JP2006227222A - Coating film for optical compensation, coating liquid for forming coating film, optical element manufactured by using the coating liquid and manufacturing method of optical element - Google Patents

Coating film for optical compensation, coating liquid for forming coating film, optical element manufactured by using the coating liquid and manufacturing method of optical element Download PDF

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Michinori Tsukamoto
美智徳 塚本
Yasuhiro Sekiguchi
泰広 関口
Tomoki Hiiro
知樹 日色
Sadao Fujii
貞男 藤井
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a low-cost coating film for optical compensation having a characteristic; [(n<SB>x</SB>+n<SB>y</SB>)/2-n<SB>z</SB>]×d≥100, without requiring a troublesome filming process, and to provide an optical element having the characteristic without requiring a labor such as film sticking. <P>SOLUTION: The coating film for optical compensation includes a cellulose derivative which satisfies the following relation; [(n<SB>x</SB>+n<SB>y</SB>)/2-n<SB>z</SB>]×d≥100, where n<SB>x</SB>is the maximum refractive index and n<SB>y</SB>is the minimum refractive index among in-plane refractive indexes, n<SB>z</SB>is refractive index in the thickness direction and d is film thickness (nm) when being thinned. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、液晶セル等による位相差の光学補償を行うための光学補償用塗工膜、該塗工膜形成に好適な光学補償用塗工膜形成用塗工液、その塗工液を用いて製造した光学素子並びに光学素子の製造方法に関するものである。   The present invention uses an optical compensation coating film for optical compensation of retardation by a liquid crystal cell, an optical compensation coating film forming coating solution suitable for forming the coating film, and the coating liquid. The present invention relates to an optical element manufactured by the method and a method for manufacturing the optical element.

液晶表示装置には液晶セルの複屈折による位相差を補償して視野角の拡大を図るため、光学補償用の位相差フィルムが使用されている。例えば、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホン等のポリマーを溶液流延法、溶液流延後乾燥品の一軸延伸法、溶液流延後乾燥品の二軸延伸法、押出法、押出品の一軸延伸法、押出品の二軸延伸法、カレンダー法等によりフィルム化したものが挙げられる(例えば、特許文献1参照。)。最近は視野角拡大のために、VA(Vertical Alignment)型等の液晶セルも開発されているが、光学補償材料は従来同様、必要である。このVA型液晶セルの複屈折による位相差を補償するためには、nx≧ny>nzの特性をもつ光学補償材料が有効であることが知られているが、前記フィルムを用いるためには煩雑なフィルム化工程が必要であり、また、液晶表示装置構成部品に貼り付ける等の手間も要する。これらを解消するために、ポリイミドのペースト塗布が提案されている(例えば、特許文献2参照。)。しかしながら、ポリイミドは合成が煩雑である上、材料コストが高いことが問題である。
特開平3−33719号公報 特開2001−290023号公報
In a liquid crystal display device, a phase difference film for optical compensation is used in order to compensate for a phase difference due to birefringence of a liquid crystal cell and to expand a viewing angle. For example, polymer casting methods such as polycarbonate, polyester, polyamide, polyimide, polyethersulfone, solution casting method, uniaxial stretching method of dried product after solution casting, biaxial stretching method of dried product after solution casting, extrusion method, extruded product And a film formed by a biaxial stretching method, an extrudate biaxial stretching method, a calendar method, or the like (see, for example, Patent Document 1). Recently, a liquid crystal cell such as a VA (Vertical Alignment) type has been developed to expand the viewing angle, but an optical compensation material is necessary as in the past. To compensate for the phase difference due to birefringence of the VA type liquid crystal cell is an optical compensation material having characteristics of n x ≧ n y> n z is known to be effective, since the use of the film Requires a cumbersome film forming process, and also requires time and effort such as sticking to liquid crystal display component parts. In order to solve these problems, polyimide paste coating has been proposed (see, for example, Patent Document 2). However, polyimide is problematic in that the synthesis is complicated and the material cost is high.
JP-A-3-33719 JP 2001-290023 A

本発明の目的は、煩雑なフィルム化工程を必要とせずに、〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100である大きな厚み位相差を有する光学補償用塗工膜を提供し、フィルム貼り付け等の手間を必要とせずにその特性を有する光学素子を提供することである。 An object of the present invention is to provide an optical compensation coating film having a large thickness retardation of [(n x + ny ) / 2− nz ] × d ≧ 100 without requiring a complicated film forming step. And it is providing the optical element which has the characteristic, without requiring effort, such as film sticking.

このような課題を解決するために本発明者らは鋭意研究の結果、薄膜化した際の面内の屈折率のうち最大のものをnx、最小のものをnyとし、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をd(nm)とした時、〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100の関係を満たすセルロース誘導体を含有することを特徴とする光学補償用塗工膜とすることにより上記課題を解決できることを見出し、本発明に至った。 Such problems present inventors to solve is the result of intense research, largest of the n x of the in-plane refractive index of the time of thinning, the smallest ones and n y, in the thickness direction refraction For optical compensation, comprising a cellulose derivative satisfying a relationship of [(n x + ny ) / 2−n z ] × d ≧ 100 when the rate is n z and the film thickness is d (nm) The present inventors have found that the above problems can be solved by using a coating film, and have reached the present invention.

