JP2007148242A - 合焦制御装置、および撮像装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】高速かつ高精度の合焦制御を実現すること、バックラッシュの問題の発生を防止すること、及び合焦フィーリングを向上させることが可能な技術を提供する。
【解決手段】まず、位相差方式の合焦検出を行うための第1合焦面の光学的な位置と、コントラスト方式の合焦検出を行うための第2合焦面の光学的な位置とを相対的に異なる位置に設定する。そして、位相差方式のAF制御の開始後に、コントラスト方式のAF制御を開始することで、位相差方式のAF制御による合焦状態の実現前に、コントラスト方式のAF制御によってフォーカスレンズのレンズ合焦位置を検出する。
【選択図】図10
【解決手段】まず、位相差方式の合焦検出を行うための第1合焦面の光学的な位置と、コントラスト方式の合焦検出を行うための第2合焦面の光学的な位置とを相対的に異なる位置に設定する。そして、位相差方式のAF制御の開始後に、コントラスト方式のAF制御を開始することで、位相差方式のAF制御による合焦状態の実現前に、コントラスト方式のAF制御によってフォーカスレンズのレンズ合焦位置を検出する。
【選択図】図10
Description
本発明は、撮像装置における合焦制御技術に関する。
従来、銀塩カメラ等の撮像装置で実施されるオートフォーカス(AF)制御としては、いわゆる位相差方式を採用したものが多かった。しかし、この位相差方式のAF制御は、特に小さなFナンバーでの撮影においては、精度が良くないことが知られている。
一方、近年では、デジタルカメラの登場とともに、いわゆるコントラスト方式(山登り方式)のAF制御が採用された撮像装置が広く普及している。一般にコントラスト方式の方がAF精度は高い。しかし、コントラスト方式のAF制御では、フォーカスレンズを移動させつつ一旦合焦状態が実現されるレンズ位置(レンズ合焦位置)を通過させてレンズ合焦位置を検出する必要性があるため、合焦速度が高速でない。
そこで、位相差方式およびコントラスト方式の双方のAF制御を行う電子カメラが提案されている(例えば、特許文献1)。
しかしながら、上記特許文献1で提案された技術では、位相差方式とコントラスト方式とにおいて合焦面の光学的な位置が相互に同一であるため、位相差方式のAF制御によってフォーカスレンズをレンズ合焦位置近傍まで移動させた後に、コントラスト方式のAF制御によってフォーカスレンズを精度良くレンズ合焦位置に合わせる必要性がある。つまり、位相差方式のAF制御が終了した後に、フォーカスレンズを移動させつつ一旦レンズ合焦位置を通過させるコントラスト方式のAF制御特有の動作を行う必要性があるため、合焦速度がそれほど高速にはならないといった問題が残る。
また、カメラ本体側からのギア制御によってフォーカスレンズを移動させる一般的な構成では、ギアの遊び等に起因して、フォーカスレンズを逆向きに精度良く移動させることができないいわゆるバックラッシュの問題が発生する。
更に、コントラスト方式のAF制御によって、フォーカスレンズを前後に行ったり来たりさせると、ファインダを介して目視している被写体が、ぼけた状態から合焦状態を通り過ぎて、またぼけた状態となったりするため、AF制御における感覚(いわゆる合焦フィーリング)が悪い。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、本発明の第1の目的は、高速かつ高精度の合焦制御を実現することができる技術を提供することである。
また、本発明の第2の目的は、バックラッシュの問題の発生を防止する技術を提供することである。
更に、本発明の第3の目的は、合焦フィーリングを向上させる技術を提供することである。
上記の課題を解決するために、請求項1の発明は、撮像装置の合焦制御を行う合焦制御装置であって、位相差方式を用いた第1の合焦検出手段と、前記第1の合焦検出手段に係る第1の合焦面とは相対的に異なる光学的な位置に第2の合焦面を有するコントラスト方式を用いた第2の合焦検出手段と、被写体からの光を、前記第1及び第2の合焦検出手段に対してそれぞれ導く第1及び第2の光路に分割する光分割手段と、前記第1の合焦検出手段を用いた合焦制御の開始後に、前記第2の合焦検出手段を用いた合焦制御を開始するタイミング制御手段とを備えることを特徴とする。
また、請求項2の発明は、請求項1に記載の合焦制御装置であって、前記第1及び第2の合焦面の光学的な位置を相互に異なる位置に設定する位置設定手段と、前記被写体からの光の光軸方向に沿ってフォーカスレンズの位置を前記被写体の合焦状態を実現するレンズ合焦位置に移動させるレンズ位置制御手段とを備え、前記位置設定手段が、前記第1の合焦検出手段による検出結果に応じて、前記フォーカスレンズの位置を移動させつつ前記被写体の合焦状態を実現する際に前記第1の合焦面よりも早期に前記第2の合焦面において前記被写体の合焦状態が実現されるように、前記第1及び第2の合焦面の光学的な位置を相互に異なる位置に設定することを特徴とする。
また、請求項3の発明は、請求項1または請求項2に記載された合焦制御装置が搭載されたことを特徴とする撮像装置である。
また、請求項4の発明は、請求項2に記載された合焦制御装置が搭載された撮像装置であって、前記撮像装置が、一眼レフ方式の撮像装置であるとともに、前記被写体からの光をファインダー光学系に導くハーフミラーを含む第1のミラーと、前記被写体からの光のうちの前記第1のミラーを透過した第1の透過光を前記第1の合焦検出手段に導く第2のミラーと、前記被写体からの光のうちの前記第2のミラーを透過した第2の透過光を受け付けることで画像信号を得る撮像素子とを備え、前記撮像素子が、前記第2の合焦検出手段であり、前記位置設定手段が、前記撮像素子を前記第2の透過光の光軸に沿って所定の基準位置から移動させることで、前記第1及び第2の合焦面の光学的な位置を相互に異なる位置に設定することを特徴とする。
また、請求項5の発明は、請求項4に記載の撮像装置であって、前記第1及び第2のミラーのうちの前記第2のミラーのみが、前記被写体からの光の光路上から退避することを特徴とする。
また、請求項6の発明は、請求項4または請求項5に記載の撮像装置であって、前記第1のミラーが、ペリクルミラーを含むことを特徴とする。
また、請求項7の発明は、請求項4から請求項6のいずれかに記載の撮像装置であって、前記第2の透過光の光路上に、正のパワーを有する光学素子を更に備えることを特徴とする。
また、請求項8の発明は、請求項4から請求項7のいずれかに記載の撮像装置であって、前記位置設定手段が、前記第2の合焦検出手段による前記レンズ合焦位置の検出に応答して、前記撮像素子を前記所定の基準位置に戻すことを特徴とする。
また、請求項9の発明は、請求項3に記載の撮像装置であって、前記撮像装置が、一眼レフ方式の撮像装置であるとともに、前記被写体からの光をファインダー光学系に導くハーフミラーを含む第1のミラーと、前記被写体からの光のうちの前記第1のミラーを透過した透過光を前記第1の合焦検出手段に導く第2のミラーとを備え、前記光分割手段が、前記被写体からの光のうちの前記第2のミラーにおける反射光を前記第1及び第2の合焦検出手段に対してそれぞれ導く前記第1及び第2の光路に分割し、前記位置設定手段が、前記第1及び第2の光路のうちの少なくとも一方の光学的な光路長を変更することで、前記第1及び第2の合焦面の光学的な位置を相互に異なる位置に設定することを特徴とする。
