JP2007148312A - Coating film for optical compensation, and optical element - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To inexpensively provide a coating film for optical compensation without requiring a complicated film forming step, to provide a method for forming a coating film for optical compensation that shows a negative value of (n<SB>x</SB>+n<SB>y</SB>)/2-n<SB>z</SB>and its larger absolute value, wherein n<SB>x</SB>represents the maximum refractive index and n<SB>y</SB>represents the minimum refractive index in the film plane, n<SB>z</SB>represents a refractive index in the thickness direction, and d represents the film thickness, so as to obtain to an optical element having the same characteristics without requiring a troublesome work such as sticking a film and an optical element in a thin film state containing cellulose N-substituted carbamate, and to provide an optical element manufactured by the above method. <P>SOLUTION: The coating film for optical compensation contains cellulose N-substituted carbamate. The method for forming a coating film for optical compensation includes applying a coating liquid containing cellulose N-substituted carbamate and a solvent that can dissolve the compound on a substrate to obtain a coated substrate and drying the substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶セル等による位相差の光学補償を行うための光学補償用塗工膜、該塗工膜形成に好適な光学補償用塗工膜形成用塗工液、該光学補償用塗工膜の形成方法に関するものである。さらにはそれらを用いて製造した光学素子並びに光学素子の製造方法に関するものである。さらには光学補償フィルム(位相差フィルム)、並びに光学補償フィルムを備えた偏光板及び液晶表示装置に関するものである。   The present invention relates to an optical compensation coating film for optically compensating for a phase difference by a liquid crystal cell or the like, an optical compensation coating film-forming coating solution suitable for forming the coating film, and the optical compensation coating film. The present invention relates to a film forming method. Furthermore, it is related with the optical element manufactured using them, and the manufacturing method of an optical element. Furthermore, the present invention relates to an optical compensation film (retardation film), a polarizing plate provided with the optical compensation film, and a liquid crystal display device.

液晶表示装置には液晶セル、偏光板、その他液晶表示装置構成フィルム等の複屈折による位相差を補償して視野角の拡大を図るため、光学補償用の位相差フィルムが使用されている。このような位相差フィルムとして、例えば、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホン等のポリマーを溶液流延法、溶液流延後乾燥品の一軸延伸法、溶液流延後乾燥品の二軸延伸法、押出法、押出品の一軸延伸法、押出品の二軸延伸法、カレンダー法等によりフィルム化したものが挙げられる(例えば、特許文献1、特許文献2参照。)。このような位相差フィルムは、適用される液晶セルや偏光板、その他液晶表示装置構成フィルム等に合わせて、ポリカーボネートのような正の固有複屈折値を有する材料からなるフィルムや、ポリスチレンのような負の固有複屈折値を有する材料からなるフィルムが1枚から数枚、各々使い分けられ使用されている。これらのフィルムを用いるためには、まず、フィルム形成のために煩雑なフィルム化工程が必要であり、また、これらのフィルムを液晶表示装置構成部品に貼り付ける等の手間も要する。   In a liquid crystal display device, a phase difference film for optical compensation is used in order to compensate for a phase difference due to birefringence of a liquid crystal cell, a polarizing plate, other liquid crystal display device constituent films, etc., and to expand a viewing angle. As such a retardation film, for example, a polymer such as polycarbonate, polyester, polystyrene, polyamide, polyimide, polyethersulfone, solution casting method, uniaxial stretching method after solution casting, and drying product after solution casting. Examples thereof include a biaxial stretching method, an extrusion method, a uniaxial stretching method of an extruded product, a biaxial stretching method of the extruded product, a calendar method, and the like (for example, see Patent Document 1 and Patent Document 2). Such a retardation film is a film made of a material having a positive intrinsic birefringence value such as polycarbonate, or a film such as polystyrene, in accordance with the applied liquid crystal cell, polarizing plate, or other liquid crystal display device constituting film. One to several films made of a material having a negative intrinsic birefringence value are used separately. In order to use these films, first, a complicated film forming process is required for film formation, and it is also necessary to attach these films to liquid crystal display device components.

これらの問題を解消するために、n<n=nの光学特性を有するポリイミドのペースト塗布による薄膜形成により位相差層の形成が提案されている(例えば、特許文献3参照。)。一方、n>n≧nの光学特性をもつもの、換言すれば、〔(n+n)/2−n〕×dとして表される厚み位相差の値が負になるものについては、n>n=nの光学特性を有する化合物の塗布が提案されている。これは、光異性化しうる官能基を有する高分子化合物の溶液を塗布、乾燥後、光を照射して高分子の配向を制御するもの又は、液晶ポリマーの溶液あるいは液晶ポリマーの溶融物を塗布、乾燥後、ポリマーのガラス転移温度で熱処理して液晶を配向させ、冷却することにより配向を固定化するものである(例えば、特許文献4参照。)。しかしながら、ポリイミドのペースト塗布による位相差層形成に比べ、光異性化しうる官能基を有する高分子化合物を用いる場合は光照射をしなければならないという煩雑さがあり、液晶ポリマーを用いる場合は一般に液晶が高価であり、コスト高になるという欠点がある。 To solve these problems, formation of the retardation layer has been proposed by the thin film formation by paste coating of polyimide having the optical properties of n z <n x = n y ( e.g., see Patent Document 3.). Meanwhile, those having an optical characteristics of the n z> n x ≧ n y , in other words, [(n x + n y) / 2-n z ] that the value of the thickness retardation expressed as × d is negative for the application of the compounds with optical properties of n z> n x = n y is proposed. This is a method of applying a solution of a polymer compound having a functional group capable of photoisomerization, drying and then applying light to control the orientation of the polymer, or applying a liquid crystal polymer solution or a liquid crystal polymer melt, After drying, the liquid crystal is aligned by heat treatment at the glass transition temperature of the polymer, and the alignment is fixed by cooling (for example, see Patent Document 4). However, compared to the formation of a retardation layer by applying polyimide paste, when using a polymer compound having a functional group that can be photoisomerized, there is a complication that light irradiation has to be performed. However, there is a drawback that it is expensive and expensive.

ところで、液晶セルや偏光板、その他液晶表示装置構成フィルム等の複屈折による大きな厚み方向の位相差を補償するためには、その厚み方向の位相差の符号と逆であり、〔(n+n)/2−n〕×dで表される厚み位相差の絶対値が大きな光学補償用材料を用いることが有効である。そして、そのためには、(n+n)/2−nで表される値の絶対値が大きくなる材料を、大きくなる形成方法で形成することが特に有効である。なぜなら、(n+n)/2−nで表される値の絶対値が十分でなく膜厚を大きくする必要がある場合には、塗工膜形成後の液晶表示装置構成部品が嵩張るだけでなく、塗工膜の材料コストが増大する等の問題が生じるからである。
特開平3−33719号公報 特開平11−248939号公報 特開2001−290023号公報 特開平7−13022号公報
By the way, in order to compensate a large thickness direction retardation due to birefringence of a liquid crystal cell, a polarizing plate, and other liquid crystal display device constituting films, the sign of the retardation in the thickness direction is opposite, and [(n x + n It is effective to use an optical compensation material having a large absolute value of the thickness retardation represented by y ) / 2−n z ] × d. For that purpose, it is particularly effective to form a material having a large absolute value represented by (n x + ny ) / 2− nz by a large forming method. This is because, when the absolute value of the value represented by (n x + ny ) / 2− nz is not sufficient and the film thickness needs to be increased, the liquid crystal display device components after forming the coating film are bulky. This is because problems such as an increase in the material cost of the coating film arise.
JP-A-3-33719 JP 11-248939 A JP 2001-290023 A JP-A-7-13022

本発明の目的は、煩雑なフィルム化工程を必要とせずに光学補償用塗工膜を安価に提供することである。さらには、〔(n+n)/2−n〕×d<0の特性をもつ光学補償用塗工膜を安価に提供し、フィルム貼り付け等の手間を必要とせずにその特性を有する光学素子を提供することである。 An object of the present invention is to provide a coating film for optical compensation at a low cost without requiring a complicated film forming step. Furthermore, an optical compensation coating film having the characteristics of [(n x + ny ) / 2−n z ] × d <0 is provided at low cost, and the characteristics can be achieved without the need for film sticking or the like. An optical element is provided.

さらに、セルロース N−置換カーバメートを含有し、(n+n)/2−nで表される値が負であり、その絶対値がより大きな光学補償用塗工膜の形成方法を提供し、その形成方法を用いて製造した光学素子を提供することである。 Furthermore, the present invention provides a method for forming an optical compensation coating film that contains cellulose N-substituted carbamate, has a negative value represented by (n x + ny ) / 2- nz , and has a larger absolute value. It is to provide an optical element manufactured using the forming method.

このような課題を解決するために本発明者らは鋭意研究の結果、セルロース N−置換カーバメートを含有して形成されることを特徴とする光学補償用塗工膜により上記課題を解決できることを見出し、本発明に至った。   In order to solve such problems, the present inventors have found that the above problems can be solved by an optical compensation coating film characterized by containing cellulose N-substituted carbamate. The present invention has been reached.

すなわち本発明は、セルロース N−置換カーバメートを含有して形成されることを特徴とする光学補償用塗工膜に関する。   That is, the present invention relates to a coating film for optical compensation, which is formed containing cellulose N-substituted carbamate.

好ましい実施態様としては、セルロース N−置換カーバメートを含有して形成され、面内の屈折率のうち最大のものをn、最小のものをnとし、厚み方向の屈折率をn、膜厚をdとした時に、〔(n+n)/2−n〕×d<0の関係を満たすことを特徴とする光学補償用塗工膜に関する。 As a preferred embodiment, it is formed by containing a cellulose N- substituted carbamates, largest of the n x of the in-plane refractive index, minimum one of the n y, the refractive index in the thickness direction n z, film The present invention relates to a coating film for optical compensation characterized by satisfying a relationship of [(n x + ny ) / 2− nz ] × d <0, where d is a thickness.

好ましい実施態様としては、前記セルロース N−置換カーバメートが、セルロースの水酸基の少なくとも一つがN−置換カーバメート化されており、かつ、セルロースカーバメートの窒素原子に結合した水素原子の少なくとも一つが下記一般式(1)〜(3)から選ばれる基で置換されており、かつ、複数のN−置換基は同一又は異なって、下記一般式(1)〜(3)から選ばれる基である化合物であることを特徴とする光学補償用塗工膜に関する。   In a preferred embodiment, in the cellulose N-substituted carbamate, at least one hydroxyl group of cellulose is N-substituted carbamate, and at least one hydrogen atom bonded to a nitrogen atom of cellulose carbamate is represented by the following general formula ( It is a compound that is substituted with a group selected from 1) to (3), and the plurality of N-substituents are the same or different and are groups selected from the following general formulas (1) to (3). It is related with the coating film for optical compensation characterized by these.

Figure 2007148312
(式中R、R、R、R、Rは、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のアリールオキシ基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数7〜20のアラルキルオキシ基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。)
Figure 2007148312
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 to 20 carbon atoms. Halogenated alkyl groups, C6-C20 aryl groups, C6-C20 aryloxy groups, C7-C20 aralkyl groups, C7-C20 aralkyloxy groups, C1-C21 Represents an acyloxy group, a halogen atom, or a nitro group.)

Figure 2007148312
(式中R、R、R、R、R10、R11、R12は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。)
Figure 2007148312
(Wherein R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. Represents a halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 21 carbon atoms, a halogen atom, or a nitro group.)

Figure 2007148312
(式中R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。)
さらに本発明は、下記(A)、(B)を含有して形成される光学補償用塗工膜形成用塗工液に関する。
Figure 2007148312
(In the formula, R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. Represents a halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 21 carbon atoms, a halogen atom, or a nitro group.)
Furthermore, the present invention relates to a coating solution for forming an optical compensation coating film formed by containing the following (A) and (B).

(A)請求項1乃至請求項3記載のセルロース N−置換カーバメート
(B)(A)成分が溶解可溶な溶媒。
(A) The cellulose N-substituted carbamate according to any one of claims 1 to 3 (B) A solvent in which component (A) is soluble and soluble.

さらに本発明は、上記記載の塗工液を基板に塗工し塗工基板とした後、該塗工基板を乾燥することを特徴とする光学補償用塗工膜の形成方法に関する。   Furthermore, the present invention relates to a method for forming an optical compensation coating film, wherein the coating liquid is applied to a substrate to form a coated substrate, and then the coated substrate is dried.

好ましい実施態様としては、該塗工基板を下限0℃、上限40℃の範囲の温度で1次乾燥した後、更に、該塗工基板を下限80℃、上限300℃で2次乾燥することを特徴とする光学補償用塗工膜の形成方法に関する。   As a preferred embodiment, after the coated substrate is primarily dried at a temperature in the range of 0 ° C. lower limit and 40 ° C. upper limit, the coated substrate is further subjected to secondary drying at a lower limit of 80 ° C. and an upper limit of 300 ° C. The present invention relates to a method for forming a characteristic optical compensation coating film.

