JP2007152560A - Intagliated plate for offset printing and offset printing method using the same - Google Patents

Intagliated plate for offset printing and offset printing method using the same Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an intagliated plate for offset printing, with which the conductive paste of an electrode material can be printed in certain width and thickness with high positional accuracy. <P>SOLUTION: Ink made of conductive paste 6 is filled in the recesses of the intagliated plate 1 and, after that, the ink is transferred from the intagliated plate 1 to a blanket cylinder 8 and finally the ink transferred on the blanket cylinder 8 is re-transferred onto a substrate 9. The intagliated plate is formed by covering a flat plate 2 made of a material having nearly the same thermal expansion coefficient as that of the substrate 9 with the resin 3 so as to form the recesses on the resin 3. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、オフセット印刷用の凹版およびそれを用いたオフセット印刷方法に関し、さらに詳しくは、たとえばPDP(プラズマディスプレイパネル)用のガラス基板に電極を形成する際に用いられるオフセット印刷用の凹版およびそれを用いたオフセット印刷方法に関する。   The present invention relates to an intaglio for offset printing and an offset printing method using the same, and more specifically, for example, an intaglio for offset printing used for forming electrodes on a glass substrate for PDP (plasma display panel) and the like. The present invention relates to an offset printing method using.

PDPのようなガス放電パネルでは、ガラス基板に電極を形成する。この電極の形成には薄膜法や厚膜法が用いられる。薄膜法では、一般に、ガラス基板全体に蒸着等で導電性材料の薄膜を形成し、これをエッチングして不要部を除去することで電極を形成する。厚膜法では、ガラス基板に電極材料としての導電性ペーストを印刷し、これを焼成することで電極を形成する。   In a gas discharge panel such as a PDP, electrodes are formed on a glass substrate. The electrode is formed by a thin film method or a thick film method. In the thin film method, generally, a thin film of a conductive material is formed on the entire glass substrate by vapor deposition or the like, and an electrode is formed by etching this to remove unnecessary portions. In the thick film method, an electrode is formed by printing a conductive paste as an electrode material on a glass substrate and firing it.

上記の厚膜法でガラス基板に導電性ペーストを印刷する場合、簡易で高精度であるという点から、オフセット印刷が用いられることがある。このオフセット印刷では、オフセット印刷用の凹版を用い、この凹版の凹部に導電性ペーストからなるインクを充填し、そのインクを凹版から一度ゴム胴と称されるブランケット胴に転写し、転写したブランケット胴上のインクを基板に再転写することで印刷を行う。   When printing a conductive paste on a glass substrate by the above thick film method, offset printing may be used because it is simple and highly accurate. In this offset printing, an intaglio plate for offset printing is used, and the concave portion of the intaglio plate is filled with ink made of a conductive paste, and the ink is once transferred from the intaglio plate to a blanket cylinder called a rubber cylinder. Printing is performed by retransferring the upper ink to the substrate.

このオフセット印刷の凹版に用いる基板としては、たとえばソーダライムガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス、低アルカリガラス、低膨張ガラスなどのガラス製の基板のほか、フッ素樹脂、ポリカーボネート(PC)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリエステル、ポリメタクリル樹脂等の樹脂板、ステンレス、銅、ニッケル、低膨張合金アンバー等の金属基板などが使用可能である(特許文献1参照)。このようにオフセット印刷用の凹版としては、ガラス基板、金属基板、樹脂基板など、単一の材料で作製された基板が用いられている。   Substrates used for the intaglio for offset printing include, for example, glass substrates such as soda lime glass, non-alkali glass, quartz glass, low alkali glass, low expansion glass, fluorine resin, polycarbonate (PC), polyethersulfone. Resin plates such as (PES), polyester, and polymethacrylic resin, and metal substrates such as stainless steel, copper, nickel, and low expansion alloy amber can be used (see Patent Document 1). Thus, as the intaglio for offset printing, a substrate made of a single material such as a glass substrate, a metal substrate, or a resin substrate is used.

特開2003−151350号公報JP 2003-151350 A

ところで、PDPのようなガス放電パネルでは、画面の高精細化に伴って電極の形成に高い位置精度が要求され、このためオフセット印刷でも高い印刷精度が必要となる。   By the way, in a gas discharge panel such as a PDP, high positional accuracy is required for the formation of electrodes as the screen becomes higher in definition. Therefore, high printing accuracy is required even in offset printing.

しかしながら、オフセット印刷の凹版として金属基板を用いた場合、凹版の熱膨張率と導電性ペーストを転写するパネル基板(通常はガラス)の熱膨張率とに差があるため、印刷精度が低下し、厳密な温度管理をしなければ一定の印刷精度を維持することが難しい。   However, when using a metal substrate as an intaglio for offset printing, there is a difference between the coefficient of thermal expansion of the intaglio and the coefficient of thermal expansion of the panel substrate (usually glass) to which the conductive paste is transferred, so the printing accuracy is reduced, Without strict temperature control, it is difficult to maintain a certain printing accuracy.

