JP2007302825A - Epoxy-modified silicone - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、発光素子封止剤として有用なエポキシ変性シリコーン及びその製造方法に関する。 The present invention relates to an epoxy-modified silicone useful as a light-emitting device sealing agent and a method for producing the same.
近年、光半導体の高性能化が進み、封止用樹脂にもさらに高い性能が要求されるようになった。シロキサン骨格を繰り返し単位とし、置換基にエポキシ基を有するエポキシ変性シリコーンは、エポキシ樹脂が有する優れた硬化特性と高いTgに基づく耐熱性、シリコーンが有する耐光性、透明性等の優れた特性を併せもつことが期待されることから、高性能封止材として注目を集めている。
エポキシ変性シリコーンの製造方法としては、例えば、オレフィン基含有シロキサンを過酸化物と反応させる方法、クロロシラン又はアセトキシシラン化合物をグリシドールと反応させてグリシジルシリコーンエーテルを生成させる方法等がある。しかしながら、これらの方法はいずれも収率が低く操作が煩雑であることから、実用化はなされていない。
In recent years, the performance of optical semiconductors has increased, and higher performance has been required for sealing resins. Epoxy-modified silicones having a siloxane skeleton as a repeating unit and having an epoxy group as a substituent combine excellent curing characteristics of epoxy resins with excellent properties such as heat resistance based on high Tg, light resistance and transparency of silicones. Since it is expected to have, it attracts attention as a high-performance sealing material.
Examples of the method for producing the epoxy-modified silicone include a method in which an olefin group-containing siloxane is reacted with a peroxide, and a method in which a chlorosilane or an acetoxysilane compound is reacted with glycidol to produce glycidyl silicone ether. However, none of these methods has been put to practical use because the yield is low and the operation is complicated.
これに対し、分子内にSiH単位を有するオルガノハイドロジェンシリコーンに対し、少なくともビニル基及びエポキシ基を有する化合物をヒドロシリル化反応により付加する方法は、エポキシ基あるいは、エポキシ基以外の有機官能基の導入が可能であることから、エポキシ変性シリコーンの製造方法として、広く用いられている。 In contrast, a method of adding a compound having at least a vinyl group and an epoxy group to an organohydrogensilicone having a SiH unit in the molecule by a hydrosilylation reaction is the introduction of an epoxy functional group or an organic functional group other than an epoxy group. Therefore, it is widely used as a method for producing epoxy-modified silicone.
例えば、特許文献1には、Q構造を単位構造として有し、かつ、置換基としてアルコキシシリルアルキル基を有するエポキシ変性シリコーン、並びに、SiH単位を有するオルガノハイドロジェンシリコーンに対して、エポキシ基を有するビニル化合物をヒドロシリル化反応により付加して、前記エポキシ変性シリコーンを製造する方法が開示されている。 For example, Patent Document 1 has an epoxy group for an epoxy-modified silicone having a Q structure as a unit structure and having an alkoxysilylalkyl group as a substituent, and an organohydrogen silicone having a SiH unit. A method for producing the epoxy-modified silicone by adding a vinyl compound by a hydrosilylation reaction is disclosed.
また、例えば、特許文献2には、一分子中にエポキシ基含有有機基と炭素数6以上のアルキル基とを少なくとも1個づつ有する、一官能性シロキサン単位と四官能性シロキサン単位からなるエポキシ変性シリコーン、及びヒドロシリル化反応触媒存在下、オルガノハイドロジェンシリコーンに対して、エポキシ基を有するビニル化合物と炭素数6以上のアルケンとを含む化合物をヒドロシリル化反応により付加して、前記エポキシ変性シリコーンを製造する方法が開示されている。
しかし、特許文献1や特許文献2に開示されるような、オルガノハイドロジェンシリコーンに対してエポキシ基を有するビニル化合物をヒドロシリル化反応により付加して製造したエポキシ変性シリコーンは、その硬化物が光や熱により着色・変色し易いという問題点を有しており、発光素子用封止剤のような透明性が求められる用途に用いるために、この点の改良が求められている。
そこで、本発明は、光や熱による着色・変色の少ないエポキシ変性シリコーン及びその製造方法を提供することを目的とする。
However, as disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2, an epoxy-modified silicone produced by adding a vinyl compound having an epoxy group to an organohydrogen silicone by a hydrosilylation reaction has a cured product that is light or light. There is a problem that it is easily colored or discolored by heat, and improvement of this point is required for use in applications where transparency is required, such as a sealant for a light emitting element.
Then, an object of this invention is to provide the epoxy modified silicone with few coloring and discoloration by light and a heat | fever, and its manufacturing method.
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、オルガノハイドロジェンシリコーンに対してエポキシ基を有するビニル化合物をヒドロシリル化反応により付加して製造したエポキシ変性シリコーンの硬化物の光や熱による着色・変色は、炭素−炭素二重結合を有する化合物に起因すること、及び、その残留量を一定の値以下にすることにより着色・変色を防止できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は以下のとおりである。
オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位に対し、エポキシ基を有するビニル化合物をヒドロシリル化反応により付加して得られるエポキシ変性シリコーンであって、炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量がエポキシ変性シリコーンに対し2質量%以下であるエポキシ変性シリコーン。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have obtained light and heat from a cured product of an epoxy-modified silicone produced by adding a vinyl compound having an epoxy group to an organohydrogen silicone by a hydrosilylation reaction. It has been found that coloring and discoloration due to carbon is due to a compound having a carbon-carbon double bond, and that coloring and discoloration can be prevented by making the residual amount below a certain value, leading to the completion of the present invention. It was.
That is, the present invention is as follows.
An epoxy-modified silicone obtained by adding a vinyl compound having an epoxy group to a SiH unit of an organohydrogensilicone by a hydrosilylation reaction, wherein the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond is changed to the epoxy-modified silicone. Epoxy-modified silicone that is 2% by mass or less.
従来技術においても、溶媒やビニル化合物の未反応分を加熱減圧条件下で留去することは行われている。
しかし、オルガノハイドロジェンシリコーンに対し、ビニル化合物をヒドロシリル化反応により付加して得られるエポキシ変性シリコーンは粘脹物となる。このような粘脹物から低分子量成分を完全に留去することは困難である。例えば、竪型の撹拌槽を用いた場合、スケールの増加に伴い、通常、液容量に対する蒸発面積の比率が小さくなるとともに液深が大きくなる。このため、真空度を高めても、撹拌槽の下部は液深があるために実質的に高い圧力となって低分子量成分を効率的に留去しにくい。
そのため、従来技術において行われているような単純な留去では、実際には、ビニル化合物の未反応分等は十分に除去されてはいない。
Also in the prior art, unreacted components of the solvent and vinyl compound are distilled off under heating and reduced pressure conditions.
However, an epoxy-modified silicone obtained by adding a vinyl compound to an organohydrogen silicone by a hydrosilylation reaction becomes a viscous product. It is difficult to completely distill off low molecular weight components from such a viscous material. For example, when a vertical stirring tank is used, with increasing scale, the ratio of the evaporation area to the liquid volume usually decreases and the liquid depth increases. For this reason, even if the degree of vacuum is increased, the lower part of the stirring tank has a liquid depth, so that the pressure is substantially high and it is difficult to efficiently distill off the low molecular weight component.
For this reason, simple distillation such as that performed in the prior art does not actually sufficiently remove unreacted components of the vinyl compound.
さらに、本発明者らがオルガノハイドロジェンシリコーンとビニル化合物のヒドロシリル化反応ついて詳しく調べたところ、副反応として、ビニル化合物のビニル基が内部転移を生じ、ビニル化合物よりも沸点が高く、ヒドロシリル化反応に対する反応性が極めて低い副生成物を生じることが分かった。このような副生成物は、炭素−炭素二重結合を有するが、沸点が高いことなどから留去が難しい。
そのため、従来行われているような、溶媒やビニル化合物の未反応分を対象とした留去を行っただけでは、前述の副生成物は留去されず、その結果、エポキシ変性シリコーン中には多くの炭素−炭素二重結合を有する化合物が残留する。
Furthermore, when the present inventors investigated in detail about the hydrosilylation reaction of organohydrogensilicone and a vinyl compound, as a side reaction, the vinyl group of the vinyl compound undergoes internal transfer, has a higher boiling point than the vinyl compound, and the hydrosilylation reaction. It has been found that by-products are produced that are very insensitive to. Such a by-product has a carbon-carbon double bond, but is difficult to evaporate due to its high boiling point.
For this reason, the above-mentioned by-products are not distilled off only by performing distillation for the unreacted portion of the solvent or vinyl compound as in the past, and as a result, in the epoxy-modified silicone, A compound with many carbon-carbon double bonds remains.
このように、炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量について特別着目されていない従来技術においては、エポキシ変性シリコーン中に多くの炭素−炭素二重結合を有する化合物が残留している。
これに対し、本発明においては、エポキシ変性シリコーン中の炭素−炭素二重結合を有する化合物に着目し、その残留量が特定の値以下となるように、使用する原料や、留去する際の温度、圧力、時間等の操作条件を選択することで、エポキシ変性シリコーンビニル化合物中の炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量を減らし、これによりその硬化物の耐光性、耐熱変色性の向上を実現した。
Thus, in the prior art which does not pay special attention to the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond, a compound having many carbon-carbon double bonds remains in the epoxy-modified silicone.
On the other hand, in the present invention, paying attention to the compound having a carbon-carbon double bond in the epoxy-modified silicone, the raw material to be used, or when distilling off, so that the residual amount becomes a specific value or less. By selecting operating conditions such as temperature, pressure, time, etc., the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond in the epoxy-modified silicone vinyl compound is reduced, and thereby the light resistance and heat discoloration resistance of the cured product are reduced. Improved.
本発明によれば、透明性、耐熱性を有し、光や熱による着色・変色の少ない発光素子封止材用途に好適なエポキシ変性シリコーン及びその製造方法を提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it can provide the epoxy modified silicone suitable for the light emitting element sealing material use which has transparency and heat resistance, and there are few coloring and discoloration by light and a heat | fever, and its manufacturing method.
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のエポキシ変性シリコーンは、エポキシ価が0.15以上0.5以下の範囲であることが好ましい。
ここで、本発明におけるエポキシ価とは、エポキシ変性シリコーン100g中に存在するエポキシ単位の数のことをいい、具体的には、以下の方法によって測定される。
<エポキシ価の測定方法>
樹脂試料をベンジルアルコールと1−プロパノールで溶解する。この溶液にヨウ化カリウム水溶液、ブロモフェノールブルー指示薬を添加した後、1規定塩酸にて滴定し、反応系内が青色から黄色になった点を当量点とする。当量点より、エポキシ変性シリコーンのエポキシ価を以下の式に従って算出する。
エポキシ価(当量/100g)=(V×N×F)/(10×W)
[ただし、W、V、N、Fは各々以下の値を表す。
W:試料の質量(g)、
V:滴定量(ml)、
N:滴定に使用した塩酸の規定度(N)、
F:滴定に使用した塩酸のファクター ]
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The epoxy-modified silicone of the present invention preferably has an epoxy value in the range of 0.15 to 0.5.
Here, the epoxy value in the present invention refers to the number of epoxy units present in 100 g of the epoxy-modified silicone, and is specifically measured by the following method.
<Method for measuring epoxy value>
The resin sample is dissolved with benzyl alcohol and 1-propanol. To this solution, an aqueous potassium iodide solution and a bromophenol blue indicator are added, followed by titration with 1N hydrochloric acid, and the point where the reaction system turns from blue to yellow is taken as the equivalent point. From the equivalent point, the epoxy value of the epoxy-modified silicone is calculated according to the following formula.
Epoxy value (equivalent / 100 g) = (V × N × F) / (10 × W)
[W, V, N, and F represent the following values, respectively.
W: Mass of sample (g),
V: titer (ml),
N: Normality of hydrochloric acid used for titration (N),
F: Factor of hydrochloric acid used for titration]
本発明のエポキシ変性シリコーンを硬化物とした際に、該硬化物の耐熱性が高まることから、エポキシ変性シリコーンのエポキシ価は0.15以上であることが好ましい。さらに、硬化物とした際の強度を高め、実装時、あるいは、使用時における表面の損傷を回避するためには、エポキシ価は0.17以上がより好ましく、0.19以上がさらに好ましく、0.21以上が特に好ましい。
一方、本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化物の耐光性が高まることから、エポキシ変性シリコーンのエポキシ価は0.5以下であることが好ましく、0.48以下がより好ましく、0.46以下がさらに好ましく、0.44以下が特に好ましい。
When the epoxy-modified silicone of the present invention is used as a cured product, it is preferable that the epoxy value of the epoxy-modified silicone is 0.15 or more because the heat resistance of the cured product is increased. Furthermore, in order to increase the strength of the cured product and avoid damage to the surface during mounting or use, the epoxy value is more preferably 0.17 or more, further preferably 0.19 or more, 0 .21 or more is particularly preferable.
On the other hand, since the light resistance of the cured product obtained using the epoxy-modified silicone of the present invention increases, the epoxy value of the epoxy-modified silicone is preferably 0.5 or less, more preferably 0.48 or less, and 46 or less is further preferable, and 0.44 or less is particularly preferable.
本発明におけるエポキシ変性シリコーンは、平均組成式(1)によって表されるオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位に対し、エポキシ基を有するビニル化合物を付加して得られるものであることが好ましい。
上記の有機基は、前記の炭素数及び酸素数の範囲内であれば、有機基としてヒドロキシル基、アルコキシ基、アシル基、カルボキシル基、アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、あるいは、エステル結合を含んでいてもよい。また、窒素、リン、硫黄等の酸素を除くヘテロ原子を含んでいてもよい。]
The epoxy-modified silicone in the present invention is preferably obtained by adding a vinyl compound having an epoxy group to the SiH unit of the organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1).
The above organic group has a hydroxyl group, an alkoxy group, an acyl group, a carboxyl group, an alkenyloxy group, an acyloxy group, a halogen atom, or an ester bond as long as it is within the range of the above carbon number and oxygen number. May be included. Moreover, the hetero atom except oxygen, such as nitrogen, phosphorus, and sulfur, may be included. ]
なお、平均組成式(1)におけるa、b、c、d、e、f、gは、オルガノハイドロジェンシリコーン1モル中に存在する各繰り返し単位のモル数を表し、a、b、c、d、e、f、gは各々0以上の数値であって、かつ、b、d、fは下記数式(1)を満足する数値である。
b+d+f>0・・・数式(1)
In addition, a, b, c, d, e, f, and g in the average composition formula (1) represent the number of moles of each repeating unit present in 1 mole of the organohydrogensilicone, and a, b, c, d , E, f, and g are numerical values of 0 or more, respectively, and b, d, and f are numerical values that satisfy the following formula (1).
b + d + f> 0 Formula (1)
また、上記のc、d、e、f、gが各々下記数式(2)、数式(3)、数式(4)を同時に満足する場合には、上記のa、b、e、f、gは、数式(5)を満足する範囲から選択される数値である。
c+d≠0・・・数式(2)
e+f≠0・・・数式(3)
g≠0・・・数式(4)
0≦a+b≦e+f+2g+2・・・数式(5)
When the above c, d, e, f, and g satisfy the following equations (2), (3), and (4), respectively, a, b, e, f, and g are , A numerical value selected from a range satisfying the formula (5).
c + d ≠ 0 Formula (2)
e + f ≠ 0 Formula (3)
g ≠ 0 Formula (4)
0 ≦ a + b ≦ e + f + 2g + 2 Formula (5)
さらに、上記のe、f、gが各々下記数式(6)、数式(7)を同時に満足する場合には、上記のa、bは下記数式(8)を満足する範囲から選択される数値である。
e+f=0・・・数式(6)
g=0・・・数式(7)
0≦a+b≦2・・・数式(8)
Furthermore, when the above e, f, and g satisfy the following formula (6) and formula (7), respectively, the above a and b are numerical values selected from the range satisfying the following formula (8). is there.
e + f = 0 Formula (6)
g = 0 Formula (7)
0 ≦ a + b ≦ 2 Formula (8)
また、上記のe、f、gが各々下記数式(3)、数式(7)を同時に満足する場合には、上記のa、bは下記数式(9)を満足する範囲から選択される数値である。
e+f≠0・・・数式(3)
g=0・・・数式(7)
0≦a+b≦e+f+2・・・数式(9)
In addition, when the above e, f, and g satisfy the following equations (3) and (7), respectively, the above a and b are numerical values selected from the range that satisfies the following equation (9). is there.
e + f ≠ 0 Formula (3)
g = 0 Formula (7)
0 ≦ a + b ≦ e + f + 2 Equation (9)
さらに、e、f、gが各々下記数式(6)、数式(4)を同時に満足する場合には、前記のa、bは下記数式(10)を満足する範囲から選択される数値である。
e+f=0・・・数式(6)
g≠0・・・数式(4)
0≦a+b≦2g+2・・・数式(10)
Furthermore, when e, f, and g simultaneously satisfy the following mathematical formulas (6) and (4), a and b are numerical values selected from a range that satisfies the following mathematical formula (10).
e + f = 0 Formula (6)
g ≠ 0 Formula (4)
0 ≦ a + b ≦ 2g + 2 Formula (10)
平均組成式(1)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンの構造は、ヒドロシリル化反応によりエポキシ基を有するビニル化合物を付加した後に、エポキシ変性シリコーンが製造できるものであれば特に限定はなく、直鎖状、環状、分岐状、ラダー状、籠状等いずれの構造でもよく、これらの2種以上の混合物であってもよい。また、各々の構造単位が、ブロック的な連鎖構造を有していてもよいし、ランダムに分散していてもよく、これらの混合物であってもよい。 The structure of the organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) is not particularly limited as long as an epoxy-modified silicone can be produced after adding a vinyl compound having an epoxy group by hydrosilylation reaction. The structure may be any shape such as a ring shape, a ring shape, a branched shape, a ladder shape, and a bowl shape, and may be a mixture of two or more of these. Further, each structural unit may have a block-like chain structure, may be randomly dispersed, or a mixture thereof.
有機基R1としては、本発明によって得られるエポキシ変性シリコーンの耐光性、あるいは、安定性の向上の観点から、全Si単位の合計モル数に対する鎖状、分岐状、環状なる群から選ばれる炭素−炭素二重結合炭化水素単位、ヒドロキシル単位、アルコキシ単位、アシル単位、カルボキシル単位、アルケニルオキシ単位、アシルオキシ単位、ハロゲン原子、あるいは、エステル結合、さらには、酸素及び珪素を除くヘテロ原子を含有する有機基が結合した珪素原子の合計モル数が、好ましくは30%以下、より好ましくは10%以下、さらに好ましくは1%以下、特に好ましくは全く含まないように選択される。 The organic group R 1 is a carbon selected from the group consisting of chain, branched and cyclic with respect to the total number of moles of all Si units from the viewpoint of improving the light resistance or stability of the epoxy-modified silicone obtained by the present invention. -Organic compounds containing carbon double bond hydrocarbon units, hydroxyl units, alkoxy units, acyl units, carboxyl units, alkenyloxy units, acyloxy units, halogen atoms, or ester bonds, and also heteroatoms other than oxygen and silicon The total number of moles of silicon atoms to which groups are bonded is preferably selected to be 30% or less, more preferably 10% or less, even more preferably 1% or less, and particularly preferably not contained at all.
さらに、有機基R1は、鎖状、分岐状、環状なる群から選ばれる1種以上の構造からなる炭化水素単位を有する炭素数が1以上20以下及び酸素数が1以下の飽和の1価の脂肪族有機基であることが望ましい。このような有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、等の炭化水素から成る鎖状の有機基;シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、エチニルシクロヘキシル基、ノルボルニル基等の環状単位を含む炭化水素から成る有機基;メトキシエチル、エトキシエチル基等のエーテル結合を含む有機基等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の有機基の混合であってよい。
これらのうち、炭化水素からなる鎖状の有機基、環状単位を含む炭化水素からなる有機基が特に望ましい。
Furthermore, the organic group R 1 is a saturated monovalent group having 1 to 20 carbon atoms and 1 or less oxygen atoms having a hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of chain, branched and cyclic. The aliphatic organic group is desirable. Examples of such an organic group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, a pentyl group, a neopentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, and a nonyl group. A chain organic group composed of hydrocarbon such as decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, etc .; cyclopentyl group, methylcyclopentyl group, cyclohexyl group, Examples thereof include an organic group composed of a hydrocarbon containing a cyclic unit such as a methylcyclohexyl group, an ethynylcyclohexyl group, and a norbornyl group; an organic group containing an ether bond such as a methoxyethyl group and an ethoxyethyl group. These may be a mixture of one or more organic groups.
Among these, a chain organic group made of hydrocarbon and an organic group made of hydrocarbon containing a cyclic unit are particularly desirable.
平均組成式(1)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成する各繰り返し単位のモル数は、溶媒への溶解性を向上させるためには、c、dの値が各々5,000以下の範囲、かつ、e、fが各々100以下の範囲、かつ、gが100以下の範囲を同時に満足することが好ましく、立体障害を緩和してヒドロシリル化反応を安定的に、かつ、再現性よく進行させる上で、gが0であるものが好ましく、gが0、かつ、(e+f)/(a+b+c+d+e+f)が0.02以下であることがより好ましく、gが0、かつ、(e+f)/(a+b+c+d+e+f)が0.01以下であることがさらに好ましく、g及び(e+f)/(a+b+c+d+e+f)の値がゼロであることが特に好ましい。 The number of moles of each repeating unit constituting 1 mole of the organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) is such that the values of c and d are 5,000 or less in order to improve the solubility in a solvent. It is preferable that e, f each satisfy the range of 100 or less, and g is the range of 100 or less at the same time. The hydrosilylation reaction can be stably performed with good reproducibility by reducing steric hindrance. In order to proceed, it is preferred that g is 0, g is 0, and (e + f) / (a + b + c + d + e + f) is more preferably 0.02 or less, g is 0, and (e + f) / ( It is more preferable that (a + b + c + d + e + f) is 0.01 or less, and it is particularly preferable that the values of g and (e + f) / (a + b + c + d + e + f) are zero.
本発明のエポキシ変性シリコーンは、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位に対し、エポキシ基を有するビニル化合物を付加して製造されるものである。 The epoxy-modified silicone of the present invention is produced by adding a vinyl compound having an epoxy group to the SiH unit of the organohydrogen silicone.
本発明において用いることができるエポキシ基を有するビニル化合物としては特に限定はなく、例えば、ビニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、2−メチルアリルグリシジルエーテル、ブテニルグリシジルエーテル、1,2−エポキシ−3−ブテン、1,2−エポキシ−4−ペンテン、1,2−エポキシ−5−ヘキセン、1,2−エポキシ−6−ヘプテン、1,2−エポキシ−7−オクテン、1,2−エポキシ−8−ノネン、1,2−エポキシ−9−デセン、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、4−ビニルシクロへキセンオキサイド、1−メチルー4−イソプロペニルシクロヘキセンオキサイド、1,4−ジメチルー4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、ビニルノルボルネンオキサイド等が挙げられる。これらは1種又は2種以上の混合物として用いることも可能である。 The vinyl compound having an epoxy group that can be used in the present invention is not particularly limited. For example, vinyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, 2-methylallyl glycidyl ether, butenyl glycidyl ether, 1,2-epoxy-3- Butene, 1,2-epoxy-4-pentene, 1,2-epoxy-5-hexene, 1,2-epoxy-6-heptene, 1,2-epoxy-7-octene, 1,2-epoxy-8- Nonene, 1,2-epoxy-9-decene, glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, 4-vinylcyclohexene oxide, 1-methyl-4-isopropenylcyclohexene oxide, 1,4-dimethyl-4-vinylcyclohexene oxide, vinyl norbornene oxide, etc. Can be mentionedThese can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.