さらに本発明は、塗工液を基板に塗工し塗工基板とした後、(B)成分の蒸気にさらして塗工膜をアニーリングし、更に乾燥することを特徴とする光学補償用塗工膜の形成方法に関する。   Furthermore, the present invention provides an optical compensation coating characterized in that after a coating liquid is applied to a substrate to form a coated substrate, the coating film is annealed by exposure to the vapor of component (B) and further dried. The present invention relates to a film forming method.

さらに本発明は、上記の形成方法を用いたことを特徴とする光学素子の製造方法に関する。   Furthermore, the present invention relates to a method for manufacturing an optical element using the above-described forming method.

さらに本発明は、上記の製造方法を用いて製造したことを特徴とする光学素子に関する。   Furthermore, this invention relates to the optical element manufactured using said manufacturing method.

さらに本発明は、上記の形成方法を用いて製造したことを特徴とする光学補償フィルムに関する。   Furthermore, the present invention relates to an optical compensation film manufactured using the above-described forming method.

さらに本発明は、偏光子の少なくとも片面に光学補償フィルムを偏光子保護フィルムとして装着したことを特徴とする偏光板に関する。   Furthermore, the present invention relates to a polarizing plate characterized in that an optical compensation film is mounted on at least one surface of a polarizer as a polarizer protective film.

さらに本発明は、光学補償フィルムを備えた液晶表示装置に関する。   Furthermore, the present invention relates to a liquid crystal display device provided with an optical compensation film.

さらに本発明は、光学補償フィルムを装着した偏光板を備えた液晶表示装置に関する。   The present invention further relates to a liquid crystal display device including a polarizing plate equipped with an optical compensation film.

本発明の光学補償用塗工膜を用いると、煩雑なフィルム化工程やフィルム貼り付け等の手間を必要とせずに光学素子が製造でき、特に〔(n+n)/2−n〕×d<0の光学補償層を有する光学素子が製造できる。さらに、本発明の光学補償用塗工膜の形成方法を用いると、(n+n)/2−nで表される値が負であり、その絶対値がより大きなセルロース N−置換カーバメートを含有する光学補償用塗工膜が形成でき、より薄膜化された光学素子が製造できることから、工業的に極めて有用である。 When the coating film for optical compensation of the present invention is used, an optical element can be produced without the need for troublesome film forming steps and film sticking, and in particular, [(n x + ny ) / 2− nz ]. An optical element having an optical compensation layer of xd <0 can be manufactured. Further, when the method for forming a coating film for optical compensation of the present invention is used, a cellulose N-substituted carbamate having a larger value represented by (n x + ny ) / 2− nz having a negative negative value. Since an optical compensation coating film containing can be formed, and a thinner optical element can be manufactured, it is extremely useful industrially.

以下、本発明を詳細に説明する。本発明は、セルロース N−置換カーバメートを含有して形成されることを特徴とする光学補償用塗工膜である。   Hereinafter, the present invention will be described in detail. The present invention is a coating film for optical compensation, which is formed by containing cellulose N-substituted carbamate.

本発明の前記セルロース N−置換カーバメートは、セルロースの水酸基の少なくとも一つがN−置換カーバメート化されており、かつ、セルロースカーバメートの窒素原子に結合した水素原子の少なくとも一つが下記一般式(1)〜(3)から選ばれる基で置換されており、かつ、複数のN−置換基は同一又は異なって、下記一般式(1)〜(3)から選ばれる基である化合物であることを特徴とする光学補償用塗工膜である。   In the cellulose N-substituted carbamate of the present invention, at least one hydroxyl group of cellulose is N-substituted carbamate, and at least one hydrogen atom bonded to a nitrogen atom of cellulose carbamate is represented by the following general formula (1) to The compound is substituted with a group selected from (3), and the plurality of N-substituents are the same or different and are compounds selected from the following general formulas (1) to (3). An optical compensation coating film.

Figure 2007148312
(式中R、R、R、R、Rは、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のアリールオキシ基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数7〜20のアラルキルオキシ基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。)
Figure 2007148312
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 to 20 carbon atoms. Halogenated alkyl groups, C6-C20 aryl groups, C6-C20 aryloxy groups, C7-C20 aralkyl groups, C7-C20 aralkyloxy groups, C1-C21 Represents an acyloxy group, a halogen atom, or a nitro group.)

Figure 2007148312
(式中R、R、R、R、R10、R11、R12は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。)
Figure 2007148312
(Wherein R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. Represents a halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 21 carbon atoms, a halogen atom, or a nitro group.)

Figure 2007148312
(式中R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。)
本発明における、セルロース N−置換カーバメートは(以下(A)成分と言うことがある)、例えば、各種木材パルプ、綿リンター、綿リント等から得られるセルロースを原料とし、ピリジン、トリエチルアミン等の塩基触媒存在下でイソシアネート系化合物を反応させる既知の方法により製造することができる。尚、前記塩基触媒は溶媒としても使用することができる。その他の溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒を好適に用いることができる。更に、セルロースの溶媒に対する溶解性を向上させるために塩化リチウム等の無機塩を添加することもできる。また、このようなイソシアネート系化合物の例としては、下記一般式(4)〜(6)で表される化合物が挙げられる。
Figure 2007148312
(In the formula, R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. Represents a halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 21 carbon atoms, a halogen atom, or a nitro group.)
The cellulose N-substituted carbamate in the present invention (hereinafter sometimes referred to as the component (A)), for example, cellulose obtained from various wood pulps, cotton linters, cotton lints, and the like, and base catalysts such as pyridine and triethylamine It can be produced by a known method in which an isocyanate compound is reacted in the presence. The base catalyst can also be used as a solvent. As other solvents, amide solvents such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide can be suitably used. Furthermore, an inorganic salt such as lithium chloride can be added to improve the solubility of cellulose in a solvent. Examples of such isocyanate compounds include compounds represented by the following general formulas (4) to (6).

Figure 2007148312
(式中R20、R21、R22、R23、R24は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のアリールオキシ基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数7〜20のアラルキルオキシ基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。)
Figure 2007148312
(In the formula, R 20 , R 21 , R 22 , R 23 and R 24 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 to 20 carbon atoms. Halogenated alkyl groups, C6-C20 aryl groups, C6-C20 aryloxy groups, C7-C20 aralkyl groups, C7-C20 aralkyloxy groups, C1-C21 Represents an acyloxy group, a halogen atom, or a nitro group.)

Figure 2007148312
(式中R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。)
Figure 2007148312
(In the formula, R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , R 30 , R 31 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. Represents a halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 21 carbon atoms, a halogen atom, or a nitro group.)

Figure 2007148312
(式中R32、R33、R34、R35、R36、R37、R38は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。)
これらのイソシアネート系化合物は、単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
Figure 2007148312
(Wherein R 32 , R 33 , R 34 , R 35 , R 36 , R 37 , R 38 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. Represents a halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 21 carbon atoms, a halogen atom, or a nitro group.)
These isocyanate compounds may be used alone or in combination of two or more.

本発明では、上記イソシアネート系化合物の入手性の観点から、R20、R21、R22、R23、R24が、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜16のアルキル基、炭素数1〜16のアルコキシ基、炭素数1〜16のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜16のアリール基、炭素数6〜16のアリールオキシ基、炭素数7〜16のアラルキル基、炭素数7〜16のアラルキルオキシ基、炭素数1〜17のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である、一般式(4)で表されるイソシアネート系化合物を反応させ、前記セルロースの水酸基の少なくとも一つがN−置換カーバメート化されたセルロース N−置換カーバメートを用いることが好ましい。又はR25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35、R36、R37、R38が、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜16のアルキル基、炭素数1〜16のアルコキシ基、炭素数1〜16のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜17のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である、一般式(5)、(6)で表されるイソシアネート系化合物を反応させ、前記セルロースの水酸基の少なくとも一つがN−置換カーバメート化されたセルロース N−置換カーバメートを用いることが好ましい。R20、R21、R22、R23、R24が、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数6〜12のアリールオキシ基、炭素数7〜12のアラルキル基、炭素数7〜12のアラルキルオキシ基、炭素数1〜13のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である、一般式(4)で表されるイソシアネート系化合物を反応させ、前記セルロースの水酸基の少なくとも一つがN−置換カーバメート化されたセルロース N−置換カーバメートを用いることがより好ましい。又はR25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35、R36、R37、R38が、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜13のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である、一般式(5)、(6)で表されるイソシアネート系化合物を反応させ、前記セルロースの水酸基の少なくとも一つがN−置換カーバメート化されたセルロース N−置換カーバメートを用いることがより好ましい。 In the present invention, R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , and R 24 are the same or different from the viewpoint of availability of the isocyanate compound, and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, or a carbon number. An alkoxy group having 1 to 16 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, an aryl group having 6 to 16 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 16 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 16 carbon atoms, and 7 to 7 carbon atoms The isocyanate compound represented by the general formula (4), which is 16 aralkyloxy group, acyloxy group having 1 to 17 carbon atoms, halogen atom or nitro group, is reacted, and at least one hydroxyl group of the cellulose is N-substituted. It is preferred to use a carbamateized cellulose N-substituted carbamate. Or R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , R 30 , R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 , R 36 , R 37 , R 38 are the same or different and hydrogen A general formula which is an atom, an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 16 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 17 carbon atoms, a halogen atom, or a nitro group. It is preferable to use a cellulose N-substituted carbamate obtained by reacting the isocyanate compounds represented by (5) and (6) and at least one hydroxyl group of the cellulose is N-substituted carbamate. R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or a halogenated group having 1 to 12 carbon atoms. An alkyl group, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, an aralkyloxy group having 7 to 12 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 13 carbon atoms, It is more preferable to use a cellulose N-substituted carbamate in which an isocyanate compound represented by the general formula (4) which is a halogen atom or a nitro group is reacted and at least one of the hydroxyl groups of the cellulose is N-substituted carbamate. . Or R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , R 30 , R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 , R 36 , R 37 , R 38 are the same or different and hydrogen General formula which is an atom, a C1-C12 alkyl group, a C1-C12 alkoxy group, a C1-C12 halogenated alkyl group, a C1-C13 acyloxy group, a halogen atom, and a nitro group It is more preferable to use a cellulose N-substituted carbamate in which the isocyanate compound represented by (5) or (6) is reacted and at least one of the hydroxyl groups of the cellulose is N-substituted carbamate.

