JP2008149577A - Sheet, laminate, polarization plate, liquid crystal display device, and manufacturing thereof - Google Patents

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JP2008149577A
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Michinori Tsukamoto
美智徳 塚本
Tomoki Hiiro
知樹 日色
Sadao Fujii
貞男 藤井
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To inexpensively provide a film for optical compensation without requiring a troublesome step, provide a sheet capable of forming the film for optical compensation by a transfer method which does not cause damage to an optical device component, provide the film for optical compensation which contains cellulose N-substituted carbamate and the value represented by (n<SB>x</SB>+n<SB>y</SB>)/2-n<SB>z</SB>(where: n<SB>x</SB>: the maximum one of the refraction index in the surface of the film, n<SB>y</SB>: the minimum one, n<SB>z</SB>: the refraction index in the thickness direction) is negative, and provide the laminated body manufactured by using the film. <P>SOLUTION: The sheet is characterized in that it has the film containing cellulose N-substituted carbamate on a peelable substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示装置等の光学装置に好適に用いることが可能な膜を転写により形成することができるシートに関するものである。または、該シート上の膜を転写した積層体、更にはこれを用いた偏光板、液晶表示装置に関するものである。または、積層体の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a sheet on which a film that can be suitably used for an optical device such as a liquid crystal display device can be formed by transfer. Or it is related with the laminated body which transferred the film | membrane on this sheet | seat, and also the polarizing plate and liquid crystal display device using this. Or it is related with the manufacturing method of a laminated body.

液晶表示装置等の各種光学装置には、液晶セル、偏光子等と共に、各種膜が用いられている(本願において膜とは、他の基材上に直接形成した層、これを基材から剥離して取り出したフィルム、更には直接溶液キャスティング、溶融キャスティング等により単独で形成したフィルム等が含まれるものとする)。特に、装置中の他の構成により生じる複屈折を補償する為の光学補償用の膜が一般的に用いられている(例えば、視野角の拡大、黒表示時の色漏れ防止等の用途に用いられている)。このような光学補償用の膜を形成する為の材料としては、例えば、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホン等のポリマーが用いられ、一般的には、製膜工程(フィルム化)、延伸工程(位相差付与)、貼り合わせ工程を経て各種装置に組み込まれている。しかし、これらの方法では、フィルム化、延伸のような煩雑な工程が必要であり、簡便な方法が求められていた。さらに、位相差付与をフィルムの厚み方向の延伸(収縮性フィルムを貼り合わせた後、収縮させる方法等による延伸)によって行った場合、フィルム幅が狭くなることから、同等性能を有する広幅製品の製造方法も求められていた。   Various optical devices such as liquid crystal display devices use various films together with a liquid crystal cell, a polarizer, etc. (in this application, a film is a layer formed directly on another substrate, which is peeled off from the substrate) And a film formed by direct solution casting, melt casting, etc.). In particular, a film for optical compensation for compensating birefringence caused by other components in the apparatus is generally used (for example, for use in applications such as widening the viewing angle and preventing color leakage during black display). Is). As a material for forming such a film for optical compensation, for example, a polymer such as polycarbonate, polyester, polystyrene, polyamide, polyimide, polyethersulfone, etc. is used. ), A stretching process (phase difference imparting), and a bonding process. However, these methods require complicated steps such as film formation and stretching, and a simple method has been demanded. Furthermore, when the retardation is applied by stretching in the thickness direction of the film (stretching by shrinking the shrinkable film, etc.), the width of the film becomes narrow, so that a wide product having equivalent performance is manufactured. A method was also sought.

これらの問題を解消するために、ポリイミドのペーストを塗布する薄膜形成方法が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。しかし、この方法は、n<n=nの光学特性を有する系を形成することは可能であるが、n>n≧nの光学特性をもつもの、換言すれば、〔(n+n)/2−n〕×dとして表される厚み位相差の値が負になるものを形成することはできなかった。 In order to solve these problems, a thin film forming method in which a polyimide paste is applied has been proposed (see, for example, Patent Document 1). However, this method is <although it is possible to form a system having the optical properties of n x = n y, n z > n z those with optical properties of n xn y, in other words, [ It was not possible to form a film having a negative thickness retardation value represented by (n x + ny ) / 2− nz ] × d.

これに対して、光異性化しうる官能基を有する高分子化合物の溶液を塗布、乾燥後、光を照射して高分子の配向を制御するもの、又は、液晶ポリマーの溶液あるいは液晶ポリマーの溶融物を塗布、乾燥後、ポリマーのガラス転移温度で熱処理して液晶を配向させ、冷却することにより配向を固定化することで、n>n≧nの光学特性を有する膜を形成することが検討されている(例えば、特許文献2参照。)。 On the other hand, a polymer compound solution having a functional group capable of photoisomerization is applied, dried, and then irradiated with light to control the orientation of the polymer, or a liquid crystal polymer solution or a liquid crystal polymer melt the coating, after drying, to align the liquid crystal was heat-treated at the glass transition temperature of the polymer, by fixing the orientation by cooling, to form a film having an optical property of n z> n x ≧ n y (For example, refer to Patent Document 2).

しかしながら、これらの方法ではポリイミドのペースト塗布による位相差層形成に比べ、光異性化しうる官能基を有する高分子化合物を用いる場合は光照射をしなければならないという煩雑さがあり、液晶ポリマーを用いる場合は一般に液晶が高価であり、コスト高になるという欠点がある。   However, in these methods, compared to the formation of a retardation layer by applying a polyimide paste, when a polymer compound having a functional group capable of photoisomerization is used, light irradiation must be performed, and a liquid crystal polymer is used. In some cases, the liquid crystal is generally expensive, resulting in a high cost.

さらに、上記のような塗布、乾燥による膜形成においては、塗布時の溶媒や乾燥時の温度(熱)が光学装置構成部材へダメージを与えることがあり、改善が望まれる。
特開2001−290023号公報 特開平7−13022号公報
Further, in the film formation by coating and drying as described above, the solvent at the time of coating and the temperature (heat) at the time of drying may damage the optical device constituent members, and improvement is desired.
JP 2001-290023 A JP-A-7-13022

本発明の目的は、煩雑な工程を必要とせずに光学補償用の膜を安価に提供し、かつ、光学装置構成部材へダメージを与えることのない転写法により光学補償用の膜の形成が可能なシートを提供することである。さらには、セルロース N−置換カーバメートを含有し、(n+n)/2−nで表される値が負である光学補償用の膜を提供し、その膜を用いて製造した積層体を提供することである。 An object of the present invention is to provide an optical compensation film at a low cost without requiring a complicated process and to form an optical compensation film by a transfer method that does not damage optical device components. Is to provide a secure sheet. Furthermore, it provides a film for optical compensation containing cellulose N-substituted carbamate and having a negative value represented by (n x + ny ) / 2- nz , and a laminate produced using the film Is to provide.

このような課題を解決するために本発明者らは鋭意研究の結果、剥離性基板上に、セルロース N−置換カーバメートを含有してなる膜を有することを特徴とするシートにより上記課題を解決できることを見出し、本発明に至った。   In order to solve such a problem, the present inventors have been able to solve the above problem by a sheet characterized by having a film comprising cellulose N-substituted carbamate on a peelable substrate as a result of intensive studies. And found the present invention.

すなわち本発明は、
剥離性基板上に、セルロース N−置換カーバメートを含有してなる膜を有することを特徴とするシートを提供する(請求項1)。
That is, the present invention
A sheet comprising a film containing cellulose N-substituted carbamate on a peelable substrate is provided (claim 1).

また、請求項1記載の膜の面内の屈折率のうち最大のものをn、最小のものをnとし、厚み方向の屈折率をn、膜厚をdとした時に、以下の数式1を満たすことを特徴とする請求項1記載のシートを提供する(請求項2)。 The maximum one of n x of the in-plane refractive index of claim 1 wherein the film, the smallest ones and n y, the refractive index n z in the thickness direction, when the film thickness is d, the following The sheet according to claim 1, wherein Formula 1 is satisfied (claim 2).

〔(n+n)/2−n〕×d<0 (数式1)
また、前記セルロース N−置換カーバメートが、セルロースの水酸基の少なくとも一つがN−置換カーバメート化されており、かつ、カーバメート基の窒素原子に結合した水素原子の少なくとも一つが下記一般式(1)〜(3)から選ばれる基で置換されており(Nに結合した置換基)、かつ、複数のN−置換カーバメート基の該Nに結合した置換基は同一又は異なって下記一般式(1)〜(3)から選ばれる基であることを特徴とする請求項1又は請求項2のいずれか1項に記載のシートを提供する(請求項3)。
[(N x + n y ) / 2−n z ] × d <0 (Formula 1)
In the cellulose N-substituted carbamate, at least one hydroxyl group of cellulose is N-substituted carbamate, and at least one hydrogen atom bonded to a nitrogen atom of the carbamate group is represented by the following general formulas (1) to ( 3) (substituent bonded to N), and the substituents bonded to N of the plurality of N-substituted carbamate groups are the same or different and are represented by the following general formulas (1) to ( The sheet according to any one of claims 1 and 2, wherein the sheet is a group selected from 3) (claim 3).

Figure 2008149577
Figure 2008149577

(式中R、R、R、R、Rは、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のアリールオキシ基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数7〜20のアラルキルオキシ基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。) (Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 to 20 carbon atoms. Halogenated alkyl groups, C6-C20 aryl groups, C6-C20 aryloxy groups, C7-C20 aralkyl groups, C7-C20 aralkyloxy groups, C1-C21 Represents an acyloxy group, a halogen atom, or a nitro group.)

Figure 2008149577
Figure 2008149577

(式中R、R、R、R、R10、R11、R12は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。) (Wherein R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. Represents a halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 21 carbon atoms, a halogen atom, or a nitro group.)

Figure 2008149577
Figure 2008149577

(式中R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。)
また、請求項1乃至請求項3記載のシートの膜面上に、接着剤層を設けたことを特徴とする接着性シートを提供する(請求項4)。
(In the formula, R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. Represents a halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 21 carbon atoms, a halogen atom, or a nitro group.)
In addition, an adhesive sheet is provided in which an adhesive layer is provided on the film surface of the sheet according to any one of claims 1 to 3 (claim 4).

また、請求項4記載の接着性シートを、透光性基板の少なくとも一方の面に接着剤層を介して接着した後、剥離性基板を剥離することを特徴とする積層体の製造方法を提供する(請求項5)。   Moreover, after adhering the adhesive sheet according to claim 4 to at least one surface of the translucent substrate via an adhesive layer, a method for producing a laminate is provided, wherein the peelable substrate is peeled off. (Claim 5).

また、前記透光性基板が、制御された複屈折性を有するフィルムであることを特徴とする請求項5記載の積層体の製造方法を提供する(請求項6)。   Moreover, the said translucent board | substrate is a film which has controlled birefringence, The manufacturing method of the laminated body of Claim 5 characterized by the above-mentioned (Claim 6) is provided.

また、前記の制御された複屈折性を有するフィルムが、正の複屈折性を有する材料からなるフィルムであることを特徴とする請求項6記載の積層体の製造方法を提供する(請求項7)。   The method for producing a laminate according to claim 6, wherein the film having controlled birefringence is a film made of a material having positive birefringence (Claim 7). ).

また、請求項5乃至請求項7記載の方法を用いて製造したことを特徴とする積層体を提供する(請求項8)。   Moreover, the laminated body manufactured using the method of Claim 5 thru | or 7 is provided (Claim 8).

また、偏光子の少なくとも片面に、請求項8記載の積層体を偏光子の保護材として装着したことを特徴とする偏光板を提供する(請求項9)。   In addition, a polarizing plate is provided in which the laminate according to claim 8 is mounted on at least one surface of the polarizer as a protective material for the polarizer (claim 9).

また、請求項8記載の積層体、請求項9記載の偏光板から選ばれる1以上の構成を備えた液晶表示装置を提供する(請求項10)。   Moreover, the liquid crystal display device provided with the 1 or more structure chosen from the laminated body of Claim 8, and the polarizing plate of Claim 9 is provided (Claim 10).

本発明のシートを用いると、煩雑な工程を必要とせず、かつ、光学装置構成部材へダメージを与えることがなく、光学補償用の膜が形成できる。さらに、その光学補償用の膜を有する積層体が製造でき、特に〔(n+n)/2−n〕×d<0の光学補償層を有する積層体が製造できることから、工業的に極めて有用である。 When the sheet of the present invention is used, a complicated process is not required, and an optical compensation film can be formed without damaging the optical device constituent members. In addition, a laminate having the optical compensation film can be produced, and in particular, a laminate having an optical compensation layer of [(n x + ny ) / 2− nz ] × d <0 can be produced industrially. Very useful.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明において炭素数1から20のアルキル基とは例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などがあげられる。   In the present invention, the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isobutyl group, n-pentyl group. N-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like.

炭素数1〜20のアルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基などがあげられる。   Examples of the alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, an isobutoxy group, a tert-butoxy group, an n-pentyloxy group, and an n-hexyloxy group. Can be given.

炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、2−フルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2−ジクロロエチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、2−ブロモエチル基、2,2−ジブロモエチル基、2,2,2−トリブロモエチル基などがあげられる。   Examples of the halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, bromomethyl group, dibromomethyl group, tribromomethyl group, 2-fluoroethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2-chloroethyl group, 2,2-dichloroethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, 2- Examples include bromoethyl group, 2,2-dibromoethyl group, 2,2,2-tribromoethyl group, and the like.

炭素数6〜20のアリール基とは例えばフェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニリル基などがあげられる。   Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include phenyl group, 2-tolyl group, 3-tolyl group, 4-tolyl group, xylyl group, naphthyl group, and biphenylyl group.

炭素数6〜20のアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、2−トリルオキシ基、3−トリルオキシ基、4−トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基、ビフェニリルオキシ基などがあげられる。   Examples of the aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms include a phenoxy group, a 2-tolyloxy group, a 3-tolyloxy group, a 4-tolyloxy group, a xylyloxy group, a naphthyloxy group, and a biphenylyloxy group.

炭素数7〜20のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基などがあげられる。   Examples of the aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms include a benzyl group and a phenethyl group.

炭素数7〜20のアラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基などがあげられる。   Examples of the aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms include a benzyloxy group and a phenethyloxy group.

炭素数1〜21のアシルオキシ基としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などがあげられる。   Examples of the acyloxy group having 1 to 21 carbon atoms include an acetoxy group, a propionyloxy group, and a benzoyloxy group.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子があげられる。   Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

本発明において使用するセルロース N−置換カーバメートは(以下(A)成分と言うことがある)、例えば、各種木材パルプ、綿リンター、綿リント等から得られるセルロースを原料とし、ピリジン、トリエチルアミン等の塩基触媒存在下でイソシアネート系化合物を反応させる既知の方法により製造することができる(例えば、特開昭62−64801参照)。また、反応生成物を水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリにより部分加水分解することによって、N−置換カーバメート化率の制御されたものを製造することもできる。尚、前記の反応時に使用する塩基触媒は溶媒としても使用することができる。その他の合成時の溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒を好適に用いることができる。更に、セルロースの溶媒に対する溶解性を向上させるために塩化リチウム等の無機塩を添加することもできる。また、イソシアネート系化合物の例としては、下記一般式(4)〜(6)で表される化合物が挙げられる。   The cellulose N-substituted carbamate used in the present invention (hereinafter sometimes referred to as component (A)) is made from cellulose obtained from, for example, various wood pulps, cotton linters, cotton lints, and the like, and bases such as pyridine and triethylamine. It can be produced by a known method in which an isocyanate compound is reacted in the presence of a catalyst (see, for example, JP-A-62-64801). In addition, by subjecting the reaction product to partial hydrolysis with an alkali such as sodium hydroxide or potassium hydroxide, one having a controlled N-substituted carbamate conversion rate can be produced. In addition, the base catalyst used at the time of the said reaction can also be used as a solvent. As other solvents at the time of synthesis, amide solvents such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide can be suitably used. Furthermore, an inorganic salt such as lithium chloride can be added to improve the solubility of cellulose in a solvent. Examples of the isocyanate compound include compounds represented by the following general formulas (4) to (6).

Figure 2008149577
Figure 2008149577

(式中R20、R21、R22、R23、R24は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のアリールオキシ基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数7〜20のアラルキルオキシ基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。) (In the formula, R 20 , R 21 , R 22 , R 23 and R 24 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 to 20 carbon atoms. Halogenated alkyl groups, C6-C20 aryl groups, C6-C20 aryloxy groups, C7-C20 aralkyl groups, C7-C20 aralkyloxy groups, C1-C21 Represents an acyloxy group, a halogen atom, or a nitro group.)

Figure 2008149577
Figure 2008149577

(式中R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。) (In the formula, R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , R 30 , R 31 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. Represents a halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 21 carbon atoms, a halogen atom, or a nitro group.)

Figure 2008149577
Figure 2008149577

(式中R32、R33、R34、R35、R36、R37、R38は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。)
これらのイソシアネート系化合物は、単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
(Wherein R 32 , R 33 , R 34 , R 35 , R 36 , R 37 , R 38 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. Represents a halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 21 carbon atoms, a halogen atom, or a nitro group.)
These isocyanate compounds may be used alone or in combination of two or more.

本発明では、上記イソシアネート系化合物の入手性の観点から、R20、R21、R22、R23、R24が、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜16のアルキル基、炭素数1〜16のアルコキシ基、炭素数1〜16のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜16のアリール基、炭素数6〜16のアリールオキシ基、炭素数7〜16のアラルキル基、炭素数7〜16のアラルキルオキシ基、炭素数1〜17のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である、一般式(4)で表されるイソシアネート系化合物を反応させ、前記セルロースの水酸基の少なくとも一つがN−置換カーバメート化されたセルロース N−置換カーバメート又はR25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35、R36、R37、R38が、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜16のアルキル基、炭素数1〜16のアルコキシ基、炭素数1〜16のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜17のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である、一般式(5)、(6)で表されるイソシアネート系化合物を反応させ、前記セルロースの水酸基の少なくとも一つがN−置換カーバメート化されたセルロース N−置換カーバメートを用いることが好ましい。R20、R21、R22、R23、R24が、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数6〜12のアリールオキシ基、炭素数7〜12のアラルキル基、炭素数7〜12のアラルキルオキシ基、炭素数1〜13のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である、一般式(4)で表されるイソシアネート系化合物を反応させ、前記セルロースの水酸基の少なくとも一つがN−置換カーバメート化されたセルロース N−置換カーバメートを用いることがより好ましい。又はR25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35、R36、R37、R38が、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜13のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基である、一般式(5)、(6)で表されるイソシアネート系化合物を反応させ、前記セルロースの水酸基の少なくとも一つがN−置換カーバメート化されたセルロース N−置換カーバメートを用いることがより好ましい。 In the present invention, R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , and R 24 are the same or different from the viewpoint of availability of the isocyanate compound, and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, or a carbon number. An alkoxy group having 1 to 16 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, an aryl group having 6 to 16 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 16 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 16 carbon atoms, and 7 to 7 carbon atoms The isocyanate compound represented by the general formula (4), which is 16 aralkyloxy group, acyloxy group having 1 to 17 carbon atoms, halogen atom or nitro group, is reacted, and at least one hydroxyl group of the cellulose is N-substituted. carbamate of cellulose N- substituted carbamate or R 25, R 26, R 27 , R 28, R 29, R 30, R 31, R 32, R 33, R 4, R 35, R 36, R 37, R 38 are the same or different, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 16 carbon atoms, alkyl halides having 1 to 16 carbon atoms Group, an acyloxy group having 1 to 17 carbon atoms, a halogen atom, and a nitro group are reacted with an isocyanate compound represented by general formulas (5) and (6), and at least one hydroxyl group of the cellulose is N-substituted. It is preferred to use a carbamateized cellulose N-substituted carbamate. R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or a halogenated group having 1 to 12 carbon atoms. An alkyl group, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, an aralkyloxy group having 7 to 12 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 13 carbon atoms, It is more preferable to use a cellulose N-substituted carbamate in which an isocyanate compound represented by the general formula (4) which is a halogen atom or a nitro group is reacted and at least one of the hydroxyl groups of the cellulose is N-substituted carbamate. . Or R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , R 30 , R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 , R 36 , R 37 , R 38 are the same or different and hydrogen General formula which is an atom, a C1-C12 alkyl group, a C1-C12 alkoxy group, a C1-C12 halogenated alkyl group, a C1-C13 acyloxy group, a halogen atom, and a nitro group It is more preferable to use a cellulose N-substituted carbamate in which the isocyanate compound represented by (5) or (6) is reacted and at least one of the hydroxyl groups of the cellulose is N-substituted carbamate.