これらのうち、エポキシ変性シリコーンの硬化速度や、硬化物の耐光性が高まることから、下記化学式(2)で表されるビニル基を有するエポキシシクロアルカンを用いることが好ましい。
化学式(2)で表される化合物としては、例えば、4−ビニルシクロへキセンオキサイド、1−メチルー4−イソプロペニルシクロヘキセンオキサイド、1,4−ジメチルー4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、ビニルノルボルネンオキサイド等が用いられ、好ましくは、4−ビニルシクロへキセンオキサイドが用いられる。
Among these, it is preferable to use an epoxycycloalkane having a vinyl group represented by the following chemical formula (2) because the curing rate of the epoxy-modified silicone and the light resistance of the cured product are increased.
Examples of the compound represented by the chemical formula (2) include 4-vinylcyclohexene oxide, 1-methyl-4-isopropenylcyclohexene oxide, 1,4-dimethyl-4-vinylcyclohexene oxide, vinyl norbornene oxide, and the like. Preferably, 4-vinylcyclohexene oxide is used.
本発明においては、エポキシ変性シリコーンが製造できれば、オルガノハイドロジェンシリコーンに対して、エポキシ基を有するビニル化合物以外のビニル化合物をヒドロシリル化反応により付加してもよい。 In the present invention, if an epoxy-modified silicone can be produced, a vinyl compound other than a vinyl compound having an epoxy group may be added to the organohydrogen silicone by a hydrosilylation reaction.
このような、エポキシ基を有するビニル化合物以外のビニル化合物としては、例えば、
(ア)エポキシ基を含有せず、ビニル基を必須構成単位として有し、無置換又は置換された鎖状、分岐状、環状なる群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数が3以上24以下及び酸素数が0以上5以下の化合物、
(イ)エポキシ基を含有せず、ビニル基を必須構成単位として有し、無置換又は置換された芳香族炭化水素単位と、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状、環状なる群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が8以上24以下及び酸素数が0以上5以下の化合物、
(ウ)下記化学式(3)で表される分子内にエポキシ基を含有せず、1個以上のビニル基を含有するシラン、
上記の有機基は、前記の炭素数及び酸素数の範囲内であれば、有機基としてヒドロキシル基、アシル基、アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子を含んでいてもよい。]
(エ)下記平均組成式(4)で表される分子内にエポキシ基を含有せず、1個以上のビニル基を含有するシロキサン、
上記の有機基は、前記の炭素数及び酸素数の範囲内であれば、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アシル基、カルボキシル基、アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、あるいは、エステル結合を含んでいてもよい。また、窒素、リン、硫黄等の酸素を除くヘテロ原子を含んでいてもよい。]
等を用いることができる。
As such a vinyl compound other than the vinyl compound having an epoxy group, for example,
(A) An aliphatic hydrocarbon unit that does not contain an epoxy group, has a vinyl group as an essential constituent unit, and has one or more structures selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched, and cyclic group A compound having 3 to 24 carbon atoms and an oxygen number of 0 to 5
(A) An aromatic hydrocarbon unit that does not contain an epoxy group and has a vinyl group as an essential constituent unit, and an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, and an optionally substituted or substituted chain, branched, or cyclic A compound having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of carbon number of 8 to 24 and oxygen number of 0 to 5;
(C) a silane containing one or more vinyl groups without containing an epoxy group in the molecule represented by the following chemical formula (3);
The organic group may contain a hydroxyl group, an acyl group, an alkenyloxy group, an acyloxy group, or a halogen atom as the organic group as long as it is within the range of the carbon number and the oxygen number. ]
(D) Siloxane containing no epoxy group in the molecule represented by the following average composition formula (4) and containing one or more vinyl groups,
The organic group includes a hydroxyl group, an alkoxy group, an acyl group, a carboxyl group, an alkenyloxy group, an acyloxy group, a halogen atom, or an ester bond as long as it is within the range of the carbon number and the oxygen number. Also good. Moreover, the hetero atom except oxygen, such as nitrogen, phosphorus, and sulfur, may be included. ]
Etc. can be used.
なお、平均組成式(4)中のp、q、r、sは、分子内に1個以上のビニル基を含有するシロキサン1モル中に存在する各繰り返し単位のモル数を表し、qは各々0以上の数値、rは各々0以上の数値、sは0以上の数値であり、かつ、p、q、rは同時にゼロとなることはない。 In the average composition formula (4), p, q, r, and s represent the number of moles of each repeating unit present in 1 mole of siloxane containing one or more vinyl groups in the molecule, and q is A numerical value of 0 or more, r is a numerical value of 0 or more, s is a numerical value of 0 or more, and p, q, and r are never zero at the same time.
また、上記のq、r、sが各々下記数式(11)、数式(12)、数式(13)を同時に満足する場合には、上記のp、r、sは、数式(14)を満足する範囲から選択される数値である。
q≠0 ・・・数式(11)
r≠0 ・・・数式(12)
s≠0 ・・・数式(13)
0≦p≦r+2s+2 ・・・数式(14)
In addition, when q, r, and s satisfy the following formula (11), formula (12), and formula (13), respectively, p, r, and s satisfy formula (14). A number selected from a range.
q ≠ 0 Formula (11)
r ≠ 0 Formula (12)
s ≠ 0 Formula (13)
0 ≦ p ≦ r + 2s + 2 Equation (14)
さらに、上記のr、sが下記数式(15)、数式(16)を同時に満足する場合には、上記のpは下記数式(17)を満足する範囲から選択される数値である。
r=0 ・・・数式(15)
s=0 ・・・数式(16)
0≦p≦2 ・・・数式(17)
Furthermore, when the above r and s satisfy the following mathematical expressions (15) and (16), the above p is a numerical value selected from the range satisfying the following mathematical expression (17).
r = 0 Formula (15)
s = 0 Formula (16)
0 ≦ p ≦ 2 Equation (17)
また、上記のr、sが各々下記数式(12)、数式(16)を同時に満足する場合には、上記のp、rは、数式(18)を満足する範囲から選択される数値である。
r≠0 ・・・数式(12)
s=0 ・・・数式(16)
0≦p≦r+2 ・・・数式(18)
Moreover, when said r and s satisfy | fill the following numerical formula (12) and numerical formula (16) simultaneously, said p and r are numerical values selected from the range which satisfies numerical formula (18), respectively.
r ≠ 0 Formula (12)
s = 0 Formula (16)
0 ≦ p ≦ r + 2 Equation (18)
さらに、上記のr、sが各々下記数式(15)、数式(13)を同時に満足する場合には、上記のp、rは、数式(19)を満足する範囲から選択される数値である。
r=0 ・・・数式(13)
s≠0 ・・・数式(15)
0≦p≦2s+2 ・・・数式(19)
Further, when r and s satisfy the following expressions (15) and (13), respectively, p and r are numerical values selected from a range satisfying the expression (19).
r = 0 Formula (13)
s ≠ 0 Formula (15)
0 ≦ p ≦ 2s + 2 Equation (19)
また、分子内に1個以上のビニル基を含有するシロキサンは、前記平均組成式(4)で表される構造であれば特に限定はなく、直鎖状、環状、分岐状、ラダー状、籠状等いずれの構造でもよく、これらの2種以上の混合物であってもよい。また、各々の構造単位が、ブロック的な連鎖構造を有していてもよいし、ランダムに分散していてもよく、これらの混合物であってもよい。 The siloxane containing one or more vinyl groups in the molecule is not particularly limited as long as it is a structure represented by the average composition formula (4), and is linear, cyclic, branched, ladder-like, Any structure such as a shape may be used, and a mixture of two or more of these may be used. Further, each structural unit may have a block-like chain structure, may be randomly dispersed, or a mixture thereof.
上記の(ア)〜(エ)の化合物は、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。また、これらの化合物には、前記の炭素数及び酸素数の範囲内であれば、ヒドロキシル基、アシル基、カルボキシル基、アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、あるいは、エステル結合、さらには、酸素原子を除く窒素、リン、硫黄等のヘテロ原子を含んでいてもよい。 The compounds (a) to (d) can be used as one kind or a mixture of two or more kinds. These compounds have a hydroxyl group, an acyl group, a carboxyl group, an alkenyloxy group, an acyloxy group, a halogen atom, an ester bond, or an oxygen bond, as long as the carbon number and the oxygen number are within the above ranges. Heteroatoms such as nitrogen, phosphorus and sulfur other than atoms may be contained.
上記の(ア)の具体例としては、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、1−ウンデセン、1−ドデセン、1−トリデセン、1−テトラデセン、1−ペンタデセン、1−ヘキサデセン、1−ヘプタデセン、1−オクタデセン、シクロペンテン、シクロヘキセン、メチルシクロヘキセン、ノルボルネン、ビニルシクロヘキサン、ビニルデカヒドロナフタレン、ジシクロペンタジエン、ノルボルナジエン、1,2,4−トリビニルシクロヘキサン、アクリル酸、メタアクリル酸、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタアクリレート、グリセリンジアクリレート、グリセリンジメタアクリレート、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルプロピルエーテル、アリルメチルエーテル、アリルエチルエーテル、アリルプロピルエーテル、メトキシポリエチレングリコールアリルエーテル(エチレングリコール単位の重合度1〜4)等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の混合物として使用することが可能である。 Specific examples of the above (a) include propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, 1-undecene, 1-dodecene, 1 -Tridedecene, 1-tetradecene, 1-pentadecene, 1-hexadecene, 1-heptadecene, 1-octadecene, cyclopentene, cyclohexene, methylcyclohexene, norbornene, vinylcyclohexane, vinyldecahydronaphthalene, dicyclopentadiene, norbornadiene, 1,2, 4-trivinylcyclohexane, acrylic acid, methacrylic acid, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, glycerin diacrylate, glycerin dimethacrylate, vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, vinyl propyl Pills ether, allyl methyl ether, allyl ethyl ether, allyl propyl ether, and the like methoxy polyethylene glycol allyl ether (polymerization degree of 1 to 4 ethylene glycol units) and the like. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.
一方、(イ)の具体例としては、例えば、スチレン、3−メチルスチレン、4−メチルスチレン、α―メチルスチレン、桂皮酸、等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の混合物として使用することが可能である。 On the other hand, specific examples of (i) include styrene, 3-methylstyrene, 4-methylstyrene, α-methylstyrene, cinnamic acid, and the like. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.
また、(ウ)の具体例としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルジメチルメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルジメチルエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリ−t−ブトキシシラン、ビニルトリイソプロペノキシシラン等のビニル基を1個有する脂肪族ビニルアルコキシシラン;ビニルフェニルメチルメトキシシラン、ビニルフェニルジエトキシシラン、ビニルジフェニルエトキシシラン等のビニル基を1個有する芳香族ビニルアルコキシシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、トリビニルメトキシシラン、トリビニルエトキシシラン等のビニル基を2個以上有する脂肪族ビニルアルコキシシラン;ジビニルジフェノキシシラン、トリビニルフェノキシシラン等のビニル基を2個以上有する芳香族ビニルアルコキシシラン;ビニルトリメチルシラン、ビニルエチルジメチルシラン、ビニルジエチルメチルシラン、ビニルトリエチルシラン、ビニルトリプロピルシラン、ビニルトリイソプロピルシラン、ビニルトリブチルシラン、ビニルトリ−t−ブチルシラン、ビニル−t−ブチルジメチルシラン、ビニルトリペンチルシラン、ビニルトリヘキシルシラン、ビニルトリシクロヘキシルシラン、ビニルトリヘプチルシラン、ビニルトリオクチルシラン、ビニルトリノニルシラン、ビニルトリデシルシラン、ビニルメチルシラシクロペンタン等のビニル基を1個有するビニルアルキルシラン;ビニルフェニルジメチルシラン、ビニルフェニルジエチルシラン、ビニルジフェニルメチルシラン、ビニルトリフェニルシラン、ビニルトリトリルシラン等のビニル基を1個有するビニルアリールシラン;ビニルベンジルジメチルシラン、ビニルベンジルジエチルシラン、ビニルジベンジルメチルシラン、ビニルトリベンジルシラン、ビニルトリフェネチルシラン等のビニル基を1個有するビニルアラルキルシラン;ジビニルジメチルシラン、ジビニルジエチルシラン、ジビニルエチルメチルシラン、トリビニルメチルシラン、トリビニルエチルシラン等のビニル基を2個以上有するビニルアルキルシラン;ジビニルジフェニルシラン、ジビニルジトリルシラン、トリビニルフェニルシラン、トリビニルトリルシラン等のビニル基を2個以上有するビニルアリールシラン;ビニル(クロロメチル)ジメチルシラン、ビニル(トリフルオロメチル)ジメチルシラン、ビニル(3,3,3−トリフルオロプロピル)ジメチルシラン等のビニル基を1個有するハロゲン置換された炭化水素基を有するビニルハロ置換アルキルシラン;ビニルジメチルフルオロシラン、ビニルジメチルクロロシラン、ビニルメチルジクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルエチルジクロロシラン、ビニルオクチルジクロロシラン、ビニル(ブロモメチル)ジクロロシラン、ビニルフェニルジクロロシラン、ビニルジフェニルクロロシラン、ビニルフェニルメチルクロロシラン等のビニル基を1有し、少なくとも1個以上のハロゲン原子がケイ素原子に結合したビニルハロシラン;ジビニルジクロロシラン、トリビニルクロロシラン等のビニル基を2個以上有し、ハロゲン原子がケイ素原子に結合したビニルハロシラン等が挙げられる。これらの分子内に1個以上のビニル基を含有するシランは1種又は2種以上の混合物として使用することが可能である。 Specific examples of (c) include, for example, vinyltrimethoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane, vinyldimethylmethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinylmethyldiethoxysilane, vinyldimethylethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, Aliphatic vinylalkoxysilane having one vinyl group such as vinyltri-t-butoxysilane and vinyltriisopropenoxysilane; one vinyl group such as vinylphenylmethylmethoxysilane, vinylphenyldiethoxysilane and vinyldiphenylethoxysilane Aliphatic vinyl alkoxysilane having two or more vinyl groups such as aromatic vinylalkoxysilane, divinyldimethoxysilane, divinyldiethoxysilane, trivinylmethoxysilane, and trivinylethoxysilane. Aromatic vinylalkoxysilane having two or more vinyl groups such as divinyldiphenoxysilane and trivinylphenoxysilane; vinyltrimethylsilane, vinylethyldimethylsilane, vinyldiethylmethylsilane, vinyltriethylsilane, vinyltripropylsilane, vinyl Triisopropylsilane, vinyltributylsilane, vinyltri-t-butylsilane, vinyl-t-butyldimethylsilane, vinyltripentylsilane, vinyltrihexylsilane, vinyltricyclohexylsilane, vinyltriheptylsilane, vinyltrioctylsilane, vinyltrinonyl Vinylalkylsilanes having one vinyl group such as silane, vinyltridecylsilane, vinylmethylsilacyclopentane, etc .; vinylphenyldimethylsilane, vinylphenol Vinyl arylsilanes having one vinyl group such as rudiethylsilane, vinyldiphenylmethylsilane, vinyltriphenylsilane, vinyltritolylsilane; vinylbenzyldimethylsilane, vinylbenzyldiethylsilane, vinyldibenzylmethylsilane, vinyltribenzylsilane Vinyl aralkyl silane having one vinyl group such as vinyltriphenethylsilane; vinylalkyl having two or more vinyl groups such as divinyldimethylsilane, divinyldiethylsilane, divinylethylmethylsilane, trivinylmethylsilane, trivinylethylsilane Silane; vinylarylsilane having two or more vinyl groups such as divinyldiphenylsilane, divinylditolylsilane, trivinylphenylsilane, trivinyltolylsilane; vinyl (chloro A vinyl halo-substituted alkylsilane having a halogen-substituted hydrocarbon group having one vinyl group, such as methyl) dimethylsilane, vinyl (trifluoromethyl) dimethylsilane, vinyl (3,3,3-trifluoropropyl) dimethylsilane; Vinyldimethylfluorosilane, vinyldimethylchlorosilane, vinylmethyldichlorosilane, vinyltrichlorosilane, vinylethyldichlorosilane, vinyloctyldichlorosilane, vinyl (bromomethyl) dichlorosilane, vinylphenyldichlorosilane, vinyldiphenylchlorosilane, vinylphenylmethylchlorosilane, etc. A vinyl halosilane having one vinyl group and at least one halogen atom bonded to a silicon atom; a vinyl group such as divinyldichlorosilane or trivinylchlorosilane; A FOB, a halogen atom and vinyl halo silane bonded to the silicon atom. Silanes containing one or more vinyl groups in these molecules can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.
さらに、(エ)の有機基R4のb)炭素数1以上10以下の鎖状、分岐状、環状からなる群から選ばれる少なくとも1種以上の構造からなる1価の脂肪族有機基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−ノニル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ノルボニル基等の飽和炭化水素基;クロロメチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等のハロゲン原子で置換された飽和炭化水素基等が、c)無置換又は置換された芳香族炭化水素単位と、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状、環状なる群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数6以上10以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基の具体例としては、例えば、フェニル基、トリル基、ベンジル基等の芳香族炭化水素基;4−クロロベンジル基等のハロゲン原子で置換された芳香族炭化水素基等が挙げられる。 Furthermore, b) Specific examples of the monovalent aliphatic organic group having at least one structure selected from the group consisting of a chain, a branched chain, and a ring having 1 to 10 carbon atoms in the organic group R 4 of (d) Examples include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, n- A saturated hydrocarbon group such as a nonyl group, a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group or a norbornyl group; a saturated hydrocarbon group substituted with a halogen atom such as a chloromethyl group or a 3,3,3-trifluoropropyl group; Carbon having an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit and an aliphatic hydrocarbon unit having one or more structures selected from the group consisting of a linear, branched, or cyclic group that is unsubstituted or substituted as necessary number Specific examples of the monovalent aromatic organic group having 10 or less and an oxygen number of 0 or more and 5 or less include, for example, aromatic hydrocarbon groups such as phenyl group, tolyl group and benzyl group; 4-chlorobenzyl group and the like An aromatic hydrocarbon group substituted with a halogen atom and the like can be mentioned.
これらのうち、耐光性の向上の観点から、ヒドロキシル単位、アルコキシ単位、アシル単位、カルボキシル単位、アルケニルオキシ単位、アシルオキシ単位、芳香族炭化水素単位、ハロゲン原子、あるいは、エステル結合、さらには、酸素原子を除くヘテロ原子を含有しない(ア)、(ウ)、(エ)が好ましく用いられる。 Of these, from the viewpoint of improving light resistance, hydroxyl unit, alkoxy unit, acyl unit, carboxyl unit, alkenyloxy unit, acyloxy unit, aromatic hydrocarbon unit, halogen atom, ester bond, and oxygen atom (A), (U), and (E) that do not contain a heteroatom other than are preferably used.
(ア)としては、ビニル化合物の取り扱い性の向上の観点、あるいは、余剰の化合物の留去を容易にする観点から、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、1−ウンデセン、1−ドデセン、1−トリデセン、1−テトラデセン、1−ペンタデセン、1−ヘキサデセン、1−ヘプタデセン、1−オクタデセン、シクロペンテン、シクロヘキセン、メチルシクロヘキセン、ノルボルネン、ビニルシクロヘキサンがより好ましく用いられる。
一方、(ウ)としては、余剰の化合物の留去を容易にする観点からとなることから、ビニルトリメチルシラン、ビニルエチルジメチルシラン、ビニルジエチルメチルシラン、ビニルトリエチルシランがより好ましく用いられる。
As (a), 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene is used from the viewpoint of improving the handleability of the vinyl compound or from the viewpoint of facilitating the distillation of the excess compound. 1-undecene, 1-dodecene, 1-tridecene, 1-tetradecene, 1-pentadecene, 1-hexadecene, 1-heptadecene, 1-octadecene, cyclopentene, cyclohexene, methylcyclohexene, norbornene, and vinylcyclohexane are more preferably used.
On the other hand, as (c), vinyltrimethylsilane, vinylethyldimethylsilane, vinyldiethylmethylsilane, and vinyltriethylsilane are more preferably used because it makes it easy to distill off excess compounds.
また、(エ)としては、立体障害を緩和してヒドロシリル化反応を安定的に、かつ、再現性よく進行させることが容易となることから、qは50以下の範囲、かつ、rは10以下の範囲、sは10以下の範囲を同時に満足することが好ましく、sがゼロであるものがより好ましく、qは20以下の範囲、かつ、rは5以下の範囲、sがゼロ、かつ、r/(p+q+r)が0.02以下であるものがさらに好ましく、qは15以下の範囲、かつ、rは3以下の範囲、sがゼロ、かつ、r/(p+q+r)が0.01以下であるものが特に好ましく、qは10以下の範囲、かつ、s及びr/(p+q+r)の値がゼロであるものが望ましい。
例えば、ビニルペンタメチルジシロキサン、ビニルヘプタメチルトリシロキサン等の分子鎖の片末端にジメチルビニルシロキシ基を有し、かつ、他の置換基がアルキル基であるシロキサン;ビニルメチルビス(トリメチルシロキシ)シラン等の分子鎖中にジメチルビニルシロキシ基を有する、分子内に1個のビニル基を含有し、他の置換基が飽和炭化水素基であるシロキサン;1,3−ジビニル−テトラメチルジシロキサン等の両末端がジメチルビニルシロキシ基であり、他の置換基が飽和炭化水素基である分子内に2個のビニル基を有するシロキサン;1,3,5−トリビニル−1,1,3,5,5−ペンタメチルトリシロキサン、1,3,5−トリビニル−1,3,5−トリメチルシクロトリシロキサントリス(ビニルジメチルシロキシ)メチルシラン、1.3.5.7−テトラビニルー1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、1.3.5.7−テトラビニルー1,3,5,7−テトラエチルシクロテトラシロキサン、等の分子内に3個以上のビニル基を含有し、他の有機基が飽和炭化水素基であるシロキサン等が挙げられる。
In addition, as (d), q is in the range of 50 or less, and r is 10 or less because it is easy to relieve steric hindrance and facilitate the hydrosilylation reaction with good reproducibility. And s preferably satisfies the range of 10 or less simultaneously, more preferably s is zero, q is a range of 20 or less, r is a range of 5 or less, s is zero, and r / (P + q + r) is more preferably 0.02 or less, q is 15 or less, r is 3 or less, s is zero, and r / (p + q + r) is 0.01 or less Particularly preferred are those in which q is in the range of 10 or less and the values of s and r / (p + q + r) are zero.
For example, a siloxane having a dimethylvinylsiloxy group at one end of a molecular chain such as vinylpentamethyldisiloxane or vinylheptamethyltrisiloxane and the other substituent is an alkyl group; vinylmethylbis (trimethylsiloxy) silane Such as a siloxane having a dimethylvinylsiloxy group in the molecular chain, one vinyl group in the molecule, and the other substituent being a saturated hydrocarbon group; 1,3-divinyl-tetramethyldisiloxane, etc. Siloxane having two vinyl groups in the molecule in which both ends are dimethylvinylsiloxy groups and the other substituent is a saturated hydrocarbon group; 1,3,5-trivinyl-1,1,3,5,5 -Pentamethyltrisiloxane, 1,3,5-trivinyl-1,3,5-trimethylcyclotrisiloxane tris (vinyldimethylsiloxy) Molecules such as methylsilane, 1.3.5.7-tetravinyl-1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, 1.3.5.7-tetravinyl-1,3,5,7-tetraethylcyclotetrasiloxane, etc. Examples thereof include siloxane containing 3 or more vinyl groups and other organic groups being saturated hydrocarbon groups.