一般式(4)〜(6)で表されるイソシアネート系化合物を具体的に例示すると、フェニルイソシアネート、o−トリルイソシアネート、m−トリルイソシアネート、p−トリルイソシアネート、2−エチルフェニルイソシアネート、3−エチルフェニルイソシアネート、4−エチルフェニルイソシアネート、2−プロピルフェニルイソシアネート、3−プロピルフェニルイソシアネート、4−プロピルフェニルイソシアネート、2−ブチルフェニルイソシアネート、3−ブチルフェニルイソシアネート、4−ブチルフェニルイソシアネート、2,3−ジメチルフェニルイソシアネート、2,4−ジメチルフェニルイソシアネート、2,5−ジメチルフェニルイソシアネート、2,6−ジメチルフェニルイソシアネート、3,4−ジメチルフェニルイソシアネート、3,5−ジメチルフェニルイソシアネート、2,3−ジエチルフェニルイソシアネート、2,4−ジエチルフェニルイソシアネート、2,5−ジエチルフェニルイソシアネート、2,6−ジエチルフェニルイソシアネート、3,4−ジエチルフェニルイソシアネート、3,5−ジエチルフェニルイソシアネート、2,4,6−トリメチルフェニルイソシアネート、2−メトキシフェニルイソシアネート、3−メトキシフェニルイソシアネート、4−メトキシフェニルイソシアネート、2−エトキシフェニルイソシアネート、3−エトキシフェニルイソシアネート、4−エトキシフェニルイソシアネート、2−(フルオロメチル)フェニルイソシアネート、3−(フルオロメチル)フェニルイソシアネート、4−(フルオロメチル)フェニルイソシアネート、2−(クロロメチル)フェニルイソシアネート、3−(クロロメチル)フェニルイソシアネート、4−(クロロメチル)フェニルイソシアネート、2−(ブロモメチル)フェニルイソシアネート、3−(ブロモメチル)フェニルイソシアネート、4−(ブロモメチル)フェニルイソシアネート、2−(ヨードメチル)フェニルイソシアネート、3−(ヨードメチル)フェニルイソシアネート、4−(ヨードメチル)フェニルイソシアネート、2−(ジフルオロメチル)フェニルイソシアネート、3−(ジフルオロメチル)フェニルイソシアネート、4−(ジフルオロメチル)フェニルイソシアネート、2−(ジクロロメチル)フェニルイソシアネート、3−(ジクロロメチル)フェニルイソシアネート、4−(ジクロロメチル)フェニルイソシアネート、2−(ジブロモメチル)フェニルイソシアネート、3−(ジブロモメチル)フェニルイソシアネート、4−(ジブロモメチル)フェニルイソシアネート、2−(ジヨードメチル)フェニルイソシアネート、3−(ジヨードメチル)フェニルイソシアネート、4−(ジヨードメチル)フェニルイソシアネート、2−(トリフルオロメチル)フェニルイソシアネート、3−(トリフルオロメチル)フェニルイソシアネート、4−(トリフルオロメチル)フェニルイソシアネート、2−(トリクロロメチル)フェニルイソシアネート、3−(トリクロロメチル)フェニルイソシアネート、4−(トリクロロメチル)フェニルイソシアネート、2−(トリブロモメチル)フェニルイソシアネート、3−(トリブロモメチル)フェニルイソシアネート、4−(トリブロモメチル)フェニルイソシアネート、2−(トリヨードメチル)フェニルイソシアネート、3−(トリヨードメチル)フェニルイソシアネート、4−(トリヨードメチル)フェニルイソシアネート、2−ビフェニリルイソシアネート、3−ビフェニリルイソシアネート、4−ビフェニリルイソシアネート、2−フェノキシフェニルイソシアネート、3−フェノキシフェニルイソシアネート、4−フェノキシフェニルイソシアネート、2’−ベンジルフェニルイソシアネート、3’−ベンジルフェニルイソシアネート、4’−ベンジルフェニルイソシアネート、2−ベンジルオキシフェニルイソシアネート、3−ベンジルオキシフェニルイソシアネート、4−ベンジルオキシフェニルイソシアネート、2−アセトキシフェニルイソシアネート、3−アセトキシフェニルイソシアネート、4−アセトキシフェニルイソシアネート、2−フルオロフェニルイソシアネート、3−フルオロフェニルイソシアネート、4−フルオロフェニルイソシアネート、2−クロロフェニルイソシアネート、3−クロロフェニルイソシアネート、4−クロロフェニルイソシアネート、2−ブロモフェニルイソシアネート、3−ブロモフェニルイソシアネート、4−ブロモフェニルイソシアネート、2−ヨードフェニルイソシアネート、3−ヨードフェニルイソシアネート、4−ヨードフェニルイソシアネート、2,4−ジフルオロフェニルイソシアネート、2,5−ジフルオロフェニルイソシアネート、2,6−ジフルオロフェニルイソシアネート、3,4−ジフルオロフェニルイソシアネート、3,5−ジフルオロフェニルイソシアネート、2,4−ジクロロフェニルイソシアネート、2,5−ジクロロフェニルイソシアネート、2,6−ジクロロフェニルイソシアネート、3,4−ジクロロフェニルイソシアネート、3,5−ジクロロフェニルイソシアネート、2,4−ジブロモフェニルイソシアネート、2,5−ジブロモフェニルイソシアネート、2,6−ジブロモフェニルイソシアネート、3,4−ジブロモフェニルイソシアネート、3,5−ジブロモフェニルイソシアネート、2,4−ジヨードフェニルイソシアネート、2,5−ジヨードフェニルイソシアネート、2,6−ジヨードフェニルイソシアネート、3,4−ジヨードフェニルイソシアネート、3,5−ジヨードフェニルイソシアネート、2,3,4−トリフルオロフェニルイソシアネート、2,3,4−トリクロロフェニルイソシアネート、2,3,4−トリブロモフェニルイソシアネート、2,3,4−トリヨードフェニルイソシアネート、2−フルオロ−5−メチルフェニルイソシアネート、2−フルオロ−6−メチルフェニルイソシアネート、3−フルオロ−2−メチルフェニルイソシアネート、3−フルオロ−4−メチルフェニルイソシアネート、4−フルオロ−2−メチルフェニルイソシアネート、4−フルオロ−3−メチルフェニルイソシアネート、5−フルオロ−2−メチルフェニルイソシアネート、2−クロロ−5−メチルフェニルイソシアネート、2−クロロ−6−メチルフェニルイソシアネート、3−クロロ−2−メチルフェニルイソシアネート、3−クロロ−4−メチルフェニルイソシアネート、4−クロロ−2−メチルフェニルイソシアネート、4−クロロ−3−メチルフェニルイソシアネート、5−クロロ−2−メチルフェニルイソシアネート、2−ブロモ−5−メチルフェニルイソシアネート、2−ブロモ−6−メチルフェニルイソシアネート、3−ブロモ−2−メチルフェニルイソシアネート、3−ブロモ−4−メチルフェニルイソシアネート、4−ブロモ−2−メチルフェニルイソシアネート、4−ブロモ−3−メチルフェニルイソシアネート、5−ブロモ−2−メチルフェニルイソシアネート、2−ヨード−5−メチルフェニルイソシアネート、2−ヨード−6−メチルフェニルイソシアネート、3−ヨード−2−メチルフェニルイソシアネート、3−ヨード−4−メチルフェニルイソシアネート、4−ヨード−2−メチルフェニルイソシアネート、4−ヨード−3−メチルフェニルイソシアネート、5−ヨード−2−メチルフェニルイソシアネート、2−ニトロフェニルイソシアネート、3−ニトロフェニルイソシアネート、4−ニトロフェニルイソシアネート、1−ナフチルイソシアネート、2−ナフチルイソシアネート、1−メチル−2−ナフチルイソシアネート、2−メチル−1−ナフチルイソシアネート、1−メトキシ−2−ナフチルイソシアネート、2−メトキシ−1−ナフチルイソシアネート、1−(トリフルオロメチル)−2−ナフチルイソシアネート、2−(トリフルオロメチル)−1−ナフチルイソシアネート、1−(トリクロロメチル)−2−ナフチルイソシアネート、2−(トリクロロメチル)−1−ナフチルイソシアネート、1−(トリブロモメチル)−2−ナフチルイソシアネート、2−(トリブロモメチル)−1−ナフチルイソシアネート、1−(トリヨードメチル)−2−ナフチルイソシアネート、2−(トリヨードメチル)−1−ナフチルイソシアネート、1−アセトキシ−2−ナフチルイソシアネート、2−アセトキシ−1−ナフチルイソシアネート、1−フルオロ−2−ナフチルイソシアネート、2−フルオロ−1−ナフチルイソシアネート、1−クロロ−2−ナフチルイソシアネート、2−クロロ−1−ナフチルイソシアネート、1−ブロモ−2−ナフチルイソシアネート、2−ブロモ−1−ナフチルイソシアネート、1−ヨード−2−ナフチルイソシアネート、2−ヨード−1−ナフチルイソシアネート、1−ニトロ−2−ナフチルイソシアネート、2−ニトロ−1−ナフチルイソシアネート等が挙げられる。これら及び前記イソシアネート系化合物を反応して得られるセルロース N−置換カーバメートは、単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   Specific examples of the isocyanate compounds represented by the general formulas (4) to (6) include phenyl isocyanate, o-tolyl isocyanate, m-tolyl isocyanate, p-tolyl isocyanate, 2-ethylphenyl isocyanate, 3-ethyl. Phenyl isocyanate, 4-ethylphenyl isocyanate, 2-propylphenyl isocyanate, 3-propylphenyl isocyanate, 4-propylphenyl isocyanate, 2-butylphenyl isocyanate, 3-butylphenyl isocyanate, 4-butylphenyl isocyanate, 2,3-dimethyl Phenyl isocyanate, 2,4-dimethylphenyl isocyanate, 2,5-dimethylphenyl isocyanate, 2,6-dimethylphenyl isocyanate, 3,4-dimethylphenol Nyl isocyanate, 3,5-dimethylphenyl isocyanate, 2,3-diethylphenyl isocyanate, 2,4-diethylphenyl isocyanate, 2,5-diethylphenyl isocyanate, 2,6-diethylphenyl isocyanate, 3,4-diethylphenyl isocyanate 3,5-diethylphenyl isocyanate, 2,4,6-trimethylphenyl isocyanate, 2-methoxyphenyl isocyanate, 3-methoxyphenyl isocyanate, 4-methoxyphenyl isocyanate, 2-ethoxyphenyl isocyanate, 3-ethoxyphenyl isocyanate, 4 -Ethoxyphenyl isocyanate, 2- (fluoromethyl) phenyl isocyanate, 3- (fluoromethyl) phenyl isocyanate, 4- (full (Romethyl) phenyl isocyanate, 2- (chloromethyl) phenyl isocyanate, 3- (chloromethyl) phenyl isocyanate, 4- (chloromethyl) phenyl isocyanate, 2- (bromomethyl) phenyl isocyanate, 3- (bromomethyl) phenyl isocyanate, 4- (Bromomethyl) phenyl isocyanate, 2- (iodomethyl) phenyl isocyanate, 3- (iodomethyl) phenyl isocyanate, 4- (iodomethyl) phenyl isocyanate, 2- (difluoromethyl) phenyl isocyanate, 3- (difluoromethyl) phenyl isocyanate, 4- (Difluoromethyl) phenyl isocyanate, 2- (dichloromethyl) phenyl isocyanate, 3- (dichloromethyl) phenyl isocyanate, 4- (dichloromethyl) phenyl isocyanate, 2- (dibromomethyl) phenyl isocyanate, 3- (dibromomethyl) phenyl isocyanate, 4- (dibromomethyl) phenyl isocyanate, 2- (diiodomethyl) phenyl isocyanate, 3- (diiodomethyl) phenyl Isocyanate, 4- (diiodomethyl) phenyl isocyanate, 2- (trifluoromethyl) phenyl isocyanate, 3- (trifluoromethyl) phenyl isocyanate, 4- (trifluoromethyl) phenyl isocyanate, 2- (trichloromethyl) phenyl isocyanate, 3 -(Trichloromethyl) phenyl isocyanate, 4- (trichloromethyl) phenyl isocyanate, 2- (tribromomethyl) phenyl isocyanate, 3 (Tribromomethyl) phenyl isocyanate, 4- (tribromomethyl) phenyl isocyanate, 2- (triiodomethyl) phenyl isocyanate, 3- (triiodomethyl) phenyl isocyanate, 4- (triiodomethyl) phenyl isocyanate, 2- Biphenylyl isocyanate, 3-biphenylyl isocyanate, 4-biphenylyl isocyanate, 2-phenoxyphenyl isocyanate, 3-phenoxyphenyl isocyanate, 4-phenoxyphenyl isocyanate, 2′-benzylphenyl isocyanate, 3′-benzylphenyl isocyanate, 4 ′ -Benzylphenyl isocyanate, 2-benzyloxyphenyl isocyanate, 3-benzyloxyphenyl isocyanate, 4-benzyloxyphenyl Nyl isocyanate, 2-acetoxyphenyl isocyanate, 3-acetoxyphenyl isocyanate, 4-acetoxyphenyl isocyanate, 2-fluorophenyl isocyanate, 3-fluorophenyl isocyanate, 4-fluorophenyl isocyanate, 2-chlorophenyl isocyanate, 3-chlorophenyl isocyanate, 4 -Chlorophenyl isocyanate, 2-bromophenyl isocyanate, 3-bromophenyl isocyanate, 4-bromophenyl isocyanate, 2-iodophenyl isocyanate, 3-iodophenyl isocyanate, 4-iodophenyl isocyanate, 2,4-difluorophenyl isocyanate, 2, 5-difluorophenyl isocyanate, 2,6-difluorophenyl isocyanate 3,4-difluorophenyl isocyanate, 3,5-difluorophenyl isocyanate, 2,4-dichlorophenyl isocyanate, 2,5-dichlorophenyl isocyanate, 2,6-dichlorophenyl isocyanate, 3,4-dichlorophenyl isocyanate, 3,5- Dichlorophenyl isocyanate, 2,4-dibromophenyl isocyanate, 2,5-dibromophenyl isocyanate, 2,6-dibromophenyl isocyanate, 3,4-dibromophenyl isocyanate, 3,5-dibromophenyl isocyanate, 2,4-diiodophenyl Isocyanate, 2,5-diiodophenyl isocyanate, 2,6-diiodophenyl isocyanate, 3,4-diiodophenyl isocyanate, 3,5-diiod Phenyl isocyanate, 2,3,4-trifluorophenyl isocyanate, 2,3,4-trichlorophenyl isocyanate, 2,3,4-tribromophenyl isocyanate, 2,3,4-triiodophenyl isocyanate, 2-fluoro- 5-methylphenyl isocyanate, 2-fluoro-6-methylphenyl isocyanate, 3-fluoro-2-methylphenyl isocyanate, 3-fluoro-4-methylphenyl isocyanate, 4-fluoro-2-methylphenyl isocyanate, 4-fluoro- 3-methylphenyl isocyanate, 5-fluoro-2-methylphenyl isocyanate, 2-chloro-5-methylphenyl isocyanate, 2-chloro-6-methylphenyl isocyanate, 3-chloro-2-methylphenol Isocyanate, 3-chloro-4-methylphenyl isocyanate, 4-chloro-2-methylphenyl isocyanate, 4-chloro-3-methylphenyl isocyanate, 5-chloro-2-methylphenyl isocyanate, 2-bromo-5-methyl Phenyl isocyanate, 2-bromo-6-methylphenyl isocyanate, 3-bromo-2-methylphenyl isocyanate, 3-bromo-4-methylphenyl isocyanate, 4-bromo-2-methylphenyl isocyanate, 4-bromo-3-methyl Phenyl isocyanate, 5-bromo-2-methylphenyl isocyanate, 2-iodo-5-methylphenyl isocyanate, 2-iodo-6-methylphenyl isocyanate, 3-iodo-2-methylphenyl isocyanate, 3- Iodo-4-methylphenyl isocyanate, 4-iodo-2-methylphenyl isocyanate, 4-iodo-3-methylphenyl isocyanate, 5-iodo-2-methylphenyl isocyanate, 2-nitrophenyl isocyanate, 3-nitrophenyl isocyanate, 4-nitrophenyl isocyanate, 1-naphthyl isocyanate, 2-naphthyl isocyanate, 1-methyl-2-naphthyl isocyanate, 2-methyl-1-naphthyl isocyanate, 1-methoxy-2-naphthyl isocyanate, 2-methoxy-1-naphthyl Isocyanate, 1- (trifluoromethyl) -2-naphthyl isocyanate, 2- (trifluoromethyl) -1-naphthyl isocyanate, 1- (trichloromethyl) -2-naphthyl isocyanate 2- (trichloromethyl) -1-naphthyl isocyanate, 1- (tribromomethyl) -2-naphthyl isocyanate, 2- (tribromomethyl) -1-naphthyl isocyanate, 1- (triiodomethyl) -2-naphthyl isocyanate 2- (triiodomethyl) -1-naphthyl isocyanate, 1-acetoxy-2-naphthyl isocyanate, 2-acetoxy-1-naphthyl isocyanate, 1-fluoro-2-naphthyl isocyanate, 2-fluoro-1-naphthyl isocyanate, 1-chloro-2-naphthyl isocyanate, 2-chloro-1-naphthyl isocyanate, 1-bromo-2-naphthyl isocyanate, 2-bromo-1-naphthyl isocyanate, 1-iodo-2-naphthyl isocyanate, 2-iodo-1 -Naphth Isocyanate, 1-nitro-2-naphthyl isocyanate, 2-nitro-1-naphthyl isocyanate, and the like. The cellulose N-substituted carbamates obtained by reacting these and the isocyanate compounds may be used alone or in combination of two or more.

