JP2007173357A - 電子基板とその製造方法及び回路基板並びに電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】高抵抗である第1導電層20a及び低抵抗である第2導電層20bを有する基板121上に感光層21を形成し、配線領域の感光層21bを残留させ、非配線領域の第1導電層、第2導電層をエッチング除去する。抵抗素子R形成領域に位置する残った感光層を除去した後、第2導電層20bをエッチング除去することで、抵抗素子を形成する。
【選択図】図4
Description
例えば、特許文献1及び特許文献2には、インターポーザ基板に膜体の抵抗素子が設けられた半導体装置(半導体パッケージ)に関する技術が開示されている。
いずれの技術も、インターポーザ基板に抵抗体を内蔵しているため、小型化が充分に達成されているとは言えない。
また、配線の一部をパターニングして抵抗素子を形成することにより小型化することも考えられるが、この場合、配線形成時のパターニング及び抵抗体形成時に配線の一部を除去するためのパターニングのそれぞれでレジストを塗布する必要があり、生産性が低下するという問題が生じてしまう。
本発明の電子基板の製造方法は、基板上の配線領域に第1導電層及び第2導電層を有する配線パターンが形成される電子基板の製造方法であって、前記第1導電層上の前記配線領域のうち、抵抗素子形成領域を除く範囲に前記第2導電層を成膜する工程を有することを特徴とするものである。
また、本発明では、第2導電層を形成する際にレジストを塗布すればよく、第2導電層の一部を除去して抵抗素子を形成する場合のように、レジストを再度塗布する必要がなくなり、生産性の向上に寄与することが可能になる。
これにより、本発明では、一度塗布した感光層により、抵抗素子形成領域に抵抗素子が形成された配線パターンを容易に形成することができる。
従って、本発明では、この基板を現像することにより前記配線領域外の前記感光層を除去でき、露出した第1導電層をエッチング等により除去することにより配線パターンを容易にパターニングできる。このとき、抵抗素子形成領域の感光層は感光されないため、現像しても除去されずに、エッチング処理時のマスクとして機能することが可能になる。
これにより、本発明では、抵抗値が大きい抵抗素子を容易に形成することが可能になる。
また、配線パターンとしては、電極部と接続され、少なくとも一部が外部端子に接続される構成(例えば、ウエハレベルCSP(Wafer Level Chip Size Package)パッケージ体)としてもよい。
これにより、本発明では、バンプ電極の近傍に抵抗素子を形成できるので、バンプ電極と抵抗素子との間の経路を最短にでき、配線を極小とできる。
これにより、本発明では、半導体素子の近傍に抵抗素子を形成できるので、半導体素子と抵抗素子との間の経路を最短にでき、配線を極小とできる。
この場合、半導体素子としては、能動領域に形成される配線パターンによりトランジスタ等のスイッチング素子を形成する構成や、半導体素子を内蔵する半導体チップを能動領域に実装する構成とすることができる。
また、本発明では、基板に半導体素子が非搭載状態、つまり半導体素子が設けられていない、例えばシリコン基板状態であっても適用可能である。
従って、本発明では、効率よく容易に抵抗素子を得ることが可能になる。
また、本発明では、前記抵抗素子を有する前記配線パターンに、絶縁層を介して積層された第2配線パターンが電気的に接続される構成も好適に採用できる。
これにより、本発明では、配線パターンが積層された電子基板に容易、且つ効率的に抵抗素子を形成することが可能になる。
従って、本発明では、生産性が低下することなく効率的に回路基板及び電子機器を得ることができる。
[電気光学装置]
図1は電気光学装置の一実施形態である液晶表示装置を示す模式図である。
図示の液晶表示装置(電気光学装置)100は、液晶パネル110と、半導体装置121とを有する。また、必要に応じて、図示しない偏光板、反射シート、バックライト等の付帯部材が適宜に設けられる。
(第1実施形態)
次に、第1実施形態に係る電子基板としての半導体装置121の製造方法について説明する。ここでは、半導体装置121がウエハレベルCSP型の場合について説明する。
図3〜図5は、半導体装置121の製造方法の一例を示す工程図である。
この半導体装置121は、例えば液晶表示装置の画素を駆動するICチップであり、その能動面側には薄膜トランジスタ等の複数の電子素子や各電子素子間を接続する配線等の電子回路(集積回路)等の半導体素子が形成されたものである(いずれも不図示)。
