JP2007145939A - Resin composition and resin-sealed semiconductor device - Google Patents

Resin composition and resin-sealed semiconductor device Download PDF

Info

Publication number
JP2007145939A
JP2007145939A JP2005340253A JP2005340253A JP2007145939A JP 2007145939 A JP2007145939 A JP 2007145939A JP 2005340253 A JP2005340253 A JP 2005340253A JP 2005340253 A JP2005340253 A JP 2005340253A JP 2007145939 A JP2007145939 A JP 2007145939A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
resin
general formula
carbon atoms
substituted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005340253A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4594851B2 (en
Inventor
Shinji Murai
伸次 村井
Satoshi Saito
聡 斎藤
Kouji Asakawa
鋼児 浅川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2005340253A priority Critical patent/JP4594851B2/en
Publication of JP2007145939A publication Critical patent/JP2007145939A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4594851B2 publication Critical patent/JP4594851B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition which gives cured articles having excellent transparency, and has good storage stability. <P>SOLUTION: This resin composition is characterized by comprising a resin component and a curing catalyst comprising a phenolic compound and an aluminum complex, wherein the resin component comprises an epoxy resin represented by the general formula (1) in an amount of 70 to 95 wt.% and a both terminal-epoxidized silicone resin in at least one part of the remainder. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、発光ダイオード素子の保護に使用される発光ダイオード(LED)素子用脂環式エポキシ樹脂組成物に関する。   The present invention relates to an alicyclic epoxy resin composition for a light emitting diode (LED) element used for protecting a light emitting diode element.

従来、発光ダイオード素子の封止材料としては、一般的にエポキシ樹脂が用いられ、特に、透明性、耐熱性が良好な脂環骨格を有する液状のエポキシ化合物が多用されている。   Conventionally, as a sealing material for a light-emitting diode element, an epoxy resin is generally used, and in particular, a liquid epoxy compound having an alicyclic skeleton having good transparency and heat resistance is frequently used.

しかしながら、脂環骨格を有するエポキシ化合物は、分子内にエステル結合を有するものが多く、ビスフェノール型のエポキシに比べて耐湿熱性が劣る。また、エステル基由来のUV領域に吸収を有するために、透明性が問題となる。LEDの光源は、より低波長なものが使用されるようになる傾向にあるものの、フェニル基含有エポキシ封止材やエステル基含有エポキシ封止材は、短波長領域での光透過性が悪い。このため、短波長領域を光源としたLEDに適用するのが困難である。さらに、エポキシ樹脂は、硬化剤としてアミン化合物やカルボン酸無水物を混入した二液系で広く利用されているが、これらの硬化剤を用いた二液系は、使用する直前に成分を混合しなければならない。このため、操作が煩雑である。また、低温での保存および輸送を余儀なくされたり、製造後には一定期間内に使い終わらなければならないなどの制約がある。そこで長年、常温で一液保存が可能なエポキシ樹脂組成物が望まれている。   However, many epoxy compounds having an alicyclic skeleton have an ester bond in the molecule, and are inferior in moisture and heat resistance compared to bisphenol-type epoxy. Moreover, since it has absorption in the UV region derived from ester groups, transparency becomes a problem. Although LED light sources tend to be used at lower wavelengths, phenyl group-containing epoxy sealing materials and ester group-containing epoxy sealing materials have poor light transmission in the short wavelength region. For this reason, it is difficult to apply to an LED using a short wavelength region as a light source. In addition, epoxy resins are widely used in two-component systems in which amine compounds and carboxylic acid anhydrides are mixed as curing agents, but two-component systems using these curing agents mix components immediately before use. There must be. For this reason, the operation is complicated. In addition, there are restrictions such as being forced to be stored and transported at a low temperature and having to be used within a certain period after manufacture. Therefore, for many years, an epoxy resin composition that can be stored in a single solution at room temperature has been desired.

かかる問題点を改善するために、一般的なビスフェノール型エポキシ樹脂の代わりに、脂環式エポキシ樹脂を主体とするモールド樹脂が開示されている(例えば、特許文献1参照)。脂環式エポキシ樹脂を主体として酸無水物で硬化させたエポキシ樹脂組成物は、光劣化の原因となる炭素−炭素間の2重結合が主骨格に殆ど含まれないため、長時間の光照射後も樹脂の劣化が少ない。   In order to improve such a problem, a mold resin mainly composed of an alicyclic epoxy resin is disclosed instead of a general bisphenol type epoxy resin (see, for example, Patent Document 1). An epoxy resin composition mainly composed of an alicyclic epoxy resin and cured with an acid anhydride has a long carbon irradiation because the main skeleton contains few carbon-carbon double bonds that cause photodegradation. There is little deterioration of the resin afterwards.

しかしながら、半導体チップを基板表面に直接実装する表面実装型素子(SMD型、SMD;Surface Mounted Device)では、モールド樹脂を薄膜に形成する必要があるため、硬化に時間を要する揮発性の酸無水物を硬化剤として用いることができない。また、酸無水物硬化剤を用いて得られたジ硬化物は吸湿性が高い。水添されたビスフェノールAのジグリシジルエーテルを含む光半導体封止用エポキシ樹脂も提案されている(例えば、特許文献2参照)。この樹脂は、硬化物の着色や耐候性、耐熱性等の問題がある。
特開2000−196151号公報 特開平9−255764号公報
However, in a surface mount type device (SMD type, SMD: Surface Mounted Device) in which a semiconductor chip is directly mounted on a substrate surface, it is necessary to form a mold resin into a thin film, so that a volatile acid anhydride that requires time for curing is required. Cannot be used as a curing agent. Moreover, the di-cured product obtained using the acid anhydride curing agent has high hygroscopicity. An epoxy resin for optical semiconductor sealing containing hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether has also been proposed (see, for example, Patent Document 2). This resin has problems such as coloring of the cured product, weather resistance, and heat resistance.
JP 2000-196151 A Japanese Patent Laid-Open No. 9-255564

本発明は、透明性の優れた硬化物が得られ、しかも貯蔵安定性の良好な樹脂組成物、およびこれを用いた樹脂封止型半導体装置を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a cured resin having excellent transparency and a good storage stability, and a resin-encapsulated semiconductor device using the same.

本発明の一態様にかかる樹脂組成物は、樹脂成分、および
フェノール化合物とアルミニウム錯体とを含む硬化触媒を含有し、
前記樹脂成分は、下記一般式(1)で表わされるエポキシ樹脂を70乃至95重量%と、残部の少なくとも一部を占める両末端エポキシ化シリコーン樹脂とを含み、
前記フェノール化合物は下記一般式(2)で表わされ、
前記アルミニウム錯体は下記一般式(3a)〜(3c)で表わされる少なくとも1種を含むことを特徴とする。

Figure 2007145939
The resin composition according to one embodiment of the present invention contains a resin component, and a curing catalyst containing a phenol compound and an aluminum complex,
The resin component includes 70 to 95% by weight of an epoxy resin represented by the following general formula (1), and a both-end epoxidized silicone resin that occupies at least a part of the balance,
The phenol compound is represented by the following general formula (2):
The aluminum complex includes at least one of the following general formulas (3a) to (3c).
Figure 2007145939

(上記一般式(1)中、R0はアルコール類、フェノール類、カルボン酸類、アミン類、およびチオール類から選択され、かつn個の活性水素を有する有機基であり、nは2〜100の整数である。)

Figure 2007145939
(In the general formula (1), R 0 is an organic group selected from alcohols, phenols, carboxylic acids, amines, and thiols and having n active hydrogens, and n is 2 to 100. (It is an integer.)
Figure 2007145939

(上記一般式(2)中、Arは置換もしくは非置換の炭素数2〜14の芳香族基または複素芳香族基である。R10は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜30の置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換の芳香族基または複素芳香族基である。ただし、前記フェノール化合物は、炭素数が10以上の置換もしくは非置換のアルキル基、あるいは炭素数が10以上の置換もしくは非置換のアルキル基を有する環状有機構造を、分子内に1つ以上有する。kは1〜7の整数であり、jは1〜7の整数である。)

Figure 2007145939
(In the general formula (2), Ar is a substituted or unsubstituted aromatic group or heteroaromatic group having 2 to 14 carbon atoms. R 10 may be the same or different, and may be a hydrogen atom or a carbon number. 1 to 30 substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted aromatic group or heteroaromatic group, provided that the phenol compound is a substituted or unsubstituted alkyl group having 10 or more carbon atoms, or (At least one cyclic organic structure having a substituted or unsubstituted alkyl group having 10 or more carbon atoms is included in the molecule, k is an integer of 1 to 7, and j is an integer of 1 to 7.)
Figure 2007145939

(上記一般式中、R21、R22、R23およびR24は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、炭素数1〜30の置換もしくは非置換のアルキル基である。)
本発明の他の態様にかかる樹脂組成物は、樹脂成分、および
フェノール化合物とアルミニウム錯体とを含む硬化触媒を含有し、
前記樹脂成分は、少なくとも85重量%の下記一般式(A)で表わされる脂環式エポキシ基含有オルガノポリシロキサンと、残部の芳香族基あるいはエステル基を有さないエポキシ樹脂とからなり、
前記フェノール化合物は下記一般式(2)で表わされ、
前記アルミニウム錯体は下記一般式(3a)〜(3c)で表わされる少なくとも1種を含むことを特徴とする。

Figure 2007145939
(In the above general formula, R 21 , R 22 , R 23 and R 24 may be the same or different and are each a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms.)
The resin composition according to another aspect of the present invention contains a resin component, and a curing catalyst containing a phenol compound and an aluminum complex,
The resin component comprises at least 85% by weight of an alicyclic epoxy group-containing organopolysiloxane represented by the following general formula (A), and an epoxy resin having no remaining aromatic group or ester group,
The phenol compound is represented by the following general formula (2):
The aluminum complex includes at least one of the following general formulas (3a) to (3c).
Figure 2007145939

(上記組成式(A)中、R4は、内部型エポキシ基を含む置換あるいは非置換の炭素数1〜20のアルキル基であり、R5は、水素原子、水酸基、アルコキシ基、あるいは炭素数1〜20のアルキル基である。p、qは、0.001≦p/(p+q)≦0.1を満たす数値である。)

Figure 2007145939
(In the above compositional formula (A), R 4 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms containing an internal epoxy group, and R 5 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, or a carbon number. (It is an alkyl group of 1 to 20. p and q are numerical values satisfying 0.001 ≦ p / (p + q) ≦ 0.1.)
Figure 2007145939