また、セルロースはその構成単位であるグルコース残基当たり3個の水酸基を有している。従って、これらの水酸基を置換する場合に、グルコース残基当たりの置換度(以下、DSと称する)は最大3になる。本発明においては、DSの下限は好ましくは0.1、より好ましくは0.5、さらに好ましくは1であり、上限は好ましくは3、より好ましくは2.95、さらに好ましくは2.9である。DSが0.1より低いと溶媒に溶け難くなる傾向がある。本発明では、DSが異なるセルロース N−置換カーバメートの2種以上を併用してもよく、単独で使用してもよい。   Cellulose has three hydroxyl groups per glucose residue, which is its structural unit. Therefore, when these hydroxyl groups are substituted, the degree of substitution per glucose residue (hereinafter referred to as DS) is 3 at maximum. In the present invention, the lower limit of DS is preferably 0.1, more preferably 0.5, still more preferably 1, and the upper limit is preferably 3, more preferably 2.95, and even more preferably 2.9. . When DS is lower than 0.1, it tends to be difficult to dissolve in a solvent. In the present invention, two or more cellulose N-substituted carbamates having different DSs may be used in combination, or may be used alone.

さらに、(A)成分の数平均分子量の下限は好ましくは5000、より好ましくは8000、さらに好ましくは10000であり、上限は好ましくは500000、より好ましくは300000、さらに好ましくは200000である。数平均分子量が5000より小さいと塗工膜強度が低下する傾向があり、数平均分子量が500000より大きいと溶媒(以下(B)成分と言うことがある)に溶け難くなる傾向がある。なお、当該数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法により測定した値である。本発明では、数平均分子量が異なるセルロース N−置換カーバメートの2種以上を併用してもよく、単独で使用してもよい。   Furthermore, the lower limit of the number average molecular weight of the component (A) is preferably 5000, more preferably 8000, and still more preferably 10,000, and the upper limit is preferably 500,000, more preferably 300,000, still more preferably 200,000. When the number average molecular weight is less than 5,000, the coating film strength tends to be reduced, and when the number average molecular weight is more than 500,000, it tends to be difficult to dissolve in a solvent (hereinafter sometimes referred to as component (B)). The number average molecular weight is a value measured by a gel permeation chromatography (GPC) method. In the present invention, two or more cellulose N-substituted carbamates having different number average molecular weights may be used in combination, or may be used alone.

以下、光学補償用塗工膜形成用塗工液(以下、単に塗工液と言うことがある)について説明する。塗工液は、(A)前記セルロース N−置換カーバメート、(B)(A)成分が溶解可溶な溶媒、を含有してなる。   Hereinafter, a coating solution for forming an optical compensation coating film (hereinafter sometimes simply referred to as a coating solution) will be described. The coating liquid contains (A) the cellulose N-substituted carbamate and (B) a solvent in which the component (A) is soluble and soluble.

(B)成分の溶媒としては、(A)成分が可溶であれば特に限定されるものではないが、具体的な例としては、ベンゼン、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ジエチルベンゼンの異性体混合物等の炭化水素系溶媒;メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、フルフリルアルコール、ベンジルアルコール等のアルコール系溶媒;エチルエーテル、イソプロピルエーテル、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;アセトン、2−ブタノン、4−メチル−2−ペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン、1,1,1,2−テトラクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、1−クロロプロパン、2−クロロプロパン、1,1−ジクロロプロパン、1,2−ジクロロプロパン、1,3−ジクロロプロパン、2,2−ジクロロプロパン、1,2,3−トリクロロプロパン、クロロベンゼン、1,2−ジクロロベンゼン、1,3−ジクロロベンゼン、1,4−ジクロロベンゼン、1,2,3−トリクロロベンゼン、1,2,4−トリクロロベンゼン、1,3,5−トリクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエステル系溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、1−メチル−2−ピロリジノン等のアミド系溶媒;ピロリジン、ピペリジン、ピロール等のアミン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   The solvent for the component (B) is not particularly limited as long as the component (A) is soluble. Specific examples include benzene, toluene, o-xylene, m-xylene, and p-xylene. Hydrocarbon solvents such as isomer mixtures of ethylbenzene, isopropylbenzene and diethylbenzene; methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, furfuryl alcohol, Alcohol solvents such as benzyl alcohol; ether solvents such as ethyl ether, isopropyl ether, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, tetrahydropyran, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane; acetone, 2-butanone, 4 -Methyl-2-pentanone, cyclohexanone Ketone solvents: methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, 1,1,1-trichloroethane, 1,1,2-trichloroethane, 1,1,1,2-tetrachloroethane, 1,1 , 2,2-tetrachloroethane, pentachloroethane, hexachloroethane, 1-chloropropane, 2-chloropropane, 1,1-dichloropropane, 1,2-dichloropropane, 1,3-dichloropropane, 2,2-dichloropropane, 1,2,3-trichloropropane, chlorobenzene, 1,2-dichlorobenzene, 1,3-dichlorobenzene, 1,4-dichlorobenzene, 1,2,3-trichlorobenzene, 1,2,4-trichlorobenzene, Halogen solvents such as 1,3,5-trichlorobenzene; methyl acetate, ethyl acetate, acetic acid Ester solvents such as propyl, isopropyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl cellosolve acetate; amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1-methyl-2-pyrrolidinone; Examples include amine solvents such as pyrrolidine, piperidine, and pyrrole. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

本発明では、溶媒量は、(A)成分と(B)成分の総重量に対する(A)成分の割合が下限1重量%、上限70重量%の範囲で用いるのが好ましく、下限2重量%、上限60重量%の範囲で用いるのがより好ましく、下限3重量%、上限50重量%の範囲で用いるのがさらに好ましい。(A)成分の割合が1重量%より小さい場合は塗工膜厚が薄くなり、必要な膜厚が得られ難くなる傾向があり、70重量%より大きい場合は塗工液の粘度が高くなり、作業性が劣る傾向がある。   In the present invention, the amount of the solvent is preferably such that the ratio of the component (A) to the total weight of the components (A) and (B) is 1% by weight lower limit and 70% by weight upper limit, More preferably, the upper limit is 60% by weight, and the lower limit is 3% by weight and the upper limit is 50% by weight. When the proportion of the component (A) is less than 1% by weight, the coating film thickness tends to be thin and the required film thickness tends to be difficult to obtain, and when it is greater than 70% by weight, the viscosity of the coating liquid increases. , Workability tends to be inferior.

次に、本発明の塗工膜の特性を改質する目的で添加することが可能な樹脂について説明する。当該添加することが可能な樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂等が例示されるが、これらは本発明の目的及び効果を損なわない範囲において添加することができる。   Next, resins that can be added for the purpose of modifying the properties of the coating film of the present invention will be described. The resins that can be added include polycarbonate resin, acrylic resin, polyester resin, polystyrene resin, polyolefin resin, polyamide resin, polyimide resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, polyethersulfone resin, polyarylate resin, epoxy. Resins, silicone resins, phenol resins, urethane resins and the like are exemplified, but these can be added within a range that does not impair the object and effect of the present invention.

次に、本発明の塗工膜、塗工液の特性を改質する目的で加えることが可能な添加剤について説明する。添加剤としては、酸化防止剤(例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製IRGANOX 1010、IRGANOX 1135、IRGANOX 1330等のヒンダードフェノール類)、加工安定剤(例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製HP−136、IRGANOX E201、IRGAFOS 168等)、光安定剤(例えば、三共ライフテック製サノールLS−765、サノールLS−770等のヒンダードアミン類)、紫外線吸収剤(例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製TINUVIN P、TINUVIN 213、TINUVIN 326等のベンゾトリアゾール類)、接着性改良剤(例えば、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤)、シラノール縮合触媒(例えば、川研ファインケミカル製アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルミキレートM等のアルミニウムキレート類)、可塑剤(例えば、ジ2−エチルヘキシルフタレート、ジイソブチルアジペート等のエステル類)、界面活性剤(例えば、住友スリーエム製Fluorad FC−430、Fluorad FC−4430等のフッ素系化合物)、帯電防止剤(例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製IRGASTAT P18、IRGASTAT P22等)等が挙げられ、これらは本発明の目的及び効果を損なわない範囲において添加することができる。   Next, additives that can be added for the purpose of modifying the properties of the coating film and coating solution of the present invention will be described. Additives include antioxidants (eg, hindered phenols such as IRGANOX 1010, IRGANOX 1135, IRGANOX 1330, etc. manufactured by Ciba Specialty Chemicals), processing stabilizers (eg, HP-136, IRGANOX manufactured by Ciba Specialty Chemicals). E201, IRGAFOS 168, etc.), light stabilizers (eg, hindered amines such as Sanol LS-765 and Sanol LS-770 manufactured by Sankyo Lifetech), ultraviolet absorbers (eg, TINUVIN P, TINUVIN 213 manufactured by Ciba Specialty Chemicals) Benzotriazoles such as TINUVIN 326), adhesion improvers (eg, silane compounds such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane) Pulling agent), silanol condensation catalyst (for example, aluminum tris (ethyl acetoacetate) manufactured by Kawaken Fine Chemicals, aluminum chelate M, etc.), plasticizer (for example, esters such as di-2-ethylhexyl phthalate, diisobutyl adipate) And surfactants (for example, fluorine compounds such as Fluorad FC-430 and Fluorad FC-4430 manufactured by Sumitomo 3M), antistatic agents (for example, IRGASTAT P18 and IRGASTAT P22 manufactured by Ciba Specialty Chemicals), and the like. These can be added as long as the objects and effects of the present invention are not impaired.

本発明の塗工液は、例えば上記各成分を溶媒の融点以上、沸点以下の温度で、混合後静置又は攪拌混合等することにより得られる。   The coating liquid of the present invention can be obtained, for example, by mixing the above-mentioned components at a temperature not lower than the melting point of the solvent and not higher than the boiling point, after standing, or by stirring and mixing.