請求項1に記載の発明によれば、位相差方式及びコントラスト方式の合焦検出に係る合焦面の光学的な位置を相互に異ならせ、位相差方式の合焦制御の開始後に、コントラスト方式の合焦制御が開始される構成により、同時に2つの合焦制御が行われ、位相差方式の合焦制御による合焦状態の実現前に、コントラスト方式の合焦制御によってフォーカスレンズのレンズ合焦位置を検出することができるため、高速かつ高精度の合焦制御を実現することができる。また、例えば、フォーカスレンズを逆向きに移動させることなく合焦制御を行うことができるため、バックラッシュの問題の発生を防止することができる。更に、例えば、ファインダ等を介して視認される被写体が、ぼけた状態から合焦状態へとスムーズに変化するような合焦制御を行うことができるため、合焦フィーリングを向上させることができる。
請求項2に記載の発明によれば、位相差方式の検出結果に応じて、フォーカスレンズの移動方向が決まり、フォーカスレンズの位置を移動させつつ被写体の合焦状態を実現する際に位相差方式に係る合焦面よりも早期にコントラスト方式に係る合焦面において被写体の合焦状態が実現されるように、位相差方式及びコントラスト方式の合焦検出に係る合焦面の光学的な位置を相互に異ならせる構成を採用することで、フォーカスレンズの初期位置に応じて合焦面を調整することができる。その結果、例えば、フォーカスレンズの初期位置が移動可能な範囲の中間的な位置に設定されている場合には、合焦制御時にフォーカスレンズを移動させる距離が比較的短くて済むため、合焦制御に要する時間を短くすることができる。
請求項3から請求項9のいずれに記載の発明によっても、請求項1または請求項2に記載の発明と同様な効果を得ることができる。
請求項4に記載の発明によれば、画像信号を得るための撮像素子を光軸に沿って所定の基準位置から移動させることで、位相差方式及びコントラスト方式の合焦検出における合焦面の光学的な位置を相互に異ならせるような構成により、コントラストを検出する部材と撮像素子とを共用することができるため、製造コストを低減することができる。
請求項5に記載の発明によれば、被写体からの光をファインダー光学系に導くハーフミラーを含む第1のミラー、及び第1のミラーを透過した透過光を位相差方式の合焦検出手段に導く第2のミラーのうち、第2のミラーのみが光路上から退避可能に構成されていることで、ファインダー像が確認可能でありながら、コントラスト方式の合焦制御によって撮影範囲のより広い領域に存在する被写体に対して合焦させることができる。
請求項6に記載の発明によれば、被写体からの光をファインダー光学系に導くハーフミラーを含む第1のミラーがペリクルミラーを備えて構成されることで、第1のミラーによって生じる焦点位置のズレ量を抑制することができる。その結果、当該ズレ量を補正するための撮像素子の移動量が少なくても済むため、構成の簡素化に資する。
請求項7に記載の発明によれば、第2のミラーを透過した透過光の光路上に正のパワーを有する光学素子を設けることで、ミラーによって生じる焦点位置のズレ量を見込んで撮像素子を余計に移動させる必要性がなくなるため、撮像素子を移動させる構成を簡略化することができる。
請求項9に記載の発明によれば、第2のミラーの反射光を2つの光路に分割して、位相差方式及びコントラスト方式の合焦面にそれぞれ導くように設定し、上記2つの光路のうちの少なくとも一方の光学的な光路長を変更することで、位相差方式及びコントラスト方式の合焦検出における合焦面の光学的な位置を相互に異ならせるような構成により、簡単な構成によって2つの合焦面の光学的な位置を異ならせることができる。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
<第1実施形態>
<撮像装置の概要>
図1は、本発明の第1実施形態に係る撮像装置1の概略構成を示す断面模式図である。
<撮像装置の概要>
図1は、本発明の第1実施形態に係る撮像装置1の概略構成を示す断面模式図である。
図1に示すように、撮像装置1は、いわゆる一眼レフ方式のデジタルカメラとして構成され、被写体からの光を撮影レンズユニット2を介して撮像装置本体300に導くことで、被写体に係る撮影画像を得ることができる。撮像装置本体300には、撮像装置1においてオートフォーカス(AF)制御を行うためのユニット(AF制御ユニット)100が搭載されている。また、撮影レンズユニット2には、撮影レンズユニット2の光軸L上において、AF制御を実現するためのレンズ(フォーカスレンズ)を含む複数の撮影レンズからなるレンズ群が配設される。
図2は、撮像装置1の構成うちのAF制御ユニット100に係る構成に着目した模式図である。
AF制御ユニット100は、主に、主ミラー10、サブミラー20、シャッター機構4、撮像素子であるC−MOSセンサ(以下「C−MOS」と略する)5、及び位相差AFモジュール3を備えて構成される。
主ミラー10は、ハーフミラーにより構成され、被写体からの光の一部を撮像装置本体300の上部に向けて反射することで反射光(以下「第1反射光」とも称する)をファインダー光学系に導く。具体的には、主ミラー10は、被写体からの光を反射することで、ファインダー焦点板6に被写体像を投影する。この被写体像はペンタプリズム7によって正立像化され、接眼レンズ8を介してユーザーが被写体像の状況を確認することができる。また、主ミラー10は、サブミラー20に向けて被写体からの光の一部を透過させる。
サブミラー20は、ハーフミラーにより構成され、被写体からの光のうち、主ミラー10を透過した光(以下「第1透過光」とも称する)を撮像装置本体300の下部に向けて反射することで、位相差AFモジュール3に導く。その一方で、サブミラー20は、C−MOS5に向けて第1透過光の一部を透過させる。つまり、サブミラー20は、被写体からの光を位相差AFモジュール3とC−MOS5とにそれぞれ導く2つの光路に分割する(分岐させる)。
位相差AFモジュール3は、位相差方式を用いた合焦検出を行うユニットである。位相差AFモジュール3は、コンデンサーレンズ3a、ミラー3b、セパレータレンズ3c、及び位相差検出用素子3dを備える。
コンデンサーレンズ3aは、サブミラー20によって反射された光(以下「第2反射光」とも称する)を位相差AFモジュール3内部に導く。ミラー3bは、第2反射光をセパレータレンズ3c側に向けて屈曲させる。セパレータレンズ3cは、位相差の検出を行う為の瞳分割用のレンズであり、第2反射光を瞳分割して、位相差検出用素子3dに投影させる。
図3から図5は、位相差方式の合焦制御の原理を説明するための図である。位相差方式の合焦制御では、図3から図5に示すように、合焦させたい被写体の表面(被写体面)PPから発せられた光FFを、撮影レンズユニット2、コンデンサーレンズ3a、及びセパレータレンズ3cを介して、位相差検出用素子3dに導く。このとき位相差検出用素子3dで検出される2つの被写体像の位相差、すなわち像間隔の変位量を測定してデフォーカス量を求める。ここでは、後述する撮像ホーム位置に設定されたC−MOS5の撮像面と等価な面(以下「撮像等価面」とも称する)FPで合焦するようにデフォーカス量が求められる。つまり、撮像等価面FPは、位相差方式のAF制御(位相差AF制御)によって合焦状態の被写体像が結像される面(以下「第1合焦面」とも称する)として構成される。
