JP2007176728A

JP2007176728A - バーナー装置及びそれを用いた合成石英ガラスの製造方法

Info

Publication number: JP2007176728A
Application number: JP2005375887A
Authority: JP
Inventors: Atsushi Shimada; 敦之嶋田; Yasushi Fukui; 靖福井
Original assignee: Shin Etsu Quartz Products Co Ltd
Current assignee: Shin Etsu Quartz Products Co Ltd
Priority date: 2005-12-27
Filing date: 2005-12-27
Publication date: 2007-07-12
Anticipated expiration: 2025-12-27
Also published as: JP5090646B2

Abstract

【課題】
合成石英ガラスの製造の際、使用する原料ガス、水素などの可燃性ガス、酸素などの支燃性ガス、ドーピングガス、不活性ガス等を多重管バーナーへ供給するにあたって、各バーナーへのガス流量を調整するための調整装置を用いることなく、各バーナーへ均一にガスを供給することができるようしたバーナー装置及びそれを用いた合成石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】
合成石英ガラスを製造するのに用いられるバーナー装置であって、
ガスを導入するためのガス導入口と前記導入されたガスを分流するための多数のガス分流口とを有し前記ガス導入口から導入されたガスを分流するためのガス分流装置と、
前記ガス分流口に接続手段を介してそれぞれ接続された多本数のバーナー本体と、
所定の寸法精度の穴径で開穿され前記ガスが通過するためのガス通過孔を有し前記接続手段に取り付けられたガス流量規制プレートと、からなるようにした。
【選択図】図１

Description

本発明は、合成石英ガラスの製造の際、使用する原料ガス、水素などの可燃性ガス、酸素などの支燃性ガス、ドーピングガス、不活性ガス等を多重管バーナーへ供給し、酸水素火炎等で加水分解して、ガラス微粒子体が集合してなる多孔質体を加熱して透明化する方法や、直接透明化する直接溶融法などに用いられるバーナー装置及びそれを用いた合成石英ガラスの製造方法に関する。

一般にＯＶＤ法、ＶＡＤ法等により合成石英ガラスを製造する際、多本数の多重管バーナー（以下、多数本バーナーという。）へ原料ガス、水素、酸素、ドーピングガス、不活性ガス等を供給して、ガラス微粒子多孔質体を一旦製造する。その際、多本数バーナーには、各管にそれぞれ流量計やマスフロコントローラーを使用して個々のガス流量を調整し供給している。

例えば、特許文献１では、実施例として同心円筒状四重管バーナー６本に対しマスフロコントローラーを１〜ｎ台使用し、更に元栓にはバーナー系列全体のガス量をコントロールする大型のマスフロコントローラーを使用するとしている。

すなわち、従来の技術では、例えば、ＯＶＤ法により合成石英ガラスを製造する場合には、図６に示すように、多本数バーナー１００を用いて、出発部材１０１にガラス微粒子を堆積して多孔質母材１０２を作製するにあたって、例えば原料ガス、水素、酸素をそれぞれのガス導入管１０４ａ〜１０４ｃに導入しこのそれぞれのガス導入管１０４ａ〜１０４ｃ毎にガス流量を調整するためのマスフロコントローラー１０６ａ〜１０６ｃを設置し、このマスフロコントローラー１０６ａ〜１０６ｃによって流量調整されたそれぞれのガスが各バーナー本体１０８へと供給され、それにより多孔質母材１０２の作製を行う手法が行われていた。なお、図６において符号１１０はバーナーの炎を示す。

このような方法では、高価なマスフロコントローラー及びそのコントロール装置をガスライン毎に複数台用意する必要があり、初期投資が大幅にかかるという問題がある。また、マスフロコントローラーは、定期的なメンテナンスも必要である。

また、特許文献２では、分流装置を用いて分流装置内の圧力を平均化し、更に出口には、流量調整バルブを設けて各バーナーに対する圧力損失を調整するとしている。しかし、この方法では、バルブ調整による各バーナーに流れているガス流量自体が判らないだけでなく、一カ所の出口流量を調整すると、その部分の圧力抵抗が変化し、他の分流装置各出口へ流れるガスのバランスが崩れ、各出口のガス流量の調整が難しいという問題がある。