また、凹版として金属基板を用いた場合、通常はエッチングで凹部を形成するのであるが、エッチングで凹部を形成すると、PDPの電極幅では凹部の幅および深さを一定の大きさで形成することが難しく、凹部の形状が不安定となる。このため、オフセット印刷で印刷される電極の幅や厚みにばらつきが生じる。   In addition, when a metal substrate is used as the intaglio, the recess is usually formed by etching, but when the recess is formed by etching, the width and depth of the recess should be formed with a certain size in the electrode width of the PDP. Is difficult, and the shape of the recess becomes unstable. For this reason, variations occur in the width and thickness of electrodes printed by offset printing.

オフセット印刷の凹版としてガラス基板や低膨張合金アンバー等を用いた場合、凹版の熱膨張率とパネル基板の熱膨張率がほぼ同じであるため印刷精度の低下はないが、これらについてもエッチングで凹部を形成するため、上述の金属基板と同様に、印刷される電極の幅や厚みにばらつきが生じる。
オフセット印刷の凹版として樹脂基板を用いた場合でも、熱膨張率の差で印刷精度の低下が生じる。
When a glass substrate or a low expansion alloy amber is used as an intaglio for offset printing, the thermal expansion coefficient of the intaglio and the thermal expansion coefficient of the panel substrate are almost the same, so there is no decrease in printing accuracy. Therefore, as in the metal substrate described above, the width and thickness of the printed electrodes vary.
Even when a resin substrate is used as an intaglio for offset printing, the printing accuracy is lowered due to the difference in thermal expansion coefficient.

本発明は、このような事情を考慮してなされたもので、オフセット印刷用の凹版として、パネル基板と同じ熱膨張率の基板(例えばガラス)を用い、その表面に樹脂で凹部を形成することにより、電極材料の導電性ペーストを一定の幅および厚みで、かつ高い位置精度で印刷できるようにするものである。   The present invention has been made in consideration of such circumstances, and a substrate (for example, glass) having the same thermal expansion coefficient as the panel substrate is used as an intaglio for offset printing, and a recess is formed on the surface thereof with a resin. Thus, the conductive paste of the electrode material can be printed with a certain width and thickness and with high positional accuracy.

本発明は、オフセット印刷用の凹版であって、前記凹版の凹部に導電性ペーストからなるインクを充填し、そのインクを前記凹版からブランケット胴に転写し、転写したブランケット胴上のインクを基板に再転写する際に用いられ、前記凹版が、前記基板と熱膨張率がほぼ同程度の材料を用いて作製された平板上に樹脂が被覆され、その樹脂に前記凹部が形成されたものであることを特徴とするオフセット印刷用の凹版である。   The present invention is an intaglio for offset printing, in which a concave portion of the intaglio is filled with ink made of a conductive paste, the ink is transferred from the intaglio to a blanket cylinder, and the transferred ink on the blanket cylinder is applied to a substrate. The intaglio is used when retransferring, and the intaglio is obtained by coating a resin on a flat plate made of a material having a thermal expansion coefficient substantially the same as that of the substrate, and forming the recess in the resin. This is an intaglio for offset printing.

本発明によれば、オフセット印刷用の凹版の熱膨張率と基板の熱膨張率とに差がないので、良好な印刷精度を維持することができる。また、凹版の樹脂の部分に凹部を形成するので、例えばフォトリソグラフの手法などで凹部を形成すれば、一定の幅および深さで凹部を形成することが可能となり、これにより導電性ペーストを一定の幅および厚みで印刷することができる。   According to the present invention, since there is no difference between the thermal expansion coefficient of the intaglio for offset printing and the thermal expansion coefficient of the substrate, good printing accuracy can be maintained. In addition, since the concave portion is formed in the resin portion of the intaglio, if the concave portion is formed by, for example, a photolithography method, the concave portion can be formed with a certain width and depth. Can be printed with a width and thickness of.

本発明のオフセット印刷用の凹版は、オフセット印刷の際に用いられるものであり、オフセット印刷の際には、本発明の凹版に導電性ペーストからなるインクが充填され、そのインクが凹版から一度ブランケット(ゴム胴)上に転写され、転写されたゴム胴上のインクが基板に再転写される。   The intaglio for offset printing of the present invention is used for offset printing, and in the offset printing, the intaglio of the present invention is filled with ink made of a conductive paste, and the ink is once blanketed from the intaglio. The ink transferred onto the (rubber cylinder) is transferred again to the substrate.

本発明において、基板は、表示パネルに用いることが可能なものであれば、どのような基板を適用してもよい。この基板としては、ガラス、石英、セラミックス等の基板が挙げられる。   In the present invention, any substrate may be used as long as it can be used for a display panel. Examples of the substrate include substrates such as glass, quartz, and ceramics.

本発明において、凹版は、基板と熱膨張率がほぼ同程度の材料を用いて作製された平板上に樹脂が被覆され、その樹脂に凹部が形成されたものである。このため、凹版は、基板にガラスが適用された場合には、そのガラスと同じ材料で作製された平板上に樹脂が形成され、その樹脂に凹部が形成されたものであることが望ましい。この凹版に用いる平板としては、たとえばソーダライムガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス、低アルカリガラス、低膨張ガラスなどのガラス製の基板のほか、フッ素樹脂、ポリカーボネート(PC)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリエステル、ポリメタクリル樹脂等の樹脂板、ステンレス、銅、ニッケル、低膨張合金アンバー等の金属基板などが使用可能である。   In the present invention, the intaglio plate is a plate in which a resin is coated on a flat plate produced using a material having a thermal expansion coefficient substantially equal to that of the substrate, and a recess is formed in the resin. For this reason, when glass is applied to the substrate, it is desirable that the intaglio is a resin in which a resin is formed on a flat plate made of the same material as the glass and a recess is formed in the resin. Examples of the flat plate used for the intaglio include glass substrates such as soda lime glass, non-alkali glass, quartz glass, low alkali glass, and low expansion glass, as well as fluororesin, polycarbonate (PC), and polyethersulfone (PES). Resin plates such as polyester and polymethacrylic resin, and metal substrates such as stainless steel, copper, nickel, and low expansion alloy amber can be used.