すなわち、本発明は、
薄膜化した際の面内の屈折率のうち最大のものをnx、最小のものをnyとし、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をd(nm)とした時、〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100の関係を満たすセルロース誘導体を含有することを特徴とする光学補償用塗工膜(請求項1)であり、
セルロース誘導体が、セルロースの水酸基の少なくとも一つが炭素数1〜20のアルコキシ基で置換された化合物であることを特徴とする請求項1記載の光学補償用塗工膜(請求項2)であり、
下記(A)、(B)を含有して形成される光学補償用塗工膜形成用塗工液であり(請求項3)、
(A)請求項1又は請求項2記載のセルロース誘導体
(B)(A)成分が可溶な溶媒
請求項3記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工した後、必要に応じ(B)成分の蒸気にさらして塗工膜をアニーリングし、乾燥する光学素子の製造方法(請求項4,5)であり、
請求項3記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工、乾燥してなる光学素子(請求項6)であり、
請求項4または請求項5のいずれか1項に記載の製造方法を用いて製造した光学素子(請求項7)である。
That is, the present invention
Of the in-plane refractive indexes when the film is thinned, the maximum one is nx , the minimum one is ny , the refractive index in the thickness direction is nz , and the film thickness is d (nm). x + ny ) / 2- nz ] × d ≧ 100, a coating film for optical compensation characterized by containing a cellulose derivative satisfying the relationship:
2. The optical compensation coating film according to claim 1, wherein the cellulose derivative is a compound in which at least one of hydroxyl groups of cellulose is substituted with an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms (claim 2).
It is a coating solution for forming an optical compensation coating film formed by containing the following (A) and (B) (claim 3),
(A) The cellulose derivative according to claim 1 or claim 2 (B) A solvent in which the component (A) is soluble After the coating liquid for forming an optical compensation coating film according to claim 3 is applied to a substrate, It is a method for producing an optical element (Claims 4 and 5), wherein the coating film is annealed and exposed to the vapor of the component (B) as necessary,
An optical element (Claim 6) obtained by coating the substrate with the coating liquid for forming an optical compensation coating film according to claim 3, and drying the substrate.
An optical element (Claim 7) manufactured using the manufacturing method according to any one of Claims 4 and 5.

また、セルロース誘導体を含有して形成され、面内の屈折率のうち最大のものをnx、最小のものをnyとし、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとした時に、〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100の関係を満たすことを特徴とする光学補償用塗工膜を提供した(請求項8)。 In addition, when the refractive index in the thickness direction is nz and the film thickness d is [(n x + ny ) / 2- nz ] × d ≧ 100 is satisfied, and an optical compensation coating film is provided.

また、面内の屈折率のうち最大のものをnx、最小のものをny、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100の関係を満たすセルロース誘導体を含有して形成した光学補償用塗工膜を提供した(請求項9)。 In the unstretched film formed by the solution casting method, nx is the maximum refractive index, ny is the minimum in-plane refractive index, nz is the refractive index in the thickness direction, and d is the film thickness [( n x + n y) / 2 -n z ] × to provide an optical compensation for coated film formed by containing a cellulose derivative satisfying the relationship d ≧ 100 (claim 9).

また、面内の屈折率のうち最大のものをnx、最小のものをny、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100の関係を満たすセルロース誘導体と、このセルロース誘導体を可溶可能な溶媒からなる光学補償用塗工膜形成用塗工液を提供した(請求項10)。 In the unstretched film formed by the solution casting method, nx is the maximum refractive index, ny is the minimum in-plane refractive index, nz is the refractive index in the thickness direction, and d is the film thickness [( nx + ny ) / 2- nz ] × d ≧ 100 and a coating solution for forming an optical compensation coating film comprising a solvent capable of solubilizing the cellulose derivative. Item 10).

また、面内の屈折率のうち最大のものをnx、最小のものをny、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100の関係を満たすセルロース誘導体と、このセルロース誘導体を可溶可能な溶媒からなる光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工し、必要に応じ前記セルロース誘導体を可溶可能な溶媒の蒸気にさらしてアニーリングし、更に乾燥する光学素子の製造方法を提供した(請求項11,12)。 In the unstretched film formed by the solution casting method, nx is the maximum refractive index, ny is the minimum in-plane refractive index, nz is the refractive index in the thickness direction, and d is the film thickness [( nx + ny ) / 2- nz ] × d ≧ 100 and a coating solution for forming an optical compensation coating film, which comprises a solvent capable of solubilizing the cellulose derivative, and applied to the substrate. In addition, the present invention provides a method for producing an optical element in which the cellulose derivative is annealed by being exposed to a vapor of a soluble solvent and then dried, as necessary (claims 11 and 12).

本発明の光学補償用塗工膜を用いると、煩雑なフィルム化工程やフィルム貼り付け等の手間を必要とせずに〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100の特性をもつ光学補償層が安価に得られ、光学素子が製造できることから、工業的に極めて有用である。 When the coating film for optical compensation of the present invention is used, the characteristic of [(n x + ny ) / 2−n z ] × d ≧ 100 can be obtained without the need for complicated film forming steps and film sticking. The optical compensation layer can be obtained at a low cost, and an optical element can be manufactured, which is extremely useful industrially.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明における、薄膜化した際の面内の屈折率のうち最大のものをnx、最小のものをnyとし、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をd(nm)とした時、〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100の関係を満たすセルロース誘導体、または、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100の関係を満たすセルロース誘導体は(以下(A)成分と言うことがある)、例えば、各種木材パルプ、綿リンター、綿リント等から得られるセルロースを原料とし、化学修飾することにより製造することができる。例えば、ギ酸セルロース、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、トリフルオロ酢酸セルロース等のカルボン酸エステル系誘導体;硫酸セルロース、硝酸セルロース、リン酸セルロース等の無機酸エステル系誘導体;メチルセルロース、エチルセルロース、プロピルセルロース、ブチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、シアノエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等のエーテル系誘導体等が挙げられる。 In the present invention when, largest of the n x of the in-plane refractive index of the time of thinning, the smallest ones and n y, the refractive index in the thickness direction n z, where the film thickness as d (nm) , [(N x + ny ) / 2−n z ] × d ≧ 100 or a non-stretched film formed by the solution casting method [(n x + ny ) / 2− nz ] A cellulose derivative satisfying the relationship of xd ≧ 100 (hereinafter sometimes referred to as the component (A)), for example, by using cellulose obtained from various wood pulp, cotton linter, cotton lint, etc. as a raw material and chemically modifying Can be manufactured. For example, carboxylic acid ester derivatives such as cellulose formate, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose acetate propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose trifluoroacetate; cellulose sulfate, cellulose nitrate, cellulose phosphate And inorganic acid ester derivatives such as methyl cellulose, ethyl cellulose, propyl cellulose, butyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, cyanoethyl cellulose, carboxymethyl cellulose and the like.