そこで本発明者ら上記した問題点を解消すべく鋭意研究を重ねた結果、ガス分流装置の各出口にそれぞれガス流量規制プレートを用い、その各ガス流量規制プレートの穴径を均一とすることで、上記したガス流量の調整するための装置を各バーナー毎に用いることなく、ガス分流装置から常に安定したガス流量を均一に供給できるという知見を得た。

特開平３−２７９２３４号公報特開２００４−２６５１９号公報

本発明は、合成石英ガラスの製造の際、使用する原料ガス、水素などの可燃性ガス、酸素などの支燃性ガス、ドーピングガス、不活性ガス等を多重管バーナーへ供給するにあたって、各バーナーへのガス流量を調整するための調整装置を用いることなく、各バーナーへ均一にガスを供給することができるようにしたバーナー装置及びそれを用いた合成石英ガラスの製造方法を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明のバーナー装置は、合成石英ガラスを製造するのに用いられるバーナー装置であって、ガスを導入するためのガス導入口と前記導入されたガスを分流するための多数のガス分流口とを有し前記ガス導入口から導入されたガスを分流するためのガス分流装置と、前記ガス分流口に接続手段を介してそれぞれ接続された多本数のバーナー本体と、所定の寸法精度の穴径で開穿され前記ガスが通過するためのガス通過孔を有し前記接続手段に取り付けられたガス流量規制プレートと、からなり、前記ガス分流装置から分流された前記ガスが前記ガス流量規制プレートを通過することにより前記多本数のバーナー本体に均一かつ同量で安定供給されるようにしたことを特徴とする。

このように所定の寸法精度の穴径で開穿されたガス通過孔を有するガス流量規制プレートを用いたのは、ガスを供給するにあたって、不均一な穴径を用いた場合には、穴径の大小によって、抵抗が変わり、大きい穴径のところにより多く流れてしまうからである。全体のガス量は決まっているため、その分、他の穴の流量が低下してしまい、均一なガス流量が得られないためである。

また、製造条件を変更した場合には、前記ガス流量規制プレートを交換することで、任意の流量に調整できる。

一般的に、合成石英ガラスを製造するに当たり、１バーナー当たりの水素、酸素、窒素などのガス流量は、最大でも２００Ｌ／ｍｉｎ程度であり、また通常でも１０〜１００Ｌ/ｍｉｎ程度である。

また、前記ガス通過孔の穴径が５ｍｍ以下であり、かつ全てのガス通過孔における穴径の寸法精度の最大誤差が±５μｍ以下であるのが好適である。さらに好ましくは全てのガス通過孔間の寸法精度の最大誤差が±３μｍ以下であり、特に好ましくは全てのガス通過孔間の寸法精度の最大誤差が±２μｍ以下、そして最も好ましくは全てのガス通過孔間の寸法精度の最大誤差が±１μｍ以下である。なお、穴径の測定にあたっては、走査電子顕微鏡を使用することが可能であるが、その他にも種々の小径内径測定器の使用が可能である。

ガス通過孔の穴径が５ｍｍを超えると、穴径が大きすぎて、分流装置内の圧力を維持することが困難となり、数百Ｌ/ｍｉｎ程度のガス流量でも、ガス分流装置内の圧力を平均化することが難しくなるため、圧力を維持するには、ガス供給一次圧を非常に高くする必要がある。ガス通過孔の穴径の下限値については、ガスが通過する限り特別の限定はないが、ガスの流れを安定にするためには少なくとも１ｍｍ程度とする必要がある。

また、穴径の寸法精度を±５μｍ以上のものを用いても、穴径の大小によって、抵抗が変わり、大きい穴径のところに多く流れてしまい、各バーナーに均等にガスを供給することが困難となる。したがって、全てのガス通過孔間における寸法精度を一定にすることにより、より均一にガスを安定供給することが可能となる。

前記ガス流量規制プレートは、前記接続手段に着脱自在に取り付けられる構成とすることが好適である。前記ガス流量規制プレートの交換が容易となるからである。

ガス流量規制プレートの材質については、特別の限定はないが、一定の剛性を有すればよいもので、金属、鋼、合金又はガラス材等で作製することができる。例えば、ステンレス鋼、青銅、アルミニウム、タングステン、チタン、真鍮、高炭素鋼、ニッケル鋼、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラスなどが好適に用いられる。ガス流量規制プレートの熱膨張率が３０×１０^-6／℃（０〜１００℃）以下となるのが特に好ましい。