一般式(4)〜(6)で表されるイソシアネート系化合物を具体的に例示すると、フェニルイソシアネート、o−トリルイソシアネート、m−トリルイソシアネート、p−トリルイソシアネート、2−エチルフェニルイソシアネート、3−エチルフェニルイソシアネート、4−エチルフェニルイソシアネート、2−プロピルフェニルイソシアネート、3−プロピルフェニルイソシアネート、4−プロピルフェニルイソシアネート、2−ブチルフェニルイソシアネート、3−ブチルフェニルイソシアネート、4−ブチルフェニルイソシアネート、2,3−ジメチルフェニルイソシアネート、2,4−ジメチルフェニルイソシアネート、2,5−ジメチルフェニルイソシアネート、2,6−ジメチルフェニルイソシアネート、3,4−ジメチルフェニルイソシアネート、3,5−ジメチルフェニルイソシアネート、2,3−ジエチルフェニルイソシアネート、2,4−ジエチルフェニルイソシアネート、2,5−ジエチルフェニルイソシアネート、2,6−ジエチルフェニルイソシアネート、3,4−ジエチルフェニルイソシアネート、3,5−ジエチルフェニルイソシアネート、2,4,6−トリメチルフェニルイソシアネート、2−メトキシフェニルイソシアネート、3−メトキシフェニルイソシアネート、4−メトキシフェニルイソシアネート、2−エトキシフェニルイソシアネート、3−エトキシフェニルイソシアネート、4−エトキシフェニルイソシアネート、2−(フルオロメチル)フェニルイソシアネート、3−(フルオロメチル)フェニルイソシアネート、4−(フルオロメチル)フェニルイソシアネート、2−(クロロメチル)フェニルイソシアネート、3−(クロロメチル)フェニルイソシアネート、4−(クロロメチル)フェニルイソシアネート、2−(ブロモメチル)フェニルイソシアネート、3−(ブロモメチル)フェニルイソシアネート、4−(ブロモメチル)フェニルイソシアネート、2−(ヨードメチル)フェニルイソシアネート、3−(ヨードメチル)フェニルイソシアネート、4−(ヨードメチル)フェニルイソシアネート、2−(ジフルオロメチル)フェニルイソシアネート、3−(ジフルオロメチル)フェニルイソシアネート、4−(ジフルオロメチル)フェニルイソシアネート、2−(ジクロロメチル)フェニルイソシアネート、3−(ジクロロメチル)フェニルイソシアネート、4−(ジクロロメチル)フェニルイソシアネート、2−(ジブロモメチル)フェニルイソシアネート、3−(ジブロモメチル)フェニルイソシアネート、4−(ジブロモメチル)フェニルイソシアネート、2−(ジヨードメチル)フェニルイソシアネート、3−(ジヨードメチル)フェニルイソシアネート、4−(ジヨードメチル)フェニルイソシアネート、2−(トリフルオロメチル)フェニルイソシアネート、3−(トリフルオロメチル)フェニルイソシアネート、4−(トリフルオロメチル)フェニルイソシアネート、2−(トリクロロメチル)フェニルイソシアネート、3−(トリクロロメチル)フェニルイソシアネート、4−(トリクロロメチル)フェニルイソシアネート、2−(トリブロモメチル)フェニルイソシアネート、3−(トリブロモメチル)フェニルイソシアネート、4−(トリブロモメチル)フェニルイソシアネート、2−(トリヨードメチル)フェニルイソシアネート、3−(トリヨードメチル)フェニルイソシアネート、4−(トリヨードメチル)フェニルイソシアネート、2−ビフェニリルイソシアネート、3−ビフェニリルイソシアネート、4−ビフェニリルイソシアネート、2−フェノキシフェニルイソシアネート、3−フェノキシフェニルイソシアネート、4−フェノキシフェニルイソシアネート、2’−ベンジルフェニルイソシアネート、3’−ベンジルフェニルイソシアネート、4’−ベンジルフェニルイソシアネート、2−ベンジルオキシフェニルイソシアネート、3−ベンジルオキシフェニルイソシアネート、4−ベンジルオキシフェニルイソシアネート、2−アセトキシフェニルイソシアネート、3−アセトキシフェニルイソシアネート、4−アセトキシフェニルイソシアネート、2−フルオロフェニルイソシアネート、3−フルオロフェニルイソシアネート、4−フルオロフェニルイソシアネート、2−クロロフェニルイソシアネート、3−クロロフェニルイソシアネート、4−クロロフェニルイソシアネート、2−ブロモフェニルイソシアネート、3−ブロモフェニルイソシアネート、4−ブロモフェニルイソシアネート、2−ヨードフェニルイソシアネート、3−ヨードフェニルイソシアネート、4−ヨードフェニルイソシアネート、2,4−ジフルオロフェニルイソシアネート、2,5−ジフルオロフェニルイソシアネート、2,6−ジフルオロフェニルイソシアネート、3,4−ジフルオロフェニルイソシアネート、3,5−ジフルオロフェニルイソシアネート、2,4−ジクロロフェニルイソシアネート、2,5−ジクロロフェニルイソシアネート、2,6−ジクロロフェニルイソシアネート、3,4−ジクロロフェニルイソシアネート、3,5−ジクロロフェニルイソシアネート、2,4−ジブロモフェニルイソシアネート、2,5−ジブロモフェニルイソシアネート、2,6−ジブロモフェニルイソシアネート、3,4−ジブロモフェニルイソシアネート、3,5−ジブロモフェニルイソシアネート、2,4−ジヨードフェニルイソシアネート、2,5−ジヨードフェニルイソシアネート、2,6−ジヨードフェニルイソシアネート、3,4−ジヨードフェニルイソシアネート、3,5−ジヨードフェニルイソシアネート、2,3,4−トリフルオロフェニルイソシアネート、2,3,4−トリクロロフェニルイソシアネート、2,3,4−トリブロモフェニルイソシアネート、2,3,4−トリヨードフェニルイソシアネート、2−フルオロ−5−メチルフェニルイソシアネート、2−フルオロ−6−メチルフェニルイソシアネート、3−フルオロ−2−メチルフェニルイソシアネート、3−フルオロ−4−メチルフェニルイソシアネート、4−フルオロ−2−メチルフェニルイソシアネート、4−フルオロ−3−メチルフェニルイソシアネート、5−フルオロ−2−メチルフェニルイソシアネート、2−クロロ−5−メチルフェニルイソシアネート、2−クロロ−6−メチルフェニルイソシアネート、3−クロロ−2−メチルフェニルイソシアネート、3−クロロ−4−メチルフェニルイソシアネート、4−クロロ−2−メチルフェニルイソシアネート、4−クロロ−3−メチルフェニルイソシアネート、5−クロロ−2−メチルフェニルイソシアネート、2−ブロモ−5−メチルフェニルイソシアネート、2−ブロモ−6−メチルフェニルイソシアネート、3−ブロモ−2−メチルフェニルイソシアネート、3−ブロモ−4−メチルフェニルイソシアネート、4−ブロモ−2−メチルフェニルイソシアネート、4−ブロモ−3−メチルフェニルイソシアネート、5−ブロモ−2−メチルフェニルイソシアネート、2−ヨード−5−メチルフェニルイソシアネート、2−ヨード−6−メチルフェニルイソシアネート、3−ヨード−2−メチルフェニルイソシアネート、3−ヨード−4−メチルフェニルイソシアネート、4−ヨード−2−メチルフェニルイソシアネート、4−ヨード−3−メチルフェニルイソシアネート、5−ヨード−2−メチルフェニルイソシアネート、2−ニトロフェニルイソシアネート、3−ニトロフェニルイソシアネート、4−ニトロフェニルイソシアネート、1−ナフチルイソシアネート、2−ナフチルイソシアネート、1−メチル−2−ナフチルイソシアネート、2−メチル−1−ナフチルイソシアネート、1−メトキシ−2−ナフチルイソシアネート、2−メトキシ−1−ナフチルイソシアネート、1−(トリフルオロメチル)−2−ナフチルイソシアネート、2−(トリフルオロメチル)−1−ナフチルイソシアネート、1−(トリクロロメチル)−2−ナフチルイソシアネート、2−(トリクロロメチル)−1−ナフチルイソシアネート、1−(トリブロモメチル)−2−ナフチルイソシアネート、2−(トリブロモメチル)−1−ナフチルイソシアネート、1−(トリヨードメチル)−2−ナフチルイソシアネート、2−(トリヨードメチル)−1−ナフチルイソシアネート、1−アセトキシ−2−ナフチルイソシアネート、2−アセトキシ−1−ナフチルイソシアネート、1−フルオロ−2−ナフチルイソシアネート、2−フルオロ−1−ナフチルイソシアネート、1−クロロ−2−ナフチルイソシアネート、2−クロロ−1−ナフチルイソシアネート、1−ブロモ−2−ナフチルイソシアネート、2−ブロモ−1−ナフチルイソシアネート、1−ヨード−2−ナフチルイソシアネート、2−ヨード−1−ナフチルイソシアネート、1−ニトロ−2−ナフチルイソシアネート、2−ニトロ−1−ナフチルイソシアネート等が挙げられる。これら及び前記イソシアネート系化合物を反応して得られるセルロース N−置換カーバメートは、単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   Specific examples of the isocyanate compounds represented by the general formulas (4) to (6) include phenyl isocyanate, o-tolyl isocyanate, m-tolyl isocyanate, p-tolyl isocyanate, 2-ethylphenyl isocyanate, 3-ethyl. Phenyl isocyanate, 4-ethylphenyl isocyanate, 2-propylphenyl isocyanate, 3-propylphenyl isocyanate, 4-propylphenyl isocyanate, 2-butylphenyl isocyanate, 3-butylphenyl isocyanate, 4-butylphenyl isocyanate, 2,3-dimethyl Phenyl isocyanate, 2,4-dimethylphenyl isocyanate, 2,5-dimethylphenyl isocyanate, 2,6-dimethylphenyl isocyanate, 3,4-dimethylphenol Nyl isocyanate, 3,5-dimethylphenyl isocyanate, 2,3-diethylphenyl isocyanate, 2,4-diethylphenyl isocyanate, 2,5-diethylphenyl isocyanate, 2,6-diethylphenyl isocyanate, 3,4-diethylphenyl isocyanate 3,5-diethylphenyl isocyanate, 2,4,6-trimethylphenyl isocyanate, 2-methoxyphenyl isocyanate, 3-methoxyphenyl isocyanate, 4-methoxyphenyl isocyanate, 2-ethoxyphenyl isocyanate, 3-ethoxyphenyl isocyanate, 4 -Ethoxyphenyl isocyanate, 2- (fluoromethyl) phenyl isocyanate, 3- (fluoromethyl) phenyl isocyanate, 4- (full (Romethyl) phenyl isocyanate, 2- (chloromethyl) phenyl isocyanate, 3- (chloromethyl) phenyl isocyanate, 4- (chloromethyl) phenyl isocyanate, 2- (bromomethyl) phenyl isocyanate, 3- (bromomethyl) phenyl isocyanate, 4- (Bromomethyl) phenyl isocyanate, 2- (iodomethyl) phenyl isocyanate, 3- (iodomethyl) phenyl isocyanate, 4- (iodomethyl) phenyl isocyanate, 2- (difluoromethyl) phenyl isocyanate, 3- (difluoromethyl) phenyl isocyanate, 4- (Difluoromethyl) phenyl isocyanate, 2- (dichloromethyl) phenyl isocyanate, 3- (dichloromethyl) phenyl isocyanate, 4- (dichloromethyl) phenyl isocyanate, 2- (dibromomethyl) phenyl isocyanate, 3- (dibromomethyl) phenyl isocyanate, 4- (dibromomethyl) phenyl isocyanate, 2- (diiodomethyl) phenyl isocyanate, 3- (diiodomethyl) phenyl Isocyanate, 4- (diiodomethyl) phenyl isocyanate, 2- (trifluoromethyl) phenyl isocyanate, 3- (trifluoromethyl) phenyl isocyanate, 4- (trifluoromethyl) phenyl isocyanate, 2- (trichloromethyl) phenyl isocyanate, 3 -(Trichloromethyl) phenyl isocyanate, 4- (trichloromethyl) phenyl isocyanate, 2- (tribromomethyl) phenyl isocyanate, 3 (Tribromomethyl) phenyl isocyanate, 4- (tribromomethyl) phenyl isocyanate, 2- (triiodomethyl) phenyl isocyanate, 3- (triiodomethyl) phenyl isocyanate, 4- (triiodomethyl) phenyl isocyanate, 2- Biphenylyl isocyanate, 3-biphenylyl isocyanate, 4-biphenylyl isocyanate, 2-phenoxyphenyl isocyanate, 3-phenoxyphenyl isocyanate, 4-phenoxyphenyl isocyanate, 2′-benzylphenyl isocyanate, 3′-benzylphenyl isocyanate, 4 ′ -Benzylphenyl isocyanate, 2-benzyloxyphenyl isocyanate, 3-benzyloxyphenyl isocyanate, 4-benzyloxyphenyl Nyl isocyanate, 2-acetoxyphenyl isocyanate, 3-acetoxyphenyl isocyanate, 4-acetoxyphenyl isocyanate, 2-fluorophenyl isocyanate, 3-fluorophenyl isocyanate, 4-fluorophenyl isocyanate, 2-chlorophenyl isocyanate, 3-chlorophenyl isocyanate, 4 -Chlorophenyl isocyanate, 2-bromophenyl isocyanate, 3-bromophenyl isocyanate, 4-bromophenyl isocyanate, 2-iodophenyl isocyanate, 3-iodophenyl isocyanate, 4-iodophenyl isocyanate, 2,4-difluorophenyl isocyanate, 2, 5-difluorophenyl isocyanate, 2,6-difluorophenyl isocyanate 3,4-difluorophenyl isocyanate, 3,5-difluorophenyl isocyanate, 2,4-dichlorophenyl isocyanate, 2,5-dichlorophenyl isocyanate, 2,6-dichlorophenyl isocyanate, 3,4-dichlorophenyl isocyanate, 3,5- Dichlorophenyl isocyanate, 2,4-dibromophenyl isocyanate, 2,5-dibromophenyl isocyanate, 2,6-dibromophenyl isocyanate, 3,4-dibromophenyl isocyanate, 3,5-dibromophenyl isocyanate, 2,4-diiodophenyl Isocyanate, 2,5-diiodophenyl isocyanate, 2,6-diiodophenyl isocyanate, 3,4-diiodophenyl isocyanate, 3,5-diiod Phenyl isocyanate, 2,3,4-trifluorophenyl isocyanate, 2,3,4-trichlorophenyl isocyanate, 2,3,4-tribromophenyl isocyanate, 2,3,4-triiodophenyl isocyanate, 2-fluoro- 5-methylphenyl isocyanate, 2-fluoro-6-methylphenyl isocyanate, 3-fluoro-2-methylphenyl isocyanate, 3-fluoro-4-methylphenyl isocyanate, 4-fluoro-2-methylphenyl isocyanate, 4-fluoro- 3-methylphenyl isocyanate, 5-fluoro-2-methylphenyl isocyanate, 2-chloro-5-methylphenyl isocyanate, 2-chloro-6-methylphenyl isocyanate, 3-chloro-2-methylphenol Isocyanate, 3-chloro-4-methylphenyl isocyanate, 4-chloro-2-methylphenyl isocyanate, 4-chloro-3-methylphenyl isocyanate, 5-chloro-2-methylphenyl isocyanate, 2-bromo-5-methyl Phenyl isocyanate, 2-bromo-6-methylphenyl isocyanate, 3-bromo-2-methylphenyl isocyanate, 3-bromo-4-methylphenyl isocyanate, 4-bromo-2-methylphenyl isocyanate, 4-bromo-3-methyl Phenyl isocyanate, 5-bromo-2-methylphenyl isocyanate, 2-iodo-5-methylphenyl isocyanate, 2-iodo-6-methylphenyl isocyanate, 3-iodo-2-methylphenyl isocyanate, 3- Iodo-4-methylphenyl isocyanate, 4-iodo-2-methylphenyl isocyanate, 4-iodo-3-methylphenyl isocyanate, 5-iodo-2-methylphenyl isocyanate, 2-nitrophenyl isocyanate, 3-nitrophenyl isocyanate, 4-nitrophenyl isocyanate, 1-naphthyl isocyanate, 2-naphthyl isocyanate, 1-methyl-2-naphthyl isocyanate, 2-methyl-1-naphthyl isocyanate, 1-methoxy-2-naphthyl isocyanate, 2-methoxy-1-naphthyl Isocyanate, 1- (trifluoromethyl) -2-naphthyl isocyanate, 2- (trifluoromethyl) -1-naphthyl isocyanate, 1- (trichloromethyl) -2-naphthyl isocyanate 2- (trichloromethyl) -1-naphthyl isocyanate, 1- (tribromomethyl) -2-naphthyl isocyanate, 2- (tribromomethyl) -1-naphthyl isocyanate, 1- (triiodomethyl) -2-naphthyl isocyanate 2- (triiodomethyl) -1-naphthyl isocyanate, 1-acetoxy-2-naphthyl isocyanate, 2-acetoxy-1-naphthyl isocyanate, 1-fluoro-2-naphthyl isocyanate, 2-fluoro-1-naphthyl isocyanate, 1-chloro-2-naphthyl isocyanate, 2-chloro-1-naphthyl isocyanate, 1-bromo-2-naphthyl isocyanate, 2-bromo-1-naphthyl isocyanate, 1-iodo-2-naphthyl isocyanate, 2-iodo-1 -Naphth Isocyanate, 1-nitro-2-naphthyl isocyanate, 2-nitro-1-naphthyl isocyanate, and the like. The cellulose N-substituted carbamates obtained by reacting these and the isocyanate compounds may be used alone or in combination of two or more.

