JP2007165864A - 光電変換装置、光電変換装置の製造方法及び撮像システム - Google Patents
光電変換装置、光電変換装置の製造方法及び撮像システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007165864A JP2007165864A JP2006307761A JP2006307761A JP2007165864A JP 2007165864 A JP2007165864 A JP 2007165864A JP 2006307761 A JP2006307761 A JP 2006307761A JP 2006307761 A JP2006307761 A JP 2006307761A JP 2007165864 A JP2007165864 A JP 2007165864A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoelectric conversion
- film
- insulating film
- conversion device
- disposed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
Abstract
【解決手段】 光電変換装置は、シリコン基板1に、光電変換素子部5と、光電変換素子5の受光面での入射光の反射を防止する反射防止膜9と、光電変換素子5を素子分離するための絶縁体を有する素子分離領域2と、層間絶縁膜と、複数のトランジスタと、トランジスタの活性領域に電気的に接続される導電性部材と、を有する。反射防止膜9は、受光面と、素子分離領域2と、導電性部材と接続される活性領域との上部に配される。そして、反射防止膜9は、層間絶縁膜に導電性部材を埋め込む開口の形成における層間絶縁膜のエッチング時のエッチングストップ膜である。
【選択図】 図1
Description
図1は、第1の実施形態の光電変換装置の要部の構成を模式的に示す断面図である。要部の断面として、図6におけるA−B線の部分を一例とする。図1に、光電変換装置の要部として、シリコン基板1にフォトダイオードとMOSトランジスタとが形成されている部分を示す。実際の光電変換装置には、MOSトランジスタのゲート電極4、などに接続する配線層等が設けられるが、図1ではこれらは示されていない。
本実施形態を、図2を用いて説明する。図2において、図1に示す第1の実施形態と同様の機能を有する構成には、同一の符号を用い、説明を省略する。本実施形態の第1の実施形態と異なる箇所は、ゲート電極4の側壁に、シリコン酸化膜7を挟んで、サイドウォール8が設けられていることである。例えば、このサイドウォール用の絶縁膜として、シリコン窒化膜が用いられる。
本実施形態は、第1の実施形態に示したような反射防止膜、エッチングストップ膜として機能するシリコン窒化膜9を、周辺回路部を覆って形成した後に、周辺回路部のみシリコン窒化膜9をエッチバックしている。これにより形成されたシリコン窒化膜によるサイドウォールを用いて、周辺回路部のトランジスタはサイドウォールを有するLDD構造を有する。
次に、光電変換装置の製造工程について図3及び図4を用いて説明する。まず、第1の導電型のシリコン基板1に、溝(トレンチ)を形成する。そして、トレンチ内に絶縁体を埋め込んで素子分離領域2を形成する。その後、ゲート絶縁膜3を形成し、ゲート電極4をパターニングして形成する。次に、イオン注入などによって、第2の導電型の半導体領域5と転送用MOSトランジスタのドレイン領域6−1を形成する。このとき、ゲート電極4はイオン注入に対するマスクとして機能させることができる。次に、第2導電型の半導体領域5上に、シリコン酸化膜7を形成する。続いて、シリコン窒化膜8を形成し、図3(a)となる。
図8は、上述の実施形態にて説明した光電変換装置を、撮像システムの一例であるビデオカメラへ適用した場合のブロック図である。他の撮像システムとしてデジタルスチルカメラ等があげられる。以下、図8を元に詳細に説明する。
2 素子分離領域
3 ゲート絶縁膜
4 ゲート電極
5、6 第2導電型の半導体領域
7 シリコン酸化膜
8 サイドウォール
9 シリコン窒化膜
10 層間絶縁膜
11 プラグ
12 配線層
Claims (14)
- 基板と、前記基板に配された光電変換素子と、
前記光電変換素子の受光面の少なくとも一部上に配される反射防止膜と、
絶縁体を有する素子分離領域と、
前記光電変換素子の電荷を読み出す読み出し用トランジスタを含む複数のトランジスタと、
前記光電変換素子及び前記読み出し用トランジスタ上に配される層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜に形成された開口に配された、前記トランジスタの活性領域に電気的に接続される導電性部材と、を有する光電変換装置において、
前記反射防止膜は、前記素子分離領域と前記導電性部材と接続される活性領域の上部に配され、前記層間絶縁膜がエッチングされる際のエッチングストップ膜であることを特徴とする光電変換装置。 - 前記絶縁体及び前記層間絶縁膜は酸化シリコンで形成され、前記反射防止膜は窒化シリコンで形成されている、請求項1に記載の光電変換装置。
- 前記受光面と前記反射防止膜との間に配された絶縁膜を有する請求項1あるいは2に記載の光電変換装置。
- 前記絶縁膜は前記読み出し用トランジスタのゲート絶縁膜を兼ねていることを特徴とする請求項3に記載の光電変換装置。
- 前記反射防止膜は、前記基板上に前記複数のトランジスタのゲート電極を覆って配されることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光電変換装置。
- 少なくとも一部の前記複数のトランジスタのゲート電極はサイドウォールを有し、
前記サイドウォールは、絶縁膜と、前記絶縁膜上に設けられ前記絶縁膜とは異なる材料からなるサイドウォール用絶縁膜と、
前記サイドウォール用絶縁膜上に配置された前記反射防止膜からなる、請求項1あるいは2に記載の光電変換装置。 - 前記絶縁膜は、さらに前記受光面と前記反射防止膜との間に配されていることを特徴とする請求項6に記載の光電変換装置。
- 前記サイドウォール用絶縁膜は窒化シリコンを有する、請求項6あるいは7に記載の光電変換装置。
- 前記反射防止膜は、膜中に水素を1×1022cm−3以上の濃度で含んでいるシリコン窒化膜で形成されている、請求項1乃至8のいずれか1項に記載の光電変換装置。
- 前記反射防止膜は、前記層間絶縁膜の開口とセルフアラインの開口を有することを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の光電変換装置。
- 請求項1乃至10のいずれか1項に記載の光電変換装置と、前記光電変換装置へ光を結像する光学系と、前記光電変換装置からの出力信号を処理する信号処理回路と、を有することを特徴とする撮像システム。
- 基板と、前記基板に配された光電変換素子と、
前記光電変換素子の受光面の少なくとも一部上に配される反射防止膜と、
絶縁体を有する素子分離領域と、