次に、光学素子用の基板について説明する。基板としては、各種のものが使用可能であるが、特に用途から考えると透明であることが好ましい。基板に使用される具体的な化合物の例としては、ビスフェノールAと塩化カルボニルより重縮合して製造されたポリカーボネート系重合体;ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のポリアクリル酸エステル;アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の2塩基酸とエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール等のグリコールとの縮合又はラクトン類の開環重合で得られるポリエステル系重合体;ポリスチレン、ポリ(α−メチルスチレン)等のスチレン系重合体;アクリル酸エステルとスチレンとの共重合体;ポリエチレン、ポリノルボルネン、ポリイソプレンの水素添加物、ポリブタジエンの水素添加物等のポリオレフィン系重合体;トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂;ナイロン6、ナイロン66等のポリアミド;ポリイミド;ポリアミドイミド;ポリビニルアルコール;塩化ビニル;ポリエーテルスルホン;エポキシ樹脂;シリコーン樹脂;国際公開第01/37007号パンフレットに記載される化合物等が挙げられる。基板としては、これらのポリマーを溶液流延法、溶液流延後乾燥品の一軸延伸法、溶液流延後乾燥品の二軸延伸法、押出法、押出品の一軸延伸法、押出品の二軸延伸法、カレンダー法等によりフィルム化したもの、これらのフィルムを保護フィルムとして偏光子に貼り付けた偏光板、ガラス板、カラーフィルター、液晶セル等が挙げられる。これらの基板は、光学補償用塗工膜形成時の基板としても用いることができる。   Next, the substrate for the optical element will be described. Various substrates can be used as the substrate, but it is preferable that the substrate is transparent particularly from the viewpoint of use. Specific examples of compounds used for the substrate include polycarbonate polymers produced by polycondensation from bisphenol A and carbonyl chloride; polyacrylates such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate; adipic acid Polyester polymers obtained by condensation of dibasic acids such as phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid with glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol and neopentyl glycol, or ring-opening polymerization of lactones Styrene polymers such as polystyrene and poly (α-methylstyrene); copolymers of acrylate and styrene; polyolefins such as polyethylene, polynorbornene, polyisoprene hydrogenated, polybutadiene hydrogenated Coalescence Cellulosic resins such as triacetyl cellulose; polyamides such as nylon 6 and nylon 66; polyimides; polyamideimides; polyvinyl alcohol; vinyl chloride; polyethersulfone; And the like. As a substrate, these polymers can be used as a solution casting method, a uniaxial stretching method of a dried product after solution casting, a biaxial stretching method of a dried product after solution casting, an extrusion method, a uniaxial stretching method of an extruded product, Examples thereof include a film formed by an axial stretching method, a calendar method, etc., a polarizing plate, a glass plate, a color filter, a liquid crystal cell, etc., which are attached to a polarizer using these films as protective films. These substrates can also be used as substrates when forming an optical compensation coating film.

次に、本発明の光学補償用塗工膜の形成方法について説明する。光学補償用塗工膜は、前記基板の片面又は両面に本発明の塗工液を塗工して塗工基板とした後、この塗工基板を乾燥することにより基板上に好適に作製できる。塗工方法としては、グラビヤロールコート法、マイヤーバーコート法、ドクターブレードコート法、リバースロールコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カレンダーコート法、スキーズコート法、キスコート法、バーコート法、スロットダイコート法、スピンコート法等が挙げられる。   Next, the method for forming the optical compensation coating film of the present invention will be described. The coating film for optical compensation can be suitably prepared on a substrate by applying the coating liquid of the present invention to one or both sides of the substrate to form a coated substrate, and then drying the coated substrate. As coating methods, gravure roll coating method, Mayer bar coating method, doctor blade coating method, reverse roll coating method, dip coating method, air knife coating method, calendar coating method, skies coating method, kiss coating method, bar coating method , Slot die coating method, spin coating method and the like.

乾燥方法としては、前記塗工基板を、例えば空気中又は窒素等の不活性ガス中に放置(風乾)する方法、熱風オーブン、赤外線加熱炉等で加熱乾燥する方法、真空乾燥機等で減圧乾燥する方法等により、あるいはこれらを組み合わせて行うことができる。   As a drying method, the coated substrate is left (air dried) in an inert gas such as air or nitrogen, a method of heat drying in a hot air oven, an infrared heating furnace, or the like, and vacuum drying with a vacuum dryer or the like. It can carry out by the method to carry out, etc. or combining these.

乾燥温度条件としては、定温、多段階昇温のいずれも用いることができる。定温の場合、下限−30℃、上限300℃の温度範囲が好ましく、下限0℃、上限280℃がより好ましく、下限10℃、上限260℃がさらに好ましい。乾燥温度が−30℃より低いと乾燥時間が長くなる傾向があり、300℃より高いと塗工膜や基板の熱劣化が生じ易くなる傾向がある。このような定温乾燥を用いることができるが、効果的に乾燥させるためには多段階に温度を上げることが好ましく、経済的観点から1次乾燥、2次乾燥の2段乾燥が特に好ましい。   As the drying temperature condition, either constant temperature or multistage temperature increase can be used. In the case of constant temperature, a temperature range of a lower limit of −30 ° C. and an upper limit of 300 ° C. is preferable, a lower limit of 0 ° C. and an upper limit of 280 ° C. are more preferable, and a lower limit of 10 ° C. and an upper limit of 260 ° C. are more preferable. When the drying temperature is lower than −30 ° C., the drying time tends to be longer, and when it is higher than 300 ° C., the coating film and the substrate tend to be thermally deteriorated. Although such constant temperature drying can be used, in order to dry effectively, it is preferable to raise the temperature in multiple stages, and from the economical viewpoint, primary drying and secondary drying are particularly preferable.

1次乾燥においては、下限0℃、上限40℃の温度範囲が好ましく、下限5℃、上限35℃がより好ましく、下限10℃、上限30℃がさらに好ましい。1次乾燥は、(n+n)/2−nで表される値の絶対値をより大きくするために必要な塗工膜内部構造の基礎形成に必要である。1次乾燥温度が0℃より低いと塗工膜内部構造の基礎形成に必要な乾燥時間が長くなる傾向があり、40℃より高いと、(n+n)/2−nで表される値の絶対値をより大きくするために必要な塗工膜内部構造の基礎形成がされ難くなる傾向がある。 In primary drying, a temperature range with a lower limit of 0 ° C. and an upper limit of 40 ° C. is preferred, a lower limit of 5 ° C. and an upper limit of 35 ° C. are more preferred, and a lower limit of 10 ° C. and an upper limit of 30 ° C. are more preferred. Primary drying is necessary for the basic formation of the inner structure of the coating film necessary to increase the absolute value of the value represented by (n x + ny ) / 2− nz . When the primary drying temperature is lower than 0 ° C., the drying time required for the basic formation of the inner structure of the coating film tends to be longer. When the primary drying temperature is higher than 40 ° C., it is expressed by (n x + ny ) / 2− nz There is a tendency that it becomes difficult to form the foundation of the internal structure of the coating film necessary for increasing the absolute value of the value to be determined.

2次乾燥においては、下限80℃、上限300℃の温度範囲が好ましく、下限90℃、上限280℃がより好ましく、下限100℃、上限260℃がさらに好ましい。2次乾燥は、(n+n)/2−nで表される値の絶対値をより大きくするために必要な塗工膜内部構造の確立に必要である。2次乾燥温度が80℃より低いと塗工膜内部構造の確立が不十分になる傾向があり、300℃より高いと塗工膜や基板の熱劣化が生じ易くなる傾向がある。尚、(n+n)/2−nで表される値の絶対値が十分に大きい時、確立された塗工膜内部構造は透過型電子顕微鏡(TEM)等で塗工膜断面から観察することができる。 In secondary drying, a temperature range of a lower limit of 80 ° C. and an upper limit of 300 ° C. is preferred, a lower limit of 90 ° C. and an upper limit of 280 ° C. are more preferred, and a lower limit of 100 ° C. and an upper limit of 260 ° C. are more preferred. Secondary drying is necessary to establish the coating film internal structure necessary to increase the absolute value of the value represented by (n x + ny ) / 2− nz . When the secondary drying temperature is lower than 80 ° C., the establishment of the internal structure of the coating film tends to be insufficient, and when it is higher than 300 ° C., thermal deterioration of the coating film or the substrate tends to occur. In addition, when the absolute value of the value represented by (n x + ny ) / 2− nz is sufficiently large, the established internal structure of the coating film is observed from the cross section of the coating film with a transmission electron microscope (TEM) or the like. Can be observed.

さらに本発明は、塗工液を基板に塗工し塗工基板とした後、(B)成分の蒸気にさらして塗工膜をアニーリングし、更に乾燥することにより光学補償用塗工膜の形成方法とすることもできる。   Furthermore, the present invention provides a coating film for optical compensation by coating a coating solution on a substrate to form a coated substrate, then exposing the coating film to the vapor of component (B), and further drying the coating film. It can also be a method.

アニーリングは塗工膜のレベリング性向上、応力緩和等のために行うことが好ましく、例えば面内位相差の低減、面内位相差の振れの低減等に有効である。本発明では、アニーリングは、(B)成分の蒸気中に塗工基板の塗工膜を上にして水平に静置して行うことが好ましい。アニーリング時の温度は種々設定できるが、下限−30℃、上限〔(B)成分の沸点(℃)〕の範囲が好ましく、下限−15℃、上限〔(B)成分の沸点(℃)−5℃〕がより好ましく、下限0℃、上限〔(B)成分の沸点(℃)−10℃〕がさらに好ましい。アニーリング時の温度が−30℃より低いとアニーリング時間が長くなる傾向があり、アニーリング時の温度が(B)成分の沸点(℃)より高いと塗工膜の基板からの流れ出しが生じ易くなる傾向がある。アニーリング時の圧力は種々設定でき、大気圧、加圧下、又は減圧下で行うことができるが、作業性の点で大気圧が好ましい。   Annealing is preferably performed in order to improve the leveling property of the coating film and to relieve stress. For example, it is effective for reducing in-plane retardation and reducing in-plane retardation. In the present invention, the annealing is preferably performed in the vapor of the component (B) with the coating film of the coating substrate facing up and left still horizontally. The temperature at the time of annealing can be variously set, but the lower limit is preferably −30 ° C. and the upper limit [(B) component boiling point (° C.)], and the lower limit is −15 ° C. and the upper limit [(B) component boiling point (° C.) −5 ° C.] is more preferable, and the lower limit is 0 ° C., and the upper limit [(B) component boiling point (° C.) − 10 ° C.] is more preferable. If the annealing temperature is lower than −30 ° C., the annealing time tends to be longer, and if the annealing temperature is higher than the boiling point (° C.) of the component (B), the coating film tends to flow out from the substrate. There is. The pressure at the time of annealing can be set variously and can be performed under atmospheric pressure, pressurization, or reduced pressure, but atmospheric pressure is preferable in terms of workability.

次に、本発明の光学素子の製造方法について説明する。ここでいう光学素子は、基板と該基板上に塗工された光学補償用塗工膜からなる。また該光学補償用塗工膜を該基板から一旦引き剥がした後、光学用に使用する素子も含む。   Next, the manufacturing method of the optical element of this invention is demonstrated. The optical element here is composed of a substrate and an optical compensation coating film coated on the substrate. In addition, the optical compensation coating film is once peeled off from the substrate and then used for optical use.

光学素子は、前記基板の片面又は両面に本発明の塗工液を前記光学補償用塗工膜の形成方法で説明した塗工方法を用いて塗工後、乾燥、又は同光学補償用塗工膜の形成方法で説明した塗工方法を用いて塗工後、アニーリング、乾燥することにより好適に製造できる。   The optical element is coated on the one surface or both surfaces of the substrate using the coating method described in the method for forming the optical compensation coating film, followed by drying or the optical compensation coating. It can manufacture suitably by annealing and drying after application | coating using the coating method demonstrated by the formation method of a film | membrane.

乾燥は、同光学補償用塗工膜の形成方法で説明した乾燥方法、乾燥温度を用いることにより好適に行うことができる。   Drying can be suitably performed by using the drying method and drying temperature described in the method for forming the optical compensation coating film.

本発明の光学補償用塗工膜は、面内の屈折率のうち最大のものをn、最小のものをnとし、厚み方向の屈折率をn、膜厚をdとした時に、〔(n+n)/2−n〕×d<0の特性をもつことが好ましい。特に、前記セルロース N−置換カーバメートを(B)成分として例示した溶媒等に溶解した溶液を用い、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔(n+n)/2−n〕×d<0の関係を満たすセルロース N−置換カーバメートを含有して形成した光学補償用塗工膜により前記特性が得られることが好ましい。光学補償用塗工膜の厚みをd(nm)とすると、面内位相差は、(n−n)×dで表され、厚み位相差は、〔(n+n)/2−n〕×dで表されるが、面内位相差は590nm光による測定において、下限0nm、上限300nmが好ましく、下限0nm、上限200nmがより好ましく、下限0nm、上限100nmがさらに好ましい。面内位相差が300nmより大きいと液晶セル等の複屈折による位相差の補償が困難になる傾向がある。また、厚み位相差は590nm光による測定において、下限−1000nm、上限−1nmが好ましく、下限−800nm、上限−10nmがより好ましく、下限−600nm、上限−20nmがさらに好ましい。厚み位相差が−1000nmより小さいと液晶セル等の複屈折による位相差の補償が困難になる傾向がある。 Optical compensation for coated films of the present invention, largest of the n x of the in-plane refractive index, minimum one of the n y, the refractive index in the thickness direction n z, the thickness is taken as d, It is preferable to have a characteristic of [(n x + n y ) / 2−n z ] × d <0. In particular, in an unstretched film formed by a solution casting method using a solution in which the cellulose N-substituted carbamate is dissolved in the solvent exemplified as the component (B), [(n x + ny ) / 2− nz ] × It is preferable that the above characteristics be obtained by an optical compensation coating film formed by containing cellulose N-substituted carbamate satisfying the relationship of d <0. When the thickness of the optical compensation for coated film and d (nm), the in-plane retardation is represented by (n x -n y) × d , the thickness retardation, [(n x + n y) / 2- nz ] × d, but the in-plane retardation is preferably 0 nm lower limit and 300 nm upper limit, more preferably 0 nm lower limit and 200 nm upper limit, and more preferably 0 nm lower limit and 100 nm upper limit in the measurement with 590 nm light. If the in-plane retardation is larger than 300 nm, it tends to be difficult to compensate for the retardation due to birefringence in a liquid crystal cell or the like. In addition, the thickness retardation is preferably measured at 590 nm using a lower limit of −1000 nm and an upper limit of −1 nm, more preferably a lower limit of −800 nm and an upper limit of −10 nm, and even more preferably a lower limit of −600 nm and an upper limit of −20 nm. If the thickness phase difference is smaller than −1000 nm, it tends to be difficult to compensate for the phase difference due to birefringence in a liquid crystal cell or the like.

