JP2007169007A - Robot hand and substrate carrying robot - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a robot hand of a substrate carrying robot capable of enlarging a carriable area of a substrate, without replacing an existing robot body. <P>SOLUTION: A movable area of a wafer 21 required for carrying the wafer 21 can be provided, even when not reaching the movable area required for carrying the wafer 21 in a movable area of a tip part of a robot arm by putting the robot hand 20 in an expandable state. Thus, a changeable range of a carrying source position or a carrying destination position can be expanded without replacing the robot body. The possibility that an arm part constituting the robot arm interferes with the other device, can be reduced by putting the robot hand 20 in a degenerate state, and restriction can be reduced in the movement of the robot. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板を支持するロボットハンドおよび基板搬送ロボットに関し、特に半導体ウェハを搬送するロボットハンドおよび基板搬送ロボットに関する。   The present invention relates to a robot hand and a substrate transfer robot that support a substrate, and more particularly to a robot hand and a substrate transfer robot that transfer a semiconductor wafer.

半導体処理設備内で半導体ウェハを搬送するために、ウェハ搬送ロボットが半導体処理設備内に設けられる。従来技術のウェハ搬送ロボットは、ロボットアームの先端部に、基板を支持するためのロボットハンドが装着される(たとえば特許文献1参照)。ロボットハンドがウェハを支持した状態で、ロボットアームがロボットハンドを変位移動させることで、搬送元位置にあるウェハを搬送先位置に搬送することができる。   A wafer transfer robot is provided in the semiconductor processing facility to transfer the semiconductor wafer in the semiconductor processing facility. In a conventional wafer transfer robot, a robot hand for supporting a substrate is attached to the tip of a robot arm (see, for example, Patent Document 1). With the robot hand supporting the wafer, the robot arm can move the robot hand to move the wafer at the transfer source position to the transfer destination position.

特開平11−116047号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-116047

半導体処理設備として完成してから、搬送位置の設計変更が行われてウェハの搬送距離が延びると、既存のロボットから可動領域の大きい別のロボットに交換しなければならない場合がある。この場合、ロボットを交換するために費用および時間がかかってしまう。   When the design of the transfer position is changed after the completion of the semiconductor processing facility and the transfer distance of the wafer is extended, it may be necessary to replace the existing robot with another robot having a large movable area. In this case, it takes cost and time to replace the robot.

またウェハ搬送ロボットは、搬送元位置から搬送先位置にウェハを搬送可能としたうえで、アーム移動時に他の装置との干渉が生じないよう構成され、さらに半導体処理設備に占める容積の小形化が望まれる。また半導体ウェハ以外の基板、たとえばガラス基板などの基板搬送ロボットであっても同様の問題が生じる。   In addition, the wafer transfer robot is configured so that it can transfer wafers from the transfer source position to the transfer destination position, so that it does not interfere with other devices during arm movement, and the volume occupied in the semiconductor processing equipment can be reduced. desired. The same problem occurs even with substrate transfer robots such as substrates other than semiconductor wafers, such as glass substrates.

したがって本発明の目的は、既存のロボットを交換することなく、基板の搬送可能領域を大きくすることができる基板搬送ロボットのロボットハンドを提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a robot hand of a substrate transport robot that can increase the substrate transportable area without replacing an existing robot.

また本発明の他の目的は、基板搬送ロボットとして、移動時に他の装置との干渉が防がれ、基板の搬送可能領域を大きくすることができる基板搬送ロボットを提供することである。   Another object of the present invention is to provide a substrate transport robot that can prevent interference with other apparatuses during movement and can increase the substrate transportable area as a substrate transport robot.

本発明は、多関節ロボットのロボットアームの先端部に装着されるハンド基端部と、
基板を支持可能に形成され、基板を支持した状態で、ハンド基端部に対して変位自在に設けられる基板支持部と、
基板支持部をハンド基端部に対して変位駆動するハンド駆動手段とを含むことを特徴とするロボットハンドである。
The present invention includes a hand base end portion attached to a tip end portion of a robot arm of an articulated robot;
A substrate support portion formed so as to be capable of supporting the substrate, and provided to be displaceable with respect to the hand base end portion in a state of supporting the substrate;
It is a robot hand characterized by including a hand drive means for driving the substrate support part to be displaced relative to the hand base end part.

また本発明は、ハンド駆動手段によって駆動されて、基板支持部に支持される基板を基板支持部に対して固定する固定手段をさらに含み、
固定手段は、基板支持部が予め定める設定位置へ移動するに連動して、基板支持部に支持される基板の基板支持部に対する固定を解除し、
基板支持部が前記設定位置からハンド基端部に近接するに連動して、基板支持部に支持される基板を基板支持部に対して固定することを特徴とする。
The present invention further includes a fixing unit that is driven by the hand driving unit and fixes the substrate supported by the substrate support unit to the substrate support unit,
The fixing means releases the fixation of the substrate supported by the substrate support portion with respect to the substrate support portion in conjunction with the movement of the substrate support portion to the predetermined setting position,
The substrate supported by the substrate support unit is fixed to the substrate support unit in conjunction with the substrate support unit approaching the hand base end from the set position.

また本発明は、ハンド駆動手段は、空気圧アクチュエータによって実現されることを特徴とする。   According to the present invention, the hand driving means is realized by a pneumatic actuator.

また本発明は、ハンド駆動手段は、サーボモータによって実現されることを特徴とする。   According to the present invention, the hand driving means is realized by a servo motor.

また本発明は、前記ロボットハンドと、
水平多関節型ロボットであって、ロボットアームの先端部にロボットハンドが着脱可能に装着されるロボット本体と、
ロボットハンドとロボット本体とを制御する制御手段とを含むことを特徴とする基板搬送ロボットである。
The present invention also provides the robot hand,
A horizontal articulated robot, and a robot body in which a robot hand is detachably attached to the tip of a robot arm;
A substrate transfer robot comprising a robot hand and a control means for controlling the robot body.

また本発明は、基板支持部がハンド基端部に向けて変位移動することで、ロボットの可動回転半径が最小となることを特徴とする。   Further, the present invention is characterized in that the movable turning radius of the robot is minimized by the displacement of the substrate support portion toward the hand base end portion.

請求項1記載の本発明に従えば、ハンド駆動手段が基板支持部をハンド基端部に対して離反移動させることによって、ロボットハンドの全長寸法を長くすることができる。これによってロボットアームに起因する基板支持部の移動可能領域よりも、基板支持部をさらに遠くに移動させることができる。またハンド駆動手段が基板支持部をハンド基端部に対して近接移動させることによって、ロボットハンドの全長寸法を短くすることができる。これによってロボットハンドおよびロボットハンドが装着されたロボットが、他の装置と干渉することを防ぐことができる。このように基板支持部をハンド基端部に対して変位自在とすることで、基板の搬送可能な領域を増やすとともに他の装置との干渉を防ぐことができる。   According to the first aspect of the present invention, the hand drive means moves the substrate support portion away from the hand base end portion, whereby the overall length of the robot hand can be increased. Accordingly, the substrate support portion can be moved further than the movable region of the substrate support portion caused by the robot arm. Further, the hand drive means moves the substrate support portion close to the hand base end portion, whereby the overall length of the robot hand can be shortened. This can prevent the robot hand and the robot to which the robot hand is attached from interfering with other devices. Thus, by making the substrate support portion displaceable with respect to the hand base end portion, it is possible to increase the area in which the substrate can be transported and to prevent interference with other devices.

本発明によれば、既存のロボットに本発明のロボットハンドを搭載することで、基板搬送ロボットの基板の搬送可能領域を増やすことができる。たとえば基板搬送ロボットが基板処理装置に設置された後に、基板の搬送距離が長くなるように設計変更がなされた場合であっても、本発明のロボットハンドに取り替えることで基板の搬送可能領域を増やすことができる。この場合、可動領域の広いロボットに交換する場合に比べて、交換費用および準備期間を短縮することができる。またハンド基端部に対して基板支持部を変位移動させることで、ロボットアームを構成するアーム部分が他の装置と干渉する可能性を減らすことができる。   According to the present invention, by mounting the robot hand of the present invention on an existing robot, the substrate transferable area of the substrate transfer robot can be increased. For example, even if the design is changed so that the substrate transfer distance becomes longer after the substrate transfer robot is installed in the substrate processing apparatus, the substrate transfer area can be increased by replacing the robot hand according to the present invention. be able to. In this case, the replacement cost and the preparation period can be shortened as compared with the case of replacement with a robot having a wide movable area. Further, by moving the substrate support part relative to the hand base end part, the possibility that the arm part constituting the robot arm interferes with other devices can be reduced.

また請求項2記載の本発明に従えば、ハンド駆動手段が基板支持部を設定位置に移動させると、基板支持部の移動に連動して固定手段は開放状態となる。固定手段が開放状態となると、搬送元位置にある基板を、基板支持部が支持可能な状態となる。また基板支持部が基板を支持した状態で、ハンド駆動手段が基板支持部を設定位置からハンド基端部に向けて移動させると、固定手段が固定状態となり、基板支持部に基板が固定される。また基板支持部が基板を支持した状態で、固定手段が開放状態となると、基板の固定が解除されて、支持した基板の搬送先位置への移載が可能な状態となる。   According to the second aspect of the present invention, when the hand driving means moves the substrate support portion to the set position, the fixing means is opened in conjunction with the movement of the substrate support portion. When the fixing unit is in the open state, the substrate support unit can support the substrate at the transfer source position. In addition, when the hand driving unit moves the substrate support unit from the setting position toward the base end of the hand while the substrate support unit supports the substrate, the fixing unit is in a fixed state, and the substrate is fixed to the substrate support unit. . Further, when the fixing means is in an open state with the substrate support section supporting the substrate, the substrate is released from being fixed, and the supported substrate can be transferred to the transport destination position.

このように本発明によれば、固定手段は、基板支持部の移動に連動して、基板の固定および固定解除を行う。したがってハンド駆動手段が、基板支持部を変位移動させるだけで、基板の固定および固定解除を行うことができ、固定手段を駆動する駆動手段を別途必要とすることがない。これによってロボットハンドの小形化および軽量化を図ることができ、簡単な構成によって実現することができる。   Thus, according to the present invention, the fixing means fixes and releases the substrate in conjunction with the movement of the substrate support portion. Therefore, the hand driving means can fix and release the substrate simply by displacing the substrate support, and there is no need for a separate driving means for driving the fixing means. As a result, the robot hand can be reduced in size and weight, and can be realized with a simple configuration.

また基板の固定および固定解除と、基板支持部の移動とを同時に行うことができ、サイクルタイムを短縮することができる。また基板支持部に支持される基板が固定手段によって固定された状態で、基板支持部を移動することで、基板支持部から基板がずれることが防がれ、基板支持部を高速で移動させることができる。   Further, the fixing and releasing of the substrate and the movement of the substrate supporting portion can be performed at the same time, and the cycle time can be shortened. In addition, by moving the substrate support portion while the substrate supported by the substrate support portion is fixed by the fixing means, it is possible to prevent the substrate from being displaced from the substrate support portion, and to move the substrate support portion at a high speed. Can do.

請求項3記載の本発明に従えば、ハンド駆動手段が空気が供給されることによって動作する空気圧アクチュエータによって実現されることで、電気モータに比べて小形にハンド駆動手段を実現することができ、ロボットハンド全体の小形化および軽量化を図ることができる。また基板支持部を滑らかに変位移動させることができ、基板支持部を移動するのに発生する衝撃および振動を抑えることができる。たとえば空気圧アクチュエータは、可動部を直線駆動するエアシリンダまたは可動部を回転駆動するロータリーアクチュエータによって実現される。   According to the third aspect of the present invention, the hand driving means is realized by a pneumatic actuator that operates by supplying air, so that the hand driving means can be realized in a smaller size than an electric motor, The entire robot hand can be reduced in size and weight. Further, the substrate support portion can be displaced smoothly, and the impact and vibration generated when the substrate support portion is moved can be suppressed. For example, the pneumatic actuator is realized by an air cylinder that linearly drives the movable part or a rotary actuator that rotationally drives the movable part.

請求項4記載の本発明に従えば、ハンド駆動手段がサーボモータによって実現されることで、ハンド基端部に対する基板支持部の移動量を精度よく制御することができる。これによって基板支持部の移動量を把握するためのセンサを別途設ける必要がない。またハンド基端部に対して任意の位置に基板支持部を移動させることができ、移動速度の調整も容易である。これによって基板支持部を所望とする移動状態で移動させることができ、利便性を向上することができる。   According to the fourth aspect of the present invention, since the hand driving means is realized by a servo motor, the amount of movement of the substrate support portion relative to the hand base end portion can be accurately controlled. Accordingly, it is not necessary to separately provide a sensor for grasping the movement amount of the substrate support portion. Further, the substrate support part can be moved to an arbitrary position with respect to the hand base end part, and adjustment of the moving speed is easy. Accordingly, the substrate support portion can be moved in a desired moving state, and convenience can be improved.

