトランジスタ
101 Row Decoder 102 Control Circuit 103 4 Column I / O Unit 104 4 Column I / O
105 8-column I / O section 106 8-column I / O
107 row predecoder 108 precharge control circuit 109 column decoder 110 control unit 111 address latch 111a column address latch circuit 111b row address latch circuit 120 memory cell 121 memory array 122 memory cell array 123 precharge circuit A
124 Column selector A
125 Write buffer 126 Input data latch 127 Sense amplifier 128 Output circuit 129 Precharge circuit B
130 Column selector B
131 Write Buffer 131a Write Buffer Selection Circuit 132 Sense Amplifier 132a Sense Amplifier Selection Circuit 133 Output Circuit 133a Latency Circuit 134 Redundancy Circuit 135 Control Signal Delay Circuit 136 Word Line Delay Circuit 137 Delay Circuit 141 Redundancy Relief Unit 151 Memory Cell Array 152 Memory Cell Array 161 Memory Array 162 Memory array 171 Memory 1 before integration
172 Memory 2 before integration
173 Memory after integration 174 Logic circuit A1 to A2 AND circuit NA1 NAND circuit I1 to I24 Inverter CI1 Clocked inverter P1 to P7 PMOS transistor N1 to N8 NMOS transistor

Claims (10)

選択対象ビット線数が異なるビット線選択回路を有する複数種類のデータ入出力回路を備えた半導体記憶装置。   A semiconductor memory device comprising a plurality of types of data input / output circuits having bit line selection circuits having different numbers of selection target bit lines. 異なる個数のビット線選択回路および前記ビット線選択回路に個別に接続されるセンスアンプと前記ビット線選択回路に個別に接続されるライトバッファとを有し、かつ前記センスアンプの個数に応じて選択対象センスアンプ数が異なるセンスアンプ選択回路と前記ライトバッファの個数に応じて選択対象ライトバッファ数が異なるライトバッファ選択回路とを有する複数種類のデータ入出力回路を備えた半導体記憶装置。   There are different numbers of bit line selection circuits, sense amplifiers individually connected to the bit line selection circuits, and write buffers individually connected to the bit line selection circuits, and selected according to the number of the sense amplifiers. A semiconductor memory device comprising a plurality of types of data input / output circuits having a sense amplifier selection circuit having a different number of target sense amplifiers and a write buffer selection circuit having a different number of selection target write buffers in accordance with the number of write buffers. 前記複数のデータ入出力回路のうち、第1のデータ入出力回路に対応する第1のメモリセルアレイは全てのメモリセルにビット線が接続され、第2のデータ入出力回路に対応する第2のメモリセルアレイは一部はビット線が接続されないメモリセルを備える請求項1または2に記載の半導体記憶装置。   Of the plurality of data input / output circuits, the first memory cell array corresponding to the first data input / output circuit has bit lines connected to all the memory cells, and a second data input / output circuit corresponding to the second data input / output circuit. 3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a part of the memory cell array includes memory cells to which bit lines are not connected. 前記複数のデータ入出力回路のうち、第1のデータ入出力回路に対応する第1のメモリセルアレイと、第2のデータ入出力回路に対応する第2のメモリセルアレイとは、メモリ容量が異なる請求項1または2に記載の半導体記憶装置。   Among the plurality of data input / output circuits, the first memory cell array corresponding to the first data input / output circuit and the second memory cell array corresponding to the second data input / output circuit have different memory capacities. Item 3. The semiconductor memory device according to Item 1 or 2. 前記複数のデータ入出力回路で共通に使用するアドレスは外部アドレスとそのまま接続され、前記複数のデータ入出力回路で共通に使用しないアドレスは最上位アドレスとして外部アドレスと接続される請求項1〜4のいずれか1項に記載の半導体記憶装置。   5. An address commonly used by the plurality of data input / output circuits is directly connected to an external address, and an address not commonly used by the plurality of data input / output circuits is connected to an external address as the highest address. The semiconductor memory device according to any one of the above. 前記複数のデータ入出力回路のうち、いずれか一つがレイテンシー回路を備える請求項1または請求項2に記載の半導体記憶装置。   The semiconductor memory device according to claim 1, wherein any one of the plurality of data input / output circuits includes a latency circuit. 前記複数のデータ入出力回路のうち、いずれか一つが冗長回路を備える請求項1または請求項2に記載の半導体記憶装置。   The semiconductor memory device according to claim 1, wherein any one of the plurality of data input / output circuits includes a redundant circuit. 前記複数のデータ入出力回路は、制御タイミングの異なる制御信号に接続される請求項1または請求項2に記載の半導体記憶装置。   The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the plurality of data input / output circuits are connected to control signals having different control timings. 前記複数のデータ入出力回路の間に配置されて制御回路の制御信号を遅延させる制御遅延回路と、前記複数のデータ入出力回路に対応する複数のメモリアレイの間に配置されロウデコーダの出力であるワード線の信号を遅延させるワード線遅延回路とを備え、
前記複数のデータ入出力回路のうちの第1のデータ入出力回路は、前記制御回路から出力される制御信号に接続され、前記複数のデータ入出力回路のうちの第2のデータ入出力回路は、前記制御遅延回路の出力に接続され、前記複数のデータ入出力回路に対応する複数のメモリアレイのうちの第1のメモリアレイは前記ワード線に接続され、前記複数のメモリアレイのうちの第2のメモリアレイは前記ワード線遅延回路に接続される請求項1または請求項2に記載の半導体記憶装置。
A control delay circuit disposed between the plurality of data input / output circuits for delaying a control signal of the control circuit; and a row decoder disposed between a plurality of memory arrays corresponding to the plurality of data input / output circuits. A word line delay circuit for delaying a signal of a certain word line,
A first data input / output circuit of the plurality of data input / output circuits is connected to a control signal output from the control circuit, and a second data input / output circuit of the plurality of data input / output circuits is A first memory array of a plurality of memory arrays connected to an output of the control delay circuit and corresponding to the plurality of data input / output circuits is connected to the word line, and a first memory array of the plurality of memory arrays 3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein two memory arrays are connected to the word line delay circuit.
前記制御遅延回路と前記ワード線遅延回路とは、共に同じ段数のインバータ素子を備える請求項9記載の半導体記憶装置。   The semiconductor memory device according to claim 9, wherein both the control delay circuit and the word line delay circuit include inverter elements having the same number of stages.
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