パッシベーション膜26上には、応力緩和性の高い、ポリイミドなどの有機樹脂膜を、開口部以外全表面もしくは一部に、更にフォトリソ法等を用いて形成しても良い。すなわち、以下手法で形成される抵抗素子R(後述)は、有機樹脂膜(絶縁膜)上に形成されていても良い。
これらの導電膜20a、21aは、ここではパターニングされたものではなく、いわゆるベタ膜として全面的に成膜される。
具体的には、図3(c)に示すように、導電膜20a、20b上にスピンコート法、ディッピング法、スプレーコート法等によってポジ型のレジスト層(感光層)21を形成し、さらに所定のパターン(配線パターンを形成する配線領域のうち、抵抗素子領域を除く範囲が開口し、配線領域外の非配線領域及び上記抵抗素子形成領域が露光光から遮光されるパターン)が形成されたマスクM1を用いてレジスト層21に露光処理及び現像処理を施し、図3(d)に示すように、配線パターン形成領域に開口部21aが設けられたレジストパターン(配線部が開口するパターン)を形成する。
このとき、抵抗素子形成領域については、レジスト層21に開口部が形成されないため、導電膜20a、20b上に残留部21bとしてレジスが残留する。また、配線パターンの幅としては、後述するエッチング処理時に生じるサイドエッチング量も考慮して設定される。
これにより、非配線領域の導電膜20a、20bが除去される。
続いて、図4(d)に示すように、剥離液等を用いて残留部21のレジストを除去し、露出した導電膜20bを再エッチングして除去する。
これにより、図4(e)に示すように、基板P上に導電膜20aからなる抵抗素子Rを有する配線パターン1が形成される。
導電膜20aを構成するTiWは、比抵抗値ρが約75μΩ・cmであり、導電膜20bを構成するCuの比抵抗値(約1.67μΩ・cm)よりも大きい。
抵抗素子Rが膜厚t、幅w、長さLの場合、抵抗値は以下の式で表される。
抵抗値=(L/(t×w))×ρ …(1)
そこで、例えば抵抗値50Ωを設定する場合には、式(1)を用いて、抵抗素子Rをt=0.1μm、w=15μm、L=100μmで形成すればよい。
この電極10を用いることで、基板Pに設けられた集積回路等の半導体素子に対して各種の機能検査や機能調整を電気的に行うことも可能である。
特に、本実施形態では、スパッタリング、メッキ、フォトリソ法等、膜組成及び厚さ精度、寸法精度に優れた方法により配線パターン1、3を形成しているため、抵抗素子Rの抵抗値をより高精度に制御・管理することが可能である。
つまり、本実施形態では、抵抗としての必要値に応じて膜の種類や、積層構造の導電膜の中、どの層の導電膜を用いるかを選択することで、抵抗のレンジ、耐許容電流値の設計選択度を向上させることができる。
なお、三層以上の構造も同様である。
続いて、半導体装置の製造方法の第2実施形態について、図6及び図7を参照して説明する。
本実施形態では、樹脂コアバンプ電極を有する半導体装置を製造する場合について説明する。
なお、これらの図において、図1乃至図5に示す第1実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略または簡略化する。
また、フォトリソ法等で樹脂突起12を形成し、硬化時に突起周辺をだらすことにより、所望の樹脂突起12形状を得ても良い。
本実施形態では、導電膜20aはバリアメタル層としてTiWにより、例えば0.1μmの厚さで成膜され、導電膜20bは導電層としてAuにより、例えば0.5μmの厚さで成膜される。
具体的には、図6(d)に示すように、導電膜20a、20b上にポジ型のレジスト層(感光層)21を形成し、さらに所定のパターン(配線パターンを形成する配線領域が露光光から遮光され、非配線領域が開口するパターン)が形成されたマスクM3を用いてレジスト層21に露光処理及び現像処理を施し、図3(d)に示すように、非配線領域に開口部21cが設けられ、配線領域がレジストで覆われたレジストパターンを形成する。
本発明の回路基板は、図7(e)に示す半導体装置121が、樹脂コアバンプ電極10において、例えば図2に示した基板111に実装されたり、図5に示した半導体装置121がプリント配線基板(図示せず)に実装されることで形成される。
すなわち、半導体装置121の外部接続端子10が、外部構造体の導電部に電気的に接続されることにより、本発明の一実施形態となる回路基板が形成される。
この回路基板によれば、小型化及び製造効率の向上が図られた半導体装置121が実装されているので、その分高密度実装及び生産性の向上が可能となり、したがって高機能化及び低コスト化を図ることができる。