請求項5記載の本発明に従えば、ロボット本体に、上述したロボットハンドが装着されることによって、基板搬送ロボットの基板搬送可能領域を広くすることができる。これによって既存のロボット本体を用いて、安価に基板搬送可能領域を広くすることができる。たとえば基板処理設備において、基板の搬送距離が変更されたとしても、可動領域の大きい別の多関節ロボットに交換する必要がなく、交換費用および交換準備時間を短縮することができる。   According to the present invention described in claim 5, by mounting the robot hand described above on the robot body, the substrate transferable area of the substrate transfer robot can be widened. This makes it possible to widen the area where the substrate can be transported at low cost by using an existing robot body. For example, in a substrate processing facility, even if the substrate transport distance is changed, it is not necessary to replace the robot with another articulated robot having a large movable area, and the replacement cost and replacement preparation time can be shortened.

またロボット本体が多関節ロボットによって実現されることで、ロボットハンドの姿勢を任意の姿勢にすることができ、ロボットによる基板搬送動作を柔軟に行うことができる。これによって搬送元位置と搬送先位置とが複数ある場合、障害物を避けて基板搬送動作を行わなければならない場合などでも、基板搬送を行うことができる。   In addition, since the robot body is realized by an articulated robot, the posture of the robot hand can be changed to an arbitrary posture, and the substrate transfer operation by the robot can be performed flexibly. Accordingly, when there are a plurality of transfer source positions and transfer destination positions, the substrate transfer can be performed even when the substrate transfer operation must be performed while avoiding obstacles.

請求項6記載の本発明に従えば、基板支持部を基板の搬送元位置および搬送先位置に向かって移動させるにあたって、ロボットの向きを変える必要がある場合、ロボットの可動回転半径を最小となるように、ロボットハンドの全長を縮退させるとともにアームを変位させてロボットを角変位させて、ロボットの向きを変える。これによってロボットの向きを変えるときに必要な動作領域を最小にすることができ、他の装置との干渉を防ぐことができ、狭隘な空間に基板搬送ロボットを配置することができる。   According to the present invention as set forth in claim 6, when the direction of the robot needs to be changed when the substrate support is moved toward the substrate transfer source position and the transfer destination position, the movable turning radius of the robot is minimized. As described above, the robot hand is degenerated, the arm is displaced, and the robot is angularly displaced to change the direction of the robot. As a result, it is possible to minimize the operation area required when changing the direction of the robot, to prevent interference with other apparatuses, and to arrange the substrate transfer robot in a narrow space.

図1は、本発明の第1実施形態であるロボットハンド20を示す正面図であり、図2は、図1の矢符A2−A2からロボットハンド20を見て示す断面図である。また図3は、図2の矢符A3−A3からロボットハンド20を見て示す断面図である。本実施の形態のロボットハンド20は、円板状の半導体ウェハ21を搬送するための基板搬送ロボットの一部を構成する。基板搬送ロボットは、クリーンルーム内において、予め設定される搬送元位置にあるウェハ21を支持し、支持したウェハ21を搬送先位置に移載する。   FIG. 1 is a front view showing a robot hand 20 according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing the robot hand 20 as viewed from the arrows A2-A2 in FIG. 3 is a cross-sectional view showing the robot hand 20 as viewed from the arrows A3-A3 in FIG. The robot hand 20 according to the present embodiment constitutes a part of a substrate transfer robot for transferring a disk-shaped semiconductor wafer 21. The substrate transfer robot supports the wafer 21 at a preset transfer source position in the clean room, and transfers the supported wafer 21 to the transfer destination position.

基板搬送ロボットは、多関節ロボットであるロボット本体22と、ロボットハンド20と、ロボット本体22およびロボットハンド20を制御するロボットコントローラとを含む。本実施の形態では、ロボット本体22は、水平多関節ロボット、いわゆるスカラ型ロボットによって実現される。   The substrate transfer robot includes a robot body 22 that is an articulated robot, a robot hand 20, and a robot controller that controls the robot body 22 and the robot hand 20. In the present embodiment, the robot body 22 is realized by a horizontal articulated robot, a so-called SCARA robot.

ロボットハンド20は、ハンド基端部30と、基板支持部31と、ハンド駆動手段32とを含んで構成される。ハンド基端部30は、ロボット本体22のロボットアームの先端部23に装着される。ハンド基端部30は、ロボットアームの先端部23に設定される基準軸線L1まわりに、基板支持部31を角変位可能に支持する。ここで基準軸線L1は、ロボットアームの先端部23を通過し、鉛直に延びる軸線である。   The robot hand 20 includes a hand base end portion 30, a substrate support portion 31, and hand drive means 32. The hand base end 30 is attached to the tip 23 of the robot arm of the robot body 22. The hand base end portion 30 supports the substrate support portion 31 so as to be angularly displaceable around a reference axis L1 set at the distal end portion 23 of the robot arm. Here, the reference axis L1 is an axis that passes through the tip 23 of the robot arm and extends vertically.

基板支持部31は、ウェハ21を支持可能に形成され、ハンド基端部30に対して変位自在に設けられる。具体的には、基板支持部31は、ウェハ21を支持した状態で、前記基準軸線L1に垂直な移動軸線L2に沿う伸縮方向19に変位自在に形成される。本実施の形態では、移動軸線L2は、基板支持部31に固定的に設定されて水平に延びる。したがって基板支持部31が基準軸線L1まわりに角変位するにともなって、移動軸線L2もまた、基準軸線L1まわりに角変位する。以下、伸縮方向19のうち、基板支持部31がハンド基端部30に近づく方向を伸縮方向一方19Aとし、基板支持部31がハンド基板部30から遠ざかる方向を伸張方向他方19Bと称する。   The substrate support portion 31 is formed to be able to support the wafer 21 and is provided so as to be displaceable with respect to the hand base end portion 30. Specifically, the substrate support portion 31 is formed to be displaceable in the expansion / contraction direction 19 along the movement axis L2 perpendicular to the reference axis L1 while supporting the wafer 21. In the present embodiment, the movement axis L2 is fixedly set on the substrate support portion 31 and extends horizontally. Therefore, as the substrate support 31 is angularly displaced about the reference axis L1, the movement axis L2 is also angularly displaced about the reference axis L1. Hereinafter, in the expansion / contraction direction 19, the direction in which the substrate support 31 approaches the hand base end 30 is referred to as one expansion / contraction direction 19A, and the direction in which the substrate support 31 moves away from the hand substrate 30 is referred to as the other expansion direction 19B.

基板支持部31は、ハンド基端部30に支持される基部35と、基部35に連結されて水平に延びるブレード36とを有する。ブレード36は、基部35から伸張方向他方19Bに進むにつれて2つに分岐する略V字板状に形成されて、2つの先端部が形成される。ブレード36は、移動軸線L2に関して対称に形成される。   The substrate support portion 31 includes a base portion 35 supported by the hand base end portion 30 and a blade 36 connected to the base portion 35 and extending horizontally. The blade 36 is formed in a substantially V-shaped plate that branches into two as it advances from the base portion 35 to the other extension direction 19B, thereby forming two tip portions. The blade 36 is formed symmetrically with respect to the movement axis L2.

ブレード36は、ハンド基端部30に対して予め定める間隔をあけて上方に配置される。これによって基板支持部31が伸縮方向19に変位したとしても、ブレード36に支持したウェハ21が、ハンド基端部30に接触することが防がれる。本実施の形態では、ロボットハンド20は、エッジクリップ型に形成される。この場合、ブレード36は、ウェハ21を乗載するための複数の乗載部37を有する。乗載部37は、残余のブレード部分に比べて、上方に突出する。そして各乗載部37の乗載面にウェハ21の下面の一部が乗載されることによって、ウェハ21が基板支持部31に支持される。   The blade 36 is disposed above the hand base end portion 30 with a predetermined interval. This prevents the wafer 21 supported by the blade 36 from coming into contact with the hand base end 30 even if the substrate support 31 is displaced in the expansion / contraction direction 19. In the present embodiment, the robot hand 20 is formed in an edge clip type. In this case, the blade 36 has a plurality of mounting portions 37 for mounting the wafer 21 thereon. The mounting portion 37 protrudes upward compared to the remaining blade portion. Then, a part of the lower surface of the wafer 21 is mounted on the mounting surface of each mounting unit 37, so that the wafer 21 is supported by the substrate support unit 31.

乗載部37は、ウェハ21の周縁部のうちそれぞれ異なる3箇所以上、本実施の形態では4箇所に接触して、ウェハ21を下方から支持する。なお、隣接する乗載部37の周方向間隔は、ウェハ21が支持された場合のウェハ中心に対して180度以下に配置される。具体的には、ブレード36の2つの先端部に第1乗載部37Aおよび第2乗載部37Bがそれぞれ形成される。またブレードの基部35には、第3乗載部37Cおよび第4乗載部37Dがそれぞれ形成される。   The mounting portion 37 supports the wafer 21 from below by coming into contact with three or more different peripheral portions of the wafer 21, or four locations in the present embodiment. In addition, the circumferential direction space | interval of the adjacent mounting part 37 is arrange | positioned at 180 degrees or less with respect to the wafer center when the wafer 21 is supported. Specifically, the first mounting portion 37A and the second mounting portion 37B are formed at the two tip portions of the blade 36, respectively. The base portion 35 of the blade is formed with a third mounting portion 37C and a fourth mounting portion 37D, respectively.

第1乗載部37Aおよび第2乗載部37Bの乗載面は、伸縮方向一方19Aに向かうにつれて、下方に傾斜する。また第3乗載部37Cおよび第4乗載部37Dの乗載面は、伸縮方向他方19Bに向かうにつれて、下方に傾斜する。また第1乗載部37Aおよび第2乗載部37Bには、乗載面の伸縮方向他方19B側にウェハ21の周面に当接する当接部67が形成される。当接部67は、乗載面から上方に突出する。ウェハ21は、その周面が第1および第2乗載部37A,37Bの当接部67に当接することによって、ブレード36に対して位置合わせされた状態となる。   The mounting surfaces of the first mounting portion 37A and the second mounting portion 37B are inclined downwardly toward the one extending direction 19A. In addition, the mounting surfaces of the third mounting portion 37C and the fourth mounting portion 37D are inclined downwardly toward the other extension direction 19B. In addition, in the first mounting portion 37A and the second mounting portion 37B, an abutting portion 67 that abuts on the peripheral surface of the wafer 21 is formed on the other extending side 19B side of the mounting surface. The contact portion 67 protrudes upward from the mounting surface. The wafer 21 is in a state of being aligned with the blade 36 when the peripheral surface thereof abuts against the abutment portions 67 of the first and second mounting portions 37A and 37B.

ハンド駆動手段32は、ハンド基端部30に設けられ、基板支持部31をハンド基端部30に対して変位駆動する。具体的には、ハンド駆動手段32は、ハンド基端部30に対して伸縮方向19に変位自在に設けられる可動部34と、可動部34を伸縮方向19に変位駆動する駆動部38とを含んで構成される。可動部34は、基部31に形成される連結部41によって基板支持部31に固定される。これによって駆動部38が可動部34を伸縮方向一方19Aに変位駆動することで、基板支持部31が可動部34とともに伸縮方向一方19Aに移動する。また駆動部38が可動部34を伸縮方向他方19Bに変位駆動することで、基板支持部31が可動部とともに伸縮方向他方19Bに変位駆動する。   The hand driving means 32 is provided at the hand base end 30 and drives the substrate support 31 to be displaced relative to the hand base end 30. Specifically, the hand drive means 32 includes a movable part 34 provided to be displaceable in the extension / contraction direction 19 with respect to the hand base end part 30, and a drive part 38 for driving the movable part 34 to be displaced in the extension / contraction direction 19. Consists of. The movable portion 34 is fixed to the substrate support portion 31 by a connecting portion 41 formed on the base portion 31. As a result, the drive unit 38 drives the movable unit 34 to be displaced in the expansion / contraction direction 19 </ b> A, whereby the substrate support unit 31 moves in the expansion / contraction direction 19 </ b> A together with the movable unit 34. Further, the drive unit 38 drives the movable unit 34 to be displaced in the other direction 19B, so that the substrate support unit 31 is driven to move in the other direction 19B along with the movable unit.