また、セルロースはその構成単位であるグルコース残基当たり3個の水酸基を有している。従って、これらの水酸基を置換する場合に、グルコース残基当たりの置換度(以下、DSと称する)は最大3になる。本発明においては、DSの下限は好ましくは0.05、より好ましくは1.0、さらに好ましくは1.9であり、上限は好ましくは3、より好ましくは2.95、さらに好ましくは2.9である。DSが0.05より低いと、例えば、溶液キャスティングによって光学補償用の膜を形成する際、溶媒に溶け難くなる傾向がある。本発明では、DSが異なるセルロース N−置換カーバメートの2種以上を併用してもよく、単独で使用してもよい。   Cellulose has three hydroxyl groups per glucose residue, which is its structural unit. Therefore, when these hydroxyl groups are substituted, the degree of substitution per glucose residue (hereinafter referred to as DS) is 3 at maximum. In the present invention, the lower limit of DS is preferably 0.05, more preferably 1.0, still more preferably 1.9, and the upper limit is preferably 3, more preferably 2.95, and even more preferably 2.9. It is. When DS is lower than 0.05, for example, when forming a film for optical compensation by solution casting, it tends to be difficult to dissolve in a solvent. In the present invention, two or more cellulose N-substituted carbamates having different DSs may be used in combination, or may be used alone.

さらに、(A)成分の数平均分子量の下限は好ましくは5000、より好ましくは8000、さらに好ましくは10000であり、上限は好ましくは500000、より好ましくは300000、さらに好ましくは200000である。数平均分子量が5000より小さいと膜の強度が低下する傾向があり、数平均分子量が500000より大きいと溶媒(以下(B)成分と言うことがある)に溶け難くなる傾向がある。なお、当該数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法により測定した値である。本発明では、数平均分子量が異なるセルロース N−置換カーバメートの2種以上を併用してもよく、単独で使用してもよい。   Furthermore, the lower limit of the number average molecular weight of the component (A) is preferably 5000, more preferably 8000, and still more preferably 10,000, and the upper limit is preferably 500,000, more preferably 300,000, still more preferably 200,000. When the number average molecular weight is less than 5,000, the strength of the film tends to decrease, and when the number average molecular weight is more than 500,000, the film tends to be hardly soluble in a solvent (hereinafter sometimes referred to as component (B)). The number average molecular weight is a value measured by a gel permeation chromatography (GPC) method. In the present invention, two or more cellulose N-substituted carbamates having different number average molecular weights may be used in combination, or may be used alone.

以下、本発明のシート(本願においてシートとは、厚さに関わらず、薄板状のものを指すものとする)について説明する。該シートは、剥離性基板上に、前記セルロース N−置換カーバメートを含有してなる膜を有する。膜の形成方法としては、例えば、前記基板に溶液キャスティングする方法、前記基板に押出機等を用いて溶融キャスティングする方法等が挙げられる。膜の形成方法の簡便さから、溶液キャスティングする方法が好ましい。溶液キャスティングによる方法の具体的な例としては、膜の形成用塗工液(以下、単に塗工液と言うことがある)を作製し、前記基板に塗工後、乾燥、又は、塗工液を前記基板に塗工後、アニーリング、乾燥する方法等が挙げられる。   Hereinafter, the sheet of the present invention (in the present application, the sheet refers to a thin plate regardless of the thickness) will be described. This sheet | seat has a film | membrane formed by containing the said cellulose N-substituted carbamate on a peelable board | substrate. Examples of the film forming method include a method of solution casting on the substrate, a melt casting method of the substrate using an extruder or the like, and the like. A solution casting method is preferred because of the simplicity of the film formation method. As a specific example of the method by solution casting, a coating liquid for forming a film (hereinafter sometimes simply referred to as a coating liquid) is prepared, applied to the substrate, and then dried or applied. And a method of annealing and drying after coating on the substrate.

次に、前述の膜の形成用塗工液について説明する。塗工液は、(A)前記セルロース N−置換カーバメート、(B)(A)成分が溶解可能な溶媒、を含有してなる。   Next, the film forming coating solution will be described. The coating liquid contains (A) the cellulose N-substituted carbamate and (B) a solvent in which the component (A) can be dissolved.

(B)成分の溶媒としては、(A)成分が可溶であれば特に限定されるものではないが、具体的な例としては、ベンゼン、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ジエチルベンゼンの異性体混合物等の炭化水素系溶媒;メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、フルフリルアルコール、ベンジルアルコール等のアルコール系溶媒;エチルエーテル、イソプロピルエーテル、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル系溶媒;アセトン、2−ブタノン、4−メチル−2−ペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン、1,1,1,2−テトラクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、1−クロロプロパン、2−クロロプロパン、1,1−ジクロロプロパン、1,2−ジクロロプロパン、1,3−ジクロロプロパン、2,2−ジクロロプロパン、1,2,3−トリクロロプロパン、クロロベンゼン、1,2−ジクロロベンゼン、1,3−ジクロロベンゼン、1,4−ジクロロベンゼン、1,2,3−トリクロロベンゼン、1,2,4−トリクロロベンゼン、1,3,5−トリクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸sec−ブチル、酢酸tert−ブチル、酢酸n−ペンチル、酢酸n−ヘキシル、酢酸n−ヘプチル、酢酸n−オクチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、1−メチル−2−ピロリジノン等のアミド系溶媒;ピロリジン、ピペリジン、ピロール等のアミン系溶媒等が挙げられる。これらの中でも、エーテル系溶媒、特にエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルが、(n+n)/2−nで表される値の絶対値を大きくしやすい、すなわち、より薄膜で厚み位相差の絶対値を大きくしやすい理由で好ましい。また、膜のヘーズを低下させやすいという観点から、エステル系溶媒、特に酢酸n−ブチル、酢酸n−ペンチル、酢酸n−ヘキシルが好ましい。これらの溶媒は、単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。 The solvent for the component (B) is not particularly limited as long as the component (A) is soluble. Specific examples include benzene, toluene, o-xylene, m-xylene, and p-xylene. Hydrocarbon solvents such as isomer mixtures of ethylbenzene, isopropylbenzene and diethylbenzene; methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, furfuryl alcohol, Alcohol solvents such as benzyl alcohol; ethyl ether, isopropyl ether, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, tetrahydropyran, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol Ether solvents such as coal monopropyl ether and ethylene glycol monobutyl ether; ketone solvents such as acetone, 2-butanone, 4-methyl-2-pentanone and cyclohexanone; methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane 1,1,1-trichloroethane, 1,1,2-trichloroethane, 1,1,1,2-tetrachloroethane, 1,1,2,2-tetrachloroethane, pentachloroethane, hexachloroethane, 1-chloropropane, 2 -Chloropropane, 1,1-dichloropropane, 1,2-dichloropropane, 1,3-dichloropropane, 2,2-dichloropropane, 1,2,3-trichloropropane, chlorobenzene, 1,2-dichlorobenzene, 1 , 3-Dichlorobenzene, 1,4-dichloro Halogen solvents such as benzene, 1,2,3-trichlorobenzene, 1,2,4-trichlorobenzene, 1,3,5-trichlorobenzene; methyl acetate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n acetate -Butyl, isobutyl acetate, sec-butyl acetate, tert-butyl acetate, n-pentyl acetate, n-hexyl acetate, n-heptyl acetate, n-octyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene Ester solvents such as glycol monopropyl ether acetate and ethylene glycol monobutyl ether acetate; amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and 1-methyl-2-pyrrolidinone; pyrrolidine, piperi Examples thereof include amine solvents such as gin and pyrrole. Among these, ether solvents such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether have an absolute value represented by (n x + ny ) / 2− nz. This is preferable because the value can be easily increased, that is, the absolute value of the thickness retardation can be easily increased with a thinner film. Further, from the viewpoint of easily reducing the haze of the film, ester solvents, particularly n-butyl acetate, n-pentyl acetate, and n-hexyl acetate are preferable. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

本発明では、溶媒量は、(A)成分と(B)成分の総重量に対する(A)成分の割合が下限1重量%、上限70重量%の範囲で用いるのが好ましく、下限2重量%、上限60重量%の範囲で用いるのがより好ましく、下限3重量%、上限50重量%の範囲で用いるのがさらに好ましい。(A)成分の割合が1重量%より小さい場合は塗工膜厚が薄くなり、必要な膜厚が得られ難くなる傾向があり、70重量%より大きい場合は塗工液の粘度が高くなり、作業性が劣る傾向がある。   In the present invention, the amount of the solvent is preferably such that the ratio of the component (A) to the total weight of the components (A) and (B) is 1% by weight lower limit and 70% by weight upper limit, 2% by weight lower limit, More preferably, the upper limit is 60% by weight, and the lower limit is 3% by weight and the upper limit is 50% by weight. When the proportion of the component (A) is less than 1% by weight, the coating film thickness tends to be thin and the required film thickness tends to be difficult to obtain, and when it is greater than 70% by weight, the viscosity of the coating liquid increases. , Workability tends to be inferior.

次に、剥離性基板上への前記塗工液を用いた塗工膜の形成方法について説明する。該塗工膜は、前記基板の片面又は両面に塗工液を塗工して塗工基板とした後、この塗工基板を乾燥することにより剥離性基板上に好適に作製できる。塗工方法としては、グラビヤロールコート法、マイヤーバーコート法、ドクターブレードコート法、リバースロールコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カレンダーコート法、スキーズコート法、キスコート法、バーコート法、スロットダイコート法、スピンコート法等が挙げられる。   Next, the formation method of the coating film using the said coating liquid on a peelable board | substrate is demonstrated. The coating film can be suitably prepared on a peelable substrate by applying a coating liquid on one or both sides of the substrate to form a coated substrate, and then drying the coated substrate. As coating methods, gravure roll coating method, Mayer bar coating method, doctor blade coating method, reverse roll coating method, dip coating method, air knife coating method, calendar coating method, skies coating method, kiss coating method, bar coating method , Slot die coating method, spin coating method and the like.

乾燥方法としては、前記塗工基板を、例えば空気中又は窒素等の不活性ガス中に放置(風乾)する方法、熱風オーブン、赤外線加熱炉等で加熱乾燥する方法、真空乾燥機等で減圧乾燥する方法等により、あるいはこれらを組み合わせて行うことができる。   As a drying method, the coated substrate is left (air dried) in an inert gas such as air or nitrogen, a method of heat drying in a hot air oven, an infrared heating furnace, or the like, and vacuum drying with a vacuum dryer or the like. It can carry out by the method to carry out, etc. or combining these.

乾燥温度条件としては、定温、多段階昇温のいずれも用いることができる。定温の場合、下限−30℃、上限300℃の温度範囲が好ましく、下限0℃、上限280℃がより好ましく、下限10℃、上限260℃がさらに好ましい。乾燥温度が−30℃より低いと乾燥時間が長くなる傾向があり、300℃より高いと塗工膜や剥離性基板の熱劣化が生じ易くなる傾向がある。尚、上記の温度範囲は比較的広いが、(n+n)/2−nで表される値の絶対値をより大きくするためには下限に近い低い温度で行うことが望ましい(塗工膜内部構造の形成がより進む)。但し、この様な低い温度では乾燥時間が非常に長くなるので、実際には溶媒の沸点等も考慮し、所望の(n+n)/2−nで表される値を得られる範囲で温度を選択する必要がある。このような定温乾燥を用いることができるが、効果的に乾燥させるためには多段階に温度を上げることが好ましく、経済的観点から1次乾燥、2次乾燥の2段乾燥が特に好ましい。 As the drying temperature condition, either constant temperature or multistage temperature increase can be used. In the case of constant temperature, a temperature range of a lower limit of −30 ° C. and an upper limit of 300 ° C. is preferable, a lower limit of 0 ° C. and an upper limit of 280 ° C. are more preferable, and a lower limit of 10 ° C. and an upper limit of 260 ° C. are more preferable. When the drying temperature is lower than −30 ° C., the drying time tends to be longer. Although the above temperature range is relatively wide, in order to increase the absolute value of the value represented by (n x + n y ) / 2− nz , it is desirable to perform at a low temperature close to the lower limit (painting). The formation of the internal structure of the film proceeds more). However, since the drying time becomes very long at such a low temperature, the range in which a desired value represented by ( nx + ny ) / 2- nz can be obtained in consideration of the boiling point of the solvent. It is necessary to select the temperature at. Although such constant temperature drying can be used, in order to dry effectively, it is preferable to raise the temperature in multiple stages, and from the economical viewpoint, primary drying and secondary drying are particularly preferable.