凹版の平板上に被覆される樹脂としては、フッ素樹脂、ポリカーボネート(PC)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリエステル、ポリメタクリル樹脂等を適用することができる。この内、樹脂としては、撥水性を有していることが望ましく、この意味でフッ素樹脂を含んでいることが望ましい。   As the resin coated on the intaglio plate, fluororesin, polycarbonate (PC), polyethersulfone (PES), polyester, polymethacrylic resin and the like can be applied. Of these, the resin preferably has water repellency, and in this sense, it preferably contains a fluororesin.

上記樹脂は、感光性材料を含んでいることが望ましい。樹脂に感光性材料を含ませることにより、凹部をフォトリソグラフの手法で形成することができ、これにより、凹部の幅および深さを高い精度で形成することができる。   The resin desirably contains a photosensitive material. By including a photosensitive material in the resin, the concave portion can be formed by a photolithographic technique, whereby the width and depth of the concave portion can be formed with high accuracy.

本発明は、また、上記オフセット印刷用の凹版を用いたオフセット印刷方法であって、前記凹版の凹部に導電性ペーストからなるインクを充填した後、前記凹版の非凹部に対応した凸部を有するクリーニング用凸版で、前記凹版の樹脂表面を清掃する工程を備えてなるオフセット印刷方法である。   The present invention is also an offset printing method using the intaglio for offset printing, and has a convex portion corresponding to a non-concave portion of the intaglio after filling the concave portion of the intaglio with ink made of a conductive paste. This is an offset printing method comprising a step of cleaning the resin surface of the intaglio with a cleaning relief plate.

上記の印刷方法においては、クリーニング用凸版を、ローラーの表面に凸部が形成されたクリーニングロールで構成することが望ましい。   In the above printing method, it is desirable that the cleaning relief printing plate is composed of a cleaning roll in which convex portions are formed on the surface of the roller.

以下、図面に示す実施例に基づいて本発明を詳述する。なお、本発明はこれによって限定されるものではなく、各種の変形が可能である。   Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments shown in the drawings. In addition, this invention is not limited by this, A various deformation | transformation is possible.

図1(a)および図1(b)は本発明の凹版を用いたオフセット印刷で電極を形成したPDPの構成を示す説明図である。図1(a)はPDPの全体図、図1(b)はPDPの部分分解斜視図である。このPDPはカラー表示用のAC駆動型の3電極面放電型PDPである。   1 (a) and 1 (b) are explanatory views showing the structure of a PDP in which electrodes are formed by offset printing using the intaglio of the present invention. FIG. 1A is an overall view of the PDP, and FIG. 1B is a partially exploded perspective view of the PDP. This PDP is an AC drive type three-electrode surface discharge type PDP for color display.

PDP10は、PDPとして機能する構成要素が形成された前面側の基板11と背面側の基板21から構成されている。前面側の基板11と背面側の基板21としては、ガラス基板、石英基板、セラミックス基板等を使用することができる。   The PDP 10 includes a front substrate 11 and a rear substrate 21 on which components that function as a PDP are formed. As the front substrate 11 and the rear substrate 21, a glass substrate, a quartz substrate, a ceramic substrate, or the like can be used.

前面側の基板11の内側面には、水平方向に表示電極Xと表示電極Yが等間隔に配置されている。隣接する表示電極Xと表示電極Yとの間が全て表示ラインLとなる。各表示電極X,Yは、ITO、SnO2などの幅の広い透明電極12と、例えばAg、Au等からなる金属製の幅の狭いバス電極13から構成されている。表示電極X,Yは、透明電極12については、ITOやSnO2などを蒸着法、スパッタ法等で成膜することにより、バス電極13については、Ag、Au等をオフセット印刷して焼成することにより、所望の本数、厚さ、幅及び間隔で形成されている。 On the inner surface of the front substrate 11, display electrodes X and display electrodes Y are arranged at equal intervals in the horizontal direction. The display line L is entirely between the adjacent display electrode X and display electrode Y. Each display electrode X, Y is composed of a wide transparent electrode 12 such as ITO or SnO 2 and a narrow bus electrode 13 made of metal such as Ag or Au. For the display electrodes X and Y, the transparent electrode 12 is formed by depositing ITO, SnO 2 or the like by vapor deposition or sputtering, and the bus electrode 13 is fired by offset printing of Ag, Au or the like. Thus, the desired number, thickness, width and interval are formed.