本実施の形態では、ハンド駆動手段32の駆動部38は、複動型ロッドレスエアシリンダを含んで実現され、エア供給源からエアが供給されることによって、伸縮方向一方19Aおよび他方19Bに可動部34を変位駆動する。またハンド基端部30には、基板支持部31の基部35を伸縮方向19に案内する2つのレール33が設けられ、レール33は、伸縮方向19に平行に延びる。基板支持部31の基部35は、レール33に嵌合する嵌合部分40を有することで、伸縮方向19以外にずれることが防がれる。   In the present embodiment, the drive unit 38 of the hand drive means 32 is realized including a double-acting rodless air cylinder, and is movable in one of the expansion / contraction directions 19A and 19B by supplying air from an air supply source. The part 34 is driven to be displaced. Further, the hand base end portion 30 is provided with two rails 33 for guiding the base portion 35 of the substrate support portion 31 in the expansion / contraction direction 19, and the rail 33 extends in parallel with the expansion / contraction direction 19. Since the base portion 35 of the substrate support portion 31 has the fitting portion 40 that fits to the rail 33, it is possible to prevent the base portion 35 from being displaced in directions other than the expansion / contraction direction 19.

図4は、基板支持部31が伸縮方向一方19Aに移動した状態を示す正面図であり、図5は、図4の矢符A5−A5からロボットハンド20を見て示す断面図である。ハンド駆動手段32によって基板支持部31を伸縮方向一方19Aに移動させた場合には、ハンド基端部30と基板支持部31とを合わせた伸縮方向19のロボットハンド全長寸法B2が、移動前のロボットハンド全長寸法B1に比べて小さくなる。   FIG. 4 is a front view showing a state in which the substrate support portion 31 has moved in one of the expansion / contraction directions 19A, and FIG. 5 is a sectional view showing the robot hand 20 as viewed from the arrows A5-A5 in FIG. When the substrate driving unit 31 is moved in the expansion / contraction direction one side 19A by the hand driving means 32, the total length B2 of the robot hand in the expansion / contraction direction 19 including the hand base end 30 and the substrate support unit 31 is This is smaller than the overall length B1 of the robot hand.

言い換えると、基板支持部31を伸縮方向他方19Bに移動させた状態を伸張状態とし、基板支持部31を伸縮方向一方19Aに移動させた状態を縮退状態とすると、縮退状態の全長寸法B2よりも、伸張状態の全長寸法B1を長くすることができる。たとえば本実施の形態では、縮退状態の全長寸法B1に比べて、伸張状態の全長寸法を約100mm大きくすることができる。   In other words, if the state in which the substrate support 31 is moved in the other expansion / contraction direction 19B is the expansion state, and the state in which the substrate support 31 is moved in the expansion / contraction direction 19A is the contraction state, the overall length B2 in the contraction state is larger. The full length dimension B1 in the extended state can be increased. For example, in the present embodiment, the full length dimension in the extended state can be increased by about 100 mm compared to the full length dimension B1 in the contracted state.

このようにハンド駆動手段32によって基板支持部31を伸縮方向19に移動させることによって、ロボットハンド全長寸法を変化させることができる。ロボットハンド20の全長寸法を長くすることで、ロボットアームの先端部23に対して、基板支持部31をさらに遠くに移動させることができる。またロボットハンド20の全長寸法を短くすることで、ロボットハンドを小形化することができ、他の装置とロボットハンド20との干渉を防ぐことができる。なお本発明では、ハンド基端部30に対して、基板支持部30が伸縮方向19に変位可能な構成であればよく、上述した構成に限定されない。   In this way, by moving the substrate support portion 31 in the expansion / contraction direction 19 by the hand driving means 32, the overall length of the robot hand can be changed. By increasing the overall length of the robot hand 20, the substrate support 31 can be moved further away from the tip 23 of the robot arm. Further, by shortening the overall length of the robot hand 20, the robot hand can be reduced in size, and interference between other devices and the robot hand 20 can be prevented. In the present invention, the substrate support portion 30 may be configured to be displaceable in the expansion / contraction direction 19 with respect to the hand base end portion 30, and is not limited to the configuration described above.

図6は、固定手段27を説明するためにロボットハンド20の一部を拡大して示す断面図である。本実施の形態では、ロボットハンド20は、基板支持部31に支持されるウェハ21を基板支持部31に対して固定する固定手段27をさらに含む。図6(1)は、伸張状態のロボットハンド20の一部を示し、図6(2)は、縮退状態のロボットハンド20の一部を示す。   FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of a part of the robot hand 20 for explaining the fixing means 27. In the present embodiment, the robot hand 20 further includes a fixing unit 27 that fixes the wafer 21 supported by the substrate support unit 31 to the substrate support unit 31. 6A shows a part of the robot hand 20 in the extended state, and FIG. 6B shows a part of the robot hand 20 in the degenerated state.

固定手段27は、基板支持部31が予め定める設定位置から伸縮方向一方19Aに移動すると、その移動動作に連動して、基板支持部31によって支持されるウェハ21の変位を阻止する固定状態となる。また固定手段27は、基板支持部31が設定位置から伸縮方向他方19Bに移動すると、その移動動作に連動して、開放状態となる。開放状態となると、基板支持部31がウェハ21を支持していない状態で、基板支持部31によるウェハ21の支持が可能な状態となる。また開放状態となると、基板支持部31がウェハ21を支持した状態で、支持したウェハ21の移載が可能な状態となる。本実施の形態では、設定位置は、基板支持部31が伸縮方向他方19Bに最も移動した最大伸張位置の近傍に設定され、たとえば最大伸張位置から数ミリ手前の位置に設定される。   When the substrate support unit 31 moves from the predetermined set position in the expansion / contraction direction 19A, the fixing unit 27 enters a fixed state that prevents the displacement of the wafer 21 supported by the substrate support unit 31 in conjunction with the movement operation. . Further, when the substrate support portion 31 moves from the set position to the other direction 19B, the fixing means 27 is opened in conjunction with the moving operation. In the open state, the substrate 21 can be supported by the substrate support 31 while the substrate support 31 does not support the wafer 21. In the open state, the supported wafer 21 can be transferred while the substrate support 31 supports the wafer 21. In the present embodiment, the setting position is set in the vicinity of the maximum extension position where the substrate support 31 has moved most in the other direction 19B, for example, a position several millimeters before the maximum extension position.

本実施の形態では、固定手段27は、各乗載部37に乗載されたウェハ21の周面に当接し、ウェハ21を伸縮方向他方19Bに変位させる当接部60と、当接部60を支持する支持部61と、基板支持部31の基部35に固定されて支持部61を案内する案内部62と、ハンド基端部30に固定される突起部63と、ばね力発生部である圧縮コイルばね64とを含んで構成される。   In the present embodiment, the fixing means 27 is in contact with the peripheral surface of the wafer 21 mounted on each mounting portion 37 and displaces the wafer 21 in the other expansion / contraction direction 19B, and the contact portion 60. A support portion 61 that supports the support portion 61, a guide portion 62 that is fixed to the base portion 35 of the substrate support portion 31 and guides the support portion 61, a protrusion 63 that is fixed to the hand base end portion 30, and a spring force generation portion. And a compression coil spring 64.

支持部61は、基板支持部31に対して、伸縮方向19に変位自在に設けられ、案内部62によって案内される。具体的には、支持部61は、案内部62に形成されるレール65に嵌合する嵌合部分69が形成されることによって、伸縮方向19に変位自在に案内部62によって案内される。また支持部61と案内部62とは、圧縮コイルばね64によって接続される。圧縮コイルばね64は、その軸線が伸縮方向19に延びる。これによって圧縮コイルばね64は、伸縮方向19に力が与えられることで自然状態に比べて縮退する。また伸縮方向19の力が解除されることで縮退状態から自然状態に復帰する。基板支持部31とともに案内部62が伸縮方向19に移動すると、支持部61は、圧縮コイルばね64によって案内部62に接続されているので、案内部62とともに移動する。   The support portion 61 is provided so as to be displaceable in the expansion / contraction direction 19 with respect to the substrate support portion 31 and is guided by the guide portion 62. Specifically, the support portion 61 is guided by the guide portion 62 so as to be displaceable in the expansion / contraction direction 19 by forming a fitting portion 69 that fits the rail 65 formed in the guide portion 62. The support portion 61 and the guide portion 62 are connected by a compression coil spring 64. The axis of the compression coil spring 64 extends in the expansion / contraction direction 19. As a result, the compression coil spring 64 is contracted as compared with the natural state when a force is applied in the expansion / contraction direction 19. In addition, when the force in the expansion / contraction direction 19 is released, the contracted state returns to the natural state. When the guide portion 62 moves in the expansion / contraction direction 19 together with the substrate support portion 31, the support portion 61 moves together with the guide portion 62 because it is connected to the guide portion 62 by the compression coil spring 64.

支持部61は、突起部63と当接するための接触部分66が形成される。図6(1)に示すように、基板支持部31とともに移動する案内部62につられて、支持部61が伸縮方向他方19Bに移動して、基板支持部31が設定位置に達した場合には、支持部61の接触部分66は、突起部63に当接する。そして支持部61の伸縮方向他方19Bへのさらなる移動が阻止される。   The support portion 61 is formed with a contact portion 66 for coming into contact with the protruding portion 63. As shown in FIG. 6 (1), when the support unit 61 moves in the other direction 19B of the extension / contraction direction by the guide unit 62 that moves together with the substrate support unit 31, the substrate support unit 31 reaches the set position. The contact portion 66 of the support portion 61 abuts on the protruding portion 63. And the further movement to the other expansion-contraction direction 19B of the support part 61 is blocked | prevented.

基板支持部31が、設定位置を超えてさらに伸縮方向他方19Bに移動した場合には、支持部61が伸縮方向19に移動することが阻止されているので、圧縮コイルばね64が圧縮変形する。このとき支持部61は、相対的に基板支持部31に対して伸縮方向一方19Aに移動し、支持部61に支持される当接部60と、乗載部37の当接部67との間が広がる。   When the substrate support portion 31 moves beyond the set position in the other expansion / contraction direction 19B, the support portion 61 is prevented from moving in the expansion / contraction direction 19, and the compression coil spring 64 is compressed and deformed. At this time, the support portion 61 moves relative to the substrate support portion 31 in one of the extending and contracting directions 19A, and between the contact portion 60 supported by the support portion 61 and the contact portion 67 of the mounting portion 37. Spread.

支持部61に支持される当接部60と、乗載部37の当接部67との間の距離が、ウェハ21の直径よりも大きくなることで、基板支持部31がウェハ21を支持していない状態では、搬送元位置からウェハ21を乗載部37に乗載可能となる。また基板支持部31がウェハ21を支持している状態では、ウェハ21の変位が許容された状態となり、ウェハ21を搬送先位置に移載可能となる。   Since the distance between the contact portion 60 supported by the support portion 61 and the contact portion 67 of the mounting portion 37 is larger than the diameter of the wafer 21, the substrate support portion 31 supports the wafer 21. In the state where it is not, the wafer 21 can be mounted on the mounting unit 37 from the transfer source position. Further, in a state where the substrate support unit 31 supports the wafer 21, the wafer 21 is allowed to be displaced, and the wafer 21 can be transferred to the transfer destination position.

また図6(2)に示すように、乗載部37にウェハ21を乗載している状態で、基板支持部31が設定位置よりも伸縮方向一方19Aに移動した場合には、支持部61の接触部分66と突起部63との当接状態が解除されて、圧縮コイルばね64が復元する方向に変形して、支持部61が基板支持部31に対して伸縮方向他方19Bに移動する。これによって、圧縮コイルばね64の復元力によって、当接部60は、ウェハ21の外周部に当接し、乗載部37の当接部67に向かう力をウェハ21に与える。これによって固定手段27の当接部60と、乗載部37の当接部67とによって協働して、ウェハ21を挟持することができる。これによって乗載部37にウェハ21を乗載するとともに、各当接部60,67によってウェハ21を挟持することで、ウェハ21の基板支持部31に対するずれを確実に防ぐことができる。   Further, as shown in FIG. 6B, when the substrate support 31 is moved in the expansion / contraction direction 19A from the set position while the wafer 21 is mounted on the mounting portion 37, the support 61 The contact state between the contact portion 66 and the protruding portion 63 is released, and the compression coil spring 64 is deformed in the restoring direction, so that the support portion 61 moves relative to the substrate support portion 31 in the other extension direction 19B. As a result, due to the restoring force of the compression coil spring 64, the abutment portion 60 abuts on the outer peripheral portion of the wafer 21 and applies a force toward the abutment portion 67 of the mounting portion 37 to the wafer 21. As a result, the wafer 21 can be clamped in cooperation with the contact portion 60 of the fixing means 27 and the contact portion 67 of the mounting portion 37. As a result, the wafer 21 is mounted on the mounting portion 37 and the wafer 21 is sandwiched between the contact portions 60 and 67, whereby the wafer 21 can be reliably prevented from being displaced from the substrate support portion 31.