なお、例えば、図3に示すように被写体に対して合焦している場合には、像間隔が位相差AFモジュール3の設計時に決まる所定値であるが、図4に示すように前ピンなら像間隔が狭くなり、図5に示すように後ピンであれば像間隔が広くなる。
シャッター機構4は、サブミラー20を透過した光(以下「第2透過光」とも称する)の光路を開放/遮断することが可能であり、光路を開放することで、第2透過光をC−MOS5上に照射させ、被写体像をC−MOS5上に投影させる。
C−MOS5は、被写体からの光のうちの第2透過光を受け付けることで画像信号を得る。C−MOS5によって得られる画像信号は、記録用の撮影画像データを生成するために使用される一方、記録用の撮影画像データを取得する動作(本撮影動作)前に、いわゆるコントラスト方式のAF制御(コントラストAF制御)を行うためにも使用される。C−MOS5の受光面(撮像面)は、コントラストAF制御によって合焦状態の被写体像が結像される面(以下「第2合焦面」とも称する)として構成される。
また、C−MOS5は、撮像装置本体300に対して移動可能に保持されているため、第2透過光の光軸Lに沿って前後に移動可能である。このC−MOS5の前後移動により、第1合焦面の光学的な位置に対して第2合焦面の光学的な位置が相互に異なる位置へと設定される。
なお、ここで言う「光学的な位置が相互に異なる」とは、第1合焦面において被写体像が合焦状態となるときに、第2合焦面において被写体像が合焦状態にはならないことを示しており、更に、第2合焦面において被写体像が合焦状態となるときに、第1合焦面において被写体像が合焦状態にはならないことを示している。
<撮像装置の機能構成>
図6は、本発明の第1実施形態に係る撮像装置1の機能構成を例示するブロック図である。
図6は、本発明の第1実施形態に係る撮像装置1の機能構成を例示するブロック図である。
図6に示すように、撮像装置1は、撮影レンズユニット2、位相差AFモジュール3、C−MOS5、ミラー機構10a、サブミラー機構20a、制御部101、レンズ位置検出部201、操作部OP、C−MOS移動制御部150、フォーカス制御部130、及び信号処理回路500等を備える。
撮影レンズユニット2は、C−MOS5で取得される画像信号において被写体が合焦状態となるような合焦状態を実現するためのフォーカスレンズ2a等を備える。フォーカスレンズ2aは、レンズの光軸に沿って前後に移動可能であり、フォーカス制御部130からの制御信号に応答してモータM1が駆動することで、フォーカスレンズ2aのレンズ位置が移動される。フォーカス制御部130は、制御部101から入力される制御信号に基づいて制御信号を生成する。また、フォーカスレンズ2aの位置は、レンズ位置検出部201によって検出され、フォーカスレンズ2aの位置を示すデータが制御部101に送られる。
ミラー機構10aは、被写体からの光の経路(光路)から退避可能な主ミラー10を含む機構であり、ミラー制御部110からの制御信号に応答してモータM2が駆動することで、主ミラー10が光路から退避した状態(ミラーアップ状態)または光路を遮断した状態(ミラーダウン状態)に設定される。ミラー制御部110は、制御部101から入力される制御信号に基づいて制御信号を生成する。
サブミラー機構20aは、被写体からの光の経路から退避可能なサブミラー20を含む機構であり、サブミラー制御部120からの制御信号に応答してモータM5が駆動することで、サブミラー20が光路から退避した状態(ミラーアップ状態)または光路を遮断した状態(ミラーダウン状態)に設定される。サブミラー制御部120は、制御部101から入力される制御信号に基づいて制御信号を生成する。
シャッター機構4は、被写体からの光の経路を遮断/開放可能な機構であり、シャッタ制御部140からの制御信号に応答してモータM3が駆動することで、シャッター機構4が開閉する。シャッタ制御部140は、制御部101から入力される制御信号に基づいて制御信号を生成する。
C−MOS5は、撮像(光電変換)を行い、撮像画像に係る画像信号を生成する。C−MOS5は、タイミング制御回路170から入力される駆動制御信号(蓄積開始信号・蓄積終了信号)に応答して、受光面に結像された被写体像の露光(光電変換による電荷蓄積)を行い、当該被写体像に係る画像信号を生成する。
更に、C−MOS5は、タイミング制御回路170から入力される読出制御信号に応答して、当該画像信号を信号処理部51へ出力する。タイミング制御回路170は、制御部101から入力される制御信号に基づいて各種制御信号を生成する。また、タイミング制御回路170からのタイミング信号(同期信号)は、信号処理部51及びA/D変換回路52に入力される。
また、C−MOS5は、C−MOS駆動機構5aによって被写体からの光の光軸に沿って前後に移動する。C−MOS駆動機構5aは、C−MOS移動制御部150からの制御信号に応答してモータM4が駆動することで、C−MOS5を、被写体からの光の光軸に沿って前後に移動する。C−MOS移動制御部150は、制御部101から入力される制御信号に基づいて制御信号を生成する。
信号処理部51は、C−MOS5から与えられる画像信号に所定のアナログ信号処理を行い、処理後の画像信号はA/D変換回路52によってデジタル画像データ(画像データ)に変換される。この画像データは、信号処理回路500に入力されるとともに、コントラストAF制御のために制御部101に対しても適時与えられる。
信号処理回路500は、A/D変換回路52から入力される画像データに対してデジタル信号処理を行い、撮像画像に係る画像データを生成する。信号処理回路500における信号処理は、画像信号を構成する画素信号ごとに行われる。信号処理回路500は、黒レベル補正回路53、ホワイトバランス(WB)回路54、γ補正回路55及び画像メモリ56を備える。これらの構成のうち、黒レベル補正回路53、ホワイトバランス(WB)回路54およびγ補正回路55は、デジタル信号処理を行う。
黒レベル補正回路53は、A/D変換回路52が出力した画像データを構成する各画素データの黒レベルを基準の黒レベルに補正する。WB回路54は、画像のホワイトバランス調整を行う。γ補正回路55は、撮像画像の階調変換を行う。画像メモリ56は、生成された画像データを一時的に記憶するための、高速アクセス可能な画像メモリであり、複数フレーム分の画像データを記憶可能な容量を有する。
制御部101は、主にCPU、メモリ、及びROM等を備えて構成され、ROM内に格納されるプログラムを読み出してCPUで実行することで、各種機能や制御が実現される。具体的には、制御部101は、コントラストAF制御を実行するための機能として、コントラストAF制御部105を有し、位相差AF制御を実行するための機能として、位相差AF制御部106を有し、AF制御全体を統括制御する機能として、AF全体制御部107を有している。