本発明における「炭素−炭素二重結合を有する化合物」とは、シリコーン以外の化合物であって、分子内に1つ以上の炭素−炭素二重結合を有する化合物ものをいう。したがって、オルガノハイドロジェンシリコーンやエポキシ変性シリコーンについては分子内に炭素−炭素二重結合を有していてもこれには含まない。 The “compound having a carbon-carbon double bond” in the present invention refers to a compound other than silicone and having one or more carbon-carbon double bonds in the molecule. Therefore, organohydrogen silicone and epoxy-modified silicone are not included even if they have a carbon-carbon double bond in the molecule.
このような炭素−炭素二重結合を有する化合物としては、例えば、
(i)ヒドロシリル化反応に供するために添加したビニル化合物の余剰あるいは未反応物、
(ii)ヒドロシリル化反応に供するために添加したビニル化合物中に含有されていた炭素−炭素二重結合を有する不純物、
(iii)ヒドロシリル化反応に供するために添加したビニル化合物中の炭素−炭素二重結合が、ヒドロシリル化反応中に内部転移を起こして生成した副生成物、
等が挙げられる。
As a compound having such a carbon-carbon double bond, for example,
(I) excess or unreacted vinyl compound added to be subjected to hydrosilylation reaction,
(Ii) Impurities having a carbon-carbon double bond contained in the vinyl compound added to be subjected to the hydrosilylation reaction,
(Iii) a by-product generated when a carbon-carbon double bond in the vinyl compound added to be subjected to the hydrosilylation reaction undergoes an internal transition during the hydrosilylation reaction,
Etc.
前記(ii)ヒドロシリル化反応に供するために添加したビニル化合物中に含有されていた炭素−炭素二重結合を有する不純物の具体例としては、例えば、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド中に含まれる4−エポキシエチル−シクロへキセン等が挙げられる。 Specific examples of the impurities having a carbon-carbon double bond contained in the vinyl compound added for the (ii) hydrosilylation reaction include 4-epoxy contained in 4-vinylcyclohexene oxide. And ethyl-cyclohexene.
前記(iii)ヒドロシリル化反応に供するために添加したビニル化合物中の炭素−炭素二重結合が、ヒドロシリル化反応中に内部転移を起こして生成した副生成物としては、使用するビニル化合物の種類やヒドロシリル化反応条件によっても異なるが、例えば、ビニル化合物として1−ヘキセンを用いた場合の副生成物としては、2−ヘキセン、3−ヘキセン等が、また、例えば、ビニル化合物としてビニルシクロヘキサンを用いた場合の副生成物としては、エチリデニルシクロヘキサン等が挙げられる。
さらに、ビニル化合物として、例えば、(a−1)4−ビニルシクロへキセンオキサイド、(a−2)1−メチルー4−イソプロペニルシクロヘキセンオキサイド、(a−3)1,4−ジメチルー4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、(a−4)ビニルノルボルネンオキサイド等のビニル基を有するエポキシシクロアルカンを用いた場合、(a−1)〜(a−4)に対応する副生成物としては、各々、(b−1)4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、(b−2)1−メチル−4−イソプロペリデニルシクロヘキセンオキサイド、(b−3)1,4−ジメチルー4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、(b−4)エチリデニルノルボルネンオキサイド等が挙げられる。
The (iii) by-product produced by the internal transition of the carbon-carbon double bond in the vinyl compound added for use in the hydrosilylation reaction during the hydrosilylation reaction includes the type of vinyl compound used, Although depending on the hydrosilylation reaction conditions, for example, as a by-product when 1-hexene is used as the vinyl compound, 2-hexene, 3-hexene or the like is used, and for example, vinylcyclohexane is used as the vinyl compound. Examples of by-products include ethylidenylcyclohexane.
Furthermore, as a vinyl compound, for example, (a-1) 4-vinylcyclohexene oxide, (a-2) 1-methyl-4-isopropenylcyclohexene oxide, (a-3) 1,4-dimethyl-4-vinylcyclohexene oxide (A-4) When an epoxycycloalkane having a vinyl group such as vinyl norbornene oxide is used, as by-products corresponding to (a-1) to (a-4), (b-1) 4-ethylidenylcyclohexene oxide, (b-2) 1-methyl-4-isoproperenyl cyclohexene oxide, (b-3) 1,4-dimethyl-4-ethylidenylcyclohexene oxide, (b-4) ethyl Examples include lidenyl norbornene oxide.
本発明において、エポキシ変性シリコーン中に残留する炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は、エポキシ変性シリコーンに対し2質量%以下であることが必要である。
ここで、エポキシ変性シリコーン中に残留する炭素−炭素二重結合を有する化合物が2種以上の成分からなる場合には、本発明における、炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は、残留する各成分の合計値を意味する。
エポキシ変性シリコーン中に残留する炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量が、エポキシ変性シリコーンに対し2質量%を超えると、エポキシ変性シリコーンを硬化物とした際、該硬化物が光や熱により着色・変色する。
In the present invention, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond remaining in the epoxy-modified silicone needs to be 2% by mass or less based on the epoxy-modified silicone.
Here, when the compound having a carbon-carbon double bond remaining in the epoxy-modified silicone is composed of two or more components, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond in the present invention is the residual amount. This means the total value of each component.
When the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond remaining in the epoxy-modified silicone exceeds 2% by mass with respect to the epoxy-modified silicone, when the epoxy-modified silicone is used as a cured product, the cured product becomes light or heat. Color and discolor by.
さらに、エポキシ変性シリコーンの耐光性・耐熱変色性を一層向上させる上でために、エポキシ変性シリコーン中に残留する炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は、1.5質量%以下であることが好ましく、1質量%以下であることがより好ましく、0.75質量%以下であることがさらに好ましく、0.5質量%以下であることが特に好ましく、0.3質量%以下であることが望ましい。 Furthermore, in order to further improve the light resistance and heat discoloration of the epoxy-modified silicone, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond remaining in the epoxy-modified silicone is 1.5% by mass or less. Is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.75% by mass or less, particularly preferably 0.5% by mass or less, and 0.3% by mass or less. Is desirable.
エポキシ変性シリコーン中に残留する炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は少ない方がよいが、残留量を0とするのは時間・労力がかかるのに比して、着色・変色低減効果が小さい。そのため、費用対効果という観点からは、エポキシ変性シリコーン中に残留する炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は、0.003質量%程度まで低減することが現実的である。 The residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond remaining in the epoxy-modified silicone is better, but setting the residual amount to 0 is more effective in reducing coloring and discoloration than time and labor are required. Is small. Therefore, from the viewpoint of cost effectiveness, it is realistic that the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond remaining in the epoxy-modified silicone is reduced to about 0.003% by mass.
また、エポキシ変性シリコーン中に残留する炭素−炭素二重結合を有する化合物のうち、エポキシ基を有する化合物の残留量は、硬化物の光・熱による着色・変色低減のために、エポキシ変性シリコーンに対して1.5質量%以下であることが好ましく、1質量%以下であることがより好ましく、0.6質量%以下であることがさらに好ましく、0.3質量%以下であることが特に好ましい。
ここで、エポキシ変性シリコーン中に残留する、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物が2種以上ある場合には、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物の残留量とは、残留する各成分の合計量を意味する。
In addition, among the compounds having carbon-carbon double bonds remaining in the epoxy-modified silicone, the residual amount of the compound having an epoxy group is reduced in the epoxy-modified silicone in order to reduce coloring and discoloration of the cured product by light and heat. On the other hand, it is preferably 1.5% by mass or less, more preferably 1% by mass or less, further preferably 0.6% by mass or less, and particularly preferably 0.3% by mass or less. .
Here, when there are two or more compounds having a carbon-carbon double bond and an epoxy group remaining in the epoxy-modified silicone, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is: It means the total amount of each remaining component.
さらに、エポキシ変性シリコーン中に残留する炭素−炭素二重結合を有する化合物のうち、ヒドロシリル化反応に供するために添加したエポキシ基を有するビニル化合物の炭素−炭素二重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の残留量は、硬化物の光・熱による着色・変色低減のために、エポキシ変性シリコーンに対し0.5質量%以下であることが好ましく、0.3質量%以下であることがより好ましい。
ここで、エポキシ変性シリコーン中に残留する、ヒドロシリル化反応に供するために添加したエポキシ基を有するビニル化合物の炭素−炭素二重結合が内部転移を起こして生成した副生成物が2種以上ある場合には、ヒドロシリル化反応に供するために添加したエポキシ基を有するビニル化合物の炭素−炭素二重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の残留量とは、残留する各成分の合計量を意味する。
Furthermore, among the compounds having a carbon-carbon double bond remaining in the epoxy-modified silicone, a carbon-carbon double bond of a vinyl compound having an epoxy group added for use in the hydrosilylation reaction is caused by internal transition. The residual amount of the by-product is preferably 0.5% by mass or less, and 0.3% by mass or less with respect to the epoxy-modified silicone in order to reduce coloring and discoloration of the cured product due to light and heat. Is more preferable.
Here, when there are two or more by-products generated in the carbon-carbon double bond of the vinyl compound having an epoxy group added to be used for the hydrosilylation reaction remaining in the epoxy-modified silicone and causing internal transition. The residual amount of the by-product generated by the internal transition of the carbon-carbon double bond of the vinyl compound having an epoxy group added for the hydrosilylation reaction is the total amount of each remaining component. means.
本発明のエポキシ変性シリコーンには、製造時に用いたヒドロシリル化触媒、あるいは、反応装置から溶出する金属成分等が残留している場合がある。例えば、SUS316合金を用いると、Fe、Ni、Cr、Mo等の金属元素が溶出する場合がある。エポキシ変性シリコーンの硬化物の耐光性を高いレベルで維持するためには、エポキシ変性シリコーンに対する周期律表3族〜11族に該当する遷移金属成分の残留量が、元素換算で、20ppm以下であることが好ましく、10ppm以下であることがより好ましく、5ppm以下であることがさらに好ましい。
なお、残留する遷移金属成分が2種以上ある場合には、遷移金属成分の残留量とは、各成分の残留量の合計値を意味する。
In the epoxy-modified silicone of the present invention, there may be a case where the hydrosilylation catalyst used at the time of manufacture or the metal component eluted from the reaction apparatus remains. For example, when SUS316 alloy is used, metal elements such as Fe, Ni, Cr, and Mo may be eluted. In order to maintain the light resistance of the cured product of the epoxy-modified silicone at a high level, the residual amount of the transition metal component corresponding to Group 3 to Group 11 of the periodic table with respect to the epoxy-modified silicone is 20 ppm or less in terms of element. It is preferably 10 ppm or less, more preferably 5 ppm or less.
In addition, when there are two or more transition metal components remaining, the residual amount of the transition metal component means the total value of the residual amounts of the respective components.
本発明のエポキシ変性シリコーンには、製造時に用いた溶媒が残留している場合がある。エポキシ変性シリコーンの硬化物中の気泡の発生を抑制するためには、残留する溶媒の量は、エポキシ変性シリコーンに対し0.1質量%以下であることが好ましく、0.08質量%以下であることがより好ましく、0.06質量%以下であることがさらに好ましい。 In the epoxy-modified silicone of the present invention, the solvent used during production may remain. In order to suppress the generation of bubbles in the cured product of the epoxy-modified silicone, the amount of the remaining solvent is preferably 0.1% by mass or less, and 0.08% by mass or less based on the epoxy-modified silicone. Is more preferable, and it is further more preferable that it is 0.06 mass% or less.
平均組成式(1)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンの製造方法には特に限定はなく、従来公知の方法、例えば、
(c−1)少なくともSiH単位を含み、必要に応じて他の有機基を有するアルコキシシラン類及び/又はクロロシラン類を触媒存在下、あるいは非存在下で加水分解後、必要に応じて、重縮合及び/又は末端をヘキサメチルジシロキサン、1,1,3,3−ヘキサメチルジシロキサン等に代表される末端封止剤存在下で末端を封止する方法、
(c−2)少なくともSiH単位を含み、必要に応じて他の有機基を有するアルコキシシラン類及び/又はクロロシラン類を触媒存在下、あるいは非存在下で加水分解して得たSiH単位を有するシリコーンAと、必要に応じてSiH単位を有する、アルキルアルコキシシラン類及び/又はクロロシラン類を触媒存在下、あるいは非存在下で加水分解して得たSiH単位を有するシリコーンBとを重縮合及び/又はシロキサン交換反応により再平衡化後、必要に応じて末端をヘキサメチルジシロキサン、1,1,3,3−ヘキサメチルジシロキサン等に代表される末端封止剤存在下で末端を封止する方法、
(c−3)少なくともSiH単位を含み、必要に応じて他の有機基を有する環状、鎖状、分岐状からなる群から選ばれる少なくとも1種以上の構造からなるシリコーン存在下、ヘキサメチルジシロキサン、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン等に代表される末端封止剤存在下、あるいは非存在下、触媒存在下で開環重合及び/又はシロキサン交換反応により再平衡化する方法、
(c−4)前記の(c−1)〜(c−3)記載の方法に引き続き、低分子量成分を留去する方法、あるいは(c−5)前記の(c−4)記載の方法により留去されて回収された成分を、さらに分離精製する方法、
等により製造することができる。
There is no limitation in particular in the manufacturing method of the organohydrogen silicone represented by average compositional formula (1), For example, a conventionally well-known method, for example,
(C-1) Hydrolysis of alkoxysilanes and / or chlorosilanes containing at least SiH units and having other organic groups as required in the presence or absence of a catalyst, and if necessary, polycondensation And / or a method of sealing the terminal in the presence of a terminal sealing agent represented by hexamethyldisiloxane, 1,1,3,3-hexamethyldisiloxane, and the like,
(C-2) Silicone having SiH units obtained by hydrolysis of alkoxysilanes and / or chlorosilanes having at least SiH units, if necessary, in the presence or absence of a catalyst, if necessary Polycondensation and / or A and silicone B having SiH units obtained by hydrolyzing alkylalkoxysilanes and / or chlorosilanes in the presence or absence of a catalyst. A method of sealing the ends in the presence of a terminal blocking agent represented by hexamethyldisiloxane, 1,1,3,3-hexamethyldisiloxane, etc., if necessary after re-equilibration by a siloxane exchange reaction ,
(C-3) Hexamethyldisiloxane in the presence of silicone having at least one structure selected from the group consisting of cyclic, chain, and branched, containing at least SiH units and having other organic groups as necessary. A method of re-equilibrating by ring-opening polymerization and / or siloxane exchange reaction in the presence or absence of a terminal capping agent represented by 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane and the like in the presence of a catalyst,
(C-4) Subsequent to the method described in (c-1) to (c-3) above, or (c-5) the method described in (c-4) above, or (c-5) A method for further separating and purifying the components recovered by distillation,
Etc. can be manufactured.
本発明において、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位に対し、エポキシ基を有するビニル化合物をヒドロシリル化反応により付加する際には、ヒドロシリル化触媒を添加することが好ましい。ヒドロシリル化触媒が存在しない場合には、通常、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位とビニル化合物とのヒドロシリル化反応の進行が遅い。 In the present invention, when adding a vinyl compound having an epoxy group to the SiH unit of the organohydrogensilicone by a hydrosilylation reaction, it is preferable to add a hydrosilylation catalyst. In the absence of a hydrosilylation catalyst, the hydrosilylation reaction between the SiH unit of the organohydrogensilicone and the vinyl compound is usually slow.
本発明において用いることができるヒドロシリル化触媒としては、例えば、周期表第8
属の金属の単体、それら金属固体をアルミナ、シリカ、カーボンブラック等の担体に担持させたもの、それら金属の塩、錯体等が挙げられる。周期表第8族の金属としては、白金、ロジウム、ルテニウムが好ましく、特に白金が好ましい。白金を用いたヒドロシリル化化反応触媒としては、例えば、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトンとの錯体、白金−ビニルシロキサン錯体、白金−ホスフィン錯体、白金−ホスファイト錯体、ジカルボニルジクロロ白金、ジシクロペンタジエニルジクロロ白金等が挙げられる。
触媒量は、平均組成式(1)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーン、ビニル化合物、溶媒の種類により大きく異なるため、特に限定はないが、通常、該オルガノハイドロジェンシリコーンの質量に対し、周期表第8属の金属原子として1ppm以上1,000ppm以下の範囲で用いられる。触媒量が1ppm未満の場合にはヒドロシリル化反応が進行しない場合があり、一方、1,000ppmを超える場合には、ヒドロシリル化反応に供するビニル基及びエポキシ基を有するビニル化合物の変性が著しく生じる場合がある。ヒドロシリル化反応を再現性ある速度で行う、及び/又は、有機官能基を含有するポリオルガノシロキサンを再現性よく製造する上で、好ましくは2ppm以上500ppmの範囲、より好ましくは、3ppm以上100ppm以下の範囲、さらに好ましくは5ppm以上50ppm以下の範囲である。
Examples of the hydrosilylation catalyst that can be used in the present invention include those in Periodic Table 8
Examples thereof include simple metals belonging to the genus, those obtained by supporting these metal solids on a carrier such as alumina, silica, and carbon black, and salts and complexes of these metals. As the metal of Group 8 of the periodic table, platinum, rhodium, and ruthenium are preferable, and platinum is particularly preferable. Examples of the hydrosilylation reaction catalyst using platinum include chloroplatinic acid, chloroplatinic acid and alcohol, aldehyde, and ketone complexes, platinum-vinylsiloxane complexes, platinum-phosphine complexes, platinum-phosphite complexes, and dicarbonyl. Examples include dichloroplatinum and dicyclopentadienyldichloroplatinum.
The amount of catalyst is not particularly limited because it varies greatly depending on the type of organohydrogensilicone, vinyl compound, and solvent represented by the average composition formula (1), but is usually a periodic table with respect to the mass of the organohydrogensilicone. The metal atom of Group 8 is used in the range of 1 ppm to 1,000 ppm. When the amount of catalyst is less than 1 ppm, the hydrosilylation reaction may not proceed. On the other hand, when the amount exceeds 1,000 ppm, the vinyl compound having a vinyl group and an epoxy group subjected to the hydrosilylation reaction may be significantly modified. There is. In order to perform the hydrosilylation reaction at a reproducible rate and / or to produce a polyorganosiloxane containing an organic functional group with good reproducibility, it is preferably in the range of 2 ppm to 500 ppm, more preferably 3 ppm to 100 ppm. The range is more preferably 5 ppm or more and 50 ppm or less.
本発明において、ヒドロシリル化反応を行う際の反応温度は、オルガノハイドロジェンシリコーンの種類や分子量、あるいは、エポキシ基を有するビニル化合物の種類、さらには、回分式、半回分式、あるいは連続式等の反応様式によっても異なるため特に限定はないが、反応速度を高め、効率的に反応を完結させるためには、0℃以上150℃以下の範囲が好ましく、10℃以上140℃以下の範囲がより好ましく、20℃以上130℃以下の範囲がさらに好ましく、30℃以上120℃以下の範囲が特に好ましい。反応温度は、上記の範囲内であれば一定である必要はなく、途中で変化させてもよい。 In the present invention, the reaction temperature at the time of hydrosilylation reaction is the type and molecular weight of organohydrogen silicone, the type of vinyl compound having an epoxy group, and further, batch type, semi-batch type, continuous type, etc. Although it varies depending on the reaction mode, there is no particular limitation, but in order to increase the reaction rate and complete the reaction efficiently, a range of 0 ° C to 150 ° C is preferable, and a range of 10 ° C to 140 ° C is more preferable. The range of 20 ° C. or higher and 130 ° C. or lower is more preferable, and the range of 30 ° C. or higher and 120 ° C. or lower is particularly preferable. The reaction temperature does not need to be constant as long as it is within the above range, and may be changed during the reaction.
本発明において、ヒドロシリル化反応を行う際には、ヒドロシリル化反応による反応熱を除去し、得られるエポキシ変性シリコーンの過度な変性を抑制したり、付加反応による反応系の粘度上昇を抑制するため、溶媒を用いることが好ましい。 In the present invention, when the hydrosilylation reaction is performed, the heat of reaction due to the hydrosilylation reaction is removed to suppress excessive modification of the resulting epoxy-modified silicone, or to suppress an increase in the viscosity of the reaction system due to the addition reaction. It is preferable to use a solvent.
用いられる溶媒としては、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、アニソール等のエーテル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒;トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、エチルベンゼン等の芳香族水素系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール等のアルコール系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。
これらのうち、ヒドロシリル化反応速度の向上、原料の溶解性及び/又は溶媒回収性の観点から、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒が好ましく、エーテル系溶媒を50質量%以上含む溶媒がより好ましく、大気圧における沸点が110℃以下である1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテルなる群から選ばれる少なくとも1種又は2種以上の混合溶媒がさらに好ましい。
Examples of the solvent used include dimethyl ether, diethyl ether, diisopropyl ether, 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, and anisole. Ether solvents; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; Aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, cyclohexane, heptane, octane, and isooctane; toluene, o-xylene, m-xylene, p-xylene, and ethylbenzene Aromatic hydrogen solvents such as: Ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; Alcohols such as butyl cellosolve and butyl carbitol System solvents. These solvents can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.
Of these, ether solvents, ketone solvents, aliphatic hydrocarbon solvents, and aromatic hydrocarbon solvents are preferred from the viewpoints of improving hydrosilylation reaction rate, solubility of raw materials and / or solvent recoverability, and ethers. More preferred is a solvent containing 50% by mass or more of a system solvent, and at least one or more selected from the group consisting of 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and propylene glycol dimethyl ether having a boiling point of 110 ° C. or less at atmospheric pressure. The mixed solvent is more preferable.
溶媒量は、オルガノハイドロジェンシリコーンの種類や、ビニル化合物の種類等によって異なるため、特に限定はないが、通常、反応系の全質量に対するオルガノハイドロジェンシリコーンとビニル化合物の合計質量が、0.01質量%以上99質量%以下の範囲、好ましくは5質量%以上80質量%以下の範囲、より好ましくは10質量%以上70質量%以下の範囲となるような量である。全質量に対するオルガノハイドロジェンシリコーンとビニル化合物の合計質量が、0.01質量%未満の場合には、ヒドロシリル化反応速度が小さくなる傾向にあり、一方、99質量%を超える場合には、反応熱の除熱が困難で、局部加熱のため得られるエポキシ変性シリコーンの変性が生じる場合がある。 The amount of the solvent varies depending on the type of organohydrogensilicone, the type of vinyl compound, etc., and is not particularly limited. Usually, the total mass of the organohydrogensilicone and vinyl compound relative to the total mass of the reaction system is 0.01. The amount is in the range of from mass% to 99 mass%, preferably from 5 mass% to 80 mass%, more preferably from 10 mass% to 70 mass%. When the total mass of the organohydrogensilicone and the vinyl compound with respect to the total mass is less than 0.01% by mass, the hydrosilylation reaction rate tends to decrease, whereas when it exceeds 99% by mass, the reaction heat It may be difficult to remove heat, and the epoxy-modified silicone obtained by local heating may be modified.