図8は、本発明に係る電子機器の一例を示す斜視図である。この図に示す携帯電話1300は、上述した電気光学装置を小サイズの表示部1301として備え、複数の操作ボタン1302、受話口1303、及び送話口1304を備えて構成されている。
上述した電気光学装置は、上記携帯電話に限らず、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの場合にも抵抗値が高精度に確保されて品質に優れ、また高機能化及び低コスト化が図られた電子機器を提供することができる。
この場合、切欠部Raの大きさ(すなわち導電膜20aがつながっている大きさ)を調整することにより、抵抗値を微調整することもでき、高精度の抵抗素子をより容易に形成することが可能である。特に、上記実施形態では、半導体装置121の表面近傍に抵抗素子Rが配置されるため、容易に抵抗値の微調整が可能である。
また、上述した導電膜20、21も本実施形態ではスパッタリングやメッキ法を用いて形成されているが、インクジェット法を用いてもよい。
また、電子機器においても、上記実施形態では、電気光学装置を備えた携帯電話を例示したが、必ずしも電気光学装置を備える必要はなく、電気光学装置を備えずに、上述した電子基板を備える電子機器も本発明に含まれる。
Claims (13)
- 基板上の配線領域に第1導電層及び第2導電層を有する配線パターンが形成される電子基板の製造方法であって、
前記第1導電層上の前記配線領域のうち、抵抗素子形成領域を除く範囲に前記第2導電層を成膜する工程を有することを特徴とする電子基板の製造方法。 - 請求項1記載の電子基板の製造方法において、
前記第1導電層に感光層を形成する工程と、
前記感光層の前記配線領域のうち、前記抵抗素子形成領域を除く範囲を除去して開口部を形成する工程と、
前記開口部を介して前記第1導電層に前記第2導電層を成膜する工程と、
前記第2導電層及び前記抵抗素子形成領域の前記感光層をマスクとして、前記配線領域外の前記第1導電層を除去する工程と、
前記抵抗素子形成領域の前記感光層を除去する工程と有することを特徴とする電子基板の製造方法。 - 請求項2記載の電子基板の製造方法において、
前記感光層をポジ型のレジストで形成し、
少なくとも前記抵抗素子形成領域を遮光しつつ、前記配線領域外の前記感光層を感光させる工程を有することを特徴とする電子基板の製造方法。 - 第1導電層及び第2導電層を有する基板に感光層を形成する工程と、前記感光層のうち、配線領域に位置する前記感光層を残留させ、非配線領域に位置する前記感光層を感光させて開口部を形成する工程と、前記開口部を介して前記第1導電層及び第2導電層をパターニングする工程とを有する電子基板の製造方法であって、
前記配線領域に残留する前記感光層のうち、抵抗素子形成領域に位置する前記感光層を感光させて第2開口部を形成する工程と、
前記第2開口部を介して前記抵抗素子形成領域に位置する前記第2導電層を除去する工程とを有することを特徴とする電子基板の製造方法。 - 請求項1から4のいずれかに記載の電子基板の製造方法において、
前記第1導電層は、前記第2導電層よりも抵抗値が大きい材料を含むことを特徴とする電子基板の製造方法。 - 請求項1から5のいずれかに記載の電子基板の製造方法において、
前記配線パターンは電極部と接続されることを特徴とする電子基板の製造方法。 - 請求項6記載の電子基板の製造方法において、
前記配線パターンは、少なくとも一部が接続端子を形成していることを特徴とする電子基板の製造方法。 - 請求項7記載の電子基板の製造方法において、
前記接続端子は、樹脂材をコアとして少なくとも頂部が前記配線パターンで覆われたバンプ電極で形成されることを特徴とする電子基板の製造方法。 - 請求項1から8のいずれかに記載の電子基板の製造方法において、
前記基板に半導体素子が設けられ、前記配線パターンに電気的に接続されていることを特徴とする電子基板の製造方法。 - 請求項1から9のいずれか一項に記載の製造方法で製造されたことを特徴とする電子基板。
- 請求項10記載の電子基板において、
前記配線パターンに、絶縁層を介して積層された第2配線パターンが電気的に接続されることを特徴とする電子基板。 - 請求項10または請求項11記載の電子基板を備えることを特徴とする回路基板。
- 請求項10または請求項11記載の電子基板を備えることを特徴とする電子機器。
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