このように本実施形態によれば、固定手段27は、基板支持部31の移動に連動して、ウェハ21の固定および固定解除を行う。これによってハンド駆動手段32が、基板支持部31を変位移動させるだけで、ウェハ21の固定および固定解除を行うことができ、固定手段32を駆動する駆動手段を別途必要とすることがない。これによってロボットハンド20の小形化および軽量化を図ることができ、簡単な構成によって実現することができる。   As described above, according to the present embodiment, the fixing unit 27 fixes and releases the wafer 21 in conjunction with the movement of the substrate support unit 31. As a result, the hand drive means 32 can fix and release the wafer 21 only by displacing the substrate support portion 31, and no drive means for driving the fixing means 32 is required. As a result, the robot hand 20 can be reduced in size and weight, and can be realized with a simple configuration.

またウェハ21の固定および固定解除と、基板支持部31の移動とを同時に行うことができ、サイクルタイムを短縮することができる。また基板支持部31を設定位置よりもハンド基端部31寄りに移動させた状態で、ロボットアームの先端部23が移動する場合には、基板支持部31に支持されるウェハ21が固定手段32によって固定された状態であり、高速で移動させてもウェハ21が基板支持部31の所定位置からずれることを防ぐことができる。また圧縮コイルばね64による復元力を利用してウェハ21を挟持することで、予め定める力で挟持する挟持状態を容易に保つことができる。また固定手段37の当接部60がウェハ21に当接したときの衝撃力を抑えることができる。   In addition, the wafer 21 can be fixed and released and the substrate support 31 can be moved simultaneously, and the cycle time can be shortened. Further, when the distal end portion 23 of the robot arm moves in a state where the substrate support portion 31 is moved closer to the hand base end portion 31 than the set position, the wafer 21 supported by the substrate support portion 31 is fixed by the fixing means 32. The wafer 21 can be prevented from being displaced from a predetermined position of the substrate support 31 even if it is moved at a high speed. Further, by holding the wafer 21 using the restoring force of the compression coil spring 64, it is possible to easily maintain the holding state in which the wafer 21 is held with a predetermined force. Further, the impact force when the abutting portion 60 of the fixing means 37 abuts on the wafer 21 can be suppressed.

また本実施の形態では、設定位置が最大伸張位置近傍に設定されることによって、基板支持部31が最大伸張位置に位置したときには、必ず固定手段27を開放状態にすることができる。これによってエアシリンダをハンド駆動手段32として用いても、確実にウェハ21の固定解除を行うことができる。また固定手段27が開放状態となる基板支持部31の領域を小さくすることができ、ウェハ21の変位が許容された状態で、ウェハ21が移動する移動量を小さくすることができる。   In the present embodiment, the setting position is set in the vicinity of the maximum extension position, so that the fixing means 27 can be always opened when the substrate support portion 31 is located at the maximum extension position. As a result, even if an air cylinder is used as the hand drive means 32, the wafer 21 can be reliably released from fixation. In addition, the area of the substrate support 31 where the fixing means 27 is open can be reduced, and the amount of movement of the wafer 21 can be reduced while the displacement of the wafer 21 is allowed.

また本実施の形態では、ハンド駆動手段32がエアシリンダによって実現される。これによって電気モータに比べて小形にハンド駆動手段32を実現することができ、ロボットハンド全体の小形化および軽量化を図ることができる。また基板支持部31を滑らかに変位移動させることができ、基板支持部31を移動するのに発生する衝撃および振動を抑えることができる。さらにハンド駆動手段32がロッドレスシリンダによって実現されることで、シリンダロッドが突出することがない。またハンド駆動手段32がハンド基端部30に設けられることによって、既存のロボットハンドから本実施の形態のロボットハンド20に付け替えるだけでよい。したがって、ロボットアームの構成を変更する必要がなく、既存のロボット本体22に本実施の形態のロボットハンド20を容易に着け換えることができる。   In the present embodiment, the hand drive means 32 is realized by an air cylinder. As a result, the hand drive means 32 can be realized in a smaller size than the electric motor, and the entire robot hand can be reduced in size and weight. Moreover, the substrate support part 31 can be displaced smoothly and the impact and vibration generated when the substrate support part 31 is moved can be suppressed. Furthermore, since the hand drive means 32 is realized by a rodless cylinder, the cylinder rod does not protrude. Further, by providing the hand driving means 32 at the hand base end portion 30, it is only necessary to replace the existing robot hand with the robot hand 20 of the present embodiment. Therefore, it is not necessary to change the configuration of the robot arm, and the robot hand 20 of the present embodiment can be easily changed to the existing robot body 22.

図7は、ロボットハンド20が装着される基板搬送ロボット18を示す正面図であり、図8は、基板搬送ロボット18の電気的構成を示すブロック図である。基板搬送ロボット18のロボット本体22は、基台50と、胴部51と、ロボットアームとを含む。ロボットアームは、第1アーム52と、第2アーム53とを含んで構成される。基台50は、床面などに固定される。胴部51は、円筒状に形成され、一端部が基台50に没入し、他端部が基台51から突出する。基台50は、鉛直に延びる基台角変位軸線L3が設定される。そして胴部51を基台角変位軸線L3まわりに角変位自在でかつ、基台角変位軸線L3に沿って直線変位自在に支持する。   FIG. 7 is a front view showing the substrate transfer robot 18 to which the robot hand 20 is mounted, and FIG. 8 is a block diagram showing the electrical configuration of the substrate transfer robot 18. The robot body 22 of the substrate transfer robot 18 includes a base 50, a body 51, and a robot arm. The robot arm includes a first arm 52 and a second arm 53. The base 50 is fixed to a floor surface or the like. The body portion 51 is formed in a cylindrical shape, and one end portion thereof is immersed in the base 50 and the other end portion protrudes from the base 51. The base 50 is set with a base angular displacement axis L3 extending vertically. The body 51 is supported so as to be angularly displaceable about the base angular displacement axis L3 and linearly displaceable along the base angular displacement axis L3.

第1アーム52は、その基端部が胴部51の他端部に固定される。第1アーム52の先端部には、第2アーム53の基端部が連結される。第1アーム52は、鉛直に延びる第1アーム角変位軸線L4が設定される。第1アーム52は、第2アーム53を第1アーム角変位軸線L4まわりに角変位可能に支持する。第2アーム53の先端部には、ロボットハンド20のハンド基端部30が連結される。第2アーム53は、鉛直に延びる基準軸線L1が設定される。第2アーム53は、ロボットハンド20を基準軸線L1まわりに角変位可能に支持する。各アーム52,53およびロボットハンドは、水平方向に延びる。   The base end of the first arm 52 is fixed to the other end of the body 51. The proximal end portion of the second arm 53 is connected to the distal end portion of the first arm 52. The first arm 52 has a first arm angular displacement axis L4 extending vertically. The first arm 52 supports the second arm 53 so as to be angularly displaceable about the first arm angular displacement axis L4. The hand base end portion 30 of the robot hand 20 is connected to the distal end portion of the second arm 53. The second arm 53 is set with a reference axis L1 extending vertically. The second arm 53 supports the robot hand 20 so as to be angularly displaceable about the reference axis L1. The arms 52 and 53 and the robot hand extend in the horizontal direction.

図8に示すように、ロボット本体22は、胴部51を基台角変位軸線L3まわりに角変位駆動する第1アーム角変位駆動手段70と、胴部51を基台角変位軸線L3に沿って変位駆動する第1アーム直進駆動手段71と、第2アーム53を第1アーム角変位軸線線L4まわりに角変位駆動する第2アーム角変位駆動手段72と、装着されるロボットハンド20を基準軸線L1まわりに角変位駆動するロボットハンド角変位駆動手段73とを含む。   As shown in FIG. 8, the robot body 22 includes first arm angular displacement driving means 70 that angularly drives the body 51 around the base angular displacement axis L3, and the body 51 along the base angular displacement axis L3. The first arm rectilinear drive means 71 that drives the displacement of the second arm, the second arm angular displacement drive means 72 that angularly drives the second arm 53 around the first arm angular displacement axis L4, and the robot hand 20 to be mounted as a reference. And robot hand angular displacement driving means 73 for angular displacement driving around the axis L1.

これら各駆動手段70〜73が、それぞれ個別に動作することによって、ロボットハンド20を任意の位置および姿勢に移動させることができる。各駆動手段70〜73は、ロボットコントローラ17によって制御される。ロボットコントローラ17は、各駆動手段70〜73に動力を与えることによって、ロボットハンド20を目的とする移動経路および移動速度で移動させることができる。またロボットコントローラ17は、ロボットハンド20のハンド駆動手段32も制御する。これによってロボットハンド20の移動と、ロボットハンドの伸縮変化と、ウェハ21の固定および固定解除とのタイミングを合わせることができる。   These driving units 70 to 73 can individually move the robot hand 20 to an arbitrary position and posture. Each driving means 70 to 73 is controlled by the robot controller 17. The robot controller 17 can move the robot hand 20 with a target movement path and movement speed by applying power to the driving units 70 to 73. The robot controller 17 also controls hand drive means 32 of the robot hand 20. This makes it possible to synchronize the movement of the robot hand 20, the expansion / contraction change of the robot hand, and the fixing and releasing of the wafer 21.

このような基板搬送ロボット18は、クリーンルーム内などの狭い空間内に設置される。基板搬送ロボット18は、ポッドに収容される複数のウェハ21を順番に取り出し、基板処理位置にウェハ21を搬送する。また一方の基板処理位置から他方の基板処理位置にウェハ21を搬送する。また基板処理位置で処理されたウェハ21をポッドに収容し直す。   Such a substrate transfer robot 18 is installed in a narrow space such as a clean room. The substrate transfer robot 18 sequentially takes out the plurality of wafers 21 accommodated in the pod and transfers the wafers 21 to the substrate processing position. Further, the wafer 21 is transferred from one substrate processing position to the other substrate processing position. Further, the wafer 21 processed at the substrate processing position is accommodated in the pod again.

図9は、基板搬送ロボット18のウェハ21の最大搬送位置を説明するための正面図である。図9(1)は、第1比較例の基板搬送ロボット16を示し、図9(2)は、本実施の形態の基板搬送ロボット18を示し、図9(3)は、第2比較例の基板搬送ロボット15を示す。第1および第2比較例の基板搬送ロボット16,15は、装着されるロボットハンドの構成が異なる。第1および第2の比較例のロボットハンド14,13は、伸縮可能には構成されていない。水平型多関節ロボットでは、一直線に並ぶように各アーム52,53およびロボットハンド20を角変位した状態で、基台角変位軸線L3から最も遠くにウェハ21を搬送することができる。   FIG. 9 is a front view for explaining the maximum transfer position of the wafer 21 of the substrate transfer robot 18. 9 (1) shows the substrate transfer robot 16 of the first comparative example, FIG. 9 (2) shows the substrate transfer robot 18 of the present embodiment, and FIG. 9 (3) shows the second comparative example. The substrate transfer robot 15 is shown. The substrate transfer robots 16 and 15 of the first and second comparative examples differ in the configuration of the robot hand to be mounted. The robot hands 14 and 13 of the first and second comparative examples are not configured to be extendable and contractible. In the horizontal articulated robot, the wafer 21 can be transferred farthest from the base angular displacement axis L3 in a state where the arms 52 and 53 and the robot hand 20 are angularly displaced so as to be aligned.

第1比較例のロボットハンド14のうち、基準軸線L1から先端部までの寸法C1は、本実施の形態のロボットハンド20が最も伸張した状態における寸法C2よりも小さい。また第2比較例のロボットハンド13の寸法C3は、本実施の形態のロボットハンド20が最も伸張した状態における寸法C2と等しい。   Of the robot hand 14 of the first comparative example, the dimension C1 from the reference axis L1 to the tip is smaller than the dimension C2 when the robot hand 20 of the present embodiment is most extended. The dimension C3 of the robot hand 13 of the second comparative example is equal to the dimension C2 in the state in which the robot hand 20 of the present embodiment is most extended.

このような場合、ロボットアームの可動領域C4は同じであるので、ロボットハンドの寸法が短い第1の比較例の基板搬送ロボット16は、ウェハ21の搬送可能な距離が短くなってしまう。これに対して本実施の形態の基板搬送ロボット18および第2比較例の基板搬送ロボット15は、第1の比較例の基板搬送ロボット16よりも、ロボットハンドの寸法が大きい分、ウェハ21の搬送可能な距離が長い場合であっても、ウェハ21を搬送することができる。   In such a case, since the movable area C4 of the robot arm is the same, the distance that the substrate 21 can be transferred by the substrate transfer robot 16 of the first comparative example having a short robot hand dimension is shortened. On the other hand, the substrate transfer robot 18 of the present embodiment and the substrate transfer robot 15 of the second comparative example transfer the wafer 21 because the size of the robot hand is larger than that of the substrate transfer robot 16 of the first comparative example. Even when the possible distance is long, the wafer 21 can be transferred.