本発明において、ヒドロシリル化反応を行う際の雰囲気は、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、炭酸ガス等の不活性ガス、あるいは、炭素数1以上4以下の低級飽和炭化水素系ガスや空気等の雰囲気下、流通下、減圧下又は加圧下で行うことができる。これらのガスは、一種又は二種以上の混合ガスとして用いることができる。
これらのうち、好ましいガスは、不活性ガス、炭素数1以上4以下の低級飽和炭化水素系ガスであり、より好ましくは、不活性ガスであり、さらに好ましくは窒素である。
In the present invention, the atmosphere during the hydrosilylation reaction is an inert gas such as nitrogen, helium, neon, argon, krypton, xenon, carbon dioxide, or a lower saturated hydrocarbon gas having 1 to 4 carbon atoms. It can be carried out under an atmosphere such as air, under circulation, under reduced pressure or under pressure. These gases can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.
Among these, a preferable gas is an inert gas or a lower saturated hydrocarbon gas having 1 to 4 carbon atoms, more preferably an inert gas, and still more preferably nitrogen.
本発明において、ヒドロシリル化反応を行う際の反応方法は、特に限定されず、例えば、平均組成式(1)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンとエポキシ基を有するビニル化合物とを回分式、半回分式、連続式なる群から選ばれる1種又は2種以上の組合せの方法により、逐次的、連続的、あるいは、一度に反応させる方法が挙げられる。また、エポキシ基を有するビニル化合物が複数の種類の化合物からなる場合には、すべてのエポキシ基を有するビニル化合物を一括混合した組成物を反応に供する、あるいは、一部又は全部のビニル化合物を逐次に反応させることも可能である。 In the present invention, the reaction method for carrying out the hydrosilylation reaction is not particularly limited. For example, the organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) and the vinyl compound having an epoxy group are batch-type, semi-batch. Examples include a method of reacting sequentially, continuously, or at a time depending on a method of combination of one or more selected from the group of formula and continuous. Further, when the vinyl compound having an epoxy group is composed of a plurality of types of compounds, a composition in which all vinyl compounds having an epoxy group are mixed together is used for the reaction, or a part or all of the vinyl compounds are sequentially added. It is also possible to react.
その際、ヒドロシリル化反応触媒の添加方法には特に限定はなく、必要に応じて溶媒を含有するオルガノハイドロジェンシリコーンに対し触媒を予め添加する方法、必要に応じて溶媒を含有する一部又は全部のビニル化合物に添加する方法、必要に応じて溶媒を含有するオルガノハイドロジェンシリコーンと、必要に応じて溶媒を含有するビニル化合物の双方に添加する方法、溶媒を含有する該オルガノハイドロジェンシリコーンと一部又は全部のビニル化合物との混合物に添加する方法等が用いられる。 At that time, the method for adding the hydrosilylation reaction catalyst is not particularly limited, and a method for adding the catalyst to the organohydrogensilicone containing the solvent in advance, if necessary, a part or all of the solvent containing the solvent. A method of adding to a vinyl compound, a method of adding to both an organohydrogensilicone containing a solvent as needed and a vinyl compound containing a solvent as needed, and a method of adding the organohydrogensilicone containing a solvent. A method of adding to a mixture of a part or all of the vinyl compound is used.
平均組成式(1)によって表されるオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位に対し、エポキシ基を有するビニル化合物をヒドロシリル化反応により付加させる反応が終了した後に、必要に応じて、炭素数1以上20以下の鎖状、分岐状、環状なる群から選ばれるアルコールにより、未反応SiH単位を減少あるいは消失させる処理を行うことも可能である。 After completion of the reaction of adding a vinyl compound having an epoxy group to the SiH unit of the organohydrogensilicon represented by the average composition formula (1) by a hydrosilylation reaction, the number of carbon atoms is 1 or more and 20 or less as necessary. It is also possible to perform a treatment for reducing or eliminating unreacted SiH units with an alcohol selected from the group consisting of:
ヒドロシリル化反応、あるいは、アルコールによる未反応SiHの処理終了した後のエポキシ変性シリコーンを含む反応混合物は、溶媒及び炭素−炭素二重結合を有する化合物を分離する工程に供され、エポキシ変性シリコーンが回収される。
反応混合物から溶媒及び炭素−炭素二重結合を有する化合物を分離する際のエポキシ変性シリコーンの変性を抑制するためには、エポキシ変性シリコーン中に含有される全Si数に対する未反応SiH単位数は、2%以下であることが好ましく、1.5%以下であることがより好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。
The reaction mixture containing the epoxy-modified silicone after completion of the hydrosilylation reaction or the treatment of unreacted SiH with alcohol is subjected to a step of separating the compound having a solvent and a carbon-carbon double bond, and the epoxy-modified silicone is recovered. Is done.
In order to suppress the modification of the epoxy-modified silicone when separating the solvent and the compound having a carbon-carbon double bond from the reaction mixture, the number of unreacted SiH units relative to the total number of Si contained in the epoxy-modified silicone is: It is preferably 2% or less, more preferably 1.5% or less, and further preferably 1% or less.
また、溶媒及び炭素−炭素二重結合を有する化合物を分離する工程に先立ち、ヒドロシリル化反応に用いられた触媒等の金属成分を低減、あるいは、除去しておくことも好ましい。
ヒドロシリル化反応に用いられた触媒等の金属成分を低減、あるいは、除去する方法としては、例えば、活性炭、セライト、シリカゲル、アルミナ粉、イオン交換樹脂等の吸着剤に通してヒドロシリル化触媒等の金属成分を吸着除去する方法;ドデシルメルカプタン、2−メルカプトベンゾチアゾール等の従来公知のヒドロシリル化触媒の失活剤を添加して該触媒を失活させる方法、等が挙げられる。
これらの方法のうち、活性炭及び/又はセライトを用いて触媒等の金属成分を低減、あるいは、除去する方法は、同時に着色成分等の除去も可能であるため、特に好ましい。
In addition, prior to the step of separating the solvent and the compound having a carbon-carbon double bond, it is also preferable to reduce or remove metal components such as a catalyst used in the hydrosilylation reaction.
Examples of a method for reducing or removing a metal component such as a catalyst used in a hydrosilylation reaction include, for example, a metal such as a hydrosilylation catalyst through an adsorbent such as activated carbon, celite, silica gel, alumina powder, or an ion exchange resin. A method of adsorbing and removing components; a method of deactivating a conventionally known hydrosilylation catalyst such as dodecyl mercaptan and 2-mercaptobenzothiazole to deactivate the catalyst, and the like.
Among these methods, a method of reducing or removing a metal component such as a catalyst using activated carbon and / or celite is particularly preferable because a colored component and the like can be removed at the same time.
エポキシ変性シリコーンを含む反応混合物から、溶媒及び炭素−炭素二重結合を有する化合物を分離する方法について説明する。
エポキシ変性シリコーンを含む反応混合物から、溶媒及び炭素−炭素二重結合を有する化合物を分離する方法に、特に限定はなく、例えば、エポキシ変性シリコーンを含む反応混合物から、溶媒及び炭素−炭素二重結合を有する化合物を留去してエポキシ変性シリコーンを回収する方法が挙げられる。また、エポキシ変性シリコーンが高い揮発性を有する場合には、蒸留によりエポキシ変性シリコーンを分離回収してもよい。
この際、エポキシ変性シリコーンと溶媒及び炭素−炭素二重結合を有する化合物との分離は、同時に行ってもよいし、各々個別に行ってもよい。さらに、分離操作は、一度に実施することも、あるいは、同一又は異なる条件にて繰り返し実施することも可能である。
A method for separating a solvent and a compound having a carbon-carbon double bond from a reaction mixture containing an epoxy-modified silicone will be described.
There is no particular limitation on the method for separating the solvent and the compound having a carbon-carbon double bond from the reaction mixture containing the epoxy-modified silicone. For example, the solvent and the carbon-carbon double bond are separated from the reaction mixture containing the epoxy-modified silicone. And a method of recovering the epoxy-modified silicone by distilling off the compound having the above. When the epoxy-modified silicone has high volatility, the epoxy-modified silicone may be separated and recovered by distillation.
At this time, separation of the epoxy-modified silicone from the solvent and the compound having a carbon-carbon double bond may be performed simultaneously or individually. Furthermore, the separation operation can be carried out at once or repeatedly under the same or different conditions.
炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量をエポキシ変性シリコーンに対し2質量%以下とすることは、留去/蒸留する際の温度、圧力、時間等の操作条件を、炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量を確認しながら技術常識に基づき決定することで実施できる。 Setting the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond to 2% by mass or less with respect to the epoxy-modified silicone means that the operating conditions such as temperature, pressure, time, etc. when distilling / distilling are changed. It can be carried out by determining based on the common general technical knowledge while confirming the residual amount of the compound having a bond.
エポキシ変性シリコーンを含む反応混合物から、溶媒及び炭素−炭素二重結合を有する化合物を分離する際の雰囲気は、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、炭酸ガス等の不活性ガス、炭素数1以上4以下の低級飽和炭化水素系ガス、空気なる群から選ばれる少なくとも1種のガスの雰囲気下、流通下、減圧下又は加圧下、バブリング下、あるいは、これらを組み合わせた条件下で行うことができる。これらのガスは、一種又は二種以上の混合ガスとして用いることができる。これらのうち、好ましいガスは、不活性ガス、炭素数1以上4以下の低級飽和炭化水素系ガスであり、より好ましくは、不活性ガスであり、さらに好ましくは窒素である。 The atmosphere for separating the solvent and the compound having a carbon-carbon double bond from the reaction mixture containing the epoxy-modified silicone is an inert gas such as nitrogen, helium, neon, argon, krypton, xenon, carbon dioxide, carbon number, etc. Perform under an atmosphere of at least one gas selected from the group consisting of 1 to 4 lower saturated hydrocarbon gases and air, under circulation, under reduced pressure or under pressure, under bubbling, or a combination of these. Can do. These gases can be used as one kind or a mixture of two or more kinds. Among these, a preferable gas is an inert gas or a lower saturated hydrocarbon gas having 1 to 4 carbon atoms, more preferably an inert gas, and still more preferably nitrogen.
エポキシ変性シリコーンを含む反応混合物から、溶媒及び炭素−炭素二重結合を有する化合物を分離する際の温度は、エポキシ変性シリコーン、溶媒、ヒドロシリル化反応に供したビニル基及びエポキシ基を有する化合物を含むビニル化合物の種類によっても異なるが、効率的に溶媒及び炭素−炭素二重結合を有する化合物を分離し、かつ、エポキシ変性シリコーンの変性を抑制するためには、好ましくは0℃以上150℃以下の範囲、好ましくは5℃以上100℃以下の範囲、より好ましくは10℃以上70℃以下の範囲、さらに好ましくは15℃以上50℃以下の範囲である。このような範囲内であれは、エポキシ変性シリコーンを含む反応混合物から、溶媒及び炭素−炭素二重結合を有する化合物を分離する際の温度は、一定の温度である必要はなく、途中で温度を変化させることも可能である。 The temperature at which the solvent and the compound having a carbon-carbon double bond are separated from the reaction mixture containing the epoxy-modified silicone includes the epoxy-modified silicone, the solvent, the vinyl group subjected to the hydrosilylation reaction, and the compound having the epoxy group. Although it differs depending on the type of vinyl compound, it is preferably 0 ° C. or more and 150 ° C. or less in order to efficiently separate the solvent and the compound having a carbon-carbon double bond and suppress the modification of the epoxy-modified silicone. The range is preferably 5 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, more preferably 10 ° C. or higher and 70 ° C. or lower, and further preferably 15 ° C. or higher and 50 ° C. or lower. Within such a range, the temperature at which the solvent and the compound having a carbon-carbon double bond are separated from the reaction mixture containing the epoxy-modified silicone does not have to be a constant temperature. It is also possible to change.
エポキシ変性シリコーンを含む反応混合物から、溶媒及び炭素−炭素二重結合を有する化合物を分離する際に用いられる装置は、溶媒の含有量が低減してエポキシ変性シリコーンを含む混合物の粘度が上昇した場合においても、効率的に溶媒及び炭素−炭素二重結合を有する化合物を分離し得る装置、例えば、竪型撹拌槽、表面更新型撹拌槽反応器、表面更新型二軸混練反応器、二軸横型撹拌反応器、濡れ壁式反応器、自由落下型の多孔板型反応器、支持体に沿わせて化合物を落下させながら揮発成分を留去させる反応器等の装置が好ましい。 The apparatus used for separating the solvent and the compound having a carbon-carbon double bond from the reaction mixture containing the epoxy-modified silicone is used when the solvent content is reduced and the viscosity of the mixture containing the epoxy-modified silicone is increased. In the apparatus, an apparatus capable of efficiently separating a solvent and a compound having a carbon-carbon double bond, for example, a vertical stirring tank, a surface renewal stirring tank reactor, a surface renewal biaxial kneading reactor, a biaxial horizontal type Devices such as a stirring reactor, a wet wall reactor, a free-falling perforated plate reactor, and a reactor that distills volatile components while dropping a compound along a support are preferable.
本発明のエポキシ変性シリコーンは、透明性が求められる用途にに適した優れた色調を有すると共に、優れた耐光性、耐熱変色性、さらには耐熱性を有することから、必要に応じてエポキシ樹脂及び/又はエポキシ樹脂用硬化剤を配合し、発光素子用封止剤として用いることができる。さらに、必要に応じて、硬化促進剤、変性剤、無機フィラー、シランカップリング剤、消泡剤、着色剤、蛍光体、変色防止剤、光拡散剤、熱伝導性フィラー等、従来公知の添加剤を適宜配合することもできる。 The epoxy-modified silicone of the present invention has an excellent color tone suitable for applications requiring transparency, and has excellent light resistance, heat discoloration resistance, and heat resistance. / Or it can mix | blend the hardening | curing agent for epoxy resins, and can use it as a sealing agent for light emitting elements. Furthermore, conventionally known additives such as curing accelerators, modifiers, inorganic fillers, silane coupling agents, antifoaming agents, colorants, phosphors, anti-discoloring agents, light diffusing agents, and heat conductive fillers are added as necessary. An agent can be appropriately blended.
用いられるエポキシ樹脂としては、従来公知の芳香族グリシジルエーテルに代表される芳香族系エポキシ樹脂の芳香環を水素化して得られるグリシジルエーテル類、脂環式エポキシ樹脂類、その他のエポキシ樹脂等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の混合物として用いることができる。 Examples of the epoxy resin used include glycidyl ethers obtained by hydrogenating aromatic rings of aromatic epoxy resins represented by conventionally known aromatic glycidyl ethers, alicyclic epoxy resins, and other epoxy resins. It is done. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.
芳香族グリシジルエーテルとしては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、ビスフェノールS、テトラメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールAD、テトラメチルビスフェノールS、テトラブロモビスフェノールA、テトラクロロビスフェノールA、テトラフルオロビスフェノールA等のビスフェノール類をグリシジル化したビスフェノール型エポキシ樹脂;ビフェノール、ジヒドロキシナフタレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン等のその他の2価フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂;1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、4,4−(1−(4−(1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル)フェニル)エチリデン)ビスフェノール等のトリスフェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂;1,1,2,2,−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン等のテトラキスフェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂;フェノールノボラック、クレゾールノボラック、ビスフェノールAノボラック、臭素化フェノールノボラック、臭素化ビスフェノールAノボラック等のノボラック類をグリシジル化したノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。 Examples of the aromatic glycidyl ether include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, bisphenol S, tetramethyl bisphenol A, tetramethyl bisphenol F, tetramethyl bisphenol AD, tetramethyl bisphenol S, tetrabromobisphenol A, and tetrachlorobisphenol A. Bisphenol type epoxy resin obtained by glycidylation of bisphenols such as tetrafluorobisphenol A; epoxy resin obtained by glycidylation of other dihydric phenols such as biphenol, dihydroxynaphthalene and 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene; 1,1,1-tris (4-hydroxyphenyl) methane, 4,4- (1- (4- (1- (4-hydroxyphenyl) -1-methylethyl) Epoxy resin obtained by glycidylation of trisphenols such as phenyl) ethylidene) bisphenol; epoxy resin obtained by glycidylation of tetrakisphenols such as 1,1,2,2, -tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane; phenol novolac, cresol Examples thereof include novolak type epoxy resins obtained by glycidylating novolaks such as novolak, bisphenol A novolak, brominated phenol novolak and brominated bisphenol A novolak.
芳香族グリシジルエーテルの芳香環の水素化反応は、例えば、ルテニウム系触媒、ロジウム系触媒等を用いる従来公知の方法により実施することが可能である。
脂環式エポキシ樹脂類としては、従来公知の化合物、例えば、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート等が挙げられる。
The hydrogenation reaction of the aromatic ring of the aromatic glycidyl ether can be carried out by a conventionally known method using, for example, a ruthenium-based catalyst or a rhodium-based catalyst.
Examples of the alicyclic epoxy resins include conventionally known compounds such as 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate and 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol. , 2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, and the like.
その他のエポキシ樹脂類としては、ダイマー酸グリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸グリシジルエステル等のグリシジルエステル類、トリグリシジルイソシアヌレート等のグリシジルアミン類;エポキシ化大豆油、エポキシ化ポリブタジエン等の線状脂肪族エポキシ化合物等が挙げられる。 Other epoxy resins include glycidyl esters such as dimer acid glycidyl ester and glycidyl hexahydrophthalate, glycidyl amines such as triglycidyl isocyanurate; linear aliphatic epoxies such as epoxidized soybean oil and epoxidized polybutadiene Compounds and the like.
エポキシ樹脂として芳香族系エポキシ樹脂を用いる場合、耐光性の向上の観点から、用いられるエポキシ樹脂の総質量に対する該芳香族系エポキシ樹脂の比率は50質量%以下であることが好ましく、30質量%以下であることがより好ましく、10質量%以下であることがさらに好ましく、芳香族系エポキシ樹脂を全く含まないエポキシ樹脂を用いることが特に好ましい。 When an aromatic epoxy resin is used as the epoxy resin, the ratio of the aromatic epoxy resin to the total mass of the epoxy resin used is preferably 50% by mass or less, and 30% by mass from the viewpoint of improving light resistance. More preferably, it is more preferably 10% by mass or less, and particularly preferably an epoxy resin containing no aromatic epoxy resin is used.
エポキシ樹脂の使用量は、エポキシ変性シリコーン100質量部に対して、0.1〜100質量部であることが好ましく、より好ましくは1〜100質量部、さらに好ましくは1〜80質量部である。 It is preferable that the usage-amount of an epoxy resin is 0.1-100 mass parts with respect to 100 mass parts of epoxy-modified silicones, More preferably, it is 1-100 mass parts, More preferably, it is 1-80 mass parts.
エポキシ樹脂用硬化剤としては、例えば、エチレンジアミン、トリエチレンペンタミン、ヘキサメチレンジアミン、ダイマー酸変性エチレンジアミン、N−エチルアミノピペラジン、イソホロンジアミン等の脂肪族アミン類;メタフェニレンジアミン、パラフェニレンジアミン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェノルスルホン、4,4’−ジアミノジフェノルメタン、4,4’−ジアミノジフェノルエーテル等の芳香族アミン類;メルカプトプロピオン酸エステル、エポキシ樹脂の末端メルカプト化合物等のメルカプタン類;ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、ビスフェノールS、テトラメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールAD、テトラメチルビスフェノールS、テトラブロモビスフェノールA、テトラクロロビスフェノールA、テトラフルオロビスフェノールA、ビフェノール、ジヒドロキシナフタレン、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、4,4−(1−(4−(1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル)フェニル)エチリデン)ビスフェノール、フェノールノボラック、クレゾールノボラック、ビスフェノールAノボラック、臭素化フェノールノボラック、臭素化ビスフェノールAノボラック等のフェノール樹脂類;前記フェノール樹脂類の芳香環を水素化したポリオール類;ポリアゼライン酸無水物、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物、ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチル−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチル−ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物等の脂環式酸無水物類;無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等の芳香族酸無水物類;2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール等のイミダゾール類及びその塩類、上記脂肪族アミン類、芳香族アミン類、及び/又はイミダゾール類とエポキシ樹脂との反応により得られるアミンアダクト類;アジピン酸ジヒドラジド等のヒドラジン類;ジメチルベンジルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデカ−7−エン等の第3級アミン類;トリフェニルホスフィン等の有機ホスフィン類;ジシアンジアミド等が挙げられる。 Examples of the epoxy resin curing agent include aliphatic amines such as ethylenediamine, triethylenepentamine, hexamethylenediamine, dimer acid-modified ethylenediamine, N-ethylaminopiperazine, and isophoronediamine; metaphenylenediamine, paraphenylenediamine, 3 , 3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenol sulfone, 4,4'-diaminodiphenol methane, 4,4'-diaminodiphenol ether, etc .; mercaptopropionic acid ester , Mercaptans such as terminal mercapto compounds of epoxy resins; bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, bisphenol S, tetramethylbisphenol A, tetramethylbisphenol F, tetramethylbisphenol A , Tetramethylbisphenol S, tetrabromobisphenol A, tetrachlorobisphenol A, tetrafluorobisphenol A, biphenol, dihydroxynaphthalene, 1,1,1-tris (4-hydroxyphenyl) methane, 4,4- (1- (4 Phenol resins such as-(1- (4-hydroxyphenyl) -1-methylethyl) phenyl) ethylidene) bisphenol, phenol novolak, cresol novolak, bisphenol A novolak, brominated phenol novolak, brominated bisphenol A novolak; Polyols obtained by hydrogenating aromatic rings of resins; polyazeline acid anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, hexahydro anhydride Phosphoric acid, 5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid anhydride, norbornane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid anhydride, methyl-norbornane-2,3- Alicyclic acid anhydrides such as dicarboxylic acid anhydrides; aromatic acid anhydrides such as phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride; 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, Imidazoles such as 2-phenylimidazole and salts thereof, amine amines obtained by reaction of the above aliphatic amines, aromatic amines, and / or imidazoles with epoxy resins; hydrazines such as adipic acid dihydrazide; dimethyl Tertiary amines such as benzylamine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undec-7-ene; Organic phosphines such as enylphosphine; dicyandiamide and the like.
これらのうち、硬化速度が高まることから、脂環式酸無水物類、芳香族酸無水物類が好ましく、さらに硬化物の耐光性が高まることから、脂環式酸無水物類がより好ましく、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチル−ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物が好ましく用いられる。これらの硬化剤は1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。 Of these, alicyclic acid anhydrides and aromatic acid anhydrides are preferable because the curing rate is increased, and light resistance of the cured product is further increased, and alicyclic acid anhydrides are more preferable. Methyl hexahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, norbornane-2,3-dicarboxylic anhydride, and methyl-norbornane-2,3-dicarboxylic anhydride are preferably used. These curing agents can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.
エポキシ樹脂用硬化剤の使用量は、得られるエポキシ変性シリコーン100質量部に対して1質量部以上200質量部以下であることが好ましく、2質量部以上100質量部以下であることがより好ましい。 The amount of the epoxy resin curing agent used is preferably 1 part by mass or more and 200 parts by mass or less, and more preferably 2 parts by mass or more and 100 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone obtained.