2段乾燥を行う場合、1次乾燥は、下限0℃、上限40℃の温度範囲が好ましく、下限5℃、上限35℃がより好ましく、下限10℃、上限30℃がさらに好ましい。また、その乾燥時間は3分以上であることが好ましい。1次乾燥は、(n+n)/2−nで表される値の絶対値をより大きくするための塗工膜内部構造の基礎形成に有効である。1次乾燥温度が0℃より低いと塗工膜内部構造の基礎形成に必要な乾燥時間が長くなる傾向があり、40℃より高いと、(n+n)/2−nで表される値の絶対値をより大きくするために必要な塗工膜内部構造の基礎形成がされ難くなる傾向がある。 When performing two-stage drying, the primary drying preferably has a temperature range of a lower limit of 0 ° C and an upper limit of 40 ° C, more preferably a lower limit of 5 ° C and an upper limit of 35 ° C, and even more preferably a lower limit of 10 ° C and an upper limit of 30 ° C. The drying time is preferably 3 minutes or more. The primary drying is effective for the foundation formation of the internal structure of the coating film for increasing the absolute value of the value represented by (n x + ny ) / 2− nz . When the primary drying temperature is lower than 0 ° C., the drying time required for the basic formation of the inner structure of the coating film tends to be longer. When the primary drying temperature is higher than 40 ° C., it is expressed by (n x + ny ) / 2− nz. There is a tendency that it becomes difficult to form the foundation of the internal structure of the coating film necessary for increasing the absolute value of the value to be determined.

2次乾燥においては、下限80℃、上限300℃の温度範囲が好ましく、下限90℃、上限280℃がより好ましく、下限100℃、上限260℃がさらに好ましい。2次乾燥は、溶媒を完全に除去する点に加え、一次乾燥で形成した塗工膜内部構造の基礎を発展させ、実際に(n+n)/2−nで表される値の絶対値をより大きくするために有効である。2次乾燥温度が80℃より低いと塗工膜内部構造の確立が不十分になる傾向があり、300℃より高いと塗工膜や剥離性基板の熱劣化が生じ易くなる傾向がある。 In secondary drying, a temperature range of a lower limit of 80 ° C. and an upper limit of 300 ° C. is preferred, a lower limit of 90 ° C. and an upper limit of 280 ° C. are more preferred, and a lower limit of 100 ° C. and an upper limit of 260 ° C. are more preferred. In addition to completely removing the solvent, the secondary drying has developed the foundation of the internal structure of the coating film formed by the primary drying, and actually has a value expressed by (n x + ny ) / 2− nz. This is effective for increasing the absolute value. If the secondary drying temperature is lower than 80 ° C., the establishment of the internal structure of the coating film tends to be insufficient, and if it is higher than 300 ° C., the coating film or the peelable substrate tends to be thermally deteriorated.

さらに本発明は、塗工液を剥離性基板に塗工し塗工基板とした後、(B)成分の蒸気にさらして塗工膜をアニーリングし、更に乾燥することにより膜の形成方法とすることもできる。   Furthermore, the present invention provides a method for forming a film by applying a coating liquid to a peelable substrate to form a coated substrate, exposing the coating film to the vapor of component (B), and further drying the coating film. You can also.

アニーリングは塗工膜のレベリング性向上、応力緩和等のために行うことが好ましく、例えば面内位相差の低減、面内位相差の振れの低減等に有効である。アニーリングは、(B)成分の蒸気中に塗工基板の塗工膜を上にして水平に静置して行うことが好ましい。アニーリング時の温度は種々設定できるが、下限−30℃、上限〔(B)成分の沸点(℃)〕の範囲が好ましく、下限−15℃、上限〔(B)成分の沸点(℃)−5℃〕がより好ましく、下限0℃、上限〔(B)成分の沸点(℃)−10℃〕がさらに好ましい。アニーリング時の温度が−30℃より低いとアニーリング時間が長くなる傾向があり、アニーリング時の温度が(B)成分の沸点(℃)より高いと塗工膜の剥離性基板からの流れ出しが生じ易くなる傾向がある。アニーリング時の圧力は種々設定でき、大気圧、加圧下、又は減圧下で行うことができるが、作業性の点で大気圧が好ましい。   Annealing is preferably performed in order to improve the leveling property of the coating film and to relieve stress. For example, it is effective for reducing in-plane retardation and reducing in-plane retardation. Annealing is preferably carried out by leaving the coating film of the coating substrate in the steam of the component (B) horizontally. The temperature at the time of annealing can be variously set, but the lower limit is preferably −30 ° C. and the upper limit [(B) component boiling point (° C.)], and the lower limit is −15 ° C. and the upper limit [(B) component boiling point (° C.) −5 ° C] is more preferable, and the lower limit is 0 ° C, and the upper limit [the boiling point (° C) of the component (B) -10 ° C] is more preferable. If the temperature during annealing is lower than −30 ° C., the annealing time tends to be longer, and if the temperature during annealing is higher than the boiling point (° C.) of the component (B), the coating film tends to flow out from the peelable substrate. Tend to be. The pressure at the time of annealing can be set variously and can be performed under atmospheric pressure, pressurization, or reduced pressure, but atmospheric pressure is preferable in terms of workability.

次に、剥離性基板について説明する。剥離性基板としては、本発明の膜の剥離性を有するものであり、膜形成時に該基板の物性が損なわれるものでなければ特に限定されるものではない。剥離性基板を形成する具体的な化合物の例としては、ポリカーボネート系重合体;ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のポリアクリル酸エステル;アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸等の2塩基酸とエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール等のグリコールとの縮合体又はラクトン類の開環重合で得られるポリエステル系重合体;ポリスチレン、ポリ(α−メチルスチレン)等のスチレン系重合体;アクリル酸エステルとスチレンとの共重合体;ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系樹脂、ポリイソプレンの水素添加物、ポリブタジエンの水素添加物等のポリオレフィン系重合体;ナイロン6、ナイロン66等のポリアミド;ポリイミド;ポリアミドイミド;ポリエーテルイミド;ポリビニルアルコール;ポリ塩化ビニル;ポリスルホン;ポリエーテルスルホン;ポリエーテルケトン;ポリエーテルエーテルケトン;ポリフェニレンサルファイド;ポリフェニレンオキシド;ポリアリレート;ポリアセタール;エポキシ樹脂;フェノール樹脂;シリコーン樹脂;鉄、アルミニウム、銅等の金属、ガラス等が挙げられる。   Next, the peelable substrate will be described. The peelable substrate is not particularly limited as long as it has the peelability of the film of the present invention and does not impair the physical properties of the substrate during film formation. Specific examples of compounds that form a release substrate include polycarbonate polymers; polyacrylic esters such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate; adipic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 1, Condensates of dibasic acids such as 4-naphthalenedicarboxylic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, and neopentyl glycol Polyester polymers obtained by ring-opening polymerization of lactones; Styrene polymers such as polystyrene and poly (α-methylstyrene); Copolymers of acrylates and styrene; Polyethylene, polypropylene, norbornene resins, poly Isoprene Polyolefin polymers such as hydrogenated additives and polybutadienes; polyamides such as nylon 6 and nylon 66; polyimides; polyamideimides; polyetherimides; polyvinyl alcohol; polyvinyl chloride; Polyether ether ketone, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polyarylate, polyacetal, epoxy resin, phenol resin, silicone resin, metal such as iron, aluminum, and copper, glass, and the like.

これらの材料は、例えば溶液流延法、溶融流延法、押出法、カレンダー法、圧延、溶融成型等によりシート状に成形し、無延伸、または一軸延伸法、二軸延伸法等により延伸し、剥離性基板として用いることができる。前記化合物の中では、成形品の高温使用時の熱収縮率が低い、又は比較的低く、安定性がよいことから、ポリエチレンテレフタレート(テレフタル酸とエチレングリコールの縮合体)、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート(2,6−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールの縮合体)、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン;ポリエーテルエーテルケトン;ポリフェニレンサルファイド;ポリアリレート;エポキシ樹脂;フェノール樹脂;鉄、アルミニウム、銅等の金属、ガラス等が好ましい。   These materials are formed into a sheet shape by, for example, a solution casting method, a melt casting method, an extrusion method, a calendar method, rolling, melt molding, and the like, and are stretched by a non-stretching method, a uniaxial stretching method, a biaxial stretching method, or the like. It can be used as a peelable substrate. Among these compounds, the molded article has a low or relatively low heat shrinkage rate when used at high temperatures and good stability. Therefore, polyethylene terephthalate (condensate of terephthalic acid and ethylene glycol), polyethylene-2,6- Naphthalenedicarboxylate (condensate of 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and ethylene glycol), polyimide, polyamideimide, polyetherimide, polysulfone, polyethersulfone, polyetherketone; polyetheretherketone; polyphenylenesulfide; polyarylate; Epoxy resin; phenol resin; metal such as iron, aluminum and copper, glass and the like are preferable.

また、剥離性基板作製後、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、アルキル四級アンモニウム塩、リン酸エステル、流動パラフィン、ワックス、高級脂肪酸及び高級脂肪酸の金属塩、高級脂肪酸エステル、高級脂肪酸アルコール、ビスアミド類、ポリシロキサン類、脂肪族アミンエチレンオキシド付加物等の外部離型剤を片面又は両面に塗布し、膜の剥離性を向上させた剥離性基板とすることができる。さらに、前記剥離性基板作製用化合物に、該外部離型剤を内部離型剤として添加した後、上記成形を行うことにより、膜の剥離性を向上させた剥離性基板とすることもできる。   In addition, after preparation of the peelable substrate, fluorine surfactant, silicone surfactant, alkyl quaternary ammonium salt, phosphate ester, liquid paraffin, wax, higher fatty acid and higher fatty acid metal salt, higher fatty acid ester, higher fatty acid By applying an external release agent such as alcohol, bisamides, polysiloxanes, aliphatic amine ethylene oxide adducts or the like on one or both sides, a peelable substrate with improved film peelability can be obtained. Furthermore, after the external release agent is added as an internal release agent to the peelable substrate preparation compound, the above-described molding can be performed to provide a peelable substrate with improved film peelability.

以上、本発明のシートは、基板が剥離性を有することから、膜面上に接着剤層を設けて光学装置構成部材に貼り合わせた後、容易に剥離性基板を剥離して膜を転写することができるし、又は、光学装置構成部材上に接着剤層を設けて膜面を貼り合わせた後、剥離性基板を剥離して光学装置構成部材上に膜を転写することもできる。既に膜の形成が成されたシートを用いて転写を行い、光学装置構成部材に溶媒や加熱等の影響を与えることがないことから、該シートは好適に用いることができる。   As described above, in the sheet of the present invention, since the substrate has peelability, the adhesive layer is provided on the film surface and bonded to the optical device constituent member, and then the peelable substrate is easily peeled to transfer the film. Alternatively, after the adhesive layer is provided on the optical device constituent member and the film surfaces are bonded together, the peelable substrate is peeled off and the film can be transferred onto the optical device constituent member. Since transfer is performed using a sheet on which a film has already been formed and the optical device constituent member is not affected by a solvent, heating, or the like, the sheet can be preferably used.

尚、該シートの膜面上に予め、接着剤層を設けた接着性シートとすると、転写操作がより簡便になることから好ましい。この時用いることができる接着剤としては、例えば、ゴム系感圧性接着剤、アクリル系感圧性接着剤、シリコーン系感圧性接着剤、ウレタン系感圧性接着剤、ビニルアルキルエーテル系感圧性接着剤、ポリビニルアルコール系感圧性接着剤、ポリビニルピロリドン系感圧性接着剤、ポリアクリルアミド系感圧性接着剤、セルロース系感圧性接着剤、UV硬化型接着剤、エマルジョン型接着剤、一液硬化型接着剤、二液硬化型接着剤等が挙げられる。   In addition, it is preferable to use an adhesive sheet in which an adhesive layer is provided in advance on the film surface of the sheet, because the transfer operation becomes easier. Examples of the adhesive that can be used at this time include a rubber-based pressure-sensitive adhesive, an acrylic-based pressure-sensitive adhesive, a silicone-based pressure-sensitive adhesive, a urethane-based pressure-sensitive adhesive, a vinyl alkyl ether-based pressure-sensitive adhesive, Polyvinyl alcohol pressure sensitive adhesive, polyvinyl pyrrolidone pressure sensitive adhesive, polyacrylamide pressure sensitive adhesive, cellulose pressure sensitive adhesive, UV curable adhesive, emulsion type adhesive, one-part curable adhesive, two Examples thereof include liquid curable adhesives.

次に、本発明のセルロース N−置換カーバメートを含有する膜の特性を改質する目的で添加することが可能な樹脂について説明する。当該添加することが可能な樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂等が例示されるが、これらは本発明の目的及び効果を損なわない範囲において添加することができる。   Next, resins that can be added for the purpose of modifying the characteristics of the membrane containing the cellulose N-substituted carbamate of the present invention will be described. The resins that can be added include polycarbonate resin, acrylic resin, polyester resin, polystyrene resin, polyolefin resin, polyamide resin, polyimide resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, polyethersulfone resin, polyarylate resin, epoxy. Resins, silicone resins, phenol resins, urethane resins and the like are exemplified, but these can be added within a range that does not impair the object and effect of the present invention.