(上記一般式(2)中、Arは置換もしくは非置換の炭素数2〜14の芳香族基または複素芳香族基である。R10は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜30の置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換の芳香族基または複素芳香族基である。ただし、前記フェノール化合物は、炭素数が10以上の置換もしくは非置換のアルキル基、あるいは炭素数が10以上の置換もしくは非置換のアルキル基を有する環状有機構造を、分子内に1つ以上有する。kは1〜7の整数であり、jは1〜7の整数である。)

Figure 2007145939
(In the general formula (2), Ar is a substituted or unsubstituted aromatic group or heteroaromatic group having 2 to 14 carbon atoms. R 10 may be the same or different, and may be a hydrogen atom or a carbon number. 1 to 30 substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted aromatic group or heteroaromatic group, provided that the phenol compound is a substituted or unsubstituted alkyl group having 10 or more carbon atoms, or (At least one cyclic organic structure having a substituted or unsubstituted alkyl group having 10 or more carbon atoms is included in the molecule, k is an integer of 1 to 7, and j is an integer of 1 to 7.)
Figure 2007145939

(上記一般式中、R21、R22、R23およびR24は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、炭素数1〜30の置換もしくは非置換のアルキル基である。)
本発明の一態様にかかる樹脂封止型半導体装置は、半導体素子と、この半導体素子を封止する樹脂層とを具備し、前記樹脂層は前述の樹脂組成物を硬化させてなることを特徴とする。
(In the above general formula, R 21 , R 22 , R 23 and R 24 may be the same or different and are each a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms.)
A resin-encapsulated semiconductor device according to one embodiment of the present invention includes a semiconductor element and a resin layer that encapsulates the semiconductor element, and the resin layer is obtained by curing the resin composition described above. And

本発明によれば、透明性の優れた硬化物が得られ、しかも貯蔵安定性の良好な樹脂組成物、およびこれを用いた樹脂封止型半導体装置が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the hardened | cured material excellent in transparency is obtained, and also the resin composition with favorable storage stability, and the resin sealing type semiconductor device using the same are provided.

以下、本発明の実施形態を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below.

鋭意検討した結果、本発明者らは、特定の化合物を樹脂成分として用いることによって、硬化後に透明性の良好な半導体封止用樹脂組成物が得られることを見出した。   As a result of intensive studies, the present inventors have found that a resin composition for encapsulating a semiconductor having good transparency after curing can be obtained by using a specific compound as a resin component.

本発明の一実施形態にかかる樹脂組成物においては、下記一般式(1)で表わされるエポキシ樹脂が所定の割合で樹脂成分中に含有される。

Figure 2007145939
In the resin composition concerning one Embodiment of this invention, the epoxy resin represented by following General formula (1) is contained in a resin component in a predetermined ratio.
Figure 2007145939

上記一般式(1)中、R0はアルコール類、フェノール類、カルボン酸類、アミン類、およびチオール類から選択され、かつn個の活性水素を有する有機基であり、nは2〜100の整数である。 In the general formula (1), R 0 is an organic group selected from alcohols, phenols, carboxylic acids, amines, and thiols and having n active hydrogens, and n is an integer of 2 to 100 It is.

0として導入され得るn個の活性水素を有する有機化合物としては、以下のものが挙げられる。具体的には、脂肪族アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、およびプロパノール等が挙げられ、芳香族アルコールとしては、例えば、ベンジルアルコールが挙げられる。多官能アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、グリセリン、およびペンタエリスリトール等が挙げられる。また、フェノール類としては、例えば、フェノール、カテコール、ピロガロールおよびフェノール樹脂が挙げられ、カルボン酸類としては、例えば、酢酸、マレイン酸、フタル酸、およびアクリル酸等が挙げられる。また、乳酸のような水酸基とカルボキシル基を共に有する化合物を、R0として導入することもできる。アミン類としては、例えば、メチルアミン、ヘキサメチレンジアミン、およびジエチレントリアミン等が挙げられ、チオール類としては、メチルメルカプタン等のメルカプト類、メルカプトプロピオン酸あるいはメルカプトプロピオン酸の多価アルコールエステル等を挙げることができる。これらの有機化合物類の中では、透明性が優れていることから脂肪族系のものが、R0として特に好ましい。 Examples of organic compounds having n active hydrogens that can be introduced as R 0 include the following. Specifically, examples of the aliphatic alcohols include methanol, ethanol, and propanol, and examples of the aromatic alcohol include benzyl alcohol. Examples of the polyfunctional alcohol include ethylene glycol, glycerin, and pentaerythritol. Examples of phenols include phenol, catechol, pyrogallol, and phenol resin. Examples of carboxylic acids include acetic acid, maleic acid, phthalic acid, and acrylic acid. Further, a compound having both a hydroxyl group and a carboxyl group such as lactic acid can be introduced as R 0 . Examples of the amines include methylamine, hexamethylenediamine, and diethylenetriamine. Examples of the thiols include mercaptos such as methyl mercaptan, mercaptopropionic acid, and polyhydric alcohol esters of mercaptopropionic acid. it can. Among these organic compounds, aliphatic compounds are particularly preferable as R 0 because of their excellent transparency.

封止材として十分な硬化物を得るために、R0は、上記一般式(1)で表わされる化合物中に少なくとも2つ、存在することが求められる。一方、R0が過剰に存在した場合には、得られる組成物の粘度が高くなりすぎて取り扱いが困難になる。これらを考慮して、nは2〜100の範囲内に規定した。nは、2〜10であることがより好ましい。 In order to obtain a cured product sufficient as a sealing material, R 0 is required to be present in the compound represented by the general formula (1). On the other hand, when R 0 is excessively present, the resulting composition becomes too viscous and difficult to handle. Considering these, n is defined in the range of 2 to 100. n is more preferably 2 to 10.

前記一般式(1)で表わされるエポキシ樹脂の含有量は、樹脂成分の70〜95重量%に規定される。70重量%未満の場合には、基板等の密着性が十分な硬化物が得られない。一方、95重量%を越えて過剰に含有されると、硬化物の可撓性が乏しくなって、冷熱サイクル時にクラックが発生する場合がある。前記一般式(1)で表わされるエポキシ樹脂の含有量は、樹脂成分の80〜95wt%であることが好ましい。   Content of the epoxy resin represented by the said General formula (1) is prescribed | regulated to 70 to 95 weight% of a resin component. When the amount is less than 70% by weight, a cured product having sufficient adhesion such as a substrate cannot be obtained. On the other hand, when the content exceeds 95% by weight, the cured product becomes less flexible and cracks may occur during the cooling and heating cycle. The content of the epoxy resin represented by the general formula (1) is preferably 80 to 95 wt% of the resin component.

具体的には、前記一般式(1)で表わされるエポキシ樹脂としては、例えば、EHPE3150(エポキシ当量185、軟化点85℃)、EHPE3156(エポキシ当量290、軟化点59℃)、EHPE3158(エポキシ当量214、軟化点59℃)(いずれも、ダイセル化学工業社製)などが挙げられる。   Specifically, as the epoxy resin represented by the general formula (1), for example, EHPE3150 (epoxy equivalent 185, softening point 85 ° C.), EHPE 3156 (epoxy equivalent 290, softening point 59 ° C.), EHPE 3158 (epoxy equivalent 214) , Softening point 59 ° C.) (both manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.).

前記一般式(1)で表わされるエポキシ樹脂は、例えば、以下の手法により合成することができる。まず、活性水素を一個以上含む化合物と4−ビニル−1−シクロへキセンとを反応させることによって、前駆体となるポリエーテル化合物を合成する。このポリエーテル化合物に含まれるビニル基を酸化してエポキシ化することによって、前記一般式(1)で表わされるエポキシ樹脂が得られる。全てのビニル基を酸化させることが望ましいが、エポキシ基に対して10%以下であれば、目的の化合物中に残存していてもよい。ビニル基の残存率が10%を越えると、硬化物の光透過性が低下するおそれがある。   The epoxy resin represented by the general formula (1) can be synthesized, for example, by the following method. First, a polyether compound as a precursor is synthesized by reacting a compound containing one or more active hydrogens with 4-vinyl-1-cyclohexene. An epoxy resin represented by the general formula (1) is obtained by oxidizing and epoxidizing a vinyl group contained in the polyether compound. Although it is desirable to oxidize all vinyl groups, it may remain in the target compound as long as it is 10% or less based on the epoxy group. If the residual ratio of the vinyl group exceeds 10%, the light transmittance of the cured product may be lowered.

エポキシ化剤としては、例えば、過酸類、およびハイドロパーオキサイド類を挙げることができる。具体的には、過酸類としては、過ギ酸、過酢酸、および過安息香酸などを用いることができる。ハイドロパーオキサイド類としては、過酸化水素、クメンパーオキサイド類などを用いることができる。   Examples of the epoxidizing agent include peracids and hydroperoxides. Specifically, as the peracids, formic acid, peracetic acid, perbenzoic acid and the like can be used. As hydroperoxides, hydrogen peroxide, cumene peroxides, and the like can be used.

樹脂成分の残部の少なくとも一部は、両末端エポキシ化シリコーン樹脂から構成され、具体的には、下記一般式(4)で表わされる化合物を用いることができる。

Figure 2007145939
At least a part of the remaining part of the resin component is composed of a both-end epoxidized silicone resin, and specifically, a compound represented by the following general formula (4) can be used.
Figure 2007145939

前記一般式(4)中、R1は、炭素数1〜10の2置換もしくは非置換の2価のアルキレン基である。具体的には、R1としては、メチレン、ジメチレン、トリメチレン、ヘキサメチレン、オクタメチレン、およびデシルメチレン等の分岐あるいは直鎖状の置換基やコレステロール等のステロイド骨格を有する化合物を用いることができる。これらは、同一であっても異なっていてもよい。合成のしやすさを考慮すると、メチル基またはエチル基がR1として好ましい。 In the general formula (4), R 1 is a disubstituted or unsubstituted divalent alkylene group having 1 to 10 carbon atoms. Specifically, as R 1 , a compound having a branched or linear substituent such as methylene, dimethylene, trimethylene, hexamethylene, octamethylene, and decylmethylene and a steroid skeleton such as cholesterol can be used. These may be the same or different. Considering ease of synthesis, a methyl group or an ethyl group is preferable as R 1 .

2は、炭素数1〜10のアルキル基である。具体的には、R2としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、およびデシル等が挙げられる。 R 2 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Specifically, examples of R 2 include methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, and decyl.

mは、0以上20以下の整数である。低粘度のシリコーン樹脂は希釈効果が優れていることから、mが0の場合も含まれる。一般的に、分子量が2、000より大きい長鎖のエポキシ化シリコーンオイルは、エポキシ樹脂との相溶性が非常に悪くなり、また反応性も低くなる傾向にあるために、mの上限は20に規定される。mは、10以下が好ましい。   m is an integer of 0 or more and 20 or less. Since a low viscosity silicone resin has an excellent dilution effect, the case where m is 0 is also included. In general, a long chain epoxidized silicone oil having a molecular weight of more than 2,000 has a very poor compatibility with an epoxy resin and tends to have a low reactivity. It is prescribed. m is preferably 10 or less.