ガス流量規制プレートにガス通過孔を開穿するにあたっては、種々の微小径穴加工技術が適用でき、例えばマイクロドリルを使用したマイクロドリル加工、レーザー加工、精密プレス加工、エッチング加工、微細放電加工、超音波加工、ワイヤ放電加工等が適用できる。

このように、流量規制プレートを用いることにより、構造が簡単で取り扱いが容易であり、ガス流量を校正することなく、常に安定した流量で分流できるという利点を有する。さらに、ガス流量規制プレートを用いるため、非常に安価に簡単な構造で、常に安定した流量でガスの分流ができ、さらに流量規制プレートの交換も容易に行うことができるという利点を有する。

ガス分流装置から多本数バーナーにガスを供給する場合、導入される一次ガス圧としては、０．１５ＭＰａ以上が好ましい。これ以下であると各バーナー本体へ供給されるガス流量及び分流装置内のガス圧を均一に保てなくなるからである。更に、ガスの圧力変動に制御流量が大きく左右されないマスフロコントローラーを用いた場合には、分流装置内の内圧をきめ細かく制御する必要がないため、０．１５ＭＰａ以上を維持すれば良い。

前記ガス分流装置は、１５℃以上３５℃以下の恒温下で使用されるのが好ましい。また、できるだけ輻射熱などの影響を受けない環境下で使用することが好ましい。

本発明の合成石英ガラスの製造方法は、上記したバーナー装置を用いて合成石英ガラス体を製造することを特徴とするものである。

本発明の合成石英ガラスの製造方法は、種々の方法に適用可能である。例えばＯＶＤ法（outside vapor deposition；生成するシリカガラス微粒子を水平方向に保持した基体上に層状に堆積してシリカガラス多孔質体を製造し、このシリカガラス多孔質体から基体を引き抜いた後、電気炉内で加熱溶融して中空シリンダ状の透明シリカガラス体を作製する方法）では、複数のバーナーを使用した場合、各分流管に最低限のマスフロコントローラーからガス分流装置を介して複数のバーナーに同量のガスを供給できる。したがって、各分流管毎にマスフロコントローラーをそれぞれ用意する必要がないし、また、複雑な配管等の設備も必要ない。

また、例えば、ＶＡＤ法（vapor phase axial deposition；酸水素火炎中に原料を送り込み生成するシリカガラス微粒子を垂直方向に保持した回転する棒状基体上に堆積して、シリカガラス多孔質体を製造し、このシリカガラス多孔質体を電気炉内で加熱して棒状の透明シリカガラス体を作製する方法）や直接法（酸水素火炎中にシリカ原料を導入して火炎加水分解反応を生じせしめ、生成するシリカガラス微粒子を回転する皿状基体に下から上方向に層状に堆積させると同時に火炎の熱により溶融する方法）の場合でも、同時に同量のガスを供給できることとなる。

このようにして得られる前記合成石英ガラス体の長手方向中央部外径に対する外径変動率は、±５％以下であるのが好適である。

また、前記合成石英ガラス体を製造するにあたって予め多孔質母材を作製する合成石英ガラスの製造方法において、前記多孔質母材の長手方向中央部外径に対する外径変動率は、±５％以下であるのが好ましい。

なお、ここでいう長手方向中央部外径とは、合成石英ガラス体又は多孔質母材の長手方向の中心に位置する箇所の外径を指す。

また、本発明における外径変動率とは、合成石英ガラス体又は多孔質母材の長手方向の中央部の外径を基準として、合成石英ガラス体又は多孔質母材の長手方向の各ポジション（測定箇所）の外径の変動率を示したものである。この外径変動率は、下記式（１）から求められる。

外径変動率（％）＝
（（各ポジションの外径／長手方向中央部外径）−１）×１００・・・・（１）

本発明によれば、合成石英ガラスの製造の際、使用する原料ガス、水素などの可燃性ガス、酸素などの支燃性ガス、ドーピングガス、不活性ガス等を多重管バーナーへ供給するにあたって、各バーナーへのガス流量を調整するための調整装置を各バーナー毎に用いることなく、各バーナーへ均一にガスを供給することができるようしたバーナー装置及びそれを用いた合成石英ガラスの製造方法を提供することができるという著大な効果を有する。