次に、本発明の膜、塗工液の特性を改質する目的で加えることが可能な添加剤について説明する。添加剤としては、酸化防止剤(例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製IRGANOX 1010、IRGANOX 1135、IRGANOX 1330等のヒンダードフェノール類)、加工安定剤(例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製HP−136、IRGANOX E201、IRGAFOS 168等)、光安定剤(例えば、三共ライフテック製サノールLS−765、サノールLS−770等のヒンダードアミン類)、紫外線吸収剤(例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製TINUVIN P、TINUVIN 213、TINUVIN 326等のベンゾトリアゾール類)、接着性改良剤(例えば、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤)、シラノール縮合触媒(例えば、川研ファインケミカル製アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルミキレートM等のアルミニウムキレート類)、可塑剤(例えば、アジピン酸ジメチル、アジピン酸ジエチル、アジピン酸ジプロピル、アジピン酸ジブチル、アジピン酸ビス(2−エチルヘキシル)、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジプロピル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジペンチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジn−オクチル、フタル酸ビス(2−エチルヘキシル)等のエステル類)、界面活性剤(例えば、住友スリーエム製Fluorad FC−430、Fluorad FC−4430等のフッ素系化合物)、帯電防止剤(例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製IRGASTAT P18、IRGASTAT P22等)等が挙げられ、これらは本発明の目的及び効果を損なわない範囲において添加することができる。   Next, additives that can be added for the purpose of modifying the properties of the film and coating solution of the present invention will be described. Additives include antioxidants (eg, hindered phenols such as IRGANOX 1010, IRGANOX 1135, IRGANOX 1330, etc. manufactured by Ciba Specialty Chemicals), processing stabilizers (eg, HP-136, IRGANOX manufactured by Ciba Specialty Chemicals). E201, IRGAFOS 168, etc.), light stabilizers (eg, hindered amines such as Sanol LS-765 and Sanol LS-770 manufactured by Sankyo Lifetech), ultraviolet absorbers (eg, TINUVIN P, TINUVIN 213 manufactured by Ciba Specialty Chemicals) Benzotriazoles such as TINUVIN 326), adhesion improvers (eg, silane compounds such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane) Coupling agent), silanol condensation catalyst (for example, aluminum tris (ethyl acetoacetate) manufactured by Kawaken Fine Chemicals, aluminum chelate M, etc.), plasticizer (for example, dimethyl adipate, diethyl adipate, dipropyl adipate, adipine) Dibutyl acid, bis (2-ethylhexyl) adipate, dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dipropyl phthalate, dibutyl phthalate, dipentyl phthalate, dihexyl phthalate, diheptyl phthalate, di-n-octyl phthalate, bis phthalate (Esters such as 2-ethylhexyl)), surfactants (for example, fluorine compounds such as Fluorad FC-430 and Fluorad FC-4430 manufactured by Sumitomo 3M), antistatic agents (for example, Ciba Specialty Chemi) Kalz IRGASTAT P18, IRGASTAT P22, etc.) and the like, and these can be added within a range that does not impair the object and effect of the present invention.

前記膜および/または塗工液の特性を改質する目的で添加する樹脂や添加剤は、例えば塗工液に上記各成分を塗工液中の溶媒の融点以上、沸点以下の温度で、混合後静置又は攪拌混合等することにより得られる。   Resins and additives added for the purpose of modifying the properties of the film and / or coating solution are, for example, mixing the above-mentioned components in the coating solution at a temperature not lower than the melting point and not higher than the boiling point of the solvent in the coating solution. It is obtained by standing still or stirring and mixing.

次に、本発明の膜を転写する透光性基板について説明する。該基板としては、透明であれば各種のものが使用可能である。該基板を形成する具体的な化合物の例としては、ポリカーボネート系重合体;ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のポリアクリル酸エステル;アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸等の2塩基酸とエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール等のグリコールとの縮合体又はラクトン類の開環重合で得られるポリエステル系重合体;ポリスチレン、ポリ(α−メチルスチレン)等のスチレン系重合体;アクリル酸エステルとスチレンとの共重合体;ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系樹脂、シクロオレフィンポリマー、ポリイソプレンの水素添加物、ポリブタジエンの水素添加物等のポリオレフィン系重合体;アセチル基による置換度が2から3のセルロースアセテート等のセルロース系樹脂;ナイロン6、ナイロン66等のポリアミド;ポリイミド;ポリアミドイミド;ポリビニルアルコール;ポリ塩化ビニル;ポリスルホン;ポリエーテルスルホン;ポリアリレート;エポキシ樹脂;シリコーン樹脂;国際公開第01/37007号パンフレットに記載される化合物等が挙げられる。   Next, the translucent substrate to which the film of the present invention is transferred will be described. Various substrates can be used as long as they are transparent. Examples of specific compounds that form the substrate include polycarbonate polymers; polyacrylic acid esters such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate; adipic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 1,4 -Condensates or lactones of dibasic acids such as naphthalenedicarboxylic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, and neopentyl glycol Polymers obtained by ring-opening polymerization of polymers; styrene polymers such as polystyrene and poly (α-methylstyrene); copolymers of acrylic acid esters and styrene; polyethylene, polypropylene, norbornene resins, cycloolefins Poly -Polyolefin polymers such as hydrogenated polyisoprene and hydrogenated polybutadiene; Cellulose resins such as cellulose acetate having a substitution degree of 2 to 3 by acetyl groups; Polyamides such as nylon 6 and nylon 66; Polyimides; Polyvinylimide; Polyvinyl alcohol; Polyvinyl chloride; Polysulfone; Polyethersulfone; Polyarylate; Epoxy resin; Silicone resin; Compounds described in International Publication No. 01/37007 pamphlet.

また、これらの材料は、例えば溶液流延法、溶融流延法、押出法、カレンダー法等により製膜し、無延伸、または一軸延伸法、二軸延伸法、収縮性フィルムを用いて収縮させる方法等により延伸し、透光性基板として用いることができる。一方、ガラス板、カラーフィルター、液晶セル等を該基板として使用することも可能である。これらの透光性基板は、コロナ処理、プラズマ処理、フレーム処理、プライマー塗布処理、ケン化処理等から選ばれる少なくとも一つの易接着処理を行い、接着性を向上させた透光性基板とすることもできる。本発明で用いる透光性基板は、膜を転写(片面に転写しても両面に転写してもよい)して該基板上に膜形成した後、この積層状態をそのまま各種光学装置に組み込んでも良い。この方法によれば、より簡便に光学補償用の膜を有する素子を形成することができる。例えば、この透光性基板自体を保護材として偏光子に貼り付けた、光学補償機能を併せもつ偏光板等が挙げられる。   In addition, these materials are formed by, for example, a solution casting method, a melt casting method, an extrusion method, a calendering method, and the like, and are contracted by using a non-stretching method, a uniaxial stretching method, a biaxial stretching method, or a shrinkable film. It can be stretched by a method or the like and used as a translucent substrate. On the other hand, a glass plate, a color filter, a liquid crystal cell, or the like can be used as the substrate. These translucent substrates should be at least one easy-adhesion treatment selected from corona treatment, plasma treatment, frame treatment, primer coating treatment, saponification treatment, etc., to be a translucent substrate with improved adhesion. You can also. The translucent substrate used in the present invention may be formed by transferring a film (either on one side or on both sides) to form a film on the substrate and then incorporating this laminated state into various optical devices as it is. good. According to this method, an element having a film for optical compensation can be formed more easily. For example, a polarizing plate or the like having an optical compensation function, in which the translucent substrate itself is attached to a polarizer as a protective material, can be used.

次に、制御された複屈折性を有するフィルム(本発明においては、膜を透光性基板上に形成し、この積層構造をそのまま光学補償用の膜を有する素子またはその一部として用いる場合であって、特に透光性基板の複屈折性が制御されている際に、その基板のことをこの様に表すこととする)について説明する。「制御された複屈折性を有するフィルム」は、例えば、一軸延伸、二軸延伸、収縮性フィルムを用いて収縮させる方法などで複屈折性を新たに付与することで得ることができる。制御された複屈折性を有するフィルムとしては、正の複屈折性、負の複屈折性、ゼロ複屈折のいずれであっても所望の複屈折性に制御されていれば各種フィルムを用いることができるが、特に、視野角補償の観点から、正の複屈折性を有する材料からなるフィルムを好適に用いることができる。正の複屈折性を有する材料を具体的に例示すると、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ノルボルネン系樹脂、シクロオレフィンポリマー、セルロース系樹脂、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート等が挙げられる。因みに、正の複屈折性を有する材料を一般的な縦一軸延伸等を行ってフィルムとした場合、光学的に正の一軸性を有し、かつ、その光軸がフィルム面に対して平行であるAプレートとなり、本発明の膜と共に用いられた場合に、液晶表示装置の暗状態の光漏れを低減する等の光学補償機能が発現し、有用である。   Next, a film having controlled birefringence (in the present invention, a film is formed on a light-transmitting substrate, and this laminated structure is used as an element having a film for optical compensation or a part thereof as it is. In particular, when the birefringence of the translucent substrate is controlled, the substrate will be described in this way). The “film having controlled birefringence” can be obtained by newly imparting birefringence by, for example, uniaxial stretching, biaxial stretching, or shrinking using a shrinkable film. As a film having controlled birefringence, various films can be used as long as the birefringence is controlled to a desired birefringence, regardless of whether the film is positive birefringence, negative birefringence, or zero birefringence. In particular, from the viewpoint of viewing angle compensation, a film made of a material having positive birefringence can be preferably used. Specific examples of materials having positive birefringence include polycarbonate, polyethylene terephthalate, polypropylene, norbornene resin, cycloolefin polymer, cellulose resin, polyimide, polyvinyl alcohol, polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, and the like. It is done. Incidentally, when a film having a positive birefringence is subjected to general longitudinal uniaxial stretching or the like to form a film, it has optically positive uniaxiality and its optical axis is parallel to the film surface. When an A plate is used together with the film of the present invention, an optical compensation function such as reduction of light leakage in the dark state of the liquid crystal display device is manifested and useful.

制御された複屈折性を有するフィルムの好ましい面内位相差((nxf−nyf)×d,但し、該フィルムの面内の屈折率のうち最大のものをnxf、最小のものをnyf、膜厚をd(nm)とした場合)は、590nm光で測定した場合、面内位相差が下限0nm、上限600nmになるように制御されていることが好ましく、下限0nm、上限500nmになるように制御されていることがより好ましく、下限0nm、上限400nmになるように制御されていることがさらに好ましい。面内位相差が600nmより大きいと、該フィルム面に本発明の膜を形成させてなる積層体の位相差補償効果が低下する傾向にある。 Preferred in-plane retardation of a film having controlled birefringence ((n xf −ny f ) × d f , where n xf is the largest in the in-plane refractive index of the film, and x is the smallest n yf , when the film thickness is d f (nm)), when measured with 590 nm light, the in-plane retardation is preferably controlled such that the lower limit is 0 nm and the upper limit is 600 nm, and the lower limit is 0 nm and the upper limit is It is more preferable that the thickness is controlled to be 500 nm, and it is more preferable that the lower limit is 0 nm and the upper limit is 400 nm. When the in-plane retardation is larger than 600 nm, the retardation compensation effect of the laminate obtained by forming the film of the present invention on the film surface tends to be lowered.

一方、本発明の膜は、面内の屈折率のうち最大のものをn、最小のものをnとし、厚み方向の屈折率をn、膜厚をdとした時に、〔(n+n)/2−n〕×d<0の特性をもつことが好ましい。また、該膜の厚みをd(nm)とすると、面内位相差は、(n−n)×dで表され、厚み位相差は、〔(n+n)/2−n〕×dで表されるが、面内位相差は590nm光による測定において、下限0nm、上限300nmが好ましく、下限0nm、上限200nmがより好ましく、下限0nm、上限100nmがさらに好ましい。面内位相差が300nmより大きいと液晶セル等の複屈折による位相差の補償が困難になる傾向がある。また、厚み位相差は590nm光による測定において、下限−1000nm、上限−1nmが好ましく、下限−800nm、上限−10nmがより好ましく、下限−600nm、上限−20nmがさらに好ましい。厚み位相差が−1000nmより小さいと液晶セル等の複屈折による位相差の補償が困難になる傾向がある。 On the other hand, the film of the present invention, largest of the n x of the in-plane refractive index, minimum one of the n y, the refractive index in the thickness direction n z, when the film thickness is d, [(n x + n y ) / 2−n z ] × d <0. Further, when the membrane thickness and d (nm), the in-plane retardation is, (n x -n y) is represented by × d, the thickness retardation, [(n x + n y) / 2-n z ] The lower limit of 0 nm and the upper limit of 300 nm is preferable, the lower limit of 0 nm and the upper limit of 200 nm are more preferable, and the lower limit of 0 nm and the upper limit of 100 nm are more preferable. If the in-plane retardation is larger than 300 nm, it tends to be difficult to compensate for the retardation due to birefringence in a liquid crystal cell or the like. In addition, the thickness retardation is preferably lower limit −1000 nm and upper limit −1 nm, more preferably lower limit −800 nm and upper limit −10 nm, and further preferably lower limit −600 nm and upper limit −20 nm in the measurement with 590 nm light. If the thickness phase difference is smaller than −1000 nm, it tends to be difficult to compensate for the phase difference due to birefringence in a liquid crystal cell or the like.