なお、本PDPでは、表示電極Xと表示電極Yが等間隔に配置され、隣接する表示電極Xと表示電極Yとの間が全て表示ラインLとなる構造のPDPを示したが、これに限定されず、対となる表示電極X,Yが放電の発生しない間隔(非放電ギャップ)を隔てて配置された構造のPDPであっても、本発明を適用することができる。   In this PDP, the display electrode X and the display electrode Y are arranged at equal intervals, and a PDP having a structure in which the display line L is entirely between the adjacent display electrodes X and Y is shown. However, the present invention is not limited to this. The present invention can also be applied to a PDP having a structure in which the pair of display electrodes X and Y are arranged with an interval (non-discharge gap) at which no discharge occurs.

表示電極X,Yの上には、表示電極X,Yを覆うように交流(AC)駆動用の誘電体層17が形成されている。   On the display electrodes X and Y, a dielectric layer 17 for alternating current (AC) driving is formed so as to cover the display electrodes X and Y.

誘電体層17の上には、表示の際の放電により生じるイオンの衝突による損傷から誘電体層17を保護するための保護膜18が形成されている。この保護膜はMgOで形成されている。保護膜は、電子ビーム蒸着法やスパッタ法のような、当該分野で公知の薄膜形成プロセスによって形成することができる。   A protective film 18 is formed on the dielectric layer 17 to protect the dielectric layer 17 from damage caused by ion collision caused by discharge during display. This protective film is made of MgO. The protective film can be formed by a thin film forming process known in the art, such as an electron beam evaporation method or a sputtering method.

背面側の基板21の内側面には、平面的にみて表示電極X,Yと交差する方向に複数のアドレス電極Aが形成され、そのアドレス電極Aを覆って誘電体層24が形成されている。アドレス電極Aは、Y電極との交差部で発光セルを選択するためのアドレス放電を発生させるものであり、このアドレス電極Aも、表示電極X,Yと同様に、Ag、Au等をオフセット印刷して焼成することにより、所望の本数、厚さ、幅及び間隔で形成されている。アドレス電極Aの上には、アドレス電極Aを覆うように誘電体層24が形成されている。   On the inner side surface of the substrate 21 on the back side, a plurality of address electrodes A are formed in a direction intersecting the display electrodes X and Y in plan view, and a dielectric layer 24 is formed to cover the address electrodes A. . The address electrode A generates an address discharge for selecting a light emitting cell at the intersection with the Y electrode. The address electrode A is also offset-printed with Ag, Au, etc., like the display electrodes X and Y. Then, the desired number, thickness, width and interval are formed by firing. A dielectric layer 24 is formed on the address electrode A so as to cover the address electrode A.

隣接するアドレス電極Aとアドレス電極Aとの間の誘電体層24上には、ストライプ状の複数の隔壁29が形成されている。隔壁29の形状はこれに限定されず、放電空間をセルごとに区画するメッシュ状(ボックス状)であってもよい。隔壁29は、サンドブラスト法、印刷法、フォトエッチング法等により形成することができる。例えば、サンドブラスト法では、低融点ガラスフリット、バインダー樹脂、溶媒等からなるガラスペーストを誘電体層24上に塗布して乾燥させた後、そのガラスペースト層上に隔壁パターンの開口を有する切削マスクを設けた状態で切削粒子を吹きつけて、マスクの開口に露出したガラスペースト層を切削し、さらに焼成することにより形成する。また、フォトエッチング法では、切削粒子で切削することに代えて、バインダー樹脂に感光性の樹脂を使用し、マスクを用いた露光及び現像の後、焼成することにより形成する。   A plurality of stripe-shaped partition walls 29 are formed on the dielectric layer 24 between the adjacent address electrodes A and A. The shape of the barrier ribs 29 is not limited to this, and may be a mesh shape (box shape) that partitions the discharge space for each cell. The partition walls 29 can be formed by a sand blast method, a printing method, a photo etching method, or the like. For example, in the sandblasting method, a glass paste made of a low melting point glass frit, a binder resin, a solvent, etc. is applied on the dielectric layer 24 and dried, and then a cutting mask having an opening of a partition pattern is formed on the glass paste layer. It forms by spraying cutting particle | grains in the provided state, cutting the glass paste layer exposed to the opening of a mask, and also baking. In the photo-etching method, instead of cutting with cutting particles, a photosensitive resin is used as the binder resin, and it is formed by baking after exposure and development using a mask.

隔壁29の側面及び隔壁間の誘電体層24上には、赤(R)、緑(G)、青(B)の蛍光体層28R,28G,28Bが形成されている。蛍光体層28R,28G,28Bは、蛍光体粉末とバインダー樹脂と溶媒とを含む蛍光体ペーストを隔壁29間の凹溝状の放電空間内にスクリーン印刷、又はディスペンサーを用いた方法などで塗布し、これを各色毎に繰り返した後、焼成することにより形成している。この蛍光体層28R,28G,28Bは、蛍光体粉末と感光性材料とバインダー樹脂とを含むシート状の蛍光体層材料(いわゆるグリーンシート)を使用し、フォトリソグラフィー技術で形成することもできる。この場合、所望の色のシートを基板上の表示領域全面に貼り付けて、露光、現像を行い、これを各色毎に繰り返すことで、対応する隔壁間に各色の蛍光体層を形成することができる。   Red (R), green (G), and blue (B) phosphor layers 28R, 28G, and 28B are formed on the side surfaces of the partition walls 29 and on the dielectric layer 24 between the partition walls. For the phosphor layers 28R, 28G, and 28B, a phosphor paste containing phosphor powder, a binder resin, and a solvent is applied to the concave discharge space between the barrier ribs 29 by screen printing or a method using a dispenser. This is repeated for each color and then fired. The phosphor layers 28R, 28G, and 28B can be formed by a photolithography technique using a sheet-like phosphor layer material (so-called green sheet) containing phosphor powder, a photosensitive material, and a binder resin. In this case, a phosphor sheet of each color can be formed between the corresponding partition walls by applying a sheet of a desired color to the entire display area on the substrate, exposing and developing, and repeating this for each color. it can.