発光素子封止剤には、必要に応じて、硬化促進剤を含有してもよい。硬化促進剤としては、例えば、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類;1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデカ−7−エン等の第3級アミン類及びその塩類;トリフェニルホスフィン等のホスフィン類;トリフェニルホスホニウムブロマイド等のホスホニウム塩類;アミノトリアゾ−ル類;オクチル酸錫、ジブチル錫ジラウレート等の錫系;オクチル酸亜鉛等の亜鉛系;アルミニウム、クロム、コバルト、ジルコニウム等のアセチルアセトナート等の金属触媒類等が用いられる。これらの硬化促進剤は1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。 The light emitting element sealing agent may contain a curing accelerator as necessary. Examples of the curing accelerator include imidazoles such as 2-methylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole; tertiary amines such as 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undec-7-ene. And phosphines such as triphenylphosphine; phosphonium salts such as triphenylphosphonium bromide; aminotriazoles; tin such as tin octylate and dibutyltin dilaurate; zinc such as zinc octylate; aluminum, chromium, Metal catalysts such as acetylacetonate such as cobalt and zirconium are used. These curing accelerators can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.
発光素子封止剤には、必要に応じて変性剤を含有してもよい。変性剤としては、1分子中に2個以上の水酸基を含有するポリオール類が挙げられ、脂肪族系ポリオール類、例えば、エチレングリコールやグリセリン等が好ましく用いられる。これらの変性剤は、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。変性剤は、硬化物に可とう性を付与し剥離接着力を向上させる場合がある。 The light emitting element sealing agent may contain a modifier as necessary. Examples of the modifier include polyols containing two or more hydroxyl groups in one molecule, and aliphatic polyols such as ethylene glycol and glycerin are preferably used. These modifiers can be used as one kind or a mixture of two or more kinds. The modifier may impart flexibility to the cured product and improve peel adhesion.
発光素子封止剤には、必要に応じて無機フィラーを含有してもよい。好ましく用いられる無機フィラーは、透過性への悪影響を避けるため、使用するLEDの波長以下の平均粒子径を有するものであり、より好ましくは、前記平均粒子径が100nm以下のものである。無機フィラーは、例えば機械的物性を改善するためや熱伝導性を向上させる場合がある。 The light emitting element sealant may contain an inorganic filler as necessary. The inorganic filler that is preferably used has an average particle diameter equal to or smaller than the wavelength of the LED to be used in order to avoid an adverse effect on permeability, and more preferably, the average particle diameter is 100 nm or less. Inorganic fillers may improve, for example, mechanical properties or thermal conductivity.
発光素子封止剤には、必要に応じてシランカップリング剤を含有してもよい。好ましく用いられるシランカップリング剤は、芳香族基やハロゲン原子を有さない化合物である。 The light emitting element sealing agent may contain a silane coupling agent as necessary. The silane coupling agent preferably used is a compound having no aromatic group or halogen atom.
発光素子封止剤の硬化方法は公知の方法を用いることができる。公知技術のうち、加熱によって硬化させる方法、あるいは、紫外線(UV)を照射することによって硬化させる方法は、エポキシ樹脂の硬化方法として一般的に用いられる方法であり、好ましい方法として挙げられる。加熱により硬化させる際の温度は、用いられるエポキシ樹脂や硬化剤等によるため特に限定はないが、通常、80〜200℃の範囲である。
硬化反応は、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、炭酸ガス等の不活性ガス、あるいは、低級飽和炭化水素系ガスや空気等の雰囲気下、減圧下又は加圧下で硬化させることができる。これらのガスは、一種又は二種以上の混合ガスとして用いることができる。これらのうち、好ましいガスは窒素である。
A known method can be used as a method for curing the light-emitting element sealant. Among known techniques, a method of curing by heating or a method of curing by irradiating with ultraviolet rays (UV) is a method generally used as a method for curing an epoxy resin, and can be mentioned as a preferable method. The temperature for curing by heating is not particularly limited because it depends on the epoxy resin or curing agent used, but is usually in the range of 80 to 200 ° C.
The curing reaction can be cured under an inert gas such as nitrogen, helium, neon, argon, krypton, xenon, carbon dioxide, or an atmosphere such as a lower saturated hydrocarbon gas or air, under reduced pressure or under pressure. . These gases can be used as one kind or a mixture of two or more kinds. Of these, the preferred gas is nitrogen.
本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて得られる発光素子封止剤を用いて発光素子を封止することにより、発光ダイオードが形成できる。
本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて得られる発光素子封止剤を用いて封止して得られた発光素子の発光波長は、赤外から赤色、緑色、青色、紫色、紫外まで幅広く用いることができ、従来の封止剤では耐光性が不足して劣化してしまう250nm〜550nmの波長の光まで実用的に用いることができる。これにより、長寿命で、エネルギー効率が高く、色再現性の高い白色発光ダイオードを得ることができる。ここで、発光波長とは、主発光ピーク波長のことをいう。
A light emitting diode can be formed by sealing a light emitting element using the light emitting element sealing agent obtained by using the epoxy-modified silicone of the present invention.
The emission wavelength of the light-emitting element obtained by sealing with the light-emitting element sealant obtained by using the epoxy-modified silicone of the present invention can be widely used from infrared to red, green, blue, purple and ultraviolet. In addition, the conventional sealant can be used practically to light having a wavelength of 250 nm to 550 nm, which is deteriorated due to insufficient light resistance. As a result, a white light-emitting diode having a long life, high energy efficiency, and high color reproducibility can be obtained. Here, the emission wavelength refers to the main emission peak wavelength.
使用できる発光素子の具体例としては、例えば、基板上に半導体材料を積層して形成した発光素子が挙げられる。この場合、半導体材料としては、例えば、GaAs、GaP、GaAlAs、GaAsP、AlGaInP、GaN、InN、AlN、InGaAlN、SiC等が挙げられる。基板としては、例えば、サファイア、スピネル、SiC、Si、ZnO、GaN単結晶等が挙げられる。必要に応じ、基板と半導体材料の間にバッファー層を形成しても良い。これらバッファー層としては、GaN、AlN等が挙げられる。基板上へ半導体材料を積層する方法としては、特に制限はないが、例えば、MOCVD法、HDVPE法、液相成長法等が用いられる。
発光素子の構造は、例えば、MIS接合、PN接合、PIN接合を有するホモ接合、ヘテロ接合、ダブルヘテロ構造等が挙げられる。また、単一あるいは多重量子井戸構造とすることも可能である。
Specific examples of the light-emitting element that can be used include a light-emitting element formed by stacking semiconductor materials over a substrate. In this case, examples of the semiconductor material include GaAs, GaP, GaAlAs, GaAsP, AlGaInP, GaN, InN, AlN, InGaAlN, and SiC. Examples of the substrate include sapphire, spinel, SiC, Si, ZnO, and GaN single crystal. If necessary, a buffer layer may be formed between the substrate and the semiconductor material. Examples of these buffer layers include GaN and AlN. The method for laminating the semiconductor material on the substrate is not particularly limited, but for example, MOCVD method, HDVPE method, liquid phase growth method and the like are used.
Examples of the structure of the light emitting element include a homojunction having a MIS junction, a PN junction, and a PIN junction, a heterojunction, and a double heterostructure. A single or multiple quantum well structure can also be used.
発光素子の封止は、本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて得られる発光素子封止剤のみで行うこともできるが、他の封止剤を併用して封止することもできる。
他の封止剤を併用する場合、本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて得られる発光素子封止剤で封止した後、その周囲を他の封止剤で封止する、あるいは、他の封止剤で封止した後、その周囲を本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて得られる発光素子封止剤で封止することができる。他の封止剤としては、例えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ウレア樹脂、イミド樹脂、ガラス等が挙げられる。
The light-emitting element can be sealed only with the light-emitting element sealant obtained by using the epoxy-modified silicone of the present invention, but can be sealed with another sealant.
When other sealants are used in combination, after sealing with the light emitting device sealant obtained using the epoxy-modified silicone of the present invention, the periphery is sealed with other sealants, or other sealants are sealed. After sealing with a stopper, the periphery can be sealed with a light emitting device sealant obtained using the epoxy-modified silicone of the present invention. Examples of other sealants include epoxy resins, silicone resins, acrylic resins, urea resins, imide resins, and glass.
発光素子封止剤で発光素子を封止する方法としては、例えば、モールド型枠中に硬化性組成物を予め注入し、そこに発光素子が固定されたリードフレーム等を浸漬した後に硬化させる方法、発光素子を挿入した型枠中に発光素子封止剤を注入し、硬化する方法等が挙げられる。この際、発光素子封止剤を注入する方法としては、ディスペンサーによる注入、トランスファー成形、射出成形等が挙げられる。さらにその他の封止方法としては、発光素子封止剤を発光素子上へ滴下、孔版印刷、スクリーン印刷、あるいは、マスクを介して塗布し硬化させる方法、低部に発光素子を配置したカップ等に発光素子封止剤をディスペンサー等により注入し、硬化させる方法等が挙げられる。 As a method of sealing a light emitting element with a light emitting element sealant, for example, a method of injecting a curable composition in advance into a mold mold and immersing a lead frame or the like on which the light emitting element is fixed, followed by curing. For example, a method of injecting a light-emitting element sealing agent into a mold frame in which the light-emitting element is inserted and curing it may be used. At this time, as a method for injecting the light-emitting element sealing agent, injection by a dispenser, transfer molding, injection molding and the like can be mentioned. Further, as other sealing methods, a light emitting device sealant is dropped on the light emitting device, stencil printing, screen printing, or a method of applying and curing through a mask, a cup having a light emitting device disposed in the lower part, etc. For example, a method of injecting a light-emitting element sealing agent with a dispenser or the like and curing it.
本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて得られる発光素子封止剤は、発光素子をリード端子やパッケージに固定するダイボンド材、発光素子上のパッシベーション膜、パッケージ基板として用いることもできる。
封止部分の形状は、例えば、砲弾型のレンズ形状、板状、薄膜状等が挙げられる。
The light emitting device sealing agent obtained by using the epoxy-modified silicone of the present invention can also be used as a die bond material for fixing the light emitting device to a lead terminal or a package, a passivation film on the light emitting device, and a package substrate.
Examples of the shape of the sealing portion include a bullet-shaped lens shape, a plate shape, and a thin film shape.
本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて得られた発光ダイオードは、従来公知の方法で性能の向上を図ることができる。性能の向上方法としては、例えば、発光素子背面に光の反射層あるいは集光層を設ける方法、補色着色部を底部に形成する方法、主発光ピークより短波長の光を吸収する層を発光素子上に設ける方法、発光素子を封止した後さらに硬質材料でモールディングする方法、発光ダイオードを貫通孔に挿入して固定する方法、発光素子をフリップチップ接続等によってリード部材等と接続して基板方向から光を取り出す方法等が挙げられる。 The performance of the light-emitting diode obtained using the epoxy-modified silicone of the present invention can be improved by a conventionally known method. As a method for improving the performance, for example, a method of providing a light reflecting layer or a condensing layer on the back surface of the light emitting device, a method of forming a complementary colored portion on the bottom, a layer that absorbs light having a wavelength shorter than the main light emitting peak is used. Method of providing on top, Method of molding light emitting element after sealing with hard material, Method of inserting light emitting diode into through hole and fixing, Light emitting element connected to lead member etc. by flip chip connection etc. And a method of extracting light from the light source.
本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて得られた発光ダイオードは、例えば、液晶ディスプレイ等のバックライト、照明、各種センサー、プリンター、コピー機等の光源、車両用計器光源、信号灯、表示灯、表示装置、面状発光体の光源、ディスプレイ、装飾、各種ライト等として有用である。 The light-emitting diode obtained by using the epoxy-modified silicone of the present invention includes, for example, a backlight such as a liquid crystal display, illumination, various sensors, a light source such as a printer and a copying machine, an instrument light source for vehicles, a signal lamp, a display lamp, and a display device It is useful as a light source for a planar light emitter, a display, a decoration, various lights, and the like.
以下に本発明の具体的な実施例及び比較例を示すが、本発明は下記の実施例に限定されない。
実施例、比較例においては以下の方法により測定・評価を行った。
(1)シリコーンの平均組成と含有有機基の比率の算出
シリコーン30mgに対して、1mlの割合で重水素化クロロホルム溶媒に溶解した溶液を測定試料とした。この測定試料を用いて、400MHz(日本分光社製α−400)の1H−NMRの測定を積算回数200回にて行い、得られた結果を解析して変性ポリシロキサン1分子中の平均組成を求めた。
シリコーン0.15gに対して、1gの割合で重水素化クロロホルム溶媒に溶解し、Cr(acac)3をシリコーンに対して8wt%添加した溶液を測定試料とした。この測定試料を用いて、400MHz(日本分光社製α−400)の29Si−NMRの測定を積算回数4,000回にて行い、得られた結果を解析して変性ポリシロキサン1分子中の平均組成を求めた。
上記2法にて得られた結果を解析して、含有有機基の比率を算出した。
Specific examples and comparative examples of the present invention are shown below, but the present invention is not limited to the following examples.
In Examples and Comparative Examples, measurement and evaluation were performed by the following methods.
(1) Calculation of ratio of average composition of silicone and ratio of contained organic group A solution dissolved in deuterated chloroform solvent at a ratio of 1 ml per 30 mg of silicone was used as a measurement sample. Using this measurement sample, 1H-NMR measurement of 400 MHz (manufactured by JASCO Corporation α-400) was performed at 200 integration times, and the obtained results were analyzed to determine the average composition in one molecule of the modified polysiloxane. Asked.
A solution in which 8 wt% of Cr (acac) 3 was added to silicone was dissolved in 0.15 g of silicone in a deuterated chloroform solvent at a rate of 1 g. Using this measurement sample, 29Si-NMR measurement at 400 MHz (manufactured by JASCO Corporation α-400) was performed at an integration number of 4,000 times, and the obtained results were analyzed and averaged in one molecule of the modified polysiloxane. The composition was determined.
By analyzing the results obtained by the above two methods, the ratio of contained organic groups was calculated.
(2)エポキシ変性シリコーン中の炭素−炭素二重結合を有した化合物の残留量及び残留溶媒量の測定
島津社製ガスクロマトグラフィー分析装置GC−14Bを用い、以下の条件により求めた。
5mlのメスフラスコに、エポキシ変性シリコーン約0.5g及び内部標準としてn−オクタン0.015gを秤量した後、脱水THF又は脱水1,4−ジオキサンで5mlに希釈した溶液を、測定サンプルとした。
カラム:J&W Scientific社製DB−1(登録商標)、
長さ30m、内径0.25mm、液膜1μm
キャリアーガス:ヘリウム
検出器:FID
インジェクション温度:250℃
検出器温度:300℃
昇温条件:50℃にて5min保持した後、50℃から300℃まで10℃/minで昇温した。
得られた結果から、別途作成した内部標準法による検量線を用いて、エポキシ変性シリコーン中に含有される各成分の含有量を定量し合計した。なお、数値は、エポキシ変性シリコーンに対する質量比で表したものである。
(2) Measurement of residual amount and residual solvent amount of compound having carbon-carbon double bond in epoxy-modified silicone Using Shimadzu Gas Chromatography Analyzer GC-14B, the amount was determined under the following conditions.
After measuring about 0.5 g of epoxy-modified silicone and 0.015 g of n-octane as an internal standard in a 5 ml volumetric flask, a solution diluted to 5 ml with dehydrated THF or dehydrated 1,4-dioxane was used as a measurement sample.
Column: DB-1 (registered trademark) manufactured by J & W Scientific,
Length 30m, inner diameter 0.25mm, liquid film 1μm
Carrier gas: Helium Detector: FID
Injection temperature: 250 ° C
Detector temperature: 300 ° C
Temperature raising condition: After holding at 50 ° C. for 5 minutes, the temperature was raised from 50 ° C. to 300 ° C. at 10 ° C./min.
From the obtained results, the content of each component contained in the epoxy-modified silicone was quantified and summed using a separately prepared calibration curve by an internal standard method. In addition, a numerical value is represented with the mass ratio with respect to epoxy-modified silicone.
(3)エポキシ価
以下の操作と算出法により求めた。
樹脂試料をベンジルアルコールと1−プロパノールで溶解した。この溶液にヨウ化カリウム水溶液、ブロモフェノールブルー指示薬を添加した後、1規定塩酸にて滴定し、反応系内が青色から黄色になった点を当量点とした。当量点より、エポキシ変性シリコーンのエポキシ価を以下の式に従って算出した。
エポキシ価(当量/100g)=(V×N×F)/(10×W)
[ただし、W、V、N、Fは各々以下の値を表す。
W;試料の質量(g)
V;滴定量(ml)
N;滴定に使用した塩酸の規定度(N)
F;滴定に使用した塩酸のファクター
(3) Epoxy value Determined by the following operation and calculation method.
The resin sample was dissolved with benzyl alcohol and 1-propanol. A potassium iodide aqueous solution and a bromophenol blue indicator were added to this solution, followed by titration with 1N hydrochloric acid, and the point where the reaction system turned from blue to yellow was defined as the equivalent point. From the equivalent point, the epoxy value of the epoxy-modified silicone was calculated according to the following formula.
Epoxy value (equivalent / 100 g) = (V × N × F) / (10 × W)
[W, V, N, and F represent the following values, respectively.
W: Mass of the sample (g)
V; titration volume (ml)
N: Normality of hydrochloric acid used for titration (N)
F: Factor of hydrochloric acid used for titration
(4)元素含有量
含有白金量の分析は四重極ICP質量分析装置(Thermo Elemental製:X7−ICP−MS)を用いて測定した。
(5)透明性
厚さ2mmの硬化物を用い、厚さ方向の350nm、400nm、450nmの光線透過率を日本分光(株)社製JASCO V−550により測定した。初期における光線透過率が80%以上を◎、70%以上80%未満を○、50%以上70%未満を△、50%未満を×とした。
(6)耐光性
光ファイバーを経由してUV照射装置(ウシオ電機製:SP−7)から100℃一定にした恒温乾燥機中の厚さ2mmの硬化物にUV光を照射できるようにセットした。
365nmバンドパスフィルターを用いて、330〜410nmの光を、2W/cm2になるように照射した。
照射開始後、250時間以上硬化物が着色しないものを◎、200時間以上250時間未満で硬化物が着色するものを○、200時間未満で着色するものを×とした。
(4) Element content The platinum content was analyzed using a quadrupole ICP mass spectrometer (manufactured by Thermo Elemental: X7-ICP-MS).
(5) Transparency Using a cured product having a thickness of 2 mm, the light transmittance at 350 nm, 400 nm, and 450 nm in the thickness direction was measured by JASCO V-550 manufactured by JASCO Corporation. The initial light transmittance of 80% or more was evaluated as ◎, 70% or more and less than 80% as ○, 50% or more and less than 70% as Δ, and less than 50% as ×.
(6) Light resistance It set so that UV light could be irradiated to the hardened | cured material of thickness 2mm in the constant temperature dryer made 100 degreeC constant from UV irradiation apparatus (product made from Ushio Electric: SP-7) via the optical fiber.
Using a 365 nm band pass filter, light of 330 to 410 nm was irradiated so as to be 2 W / cm 2.
After the start of irradiation, ◎ indicates that the cured product is not colored for 250 hours or more, ○ indicates that the cured product is colored in 200 hours or more and less than 250 hours, and × indicates that the cured product is colored in less than 200 hours.
(7)耐熱性
粉砕した硬化物のTgをセイコーインスツールメント社製DSC220Cにより昇温速度10℃/分の条件で測定し、耐熱性の指標とした。硬化物のTgが120℃以上を◎、100℃以上120℃未満を○、50℃以上100℃未満を△とした。
(8)耐熱変色性
厚さ2mmの硬化物を用い、厚さ方向の400nmの光線透過率を日本分光(株)社製JASCO V−550により測定した。次に該硬化物をSUS316製の型枠に入れ、空気下で250℃、20分間加熱処理を行った後、氷冷水で急冷した後、試料の厚さ方向における400nmの光線透過率を再度測定し、加熱処理前の試料における400nmの光線透過率に対する加熱処理後の試料における400nmの光線透過率の値を算出し、加熱処理前の試料の光線透過率に対する加熱処理後の試料の光線透過率の比率を、光線透過保持率として算出した。光線透過保持率が92%以上を◎、90%以上92%未満を○、88%以上90%未満を△、88%未満を×とした。
(7) Heat resistance Tg of the pulverized cured product was measured with a DSC220C manufactured by Seiko Instruments Inc. under a temperature rising rate of 10 ° C / min, and used as an index of heat resistance. Tg of the cured product was 120 ° C. or more, ◯, 100 ° C. or more and less than 120 ° C., and 50 ° C. or more and less than 100 ° C., Δ.
(8) Heat-resistant discoloration Using a cured product having a thickness of 2 mm, a light transmittance of 400 nm in the thickness direction was measured by JASCO V-550 manufactured by JASCO Corporation. Next, the cured product is put into a mold made of SUS316, subjected to heat treatment at 250 ° C. for 20 minutes in the air, and then rapidly cooled with ice-cold water, and then the light transmittance at 400 nm in the thickness direction of the sample is measured again. Then, the value of the light transmittance of 400 nm in the sample after the heat treatment with respect to the light transmittance of 400 nm in the sample before the heat treatment is calculated, and the light transmittance of the sample after the heat treatment with respect to the light transmittance of the sample before the heat treatment Was calculated as the light transmission retention rate. The light transmission retention was 92% or more, ◎, 90% or more and less than 92%, ◯, 88% or more and less than 90%, or less than 88%.