前記光電変換素子の電荷を読み出す読み出し用トランジスタを含む複数のトランジスタと、
前記光電変換素子及び前記読み出し用トランジスタ上に配される層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜に形成された開口に配された、前記トランジスタの活性領域に電気的に接続される導電性部材と、を有する光電変換装置において、
前記反射防止膜は、前記素子分離領域と前記導電性部材と接続された活性領域の上部に配され、
前記反射防止膜をエッチングストップ膜として、前記層間絶縁膜の開口を形成することを特徴とする光電変換装置。 - 基板と、前記基板に配された光電変換素子と、
前記光電変換素子の受光面の少なくとも一部を覆う反射防止膜と、
絶縁体を有する素子分離領域と、
前記光電変換素子の電荷を読み出す読み出し用トランジスタを含む複数のトランジスタと、
前記光電変換素子及び前記読み出し用トランジスタ上に配される層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜に形成された開口に配された、前記トランジスタの活性領域に電気的に接続される導電性部材と、を有する光電変換装置の製造方法において、
前記受光部と、前記素子分離領域と、前記導電性部材と接続された活性領域との上部に前記反射防止膜を形成する工程と、
前記反射防止膜上に前記層間絶縁膜を形成する工程と、
前記反射防止膜をエッチングストップ膜として、前記開口を前記層間絶縁膜に形成する工程と、を有することを特徴とする光電変換装置の製造方法。 - 前記開口を用いてセルフアラインによって、前記反射防止膜を除去する工程を有することを特徴とする請求項13に記載の光電変換装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006307761A JP2007165864A (ja) | 2005-11-15 | 2006-11-14 | 光電変換装置、光電変換装置の製造方法及び撮像システム |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005330142 | 2005-11-15 | ||
JP2006307761A JP2007165864A (ja) | 2005-11-15 | 2006-11-14 | 光電変換装置、光電変換装置の製造方法及び撮像システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007165864A true JP2007165864A (ja) | 2007-06-28 |
JP2007165864A5 JP2007165864A5 (ja) | 2010-01-07 |
Family
ID=38248349
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006307761A Pending JP2007165864A (ja) | 2005-11-15 | 2006-11-14 | 光電変換装置、光電変換装置の製造方法及び撮像システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007165864A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009252984A (ja) * | 2008-04-04 | 2009-10-29 | Canon Inc | 光電変換装置、撮像システム、設計方法、及び光電変換装置の製造方法 |
JP2011243747A (ja) * | 2010-05-18 | 2011-12-01 | Canon Inc | 光電変換装置およびカメラ |
JP2013084693A (ja) * | 2011-10-06 | 2013-05-09 | Canon Inc | 固体撮像装置およびその製造方法ならびにカメラ |
US8497460B2 (en) | 2010-06-07 | 2013-07-30 | Nikon Corporation | Solid-state image sensor having a control unit controlling a selection transistor during a reset period of a reset transistor |
US8802478B2 (en) | 2011-10-07 | 2014-08-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing semiconductor device and method for manufacturing solid state image sensor using multiple insulation films |
US9647023B2 (en) | 2015-02-10 | 2017-05-09 | Renesas Electronics Corporation | Image pickup device and method of manufacturing the same |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10233497A (ja) * | 1997-07-22 | 1998-09-02 | Texas Instr Japan Ltd | 電荷結合型半導体装置及びその製造方法 |
JP2004165236A (ja) * | 2002-11-11 | 2004-06-10 | Sony Corp | 固体撮像装置の製造方法 |
JP2004214665A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Hynix Semiconductor Inc | Cmosイメージセンサの製造方法 |
JP2004235609A (ja) * | 2003-01-06 | 2004-08-19 | Canon Inc | 光電変換装置及び光電変換装置の製造方法及び同光電変換装置を用いたカメラ |
JP2005223019A (ja) * | 2004-02-03 | 2005-08-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 受光素子とその製造方法及び固体撮像装置 |
JP2005223085A (ja) * | 2004-02-04 | 2005-08-18 | Sony Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
-
2006
- 2006-11-14 JP JP2006307761A patent/JP2007165864A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10233497A (ja) * | 1997-07-22 | 1998-09-02 | Texas Instr Japan Ltd | 電荷結合型半導体装置及びその製造方法 |