PDPは、このような構成要素を形成した前面側の基板11と背面側の基板21とを、表示電極X,Yとアドレス電極Aとが交差するように対向配置し、周囲を封着し、隔壁29で囲まれた放電空間30にXeとNe等とを混合した放電ガスを充填することにより作製されている。このPDPでは、表示電極X,Yとアドレス電極Aとの交差部の放電空間30が、表示の最小単位である1つのセル(単位発光領域)となる。1画素はR、G、Bの3つのセルで構成される。   In the PDP, the front-side substrate 11 and the rear-side substrate 21 on which such components are formed are arranged so that the display electrodes X and Y and the address electrodes A intersect, and the periphery is sealed, It is manufactured by filling the discharge space 30 surrounded by the partition walls 29 with a discharge gas in which Xe and Ne are mixed. In this PDP, the discharge space 30 at the intersection of the display electrodes X and Y and the address electrode A is one cell (unit light emitting region) which is the minimum unit of display. One pixel is composed of three cells, R, G, and B.

上記で説明した表示電極X,Yのバス電極13、およびアドレス電極Aは、オフセット印刷で導電性ペーストの電極パターンを印刷し、これを乾燥後、焼成することで形成する。具体的には、バス電極13については、前面側の基板11に透明電極12を形成した後、その透明電極12上に、位置合わせをして、Au,Agなどの導電性ペーストからなるインクをオフセット印刷で転写し、これを乾燥させて焼成することで形成する。また、アドレス電極Aについては、背面側の基板21に、位置合わせをして、Au,Agなどの導電性ペーストをオフセット印刷で転写し、これを乾燥させて焼成することで形成する。   The bus electrodes 13 and the address electrodes A of the display electrodes X and Y described above are formed by printing an electrode pattern of a conductive paste by offset printing, drying it, and firing it. Specifically, for the bus electrode 13, after forming the transparent electrode 12 on the substrate 11 on the front side, alignment is performed on the transparent electrode 12, and ink made of a conductive paste such as Au or Ag is applied. It forms by transferring by offset printing, drying this, and baking. The address electrode A is formed by aligning the substrate 21 on the back side, transferring a conductive paste such as Au or Ag by offset printing, drying it, and baking it.

図2はオフセット印刷に用いる凹版の側面を示す説明図である。
本発明のオフセット印刷用の凹版1は、平板2と、平板2の上に形成された樹脂3とで構成されている。樹脂3には凹部3aが形成されている。
FIG. 2 is an explanatory view showing a side surface of the intaglio used for offset printing.
The intaglio 1 for offset printing according to the present invention includes a flat plate 2 and a resin 3 formed on the flat plate 2. A recess 3 a is formed in the resin 3.

平板2の材質としては、被転写基板、つまり導電性ペーストを印刷する基板と熱膨張率が等しいものを用いる。たとえば、PDPの電極を形成する場合であれば、PDPの基板には一般にソーダライムガラス、またはPD−200(旭硝子株式会社製)のような高歪点ガラスが用いられるので、そのPDPのガラス基板と同じガラスで作製した平板2を用いる。ただし、上述したように、平板2は被転写基板と熱膨張率が同じであればよく、必ずしも同じ材料で作製する必要はない。平板2には樹脂3が形成され、樹脂3には、形成しようとする電極パターンに対応する凹部3aが形成されている。   As the material of the flat plate 2, a substrate having the same thermal expansion coefficient as the substrate to be transferred, that is, the substrate on which the conductive paste is printed is used. For example, in the case of forming a PDP electrode, a soda-lime glass or a high strain point glass such as PD-200 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) is generally used as the PDP substrate. A flat plate 2 made of the same glass is used. However, as described above, the flat plate 2 only needs to have the same thermal expansion coefficient as that of the transfer substrate, and is not necessarily made of the same material. A resin 3 is formed on the flat plate 2, and a recess 3 a corresponding to the electrode pattern to be formed is formed on the resin 3.

樹脂3は、当該分野で公知の感光性のドライフィルムレジスト(以後単に「ドライフィルム」という)を用い、このドライフィルムを平板2の表面にラミネートすることで形成する。使用できるドライフィルムとしては、日本合成化学工業株式会社製のNIT−600シリーズなどが挙げられる。   The resin 3 is formed by laminating the dry film on the surface of the flat plate 2 using a photosensitive dry film resist (hereinafter simply referred to as “dry film”) known in the art. Examples of the dry film that can be used include NIT-600 series manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.