これらのうち、低加水分解性、低吸湿性等、物性面の安定性から、エーテル系誘導体が好ましい。より好ましくはセルロースの水酸基の少なくとも一つが炭素数1〜20のアルコキシ基で置換されたエーテル系誘導体であり、さらに好ましくはセルロースの水酸基の少なくとも一つが炭素数1〜10のアルコキシ基で置換されたエーテル系誘導体である。   Of these, ether derivatives are preferred from the standpoint of physical properties such as low hydrolyzability and low hygroscopicity. More preferably, it is an ether derivative in which at least one hydroxyl group of cellulose is substituted with an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably, at least one of hydroxyl groups of cellulose is substituted with an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. It is an ether derivative.

好ましい(A)成分を具体的に例示すると、メチルセルロース、エチルセルロース、プロピルセルロース、ブチルセルロース、ペンチルセルロース、ヘキシルセルロース、ヘプチルセルロース、オクチルセルロース、シクロペンチルセルロース、シクロヘキシルセルロース、メチルエチルセルロース、メチルプロピルセルロース、メチルブチルセルロース、メチルペンチルセルロース、メチルヘキシルセルロース、メチルヘプチルセルロース、メチルオクチルセルロース、メチルシクロペンチルセルロース、メチルシクロヘキシルセルロース、エチルプロピルセルロース、エチルブチルセルロース、エチルペンチルセルロース、エチルヘキシルセルロース、エチルヘプチルセルロース、エチルオクチルセルロース、エチルシクロペンチルセルロース、エチルシクロヘキシルセルロース等が挙げられる。これらのセルロース誘導体は、単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   Specific examples of the preferred component (A) include methyl cellulose, ethyl cellulose, propyl cellulose, butyl cellulose, pentyl cellulose, hexyl cellulose, heptyl cellulose, octyl cellulose, cyclopentyl cellulose, cyclohexyl cellulose, methyl ethyl cellulose, methyl propyl cellulose, methyl butyl cellulose. , Methylpentylcellulose, methylhexylcellulose, methylheptylcellulose, methyloctylcellulose, methylcyclopentylcellulose, methylcyclohexylcellulose, ethylpropylcellulose, ethylbutylcellulose, ethylpentylcellulose, ethylhexylcellulose, ethylheptylcellulose, ethyloctylcellulose, ethylcyclopentyl cell Over scan, ethylcyclohexyl cellulose. These cellulose derivatives may be used alone or in combination of two or more.

上記セルロースのエーテル系誘導体は、例えば、水酸化ナトリウム等によりアルカリセルロースとした後、塩素化アルキル等のアルキルハライドを加えて加熱攪拌することにより製造できる。この時、2種以上のアルキルハライドを用いると、2種以上のアルコキシ基で置換されたエーテル系誘導体が得られる。   The ether derivative of cellulose can be produced, for example, by making alkali cellulose with sodium hydroxide or the like, adding an alkyl halide such as chlorinated alkyl, and stirring with heating. At this time, when two or more alkyl halides are used, an ether derivative substituted with two or more alkoxy groups can be obtained.

また、セルロースはその構成単位であるグルコース残基当たり3個の水酸基を有しており、グルコース残基当たりの置換度(以下、DSと称する場合あり)は最大3になるが、置換度の下限は好ましくは0.1、より好ましくは0.5、さらに好ましくは1であり、上限は好ましくは3、より好ましくは2.95、さらに好ましくは2.9である。置換度が0.1より低いと溶媒に溶け難くなる傾向がある。本発明では、置換度が異なるセルロース誘導体の2種以上を併用してもよく、単独で使用してもよい。   Cellulose has three hydroxyl groups per glucose residue as its constituent unit, and the degree of substitution per glucose residue (hereinafter sometimes referred to as DS) is 3 at the maximum, but the lower limit of the degree of substitution Is preferably 0.1, more preferably 0.5, still more preferably 1, and the upper limit is preferably 3, more preferably 2.95, and even more preferably 2.9. When the degree of substitution is lower than 0.1, it tends to be difficult to dissolve in a solvent. In the present invention, two or more cellulose derivatives having different degrees of substitution may be used in combination, or may be used alone.

さらに、(A)成分の数平均分子量の下限は好ましくは5000、より好ましくは8000、さらに好ましくは10000であり、上限は好ましくは300000、より好ましくは250000、さらに好ましくは200000である。数平均分子量が5000より小さいと塗工膜強度が低下する傾向があり、数平均分子量が300000より大きいと溶媒に溶け難くなる傾向がある。なお、当該数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法により測定した値である。本発明では、数平均分子量が異なるセルロース誘導体の2種以上を併用してもよく、単独で使用してもよい。   Furthermore, the lower limit of the number average molecular weight of the component (A) is preferably 5000, more preferably 8000, still more preferably 10,000, and the upper limit is preferably 300,000, more preferably 250,000, and even more preferably 200000. When the number average molecular weight is less than 5,000, the coating film strength tends to decrease, and when the number average molecular weight is more than 300,000, the coating film strength tends to be difficult to dissolve. The number average molecular weight is a value measured by a gel permeation chromatography (GPC) method. In the present invention, two or more cellulose derivatives having different number average molecular weights may be used in combination, or may be used alone.

また、本発明では、(A)成分として例示した各種セルロース誘導体を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   Moreover, in this invention, the various cellulose derivative illustrated as (A) component may be used independently, and 2 or more types may be used together.

以下、光学補償用塗工膜形成用塗工液(以下、単に塗工液と言うことがある)について説明する。塗工液は、(A)前記セルロース誘導体,(B)(A)成分が可溶な溶媒、を含有して形成されていることが好ましい。   Hereinafter, a coating solution for forming an optical compensation coating film (hereinafter sometimes simply referred to as a coating solution) will be described. The coating liquid is preferably formed containing (A) the cellulose derivative and (B) a solvent in which the component (A) is soluble.