次に、本発明の光学補償フィルム(位相差フィルム)について説明する。光学補償フィルム(位相差フィルム)は、前記光学素子用の基板として例示したもののなかでフィルム化したものを使用し、前記光学補償用塗工膜の形成方法を用いて光学補償層を形成することにより好適に作製できる。   Next, the optical compensation film (retardation film) of the present invention will be described. The optical compensation film (retardation film) is a film formed from those exemplified as the substrate for the optical element, and the optical compensation layer is formed using the method for forming the optical compensation coating film. Can be more suitably produced.

次に、本発明の偏光板について説明する。偏光板としては、例えば、偏光子の両面にポリエステル系接着剤、ポリアクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、シアノアクリル系接着剤、ポリウレタン系接着剤等の接着剤を用いて保護フィルムを貼り合わせたもの等が挙げられる。偏光子の例としては、親水性高分子フィルムにヨウ素及び/又は二色性染料を吸着配向して作製した偏光子、ポリビニルアルコール系フィルムを脱水処理してポリエンを形成させ、配向して作製した偏光子、ポリ塩化ビニルフィルムを脱塩酸処理してポリエンを形成させ、配向して作製したものが挙げられる。偏光子に使用される親水性高分子フィルムとしては、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物フィルム等が挙げられる。保護フィルムとしては、前記光学素子用の基板として例示したもののなかでフィルム化したもの、本発明の光学補償フィルム(位相差フィルム)等が挙げられるが、前記光学素子用の基板のなかでフィルム化したものを偏光子の両面に貼り合わせた場合は偏光板作製後、前記光学補償用塗工膜の形成方法を用いて偏光板の少なくとも片面に本発明の光学補償用塗工膜を設けることにより、本発明の偏光板とすることができる。本発明の光学補償フィルム(位相差フィルム)を保護フィルムとして使用する場合は、偏光子の両面に用いることもできるし、片面に本発明の光学補償フィルム(位相差フィルム)を使用し、反対の面に前記光学素子用の基板のなかでフィルム化したものを用いることもできる。また、片面に本発明の光学補償フィルム(位相差フィルム)を使用し、反対の面に前記光学素子用の基板のなかでフィルム化したものを用いた偏光板を作製後、片面又は両面に新たに本発明の光学補償用塗工膜を設けることもできる。   Next, the polarizing plate of the present invention will be described. As a polarizing plate, for example, a protective film is bonded to both surfaces of a polarizer using an adhesive such as a polyester adhesive, a polyacrylic adhesive, an epoxy adhesive, a cyanoacrylic adhesive, or a polyurethane adhesive. And the like. Examples of polarizers include polarizers made by adsorbing and orienting iodine and / or dichroic dyes on hydrophilic polymer films, and polyenes formed by dehydration treatment of polyvinyl alcohol-based films. Examples include polarizers and polyvinyl chloride films prepared by dehydrochlorination treatment to form polyene and orientation. Examples of the hydrophilic polymer film used for the polarizer include a polyvinyl alcohol film, a partially formalized polyvinyl alcohol film, a saponified film of an ethylene-vinyl acetate copolymer, and the like. Examples of the protective film include those formed as examples of the substrate for the optical element, and the optical compensation film (retardation film) of the present invention. When the polarizing plate is bonded to both sides of the polarizer, after the polarizing plate is prepared, the optical compensation coating film of the present invention is provided on at least one side of the polarizing plate using the method for forming an optical compensation coating film. The polarizing plate of the present invention can be obtained. When the optical compensation film (retardation film) of the present invention is used as a protective film, it can be used on both sides of a polarizer, or the optical compensation film (retardation film) of the present invention is used on one side and the opposite. It is also possible to use a film made of the optical element substrate on the surface. In addition, a polarizing plate using the optical compensation film (retardation film) of the present invention on one side and a film of the substrate for the optical element on the opposite side is prepared, and then newly applied on one side or both sides. The coating film for optical compensation of the present invention can also be provided.

次に、本発明の液晶表示装置について説明する。液晶表示装置としては、例えば、光源/導光板/光拡散フィルム/レンズフィルム/輝度向上フィルム/偏光板/液晶セル/偏光板の順に構成された表示装置等が挙げられるが、液晶セルの入射光側及び/又は出射光側に本発明の光学補償フィルム(位相差フィルム)を装着すること及び/又は液晶セルの入射光側及び/又は出射光側の偏光板に本発明の偏光板を装着することにより本発明の液晶表示装置とすることができる。液晶セルの方式としては、VA(Vertical Alignment)方式、IPS(In−Plane Switching)方式、OCB(Optically Compensated Birefringence)方式等挙げられる。   Next, the liquid crystal display device of the present invention will be described. Examples of the liquid crystal display device include a display device configured in the order of light source / light guide plate / light diffusion film / lens film / brightness enhancement film / polarizing plate / liquid crystal cell / polarizing plate. The optical compensation film (retardation film) of the present invention is mounted on the side and / or the outgoing light side, and / or the polarizing plate of the present invention is mounted on the polarizing plate on the incident light side and / or the outgoing light side of the liquid crystal cell. Thus, the liquid crystal display device of the present invention can be obtained. Examples of the liquid crystal cell method include a VA (Vertical Alignment) method, an IPS (In-Plane Switching) method, an OCB (Optically Compensated Birefringence) method, and the like.

なお、本発明の光学補償用塗工膜、該光学補償用塗工膜形成用塗工液、それらを用いて製造した光学素子および光学補償フィルム(位相差フィルム)は、VA方式、IPS方式、OCB方式等の液晶セルを用いた液晶表示装置の視野角拡大用途に使用できる。本発明における光学補償用塗工膜の光学特性の性能を十分に発揮するためには、IPS方式が特に好ましい。また、前記光学補償用塗工膜、該塗工膜形成用塗工液、それらを用いて製造した光学素子および光学補償フィルム(位相差フィルム)は、ビデオ、カメラ、携帯電話、パソコン、テレビ、モニター、自動車のインパネ等の液晶表示装置作製部品等に好適に使用できる。   In addition, the optical compensation coating film of the present invention, the optical compensation coating film-forming coating liquid, the optical element produced using them, and the optical compensation film (retardation film) are VA, IPS, It can be used for viewing angle expansion of a liquid crystal display device using an OCB type liquid crystal cell. The IPS method is particularly preferable in order to sufficiently exhibit the performance of the optical characteristics of the coating film for optical compensation in the present invention. The optical compensation coating film, the coating film-forming coating liquid, the optical element produced using them, and the optical compensation film (retardation film) are used in video, camera, mobile phone, personal computer, television, It can be suitably used for liquid crystal display device production parts such as monitors and automobile instrument panels.

以下に、本発明をより詳細に説明するために実施例を示すが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。   Examples are shown below to describe the present invention in more detail, but the present invention is not limited to these examples.

3次元屈折率(n,n,n)の算出
王子計測機器製自動複屈折計KOBRA−WRを用いて、25℃下で590nm光による測定を行い、3次元屈折率を算出した。得られた結果から、面内位相差を(n−n)×dにより求めた。また、厚み位相差を〔(n+n)/2−n〕×dにより求めた。但し、遅相軸を傾斜中心軸として位相差の測定を行った際、傾斜角の増加とともに位相差が増加した場合は位相差の符号判定を行うために次の方法を併用した。作製した光学素子上にポリカーボネート製λ/4板を重ね合わせ、λ/4板の配向角が0±1度になるように自動複屈折計KOBRA−WRに装着した後、遅相軸を傾斜中心軸とし、25℃下で590nm光による位相差測定を行った。測定結果が、λ/4板単体の位相差より上昇した場合は傾斜角の増加とともに光学素子単体の位相差も正の方向に上昇しているとみなし、λ/4板単体の位相差より低下した場合は傾斜角の増加とともに光学素子単体の位相差も負の方向に低下しているとみなして、先に測定した光学素子単体の位相差に正負の符号を付与し、3次元屈折率を算出した。得られた結果から、面内位相差を(n−n)×dにより求めた。また、厚み位相差を〔(n+n)/2−n〕×dにより求めた。
The three-dimensional refractive indexes by using the (n x, n y, n z) calculated Oji Scientific Instruments Ltd. automatic birefringence meter KOBRA-WR, and subjected to measurement by 590nm light under 25 ° C., were calculated three-dimensional refractive index. From the results obtained, was determined plane retardation by (n x -n y) × d . Moreover, the thickness retardation was calculated | required by [( nx + ny ) / 2- nz ] * d. However, when the phase difference was measured with the slow axis as the tilt center axis, when the phase difference increased with the tilt angle, the following method was used in combination to determine the sign of the phase difference. Overlay the polycarbonate λ / 4 plate on the manufactured optical element and attach it to the automatic birefringence meter KOBRA-WR so that the orientation angle of the λ / 4 plate is 0 ± 1 degree, and then the slow axis is the center of tilt The phase difference was measured with 590 nm light at 25 ° C. with the axis. If the measurement result is higher than the phase difference of the single λ / 4 plate, it is considered that the phase difference of the single optical element is also increasing in the positive direction as the tilt angle increases, and is lower than the phase difference of the single λ / 4 plate. In this case, it is assumed that the phase difference of the optical element alone decreases in the negative direction as the tilt angle increases, and a positive / negative sign is given to the phase difference of the optical element alone measured previously, and the three-dimensional refractive index is set. Calculated. From the results obtained, was determined plane retardation by (n x -n y) × d . Moreover, the thickness retardation was calculated | required by [( nx + ny ) / 2- nz ] * d.

(合成例1)セルロース N−フェニルカーバメート(1)の合成
冷却管、窒素導入管、攪拌機、温度計を備えた500mlの4つ口フラスコに、60℃で7時間真空乾燥したセルロース(旭化成ケミカルズ製アビセルTG−F20)1.0gを入れ、ピリジン100mlを加えて懸濁液とした後、さらにフェニルイソシアネート(東京化成工業製)7.7gを加えた。窒素を導入し、攪拌しながら110℃に昇温した後、7時間反応させた。その後、25℃まで放冷した後、反応液をエタノール400ml中に滴下して沈殿を生成させた。濾別後、得られたポリマーにアセトン25mlを加えて溶解した後、純水400ml中に滴下して沈殿を生じさせた。濾別後、得られたポリマーを再度、アセトン30mlに溶解し、純水400ml中に滴下して沈殿を生成させた。濾別後水洗し、60℃で4時間真空乾燥することによって、2.5gのセルロース N−フェニルカーバメート(1)を得た(以下、合成品(1)と呼ぶことがある。)。合成品(1)のDSはプロトンNMR分析の結果、3であった。なお、DSは、セルロース骨格由来のプロトンの化学シフト(3.4〜5.5ppm)面積とフェニル基のプロトンの化学シフト(6.7〜7.8ppm)面積を比較することによって決定した。
(Synthesis Example 1) Synthesis of cellulose N-phenyl carbamate (1) Cellulose (manufactured by Asahi Kasei Chemicals) was vacuum-dried at 60 ° C. for 7 hours in a 500 ml four-necked flask equipped with a cooling tube, a nitrogen introduction tube, a stirrer, and a thermometer. Avicel TG-F20) 1.0 g was added, and 100 ml of pyridine was added to form a suspension, and then 7.7 g of phenyl isocyanate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was further added. Nitrogen was introduced, and the temperature was raised to 110 ° C. with stirring, followed by reaction for 7 hours. Thereafter, after cooling to 25 ° C., the reaction solution was dropped into 400 ml of ethanol to form a precipitate. After separation by filtration, 25 ml of acetone was added to the obtained polymer to dissolve it, and then dropped into 400 ml of pure water to cause precipitation. After separation by filtration, the obtained polymer was again dissolved in 30 ml of acetone and dropped into 400 ml of pure water to form a precipitate. After separation by filtration, washing with water and vacuum drying at 60 ° C. for 4 hours, 2.5 g of cellulose N-phenyl carbamate (1) was obtained (hereinafter sometimes referred to as synthetic product (1)). DS of the synthesized product (1) was 3 as a result of proton NMR analysis. In addition, DS was determined by comparing the chemical shift (3.4 to 5.5 ppm) area of proton derived from the cellulose skeleton with the chemical shift (6.7 to 7.8 ppm) area of the proton of the phenyl group.