(実施例1)
<エポキシ変性シリコーン(1a)の製造>
還流冷却器、温度計及び撹拌装置を有する1.5リットルの反応器を窒素置換した。前記装置に、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン(信越化学社製試薬)を窒素下にて脱水蒸留精製して得た純1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン70g、1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン(信越化学社製試薬)を窒素下にて脱水蒸留精製して得た純1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン32.55g、窒素下にて4−エポキシエチル−シクロへキセン(ダイセル化学工業株式会社製:セロキサイド2000)を窒素下にて脱水蒸留精製して得た4−エポキシエチル−シクロへキセンを1.3質量%含有する4−ビニルシクロへキセンオキサイド107.0g、窒素下にて脱水蒸留精製した1,4−ジオキサン(和光純薬社製試薬)820gを窒素下にて仕込んだ後、大気圧乾燥窒素雰囲気下で攪拌しながら60℃に昇温した。これに、白金元素換算で1,000ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の1,4−ジオキサン溶液1.6gを窒素下にて添加し、引き続き4時間反応した。この際、反応熱により、反応温度は60℃〜100℃であった。
反応終了後、反応液温度を30℃に下げ、該反応液に、乾燥窒素気流下にて120℃で3時間加熱乾燥した300gの活性炭(和光純薬製:顆粒状特級)を添加して、30℃から40℃の温度で、24時間攪拌処理を継続した後、活性炭をろ過した。
得られた処理液をエバポレーターを用いて加熱温度45℃、圧力10kPaの条件で1.5時間、順次圧力を低減して、最終30Paに圧力を下げて3時間かけて溶媒及び炭素−炭素二重結合を有する化合物を留去し、エポキシ変性シリコーンを得た。得られたエポキシ変性シリコーン約140gを内径65mmφ、長さ250mmのガラスチューブに入れ、ガラスチューブの長軸が水平になるようにガラスチューブオーブン(柴田科学製GTO−350)にセットした。回転数約15回/分にてガラスチューブを長軸方向を中心に回転させながら、内部に大気圧条件下にて3ml/分の流量で乾燥窒素を導入すると共に、系内を40Paに減圧した。外部の面ヒーターでガラスチューブを45℃に加熱して、残留溶媒及びエポキシ変性シリコーン中に含有される炭素−炭素二重結合を有する化合物を1時間かけて留去し、エポキシ変性シリコーン(1a)を得た。
エポキシ変性シリコーン(1a)中に残留する1,4−ジオキサンは300ppm、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物として、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、4−エポキシエチル−シクロへキセンが、各々0.45質量%、0.68質量%、0.3質量%残留しており、その合計量は1.43質量%であった。なお、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物以外の炭素−炭素二重結合を有する化合物は含有されていなかった。
これより、エポキシ変性シリコーン(1a)の炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は1.43質量%、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物の残留量は1.43質量%、ビニル基及びエポキシ基を有する化合物の炭素−炭素二重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の残留量は、0.68質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(1a)のエポキシ価は0.40、全Si原子に対する残留SiH単位を構成するSi原子の量は、0.4%、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で3ppmであった。
Example 1
<Manufacture of epoxy-modified silicone (1a)>
A 1.5 liter reactor with reflux condenser, thermometer and stirrer was purged with nitrogen. Pure 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane obtained by dehydrating and purifying 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) under nitrogen in the apparatus. 70 g, 31.55 g of pure 1,3-divinyltetramethyldisiloxane obtained by dehydrating and purifying 1,3-divinyltetramethyldisiloxane (reagent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) under nitrogen, 4- 4-vinylcyclohexene containing 1.3% by mass of 4-epoxyethyl-cyclohexene obtained by dehydrating and purifying epoxyethyl-cyclohexene (Daicel Chemical Industries, Ltd .: Celoxide 2000) under nitrogen. After charging 107.0 g of oxide and 820 g of 1,4-dioxane (reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) purified by dehydration distillation under nitrogen under nitrogen, the atmosphere was dried at atmospheric pressure. The temperature of the mixture reached 60 ℃ under care. To this, 1.6 g of a 1,4-dioxane solution of a platinum divinyltetramethyldisiloxane complex containing 1,000 ppm of platinum in terms of platinum element was added under nitrogen, followed by reaction for 4 hours. Under the present circumstances, reaction temperature was 60 to 100 degreeC with reaction heat.
After completion of the reaction, the temperature of the reaction solution was lowered to 30 ° C., and 300 g of activated carbon (manufactured by Wako Pure Chemicals: Granular Special Grade) heated and dried at 120 ° C. for 3 hours under a dry nitrogen stream was added to the reaction solution After the stirring treatment was continued for 24 hours at a temperature of 30 ° C. to 40 ° C., the activated carbon was filtered.
The obtained treatment solution was heated using an evaporator under the conditions of a heating temperature of 45 ° C. and a pressure of 10 kPa for 1.5 hours, the pressure was sequentially reduced, and the pressure was lowered to 30 Pa for 3 hours. The compound having a bond was distilled off to obtain an epoxy-modified silicone. About 140 g of the obtained epoxy-modified silicone was put in a glass tube having an inner diameter of 65 mmφ and a length of 250 mm, and set in a glass tube oven (GTO-350 manufactured by Shibata Kagaku) so that the long axis of the glass tube was horizontal. While rotating the glass tube around the major axis direction at a rotation speed of about 15 times / min, dry nitrogen was introduced into the interior at a flow rate of 3 ml / min under atmospheric pressure conditions, and the system was depressurized to 40 Pa. . The glass tube is heated to 45 ° C. with an external surface heater, and the residual solvent and the compound having a carbon-carbon double bond contained in the epoxy-modified silicone are distilled off over 1 hour to obtain an epoxy-modified silicone (1a). Got.
1,4-Dioxane remaining in the epoxy-modified silicone (1a) is 300 ppm, and compounds having a carbon-carbon double bond and an epoxy group include 4-vinylcyclohexene oxide, 4-ethylidenylcyclohexene oxide, 4-epoxyethyl. -Cyclohexene remained at 0.45 mass%, 0.68 mass%, and 0.3 mass%, respectively, and the total amount was 1.43 mass%. In addition, the compound which has carbon-carbon double bonds other than the compound which has a carbon-carbon double bond and an epoxy group was not contained.
Accordingly, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond of the epoxy-modified silicone (1a) is 1.43% by mass, and the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is 1.43% by mass. The residual amount of by-products generated by the internal transition of the carbon-carbon double bond of the compound having a vinyl group and an epoxy group was 0.68% by mass.
Further, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (1a) is 0.40, the amount of Si atoms constituting the residual SiH unit with respect to all Si atoms is 0.4%, and the transition metal component contained is only platinum, The content of the component was 3 ppm in terms of platinum element.
<硬化物の製造と特性評価>
得られたエポキシ変性シリコーン(1a)100質量部にメチルヘキサヒドロ無水フタル酸60.5質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩1質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して硬化性組成物を得た。硬化性組成物を窒素下にて深さ2mmの型に流し込み、120℃で1時間、さらに150℃で2時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture and characteristic evaluation of cured product>
100 parts by mass of the resulting epoxy-modified silicone (1a) is mixed with 60.5 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride and 1 part by mass of diazabicycloundecene octylate under nitrogen until the whole becomes uniform. After stirring, defoaming was performed to obtain a curable composition. The curable composition was poured into a mold having a depth of 2 mm under nitrogen, and a curing reaction was performed at 120 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 2 hours to obtain a cured product. Table 1 shows the performance of the obtained cured product.
(実施例2)
<エポキシ変性シリコーン(2a)の製造>
ガラスチューブオーブンによるエポキシ変性シリコーン中の溶媒及びエポキシ変性シリコーン中に含有される炭素−炭素二重結合を有する化合物を留去する操作時間を2時間としたこと以外は実施例1と同様にして、エポキシ変性シリコーン(2a)を得た。
エポキシ変性シリコーン(2a)中に残留する1,4−ジオキサンは200ppm、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物として、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、4−エポキシエチル−シクロへキセンが、各々0.21質量%、0.42質量%、0.17質量%残留しており、その合計量は0.8質量%であった。なお、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物以外の炭素−炭素二重結合を有する化合物は含有されていなかった。
これより、エポキシ変性シリコーン(2a)の炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は、0.8質量%、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物の残留量は、0.8質量%、ビニル基及びエポキシ基を有する化合物の炭素−炭素二重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の残留量は、0.42質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(2a)のエポキシ価は0.39、全Si原子に対する残留SiH単位を構成するSi原子の量は、0.4%、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で3ppmであった。
(Example 2)
<Production of epoxy-modified silicone (2a)>
Except that the operation time for distilling off the solvent in the epoxy-modified silicone and the compound having a carbon-carbon double bond contained in the epoxy-modified silicone with a glass tube oven was 2 hours, Epoxy-modified silicone (2a) was obtained.
1,4-dioxane remaining in the epoxy-modified silicone (2a) is 200 ppm, and compounds having a carbon-carbon double bond and an epoxy group include 4-vinylcyclohexene oxide, 4-ethylidenylcyclohexene oxide, 4-epoxyethyl. -Cyclohexene remained 0.21 mass%, 0.42 mass%, and 0.17 mass%, respectively, and the total amount was 0.8 mass%. In addition, the compound which has carbon-carbon double bonds other than the compound which has a carbon-carbon double bond and an epoxy group was not contained.
Accordingly, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond of the epoxy-modified silicone (2a) is 0.8% by mass, and the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is 0.8%. The residual amount of the by-product produced by the internal transition of the carbon-carbon double bond of the compound having a mass%, vinyl group and epoxy group was 0.42 mass%.
Moreover, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (2a) is 0.39, the amount of Si atoms constituting the residual SiH unit with respect to all Si atoms is 0.4%, and the transition metal component contained is only platinum, The content of the component was 3 ppm in terms of platinum element.
<硬化物の製造と特性評価>
得られたエポキシ変性シリコーン(2a)90質量部、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルー3’,4’−エポキシシクロヘキサンジカルボキシレート10質量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸53.1質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩1質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して硬化性組成物を得た。硬化性組成物を窒素下にて深さ2mmの型に流し込み、120℃で1時間、さらに150℃で2時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture and characteristic evaluation of cured product>
90 parts by mass of the resulting epoxy-modified silicone (2a), 10 parts by mass of 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanedicarboxylate, 53.1 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride, diaza 1 part by mass of bicycloundecenoctylate was mixed under nitrogen, stirred until the whole became uniform, and then defoamed to obtain a curable composition. The curable composition was poured into a mold having a depth of 2 mm under nitrogen, and a curing reaction was performed at 120 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 2 hours to obtain a cured product. Table 1 shows the performance of the obtained cured product.
(実施例3)
<エポキシ変性シリコーン(3a)の製造>
ガラスチューブオーブンによるエポキシ変性シリコーン中の、残留溶媒及びエポキシ変性シリコーン中に含有される炭素−炭素二重結合を有する化合物を留去する操作時間を3時間としたこと以外は実施例1と同様にして、エポキシ変性シリコーン(3a)を得た。
エポキシ変性シリコーン(3a)中に残留する1,4−ジオキサンは100ppm、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物として、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、4−エポキシエチル−シクロへキセンが、各々0.03質量%、0.08質量%、0.04質量%残留しており、その合計量は0.15質量%であった。なお、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物以外の炭素−炭素二重結合を有する化合物は含有されていなかった。
これより、エポキシ変性シリコーン(3a)の炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は、0.15質量%、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物の残留量は、0.15質量%、ビニル基及びエポキシ基を有する化合物の炭素−炭素二重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の残留量は、0.08質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(3a)のエポキシ価は0.39、全Si原子に対する残留SiH単位を構成するSi原子の量は、0.4%、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で2ppmであった。
(Example 3)
<Production of epoxy-modified silicone (3a)>
The same procedure as in Example 1 except that the operation time for distilling off the residual solvent and the compound having a carbon-carbon double bond contained in the epoxy-modified silicone in the epoxy-modified silicone by a glass tube oven was set to 3 hours. Thus, an epoxy-modified silicone (3a) was obtained.
1,4-Dioxane remaining in the epoxy-modified silicone (3a) is 100 ppm, and compounds having a carbon-carbon double bond and an epoxy group are 4-vinylcyclohexene oxide, 4-ethylidenylcyclohexene oxide, 4-epoxyethyl. -0.03 mass%, 0.08 mass%, and 0.04 mass% of cyclohexene remained, respectively, and the total amount was 0.15 mass%. In addition, the compound which has carbon-carbon double bonds other than the compound which has a carbon-carbon double bond and an epoxy group was not contained.
Accordingly, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond of the epoxy-modified silicone (3a) is 0.15% by mass, and the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is 0.15%. The residual amount of the by-product generated by the internal transition of the carbon-carbon double bond of the compound having a mass%, vinyl group and epoxy group was 0.08 mass%.
Moreover, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (3a) is 0.39, the amount of Si atoms constituting the residual SiH unit with respect to all Si atoms is 0.4%, and the transition metal component contained is only platinum, The content of the component was 2 ppm in terms of platinum element.
<硬化物の製造と特性評価>
エポキシ変性シリコーン(1a)の代わりにエポキシ変性シリコーン(3a)を用いたこと、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸を59質量部用いたこと以外は、実施例1と同様にして、硬化性組成物及び硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture and characteristic evaluation of cured product>
The curable composition and curing were carried out in the same manner as in Example 1 except that the epoxy-modified silicone (3a) was used instead of the epoxy-modified silicone (1a) and 59 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride was used. I got a thing. Table 1 shows the performance of the obtained cured product.
(実施例4)
<エポキシ変性シリコーンの製造(4a)>
ガラスチューブオーブンによるエポキシ変性シリコーン中の、残留溶媒及びエポキシ変性シリコーン中に含有される炭素−炭素二重結合を有する化合物を留去する操作時間を4時間としたこと以外は実施例1と同様にして、エポキシ変性シリコーン(4a)を得た。
エポキシ変性シリコーン(4a)中に残留する1,4−ジオキサンは20ppm以下、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物として、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、4−エポキシエチル−シクロへキセンが、各々0.003質量%、0.004質量%、0.004質量%残留しており、その合計量は0.011質量%であった。なお、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物以外の炭素−炭素二重結合を有する化合物は含有されていなかった。
これより、エポキシ変性シリコーン(4a)の炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は、0.011質量%、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物の残留量は、0.011質量%、ビニル基及びエポキシ基を有する化合物の炭素−炭素二重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の残留量は、0.004質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(4a)のエポキシ価は0.39、全Si原子に対する残留SiH単位を構成するSi原子の量は、0.4%、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で2ppmであった。
Example 4
<Production of epoxy-modified silicone (4a)>
The same as in Example 1 except that the operation time for distilling off the residual solvent and the compound having a carbon-carbon double bond contained in the epoxy-modified silicone in the epoxy-modified silicone by a glass tube oven was set to 4 hours. Thus, an epoxy-modified silicone (4a) was obtained.
1,4-Dioxane remaining in the epoxy-modified silicone (4a) is 20 ppm or less, and compounds having a carbon-carbon double bond and an epoxy group include 4-vinylcyclohexene oxide, 4-ethylidenylcyclohexene oxide, 4-epoxy. Ethyl-cyclohexene remained at 0.003%, 0.004%, and 0.004% by mass, respectively, and the total amount was 0.011% by mass. In addition, the compound which has carbon-carbon double bonds other than the compound which has a carbon-carbon double bond and an epoxy group was not contained.
Accordingly, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond in the epoxy-modified silicone (4a) is 0.011% by mass, and the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is 0.011. The residual amount of the by-product produced by the internal transition of the carbon-carbon double bond of the compound having a mass%, vinyl group and epoxy group was 0.004 mass%.
Further, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (4a) is 0.39, the amount of Si atoms constituting the residual SiH unit with respect to all Si atoms is 0.4%, and the transition metal component contained is only platinum, The content of the component was 2 ppm in terms of platinum element.
<硬化物の製造と特性評価>
エポキシ変性シリコーン(3a)の代わりにエポキシ変性シリコーン(4a)を用いたこと以外は、実施例3と同様にして、硬化性組成物及び硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture and characteristic evaluation of cured product>
A curable composition and a cured product were obtained in the same manner as in Example 3 except that the epoxy-modified silicone (4a) was used instead of the epoxy-modified silicone (3a). Table 1 shows the performance of the obtained cured product.
(比較例1)
<エポキシ変性シリコーンの製造(1b)>
実施例1と同様にして、ヒドロシリル化反応を行った後、活性炭を添加して攪拌処理を行い、次いで活性炭をろ過して処理液を得た。得られた処理液をエバポレーターを用いて加熱温度45℃、圧力10kPaの条件で1.5時間、順次圧力を低減して、最終30Paに圧力を下げて1時間かけて溶媒及び炭素−炭素二重結合を有する化合物を留去し、エポキシ変性シリコーン(1b)を得た。
エポキシ変性シリコーン(1b)中に残留する1,4−ジオキサンは1,000ppm、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物として、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、4−エポキシエチル−シクロへキセンが、各々0.91質量%、1.45質量%、0.64質量%残留しており、その合計量は3質量%であった。なお、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物以外の炭素−炭素二重結合を有する化合物は含有されていなかった。
これより、エポキシ変性シリコーン(1b)の炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は、3質量%、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物の残留量は、3質量%、ビニル基及びエポキシ基を有する化合物の炭素−炭素二重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の残留量は、1.45質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(1b)のエポキシ価は0.40、全Si原子に対する残留SiH単位を構成するSi原子の量は、0.4%、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で2ppmであった。
(Comparative Example 1)
<Production of epoxy-modified silicone (1b)>
After carrying out the hydrosilylation reaction in the same manner as in Example 1, activated carbon was added and stirred, and then the activated carbon was filtered to obtain a treatment liquid. The obtained treatment liquid was heated using an evaporator at a heating temperature of 45 ° C. and a pressure of 10 kPa for 1.5 hours, the pressure was reduced successively, and finally the pressure was reduced to 30 Pa and the solvent and carbon-carbon doubled over 1 hour. The compound having a bond was distilled off to obtain an epoxy-modified silicone (1b).
The 1,4-dioxane remaining in the epoxy-modified silicone (1b) is 1,000 ppm, as a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, 4-vinylcyclohexene oxide, 4-ethylidenylcyclohexene oxide, 4- Epoxyethyl-cyclohexene remained in 0.91% by mass, 1.45% by mass, and 0.64% by mass, respectively, and the total amount was 3% by mass. In addition, the compound which has carbon-carbon double bonds other than the compound which has a carbon-carbon double bond and an epoxy group was not contained.
Accordingly, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond in the epoxy-modified silicone (1b) is 3% by mass, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is 3% by mass, vinyl. The residual amount of by-products generated by the internal transition of the carbon-carbon double bond of the compound having a group and an epoxy group was 1.45% by mass.
Further, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (1b) is 0.40, the amount of Si atoms constituting the residual SiH unit with respect to all Si atoms is 0.4%, and the transition metal component contained is only platinum, The content of the component was 2 ppm in terms of platinum element.
<硬化物の製造と特性評価>
エポキシ変性シリコーン(1a)の代わりにエポキシ変性シリコーン(1b)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、硬化性組成物及び硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture and characteristic evaluation of cured product>
A curable composition and a cured product were obtained in the same manner as in Example 1 except that the epoxy-modified silicone (1b) was used instead of the epoxy-modified silicone (1a). Table 1 shows the performance of the obtained cured product.
(比較例2)
<エポキシ変性シリコーンの製造(2b)>
実施例1と同様にして、ヒドロシリル化反応を行った後、活性炭を添加して攪拌処理を行い、次いで活性炭をろ過して処理液を得た。得られた処理液をエバポレーターを用いて加熱温度45℃、圧力10kPaの条件で1.5時間、順次圧力を低減して、最終30Paに圧力を下げて4時間かけて溶媒及び炭素−炭素二重結合を有する化合物を留去し、エポキシ変性シリコーン(2b)を得た。
エポキシ変性シリコーン(2b)中に残留する1,4−ジオキサンは700ppm、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物として、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、4−エポキシエチル−シクロへキセンが、各々0.76質量%、1.21質量%、0.53質量%残留しており、その合計量は2.5質量%であった。なお、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物以外の炭素−炭素二重結合を有する化合物は含有されていなかった。
これより、エポキシ変性シリコーン(2b)の炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は、2.5質量%、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物の残留量は、2.5質量%、ビニル基及びエポキシ基を有する化合物の炭素−炭素二重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の残留量は、1.21質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(2b)のエポキシ価は0.40、全Si原子に対する残留SiH単位を構成するSi原子の量は、0.4%、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で3ppmであった。
(Comparative Example 2)
<Production of epoxy-modified silicone (2b)>
After carrying out the hydrosilylation reaction in the same manner as in Example 1, activated carbon was added and stirred, and then the activated carbon was filtered to obtain a treatment liquid. The obtained treatment liquid was heated using an evaporator under the conditions of a heating temperature of 45 ° C. and a pressure of 10 kPa for 1.5 hours, successively reducing the pressure to a final pressure of 30 Pa, and the solvent and carbon-carbon double over 4 hours. The compound having a bond was distilled off to obtain an epoxy-modified silicone (2b).
1,4-dioxane remaining in the epoxy-modified silicone (2b) is 700 ppm, and 4-vinylcyclohexene oxide, 4-ethylidenylcyclohexene oxide, 4-epoxyethyl as a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group. -Cyclohexene remained 0.76% by mass, 1.21% by mass, and 0.53% by mass, respectively, and the total amount was 2.5% by mass. In addition, the compound which has carbon-carbon double bonds other than the compound which has a carbon-carbon double bond and an epoxy group was not contained.
Accordingly, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond in the epoxy-modified silicone (2b) is 2.5% by mass, and the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is 2.5%. The residual amount of the by-product produced by the internal transition of the carbon-carbon double bond of the compound having a mass%, vinyl group and epoxy group was 1.21 mass%.
Further, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (2b) is 0.40, the amount of Si atoms constituting the residual SiH unit with respect to all Si atoms is 0.4%, and the transition metal component contained is only platinum, The content of the component was 3 ppm in terms of platinum element.
<硬化物の製造と特性評価>
エポキシ変性シリコーン(1a)の代わりにエポキシ変性シリコーン(2b)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、硬化性組成物及び硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture and characteristic evaluation of cured product>
A curable composition and a cured product were obtained in the same manner as in Example 1 except that the epoxy-modified silicone (2b) was used instead of the epoxy-modified silicone (1a). Table 1 shows the performance of the obtained cured product.
(比較例3)
<エポキシ変性シリコーンの製造(3b)>
実施例1と同様にして、ヒドロシリル化反応を行った後、活性炭を添加して攪拌処理を行い、次いで活性炭をろ過して処理液を得た。得られた処理液をエバポレーターを用いて加熱温度45℃、圧力10kPaの条件で1.5時間、順次圧力を低減して、最終30Paに圧力を下げて7時間かけて溶媒及び炭素−炭素二重結合を有する化合物を留去し、エポキシ変性シリコーン(3b)を得た。
エポキシ変性シリコーン(3b)中に残留する1,4−ジオキサンは100ppm、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物として、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、4−エポキシエチル−シクロへキセンが、各々0.72質量%、1.19質量%、0.49質量%残留しており、その合計量は2.4質量%であった。なお、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物以外の炭素−炭素二重結合を有する化合物は含有されていなかった。
これより、エポキシ変性シリコーン(3b)の炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は、2.4質量%、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物の残留量は、2.4質量%、ビニル基及びエポキシ基を有する化合物の炭素−炭素二重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の残留量は、1.19質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(3b)のエポキシ価は0.40、全Si原子に対する残留SiH単位を構成するSi原子の量は、0.4%、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で3ppmであった。
(Comparative Example 3)
<Production of epoxy-modified silicone (3b)>
After carrying out the hydrosilylation reaction in the same manner as in Example 1, activated carbon was added and stirred, and then the activated carbon was filtered to obtain a treatment liquid. The obtained treatment solution was heated using an evaporator under the conditions of a heating temperature of 45 ° C. and a pressure of 10 kPa for 1.5 hours, the pressure was successively reduced, and finally the pressure was reduced to 30 Pa and the solvent and carbon-carbon double were taken over 7 hours. The compound having a bond was distilled off to obtain an epoxy-modified silicone (3b).
1,4-Dioxane remaining in the epoxy-modified silicone (3b) is 100 ppm, and compounds having a carbon-carbon double bond and an epoxy group are 4-vinylcyclohexene oxide, 4-ethylidenylcyclohexene oxide, 4-epoxyethyl. -Cyclohexene remained in 0.72 mass%, 1.19 mass%, and 0.49 mass%, respectively, and the total amount was 2.4 mass%. In addition, the compound which has carbon-carbon double bonds other than the compound which has a carbon-carbon double bond and an epoxy group was not contained.
Thus, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond in the epoxy-modified silicone (3b) is 2.4% by mass, and the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is 2.4. The residual amount of the by-product produced by the internal transition of the carbon-carbon double bond of the compound having a mass%, vinyl group and epoxy group was 1.19 mass%.
Moreover, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (3b) is 0.40, the amount of Si atoms constituting the residual SiH unit with respect to all Si atoms is 0.4%, and the transition metal component contained is only platinum, The content of the component was 3 ppm in terms of platinum element.