(B)成分の溶媒としては、(A)成分が可溶であれば特に限定されるものではないが、具体的な例としては、ベンゼン、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ジエチルベンゼンの異性体混合物等の炭化水素系溶媒;メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、フルフリルアルコール、ベンジルアルコール等のアルコール系溶媒;エチルエーテル、イソプロピルエーテル、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;アセトン、2−ブタノン、4−メチル−2−ペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン、1,1,1,2−テトラクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、1−クロロプロパン、2−クロロプロパン、1,1−ジクロロプロパン、1,2−ジクロロプロパン、1,3−ジクロロプロパン、2,2−ジクロロプロパン、1,2,3−トリクロロプロパン、クロロベンゼン、1,2−ジクロロベンゼン、1,3−ジクロロベンゼン、1,4−ジクロロベンゼン、1,2,3−トリクロロベンゼン、1,2,4−トリクロロベンゼン、1,3,5−トリクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、1−メチル−2−ピロリジノン等のアミド系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   The solvent for the component (B) is not particularly limited as long as the component (A) is soluble. Specific examples include benzene, toluene, o-xylene, m-xylene, and p-xylene. Hydrocarbon solvents such as isomer mixtures of ethylbenzene, isopropylbenzene and diethylbenzene; methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, furfuryl alcohol, Alcohol solvents such as benzyl alcohol; ether solvents such as ethyl ether, isopropyl ether, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, tetrahydropyran, tetrahydrofuran; acetone, 2-butanone, 4-methyl-2-pentanone, Ketone solvents such as cyclohexanone; methyl chloride , Chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, 1,1,1-trichloroethane, 1,1,2-trichloroethane, 1,1,1,2-tetrachloroethane, 1,1,2,2-tetra Chloroethane, pentachloroethane, hexachloroethane, 1-chloropropane, 2-chloropropane, 1,1-dichloropropane, 1,2-dichloropropane, 1,3-dichloropropane, 2,2-dichloropropane, 1,2,3- Trichloropropane, chlorobenzene, 1,2-dichlorobenzene, 1,3-dichlorobenzene, 1,4-dichlorobenzene, 1,2,3-trichlorobenzene, 1,2,4-trichlorobenzene, 1,3,5- Halogen solvents such as trichlorobenzene; methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, vinegar Examples include ester solvents such as butyl acid; amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and 1-methyl-2-pyrrolidinone. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

本発明では、溶媒量は、(A)成分と(B)成分の総重量に対する(A)成分の割合が下限1重量%、上限70重量%の範囲で用いるのが好ましく、下限2重量%、上限60重量%の範囲で用いるのがより好ましく、下限3重量%、上限50重量%の範囲で用いるのがさらに好ましい。(A)成分の割合が1重量%より小さい場合は塗工膜厚が薄くなり、必要な膜厚が得られ難くなる傾向があり、70重量%より大きい場合は塗工液の粘度が高くなり、作業性が劣る傾向がある。   In the present invention, the amount of the solvent is preferably such that the ratio of the component (A) to the total weight of the components (A) and (B) is 1% by weight lower limit and 70% by weight upper limit, More preferably, the upper limit is 60% by weight, and the lower limit is 3% by weight and the upper limit is 50% by weight. When the proportion of the component (A) is less than 1% by weight, the coating film thickness tends to be thin and the required film thickness tends to be difficult to obtain, and when it is greater than 70% by weight, the viscosity of the coating liquid increases. , Workability tends to be inferior.

次に、本発明の塗工膜の特性を改質する目的で添加することが可能な樹脂について説明する。当該添加することが可能な樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂等が例示されるが、これらは本発明の目的及び効果を損なわない範囲において添加することができる。   Next, resins that can be added for the purpose of modifying the properties of the coating film of the present invention will be described. The resins that can be added include polycarbonate resin, acrylic resin, polyester resin, polystyrene resin, polyolefin resin, polyamide resin, polyimide resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, polyethersulfone resin, polyarylate resin, epoxy. Resins, silicone resins, phenol resins, urethane resins and the like are exemplified, but these can be added within a range that does not impair the object and effect of the present invention.

次に、本発明の塗工膜、塗工液の特性を改質する目的で加えることが可能な添加剤について説明する。   Next, additives that can be added for the purpose of modifying the properties of the coating film and coating solution of the present invention will be described.

添加剤としては、酸化防止剤(例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製IRGANOX 1010、IRGANOX 1135、IRGANOX 1330等のヒンダードフェノール類)、加工安定剤(例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製HP−136、IRGANOX E201、IRGAFOS 168等)、光安定剤(例えば、三共ライフテック製サノールLS−765、サノールLS−770等のヒンダードアミン類)、紫外線吸収剤(例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製TINUVIN P、TINUVIN 213、TINUVIN 326等のベンゾトリアゾール類)、接着性改良剤(例えば、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤)、シラノール縮合触媒(例えば、川研ファインケミカル製アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルミキレートM等のアルミニウムキレート類)、可塑剤(例えば、ジ2−エチルヘキシルフタレート、ジイソブチルアジペート等のエステル類)、界面活性剤(例えば、住友スリーエム製Fluorad FC−430、Fluorad FC−4430等のフッ素系化合物)、帯電防止剤(例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製IRGASTAT P18、IRGASTAT P22等)等が挙げられ、これらは本発明の目的及び効果を損なわない範囲において添加することができる。   Additives include antioxidants (eg, hindered phenols such as IRGANOX 1010, IRGANOX 1135, IRGANOX 1330, etc. manufactured by Ciba Specialty Chemicals), processing stabilizers (eg, HP-136, IRGANOX manufactured by Ciba Specialty Chemicals). E201, IRGAFOS 168, etc.), light stabilizers (eg, hindered amines such as Sanol LS-765 and Sanol LS-770 manufactured by Sankyo Lifetech), ultraviolet absorbers (eg, TINUVIN P, TINUVIN 213 manufactured by Ciba Specialty Chemicals) Benzotriazoles such as TINUVIN 326), adhesion improvers (eg, silane compounds such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane) Pulling agent), silanol condensation catalyst (eg, aluminum tris (ethyl acetoacetate) manufactured by Kawaken Fine Chemicals, aluminum chelate M, etc.), plasticizer (eg, esters such as di-2-ethylhexyl phthalate, diisobutyl adipate) And surfactants (for example, fluorine compounds such as Fluorad FC-430 and Fluorad FC-4430 manufactured by Sumitomo 3M), antistatic agents (for example, IRGASTAT P18 and IRGASTAT P22 manufactured by Ciba Specialty Chemicals), and the like. These can be added as long as the objects and effects of the present invention are not impaired.