また、本発明によれば、極めて均一な外径を有する多孔質母材又は合成石英ガラス体を製造することができるという著大な効果を有する。

以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明するが、図示例はあくまでも例示的なものであり、本発明の技術的思想から逸脱しない限り図示例以外にも種々の変形が可能なことはいうまでもない。

図１は、本発明のバーナー装置の実施の形態の一例を示す概略図である。図２は、図１のＩＩ部分の拡大概略断面図である。図３はガス流量規制プレートの一例を示す平面図である。図４は、図１の要部拡大概略図である。図５は、本発明のバーナー装置の実施の形態の別の例を示す概略図である。

図１〜図５において、符号１０は本発明のバーナー装置を示す。バーナー装置１０は、多本数の多重管バーナー（多本数バーナー）４０にガスを供給して合成石英ガラス体を製造するのに用いられるバーナー装置である。バーナー装置１０は、ガス（図示例では、原料ガス、水素ガス及び酸素ガス）を導入するためのガス導入口１１と前記導入されたガスを分流するための多数のガス分流口１２とを有しガス導入口１１から導入されたガスを分流するためのガス分流装置１４と、前記ガス分流口１２に接続手段（図示例ではノズル１６及び分流管１８）を介してそれぞれ接続された多本数のバーナー本体２０と、前記接続手段に取り付けられたガス流量規制プレート２２と、から構成されている。

そして、ガス流量規制プレート２２には、その中央部にガスが通過するためのガス通過孔２４が所定の寸法精度で開穿されている（図２及び図３）。なお、ガス流量規制プレート２２は、図示例ではノズル１６に取り付けた例を示したが、ガス分流口１２とバーナー本体２０とを接続する接続手段のいずれかの位置に取り付けられればよいものである。ガス流量規制プレート２２は、例えばガスケット継ぎ手などの接続部材を利用することで容易に取り付けが可能である。

図１のＩＩ部分を拡大すると、図２のようになる。図２において、符号１６ａ，１６ｂはそれぞれノズルであり、ノズル１６ａ及びノズル１６ｂはガス流量規制プレート２２を挟むような形で雄接合部材３２ａ及び雌接合部材３２ｂによって接合されている。このようにしてガス流量規制プレート２２がノズル１６に着脱自在に取り付けられている。

ガス流量規制プレート２２のガス通過孔２４は、図３によく示されるように所定の寸法精度で開穿されている。このようにして、ガス分流装置１４から分流された前記ガスがガス流量規制プレート２２を通過することにより多本数のバーナー本体２０全てに均一かつ同量で安定供給されるようにしてある。

多本数バーナー４０は、出発部材２５（図示例では石英ガラス棒）にガラス微粒子を堆積させるためのものであるが、バーナー本体２０の本数及びガス分流装置１４の寸法は、製造する多孔質体が必要とするバーナーの本数や供給先の数によって変動する。なお、図中、３０はバーナー火炎である。図示例では、バーナー本体２０を５本設けた例を示したが、後述する実施例ではこのバーナー本体２０を１０本設けたバーナー装置を用いた例を示す。例えば、ガス分流装置１４の寸法としては後述する実施例に記載したようなものが適用できる。

このようにして、原料ガス、水素及び酸素を、各ガス毎に設けたガス分流装置１４に供給する。導入されるガスは、各バーナー本体２０に必要なガス流量の合計量がマスフロコントローラー２８によって調整されて導入されており、そのガス圧は０．１５ＭＰａ以上とされている。このようにマスフロコントローラーを用いてガスを導入すれば、ガス分流装置１４内の内圧をきめ細かく制御する必要がないため、好適である。図４にガス分流装置１４付近の拡大概略図を示す。

ガス分流装置１４は、多孔質母材２６の成長中でのバーナー火炎３０からの熱や多孔質母材２６からの輻射熱の影響を受けない様、図５に示すように、成長容器（反応容器）３４の外に設置するのが好ましい。成長容器３４の外といっても、空調設備の整った、２５℃の室温に保たれた恒温室３６に設けるのが好ましい。なお、図示の例では成長容器３４を含めて大きく囲った恒温室３６の例を示したが、ガス分流装置１４、マスフロコントローラー２８部分のみを恒温室に設ける構成とすることもできる。また、四塩化ケイ素ガスなどの原料ガスは単独でバーナーへ供給することも可能である。