ラミネートの厚みは、形成しようとする凹部3aの深さに一致させる。たとえば、50μmの深さの凹部3aを形成しようとする場合には、上記のNIT−600シリーズを用いるのであれば、25μmの厚みのNIT−625を2回積層する。そして、このように積層したドライフィルム層からなる樹脂3を当該分野で公知のフォトリソグラフの手法を用いてパターニングし、樹脂3に、電極パターンに応じた凹部3aを形成する。このパターニングの後、必要に応じて、熱、または光により樹脂3を硬化させ、これにより凹版1を作製する。   The thickness of the laminate matches the depth of the recess 3a to be formed. For example, when the NIT-600 series is used when the concave portion 3a having a depth of 50 μm is to be formed, NIT-625 having a thickness of 25 μm is laminated twice. Then, the resin 3 composed of the dry film layers laminated in this manner is patterned using a photolithographic technique known in the art, and a recess 3 a corresponding to the electrode pattern is formed in the resin 3. After this patterning, if necessary, the resin 3 is cured by heat or light, whereby the intaglio 1 is produced.

樹脂3はこの他に、液状やペースト状のレジストを所定の厚みに塗布し、乾燥させることで形成してもよい。この場合、パターニングの方法はドライフィルムを用いた場合と同じである。   In addition to this, the resin 3 may be formed by applying a liquid or paste resist in a predetermined thickness and drying it. In this case, the patterning method is the same as that when a dry film is used.

オフセット印刷においては、この凹版1の凹部3aに導電性ペーストからなるインクを充填し、そのインクを凹版1から一度ブランケット胴(ゴム胴)に転写し、転写したブランケット胴上の導電性ペーストを基板に再転写することで印刷を行う。   In offset printing, the recess 3a of the intaglio 1 is filled with ink made of a conductive paste, the ink is once transferred from the intaglio 1 to a blanket cylinder (rubber cylinder), and the transferred conductive paste on the blanket cylinder is used as a substrate. Printing is performed by re-transferring to.

凹部3aの形成部分を感光性樹脂3とすることで、フォトリソグラフの手法で凹部3aを形成することができ、凹部3aの幅、深さを高い精度で均一に形成することができる。   By using the photosensitive resin 3 as the formation portion of the concave portion 3a, the concave portion 3a can be formed by a photolithographic technique, and the width and depth of the concave portion 3a can be uniformly formed with high accuracy.

樹脂3のパターニング時に、凹部3aに逆テーパがつく場合、つまり凹部3aの底部よりも出入口付近のほうが狭くなる場合には、凹部3aに充填した導電性ペーストが凹部3aから抜けにくくなる。したがって、この場合には、必要に応じて、平板2に樹脂3を形成する前に、平板2の表面に電極パターンに対応したマスクパターンを形成しておき、その上に樹脂3を形成し、平板2の背面側から樹脂3を露光する。これにより、凹部3aを順テーパの形状、つまり凹部3aの底部よりも出入口付近のほうが広くなる形状にすることができる。   When the concave portion 3a is reversely tapered during patterning of the resin 3, that is, when the vicinity of the entrance / exit is narrower than the bottom of the concave portion 3a, the conductive paste filled in the concave portion 3a is difficult to come out of the concave portion 3a. Therefore, in this case, before forming the resin 3 on the flat plate 2, if necessary, a mask pattern corresponding to the electrode pattern is formed on the surface of the flat plate 2, and the resin 3 is formed thereon. The resin 3 is exposed from the back side of the flat plate 2. Thereby, the recessed part 3a can be made into the shape of a forward taper shape, ie, the shape where the entrance / exit vicinity becomes wider than the bottom part of the recessed part 3a.

このように、被転写基板と同じ熱膨張率の平板2を用い、この平板2にドライフィルムのラミネート等で樹脂3を形成し、その樹脂3に凹部3aを形成することにより、熱膨張率と形状安定性を同時に満たした凹版1を作製することができる。   In this way, by using the flat plate 2 having the same thermal expansion coefficient as that of the transfer substrate, the resin 3 is formed on the flat plate 2 by laminating a dry film, and the concave portion 3a is formed in the resin 3, whereby the thermal expansion coefficient and The intaglio 1 satisfying the shape stability at the same time can be produced.

樹脂3には、例えばフッ素元素を含む樹脂材料を適用することで、樹脂3の表面に撥水性を持たせる。これにより樹脂3の表面に付着した導電性ペーストの残渣の除去が容易となる。すなわち、導電性ペーストを凹版1の凹部3aに充填する際には、ブレードによるスキージングで導電性ペーストを凹部3aに充填しながら、樹脂3の表面についた導電性ペーストの残渣をブレードで掻き取って除去するのであるが、このとき、樹脂3に撥水性を持たせておくことで、樹脂3の表面に導電性ペーストの残渣が残りにくくなる。また、弱い掻き取りで残渣が除去できるため、凹版1の耐久性を向上させることができる。また、樹脂3の離型性も向上する。   For example, a resin material containing a fluorine element is applied to the resin 3 so that the surface of the resin 3 has water repellency. This facilitates removal of the conductive paste residue adhering to the surface of the resin 3. That is, when filling the recess 3a of the intaglio 1 with the conductive paste, scraping the residue of the conductive paste on the surface of the resin 3 with the blade while filling the recess 3a with the conductive paste by squeezing with the blade. At this time, by making the resin 3 water repellent, the residue of the conductive paste hardly remains on the surface of the resin 3. Further, since the residue can be removed by weak scraping, the durability of the intaglio 1 can be improved. Moreover, the mold release property of the resin 3 is also improved.