<硬化物の製造と特性評価>
エポキシ変性シリコーン(1a)の代わりにエポキシ変性シリコーン(3b)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、硬化性組成物及び硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture and characteristic evaluation of cured product>
A curable composition and a cured product were obtained in the same manner as in Example 1 except that the epoxy-modified silicone (3b) was used instead of the epoxy-modified silicone (1a). Table 1 shows the performance of the obtained cured product.
(比較例4)
<エポキシ変性シリコーンの製造(4b)>
実施例1と同様にして、ヒドロシリル化反応を行った後、活性炭を添加して攪拌処理を行い、次いで活性炭をろ過して処理液を得た。得られた処理液をエバポレーターを用いて加熱温度45℃、圧力10kPaの条件で1.5時間、順次圧力を低減して、最終30Paに圧力を下げて3時間かけて溶媒及び炭素−炭素二重結合を有する化合物を留去し、エポキシ変性シリコーンを得た。
得られたエポキシ変性シリコーンを柴田化学(株)製の薄膜蒸発装置(型式:MS−300型)を用いて、以下の条件にて残留溶媒及びエポキシ変性シリコーン中に含有される炭素−炭素二重結合を有する化合物を留去してエポキシ変性シリコーン(4b)を得た。
エポキシ変性シリコーンの加熱温度:70℃
圧力:30Pa
内部コンデンサー温度:0℃
エポキシ変性シリコーンのフィード速度:3g/分
エポキシ変性シリコーン(4b)中に残留する1,4−ジオキサンは600ppm、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物として、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、4−エポキシエチル−シクロへキセンが、各々0.77質量%、1.28質量%、0.59質量%残留しており、その合計量は2.64質量%であった。なお、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物以外の炭素−炭素二重結合を有する化合物は含有されていなかった。
これより、エポキシ変性シリコーン(4b)の炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は、2.64質量%、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物の残留量は、2.64質量%、ビニル基及びエポキシ基を有する化合物の炭素−炭素二重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の残留量は、1.28質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(4b)のエポキシ価は0.40、全Si原子に対する残留SiH単位を構成するSi原子の量は、0.4%、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で3ppmであった。
(Comparative Example 4)
<Production of epoxy-modified silicone (4b)>
After carrying out the hydrosilylation reaction in the same manner as in Example 1, activated carbon was added and stirred, and then the activated carbon was filtered to obtain a treatment liquid. The obtained treatment solution was heated using an evaporator under the conditions of a heating temperature of 45 ° C. and a pressure of 10 kPa for 1.5 hours, the pressure was sequentially reduced, and the pressure was lowered to 30 Pa for 3 hours. The compound having a bond was distilled off to obtain an epoxy-modified silicone.
Carbon-carbon double contained in the residual solvent and the epoxy-modified silicone under the following conditions using the obtained epoxy-modified silicone with a thin film evaporator (model: MS-300 type) manufactured by Shibata Chemical Co., Ltd. The compound having a bond was distilled off to obtain an epoxy-modified silicone (4b).
Epoxy-modified silicone heating temperature: 70 ° C
Pressure: 30Pa
Internal condenser temperature: 0 ° C
Feed rate of epoxy-modified silicone: 3 g / min 1,4-dioxane remaining in epoxy-modified silicone (4b) is 600 ppm, as a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, 4-vinylcyclohexene oxide, 4- Ethylidenylcyclohexene oxide and 4-epoxyethyl-cyclohexene remained in 0.77% by mass, 1.28% by mass and 0.59% by mass, respectively, and the total amount was 2.64% by mass. It was. In addition, the compound which has carbon-carbon double bonds other than the compound which has a carbon-carbon double bond and an epoxy group was not contained.
Accordingly, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond in the epoxy-modified silicone (4b) is 2.64% by mass, and the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is 2.64. The residual amount of the by-product produced by the internal transition of the carbon-carbon double bond of the compound having a mass%, vinyl group and epoxy group was 1.28 mass%.
Further, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (4b) is 0.40, the amount of Si atoms constituting the residual SiH unit with respect to all Si atoms is 0.4%, and the transition metal component contained is only platinum, The content of the component was 3 ppm in terms of platinum element.
<硬化物の製造と特性評価>
エポキシ変性シリコーン(1a)の代わりにエポキシ変性シリコーン(4b)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、硬化性組成物及び硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture and characteristic evaluation of cured product>
A curable composition and a cured product were obtained in the same manner as in Example 1 except that the epoxy-modified silicone (4b) was used instead of the epoxy-modified silicone (1a). Table 1 shows the performance of the obtained cured product.
(実施例5)
<エポキシ変性シリコーンの製造(5a)>
純1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンを30g用いたこと、純1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンの代わりに、ビニル基を1g中に1.64mmol含有するα−ビニルジメチルシリルオキシ−ω−ビニルジメチルシリルーポリジメチルシロキサン[ジメチルシロキサン単位の平均重合度が14である。]152.4g用いたこと、4−エポキシエチル−シクロへキセンを1.3質量%含有する4−ビニルシクロへキセンオキサイドを35.65g用いたこと、脱水蒸留精製した1,4−ジオキサン(和光純薬社製試薬)を855g用いたこと、白金元素換算で1,000ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の1,4−ジオキサン溶液を1.7g用いたこと以外は、実施例4と同様にして、エポキシ変性シリコーン(5a)を得た。
エポキシ変性シリコーン(5a)中に残留する1,4−ジオキサンは500ppm、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物として、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、4−エポキシエチル−シクロへキセンが、各々0.64質量%、0.18質量%、0.08質量%残留しており、その合計量は0.9質量%であった。なお、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物以外の炭素−炭素二重結合を有する化合物は含有されていなかった。
これより、エポキシ変性シリコーン(5a)の炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は、0.9質量%、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物の残留量は、0.9質量%、ビニル基及びエポキシ基を有する化合物の炭素−炭素二重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の残留量は、0.18質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(5a)のエポキシ価は0.1、全Si原子に対する残留SiH単位を構成するSi原子の量は、0.7%、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で2ppmであった。
(Example 5)
<Production of epoxy-modified silicone (5a)>
30 g of pure 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane was used, and α-vinyldimethylsilyl containing 1.64 mmol of vinyl group in 1 g instead of pure 1,3-divinyltetramethyldisiloxane Oxy-ω-vinyldimethylsilyl-polydimethylsiloxane [average degree of polymerization of dimethylsiloxane units is 14. 152.4 g used, 35.65 g 4-vinylcyclohexene oxide containing 1.3% by mass of 4-epoxyethyl-cyclohexene, 1,4-dioxane purified by dehydration distillation (Wako Pure) Example 4 except that 855 g of a reagent manufactured by Yakuhin Co., Ltd. was used, and 1.7 g of a 1,4-dioxane solution of a platinum divinyltetramethyldisiloxane complex containing 1,000 ppm of platinum in terms of platinum element was used. In the same manner as above, an epoxy-modified silicone (5a) was obtained.
The 1,4-dioxane remaining in the epoxy-modified silicone (5a) is 500 ppm, and compounds having a carbon-carbon double bond and an epoxy group are 4-vinylcyclohexene oxide, 4-ethylidenylcyclohexene oxide, 4-epoxyethyl. -0.64 mass%, 0.18 mass%, and 0.08 mass% of cyclohexene remained, and the total amount was 0.9 mass%. In addition, the compound which has carbon-carbon double bonds other than the compound which has a carbon-carbon double bond and an epoxy group was not contained.
Accordingly, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond of the epoxy-modified silicone (5a) was 0.9% by mass, and the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group was 0.9%. The residual amount of the by-product produced by the internal transition of the carbon-carbon double bond of the compound having a mass%, vinyl group and epoxy group was 0.18 mass%.
Moreover, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (5a) is 0.1, the amount of Si atoms constituting the residual SiH unit with respect to all Si atoms is 0.7%, and the transition metal component contained is only platinum, The content of the component was 2 ppm in terms of platinum element.
<硬化物の製造と特性評価>
エポキシ変性シリコーン(1a)の代わりにエポキシ変性シリコーン(5a)を用いたこと、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸15.1質量部用いたこと、硬化反応を60℃で4時間、さらに70℃で4時間行ったこと以外は、実施例と同様にして、硬化性組成物−及び硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture and characteristic evaluation of cured product>
Use of epoxy-modified silicone (5a) instead of epoxy-modified silicone (1a), use of 15.1 parts by weight of methylhexahydrophthalic anhydride, curing reaction at 60 ° C. for 4 hours, and further at 70 ° C. for 4 hours Except having performed, it carried out similarly to the Example, and obtained curable composition- and hardened | cured material. Table 1 shows the performance of the obtained cured product.
(実施例6)
<エポキシ変性シリコーン(6a)の製造>
純1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンを用いなかったこと、4−エポキシエチル−シクロへキセンを1.3質量%含有する4−ビニルシクロへキセンオキサイドを151.23g用いたこと、脱水蒸留精製した1,4−ジオキサン(和光純薬社製試薬)を870g用いたこと、白金元素換算で1,000ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の1,4−ジオキサン溶液を1.7g用いたこと以外は、実施例3と同様にして、エポキシ変性シリコーン(6a)を得た。
エポキシ変性シリコーン(6a)中に残留する1,4−ジオキサンは200ppm、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物として、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、4−エポキシエチル−シクロへキセンが、各々0.02質量%、0.09質量%、0.04質量%残留しており、その合計量は0.15質量%であった。なお、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物以外の炭素−炭素二重結合を有する化合物は含有されていなかった。
これより、エポキシ変性シリコーン(6a)の炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は、0.15質量%、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物の残留量は、0.15質量%、ビニル基及びエポキシ基を有する化合物の炭素−炭素二重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の残留量は、0.09質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(6a)のエポキシ価は0.54、全Si原子に対する残留SiH単位を構成するSi原子の量は、0.7%、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で2ppmであった。
(Example 6)
<Production of epoxy-modified silicone (6a)>
Pure 1,3-divinyltetramethyldisiloxane was not used, 151.23 g of 4-vinylcyclohexene oxide containing 1.3% by mass of 4-epoxyethyl-cyclohexene was used, and purified by dehydration distillation. For 1.7 g of 1,4-dioxane solution of platinum divinyltetramethyldisiloxane complex containing 1,000 ppm of platinum in terms of platinum element, using 870 g of 1,4-dioxane (reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) Except that, epoxy-modified silicone (6a) was obtained in the same manner as in Example 3.
1,4-dioxane remaining in the epoxy-modified silicone (6a) is 200 ppm, and compounds having a carbon-carbon double bond and an epoxy group are 4-vinylcyclohexene oxide, 4-ethylidenylcyclohexene oxide, 4-epoxyethyl. -0.02% by mass, 0.09% by mass, and 0.04% by mass of cyclohexene remained, and the total amount was 0.15% by mass. In addition, the compound which has carbon-carbon double bonds other than the compound which has a carbon-carbon double bond and an epoxy group was not contained.
Accordingly, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond of the epoxy-modified silicone (6a) is 0.15% by mass, and the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is 0.15%. The residual amount of the by-product produced by the internal transition of the carbon-carbon double bond of the compound having a mass%, vinyl group and epoxy group was 0.09 mass%.
Further, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (6a) is 0.54, the amount of Si atoms constituting the residual SiH unit with respect to all Si atoms is 0.7%, and the transition metal component contained is only platinum, The content of the component was 2 ppm in terms of platinum element.
<硬化物の製造と特性評価>
エポキシ変性シリコーン(1a)の代わりにエポキシ変性シリコーン(6a)を用いたこと、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸を81.7質量部用いたこと以外は、実施例1と同様にして、硬化性組成物及び硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture and characteristic evaluation of cured product>
A curable composition in the same manner as in Example 1 except that the epoxy-modified silicone (6a) was used instead of the epoxy-modified silicone (1a) and that 81.7 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride was used. And a cured product was obtained. Table 1 shows the performance of the obtained cured product.
(実施例7)
<エポキシ変性シリコーン(7a)の製造>
ガラスチューブオーブンによるエポキシ変性シリコーン中の、残留溶媒及びエポキシ変性シリコーン中に含有される炭素−炭素二重結合を有する化合物を留去する操作時間を5時間としたこと以外は実施例1と同様にして、エポキシ変性シリコーン(7a)を得た。
エポキシ変性シリコーン(7a)中に残留する1,4−ジオキサンは20ppm以下、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物として、4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドのみが検出され、0.002質量%残留していた。なお、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物以外の炭素−炭素二重結合を有する化合物は含有されていなかった。
これより、エポキシ変性シリコーン(7a)の炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は、0.002質量%、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物の残留量は、0.002質量%、ビニル基及びエポキシ基を有する化合物の炭素−炭素二重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の残留量は、0.002質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(7a)のエポキシ価は0.39、全Si原子に対する残留SiH単位を構成するSi原子の量は、0.4%、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で2ppmであった。
(Example 7)
<Production of epoxy-modified silicone (7a)>
The same procedure as in Example 1 except that the operation time for distilling off the residual solvent and the compound having a carbon-carbon double bond contained in the epoxy-modified silicone in the epoxy-modified silicone by a glass tube oven was set to 5 hours. Thus, an epoxy-modified silicone (7a) was obtained.
1,4-dioxane remaining in the epoxy-modified silicone (7a) is 20 ppm or less, and only 4-ethylidenylcyclohexene oxide is detected as a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, and is 0.002% by mass. It remained. In addition, the compound which has carbon-carbon double bonds other than the compound which has a carbon-carbon double bond and an epoxy group was not contained.
Accordingly, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond of the epoxy-modified silicone (7a) is 0.002% by mass, and the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is 0.002. The residual amount of the by-product produced by the internal transition of the carbon-carbon double bond of the compound having a mass%, vinyl group and epoxy group was 0.002 mass%.
Further, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (7a) is 0.39, the amount of Si atoms constituting the residual SiH unit with respect to all Si atoms is 0.4%, and the transition metal component contained is only platinum, The content of the component was 2 ppm in terms of platinum element.
<硬化物の製造と特性評価>
エポキシ変性シリコーン(3a)の代わりにエポキシ変性シリコーン(7a)を用いたこと以外は、実施例3と同様にして、硬化性組成物及び硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture and characteristic evaluation of cured product>
A curable composition and a cured product were obtained in the same manner as in Example 3 except that the epoxy-modified silicone (7a) was used instead of the epoxy-modified silicone (3a). Table 1 shows the performance of the obtained cured product.
(実施例8)
<エポキシ変性シリコーン(8a)の製造>
純1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンを15.16g用いたこと、4−エポキシエチル−シクロへキセンを1.3質量%含有する4−ビニルシクロへキセンオキサイドを130.7g用いたこと、脱水蒸留精製した1,4−ジオキサン(和光純薬社製試薬)を845g用いたこと、白金元素換算で1,000ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の1,4−ジオキサン溶液を1.66g用いたこと以外は、実施例4と同様にして、エポキシ変性シリコーン(8a)を得た。
エポキシ変性シリコーン(8a)中に残留する1,4−ジオキサンは100ppm、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物として、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、4−エポキシエチル−シクロへキセンが、各々0.03質量%、0.08質量%、0.04質量%残留しており、その合計量は0.15質量%であった。なお、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物以外の炭素−炭素二重結合を有する化合物は含有されていなかった。
これより、エポキシ変性シリコーン(8a)の炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は、0.15質量%、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物の残留量は、0.15質量%、ビニル基及びエポキシ基を有する化合物の炭素−炭素二重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の残留量は、0.08質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(8a)のエポキシ価は0.48、全Si原子に対する残留SiH単位を構成するSi原子の量は、0.5%、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で1ppmであった。
(Example 8)
<Production of epoxy-modified silicone (8a)>
15.16 g of pure 1,3-divinyltetramethyldisiloxane was used, 130.7 g of 4-vinylcyclohexene oxide containing 1.3% by mass of 4-epoxyethyl-cyclohexene was used, dehydration distillation 1. Using 845 g of purified 1,4-dioxane (a reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and a 1,4-dioxane solution of a platinum divinyltetramethyldisiloxane complex containing 1,000 ppm of platinum in terms of platinum element. Epoxy-modified silicone (8a) was obtained in the same manner as in Example 4 except that 66 g was used.
1,4-Dioxane remaining in the epoxy-modified silicone (8a) is 100 ppm, and compounds having a carbon-carbon double bond and an epoxy group are 4-vinylcyclohexene oxide, 4-ethylidenylcyclohexene oxide, 4-epoxyethyl. -0.03 mass%, 0.08 mass%, and 0.04 mass% of cyclohexene remained, respectively, and the total amount was 0.15 mass%. In addition, the compound which has carbon-carbon double bonds other than the compound which has a carbon-carbon double bond and an epoxy group was not contained.
Accordingly, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond of the epoxy-modified silicone (8a) is 0.15% by mass, and the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is 0.15%. The residual amount of the by-product produced by the internal transition of the carbon-carbon double bond of the compound having a mass%, vinyl group and epoxy group was 0.08 mass%.
Further, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (8a) is 0.48, the amount of Si atoms constituting the residual SiH unit with respect to all Si atoms is 0.5%, and the transition metal component contained is only platinum, The content of the component was 1 ppm in terms of platinum element.
<硬化物の製造と特性評価>
エポキシ変性シリコーン(1a)の代わりにエポキシ変性シリコーン(8a)を用いたこと、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸を72.6質量部用いたこと以外は、実施例1と同様にして、硬化性組成物及び硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture and characteristic evaluation of cured product>
The curable composition was the same as in Example 1 except that the epoxy-modified silicone (8a) was used instead of the epoxy-modified silicone (1a) and that 72.6 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride was used And a cured product was obtained. Table 1 shows the performance of the obtained cured product.
(実施例9)
<エポキシ変性シリコーン(9a)の製造>
純1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンを45g用いたこと、純1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンの代わりに、ビニル基を1g中に3.17mmol含有するα−ビニルジメチルシリルオキシ−ω−ビニルジメチルシリルーポリジメチルシロキサン[ジメチルシロキサン単位の平均重合度が6である。]117.88g用いたこと、4−エポキシエチル−シクロへキセンを1.3質量%含有する4−ビニルシクロへキセンオキサイドを51.74g用いたこと、脱水蒸留精製した1,4−ジオキサン(和光純薬社製試薬)を840g用いたこと、白金元素換算で1,000ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の1,4−ジオキサン溶液を1.66g用いたこと以外は、実施例4と同様にして、エポキシ変性シリコーン(9a)を得た。
エポキシ変性シリコーン(9a)中に残留する1,4−ジオキサンは100ppm、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物として、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、4−エポキシエチル−シクロへキセンが、各々0.12質量%、0.02質量%、0.05質量%残留しており、その合計量は0.19質量%であった。なお、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物以外の炭素−炭素二重結合を有する化合物は含有されていなかった。
これより、エポキシ変性シリコーン(9a)の炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は、0.19質量%、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物の残留量は、0.19質量%、ビニル基及びエポキシ基を有する化合物の炭素−炭素二重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の残留量は、0.02質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(9a)のエポキシ価は0.17、全Si原子に対する残留SiH単位を構成するSi原子の量は、0.4%、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で1ppmであった。
Example 9
<Production of epoxy-modified silicone (9a)>
45 g of pure 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane was used, and α-vinyldimethylsilyl containing 3.17 mmol of vinyl group in 1 g instead of pure 1,3-divinyltetramethyldisiloxane Oxy-ω-vinyldimethylsilyl-polydimethylsiloxane [average degree of polymerization of dimethylsiloxane units is 6. ] 117.88 g was used, 51.74 g of 4-vinylcyclohexene oxide containing 1.3% by mass of 4-epoxyethyl-cyclohexene was used, 1,4-dioxane purified by dehydration distillation (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) Example 4 except that 840 g of a reagent manufactured by Yakuhin Co., Ltd. was used, and 1.66 g of a 1,4-dioxane solution of platinum divinyltetramethyldisiloxane complex containing 1,000 ppm of platinum in terms of platinum element was used. In the same manner as above, an epoxy-modified silicone (9a) was obtained.
1,4-Dioxane remaining in the epoxy-modified silicone (9a) is 100 ppm, and compounds having a carbon-carbon double bond and an epoxy group are 4-vinylcyclohexene oxide, 4-ethylidenylcyclohexene oxide, 4-epoxyethyl. -Cyclohexene remained in 0.12% by mass, 0.02% by mass and 0.05% by mass, respectively, and the total amount was 0.19% by mass. In addition, the compound which has carbon-carbon double bonds other than the compound which has a carbon-carbon double bond and an epoxy group was not contained.
Accordingly, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond in the epoxy-modified silicone (9a) is 0.19% by mass, and the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is 0.19%. The residual amount of the by-product produced by the internal transition of the carbon-carbon double bond of the compound having a mass%, vinyl group and epoxy group was 0.02 mass%.
Further, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (9a) is 0.17, the amount of Si atoms constituting the residual SiH unit with respect to all Si atoms is 0.4%, and the transition metal component contained is only platinum, The content of the component was 1 ppm in terms of platinum element.
<硬化物の製造と特性評価>
エポキシ変性シリコーン(1a)の代わりにエポキシ変性シリコーン(9a)を用いたこと、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸を25.7質量部用いたこと、硬化反応を80℃で2時間、さらに100℃で4時間行ったこと以外は、実施例1と同様にして、硬化性組成物及び硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture and characteristic evaluation of cured product>
The epoxy-modified silicone (9a) was used in place of the epoxy-modified silicone (1a), 25.7 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride was used, and the curing reaction was carried out at 80 ° C. for 2 hours and further at 100 ° C. for 4 hours. A curable composition and a cured product were obtained in the same manner as in Example 1 except that the test was performed for a long time. Table 1 shows the performance of the obtained cured product.