(合成例2)セルロース N−フェニルカーバメート(2)の合成
冷却管、窒素導入管、攪拌機、温度計を備えた500mlの4つ口フラスコに、60℃で7時間真空乾燥したセルロース(旭化成ケミカルズ製アビセルTG−F20)1.0gを入れ、ピリジン100mlを加えて懸濁液とした後、さらにフェニルイソシアネート(東京化成工業製)7.7gを加えた。窒素を導入し、攪拌しながら110℃に昇温した後、7時間反応させた。その後、25℃まで放冷した後、反応液をエタノール400ml中に滴下して沈殿を生成させた。濾別後、得られたポリマーにアセトン30mlを加えて溶解した後、純水400ml中に滴下して沈殿を生じさせた。濾別後水洗し、60℃で4時間真空乾燥することによって、2.2gのセルロース N−フェニルカーバメート(2)を得た(以下、合成品(2)と呼ぶことがある。)。合成品(2)の置換度DSはプロトンNMR分析の結果、3であった。なお、DSは、セルロース骨格由来のプロトンの化学シフト(3.4〜5.5ppm)面積とフェニル基のプロトンの化学シフト(6.7〜7.8ppm)面積を比較することによって決定した。
Synthesis Example 2 Synthesis of Cellulose N-Phenyl Carbamate (2) Cellulose (manufactured by Asahi Kasei Chemicals) was vacuum-dried at 60 ° C. for 7 hours in a 500 ml four-necked flask equipped with a cooling tube, a nitrogen introduction tube, a stirrer, and a thermometer. Avicel TG-F20) 1.0 g was added, and 100 ml of pyridine was added to form a suspension, and then 7.7 g of phenyl isocyanate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was further added. Nitrogen was introduced, and the temperature was raised to 110 ° C. with stirring, followed by reaction for 7 hours. Thereafter, after cooling to 25 ° C., the reaction solution was dropped into 400 ml of ethanol to form a precipitate. After separation by filtration, the obtained polymer was dissolved by adding 30 ml of acetone, and then dropped into 400 ml of pure water to cause precipitation. After separation by filtration, it was washed with water and vacuum dried at 60 ° C. for 4 hours to obtain 2.2 g of cellulose N-phenyl carbamate (2) (hereinafter sometimes referred to as synthetic product (2)). The substitution degree DS of the synthesized product (2) was 3 as a result of proton NMR analysis. In addition, DS was determined by comparing the chemical shift (3.4 to 5.5 ppm) area of proton derived from the cellulose skeleton with the chemical shift (6.7 to 7.8 ppm) area of the proton of the phenyl group.

(合成例3)セルロース N−[2−(トリフルオロメチル)フェニル]カーバメート(3)の合成
冷却管、窒素導入管、攪拌機、温度計を備えた500mlの4つ口フラスコに、60℃で7時間真空乾燥したセルロース(旭化成ケミカルズ製アビセルTG−F20)1.0gを入れ、ピリジン100mlを加えて懸濁液とした後、さらに2−(トリフルオロメチル)フェニルイソシアネート(東京化成工業製)8.7gを加えた。窒素を導入し、攪拌しながら110℃に昇温した後、7時間反応させた。その後、25℃まで放冷した後、エタノール200mlを加え、反応液を純水1.5L中に滴下して沈殿を生成させた。濾別後、得られたポリマーにアセトン100mlを加えて溶解した後、純水2L中に滴下して沈殿を生じさせた。濾別後水洗し、60℃で4時間真空乾燥した後、ポリマーをソックスレー抽出器に入れた。メタノールによるソックスレー抽出を20回行った後、25℃で4時間真空乾燥することによって、3.4gのセルロース N−[2−(トリフルオロメチル)フェニル]カーバメート(3)を得た(以下、合成品(3)と呼ぶことがある。)。合成品(3)のDSはプロトンNMR分析の結果、3であった。なお、DSは、セルロース骨格由来のプロトンの化学シフト(3.5〜5.5ppm)面積と2−(トリフルオロメチル)フェニル基のプロトンの化学シフト(6.9〜7.9ppm)面積を比較することによって決定した。
(Synthesis Example 3) Synthesis of cellulose N- [2- (trifluoromethyl) phenyl] carbamate (3) In a 500 ml four-necked flask equipped with a cooling tube, a nitrogen introducing tube, a stirrer, and a thermometer, 7 at 60 ° C. 7. 1.0 g of cellulose (Avicel TG-F20, manufactured by Asahi Kasei Chemicals), which was vacuum-dried for a period of time, was added to form a suspension by adding 100 ml of pyridine, and further 2- (trifluoromethyl) phenyl isocyanate (manufactured by Tokyo Chemical Industry). 7 g was added. Nitrogen was introduced, and the temperature was raised to 110 ° C. with stirring, followed by reaction for 7 hours. Thereafter, after cooling to 25 ° C., 200 ml of ethanol was added, and the reaction solution was dropped into 1.5 L of pure water to produce a precipitate. After separation by filtration, the obtained polymer was dissolved by adding 100 ml of acetone, and then dropped into 2 L of pure water to cause precipitation. After separation by filtration, washing with water and vacuum drying at 60 ° C. for 4 hours, the polymer was put into a Soxhlet extractor. After Soxhlet extraction with methanol 20 times, vacuum drying was performed at 25 ° C. for 4 hours to obtain 3.4 g of cellulose N- [2- (trifluoromethyl) phenyl] carbamate (3) (hereinafter, synthesis) Sometimes called product (3).) DS of the synthesized product (3) was 3 as a result of proton NMR analysis. In addition, DS compares the chemical shift (3.5 to 5.5 ppm) area of proton derived from cellulose skeleton and the chemical shift (6.9 to 7.9 ppm) area of proton of 2- (trifluoromethyl) phenyl group. Decided by.

(実施例1)
合成品(1)0.85gに酢酸ブチル4.15gを加え、25℃下で溶解した。次に、この塗工液をバーコーターを用いて150μm厚のガラス基板(平均屈折率:1.52,面内位相差:0nm,厚み位相差:1nm)に塗工した後、120℃で1分間、空気中で乾燥して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚(d(nm))は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を行い、結果を表1に示した。
Example 1
To 0.85 g of the synthetic product (1), 4.15 g of butyl acetate was added and dissolved at 25 ° C. Next, this coating solution was applied to a 150 μm thick glass substrate (average refractive index: 1.52, in-plane retardation: 0 nm, thickness retardation: 1 nm) using a bar coater, and then 1 ° C. at 120 ° C. The optical element was produced by drying in air for a minute. The coating thickness after drying (d (nm)) was determined by measuring the thickness of the entire optical element and subtracting the thickness of the glass substrate. Next, physical properties of the optical element obtained as described above were measured, and the results are shown in Table 1.

(実施例2)
合成品(1)0.85gにエチルセロソルブアセテート4.15gを加え、25℃下で溶解した。次に、この塗工液をバーコーターを用いて150μm厚のガラス基板(平均屈折率:1.52,面内位相差:0nm,厚み位相差:1nm)に塗工した後、エチルセロソルブアセテートの蒸気が充満したガラス容器に入れ、密閉後、25℃で24時間アニーリングした。その後、塗工基板を取り出し、120℃で1分間、空気中で乾燥して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚(d(nm))は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を行い、結果を表1に示した。
(Example 2)
To 0.85 g of the synthetic product (1), 4.15 g of ethyl cellosolve acetate was added and dissolved at 25 ° C. Next, this coating solution was applied to a 150 μm-thick glass substrate (average refractive index: 1.52, in-plane retardation: 0 nm, thickness retardation: 1 nm) using a bar coater, and then ethyl cellosolve acetate It put into the glass container with which vapor | steam was filled, and after sealing, it annealed at 25 degreeC for 24 hours. Thereafter, the coated substrate was taken out and dried in air at 120 ° C. for 1 minute to produce an optical element. The coating thickness after drying (d (nm)) was determined by measuring the thickness of the entire optical element and subtracting the thickness of the glass substrate. Next, physical properties of the optical element obtained as described above were measured, and the results are shown in Table 1.

(実施例3)
合成品(3)1.0gにクロロホルム9.0gを加え、25℃下で溶解した。次に、この塗工液をバーコーターを用いて150μm厚のガラス基板(平均屈折率:1.52,面内位相差:0nm,厚み位相差:1nm)に塗工した後、100℃で1分間、空気中で乾燥して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚(d(nm))は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を行い、結果を表1に示した。
(Example 3)
To 1.0 g of the synthetic product (3), 9.0 g of chloroform was added and dissolved at 25 ° C. Next, this coating solution was applied to a glass substrate having a thickness of 150 μm (average refractive index: 1.52, in-plane retardation: 0 nm, thickness retardation: 1 nm) using a bar coater, and then 1 at 100 ° C. The optical element was produced by drying in air for a minute. The coating thickness after drying (d (nm)) was determined by measuring the thickness of the entire optical element and subtracting the thickness of the glass substrate. Next, physical properties of the optical element obtained as described above were measured, and the results are shown in Table 1.

(実施例4)
実施例3で作製した光学素子をクロロホルムの蒸気が充満したガラス容器に入れ、密閉後、30℃で7.5時間アニーリングした。その後、光学素子を取り出し、100℃で1分間、空気中で乾燥した。乾燥後の塗工膜厚(d(nm))は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を行い、結果を表1に示した。ここでは、実施例3よりも面内の複屈折(n−n)の小さいものが得られた。すなわち、アニーリングにより、面内位相差の低減が可能であった。
Example 4
The optical element produced in Example 3 was put in a glass container filled with chloroform vapor, sealed, and then annealed at 30 ° C. for 7.5 hours. Thereafter, the optical element was taken out and dried in air at 100 ° C. for 1 minute. The coating thickness after drying (d (nm)) was determined by measuring the thickness of the entire optical element and subtracting the thickness of the glass substrate. Next, physical properties of the optical element obtained as described above were measured, and the results are shown in Table 1. Here, small ones were obtained birefringence in the plane than the Example 3 (n x -n y). That is, the in-plane retardation can be reduced by annealing.

(実施例5)
合成品(2)0.52gに1,2−ジメトキシエタン3.48gを加え、23℃下で溶解した。次に、この塗工液をバーコーターを用いて150μm厚のガラス基板(平均屈折率:1.52,面内位相差:0nm,厚み位相差:1nm)に塗工し塗工基板とした。その後、この塗工基板を23℃で44時間、空気中で乾燥して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚(d(nm))は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を行った。その結果を表2に示す。
(Example 5)
To 0.52 g of the synthetic product (2), 3.48 g of 1,2-dimethoxyethane was added and dissolved at 23 ° C. Next, this coating solution was coated on a glass substrate having a thickness of 150 μm (average refractive index: 1.52, in-plane retardation: 0 nm, thickness retardation: 1 nm) using a bar coater to obtain a coated substrate. Thereafter, this coated substrate was dried in air at 23 ° C. for 44 hours to produce an optical element. The coating thickness after drying (d (nm)) was determined by measuring the thickness of the entire optical element and subtracting the thickness of the glass substrate. Next, physical properties of the optical element obtained as described above were measured. The results are shown in Table 2.

(実施例6)
合成品(2)0.5gにエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート4.5gを加え、23℃下で溶解した。次に、この塗工液をバーコーターを用いて150μm厚のガラス基板(平均屈折率:1.52,面内位相差:0nm,厚み位相差:1nm)に塗工し塗工基板とした。その後、この塗工基板を100℃で1分間、空気中で乾燥して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚(d(nm))は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を行った。その結果を表2に示す。
(Example 6)
To 0.5 g of the synthetic product (2), 4.5 g of ethylene glycol monomethyl ether acetate was added and dissolved at 23 ° C. Next, this coating solution was coated on a glass substrate having a thickness of 150 μm (average refractive index: 1.52, in-plane retardation: 0 nm, thickness retardation: 1 nm) using a bar coater to obtain a coated substrate. Thereafter, this coated substrate was dried in air at 100 ° C. for 1 minute to produce an optical element. The coating thickness after drying (d (nm)) was determined by measuring the thickness of the entire optical element and subtracting the thickness of the glass substrate. Next, physical properties of the optical element obtained as described above were measured. The results are shown in Table 2.

(実施例7)
合成品(2)0.5gに酢酸ブチル4.0g及びエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート0.5gを加え、23℃下で溶解した。次に、この塗工液をバーコーターを用いて150μm厚のガラス基板(平均屈折率:1.52,面内位相差:0nm,厚み位相差:1nm)に塗工し塗工基板とした。その後、この塗工基板を23℃で25分間、空気中で乾燥して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚(d(nm))は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を行った。その結果を表2に示す。
(Example 7)
To 0.5 g of the synthetic product (2), 4.0 g of butyl acetate and 0.5 g of ethylene glycol monomethyl ether acetate were added and dissolved at 23 ° C. Next, this coating solution was coated on a glass substrate having a thickness of 150 μm (average refractive index: 1.52, in-plane retardation: 0 nm, thickness retardation: 1 nm) using a bar coater to obtain a coated substrate. Thereafter, this coated substrate was dried in air at 23 ° C. for 25 minutes to produce an optical element. The coating thickness after drying (d (nm)) was determined by measuring the thickness of the entire optical element and subtracting the thickness of the glass substrate. Next, physical properties of the optical element obtained as described above were measured. The results are shown in Table 2.