上記では、樹脂3中に撥水性を有する材料を添加したが、表面処理を施すことにより樹脂3の表面に撥水性を持たせてもよい。この場合、凹版1からブランケット胴への導電性ペーストの転写は、100%でなくても構わないため、凹部3aの底面、つまり平板2には撥水性がなくても問題はない。   In the above description, a material having water repellency is added to the resin 3. However, the surface of the resin 3 may have water repellency by performing a surface treatment. In this case, since the transfer of the conductive paste from the intaglio 1 to the blanket cylinder may not be 100%, there is no problem even if the bottom surface of the recess 3a, that is, the flat plate 2, is not water-repellent.

図3はクリーニング用凸版を示す説明図である。
クリーニング用凸版5は、凹版1の樹脂3の表面についた導電性ペーストの残渣(不要な導電性ペースト)を除去するものである。このクリーニング用凸版5には、凹部3aに対応しない位置に空洞5aを形成し、凹部3aに充填されている導電性ペースト6が除去されないようにしている。
FIG. 3 is an explanatory view showing a letterpress for cleaning.
The letterpress for cleaning 5 removes the residue of the conductive paste (unnecessary conductive paste) on the surface of the resin 3 of the intaglio 1. The cleaning relief plate 5 is formed with a cavity 5a at a position not corresponding to the recess 3a so that the conductive paste 6 filled in the recess 3a is not removed.

クリーニング用凸版5は、樹脂3よりも濡れ性の高い材料、つまり樹脂3よりも撥水性の低い材料を用いて作製している。クリーニング用凸版5の材料としては、シリコーンゴムなどが適用可能である。   The cleaning relief printing plate 5 is manufactured using a material having higher wettability than the resin 3, that is, a material having lower water repellency than the resin 3. Silicone rubber or the like is applicable as the material for the cleaning relief plate 5.

凹版1の凹部3aへの導電性ペースト6の充填は、ブレードによるスキージングで行う。このスキージングの際、樹脂3の表面についた導電性ペーストはほとんどブレードで掻き取られるが、掻き取りが不十分な場合には樹脂3の表面に導電性ペーストが残る。したがって、この導電性ペーストの残渣をクリーニング用凸版5で除去する。その後、凹部3a内の導電性ペースト6のブランケット胴への転写を行い、ブランケット胴から被転写基板へ導電性ペースト6の転写を行う。これにより、不要な電極の付着のないクリーンな電極パターンを形成することができる。   The conductive paste 6 is filled into the concave portion 3a of the intaglio 1 by squeezing with a blade. During this squeezing, the conductive paste on the surface of the resin 3 is almost scraped off with a blade, but if the scraping is insufficient, the conductive paste remains on the surface of the resin 3. Therefore, the residue of the conductive paste is removed by the cleaning relief plate 5. Thereafter, the conductive paste 6 in the recess 3a is transferred to the blanket cylinder, and the conductive paste 6 is transferred from the blanket cylinder to the transfer substrate. Thereby, it is possible to form a clean electrode pattern without unnecessary electrode adhesion.

このように、クリーニング用凸版5を用いることで、凹版1の表面に導電性ペーストの残渣が付着していても、その残渣をクリーニング用凸版5で除去するので、導電性ペーストをクリーンなパターンで印刷することが可能となる。   In this way, by using the cleaning relief plate 5, even if a residue of the conductive paste adheres to the surface of the intaglio plate 1, the residue is removed by the cleaning relief plate 5, so that the conductive paste can be formed in a clean pattern. It becomes possible to print.

図4(a)〜図4(c)は本発明のオフセット印刷方法を示す説明図である。
オフセット印刷を行うにあたっては、クリーニング用凸版5とブランケット7を胴8に装着する。胴8は矢印Rの方向に回転させる。凹版1と被転写基板9は搬送装置31の上に乗せて、矢印Sの方向に移動させる。
FIG. 4A to FIG. 4C are explanatory views showing the offset printing method of the present invention.
In performing offset printing, the cleaning relief plate 5 and the blanket 7 are mounted on the cylinder 8. The body 8 is rotated in the direction of arrow R. The intaglio 1 and the transferred substrate 9 are placed on the transport device 31 and moved in the direction of the arrow S.

オフセット印刷の際には、凹版1に導電性ペースト6を充填する。この充填はブレードによるスキージングで行う。次に、図4(a)に示すように、導電性ペースト6の残渣をクリーニング用凸版5で除去する。   At the time of offset printing, the intaglio 1 is filled with the conductive paste 6. This filling is performed by squeezing with a blade. Next, as shown in FIG. 4A, the residue of the conductive paste 6 is removed with the relief relief plate 5.