次に、本発明の積層体について説明する。本発明の積層体は、本発明の膜を前記透光性基板の少なくとも一方の面に接着剤層を介して接着してなるもので、特に前述の通り、透光性基板が正の複屈折性を有する材料から形成された、制御された複屈折性を有するフィルムであることが好ましい。   Next, the laminated body of this invention is demonstrated. The laminate of the present invention is formed by adhering the film of the present invention to at least one surface of the translucent substrate via an adhesive layer. As described above, the translucent substrate is positively birefringent. A film having controlled birefringence formed from a material having a property is preferable.

次に、本発明の偏光板について説明する。偏光板としては、例えば、偏光子の両面にポリエステル系接着剤、ポリアクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、シアノアクリル系接着剤、ポリウレタン系接着剤等の接着剤を用いて保護材を貼り合わせたもの等が挙げられる。偏光子の例としては、親水性高分子フィルムにヨウ素及び/又は二色性染料を吸着配向して作製した偏光子、ポリビニルアルコール系フィルムを脱水処理してポリエンを形成させ、配向して作製した偏光子、ポリ塩化ビニルフィルムを脱塩酸処理してポリエンを形成させ、配向して作製したものが挙げられる。偏光子に使用される親水性高分子フィルムとしては、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物フィルム等が挙げられる。保護材としては、先に透光性基板として例示したもの等が使用可能である。また、特に先述の積層体を用いることもできる。この場合、偏光板の機能に加えて、偏光板に光学補償の機能を追加することができる。本発明の積層体を保護材として使用する場合は、偏光子の両面に用いることもできるし、片面に本発明の積層体を使用し、反対の面には単に前記透光性基板等を用いることもできる。また、これらの偏光板を作製後に本発明の膜を別途、転写により設けることもできる。   Next, the polarizing plate of the present invention will be described. As a polarizing plate, for example, a protective material is bonded to both surfaces of a polarizer using an adhesive such as a polyester adhesive, a polyacrylic adhesive, an epoxy adhesive, a cyanoacrylic adhesive, or a polyurethane adhesive. And the like. Examples of polarizers include polarizers made by adsorbing and orienting iodine and / or dichroic dyes on hydrophilic polymer films, and polyenes formed by dehydration treatment of polyvinyl alcohol-based films. Examples include polarizers and polyvinyl chloride films prepared by dehydrochlorination treatment to form polyene and orientation. Examples of the hydrophilic polymer film used for the polarizer include a polyvinyl alcohol film, a partially formalized polyvinyl alcohol film, a saponified film of an ethylene-vinyl acetate copolymer, and the like. As the protective material, those exemplified above as the translucent substrate can be used. In particular, the above-described laminate can also be used. In this case, an optical compensation function can be added to the polarizing plate in addition to the polarizing plate function. When the laminate of the present invention is used as a protective material, it can be used on both sides of a polarizer, the laminate of the present invention is used on one side, and the light-transmitting substrate or the like is simply used on the opposite side. You can also. In addition, the film of the present invention can be separately provided by transfer after preparing these polarizing plates.

次に、本発明の液晶表示装置について説明する。液晶表示装置としては、例えば、光源/導光板/光拡散フィルム/レンズフィルム/輝度向上フィルム/偏光板/液晶セル/偏光板の順に構成された表示装置等が挙げられるが、液晶セルの入射光側及び/又は出射光側に本発明の積層体を装着すること及び/又は液晶セルの入射光側及び/又は出射光側の偏光板に本発明の偏光板を装着することにより本発明の液晶表示装置とすることができる。液晶セルの方式としては、VA(Vertical Alignment)方式、IPS(In−Plane Switching)方式、OCB(Optically Compensated Birefringence)方式等挙げられる。   Next, the liquid crystal display device of the present invention will be described. Examples of the liquid crystal display device include a display device configured in the order of light source / light guide plate / light diffusion film / lens film / brightness enhancement film / polarizing plate / liquid crystal cell / polarizing plate. The liquid crystal of the present invention is mounted by mounting the laminate of the present invention on the side and / or the outgoing light side and / or mounting the polarizing plate of the present invention on the polarizing plate on the incident light side and / or outgoing light side of the liquid crystal cell. It can be a display device. Examples of the liquid crystal cell method include a VA (Vertical Alignment) method, an IPS (In-Plane Switching) method, an OCB (Optically Compensated Birefringence) method, and the like.

なお、本発明の膜、該膜を用いて製造した光学補償用の膜を有する素子および積層体は、VA方式、IPS方式、OCB方式等の液晶セルを用いた液晶表示装置の視野角拡大用途に使用できる。本発明における膜の光学特性の性能を十分に発揮するためには、IPS方式が特に好ましい。また、本発明の膜、該膜を用いて製造した光学補償用の膜を有する素子および積層体は、ビデオ、カメラ、携帯電話、パソコン、テレビ、モニター、自動車のインパネ等の液晶表示装置作製部品等に好適に使用できる。   Note that the film of the present invention, an element having a film for optical compensation manufactured using the film, and a laminate are used for expanding the viewing angle of a liquid crystal display device using a liquid crystal cell of VA mode, IPS mode, OCB mode, etc. Can be used for In order to sufficiently exhibit the performance of the optical characteristics of the film in the present invention, the IPS system is particularly preferable. The film of the present invention, the element having the film for optical compensation manufactured using the film, and the laminate are liquid crystal display device production parts such as a video, a camera, a mobile phone, a personal computer, a TV, a monitor, and an instrument panel of an automobile. Etc. can be suitably used.

以下に、本発明をより詳細に説明するために実施例を示すが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。   Examples are shown below to describe the present invention in more detail, but the present invention is not limited to these examples.

(1)3次元屈折率〔(n,n,n)又は(nxf,nyf,nzf)〕の算出
王子計測機器製自動複屈折計KOBRA−WRを用いて、25℃下で590nm光による測定を行い、3次元屈折率を算出した。得られた結果から、面内位相差を(n−n)×d又は(nxf−nyf)×dにより求めた。また、厚み位相差を〔(n+n)/2−n〕×d又は〔(nxf+nyf)/2−nzf〕×dにより求めた。但し、遅相軸を傾斜中心軸として位相差の測定を行った際、面内位相差が10nm以下であり、傾斜角の増加とともに位相差が増加した場合は位相差の符号判定を行うために次の方法を併用した。作製した積層体上にポリカーボネート製λ/4板を重ね合わせ、λ/4板の配向角が0±1度になるように自動複屈折計KOBRA−WRに装着した後、遅相軸を傾斜中心軸とし、25℃下で590nm光による位相差測定を行った。測定結果が、λ/4板単体の位相差より上昇した場合は傾斜角の増加とともに積層体単体の位相差も正の方向に上昇しているとみなし、λ/4板単体の位相差より低下した場合は傾斜角の増加とともに積層体単体の位相差も負の方向に低下しているとみなして、先に測定した積層体単体の位相差に正負の符号を付与し、3次元屈折率を算出した。得られた結果から、面内位相差を(n−n)×d又は(nxf−nyf)×dにより求めた。また、厚み位相差を〔(n+n)/2−n〕×d又は〔(nxf+nyf)/2−nzf〕×dにより求めた。
(1) The three-dimensional refractive indexes [(n x, n y, n z) or (n xf, n yf, n zf) ] using the calculated Oji Scientific Instruments Ltd. automatic birefringence meter KOBRA-WR of under 25 ° C. Was measured with 590 nm light, and the three-dimensional refractive index was calculated. From the results obtained, it was determined by an in-plane retardation (n x -n y) × d or (n xf -n yf) × d f. It was also determined by the thickness retardation [(n x + n y) / 2-n z ] × d or [(n xf + n yf) / 2-n zf ] × d f. However, when the phase difference is measured with the slow axis as the tilt center axis, the in-plane phase difference is 10 nm or less, and when the phase difference increases with the tilt angle, the sign of the phase difference is determined. The following method was used in combination. After overlaying the polycarbonate λ / 4 plate on the laminate and attaching it to the automatic birefringence meter KOBRA-WR so that the orientation angle of the λ / 4 plate is 0 ± 1 degree, the slow axis is the center of inclination. The phase difference was measured with 590 nm light at 25 ° C. with the axis. If the measurement result is higher than the phase difference of the λ / 4 plate alone, it is considered that the phase difference of the laminated body also increases in the positive direction as the tilt angle increases, and is lower than the phase difference of the λ / 4 plate alone. In this case, it is assumed that the phase difference of the single layer of the laminate decreases in the negative direction as the tilt angle increases, and a positive / negative sign is given to the phase difference of the single layer of the laminate previously measured, and the three-dimensional refractive index is set. Calculated. From the results obtained, it was determined by an in-plane retardation (n x -n y) × d or (n xf -n yf) × d f. It was also determined by the thickness retardation [(n x + n y) / 2-n z ] × d or [(n xf + n yf) / 2-n zf ] × d f.

(2)ヘーズ測定
JIS K 7136に準拠して行った。
(2) Haze measurement Measured according to JIS K 7136.

(合成例1)セルロース N−フェニルカーバメート(1)の合成
冷却管、窒素導入管、攪拌機、温度計を備えた500mlの4つ口フラスコに、60℃で7時間真空乾燥したセルロース(旭化成ケミカルズ製アビセルTG−F20)3.0gを入れ、ピリジン300mlを加えて懸濁液とした後、さらにフェニルイソシアネート(東京化成工業製)23.1gを加えた。窒素を導入し、攪拌しながら110℃に昇温した後、7時間反応させた。その後、25℃まで放冷した後、反応液をエタノール1200ml中に滴下して沈殿を生成させた。濾別後、得られたポリマーにアセトン90mlを加えて溶解した後、純水1200ml中に滴下して沈殿を生じさせた。濾別後水洗し、60℃で8時間真空乾燥した後、ポリマーをソックスレー抽出器に入れた。メタノールによるソックスレー抽出を20回行った後、25℃で8時間真空乾燥することによって、5.7gのセルロース N−フェニルカーバメート(1)を得た(以下、合成品(1)と呼ぶことがある。)。合成品(1)のDSはプロトンNMR分析の結果、3であった。なお、DSは、セルロース骨格由来のプロトンの化学シフト(3.4〜5.5ppm)面積とフェニル基のプロトンの化学シフト(6.7〜7.8ppm)面積を比較することによって決定した。
(Synthesis Example 1) Synthesis of cellulose N-phenyl carbamate (1) Cellulose (manufactured by Asahi Kasei Chemicals) was vacuum-dried at 60 ° C. for 7 hours in a 500 ml four-necked flask equipped with a cooling tube, a nitrogen introduction tube, a stirrer, and a thermometer. Avicel TG-F20) (3.0 g) was added, 300 ml of pyridine was added to form a suspension, and then 23.1 g of phenyl isocyanate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added. Nitrogen was introduced, and the temperature was raised to 110 ° C. with stirring, followed by reaction for 7 hours. Then, after cooling to 25 degreeC, the reaction liquid was dripped in 1200 ml of ethanol, and the precipitation was produced | generated. After separation by filtration, the obtained polymer was dissolved by adding 90 ml of acetone, and then dropped into 1200 ml of pure water to cause precipitation. After separation by filtration, washing with water and vacuum drying at 60 ° C. for 8 hours, the polymer was put into a Soxhlet extractor. After performing Soxhlet extraction with methanol 20 times and vacuum-drying at 25 ° C. for 8 hours, 5.7 g of cellulose N-phenylcarbamate (1) was obtained (hereinafter sometimes referred to as synthetic product (1)). .) DS of the synthesized product (1) was 3 as a result of proton NMR analysis. In addition, DS was determined by comparing the chemical shift (3.4 to 5.5 ppm) area of proton derived from the cellulose skeleton with the chemical shift (6.7 to 7.8 ppm) area of the proton of the phenyl group.