以下、本発明の実施例を具体的に説明するが、これらの実施例は例示的に示されるもので限定的に解釈されるべきでないことはいうまでもない。

（実施例１）
図５と同様のバーナー装置を用い、ＯＶＤ法により、１０本バーナーで出発部材２５にガラス微粒子を堆積させて多孔質母材２６の製造を室温（２５℃）で行った（図示例では５本バーナーの例を示したが、本実施例では１０本バーナーの装置を用いた）。このバーナー装置おけるガス分流装置１４は、内径８０ｍｍ、ガス導入管１３は内径１２．７ｍｍ、そしてノズル１６は内径９．５２ｍｍのものを使用した。バーナー本体２０は三重管バーナーを用い、最内側の第１管には、原料ガスとして四塩化ケイ素ガス、内側から２番目の第２管には酸素ガス、最外側の第３管には水素ガスを供給した。複数のガス流量規制プレート２２はニッケル鋼製のものを用い、微細放電加工によりガス通過孔２４を開穿した。ガス通過孔２４の穴径は、全て５ｍｍとし、その全てのガス通過孔２４における複数の穴径の寸法精度の最大誤差は±５μｍのものを用いた。この穴径は、走査電子顕微鏡を使用して測定した。

導入された各ガス流量は、水素ガス７０Ｌ/ｍｉｎ×１０本＝７００Ｌ/ｍｉｎ、酸素ガスは１５Ｌ/ｍｉｎ×１０本＝１５０Ｌ/ｍｉｎ、四塩化ケイ素ガスは４Ｌ/ｍｉｎ×１０本＝４０Ｌ/ｍｉｎでガス分流装置に供給した。各一次ガス圧は、０．２０Ｍｐａとした。このようにして得られた多孔質母材２６の外径をピッチ幅１００ｍｍ毎に、赤外線半導体レーザ式変位センサを用いて１０ポジション（１０箇所）測定したところ、２９８〜３０４ｍｍであった。多孔質母材２６の長手方向中央部外径は３０１ｍｍで、長手方向中央部外径に対する外径変動率は±１．０％であった。この多孔質母材２６を１６００℃にて透明ガラス化を行った。得られた合成石英ガラス体の外径をピッチ幅１００ｍｍ毎に赤外線半導体レーザ式変位センサを用いて１０ポジション（１０箇所）測定したところ、１５８〜１６１ｍｍであった。この合成石英ガラス体の中央部外径は１６１ｍｍで、中央部外径に対する外径変動率は±１．９％となり、±５％以下で、非常に均一な外径の合成石英ガラスが得られた。

（実施例２）
ガス流量規制プレート２２のガス通過孔２４の穴径を２ｍｍ、その穴径の寸法精度は±１μｍとした以外は実施例１と同様な条件で行った。このようにして得られた多孔質母材２６の外径をピッチ幅１００ｍｍ毎に、赤外線半導体レーザ式変位センサを用いて１０ポジション（１０箇所）測定したところ、２９８〜３０１ｍｍであった。多孔質母材２６の長手方向中央部外径は３０１ｍｍで、長手方向中央部外径に対する外径変動率は±１．０％であった。この多孔質母材２６を１６００℃にて透明ガラス化を行った。得られた合成石英ガラス体の外径をピッチ幅１００ｍｍ毎に赤外線半導体レーザ式変位センサを用いて１０ポジション（１０箇所）測定したところ、１５８〜１６０ｍｍであった。この合成石英ガラス体の長手方向中央部外径は１５９ｍｍで、長手方向中央部外径に対する外径変動率は±０．６％となり、非常に均一な外径の合成石英ガラスが得られた。

（比較例１）
ガス流量規制プレート２２のガス通過孔２４の穴径を８ｍｍ、その穴径の寸法精度は±５μｍとした以外は実施例１と同様の条件で行った。しかし、得られた多孔質母材２６の外径をピッチ幅１００ｍｍ毎に、赤外線半導体レーザ式変位センサを用いて１０ポジション（１０箇所）測定したところ、２８７〜３２０ｍｍであった。多孔質母材２６の長手方向中央部外径は３０４ｍｍで、長手方向中央部外径に対する外径変動率は±５．６％であった。この多孔質母材２６を１６００℃にて透明ガラス化を行った。得られた合成石英ガラス体の外径をピッチ幅１００ｍｍ毎に赤外線半導体レーザ式変位センサを用いて１０ポジション（１０箇所）測定したところ、１５２〜１７０ｍｍであった。この合成石英ガラス体の長手方向中央部外径は１６１ｍｍで、長手方向中央部外径に対する外径変動率は±５．６％となり、不均一な外径のガラスが得られた。