上記一般式(4)で表わされる化合物としては、例えば、1,3−ビス(3−グリシドキシプロピル)テトラメチルジシロキサン(分子量362、エポキシ当量181、GE東芝シリコーン社製、TSL9906)、1,5−ビス(3−グリシドキシプロピル)−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサン、およびエポキシプロポキシプロピル末端ポリジメチルシロキサン(分子量1,000〜1,400、GELEST社、DMS−E11)等が挙げられる。   Examples of the compound represented by the general formula (4) include 1,3-bis (3-glycidoxypropyl) tetramethyldisiloxane (molecular weight 362, epoxy equivalent 181, GE Toshiba Silicones, TSL9906), 1 , 5-bis (3-glycidoxypropyl) -1,1,3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane, and epoxypropoxypropyl-terminated polydimethylsiloxane (molecular weight 1,000-1,400, GELEST) , DMS-E11) and the like.

なお本発明の実施形態においては、上記一般式(1)で表わされるエポキシ樹脂に加えて、さらに別のエポキシ樹脂を併用することも可能である。この場合には、封止樹脂の透明性の観点から、水添されているものが好ましい。1分子中に2個以上のエポキシ基を有する任意の水添型の化合物を用いることができる。   In the embodiment of the present invention, in addition to the epoxy resin represented by the general formula (1), another epoxy resin can be used in combination. In this case, from the viewpoint of transparency of the sealing resin, hydrogenated one is preferable. Any hydrogenated compound having two or more epoxy groups in one molecule can be used.

例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールAD型、ビスフェノールD型、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ナフトールノボラック型、ビスフェノールAのノボラック型、3官能型の各水添型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、および脂肪族エポキシ樹脂等を挙げることができる。ただし、こうしたエポキシ樹脂の配合量は、全エポキシ樹脂中20重量%以下とすることが好ましい。20重量%を越えると、得られる硬化物の光透過性が低下するおそれがある。   For example, bisphenol A type, bisphenol AD type, bisphenol D type, phenol novolak type, cresol novolak type, naphthol novolak type, bisphenol A novolak type, trifunctional hydrogenated epoxy resin, alicyclic epoxy resin, and An aliphatic epoxy resin etc. can be mentioned. However, the blending amount of such an epoxy resin is preferably 20% by weight or less in the total epoxy resin. If it exceeds 20% by weight, the light transmittance of the resulting cured product may be lowered.

本発明の実施形態にかかる樹脂組成物には、特定のフェノール化合物とアルミニウム錯体とを含む硬化触媒が含有される。
フェノール化合物は、下記一般式(2)で表わされる化合物である。

Figure 2007145939
The resin composition according to the embodiment of the present invention contains a curing catalyst containing a specific phenol compound and an aluminum complex.
The phenol compound is a compound represented by the following general formula (2).
Figure 2007145939

上記一般式(2)中、Arは置換もしくは非置換の炭素数2〜14の芳香族基または複素芳香族基である。具体的には、Arとしては、例えば以下に示すものが挙げられる。すなわち、フェニル基、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル基、トリクロロベンジル基、ニトロベンジル基、ジニトロベンジル基、トリニトロベンジル基、ナフチルメチル基;ナフチル、アントラセニルおよびフェナントレニル基のような2ないし3個のベンゼン環が縮合してなる縮合芳香環基;フラニル、チオフェニル、ピロリル、ピロリニル、ピロリジニル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、イミダゾリル、イミダゾリニル、イミタゾリジニル、ピラゾリル、ピラゾリジニル、トリアゾリル、フラザニル、テトラゾリル、ピラニル、チイニル、ピリジニル、ピペリジニル、オキサジニル、モルホリニル、チアジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、ピペラジニルおよびトリアジニル基のような単環式複素芳香環基;ベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、ベンゾチオフェニル、インドリル、インドリニル、イソインドリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、インダゾリル、イミダゾリル、クロメニル、クロマニル、イソクロマニル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、キノキサリニル、ジベンゾフラニル、カルバゾリル、キサンテニル、アクリジニル、フェナントリジニル、フェナントロリニル、フェナジニル、フェノキサジニル、チアントレニル、インドリジニル、キノリジニル、キヌクリジニル、ナフチリジニル、プリニルおよびプテリジニル基のような縮合複素芳香環基などである。前述の芳香族基または複素芳香族基は、少なくとも1つの水素原子が置換されていてもよい。導入され得る置換基としては、例えば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、およびヘキサデカン等が挙げられる。置換基が2つ以上存在する場合には、各々同一でも異なっていてもよい。   In the general formula (2), Ar is a substituted or unsubstituted aromatic group or heteroaromatic group having 2 to 14 carbon atoms. Specifically, examples of Ar include the following. That is, phenyl group, benzyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, trimethylbenzyl group, chlorobenzyl group, dichlorobenzyl group, trichlorobenzyl group, nitrobenzyl group, dinitrobenzyl group, trinitrobenzyl group, naphthylmethyl group; naphthyl Condensed aromatic ring groups formed by condensation of 2 to 3 benzene rings such as anthracenyl and phenanthrenyl groups; furanyl, thiophenyl, pyrrolyl, pyrrolinyl, pyrrolidinyl, oxazolyl, isoxazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, imidazolyl, imidazolinyl, imidazolidinyl, pyrazolyl , Pyrazolidinyl, triazolyl, furazanyl, tetrazolyl, pyranyl, thiinyl, pyridinyl, piperidinyl, oxazinyl, morpholinyl, thiazinyl, pyri Monocyclic heteroaromatic groups such as dinyl, pyrimidinyl, pyrazinyl, piperazinyl and triazinyl groups; benzofuranyl, isobenzofuranyl, benzothiophenyl, indolyl, indolinyl, isoindolyl, benzoxazolyl, benzothiazolyl, indazolyl, imidazolyl, chromenyl , Chromanyl, isochromanyl, quinolyl, isoquinolyl, cinnolinyl, phthalazinyl, quinazolinyl, quinoxalinyl, dibenzofuranyl, carbazolyl, xanthenyl, acridinyl, phenanthridinyl, phenanthrolinyl, phenazinyl, phenoxazinyl, thianthridyl, indolidinyl, quinolizinyl , Condensed heteroaromatic groups such as purinyl and pteridinyl groups. In the aforementioned aromatic group or heteroaromatic group, at least one hydrogen atom may be substituted. Examples of the substituent that can be introduced include methane, ethane, propane, butane, pentane, hexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, tridecane, tetradecane, pentadecane, and hexadecane. When two or more substituents are present, they may be the same or different.

前記一般式(2)においてR10は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜30の置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換の芳香族基または複素芳香族基である。R10として導入されるアルキル基としては、例えば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカン、ヘプタデカン、オクタデカン、ノナデカン、イコサン、ヘンイコサン、ドコサン、トリコサン、テトラコサン、ペンタコサン、ヘキサコサン、ヘオウタコサン、オクタコサン、ノナコサン、トリアコサン等の分岐あるいは直鎖状の置換基やコレステロール等のステロイド骨格を有する化合物を用いることができる。 In the general formula (2), R 10 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aromatic group, or a heteroaromatic group. is there. Examples of the alkyl group introduced as R 10 include methane, ethane, propane, butane, pentane, hexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, tridecane, tetradecane, pentadecane, hexadecane, heptadecane, octadecane, and nonadecane. A compound having a branched or linear substituent such as icosane, henicosane, docosane, tricosane, tetracosane, pentacosane, hexacosane, heotacosane, octacosane, nonacosane, triacosane, or a steroid skeleton such as cholesterol can be used.

上述したアルキル基には、F,Si,O,N,あるいはS等のヘテロ原子が含有されていてもよい。   The alkyl group described above may contain a heteroatom such as F, Si, O, N, or S.

ただし、前記一般式(2)で表わされる化合物は、炭素数が10以上の置換もしくは非置換のアルキル基、あるいは炭素数が10以上の置換もしくは非置換のアルキル基を有する環状有機構造を、分子内に1つ以上有する。これは、前記般式(2)で表される化合物がエポキシ樹脂中で相分離しやすくするためである。相分離させることによりエポキシ樹脂の貯蔵安定性を向上させることができるためである。   However, the compound represented by the general formula (2) is a molecule having a cyclic organic structure having a substituted or unsubstituted alkyl group having 10 or more carbon atoms, or a substituted or unsubstituted alkyl group having 10 or more carbon atoms. Have one or more inside. This is to facilitate the phase separation of the compound represented by the general formula (2) in the epoxy resin. This is because the storage stability of the epoxy resin can be improved by phase separation.

なお、合成のしやすさから、kは1〜7に規定される。また、触媒活性の観点から、jは1〜7に規定される。kは1〜4が好ましく、jは1〜4が好ましい。   In addition, k is prescribed | regulated to 1-7 from the ease of a synthesis | combination. Moreover, j is prescribed | regulated to 1-7 from a viewpoint of catalyst activity. k is preferably 1 to 4, and j is preferably 1 to 4.

具体的には、一般式(2)で表わされるフェノール化合物としては、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホンモノオクタデシルエーテル、ビス(4−ヒドロキシ−3−オクタデシルオキシフェニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィドモノオクタデシルエーテル、(4−ヒドロキシフェニル)オクタデシルスルホン、4.4’−ジヒドロキシジフェニルエーテルモノオクタデシルエーテル、およびビス(2−(6−ヒドロキシフェニル))スルホンモノオクタデシルエーテルなどが挙げられる。   Specifically, the phenol compound represented by the general formula (2) includes bis (4-hydroxyphenyl) sulfone, bis (4-hydroxyphenyl) sulfone monooctadecyl ether, bis (4-hydroxy-3-octadecyloxyphenyl). ) Sulfone, bis (4-hydroxyphenyl) sulfide monooctadecyl ether, (4-hydroxyphenyl) octadecyl sulfone, 4.4′-dihydroxydiphenyl ether monooctadecyl ether, and bis (2- (6-hydroxyphenyl)) sulfone monooctadecyl Examples include ether.