(実施例1)
合成品(1)0.6gに酢酸n−ペンチル1.96g、酢酸n−ヘキシル1.96g、エチレングリコールモノブチルエーテル0.49g及びフタル酸ジメチル0.06gを加え、25℃下で溶解した。次に、この塗工液をバーコーターを用いて50μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに塗工し塗工基板とした。その後、この塗工基板を25℃で15分間、空気中で送風しながら乾燥し、更に、160℃で5分間、空気中で乾燥して光学補償用の膜が形成されたシートを作製した。続いて、この膜面上にアクリル系感圧性接着剤層を形成して接着シートとした。この接着シートを、感圧性接着剤層を介して圧着によってガラス基板(平均屈折率:1.52,面内位相差:0nm,厚み位相差:1nm)に貼り合わせた後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離することにより、容易に積層体が作製できた。尚、この積層体の光学補償用の膜の厚み(d(nm))には、前記の光学補償用の膜が形成されたシート全体の厚みを測定し、ポリエチレンテレフタレートフィルムの厚みを差し引くことにより得られた値をそのまま用いた。膜厚は、12000nmであった。また、得られた積層体の物性測定を行った結果、面内位相差は1nm、厚み位相差は−89nm、ヘーズは1.0%であった。
(Example 1)
To 0.6 g of the synthesized product (1), 1.96 g of n-pentyl acetate, 1.96 g of n-hexyl acetate, 0.49 g of ethylene glycol monobutyl ether and 0.06 g of dimethyl phthalate were added and dissolved at 25 ° C. Next, this coating solution was coated on a 50 μm-thick polyethylene terephthalate film using a bar coater to obtain a coated substrate. Thereafter, the coated substrate was dried while being blown in air at 25 ° C. for 15 minutes, and further dried in air at 160 ° C. for 5 minutes to produce a sheet on which an optical compensation film was formed. Subsequently, an acrylic pressure-sensitive adhesive layer was formed on the film surface to obtain an adhesive sheet. The adhesive sheet is bonded to a glass substrate (average refractive index: 1.52, in-plane retardation: 0 nm, thickness retardation: 1 nm) by pressure bonding through a pressure-sensitive adhesive layer, and then the polyethylene terephthalate film is peeled off. By doing so, the laminated body was able to be produced easily. The thickness (d (nm)) of the optical compensation film of the laminate is measured by measuring the thickness of the entire sheet on which the optical compensation film is formed, and subtracting the thickness of the polyethylene terephthalate film. The obtained value was used as it was. The film thickness was 12000 nm. As a result of measuring the physical properties of the obtained laminate, the in-plane retardation was 1 nm, the thickness retardation was -89 nm, and the haze was 1.0%.

(実施例2)
ガラス基板の代わりにアセチル基による置換度が2.5のセルロースアセテートフィルム(41μm厚,面内位相差:1nm,厚み位相差:30nm、ガラス転移温度:153℃)を用いたこと以外は実施例1と同様の操作を行った。得られた積層体の物性測定を行った結果、面内位相差は2nm、厚み位相差は−55nm、ヘーズは0.9%であった。
(Example 2)
Example except that a cellulose acetate film (41 μm thickness, in-plane retardation: 1 nm, thickness retardation: 30 nm, glass transition temperature: 153 ° C.) having a degree of substitution with acetyl groups of 2.5 was used instead of the glass substrate The same operation as 1 was performed. As a result of measuring the physical properties of the obtained laminate, the in-plane retardation was 2 nm, the thickness retardation was -55 nm, and the haze was 0.9%.

(実施例3)
ガラス基板の代わりに87μm厚のシクロオレフィンポリマーの一軸延伸フィルム(面内位相差:215nm,厚み位相差:100nm、ガラス転移温度:138℃)を用いたこと以外は実施例1と同様の操作を行った。得られた積層体の物性測定を行った結果、面内位相差は211nm、厚み位相差は20nm、ヘーズは1.1%であった。
(Example 3)
The same operation as in Example 1 was performed except that a 87 μm-thick cycloolefin polymer uniaxially stretched film (in-plane retardation: 215 nm, thickness retardation: 100 nm, glass transition temperature: 138 ° C.) was used instead of the glass substrate. went. As a result of measuring the physical properties of the obtained laminate, the in-plane retardation was 211 nm, the thickness retardation was 20 nm, and the haze was 1.1%.

(比較例1)
実施例1で作製した塗工液をバーコーターを用いてアセチル基による置換度が2.5のセルロースアセテートフィルム(41μm厚,面内位相差:1nm,厚み位相差:30nm、ガラス転移温度:153℃)に塗工し塗工基板とした。その後、この塗工基板を25℃で15分間、空気中で送風しながら乾燥し、更に、160℃で5分間、空気中で乾燥した結果、セルロースアセテートフィルムが収縮し、光学補償用の膜の厚みが振れた積層体しか得られなかった。
(Comparative Example 1)
A cellulose acetate film (41 μm thickness, in-plane retardation: 1 nm, thickness retardation: 30 nm, glass transition temperature: 153) having a substitution degree of 2.5 with an acetyl group was applied to the coating solution prepared in Example 1 using a bar coater. C.) to obtain a coated substrate. Thereafter, the coated substrate was dried while being blown in the air at 25 ° C. for 15 minutes, and further dried in the air at 160 ° C. for 5 minutes. As a result, the cellulose acetate film contracted, and the film for optical compensation was reduced. Only a laminate with varying thickness was obtained.

(比較例2)
実施例1で作製した塗工液をバーコーターを用いて87μm厚のシクロオレフィンポリマーの一軸延伸フィルム(面内位相差:215nm,厚み位相差:100nm、ガラス転移温度:138℃)に塗工し塗工基板とした。その後、この塗工基板を25℃で15分間、空気中で送風しながら乾燥し、更に、160℃で5分間、空気中で乾燥した結果、シクロオレフィンポリマーの一軸延伸フィルムが収縮すると同時にしわがよった積層体しか得られなかった。
(Comparative Example 2)
The coating liquid prepared in Example 1 was applied to a uniaxially stretched film (in-plane retardation: 215 nm, thickness retardation: 100 nm, glass transition temperature: 138 ° C.) of 87 μm thickness using a bar coater. A coated substrate was obtained. Thereafter, the coated substrate was dried while being blown in air at 25 ° C. for 15 minutes, and further dried in air at 160 ° C. for 5 minutes. As a result, the uniaxially stretched film of the cycloolefin polymer contracted and wrinkled. Thus, only a laminate was obtained.

(実施例4)
ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を含浸させ、延伸することにより偏光子を作製した。この偏光子の片面にポリアクリル系接着剤を用いてアセチル基による置換度が2.5のセルロースアセテートフィルム(80μm厚)を貼り合わせた。さらに、偏光子の反対の面に実施例2で作製した積層体を塗工膜面が外側になるようにポリアクリル系接着剤を用いて貼り合わせ、光学補償層を有する偏光板を作製した。
Example 4
A polyvinyl alcohol film was impregnated with iodine and stretched to prepare a polarizer. A cellulose acetate film (80 μm thick) having a degree of substitution with an acetyl group of 2.5 was bonded to one side of the polarizer using a polyacrylic adhesive. Further, the laminate produced in Example 2 was bonded to the opposite surface of the polarizer using a polyacrylic adhesive so that the coating film surface was on the outside, and a polarizing plate having an optical compensation layer was produced.

(実施例5)
IPS方式の液晶セルを装着した液晶表示装置を用意し、実施例2で作製した積層体を液晶セルの出射光側に重ね合わせた表示装置を作製した。表示画面を観察した結果、正面から見ても斜め方向から見ても色表示が変わることなく、良好な画像が得られた。
(Example 5)
A liquid crystal display device equipped with an IPS liquid crystal cell was prepared, and a display device was produced in which the laminate produced in Example 2 was superimposed on the outgoing light side of the liquid crystal cell. As a result of observing the display screen, a good image was obtained without changing the color display when viewed from the front or from an oblique direction.

(実施例6)
IPS方式の液晶セルを装着した液晶表示装置を用意し、出射光側の偏光板をはずして代わりに実施例4で作製した偏光板を塗工膜面が液晶セルの出射光側になるように液晶セルに貼り合わせた表示装置を作製した。表示画面を観察した結果、正面から見ても斜め方向から見ても色表示が変わることなく、良好な画像が得られた。
(Example 6)
Prepare a liquid crystal display device equipped with an IPS liquid crystal cell, remove the polarizing plate on the outgoing light side, and replace the polarizing plate produced in Example 4 with the coating film surface facing the outgoing light side of the liquid crystal cell. A display device bonded to a liquid crystal cell was manufactured. As a result of observing the display screen, a good image was obtained without changing the color display when viewed from the front or from an oblique direction.

(比較例3)
実施例2で作製した積層体を使用しないこと以外は実施例5と同様の操作を行った。その結果、斜め方向から見た際、液晶表示装置構成部材の複屈折により正面から見た時と色表示が異なっていた。
(Comparative Example 3)
The same operation as in Example 5 was performed except that the laminate produced in Example 2 was not used. As a result, when viewed from an oblique direction, the color display was different from that viewed from the front due to the birefringence of the liquid crystal display device constituent members.

(比較例4)
実施例4で作製した偏光板を使用せず、出射光側の偏光板をそのまま用いたこと以外は実施例6と同様の操作を行った。その結果、斜め方向から見た際、液晶表示装置構成部材の複屈折により正面から見た時と色表示が異なっていた。
(Comparative Example 4)
The same operation as in Example 6 was performed except that the polarizing plate produced in Example 4 was not used and the polarizing plate on the outgoing light side was used as it was. As a result, when viewed from an oblique direction, the color display was different from that viewed from the front due to the birefringence of the liquid crystal display device constituent members.

Claims (10)

剥離性基板上に、セルロース N−置換カーバメートを含有してなる膜を有するシート。   A sheet having a film containing cellulose N-substituted carbamate on a peelable substrate. 請求項1記載の膜の面内の屈折率のうち最大のものをn、最小のものをnとし、厚み方向の屈折率をn、膜厚をdとした時に、以下の数式1を満たすことを特徴とする請求項1記載のシート。
〔(n+n)/2−n〕×d<0 (数式1)
Largest of the n x of the in-plane refractive index of claim 1 wherein the film, the smallest ones and n y, the refractive index in the thickness direction n z, the thickness is taken as d, the following formula 1 The sheet according to claim 1, wherein:
[(N x + n y ) / 2−n z ] × d <0 (Formula 1)
前記セルロース N−置換カーバメートは、セルロースの水酸基の少なくとも一つがN−置換カーバメート化されており、かつ、カーバメート基の窒素原子に結合した水素原子の少なくとも一つが下記一般式(1)〜(3)から選ばれる基で置換されており(Nに結合した置換基)、かつ、複数のN−置換カーバメート基の該Nに結合した置換基は同一又は異なって下記一般式(1)〜(3)から選ばれる基であることを特徴とする請求項1又は請求項2のいずれか1項に記載のシート。
Figure 2008149577
(式中R、R、R、R、Rは、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のアリールオキシ基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数7〜20のアラルキルオキシ基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。)
Figure 2008149577
(式中R、R、R、R、R10、R11、R12は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。)
Figure 2008149577
(式中R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜21のアシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。)
In the cellulose N-substituted carbamate, at least one hydroxyl group of cellulose is N-substituted carbamate, and at least one hydrogen atom bonded to the nitrogen atom of the carbamate group is represented by the following general formulas (1) to (3). (The substituent bonded to N), and the substituents bonded to N of the plurality of N-substituted carbamate groups are the same or different and are represented by the following general formulas (1) to (3). The sheet according to claim 1, wherein the sheet is a group selected from the group consisting of:
Figure 2008149577
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 to 20 carbon atoms. Halogenated alkyl groups, C6-C20 aryl groups, C6-C20 aryloxy groups, C7-C20 aralkyl groups, C7-C20 aralkyloxy groups, C1-C21 Represents an acyloxy group, a halogen atom, or a nitro group.)
Figure 2008149577
(Wherein R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. Represents a halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 21 carbon atoms, a halogen atom, or a nitro group.)
Figure 2008149577
(In the formula, R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. Represents a halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 21 carbon atoms, a halogen atom, or a nitro group.)
請求項1乃至請求項3記載のシートのセルロース N−置換カーバメートを含有してなる膜面上に、接着剤層を設けたことを特徴とする接着性シート。   The adhesive sheet provided with the adhesive bond layer on the film | membrane surface containing the cellulose N-substituted carbamate of the sheet | seat of Claim 1 thru | or 3. 請求項4記載の接着性シートを、透光性基板の少なくとも一方の面に接着剤層を介して接着した後、剥離性基板を剥離することを特徴とする積層体の製造方法。   A method for producing a laminate, comprising: bonding an adhesive sheet according to claim 4 to at least one surface of a light-transmitting substrate via an adhesive layer, and then peeling the peelable substrate. 前記透光性基板が、制御された複屈折性を有するフィルムであることを特徴とする請求項5記載の積層体の製造方法。   The method for producing a laminate according to claim 5, wherein the translucent substrate is a film having controlled birefringence. 前記の制御された複屈折性を有するフィルムが、正の複屈折性を有する材料からなるフィルムであることを特徴とする請求項6記載の積層体の製造方法。   The method for producing a laminate according to claim 6, wherein the film having controlled birefringence is a film made of a material having positive birefringence. 請求項5乃至請求項7記載の方法を用いて製造したことを特徴とする積層体。   A laminate manufactured using the method according to claim 5. 偏光子の少なくとも片面に、請求項8記載の積層体を偏光子の保護材として装着したことを特徴とする偏光板。   A polarizing plate comprising the laminate according to claim 8 mounted on at least one surface of a polarizer as a protective material for the polarizer. 請求項8記載の積層体、請求項9記載の偏光板から選ばれる1以上の構成を備えた液晶表示装置。   A liquid crystal display device comprising at least one structure selected from the laminate according to claim 8 and the polarizing plate according to claim 9.
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