コントラストAF制御部105は、コントラストAF制御を行う際に、A/D変換回路52から、画像データの一部の領域(AFエリア)に係る画像データを取得する。そして、コントラストAF制御部105は、隣接画素間のコントラストの総和であるAF評価値を算出し、AF評価値が最大となるフォーカスレンズ2aのレンズ位置を被写体の合焦状態が実現される位置(レンズ合焦位置)として求める。また、コントラストAF制御部105は、求められたレンズ合焦位置に応じた制御信号をフォーカス制御部130に対して出力し、フォーカスレンズ2aをレンズ合焦位置へ移動させる。
位相差AF制御部106は、位相差AF制御を行う際に、位相差AFモジュール3における検出結果に基づいて、フォーカスレンズ2aのレンズ合焦位置を検出する。そして、位相差AF制御部106は、位相差AF制御を行う際には、求められたレンズ合焦位置に応じた制御信号をフォーカス制御部130に対して出力し、フォーカスレンズ2aをレンズ合焦位置へ移動させる。
AF全体制御部107は、コントラストAF制御及び位相差AF制御を適宜実行させる。
操作部OPは、シャッタースタートボタン(シャッターボタン)や各種ボタンやスイッチ等を備えて構成され、操作部OPに対するユーザーの入力操作に応答して、制御部101が各種動作を実現する。なお、シャッターボタンは、半押し状態(S1状態)と全押し状態(S2状態)の2つの状態を検出可能な2段階検出ボタンである。なお、撮像装置1では、S1状態となると、AF制御を含む本撮影動作のための準備動作が行われ、更にS2状態となると、本撮影動作が行われる。
画像メモリ56に一時記憶される画像データは、制御部101によって適宜VRAM102に転送されることで、撮像装置本体300の背面に配置される液晶表示部(LCD)103に画像データに基づく画像が表示される。
また、本撮影時には、画像メモリ56に一時記憶される画像データは、制御部101において適宜画像処理が施され、カードI/F104を介してメモリカードMCに記憶される。
<撮像装置の動作>
図7から図9は、撮像装置1における撮影動作フローを例示するフローチャートである。本動作フローは、制御部101の制御によって実現される。また、図10及び図11は、撮像装置1におけるAF制御のタイミングチャートを例示する図である。
図7から図9は、撮像装置1における撮影動作フローを例示するフローチャートである。本動作フローは、制御部101の制御によって実現される。また、図10及び図11は、撮像装置1におけるAF制御のタイミングチャートを例示する図である。
図10及び図11では、横軸が状態S1となってからの時間経過を示している。そして、図10では、上から順に、モータM1のモータ回転数、モータM1に入力されるパルス数(PI数)、フォーカスレンズ2aの移動速度に対応する像面移動速度、AFマイコンの起動、位相差AFの測距、及びC−MOS5の駆動のタイミングが示されている。更に、図10の下方には、コントラストAF制御においてAF評価値を求めるためのC−MOS5における露光タイミング、及びフォーカスレンズ2aの位置とAF評価値との関係が示されている。
また、図11では、フォーカスレンズ2aの位置(すなわち移動)を示す折れ線LL、及びC−MOS5の撮像面(すなわち第2合焦面)の位置(すなわち移動)を示す折れ線LSが示されている。なお、図11の縦軸方向については、折れ線LLの位置に対応した数値は省略されているが、折れ線LSの位置に対応した数値(500μm等)が付されている。更に、図11では、折れ線LLに対して、AF評価値を求めるための露光タイミングに対応するレンズ位置を示すマーク(短い縦長の線分)が付されているとともに、図9の処理ステップに対応する部分にステップ番号(例えば、ステップS14等)が付されている。
以下、図10及び図11を適宜参照しつつ、撮影動作フローについて説明する。なお、この撮影動作フローが開始される際には、C−MOS5が実際に本撮影動作を行う所定の基準位置(「撮像ホーム位置」とも称する)に設定され、第1及び第2合焦面の光学的な距離が同一に設定されている。
まず、シャッターボタンが半押しされてS1状態となると、撮影動作フローが開始されて、図7のステップS1に進む。
ステップS1では、C−MOS5を起動させる(図10の0〜10ms)。ここでは、C−MOS5に通電し、制御部101からの信号に応じてタイミング制御回路170が制御信号を出力することで、C−MOS5が200fpsの電荷信号の読み出しを開始する。なお、撮像装置1では、光学ファインダーによって被写体を確認することができるため、省電力化のために、S1状態となるとC−MOS5が起動される。
ステップS2では、コントラストAF制御を行うために、シャッター機構4が開放される。なお、S1状態となる前、すなわち待機状態では、シャッター機構4が閉じられた状態にある。
このステップS1〜S2の処理中に、AFマイコンすなわち制御部101の機能としてのコントラストAF制御部105、位相差AF制御部106、及びAF全体制御部107が起動する(図10の0〜50ms)。
ステップS3では、位相差AFモジュール3及び位相差AF制御部106によって位相差AF制御による測距を行う(図10の50〜100ms)。
ステップS4では、AF全体制御部107により、ステップS3における測距の結果に基づいて、現在のフォーカスレンズ2aの位置とレンズ合焦位置とのズレ量を判定する。ここで、ズレ量の絶対値が第1の所定値(例えば、30μm)未満である場合には、既に被写体の合焦状態が実現されていると判断して、図8のステップS21に進む。つまり、AF制御を実施することなく、本撮影動作に移行する。また、ズレ量の絶対値が第2の所定値(例えば、1000μm)以上の場合には、ズレ量が十分であるとして、そのまま図8のステップS11に進む。更に、ズレ量の絶対値が第1の所定値以上、第2の所定値未満である場合には、ズレ量が不十分であるとして、ステップS5に進む。
ステップS5では、AF全体制御部107の制御下で、フォーカス制御部130からの制御信号に基づいてモータM1が駆動することで、フォーカスレンズ2aが退避駆動を行う。ここでは、ズレ量が不十分であると、後述する第2合焦面の移動によって、コントラストAF制御におけるAF評価値のピークを過ぎてしまうといった不具合を防ぐために、十分なズレ量を確保するようにフォーカスレンズ2aのレンズ位置を移動させる退避駆動を行う。なお、この退避駆動では、例えば、フォーカスレンズ2aの移動可能な範囲の一端までフォーカスレンズ2aを移動させる。
ステップS11では、ステップS3における測距の結果に基づいて、C−MOS5を遠側(繰り出し側)又は近側(繰り入れ側)に移動させる動作を開始する(図10の90ms)。ここでは、位相差AFモジュール3による検出結果である測距値に応じて、撮像装置1を基準として、現在のフォーカス位置(ピントが合っている場所)よりも被写体が遠側にあれば、C−MOS5を被写体から遠ざかる方向に移動させる。一方、現在のフォーカス位置(ピントが合っている場所)よりも被写体が近側にあれば、C−MOS5を被写体に近づける方向に移動させる。なお、C−MOS5の移動は、例えば、20〜30mm/sec程度の速度で行われる。