（比較例２）
ガス流量規制プレート２２のガス通過孔２４の穴径を２ｍｍ、その穴径の寸法精度は±１０μｍとした以外は実施例１と同様の条件で行った。しかし、得られた多孔質母材２６の外径をピッチ幅１００ｍｍ毎に、赤外線半導体レーザ式変位センサを用いて１０ポジション（１０箇所）測定したところ、２８０〜３２０ｍｍであった。多孔質母材２６の長手方向中央部外径は３１０ｍｍで、長手方向中央部外径に対する外径変動率は±９．７％であった。この多孔質母材２６を１６００℃にて透明ガラス化を行った。得られた合成石英ガラス体の外径をピッチ幅１００ｍｍ毎に赤外線半導体レーザ式変位センサを用いて１０ポジション（１０箇所）測定したところ、１４８〜１７０ｍｍであった。この合成石英ガラス体の長手方向中央部外径は１６１ｍｍで、長手方向中央部外径に対する外径変動率は±８．１％となり、不均一な外径のガラスが得られた。

このように、実施例１〜２における合成石英ガラスは、比較例１〜２における合成石英ガラスに比べてその外径が均一なガラスが得られることが確認できた。

本発明のバーナー装置の実施の形態の一例を示す概略図である。図１のＩＩ部分の拡大概略断面図である。ガス流量規制プレートの一例を示す平面図である。図１の要部拡大概略図である。本発明のバーナー装置の実施の形態の別の例を示す概略図である。従来のバーナー装置を示す概略図である。

符号の説明

１０：本発明のバーナー装置、１１：ガス導入口、１２：ガス分流口、１３，１０４ａ〜１０４ｃ：ガス導入管、１４：ガス分流装置、１６，１６ａ，１６ｂ：ノズル、１８：分流管、２０，１０８：バーナー本体、２２：ガス流量規制プレート、２４：ガス通過孔、２５，１０１：出発部材、２６，１０２：多孔質母材、２８，１０６ａ〜１０６ｃ：マスフロコントローラー、３０：バーナー火炎、３２ａ：雄接合部材、３２ｂ：雌接合部材、３４：成長容器、３６：恒温室、４０，１００：多本数バーナー。

Claims

合成石英ガラスを製造するのに用いられるバーナー装置であって、
ガスを導入するためのガス導入口と前記導入されたガスを分流するための多数のガス分流口とを有し前記ガス導入口から導入されたガスを分流するためのガス分流装置と、
前記ガス分流口に接続手段を介してそれぞれ接続された多本数のバーナー本体と、
所定の寸法精度の穴径で開穿され前記ガスが通過するためのガス通過孔を有し前記接続手段に取り付けられたガス流量規制プレートと、からなり、
前記ガス分流装置から分流された前記ガスが前記ガス流量規制プレートを通過することにより前記多本数のバーナー本体に均一かつ同量で安定供給されるようにしたことを特徴とするバーナー装置。
前記ガス通過孔の穴径が５ｍｍ以下であり、かつ全てのガス通過孔における穴径の寸法精度の最大誤差が±５μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載のバーナー装置。
前記ガス流量規制プレートが、前記接続手段に着脱自在に取り付けられることを特徴とする請求項１又は２記載のバーナー装置。
前記ガス分流装置が、１５℃以上３５℃以下の恒温下で使用されることを特徴とする請求項１〜３いずれか１項記載のバーナー装置。
請求項１〜４いずれか１項記載のバーナー装置を用いて合成石英ガラス体を製造することを特徴とする合成石英ガラスの製造方法。
前記合成石英ガラス体の長手方向中央部外径に対する外径変動率が、±５％以下であることを特徴とする請求項５記載の合成石英ガラスの製造方法。
前記合成石英ガラス体を製造するにあたって予め多孔質母材を作製する合成石英ガラスの製造方法において、前記多孔質母材の長手方向中央部外径に対する外径変動率が、±５％以下であることを特徴とする請求項５記載の合成石英ガラスの製造方法。