こうしたフェノール化合物は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。組成物中におけるフェノール化合物の含有量は、通常、エポキシ樹脂に対して、通常0.01〜20重量%とすることができる。0.01重量%未満の場合には、硬化が不十分になるおそれがある。一方、20重量%を越えて過剰に含有されると、電気的特性に悪影響を与えるおそれがある。具体的には、体積抵抗率の低下といった不都合が生じる。しかも、コストの増大にもつながる。フェノール化合物の添加量は、エポキシ樹脂に対して0.5〜10重量%とすることが好ましい。   These phenol compounds can be used alone or in combination of two or more. The content of the phenol compound in the composition is usually 0.01 to 20% by weight with respect to the epoxy resin. If it is less than 0.01% by weight, curing may be insufficient. On the other hand, if the content exceeds 20% by weight, the electrical characteristics may be adversely affected. Specifically, inconvenience such as a decrease in volume resistivity occurs. In addition, the cost increases. The addition amount of the phenol compound is preferably 0.5 to 10% by weight with respect to the epoxy resin.

一方、硬化触媒のもう1つの成分であるアルミニウム錯体は、以下に示す一般式(3a)、(3b)、(3c)から選択される。

Figure 2007145939
On the other hand, the aluminum complex which is another component of the curing catalyst is selected from the following general formulas (3a), (3b) and (3c).
Figure 2007145939

上記一般式中、R21、R22、R23およびR24は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、炭素数1〜30の置換もしくは非置換のアルキル基である。具体的には、R21、R22、R23およびR24に導入され得るアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、ヘキサデシルおよびオクタデシルなどが挙げられる。合成のしやすさを考慮すると、メチル、およびエチルが好ましい。 In the above general formula, R 21 , R 22 , R 23 and R 24 may be the same or different, and are each a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms. Specifically, examples of the alkyl group that can be introduced into R 21 , R 22 , R 23 and R 24 include methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, hexadecyl and octadecyl. In consideration of ease of synthesis, methyl and ethyl are preferable.

ただし、いずれの化合物においても、R21、R22、R23およびR24の炭素数が10以上であるものを、一つの配位子中に少なくとも一つ以上含むことが好ましい。これは、エポキシ樹脂中におけるアルミニウム錯体の相分離をしやすくするためである。 However, in any compound, it is preferable that at least one compound in which R 21 , R 22 , R 23 and R 24 have 10 or more carbon atoms is contained in one ligand. This is for facilitating phase separation of the aluminum complex in the epoxy resin.

こうした条件を満たした化合物としては、例えば、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(アセチルアセトナート)アルミニウム、トリス(サリチルアルデヒデート)アルミニウム、トリス(オクタデシルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(ヘキサデシルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(テトラデシルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(ドデシルアセトアセテート)アルミニウム、およびトリス(オクチルサリチルアルデヒド)アルミニウム、およびトリス(ベヘニルオキシアセトアセテート)アルミニウムなど挙げられる。特に、トリス(オクタデシルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(ベヘニルオキシアセトアセテート)アルミニウムが好ましく用いられる。   Examples of compounds that satisfy these conditions include tris (ethylacetoacetate) aluminum, tris (acetylacetonate) aluminum, tris (salicylaldehyde) aluminum, tris (octadecylacetoacetate) aluminum, tris (hexadecylacetoacetate). Examples include aluminum, tris (tetradecylacetoacetate) aluminum, tris (dodecylacetoacetate) aluminum, and tris (octylsalicylaldehyde) aluminum, and tris (behenyloxyacetoacetate) aluminum. In particular, tris (octadecyl acetoacetate) aluminum and tris (behenyloxy acetoacetate) aluminum are preferably used.

上述した成分に加えて、本発明の実施形態にかかる樹脂組成物には、透明性に粘度に悪影響を与えない範囲で各種の添加剤を配合することができる。そのような添加剤としては、例えば、シリコーン系やフッ素系の消泡剤、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤、溶融シリカ、結晶性シリカ、ケイ酸カルシウム、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナ、マグネシア、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、酸化ベリリウム、酸化マグネシウム、雲母、チタン酸マグネシウム、およびチタン酸バリウム等の充填剤、ハロゲンフリー難燃性付与剤としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウムなどの金属水和物、硼酸系化合物、およびリン系化合物等の難燃剤、カーボンブラック、および酸化チタン等の着色剤などを挙げることができる。   In addition to the components described above, various additives can be blended in the resin composition according to the embodiment of the present invention as long as the transparency does not adversely affect the viscosity. Examples of such additives include silicone-based and fluorine-based antifoaming agents, silane coupling agents such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, fused silica, crystalline silica, calcium silicate, calcium carbonate, Fillers such as barium sulfate, alumina, magnesia, aluminum nitride, silicon nitride, boron nitride, beryllium oxide, magnesium oxide, mica, magnesium titanate, and barium titanate, aluminum hydroxide as a halogen-free flame retardant imparting agent And metal hydrates such as magnesium hydroxide, flame retardants such as boric acid compounds and phosphorus compounds, and colorants such as carbon black and titanium oxide.

本発明の実施形態にかかる樹脂組成物は、貯蔵安定性に優れるとともに透明性が高いことから、半導体素子の封止に好適に用いることができる。半導体素子としては、例えば、発光素子等が挙げられる。特に、白色LED等の光半導体素子に用いた場合には、本発明の実施形態にかかる樹脂組成物の効果が十分に発揮される。   Since the resin composition concerning embodiment of this invention is excellent in storage stability and high transparency, it can be used suitably for sealing of a semiconductor element. As a semiconductor element, a light emitting element etc. are mentioned, for example. In particular, when used in an optical semiconductor element such as a white LED, the effect of the resin composition according to the embodiment of the present invention is sufficiently exhibited.

上述したような特定のフェノール化合物とアルミニウム錯体とからなる硬化触媒を用い、樹脂成分を変更することによって、本発明の他の実施形態にかかる樹脂組成物が得られる。   The resin composition concerning other embodiment of this invention is obtained by changing the resin component using the curing catalyst which consists of a specific phenol compound and aluminum complex as mentioned above.

本発明の他の実施形態にかかる樹脂組成物においては、下記一般式(A)で表わされる脂環式エポキシ基含有オルガノポリシロキサンが樹脂成分として含有される。

Figure 2007145939
In the resin composition according to another embodiment of the present invention, an alicyclic epoxy group-containing organopolysiloxane represented by the following general formula (A) is contained as a resin component.
Figure 2007145939

上記組成式(A)中、R4は、内部型エポキシ基を含む置換あるいは非置換の炭素数1〜20のアルキル基であり、R5は、水素原子、水酸基、アルコキシ基あるいは炭素数1〜20のアルキル基である。R4およびR5に導入され得るアルキル基としては、具体的には、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカン、ヘプタデカン、オクタデカン、ノナデカン、イコサン、ヘンイコサン、ドコサン、トリコサン、テトラコサン、ペンタコサン、ヘキサコサン、ヘオウタコサン、オクタコサン、ノナコサン、トリアコサン等の分岐あるいは直鎖状の置換基やコレステロール等のステロイド骨格を有する化合物などが挙げられる。2つ以上のR4は同一でも異なっていてもよく、2つ以上のR5もまた、同一でも異なっていてもよい。合成のしやすさから、アルキル基としては、メチル基あるいはエチル基が好ましい。 In the composition formula (A), R 4 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms including an internal epoxy group, and R 5 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group or 1 to 1 carbon atoms. 20 alkyl groups. Specific examples of the alkyl group that can be introduced into R 4 and R 5 include methane, ethane, propane, butane, pentane, hexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, tridecane, tetradecane, pentadecane, hexadecane. , Heptadecane, octadecane, nonadecane, icosane, heicossan, docosane, tricosane, tetracosane, pentacosane, hexacosane, heotacosane, octacosane, nonacosane, triacosane and the like, and compounds having a steroid skeleton such as cholesterol It is done. Two or more R 4 may be the same or different, and two or more R 5 may also be the same or different. In view of ease of synthesis, the alkyl group is preferably a methyl group or an ethyl group.

好ましいR4は、下記一般式で示すことができる。

Figure 2007145939
Preferred R 4 can be represented by the following general formula.
Figure 2007145939

上記一般式中、Rxは同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭素原子数1〜30の置換もしくは非置換のアルキル基である。さらに少なくとも一個の水素原子が除かれた残基がRxとして導入されている。 In the above general formula, R x may be the same or different and is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms. Furthermore, a residue from which at least one hydrogen atom has been removed is introduced as R x .

炭化水素基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、ヘキサデシルおよびオクタデシル等が挙げられる。合成がしやすいことから、メチル、エチル、プロピル、およびブチルが好ましい。   Examples of the hydrocarbon group include methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, hexadecyl and octadecyl. Methyl, ethyl, propyl and butyl are preferred because they are easy to synthesize.

sは1〜10である。10を越えると、反応が遅くなるおそれがある。また、上述した炭化水素基は、ハロゲン原子、Si,O,N,S等のヘテロ原子が含有されていてもよい。具体的にはクロロメチル基、チオメチルメチル基、ニトロ基、メトキシ基、およびジメチルアミノ基等の置換基を有していてもよい。   s is 1-10. If it exceeds 10, the reaction may be slow. Moreover, the above-described hydrocarbon group may contain a hetero atom such as a halogen atom, Si, O, N, or S. Specifically, it may have a substituent such as a chloromethyl group, a thiomethylmethyl group, a nitro group, a methoxy group, and a dimethylamino group.

こうした脂環式エポキシ基含有シリコーン樹脂は、直線状、環状、分岐状、梯子状、かご状のいずれの構造であってもよい。いずれの構造の場合も、樹脂中における脂環式エポキシ基含有置換基のモル数は、(−Si−O−)結合ひとつに対して0.01〜50モル%であることが望まれる。
脂環式エポキシ基含有置換基のモル数が0.01モル%以下の場合には、シリコーン樹脂の性質が顕著になって、接着性不良が生じたり触媒の溶解が困難になるおそれがある。一方、脂環式エポキシ基含有置換基のモル数が50モル%を越えると、十分な貯蔵安定性が得られない。脂環式エポキシ基含有置換基のモル数は、0.1〜10であることがより好ましい。
Such an alicyclic epoxy group-containing silicone resin may have a linear, cyclic, branched, ladder-like or cage-like structure. In any structure, the number of moles of the alicyclic epoxy group-containing substituent in the resin is desirably 0.01 to 50 mol% with respect to one (—Si—O—) bond.
When the number of moles of the alicyclic epoxy group-containing substituent is 0.01 mol% or less, the properties of the silicone resin become remarkable, which may cause poor adhesion and make it difficult to dissolve the catalyst. On the other hand, when the number of moles of the alicyclic epoxy group-containing substituent exceeds 50 mol%, sufficient storage stability cannot be obtained. The number of moles of the alicyclic epoxy group-containing substituent is more preferably from 0.1 to 10.