図10は、基板搬送ロボットの最小回転半径を説明するための正面図である。図10(1)は、上述した第1比較例の基板搬送ロボット16を示し、図10(2)は、本実施の形態の基板搬送ロボット18を示し、図10(3)は、上述した第2比較例の基板搬送ロボット15を示す。基板搬送ロボットの最小回転半径は、基台角変位軸線L3まわりに胴部51を回転させた場合における基板搬送ロボットの最小可動領域を意味し、最小可動領域の外縁から基台角変位軸線L3までの距離である。本実施の形態のロボットハンド20が最も縮退した状態における寸法C5は、第1実施例のロボットハンド14の寸法C1と等しい。   FIG. 10 is a front view for explaining the minimum rotation radius of the substrate transfer robot. 10 (1) shows the substrate transfer robot 16 of the first comparative example described above, FIG. 10 (2) shows the substrate transfer robot 18 of the present embodiment, and FIG. 10 (3) shows the first transfer robot described above. 2 shows a substrate transfer robot 15 of a comparative example. The minimum rotation radius of the substrate transfer robot means the minimum movable region of the substrate transfer robot when the body 51 is rotated around the base angular displacement axis L3, from the outer edge of the minimum movable region to the base angular displacement axis L3. Is the distance. The dimension C5 in the state where the robot hand 20 of the present embodiment is most degenerated is equal to the dimension C1 of the robot hand 14 of the first example.

本実施の形態では、基板搬送ロボットの最小回転半径が、ロボットハンドの全長寸法に依存する。したがってロボットハンド20を縮退させることによって、その全長寸法を小さくすることができ、第2比較例よりも最小回転半径を小さくすることができる。これによって狭隘な空間にロボットが配置される場合であっても、ロボットの向きを変えることができる。   In the present embodiment, the minimum turning radius of the substrate transfer robot depends on the overall length of the robot hand. Therefore, by retracting the robot hand 20, the overall length can be reduced, and the minimum turning radius can be reduced as compared with the second comparative example. Thereby, even when the robot is arranged in a narrow space, the direction of the robot can be changed.

ここで、ロボットの最小回転半径がロボットハンドの寸法に依存する場合とは、第1アーム52の先端部から基台角変位軸線L3までの寸法C6が、ロボットハンド20の寸法C5の半分よりも小さく、かつ第2アーム53の先端部から基端部までの寸法C7がロボットハンドの全長寸法C5よりも小さい場合である。アームが2つ以上設けられる場合であれば、第2〜第nアームの先端部から基端部までの寸法C7がロボットハンドの寸法C5よりも小さい場合である。   Here, when the minimum turning radius of the robot depends on the dimensions of the robot hand, the dimension C6 from the tip of the first arm 52 to the base angular displacement axis L3 is more than half of the dimension C5 of the robot hand 20. This is a case where the dimension C7 from the distal end portion to the proximal end portion of the second arm 53 is smaller than the overall length C5 of the robot hand. In the case where two or more arms are provided, the dimension C7 from the distal end portion to the proximal end portion of the second to nth arms is smaller than the dimension C5 of the robot hand.

以上のように、本実施形態の基板搬送ロボット18は、上述したロボットハンド20が装着される。そして図9に示すように、ロボットハンド20を伸張させることで、ウェハ21の搬送可能な距離を長くすることができる。また図10に示すように、ロボットハンド20を縮退させるとともに各アーム52,53を角変位することによって最小回転半径を小さくすることができ、他の装置との干渉を防ぐことができる。また最小回転半径となるように各アーム52,53を角変位させた状態でなくとも、ロボットハンド20を縮退させてロボットハンド20を小形化することで、図10(2)に示す第2比較例のロボット15に比べて、干渉の可能性を少なくすることができる。   As described above, the robot hand 20 described above is attached to the substrate transfer robot 18 of the present embodiment. As shown in FIG. 9, the distance that the wafer 21 can be transferred can be increased by extending the robot hand 20. Also, as shown in FIG. 10, the robot hand 20 is retracted and the arms 52 and 53 are angularly displaced, whereby the minimum turning radius can be reduced and interference with other devices can be prevented. Further, even if the arms 52 and 53 are not angularly displaced so as to have the minimum turning radius, the robot hand 20 is contracted by reducing the size of the robot hand 20 so that the second comparison shown in FIG. Compared to the robot 15 of the example, the possibility of interference can be reduced.

図11は、ウェハ21を搬送元位置から搬送先位置に移動させる場合のロボットコントローラ17の制御手順を示すフローチャートである。ウェハ21が搬送元位置に配置されるとともに、搬送先位置のウェハ処理準備が完了した状態で、作業者または他の装置からウェハ搬送指令が与えられると、ステップs1に進み、コントローラ17は、制御動作を開始する。   FIG. 11 is a flowchart showing a control procedure of the robot controller 17 when the wafer 21 is moved from the transfer source position to the transfer destination position. When the wafer 21 is placed at the transfer source position and the wafer processing instruction at the transfer destination position is completed and a wafer transfer command is given from an operator or another apparatus, the process proceeds to step s1, and the controller 17 performs control. Start operation.

ステップs1では、第1アーム角変位駆動手段70、第1アーム直進駆動手段71、第2アーム角変位駆動手段72、ロボットハンド角変位駆動手段73などのロボット本体22の駆動手段70〜73を動作させて、ロボットハンド19を搬送元位置近傍に配置し、ステップs2に進む。   In step s1, the driving means 70 to 73 of the robot main body 22 such as the first arm angular displacement driving means 70, the first arm rectilinear driving means 71, the second arm angular displacement driving means 72, and the robot hand angular displacement driving means 73 are operated. Then, the robot hand 19 is arranged in the vicinity of the transfer source position, and the process proceeds to step s2.

ステップs2では、ハンド駆動手段32を動作させて、ロボットハンド20を伸張状態とするとともにウェハ21を支持可能な開放状態とし、ステップs3に進む。ステップs3では、ロボット本体22の駆動手段70〜73を動作させて、ウェハ21の下方からブレード36を近づけて、ウェハ収容装置からブレード36の乗載部37にウェハ21を移載して、ウェハ21を支持させて、ステップs4に進む。   In step s2, the hand driving means 32 is operated to bring the robot hand 20 into the extended state and open the wafer 21 so that it can be supported. Then, the process proceeds to step s3. In step s3, the driving means 70 to 73 of the robot main body 22 are operated to bring the blade 36 closer from below the wafer 21, and the wafer 21 is transferred from the wafer accommodating device to the mounting portion 37 of the blade 36, and the wafer is moved. 21 is supported, and the process proceeds to step s4.

ステップs4では、ハンド駆動手段32を動作させて、ロボットハンド20を縮退状態とするとともに支持したウェハ21の変位を阻止した状態とし、ステップs5に進む。ステップs5では、各駆動手段70〜73を動作させて、図10に示す最小回転半径で基板搬送ロボット18が回転可能な状態となるように、各アーム52,53およびロボットハンド20を角変位させる。そして最小回転半径でロボットが回転可能な状態となると、ステップs6に進む。ステップs6では、胴部51を胴部回転軸線L3まわりに回転させ、ロボットが搬送先位置に向くようにし、ステップs7に進む。   In step s4, the hand driving means 32 is operated to bring the robot hand 20 into a retracted state and prevent the supported wafer 21 from being displaced, and the process proceeds to step s5. In step s5, the driving means 70 to 73 are operated to angularly displace the arms 52 and 53 and the robot hand 20 so that the substrate transport robot 18 can rotate with the minimum rotation radius shown in FIG. . When the robot can rotate with the minimum turning radius, the process proceeds to step s6. In step s6, the body 51 is rotated around the body rotation axis L3 so that the robot faces the transfer destination position, and the process proceeds to step s7.

ステップs7では、ロボット本体22の駆動手段70〜73を動作させて、ロボットハンド20を搬送先位置近傍に配置し、ステップs8に進む。ステップs8では、ハンド駆動手段32を動作させて、ロボットハンド20を伸張状態とするとともにウェハ21を支持解除可能な開放状態とし、ステップs9に進む。ステップs9では、ロボット本体22の駆動手段70〜73を動作させて、ウェハ21の搬送先位置に対して上方からブレード36を近づけて、ブレード36の乗載部37から搬送先位置にウェハ21を移載させ、ウェハ21の搬送動作を終了する。   In step s7, the driving means 70 to 73 of the robot main body 22 are operated to place the robot hand 20 near the transfer destination position, and the process proceeds to step s8. In step s8, the hand driving means 32 is operated to bring the robot hand 20 into an extended state and open the wafer 21 so that the support can be released, and the process proceeds to step s9. In step s9, the driving means 70 to 73 of the robot body 22 are operated to bring the blade 36 closer to the transfer destination position of the wafer 21 from above, and the wafer 21 is moved from the mounting portion 37 of the blade 36 to the transfer destination position. Then, the transfer operation of the wafer 21 is completed.

このようにロボットコントローラ17によって基板搬送ロボット18は、ロボットハンド20を伸張させた状態で、ウェハ21の支持と支持解除を行い、回転最小半径となるように各アーム52,53およびロボットハンド20を角変位させた状態で、搬送元位置から搬送先位置へロボットの向きを変える。これによって図9(1)に示す比較例1のロボットよりも遠くに基板支持部31を移動させることができ、図10(2)に示す比較例2のロボットよりも他の装置との干渉のおそれを防ぐことができる。このように本実施形態によれば、他の装置と干渉することを防いでかつ、大きい可動領域を得ることができる。なお、図11に示す制御手順は、ロボット動作の一例であって、干渉のおそれが低い場合などには、回転最小半径となる状態にアーム52,53およびロボットハンド20を角変位させずに、ロボットの向きを換えてもよい。またウェハ21支持および支持解除の詳細についても、適宜変更可能である。   In this way, the substrate transfer robot 18 supports and releases the support of the wafer 21 with the robot hand 20 extended by the robot controller 17, and moves the arms 52 and 53 and the robot hand 20 to the minimum rotation radius. With the angular displacement, the direction of the robot is changed from the transfer source position to the transfer destination position. As a result, the substrate support 31 can be moved farther than the robot of the comparative example 1 shown in FIG. 9 (1), and the interference with other devices can be reduced compared to the robot of the comparative example 2 shown in FIG. 10 (2). Fear can be prevented. Thus, according to the present embodiment, it is possible to prevent interference with other devices and to obtain a large movable region. The control procedure shown in FIG. 11 is an example of the robot operation, and when there is a low possibility of interference, the arms 52 and 53 and the robot hand 20 are not angularly displaced in a state where the minimum rotation radius is reached. The orientation of the robot may be changed. Further, details of supporting and releasing the support of the wafer 21 can be changed as appropriate.

本実施の形態の基板搬送ロボット18は、ロボット本体22については既存のロボット本体を用いることができるので、ロボットハンドを着け換えるだけで安価に基板搬送可能領域を広くすることができる。たとえば基板処理設備において、ウェハ21の搬送距離が変更されたとしても、可動領域の大きい別の多関節ロボットに交換する必要がなく、交換費用および交換準備時間を短縮することができる。また本実施のロボットハンドに着け換えたとしても、干渉する可能性が大きくなることがない。   Since the substrate transport robot 18 of the present embodiment can use an existing robot body as the robot body 22, the substrate transportable area can be widened at low cost simply by changing the robot hand. For example, in the substrate processing facility, even if the transfer distance of the wafer 21 is changed, it is not necessary to replace it with another articulated robot having a large movable region, and the replacement cost and replacement preparation time can be shortened. Even if the robot hand is changed to the present embodiment, the possibility of interference does not increase.

また図7に示すように、基板搬送ロボットにおけるロボット本体22が多関節ロボットによって実現されることで、ロボットハンド20の姿勢を任意の姿勢にすることができ、基板搬送動作を柔軟に行うことができる。これによって搬送元位置と搬送先位置とが複数ある場合、障害物を避けて基板搬送動作を行わなければならない場合などでも、基板搬送を行うことができる。   Further, as shown in FIG. 7, the robot body 22 in the substrate transfer robot is realized by an articulated robot, whereby the posture of the robot hand 20 can be set to an arbitrary posture, and the substrate transfer operation can be performed flexibly. it can. Accordingly, when there are a plurality of transfer source positions and transfer destination positions, the substrate transfer can be performed even when the substrate transfer operation must be performed while avoiding obstacles.