ステップS12では、ステップS11において開始されたC−MOS5の移動が終了したか否か判定する。ここでは、所定距離(例えば、500μm)だけC−MOS5が移動するまでステップS12の判定を繰り返し、所定距離だけC−MOS5が移動するとC−MOS5の移動を終了させる(図10及び図11の90〜100ms)。なお、所定距離は、撮像装置1の光学的な設計によって適宜設定される。また、撮影レンズユニット2のレンズ焦点距離(レンズ焦点距離が長い方が所定距離は長い)や、フォーカスレンズ2aの移動比(フォーカスモーターM1の回転数に対してフォーカスレンズ2aの移動量が長い場合は、所定距離は長い)によって適宜設定される。
このように、ステップS11〜S12においては、第1合焦面に対して第2合焦面の光学的な位置が相対的に異なる位置に移動される。具体的には、位相差AFモジュール3による検出結果に応じて、第1及び第2合焦面の光学的な位置が同一に設定されている状態から、フォーカスレンズ2aの位置を移動させつつAF制御を行う際に第1合焦面よりも早期に第2合焦面において被写体の合焦状態が実現される状態に変更される。つまり、位相差AF制御による合焦点到達よりも先にコントラストAF制御によって被写体の合焦状態が検出されるように設定される。
ステップS13では、モータM1を立ち上げ、フォーカスレンズ2aの移動を開始する(図10の100〜130ms)。このフォーカスレンズ2aの移動は、位相差AF制御に従ったものである。
ステップS14では、AF全体制御部107の制御下で、コントラストAF制御を開始し、200fpsのタイミングでAF評価値を取得する動作を開始する(図10及び図11の145ms)。ここでは、像面移動速度が110μm/10msとある程度遅くなった時点で、AF評価値の取得する動作を行う。なお、このコントラストAF制御は、例えば、絞りを開放状態として実行される。
ステップS15では、コントラストAF制御部105においてAF評価値のピークが見つかったか否か判定する。ここで、AF評価値のピークが見つかればステップS16に進み、AF評価値のピークが見つかっていなければステップS19に進む(図10及び図11の145〜200ms)。なお、図10及び図11では、一例としてAF評価値のピークが見つかる場合について示している。
ステップS16では、フォーカスレンズ2aのレンズ合焦位置を求める(図11の200ms)。
ここでは、まず、図10に示すように、AF評価値が増加後、減少し始めたら、AF評価値の最大値Ynとその前後のAF評価値Yn−1、Yn+1の3点のデータを用いて、下式(1)に示す2次補間近似計算によりAF評価値がピークとなるフォーカスレンズ2aのレンズ合焦位置Pを算出する。
なお、このような計算によってレンズ合焦位置Pが算出されるタイミングとしては、C−MOS5からの電荷信号の読み出し、AF評価値の算出、及び上式(1)に沿った計算にある程度時間を要するため、図10に示すように、AF評価値の最大値Ynに係る露光タイミングを過ぎて、AF評価値が連続して4回減少する電荷信号が得られる露光タイミングとなる。
上記のようにして求められたレンズ合焦位置Pは、C−MOS5を所定距離だけずらした、すなわち所定距離だけずれた撮像面に対するレンズ合焦位置である。このため、レンズ合焦位置Pに所定距離(例えば500μm)の像面差を考慮した値を、実際に本撮影動作を行う撮像ホーム位置に対するレンズ合焦位置Qとして求める。
このようにして、位相差AF制御によるフォーカスレンズ2aの移動が終了する前に、レンズ合焦位置Qを求めることができる。
ステップS17では、C−MOS5が撮像ホーム位置へ戻るように移動する(図10及び図11の210〜220ms)。
ステップS18では、レンズ合焦位置Qでフォーカスレンズ2aの移動を停止する(図10及び図11の235ms)。
ステップS19では、位相差AF制御が終了したか否かを判定する。ここで、位相差AF制御が終了していなければ、ステップS15に戻り、位相差AF制御が終了していれば、ステップS20に進む。なお、ステップS19からステップS20に進む場合には、位相差AF制御の終了とともに、フォーカスレンズ2aの移動も停止する。
ステップS20では、シャッター機構4を閉じる。
ステップS21では、C−MOS5に蓄積された電荷を排出することでリセットする。
ステップS22では、S1状態が解除されたか否か判定する。ここでは、例えば、ユーザーが操作部OPを操作することでS1状態が解除されると、本動作フローを終了し、S1状態が解除されなければ、図9のステップS31に進む。
ステップS31では、S2状態になったか否かを判定する。ここでは、S2状態となるまで、ステップS23及びステップS31の判定を繰り返しつつ、待機する。そして、S2状態となると、本撮影動作の指示がなされたものとして、ステップS32に進む。
ステップS32では、主ミラー10及びサブミラー20がミラーアップ状態となるとともに、シャッター機構4が開かれた状態となる。
ステップS33では、C−MOS5において、撮像すなわち本撮影動作の露光が行われる。
ステップS34では、シャッター機構4が閉じられた状態となる。
ステップS35では、主ミラー10及びサブミラー20がミラーダウン状態となるとともに、C−MOS5から電荷信号が読み出されて、画像データがメモリカードMCに記憶されるチャージ駆動を行い、本動作フローを終了する。
以上のように、第1実施形態に係る撮像装置1では、まず、位相差方式及びコントラスト方式の合焦検出に係る第1及び第2合焦面の光学的な位置を相互に異ならせる。そして、位相差AF制御の開始後に、コントラストAF制御が開始される。このような構成により、位相差AF制御による合焦状態の実現前に、コントラストAF制御によってフォーカスレンズ2aのレンズ合焦位置Qを検出することができる。したがって、予め求められたレンズ合焦位置Qにフォーカスレンズ2aを停止するだけで良いため、従来のように、位相差AF制御の終了後に、コントラストAF制御を行うなどといった非効率的なAF制御の切り替えが不要となる。しかも、フォーカスレンズ2aを移動させつつ一旦レンズ合焦位置を通過させる従来のコントラストAF制御特有の動作を省略することができるため、高速かつ高精度のAF制御を実現することができる。
また、図11で示したように、AF制御において、フォーカスレンズ2aを一方向に移動させるのみで、逆向きに移動させる動作(レンズ戻り動作)を省略することができるため、バックラッシュの問題の発生を防止することができる。更に、ファインダ等を介して視認される被写体がぼけた状態から合焦状態へと1回変更されるとAF制御が終了する。このため、ファインダ越しの被写体が合焦へとスムーズに変化するため、合焦フィーリングを向上させることができる。
また、位相差AF制御による検出結果に応じて、フォーカスレンズ2aの位置を移動させつつ被写体の合焦状態を実現する際に第1合焦面よりも早期に第2合焦面において被写体の合焦状態が実現されるように、第1及び第2合焦面の光学的な位置を相互に異ならせる。このような構成を採用することで、フォーカスレンズ2aの初期位置に応じて第1及び第2合焦面の光学的な位置関係を調整することができる。その結果、例えば、フォーカスレンズ2aの初期位置が移動可能な範囲の中間的な位置に設定されている場合には、移動可能な範囲の一端からフォーカスレンズ2aを移動させていく場合と比較して、AF制御時にフォーカスレンズ2aを移動させる距離が比較的短くて済む。このため、AF制御に要する時間を短くすることができる。