その後、図4(b)に示すように、ローラー8に装着したブランケット7に導電性ペースト6をいったん転写する。次に、図4(c)に示すように、ブランケット7から被転写基板9へ導電性ペースト6を再度転写することで、オフセット印刷を行う。なお、図4では、便宜上、凹版とクリーニング凸版の溝の向きを90度回転させて描いている。   Thereafter, as shown in FIG. 4B, the conductive paste 6 is once transferred to the blanket 7 attached to the roller 8. Next, as shown in FIG. 4C, offset printing is performed by transferring the conductive paste 6 from the blanket 7 to the transfer substrate 9 again. In FIG. 4, for the sake of convenience, the directions of the grooves of the intaglio and the cleaning relief are rotated 90 degrees.

以上述べたように、本実施形態によれば、凹版の基板として、被転写基板と同じ熱膨張率の基板を用いることにより、高い転写精度を保つことができる。また、感光性の樹脂を用いて凹部を形成することにより、凹部の幅と深さの均一な制御が可能となる。   As described above, according to the present embodiment, a high transfer accuracy can be maintained by using a substrate having the same coefficient of thermal expansion as the substrate to be transferred as the intaglio substrate. Further, by forming the recesses using a photosensitive resin, the width and depth of the recesses can be uniformly controlled.

また、凹版の樹脂中にフッ素を添加することにより、凹版の表面に撥水性を持たせることができ、これにより、導電性ペーストが凹版の表面に残り難く、簡単な掻きとりで表面残渣を除去することができる。   In addition, by adding fluorine to the intaglio resin, the surface of the intaglio can be given water repellency, which makes it difficult for the conductive paste to remain on the surface of the intaglio and removes surface residues by simple scraping. can do.

さらに、凹版の表面の残渣をクリーニング用凸版で除去するので、電極パターン間にできる不要な電極をなくすことができる。   Furthermore, since the residue on the surface of the intaglio is removed by the relief relief, unnecessary electrodes formed between the electrode patterns can be eliminated.

本発明の凹版を用いたオフセット印刷で電極を形成したPDPの構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of PDP which formed the electrode by offset printing using the intaglio of this invention. オフセット印刷に用いる凹版の側面を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the side of the intaglio used for offset printing. クリーニング用凸版を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the relief printing plate. 本発明のオフセット印刷方法を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the offset printing method of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 凹版
2 平板
3 樹脂
3a 凹部
5 クリーニング用凸版
5a 空洞
6 導電性ペースト
7 ブランケット
8 胴
9 被転写基板
10 PDP
11 前面側の基板
12 透明電極
13 バス電極
17,24 誘電体層
18 保護膜
21 背面側の基板
28R,28G,28B 蛍光体層
29 隔壁
30 放電空間
31 搬送装置
A アドレス電極
L 表示ライン
X,Y 表示電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Intaglio 2 Flat plate 3 Resin 3a Recess 5 Cleaning relief 5a Cavity 6 Conductive paste 7 Blanket 8 Cylinder 9 Transfer substrate 10 PDP
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Front side board | substrate 12 Transparent electrode 13 Bus electrode 17, 24 Dielectric layer 18 Protective film 21 Back side board | substrate 28R, 28G, 28B Phosphor layer 29 Bulkhead 30 Discharge space 31 Conveying device A Address electrode L Display line X, Y Display electrode

Claims (5)

オフセット印刷用の凹版であって、前記凹版の凹部に導電性ペーストからなるインクを充填し、そのインクを前記凹版からブランケット胴に転写し、転写したブランケット胴上のインクを基板に再転写する際に用いられ、
前記凹版が、前記基板と熱膨張率がほぼ同程度の材料を用いて作製された平板上に樹脂が被覆され、その樹脂に前記凹部が形成されたものであることを特徴とするオフセット印刷用の凹版。
An intaglio for offset printing, in which a concave portion of the intaglio is filled with an ink made of a conductive paste, the ink is transferred from the intaglio to a blanket cylinder, and the transferred ink on the blanket cylinder is retransferred to a substrate Used for
For intaglio printing, wherein the intaglio has a resin coated on a flat plate made of a material having substantially the same thermal expansion coefficient as the substrate, and the recess is formed in the resin. Intaglio.
前記樹脂が撥水性を有することを特徴とする請求項1記載のオフセット印刷用の凹版。   2. The intaglio for offset printing according to claim 1, wherein the resin has water repellency. 前記樹脂が感光性材料を含み、前記凹部がフォトリソグラフの手法で形成されてなる請求項1記載のオフセット印刷用の凹版。   The intaglio plate for offset printing according to claim 1, wherein the resin contains a photosensitive material, and the concave portion is formed by a photolithographic technique. 請求項1〜3のいずれか1つに記載のオフセット印刷用の凹版を用いたオフセット印刷方法であって、
前記凹版の凹部に導電性ペーストからなるインクを充填した後、前記凹版の非凹部に対応した凸部を有するクリーニング用凸版で、前記凹版の樹脂表面を清掃する工程を備えてなるオフセット印刷方法。
An offset printing method using the intaglio for offset printing according to any one of claims 1 to 3,
An offset printing method comprising: a step of cleaning a resin surface of an intaglio with a cleaning relief having a protrusion corresponding to a non-recess of the intaglio after filling a recess of the intaglio with an ink made of a conductive paste.
前記クリーニング用凸版が、ローラーの表面に前記凸部が形成されたクリーニングロールからなる請求項4記載のオフセット印刷方法。   The offset printing method according to claim 4, wherein the cleaning relief plate comprises a cleaning roll having the convex portions formed on a roller surface.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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