さらに、25℃における粘度は、10,000mPa・sec以下であることが好ましく、5000mPa・sec以下であることがより好ましい。25℃での粘度が10,000mPa/sec以下であれば、封止材に適した粘度が保たれる。   Furthermore, the viscosity at 25 ° C. is preferably 10,000 mPa · sec or less, and more preferably 5000 mPa · sec or less. When the viscosity at 25 ° C. is 10,000 mPa / sec or less, the viscosity suitable for the sealing material is maintained.

前記一般式(A)で表わされる脂環式エポキシ基を有するシリコーン樹脂は、ポリハイドロシロキサンにビニル基を有する脂環式エポキシ化合物を作用させて容易に得ることができる。この際に使用する硬化触媒としては、白金触媒が挙げられる。白金触媒は担体上の白金金属、白金化合物および白金錯体から選ぶことができる。白金化合物および白金錯体としては、例えばクロロ白金酸、クロロ白金酸六水和物、カールステット(Karstedt′s)触媒、ジクロロビス(トリフエニルホスフイン)白金(II)、シス−ジクロロビス(アセトニトリル)白金(II)、ジカルボニルジクロロ白金(II)、塩化白金、および酸化白金等を挙げることができる。エポキシ化にあたっては、必ずしもハイドロシロキサン中の全ての水素原子を脂環式エポキシ基に置換する必要はない。全ヒドロシロキサンの10モル%以下であれば、水素原子が残存していてもよい。シリコーン樹脂中に、10モル%を超えて過剰に水素原子が存在する場合には、樹脂組成物の耐久性が低下するおそれがある。   The silicone resin having an alicyclic epoxy group represented by the general formula (A) can be easily obtained by allowing an alicyclic epoxy compound having a vinyl group to act on polyhydrosiloxane. A platinum catalyst is mentioned as a curing catalyst used in this case. The platinum catalyst can be selected from platinum metal, platinum compounds and platinum complexes on a support. Examples of platinum compounds and platinum complexes include chloroplatinic acid, chloroplatinic acid hexahydrate, Karstedt's catalyst, dichlorobis (triphenylphosphine) platinum (II), cis-dichlorobis (acetonitrile) platinum ( II), dicarbonyldichloroplatinum (II), platinum chloride, platinum oxide and the like. In epoxidation, it is not always necessary to replace all hydrogen atoms in the hydrosiloxane with alicyclic epoxy groups. If it is 10 mol% or less of the total hydrosiloxane, hydrogen atoms may remain. If the hydrogen atom is present in excess of 10 mol% in the silicone resin, the durability of the resin composition may be reduced.

前記一般式(A)で表わされる化合物としては、具体的には、下記化学式で表される化合物が挙げられる。

Figure 2007145939
Specific examples of the compound represented by the general formula (A) include compounds represented by the following chemical formula.
Figure 2007145939

上記式中、m,n,pは、正の整数を表わす。   In the above formula, m, n, and p represent positive integers.

なお本発明の他の実施形態においては、前記一般式(A)で表わされるシロキサンに加えてエポキシ樹脂を併用して、樹脂成分を構成することも可能である。透明性の優れた封止材を得るためには、水添されているもののほうが好ましい。1分子中に2個以上のエポキシ基を有する水添型ものであればいかなるものであってよい。例えばビスフェノールA型、ビスフェノールAD型、ビスフェノールD型、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ナフトールノボラック型、ビスフェノールAのノボラック型、3官能型の各水添型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等を挙げることができる。ただし、こうしたエポキシ樹脂の配合量は、全樹脂成分中50重量%以下とすることが好ましい。50重量%を越えると、貯蔵安定性が低下するおそれがある。   In another embodiment of the present invention, an epoxy resin can be used in combination with the siloxane represented by the general formula (A) to constitute a resin component. In order to obtain a sealing material with excellent transparency, hydrogenated ones are preferred. Any hydrogenated type having two or more epoxy groups in one molecule may be used. For example, bisphenol A type, bisphenol AD type, bisphenol D type, phenol novolak type, cresol novolak type, naphthol novolak type, bisphenol A novolak type, trifunctional hydrogenated epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aliphatic An epoxy resin etc. can be mentioned. However, it is preferable that the compounding quantity of such an epoxy resin shall be 50 weight% or less in all the resin components. If it exceeds 50% by weight, the storage stability may be lowered.

以下、具体例を示して本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples, but the present invention is not limited thereto.

(実施例I)
まず、樹脂成分として、以下の化合物を用意した。
・EHPE−3150
(ダイセル化学工業社製、脂環式エポキシ樹脂、エポキシ当量168)
・TSL9906
(東芝シリコーン社製、エポキシ基含有シリコーン樹脂、エポキシ当量181)
・エポキシプロポキシプロピル末端ポリジメチルシロキサン
(分子量1,000〜1,400、GELEST社、DMS−E11)
・ビスフェノールA(油化シェル社製、エポキシ当量170)
これらの構造を、下記化学式に示す。

Figure 2007145939
Example I
First, the following compounds were prepared as resin components.
・ EHPE-3150
(Daicel Chemical Industries, alicyclic epoxy resin, epoxy equivalent 168)
・ TLS 9906
(Toshiba Silicone, epoxy group-containing silicone resin, epoxy equivalent 181)
Epoxypropoxypropyl terminated polydimethylsiloxane (molecular weight 1,000-1,400, GELEST, DMS-E11)
・ Bisphenol A (manufactured by Yuka Shell, epoxy equivalent 170)
These structures are shown in the chemical formula below.
Figure 2007145939

上記化学式から明らかなように、EHPE−3150は、一般式(1)で表わされるエポキシ樹脂に相当する。また、TSL9906およびDMS−E11は、一般式(4)で表わされる両末端エポキシ化シリコーン樹脂に相当する。   As is clear from the above chemical formula, EHPE-3150 corresponds to the epoxy resin represented by the general formula (1). TSL9906 and DMS-E11 correspond to the both-end epoxidized silicone resin represented by the general formula (4).

フェノール化合物としては、下記化学式で表わされるビスフェノールS(4,4−ジヒドロキシフェニルスルホン)を用意した。

Figure 2007145939
As the phenol compound, bisphenol S (4,4-dihydroxyphenylsulfone) represented by the following chemical formula was prepared.
Figure 2007145939

アルミニウム錯体としては、以下の3種類を用意した。   The following three types of aluminum complexes were prepared.

・Al(heaa)3(アルミニウムトリス(ヘキサデシルアセトアセテート))
(長鎖アルキル基の炭素数が16個)
・Al(staa)3(アルミニウムトリス(オクタデシルアセトアセテート))
(長鎖アルキル基の炭素数が18個)
・Al(beaa)3(アルミニウムトリス(ベヘニルアセトアセテート))
(長鎖アルキル基の炭素数が22個)
これらのアルミニウム錯体の構造は、下記化学式で表わされる。化学式から明らかなように、Al(heaa)3、Al(staa)3、およびAl(beaa)3は、長鎖アルキル基の炭素数が、それぞれ16個、18個および22個である。

Figure 2007145939
・ Al (heaa) 3 (Aluminum tris (hexadecyl acetoacetate))
(Long chain alkyl group has 16 carbon atoms)
・ Al (staa) 3 (Aluminum tris (octadecyl acetoacetate))
(Long chain alkyl group has 18 carbon atoms)
・ Al (beaa) 3 (Aluminum tris (behenyl acetoacetate))
(Long chain alkyl group has 22 carbon atoms)
The structures of these aluminum complexes are represented by the following chemical formula. As apparent from the chemical formula, Al (heaa) 3 , Al (staa) 3 , and Al (beaa) 3 have 16, 18 and 22 carbon atoms in the long-chain alkyl group, respectively.
Figure 2007145939

上述した成分を下記表1に示す処方(重量部)で配合し、均一に混合して実施例I−1〜I−6の樹脂組成物を調製した。

Figure 2007145939
The components described above were blended according to the formulation (parts by weight) shown in Table 1 below and mixed uniformly to prepare the resin compositions of Examples I-1 to I-6.
Figure 2007145939

また、以下の化合物を用いて、比較例の樹脂組成物を調製した。   Moreover, the resin composition of the comparative example was prepared using the following compounds.

・セロキサイド3000(ダイセル化学工業社製、リモネンジエポキシド、エポキシ当量 94)
・QH200(日本ゼオン社製、酸無水物、当量170)
・2MZ(四国化成社製、2−メチルイミダゾール)
・Al(etaa)3(アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート))
ここで用いたアルミニウム錯体は、下記化学式で表わされる。

Figure 2007145939
・ Celoxide 3000 (manufactured by Daicel Chemical Industries, limonene diepoxide, epoxy equivalent 94)
・ QH200 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., acid anhydride, equivalent 170)
・ 2MZ (manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., 2-methylimidazole)
・ Al (etaa) 3 (Aluminum tris (ethyl acetoacetate))
The aluminum complex used here is represented by the following chemical formula.
Figure 2007145939

上述した成分を下記表1に示す処方(重量部)で配合し、均一に混合して比較例I−1〜I−8の樹脂組成物を調製した。

Figure 2007145939
The components described above were blended in the formulation (parts by weight) shown in Table 1 below and mixed uniformly to prepare resin compositions of Comparative Examples I-1 to I-8.
Figure 2007145939

得られた各組成物について、貯蔵安定性を調べた。具体的には、200mlのガラス製のサンプル瓶に、各組成物をそれぞれ収容し、25℃の恒温水槽中に瓶ごと静置した。組成物の粘度をB型粘度計により測定し、初期粘度の2倍になるまでの時間(日数)で貯蔵安定性を評価した。貯蔵安定性は、15時間以上であることが要求される。   Each composition obtained was examined for storage stability. Specifically, each composition was accommodated in a 200 ml glass sample bottle, and the bottle was allowed to stand in a constant temperature water bath at 25 ° C. The viscosity of the composition was measured with a B-type viscometer, and the storage stability was evaluated by the time (days) until the initial viscosity was doubled. Storage stability is required to be 15 hours or longer.

また、各樹脂組成物を硬化させて、得られた硬化物の光透過性を調べた。具体的には、各組成物を石英基板上にバーコーダーにより塗布して塗膜を形成した。この塗膜を、ホットプレートを用いて120℃で1時間、さらに150℃で5時間、熱処理することによりで硬化させて、厚み0.03mmの薄膜からなる硬化物を形成した。得られた硬化物の波長400nmにおける光透過率を、分光光度計を用いて測定した。光透過性に優れた封じ樹脂を得るためには、光透過性は400nmで85%以上であることが求められる。   Moreover, each resin composition was hardened and the light transmittance of the obtained hardened | cured material was investigated. Specifically, each composition was applied onto a quartz substrate with a bar coder to form a coating film. This coating film was cured by heat treatment using a hot plate at 120 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 5 hours to form a cured product consisting of a thin film having a thickness of 0.03 mm. The light transmittance at a wavelength of 400 nm of the obtained cured product was measured using a spectrophotometer. In order to obtain a sealing resin excellent in light transmittance, the light transmittance is required to be 85% or more at 400 nm.