図12は、本発明の第2実施形態であるロボットハンド320の一部を示す断面図であり、図13は、ロボットハンド320の一部を切断して示す平面図である。第2実施形態のロボットハンド220は、第1実施形態のロボットハンド20と類似した構成を示し、対応する構成については、第1実施形態のロボットハンド20の参照符号に300を付した参照符号を付する。   FIG. 12 is a cross-sectional view showing a part of the robot hand 320 according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 13 is a plan view showing a part of the robot hand 320 by cutting. The robot hand 220 of the second embodiment has a configuration similar to that of the robot hand 20 of the first embodiment, and for the corresponding configuration, the reference symbol of 300 added to the reference symbol of the robot hand 20 of the first embodiment. Attached.

第2実施形態であるロボットハンド320は、第1実施形態に比べてハンド駆動手段332の構成が異なる以外は、第1実施形態と同様である。したがってハンド駆動手段332の構成を説明し、残余の構成については説明を省略する。   The robot hand 320 according to the second embodiment is the same as the first embodiment except that the configuration of the hand driving means 332 is different from that of the first embodiment. Therefore, the configuration of the hand driving unit 332 will be described, and the description of the remaining configuration will be omitted.

ハンド駆動手段332は、ハンド基端部330に対して、伸縮方向19に変位自在に設けられる可動部334と、可動部334を伸縮方向19に変位駆動する駆動部338とを含んで構成される。可動部338は、連結部341によって基板支持部331の基部335に固定される。これによって駆動部338が可動部334を伸縮方向19に変位駆動することで、基板支持部331が可動部334とともに伸縮方向19に移動する。   The hand driving means 332 includes a movable part 334 that is displaceable in the expansion / contraction direction 19 with respect to the hand base end part 330, and a drive part 338 that drives the movable part 334 to move in the expansion / contraction direction 19. . The movable part 338 is fixed to the base part 335 of the substrate support part 331 by the connecting part 341. As a result, the drive unit 338 drives the movable unit 334 to move in the expansion / contraction direction 19, so that the substrate support unit 331 moves in the expansion / contraction direction 19 together with the movable unit 334.

駆動部338は、空気圧駆動式のロータリーアクチュエータ400と、無端帯状のベルト402と、ベルト402が巻回される複数のプーリ401a〜401cとを含んで実現される。ロータリーアクチュエータ400は、エア供給源からエアが供給されることによって、出力軸403を回転駆動する。複数のプーリ401a〜401cは、回転可能にハンド基端部330に支持される。複数のプーリ401a〜401cのうち1つは、ロータリーアクチュエータ400の出力軸403に連結される駆動プーリ401aとなる。駆動プーリ401aは、ロータリーアクチュエータ400の出力軸403を介して動力が与えられることによって回転する。   The drive unit 338 is realized by including a pneumatically driven rotary actuator 400, an endless belt 402, and a plurality of pulleys 401a to 401c around which the belt 402 is wound. The rotary actuator 400 rotates the output shaft 403 when air is supplied from an air supply source. The plurality of pulleys 401 a to 401 c are rotatably supported by the hand base end portion 330. One of the plurality of pulleys 401 a to 401 c is a drive pulley 401 a that is connected to the output shaft 403 of the rotary actuator 400. The drive pulley 401 a rotates when power is applied via the output shaft 403 of the rotary actuator 400.

ベルト402は、その内周面に各プーリ401a〜401cが当接し、各プーリ401a〜401cによって張られる。これによって駆動プーリ401aが回転すると、プーリ401とベルト402との間の摩擦によって、ベルトが駆動プーリ401aの回転方向に移動する。複数のプーリ401a〜401cのうち2つの従動プーリ401b,401cは、伸縮方向19に並んで配置される。これによってベルト402のうちで、2つの従動プーリ401b,401cによって張られるベルト部分404は、伸縮方向19に延びる。このベルト部分404に可動部334が連結される。   Each pulley 401a-401c contacts the inner peripheral surface of the belt 402, and is tensioned by each pulley 401a-401c. As a result, when the driving pulley 401a rotates, the belt moves in the rotational direction of the driving pulley 401a due to friction between the pulley 401 and the belt 402. Two driven pulleys 401 b and 401 c among the plurality of pulleys 401 a to 401 c are arranged side by side in the expansion / contraction direction 19. As a result, in the belt 402, the belt portion 404 stretched by the two driven pulleys 401 b and 401 c extends in the expansion / contraction direction 19. A movable portion 334 is connected to the belt portion 404.

ロータリーアクチュエータ400によって駆動プーリ401aが回転すると、駆動プーリ401aとともにベルト402が移動する。この場合、従動プーリ401b,401c間のベルトは、一方のプーリから他方のプーリに向かって、伸縮方向19に移動するので、ベルトに固定される可動部334もまた伸縮方向19に移動する。またハンド基端部330には、基板支持部331の基部335を伸縮方向19に案内する2つのレール333が設けられ、レール333は、伸縮方向19に平行に延びる。基板支持部31の基部35は、レール333に嵌合する嵌合部分40を有することで、伸縮方向19以外にずれることが防がれる。   When the driving pulley 401a is rotated by the rotary actuator 400, the belt 402 moves together with the driving pulley 401a. In this case, since the belt between the driven pulleys 401b and 401c moves in the expansion / contraction direction 19 from one pulley to the other pulley, the movable portion 334 fixed to the belt also moves in the expansion / contraction direction 19. The hand base end portion 330 is provided with two rails 333 for guiding the base portion 335 of the substrate support portion 331 in the expansion / contraction direction 19, and the rail 333 extends in parallel with the expansion / contraction direction 19. Since the base portion 35 of the substrate support portion 31 has the fitting portion 40 that fits to the rail 333, the base portion 35 can be prevented from being displaced in directions other than the expansion / contraction direction 19.

このようにエア駆動式のロータリーアクチュエータ400を用いた場合であっても、第1実施形態と同様の効果を達成することができる。またロータリーアクチュエータ400を用いることで、第1実施形態に比べて、シリンダおよびシリンダロッドを必要とせず、ハンド基端部330の構成を小形化することができる。また2つの従動プーリ401b,401cの間に駆動プーリ401aを配置することによって、駆動プーリ401aおよびロータリーアクチュエータが多少大形化しても、ハンド基端部330の大形化を抑えることができる。またロータリーアクチュエータ400の回転量を調整することで、基板支持部331の伸縮方向19の移動量を調整することができるので、設計の自由度をふやすことができる。   Thus, even when the air-driven rotary actuator 400 is used, the same effect as that of the first embodiment can be achieved. Further, by using the rotary actuator 400, the configuration of the hand base end portion 330 can be reduced in size without the need for a cylinder and a cylinder rod as compared with the first embodiment. In addition, by disposing the drive pulley 401a between the two driven pulleys 401b and 401c, even if the drive pulley 401a and the rotary actuator are somewhat increased in size, the increase in size of the hand base end portion 330 can be suppressed. Further, by adjusting the amount of rotation of the rotary actuator 400, the amount of movement of the substrate support portion 331 in the expansion / contraction direction 19 can be adjusted, so that the degree of freedom in design can be increased.

図14は、本発明の第3実施形態であるロボットハンド120を示す正面図であり、図15は、図14のロボットハンド120を示す側面図である。また図16は、縮退状態のロボットハンド120を示す正面図であり、図17は、図16のロボットハンド120を示す側面図である。   FIG. 14 is a front view showing a robot hand 120 according to the third embodiment of the present invention, and FIG. 15 is a side view showing the robot hand 120 of FIG. 16 is a front view showing the robot hand 120 in a retracted state, and FIG. 17 is a side view showing the robot hand 120 in FIG.

第3実施形態のロボットハンド120は、第1実施形態のロボットハンド20と類似した構成を示し、対応する構成については、第1実施形態のロボットハンド20の参照符号に100を付した参照符号を付する。   The robot hand 120 according to the third embodiment has a configuration similar to that of the robot hand 20 according to the first embodiment, and for the corresponding configuration, the reference symbol with 100 added to the reference symbol of the robot hand 20 according to the first embodiment. Attached.

ロボットハンド120は、ハンド基端部130と、基板支持部131と、ハンド駆動手段132とを含んで構成される。ハンド基端部130は、ロボット本体22のロボットアームの先端部に装着される。ハンド基端部130は、基板支持部131を支持し、ロボットアームの先端部に設定される基準軸線L1まわりに角変位可能に形成される。   The robot hand 120 includes a hand base end portion 130, a substrate support portion 131, and hand driving means 132. The hand proximal end portion 130 is attached to the distal end portion of the robot arm of the robot body 22. The hand base end portion 130 supports the substrate support portion 131 and is formed so as to be angularly displaceable around a reference axis L1 set at the distal end portion of the robot arm.

基板支持部131は、ウェハ21を支持可能に形成され、ハンド基端部130に対して変位自在に設けられる。具体的には、基板支持部131は、ウェハ21を支持した状態で、前記伸縮方向19に変位自在に形成される。   The substrate support part 131 is formed to be able to support the wafer 21 and is provided so as to be displaceable with respect to the hand base end part 130. Specifically, the substrate support portion 131 is formed to be displaceable in the expansion / contraction direction 19 while supporting the wafer 21.

基板支持部131は、第1支持部分100と第2支持部分101と連結部分102とを有する。第1支持部分100は、ハンド基端部130の一方の側部に設けられ、第2支持部分101は、ハンド基端部130の他方の側部に設けられる。また第1支持部分100と第2支持部分101とは、連結部分102によって連結される。各支持部分100,101は、伸縮方向19に沿って延び、ハンド基端部130に対して伸縮方向19に移動可能に連結される。各支持部分100は、ハンド基端部130に設けられるレール121に嵌合する嵌合部120が形成される。嵌合部120は、レール121に嵌合した状態で、伸縮方向19に移動可能に案内される。   The substrate support part 131 includes a first support part 100, a second support part 101, and a connection part 102. The first support portion 100 is provided on one side portion of the hand base end portion 130, and the second support portion 101 is provided on the other side portion of the hand base end portion 130. The first support portion 100 and the second support portion 101 are connected by a connecting portion 102. Each support portion 100, 101 extends along the expansion / contraction direction 19 and is connected to the hand base end portion 130 so as to be movable in the expansion / contraction direction 19. Each support portion 100 is formed with a fitting portion 120 that fits into a rail 121 provided on the hand base end portion 130. The fitting portion 120 is guided so as to be movable in the expansion / contraction direction 19 while being fitted to the rail 121.

第1支持部分100には、第1乗載部37Aと第3乗載部37Cとが形成される。第2支持部分101には、第2乗載部37Bと第4乗載部37Dとが形成される。第1および第2乗載部37A,37Bは、伸縮方向他方19B側でウェハ21を支持し、第3および第4乗載部37C,37Dは、伸縮方向一方19A側でウェハ21を支持する。   The first support portion 100 is formed with a first mounting portion 37A and a third mounting portion 37C. The second support portion 101 is formed with a second mounting portion 37B and a fourth mounting portion 37D. The first and second mounting portions 37A and 37B support the wafer 21 on the other extending side 19B side, and the third and fourth mounting portions 37C and 37D support the wafer 21 on the other extending side 19A side.

ハンド駆動手段132は、サーボモータ110と、サーボモータ110の出力軸113の回転力を伸縮方向19の移動力に変換して伝達する動力伝達手段111とを含んで構成される。本実施の形態では、サーボモータ110は、ハンド基端部130に設けられる。また動力伝達手段111は、サーボモータ110の出力軸113に対して伸縮方向他方19Bに配置される従動軸114と、従動軸114および出力軸113に巻掛けられるベルト115とを含む。これによってサーボモータ110によって出力軸113を回転させることによって、ベルト115の一円周部分が伸縮方向19に移動する。   The hand driving unit 132 includes a servo motor 110 and a power transmission unit 111 that converts the rotational force of the output shaft 113 of the servo motor 110 into a moving force in the expansion / contraction direction 19 and transmits the converted force. In the present embodiment, the servo motor 110 is provided at the hand base end portion 130. The power transmission unit 111 includes a driven shaft 114 disposed in the other extension direction 19 </ b> B with respect to the output shaft 113 of the servomotor 110, and a belt 115 wound around the driven shaft 114 and the output shaft 113. As a result, the output shaft 113 is rotated by the servo motor 110, so that one circumferential portion of the belt 115 moves in the expansion / contraction direction 19.