(実施例10)
<エポキシ変性シリコーン(10a)の製造>
還流冷却器、温度計及び撹拌装置を有する1.5リットルの反応器に、ノルボルネン(東京化成製試薬特級)17.56gを仕込み、窒素置換する。引き続き、4−エポキシエチル−シクロへキセン(ダイセル化学工業株式会社製:セロキサイド2000)を窒素下にて脱水蒸留精製して得た4−エポキシエチル−シクロへキセンを1.3質量%含有する4−ビニルシクロへキセンオキサイド77.66g、窒素下にて脱水蒸留精製した1,4−ジオキサン(和光純薬社製試薬)305gを窒素下にて仕込んだ後、大気圧乾燥窒素雰囲気下で攪拌しながら80℃に昇温した。これに、白金元素換算で1,000ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の1,4−ジオキサン溶液を1.95g添加した後、α−トリメチルシリルオキシ−ω−トリメチルシリルーポリ(ジメチルシロキサン−co−水素メチルシロキサン)[ジメチルシロキサン単位と水素メチルシロキサン単位を合計した重合度が38であり、1分子中にSiH単位を平均19個有する。]110gと前記の1,4−ジオキサン(和光純薬社製試薬)280gに窒素下にて溶解した溶液を、1.5リットルの反応容器内の液温度が80℃〜83℃の範囲となる速度で滴下した。滴下終了後、80℃にて4時間反応を行った。
反応終了後、反応液温度を30℃に下げ、該反応液に、乾燥窒素気流下にて120℃で3時間加熱乾燥した240gの活性炭(和光純薬製:顆粒状特級)を添加して、30℃から40℃の温度で、30時間攪拌処理を継続した後、活性炭をろ過した。得られた処理液をエバポレーターを用いて加熱温度45℃、圧力10kPaの条件で1.5時間、順次圧力を低減して、最終30Paに圧力を下げて3時間かけて溶媒及び炭素−炭素二重結合を有する化合物を留去し、エポキシ変性シリコーンを得た。
得られたエポキシ変性シリコーン約140gを内径65mmφ、長さ250mmのガラスチューブに入れ、ガラスチューブの長軸が水平なるようにガラスチューブオーブン(柴田科学製GTO−350)にセットした。回転数約15回/分にてガラスチューブを長軸方向を中心に回転させながら、内部に大気圧条件下にて3ml/分の流量で乾燥窒素を導入すると共に、系内を40Paに減圧する。外部の面ヒーターでガラスチューブを45℃に加熱して、残留溶媒及びエポキシ変性シリコーン中に含有される炭素−炭素二重結合を有する化合物を6時間かけて留去し、エポキシ変性シリコーン(10a)を得た。
エポキシ変性シリコーン(10a)中に残留する1,4−ジオキサンは150ppm、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物として、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、4−エポキシエチル−シクロへキセンが、各々0.13質量%、0.05質量%、0.02質量%残留しており、その合計量は0.2質量%であった。なお、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物以外の炭素−炭素二重結合を有する化合物は含有されていなかった。
これより、エポキシ変性シリコーン(10a)の炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は、0.2質量%、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物の残留量は、0.2質量%、ビニル基及びエポキシ基を有する化合物の炭素−炭素二重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の残留量は、0.05質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(10a)のエポキシ価は0.27、全Si原子に対する残留SiH単位を構成するSi原子の量は、0.6%、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で3ppmであった。
(Example 10)
<Production of epoxy-modified silicone (10a)>
In a 1.5 liter reactor having a reflux condenser, a thermometer, and a stirring device, 17.56 g of norbornene (special grade reagent manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) is charged and purged with nitrogen. Subsequently, 4-epoxyethyl-cyclohexene (produced by Daicel Chemical Industries, Ltd .: Celoxide 2000) was purified by dehydration distillation under nitrogen. -77.66 g of vinylcyclohexene oxide and 305 g of 1,4-dioxane (reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) purified by dehydration distillation under nitrogen were charged under nitrogen, and then stirred under an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere. The temperature was raised to 80 ° C. To this was added 1.95 g of a 1,4-dioxane solution of a platinum divinyltetramethyldisiloxane complex containing 1,000 ppm of platinum in terms of platinum, and then α-trimethylsilyloxy-ω-trimethylsilyl-poly (dimethylsiloxane). -Co-hydrogen methylsiloxane) [The degree of polymerization of the total of dimethylsiloxane units and hydrogenmethylsiloxane units is 38, and it has an average of 19 SiH units in one molecule. ] A solution obtained by dissolving 110 g and 280 g of 1,4-dioxane (reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) under nitrogen has a liquid temperature in a 1.5 liter reaction vessel in a range of 80 ° C to 83 ° C. It was dripped at a speed. Reaction was performed at 80 degreeC after completion | finish of dripping for 4 hours.
After completion of the reaction, the temperature of the reaction solution was lowered to 30 ° C., and 240 g of activated carbon (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd .: granular special grade) heated and dried at 120 ° C. for 3 hours under a dry nitrogen stream was added to the reaction solution After continuing the stirring treatment at a temperature of 30 ° C. to 40 ° C. for 30 hours, the activated carbon was filtered. The obtained treatment solution was heated using an evaporator under the conditions of a heating temperature of 45 ° C. and a pressure of 10 kPa for 1.5 hours, the pressure was sequentially reduced, and the pressure was lowered to 30 Pa for 3 hours. The compound having a bond was distilled off to obtain an epoxy-modified silicone.
About 140 g of the obtained epoxy-modified silicone was put into a glass tube having an inner diameter of 65 mmφ and a length of 250 mm, and set in a glass tube oven (GTO-350 manufactured by Shibata Kagaku) so that the long axis of the glass tube was horizontal. While rotating the glass tube around the major axis at a rotation speed of about 15 times / min, dry nitrogen is introduced into the interior at a flow rate of 3 ml / min under atmospheric pressure, and the system is depressurized to 40 Pa. . The glass tube is heated to 45 ° C. with an external surface heater, and the residual solvent and the compound having a carbon-carbon double bond contained in the epoxy-modified silicone are distilled off over 6 hours to obtain an epoxy-modified silicone (10a). Got.
1,4-Dioxane remaining in the epoxy-modified silicone (10a) is 150 ppm, and compounds having a carbon-carbon double bond and an epoxy group include 4-vinylcyclohexene oxide, 4-ethylidenylcyclohexene oxide, 4-epoxyethyl. -0.13 mass%, 0.05 mass%, and 0.02 mass% of cyclohexene remained, respectively, and the total amount was 0.2 mass%. In addition, the compound which has carbon-carbon double bonds other than the compound which has a carbon-carbon double bond and an epoxy group was not contained.
Accordingly, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond in the epoxy-modified silicone (10a) is 0.2% by mass, and the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is 0.2%. The residual amount of the by-product generated by the internal transition of the carbon-carbon double bond of the compound having a mass%, vinyl group and epoxy group was 0.05 mass%.
Further, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (10a) is 0.27, the amount of Si atoms constituting the residual SiH unit with respect to all Si atoms is 0.6%, and the transition metal component contained is only platinum, The content of the component was 3 ppm in terms of platinum element.
<硬化物の製造と特性評価>
エポキシ変性シリコーン(1a)の代わりにエポキシ変性シリコーン(10a)を用いたこと、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸を40.9質量部用いたこと以外は、実施例1と同様にして、硬化性組成物及び硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture and characteristic evaluation of cured product>
A curable composition in the same manner as in Example 1 except that the epoxy-modified silicone (10a) was used instead of the epoxy-modified silicone (1a) and that 40.9 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride was used. And a cured product was obtained. Table 1 shows the performance of the obtained cured product.
(実施例11)
<エポキシ変性シリコーン(11a)の製造>
還流冷却器、温度計及び撹拌装置を有する1.5リットルの反応器に、α−トリメチルシリルオキシ−ω−トリメチルシリルーポリ(ジメチルシロキサン−co−水素メチルシロキサン)[ジメチルシロキサン単位と水素メチルシロキサン単位を合計した重合度が38であり、1分子中にSiH単位を平均19個有する。]110gを仕込み、窒素置換する。引き続き、窒素下にて脱水蒸留精製した1,4−ジオキサン(和光純薬社製試薬)305gを窒素下にて仕込んだ後、大気圧乾燥窒素雰囲気下で攪拌しながら60℃に昇温した。これに、白金元素換算で1,000ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の1,4−ジオキサン溶液を1.97g添加した後、第1ステップとして、4−エポキシエチル−シクロへキセン(ダイセル化学工業株式会社製:セロキサイド2000)を窒素下にて脱水蒸留精製して得た4−エポキシエチル−シクロへキセンを1.3質量%含有する4−ビニルシクロへキセンオキサイド77.66gを脱水蒸留精製した1,4−ジオキサン(和光純薬社製試薬)240gに窒素下にて溶解した溶液を一度に添加し、2時間反応を継続した。引き続き、第2ステップとして、ノルボルネン(東京化成製試薬特級)17.56gを窒素下にて、前記の1,4−ジオキサン(和光純薬社製試薬)50gに溶解した溶液を一度に添加し、3時間反応を継続する。さらに引き続き、第3ステップとして、4−ビニルシクロヘサセン(Aldrich社製試薬)を窒素下にて脱水蒸留精製して得た純4−ビニルシクロへキサン12.18gを一度に添加し、4時間反応を行った。
反応終了後、ガラスチューブオーブンで、残留溶媒及びエポキシ変性シリコーン中に含有される炭素−炭素二重結合を有する化合物を留去する操作時間を7時間かけたこと以外は、実施例8と同様の操作を実施して、エポキシ変性シリコーン(11a)を得た。
エポキシ変性シリコーン(11a)中に残留する1,4−ジオキサンは100ppm、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物として、4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、4−エポキシエチル−シクロへキセンが、各々0.02質量%、0.01質量%残留しており、その合計量は0.03質量%であった。なお、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物以外の炭素−炭素二重結合を有する化合物として、ビニルシクロヘキサン、エチリデニルシクロヘキサンが、各々0.06質量%、0.02質量%残留しており、その合計量は0.08質量%であった。
これより、エポキシ変性シリコーン(11a)の炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は、0.11質量%、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物の残留量は、0.03質量%、ビニル基及びエポキシ基を有する化合物の炭素−炭素二重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の残留量は、0.02質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(11a)のエポキシ価は0.29、全Si原子に対する残留SiH単位を構成するSi原子の量は、0.7%、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で3ppmであった。
(Example 11)
<Production of epoxy-modified silicone (11a)>
To a 1.5 liter reactor with reflux condenser, thermometer and stirrer, add α-trimethylsilyloxy-ω-trimethylsilyl-poly (dimethylsiloxane-co-hydrogenmethylsiloxane) [dimethylsiloxane units and hydrogenmethylsiloxane units. The total degree of polymerization is 38, and it has an average of 19 SiH units in one molecule. ] 110 g is charged and replaced with nitrogen. Subsequently, 305 g of 1,4-dioxane (reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) purified by dehydration distillation under nitrogen was charged under nitrogen, and then heated to 60 ° C. with stirring in an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere. To this, 1.97 g of a 1,4-dioxane solution of a platinum divinyltetramethyldisiloxane complex containing 1,000 ppm of platinum in terms of platinum element was added, and then as a first step, 4-epoxyethyl-cyclohexene 77.66 g of 4-vinylcyclohexene oxide containing 1.3% by mass of 4-epoxyethyl-cyclohexene obtained by dehydrating and purifying (Daicel Chemical Industries, Ltd .: Celoxide 2000) under nitrogen was dehydrated. A solution dissolved under nitrogen in 240 g of distilled and purified 1,4-dioxane (a reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added all at once, and the reaction was continued for 2 hours. Subsequently, as a second step, a solution prepared by dissolving 17.56 g of norbornene (Tokyo Kasei reagent special grade) in 50 g of 1,4-dioxane (reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) under nitrogen was added at once. The reaction is continued for 3 hours. Subsequently, as a third step, 12.18 g of pure 4-vinylcyclohexane obtained by dehydrating and purifying 4-vinylcyclohesacene (a reagent made by Aldrich) under nitrogen was added all at once and reacted for 4 hours. Went.
After completion of the reaction, the same procedure as in Example 8 was conducted except that the operation time for distilling off the compound having a carbon-carbon double bond contained in the residual solvent and the epoxy-modified silicone was 7 hours in a glass tube oven. The operation was carried out to obtain an epoxy-modified silicone (11a).
1,4-dioxane remaining in the epoxy-modified silicone (11a) is 100 ppm, and as a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, 4-ethylidenylcyclohexene oxide, 4-epoxyethyl-cyclohexene is Remaining 0.02% by mass and 0.01% by mass, respectively, and the total amount was 0.03% by mass. In addition, as a compound having a carbon-carbon double bond other than a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, vinylcyclohexane and ethylidenylcyclohexane remain 0.06% by mass and 0.02% by mass, respectively. The total amount was 0.08% by mass.
Accordingly, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond of the epoxy-modified silicone (11a) is 0.11% by mass, and the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is 0.03%. The residual amount of the by-product produced by the internal transition of the carbon-carbon double bond of the compound having a mass%, vinyl group and epoxy group was 0.02 mass%.
Further, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (11a) is 0.29, the amount of Si atoms constituting the residual SiH unit with respect to all Si atoms is 0.7%, and the transition metal component contained is only platinum, The content of the component was 3 ppm in terms of platinum element.
<硬化物の製造と特性評価>
エポキシ変性シリコーン(1a)の代わりにエポキシ変性シリコーン(11a)を用いたこと、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸を43.9質量部用いたこと以外は、実施例1と同様にして、硬化性組成物及び硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture and characteristic evaluation of cured product>
A curable composition in the same manner as in Example 1 except that the epoxy-modified silicone (11a) was used instead of the epoxy-modified silicone (1a) and that 43.9 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride was used. And a cured product was obtained. Table 1 shows the performance of the obtained cured product.
(実施例12)
<エポキシ変性シリコーン(12a)の製造>
還流冷却器、温度計及び撹拌装置を有する1.5リットルの反応器に、α−トリメチルシリルオキシ−ω−トリメチルシリルーポリ(ジメチルシロキサン−co−水素メチルシロキサン)[ジメチルシロキサン単位と水素メチルシロキサン単位を合計した重合度が38であり、1分子中にSiH単位を平均19個有する。]110gを仕込み、窒素置換した。引き続き、窒素下にて脱水蒸留精製したテトラヒドロフラン(安定剤不含品:和光純薬社製試薬)220gを窒素下にて仕込んだ後、大気圧乾燥窒素雰囲気下で攪拌しながら66℃に昇温した。これに、白金元素換算で1,000ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のテトラヒドロフラン溶液を1.96g添加した後、第1ステップとして、4−エポキシエチル−シクロへキセン(ダイセル化学工業株式会社製:セロキサイド2000)を窒素下にて脱水蒸留精製して得た4−エポキシエチル−シクロへキセンを1.3質量%含有する4−ビニルシクロへキセンオキサイド72.44gを脱水蒸留精製した前記のテトラヒドロフラン220gに窒素下にて溶解した溶液を一度に添加し、2時間反応を継続した。引き続き、第2ステップとして、ノルボルネン(東京化成製試薬特級)6.94gを窒素下にて、前記のテトラヒドロフラン62gに溶解した溶液を一度に添加し、3時間反応を継続した。
さらに引き続き、第3ステップとして、反応温度を50℃に低減し、引き続き第3ステップとして、ビニルトリメチルシラン(東京化成製試薬特級)を窒素下にて脱水蒸留精製して得た純ビニルトリメチルシラン22.15gを一度に添加し、24時間反応を行った。
反応終了後、反応液温度を30℃に下げ、該反応液に、乾燥窒素気流下にて120℃で3時間加熱乾燥した240gの活性炭(和光純薬製:顆粒状特級)を添加して、30℃から40℃の温度で、35時間攪拌処理を継続した後、活性炭をろ過した。得られた処理液をエバポレーターを用いて加熱温度45℃、圧力22kPaの条件で1.5時間、順次圧力を低減して、最終30Paに圧力を下げて3時間かけて溶媒及び炭素−炭素二重結合を有する化合物を留去し、エポキシ変性シリコーンを得た。
引き続き、ガラスチューブオーブンで、残留溶媒及びエポキシ変性シリコーン中に含有される炭素−炭素二重結合を有する化合物を留去する操作を実施例9と同様の操作を実施して、エポキシ変性シリコーン(12a)を得た。
エポキシ変性シリコーン(12a)中に残留するテトラヒドロフランは50ppm、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物として、4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、4−エポキシエチル−シクロへキセンが、各々0.07質量%、0.03質量%残留しており、その合計量は0.1質量%であった。なお、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物以外の炭素−炭素二重結合を有する化合物は含有されていなかった。
これより、エポキシ変性シリコーン(12a)の炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量は、0.1質量%、炭素−炭素二重結合及びエポキシ基を有する化合物の残留量は、0.1質量%、ビニル基及びエポキシ基を有する化合物の炭素−炭素二重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の残留量は、0.07質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(12a)のエポキシ価は0.28、全Si原子に対する残留SiH単位を構成するSi原子の量は、0.8%、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で2ppmであった。
(Example 12)
<Production of epoxy-modified silicone (12a)>
To a 1.5 liter reactor with reflux condenser, thermometer and stirrer, add α-trimethylsilyloxy-ω-trimethylsilyl-poly (dimethylsiloxane-co-hydrogenmethylsiloxane) [dimethylsiloxane units and hydrogenmethylsiloxane units. The total degree of polymerization is 38, and it has an average of 19 SiH units in one molecule. 110 g was charged and the atmosphere was replaced with nitrogen. Subsequently, 220 g of tetrahydrofuran (stabilizer-free product: reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) purified by dehydration and distillation under nitrogen was charged under nitrogen, and then the temperature was raised to 66 ° C. with stirring in an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere. did. To this was added 1.96 g of a platinum divinyltetramethyldisiloxane complex tetrahydrofuran solution containing 1,000 ppm of platinum in terms of platinum element. Then, as a first step, 4-epoxyethyl-cyclohexene (Daicel Chemical Industries, Ltd.) 72.44 g of 4-vinylcyclohexene oxide containing 1.3% by mass of 4-epoxyethyl-cyclohexene obtained by dehydration distillation purification under nitrogen: A solution of 220 g of tetrahydrofuran dissolved in nitrogen was added all at once, and the reaction was continued for 2 hours. Subsequently, as a second step, a solution prepared by dissolving 6.94 g of norbornene (special grade reagent manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) in 62 g of tetrahydrofuran was added at a time under nitrogen, and the reaction was continued for 3 hours.
Further, as a third step, pure vinyltrimethylsilane 22 obtained by reducing the reaction temperature to 50 ° C. and subsequently purifying vinyltrimethylsilane (Tokyo Kasei Reagent Special Grade) as a third step by dehydration distillation purification under nitrogen. .15 g was added at once, and the reaction was performed for 24 hours.
After completion of the reaction, the temperature of the reaction solution was lowered to 30 ° C., and 240 g of activated carbon (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd .: granular special grade) heated and dried at 120 ° C. for 3 hours under a dry nitrogen stream was added to the reaction solution After continuing the stirring treatment at a temperature of 30 ° C. to 40 ° C. for 35 hours, the activated carbon was filtered. The obtained treatment liquid was heated using an evaporator under the conditions of a heating temperature of 45 ° C. and a pressure of 22 kPa for 1.5 hours, the pressure was successively reduced, and finally the pressure was lowered to 30 Pa and the solvent and carbon-carbon double were taken over 3 hours. The compound having a bond was distilled off to obtain an epoxy-modified silicone.
Subsequently, an operation similar to that in Example 9 was carried out to distill off the residual solvent and the compound having a carbon-carbon double bond contained in the epoxy-modified silicone in a glass tube oven, and the epoxy-modified silicone (12a )
Tetrahydrofuran remaining in the epoxy-modified silicone (12a) is 50 ppm, and 4-ethylidenylcyclohexene oxide and 4-epoxyethyl-cyclohexene are each 0.07 as a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group. % By mass and 0.03% by mass remained, and the total amount was 0.1% by mass. In addition, the compound which has carbon-carbon double bonds other than the compound which has a carbon-carbon double bond and an epoxy group was not contained.
Accordingly, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond of the epoxy-modified silicone (12a) is 0.1% by mass, and the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is 0.1% by mass. The residual amount of the by-product produced by the internal transition of the carbon-carbon double bond of the compound having a mass%, vinyl group and epoxy group was 0.07 mass%.
Moreover, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (12a) is 0.28, the amount of Si atoms constituting the residual SiH unit with respect to all Si atoms is 0.8%, and the transition metal component contained is only platinum, The content of the component was 2 ppm in terms of platinum element.
<硬化物の製造と特性評価>
エポキシ変性シリコーン(1a)の代わりにエポキシ変性シリコーン(12a)を用いたこと、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸を42.4質量部用いたこと以外は、実施例1記載の<硬化物の製造と特性評価>と同様にして、硬化性組成物及び硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture and characteristic evaluation of cured product>
<Production and properties of cured product> described in Example 1 except that epoxy-modified silicone (12a) was used instead of epoxy-modified silicone (1a) and that 42.4 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride was used. Evaluation> The curable composition and the cured product were obtained in the same manner. Table 1 shows the performance of the obtained cured product.
(参考例1)
実施例3で得た硬化性組成物を径が4mmの砲弾型のモールド型枠に注入し、そこに、発光波長400nmの発光素子が固定されたリードフレームを浸漬し、真空中で脱泡後、120℃で1時間、さらに150℃で2時間硬化反応を行い、発光ダイオードを得た。本操作によって得られた発光ダイオードに対し、室温にて50mAで200時間通電しても、素子と封止部との剥離や輝度の低下は見られなかった。
(参考例2)
実施例9で得た硬化性組成物を用いたこと、硬化反応を80℃で2時間、さらに100℃で4時間としたこと以外は、参考例1と同様の方法で発光ダイオードを得た。本操作によって得られた発光ダイオードに対し、室温にて50mAで200時間通電しても、素子と封止部との剥離や輝度の低下は見られなかった。
(参考例3)
実施例12で得た硬化性組成物を用いて、参考例1と同様の方法で発光ダイオードを得た。本操作によって得られた発光ダイオードに対し、室温にて50mAで200時間通電しても、素子と封止部との剥離や輝度の低下は見られなかった。
(参考例4)
実施例3、実施例4、実施例7にて製造したエポキシ変性シリコーン(3a)、(4a)、(7a)について、保存安定性の加速試験を実施した。結果を合わせて表1に示す。
(Reference Example 1)
The curable composition obtained in Example 3 was injected into a bullet-shaped mold form having a diameter of 4 mm, and a lead frame on which a light emitting element having an emission wavelength of 400 nm was fixed was immersed therein, and after degassing in vacuum A curing reaction was performed at 120 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 2 hours to obtain a light emitting diode. Even when the light-emitting diode obtained by this operation was energized at 50 mA at room temperature for 200 hours, peeling between the element and the sealing portion and reduction in luminance were not observed.
(Reference Example 2)
A light emitting diode was obtained in the same manner as in Reference Example 1 except that the curable composition obtained in Example 9 was used and the curing reaction was set at 80 ° C. for 2 hours and further at 100 ° C. for 4 hours. Even when the light-emitting diode obtained by this operation was energized at 50 mA at room temperature for 200 hours, peeling between the element and the sealing portion and reduction in luminance were not observed.
(Reference Example 3)
Using the curable composition obtained in Example 12, a light emitting diode was obtained in the same manner as in Reference Example 1. Even when the light-emitting diode obtained by this operation was energized at 50 mA at room temperature for 200 hours, peeling between the element and the sealing portion and reduction in luminance were not observed.
(Reference Example 4)
The epoxy-modified silicones (3a), (4a), and (7a) produced in Example 3, Example 4, and Example 7 were subjected to a storage stability acceleration test. The results are shown in Table 1.
表1より、炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量を2質量%以下とすることにより、エポキシ変性シリコーンの耐熱変色性、耐光性が改良されることが分かる。 From Table 1, it is understood that the heat discoloration resistance and light resistance of the epoxy-modified silicone are improved by setting the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond to 2% by mass or less.
本発明によれば、透明性、耐熱性、耐光性、耐熱変色性、保存安定性を有し、発光素子封止材用途に好適に用いられるエポキシ変性シリコーンを提供することが可能となる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it becomes possible to provide the epoxy modified silicone which has transparency, heat resistance, light resistance, heat discoloration resistance, and storage stability, and is used suitably for a light emitting element sealing material use.
Claims (10)
上記の有機基は、前記の炭素数及び酸素数の範囲内であれば、有機基としてヒドロキシル基、アルコキシ基、アシル基、カルボキシル基、アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、あるいは、エステル結合を含んでいてもよい。また、窒素、リン、硫黄等の酸素を除くヘテロ原子を含んでいてもよい。] The epoxy-modified silicone according to any one of claims 1 to 5, wherein the organohydrogen silicone is represented by the following average composition formula (1).
The above organic group has a hydroxyl group, an alkoxy group, an acyl group, a carboxyl group, an alkenyloxy group, an acyloxy group, a halogen atom, or an ester bond as long as it is within the range of the above carbon number and oxygen number. May be included. Moreover, the hetero atom except oxygen, such as nitrogen, phosphorus, and sulfur, may be included. ]
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