JP2004165236A (ja) * | 2002-11-11 | 2004-06-10 | Sony Corp | 固体撮像装置の製造方法 |
JP2004214665A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Hynix Semiconductor Inc | Cmosイメージセンサの製造方法 |
JP2004235609A (ja) * | 2003-01-06 | 2004-08-19 | Canon Inc | 光電変換装置及び光電変換装置の製造方法及び同光電変換装置を用いたカメラ |
JP2005223019A (ja) * | 2004-02-03 | 2005-08-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 受光素子とその製造方法及び固体撮像装置 |
JP2005223085A (ja) * | 2004-02-04 | 2005-08-18 | Sony Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009252984A (ja) * | 2008-04-04 | 2009-10-29 | Canon Inc | 光電変換装置、撮像システム、設計方法、及び光電変換装置の製造方法 |
JP2011243747A (ja) * | 2010-05-18 | 2011-12-01 | Canon Inc | 光電変換装置およびカメラ |
US8497460B2 (en) | 2010-06-07 | 2013-07-30 | Nikon Corporation | Solid-state image sensor having a control unit controlling a selection transistor during a reset period of a reset transistor |
JP2013084693A (ja) * | 2011-10-06 | 2013-05-09 | Canon Inc | 固体撮像装置およびその製造方法ならびにカメラ |
US8802478B2 (en) | 2011-10-07 | 2014-08-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing semiconductor device and method for manufacturing solid state image sensor using multiple insulation films |
US9647023B2 (en) | 2015-02-10 | 2017-05-09 | Renesas Electronics Corporation | Image pickup device and method of manufacturing the same |
US10163953B2 (en) | 2015-02-10 | 2018-12-25 | Renesas Electronics Corporation | Image pickup device and method of manufacturing the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5305622B2 (ja) | 光電変換装置の製造方法 | |
JP4110192B1 (ja) | 光電変換装置及び光電変換装置を用いた撮像システム | |
JP5132102B2 (ja) | 光電変換装置および光電変換装置を用いた撮像システム | |
JP4677258B2 (ja) | 固体撮像装置及びカメラ | |
JP5116264B2 (ja) | 光電変換装置、光電変換装置の製造方法および光電変換装置を用いた撮像システム | |
US8298851B2 (en) | Method of manufacturing a solid-state imaging device with a silicide blocking layer and electronic apparatus | |
US20080150057A1 (en) | Image sensor and method of manufacturing the same | |
JP2006261411A (ja) | フォトダイオード領域を埋め込んだイメージセンサ及びその製造方法 | |
KR101103179B1 (ko) | 고체 촬상 소자 | |
US20110291217A1 (en) | Photoelectric converter and imaging system including the same | |
US8248502B2 (en) | Photoelectric conversion device and method for making the same | |
JP2007165864A (ja) | 光電変換装置、光電変換装置の製造方法及び撮像システム | |
US8368161B2 (en) | Solid-state image capturing device, method of manufacturing solid-state image capturing device, and image capturing apparatus | |
JP6727897B2 (ja) | 固体撮像装置、固体撮像装置の製造方法、および撮像システム | |
JP2008227357A (ja) | 固体撮像装置及びその製造方法 | |
JP2020155562A (ja) | 半導体装置および半導体装置の製造方法 | |
JP2003347537A (ja) | 固体撮像素子 | |
JP2005317639A (ja) | 光電変換装置及びその製造方法 | |
JP2009239058A (ja) | 固体撮像素子およびその製造方法、電子情報機器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091112 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091112 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20100201 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20100630 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120411 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120424 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120621 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120807 |