ベルト115の一円周部分には第1支持部分101、第2支持部分、連結部分102のいずれかが連結される。本実施の形態では、第2支持部分102がベルト115の一円周部分に固定される。これによってサーボモータ110によって出力軸113を回転させることによって、ハンド基端部130に対して基板支持部131を伸縮方向19に移動させることができる。   One of the first support portion 101, the second support portion, and the connection portion 102 is connected to one circumferential portion of the belt 115. In the present embodiment, the second support portion 102 is fixed to one circumferential portion of the belt 115. Accordingly, by rotating the output shaft 113 by the servo motor 110, the substrate support part 131 can be moved in the expansion / contraction direction 19 with respect to the hand base end part 130.

基板支持部131は、ハンド基端部130に対して、図14および図15に示すように伸縮方向他方19Bに移動した伸張状態と、図16および図17に示すように伸縮方向一方19Aに移動した縮退状態とに切換可能となる。伸張状態におけるロボットハンド全長B1は、縮退状態におけるロボットハンド全長B2に比べて大きくなる。   The substrate support 131 moves relative to the hand base end portion 130 in the extended state 19B as shown in FIGS. 14 and 15 and in the extended direction 19A as shown in FIGS. It is possible to switch to the degenerated state. The robot hand full length B1 in the extended state is larger than the robot hand full length B2 in the retracted state.

図18は、固定手段127を示す図であり、図19は、固定手段127を示す断面図である。ロボットハンド120は、基板支持部131に支持されるウェハ21を基板支持部131に対して固定する固定手段127をさらに含む。固定手段127は、基板支持部131がハンド基端部30に近接する位置へ移動するに連動して、基板支持部131に支持されるウェハ21を基板支持部131に対して固定する。また固定手段127は、基板支持部131がハンド基端部130から離反する設定位置へ移動するに連動して、基板支持部131に支持されるウェハ21の基板支持部131に対する固定を解除する。   FIG. 18 is a view showing the fixing means 127, and FIG. 19 is a cross-sectional view showing the fixing means 127. The robot hand 120 further includes a fixing unit 127 that fixes the wafer 21 supported by the substrate support unit 131 to the substrate support unit 131. The fixing unit 127 fixes the wafer 21 supported by the substrate support 131 to the substrate support 131 in conjunction with the movement of the substrate support 131 to a position close to the hand base end 30. The fixing means 127 releases the fixing of the wafer 21 supported by the substrate support 131 to the substrate support 131 in conjunction with the movement of the substrate support 131 to the setting position that is separated from the hand base end portion 130.

本実施の形態では、固定手段127は、ウェハ21の周面に当接し、ウェハ21を伸縮方向他方19Bに変位させる当接部160と、当接部160を支持する支持部161と、基板支持部131の基部135に固定されて支持部161を回転可能に案内する案内部162と、ハンド基端部130に固定される突起部163と、ばね力発生手段であるねじりばね164とを含んで構成される。   In the present embodiment, the fixing means 127 contacts the peripheral surface of the wafer 21 and displaces the wafer 21 in the other expansion / contraction direction 19B, a support portion 161 that supports the contact portion 160, and a substrate support A guide portion 162 that is fixed to the base portion 135 of the portion 131 and rotatably guides the support portion 161; a protrusion portion 163 that is fixed to the hand base end portion 130; and a torsion spring 164 that is a spring force generating means. Composed.

支持部161は、基板支持部131に対して、伸縮方向19に垂直でかつ水平な角変位軸線L6まわりに角変位自在に設けられ、案内部62によって案内される。たとえば案内部62は、外輪が基板支持部131に固定され、内輪が支持部161に固定される軸受けによって実現される。また支持部161には、基板支持部131に固定されるねじりばね164が係合する。ねじりばね164は、角変位軸線L6まわりに角変位させる力に抗する復元力を、支持部161に与える。   The support portion 161 is provided so as to be angularly displaceable about an angular displacement axis L <b> 6 that is perpendicular to the stretching direction 19 and horizontal with respect to the substrate support portion 131, and is guided by the guide portion 62. For example, the guide part 62 is realized by a bearing in which an outer ring is fixed to the substrate support part 131 and an inner ring is fixed to the support part 161. Further, the torsion spring 164 fixed to the substrate support 131 is engaged with the support 161. The torsion spring 164 gives a restoring force against the force that causes the angular displacement about the angular displacement axis L6 to the support portion 161.

支持部161は、突起部163と当接するための接触部分166が形成される。基板支持部131とともに支持部161が伸縮方向他方19Bに移動して、基板支持部131が設定位置に達した場合に、接触部分166は、突起部163に当接して伸縮方向他方19Bへのさらなる移動を阻止する。これによって支持部161に支持される当接部160は、角変位軸線L6まわりに角変位し、乗載部37の当接部67よりも伸縮方向一方19Aに退避する。   The support portion 161 is formed with a contact portion 166 for coming into contact with the protruding portion 163. When the support part 161 moves to the other expansion / contraction direction 19B together with the substrate support part 131, and the substrate support part 131 reaches the set position, the contact portion 166 abuts on the projection part 163 and further moves to the other extension direction 19B. Stop movement. As a result, the contact portion 160 supported by the support portion 161 is angularly displaced about the angular displacement axis L <b> 6, and retracts in the one extension direction 19 </ b> A from the contact portion 67 of the mounting portion 37.

したがって図19(1)に示すように、基板支持部131にウェハ21を支持させる場合には、ハンド基端部130に対して、基板支持部131を設定位置よりも伸縮方向他方19Bに移動させることで、固定手段127の当接部160を伸縮方向一方19Aに退避させることができ、ウェハ21を各乗載部37に乗載させて支持することができる。   Accordingly, as shown in FIG. 19A, when the substrate 21 is supported by the substrate support 131, the substrate support 131 is moved in the other direction 19B from the set position with respect to the hand base end 130. As a result, the abutting portion 160 of the fixing means 127 can be retracted in the one extending and contracting direction 19 </ b> A, and the wafer 21 can be mounted on and supported by each mounting portion 37.

この状態で、図19(2)に示すように、基板支持部131を伸縮方向一方19Aに移動させることによって、基板支持部31に対して、固定手段127の当接部160を伸縮方向他方19Bに移動させることができ、ウェハ21の周縁部を固定手段127の当接部160と乗載部37の当接部67とによって挟持させることができる。   In this state, as shown in FIG. 19 (2), by moving the substrate support portion 131 in one of the expansion / contraction directions 19A, the contact portion 160 of the fixing means 127 is moved with respect to the substrate support portion 31 in the other expansion / contraction direction 19B. The peripheral edge portion of the wafer 21 can be held between the contact portion 160 of the fixing means 127 and the contact portion 67 of the mounting portion 37.

またウェハ21を基板支持部131に固定した状態で、図19(1)に示すように、ハンド基端部130に対して、基板支持部131を設定位置よりも伸縮方向他方19Bに移動させる。これによって基板支持部131に対して、固定手段127の当接部160を伸縮方向一方19Aに退避させることができ、当接部160によるウェハ21の挟持を解除することができる。そしてウェハ21を予め定める位置に配置することができる。   In the state where the wafer 21 is fixed to the substrate support 131, the substrate support 131 is moved from the set position to the other extension direction 19B with respect to the hand base end 130 as shown in FIG. As a result, the abutting portion 160 of the fixing means 127 can be retracted in the one extension direction 19 </ b> A with respect to the substrate support portion 131, and the holding of the wafer 21 by the abutting portion 160 can be released. The wafer 21 can be placed at a predetermined position.

以上のような第3実施形態であっても、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。すなわち他の装置と干渉することを防いでかつ、大きい基板搬送領域を得ることができる。また第3実施形態では、ハンド駆動手段132がサーボモータによって実現されることで、ハンド基端部130に対する基板支持部131の移動量を精度よく制御することができる。これによって基板支持部131の移動量を把握するためのセンサを別途設ける必要がない。   Even in the third embodiment as described above, the same effects as those of the first embodiment can be obtained. That is, interference with other devices can be prevented and a large substrate transfer area can be obtained. In the third embodiment, since the hand driving unit 132 is realized by a servo motor, the amount of movement of the substrate support part 131 relative to the hand base end part 130 can be accurately controlled. Accordingly, it is not necessary to separately provide a sensor for grasping the movement amount of the substrate support part 131.

またハンド基端部130に対する基板支持部131の移動時の速度および移動量の調整も容易である。たとえば基板支持部131を伸縮方向19の任意の位置に位置合わせした状態で搬送することができ、利便性を向上することができる。また固定手段127が固定状態では基板支持部131の移動速度を速めて、固定手段127が開放状態では基板支持部131の移動速度を遅くしてもよい。これによって固定手段127が開放状態のときに、ウェハ21のずれを防ぐことができる。また本実施の形態の固定手段127を用いることで、第1実施形態の固定手段127に比べて小形化することができる。   In addition, it is easy to adjust the speed and amount of movement of the substrate support part 131 relative to the hand base end part 130. For example, the substrate support part 131 can be transported in a state of being aligned with an arbitrary position in the expansion / contraction direction 19, and convenience can be improved. Further, the movement speed of the substrate support 131 may be increased when the fixing means 127 is fixed, and the movement speed of the substrate support 131 may be decreased when the fixing means 127 is open. Thus, the wafer 21 can be prevented from shifting when the fixing means 127 is in the open state. Further, by using the fixing means 127 of the present embodiment, the size can be reduced as compared with the fixing means 127 of the first embodiment.

また本実施の形態では、基板支持部131は、第1支持部分100と第2支持部分101とを含んで構成されるとしたが、第1実施形態と同様に略V字状に形成されるブレード36によってウェハ21を支持してもよい。また本実施の形態では、固定手段127が各支持部分100,101に設けられるとしたが、固定手段127が1つであってもよい。   In the present embodiment, the substrate support portion 131 is configured to include the first support portion 100 and the second support portion 101. However, as in the first embodiment, the substrate support portion 131 is formed in a substantially V shape. The wafer 21 may be supported by the blade 36. In the present embodiment, the fixing means 127 is provided on each of the support portions 100 and 101. However, the number of the fixing means 127 may be one.

またサーボモータ110がハンド基端部130に搭載されるとしたが、ロボット本体22から基板支持部131を伸縮方向19に移動させる動力が与えられてもよい。この場合、たとえば基台50内にサーボモータ110を配置し、歯車伝達によってベルト111を回転させる動力を伝達してもよい。このように基台50にサーボモータ110を配置することによって、ロボットハンド120をさらに小形化することができる。   In addition, although the servo motor 110 is mounted on the hand base end portion 130, power for moving the substrate support portion 131 in the expansion / contraction direction 19 may be applied from the robot body 22. In this case, for example, the servo motor 110 may be disposed in the base 50 and the power for rotating the belt 111 may be transmitted by gear transmission. By arranging the servo motor 110 on the base 50 in this way, the robot hand 120 can be further miniaturized.

図20は、本発明の第4実施形態であるロボットハンド220を簡略化して示す正面図であり、図20(1)は、伸張状態のロボットハンド220を示し、図20(2)は、縮退状態のロボットハンド220を示し、図20(3)は、マッピング動作状態のロボットハンド220を示す。本実施の形態では、上述した第3実施形態と類似した構成を示し、対応する構成については説明を省略して同様の参照符号を付する。   20 is a simplified front view showing a robot hand 220 according to a fourth embodiment of the present invention. FIG. 20 (1) shows the robot hand 220 in the extended state, and FIG. The robot hand 220 in the state is shown, and FIG. 20 (3) shows the robot hand 220 in the mapping operation state. In the present embodiment, a configuration similar to that of the above-described third embodiment is shown, and the description of the corresponding configuration is omitted and the same reference numerals are given.

ロボットハンド220は、第1支持部分100および第2支持部分101の先端部が、ハンド基端部130に対して移動可能に形成される。そして各支持部分100,101が変位した状態では、ハンド基端部130の伸縮方向他方19B側端部となる先端部200が露出する。またハンド基端部130の先端部200には、ウェハ21の有無などを検出するためのマッピングセンサ201が設けられる。マッピングセンサ201は、図20(1)に示すようにロボットハンド220が伸張状態となる場合には、第1支持部分100および第2支持部分101の下方に配置される。また図20(2)に示すように、各基板支持部分100,101を伸縮方向一方19Aに変位させて、ロボットの回転半径が最小となる縮退状態でも、各支持部分100,101の下方に配置される。そして図20(3)に示すように、縮退状態からさらに各支持部分100,101を伸縮方向一方19Aに変位させると、マッピングセンサ201が外方に露出するマッピング可能状態となる。   The robot hand 220 is formed such that the distal end portions of the first support portion 100 and the second support portion 101 are movable with respect to the hand base end portion 130. In a state where the support portions 100 and 101 are displaced, the distal end portion 200 that is the end portion on the other side 19B side of the hand base end portion 130 is exposed. A mapping sensor 201 for detecting the presence / absence of the wafer 21 is provided at the distal end portion 200 of the hand proximal end portion 130. The mapping sensor 201 is disposed below the first support portion 100 and the second support portion 101 when the robot hand 220 is in the extended state as shown in FIG. Also, as shown in FIG. 20 (2), each substrate support portion 100, 101 is displaced in one of the expansion / contraction directions 19A, and is arranged below the support portions 100, 101 even in a contracted state where the rotation radius of the robot is minimized. Is done. Then, as shown in FIG. 20 (3), when the support portions 100 and 101 are further displaced in the expansion / contraction direction 19A from the contracted state, the mapping sensor 201 is exposed to the outside and can be mapped.