(実施例8)
塗工基板を30℃で25分間、空気中で乾燥して光学素子を作製したこと以外は実施例7と同様の操作を行った。得られた光学素子の物性測定を行った。その結果を表2に示す。
(Example 8)
The same operation as in Example 7 was performed except that the coated substrate was dried in air at 30 ° C. for 25 minutes to produce an optical element. The physical properties of the obtained optical element were measured. The results are shown in Table 2.

(実施例9)
塗工基板を23℃で44時間、空気中で乾燥し、更に、100℃で1分間、空気中で乾燥して光学素子を作製したこと以外は実施例5と同様の操作を行った。得られた光学素子の物性測定を行った。その結果を表2に示す。23℃で44時間、空気中で乾燥しただけの実施例5よりも(n+n)/2−nで表される値の絶対値が大きな光学素子が得られている。
Example 9
The same operation as in Example 5 was performed except that the coated substrate was dried in air at 23 ° C. for 44 hours and further dried in air at 100 ° C. for 1 minute to produce an optical element. The physical properties of the obtained optical element were measured. The results are shown in Table 2. An optical element having a larger absolute value represented by (n x + ny ) / 2− nz is obtained than in Example 5 which is simply dried in air at 23 ° C. for 44 hours.

(実施例10)
塗工基板を23℃で19時間、空気中で乾燥し、更に、100℃で1分間、空気中で乾燥して光学素子を作製したこと以外は実施例6と同様の操作を行った。得られた光学素子の物性測定を行った。その結果を表2に示す。100℃で1分間、空気中で乾燥しただけの実施例6よりも(n+n)/2−nで表される値の絶対値が大きな光学素子が得られている。
(Example 10)
The same operation as in Example 6 was performed except that the coated substrate was dried in air at 23 ° C. for 19 hours and further dried in air at 100 ° C. for 1 minute to produce an optical element. The physical properties of the obtained optical element were measured. The results are shown in Table 2. An optical element having a larger absolute value represented by (n x + ny ) / 2− nz is obtained than in Example 6 which is only dried in air at 100 ° C. for 1 minute.

(実施例11)
塗工基板を23℃で25分間、空気中で乾燥し、更に、250℃で1分間、空気中で乾燥して光学素子を作製したこと以外は実施例7と同様の操作を行った。得られた光学素子の物性測定を行った。その結果を表2に示す。23℃で25分間、空気中で乾燥しただけの実施例7よりも(n+n)/2−nで表される値の絶対値が大きな光学素子が得られている。
(Example 11)
The same operation as in Example 7 was performed except that the coated substrate was dried in air at 23 ° C. for 25 minutes and further dried in air at 250 ° C. for 1 minute to produce an optical element. The physical properties of the obtained optical element were measured. The results are shown in Table 2. An optical element having a larger absolute value represented by (n x + ny ) / 2− nz is obtained than in Example 7 which is simply dried in air at 23 ° C. for 25 minutes.

(実施例12)
塗工基板を30℃で25分間、空気中で乾燥し、更に、250℃で1分間、空気中で乾燥して光学素子を作製したこと以外は実施例8と同様の操作を行った。得られた光学素子の物性測定を行った。その結果を表2に示す。30℃で25分間、空気中で乾燥しただけの実施例8よりも(n+n)/2−nで表される値の絶対値が大きな光学素子が得られている。
(Example 12)
The same operation as in Example 8 was performed except that the coated substrate was dried in air at 30 ° C. for 25 minutes and further dried in air at 250 ° C. for 1 minute to produce an optical element. The physical properties of the obtained optical element were measured. The results are shown in Table 2. An optical element having a larger absolute value represented by (n x + ny ) / 2− nz is obtained than in Example 8 which was only dried in air at 30 ° C. for 25 minutes.

Figure 2007148312
Figure 2007148312

Figure 2007148312
(実施例13)
ガラス基板の代わりに40μm厚のセルロースアセテートフィルム(面内位相差:0nm,厚み位相差:8nm)を用い、その上に10000nmの塗工膜を形成して光学補償フィルムを作製したこと以外は実施例10と同様の操作を行った。得られた光学補償フィルムの物性測定を行った結果、面内位相差は0nm、厚み位相差は−40nmであった。
Figure 2007148312
(Example 13)
Implemented except that a 40 μm thick cellulose acetate film (in-plane retardation: 0 nm, thickness retardation: 8 nm) was used instead of the glass substrate, and a 10,000 nm coating film was formed thereon to produce an optical compensation film. The same operation as in Example 10 was performed. As a result of measuring the physical properties of the obtained optical compensation film, the in-plane retardation was 0 nm and the thickness retardation was −40 nm.

(実施例14)
ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を含浸させ、延伸することにより偏光子を作製した。この偏光子の片面にポリアクリル系接着剤を用いて80μm厚のセルロースアセテートフィルムを貼り合わせた。さらに、偏光子の反対の面に実施例13で作製した光学補償フィルムを塗工膜面が外側になるようにポリアクリル系接着剤を用いて貼り合わせ、光学補償層を有する偏光板を作製した。
(Example 14)
A polyvinyl alcohol film was impregnated with iodine and stretched to prepare a polarizer. A cellulose acetate film having a thickness of 80 μm was bonded to one side of the polarizer using a polyacrylic adhesive. Furthermore, the optical compensation film produced in Example 13 was bonded to the opposite surface of the polarizer using a polyacrylic adhesive so that the coating film surface was on the outside, and a polarizing plate having an optical compensation layer was produced. .

(実施例15)
IPS方式の液晶セルを装着した液晶表示装置を用意し、実施例13で作製した光学補償フィルムを液晶セルの出射光側に重ね合わせた表示装置を作製した。表示画面を観察した結果、正面から見ても斜め方向から見ても色表示が変わることなく、良好な画像が得られた。
(Example 15)
A liquid crystal display device equipped with an IPS liquid crystal cell was prepared, and a display device in which the optical compensation film produced in Example 13 was superimposed on the outgoing light side of the liquid crystal cell was produced. As a result of observing the display screen, a good image was obtained without changing the color display when viewed from the front or from an oblique direction.

(実施例16)
IPS方式の液晶セルを装着した液晶表示装置を用意し、出射光側の偏光板をはずして代わりに実施例14で作製した偏光板を塗工膜面が液晶セルの出射光側になるように液晶セルに貼り合わせた表示装置を作製した。表示画面を観察した結果、正面から見ても斜め方向から見ても色表示が変わることなく、良好な画像が得られた。
(Example 16)
Prepare a liquid crystal display device equipped with an IPS liquid crystal cell, remove the polarizing plate on the outgoing light side, and replace the polarizing plate produced in Example 14 with the coating film surface facing the outgoing light side of the liquid crystal cell. A display device bonded to a liquid crystal cell was manufactured. As a result of observing the display screen, a good image was obtained without changing the color display when viewed from the front or from an oblique direction.

(比較例1)
実施例13で作製した光学補償フィルムを使用しないこと以外は実施例15と同様の操作を行った。その結果、斜め方向から見た際、液晶表示装置構成部材の複屈折により正面から見た時と色表示が異なっていた。
(Comparative Example 1)
The same operation as in Example 15 was performed except that the optical compensation film produced in Example 13 was not used. As a result, when viewed from an oblique direction, the color display was different from that viewed from the front due to the birefringence of the liquid crystal display device constituent members.

(比較例2)
実施例14で作製した偏光板を使用せず、出射光側の偏光板をそのまま用いたこと以外は実施例16と同様の操作を行った。その結果、斜め方向から見た際、液晶表示装置構成部材の複屈折により正面から見た時と色表示が異なっていた。
(Comparative Example 2)
The same operation as in Example 16 was performed except that the polarizing plate produced in Example 14 was not used and the polarizing plate on the outgoing light side was used as it was. As a result, when viewed from an oblique direction, the color display was different from that viewed from the front due to the birefringence of the liquid crystal display device constituent members.

Claims (13)

セルロース N−置換カーバメートを含有して形成されることを特徴とする光学補償用塗工膜。   A coating film for optical compensation, comprising a cellulose N-substituted carbamate. セルロース N−置換カーバメートを含有して形成され、面内の屈折率のうち最大のものをn、最小のものをnとし、厚み方向の屈折率をn、膜厚をdとした時に、〔(n+n)/2−n〕×d<0の関係を満たすことを特徴とする請求項1記載の光学補償用塗工膜。 Is formed by containing a cellulose N- substituted carbamates, largest of the n x of the in-plane refractive index, minimum one of the n y, the refractive index in the thickness direction n z, the thickness when the d The coating film for optical compensation according to claim 1, wherein a relationship of [(n x + ny ) / 2−n z ] × d <0 is satisfied. 前記セルロース N−置換カーバメートが、セルロースの水酸基の少なくとも一つがN−置換カーバメート化されており、かつ、セルロースカーバメートの窒素原子に結合した水素原子の少なくとも一つが下記一般式(1)〜(3)から選ばれる基で置換されており、かつ、複数のN−置換基は同一又は異なって、下記一般式(1)〜(3)から選ばれる基である化合物であることを特徴とする請求項1又は請求項2のいずれか1項に記載の光学補償用塗工膜。
Figure 2007148312
(式中R、R、R、R、Rは、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のアリールオキシ基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数7〜20のアラルキルオキシ基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。)
Figure 2007148312
(式中R、R、R、R、R10、R11、R12は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。)
Figure 2007148312
(式中R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。)
In the cellulose N-substituted carbamate, at least one of hydroxyl groups of cellulose is N-substituted carbamate, and at least one hydrogen atom bonded to a nitrogen atom of the cellulose carbamate is represented by the following general formulas (1) to (3). And a plurality of N-substituents are the same or different and are compounds selected from the following general formulas (1) to (3): The coating film for optical compensation according to any one of claims 1 and 2.
Figure 2007148312
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 to 20 carbon atoms. Halogenated alkyl groups, C6-C20 aryl groups, C6-C20 aryloxy groups, C7-C20 aralkyl groups, C7-C20 aralkyloxy groups, C1-C21 Represents an acyloxy group, a halogen atom, or a nitro group.)
Figure 2007148312
(Wherein R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. Represents a halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 21 carbon atoms, a halogen atom, or a nitro group.)
Figure 2007148312
(In the formula, R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. Represents a halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 21 carbon atoms, a halogen atom, or a nitro group.)
下記(A)、(B)を含有して形成される光学補償用塗工膜形成用塗工液。
(A)請求項1乃至請求項3記載のセルロース N−置換カーバメート
(B)(A)成分が溶解可溶な溶媒
A coating solution for forming an optical compensation coating film formed by containing the following (A) and (B).
(A) Cellulose N-substituted carbamate according to claims 1 to 3 (B) A solvent in which component (A) is soluble and soluble
請求項4記載の塗工液を基板に塗工し塗工基板とした後、該塗工基板を乾燥することを特徴とする光学補償用塗工膜の形成方法。   A method for forming an optical compensation coating film, comprising: applying a coating solution according to claim 4 onto a substrate to form a coated substrate; and drying the coated substrate. 該塗工基板を下限0℃、上限40℃の範囲の温度で1次乾燥した後、更に、該塗工基板を下限80℃、上限300℃で2次乾燥することを特徴とする請求項5記載の光学補償用塗工膜の形成方法。   6. The coated substrate is first dried at a temperature in a range of 0 ° C. lower limit and 40 ° C. lower limit, and then further dried at 80 ° C. lower limit and 300 ° C. upper limit. A method for forming the coating film for optical compensation as described. 請求項4記載の塗工液を基板に塗工し塗工基板とした後、(B)成分の蒸気にさらして塗工膜をアニーリングし、更に乾燥することを特徴とする光学補償用塗工膜の形成方法。   An optical compensation coating comprising: applying the coating liquid according to claim 4 onto a substrate to form a coated substrate; exposing the coating film to vapor of component (B); and further drying the coating film. Method for forming a film. 請求項5乃至請求項7記載の形成方法を用いたことを特徴とする光学素子の製造方法。   An optical element manufacturing method using the forming method according to claim 5. 請求項8記載の製造方法を用いて製造したことを特徴とする光学素子。   An optical element manufactured using the manufacturing method according to claim 8. 請求項5乃至請求項7記載の形成方法を用いて製造したことを特徴とする光学補償フィルム。   An optical compensation film produced by using the forming method according to claim 5. 偏光子の少なくとも片面に請求項10記載の光学補償フィルムを偏光子保護フィルムとして装着したことを特徴とする偏光板。   A polarizing plate comprising the optical compensation film according to claim 10 mounted on at least one surface of a polarizer as a polarizer protective film. 請求項10記載の光学補償フィルムを備えた液晶表示装置。   A liquid crystal display device comprising the optical compensation film according to claim 10. 請求項11記載の偏光板を備えた液晶表示装置。   A liquid crystal display device comprising the polarizing plate according to claim 11.
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