本発明の塗工液は、例えば上記各成分を溶媒の融点以上、沸点以下の温度で、混合後静置又は攪拌混合等することにより得られる。   The coating liquid of the present invention can be obtained, for example, by mixing the above-mentioned components at a temperature not lower than the melting point of the solvent and not higher than the boiling point, after standing, stirring and mixing.

次に、光学素子用の基板について説明する。基板としては、各種のものが使用可能であるが、特に用途から考えると透明であることが好ましい。具体的な例としては、ビスフェノールAと塩化カルボニルより重縮合して製造されたポリカーボネート系重合体;ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のポリアクリル酸エステル;アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の2塩基酸とエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール等のグリコールとの縮合又はラクトン類の開環重合で得られるポリエステル系重合体;ポリスチレン、ポリ(α−メチルスチレン)等のスチレン系重合体;アクリル酸エステルとスチレンとの共重合体;ポリエチレン、ポリノルボルネン、ポリイソプレンの水素添加物、ポリブタジエンの水素添加物等のポリオレフィン系重合体;トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂;ナイロン6、ナイロン66等のポリアミド;ポリイミド;ポリアミドイミド;ポリビニルアルコール;塩化ビニル;ポリエーテルスルホン;エポキシ樹脂;シリコーン樹脂;国際公開第01/37007号パンフレットに記載される化合物等のポリマーを溶液流延法、溶液流延後乾燥品の一軸延伸法、溶液流延後乾燥品の二軸延伸法、押出法、押出品の一軸延伸法、押出品の二軸延伸法、カレンダー法等によりフィルム化したもの、これらのフィルムを偏光板に貼り付けたもの、ガラス板、カラーフィルター、液晶セル等が挙げられる。   Next, the substrate for the optical element will be described. Various substrates can be used as the substrate, but it is preferable that the substrate is transparent particularly from the viewpoint of use. Specific examples include polycarbonate polymers produced by polycondensation from bisphenol A and carbonyl chloride; polyacrylic acid esters such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate; adipic acid, phthalic acid, isophthalic acid, Polyester polymers obtained by condensation of dibasic acids such as terephthalic acid and glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, neopentyl glycol, or ring-opening polymerization of lactones; polystyrene, poly (α- Styrene polymers such as methylstyrene); copolymers of acrylic acid ester and styrene; polyolefin polymers such as polyethylene, polynorbornene, hydrogenated polyisoprene, and hydrogenated polybutadiene; triacetyl cellulose Cellulose-based resins: polyamides such as nylon 6 and nylon 66; polyimides; polyamide-imides; polyvinyl alcohol; vinyl chloride; polyethersulfone; epoxy resins: silicone resins: compounds described in WO 01/37007 Polymer casting method, solution casting uniaxial stretching method, solution casting dried product biaxial stretching method, extrusion method, extruded product uniaxial stretching method, extruded product biaxial stretching method, calendar method And the like, films obtained by attaching these films to polarizing plates, glass plates, color filters, liquid crystal cells, and the like.

次に、光学素子の製造方法について説明する。光学素子は、前記基板の片面又は両面に本発明の塗工液を塗工後、乾燥;又は塗工後、アニーリング、乾燥することにより製造できる。塗工方法としては、グラビヤロールコート法、マイヤーバーコート法、ドクターブレードコート法、リバースロールコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カレンダーコート法、スキーズコート法、キスコート法、バーコート法、スロットダイコート法、スピンコート法等が挙げられる。   Next, a method for manufacturing an optical element will be described. The optical element can be produced by coating the coating liquid of the present invention on one side or both sides of the substrate, followed by drying; or after coating, annealing and drying. As coating methods, gravure roll coating method, Mayer bar coating method, doctor blade coating method, reverse roll coating method, dip coating method, air knife coating method, calendar coating method, skies coating method, kiss coating method, bar coating method , Slot die coating method, spin coating method and the like.

乾燥方法としては、空気中又は窒素等の不活性ガス中に放置(風乾)、熱風オーブン、赤外線加熱炉等での加熱乾燥、真空乾燥機等での減圧乾燥等により行うことができる。乾燥温度は種々設定できるが、下限−30℃、上限300℃の温度範囲が好ましく、下限0℃、上限280℃がより好ましく、下限10℃、上限260℃がさらに好ましい。乾燥温度が−30℃より低いと乾燥時間が長くなる傾向があり、300℃より高いと塗工膜や基板の熱劣化が生じ易くなる傾向がある。   As a drying method, it can be carried out by leaving it in air or in an inert gas such as nitrogen (air drying), heat drying in a hot air oven, an infrared heating furnace or the like, or drying under reduced pressure in a vacuum dryer or the like. Although various drying temperatures can be set, a temperature range of a lower limit of −30 ° C. and an upper limit of 300 ° C. is preferable, a lower limit of 0 ° C. and an upper limit of 280 ° C. are more preferable, and a lower limit of 10 ° C. and an upper limit of 260 ° C. are more preferable. When the drying temperature is lower than −30 ° C., the drying time tends to be longer, and when it is higher than 300 ° C., the coating film and the substrate tend to be thermally deteriorated.

また、アニーリングは塗工膜のレベリング性向上、応力緩和等の為に行うことが好ましく、例えば面内位相差の低減、面内位相差の振れの低減等に有効である。本発明では、アニーリングは、(B)成分の蒸気中に塗工基板の塗工膜を上にして水平に静置して行うことが好ましい。アニーリング時の温度は種々設定できるが、下限−30℃、上限〔(B)成分の沸点(℃)〕の範囲が好ましく、下限−15℃、上限〔(B)成分の沸点(℃)−5℃〕がより好ましく、下限0℃、上限〔(B)成分の沸点(℃)−10℃〕がさらに好ましい。アニーリング時の温度が−30℃より低いとアニーリング時間が長くなる傾向があり、アニーリング時の温度が(B)成分の沸点(℃)より高いと塗工膜の基板からの流れ出しが生じ易くなる傾向がある。アニーリング時の圧力も種々設定でき、大気圧、加圧下、又は減圧下で行うことができるが、作業性の点で大気圧が好ましい。   Annealing is preferably performed for improving the leveling property of the coating film, stress relaxation, and the like, and is effective for, for example, reducing in-plane retardation and reducing in-plane retardation fluctuation. In the present invention, the annealing is preferably performed in the vapor of the component (B) with the coating film of the coating substrate facing up and left still horizontally. The temperature at the time of annealing can be variously set, but the lower limit is preferably −30 ° C. and the upper limit [(B) component boiling point (° C.)], and the lower limit is −15 ° C. and the upper limit [(B) component boiling point (° C.) −5 ° C.] is more preferable, and the lower limit is 0 ° C., and the upper limit [(B) component boiling point (° C.) − 10 ° C.] is more preferable. If the annealing temperature is lower than −30 ° C., the annealing time tends to be longer, and if the annealing temperature is higher than the boiling point (° C.) of the component (B), the coating film tends to flow out from the substrate. There is. The pressure at the time of annealing can also be set variously, and it can carry out under atmospheric pressure, pressurization, or pressure reduction, but atmospheric pressure is preferred at the point of workability.

次に、本発明における光学補償用塗工膜の光学特性について説明する。   Next, the optical characteristics of the optical compensation coating film in the present invention will be described.

本発明の光学補償用塗工膜は〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100の特性をもつことが好ましい。光学補償用塗工膜の厚みをd(nm)とすると、面内位相差は、(nx−ny)×dで表され、厚み位相差は、〔(nx+ny)/2−nz〕×dで表されるが、面内位相差は下限0nm、上限100nmが好ましく、下限0nm、上限80nmがより好ましく、下限0nm、上限60nmがさらに好ましい。面内位相差が100nmより大きいと液晶セルの複屈折による位相差の補償が困難になる傾向がある。また、厚み位相差は下限1nm、上限1000nmが好ましく、下限10nm、上限800nmがより好ましく、下限20nm、上限600nmがさらに好ましい。厚み位相差が1000nmより大きいと液晶セルの複屈折による位相差の補償が困難になる傾向がある。 The coating film for optical compensation of the present invention preferably has a characteristic of [(n x + ny ) / 2− nz ] × d ≧ 100. When the thickness of the optical compensation for coated film and d (nm), the in-plane retardation is represented by (n x -n y) × d , the thickness retardation, [(n x + n y) / 2- n z ] × d, the in-plane retardation is preferably 0 nm lower limit and 100 nm upper limit, more preferably 0 nm lower limit and 80 nm upper limit, and still more preferably 0 nm lower limit and 60 nm upper limit. If the in-plane retardation is larger than 100 nm, it tends to be difficult to compensate for the retardation due to the birefringence of the liquid crystal cell. Moreover, the lower limit of the thickness retardation is preferably 1 nm and the upper limit of 1000 nm, more preferably the lower limit of 10 nm and the upper limit of 800 nm, and still more preferably the lower limit of 20 nm and the upper limit of 600 nm. If the thickness retardation is larger than 1000 nm, it tends to be difficult to compensate for the retardation due to the birefringence of the liquid crystal cell.

また、本発明の光学補償用塗工膜、該塗工膜形成用塗工液及びその塗工液を用いて製造した光学素子は、ビデオ、カメラ、携帯電話、パソコン、テレビ、モニター、自動車のインパネ等の液晶表示装置作製部品等に好適に使用できる。   Further, the optical compensation coating film of the present invention, the coating film forming coating liquid and the optical element produced using the coating liquid are used in video, camera, mobile phone, personal computer, TV, monitor, automobile, etc. It can be used suitably for liquid crystal display device manufacturing parts such as instrument panels.

以下に、本発明をより詳細に説明するために実施例を示すが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。   Examples are shown below to describe the present invention in more detail, but the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
エチルセルロース(ダウケミカル製ETHOCEL STD−100,数平均分子量:63400,DS:2.5)20.0gにクロロホルム80.0gを加え、25℃下で溶解した。次に、この塗工液をバーコーターを用いて150μm厚のガラス基板(平均屈折率:1.52,面内位相差:0nm,厚み位相差:1nm)に塗工した後、25℃で6時間、空気中で風乾して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚(d(nm))は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を下記の方法によって行い、結果を表1に示した。ここでは、〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100 (尚、nx=nyであった)の光学素子が得られた。
Example 1
80.0 g of chloroform was added to 20.0 g of ethyl cellulose (ETHOCEL STD-100 manufactured by Dow Chemical Co., Ltd., number average molecular weight: 63400, DS: 2.5) and dissolved at 25 ° C. Next, this coating solution was applied to a 150 μm-thick glass substrate (average refractive index: 1.52, in-plane retardation: 0 nm, thickness retardation: 1 nm) using a bar coater, and then 6 ° C. at 25 ° C. The optical element was produced by air-drying in air for a period of time. The coating thickness after drying (d (nm)) was determined by measuring the thickness of the entire optical element and subtracting the thickness of the glass substrate. Next, the physical properties of the optical element obtained as described above were measured by the following method, and the results are shown in Table 1. Here, [(n x + n y) / 2-n z ] × d ≧ 100 (Note, n x = was n y) optical element was obtained.

(1)屈折率(nx,ny,nz)の測定
王子計測機器製自動複屈折計KOBRA−21ADHを用いて、25℃下で590nm光における屈折率を測定した。得られた結果から、面内位相差を(nx−ny)×dにより求めた。また、厚み位相差を〔(nx+ny)/2−nz〕×dにより求めた。
(1) Refractive index (n x, n y, n z) using the measured Oji Scientific Instruments Ltd. automatic birefringence meter KOBRA-21ADH of, the refractive index was measured at 590nm light under 25 ° C.. From the results obtained, it was determined plane retardation by (n x -n y) × d . In addition, the thickness retardation was determined by [( nx + ny ) / 2- nz ] × d.

(実施例2)
実施例1で作製した塗工液を用い、バーコーターの印加圧を低減して150μm厚のガラス基板(平均屈折率:1.52,面内位相差:0nm,厚み位相差:1nm)に塗工した後、25℃で6時間、空気中で風乾して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚(d(nm))は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を実施例1記載の方法によって行い、結果を表1に示した。ここでは、〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100 (尚、nx>nyであった)の光学素子が得られた。
(Example 2)
Using the coating solution prepared in Example 1, the pressure applied to the bar coater was reduced and applied to a 150 μm thick glass substrate (average refractive index: 1.52, in-plane retardation: 0 nm, thickness retardation: 1 nm). After the processing, it was air-dried at 25 ° C. for 6 hours to produce an optical element. The coating thickness after drying (d (nm)) was determined by measuring the thickness of the entire optical element and subtracting the thickness of the glass substrate. Next, the physical properties of the optical element obtained as described above were measured by the method described in Example 1, and the results are shown in Table 1. Here, [(n x + n y) / 2-n z ] × d ≧ 100 (Note, n x> was n y) optical element was obtained.

(実施例3)
実施例1で作製した塗工液を用い、バーコーターの印加圧を低減して150μm厚のガラス基板(平均屈折率:1.52,面内位相差:0nm,厚み位相差:1nm)に塗工した後、この塗布基板を大気圧でクロロホルム蒸気が充満したガラス容器に入れ、密閉後、25℃で72時間アニーリングした。その後、塗布基板を取り出し、25℃で6時間、空気中で風乾して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚(d(nm))は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を実施例1記載の方法によって行い、結果を表1に示した。実施例2では厚み位相差が上がると同時に面内位相差も上昇したが、ここでは、実施例2と同程度の厚み位相差をもち、面内位相差が0nmである、すなわち、〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100 (尚、nx=nyであった)の光学素子が得られ、アニーリングの有無により、特性の異なる光学補償層の作製が可能であった。
(Example 3)
Using the coating solution prepared in Example 1, the pressure applied to the bar coater was reduced and applied to a 150 μm thick glass substrate (average refractive index: 1.52, in-plane retardation: 0 nm, thickness retardation: 1 nm). Then, the coated substrate was placed in a glass container filled with chloroform vapor at atmospheric pressure, sealed, and then annealed at 25 ° C. for 72 hours. Thereafter, the coated substrate was taken out and air-dried at 25 ° C. for 6 hours to produce an optical element. The coating thickness after drying (d (nm)) was determined by measuring the thickness of the entire optical element and subtracting the thickness of the glass substrate. Next, the physical properties of the optical element obtained as described above were measured by the method described in Example 1, and the results are shown in Table 1. In Example 2, the in-plane retardation also increased at the same time as the thickness retardation increased. However, here, the in-plane retardation is 0 nm, that is, the in-plane retardation is 0 nm, that is, [(n x + n y) / 2- n z ] × d ≧ 100 (Incidentally, the optical element of the n x = was n y) is obtained, the presence or absence of annealing, there can be manufactured of different optical compensation layer characteristics It was.

(実施例4)
エチルセルロース(ダウケミカル製ETHOCEL STD−100,数平均分子量:63400,DS:2.5)20.0gに塩化メチレン80.0gを加え、25℃下で溶解した。次に、この塗工液をバーコーターを用いて150μm厚のガラス基板(平均屈折率:1.52,面内位相差:0nm,厚み位相差:1nm)に塗工した後、25℃で6時間、空気中で風乾して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚(d(nm))は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を実施例1記載の方法によって行い、結果を表1に示した。ここでは、〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100 (尚、nx>nyであった)の光学素子が得られた。
Example 4
80.0 g of methylene chloride was added to 20.0 g of ethyl cellulose (ETHOCEL STD-100 manufactured by Dow Chemical Co., Ltd., number average molecular weight: 63400, DS: 2.5), and dissolved at 25 ° C. Next, this coating solution was applied to a 150 μm-thick glass substrate (average refractive index: 1.52, in-plane retardation: 0 nm, thickness retardation: 1 nm) using a bar coater, and then 6 ° C. at 25 ° C. The optical element was produced by air-drying in air for a period of time. The coating thickness after drying (d (nm)) was determined by measuring the thickness of the entire optical element and subtracting the thickness of the glass substrate. Next, the physical properties of the optical element obtained as described above were measured by the method described in Example 1, and the results are shown in Table 1. Here, [(n x + n y) / 2-n z ] × d ≧ 100 (Note, n x> was n y) optical element was obtained.

(比較例1)
市販の膜厚40μmのトリアセチルセルロースフィルム(=三酢酸セルロースフィルム)を150μm厚のガラス基板(平均屈折率:1.52,面内位相差:0nm,厚み位相差:1nm)に貼り付けることにより、光学素子を作製した。得られた光学素子の物性測定を実施例1記載の方法によって行った結果、面内位相差が0nm、厚み位相差が37nmであり、〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100の関係を満たすものではなかった(厚み位相差の低いものであった)。
(Comparative Example 1)
By attaching a commercially available triacetylcellulose film (= cellulose triacetate film) having a thickness of 40 μm to a glass substrate having a thickness of 150 μm (average refractive index: 1.52, in-plane retardation: 0 nm, thickness retardation: 1 nm) An optical element was produced. The results obtained measuring physical properties of the optical elements was carried out by the method described in Example 1, the in-plane retardation is 0 nm, the thickness retardation is 37 nm, [(n x + n y) / 2-n z ] × d The relationship of ≧ 100 was not satisfied (the thickness retardation was low).

(比較例2)
市販の膜厚80μmのトリアセチルセルロースフィルム(=三酢酸セルロースフィルム)を150μm厚のガラス基板(平均屈折率:1.52,面内位相差:0nm,厚み位相差:1nm)に貼り付けることにより、光学素子を作製した。得られた光学素子の物性測定を実施例1記載の方法によって行った結果、面内位相差が1nm、厚み位相差が70nmであり、〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100の関係を満たすものではなかった(厚み位相差の低いものであった)。
(Comparative Example 2)
By attaching a commercially available triacetyl cellulose film (= cellulose triacetate film) having a thickness of 80 μm to a glass substrate having a thickness of 150 μm (average refractive index: 1.52, in-plane retardation: 0 nm, thickness retardation: 1 nm). An optical element was produced. The physical properties of the obtained optical element were measured by the method described in Example 1. As a result, the in-plane retardation was 1 nm and the thickness retardation was 70 nm, and [(n x + ny ) / 2−n z ] × d The relationship of ≧ 100 was not satisfied (the thickness retardation was low).

尚、比較例1,2では、煩雑なフィルム化工程(フィルム化したものを購入することで代用した)やフィルム貼り付け等の手間が必要であった。   In Comparative Examples 1 and 2, troublesome film forming steps (replaced by purchasing the film) and film pasting were required.

Figure 2006227222
Figure 2006227222

Claims (12)

薄膜化した際の面内の屈折率のうち最大のものをnx、最小のものをnyとし、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をd(nm)とした時、〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100の関係を満たすセルロース誘導体を含有することを特徴とする光学補償用塗工膜。 Of the in-plane refractive indexes when the film is thinned, the maximum one is nx , the minimum one is ny , the refractive index in the thickness direction is nz , and the film thickness is d (nm). x + ny ) / 2- nz ] × d ≧ 100, a cellulose derivative satisfying the relationship: セルロース誘導体が、セルロースの水酸基の少なくとも一つが炭素数1〜20のアルコキシ基で置換された化合物であることを特徴とする請求項1記載の光学補償用塗工膜。   2. The coating film for optical compensation according to claim 1, wherein the cellulose derivative is a compound in which at least one hydroxyl group of cellulose is substituted with an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. 下記(A)、(B)を含有して形成される光学補償用塗工膜形成用塗工液。
(A)請求項1又は請求項2記載のセルロース誘導体
(B)(A)成分が可溶な溶媒
A coating solution for forming an optical compensation coating film formed by containing the following (A) and (B).
(A) Cellulose derivative according to claim 1 or claim 2 (B) A solvent in which component (A) is soluble
請求項3記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工した後、乾燥する光学素子の製造方法。   A method for producing an optical element, wherein the optical compensation coating film-forming coating solution according to claim 3 is coated on a substrate and then dried. 請求項3記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工した後、(B)成分の蒸気にさらして塗工膜をアニーリングし、更に乾燥する光学素子の製造方法。   A method for producing an optical element, comprising: coating a substrate with the coating solution for forming an optical compensation coating film according to claim 3; exposing the coating film to vapor of component (B); and further drying the coating film. 請求項3記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工、乾燥してなる光学素子。   An optical element obtained by applying the coating solution for forming an optical compensation coating film according to claim 3 to a substrate and drying the substrate. 請求項4または請求項5のいずれか1項に記載の製造方法を用いて製造した光学素子。   The optical element manufactured using the manufacturing method of any one of Claim 4 or Claim 5. セルロース誘導体を含有して形成され、面内の屈折率のうち最大のものをnx、最小のものをnyとし、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとした時に、〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100の関係を満たすことを特徴とする光学補償用塗工膜。 When the refractive index in the thickness direction is nz and the film thickness is d, [(n x + n y ) / 2- nz ] × d ≧ 100 is satisfied, A coating film for optical compensation. 面内の屈折率のうち最大のものをnx、最小のものをny、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100の関係を満たすセルロース誘導体を含有して形成した光学補償用塗工膜。 Nx the largest of the refractive index in the plane, the smallest ones ny, and the refractive index in the thickness direction nz, when the film thickness is d, the unstretched film was formed into a film by a solution casting method [(n x + Ny ) / 2- nz ] × d ≧ 100, a coating film for optical compensation formed by containing a cellulose derivative satisfying the relationship. 面内の屈折率のうち最大のものをnx、最小のものをny、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100の関係を満たすセルロース誘導体と、このセルロース誘導体を可溶可能な溶媒からなる光学補償用塗工膜形成用塗工液。 Nx the largest of the refractive index in the plane, the smallest ones ny, and the refractive index in the thickness direction nz, when the film thickness is d, the unstretched film was formed into a film by a solution casting method [(n x + Ny ) / 2- nz ] × d ≧ 100, a coating solution for forming an optical compensation coating film, which comprises a cellulose derivative satisfying the relationship: and a solvent capable of dissolving the cellulose derivative. 面内の屈折率のうち最大のものをnx、最小のものをny、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔(nx+ny)/2−nz〕×d≧100の関係を満たすセルロース誘導体と、このセルロース誘導体を可溶可能な溶媒からなる光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工し、乾燥する光学素子の製造方法。 Nx the largest of the refractive index in the plane, the smallest ones ny, and the refractive index in the thickness direction nz, when the film thickness is d, the unstretched film was formed into a film by a solution casting method [(n x + Ny ) / 2- nz ] × d ≧ 100 and a coating solution for forming an optical compensation coating film comprising a solvent capable of solubilizing the cellulose derivative is applied to the substrate. A method for producing an optical element to be dried. 更に、前記セルロース誘導体を可溶可能な溶媒の蒸気にさらしてアニーリングする工程を含んでいることを特徴とする請求項11に記載の光学素子の製造方法。   The method for producing an optical element according to claim 11, further comprising an annealing step of exposing the cellulose derivative to a vapor of a soluble solvent.
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