図21は、マッピングセンサ201を示す斜視図である。本実施の形態では、マッピングセンサ201は、伸縮方向19に関して、ウェハ21の有無を検出するマッピングセンサ201Aを含む。   FIG. 21 is a perspective view showing the mapping sensor 201. In the present embodiment, the mapping sensor 201 includes a mapping sensor 201 </ b> A that detects the presence / absence of the wafer 21 in the expansion / contraction direction 19.

マッピングセンサ201Aは、平行光を投光する投光部210と、投光部210を支持する投光部支持部211と、投光部210から投光された光を受光する受光部212と、受光部212を支持する受光部支持部213とを含む。投光部210は、伸縮方向19に垂直でかつ水平な第1交差方向10に平行光を投光する。また受光部212は、交差方向10に関して投光部210に対向した配置される。投光部支持部211および受光部支持部213は、ハンド基端部130の側面から伸縮方向19に突出し、伸縮状態の各支持部分100,101の下方に配置される。投光部210と受光部212との間にウェハ21が配置されると、投光部210から投光された光は、ウェハ21によって遮られる。これによって受光部212は、投光部210から投光された光を受光することがない。   The mapping sensor 201A includes a light projecting unit 210 that projects parallel light, a light projecting unit support unit 211 that supports the light projecting unit 210, a light receiving unit 212 that receives the light projected from the light projecting unit 210, and And a light receiving portion support portion 213 that supports the light receiving portion 212. The light projecting unit 210 projects parallel light in the first intersecting direction 10 which is perpendicular to the expansion / contraction direction 19 and horizontal. In addition, the light receiving unit 212 is disposed to face the light projecting unit 210 with respect to the intersecting direction 10. The light projecting portion support portion 211 and the light receiving portion support portion 213 protrude from the side surface of the hand base end portion 130 in the expansion / contraction direction 19 and are disposed below the support portions 100 and 101 in the expansion / contraction state. When the wafer 21 is disposed between the light projecting unit 210 and the light receiving unit 212, the light projected from the light projecting unit 210 is blocked by the wafer 21. Thus, the light receiving unit 212 does not receive the light projected from the light projecting unit 210.

受光部212は、受光量を示す情報をコントローラに与える。これによってコントローラは、ウェハ21の有無などを把握することができる。第4実施形態では、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。またマッピングセンサ201がロボットハンド220に設けられることで、別途マッピングセンサを駆動する駆動手段を設ける必要がない。またロボットハンド220に設けられるマッピングセンサ201は、通常は各支持部分100,101に覆われているので、腐食したり汚染したりすることが防がれて、耐久性を向上することができる。またロボットの方向を変更する場合には、図20(2)に示す縮退状態とすることで、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。   The light receiving unit 212 gives information indicating the amount of received light to the controller. Thus, the controller can grasp the presence / absence of the wafer 21 and the like. In the fourth embodiment, the same effect as in the first embodiment can be obtained. Further, since the mapping sensor 201 is provided in the robot hand 220, it is not necessary to provide a driving means for driving the mapping sensor separately. In addition, since the mapping sensor 201 provided in the robot hand 220 is normally covered with the support portions 100 and 101, it can be prevented from being corroded or contaminated, and durability can be improved. Further, when changing the direction of the robot, the same effect as that of the first embodiment can be obtained by adopting the degenerated state shown in FIG.

また縮退状態において、マッピングセンサ201が外方に露出するようにしてもよい。この場合、マッピングセンサ201が突出する分だけ、ロボットの最小回転半径が大きくなるが、マッピングセンサ201の突出量がもともと小さいので、ロボット方の装置などに干渉する問題は少ない。   In the degenerated state, the mapping sensor 201 may be exposed to the outside. In this case, the minimum turning radius of the robot is increased by the amount of projection of the mapping sensor 201. However, since the amount of projection of the mapping sensor 201 is originally small, there is little problem of interference with the robot device.

上述した実施形態は、本発明の例示に過ぎず、発明の範囲内において構成を変更することができる。たとえば本実施の形態では、ハンド駆動手段として、エアシリンダまたはサーボモータを用いたが、これに限定されず他の駆動源を用いて、基板支持部31を変位移動させてもよい。またロボットハンドが支持する基板として、円板状の半導体ウェハであるとしたが、ガラス基板などの半導体ウェハ21以外の基板であっても、同様の効果を得ることができる。また基板支持部31,131は、エッジクリップ型以外であってもよい。たとえば基板の複数の周面部のみに接触して基板を支持するエッジホールドハンド型または、真空吸着して基板を支持するバキュームハンド型であっても、同様の効果を得ることができる。すなわちロボットハンドが伸縮自在であればよく、基板支持部31の形状および支持形態については限定されない。また本実施の形態では、各角変位軸線L1,L3,L4が鉛直に延び、移動軸線L2が水平に延びるとしたが、これに限らずウェハ21をロボットハンドで支持可能な構成であれば、各角変位軸線L1,L3,L4および移動軸線L2は、他の方向に延びていてもよい。   The above-described embodiment is merely an example of the present invention, and the configuration can be changed within the scope of the invention. For example, in this embodiment, an air cylinder or a servo motor is used as the hand drive means, but the present invention is not limited to this, and the substrate support portion 31 may be displaced and moved using another drive source. Further, although the substrate supported by the robot hand is a disc-shaped semiconductor wafer, the same effect can be obtained even if it is a substrate other than the semiconductor wafer 21 such as a glass substrate. Further, the substrate support portions 31 and 131 may be other than the edge clip type. For example, the same effect can be obtained even in an edge hold hand type that supports a substrate by contacting only a plurality of peripheral surface portions of the substrate or a vacuum hand type that supports a substrate by vacuum suction. That is, the robot hand only needs to be extendable and retractable, and the shape and support form of the substrate support 31 are not limited. In the present embodiment, the angular displacement axes L1, L3, and L4 extend vertically and the movement axis L2 extends horizontally. However, the present invention is not limited to this, and the wafer 21 can be supported by a robot hand. Each angular displacement axis L1, L3, L4 and movement axis L2 may extend in other directions.

本発明の第1実施形態であるロボットハンド20を示す正面図である。It is a front view which shows the robot hand 20 which is 1st Embodiment of this invention. 図1の矢符A2−A2からロボットハンド20を見て示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the robot hand 20 as viewed from the arrows A2-A2 in FIG. 図2の矢符A3−A3からロボットハンド20を見て示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing the robot hand 20 as viewed from arrows A3-A3 in FIG. 2. 基板支持部31が伸縮方向一方19Aに移動した状態を示す正面図である。It is a front view which shows the state which the board | substrate support part 31 moved to the expansion-contraction direction one side 19A. 図4の矢符A5−A5からロボットハンド20を見て示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of the robot hand 20 as viewed from the arrows A5-A5 in FIG. 4. 固定手段27を説明するためにロボットハンド20の一部を拡大して示す断面図である。4 is an enlarged cross-sectional view of a part of the robot hand 20 for explaining the fixing means 27. FIG. ロボットハンド20が装着される基板搬送ロボット18を示す正面図である。It is a front view which shows the board | substrate conveyance robot 18 with which the robot hand 20 is mounted | worn. 基板搬送ロボット18の電気的構成を示すブロック図である。3 is a block diagram showing an electrical configuration of a substrate transfer robot 18. FIG. 基板搬送ロボット18のウェハ21の最大搬送位置を説明するための正面図である。6 is a front view for explaining a maximum transfer position of a wafer 21 of the substrate transfer robot 18. FIG. 基板搬送ロボットの最小回転半径を説明するための正面図である。It is a front view for demonstrating the minimum rotation radius of a board | substrate conveyance robot. ウェハ21を搬送元位置から搬送先位置に移動させる場合のロボットコントローラ17の制御手順を示すフローチャートである。4 is a flowchart showing a control procedure of the robot controller 17 when moving a wafer 21 from a transfer source position to a transfer destination position. 本発明の第2実施形態であるロボットハンド320の一部を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a part of robot hand 320 which is 2nd Embodiment of this invention. ロボットハンド320の一部を切断して示す平面図である。3 is a plan view showing a part of a robot hand 320 by cutting. 本発明の第3実施形態であるロボットハンド120を示す正面図である。It is a front view which shows the robot hand 120 which is 3rd Embodiment of this invention. 図14のロボットハンド120を示す側面図である。It is a side view which shows the robot hand 120 of FIG. 縮退状態のロボットハンド120を示す正面図である。It is a front view which shows the robot hand 120 of a degenerated state. 図16のロボットハンド120を示す側面図である。It is a side view which shows the robot hand 120 of FIG. 固定手段127を示す図である。It is a figure which shows the fixing means 127. FIG. 固定手段127を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the fixing means 127. FIG. 本発明の第4実施形態であるロボットハンド220を簡略化して示す正面図である。It is a front view which simplifies and shows the robot hand 220 which is 4th Embodiment of this invention.

マッピングセンサ201を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the mapping sensor 201. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

20 ロボットハンド
21 半導体ウェハ
22 ロボット本体
27 固定手段
30 ハンド基端部
31 基板支持部
32 ハンド駆動手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 20 Robot hand 21 Semiconductor wafer 22 Robot main body 27 Fixing means 30 Hand base end part 31 Substrate support part 32 Hand drive means

Claims (6)

多関節ロボットのロボットアームの先端部に装着されるハンド基端部と、
基板を支持可能に形成され、基板を支持した状態で、ハンド基端部に対して変位自在に設けられる基板支持部と、
基板支持部をハンド基端部に対して変位駆動するハンド駆動手段とを含むことを特徴とするロボットハンド。
A hand base end mounted on the tip of the robot arm of the articulated robot;
A substrate support portion formed so as to be capable of supporting the substrate, and provided to be displaceable with respect to the hand base end portion in a state of supporting the substrate;
A robot hand comprising: a hand driving means for driving the substrate support portion to move relative to the hand base end portion.
ハンド駆動手段によって駆動されて、基板支持部に支持される基板を基板支持部に対して固定する固定手段をさらに含み、
固定手段は、基板支持部が予め定める設定位置へ移動するに連動して、基板支持部に支持される基板の基板支持部に対する固定を解除し、
基板支持部が前記設定位置からハンド基端部に近接するに連動して、基板支持部に支持される基板を基板支持部に対して固定することを特徴とする請求項1記載のロボットハンド。
A fixing unit that is driven by the hand driving unit and fixes the substrate supported by the substrate supporting unit to the substrate supporting unit;
The fixing means releases the fixation of the substrate supported by the substrate support portion with respect to the substrate support portion in conjunction with the movement of the substrate support portion to the predetermined setting position,
2. The robot hand according to claim 1, wherein the substrate supported by the substrate support portion is fixed to the substrate support portion in conjunction with the substrate support portion approaching the hand base end portion from the set position.
ハンド駆動手段は、空気圧アクチュエータによって実現されることを特徴とする請求項1または2記載のロボットハンド。   The robot hand according to claim 1, wherein the hand driving means is realized by a pneumatic actuator. ハンド駆動手段は、サーボモータによって実現されることを特徴とする請求項1または2記載のロボットハンド。   The robot hand according to claim 1, wherein the hand driving means is realized by a servo motor. 請求項1〜4のいずれか1つに記載のロボットハンドと、
水平多関節型ロボットであって、ロボットアームの先端部にロボットハンドが着脱可能に装着されるロボット本体と、
ロボットハンドとロボット本体とを制御する制御手段とを含むことを特徴とする基板搬送ロボット。
The robot hand according to any one of claims 1 to 4,
A horizontal articulated robot, and a robot body in which a robot hand is detachably attached to the tip of a robot arm;
A substrate transfer robot comprising a robot hand and a control means for controlling the robot body.
基板支持部がハンド基端部に向けて変位移動することで、ロボットの可動回転半径が最小となることを特徴とする請求項5記載の基板搬送ロボット。   6. The substrate transfer robot according to claim 5, wherein the movable rotation radius of the robot is minimized by the displacement of the substrate support portion toward the hand base end portion.
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