さらに、各樹脂組成物を用いて図1に示すような樹脂封止型LEDを作製し、冷熱サイクルテストを行なった。図1中、11は発光素子(ガリウムヒ素ダイオード)、12は透過性樹脂層、13はガラスエポキシ基材、14はリード線、15は電極である。各樹脂組成物を用いて、球形の枠内に樹脂を注入し、そこに素子を配置して硬化させることにより透過性樹脂層12をそれぞれ形成し、樹脂封止型LEDを作製した。   Further, a resin-sealed LED as shown in FIG. 1 was prepared using each resin composition, and a thermal cycle test was performed. In FIG. 1, 11 is a light emitting element (gallium arsenide diode), 12 is a transparent resin layer, 13 is a glass epoxy substrate, 14 is a lead wire, and 15 is an electrode. Using each resin composition, a resin was injected into a spherical frame, and a transparent resin layer 12 was formed by disposing an element therein and curing the resin, thereby producing a resin-sealed LED.

冷熱サイクルテストに当たっては、各樹脂封止型LEDを、85℃/85%で2時間吸湿させた後、260℃/10秒の加熱処理を施した。この際の透過性樹脂層12の剥がれを観測した。これを5回繰り返し、(不良個数/供試試料個数)を調べた。   In the cooling / heating cycle test, each resin-sealed LED was absorbed at 85 ° C./85% for 2 hours and then subjected to a heat treatment at 260 ° C./10 seconds. At this time, peeling of the permeable resin layer 12 was observed. This was repeated 5 times, and (number of defects / number of test samples) was examined.

得られた結果を、下記表3および4にまとめる。

Figure 2007145939
The results obtained are summarized in Tables 3 and 4 below.
Figure 2007145939

Figure 2007145939
Figure 2007145939

上記表3と4との比較から、樹脂成分の70重量%以上95重量%以下がEHPE−3150である実施例I−1〜I−7の組成物は、いずれも貯蔵安定性が優れていることがわかる。これは、硬化触媒として配合された長鎖アルキル基を有するアルミニウム錯体が、樹脂中で相分離していることに起因するものと推測される。炭素数22個の長鎖アルキル基を有する錯体(Al(beaa)3)が配合された実施例I−2〜I−5は、貯蔵安定性が特に優れていた。 From the comparison between Tables 3 and 4, the compositions of Examples I-1 to I-7, in which 70% by weight or more and 95% by weight or less of the resin component are EHPE-3150, are all excellent in storage stability. I understand that. This is presumably due to the fact that the aluminum complex having a long-chain alkyl group blended as a curing catalyst is phase-separated in the resin. Examples I-2 to I-5, in which a complex having a long-chain alkyl group having 22 carbon atoms (Al (beaa) 3 ) was blended, were particularly excellent in storage stability.

一方、EHPE−3150の含有量が70重量%未満、あるいは95重量%を超えた比較例I−1〜I−6においては、いずれも貯蔵安定性は悪かった。EHPE−3150の含有量が70重量%未満の場合には、硬化触媒としてのアルミニウム錯体が樹脂中で良好な相分離状態を保つことが困難になる。一方、95重量%を越えると、樹脂の粘度が高くなりすぎて、アルミニウム錯体の相分離状態が同様に劣化する。このため、いずれの場合も貯蔵安定性が不十分になる。   On the other hand, in Comparative Examples I-1 to I-6 in which the content of EHPE-3150 was less than 70% by weight or more than 95% by weight, the storage stability was poor. When the content of EHPE-3150 is less than 70% by weight, it becomes difficult for the aluminum complex as a curing catalyst to maintain a good phase separation state in the resin. On the other hand, if it exceeds 95% by weight, the viscosity of the resin becomes too high, and the phase separation state of the aluminum complex is similarly deteriorated. For this reason, in any case, the storage stability is insufficient.

所定のエポキシ化合物を所定の割合で含有しているので、実施例I−1〜I−6の樹脂組成物は、いずれも高い光透過性を有する。また、実施例の樹脂組成物を用いて作製された樹脂封止型LEDは、冷熱サイクルテストの結果、不良率が0であった。これは、樹脂成分の残部の少なくとも一部として、特定の両末端エポキシ化シリコーン樹脂が含有されていることによる。   Since the predetermined epoxy compound is contained in a predetermined ratio, the resin compositions of Examples I-1 to I-6 all have high light transmittance. Moreover, the resin-sealed LED produced using the resin composition of the example had a defect rate of 0 as a result of the thermal cycle test. This is because the specific both-end epoxidized silicone resin is contained as at least a part of the remainder of the resin component.

一方、シリコーン樹脂(TSL9906)の含有率の多い比較例I−3、I−7では不良が発生している。シリコーン樹脂の含有量が多い樹脂組成物を硬化させてなる硬化物は、密着性が低下して、冷熱サイクル試験の結果に悪影響を及ぼすことがわかる。   On the other hand, in Comparative Examples I-3 and I-7 having a high content of silicone resin (TSL9906), defects occurred. It can be seen that a cured product obtained by curing a resin composition containing a large amount of silicone resin has a poor adhesion and adversely affects the results of the thermal cycle test.

図2には、本発明の一実施形態にかかる半導体装置の構成を表わす概略図を示す。図示する半導体装置は、LED発光装置であり、凹部を有する基板24と、この凹部内に配置されたダイオードチップ26と、ダイオードチップを覆う透明樹脂層22とを含む。基板24には、内部電極25aおよび外部電極25bが設けられ、ダイオードチップ6の接続端子(図示せず)は、導電ワイヤ3により内部電極25aに接続される。   FIG. 2 is a schematic diagram showing a configuration of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. The illustrated semiconductor device is an LED light emitting device, and includes a substrate 24 having a recess, a diode chip 26 disposed in the recess, and a transparent resin layer 22 covering the diode chip. An internal electrode 25 a and an external electrode 25 b are provided on the substrate 24, and a connection terminal (not shown) of the diode chip 6 is connected to the internal electrode 25 a by the conductive wire 3.

ダイオードから発光した光は透明樹脂層を通過することから、図示するようなLED発光装置21においては、ダイオードチップ26を覆う透明樹脂層22には高い透明性が求められる。本発明の実施形態にかかる樹脂組成物は、上述したように優れた透明性を有するので、透明樹脂層22の形成に好適に用いられる。   Since light emitted from the diode passes through the transparent resin layer, in the LED light emitting device 21 as shown in the figure, the transparent resin layer 22 covering the diode chip 26 is required to have high transparency. Since the resin composition concerning embodiment of this invention has the outstanding transparency as mentioned above, it is used suitably for formation of the transparent resin layer 22. FIG.

(実施例II)
まず、樹脂成分として、以下の化合物を用意した。
・シリコン化合物1
3,4−エポキシシクロヘキシルエチルメチルシロキサンジメチルシロキサンコポリマー
(粘度:800mPa・sec、脂環式エポキシ基含有置換基3モル%)
・シリコン化合物2
3,4−エポキシシクロヘキシルエチルメチルシロキサンヘキシルメチルシロキサンコポリマー
(粘度:1000mPa・sec、脂環式エポキシ基含有置換基3モル%)
・シリコン化合物3
3,4−エポキシシクロヘキシルエチルメチルシロキサンジエチルシロキサンコポリマー
(粘度:900mPa・sec、脂環式エポキシ基含有置換基3モル%)
・シリコン化合物4
3,4−エポキシシクロヘキシルエチルメチルシロキサンメチルハイドロゲンシロキサンコポリマー
(粘度:800mPa・sec、脂環式エポキシ基含有置換基3モル%)
・シリコン化合物5
3,4−エポキシシクロヘキシルエチルメチルシロキサンメチルフェニルシロキサンコポリマー
(粘度:2000mPa・sec、脂環式エポキシ基含有置換基3モル%)
・シリコン化合物6
3,4−エポキシシクロヘキシルエチルメチルシロキサンジメチルシロキサンコポリマー
(粘度:4,000mPa・sec、脂環式エポキシ基含有置換基15モル%)
これらの構造を、下記化学式に示す。

Figure 2007145939
Example II
First, the following compounds were prepared as resin components.
・ Silicon compound 1
3,4-epoxycyclohexylethylmethylsiloxane dimethylsiloxane copolymer (viscosity: 800 mPa · sec, alicyclic epoxy group-containing substituent 3 mol%)
・ Silicon compound 2
3,4-epoxycyclohexylethylmethylsiloxane hexylmethylsiloxane copolymer (viscosity: 1000 mPa · sec, alicyclic epoxy group-containing substituent 3 mol%)
・ Silicon compound 3
3,4-epoxycyclohexylethylmethylsiloxane diethylsiloxane copolymer (viscosity: 900 mPa · sec, alicyclic epoxy group-containing substituent 3 mol%)
・ Silicon compound 4
3,4-epoxycyclohexylethylmethylsiloxane methylhydrogensiloxane copolymer (viscosity: 800 mPa · sec, alicyclic epoxy group-containing substituent 3 mol%)
・ Silicon compound 5
3,4-epoxycyclohexylethylmethylsiloxane methylphenylsiloxane copolymer (viscosity: 2000 mPa · sec, alicyclic epoxy group-containing substituent 3 mol%)
・ Silicon compound 6
3,4-epoxycyclohexylethylmethylsiloxane dimethylsiloxane copolymer (viscosity: 4,000 mPa · sec, alicyclic epoxy group-containing substituent 15 mol%)
These structures are shown in the chemical formula below.
Figure 2007145939

Figure 2007145939
Figure 2007145939

上記化学式に示されるように、シリコン化合物1〜4は、一般式(A)で表わされる化合物である。シリコン化合物5は、フェニル基を含んでおり、シリコン化合物6は、エポキシ基を15モル%含んでいる。よって、これらのシリコン化合物は、一般式(A)で表わされる化合物ではない。   As shown in the above chemical formula, the silicon compounds 1 to 4 are compounds represented by the general formula (A). The silicon compound 5 includes a phenyl group, and the silicon compound 6 includes 15 mol% of an epoxy group. Therefore, these silicon compounds are not compounds represented by the general formula (A).