また、画像信号を得るためのC−MOS5を光軸に沿って所定の基準位置から移動させることで、第1及び第2合焦面の光学的な位置を相互に異ならせる構成を採用する。このように、コントラストを検出する部材と撮像素子とを共用することで、撮像装置1の製造コストを低減することができる。
<第2実施形態>
図12は、本発明の第2実施形態に係る撮像装置1Aに含まれるAF制御ユニット100Aに係る構成を模式的に例示する図である。
図12は、本発明の第2実施形態に係る撮像装置1Aに含まれるAF制御ユニット100Aに係る構成を模式的に例示する図である。
第1実施形態に係る撮像装置1では、主ミラー10がハーフミラーを備えて構成されたが、図12に示すように、第2実施形態に係る撮像装置1Aでは、当該ハーフミラーとしてペリクルミラーを採用した主ミラー10Aを用いている。
ペリクルミラーは、厚みが一般的なハーフミラーと比べて非常に薄い(例えば100μm程度)ことが特徴である。このペリクルミラーは、極薄であるため、ミラーアップ駆動に適さない。よって、撮像装置1Aでは、本撮影時に、主ミラー10Aはミラーアップせず、サブミラー20Aが被写体からの光の光路上から下方に退避するように構成されている。
なお、その他の構成は、第1実施形態に係る撮像装置1と同様であり、機能及び動作等については、主ミラー10及びサブミラー20の双方が光路に対して退避状態/遮断状態となる代わりに、サブミラー20Aのみが光路に対して退避状態/遮断状態となる点が異なるだけで、その他の機能及び動作等についてはほぼ同様であるため、説明を省略する。
以下、主ミラー10Aのハーフミラーにペリクルミラーを採用する利点について説明する。
第1実施形態に係る撮像装置1では、一般的なハーフミラーの屈折率Ndが約1.5であり、主ミラー10とサブミラー20の厚みをそれぞれa、bとすると、ミラーアップ状態とミラーダウン状態とで約0.5(a+b)だけ焦点位置がユーザー側(図2では右側)にずれてしまう。
そして、位相差AF制御とコントラストAF制御とを併用する場合には、フォーカスレンズ2aの位置を移動させつつ被写体の合焦状態を実現する際に第1合焦面よりも早期に第2合焦面において被写体の合焦状態が実現されるように、第1及び第2合焦面の光学的な位置を相互に異ならせる必要がある。よって、このとき、ハーフミラーによる焦点位置のずれ(約0.5(a+b))を見込んで、C−MOS5を撮像ホーム位置から光軸Lに沿って余計に移動させなければならない。
このような問題点に対して、極薄のペリクルミラーを用いることで、ハーフミラーによる焦点位置のずれを約0.5bまで抑制することができる。つまり、主ミラー10によって生じる焦点位置のズレ量を抑制することができる。その結果、当該ズレ量を補正するためのC−MOS5の移動量が少なくて済むため、C−MOS5を移動させるための構成を簡素化することができる。
<第3実施形態>
図13は、本発明の第3実施形態に係る撮像装置1Bに含まれるAF制御ユニット100Bに係る構成を模式的に例示する図である。
図13は、本発明の第3実施形態に係る撮像装置1Bに含まれるAF制御ユニット100Bに係る構成を模式的に例示する図である。
第1実施形態に係る撮像装置1では、上述したように、主ミラー10とサブミラー20の厚みa,bにより、ミラーアップ状態とミラーダウン状態とで約0.5(a+b)だけ焦点位置がユーザー側(図2では右側)にずれてしまう。そのため、ハーフミラーによる焦点位置のずれ(約0.5(a+b))を考慮して、C−MOS5を撮像ホーム位置から光軸Lに沿って移動させなければならない。
そこで、第3実施形態に係る撮像装置1Bでは、図13に示すように、サブミラー20のC−MOS5側に正のパワーを有するフレネルレンズ21を設けている。なお、その他の構成は、第1実施形態に係る撮像装置1と同様であり、機能及び動作等についてもほぼ同様であるので、説明を省略する。
フレネルレンズ21は、サブミラー20のC−MOS5側に配置されるため、被写体からの光のうちサブミラー20を透過する光(第2透過光)の光路上に設けられており、当該第2透過光の収束度合いを調整する正のパワーを有する光学素子である。また、フレネルレンズ21に対して第2透過光が斜めに入射する為、フレネルレンズ21は、非軸比非球面レンズとして形成されている。なお、フレネルレンズ21は、ミラーアップ及びミラーダウン時には、サブミラー20に付随して移動する。
以下、このフレネルレンズ21を設けたことによる利点について説明する。
図14及び図15は、主ミラー10とサブミラー20による焦点位置FPのずれを説明するための図である。
図14に示すように、例えば、主ミラー10及びサブミラー20を透過した光の焦点位置FPがC−MOS5の撮像面上にある状態で、主ミラー10及びサブミラー20をミラーアップ状態にすると、図15に示すように、焦点位置FPが、C−MOS5の撮像面よりも被写体側にずれてしまう。よって、この焦点位置FPのズレ量を見込んで、コントラストAF制御を行わなければならない。
図16から図18は、フレネルレンズ21による焦点位置のずれの補正を説明するための図である。
図16に示すように、主ミラー10及びサブミラー20がミラーアップ状態である場合に、焦点位置FPがC−MOS5の撮像面上に来るように設定した場合には、単に、ミラーダウン状態にすると、図17に示すように、主ミラー10及びサブミラー20を透過した光の焦点位置FPがユーザー側(図17では右側)にずれてしまう。
そこで、図18に示すように、ミラーダウン状態の場合にも、ミラーアップ状態と同様に、焦点位置FPがC−MOS5の撮像面上に来るように、正のパワーを有するフレネルレンズ21をサブミラー20の背面に設ける。このように、フレネルレンズ21によって、焦点位置に至るまでの光路長を所望の値に調整することができる。
以上のように、第3実施形態に係る撮像装置1Bでは、フレネルレンズ21をサブミラー20の背面に設けることで、ハーフミラーによって生じる焦点位置のズレ量を見込んでC−MOS5を余計に移動させる必要性がなくなる。その結果、C−MOS5を移動させるための構成を簡略化することができる。
<第4実施形態>
図19は、本発明の第4実施形態に係る撮像装置1Cに含まれるAF制御ユニット100Cに係る構成を模式的に例示する図である。
図19は、本発明の第4実施形態に係る撮像装置1Cに含まれるAF制御ユニット100Cに係る構成を模式的に例示する図である。
第1実施形態に係る撮像装置1では、位相差AFモジュール3における検出結果を用いて位相差AF制御を行うとともに、C−MOS5で得られた画像信号に基づきコントラストAF制御を行った。これに対して、第4実施形態に係る撮像装置1Cでは、コントラストAF制御用の画像信号をC−MOS5において得ることなく、コントラストAF制御用の画像信号を取得する撮像素子を位相差AFモジュール3に加えている。
以下、第4実施形態に係る撮像装置1Cについて説明するが、撮像装置1Cでは、第1実施形態に係る撮像装置1と同様な部分が多いため、異なる部分について説明し、同様な部分については同じ符号を付す等して説明を省略する。
図19に示すように、撮像装置1Cでは、第1実施形態に係る位相差AFモジュール3の機能に対して、更にコントラストAF制御用の画像信号を取得するための機能を付加したAFモジュール3Cが設けられている。また、C−MOS5は、コントラストAF制御には用いないため、光軸Lに沿って前後に移動可能には構成されていない。
AFモジュール3Cでは、第1実施形態に係る位相差AFモジュール3のミラー3bが、ハーフミラー3bCとなっており、AFモジュール3Cに入射される光を反射光と透過光の2つの光路に分割する。そして、ハーフミラー3bCで反射した反射光が位相差検出用素子3dに導かれる一方で、ハーフミラー3bCを透過した透過光(第3透過光)が、結像レンズ3eを介して、コントラスト検出用の撮像素子3fに導かれる。
また、結像レンズ3eが所定の基準レンズ位置に設定されている場合には、撮像素子3fによって取得される画像データに係る被写体の合焦状態と、C−MOS5によって取得される画像データに係る被写体の合焦状態とが同様になるように設計されている。つまり、結像レンズ3eが所定の基準レンズ位置に設定されている場合には、C−MOS5の撮像面の光学的な位置と撮像素子3fの撮像面の光学的な位置とが同じになっている。よって、ここでは、撮像素子3fの前面に位置する撮像面が、コントラストAF制御によって合焦状態の被写体像が結像される第2合焦面として構成される。
そして、結像レンズ3eは、第3透過光の光軸に沿って上下に移動可能に構成されており、結像レンズ3eの位置が移動することで、第3透過光の収束度合いが調整され、第3透過光に係る焦点位置が変更される。つまり、結像レンズ3eの移動により、第1合焦面の光学的な位置に対して第2合焦面の光学的な位置が異なる位置へと設定される。
したがって、撮像装置1Cでは、AF制御時に、位相差検出用素子3dによる検出結果に応じて第2合焦面が設定され、フォーカスレンズ2aの位置を移動させつつAF制御を行う際に第1合焦面よりも早期に第2合焦面において被写体の合焦状態が実現される状態に変更される。
以上のように、第4実施形態に係る撮像装置1Cでは、サブミラー20の反射光を2つの光路に分割して、第1及び第2合焦面にそれぞれ導くように設定する。そして、上記2つの光路のうちの一方の焦点位置までの光路長を変更することで、位相差方式及びコントラスト方式の合焦検出における合焦面の光学的な位置を相互に異ならせる。このとき、第2合焦面を設定可能な位置は2点で良い。このような構成により、簡単な構成によって2つの合焦面の光学的な位置を異ならせることができる。
<変形例>
以上、この発明の実施形態について説明したが、この発明は上記説明した内容のものに限定されるものではない。
以上、この発明の実施形態について説明したが、この発明は上記説明した内容のものに限定されるものではない。
◎例えば、上記実施形態では、一眼レフ方式の撮像装置を対象として説明したが、これに限られず、本発明は、一眼レフ方式でない撮像装置、例えば、一般的なデジタルカメラ等にも適用することができる。
図20は、本発明の技術的思想が適用された一般的なデジタルカメラとして構成される撮像装置1Dのうち、AF制御ユニット100Dの構成に着目した模式図である。なお、撮像装置1Dの構成の大部分は、第1実施形態に係る撮像装置1と同様であるため、異なる部分について以下説明し、同様な部分については同じ符号を付す等して説明を省略する。
図20に示すように、撮像装置1Dでは、撮影レンズユニット2を通過する入射光をファインダ光学系に導く必要性がないため、入射光を位相差AFモジュール3側に導く光路と、C−MOS5側に導く光路とに分割する光学素子としてハーフプリズムPZを配置している。
ハーフプリズムPZは、撮影レンズユニット2からの入射光の一部を撮像装置1Dの下部に設けられた位相差AFモジュール3側に反射させる一方、入射光の他の一部をC−MOS5に向けて透過させる。
なお、撮像装置1Dの動作は、ミラーアップやミラーダウンの動作がないだけで、上述した第1実施形態に係る撮像装置1と同様なものとなる。
◎また、上記第1〜4実施形態では、第1合焦面を基準として、第2合焦面の光学的な位置を移動させた。しかしながら、これに限られず、第1及び第2合焦面のうちの少なくとも一方の合焦面の光学的な位置を移動させることで、2つの合焦面の光学的な位置を相対的に異ならせるようにしても、上記実施形態と同様な効果を得ることができる。
◎また、上記第4実施形態では、位相差AF制御による検出結果に応答して、第1合焦面に対して第2合焦面の光学的な位置を相対的に異ならせたが、これに限られず、例えば、予め第2合焦面の光学的な位置を第1合焦面の光学的な位置に対して異ならせておき、第1合焦面よりも早期に第2合焦面において被写体の合焦状態が実現されるような方向からフォーカスレンズ2aの位置を移動させつつAF制御を行うようにしても良い。
例えば、第1合焦面の光学的な位置に対して第2合焦面の光学的な位置をシャッター4側にずらした位置に固定設定しておき、AF制御開始時に、フォーカスレンズ2aを無限遠に合焦するようなレンズ位置から移動させつつ、AF制御を行うようにする。
このような構成とすると、フォーカスレンズ2aを移動させる方向が限られるが、上記第4実施形態と同様に、位相差AF制御の終了後に、コントラストAF制御を行うなどといった非効率的なAF制御の切り替えが不要となる。しかも、フォーカスレンズ2aを移動させつつ一旦レンズ合焦位置を通過させる従来のコントラストAF制御特有の動作を省略することができるため、高速かつ高精度のAF制御を実現することができる。また、AF制御において、フォーカスレンズ2aを一方向に移動させるのみで、逆向きに移動させる動作(レンズ戻り動作)を省略することができるため、バックラッシュの問題の発生を防止することができる。更に、ファインダ等を介して視認される被写体がぼけた状態から合焦状態へと1回変更されるとAF制御が終了する。このとき、ファインダ越しの被写体が合焦へとスムーズに変化するため、合焦フィーリングを向上させることができる。
◎また、上記実施形態では、AF制御時に絞りを開放するものとして説明したが、これに限られず、AF制御時の絞り値を段階的に異なる値に設定可能としても良い。なお、絞り値を変更すると焦点位置がずれる場合には、焦点位置のずれ量を考慮して、第2合焦面の移動距離を調整することで補正するようにすれば良い。
◎また、上記実施形態では、位相差AF制御による合焦検出を複数回行ったが、これに限られず、例えば、AF制御の初期において、第1合焦面の光学的な位置に対して第2合焦面の光学的な位置を異ならせる方向を決定するために、位相差AF制御による合焦検出を1回だけ行うようにしても、上記実施形態と同様な効果を得ることができる。
◎また、上記第2実施形態では、AF制御終了後に、サブミラー20Aを光路上から退避させることで、本撮影を行った。しかしながら、このような構成では、AF制御時に、C−MOS5に照射される被写体からの光のうち、サブミラー20Aを透過する光と透過しない光とで、光量に差が出てしまうため、サブミラー20Aの透過光に基づいてC−MOS5で取得される画像信号しかコントラストAF制御に用いることができないといった制約があった。
これに対して、例えば、AF制御時に、位相差AF制御による合焦検出を1回だけ行った後、サブミラー20Aのみを光路上から退避させて、その後は、コントラストAF制御を行うようにすれば、C−MOS5で得られる画像信号において、サブミラー20Aの存在による光量の減少が生じなくなる。
その結果、低輝度時のAF制御の性能を向上させることができる。また、ファインダー像が確認可能でありながら、コントラストAF制御において、撮影範囲のより広い領域に存在する任意の被写体を対象として、AF制御を行うことが可能となり、多様な構図にも容易に対応することができる。
ところで、撮影レンズユニット2を脱着して、他の撮影レンズユニット2に交換する場合も想定される。そして、従来の撮影レンズユニットでは、近距離に位置する被写体から無限遠に位置する被写体まで合焦させるレンズ位置の範囲内でしかフォーカスレンズ2aを移動させることができない所謂オーバー無限が効かないものが一般的である。しかしながら、このようなオーバー無限の効かない撮影レンズユニットを用いた場合には、無限遠に位置する被写体に合焦させたい際にコントラスト方式のAF制御を用いると、無限遠に位置する被写体に合焦させるべくフォーカスレンズ2aを移動させても、コントラストの上昇は検出できるものの、コントラスト(評価値)のピークを検出することができず、AF制御を適正に行うことができない。このような問題に対して、本発明の実施形態に係る撮像装置1,1A〜1Dを用いると、オーバー無限の効かない撮影レンズユニットを用いた場合であっても、第2合焦面の移動によって、コントラストのピークを検出することが可能となる。したがって、AF制御の性能を確保しつつ、使用可能な撮影レンズユニットの幅も広げることができる。
1,1A〜1D 撮像装置
2 撮影レンズユニット
2a フォーカスレンズ
3 位相差AFモジュール
3bC ハーフミラー
3C AFモジュール
3e 結像レンズ
3f 撮像素子
5 C−MOSセンサ(C−MOS)
5a C−MOS駆動機構
10,10A 主ミラー
10a ミラー機構
20,20A サブミラー
20a サブミラー機構
21 フレネルレンズ
100,100A〜100D AF制御ユニット
101 制御部
105 コントラストAF制御部
106 位相差AF制御部
107 AF全体制御部
110 ミラー制御部
120 サブミラー制御部
130 フォーカス制御部
140 シャッター制御部
150 C−MOS移動制御部
201 レンズ位置検出部
L 光軸
M1〜M5 モータ
PZ ハーフプリズム
2 撮影レンズユニット
2a フォーカスレンズ
3 位相差AFモジュール
3bC ハーフミラー
3C AFモジュール
3e 結像レンズ
3f 撮像素子
5 C−MOSセンサ(C−MOS)
5a C−MOS駆動機構
10,10A 主ミラー
10a ミラー機構
20,20A サブミラー
20a サブミラー機構
21 フレネルレンズ
100,100A〜100D AF制御ユニット
101 制御部
105 コントラストAF制御部
106 位相差AF制御部
107 AF全体制御部
110 ミラー制御部
120 サブミラー制御部
130 フォーカス制御部
140 シャッター制御部
150 C−MOS移動制御部
201 レンズ位置検出部
L 光軸
M1〜M5 モータ
PZ ハーフプリズム
Claims (9)
- 撮像装置の合焦制御を行う合焦制御装置であって、
位相差方式を用いた第1の合焦検出手段と、
前記第1の合焦検出手段に係る第1の合焦面とは相対的に異なる光学的な位置に第2の合焦面を有するコントラスト方式を用いた第2の合焦検出手段と、
被写体からの光を、前記第1及び第2の合焦検出手段に対してそれぞれ導く第1及び第2の光路に分割する光分割手段と、
前記第1の合焦検出手段を用いた合焦制御の開始後に、前記第2の合焦検出手段を用いた合焦制御を開始するタイミング制御手段と、
を備えることを特徴とする合焦制御装置。 - 請求項1に記載の合焦制御装置であって、
前記第1及び第2の合焦面の光学的な位置を相互に異なる位置に設定する位置設定手段と、
前記被写体からの光の光軸方向に沿ってフォーカスレンズの位置を前記被写体の合焦状態を実現するレンズ合焦位置に移動させるレンズ位置制御手段と、
を備え、
前記位置設定手段が、
前記第1の合焦検出手段による検出結果に応じて、前記フォーカスレンズの位置を移動させつつ前記被写体の合焦状態を実現する際に前記第1の合焦面よりも早期に前記第2の合焦面において前記被写体の合焦状態が実現されるように、前記第1及び第2の合焦面の光学的な位置を相互に異なる位置に設定することを特徴とする合焦制御装置。 - 請求項1または請求項2に記載された合焦制御装置が搭載されたことを特徴とする撮像装置。
- 請求項2に記載された合焦制御装置が搭載された撮像装置であって、
前記撮像装置が、
一眼レフ方式の撮像装置であるとともに、
前記被写体からの光をファインダー光学系に導くハーフミラーを含む第1のミラーと、
前記被写体からの光のうちの前記第1のミラーを透過した第1の透過光を前記第1の合焦検出手段に導く第2のミラーと、
前記被写体からの光のうちの前記第2のミラーを透過した第2の透過光を受け付けることで画像信号を得る撮像素子と、
を備え、
前記撮像素子が、
前記第2の合焦検出手段であり、
前記位置設定手段が、
前記撮像素子を前記第2の透過光の光軸に沿って所定の基準位置から移動させることで、前記第1及び第2の合焦面の光学的な位置を相互に異なる位置に設定することを特徴とする撮像装置。 - 請求項4に記載の撮像装置であって、
前記第1及び第2のミラーのうちの前記第2のミラーのみが、
前記被写体からの光の光路上から退避することを特徴とする撮像装置。 - 請求項4または請求項5に記載の撮像装置であって、
前記第1のミラーが、
ペリクルミラーを含むことを特徴とする撮像装置。 - 請求項4から請求項6のいずれかに記載の撮像装置であって、
前記第2の透過光の光路上に、正のパワーを有する光学素子、
を更に備えることを特徴とする撮像装置。 - 請求項4から請求項7のいずれかに記載の撮像装置であって、
前記位置設定手段が、
前記第2の合焦検出手段による前記レンズ合焦位置の検出に応答して、前記撮像素子を前記所定の基準位置に戻すことを特徴とする撮像装置。 - 請求項3に記載の撮像装置であって、
前記撮像装置が、
一眼レフ方式の撮像装置であるとともに、
前記被写体からの光をファインダー光学系に導くハーフミラーを含む第1のミラーと、
前記被写体からの光のうちの前記第1のミラーを透過した透過光を前記第1の合焦検出手段に導く第2のミラーと、
を備え、
前記光分割手段が、
前記被写体からの光のうちの前記第2のミラーにおける反射光を前記第1及び第2の合焦検出手段に対してそれぞれ導く前記第1及び第2の光路に分割し、
前記位置設定手段が、
前記第1及び第2の光路のうちの少なくとも一方の光学的な光路長を変更することで、前記第1及び第2の合焦面の光学的な位置を相互に異なる位置に設定することを特徴とする撮像装置。
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