上述した成分を下記表5に示す処方(重量部)で配合し、均一に混合して実施例II−I−1〜II−7の樹脂組成物を調製した。

Figure 2007145939
The components described above were blended according to the formulation (parts by weight) shown in Table 5 below, and mixed uniformly to prepare resin compositions of Examples II-I-1 to II-7.
Figure 2007145939

さらに、下記表6に示す処方で各成分を配合し、均一に混合して比較例II−I−1〜II−7の樹脂組成物を調製した。

Figure 2007145939
Furthermore, each component was mix | blended with the prescription shown in following Table 6, and it mixed uniformly, and prepared the resin composition of Comparative Example II-I-1-II-7.
Figure 2007145939

得られた各組成物について、前述と同様の手法により貯蔵安定性を調べ、同様に評価した。また、前述と同様の手法により各樹脂組成物を降下させて硬化物を形成し、その光透過性を調べた。   About each obtained composition, the storage stability was investigated by the method similar to the above, and it evaluated similarly. Moreover, the resin composition was lowered | hung by the method similar to the above, the hardened | cured material was formed, and the light transmittance was investigated.

さらに、各樹脂組成物を用いて図1に示したような樹脂封止型LEDを作製し、冷熱サイクルテストを行なった。各樹脂組成物を用いて、前述と同様の手法により透過性樹脂層12をそれぞれ形成し、樹脂封止型LEDを作製した。冷熱サイクルテストに当たっては、前述と同様の処理を施して(不良個数/供試試料個数)を調べた。   Further, a resin-sealed LED as shown in FIG. 1 was prepared using each resin composition, and a cooling / heating cycle test was performed. Using each resin composition, the transparent resin layer 12 was formed by the same method as described above, and a resin-sealed LED was produced. In the cooling / heating cycle test, the same treatment as described above was performed to determine the number of defects / the number of test samples.

得られた結果を、下記表7および8にまとめる。

Figure 2007145939
The results obtained are summarized in Tables 7 and 8 below.
Figure 2007145939

Figure 2007145939
Figure 2007145939

上記表7と8との比較から、樹脂成分の85重量%以上が一般式(A)で表わされる脂環式エポキシ基含有オルガノポリシロキサンである実施例II−1〜II−7は、いずれも貯蔵安定性が優れていることがわかる。これは、硬化触媒として配合された長鎖アルキル基を有するアルミニウム錯体が、樹脂中で相分離していることに起因するものと推測される。炭素数22個の長鎖アルキル基を有するアルミニウム錯体(Al(beaa)3)を含有する実施例II−3〜II−6は、特に貯蔵安定性に優れていた。 From comparison of Tables 7 and 8 above, Examples II-1 to II-7, in which 85% by weight or more of the resin components are alicyclic epoxy group-containing organopolysiloxanes represented by the general formula (A), It can be seen that the storage stability is excellent. This is presumably due to the fact that the aluminum complex having a long-chain alkyl group blended as a curing catalyst is phase-separated in the resin. Examples II- 3 to II-6 containing an aluminum complex (Al (beaa) 3 ) having a long-chain alkyl group having 22 carbon atoms were particularly excellent in storage stability.

しかも、これら実施例の組成物を硬化させてなる硬化物は、光透過性が優れており、いずれも93%と良好である。
さらに、実施例II−1〜II−7においては、冷熱サイクルテストを施しても不良は全く発生しない。このことから、実施例の硬化物は、高い密着性を有することがわかる。
And the hardened | cured material formed by hardening | curing the composition of these Examples is excellent in light transmittance, and all are as favorable as 93%.
Further, in Examples II-1 to II-7, no defect occurs at all even when the cooling cycle test is performed. From this, it can be seen that the cured products of the examples have high adhesion.

このように、実施例の組成物は、貯蔵安定性、光透過性および密着性の全ての特性を備えている。これは、紫外線吸収のあるフェニル基やエステル基を一切含まないエポキシ基含有シリコーン樹脂と相分離型のアルミニウム錯体を用いることによるものである。   Thus, the composition of an Example is equipped with all the characteristics of storage stability, light transmittance, and adhesiveness. This is due to the use of an epoxy group-containing silicone resin that does not contain any UV-absorbing phenyl group or ester group and a phase-separated aluminum complex.

樹脂成分中における一般式(A)で表わされるポリシロキサンの含有量が85重量%未満の場合には、こうした特性を全て備えた樹脂組成物は得られないことが、比較例に示されている。   The comparative example shows that when the content of the polysiloxane represented by the general formula (A) in the resin component is less than 85% by weight, a resin composition having all these characteristics cannot be obtained. .

比較例の組成物は、所定のポリシロキサンの含有量が少ないことに起因して、いずれも光透過性が劣っている。それに加えて、比較例II−2、II−3、およびII−4では、密着性が乏しい。比較例II−4においては、貯蔵安定性が著しく劣っている。これは、相溶型アルミニウム錯体を用いているためである。   The compositions of the comparative examples are all inferior in light transmittance due to the low content of the predetermined polysiloxane. In addition, Comparative Examples II-2, II-3, and II-4 have poor adhesion. In Comparative Example II-4, the storage stability is remarkably inferior. This is because a compatible aluminum complex is used.

本発明の実施形態にかかる樹脂組成物を用いることによって、短波長領域の光源を用いた樹脂封止型LEDが実現される。   By using the resin composition according to the embodiment of the present invention, a resin-sealed LED using a light source in a short wavelength region is realized.

本発明の一実施形態にかかる半導体装置を示す模式図。1 is a schematic diagram showing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態にかかる半導体装置を表わす概略図。1 is a schematic diagram illustrating a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

11…発光素子; 12…透明性樹脂; 13…ガラスエポキシ基材
14…リード線; 15…電極; 21…発光装置; 22…透明樹脂層
23…導線ワイヤ; 24…基板; 25a…内部電極; 25b…外部電極
26…ダイオードチップ。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Light emitting element; 12 ... Transparent resin; 13 ... Glass epoxy base material 14 ... Lead wire; 15 ... Electrode; 21 ... Light-emitting device; 22 ... Transparent resin layer 23 ... Conducting wire; 24 ... Substrate; 25b ... External electrode 26 ... Diode chip.

Claims (7)

樹脂成分、および
フェノール化合物とアルミニウム錯体とを含む硬化触媒を含有し、
前記樹脂成分は、下記一般式(1)で表わされるエポキシ樹脂を70乃至95重量%と、残部の少なくとも一部を占める両末端エポキシ化シリコーン樹脂とを含み、
前記フェノール化合物は下記一般式(2)で表わされ、
前記アルミニウム錯体は下記一般式(3a)〜(3c)で表わされる少なくとも1種を含むことを特徴とする樹脂組成物。
Figure 2007145939
(上記一般式(1)中、R0はアルコール類、フェノール類、カルボン酸類、アミン類、およびチオール類から選択され、かつn個の活性水素を有する有機基であり、nは2〜100の整数である。)
Figure 2007145939
(上記一般式(2)中、Arは置換もしくは非置換の炭素数2〜14の芳香族基または複素芳香族基である。R10は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜30の置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換の芳香族基または複素芳香族基である。ただし、前記フェノール化合物は、炭素数が10以上の置換もしくは非置換のアルキル基、あるいは炭素数が10以上の置換もしくは非置換のアルキル基を有する環状有機構造を、分子内に1つ以上有する。kは1〜7の整数であり、jは1〜7の整数である。)
Figure 2007145939
(上記一般式中、R21、R22、R23およびR24は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、炭素数1〜30の置換もしくは非置換のアルキル基である。)
A resin component, and a curing catalyst containing a phenol compound and an aluminum complex,
The resin component includes 70 to 95% by weight of an epoxy resin represented by the following general formula (1), and a both-end epoxidized silicone resin that occupies at least a part of the balance,
The phenol compound is represented by the following general formula (2):
The said aluminum complex contains at least 1 sort (s) represented by the following general formula (3a)-(3c), The resin composition characterized by the above-mentioned.
Figure 2007145939
(In the general formula (1), R 0 is an organic group selected from alcohols, phenols, carboxylic acids, amines, and thiols and having n active hydrogens, and n is 2 to 100. (It is an integer.)
Figure 2007145939
(In the general formula (2), Ar is a substituted or unsubstituted aromatic group or heteroaromatic group having 2 to 14 carbon atoms. R 10 may be the same or different, and may be a hydrogen atom or a carbon number. 1 to 30 substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted aromatic group or heteroaromatic group, provided that the phenol compound is a substituted or unsubstituted alkyl group having 10 or more carbon atoms, or (At least one cyclic organic structure having a substituted or unsubstituted alkyl group having 10 or more carbon atoms is included in the molecule, k is an integer of 1 to 7, and j is an integer of 1 to 7.)
Figure 2007145939
(In the above general formula, R 21 , R 22 , R 23 and R 24 may be the same or different and are each a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms.)
前記両末端エポキシ化シリコーン樹脂は、下記一般式(4)で表わされることを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物。
Figure 2007145939
(前記一般式(4)中、R1は、炭素数1〜10の2置換もしくは非置換の2価のアルキル基であり、R2は、炭素数1〜10の脂肪族基である。mは0以上20以下の整数である。)
The resin composition according to claim 1, wherein the both-end epoxidized silicone resin is represented by the following general formula (4).
Figure 2007145939
(In the general formula (4), R 1 is a disubstituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 is an aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms. Is an integer from 0 to 20.)
前記アルミニウム錯体は、炭素数が10以上の置換基を一つの配位子中に少なくとも一つ含むことを特徴とする請求項1または2に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 1, wherein the aluminum complex contains at least one substituent having 10 or more carbon atoms in one ligand. 樹脂成分、および
フェノール化合物とアルミニウム錯体とを含む硬化触媒を含有し、
前記樹脂成分は、少なくとも85重量%の下記一般式(A)で表わされる脂環式エポキシ基含有オルガノポリシロキサンと、残部の芳香族基あるいはエステル基を有さないエポキシ樹脂、
前記フェノール化合物は下記一般式(2)で表わされ、
前記アルミニウム錯体は下記一般式(3a)〜(3c)で表わされる少なくとも1種を含むことを特徴とする樹脂組成物。
Figure 2007145939
(上記組成式(A)中、R4は、内部型エポキシ基を含む置換あるいは非置換の炭素数1〜20のアルキル基であり、R5は、水素原子、水酸基、アルコキシ基、あるいは炭素数1〜20のアルキル基である。p、qは、0.001≦p/(p+q)≦0.1を満たす数値である。)
Figure 2007145939
(上記一般式(2)中、Arは置換もしくは非置換の炭素数2〜14の芳香族基または複素芳香族基である。R10は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜30の置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換の芳香族基または複素芳香族基である。ただし、前記フェノール化合物は、炭素数が10以上の置換もしくは非置換のアルキル基、あるいは炭素数が10以上の置換もしくは非置換のアルキル基を有する環状有機構造を、分子内に1つ以上有する。kは1〜7の整数であり、jは1〜7の整数である。)
Figure 2007145939
(上記一般式中、R21、R22、R23およびR24は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、炭素数1〜30の置換もしくは非置換のアルキル基である。)
A resin component, and a curing catalyst containing a phenol compound and an aluminum complex,
The resin component comprises at least 85% by weight of an alicyclic epoxy group-containing organopolysiloxane represented by the following general formula (A) and an epoxy resin having no remaining aromatic group or ester group,
The phenol compound is represented by the following general formula (2):
The said aluminum complex contains at least 1 sort (s) represented by the following general formula (3a)-(3c), The resin composition characterized by the above-mentioned.
Figure 2007145939
(In the above compositional formula (A), R 4 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms containing an internal epoxy group, and R 5 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, or a carbon number. (It is an alkyl group of 1 to 20. p and q are numerical values satisfying 0.001 ≦ p / (p + q) ≦ 0.1.)
Figure 2007145939
(In the general formula (2), Ar is a substituted or unsubstituted aromatic group or heteroaromatic group having 2 to 14 carbon atoms. R 10 may be the same or different, and may be a hydrogen atom or a carbon number. 1 to 30 substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted aromatic group or heteroaromatic group, provided that the phenol compound is a substituted or unsubstituted alkyl group having 10 or more carbon atoms, or (At least one cyclic organic structure having a substituted or unsubstituted alkyl group having 10 or more carbon atoms is included in the molecule, k is an integer of 1 to 7, and j is an integer of 1 to 7.)
Figure 2007145939
(In the above general formula, R 21 , R 22 , R 23 and R 24 may be the same or different and are each a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms.)
前記一般式(A)におけるR4が2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基であることを特徴とする請求項4に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 4, wherein R 4 in the general formula (A) is a 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group. 前記アルミニウム錯体は、炭素数が10以上の置換基を一つの配位子中に少なくとも一つ含むことを特徴とする請求項4または5に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 4 or 5, wherein the aluminum complex contains at least one substituent having 10 or more carbon atoms in one ligand. 半導体素子と、この半導体素子を封止する樹脂層とを具備し、前記樹脂層は請求項1ないし6のいずれか1項に記載の樹脂組成物を硬化させてなることを特徴とする樹脂封止型半導体装置。   7. A resin seal comprising a semiconductor element and a resin layer for sealing the semiconductor element, wherein the resin layer is obtained by curing the resin composition according to claim 1. Stop-type semiconductor device.
JP2005340253A 2005-11-25 2005-11-25 Resin composition and resin-encapsulated semiconductor device Expired - Fee Related JP4594851B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005340253A JP4594851B2 (en) 2005-11-25 2005-11-25 Resin composition and resin-encapsulated semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005340253A JP4594851B2 (en) 2005-11-25 2005-11-25 Resin composition and resin-encapsulated semiconductor device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007145939A true JP2007145939A (en) 2007-06-14
JP4594851B2 JP4594851B2 (en) 2010-12-08

Family

ID=38207742

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005340253A Expired - Fee Related JP4594851B2 (en) 2005-11-25 2005-11-25 Resin composition and resin-encapsulated semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4594851B2 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007332314A (en) * 2006-06-16 2007-12-27 Jsr Corp Thermosetting resin composition and adhesive for optical semiconductor
WO2012020625A1 (en) * 2010-08-10 2012-02-16 ダイセル化学工業株式会社 Curable resin composition and cured article thereof
JP2012101410A (en) * 2010-11-09 2012-05-31 Canon Inc Process for forming hydrophilic coating and hydrophilic coating, and method for manufacturing inkjet recording head and inkjet recording head
TWI629291B (en) * 2011-01-05 2018-07-11 納美仕有限公司 Resin composition
JP7385715B2 (en) 2017-12-15 2023-11-22 積水化学工業株式会社 Encapsulants for electronic devices

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63199718A (en) * 1987-02-16 1988-08-18 Daicel Chem Ind Ltd Curable resin composition
JPH05125150A (en) * 1991-11-01 1993-05-21 Daicel Chem Ind Ltd Curable resin composition
JPH05342910A (en) * 1992-06-11 1993-12-24 Toshiba Chem Corp Conductive paste
JPH06102669A (en) * 1992-09-21 1994-04-15 Goou Kagaku Kogyo Kk Photosensitive resin composition and color filter using the same
JPH06128354A (en) * 1992-06-25 1994-05-10 General Electric Co <Ge> One-pack ultraviolet-curing epoxy silicone composition
JP2001002758A (en) * 1999-06-17 2001-01-09 Nippon Kayaku Co Ltd Epoxy resin composition for sealing optical semiconductor
JP2004083780A (en) * 2002-08-28 2004-03-18 Kyocera Chemical Corp Mount paste for semiconductor
WO2004072150A1 (en) * 2003-02-12 2004-08-26 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Silicon compound containing epoxy group and thermosetting resin composition
JP2004250604A (en) * 2003-02-20 2004-09-09 Daicel Chem Ind Ltd Silicone-modified epoxy resin
JP2004256781A (en) * 2003-02-28 2004-09-16 Toshiba Corp Epoxy resin composition for coating, and electronic component using the same
JP2004292706A (en) * 2003-03-27 2004-10-21 Nof Corp Optical semiconductor sealing epoxy resin composition, and optical semiconductor device
JP2004307710A (en) * 2003-04-09 2004-11-04 Tamura Kaken Co Ltd Active energy beam-curable alkali-soluble resin, active energy beam-curable alkali-soluble resin composition, composition for solder resist, dry film and printed circuit board
JP2005097448A (en) * 2003-09-25 2005-04-14 Matsushita Electric Works Ltd Liquid epoxy resin composition for sealing semiconductor and semiconductor apparatus

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63199718A (en) * 1987-02-16 1988-08-18 Daicel Chem Ind Ltd Curable resin composition
JPH05125150A (en) * 1991-11-01 1993-05-21 Daicel Chem Ind Ltd Curable resin composition
JPH05342910A (en) * 1992-06-11 1993-12-24 Toshiba Chem Corp Conductive paste
JPH06128354A (en) * 1992-06-25 1994-05-10 General Electric Co <Ge> One-pack ultraviolet-curing epoxy silicone composition
JPH06102669A (en) * 1992-09-21 1994-04-15 Goou Kagaku Kogyo Kk Photosensitive resin composition and color filter using the same
JP2001002758A (en) * 1999-06-17 2001-01-09 Nippon Kayaku Co Ltd Epoxy resin composition for sealing optical semiconductor
JP2004083780A (en) * 2002-08-28 2004-03-18 Kyocera Chemical Corp Mount paste for semiconductor
WO2004072150A1 (en) * 2003-02-12 2004-08-26 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Silicon compound containing epoxy group and thermosetting resin composition
JP2004250604A (en) * 2003-02-20 2004-09-09 Daicel Chem Ind Ltd Silicone-modified epoxy resin
JP2004256781A (en) * 2003-02-28 2004-09-16 Toshiba Corp Epoxy resin composition for coating, and electronic component using the same
JP2004292706A (en) * 2003-03-27 2004-10-21 Nof Corp Optical semiconductor sealing epoxy resin composition, and optical semiconductor device
JP2004307710A (en) * 2003-04-09 2004-11-04 Tamura Kaken Co Ltd Active energy beam-curable alkali-soluble resin, active energy beam-curable alkali-soluble resin composition, composition for solder resist, dry film and printed circuit board
JP2005097448A (en) * 2003-09-25 2005-04-14 Matsushita Electric Works Ltd Liquid epoxy resin composition for sealing semiconductor and semiconductor apparatus

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007332314A (en) * 2006-06-16 2007-12-27 Jsr Corp Thermosetting resin composition and adhesive for optical semiconductor
WO2012020625A1 (en) * 2010-08-10 2012-02-16 ダイセル化学工業株式会社 Curable resin composition and cured article thereof
JP2012036320A (en) * 2010-08-10 2012-02-23 Daicel Corp Curable resin composition and cured article thereof
JP2012101410A (en) * 2010-11-09 2012-05-31 Canon Inc Process for forming hydrophilic coating and hydrophilic coating, and method for manufacturing inkjet recording head and inkjet recording head
TWI629291B (en) * 2011-01-05 2018-07-11 納美仕有限公司 Resin composition
JP7385715B2 (en) 2017-12-15 2023-11-22 積水化学工業株式会社 Encapsulants for electronic devices

Also Published As

Publication number Publication date
JP4594851B2 (en) 2010-12-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5952439A (en) Epoxy group-containing silicone resin and compositions based thereon
US5516858A (en) Epoxy group-containing silicone resin and compositions based thereon
WO2007046399A1 (en) Thermosetting resin composition and photosemiconductor encapsulation material
CN101657490B (en) Epoxy silicone and method for production thereof, and curable resin composition using the same and use thereof
TW200948846A (en) Epoxy-silicon mixed resin composition for sealing of light semiconductor element and transfer molding plate formed thereof
Huang et al. Studies on UV‐stable silicone–epoxy resins
TW201221581A (en) Addition-curable silicone composition, optical element encapsulation material composed of the composition, and semi-conductor device with optical elements encapsulated by curable substance of the optical element encapsulation material
CN101638519A (en) Resin composition for encapsulating optical semiconductor element
WO2006013863A1 (en) Polyorganosiloxane and curable composition containing same
JPWO2010026714A1 (en) Siloxane compound, curable resin composition, cured product thereof and optical semiconductor element
JP2008019422A (en) Epoxy-silicone mixed resin composition and light emitting semiconductor device
JP3339910B2 (en) Curable resin composition
JP4594851B2 (en) Resin composition and resin-encapsulated semiconductor device
JP6343294B2 (en) Adhesion promoter, composition containing the same, and optical element using the composition
TW201237094A (en) Curable epoxy resin composition
CN109929252A (en) Ultraviolet-curing resin composition, bonding agent and solidfied material
TW201209100A (en) Polyorganosiloxane and encapsulation material obtained from the polyorganosiloxane and electronic device including the encapsulation material
JP4088697B2 (en) Modified polysiloxane and curable resin composition using the same
TW201245287A (en) Curable silicone resins for LED encapsulation
TW201124475A (en) Composition for packaging optical semiconductor element.
TW201041975A (en) Resin composition for encapsulating optical semiconductor element
JP2007016073A (en) Epoxy resin composition and optical semiconductor device
JP2012092172A (en) Composition for sealing optical semiconductor, and light-emitting element
JP2007302825A (en) Epoxy-modified silicone
JP6077321B2 (en) Curable resin composition, optical semiconductor sealing material, and optical semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091210

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091215

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100203

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100316

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100513

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100601

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100714

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100824

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100917

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130924

Year of fee payment: 3

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4594851

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130924

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees