JP5110630B2 - Method for producing epoxy-modified silicone - Google Patents

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Description

本発明は、発光素子封止として有用なエポキシ変性シリコーンを製造するのに適した変性シリコーンの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a modified silicone suitable for producing an epoxy-modified silicone useful as a light-emitting device encapsulation.

近年、光半導体の高性能化が進み、封止用樹脂にもさらに高い性能が要求されるようになった。シロキサン骨格を繰り返し単位とし、置換基にエポキシ基を有するエポキシ変性シリコーンは、エポキシ樹脂が有する優れた硬化特性と高いTgに基づく耐熱性、シリコーンが有する耐光性、透明性等の優れた特性を併せもつことが期待されることから、高性能封止材として注目を集めている。   In recent years, the performance of optical semiconductors has increased, and higher performance has been required for sealing resins. Epoxy-modified silicones having a siloxane skeleton as a repeating unit and having an epoxy group as a substituent combine excellent curing characteristics of epoxy resins with excellent properties such as heat resistance based on high Tg, light resistance and transparency of silicones. Since it is expected to have, it attracts attention as a high-performance sealing material.

エポキシ変性シリコーンの製造方法としては、例えば、オレフィン基含有シロキサンを過酸化物と反応させる方法、クロロシラン又はアセトキシシラン化合物をグリシドールと反応させてグリシジルシリコーンエーテルを生成させる方法等がある。しかしながら、これらの方法はいずれも収率が低く操作が煩雑であることから、実用化はなされていない。   Examples of the method for producing the epoxy-modified silicone include a method in which an olefin group-containing siloxane is reacted with a peroxide, and a method in which a chlorosilane or an acetoxysilane compound is reacted with glycidol to produce a glycidyl silicone ether. However, none of these methods has been put to practical use because the yield is low and the operation is complicated.

これに対し、分子内にSiH単位を有するオルガノハイドロジェンシリコーンに対し、少なくともビニル基及びエポキシ基を有する化合物をヒドロシリル化反応により付加する方法は、エポキシ基あるいは、エポキシ基以外の有機官能基の導入が可能であることから、エポキシ変性シリコーンの製造方法として広く用いられており、多くの開示がある。   In contrast, a method of adding a compound having at least a vinyl group and an epoxy group to an organohydrogensilicone having a SiH unit in the molecule by a hydrosilylation reaction is the introduction of an epoxy functional group or an organic functional group other than an epoxy group. Therefore, it is widely used as a method for producing epoxy-modified silicone, and there are many disclosures.

例えば、特許文献1には、Q構造を単位構造として有し、かつ、置換基としてアルコキシシリルアルキル基を有するエポキシ変性シリコーン、並びに、SiH単位を有するオルガノハイドロジェンシリコーンに対して、エポキシ基を有するビニル化合物をヒドロシリル化反応により付加して、前記エポキシ変性シリコーンを製造する方法が開示されている。   For example, Patent Document 1 has an epoxy group for an epoxy-modified silicone having a Q structure as a unit structure and having an alkoxysilylalkyl group as a substituent, and an organohydrogen silicone having a SiH unit. A method for producing the epoxy-modified silicone by adding a vinyl compound by a hydrosilylation reaction is disclosed.

また、例えば、特許文献2には、1分子中にエポキシ基含有有機基と炭素数6以上のアルキル基とを少なくとも1個ずつ有する、1官能性シロキサン単位と四官能性シロキサン単位からなるエポキシ変性シリコーン、及びヒドロシリル化反応触媒存在下、オルガノハイドロジェンシリコーンに対して、エポキシ基を有するビニル化合物と炭素数6以上のアルケンとを含む化合物をヒドロシリル化反応により付加して、前記エポキシ変性シリコーンを製造する方法が開示されている。
更に、例えば、特許文献3には、ヒドロシリル化反応によりシロキサン骨格の側鎖に脂環式炭化水素基及びエポキシ単位を導入した変性シリコーン樹脂組成物が開示されている。
In addition, for example, Patent Document 2 discloses an epoxy modification comprising a monofunctional siloxane unit and a tetrafunctional siloxane unit each having at least one epoxy group-containing organic group and an alkyl group having 6 or more carbon atoms in one molecule. In the presence of silicone and hydrosilylation reaction catalyst, a compound containing an epoxy group-containing vinyl compound and an alkene having 6 or more carbon atoms is added to the organohydrogen silicone by a hydrosilylation reaction to produce the epoxy-modified silicone. A method is disclosed.
Furthermore, for example, Patent Document 3 discloses a modified silicone resin composition in which an alicyclic hydrocarbon group and an epoxy unit are introduced into a side chain of a siloxane skeleton by a hydrosilylation reaction.

これらの公報によれば、シロキサン骨格の側鎖にエポキシ単位を導入したエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化物は、耐光性を有すると共に耐熱性に優れる旨の開示がなされている。しかしながら、該エポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化物は、耐光性を向上させようとすると耐熱性が低下する傾向があり、耐熱性を向上させようとすると耐光性が低下する傾向があった。また、冷温サイクルによりクラックを生じる場合があり、耐光性、耐熱性、更に、発光素子封止剤に求められる耐クラック性の全てを満足するためには、更なる改善が求められていた。また、シロキサン骨格については、種々の置換基や共重合比に関する記述はあるが、得られるエポキシ変性シリコーンの共重合単位の連鎖分布が、硬化物特性に及ぼす影響や、オルガノハイドロジェンシリコーンの共重合単位の連鎖分布とヒドロシリル化反応条件に関する記載や記述は一切なされていない。   According to these publications, it is disclosed that a cured product obtained by using an epoxy-modified silicone in which an epoxy unit is introduced into a side chain of a siloxane skeleton has light resistance and excellent heat resistance. However, the cured product obtained by using the epoxy-modified silicone tends to decrease the heat resistance when trying to improve the light resistance, and tends to decrease the light resistance when trying to improve the heat resistance. In addition, cracks may occur due to the cold cycle, and further improvement has been demanded in order to satisfy all of light resistance, heat resistance, and crack resistance required for a light emitting device sealant. Regarding the siloxane skeleton, there are descriptions on various substituents and copolymerization ratios. However, the effect of the chain distribution of the copolymerized units of the resulting epoxy-modified silicone on the properties of the cured product and the copolymerization of organohydrogensilicones. There is no description or description of unit chain distribution and hydrosilylation reaction conditions.

これに対し、シロキサン骨格の連鎖分布を特定したシリコーンの提案もなされている。例えば、特許文献4には、ジアルキルシロキシ単位及びアルキル水素シロキシ単位の数平均連鎖長がいずれも5以上3000以下の範囲のブロック状ハイドロジェン変性シリコーンの提案がなされており、前記のブロック状ハイドロジェン変性シリコーンはオレフィンとヒドロシリル化反応させることによって所望の変性シリコーンへ誘導することができる旨が記載されている。更に、得られる変性シリコーンは、従来のランダム状のハイドロジェン変性シリコーンを変性して得られるものと比較すると、シリコーン部と変性部がセグメント化されているために、該シリコーン部と変性部の両者の性質を強く保持すること、その効果として界面活性能、溶剤ゲル化能、皮膜形成等の性能を発現し、化粧品、離型剤、潤滑剤などの原料の合成中間体等として用いることが出来る旨の記載がある。しかしながら、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物と反応させることの具体的な記載や、ヒドロシリル化反応条件に関する記載や記述は一切はなされていない。   On the other hand, silicones that specify the chain distribution of the siloxane skeleton have also been proposed. For example, Patent Document 4 proposes a block-like hydrogen-modified silicone in which the number average chain length of dialkylsiloxy units and alkylhydrogensiloxy units is in the range of 5 or more and 3000 or less. It is described that a modified silicone can be derived into a desired modified silicone by a hydrosilylation reaction with an olefin. Furthermore, the modified silicone obtained has a segmented silicone part and modified part compared to those obtained by modifying a conventional random hydrogen-modified silicone. It can be used as a synthetic intermediate for raw materials such as cosmetics, mold release agents, lubricants, etc. There is a statement to that effect. However, there is no specific description of reacting with a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, and no description or description regarding hydrosilylation reaction conditions.

特開平5−105758号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-105758 特開平7−18078号公報JP-A-7-18078 特開2004−155865号公報JP 2004-155865 A 特開平9−208702号公報JP-A-9-208702

本発明は、良好な透明性を有すると共に、優れた耐光性、耐熱性、更に、LEDのオン/オフサイクルに伴う温冷サイクルにおいて耐クラック性を有するエポキシ変性シリコーンを、大きな反応速度で、安定的に再現性よく製造する方法を提供することを目的とする。   The present invention provides an epoxy-modified silicone having excellent transparency and heat resistance, and crack resistance in a heating / cooling cycle accompanying the on / off cycle of an LED, at a high reaction rate, and stable. It aims at providing the method of manufacturing with sufficient reproducibility.

分子内にSiH単位を有するオルガノハイドロジェンシリコーンに対し、ビニル基を有する化合物をヒドロシリル化反応により付加して変性シリコーンを製造する方法は、エポキシ基を含む種々の有機官能基の導入が可能であることから、広く用いられている。
オルガノハイドロジェンシリコーンの構造の標記方法としては、通常、該シリコーンを構成する単位、具体的には、(RSiO1/2)単位、(RHSiO1/2)単位、(RSiO2/2)単位、(RHSiO2/2)単位、(RSiO3/2)単位、(HSiO3/2)単位、(SiO4/2)単位、を用いて、下記平均組成式(2)の様に標記される。
(RSiO1/2)(RHSiO1/2)(RSiO2/2)
(RHSiO2/2)(RSiO3/2)(HSiO3/2)(SiO4/2) ・・(2)
The method of producing a modified silicone by adding a compound having a vinyl group to an organohydrogen silicone having a SiH unit in the molecule by a hydrosilylation reaction can introduce various organic functional groups including an epoxy group. Therefore, it is widely used.
As a method for marking the structure of the organohydrogensilicone, usually, the unit constituting the silicone, specifically, (R 3 SiO 1/2 ) unit, (R 2 HSiO 1/2 ) unit, (R 2 SiO) 2/2 ) units, (RHSiO 2/2 ) units, (RSiO 3/2 ) units, (HSiO 3/2 ) units, (SiO 4/2 ) units, and the following average composition formula (2): It is marked as follows.
(R 3 SiO 1/2 ) t (R 2 HSiO 1/2 ) u (R 2 SiO 2/2 ) v
(RHSiO 2/2 ) w (RSiO 3/2 ) x (HSiO 3/2 ) y (SiO 4/2 ) z (2)

これらは、一見するとブロック共重合体のようにも見てとれるが、t、u、v、w、x、y、zは、連鎖分布のあり方を表現しているものではなく、単に、上記に記載の各単位の成分比、或いは、総数を表していることに過ぎないのである。
一般に、シロキサン骨格は主鎖の交換反応性が高く、分子内にSiH単位とSiHを含有しない単位とを有するオルガノハイドロジェンシリコーンを製造する際には容易に平衡化反応が生じ、特に限定しない限り、共重合組成に依存したランダム型構造となっているものと考えられる。
These can be seen as a block copolymer at first glance, but t, u, v, w, x, y, and z do not represent the way of the chain distribution. It merely represents the component ratio or total number of each unit described.
In general, the siloxane skeleton has a high main chain exchange reactivity, and when an organohydrogensilicone having a SiH unit and a unit not containing SiH in the molecule is easily produced, an equilibrium reaction occurs easily. It is considered that the structure has a random structure depending on the copolymer composition.

上記の特許文献1〜3のエポキシ変性シリコーンの原料として用いられているオルガノハイドロジェンシリコーンも同様にランダム型構造を有しているものと考えられ、この様なオルガノハイドロジェンシリコーンをヒドロシリル化反応等によって変性しても、得られる変性シリコーン中には、官能基を導入した部位がランダムに分布するため、変性シリコーンの特徴を低下させる場合があったものと考えられる。   The organohydrogen silicone used as the raw material for the epoxy-modified silicone of Patent Documents 1 to 3 is considered to have a random structure as well, and such an organohydrogen silicone is converted to a hydrosilylation reaction or the like. Even if it is modified by the above, it is considered that the site of introducing the functional group is randomly distributed in the resulting modified silicone, which may deteriorate the characteristics of the modified silicone.

これを受け、本発明者らが、ヒドロシリル化反応によりエポキシ変性シリコーンを製造する際に、原料となるオルガノハイドロジェンシリコーンを構成する(RSiO2/2)単位及び(RHSiO2/2)単位の平均連鎖長と得られるエポキシ変性シリコーンの性能について鋭意検討した結果、(RSiO2/2)単位及び(RHSiO2/2)単位の平均連鎖長を各々特定範囲とすることにより、耐光性、耐熱性、更には、発光素子封止剤に求められる耐クラック性を満足するエポキシ変性シリコーンが得られることを先に見出した。 In response, the inventors of the present invention produce (R 2 SiO 2/2 ) units and (RHSiO 2/2 ) units constituting the organohydrogen silicone as a raw material when producing an epoxy-modified silicone by hydrosilylation reaction. As a result of intensive studies on the average chain length and the performance of the epoxy-modified silicone obtained, the light resistance is improved by setting the average chain length of (R 2 SiO 2/2 ) units and (RHSiO 2/2 ) units to specific ranges, respectively. It was previously found that an epoxy-modified silicone satisfying the heat resistance and further the crack resistance required for a light-emitting device sealant can be obtained.

しかしながら、特定の(RSiO2/2)単位及び(RHSiO2/2)単位の平均連鎖長を有するブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンに対して、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物をヒドロシリル化反応により付加する際には、条件によっては得られるエポキシ変性シリコーン中にエポキシ基の開環に由来する高分子量部の形成がみられ、安定的に再現性よくエポキシ変性シリコーンを製造することができず、その技術の開発が望まれていた。
これらの点を鑑み、本発明者らが、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンに対して、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物をヒドロシリル化反応により付加する条件について鋭意検討した結果、付加するビニル化合物の添加量とブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全SiH単位の量との比を特定範囲とすることにより、上記課題を解決可能であることを見出し、本発明を完成させるに至った。
However, a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is used for a block-type organohydrogen silicone having an average chain length of specific (R 2 SiO 2/2 ) units and (RHSiO 2/2 ) units. When adding by hydrosilylation reaction, formation of a high molecular weight part derived from the ring opening of the epoxy group is observed in the epoxy-modified silicone obtained depending on the conditions, and the epoxy-modified silicone is produced stably and reproducibly. However, the development of the technology was desired.
In view of these points, the present inventors added as a result of intensive investigations on conditions for adding a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group to a block-type organohydrogensilicone by a hydrosilylation reaction. The inventors have found that the above problem can be solved by setting the ratio of the added amount of the vinyl compound and the total amount of SiH units in the block-type organohydrogensilicone to a specific range, and the present invention has been completed.

即ち本発明は以下のとおりである。
[1]下記<A>及び<B>の要件を同時に満足する下記平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンに対し、ヒドロシリル化触媒の存在下、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)を含むビニル化合物(b)をヒドロシリル化反応により付加してエポキシ変性シリコーンを製造する際に、SiH単位の合計モル数に対して、共存させるビニル化合物(b)の全ビニル基の合計モル数を5倍以上100倍以下とすることを特徴とするエポキシ変性シリコーンの製造方法。
<A>:(R SiO2/2)単位の平均連鎖長が3以上100以下。
<B>:(RHSiO2/2)単位の平均連鎖長が2以上20以下。
(R SiO1/2)(R HSiO1/2)(R SiO2/2)
(RHSiO2/2)(RSiO3/2)(HSiO3/2)(SiO4/2) ・・(1)
[但し、Rは各々独立に、A)ヒドロキシル基、B)ハロゲン原子、C)無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価又は2価の脂肪族有機基、D)無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、からなる群から選ばれる少なくとも1種以上の有機基を表す。
上記の有機基は、前記の炭素数及び酸素数の範囲内であれば、有機基としてヒドロキシル基、アルコキシ基、アシル基、カルボキシル基、アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、或いは、エステル結合を含んでいてもよい。また、酸素を除くヘテロ原子を含んでいてもよい。
また、平均組成式(1)におけるa、b、c、d、e、f、gは、オルガノハイドロジェンシリコーン1モル中に存在する各単位のモル数を表し、a、b、e、f、gは各々0以上、cは3以上、dは2以上の値である。
また、上記の、e、f、gが各々下記式(1)、式(2)、を同時に満足する場合には、上記のa、b、e、f、gは、式(3)を満足する範囲から選択される数値である。
e+f≠0 ・・・式(1)
g≠0 ・・・式(2)
0≦a+b≦e+f+2g+2・・・式(3)
さらに、上記のe、f、gが各々下記式(4)、式(5)、を同時に満足する場合には、上記のa、bは下記式(6)を満足する範囲から選択される数値である。
e+f=0 ・・・式(4)
g=0 ・・・式(5)
0≦a+b≦2・・・式(6)
また、上記のe、f、gが各々下記式(1)、式(5)、を同時に満足する場合には、上記のa、bは下記式(7)を満足する範囲から選択される数値である。
e+f≠0 ・・・式(1)
g=0 ・・・式(5)
0≦a+b≦e+f+2・・・式(7)
さらに、e、f、gが各々下記式(4)、式(2)、を同時に満足する場合には、上記のa、bは下記式(8)を満足する範囲から選択される数値である。
e+f=0 ・・・式(4)
g≠0 ・・・式(2)
0≦a+b≦2g+2 ・・・式(8)]
[2]鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる炭化水素単位を有する炭素数が5以上20以下の1価の脂肪族有機基が結合したSi数が、全Siに対して5%以上95%以下の範囲であることを特徴とする[1]に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法。
[3]平均組成式(1)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンの(RHSiO2/2)単位の平均連鎖長が2.2以上5未満であることを特徴とする[1]又は[2]に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法。
[4]平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの(b+d+f)/(a+b+c+d+e+f+g)の値が0.100以上0.800以下の範囲であることを特徴とする[1]から[3]のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法。
[5]平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンにおいて、(e+f+g)の値がゼロであることを特徴とする[1]から[4]のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法。
[6]平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンにおいて、b/(a+b)の値が0.5以上であることを特徴とする[1]から[5]のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法。
[7]平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンに含有される分子量1,000以下の成分の含有量が15%以下であることを特徴とする[1]から[6]のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法。
[8]平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、ヒドロシリル化反応により炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)を付加させるSiH単位のモル数の分率が70%以上であることを特徴とする[1]から[7]のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法。
[9]ヒドロシリル化反応を行う際に用いられる触媒の金属原子換算のモル数が、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/5,000,000以上1/1,200以下の範囲であることを特徴とする[1]から[8]のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法。
[10]平均組成式(1)によって表されるオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位に対し、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)を含むビニル化合物(b)をヒドロシリル化反応により付加した後に、混合物を0℃以上200℃以下の温度に供して、エポキシ変性シリコーンを分離回収する工程を含む[1]から[9]のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法。
[11]分離回収する工程に供されるエポキシ変性シリコーン中に含有される全Si数に対する残留SiH単位数が2%以下であることを特徴とする[1]から[10]のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法。
That is, the present invention is as follows.
[1] A carbon-carbon double bond in the presence of a hydrosilylation catalyst for a block-type organohydrogensilicone represented by the following average composition formula (1) that simultaneously satisfies the following <A> and <B> requirements: And a vinyl compound (b) that coexists with the total number of moles of SiH units when producing an epoxy-modified silicone by adding a vinyl compound (b) containing a compound (a) having an epoxy group by a hydrosilylation reaction. The total number of moles of all vinyl groups is 5 times or more and 100 times or less, and a method for producing an epoxy-modified silicone.
<A>: The average chain length of (R 1 2 SiO 2/2 ) units is 3 or more and 100 or less.
<B>: The average chain length of (R 1 HSiO 2/2 ) units is 2 or more and 20 or less.
(R 1 3 SiO 1/2 ) a (R 1 2 HSiO 1/2 ) b (R 1 2 SiO 2/2 ) c
(R 1 HSiO 2/2 ) d (R 1 SiO 3/2 ) e (HSiO 3/2 ) f (SiO 4/2 ) g (1)
[However, each R 1 independently represents a fat having at least one structure selected from the group consisting of A) hydroxyl group, B) halogen atom, C) unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic. A monovalent or divalent aliphatic organic group having an aromatic hydrocarbon unit and having a carbon number of 1 to 24 and an oxygen number of 0 to 5, D) an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, , Having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of a chain, a branched chain and a ring, which are unsubstituted or substituted as necessary, having 6 to 24 carbon atoms and an oxygen number Represents at least one organic group selected from the group consisting of monovalent aromatic organic groups of 0 or more and 5 or less.
The above organic group has a hydroxyl group, an alkoxy group, an acyl group, a carboxyl group, an alkenyloxy group, an acyloxy group, a halogen atom, or an ester bond as long as it is within the range of the carbon number and oxygen number. May be included. Moreover, the hetero atom except oxygen may be included.
Moreover, a, b, c, d, e, f, and g in the average composition formula (1) represent the number of moles of each unit present in 1 mole of the organohydrogensilicone, and a, b, e, f, Each g is 0 or more, c is 3 or more, and d is 2 or more.
Further, when e, f, and g satisfy the following expressions (1) and (2), respectively, a, b, e, f, and g satisfy the expression (3). It is a numerical value selected from the range.
e + f ≠ 0 Formula (1)
g ≠ 0 Formula (2)
0 ≦ a + b ≦ e + f + 2g + 2 Formula (3)
Further, when the above e, f, and g satisfy the following formulas (4) and (5), respectively, the above a and b are numerical values selected from the range satisfying the following formula (6). It is.
e + f = 0 Formula (4)
g = 0 Formula (5)
0 ≦ a + b ≦ 2 Formula (6)
When the above e, f, and g satisfy the following formulas (1) and (5), respectively, the above a and b are numerical values selected from the range that satisfies the following formula (7). It is.
e + f ≠ 0 Formula (1)
g = 0 Formula (5)
0 ≦ a + b ≦ e + f + 2 Formula (7)
Furthermore, when e, f, and g satisfy the following expressions (4) and (2), respectively, a and b are numerical values selected from a range that satisfies the following expression (8). .
e + f = 0 Formula (4)
g ≠ 0 Formula (2)
0 ≦ a + b ≦ 2g + 2 (formula (8))
[2] The number of Si bonded to a monovalent aliphatic organic group having 5 to 20 carbon atoms and having a hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from a chain, branched, and cyclic structure group The method for producing an epoxy-modified silicone according to [1], which is in a range of 5% to 95% with respect to the total Si.
[3] The average chain length of the (R 1 HSiO 2/2 ) unit of the organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) is 2.2 or more and less than 5, [1] or [ [2] The method for producing an epoxy-modified silicone according to [2].
[4] The (b + d + f) / (a + b + c + d + e + f + g) value of the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) is in the range of 0.100 to 0.800 [1] To [3]. The method for producing an epoxy-modified silicone according to any one of [3].
[5] The block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) has a value of (e + f + g) of zero, according to any one of [1] to [4] Production method of epoxy-modified silicone.
[6] The block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1), wherein the value of b / (a + b) is 0.5 or more, and any one of [1] to [5] 2. A method for producing an epoxy-modified silicone according to item 1.
[7] The content of the component having a molecular weight of 1,000 or less contained in the block-type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) is 15% or less, [1] to [6 ] The manufacturing method of the epoxy-modified silicone of any one of.
[8] The compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group by hydrosilylation reaction with respect to the total number of moles of SiH units of the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1). The method for producing an epoxy-modified silicone according to any one of [1] to [7], wherein the mole fraction of SiH units to be added is 70% or more.
[9] The total number of moles of SiH units of the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction, in which the number of moles of the catalyst used in the hydrosilylation reaction is represented by the average composition formula (1) The method for producing an epoxy-modified silicone according to any one of [1] to [8], wherein the range is from 1 / 5,000,000 to 1 / 1,200.
[10] A vinyl compound (b) containing a compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is hydrosilylated with respect to the SiH unit of the organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1). After the addition, the method for producing an epoxy-modified silicone according to any one of [1] to [9], including a step of subjecting the mixture to a temperature of 0 ° C. to 200 ° C. to separate and recover the epoxy-modified silicone.
[11] Any one of [1] to [10], wherein the number of residual SiH units is 2% or less with respect to the total number of Si contained in the epoxy-modified silicone subjected to the separation and recovery step. A process for producing an epoxy-modified silicone as described in 1.

本発明によれば、発光素子封止剤等、透明性、耐光性、耐熱性、耐クラック性が要求される用途に好適に用いられるエポキシ変性シリコーンを工業的に効率よく、安定的に、再現性よく製造する方法を提供することが可能となる。   According to the present invention, an epoxy-modified silicone that is suitably used for applications that require transparency, light resistance, heat resistance, and crack resistance, such as a light emitting device sealant, is industrially efficient and stable. It is possible to provide a method for manufacturing with good performance.

本発明において、原料として用いられるオルガノハイドロジェンシリコーンは、下記<A>及び<B>の要件を同時に満足する平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンである。
<A>:(R SiO2/2)単位の平均連鎖長が3以上100以下。
<B>:(RHSiO2/2)単位の平均連鎖長が2以上20以下。
(R SiO1/2)(R HSiO1/2)(R SiO2/2)
(RHSiO2/2)(RSiO3/2)(HSiO3/2)(SiO4/2) ・・(1)
[但し、Rは各々独立に、A)ヒドロキシル基、B)ハロゲン原子、C)無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価又は2価の脂肪族有機基、D)無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、からなる群から選ばれる少なくとも1種以上の有機基を表す。
上記の有機基は、前記の炭素数及び酸素数の範囲内であれば、有機基としてヒドロキシル基、アルコキシ基、アシル基、カルボキシル基、アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、或いは、エステル結合を含んでいてもよい。また、窒素、リン、硫黄等の酸素を除くヘテロ原子を含んでいてもよい。]
In the present invention, the organohydrogensilicone used as a raw material is a block-type organohydrogensilicone represented by an average composition formula (1) that simultaneously satisfies the following <A> and <B> requirements.
<A>: The average chain length of (R 1 2 SiO 2/2 ) units is 3 or more and 100 or less.
<B>: The average chain length of (R 1 HSiO 2/2 ) units is 2 or more and 20 or less.
(R 1 3 SiO 1/2 ) a (R 1 2 HSiO 1/2 ) b (R 1 2 SiO 2/2 ) c
(R 1 HSiO 2/2 ) d (R 1 SiO 3/2 ) e (HSiO 3/2 ) f (SiO 4/2 ) g (1)
[However, each R 1 independently represents a fat having at least one structure selected from the group consisting of A) hydroxyl group, B) halogen atom, C) unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic. A monovalent or divalent aliphatic organic group having an aromatic hydrocarbon unit and having a carbon number of 1 to 24 and an oxygen number of 0 to 5, D) an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, , Having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of a chain, a branched chain and a ring, which are unsubstituted or substituted as necessary, having 6 to 24 carbon atoms and an oxygen number Represents at least one organic group selected from the group consisting of monovalent aromatic organic groups of 0 or more and 5 or less.
The above organic group has a hydroxyl group, an alkoxy group, an acyl group, a carboxyl group, an alkenyloxy group, an acyloxy group, a halogen atom, or an ester bond as long as it is within the range of the carbon number and oxygen number. May be included. Moreover, the hetero atom except oxygen, such as nitrogen, phosphorus, and sulfur, may be included. ]

なお、平均組成式(1)におけるa、b、c、d、e、f、gは、オルガノハイドロジェンシリコーン1モル中に存在する各単位のモル数を表し、a、b、e、f、gは各々0以上、cは3以上、dは2以上の値である。
また、上記の、e、f、gが各々下記式(1)、式(2)、を同時に満足する場合には、上記のa、b、e、f、gは、式(3)を満足する範囲から選択される数値である。
e+f≠0 ・・・式(1)
g≠0 ・・・式(2)
0≦a+b≦e+f+2g+2・・・式(3)
さらに、上記のe、f、gが各々下記式(4)、式(5)、を同時に満足する場合には、上記のa、bは下記式(6)を満足する範囲から選択される数値である。
e+f=0 ・・・式(4)
g=0 ・・・式(5)
0≦a+b≦2・・・式(6)
また、上記のe、f、gが各々下記式(1)、式(5)、を同時に満足する場合には、上記のa、bは下記式(7)を満足する範囲から選択される数値である。
e+f≠0 ・・・式(1)
g=0 ・・・式(5)
0≦a+b≦e+f+2・・・式(7)
さらに、e、f、gが各々下記式(4)、式(2)、を同時に満足する場合には、上記のa、bは下記式(8)を満足する範囲から選択される数値である。
e+f=0 ・・・式(4)
g≠0 ・・・式(2)
0≦a+b≦2g+2 ・・・式(8)
In addition, a, b, c, d, e, f, and g in the average composition formula (1) represent the number of moles of each unit present in 1 mole of the organohydrogensilicone, and a, b, e, f, Each g is 0 or more, c is 3 or more, and d is 2 or more.
Further, when e, f, and g satisfy the following expressions (1) and (2), respectively, a, b, e, f, and g satisfy the expression (3). It is a numerical value selected from the range.
e + f ≠ 0 Formula (1)
g ≠ 0 Formula (2)
0 ≦ a + b ≦ e + f + 2g + 2 Formula (3)
Further, when the above e, f, and g satisfy the following formulas (4) and (5), respectively, the above a and b are numerical values selected from the range satisfying the following formula (6). It is.
e + f = 0 Formula (4)
g = 0 Formula (5)
0 ≦ a + b ≦ 2 Formula (6)
When the above e, f, and g satisfy the following formulas (1) and (5), respectively, the above a and b are numerical values selected from the range that satisfies the following formula (7). It is.
e + f ≠ 0 Formula (1)
g = 0 Formula (5)
0 ≦ a + b ≦ e + f + 2 Formula (7)
Furthermore, when e, f, and g satisfy the following expressions (4) and (2), respectively, a and b are numerical values selected from a range that satisfies the following expression (8). .
e + f = 0 Formula (4)
g ≠ 0 Formula (2)
0 ≦ a + b ≦ 2g + 2 (8)

本発明における(R SiO2/2)単位及び(RHSiO2/2)単位の平均連鎖長は、29Si−NMRによって求められる値である。具体的には、平均組成式(1)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンをクロロホルム等の重水素化物に溶解して得られた溶解液に、Cr(acac)を該オルガノハイドロジェンシリコーンに対して10質量%添加して溶解させた後、更に標準物質としてテトラメチルシランを10マイクロリットル更に添加して得られた溶液を、プロトン完全デカップル条件における29Si−NMR測定し、得られるスペクトルパターンから算出される積分値を元に、計算により求めた、(R SiO2/2)単位、(RHSiO2/2)単位の各々の平均連鎖長(以下、それぞれγ、δと標記する)の値のことをいう。
以下に、各単位の平均連鎖長の算出法について記す。
The average chain length of (R 1 2 SiO 2/2 ) units and (R 1 HSiO 2/2 ) units in the present invention is a value determined by 29 Si-NMR. Specifically, Cr (acac) 3 is added to the organohydrogensilicone in a solution obtained by dissolving the organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) in a deuteride such as chloroform. After adding 10% by mass and dissolving the solution, a solution obtained by further adding 10 microliters of tetramethylsilane as a standard substance was subjected to 29 Si-NMR measurement under proton complete decoupling conditions, and from the obtained spectrum pattern. Based on the calculated integration values, the average chain lengths of the (R 1 2 SiO 2/2 ) units and (R 1 HSiO 2/2 ) units (hereinafter referred to as γ and δ, respectively) obtained by calculation. ).
The calculation method of the average chain length of each unit is described below.

(R SiO2/2)単位の平均連鎖長(γ)は、前記の29Si−NMR法により測定して得られた、(R SiO2/2)単位が隣り合った、2連鎖由来のピークの積分値の総和をα1とし、(R SiO2/2)単位と(RHSiO2/2)単位とが隣り合った2連鎖由来の珪素のピークの積分値の総和をβとして、式(9)によって算出される値である。
γ=1+α1/β ・・・式(9)
(R 1 2 SiO 2/2) average chain length of the unit (gamma) was obtained as determined by 29 Si-NMR method mentioned above, adjacent that (R 1 2 SiO 2/2) units, 2 the sum of integral values of peaks derived from the chain and [alpha] 1, the sum of (R 1 2 SiO 2/2) units and (R 1 HSiO 2/2) the integral value of the peak of the unit and is neighboring two chain-derived silicon Is a value calculated by Equation (9), where β is β.
γ = 1 + α1 / β (9)

一方、(RHSiO2/2)単位の平均連鎖長(δ)は、前記の29Si−NMR法により測定して得られた、(RHSiO2/2)単位が隣り合った、2連鎖由来のピークの積分値の総和をα2とし、(RHSiO2/2)単位と(R SiO2/2)単位とが隣り合った2連鎖由来の珪素のピークの積分値の総和をβとして、式(10)によって算出される値である。
δ=1+α2/β ・・・式(10)
On the other hand, (R 1 HSiO 2/2) average chain length of the unit ([delta]) are obtained by measuring by 29 Si-NMR method mentioned above, adjacent that (R 1 HSiO 2/2) units, 2 The sum of the integral values of the peaks derived from the chain is α2, and the sum of the integral values of the peaks of the silicon derived from the two chains in which the (R 1 HSiO 2/2 ) unit and the (R 1 2 SiO 2/2 ) unit are adjacent to each other. Is a value calculated by equation (10), where β is β.
δ = 1 + α2 / β (10)

ここで、各々のピークの積分値は、対応する単位構造に由来するピークとベースラインとで囲まれる部分の積分値のことを指す。前記の対応する単位構造に由来するピークが他のピークと部分的に重複している場合には、単位構造に由来するピークと他のピークとで形成される下に凸部の頂点からベースラインに垂線を下ろし、該ピークと垂線とベースラインで囲まれる部分の積分値のことを指す。
以下に、Rの全てがメチル基である場合を例として、平均連鎖長の算出法を具体的に説明する。本発明において(R SiO2/2)単位で標記されるジメチルシロキシ単位を(D)、他方、本発明において(RHSiO2/2)単位で標記される水素メチルシロキシ単位を(H)とした場合、DとHの3連鎖に対応する中心に位置する珪素のケミカルシフト値は、テトラメチルシランの珪素を基準として各々以下のようになる。
Here, the integrated value of each peak refers to the integrated value of the portion surrounded by the peak and the base line derived from the corresponding unit structure. When the peak derived from the corresponding unit structure partially overlaps with another peak, the baseline is formed from the peak of the convex portion formed by the peak derived from the unit structure and the other peak. This is the integrated value of the part surrounded by the peak, the perpendicular and the base line.
Hereinafter, the method for calculating the average chain length will be specifically described by taking as an example the case where all of R 1 are methyl groups. In the present invention, dimethylsiloxy units represented by (R 1 2 SiO 2/2 ) units are represented by (D), while in the present invention, hydrogen methylsiloxy units represented by (R 1 HSiO 2/2 ) units are represented by (H ), The chemical shift values of silicon located in the center corresponding to the three chains of D and H are as follows based on silicon of tetramethylsilane.

−D−D−D− : −21.8ppm
−D−D−H− : −20.5ppm
−H−D−H− : −18.8ppm
−H−H−H− : −35.0ppm
−H−H−D− : −36.2ppm
−D−H−D− : −37.5ppm

上記の−D−D−D−単位、−D−D−H−単位、−H−D−H−単位、−H−H−H−単位、−H−H−D−単位、−D−H−D−単位に相当するピークの積分値を各々、A(DDD)、A(DDH)、A(HDH)、A(HHH)、A(HHD)、A(DHD)とすると、ジメチルシロキシ単位の平均連鎖長(γD)及び水素メチルシロキシ(δD)は、各々下記式(11)及び(12)で算出することができる。
γD=1+A(DDD)/{A(DDH)+A(HDH)} ・・・式(11)
δD=1+{A(HHH)+A(HHD)}/A(DHD) ・・・式(12)
-D-D-D-: -21.8 ppm
-D-D-H-: -20.5 ppm
-H-D-H-: -18.8 ppm
-H-H-H-: -35.0 ppm
-H-H-D-: -36.2 ppm
-D-H-D-: -37.5 ppm

-D-D-D- unit, -D-D-H- unit, -H-D-H- unit, -H-H-H- unit, -H-H-D- unit, -D- Assuming that the integrated values of peaks corresponding to HD units are A (DDD), A (DDH), A (HDH), A (HHH), A (HHD), and A (DHD), dimethylsiloxy units The average chain length (γD) and hydrogen methylsiloxy (δD) can be calculated by the following formulas (11) and (12), respectively.
γD = 1 + A (DDD) / {A (DDH) + A (HDH)} (11)
δD = 1 + {A (HHH) + A (HHD)} / A (DHD) (12)

本発明において用いられる平均組成式(1)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンにおいて、(R SiO2/2)単位の平均連鎖長が3未満の場合には、得られるエポキシ変性シリコーンを硬化して得られる硬化物が、温度変化によりクラックを生じるため好ましくない。一方、100を超える場合には、前記硬化物の硬度が不十分となり、該硬化物を発光素子に実装又は実装した発光部品を使用する際に表面がべたついて異物が付着するか、或いは、該発光部品表面が損傷を受けるため、好ましくない。十分な耐熱性と硬度を安定的に満足する上で、(R SiO2/2)単位の平均連鎖長は、4以上70以下の範囲が好ましく、4以上50以下の範囲がより好ましく、4以上25以下の範囲が特に好ましい。 In the organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) used in the present invention, when the average chain length of the (R 1 2 SiO 2/2 ) unit is less than 3, the resulting epoxy-modified silicone is cured. The cured product obtained in this manner is not preferable because it causes cracks due to temperature changes. On the other hand, when it exceeds 100, the hardness of the cured product becomes insufficient, and when the cured product is mounted on a light emitting element or a light emitting component is used, the surface becomes sticky and foreign matter adheres, or the Since the surface of the light emitting component is damaged, it is not preferable. In order to stably satisfy sufficient heat resistance and hardness, the average chain length of (R 1 2 SiO 2/2 ) units is preferably in the range of 4 to 70, more preferably in the range of 4 to 50, A range of 4 to 25 is particularly preferable.

また、平均組成式(1)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンにおいて、(RHSiO2/2)単位の平均連鎖長が2未満の場合、或いは、20を超える場合には、得られるエポキシ変性シリコーンを硬化して得られる硬化物の耐熱性が不十分となるか、又は、前記硬化物が温度変化によりクラックを生じるため、好ましくない。
得られるエポキシ変性シリコーンを硬化して得られる硬化物が充分な耐熱性を有し、且つ、温度変化によるクラックの発生を抑制すると共に、ヒドロシリル化反応時のエポキシ基の副反応を抑制して再現性よくエポキシ変性シリコーンを製造する上で、(RHSiO2/2)単位の平均連鎖長は2.2以上5未満であることが好ましく、2.3以上4.5未満であることがより好ましく、2.4以上4未満であることが更に好ましい。
Moreover, in the organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1), when the average chain length of the (R 1 HSiO 2/2 ) unit is less than 2 or exceeds 20, the resulting epoxy-modified Since the heat resistance of the hardened | cured material obtained by hardening | curing silicone becomes inadequate, or the said hardened | cured material produces a crack by a temperature change, it is unpreferable.
The cured product obtained by curing the resulting epoxy-modified silicone has sufficient heat resistance and suppresses the occurrence of cracks due to temperature changes, and also reproduces the epoxy group by preventing side reactions during the hydrosilylation reaction. When producing an epoxy-modified silicone with good properties, the average chain length of the (R 1 HSiO 2/2 ) unit is preferably 2.2 or more and less than 5, more preferably 2.3 or more and less than 4.5. Preferably, it is 2.4 or more and less than 4.

本発明において、平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンは、前記の<A>及び<B>の要件を同時に満足すれば特に限定はなく、直鎖状、環状、分岐状、ラダー状、籠状等いずれの構造でもよい。2種以上の混合物であっても、該混合物が前記の<A>及び<B>の要件を同時に満足する場合には、用いることが可能である。   In the present invention, the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) is not particularly limited as long as it satisfies the above requirements <A> and <B> at the same time. Any structure such as a shape, a ladder shape, or a bowl shape may be used. Even if it is a mixture of two or more kinds, it can be used if the mixture satisfies the above requirements <A> and <B> simultaneously.

本発明において用いられる平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成する各単位のモル数は、ヒドロシリル化反応時の溶媒への溶解性が向上することから、c、dの値が各々5,000以下の範囲、且つ、e、f、gが各々100以下の範囲を同時に満足することが好ましく、立体障害を緩和してヒドロシリル化反応を安定的に、且つ、再現性よく進行させる上で、gが0であることがより好ましく、gが0、且つ、(e+f)/(a+b+c+d+e+f)の値が0.02以下、且つ、c、dの値が各々3,000以下の範囲であることが更に好ましく、gが0、且つ、(e+f)/(a+b+c+d+e+f)の値が0.01以下、且つ、c、dの値が各々2,000以下の範囲であることが特に好ましく、(g+e+f)の値がゼロ、且つ、c、dの値が各々1,000以下の範囲であることが望ましい。
一方、本発明において用いられる平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンをヒドロシリル化反応して得られるエポキシ変性シリコーンを用いた硬化物の耐クラック性が向上することから、cの値は4以上であることが好ましい。
The number of moles of each unit constituting 1 mol of the block type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) used in the present invention is such that the solubility in a solvent during the hydrosilylation reaction is improved. , D each satisfying a range of 5,000 or less, and e, f, and g each satisfying a range of 100 or less at the same time, reducing the steric hindrance to stabilize the hydrosilylation reaction, and In order to proceed with good reproducibility, it is more preferable that g is 0, g is 0, the value of (e + f) / (a + b + c + d + e + f) is 0.02 or less, and the values of c and d are 3, respectively. More preferably, it is in the range of 000 or less, g is 0, the value of (e + f) / (a + b + c + d + e + f) is 0.01 or less, and the values of c and d are each 2,000 or less. Particularly preferred, (g + e + f) value of zero, and, c, it is desirable that the value of d are each 1,000 or less.
On the other hand, since the crack resistance of the cured product using the epoxy-modified silicone obtained by hydrosilylation reaction of the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) used in the present invention is improved, c The value of is preferably 4 or more.

また、本発明において用いられる平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンをヒドロシリル化反応して得られるエポキシ変性シリコーンを用いた硬化物の耐熱性が高まることから、dの値は4以上であることが好ましい。
本発明において、平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンに対して炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)を含むビニル化合物(b)をヒドロシリル化反応により付加して得られるエポキシ変性シリコーンを硬化して得られた硬化物の表面のべたつきが抑制されるため、平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのb/(a+b)の値が0.5以上であることが好ましく、0.7以上であることがより好ましく、0.9以上であることが更に好ましく、0.95以上であることが特に好ましい。
Moreover, since the heat resistance of the hardened | cured material using the epoxy-modified silicone obtained by hydrosilylating the block type | mold organohydrogen silicone represented by the average compositional formula (1) used in this invention increases, the value of d Is preferably 4 or more.
In the present invention, a vinyl compound (b) containing a compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is subjected to a hydrosilylation reaction with respect to the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1). Since the stickiness of the surface of the cured product obtained by curing the epoxy-modified silicone obtained by addition is suppressed, b / (a + b) of the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) The value is preferably 0.5 or more, more preferably 0.7 or more, still more preferably 0.9 or more, and particularly preferably 0.95 or more.

本発明において用いられる、平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中のSiH単位数は、ヒドロシリル化反応後に得られるエポキシ変性シリコーンを用いた硬化物の耐熱性が高まることから、平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの(b+d+f)/(a+b+c+d+e+f+g)の値が0.100以上であることが好ましく、0.120以上であることがより好ましく、0.150以上であることが更に好ましい。一方、平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンをヒドロシリル化反応する際のゲル化を抑制し、安定的に再現性よくエポキシ変性シリコーンを得ることができることから、(b+d+f)/(a+b+c+d+e+f+g)の値は、0.800以下であることが好ましく、0.700以下であることがより好ましく、0.600以下であることが更に好ましい。   The number of SiH units in the block-type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) used in the present invention increases the heat resistance of a cured product using an epoxy-modified silicone obtained after the hydrosilylation reaction. The value of (b + d + f) / (a + b + c + d + e + f + g) of the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) is preferably 0.100 or more, more preferably 0.120 or more, 0 More preferably, it is 150 or more. On the other hand, since the gelation at the time of hydrosilylation reaction of the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) can be suppressed, an epoxy-modified silicone can be obtained stably and with good reproducibility. (B + d + f) The value of / (a + b + c + d + e + f + g) is preferably 0.800 or less, more preferably 0.700 or less, and still more preferably 0.600 or less.

ここで、平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンにおけるa〜gの算出法について説明する。a〜gの算出には、29Si−NMR測定、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定、更に必要に応じて、H−NMR測定によって得られる結果を用いて算出する。具体的には、まず、平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの29Si−NMR測定を、上記の(R SiO2/2)単位及び(RHSiO2/2)単位の平均連鎖長を算出したのと同様の方法で測定し、得られるスペクトルパターンから算出された積分値を元に、a〜gの含有分率を百分率で算出する。 Here, the calculation method of ag in the block type | mold organohydrogen silicone represented by average composition formula (1) is demonstrated. For the calculation of a to g, calculation is performed using 29 Si-NMR measurement, gel permeation chromatography (GPC) measurement, and, if necessary, results obtained by 1 H-NMR measurement. Specifically, first, 29 Si-NMR measurement of the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) was performed using the above (R 1 2 SiO 2/2 ) units and (R 1 HSiO 2 / 2 ) The average chain length of the unit is measured in the same manner as that for calculating the unit, and the content fraction of a to g is calculated as a percentage based on the integral value calculated from the obtained spectrum pattern.

平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンが種々の置換基を有する場合には、H−NMR測定によって得られるスペクトルパターンから算出された積分値を元に、置換基毎に各構成単位の存在率を百分率で算出する。
得られた各構成単位の存在率と各構成単位の理論式量とを用いて、構成単位の平均的式量を算出する。
When the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) has various substituents, for each substituent, based on the integrated value calculated from the spectrum pattern obtained by 1 H-NMR measurement. The percentage of each structural unit is calculated as a percentage.
Using the obtained abundance ratio of each structural unit and the theoretical formula amount of each structural unit, an average formula amount of the structural unit is calculated.

平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのGPC測定によって得られた数平均分子量を平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの1モル当りの分子量として、上記で算出した末端基、水素アルキル単位、ジアルキルシロキシ単位の存在率を考慮した平均的式量で除して平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する各単位の全モル数を算出する。得られた平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する各単位の全モル数と、該各単位の存在率とから、平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成する各単位のモル数を算出することができる。   The number average molecular weight obtained by GPC measurement of the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) is the molecular weight per mole of the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1). Each unit constituting the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) divided by the average formula amount considering the abundance of the terminal group, hydrogen alkyl unit and dialkylsiloxy unit calculated above The total number of moles of is calculated. The block represented by the average composition formula (1) from the total number of moles of each unit constituting the block type organohydrogen silicone represented by the obtained average composition formula (1) and the abundance of each unit. The number of moles of each unit constituting 1 mol of the type organohydrogensilicone can be calculated.

なお、平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの数平均分子量は、クロロホルムを溶離液として、分子量既知の単分散ポリポリスチレン標準物質、及びスチレンモノマー(分子量104)を標準物質とするゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定によって得られる値である。具体的には、RI検出による溶出時間から求めた検量線を予め作成し、測定試料溶液の溶出時間と検出強度から、上記の検量線を用いて算出された数平均分子量のことをさす。   The number average molecular weight of the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) is a monodisperse polypolystyrene standard substance having a known molecular weight and styrene monomer (molecular weight 104) as a standard substance with chloroform as an eluent. Is a value obtained by gel permeation chromatography (GPC) measurement. Specifically, a calibration curve obtained from the elution time by RI detection is prepared in advance, and the number average molecular weight calculated using the above calibration curve from the elution time and detection intensity of the measurement sample solution.

有機基Rとしては、本発明のエポキシ変性シリコーンの耐光性が良好となる、或いは、保存時の安定性が高まることから、平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全Si単位の合計モル数に対する鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる炭素−炭素2重結合炭化水素単位、ヒドロキシル単位、アルコキシ単位、アシル単位、カルボキシル単位、アルケニルオキシ単位、アシルオキシ単位、ハロゲン原子、或いは、エステル結合、更には、酸素及び珪素を除くヘテロ原子を含有する有機基が結合した珪素原子の合計モル数が、好ましくは30%以下、更に好ましくは10%以下、より好ましくは1%以下、特に好ましくは全く含まないように選択される。 As the organic group R 1 , the light resistance of the epoxy-modified silicone of the present invention is improved, or the stability during storage is increased, so that the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) is used. Carbon-carbon double bond hydrocarbon unit, hydroxyl unit, alkoxy unit, acyl unit, carboxyl unit, alkenyloxy unit, acyloxy unit selected from a chain, branched and cyclic structure group with respect to the total number of moles of all Si units The total number of moles of silicon atoms bonded with halogen atoms or ester bonds, and further organic groups containing hetero atoms other than oxygen and silicon are preferably 30% or less, more preferably 10% or less, more preferably Is selected to be 1% or less, particularly preferably not contained at all.

更に、有機基Rが、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる炭化水素単位を有する炭素数が1以上20以下及び酸素数が1以下からなる飽和の1価の脂肪族有機基、なる群から選択されることが望ましい。この様な有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、等の炭化水素から成る鎖状の有機基、シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、エチニルシクロヘキシル基、ノルボルニル基等の環状単位を含む炭化水素から成る有機基、メトキシエチル、エトキシエチル基等のエーテル結合を含む有機基等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の有機基の混合であってよい。
これらの内、炭化水素から成る鎖状の有機基、環状単位を含む炭化水素から成る有機基が特に望ましい。
Further, the organic group R 1 is saturated having 1 to 20 carbon atoms and 1 or less oxygen atoms having a hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from a chain, branched and cyclic structure group. The monovalent aliphatic organic group is preferably selected from the group consisting of: Examples of such an organic group include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, t-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, and nonyl group. Chain organic groups consisting of hydrocarbons such as decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, etc., cyclopentyl group, methylcyclopentyl group, cyclohexyl group, Examples thereof include an organic group composed of a hydrocarbon containing a cyclic unit such as a methylcyclohexyl group, an ethynylcyclohexyl group and a norbornyl group, and an organic group containing an ether bond such as a methoxyethyl group and an ethoxyethyl group. These may be a mixture of one or more organic groups.
Of these, chain-like organic groups composed of hydrocarbons and organic groups composed of hydrocarbons containing cyclic units are particularly desirable.

有機基Rとしては、本発明のエポキシ変性シリコーンの耐光性が良好となる、或いは、保存時の安定性が高まることから、平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全Si単位の合計モル数に対する鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる炭素−炭素2重結合炭化水素単位、ヒドロキシル単位、アルコキシ単位、アシル単位、カルボキシル単位、アルケニルオキシ単位、アシルオキシ単位、ハロゲン原子、或いは、エステル結合、更には、酸素及び珪素を除くヘテロ原子を含有する有機基が結合した珪素原子の合計モル数が、好ましくは30%以下、更に好ましくは10%以下、より好ましくは1%以下、特に好ましくは全く含まないように選択される。 As the organic group R 1 , the light resistance of the epoxy-modified silicone of the present invention is improved, or the stability during storage is increased, so that the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) is used. Carbon-carbon double bond hydrocarbon unit, hydroxyl unit, alkoxy unit, acyl unit, carboxyl unit, alkenyloxy unit, acyloxy unit selected from a chain, branched and cyclic structure group with respect to the total number of moles of all Si units The total number of moles of silicon atoms bonded with halogen atoms or ester bonds, and further organic groups containing hetero atoms other than oxygen and silicon are preferably 30% or less, more preferably 10% or less, more preferably Is selected to be 1% or less, particularly preferably not contained at all.

更に、有機基Rが、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる炭化水素単位を有する炭素数が1以上20以下及び酸素数が1以下からなる飽和の1価の脂肪族有機基、なる群から選択されることが望ましい。この様な有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、等の炭化水素から成る鎖状の有機基、シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、エチニルシクロヘキシル基、ノルボルニル基等の環状単位を含む炭化水素から成る有機基、メトキシエチル、エトキシエチル基等のエーテル結合を含む有機基等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の有機基の混合であってよい。
これらの内、炭化水素から成る鎖状の有機基、環状単位を含む炭化水素から成る有機基が特に望ましい。
Further, the organic group R 1 is saturated having 1 to 20 carbon atoms and 1 or less oxygen atoms having a hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from a chain, branched and cyclic structure group. The monovalent aliphatic organic group is preferably selected from the group consisting of: Examples of such an organic group include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, t-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, and nonyl group. Chain organic groups consisting of hydrocarbons such as decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, etc., cyclopentyl group, methylcyclopentyl group, cyclohexyl group, Examples thereof include an organic group composed of a hydrocarbon containing a cyclic unit such as a methylcyclohexyl group, an ethynylcyclohexyl group and a norbornyl group, and an organic group containing an ether bond such as a methoxyethyl group and an ethoxyethyl group. These may be a mixture of one or more organic groups.
Of these, chain-like organic groups composed of hydrocarbons and organic groups composed of hydrocarbons containing cyclic units are particularly desirable.

本発明のエポキシ変性シリコーンは、平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンに対し、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)を含むビニル化合物(b)を付加して得られるエポキシ変性シリコーンであり、該エポキシ変性シリコーンの1次構造は(i)炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物を含むビニル化合物が付加したシロキサンのブロック単位と、(ii)(R SiO2/2)構造を有するシロキサンブロック単位とを有するブロック型構造をとなる。このため、ビニル化合物に占める炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物の割合によっては、得られたエポキシ変性シリコーンが白濁する場合がある。エポキシ変性シリコーンの透明性を向上させる上で、平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンにおける鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる炭化水素単位を有する炭素数が5以上20以下の1価の脂肪族有機基である有機基Rの数が、平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全Si単位の合計モル数に対して、5%以上であることが好ましく、10%以上であることがより好ましく、15%以上であることが更に好ましい。 The epoxy-modified silicone of the present invention comprises a vinyl compound (b) containing a compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group with respect to the block-type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1). An epoxy-modified silicone obtained by addition, the primary structure of the epoxy-modified silicone is (i) a block unit of siloxane to which a vinyl compound containing a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is added; And a siloxane block unit having a (R 1 2 SiO 2/2 ) structure. For this reason, the obtained epoxy-modified silicone may become cloudy depending on the proportion of the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group in the vinyl compound. In order to improve the transparency of the epoxy-modified silicone, the block-type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) has at least one structure selected from a chain, branched, and cyclic structure group. The total number of Si units in the block-type organohydrogensilicone in which the number of organic groups R 1 , which is a monovalent aliphatic organic group having 5 to 20 carbon atoms and having a hydrocarbon unit, is represented by the average composition formula (1) The total number of moles is preferably 5% or more, more preferably 10% or more, and even more preferably 15% or more.

一方、ヒドロシリル化反応を安定的に、再現性よく完結させる上で、前記の鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる炭化水素単位を有する炭素数が5以上20以下の1価の脂肪族有機基である有機基Rの数が、平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全Si単位の合計モル数に対して、95%以下であることが好ましく、90%以下であることがより好ましく、85%以下であることが更に好ましい。
更に、前記の鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる炭化水素単位を有する炭素数が5以上20以下の1価の脂肪族有機基である有機基Rが、1価の脂環式単位である場合には、耐光性が向上することから、特に好ましく用いられる。このような、1価の脂環式単位としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
On the other hand, in order to complete the hydrosilylation reaction stably and with good reproducibility, the number of carbon atoms having 5 or more hydrocarbon units composed of one or more structures selected from the chain, branched and cyclic structure groups is 5 The number of organic groups R 1 , which is a monovalent aliphatic organic group of 20 or less, is 95 with respect to the total number of moles of all Si units of the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1). % Or less, more preferably 90% or less, and even more preferably 85% or less.
Furthermore, the organic group R which is a monovalent aliphatic organic group having 5 to 20 carbon atoms and having a hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the chain, branched and cyclic structure groups. When 1 is a monovalent alicyclic unit, it is particularly preferably used because light resistance is improved. Examples of such monovalent alicyclic units include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group.

本発明において用いられる平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの製造方法には特に限定はなく、従来公知の方法を利用することが可能である。
例えば、[A−1]少なくともジアルキルシロキシ単位を有するポリジアルキルシロキサン(a−1)と少なくとも水素アルキルシロキシ単位を有するポリ水素アルキルシロキサン(a−2)とを、従来公知の触媒存在下、必要に応じて溶媒及び/又はヘキサメチルジシロキサン、1,1,3,3−ヘキサメチルジシロキサン等に代表される末端封止剤存在下で、所定の平均連鎖長を有するように平衡化反応に供することにより製造する方法が挙げられる。
The production method of the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) used in the present invention is not particularly limited, and a conventionally known method can be used.
For example, [A-1] a polydialkylsiloxane (a-1) having at least a dialkylsiloxy unit and a polyhydrogenalkylsiloxane (a-2) having at least a hydrogenalkylsiloxy unit are required in the presence of a conventionally known catalyst. Depending on the solvent, and / or in the presence of a terminal blocking agent typified by hexamethyldisiloxane, 1,1,3,3-hexamethyldisiloxane, etc., it is subjected to an equilibration reaction so as to have a predetermined average chain length. The method of manufacturing by this is mentioned.

また、例えば、別な方法[A−2]として、末端に水酸基を有し、且つ、平均連鎖長が3以上100以下である(R SiO2/2)単位を含むポリジアルキルシロキサン(a−3)と、末端に水酸基を有し、且つ、平均連鎖長が2以上20以下である(RHSiO2/2)単位を含むポリ水素アルキルシロキサン(a−4)とを、従来公知の触媒存在下、必要に応じて溶媒存在下で、重縮合すること、或いは、該重縮合物を、引き続き、従来公知の触媒存在下、前記の末端封止剤存在下で末端を封止することも可能である。
前記の(a−1)〜(a−4)は、例えば、以下の方法により製造することができる。
Further, for example, as another method [A-2], a polydialkylsiloxane (a) having a (R 1 2 SiO 2/2 ) unit having a hydroxyl group at the terminal and an average chain length of 3 or more and 100 or less. -3) and a polyhydrogenalkylsiloxane (a-4) containing a (R 1 HSiO 2/2 ) unit having a hydroxyl group at the terminal and an average chain length of 2 to 20, Polycondensation in the presence of a catalyst, if necessary in the presence of a solvent, or the polycondensate is subsequently capped in the presence of the above-mentioned end capping agent in the presence of a conventionally known catalyst. Is also possible.
Said (a-1)-(a-4) can be manufactured with the following method, for example.

前記の(a−1)は、例えば、無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群か ら選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素 数が0以上5以下の1価又は2価の脂肪族有機基、或いは、無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、からなる群から選ばれる同種又は異種の2つの有機基と、2つのアルコキシ基とが珪素原子に結合したアルコキシシラン類及び/又は前記の2つのアルコキシ基の代わりに2つの塩素原子が珪素原子に結合したクロロシラン類を、従来公知の触媒存在下、或いは非存在下で加水分解後、必要に応じて重縮合することによって得ることが可能である。
上記の加水分解を行う際には、必要に応じて、[A−1]記載の反応によって得られるオルガノハイドロジェンシリコーンが、本願発明を逸脱しない範囲となる量の下記1)〜3)を共存させることも可能である。
1)無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価又は2価の脂肪族有機基、或いは、無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、からなる群から選ばれる同種又は異種の3つの有機基と、1つのアルコキシ基とが珪素原子に結合したアルコキシシラン類、及び/又は前記の1つのアルコキシ基の代わりに1つの塩素原子が珪素原子に結合したクロロシラン類。
2)テトラアルコキシシラン及び/又はテトラクロロシラン。
上記の加水分解によって得られた、或いは、加水分解後に重縮合して得られた、少なくとも水素アルキルシロキシ単位を有するポリ水素アルキルシロキサンは、引き続き、従来公知の触媒存在下、前記の末端封止剤存在下で末端を封止されたものであってもよい。
また、前記の加水分解によって得られた、或いは、加水分解後に重縮合して得られた、少なくともジアルキルシロキシ単位を有するポリジアルキルシロキサンを、引き続き、従来公知の触媒存在下、ヘキサメチルジシロキサン、1,1,3,3−ヘキサメチルジシロキサン等に代表される末端封止剤存在下で末端を封止することも可能である。
The above (a-1) has, for example, an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from an unsubstituted or substituted chain, branched, and cyclic structure group, and has a carbon number. A monovalent or divalent aliphatic organic group having 1 to 24 and an oxygen number of 0 to 5 or an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, which is unsubstituted or substituted as necessary. A monovalent fragrance having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of chain, branched and cyclic structures, having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms Alkoxysilanes in which two organic groups of the same or different types selected from the group consisting of group organic groups and two alkoxy groups are bonded to silicon atoms and / or two chlorine atoms instead of the two alkoxy groups. Is bonded to a silicon atom. Silanes, conventionally known catalyst presence, or after the hydrolysis in the absence, it can be obtained by polycondensation as needed.
When performing the above hydrolysis, the organohydrogensilicone obtained by the reaction described in [A-1] coexists with the following 1) to 3) in an amount that does not depart from the present invention. It is also possible to make it.
1) having 1 to 24 carbon atoms and 0 or more oxygen atoms having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from a structure group consisting of unsubstituted, substituted, branched, and cyclic structures 5 or less monovalent or divalent aliphatic organic group, or an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, which is composed of a chain, a branched chain or a ring which is unsubstituted or substituted as necessary. Selected from the group consisting of monovalent aromatic organic groups having an aliphatic hydrocarbon unit composed of at least one structure selected from the structural group and having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms Alkoxysilanes in which three organic groups of the same or different types and one alkoxy group are bonded to a silicon atom, and / or chlorosilanes in which one chlorine atom is bonded to a silicon atom instead of the one alkoxy group.
2) Tetraalkoxysilane and / or tetrachlorosilane.
A polyhydrogenalkylsiloxane having at least a hydrogen alkylsiloxy unit obtained by the above hydrolysis or obtained by polycondensation after the hydrolysis is continuously produced in the presence of a conventionally known catalyst. The terminal may be sealed in the presence.
Further, polydialkylsiloxane having at least a dialkylsiloxy unit obtained by the above-mentioned hydrolysis or obtained by polycondensation after hydrolysis is subsequently converted into hexamethyldisiloxane, 1 in the presence of a conventionally known catalyst. It is also possible to seal the terminal in the presence of a terminal blocking agent typified by 1,3,3-hexamethyldisiloxane.

別な方法として、例えば、無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価又は2価の脂肪族有機基、或いは、無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、からなる群から選ばれる同種又は異種の有機基が珪素原子に少なくとも2個以上結合した構造を有する環状シロキサン類を、従来公知の触媒、並びに、水、アルコール類、前記の末端封止剤、なる群から選ばれる1種以上の化合物の存在下、必要に応じて溶媒の存在下で、開環することにより製造することも可能である。
上記の開環反応を行う際には、必要に応じて、[A−1]記載の反応によって得られるオルガノハイドロジェンシリコーンが、本願発明を逸脱しない範囲となる量の下記3)、4)を共存させることも可能である。
3)無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価又は2価の脂肪族有機基、或いは、無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、からなる群から選ばれる同種又は異種の3つの有機基と、1つのアルコキシ基とが珪素原子に結合したアルコキシシラン類。
4)テトラアルコキシシラン。
上記の開環反応を、水存在下で実施することにより、少なくともジアルキルシロキシ単位を有するポリジアルキルシロキサンを製造した場合には、引き続き、従来公知の触媒存在下、前記の末端封止剤存在下で末端を封止することも可能である。
Another method is, for example, having an aliphatic hydrocarbon unit having one or more structures selected from the group consisting of unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic, and having 1 to 24 carbon atoms and A monovalent or divalent aliphatic organic group having an oxygen number of 0 or more and 5 or less, or an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit which is optionally substituted or substituted in a chain or branched form A monovalent aromatic organic group having an aliphatic hydrocarbon unit consisting of one or more structures selected from a structural group consisting of a ring and a ring, having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms, A group consisting of a cyclic siloxane having a structure in which at least two of the same or different organic groups selected from the group are bonded to a silicon atom, a conventionally known catalyst, and water, alcohols, and the above end-capping agent. 1 or more types selected from Presence of the compound, in the presence of a solvent, if necessary, can be prepared by ring opening.
When carrying out the above ring-opening reaction, the following 3) and 4) in an amount in which the organohydrogensilicone obtained by the reaction described in [A-1] does not depart from the present invention, if necessary. It is possible to coexist.
3) having 1 to 24 carbon atoms and 0 or more oxygen atoms having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of unsubstituted, substituted chain, branched and cyclic structures 5 or less monovalent or divalent aliphatic organic group, or an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, which is composed of a chain, a branched chain or a ring which is unsubstituted or substituted as necessary. Selected from the group consisting of monovalent aromatic organic groups having an aliphatic hydrocarbon unit composed of at least one structure selected from the structural group and having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms Alkoxysilanes in which three organic groups of the same or different types and one alkoxy group are bonded to a silicon atom.
4) Tetraalkoxysilane.
In the case where a polydialkylsiloxane having at least a dialkylsiloxy unit is produced by carrying out the ring-opening reaction in the presence of water, the reaction is continued in the presence of the above-mentioned end-capping agent in the presence of a conventionally known catalyst. It is also possible to seal the ends.

前記の(a−2)は、例えば、無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価又は2価の脂肪族有機基、或いは、無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、からなる群から選ばれる1つの有機基と1つの水素原子、並びに、2つのアルコキシ基とが珪素原子に結合したアルコキシシラン類、及び/又は前記の2つのアルコキシ基の代わりに塩素原子が珪素原子に結合したクロロシラン類を従来公知の触媒存在下、或いは非存在下で加水分解後、必要に応じて重縮合することによって得ることが可能である。上記の加水分解を行う際には、必要に応じて、本願発明を逸脱しない範囲の量の下記5)〜7)を共存させることも可能である。
5)無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価又は2価の脂肪族有機基、或いは、無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、からなる群から選ばれる同種又は異種の2つの有機基と1つの水素原子、並びに、1つのアルコキシ基とが珪素原子に結合したアルコキシシラン類、及び/又は前記の1つのアルコキシ基の代わりに1つの塩素原子が珪素原子に結合したクロロシラン類。
6)テトラアルコキシシラン及び/又はテトラクロロシラン。
上記の加水分解によって得られた、或いは、加水分解後に重縮合して得られた、少なくとも水素アルキルシロキシ単位を有するポリ水素アルキルシロキサンは、引き続き、従来公知の触媒存在下、ヘキサメチルジシロキサン、1,1,3,3−ヘキサメチルジシロキサン等に代表される末端封止剤存在下で末端を封止されたものであってもよい。
The above (a-2) has, for example, an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from a structural group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic structure, and a carbon number of 1 A monovalent or divalent aliphatic organic group having 24 or less and an oxygen number of 0 or more and 5 or less, or an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, which is unsubstituted or substituted as necessary. Monovalent aromatic having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from a chain, branched and cyclic structure group One organic group selected from the group consisting of an organic group, one hydrogen atom, and alkoxysilanes in which two alkoxy groups are bonded to a silicon atom, and / or a chlorine atom instead of the two alkoxy groups. Are bonded to silicon atoms. Roshiran such conventionally known catalyst presence, or after the hydrolysis in the absence, it can be obtained by polycondensation as needed. When performing the above hydrolysis, the following 5) to 7) in an amount not departing from the present invention can be allowed to coexist if necessary.
5) having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic structure, having 1 to 24 carbon atoms and 0 or more oxygen atoms 5 or less monovalent or divalent aliphatic organic group, or an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, which is composed of a chain, a branched chain or a ring which is unsubstituted or substituted as necessary. Selected from the group consisting of monovalent aromatic organic groups having an aliphatic hydrocarbon unit composed of at least one structure selected from the structural group and having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms Alkoxysilanes in which two organic groups of the same or different types and one hydrogen atom and one alkoxy group are bonded to a silicon atom, and / or one chlorine atom is a silicon atom instead of the one alkoxy group Chloro bound to Orchids.
6) Tetraalkoxysilane and / or tetrachlorosilane.
The polyhydrogenalkylsiloxane having at least a hydrogen alkylsiloxy unit obtained by the above hydrolysis or obtained by polycondensation after the hydrolysis continues to be hexamethyldisiloxane, 1 in the presence of a conventionally known catalyst. , 1,3,3-hexamethyldisiloxane and the like may be sealed at the end in the presence of a terminal blocking agent.

別な方法として、例えば、無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価又は2価の脂肪族有機基、或いは、無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、からなる群から選ばれる1つの有機基と1つの水素原子とが珪素原子に結合した水素アルキルシロキシ単位からなる環状シロキサン類を、従来公知の触媒、並びに、水、アルコール類、前記の末端封止剤なる群から選ばれる1種以上の化合物の存在下、必要に応じて溶媒の存在下で、開環することにより製造することも可能である。
上記の開環反応を行う際には、必要に応じて、[A−1]記載の反応によって得られるオルガノハイドロジェンシリコーンが、本願発明を逸脱しない範囲となる量の下記7)、8)を共存させることも可能である。
7)無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価又は2価の脂肪族有機基、或いは、無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、からなる群から選ばれる同種又は異種の2つの有機基と1つの水素原子、並びに、1つのアルコキシ基とが珪素原子に結合したアルコキシシラン類。
8)テトラアルコキシシラン。
上記の開環反応を、水存在下で実施することにより、少なくとも水素アルキルシロキシ単位を有するポリ水素アルキルシロキサンを製造した場合には、引き続き、従来公知の触媒存在下、前記の末端封止剤存在下で末端を封止することも可能である。
Another method is, for example, having an aliphatic hydrocarbon unit having one or more structures selected from the group consisting of unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic, and having 1 to 24 carbon atoms and A monovalent or divalent aliphatic organic group having an oxygen number of 0 or more and 5 or less, or an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit which is optionally substituted or substituted in a chain or branched form A monovalent aromatic organic group having an aliphatic hydrocarbon unit consisting of one or more structures selected from a structural group consisting of a ring and a ring, having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms, A cyclic siloxane comprising a hydrogen alkylsiloxy unit in which one organic group selected from the group and one hydrogen atom are bonded to a silicon atom, a conventionally known catalyst, water, alcohols, and the above end-capping agent Chosen from the group The presence of one or more compounds, in the presence of a solvent, if necessary, can be prepared by ring opening.
When carrying out the above ring-opening reaction, the following 7) and 8) in an amount in which the organohydrogensilicone obtained by the reaction described in [A-1] does not depart from the present invention, if necessary. It is possible to coexist.
7) having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from a structure group consisting of unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic, having 1 to 24 carbon atoms and 0 or more oxygen atoms 5 or less monovalent or divalent aliphatic organic group, or an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, which is composed of a chain, a branched chain or a ring which is unsubstituted or substituted as necessary. Selected from the group consisting of monovalent aromatic organic groups having an aliphatic hydrocarbon unit composed of at least one structure selected from the structural group and having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms Alkoxysilanes in which two organic groups of the same or different types, one hydrogen atom, and one alkoxy group are bonded to a silicon atom.
8) Tetraalkoxysilane.
In the case where a polyhydrogenalkylsiloxane having at least a hydrogen alkylsiloxy unit is produced by carrying out the above ring-opening reaction in the presence of water, the presence of the above-mentioned end capping agent is continued in the presence of a conventionally known catalyst. It is also possible to seal the ends underneath.

前記の(a−3)は、例えば、無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価又は2価の脂肪族有機基、或いは、無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、からなる群から選ばれる同種又は異種の2つの有機基を有するアルコキシシラン類及び/又はクロロシラン類を触媒存在下、或いは非存在下で加水分解後、必要に応じて重縮合する方法によって得ることが可能である。
上記の加水分解を行う際には、必要に応じて、得られるポリジアルキルシロキサンのジアルキルシロキシ単位の平均連鎖長が3以上100以下の範囲となる量の前記の1)、2)を共存させることも可能である。
The above (a-3) has, for example, an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from a structural group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic structure, and a carbon number of 1 A monovalent or divalent aliphatic organic group having 24 or less and an oxygen number of 0 or more and 5 or less, or an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, which is unsubstituted or substituted as necessary. Monovalent aromatic having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from a chain, branched and cyclic structure group By hydrolyzing alkoxysilanes and / or chlorosilanes having two organic groups of the same kind or different kinds selected from the group consisting of organic groups in the presence or absence of a catalyst, and then by polycondensation as necessary Is possible to get
When performing the above hydrolysis, if necessary, the above 1) and 2) in such an amount that the average chain length of the dialkylsiloxy unit of the polydialkylsiloxane obtained is in the range of 3 or more and 100 or less are allowed to coexist. Is also possible.

また、別な方法として、例えば、無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価又は2価の脂肪族有機基、或いは、無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、からなる群から選ばれる同種又は異種の2つの有機基が珪素原子に結合した構造を有する環状シロキサン類を、従来公知の触媒、並びに、水、アルコール類なる群から選ばれる1種以上の化合物の存在下、必要に応じて溶媒の存在下で、開環することにより製造することも可能である。
上記の開環反応を行う際には、必要に応じて、得られるポリジアルキルシロキサンのジアルキルシロキシ単位の平均連鎖長が3以上100以下の範囲となる量の前記の3)、4)を共存させることも可能である。
Further, as another method, for example, the aliphatic hydrocarbon unit having one or more kinds of structures selected from the structural group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched, and cyclic structure, having 1 to 24 carbon atoms. Or a monovalent or divalent aliphatic organic group having an oxygen number of 0 or more and 5 or less, or an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, which is optionally substituted or unsubstituted chain A monovalent aromatic organic group having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms, which has an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of branched and cyclic structures A cyclic siloxane having a structure in which two organic groups of the same or different types selected from the group consisting of are bonded to a silicon atom, a conventionally known catalyst, and one or more compounds selected from the group consisting of water and alcohols In the presence of In the presence of a solvent Te, it can be prepared by ring opening.
When performing the above ring-opening reaction, the above 3) and 4) in an amount such that the average chain length of the dialkylsiloxy units of the obtained polydialkylsiloxane is in the range of 3 to 100 is coexisted as necessary. It is also possible.

前記の(a−4)は、例えば、無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価又は2価の脂肪族有機基、或いは、無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、からなる群から選ばれる1つの有機基と1つの水素原子、並びに、2つのアルコキシ基とが珪素原子に結合したアルコキシシラン類、及び/又は前記の2つのアルコキシ基の代わりに塩素原子が珪素原子に結合したクロロシラン類を従来公知の触媒存在下、或いは非存在下で加水分解後、必要に応じて重縮合することによって得ることが可能である。
上記の加水分解を行う際には、必要に応じて、得られるポリ水素アルキルシロキサンの水素アルキルシロキシ単位の平均連鎖長が2以上20以下の範囲となる量の前記の5)、6)を共存させることも可能である。
The above (a-4) has, for example, an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from a structural group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic structure, and a carbon number of 1 A monovalent or divalent aliphatic organic group having 24 or less and an oxygen number of 0 or more and 5 or less, or an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, which is unsubstituted or substituted as necessary. Monovalent aromatic having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from a chain, branched and cyclic structure group One organic group selected from the group consisting of an organic group, one hydrogen atom, and alkoxysilanes in which two alkoxy groups are bonded to a silicon atom, and / or a chlorine atom instead of the two alkoxy groups. Are bonded to silicon atoms. Roshiran such conventionally known catalyst presence, or after the hydrolysis in the absence, it can be obtained by polycondensation as needed.
When performing the above hydrolysis, if necessary, coexistence of 5) and 6) in an amount such that the average chain length of the hydrogen alkylsiloxy unit of the resulting polyhydrogenalkylsiloxane is in the range of 2 to 20 inclusive. It is also possible to make it.

また、別な方法として、例えば、無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価又は2価の脂肪族有機基、或いは、無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、からなる群から選ばれる1つの有機基と、1つの水素原子とが珪素原子に結合した水素アルキルシロキシ単位からなる環状シロキサン類を、従来公知の触媒、並びに、水、アルコール類なる群から選ばれる1種以上の化合物の存在下、必要に応じて溶媒の存在下で、開環することにより製造することも可能である。
上記の開環反応を行う際には、必要に応じて、得られるポリ水素アルキルシロキサンの水素アルキルシロキシ単位の平均連鎖長が2以上20以下の範囲となる量の前記の7)、8)を共存させることも可能である。
Further, as another method, for example, the aliphatic hydrocarbon unit having one or more kinds of structures selected from the structural group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched, and cyclic structure, having 1 to 24 carbon atoms. Or a monovalent or divalent aliphatic organic group having an oxygen number of 0 or more and 5 or less, or an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, which is optionally substituted or unsubstituted chain A monovalent aromatic organic group having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms, which has an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of branched and cyclic structures And a cyclic siloxane composed of a hydrogen alkylsiloxy unit in which one organic group selected from the group consisting of and one hydrogen atom bonded to a silicon atom is selected from the group consisting of conventionally known catalysts and water and alcohols. One or more Presence of the compound, in the presence of a solvent, if necessary, can be prepared by ring opening.
When carrying out the above ring-opening reaction, the above 7) and 8) in an amount such that the average chain length of the hydrogen alkylsiloxy units of the resulting polyhydrogenalkylsiloxane is in the range of 2 to 20, if necessary. It is possible to coexist.

上記の方法等で製造されたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中には、該ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを製造する際に用いられた触媒が残留する場合がある。該触媒がブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に残留している場合には、前記の副生する環状物等を加熱減圧条件等に供することにより除去する及び/又は前記の脱溶媒操作を行う際や、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの保存中に、シリコーンの平衡化反応が進行する場合がある。本願発明のブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを安定的に製造するためには、[A−1]又は[A−2]の後に該触媒を固液分離、中和、水洗等から選ばれる1種以上の操作によって除去、或いは、失活しておくことが好ましい。   In the block-type organohydrogensilicone produced by the above method or the like, the catalyst used in producing the block-type organohydrogensilicone may remain. When the catalyst remains in the block-type organohydrogensilicone, the cyclic product formed as a by-product is removed by subjecting it to a heat-reduced pressure condition and / or the like and / or the desolvation operation is performed. In some cases, the equilibration reaction of the silicone may proceed during storage of the block type organohydrogen silicone. In order to stably produce the block-type organohydrogensilicone of the present invention, one or more kinds selected from solid-liquid separation, neutralization, water washing and the like after [A-1] or [A-2]. It is preferable to remove or deactivate by this operation.

上記の[A−1]又は[A−2]の反応に引き続いて、環状物や、余剰の末端封止剤等を分離、或いは、低減する操作を行うこともできる。また、前記[A−1]又は[A−2]の反応を行う際に溶媒を用いた場合には、引き続いて、溶媒を分離、或いは、低減する操作を行うこともできる。前記の環状物や、余剰の末端封止剤等を分離、或いは、低減する操作と溶媒を分離、或いは、低減する操作とは、同時、或いは、組み合わせて行うことも当然可能である。   Subsequent to the reaction of [A-1] or [A-2] described above, an operation for separating or reducing a cyclic product, an excessive end-capping agent, or the like can also be performed. In addition, when a solvent is used when the reaction [A-1] or [A-2] is performed, an operation for separating or reducing the solvent can be performed subsequently. Of course, the operation for separating or reducing the above-mentioned annular product, excess terminal blocking agent and the like and the operation for separating or reducing the solvent can be performed simultaneously or in combination.

前記の環状物や、余剰の末端封止剤等や、溶媒を分離、或いは、低減する方法は、本発明の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンが得られれば特に限定はなく、例えば、環状物や、余剰の末端封止剤等や、溶媒を留去する方法、或いは、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンが高い揮発性を有する化合物の場合、蒸留によりブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを分離回収する方法、等が挙げられる。この際、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンと前記の環状物や、余剰の末端封止剤等や、溶媒との分離は、同時に行う方法、前記の環状物や、余剰の末端封止剤等や、溶媒とを各々個別に分離する方法、或いは、これらを混合した方法によって実施してもよい。更に、前記の分離操作は、一度に実施することも、或いは、同一又は異なる条件にて繰り返し実施することも可能である。   The method for separating or reducing the cyclic product, excess end-capping agent, etc., or the solvent is particularly suitable if the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) of the present invention is obtained. There is no limitation, for example, in the case of a cyclic product, an excess end-capping agent, a method of distilling off the solvent, or in the case where the block type organohydrogen silicone is a highly volatile compound, the block type organohydro For example, a method for separating and recovering gen-silicone. At this time, the block-type organohydrogensilicone and the cyclic product, excess end-capping agent, etc., separation from the solvent, a method of simultaneously performing, the cyclic product, the surplus end-capping agent, and the like, You may implement by the method of isolate | separating each from a solvent separately, or the method which mixed these. Furthermore, the separation operation can be performed at once, or can be performed repeatedly under the same or different conditions.

前記の環状物や、余剰の末端封止剤等や、溶媒とを分離する際の雰囲気は、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、炭酸ガス等の不活性ガス、炭素数1以上4以下の低級飽和炭化水素系ガス、空気なる群から選ばれる少なくとも1種のガスの雰囲気下、流通下、減圧下又は加圧下、バブリング下、或いは、これらを組み合わせた条件下で行うことができる。これらのガスは、一種又は二種以上の混合ガスとして用いることができる。これらの内、好ましいガスは、前記不活性ガス、炭素数1以上4以下の低級飽和炭化水素系ガスであり、更に好ましくは、前記不活性ガスであり、より好ましくは窒素である。   The atmosphere at the time of separating the cyclic product, excess end-capping agent, etc., and the solvent is inert gas such as nitrogen, helium, neon, argon, krypton, xenon, carbon dioxide, carbon number of 1 or more and 4 It can be performed under an atmosphere of at least one gas selected from the group consisting of the following lower saturated hydrocarbon gases and air, under circulation, under reduced pressure or under pressure, under bubbling, or under a combination of these. These gases can be used as one kind or a mixture of two or more kinds. Among these, a preferable gas is the inert gas, a lower saturated hydrocarbon gas having 1 to 4 carbon atoms, more preferably the inert gas, and more preferably nitrogen.

前記の環状物や、余剰の末端封止剤等や、溶媒とを分離する際の温度は、環状物や、余剰の末端封止剤等や、溶媒を分離し、且つ、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの変性を抑制する上で、好ましくは0℃以上400℃以下の範囲、好ましくは5℃以上350℃以下の範囲、より好ましくは30℃以上320℃以下の範囲である。前記範囲内であれは、温度は一定の温度である必要はなく、途中で温度を変化させることも可能である。   The temperature at the time of separating the cyclic product, the excess end-capping agent, etc., and the solvent is such that the cyclic product, the excess end-capping agent, etc., the solvent are separated, and the block type organohydrogen is separated. In order to suppress silicone modification, it is preferably in the range of 0 ° C. or higher and 400 ° C. or lower, preferably in the range of 5 ° C. or higher and 350 ° C. or lower, more preferably in the range of 30 ° C. or higher and 320 ° C. or lower. Within the above range, the temperature does not have to be constant, and can be changed midway.

前記の環状物や、余剰の末端封止剤等や、溶媒とを分離する工程には、環状物や、余剰の末端封止剤等や、溶媒の含有量が低減して粘度が上昇した場合においても、効率的に環状物や、余剰の末端封止剤等や、溶媒を分離し得る装置を用いることが好ましい。この様な装置としては、例えば、竪型撹拌槽、表面更新型撹拌槽反応器、表面更新型二軸混練反応器、二軸横型撹拌反応器、濡れ壁式反応器、自由落下型の多孔板型反応器、支持体に沿わせて化合物を落下させながら揮発成分を留去させる反応器等が挙げられる。これらの装置は、1種又は2種以上を組み合わせて用いることも可能である。   In the step of separating the cyclic product, excess end-capping agent, etc., and the solvent, the cyclic product, excessive end-capping agent, etc., when the solvent content is reduced and the viscosity is increased However, it is preferable to use a device that can efficiently separate a ring, an excess end-capping agent, and the like, and a solvent. Examples of such devices include vertical stirring tanks, surface renewal stirring tank reactors, surface renewal biaxial kneading reactors, biaxial horizontal stirring reactors, wet wall reactors, free fall perforated plates Examples thereof include a type reactor, and a reactor in which volatile components are distilled off while dropping a compound along a support. These apparatuses can be used alone or in combination of two or more.

上記の方法等により、環状物や、余剰の末端封止剤等の含有量が低減された平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを得ることができる。本発明の方法によって得られるエポキシ変性シリコーンを用いて硬化物を作成する際に、用いられる硬化剤との相溶性が高まり硬化操作が容易になることから、平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含有される分子量1,000以下の成分の量を15%以下とすることが好ましく、10%以下とすることがより好ましく、5%以下とすることが更に好ましい。   By the above method or the like, it is possible to obtain a block type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) in which the content of the cyclic product, the excess end-capping agent and the like is reduced. When a cured product is produced using the epoxy-modified silicone obtained by the method of the present invention, the compatibility with the curing agent used is increased and the curing operation is facilitated, and therefore, it is represented by the average composition formula (1). The amount of the component having a molecular weight of 1,000 or less contained in the block type organohydrogen silicone is preferably 15% or less, more preferably 10% or less, and still more preferably 5% or less.

ここで、平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれる分子量1,000以下の成分の含有量について説明する。本発明の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれる分子量1,000以下の成分の含有量は、単分散ポリスチレンを標準物質とするゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定によって得られる溶出曲線において、平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの溶出開始点と溶出終了点を結んで得られる該溶出ピーク面積(ピーク面積1)に対する、該溶出ピーク面積の内の標準物質から算出される分子量1,000以下に相当するピークの面積(ピーク面積2)の比率を百分率で表した数値[すなわち、(ピーク面積2)/(ピーク面積1)×100(%)で表される数値]のことをさす。   Here, the content of the component having a molecular weight of 1,000 or less contained in the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) will be described. The content of the component having a molecular weight of 1,000 or less contained in the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) of the present invention is determined by gel permeation chromatography (GPC) using monodisperse polystyrene as a standard substance. ) In the elution curve obtained by the measurement, the elution peak area (peak area 1) obtained by connecting the elution start point and elution end point of the block type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) A numerical value expressed as a percentage of the peak area (peak area 2) corresponding to a molecular weight of 1,000 or less calculated from the standard substance in the eluted peak area [ie, (peak area 2) / (peak area 1)] X100 (%)].

本発明は、平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位に対し、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)を含むビニル化合物(b)をヒドロシリル化反応により付加してエポキシ変性シリコーンを製造する方法に関わるものである。本発明では、ビニル化合物(b)の全部が炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)であってもよく、また、ビニル化合物(b)の一部が炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)であってもよい。   In the present invention, a vinyl compound (b) containing a compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is hydrosilylated with respect to the SiH unit of the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1). The present invention relates to a method for producing an epoxy-modified silicone by addition by a oxidization reaction. In the present invention, all of the vinyl compound (b) may be a compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, and a part of the vinyl compound (b) is a carbon-carbon double bond. And a compound (a) having an epoxy group.

本発明において用いることができる炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)には特に限定はなく、例えば、エポキシ基及び炭素−炭素2重結合を必須構成単位として有する、無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数が3以上24以下及び酸素数が0以上5以下の化合物が例示できる。この様な化合物としては、例えば、ビニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、2−メチルアリルグリシジルエーテル、ブテニルグリシジルエーテル、1,2−エポキシ−3−ブテン、1,2−エポキシ−4−ペンテン、1,2−エポキシ−5−ヘキセン、1,2−エポキシ−6−ヘプテン、1,2−エポキシ−7−オクテン、1,2−エポキシ−8−ノネン、1,2−エポキシ−9−デセン、1,2−エポキシ−10−ウンデセン、1,2−エポキシ−11−ドデセン、1,2−エポキシ−12−トリデセン、1,2−エポキシ−13−テトラデセン、1,2−エポキシ−14−ペンタデセン、1,2−エポキシ−15−ヘキサデセン、1,2−エポキシ−16−ヘプタデセン、1,2−エポキシ−17−オクタデセン、1,2−エポキシ−18−ノナデセン、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、4−ビニルシクロへキセンオキサイド、1−メチル−4−イソプロペニルシクロヘキセンオキサイド、1,4−ジメチル−4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、ビニルノルボルネンオキサイド等が挙げられる。これらは1種又は2種以上の混合物として用いることも可能である。更に、光学異性体が存在する場合には、2種以上の混合物として利用することも可能である。   The compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group that can be used in the present invention is not particularly limited. For example, the compound having an epoxy group and a carbon-carbon double bond as essential structural units, unsubstituted or Examples include compounds having 3 to 24 carbon atoms and an oxygen number of 0 to 5 and having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from a substituted chain, branched, and cyclic structure group it can. Examples of such compounds include vinyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, 2-methylallyl glycidyl ether, butenyl glycidyl ether, 1,2-epoxy-3-butene, 1,2-epoxy-4-pentene, 1 , 2-epoxy-5-hexene, 1,2-epoxy-6-heptene, 1,2-epoxy-7-octene, 1,2-epoxy-8-nonene, 1,2-epoxy-9-decene, 1, , 2-epoxy-10-undecene, 1,2-epoxy-11-dodecene, 1,2-epoxy-12-tridecene, 1,2-epoxy-13-tetradecene, 1,2-epoxy-14-pentadecene, , 2-epoxy-15-hexadecene, 1,2-epoxy-16-heptadecene, 1,2-epoxy-17-octadecene, 1, -Epoxy-18-nonadecene, glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, 4-vinylcyclohexene oxide, 1-methyl-4-isopropenylcyclohexene oxide, 1,4-dimethyl-4-vinylcyclohexene oxide, vinyl norbornene oxide, etc. . These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds. Furthermore, when an optical isomer exists, it can be used as a mixture of two or more.

これらの内、得られるエポキシ変性シリコーンを硬化させる際の硬化速度が高まる、或いは、エポキシ変性シリコーンを用いて得られた硬化物の耐光性が高まることから、1,2−エポキシ−3−ブテン、1,2−エポキシ−4−ペンテン、1,2−エポキシ−5−ヘキセン、1,2−エポキシ−6−ヘプテン、1,2−エポキシ−7−オクテン、1,2−エポキシ−8−ノネン、1,2−エポキシ−9−デセン、1,2−エポキシ−10−ウンデセン、1,2−エポキシ−11−ドデセン、1,2−エポキシ−12−トリデセン、1,2−エポキシ−13−テトラデセン、1,2−エポキシ−14−ペンタデセン、1,2−エポキシ−15−ヘキサデセン、1,2−エポキシ−16−ヘプタデセン、1,2−エポキシ−17−オクタデセン、1,2−エポキシ−18−ノナデセン及び下記化学式(3)で表される群から選ばれる少なくとも1種の、炭素−炭素2重結合を有するエポキシシクロアルカンを用いることが好ましく、下記化学式(2)で表される群からなる少なくとも1種の、炭素−炭素2重結合を有するエポキシシクロアルカンを用いることが更に好ましい。
CH=CR−EPO・・・(3)
[ただし、Rは水素又は炭素数1以上4以下の鎖状又は分岐状の1価の炭化水素基を表す。また、EPOは炭素数10以下のエポキシシクロアルキル基を表し、炭素数が前記範囲内であれば、鎖状、分岐状の炭化水素基を置換基として有していてもよい。]
Among these, since the curing rate when curing the resulting epoxy-modified silicone is increased, or the light resistance of the cured product obtained using the epoxy-modified silicone is increased, 1,2-epoxy-3-butene, 1,2-epoxy-4-pentene, 1,2-epoxy-5-hexene, 1,2-epoxy-6-heptene, 1,2-epoxy-7-octene, 1,2-epoxy-8-nonene, 1,2-epoxy-9-decene, 1,2-epoxy-10-undecene, 1,2-epoxy-11-dodecene, 1,2-epoxy-12-tridecene, 1,2-epoxy-13-tetradecene, 1,2-epoxy-14-pentadecene, 1,2-epoxy-15-hexadecene, 1,2-epoxy-16-heptadecene, 1,2-epoxy-17-octadecene It is preferable to use at least one epoxycycloalkane having a carbon-carbon double bond selected from the group represented by 1,2-epoxy-18-nonadecene and the following chemical formula (3). It is more preferable to use at least one epoxycycloalkane having a carbon-carbon double bond consisting of the group represented by:
CH 2 = CR 2 -EPO ··· ( 3)
[However, R 2 represents hydrogen or a linear or branched monovalent hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms. EPO represents an epoxycycloalkyl group having 10 or less carbon atoms, and may have a chain or branched hydrocarbon group as a substituent as long as the carbon number is within the above range. ]

化学式(3)で表される化合物としては、例えば、4−ビニルシクロへキセンオキサイド、1−メチル−4−イソプロペニルシクロヘキセンオキサイド、1,4−ジメチル−4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、ビニルノルボルネンオキサイド等が用いられ、更に好ましくは、4−ビニルシクロへキセンオキサイドが用いられる。   Examples of the compound represented by the chemical formula (3) include 4-vinylcyclohexene oxide, 1-methyl-4-isopropenylcyclohexene oxide, 1,4-dimethyl-4-vinylcyclohexene oxide, and vinyl norbornene oxide. More preferably, 4-vinylcyclohexene oxide is used.

ビニル化合物(b)において用いることができる、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)以外のビニル化合物としては、例えば、
(ア)エポキシ基を含有せず、炭素−炭素2重結合を必須構成単位として有する、無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数が3以上24以下及び酸素数が0以上5以下の化合物、
(イ)炭素−炭素2重結合を必須構成単位として有し、無置換又は置換された芳香族炭化水素単位と、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が8以上24以下及び酸素数が0以上5以下の化合物、
(ウ)下記化学式(4)で表される分子内に1個以上の炭素−炭素2重結合を含有するシラン、
CH=CH−SiR ・・・(4)
[但し、Rは各々独立に、a)ハロゲン原子、b)無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数が1以上10以下及び酸素数が0以上5以下の1価の脂肪族有機基、或いは、c)無置換又は置換された芳香族炭化水素単位と、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数が6以上10以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、なる群から選ばれる少なくとも1種以上の有機基を表す。
上記の有機基は、前記の炭素数及び酸素数の範囲内であれば、有機基としてヒドロキシル基、アシル基、アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子を含んでいてもよい。]
Examples of vinyl compounds other than the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group that can be used in the vinyl compound (b) include:
(A) It comprises one or more structures selected from the group consisting of unsubstituted, substituted, chain-like, branched, and cyclic, containing no epoxy group and having a carbon-carbon double bond as an essential constituent unit. A compound having 3 to 24 carbon atoms and an oxygen number of 0 to 5 having an aliphatic hydrocarbon unit,
(A) A structure comprising a carbon-carbon double bond as an essential constituent unit, an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, and an optionally substituted or substituted chain, branched and cyclic structure A compound having an aliphatic hydrocarbon unit having at least one structure selected from the group and having a carbon number of 8 to 24 and an oxygen number of 0 to 5;
(C) a silane containing one or more carbon-carbon double bonds in the molecule represented by the following chemical formula (4);
CH 2 = CH-SiR 3 3 (4)
[However, each R 3 independently represents an aliphatic hydrocarbon unit having at least one structure selected from the group consisting of a) a halogen atom, b) an unsubstituted or substituted chain, branched, and cyclic structure. A monovalent aliphatic organic group having 1 to 10 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms, or c) an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, and optionally substituted or substituted A monovalent fragrance having 6 to 10 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from a chain, branched and cyclic structure group Represents at least one organic group selected from the group consisting of group organic groups.
The organic group may contain a hydroxyl group, an acyl group, an alkenyloxy group, an acyloxy group, or a halogen atom as the organic group as long as it is within the range of the carbon number and the oxygen number. ]

(エ)下記平均組成式(5)で表される分子内に1個以上の炭素−炭素2重結合を含有するシロキサン、
(R SiO1/2)(R SiO2/2)(RSiO3/2)(SiO4/2) ・・(5)
[但し、Rは各々独立に、a)炭素−炭素2重結合、b)炭素数1以上10以下の鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる少なくとも1種以上の構造からなる1価の脂肪族有機基、c)無置換又は置換された芳香族炭化水素単位と、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数6以上10以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基である。ここで、少なくともRの1個以上は炭素−炭素2重結合を有する有機基である。
上記の有機基は、前記の炭素数及び酸素数の範囲内であれば、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アシル基、カルボキシル基、アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、或いは、エステル結合を含んでいてもよい。また、窒素、リン、硫黄等の酸素を除くヘテロ原子を含んでいてもよい。]
等を用いることができる。
(D) Siloxane containing one or more carbon-carbon double bonds in the molecule represented by the following average composition formula (5):
(R 4 3 SiO 1/2 ) p (R 4 2 SiO 2/2 ) q (R 4 SiO 3/2 ) r (SiO 4/2 ) s (5)
[However, each R 4 independently comprises at least one structure selected from a) a carbon-carbon double bond, and b) a chain, branched, and cyclic structure having 1 to 10 carbon atoms. 1 or more types selected from the group consisting of monovalent aliphatic organic groups, c) unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon units, and optionally substituted or substituted chain, branched and cyclic structures It is a monovalent aromatic organic group having 6 to 10 carbon atoms and an oxygen number of 0 to 5 having an aliphatic hydrocarbon unit having the structure: Here, at least one of R 4 is an organic group having a carbon-carbon double bond.
The organic group includes a hydroxyl group, an alkoxy group, an acyl group, a carboxyl group, an alkenyloxy group, an acyloxy group, a halogen atom, or an ester bond as long as it is within the range of the carbon number and the oxygen number. Also good. Moreover, the hetero atom except oxygen, such as nitrogen, phosphorus, and sulfur, may be included. ]
Etc. can be used.

なお、平均組成式(5)中のp、q、r、sは、分子内に1個以上の炭素−炭素2重結合を含有するシロキサン1モル中に存在する各単位のモル数を表し、qは各々0以上の数値、rは各々0以上の数値、sは0以上の数値であり、且つ、p、q、rは同時にゼロとなることはない。
また、上記のq、r、sが各々下記式(13)、式(14)、式(15)を同時に満足する場合には、上記のp、r、sは、式(16)を満足する範囲から選択される数値である。
q≠0 ・・・式(13)
r≠0 ・・・式(14)
s≠0 ・・・式(15)
0≦p≦r+2s+2 ・・・式(16)
In addition, p, q, r, and s in the average composition formula (5) represent the number of moles of each unit present in 1 mole of siloxane containing one or more carbon-carbon double bonds in the molecule, q is a numerical value of 0 or more, r is a numerical value of 0 or more, s is a numerical value of 0 or more, and p, q, and r are not simultaneously zero.
In addition, when q, r, and s satisfy the following expressions (13), (14), and (15), respectively, p, r, and s satisfy expression (16). A number selected from a range.
q ≠ 0 Formula (13)
r ≠ 0 Formula (14)
s ≠ 0 Expression (15)
0 ≦ p ≦ r + 2s + 2 (16)

更に、上記のr、sが下記式(17)、式(18)を同時に満足する場合には、上記のpは下記式(19)を満足する範囲から選択される数値である。
r=0 ・・・式(17)
s=0 ・・・式(18)
0≦p≦2 ・・・式(19)
Further, when the above r and s satisfy the following expressions (17) and (18), the above p is a numerical value selected from the range satisfying the following expression (19).
r = 0 Formula (17)
s = 0 Formula (18)
0 ≦ p ≦ 2 Formula (19)

また、上記のr、sが各々下記式(14)、式(18)を同時に満足する場合には、上記のp、rは、式(20)を満足する範囲から選択される数値である。
r≠0 ・・・式(14)
s=0 ・・・式(18)
0≦p≦r+2 ・・・式(20)
When r and s satisfy the following expressions (14) and (18), respectively, p and r are numerical values selected from a range satisfying the expression (20).
r ≠ 0 Formula (14)
s = 0 Formula (18)
0 ≦ p ≦ r + 2 Formula (20)

更に、上記のr、sが各々下記式(17)、式(15)を同時に満足する場合には、上記のp、rは、式(21)を満足する範囲から選択される数値である。
r=0 ・・・式(17)
s≠0 ・・・式(15)
0≦p≦2s+2 ・・・式(21)
Further, when r and s satisfy the following expressions (17) and (15), respectively, p and r are numerical values selected from a range satisfying the expression (21).
r = 0 Formula (17)
s ≠ 0 Expression (15)
0 ≦ p ≦ 2s + 2 Formula (21)

また、分子内に1個以上の炭素−炭素2重結合を含有するシロキサンは、前記平均組成式(4)で示される構造であれば特に限定はなく、直鎖状、環状、分岐状、ラダー状、籠状等いずれの構造でもよく、これらの2種以上の混合物であってもよい。また、各々の構造単位が、ブロック的な連鎖構造を有していてもよいし、ランダムに分散していてもよく、これらの混合物であってもよい。   The siloxane containing one or more carbon-carbon double bonds in the molecule is not particularly limited as long as it is a structure represented by the average composition formula (4), and is linear, cyclic, branched, or ladder. Any structure such as a shape or a bowl shape, or a mixture of two or more of these may be used. Further, each structural unit may have a block-like chain structure, may be randomly dispersed, or a mixture thereof.

上記の(ア)〜(エ)の化合物は、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。また、これらの化合物には、前記の炭素数及び酸素数の範囲内であれば、ヒドロキシル基、アシル基、カルボキシル基、アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、或いは、エステル結合、更には、酸素原子を除く窒素、リン、硫黄等のヘテロ原子を含んでいてもよい。   The compounds (a) to (d) can be used as one kind or a mixture of two or more kinds. In addition, these compounds have a hydroxyl group, an acyl group, a carboxyl group, an alkenyloxy group, an acyloxy group, a halogen atom, an ester bond, or an oxygen bond, as long as the carbon number and the oxygen number are within the ranges described above. Heteroatoms such as nitrogen, phosphorus and sulfur other than atoms may be contained.

上記の(ア)エポキシ基を含有せず、炭素−炭素2重結合を必須構成単位として有する、無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数が3以上24以下及び酸素数が0以上5以下の化合物の具体例としては、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、1−ウンデセン、1−ドデセン、1−トリデセン、1−テトラデセン、1−ペンタデセン、1−ヘキサデセン、1−ヘプタデセン、1−オクタデセン、シクロペンテン、シクロヘキセン、メチルシクロヘキセン、ノルボルネン、ビニルシクロヘキサン、ビニルデカヒドロナフタレン、ジシクロペンタジエン、ノルボルナジエン、1,2,4−トリビニルシクロヘキサン、アクリル酸、メタアクリル酸、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタアクリレート、グリセリンジアクリレート、グリセリンジメタアクリレート、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルプロピルエーテル、アリルメチルエーテル、アリルエチルエーテル、アリルプロピルエーテル、メトキシポリエチレングリコールアリルエーテル(エチレングリコール単位の重合度1〜4)等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の混合物として使用することが可能である。   One or more structures selected from the group consisting of unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic, which do not contain an epoxy group (a) and have a carbon-carbon double bond as an essential constituent unit Specific examples of the compound having an aliphatic hydrocarbon unit and having 3 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms include propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, 1-undecene, 1-dodecene, 1-tridecene, 1-tetradecene, 1-pentadecene, 1-hexadecene, 1-heptadecene, 1-octadecene, cyclopentene, cyclohexene, methylcyclohexene , Norbornene, vinylcyclohexane, vinyldecahydronaphthalene, dicyclopentadiene, norbornadiene, 1 2,4-trivinylcyclohexane, acrylic acid, methacrylic acid, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, glycerin diacrylate, glycerin dimethacrylate, vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, vinyl propyl ether, allyl methyl ether, allyl Examples include ethyl ether, allyl propyl ether, methoxy polyethylene glycol allyl ether (degree of polymerization of ethylene glycol unit of 1 to 4), and the like. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

一方、(イ)炭素−炭素2重結合を必須構成単位として有し、無置換又は置換された芳香族炭化水素単位と、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が8以上24以下及び酸素数が0以上5以下とからなる化合物の具体例としては、例えば、スチレン、3−メチルスチレン、4−メチルスチレン、α―メチルスチレン、桂皮酸、等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の混合物として使用することが可能である。   On the other hand, (i) an aromatic hydrocarbon unit having a carbon-carbon double bond as an essential constituent unit, an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, and an optionally substituted or substituted chain, branched and cyclic Specific examples of the compound having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the structural group consisting of carbon number of 8 to 24 and oxygen number of 0 to 5 are, for example, styrene, Examples include 3-methylstyrene, 4-methylstyrene, α-methylstyrene, cinnamic acid, and the like. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

また、(ウ)分子内に1個以上の炭素−炭素2重結合を含有するシランの具体例としては、これらの化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルジメチルメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルジメチルエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリ−t−ブトキシシラン、ビニルトリイソプロペノキシシラン等の炭素−炭素2重結合を1個有する脂肪族ビニルアルコキシシラン、ビニルフェニルメチルメトキシシラン、ビニルフェニルジエトキシシラン、ビニルジフェニルエトキシシラン等の炭素−炭素2重結合を1個有する芳香族ビニルアルコキシシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、トリビニルメトキシシラン、トリビニルエトキシシラン等の炭素−炭素2重結合を2個以上有する脂肪族ビニルアルコキシシラン、ジビニルジフェノキシシラン、トリビニルフェノキシシラン等の炭素−炭素2重結合を2個以上有する芳香族ビニルアルコキシシラン、ビニルトリメチルシラン、ビニルエチルジメチルシラン、ビニルジエチルメチルシラン、ビニルトリエチルシラン、ビニルトリプロピルシラン、ビニルトリイソプロピルシラン、ビニルトリブチルシラン、ビニルトリ−t−ブチルシラン、ビニル−t−ブチルジメチルシラン、ビニルトリペンチルシラン、ビニルトリヘキシルシラン、ビニルトリシクロヘキシルシラン、ビニルトリヘプチルシラン、ビニルトリオクチルシラン、ビニルトリノニルシラン、ビニルトリデシルシラン、ビニルメチルシラシクロペンタン等の炭素−炭素2重結合を1個有するビニルアルキルシラン、ビニルフェニルジメチルシラン、ビニルフェニルジエチルシラン、ビニルジフェニルメチルシラン、ビニルトリフェニルシラン、ビニルトリトリルシラン等の炭素−炭素2重結合を1個有するビニルアリールシラン、ビニルベンジルジメチルシラン、ビニルベンジルジエチルシラン、ビニルジベンジルメチルシラン、ビニルトリベンジルシラン、ビニルトリフェネチルシラン等の炭素−炭素2重結合を1個有するビニルアラルキルシラン、ジビニルジメチルシラン、ジビニルジエチルシラン、ジビニルエチルメチルシラン、トリビニルメチルシラン、トリビニルエチルシラン等の炭素−炭素2重結合を2個以上有するビニルアルキルシラン、ジビニルジフェニルシラン、ジビニルジトリルシラン、トリビニルフェニルシラン、トリビニルトリルシラン等の炭素−炭素2重結合を2個以上有するビニルアリールシラン、ビニル(クロロメチル)ジメチルシラン、ビニル(トリフルオロメチル)ジメチルシラン、ビニル(3,3,3−トリフルオロプロピル)ジメチルシラン等の炭素−炭素2重結合を1個有するハロゲン置換された炭化水素基を有するビニルハロ置換アルキルシラン、ビニルジメチルフルオロシラン、ビニルジメチルクロロシラン、ビニルメチルジクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルエチルジクロロシラン、ビニルオクチルジクロロシラン、ビニル(ブロモメチル)ジクロロシラン、ビニルフェニルジクロロシラン、ビニルジフェニルクロロシラン、ビニルフェニルメチルクロロシラン等の炭素−炭素2重結合を1有し、少なくとも1個以上のハロゲン原子がケイ素原子に結合したビニルハロシラン、ジビニルジクロロシラン、トリビニルクロロシラン等の炭素−炭素2重結合を2個以上有し、ハロゲン原子がケイ素原子に結合したビニルハロシラン等が例示できる。これらの分子内に1個以上の炭素−炭素2重結合を含有するシランは1種又は2種以上の混合物として使用することが可能である。   (C) Specific examples of silanes containing one or more carbon-carbon double bonds in the molecule include, for example, vinyltrimethoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane, vinyldimethylmethoxysilane. Aliphatic having one carbon-carbon double bond such as vinyltriethoxysilane, vinylmethyldiethoxysilane, vinyldimethylethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltri-t-butoxysilane, vinyltriisopropenoxysilane Aromatic vinylalkoxysilanes having one carbon-carbon double bond, such as vinylalkoxysilane, vinylphenylmethylmethoxysilane, vinylphenyldiethoxysilane, vinyldiphenylethoxysilane, divinyldimethoxysilane, divinyldiethoxysilane, tribi Fragrances having two or more carbon-carbon double bonds such as aliphatic vinylalkoxysilane, divinyldiphenoxysilane and trivinylphenoxysilane having two or more carbon-carbon double bonds such as rumethoxysilane and trivinylethoxysilane. Vinyl alkoxysilane, vinyltrimethylsilane, vinylethyldimethylsilane, vinyldiethylmethylsilane, vinyltriethylsilane, vinyltripropylsilane, vinyltriisopropylsilane, vinyltributylsilane, vinyltri-t-butylsilane, vinyl-t-butyldimethylsilane , Vinyltripentylsilane, vinyltrihexylsilane, vinyltricyclohexylsilane, vinyltriheptylsilane, vinyltrioctylsilane, vinyltrinonylsilane, vinyltridecylsilane, Carbon-carbon such as vinylalkylsilane, vinylphenyldimethylsilane, vinylphenyldiethylsilane, vinyldiphenylmethylsilane, vinyltriphenylsilane, vinyltritolylsilane, etc. having one carbon-carbon double bond such as nylmethylsilacyclopentane Vinyl aralkyl having one carbon-carbon double bond such as vinylarylsilane, vinylbenzyldimethylsilane, vinylbenzyldiethylsilane, vinyldibenzylmethylsilane, vinyltribenzylsilane, vinyltriphenethylsilane, etc. having one double bond Vinylalkylsilanes having two or more carbon-carbon double bonds such as silane, divinyldimethylsilane, divinyldiethylsilane, divinylethylmethylsilane, trivinylmethylsilane, trivinylethylsilane, and divinyli Vinylarylsilanes having two or more carbon-carbon double bonds such as rudiphenylsilane, divinylditolylsilane, trivinylphenylsilane, trivinyltolylsilane, vinyl (chloromethyl) dimethylsilane, vinyl (trifluoromethyl) dimethyl Vinylhalo-substituted alkylsilanes having a halogen-substituted hydrocarbon group having one carbon-carbon double bond such as silane, vinyl (3,3,3-trifluoropropyl) dimethylsilane, vinyldimethylfluorosilane, vinyldimethylchlorosilane , Vinylmethyldichlorosilane, vinyltrichlorosilane, vinylethyldichlorosilane, vinyloctyldichlorosilane, vinyl (bromomethyl) dichlorosilane, vinylphenyldichlorosilane, vinyldiphenylchlorosilane, vinylphenol 2 carbon-carbon double bonds such as vinylhalosilane, divinyldichlorosilane, trivinylchlorosilane, etc. having one carbon-carbon double bond such as rumethylchlorosilane and at least one halogen atom bonded to silicon atom. Examples thereof include vinylhalosilane having at least one and a halogen atom bonded to a silicon atom. Silanes containing one or more carbon-carbon double bonds in these molecules can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

更に、(エ)分子内に1個以上の炭素−炭素2重結合を含有するシロキサンとしては、有機基Rのb)炭素数1以上10以下の鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる少なくとも1種以上の構造からなる1価の脂肪族有機基が、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−ノニル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ノルボニル基等の飽和炭化水素基、クロロメチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等の、ハロゲン原子で置換された飽和炭化水素基、等や、c)無置換又は置換された芳香族炭化水素単位と、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数6以上10以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基が、例えば、フェニル基、トリル基、ベンジル基等の芳香族炭化水素基、4−クロロベンジル基等の、ハロゲン原子で置換された芳香族炭化水素基、等が挙げられる。 Furthermore, (d) as a siloxane containing one or more carbon-carbon double bonds in the molecule, the organic group R 4 b) a structural group consisting of chain, branched and cyclic having 1 to 10 carbon atoms A monovalent aliphatic organic group having at least one structure selected from, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, n -Saturated hydrocarbon groups such as pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, n-nonyl group, cyclohexyl group, methylcyclohexyl group, norbornyl group, chloromethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, etc. A saturated hydrocarbon group substituted with a halogen atom, etc., c) an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, and optionally substituted or substituted chain, branched and cyclic Construction A monovalent aromatic organic group having 6 to 10 carbon atoms and an oxygen number of 0 to 5 having an aliphatic hydrocarbon unit having at least one structure selected from the group is, for example, a phenyl group, a tolyl group, An aromatic hydrocarbon group such as a benzyl group, an aromatic hydrocarbon group substituted with a halogen atom such as a 4-chlorobenzyl group, and the like can be given.

これらの内、ヒドロシリル化反応後に得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化物の耐光性が高まることから、ビニル化合物(b)としては、ヒドロキシル単位、アルコキシ単位、アシル単位、カルボキシル単位、アルケニルオキシ単位、アシルオキシ単位、芳香族炭化水素単位、ハロゲン原子、或いは、エステル結合、更には、酸素原子を除くヘテロ原子を含有しない(ア)エポキシ基を含有せず、炭素−炭素2重結合を必須構成単位として有する、無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数が3以上20以下及び酸素数が0以上5以下の化合物、(ウ)分子内に1個以上の炭素−炭素2重結合を含有するシラン、(エ)分子内に1個以上の炭素−炭素2重結合を含有するシロキサンなる群から選ばれる少なくとも1種以上の化合物が好ましく用いられる。   Among these, since the light resistance of the cured product obtained using the epoxy-modified silicone obtained after the hydrosilylation reaction is enhanced, the vinyl compound (b) includes a hydroxyl unit, an alkoxy unit, an acyl unit, a carboxyl unit, an alkenyloxy. Units, acyloxy units, aromatic hydrocarbon units, halogen atoms, or ester bonds, and further do not contain heteroatoms other than oxygen atoms (a) do not contain epoxy groups and must contain carbon-carbon double bonds The unit has an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic structure, having 3 to 20 carbon atoms and 0 oxygen number 5 or less compounds, (c) silane containing one or more carbon-carbon double bonds in the molecule, and (d) one in the molecule. Carbon above - at least one compound selected from the siloxane group consisting containing carbon double bond is preferably used.

(ア)エポキシ基を含有せず、炭素−炭素2重結合を必須構成単位として有する、無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数が3以上20以下及び酸素数が0以上5以下の化合物としては、ビニル化合物の取り扱い性が高まる、或いは、余剰の化合物の留去が容易となることから、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、1−ウンデセン、1−ドデセン、1−トリデセン、1−テトラデセン、1−ペンタデセン、1−ヘキサデセン、1−ヘプタデセン、1−オクタデセン、シクロペンテン、シクロヘキセン、メチルシクロヘキセン、ノルボルネン、ビニルシクロヘキサンがより好ましく用いられる。   (A) It comprises one or more structures selected from the group consisting of unsubstituted, substituted, chain-like, branched, and cyclic, containing no epoxy group and having a carbon-carbon double bond as an essential constituent unit. As a compound having 3 to 20 carbon atoms and an oxygen number of 0 to 5 having an aliphatic hydrocarbon unit, the handleability of the vinyl compound is increased, or the excess compound can be easily distilled off. 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, 1-undecene, 1-dodecene, 1-tridecene, 1-tetradecene, 1-pentadecene, 1-hexadecene, 1-heptadecene, 1- Octadecene, cyclopentene, cyclohexene, methylcyclohexene, norbornene, and vinylcyclohexane are more preferably used.

一方、(ウ)分子内に1個以上の炭素−炭素2重結合を含有するシランとしては、余剰の化合物の留去が容易となることから、ビニルトリメチルシラン、ビニルエチルジメチルシラン、ビニルジエチルメチルシラン、ビニルトリエチルシランがより好ましく用いられる。   On the other hand, (c) As a silane containing one or more carbon-carbon double bonds in the molecule, it is easy to distill off excess compounds, so that vinyltrimethylsilane, vinylethyldimethylsilane, vinyldiethylmethyl Silane and vinyltriethylsilane are more preferably used.

また、(エ)分子内に1個以上の炭素−炭素2重結合を含有するシロキサンとしては、立体障害を緩和してヒドロシリル化反応を安定的に、且つ、再現性よく進行させることが容易となることから、qは50以下の範囲、且つ、rは10以下の範囲、sは10以下の範囲を同時に満足することが好ましく、sがゼロであるものが更に好ましく、qは20以下の範囲、且つ、rは5以下の範囲、sがゼロ、且つ、r/(p+q+r)が0.02以下であるものがより好ましく、qは15以下の範囲、且つ、rは3以下の範囲、sがゼロ、且つ、r/(p+q+r)が0.01以下であるものが特に好ましく、qは10以下の範囲、且つ、s及びr/(p+q+r)の値がゼロであるものが望ましく、例えば、ビニルペンタメチルジシロキサン、ビニルヘプタメチルトリシロキサン等の分子鎖の片末端にジメチルビニルシロキシ基を有し、且つ、他の置換基がアルキル基であるシロキサン、ビニルメチルビス(トリメチルシロキシ)シラン等の分子鎖中にジメチルビニルシロキシ基を有する、分子内に1個の炭素−炭素2重結合を含有し、他の置換基が飽和炭化水素基であるシロキサン、1,3−ジビニル−テトラメチルジシロキサン等の両末端がジメチルビニルシロキシ基であり、他の置換基が飽和炭化水素基である分子内に2個の炭素−炭素2重結合を有するシロキサン、1,3,5−トリビニル−1,1,3,5,5−ペンタメチルトリシロキサン、1,3,5−トリビニル−1,3,5−トリメチルシクロトリシロキサントリス(ビニルジメチルシロキシ)メチルシラン、1.3.5.7−テトラビニルー1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、1.3.5.7−テトラビニルー1,3,5,7−テトラエチルシクロテトラシロキサン、等の分子内に3個以上の炭素−炭素2重結合を含有し、他の有機基が飽和炭化水素基であるシロキサン等が挙げられる。   In addition, (d) siloxanes containing one or more carbon-carbon double bonds in the molecule can ease steric hindrance and facilitate the hydrosilylation reaction stably and with good reproducibility. Therefore, it is preferable that q is in the range of 50 or less, r is in the range of 10 or less, s is in the range of 10 or less, more preferably s is zero, and q is in the range of 20 or less. More preferably, r is in the range of 5 or less, s is zero, and r / (p + q + r) is 0.02 or less, q is in the range of 15 or less, and r is in the range of 3 or less, s Is particularly preferred, and r / (p + q + r) is preferably 0.01 or less, q is preferably in the range of 10 or less, and s and r / (p + q + r) are zero, for example, Vinyl pentamethyldisiloxane, Nylheptamethyltrisiloxane and other molecular chains have a dimethylvinylsiloxy group at one end, and other substituents are alkyl groups such as siloxane and vinylmethylbis (trimethylsiloxy) silane. Siloxy group-containing siloxane having one carbon-carbon double bond in the molecule and other substituents being saturated hydrocarbon groups, both ends of 1,3-divinyl-tetramethyldisiloxane etc. are dimethyl 1,3,5-trivinyl-1,1,3,5,5, a siloxane having two carbon-carbon double bonds in the molecule which is a vinylsiloxy group and the other substituent is a saturated hydrocarbon group -Pentamethyltrisiloxane, 1,3,5-trivinyl-1,3,5-trimethylcyclotrisiloxane tris (vinyldimethylsiloxy) methylsilane; 5.7-tetravinyl-1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, 1.3.5.7-tetravinyl-1,3,5,7-tetraethylcyclotetrasiloxane, etc. 3 or more in the molecule And a siloxane having another organic group that is a saturated hydrocarbon group.

平均組成式(5)で表される分子内に1個以上の炭素−炭素2重結合を含有するシロキサンのp〜sの値は、平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンで用いた方法と同様の方法にて算出することができる。   The value of p to s of the siloxane containing one or more carbon-carbon double bonds in the molecule represented by the average composition formula (5) is the block type organohydrogen represented by the average composition formula (1). It can be calculated by the same method as that used for silicone.

本発明は、平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンに対し、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)を含むビニル化合物(b)を付加してエポキシ変性シリコーンを製造する方法に関わるものである。
平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンと同じ組成を有し、且つ、各単位構造がランダム型に配列されたランダム型オルガノハイドロジェンシリコーンに対して炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)と炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)以外のビニル化合物とを付加して得られたエポキシ変性シリコーンに比較して、平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位に対して、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)と炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)以外のビニル化合物とを付加して得られたエポキシ変性シリコーンの耐熱性が著しく高まることから、平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対し、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)を付加させるSiH単位のモル数の分率が、70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましく、90%以上であることが更に好ましく、95%以上であることが特に好ましい。
In the present invention, a vinyl compound (b) containing a compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is added to a block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) to form an epoxy. The present invention relates to a method for producing a modified silicone.
A carbon-carbon double bond to a random organohydrogensilicone having the same composition as the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) and each unit structure arranged in a random form And an epoxy-modified silicone obtained by adding a compound (a) having an epoxy group and a vinyl compound other than the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, the average composition formula (1 Other than the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group and the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group with respect to the SiH unit of the block type organohydrogen silicone represented by Since the heat resistance of the epoxy-modified silicone obtained by adding the vinyl compound is significantly increased, the average composition formula (1) The fraction of the number of moles of SiH units to which the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is added is 70% or more with respect to the total number of moles of SiH units of the block type organohydrogen silicone It is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more.

本発明のエポキシ変性シリコーンは、本願の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位に対し、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物を含むビニル化合物をヒドロシリル化触媒存在下で、ヒドロシリル化反応により付加して得られるものである。
ヒドロシリル化触媒が存在しない場合には、平均組成式(1)で表させるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位と炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物を含むビニル化合物とのヒドロシリル化反応が進行しない。
The epoxy-modified silicone of the present invention is obtained by hydrosilylating a vinyl compound containing a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group with respect to the SiH unit of the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) of the present application. It can be obtained by addition by a hydrosilylation reaction in the presence of an oxidation catalyst.
In the absence of a hydrosilylation catalyst, a hydrosilylation reaction between the SiH unit of the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) and a vinyl compound containing a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group Does not progress.

本発明において用いることができるヒドロシリル化触媒としては、従来公知のものが使用可能である。この様なヒドロシリル化触媒としては、例えば、周期表第8属の金属の単体、該金属固体をアルミナ、シリカ、カーボンブラック等の担体に担持させたもの、該金属の塩、或いは、該金属の錯体等が例示される。これらの内、ヒドロシリル化反応の活性が高く、副反応を生じにくい周期表第8族の金属である、白金、ロジウム、ルテニウムが好ましく、特に白金が好ましい。白金を用いたヒドロシリル化反応触媒としては、例えば、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトンとの錯体、白金−ビニルシロキサン錯体、白金−ホスフィン錯体、白金−ホスファイト錯体、ジカルボニルジクロロ白金、ジシクロペンタジエニルジクロロ白金等が挙げられる。   As the hydrosilylation catalyst that can be used in the present invention, a conventionally known catalyst can be used. Examples of such a hydrosilylation catalyst include a simple substance of Group 8 metal, a metal solid supported on a support such as alumina, silica, and carbon black, a salt of the metal, Examples include complexes. Of these, platinum, rhodium, and ruthenium, which are metals of Group 8 of the periodic table, which have high hydrosilylation reaction activity and are unlikely to cause side reactions, are preferred, and platinum is particularly preferred. Examples of the hydrosilylation reaction catalyst using platinum include chloroplatinic acid, complexes of chloroplatinic acid and alcohol, aldehyde, ketone, platinum-vinylsiloxane complex, platinum-phosphine complex, platinum-phosphite complex, dicarbonyldichloro. Platinum, dicyclopentadienyl dichloro platinum, etc. are mentioned.

ヒドロシリル化反応を行う際に用いられる触媒の金属原子換算のモル数は、通常、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/50,000,000倍以上1/20倍以下の範囲である。ヒドロシリル化反応を行う際に用いられる触媒の金属原子換算のモル数が、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/50,000,000倍未満の場合には、ヒドロシリル化反応が進行しない場合がある。一方、1/20倍を超える場合には、ヒドロシリル化反応に供する炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物を含むビニル化合物の変性が著しく生じる場合や、反応系著しく着色して透明なエポキシ変性シリコーンを回収できない場合がある。   The number of moles in terms of metal atoms of the catalyst used for the hydrosilylation reaction is usually the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. On the other hand, it is in the range of 1 / 50,000,000 times or more and 1/20 times or less. The number of moles in terms of metal atom of the catalyst used when the hydrosilylation reaction is performed is based on the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. When the ratio is less than 1 / 50,000,000, the hydrosilylation reaction may not proceed. On the other hand, when the ratio exceeds 1/20, the vinyl compound containing a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group for the hydrosilylation reaction may be significantly modified, or the reaction system may be markedly colored and transparent epoxy The modified silicone may not be recovered.

ヒドロシリル化反応中のエポキシ基の開環を抑制してエポキシ変性シリコーンを再現性よく製造する上で、ヒドロシリル化反応を行う際に用いられる触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/1,200倍以下とすることが好ましく、1/6,000倍以下とすることがより好ましく、1/25,000倍以下とすることが更に好ましい。   In order to suppress the ring opening of the epoxy group during the hydrosilylation reaction and produce an epoxy-modified silicone with good reproducibility, the number of moles of the catalyst used in the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms is the same as that before the hydrosilylation reaction. The total number of moles of SiH units in the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) is preferably 1 / 1,200 times or less, and preferably 1 / 6,000 times or less. Is more preferable, and it is still more preferable to set it as 1 / 25,000 times or less.

一方、ヒドロシリル化反応を再現性ある速度で行う上で、ヒドロシリル化反応を行う際に用いられる触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/5,000,000倍以上とすることが好ましく、1/1,000,000倍以上とすることがより好ましく、1/800,000倍以上とすることが更に好ましい。
平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位に対して、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)を含むビニル化合物(b)を付加する際に用いられる触媒の量は、上記の範囲内であれば一定である必要は無く、反応初期や反応途中において変化させてもよい。
On the other hand, when the hydrosilylation reaction is performed at a reproducible rate, the number of moles in terms of metal atom of the catalyst used when the hydrosilylation reaction is performed is represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. It is preferably 1 / 5,000,000 times or more, more preferably 1 / 1,000,000 times or more, and more preferably 1/800 times the total number of moles of SiH units of the type organohydrogensilicone. More preferably, it should be 1,000 times or more.
When adding a vinyl compound (b) containing a compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group to the SiH unit of the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) The amount of the catalyst used is not necessarily constant as long as it is within the above range, and may be changed at the initial stage of the reaction or during the reaction.

本発明において、ヒドロシリル化反応の際に、平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させるビニル化合物(b)の全ビニル基の合計モル数は、5倍以上100倍以下の範囲である。
ここで、「共存させるビニル化合物(b)の全ビニル基」とは、反応系に共存させたビニル化合物(b)に含まれる、オルガノハイドロジェンシリコーンとヒドロシリル化反応し得るすべてのビニル基のことをいい、分子内に1個以上のビニル基を有するケイ素化合物はこれに含まれるが、オルガノハイドロジェンシリコーンはビニル基を有していてもこれには含まれない。
In the present invention, in the hydrosilylation reaction, the total number of vinyl groups of the vinyl compound (b) to be coexisted with respect to the total number of moles of SiH units of the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1). The total number of moles is in the range of 5 to 100 times.
Here, “all vinyl groups of the vinyl compound (b) to be coexisted” refers to all vinyl groups that can be hydrosilylated with the organohydrogensilicone contained in the vinyl compound (b) coexisting in the reaction system. This includes silicon compounds having one or more vinyl groups in the molecule, but organohydrogensilicones are not included even if they have vinyl groups.

平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させるビニル化合物(b)の全ビニル基の合計モル数が5倍未満の場合には、付加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)のエポキシ基が開環して高分子量体を含有するエポキシ変性シリコーンが生じてしまい、エポキシ変性シリコーンを安定的に再現性よく製造することができなくなる。一方、平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させるビニル化合物(b)の全ビニル基の合計モル数が増加すると、ヒドロシリル化反応速度が増加する傾向にあるが、平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させるビニル化合物(b)の全ビニル基の合計モル数が100倍を超過しても、反応速度が高められる効果がなくなる、或いは、場合によっては、共存させるビニル化合物(b)によってヒドロシリル化反応触媒が安定化されてはヒドロシリル化反応速度が低下する場合があること、また、本発明の方法によって得られるエポキシ変性シリコーンを含む反応混合物から、エポキシ変性シリコーンを分離回収する工程の負荷が増加するため、好ましくない。   When the total number of moles of all vinyl groups of the vinyl compound (b) to be coexisted is less than 5 times the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) The epoxy group of the compound (a) having an added carbon-carbon double bond and an epoxy group is ring-opened to produce an epoxy-modified silicone containing a high molecular weight product, and the epoxy-modified silicone is stably reproducible. It cannot be manufactured. On the other hand, when the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound (b) increases with respect to the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1), hydrosilylation occurs. Although the reaction rate tends to increase, the total of all vinyl groups of the vinyl compound (b) to be coexisted with respect to the total number of moles of SiH units of the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) Even if the number of moles exceeds 100 times, the effect of increasing the reaction rate is lost, or in some cases, the hydrosilylation reaction rate is lowered if the hydrosilylation reaction catalyst is stabilized by the coexisting vinyl compound (b). The reaction mixture containing the epoxy-modified silicone obtained by the method of the present invention. , The load on the step of separating and recovering the epoxy-modified silicone increases, undesirable.

安定的に高い反応速度で、エポキシ変性シリコーンを再現性よく製造する上で、平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させるビニル化合物(b)の全ビニル基の合計モル数は、6倍以上50倍以下の範囲が好ましく、7倍以上30倍以下の範囲がより好ましく、7倍以上20倍以下の範囲が特に好ましい。平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させるビニル化合物(b)の全ビニル基の合計モル数は、上記の範囲内であれば一定である必要は無く、反応初期や反応途中において変化させてもよい。   Vinyl which coexists with the total number of moles of SiH units of the block type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) for producing epoxy-modified silicone with a high reaction rate with good reproducibility. The total number of moles of all vinyl groups in the compound (b) is preferably in the range of 6 to 50 times, more preferably in the range of 7 to 30 times, and particularly preferably in the range of 7 to 20 times. The total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound (b) with respect to the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) should be within the above range. For example, it is not necessary to be constant, and it may be changed at the beginning of the reaction or during the reaction.

平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させるビニル化合物(b)の全ビニル基の合計モル数を5倍以上とすることにより、ヒドロシリル化反応中のエポキシ基の開環を抑制理由は明らかではないが、ヒドロシリル化反応過程におけるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中の水素アルキルシロキシ単位の3連鎖以上の部位の残存量とヒドロシリル化反応触媒の存在状態が関係しているものと推定される。   By making the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound (b) 5 times or more with respect to the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) The reason for inhibiting the ring opening of the epoxy group during the hydrosilylation reaction is not clear, but the residual amount of the hydrogen alkylsiloxy unit in the block-type organohydrogensilicone in the hydrosilylation reaction process and the hydrosilylation reaction It is presumed that the presence state of the catalyst is related.

具体的には、高分子量部の形成は、以下の<I>が原因と想定される。
<I>該水素アルキルシロキシ単位が3連鎖以上である部位のSiH単位は、ヒドロシリル化反応触媒存在下においてエポキシ基との開環付加反応を生じやすく、該水素アルキルシロキシ単位が3連鎖以上である部位のSiH単位が、異なる分子鎖に炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)が付加して存在するエポキシ基と反応をする。
Specifically, the formation of the high molecular weight portion is assumed to be caused by the following <I>.
<I> The SiH unit at a site where the hydrogen alkylsiloxy unit has 3 or more chains tends to cause a ring-opening addition reaction with an epoxy group in the presence of a hydrosilylation reaction catalyst, and the hydrogen alkylsiloxy unit has 3 or more chains. The SiH unit at the site reacts with the epoxy group present by adding the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group to different molecular chains.

一方、平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して共存させるビニル化合物(b)の量を、通常用いられる1倍量から2倍量付近から本願発明の範囲まで増大させることで、高分子量部の形成が抑制できるのは、以下の<II>が理由と推定される。
<II>ヒドロシリル化反応系中のビニル基濃度が増大することにより、ヒドロシリル化触媒に配位しているビニル化合物(b)の量が増大し、ヒドロシリル化反応触媒がSi−H結合に酸化的付加した後、エポキシ基の開環等の副反応を起こすことなく、付加反応が優先的に進行する。
On the other hand, the amount of the vinyl compound (b) to coexist with the total number of moles of SiH units of the block-type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) is about 1 to 2 times the amount usually used. It can be presumed that the following <II> is the reason why the formation of the high molecular weight part can be suppressed by increasing the amount to the range of the present invention.
<II> By increasing the vinyl group concentration in the hydrosilylation reaction system, the amount of the vinyl compound (b) coordinated to the hydrosilylation catalyst increases, and the hydrosilylation reaction catalyst oxidizes to the Si—H bond. After the addition, the addition reaction proceeds preferentially without causing side reactions such as ring opening of the epoxy group.

本発明において、ヒドロシリル化反応を行う際の反応温度は、用いる平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの種類や分子量、或いは、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物を含むビニル化合物の種類、更には、回分式、半回分式、或いは連続式等の反応様式によっても異なるが、反応速度を高め、効率的に反応を完結させる観点において0℃以上250℃以下の範囲が好ましく、10℃以上200℃以下の範囲が更に好ましく、20℃以上150℃以下の範囲がより好ましく、30℃以上120℃以下の範囲が特に好ましい。反応温度は、上記の範囲内であれば一定である必要は無く、反応初期や反応途中において変化させてもよい。   In the present invention, the reaction temperature at the time of hydrosilylation reaction has the type and molecular weight of the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) used, or has a carbon-carbon double bond and an epoxy group. Although it depends on the type of vinyl compound including the compound, and also the reaction mode such as batch, semi-batch, or continuous, it is 0 ° C. or higher and 250 ° C. or lower from the viewpoint of increasing the reaction rate and completing the reaction efficiently. The range of 10 ° C to 200 ° C is more preferable, the range of 20 ° C to 150 ° C is more preferable, and the range of 30 ° C to 120 ° C is particularly preferable. The reaction temperature does not need to be constant as long as it is within the above range, and may be changed at the initial stage of the reaction or during the reaction.

本発明において、ヒドロシリル化反応を行う際、ヒドロシリル化反応による反応熱の除去を可能とし、得られるエポキシ変性シリコーンの変性を抑制する及び/又は付加反応による反応系の粘度上昇を抑制する、更には、ヒドロシリル化反応時に変性途中のオルガノシリコーンと炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)を含むビニル化合物(b)との相分離を抑制してヒドロシリル化反応が高められるため、溶媒を用いることが好ましい。   In the present invention, when the hydrosilylation reaction is carried out, it is possible to remove the heat of reaction due to the hydrosilylation reaction, suppress the modification of the resulting epoxy-modified silicone and / or suppress the increase in the viscosity of the reaction system due to the addition reaction, Since the hydrosilylation reaction is enhanced by suppressing phase separation between the organosilicone being modified during the hydrosilylation reaction and the vinyl compound (b) containing the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, Is preferably used.

用いられる溶媒としては、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、アニソール等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン等の脂肪族炭化水素系、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、エチルベンゼン等の芳香族水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール等のアルコール系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。   Examples of the solvent used include dimethyl ether, diethyl ether, diisopropyl ether, 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, and anisole. Ether solvents, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, heptane, octane, isooctane, toluene, o-xylene, m-xylene, p-xylene, ethylbenzene, etc. Aromatic hydrogen solvents, ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate, alcohol solvents such as butyl cellosolve and butyl carbitol Medium, and the like. These solvents can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

これらの内、ヒドロシリル化反応速度が比較的大きく、原料の溶解性及び/又は溶媒回収性の観点から、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒が好ましく、エーテル系溶媒を50質量%以上含む溶媒が更に好ましく、大気圧における沸点が120℃以下である1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテルなる群から選ばれる少なくとも1種又は2種以上の混合溶媒がより好ましく用いられる。
用いる溶媒量は、用いるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの種類や、ビニル化合物の種類等によって異なるが、通常、ヒドロシリル化反応開始時において、該混合物の全質量に対する溶媒の質量が、0.1質量%以上99.9質量%以下の範囲、好ましくは10質量%以上95質量%以下の範囲、更に好ましくは20質量%以上90質量%以下の範囲である。
Among these, the hydrosilylation reaction rate is relatively high, and ether solvents, ketone solvents, aliphatic hydrocarbon solvents, and aromatic hydrocarbon solvents are preferable from the viewpoints of solubility of raw materials and / or solvent recoverability. Further, a solvent containing 50% by mass or more of an ether solvent is more preferable, and at least one or two selected from the group consisting of 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and propylene glycol dimethyl ether having a boiling point at atmospheric pressure of 120 ° C. or lower. More than one kind of mixed solvent is more preferably used.
The amount of the solvent used varies depending on the type of block type organohydrogensilicone used, the type of vinyl compound, etc., but usually the mass of the solvent relative to the total mass of the mixture is 0.1% by mass at the start of the hydrosilylation reaction. The range is 99.9% by mass or less, preferably 10% by mass or more and 95% by mass or less, and more preferably 20% by mass or more and 90% by mass or less.

本発明において、ヒドロシリル化反応を行う際の雰囲気は、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、炭酸ガス等の不活性ガス、或いは、炭素数1以上4以下の低級飽和炭化水素系ガスや空気等の雰囲気下、流通下、減圧下又は加圧下で行うことができる。これらのガスは、一種又は二種以上の混合ガスとして用いることができる。これらの内、好ましいガスは、前記不活性ガス、炭素数1以上4以下の低級飽和炭化水素系ガスであり、更に好ましくは、前記不活性ガスであり、より好ましくは窒素である。   In the present invention, the atmosphere during the hydrosilylation reaction is an inert gas such as nitrogen, helium, neon, argon, krypton, xenon, carbon dioxide, or a lower saturated hydrocarbon gas having 1 to 4 carbon atoms. It can be carried out under an atmosphere such as air, under circulation, under reduced pressure or under pressure. These gases can be used as one kind or a mixture of two or more kinds. Among these, a preferable gas is the inert gas, a lower saturated hydrocarbon gas having 1 to 4 carbon atoms, more preferably the inert gas, and more preferably nitrogen.

本発明において、ヒドロシリル化反応を行う際の反応方法は、特に限定されず、例えば、本願の平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンと炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物を含むビニル化合物とを回分式、半回分式、連続式なる群から選ばれる1種又は2種以上の組合せの方法により、逐次的、連続的、或いは、一度に反応させる方法が例示できる。   In the present invention, the reaction method for carrying out the hydrosilylation reaction is not particularly limited. For example, the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) of the present application, a carbon-carbon double bond, and an epoxy group. Exemplified is a method of reacting a vinyl compound containing a compound having a compound sequentially, continuously, or at a time with a method of one or a combination of two or more selected from the group of batch, semi-batch, and continuous it can.

本願の平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンと炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物を含むビニル化合物の供給方式としては、必要に応じて溶媒を含有する本願の平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンに対して、必要に応じて溶媒を含有する炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物を含むビニル化合物を供給する方法、必要に応じて溶媒を含有する炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物を含むビニル化合物に対して、必要に応じて溶媒を含有する本願の平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを供給する方法、必要に応じて溶媒を含有する本願の平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンと炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物を含むビニル化合物とを予め混合して供給する方法等が例示できる。   As a supply method of a vinyl compound containing a block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) of the present application and a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, the present application contains a solvent as necessary. A method of supplying a vinyl compound containing a compound having a carbon-carbon double bond containing a solvent and an epoxy group, if necessary, to the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) of A block type represented by the average composition formula (1) of the present application containing a solvent as needed for a vinyl compound containing a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group containing a solvent as necessary. A method for supplying organohydrogensilicone, and a block type organ represented by the average composition formula (1) of the present application containing a solvent as necessary. Hydrogen silicone and carbon - the method for supplying premixed and vinyl compounds containing a compound having a double bond and an epoxy group having a carbon may be exemplified.

また、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物を含むビニル化合物が複数の種類の化合物からなる場合には、全ての炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物を含むビニル化合物を一括混合した組成物を反応に供する、或いは、一部又は全部のビニル化合物を逐次に反応させることも可能である。
その際、ヒドロシリル化反応触媒の添加方法には特に限定はなく、必要に応じて溶媒を含有する、該ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンに対し触媒を予め添加する方法、必要に応じて溶媒を含有する一部又は全部のビニル化合物に添加する方法、必要に応じて溶媒を含有する該ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンと、必要に応じて溶媒を含有するビニル化合物の双方に添加する方法、溶媒を含有する該ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンと一部又は全部のビニル化合物との混合物に添加する方法等が用いられる。
When the vinyl compound containing a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is composed of a plurality of types of compounds, all the vinyl compounds containing the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group are collectively included. It is also possible to subject the mixed composition to the reaction or to react some or all of the vinyl compounds sequentially.
At that time, the method for adding the hydrosilylation reaction catalyst is not particularly limited. If necessary, a method of adding a catalyst to the block-type organohydrogensilicone containing a solvent is included, and if necessary, a solvent is contained. A method of adding to some or all vinyl compounds, a method of adding to both the block type organohydrogensilicone containing a solvent as necessary, and a vinyl compound containing a solvent as needed, containing a solvent A method of adding to a mixture of the block type organohydrogen silicone and a part or all of the vinyl compound is used.

オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位に対して、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)を含むビニル化合物(b)をヒドロシリル化反応により付加させる際には、系内の水分が影響を及ぼす場合がある。ヒドロシリル化反応速度を維持する、或いは、エポキシ基の開環反応を抑制する上で、反応系の水分量は反応系の質量を基準として2質量%以下であることが好ましく、1質量%以下であることがより好ましく、0.5質量%以下であることが更に好ましく、0.1質量%以下が特に好ましく、0.05質量%以下が望ましく、0.01質量%以下が特に望ましい。反応系の水分量は少ない方がよいが、水分量を0とするのは時間・労力がかかるのに比して、ヒドロシリル化反応速度を維持する、或いは、エポキシ基の開環反応を抑制する効果が小さい。そのため、費用対効果という観点からは、反応系の水分量は、0.001質量%程度まで低減することが現実的である。   When the vinyl compound (b) containing the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is added to the SiH unit of the organohydrogensilicone by a hydrosilylation reaction, the moisture in the system affects. May affect. In order to maintain the hydrosilylation reaction rate or suppress the ring-opening reaction of the epoxy group, the water content of the reaction system is preferably 2% by mass or less based on the mass of the reaction system, preferably 1% by mass or less. More preferably, it is more preferably 0.5% by mass or less, particularly preferably 0.1% by mass or less, more preferably 0.05% by mass or less, and particularly preferably 0.01% by mass or less. Although the water content of the reaction system should be low, setting the water content to 0 maintains the hydrosilylation reaction rate or suppresses the ring-opening reaction of the epoxy group compared to the time and labor required. Small effect. Therefore, from the viewpoint of cost effectiveness, it is realistic to reduce the water content of the reaction system to about 0.001% by mass.

反応混合物からエポキシ変性シリコーンを分離回収するのに先立ち、アルコール類を反応混合物と接触或いは混合して、未反応SiH単位を減少又は消失させる処理を行うこと、従来公知のヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤を反応混合物と接触或いは混合して、該触媒を失活又は不活性化処理すること、吸着剤に反応混合物を接触、混合、或いは、流通して、ヒドロシリル化触媒等の金属成分や着色成分等を吸着除去或いは低減する処理を行うこと、或いは、これらの組み合わせの処理を行うことは、反応混合物からエポキシ変性シリコーンを分離回収する際のエポキシ変性シリコーンの変性を抑制する上で好ましく用いられる方法である。   Prior to separating and recovering the epoxy-modified silicone from the reaction mixture, the alcohol is brought into contact with or mixed with the reaction mixture to reduce or eliminate unreacted SiH units, and a conventionally known hydrosilylation catalyst deactivator. Alternatively, the catalyst is deactivated or deactivated by contacting or mixing the deactivator with the reaction mixture, or the reaction mixture is contacted, mixed, or distributed to the adsorbent to form a metal such as a hydrosilylation catalyst. Performing the treatment to remove or reduce components, coloring components, etc., or performing a combination of these treatments is to suppress the modification of the epoxy-modified silicone when the epoxy-modified silicone is separated and recovered from the reaction mixture. It is a method preferably used.

この際に用いられるアルコール類としては、例えば、炭素数1以上4以下の鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる少なくとも1種以上のアルコールが挙げられる。この際に用いられるヒドロシリル化触媒の失活剤不活性化剤としては、例えば、ドデシルメルカプタン、2−メルカプトベンゾチアゾール等の含硫黄化合物類、アセトニトリル、アクリロニトリル、2−ペンテンニロリル、3−ペンテンニトリル等のニトリル類、1−ヘプチン、1−オクチン、1−デシン、3−メチル−1−ペンチン、2−プロピン−1−オール、3−ブチン−1−オール、2−ペンチン−1−オール、4−ペンチン−1−オール、4−ペンチン−2−オール、2−メチル−3−ブチン−1−オール、3−メチル−1−ペンチン−3−オール、3−メチル−1−ヘキシン−3−オール、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、2−フェニルー3−ブチン−2−オール、1−エチニル−1−シクロヘキサノール、2,5−ジメチル−3−ヘキシン−2,5−ジオール、1,1−ジメチル−2−プロピニルアミン、3−メチル−3−(トリメチルシロキシ)−1−ブチン、ジメチル−ビス(1,1−ジメチル−2−プロピノキシ)−シラン、3−メチル−3−(トリメチルシロキシ)−1−ペンチン、3,5−ジメチル−3−(トリメチルシロキシ)−1−ヘキシン、3−エチル−3−(トリメチルシロキシ)−1−ペンチン、メチルプロピオネート、エチルプロピオネート等のアセチレン系化合物等が挙げられる。また、ヒドロシリル化触媒等の金属成分や着色成分等を吸着除去或いは低減する吸着剤としては、例えば、活性炭、セライト、シリカゲル、アルミナ粉、イオン交換樹脂等が挙げられる。   Examples of the alcohol used at this time include at least one alcohol selected from a chain, branched and cyclic structure group having 1 to 4 carbon atoms. Examples of the deactivator for hydrosilylation catalyst used at this time include sulfur-containing compounds such as dodecyl mercaptan and 2-mercaptobenzothiazole, acetonitrile, acrylonitrile, 2-pentenylolyl, 3-pentenenitrile and the like. Nitriles, 1-heptin, 1-octyne, 1-decyne, 3-methyl-1-pentyne, 2-propyn-1-ol, 3-butyn-1-ol, 2-pentyn-1-ol, 4-pentyne -1-ol, 4-pentyn-2-ol, 2-methyl-3-butyn-1-ol, 3-methyl-1-pentyn-3-ol, 3-methyl-1-hexyn-3-ol, 3 , 5-dimethyl-1-hexyn-3-ol, 2-phenyl-3-butyn-2-ol, 1-ethynyl-1-cyclohexanol, 2, -Dimethyl-3-hexyne-2,5-diol, 1,1-dimethyl-2-propynylamine, 3-methyl-3- (trimethylsiloxy) -1-butyne, dimethyl-bis (1,1-dimethyl-2) -Propynoxy) -silane, 3-methyl-3- (trimethylsiloxy) -1-pentyne, 3,5-dimethyl-3- (trimethylsiloxy) -1-hexyne, 3-ethyl-3- (trimethylsiloxy) -1 -Acetylene type compounds, such as pentyne, methyl propionate, and ethyl propionate, etc. are mentioned. Examples of the adsorbent that removes or reduces a metal component such as a hydrosilylation catalyst, a coloring component, and the like include activated carbon, celite, silica gel, alumina powder, and ion exchange resin.

反応混合物からエポキシ変性シリコーンを分離回収するのに先立ち、アルコール類をエポキシ変性シリコーンを分離回収する前の混合物に接触或いは混合して、未反応SiH単位を減少又は消失させる処理を行う操作、従来公知のヒドロシリル化触媒の失活剤不活性化剤をエポキシ変性シリコーンを分離回収する前の混合物と接触或いは混合して該触媒を失活又は不活性化処理を行う操作、吸着剤にエポキシ変性シリコーンを分離回収する前の混合物を接触、混合、或いは、流通して、ヒドロシリル化触媒等の金属成分や着色成分等を吸着除去或いは低減する処理を行う操作、或いは、これらの組み合わせの操作を行う際の雰囲気は、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、炭酸ガス等の不活性ガス、炭素数1以上4以下の低級飽和炭化水素系ガス、空気なる群から選ばれる少なくとも1種のガスの雰囲気下、流通下、減圧下又は加圧下、バブリング下、或いは、これらを組み合わせた条件下で行うことができる。これらのガスは、一種又は二種以上の混合ガスとして用いることができる。これらの内、好ましいガスは、前記不活性ガス、炭素数1以上4以下の低級飽和炭化水素系ガスであり、更に好ましくは、前記不活性ガスであり、より好ましくは窒素である。   Prior to separating and recovering the epoxy-modified silicone from the reaction mixture, an operation in which alcohols are contacted or mixed with the mixture before the epoxy-modified silicone is separated and recovered to reduce or eliminate unreacted SiH units, conventionally known The deactivating agent deactivator of the hydrosilylation catalyst is contacted or mixed with the mixture before the epoxy-modified silicone is separated and recovered to deactivate or deactivate the catalyst, and the adsorbent contains the epoxy-modified silicone. When the mixture before separation / recovery is contacted, mixed, or distributed to perform a process for adsorbing or removing metal components such as hydrosilylation catalyst or colored components, or a combination thereof. The atmosphere is an inert gas such as nitrogen, helium, neon, argon, krypton, xenon, carbon dioxide, 1 to 4 carbon atoms Of a lower saturated hydrocarbon gas, at least one gas selected from air comprising the group atmosphere, distribution, reduced pressure or under pressure, bubbling under, or can be carried out under the conditions of a combination of these. These gases can be used as one kind or a mixture of two or more kinds. Among these, a preferable gas is the inert gas, a lower saturated hydrocarbon gas having 1 to 4 carbon atoms, more preferably the inert gas, and more preferably nitrogen.

エポキシ変性シリコーンを分離回収する前の混合物をアルコール類と接触或いは混合して、未反応SiH単位を減少又は消失させる処理を行う操作、従来公知のヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤をエポキシ変性シリコーンを分離回収する前の混合物と接触或いは混合して、該触媒を失活又は不活性化処理する操作、吸着剤にエポキシ変性シリコーンを分離回収する前の混合物を接触、混合、或いは、流通して、ヒドロシリル化触媒等の金属成分や着色成分等を吸着除去或いは低減する処理を行う操作、或いは、これらの組み合わせの操作を行う際の温度は、エポキシ変性シリコーンの変性を抑制する上で、好ましくは0℃以上200℃以下の範囲、好ましくは5℃以上150℃以下の範囲、より好ましくは10℃以上100℃以下の範囲、更に好ましくは15℃以上80℃以下の範囲である。前記範囲内であれは、一定の温度である必要はなく、途中で温度を変化させることも可能である。
得られたエポキシ変性シリコーンを含む混合物からエポキシ変性シリコーンを分離する工程に供され、本願発明のエポキシ変性シリコーンが回収される。
An operation for reducing or eliminating the unreacted SiH units by contacting or mixing the mixture before the separation and recovery of the epoxy-modified silicone with alcohols, and a conventionally known hydrosilylation catalyst deactivator or deactivator. An operation of deactivating or deactivating the catalyst by contacting or mixing with the mixture before separating and recovering the epoxy-modified silicone, contacting, mixing, or mixing the mixture before separating and recovering the epoxy-modified silicone with the adsorbent, or The temperature at the time of carrying out the treatment for removing or reducing the metal component such as the hydrosilylation catalyst or the coloring component, or the operation of the combination of these, is to suppress the modification of the epoxy-modified silicone. , Preferably in the range of 0 ° C to 200 ° C, preferably in the range of 5 ° C to 150 ° C, more preferably in the range of 10 ° C to 100 ° C Range, more preferably in the range of 15 ℃ above 80 ° C. or less. If it is in the said range, it is not necessary to be constant temperature, and it is also possible to change temperature on the way.
It is used for the process of isolate | separating an epoxy modified silicone from the mixture containing the obtained epoxy modified silicone, and the epoxy modified silicone of this invention is collect | recovered.

本発明において、混合物からエポキシ変性シリコーンを分離回収する際のエポキシ変性シリコーンの変性を抑制する上で、分離回収する工程に供されるエポキシ変性シリコーン中に含有される全Si数に対する残留SiH単位数は2%以下であることが好ましく、1.5%以下であることがより好ましく、1%以下であることが更に好ましく、0.5%以下であることが特に好ましい。
本願発明において、炭素−炭素2重結合を有する化合物、及び、必要に応じて用いた、ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤を、低沸化合物と総称し、必要に応じて用いた溶媒、及び、必要に応じて、未反応SiH単位を減少或いは消失させる処理操作に用いたアルコール類を、揮発性化合物と総称する。
In the present invention, the number of residual SiH units relative to the total number of Si contained in the epoxy-modified silicone to be subjected to the separation / recovery step for suppressing the modification of the epoxy-modified silicone when separating and collecting the epoxy-modified silicone from the mixture Is preferably 2% or less, more preferably 1.5% or less, still more preferably 1% or less, and particularly preferably 0.5% or less.
In the present invention, the compound having a carbon-carbon double bond, and the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst used as necessary are collectively referred to as a low boiling point compound and used as necessary. Solvents and alcohols used in processing operations to reduce or eliminate unreacted SiH units as needed are collectively referred to as volatile compounds.

次に、エポキシ変性シリコーンを含む混合物から、エポキシ変性シリコーンを分離する方法について説明する。
エポキシ変性シリコーンを含む混合物から、エポキシ変性シリコーンを分離する方法は、本発明のエポキシ変性シリコーンが得られれば特に限定はなく、例えば、エポキシ変性シリコーンを含む混合物から、低沸化合物と揮発性化合物とを留去してエポキシ変性シリコーンを回収する方法、或いは、エポキシ変性シリコーンが高い揮発性を有する化合物の場合、蒸留によりエポキシ変性シリコーンを分離回収する方法、等が挙げられる。
Next, a method for separating the epoxy-modified silicone from the mixture containing the epoxy-modified silicone will be described.
The method for separating the epoxy-modified silicone from the mixture containing the epoxy-modified silicone is not particularly limited as long as the epoxy-modified silicone of the present invention can be obtained. For example, from the mixture containing the epoxy-modified silicone, the low boiling point compound and the volatile compound And a method of recovering the epoxy-modified silicone by distilling off, or a method of separating and recovering the epoxy-modified silicone by distillation when the epoxy-modified silicone is a highly volatile compound.

エポキシ変性シリコーンを含む混合物から、低沸化合物と揮発性化合物とを留去してエポキシ変性シリコーンを回収する場合には、低沸化合物と揮発性化合物とを構成する各々の化合物を同時に留去する方法、或いは、低沸化合物と揮発性化合物とを構成する各々の化合物を個別に分離する方法、或いは、これらを組み合わせた方法によって実施することができる。また、蒸留によりエポキシ変性シリコーンを分離回収する場合には、1工程でエポキシ変性シリコーンを分離回収する方法、或いは、一度低沸化合物と揮発性化合物とを構成する1種以上の化合物とエポキシ変性シリコーンとの混合物を分離し、引き続いて、同一又は異なる条件にて、低沸化合物及び/又は揮発性化合物を構成する1種以上の化合物とエポキシ変性シリコーンからエポキシ変性シリコーンを1工程、又は逐次に分離する方法、或いは、これらの組み合わせによる方法によって実施することができる。   When recovering the epoxy-modified silicone from the mixture containing the epoxy-modified silicone by distilling off the low-boiling compound and the volatile compound, the respective compounds constituting the low-boiling compound and the volatile compound are distilled off simultaneously. It can be carried out by a method, a method in which each compound constituting a low boiling point compound and a volatile compound is individually separated, or a method in which these are combined. When the epoxy-modified silicone is separated and recovered by distillation, a method of separating and recovering the epoxy-modified silicone in one step, or one or more compounds that once constitute a low-boiling compound and a volatile compound and the epoxy-modified silicone The epoxy-modified silicone is subsequently separated in one step or sequentially from one or more compounds constituting the low boiling point compound and / or volatile compound and the epoxy-modified silicone under the same or different conditions. It can implement by the method to do or the method by these combination.

エポキシ変性シリコーンを含む混合物から、エポキシ変性シリコーンを分離する際の雰囲気は、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、炭酸ガス等の不活性ガス、炭素数1以上4以下の低級飽和炭化水素系ガス、空気なる群から選ばれる少なくとも1種のガスの雰囲気下、流通下、減圧下又は加圧下、バブリング下、或いは、これらを組み合わせた条件下で行うことができる。これらのガスは、一種又は二種以上の混合ガスとして用いることができる。これらの内、好ましいガスは、前記不活性ガス、炭素数1以上4以下の低級飽和炭化水素系ガスであり、更に好ましくは、前記不活性ガスであり、より好ましくは窒素である。   The atmosphere for separating the epoxy-modified silicone from the mixture containing the epoxy-modified silicone is an inert gas such as nitrogen, helium, neon, argon, krypton, xenon, carbon dioxide, or a lower saturated hydrocarbon having 1 to 4 carbon atoms. The reaction can be performed under an atmosphere of at least one gas selected from the group consisting of a system gas and air, under circulation, under reduced pressure or under pressure, under bubbling, or under a combination of these. These gases can be used as one kind or a mixture of two or more kinds. Among these, a preferable gas is the inert gas, a lower saturated hydrocarbon gas having 1 to 4 carbon atoms, more preferably the inert gas, and more preferably nitrogen.

エポキシ変性シリコーンを含む混合物から、エポキシ変性シリコーンを分離する際の温度は、エポキシ変性シリコーン、低沸化合物と揮発性化合物の種類によっても異なるが、エポキシ変性シリコーンの変性を抑制する上で、好ましくは0℃以上200℃以下の範囲、好ましくは5℃以上150℃以下の範囲、より好ましくは10℃以上100℃以下の範囲、更に好ましくは15℃以上80℃以下の範囲である。前記範囲内であれは、エポキシ変性シリコーンを含む混合物から、エポキシ変性シリコーンを分離する際の温度は、一定の温度である必要はなく、途中で温度を変化させることも可能である。   The temperature at which the epoxy-modified silicone is separated from the mixture containing the epoxy-modified silicone varies depending on the types of the epoxy-modified silicone, the low boiling point compound, and the volatile compound. The range is from 0 ° C. to 200 ° C., preferably from 5 ° C. to 150 ° C., more preferably from 10 ° C. to 100 ° C., and even more preferably from 15 ° C. to 80 ° C. If it is in the said range, the temperature at the time of isolate | separating an epoxy-modified silicone from the mixture containing an epoxy-modified silicone does not need to be a fixed temperature, and it is also possible to change temperature on the way.

エポキシ変性シリコーンを含む混合物から、エポキシ変性シリコーンを分離する工程には、低沸化合物と揮発性化合物の含有量が低減してエポキシ変性シリコーンを含む混合物の粘度が上昇した場合においても、効率的に低沸化合物と揮発性化合物を分離し得る装置を用いることが好ましい。この様な装置としては、例えば、竪型撹拌槽、表面更新型撹拌槽、薄膜蒸発装置、表面更新型二軸混練器、二軸横型撹拌器、濡れ壁式反応器、自由落下型の多孔板型反応器、支持体に沿わせて化合物を落下させながら揮発成分を留去させる反応器等が挙げられる。これらの装置は、1種又は2種以上を組み合わせて用いることも可能である。   The step of separating the epoxy-modified silicone from the mixture containing the epoxy-modified silicone is effective even when the content of the low-boiling compound and the volatile compound is reduced and the viscosity of the mixture containing the epoxy-modified silicone is increased. It is preferable to use an apparatus capable of separating low boiling compounds and volatile compounds. Examples of such devices include vertical stirring tanks, surface renewal stirring tanks, thin film evaporators, surface renewal biaxial kneaders, biaxial horizontal stirrers, wet wall reactors, free-falling perforated plates Examples thereof include a type reactor, and a reactor in which volatile components are distilled off while dropping a compound along a support. These apparatuses can be used alone or in combination of two or more.

本発明の方法により得られるエポキシ変性シリコーンには、エポキシ変性シリコーンを製造する際に用いたエポキシ変性シリコーンを製造する際に用いた、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)を含むビニル化合物(b)に由来する、炭素−炭素2重結合を有する化合物や溶媒等の低沸化合物及び/又は揮発性化合物が残留する場合がある。   The epoxy-modified silicone obtained by the method of the present invention includes the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, which was used in producing the epoxy-modified silicone used in producing the epoxy-modified silicone. A low boiling point compound and / or a volatile compound such as a compound having a carbon-carbon double bond or a solvent derived from the vinyl compound (b) to be contained may remain.

ここで、本発明における「炭素−炭素2重結合を有する化合物」について説明する。本発明における炭素−炭素2重結合を有する化合物とは、シリコーン以外の化合物であって、分子内に1つ以上の炭素−炭素2重結合を有する化合物ものをいう。したがって、オルガノハイドロジェンシリコーンやエポキシ変性シリコーンについては分子内に炭素−炭素2重結合を有していてもこれには含まない。
このような炭素−炭素2重結合を有する化合物としては、例えば、
(i)ヒドロシリル化反応に供するために添加したビニル化合物の余剰あるいは未反応物、
(ii)ヒドロシリル化反応に供するために添加したビニル化合物中に含有されていた炭素−炭素2重結合を有する不純物、
(iii)ヒドロシリル化反応に供するために添加したビニル化合物中の炭素−炭素2重結合が、ヒドロシリル化反応中に内部転移を起こして生成した副生成物、
等が挙げられる。
Here, the “compound having a carbon-carbon double bond” in the present invention will be described. The compound having a carbon-carbon double bond in the present invention refers to a compound other than silicone and having one or more carbon-carbon double bonds in the molecule. Therefore, organohydrogen silicone and epoxy-modified silicone are not included even if they have a carbon-carbon double bond in the molecule.
As a compound having such a carbon-carbon double bond, for example,
(I) excess or unreacted vinyl compound added to be subjected to hydrosilylation reaction,
(Ii) Impurities having a carbon-carbon double bond contained in the vinyl compound added for use in the hydrosilylation reaction,
(Iii) a by-product generated by an internal transition of the carbon-carbon double bond in the vinyl compound added for use in the hydrosilylation reaction, during the hydrosilylation reaction;
Etc.

前記(ii)ヒドロシリル化反応に供するために添加したビニル化合物中に含有されていた炭素−炭素2重結合を有する不純物の具体例としては、例えば、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド中に含まれることのある4−エポキシエチル−シクロへキセン等が挙げられる。   As a specific example of the impurity having a carbon-carbon double bond contained in the vinyl compound added for use in the (ii) hydrosilylation reaction, it may be contained in, for example, 4-vinylcyclohexene oxide. 4-epoxyethyl-cyclohexene and the like can be mentioned.

前記(iii)ヒドロシリル化反応に供するために添加したビニル化合物中の炭素−炭素2重結合が、ヒドロシリル化反応中に内部転移を起こして生成した副生成物としては、使用するビニル化合物の種類やヒドロシリル化反応条件によっても異なるが、例えば、ビニル化合物として1−ヘキセンを用いた場合の副生成物としては、2−ヘキセン、3−ヘキセン等が、また、例えば、ビニル化合物としてビニルシクロヘキサンを用いた場合の副生成物としては、エチリデニルシクロヘキサン等が挙げられる。   The (iii) by-product produced by the internal transfer of the carbon-carbon double bond in the vinyl compound added for use in the hydrosilylation reaction during the hydrosilylation reaction includes the type of vinyl compound used, Although depending on the hydrosilylation reaction conditions, for example, as a by-product when 1-hexene is used as the vinyl compound, 2-hexene, 3-hexene, etc. are used, and, for example, vinylcyclohexane is used as the vinyl compound. Examples of by-products include ethylidenylcyclohexane.

更に、ビニル化合物として、例えば、(a−1)4−ビニルシクロへキセンオキサイド、(a−2)1−メチル−4−イソプロペニルシクロヘキセンオキサイド、(a−3)1,4−ジメチル−4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、(a−4)ビニルノルボルネンオキサイド等のビニル基を有するエポキシシクロアルカンを用いた場合、(a−1)〜(a−4)に対応する副生成物としては、各々、(b−1)4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、(b−2)1−メチル−4−イソプロペリデニルシクロヘキセンオキサイド、(b−3)1,4−ジメチル−4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、(b−4)エチリデニルノルボルネンオキサイド等が挙げられる。更に、例えば、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物として、(a−5)1,2−エポキシ−5−ヘキセンを用いた場合、(a−5)に対応するビニル化合物中の炭素−炭素2重結合がヒドロシリル化反応中に内部転移を起こして生成した副生成物としては、1,2−エポキシ−4−ヘキセン、1,2−エポキシ−3−ヘキセン、1,2−エポキシ−2−ヘキセン等が挙げられる。   Furthermore, as the vinyl compound, for example, (a-1) 4-vinylcyclohexene oxide, (a-2) 1-methyl-4-isopropenylcyclohexene oxide, (a-3) 1,4-dimethyl-4-vinyl When epoxycycloalkanes having a vinyl group such as cyclohexene oxide and (a-4) vinyl norbornene oxide are used, by-products corresponding to (a-1) to (a-4) are respectively (b- 1) 4-ethylidenylcyclohexene oxide, (b-2) 1-methyl-4-isoproperenyl cyclohexene oxide, (b-3) 1,4-dimethyl-4-ethylidenylcyclohexene oxide, (b- 4) Ethylidenyl norbornene oxide and the like. Further, for example, when (a-5) 1,2-epoxy-5-hexene is used as a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, carbon in the vinyl compound corresponding to (a-5) -By-products generated by internal transfer of carbon double bond during hydrosilylation reaction include 1,2-epoxy-4-hexene, 1,2-epoxy-3-hexene, 1,2-epoxy- 2-hexene and the like can be mentioned.

本発明の方法によって得られるエポキシ変性シリコーンを用いた硬化物の耐熱変色性や耐光性が向上すると共に、本発明の方法によって得られるエポキシ変性シリコーンを用いた硬化物の耐熱変色性や耐光性が向上することから、本発明の方法によって得られるエポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は2質量%以下であることが好ましく、1.5質量%以下であることがより好ましく、1質量%以下であることが更に好ましく、0.75質量%以下であることが特に好ましく、0.5質量%以下であることが望ましく、0.3質量%以下であることが特に望ましい。   The heat discoloration and light resistance of the cured product using the epoxy-modified silicone obtained by the method of the present invention are improved, and the heat discoloration and light resistance of the cured product using the epoxy-modified silicone obtained by the method of the present invention are improved. From the viewpoint of improvement, the total amount of low boiling point compounds remaining in the epoxy-modified silicone obtained by the method of the present invention is preferably 2% by mass or less, more preferably 1.5% by mass or less. More preferably, it is more preferably no more than 0.75% by mass, particularly preferably no more than 0.75% by mass, and more preferably no more than 0.5% by mass, and particularly preferably no more than 0.3% by mass.

本発明において、低沸化合物が2種以上の成分からなる場合には、本発明における、エポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量とは、エポキシ変性シリコーン中に残留する各成分の合計値を意味する。
エポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は少ない方がよいが、残留する低沸化合物の合計量を0とするのは時間と労力がかかるのに比して、着色や変色を低減する効果が小さい。そのため、費用対効果という観点からは、エポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は、0.003質量%程度まで低減することが現実的である。
In the present invention, when the low-boiling compound is composed of two or more components, the total amount of low-boiling compounds remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is the total of each component remaining in the epoxy-modified silicone. Mean value.
The total amount of low-boiling compounds remaining in the epoxy-modified silicone should be small, but reducing the total amount of low-boiling compounds to 0 reduces coloring and discoloration compared to the time and labor required. The effect to do is small. Therefore, from the viewpoint of cost effectiveness, it is realistic that the total amount of low boiling point compounds remaining in the epoxy-modified silicone is reduced to about 0.003% by mass.

また、エポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の内、炭素−炭素2重結合を有する化合物の残留量は、硬化物の光や熱による着色や変色低減のために、エポキシ変性シリコーンに対して1.5質量%以下であることが好ましく、1質量%以下であることがより好ましく、0.75質量%以下であることが更に好ましく、0.5質量%以下であることが特に好ましく、0.3質量%以下であることが望ましく、0.1質量%以下であることが特に望ましい。   In addition, among the low-boiling compounds remaining in the epoxy-modified silicone, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond is less than that of the epoxy-modified silicone in order to reduce coloring or discoloration of the cured product by light or heat. It is preferably 1.5% by mass or less, more preferably 1% by mass or less, still more preferably 0.75% by mass or less, particularly preferably 0.5% by mass or less, 0 It is desirably 3% by mass or less, and particularly desirably 0.1% by mass or less.

本発明において、炭素−炭素2重結合を有する化合物が2種以上の成分からなる場合には、本発明における、エポキシ変性シリコーン中に残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の残留量とは、エポキシ変性シリコーン中に残留する各成分の合計値を意味する。
また、エポキシ変性シリコーン中に残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の内、エポキシ基を有する化合物の残留量は、硬化物の光や熱による着色や変色低減のために、エポキシ変性シリコーンに対して1質量%以下であることが好ましく、0.6質量%以下であることがより好ましく、0.3質量%以下であることが更に好ましく、0.1質量%以下であることが特に好ましく、0.05質量%以下であることが望ましい。
ここで、エポキシ変性シリコーン中に残留する、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物が2種以上ある場合には、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物の残留量とは、残留する各成分の合計量を意味する。
In the present invention, when the compound having a carbon-carbon double bond is composed of two or more components, what is the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention? Means the total value of each component remaining in the epoxy-modified silicone.
Of the compounds having a carbon-carbon double bond remaining in the epoxy-modified silicone, the residual amount of the compound having an epoxy group is the same as that of the epoxy-modified silicone in order to reduce the coloration or discoloration of the cured product by light or heat. It is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.6% by mass or less, still more preferably 0.3% by mass or less, and particularly preferably 0.1% by mass or less. 0.05 mass% or less is desirable.
Here, when there are two or more compounds having a carbon-carbon double bond and an epoxy group remaining in the epoxy-modified silicone, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is: It means the total amount of each remaining component.

更に、エポキシ変性シリコーン中に残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の内、ヒドロシリル化反応に供するために添加したエポキシ基を有する化合物(a)の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の残留量は、硬化物の光や熱による着色や変色低減のために、エポキシ変性シリコーンに対し0.5質量%以下であることが好ましく、0.3質量%以下であることがより好ましく、0.1質量%以下であることが更に好ましく、0.05質量%以下であることが特に好ましい。   Further, among the compounds having a carbon-carbon double bond remaining in the epoxy-modified silicone, the carbon-carbon double bond of the compound (a) having an epoxy group added for use in the hydrosilylation reaction causes an internal transition. The residual amount of by-products generated in this way is preferably 0.5% by mass or less, and 0.3% by mass or less, based on the epoxy-modified silicone, in order to reduce coloration or discoloration of the cured product by light or heat. More preferably, it is more preferably 0.1% by mass or less, and particularly preferably 0.05% by mass or less.

ここで、エポキシ変性シリコーン中に残留する、ヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物が2種以上ある場合には、ヒドロシリル化反応に供するために添加したエポキシ基を有するビニル化合物の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の残留量とは、残留する各成分の合計量を意味する。   Here, the carbon-carbon double bond of the compound (a) having the carbon-carbon double bond and the epoxy group added to be used for the hydrosilylation reaction remaining in the epoxy-modified silicone was produced by causing an internal transition. When there are two or more by-products, the residual amount of by-products generated by the internal transition of the carbon-carbon double bond of the vinyl compound having an epoxy group added for use in the hydrosilylation reaction Means the total amount of each remaining component.

なお、ヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)中に、既に前記の炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物同志の炭素−炭素2重結合位置が異なる化合物が含有されている場合には、該含有されている炭素−炭素2重結合位置が異なる化合物は、本発明における炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物には含めない。   In addition, in the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group added for use in the hydrosilylation reaction, the carbon-carbon 2 of the compounds already having the carbon-carbon double bond and the epoxy group is included. When a compound having a different heavy bond position is contained, the compound having a different carbon-carbon double bond position is a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group in the present invention (a). Of carbon-carbon double bonds are not included in by-products generated by internal transition.

また、本発明において、ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤を反応混合物と接触或いは混合して、該触媒を失活又は不活性化処理した場合には、該処理に用いたヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は、硬化物の光や熱による着色や変色低減のために、エポキシ変性シリコーンに対して0.5質量%以下であることが好ましく、0.3質量%以下であることがより好ましく、0.1質量%以下であることが更に好ましく、0.05質量%以下であることが特に好ましい。
本発明において、ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤が2種以上の成分からなる場合には、本発明における、エポキシ変性シリコーン中に残留するヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量とは、エポキシ変性シリコーン中に残留する各成分の合計値を意味する。
Further, in the present invention, when the hydrosilylation catalyst deactivator or deactivator is brought into contact with or mixed with the reaction mixture to deactivate or deactivate the catalyst, the hydrosilylation used in the treatment is used. The residual amount of the catalyst deactivator or deactivator is preferably 0.5% by mass or less based on the epoxy-modified silicone in order to reduce coloration or discoloration of the cured product by light or heat. The content is more preferably 3% by mass or less, still more preferably 0.1% by mass or less, and particularly preferably 0.05% by mass or less.
In the present invention, when the hydrosilylation catalyst deactivator or deactivator comprises two or more components, the hydrosilylation catalyst deactivator or deactivation remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention The residual amount of the agent means the total value of each component remaining in the epoxy-modified silicone.

本発明で得られるエポキシ変性シリコーンには、エポキシ変性シリコーンを製造する際に用いた溶媒や、反応混合物をアルコール類と接触或いは混合して、未反応SiH単位を減少又は消失させる処理するために用いた揮発性化合物が残留する場合がある。本発明のエポキシ変性シリコーンを硬化物とする際に、該硬化物中に気泡の発生を抑制する上で、本発明のエポキシ変性シリコーン中に残留する揮発性化合物の合計量は、1質量%以下であることが好ましく、0.1質量%以下であることがより好ましく、0.05質量%以下であることが更に好ましい。   The epoxy-modified silicone obtained in the present invention is used for processing to reduce or eliminate unreacted SiH units by contacting or mixing the solvent or reaction mixture used in producing the epoxy-modified silicone with alcohols. Volatile compounds may remain. When the epoxy-modified silicone of the present invention is used as a cured product, the total amount of volatile compounds remaining in the epoxy-modified silicone of the present invention is 1% by mass or less in order to suppress the generation of bubbles in the cured product. It is preferable that it is 0.1 mass% or less, and it is still more preferable that it is 0.05 mass% or less.

本発明において、揮発性化合物が2種以上の成分からなる場合には、本発明における、エポキシ変性シリコーン中に残留する揮発性化合物の合計量とは、エポキシ変性シリコーン中に残留する各成分の合計値を意味する。
エポキシ変性シリコーン中に残留する揮発性化合物の合計量は少ない方がよいが、残留する揮発性化合物の合計量を0とするのは時間と労力がかかるのに比して、着色や変色を低減する効果が小さい。そのため、費用対効果という観点からは、エポキシ変性シリコーン中に残留する揮発性化合物の合計量は、0.0005質量%程度まで低減することが現実的である。
In the present invention, when the volatile compound is composed of two or more components, the total amount of the volatile compound remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is the total of each component remaining in the epoxy-modified silicone. Mean value.
The total amount of volatile compounds remaining in the epoxy-modified silicone should be small, but reducing the total amount of remaining volatile compounds to 0 reduces the coloration and discoloration compared to the time and labor required. The effect to do is small. Therefore, from the viewpoint of cost effectiveness, it is realistic that the total amount of volatile compounds remaining in the epoxy-modified silicone is reduced to about 0.0005% by mass.

本発明により得られるエポキシ変性シリコーン中に残留するSiH単位の量は、エポキシ変性シリコーンの保存安定性変性を高める上で、エポキシ変性シリコーン中に含有される全Si数に対する残留SiH単位数が2%以下であることが好ましく、1.5%以下であることがより好ましく、1%以下であることが更に好ましく、0.5%以下であることが特に好ましい。   The amount of SiH units remaining in the epoxy-modified silicone obtained by the present invention is such that the number of residual SiH units is 2% with respect to the total number of Si contained in the epoxy-modified silicone in order to improve the storage stability modification of the epoxy-modified silicone. Or less, more preferably 1.5% or less, still more preferably 1% or less, and particularly preferably 0.5% or less.

本発明により得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化物の耐熱性が高まることから、本発明により得られるエポキシ変性シリコーンのエポキシ価は0.10以上であることが好ましく、0.12以上がより好ましく、0.14以上が更に好ましい。一方、ヒドロシリル化反応後に得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化物の耐光性が高まることからエポキシ価が0.5以下であることが好ましく、0.48以下がより好ましく、0.46以下が更に好ましい。   Since the heat resistance of the cured product obtained using the epoxy-modified silicone obtained by the present invention is increased, the epoxy value of the epoxy-modified silicone obtained by the present invention is preferably 0.10 or more, and 0.12 or more. More preferred is 0.14 or more. On the other hand, since the light resistance of the cured product obtained using the epoxy-modified silicone obtained after the hydrosilylation reaction is increased, the epoxy value is preferably 0.5 or less, more preferably 0.48 or less, and 0.46 or less. Is more preferable.

本発明におけるエポキシ価とは、エポキシ変性シリコーン100g中に存在するエポキシ単位の数のことをさし、具体的には、以下の方法によって測定される値のことをいう。
<エポキシ価の測定方法>
樹脂試料をベンジルアルコールと1−プロパノールで溶解する。この溶液にヨウ化カリウム水溶液、ブロモフェノールブルー指示薬を添加した後、1規定塩酸にて滴定し、反応系内が青色から黄色になった点を当量点とする。当量点より、エポキシ変性シリコーンのエポキシ価を以下の式(22)に従って算出する。
エポキシ価(当量/100g)=(V×N×F)/(10×W)・・・式(22)
[ただし、W、V、N、Fは各々以下の値を表す。
W:試料の重量(g)、
V:滴定量(ml)、
N:滴定に使用した塩酸の規定度(N)、
F:滴定に使用した塩酸のファクター ]
The epoxy value in the present invention refers to the number of epoxy units present in 100 g of epoxy-modified silicone, and specifically refers to a value measured by the following method.
<Method for measuring epoxy value>
The resin sample is dissolved with benzyl alcohol and 1-propanol. To this solution, an aqueous potassium iodide solution and a bromophenol blue indicator are added, followed by titration with 1N hydrochloric acid, and the point where the reaction system turns from blue to yellow is taken as the equivalent point. From the equivalent point, the epoxy value of the epoxy-modified silicone is calculated according to the following formula (22).
Epoxy value (equivalent / 100 g) = (V × N × F) / (10 × W) Formula (22)
[W, V, N, and F represent the following values, respectively.
W: weight of sample (g),
V: titer (ml),
N: Normality of hydrochloric acid used for titration (N),
F: Factor of hydrochloric acid used for titration]

本発明により得られるエポキシ変性シリコーンを用いて硬化物を作成する際に、用いられる硬化剤との相溶性が高まり硬化操作が容易になることから、本発明により得られるエポキシ変性シリコーン中に含まれる分子量1,000以下の成分の含有量は15%以下であることが好ましく、10%以下であることがより好ましく、5%以下であることが特に好ましい。   When the cured product is prepared using the epoxy-modified silicone obtained by the present invention, it is included in the epoxy-modified silicone obtained by the present invention because the compatibility with the curing agent used is increased and the curing operation is facilitated. The content of components having a molecular weight of 1,000 or less is preferably 15% or less, more preferably 10% or less, and particularly preferably 5% or less.

ここで、本発明により得られるエポキシ変性シリコーン中に含まれる分子量1,000以下の成分の含有量について説明する。本発明により得られるエポキシ変性シリコーン中に含まれる分子量1,000以下の成分の含有量は、単分散ポリスチレンを標準物質とするゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定によって得られる溶出曲線において、変性ポリシロキサンの溶出開始点と溶出終了点を結んで得られる該溶出ピーク面積(ピーク面積1)に対する、該溶出ピーク面積の内の標準物質から算出される分子量1,000以下に相当するピークの面積(ピーク面積2)の比率を百分率で表した数値[すなわち、(ピーク面積2)/(ピーク面積1)×100(%)で表される数値]のことをさす。   Here, the content of components having a molecular weight of 1,000 or less contained in the epoxy-modified silicone obtained by the present invention will be described. The content of the component having a molecular weight of 1,000 or less contained in the epoxy-modified silicone obtained by the present invention is determined by gelation permeation chromatography (GPC) measurement using monodisperse polystyrene as a standard substance in the modified polycrystal. The area of a peak corresponding to a molecular weight of 1,000 or less calculated from a standard substance within the elution peak area with respect to the elution peak area (peak area 1) obtained by connecting the elution start point and elution end point of siloxane ( It is a numerical value [that is, a numerical value represented by (peak area 2) / (peak area 1) × 100 (%)] in which the ratio of peak area 2) is expressed as a percentage.

本発明により得られるエポキシ変性シリコーンには、エポキシ変性シリコーンを製造する際に用いたヒドロシリル化触媒等の触媒の残さ、或いは、反応装置から溶出する金属成分等が混入する場合がある。例えば、SUS316合金を用いると、Fe、Ni、Cr、Mo等の金属元素が溶出する場合がある。これらの金属、中でも遷移金属成分が、本発明により得られるエポキシ変性シリコーンを硬化物とした際に、該硬化物の耐光性に影響を与える場合がある。該硬化物の耐光性を高いレベルで維持する点において、本発明のエポキシ変性シリコーン中に含有される、周期律表3族〜11族に該当する遷移金属成分の合計量が元素換算で、20ppm以下であることが好ましく、10ppm以下であることがより好ましく、5ppm以下であることが更に好ましい。   The epoxy-modified silicone obtained by the present invention may contain a residue of a catalyst such as a hydrosilylation catalyst used when producing the epoxy-modified silicone or a metal component eluted from the reaction apparatus. For example, when SUS316 alloy is used, metal elements such as Fe, Ni, Cr, and Mo may be eluted. These metals, especially transition metal components, may affect the light resistance of the cured product when the epoxy-modified silicone obtained by the present invention is cured. In the point which maintains the light resistance of this hardened | cured material at a high level, the total amount of the transition metal component applicable to the periodic table group 3-11 group contained in the epoxy modified silicone of this invention is 20 ppm in element conversion. Is preferably 10 ppm or less, more preferably 5 ppm or less.

遷移金属成分の含有量を低減させる方法としては、例えば、ヒドロシリル化反応後の反応液を、活性炭、シリカゲル、アルミナ粉、イオン交換樹脂などの吸着剤に通して金属成分を吸着除去する方法が例示できる。また、例えば、本願のエポキシ変性シリコーンを製造する工程の反応装置から溶出する上記遷移金属元素量を考慮し、本願のエポキシ変性シリコーン中に含有される遷移金属成分の合計量が上記範囲以下となる様に、ヒドロシリル化反応に用いる触媒の使用量を低減する方法等も好ましい方法として例示される。   Examples of the method for reducing the content of the transition metal component include a method in which the reaction solution after the hydrosilylation reaction is passed through an adsorbent such as activated carbon, silica gel, alumina powder, or ion exchange resin to adsorb and remove the metal component. it can. In addition, for example, considering the amount of the transition metal element eluted from the reaction apparatus in the step of producing the epoxy-modified silicone of the present application, the total amount of transition metal components contained in the epoxy-modified silicone of the present application is not more than the above range. Similarly, a method for reducing the amount of the catalyst used for the hydrosilylation reaction is also exemplified as a preferred method.

本発明により得られるエポキシ変性シリコーンは、透明性が求められる用途に用いることが可能な優れた透明性を有する上に、優れた耐光性、耐熱性、更には耐クラック性を有することから、発光素子用封止剤、眼鏡レンズ、光学機器用レンズ、CDやDVDのピックアップ用レンズ、自動車ヘッドランプ用レンズ、プロジェクター用レンズなどのレンズ材料、光ファイバー、光導波路、光フィルター、光学用接着剤、光ディスク基板、ディスプレイ基板、反射防止膜などのコーティング材料等、各種光学部材として用いることが可能である。   The epoxy-modified silicone obtained by the present invention has excellent transparency that can be used in applications where transparency is required, and also has excellent light resistance, heat resistance, and crack resistance. Sealants for elements, eyeglass lenses, lenses for optical devices, lenses for picking up CDs and DVDs, lenses for automobile headlamps, lenses for projectors, optical fibers, optical waveguides, optical filters, optical adhesives, optical disks It can be used as various optical members such as a substrate, a display substrate, and a coating material such as an antireflection film.

前記用途に用いる場合、本発明により得られるエポキシ変性シリコーンと、必要に応じてエポキシ樹脂及び/又はエポキシ樹脂用硬化剤、硬化促進剤、カチオン重合触媒、変性剤、無機フィラー、シランカップリング剤、消泡剤、着色剤、蛍光体、変色防止剤、光拡散剤、熱伝導性フィラー等、従来公知の添加剤を適宜配合することも可能である。   When used in the above applications, the epoxy-modified silicone obtained by the present invention, and epoxy resin and / or epoxy resin curing agent, curing accelerator, cationic polymerization catalyst, modifier, inorganic filler, silane coupling agent, if necessary, Conventionally known additives such as an antifoaming agent, a colorant, a phosphor, a discoloration preventing agent, a light diffusing agent, and a heat conductive filler can be appropriately blended.

用いられるエポキシ樹脂としては、従来公知の芳香族グリシジルエーテルに代表される芳香族系エポキシ樹脂の芳香環を水素化して得られるグリシジルエーテル類、脂環式エポキシ樹脂類、その他のエポキシ樹脂等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の混合物として用いることができる。   Examples of the epoxy resin used include glycidyl ethers obtained by hydrogenating aromatic rings of aromatic epoxy resins represented by conventionally known aromatic glycidyl ethers, alicyclic epoxy resins, and other epoxy resins. It is done. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

前記の芳香族グリシジルエーテルとしては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、ビスフェノールS、テトラメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールAD、テトラメチルビスフェノールS、テトラブロモビスフェノールA、テトラクロロビスフェノールA、テトラフルオロビスフェノールA等のビスフェノール類をグリシジル化したビスフェノール型エポキシ樹脂、ビフェノール、ジヒドロキシナフタレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン等のその他の2価フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、4,4−(1−(4−(1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル)フェニル)エチリデン)ビスフェノール等のトリスフェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、1,1,2,2,−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン等のテトラキスフェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、フェノールノボラック、クレゾールノボラック、ビスフェノールAノボラック、臭素化フェノールノボラック、臭素化ビスフェノールAノボラック等のノボラック類をグリシジル化したノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。
芳香族グリシジルエーテルの芳香環の水素化反応は、例えば、ルテニウム系触媒、ロジウム系触媒等を用いる従来公知の方法により実施することが可能である。
Examples of the aromatic glycidyl ether include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, bisphenol S, tetramethylbisphenol A, tetramethylbisphenol F, tetramethylbisphenol AD, tetramethylbisphenol S, tetrabromobisphenol A, and tetrachloro. Bisphenol type epoxy resin obtained by glycidylation of bisphenols such as bisphenol A and tetrafluorobisphenol A, and epoxy obtained by glycidylation of other dihydric phenols such as biphenol, dihydroxynaphthalene and 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene Resin, 1,1,1-tris (4-hydroxyphenyl) methane, 4,4- (1- (4- (1- (4-hydroxyphenyl) -1-methyl ester) Epoxy resin obtained by glycidylation of trisphenol such as l) phenyl) ethylidene) bisphenol, epoxy resin obtained by glycidylation of tetrakisphenol such as 1,1,2,2, -tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolac Novolak type epoxy resins obtained by glycidylating novolaks such as cresol novolak, bisphenol A novolak, brominated phenol novolak, brominated bisphenol A novolak, and the like.
The hydrogenation reaction of the aromatic ring of the aromatic glycidyl ether can be carried out by a conventionally known method using, for example, a ruthenium-based catalyst or a rhodium-based catalyst.

脂環式エポキシ樹脂類としては、従来公知の化合物、例えば、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート等が挙げられる。   Examples of the alicyclic epoxy resins include conventionally known compounds such as 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate and 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol. , 2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, and the like.

その他のエポキシ樹脂類としては、ダイマー酸グリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸グリシジルエステル等のグリシジルエステル類、トリグリシジルイソシアヌレート等のグリシジルアミン類、エポキシ化大豆油、エポキシ化ポリブタジエン等の線状脂肪族エポキシ化合物等が例示できる。
前記のエポキシ樹脂として、芳香族系エポキシ樹脂を用いる場合、耐光性が良好となるという点で、用いられるエポキシ樹脂の総質量に対する該芳香族系エポキシ樹脂の比率は50質量%以下であることが好ましく、30質量%以下であることが更に好ましく、10質量%以下であることがより好ましく、上記のエポキシ樹脂として、芳香族系エポキシ樹脂を全く含まないエポキシ樹脂を用いることが特に好ましい。
前記エポキシ樹脂の使用量は、本発明によって得られるエポキシ変性シリコーン100質量部に対して、0.1〜100質量部用いることが好ましく、より好ましくは1〜100質量部、更に好ましくは1〜80質量部である。
Other epoxy resins include glycidyl esters such as dimer acid glycidyl ester and hexahydrophthalic acid glycidyl ester, glycidyl amines such as triglycidyl isocyanurate, linear aliphatic epoxies such as epoxidized soybean oil and epoxidized polybutadiene. A compound etc. can be illustrated.
When an aromatic epoxy resin is used as the epoxy resin, the ratio of the aromatic epoxy resin to the total mass of the epoxy resin used is 50% by mass or less in that light resistance is improved. The content is preferably 30% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and particularly preferably an epoxy resin containing no aromatic epoxy resin as the epoxy resin.
The amount of the epoxy resin used is preferably 0.1 to 100 parts by weight, more preferably 1 to 100 parts by weight, and still more preferably 1 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy-modified silicone obtained by the present invention. Part by mass.

本発明において用いることができるエポキシ樹脂用硬化剤は、例えば、ポリアゼライン酸無水物、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物、ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチル−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチル−ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物等の脂環式酸無水物類、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等の芳香族酸無水物類、1分子中に2個以上の酸無水物含有官能基を置換基として有するシリコーン類、等が挙げられる。   Examples of the curing agent for epoxy resin that can be used in the present invention include polyazeline acid anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and 5-norbornene-2. , 3-dicarboxylic acid anhydride, norbornane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid anhydride, methyl-norbornane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, etc. Aromatic acid anhydrides such as formula acid anhydrides, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, silicones having two or more acid anhydride-containing functional groups in a molecule as substituents, Etc.

これらの内、本願発明のエポキシ変性シリコーンを硬化して得られる硬化物の耐光性が高まることから、脂環式酸無水物類、1分子中に2個以上の酸無水物含有官能基を置換基として有するシリコーン類が更に好ましく、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチル−ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物がより好ましく用いられる。
これらの硬化剤は1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。
エポキシ樹脂用硬化剤の使用量は、本発明によって得られるエポキシ変性シリコーン100質量部に対して1質量部以上200質量部以下用いることが好ましく、2質量部以上100質量部以下用いることがより好ましい。
Among these, since the light resistance of the cured product obtained by curing the epoxy-modified silicone of the present invention is increased, alicyclic acid anhydrides are substituted with two or more acid anhydride-containing functional groups in one molecule. Silicones having a group are more preferable, and methylhexahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, norbornane-2,3-dicarboxylic anhydride, and methyl-norbornane-2,3-dicarboxylic anhydride are more preferably used.
These curing agents can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.
The amount of the epoxy resin curing agent used is preferably 1 part by mass or more and 200 parts by mass or less, and more preferably 2 parts by mass or more and 100 parts by mass or less, with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone obtained by the present invention. .

本発明によって得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化性組成物には、必要に応じて、硬化促進剤が含有されていてもよい。用いられる硬化促進剤としては、イミダゾール化合物、4級アンモニウム塩、ホスホニウム塩、アミン化合物、アルミニウムキレート化合物、有機ホスフィン化合物、金属カルボン酸塩やアセチルアセトンキレート化合物等が挙げられる。これらの硬化促進剤は1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。     The curable composition obtained by using the epoxy-modified silicone obtained by the present invention may contain a curing accelerator as necessary. Examples of the curing accelerator used include imidazole compounds, quaternary ammonium salts, phosphonium salts, amine compounds, aluminum chelate compounds, organic phosphine compounds, metal carboxylates and acetylacetone chelate compounds. These curing accelerators can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

これらの化合物の具体例としては、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、トリメチルアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、2,4,6−トリスジメチルアミノメチルフェノールなどのアミン化合物及びその塩、テトラメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムブロミドなどの4級アンモニウム塩、アルミニウムキレート、テトラ−n−ブチルホスホニウムベンゾトリアゾレート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−0,0−ジエチルホスホロジチオエートなどの有機ホスフィン化合物、クロム(III)トリカルボキシレート、オクチル酸スズ、クロムアセチルアセトナート等の金属カルボン酸塩やアセチルアセトンキレート化合物が例示できる。また、市販品としてはサンアプロ社よりU−CAT SA1、U−CAT 2026、U−CAT 18X等が例示できる。これらの中で着色の少ない硬化物を与えることから、イミダゾール化合物、4級アンモニウム塩、ホスホニウム塩、有機ホスフィン化合物等が好ましく用いられる。   Specific examples of these compounds include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1,8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene-7, trimethylamine, benzyldimethylamine, triethylamine, dimethyl Amine compounds such as benzylamine, 2,4,6-trisdimethylaminomethylphenol and salts thereof, quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, tetrabutylammonium bromide, aluminum chelate, tetra-n- Organic phosphine compounds such as butylphosphonium benzotriazolate, tetra-n-butylphosphonium-0,0-diethyl phosphorodithioate, chromium (III) tricarboxylate, tin octylate, chromium Metal carboxylates and acetylacetone chelate compounds such acetylacetonate can be exemplified. Moreover, as a commercial item, U-CAT SA1, U-CAT 2026, U-CAT 18X etc. can be illustrated from a San Apro company. Among these, an imidazole compound, a quaternary ammonium salt, a phosphonium salt, an organic phosphine compound, and the like are preferably used because they give a cured product with less coloring.

これら硬化促進剤の配合量は、エポキシ変性シリコーン100質量部に対して硬化速度を高める上で0.001質量部以上であることが好ましく、0.01質量部以上であることがより好ましく、0.1質量部以上であることが特に好ましい。一方、対湿性の観点から10質量部以下であることが好ましく、5質量部以下であることがより好ましく、3質量部以下であることが更に好ましく、1質量部以下であることが特に好ましい。   The blending amount of these curing accelerators is preferably 0.001 parts by mass or more, more preferably 0.01 parts by mass or more, in order to increase the curing rate with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone. It is particularly preferably 1 part by mass or more. On the other hand, from the viewpoint of moisture resistance, it is preferably 10 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass or less, still more preferably 3 parts by mass or less, and particularly preferably 1 part by mass or less.

また、本発明のエポキシ変性シリコーンは、従来公知のカチオン重合触媒を配合することにより硬化性組成物とすることも可能である。
用いることができるカチオン重合触媒としては、BF・アミン錯体、PF、BF、AsF、SbFなどに代表されるルイス酸系触媒、ホスホニウム塩や4級アンモニウム塩、スルホニウム塩、ベンジルアンモニウム塩、ベンジルピリジニウム塩、ベンジルスルホニウム塩、ヒドラジニウム塩、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル、アミンイミドに代表される熱硬化性カチオン重合触媒、ジアリールヨードニウムヘキサフロオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモン酸ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウム等に代表される紫外硬化性カチオン重合触媒等が挙げられる。
これらの内、ガラス転移温度が高く半田耐熱性や密着性に優れた着色の少ない透明な硬化物が得られることから熱硬化性カチオン重合触媒が好ましく用いられる。
The epoxy-modified silicone of the present invention can be made into a curable composition by blending a conventionally known cationic polymerization catalyst.
Examples of cationic polymerization catalysts that can be used include Lewis acid catalysts typified by BF 3 · amine complexes, PF 5 , BF 3 , AsF 5 , SbF 5 , phosphonium salts, quaternary ammonium salts, sulfonium salts, benzylammonium. Salt, benzylpyridinium salt, benzylsulfonium salt, hydrazinium salt, carboxylic acid ester, sulfonic acid ester, thermosetting cationic polymerization catalyst represented by amine imide, diaryliodonium hexafluorophosphate, bis (dodecylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate And UV curable cationic polymerization catalysts represented by the above.
Among these, a thermosetting cationic polymerization catalyst is preferably used because a transparent cured product having a high glass transition temperature and excellent solder heat resistance and adhesion and less coloring can be obtained.

この様な熱硬化性カチオン重合触媒としては、例えば、スルホニウム塩系のカチオン重合開始剤であるSI−100L、SI−60L(以上、三新化学工業製)、CP−66、CP−77(以上、旭電化工業製)等を挙げることができる。
これらカチオン重合触媒の配合量は、通常、エポキシ変性シリコーン100質量部に対して硬化速度を高める上で0.001質量部以上であることが好ましく、0.005質量部以上であることがより好ましく、0.01質量部以上であることが更に好ましい。一方、対湿性の観点から10質量部以下の範囲であることが好ましく、1質量部以下であることがより好ましく、0.5質量部以下であることが更に好ましく、0.2質量部以下であることが特に好ましい。
Examples of such thermosetting cationic polymerization catalysts include sulfonium salt-based cationic polymerization initiators SI-100L, SI-60L (above, manufactured by Sanshin Chemical Industries), CP-66, CP-77 (above. Asahi Denka Kogyo).
The blending amount of these cationic polymerization catalysts is usually preferably 0.001 part by mass or more and more preferably 0.005 part by mass or more for increasing the curing rate with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone. More preferably, the content is 0.01 parts by mass or more. On the other hand, from the viewpoint of moisture resistance, the range is preferably 10 parts by mass or less, more preferably 1 part by mass or less, still more preferably 0.5 parts by mass or less, and 0.2 parts by mass or less. It is particularly preferred.

本発明によって得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化性組成物には、必要に応じて、変性剤が含有されていてもよい。用いられる変性剤としては、1分子中に2個以上の水酸基を含有するポリオール類が例示でき、脂肪族系ポリオール類、例えば、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、グリセリン等や、末端にシラノール基を有するシリコーン類が更に好ましく用いられる。これらの変性剤は、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。変性剤は、硬化物に可とう性を付与し剥離接着力を向上させる場合がある。
1分子中に2個以上の水酸基を含有するポリオール類の配合量は、エポキシ変性シリコーン100質量部に対して、密着性を高めるという観点から0.1質量部以上、耐熱性、耐湿性の観点から50質量部以下であることが望ましい。より好ましい配合量は1〜30質量部、更に好ましくは3〜20重量部、特に好ましくは5〜10重量部である。
The curable composition obtained by using the epoxy-modified silicone obtained by the present invention may contain a modifier as necessary. Examples of the modifier used include polyols containing two or more hydroxyl groups in one molecule, and aliphatic polyols such as ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, glycerin and the like, and silicones having a silanol group at the terminal are more preferably used. These modifiers can be used as one kind or a mixture of two or more kinds. The modifier may impart flexibility to the cured product and improve peel adhesion.
The blending amount of polyols containing two or more hydroxyl groups in one molecule is 0.1 parts by mass or more from the viewpoint of improving adhesion to 100 parts by mass of epoxy-modified silicone, and from the viewpoints of heat resistance and moisture resistance. To 50 parts by mass or less. A more preferable blending amount is 1 to 30 parts by weight, further preferably 3 to 20 parts by weight, and particularly preferably 5 to 10 parts by weight.

本発明により得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化性組成物に好ましく用いられる無機フィラーは、透過性への悪影響を避けるため、使用する波長以下の平均粒子径を有するものであり、更に好ましくは、前記平均粒子径が100nm以下のものである。無機フィラーは、例えば機械的物性を改善するためや熱伝導性を向上させる場合がある。無機フィラーの平均粒子径の下限は特に限定はないが、樹脂組成物の粘度が低下して成形性が向上するため、0.1nm以上であることが好ましい。
本発明によって得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化性組成物に好ましく用いられるシランカップリング剤は、芳香族基やハロゲン原子を有さない化合物である。
The inorganic filler that is preferably used in the curable composition obtained by using the epoxy-modified silicone obtained by the present invention has an average particle diameter equal to or smaller than the wavelength to be used in order to avoid adverse effects on permeability, and more preferably Has an average particle diameter of 100 nm or less. Inorganic fillers may improve, for example, mechanical properties or thermal conductivity. The lower limit of the average particle diameter of the inorganic filler is not particularly limited, but is preferably 0.1 nm or more because the viscosity of the resin composition is lowered and the moldability is improved.
The silane coupling agent preferably used for the curable composition obtained by using the epoxy-modified silicone obtained by the present invention is a compound having no aromatic group or halogen atom.

本発明により得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化性組成物の硬化方法は公知の方法を用いることができる。
前記の公知技術の内、加熱によって硬化させる方法、或いは、紫外線(UV)を照射することによって硬化させる方法は、エポキシ樹脂の硬化方法として一般的に用いられる方法であり、本発明において好ましい方法として例示できる。加熱により硬化させる際の温度は、用いられるエポキシ樹脂や硬化剤等に依るため特に限定はないが、通常、20〜200℃の範囲である。
前記の硬化反応は、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、炭酸ガス等の不活性ガス、或いは、低級飽和炭化水素系ガスや空気等の雰囲気下、減圧下又は加圧下で硬化させることができる。これらのガスは、一種又は二種以上の混合ガスとして用いることができる。これらの内、好ましいガスは窒素である。
As a curing method for the curable composition obtained using the epoxy-modified silicone obtained by the present invention, a known method can be used.
Among the above-mentioned known techniques, the method of curing by heating or the method of curing by irradiating with ultraviolet rays (UV) is a method generally used as a method for curing an epoxy resin, and is a preferable method in the present invention. It can be illustrated. The temperature for curing by heating is not particularly limited because it depends on the epoxy resin and curing agent used, but is usually in the range of 20 to 200 ° C.
The curing reaction is performed under an inert gas such as nitrogen, helium, neon, argon, krypton, xenon, carbon dioxide, or an atmosphere such as a lower saturated hydrocarbon gas or air, under reduced pressure or under pressure. Can do. These gases can be used as one kind or a mixture of two or more kinds. Of these, the preferred gas is nitrogen.

本発明により得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化性組成物を用いて発光素子を封止することにより、発光ダイオードが形成される。
本発明によって得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化性組成物を用いて封止して得られた発光素子の発光波長は、赤外から赤色、緑色、青色、紫色、紫外まで幅広く用いることができ、従来の封止剤では耐光性が不足して劣化してしまう250nm〜550nmの波長の光まで実用的に用いることができる。これにより、長寿命で、エネルギー効率が高く、色再現性の高い白色発光ダイオードを得ることができる。ここで、発光波長とは、主発光ピーク波長のことをいう。
A light emitting diode is formed by sealing a light emitting element using the curable composition obtained by using the epoxy-modified silicone obtained by the present invention.
The emission wavelength of the light-emitting element obtained by sealing with the curable composition obtained using the epoxy-modified silicone obtained by the present invention should be widely used from infrared to red, green, blue, purple and ultraviolet. The conventional sealant can be practically used for light having a wavelength of 250 nm to 550 nm, which deteriorates due to insufficient light resistance. As a result, a white light-emitting diode having a long life, high energy efficiency, and high color reproducibility can be obtained. Here, the emission wavelength refers to the main emission peak wavelength.

使用される発光素子の具体例としては、例えば、基板上に半導体材料を積層して形成した発光素子を例示することができる。この場合、半導体材料としては、例えば、GaAs、GaP、GaAlAs、GaAsP、AlGaInP、GaN、InN、AlN、InGaAlN、SiC等が挙げられる。   As a specific example of the light emitting element to be used, for example, a light emitting element formed by stacking semiconductor materials on a substrate can be exemplified. In this case, examples of the semiconductor material include GaAs, GaP, GaAlAs, GaAsP, AlGaInP, GaN, InN, AlN, InGaAlN, and SiC.

基板としては、例えば、サファイア、スピネル、SiC、Si、ZnO、GaN単結晶等が挙げられる。必要に応じ、基板と半導体材料の間にバッファー層を形成しても良い。これらバッファー層としては、GaN、AlN等が挙げられる。
基板上へ半導体材料を積層する方法としては、特に制限はないが、例えば、MOCVD法、HDVPE法、液相成長法等が用いられる。
発光素子の構造は、例えば、MIS接合、PN接合、PIN接合を有するホモ接合、ヘテロ接合、ダブルヘテロ構造等が挙げられる。また、単一或いは多重量子井戸構造とすることも可能である。
Examples of the substrate include sapphire, spinel, SiC, Si, ZnO, and GaN single crystal. If necessary, a buffer layer may be formed between the substrate and the semiconductor material. Examples of these buffer layers include GaN and AlN.
The method for laminating the semiconductor material on the substrate is not particularly limited, but for example, MOCVD method, HDVPE method, liquid phase growth method and the like are used.
Examples of the structure of the light emitting element include a homojunction having a MIS junction, a PN junction, and a PIN junction, a heterojunction, and a double heterostructure. A single or multiple quantum well structure may also be used.

本発明により得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる発光素子封止剤を用いて封止して得られた発光素子により、発光ダイオードを製造することができる。この場合の封止は、発光素子を本発明によって得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる発光素子封止剤のみで封じることもできるが、他の封止剤を併用して封止することも可能である。他の封止剤を併用する場合、本発明によって得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる発光素子封止剤で封止した後、その周囲を他の封止剤で封止する、或いは、他の封止剤で封止した後、その周囲を本発明によって得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる発光素子封止剤で封止することも可能である。他の封止剤としては、例えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ウレア樹脂、イミド樹脂、ガラス等が挙げられる。   A light emitting diode can be manufactured with the light emitting element obtained by sealing using the light emitting element sealing agent obtained using the epoxy modified silicone obtained by this invention. In this case, the light-emitting element can be sealed only with a light-emitting element sealant obtained by using the epoxy-modified silicone obtained according to the present invention, but it may be sealed together with other sealants. Is possible. When other sealants are used in combination, after sealing with a light emitting device sealant obtained using the epoxy-modified silicone obtained by the present invention, the periphery is sealed with another sealant, or other It is also possible to seal the periphery with a light emitting element sealant obtained by using the epoxy-modified silicone obtained by the present invention. Examples of other sealants include epoxy resins, silicone resins, acrylic resins, urea resins, imide resins, and glass.

本発明により得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる発光素子封止剤で発光素子を封止する方法としては、例えば、モールド型枠中に硬化性組成物を予め注入し、そこに発光素子が固定されたリードフレーム等を浸漬した後に硬化させる方法、発光素子を挿入した型枠中に発光素子封止剤を注入し、硬化する方法等が挙げられる。この際、発光素子封止剤を注入する方法としては、ディスペンサーによる注入、トランスファー成形、射出成形等が挙げられる。更にその他の封止方法としては、発光素子封止剤を発光素子上へ滴下、孔版印刷、スクリーン印刷、或いは、マスクを介して塗布し硬化させる方法、低部に発光素子を配置したカップ等に発光素子封止剤をディスペンサー等により注入し、硬化させる方法等が挙げられる。   As a method of sealing a light emitting element with a light emitting element sealing agent obtained by using the epoxy-modified silicone obtained by the present invention, for example, a curable composition is injected into a mold mold in advance, and the light emitting element is inserted there. Examples include a method in which a fixed lead frame or the like is immersed and cured, and a method in which a light emitting element sealant is injected into a mold frame in which the light emitting element is inserted and cured. At this time, as a method for injecting the light-emitting element sealing agent, injection by a dispenser, transfer molding, injection molding and the like can be mentioned. Further, as other sealing methods, a light emitting device sealant is dropped onto the light emitting device, stencil printing, screen printing, or a method of applying and curing through a mask, a cup having a light emitting device disposed in the lower part, etc. For example, a method of injecting a light-emitting element sealing agent with a dispenser or the like and curing it.

本発明により得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化性組成物は、発光素子をリード端子やパッケージに固定するダイボンド材、発光素子上のパッシベーション膜、パッケージ基板として用いることもできる。
封止部分の形状は、例えば、砲弾型のレンズ形状、板状、薄膜状等が挙げられる。
The curable composition obtained by using the epoxy-modified silicone obtained by the present invention can also be used as a die bond material for fixing a light emitting element to a lead terminal or a package, a passivation film on the light emitting element, and a package substrate.
Examples of the shape of the sealing portion include a bullet-shaped lens shape, a plate shape, and a thin film shape.

本発明により得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られた発光ダイオードは、従来公知の方法で性能の向上を図ることができる。性能の向上方法としては、例えば、発光素子背面に光の反射層或いは集光層を設ける方法、補色着色部を底部に形成する方法、主発光ピークより短波長の光を吸収する層を発光素子上に設ける方法、発光素子を封止した後更に硬質材料でモールディングする方法、発光ダイオードを貫通孔に挿入して固定する方法、発光素子をフリップチップ接続等によってリード部材等と接続して基板方向から光を取り出す方法等が挙げられる。   The performance of the light-emitting diode obtained by using the epoxy-modified silicone obtained by the present invention can be improved by a conventionally known method. As a method for improving the performance, for example, a method of providing a light reflecting layer or a condensing layer on the back surface of the light emitting device, a method of forming a complementary colored portion on the bottom, a layer that absorbs light having a wavelength shorter than the main light emitting peak is used. Method of providing on top, method of molding the light emitting element after sealing with a hard material, method of inserting the light emitting diode into the through hole and fixing it, connecting the light emitting element to the lead member etc. by flip chip connection etc. And a method of extracting light from the light source.

本発明により得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られた発光ダイオードは、例えば、液晶ディスプレイ等のバックライト、照明、各種センサー、プリンター、コピー機等の光源、車両用計器光源、信号灯、表示灯、表示装置、面状発光体の光源、ディスプレイ、装飾、各種ライト等として有用である。   The light-emitting diode obtained by using the epoxy-modified silicone obtained by the present invention includes, for example, a backlight such as a liquid crystal display, illumination, various sensors, a light source such as a printer and a copying machine, an instrument light source for vehicles, a signal light, an indicator light, It is useful as a display device, a light source for a planar light emitter, a display, decoration, various lights, and the like.

<実施例>
本発明について、以下具体的に説明する。
シリコーンの平均連鎖長、組成、並びに、特性は、以下に示す方法により求める。
(1)オルガノハイドロジェンシリコーンの平均連鎖長の算出
29Si−NMRの測定により求める。
シリコーン0.15gを重水素化クロロホルム1gに溶解する。該溶解液にCr(acac)をオルガノハイドロジェンシリコーンに対して0.015g添加して溶解した溶液に、テトラメチルシランを10マイクロリットル更に添加してNMR測定溶液とする。該NMR測定溶液を用いて、プロトン完全デカップル条件における29Si−NMRの測定を積算回数4,000回(装置:日本分光社製α−400)にて行い、得られたスペクトルパターンから算出された積分値を解析して、変性ポリシロキサン1分子中の平均組成及び(R SiO2/2)単位、(RHSiO2/2)単位の各々の平均連鎖長を算出する。
ここで、以下に、合成例にて製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン、具体的には該シリコーンの末端を除く構成単位がシクロヘキシルメチルシロキシ単位、ジメチルシロキシ単位、水素メチルシロキシ単位である場合を例として、平均連鎖長の算出法を具体的に説明する。
<Example>
The present invention will be specifically described below.
The average chain length, composition, and characteristics of silicone are determined by the following method.
(1) Calculation of average chain length of organohydrogensilicone
It is determined by 29 Si-NMR measurement.
0.15 g of silicone is dissolved in 1 g of deuterated chloroform. Ten microliters of tetramethylsilane is further added to a solution obtained by adding 0.015 g of Cr (acac) 3 to the organohydrogensilicone and dissolving the solution in the solution to obtain an NMR measurement solution. Using the NMR measurement solution, measurement of 29 Si-NMR under proton complete decoupling conditions was performed with 4,000 times of integration (apparatus: α-400 manufactured by JASCO Corporation), and calculated from the obtained spectrum pattern. The integrated value is analyzed to calculate the average composition of each modified polysiloxane molecule and the average chain length of each of (R 1 2 SiO 2/2 ) units and (R 1 HSiO 2/2 ) units.
Here, the block type organohydrogen silicone produced in the synthesis example, specifically, the case where the constituent unit excluding the terminal of the silicone is a cyclohexylmethylsiloxy unit, a dimethylsiloxy unit, and a hydrogen methylsiloxy unit is described as an example. The method for calculating the average chain length will be specifically described below.

シクロヘキシルメチルシロキシ単位、ジメチルシロキシ単位をジアルキルシロキシ単位として(D1)、他方、水素メチルシロキシ単位を(H1)とした場合、D1とH1の3連鎖に対応する中心に位置する珪素のケミカルシフト値は、テトラメチルシランの珪素を基準として各々以下の範囲となる。
−D1−D1−D1− : −26.5ppm超過−23.9ppm以下
−D1−D1−H1− : −23.9ppm超過−21.5ppm以下
−H1−D1−H1− : −38.5ppm超過−37.4ppm以下
−H1−H1−H1− : −35.5ppm超過−33.0ppm以下
−H1−H1−D1− : −37.4ppm超過−35.5ppm以下
−D1−H1−D1− : −21.5ppm超過−19.5ppm以下
When the cyclohexylmethylsiloxy unit and the dimethylsiloxy unit are dialkylsiloxy units (D1), and the hydrogenmethylsiloxy unit is (H1), the chemical shift value of silicon located at the center corresponding to the three chains of D1 and H1 is The following ranges are obtained based on tetramethylsilane silicon.
-D1-D1-D1-: -26.5 ppm excess -23.9 ppm or less -D1-D1-H1-: -23.9 ppm excess -21.5 ppm or less -H1-D1-H1-: -38.5 ppm excess- 37.4 ppm or less -H1-H1-H1-: -35.5 ppm excess-33.0 ppm or less -H1-H1-D1-: -37.4 ppm excess-35.5 ppm or less-D1-H1-D1-: -21 More than 5ppm-19.5ppm or less

上記の−D1−D1−D1−単位、−D1−D1−H1−単位、−H1−D1−H1−単位、−H1−H1−H1−単位、−H1−H1−D1−単位、−D1−H1−D1−単位に相当するピークの積分値を各々、A(D1D1D1)、A(D1D1H1)、A(H1D1H1)、A(H1H1H1)、A(H1H1D1)、A(D1H1D1)とすると、ジメチルシロキシ単位の平均連鎖長(γD1)及び水素メチルシロキシ(δD1)は、各々下記式(23)及び(24)で算出することができる。
γD1=1+A(D1D1D1)/{A(D1D1H1)+A(H1D1H1)}
・・・式(23)
δD1=1+{A(H1H1H1)+A(H1H1D1)}/A(D1H1D1)
・・・式(24)
-D1-D1-D1-unit, -D1-D1-H1-unit, -H1-D1-H1-unit, -H1-H1-H1-unit, -H1-H1-D1-unit, -D1- Assuming that the integrated values of the peaks corresponding to the H1-D1-unit are A (D1D1D1), A (D1D1H1), A (H1D1H1), A (H1H1H1), A (H1H1D1), A (D1H1D1), dimethylsiloxy units The average chain length (γD1) and hydrogen methylsiloxy (δD1) can be calculated by the following formulas (23) and (24), respectively.
γD1 = 1 + A (D1D1D1) / {A (D1D1H1) + A (H1D1H1)}
... Formula (23)
δD1 = 1 + {A (H1H1H1) + A (H1H1D1)} / A (D1H1D1)
... Formula (24)

(2)ポリジアルキルシロキサンの高分子量側ピークの数平均分子量の算出及び高分子量側ピークエリア面積比率の算出
東ソー社製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)分析装置8020GPCシステムを用い、以下の条件により求める。
ポリジアルキルシロキサンの0.5質量%テトラヒドロフラン溶液を調整し、その後、0.45μmのフィルターにて濾過したものを測定試料溶液とする。
カラム温度40℃にて、溶離液(テトラヒドロフラン)を流量1ml/分の条件下でカラム[カラム構成は、ガードカラムとして東ソー(株)社製TskguardcolumnH時間−H(登録商標)を用い、東ソー(株)製Tskgel(登録商標)G5000H時間、及び東ソー(株)製Tskgel(登録商標)G3000H時間、東ソー(株)製Tskgel(登録商標)G1000H時間の各1本ずつを直列に配置]を通し、Polymer Laboratories社製の分子量7,500,000、2,560,000、841,700、320,000、148,000、59,500、28,500、10,850、2,930、580の、分子量既知の単分散ポリポリスチレン標準物質、及びスチレンモノマー(分子量104)のRI検出による溶出時間から求めた検量線を予め作成する。測定試料溶液の溶出時間と検出強度から数平均分子量を算出する。
分析によって得られた溶出曲線が多峰性ピークの場合には、各々のピークとピークの間に形成される下に凸部の頂点からベースラインに垂線を下ろし、溶出曲線と垂線及びベースラインとで囲まれた部分の数平均分子量を各々のピークの数平均分子量とする。また、各々のピークの成分の含有量は、ポリアルキルシロキサンに基づくピークの総面積と各々のピークの成分に基づくピークの面積の比率から該ピーク成分の含有量を算出する。
(2) Calculation of the number average molecular weight of the high molecular weight side peak of polydialkylsiloxane and calculation of the high molecular weight side peak area area ratio Using a Tosoh gel permeation chromatography (GPC) analyzer 8020 GPC system, the following conditions are used. .
A 0.5 mass% tetrahydrofuran solution of polydialkylsiloxane is prepared, and then filtered through a 0.45 μm filter as a measurement sample solution.
At a column temperature of 40 ° C., eluent (tetrahydrofuran) was added under the condition of a flow rate of 1 ml / min. [The column configuration was Tsquardcolumn H time-H (registered trademark) manufactured by Tosoh Corp. as a guard column. ) Tskel (registered trademark) G5000H time manufactured by Tosoh Co., Ltd., Tskel (registered trademark) G3000H time manufactured by Tosoh Corporation, and Tskel (registered trademark) G1000H time manufactured by Tosoh Corporation are arranged in series. Laboratories molecular weights 7,500,000, 2,560,000, 841,700, 320,000, 148,000, 59,500, 28,500, 10,850, 2,930, 580, known molecular weights Monodisperse polypolystyrene reference material and styrene monomer (molecule A calibration curve obtained from the elution time by RI detection of the amount 104) is prepared in advance. The number average molecular weight is calculated from the elution time and detection intensity of the measurement sample solution.
When the elution curve obtained by the analysis is a multimodal peak, a vertical line is drawn from the apex of the lower convex portion formed between each peak to the baseline, and the elution curve, the vertical line and the baseline The number average molecular weight of the portion surrounded by is the number average molecular weight of each peak. The content of each peak component is calculated from the ratio of the total peak area based on polyalkylsiloxane and the peak area based on each peak component.

(3)ポリ水素メチルシロキサンの分子量測定、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン及びエポキシ変性シリコーン中の分子量1,000以下の成分の含有量測定
東ソー社製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)分析装置8020GPCシステムを用い、以下の条件により求める。
変性ポリシロキサンの5質量%クロロホルム溶液を調整し、その後、0.45μmのフィルターにて濾過したものを測定試料溶液とする。
カラム温度40℃にて、溶離液(クロロホルム)を流量1ml/分の条件下でカラム[カラム構成は、ガードカラムとして東ソー(株)社製TskguardcolumnH時間−H(登録商標)を用い、東ソー(株)製Tskgel(登録商標)G5000H時間、及び東ソー(株)製Tskgel(登録商標)G3000H時間、東ソー(株)製Tskgel(登録商標)G1000H時間の各1本ずつを直列に配置]を通し、Polymer Laboratories社製の分子量7,500,000、2,560,000、841,700、320,000、148,000、59,500、28,500、10,850、2,930、580の、分子量既知の単分散ポリポリスチレン標準物質、及びスチレンモノマー(分子量104)のRI検出による溶出時間から求めた検量線を予め作成する。測定試料溶液の溶出時間と検出強度から、上記の検量線を用いて分子量を算出する。
一方、分子量1,000以下の成分の含有量は、測定によって得られる溶出曲線において、エポキシ変性シリコーン、或いは、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの各々について、溶出開始点と溶出終了点を結んで得られる該溶出ピーク面積(ピーク面積1)に対する、該溶出ピーク面積の内の標準物質から算出される分子量1,000以下に相当するピークの面積(ピーク面積2)の比率を算出し、百分率で表記した[すなわち、(ピーク面積2)/(ピーク面積1)×100(%)で表される数値]。
(3) Molecular weight measurement of polyhydrogenmethylsiloxane, measurement of content of components having molecular weight of 1,000 or less in block type organohydrogen silicone and epoxy-modified silicone Gel Permeation Chromatography (GPC) Analyzer 8020GPC system manufactured by Tosoh Corporation Use the following conditions.
A 5% by mass chloroform solution of the modified polysiloxane is prepared, and then filtered through a 0.45 μm filter as a measurement sample solution.
The column temperature was 40 ° C. and the eluent (chloroform) was flowed at a flow rate of 1 ml / min. [The column configuration was Tsquardcolumn H time-H (registered trademark) manufactured by Tosoh Corp. as a guard column. ) Tskel (registered trademark) G5000H time manufactured by Tosoh Co., Ltd., Tskel (registered trademark) G3000H time manufactured by Tosoh Corporation, and Tskel (registered trademark) G1000H time manufactured by Tosoh Corporation are arranged in series. Laboratories molecular weights 7,500,000, 2,560,000, 841,700, 320,000, 148,000, 59,500, 28,500, 10,850, 2,930, 580, known molecular weights Monodisperse polypolystyrene standard substance and styrene monomer (molecular weight 10 A calibration curve obtained from the elution time by RI detection in 4) is prepared in advance. From the elution time and detection intensity of the measurement sample solution, the molecular weight is calculated using the above calibration curve.
On the other hand, the content of components having a molecular weight of 1,000 or less is obtained by connecting the elution start point and the elution end point for each of the epoxy-modified silicone or the block-type organohydrogen silicone in the elution curve obtained by measurement. The ratio of the peak area (peak area 2) corresponding to a molecular weight of 1,000 or less calculated from the standard substance in the eluted peak area to the eluted peak area (peak area 1) was calculated and expressed as a percentage. [That is, a numerical value represented by (peak area 2) / (peak area 1) × 100 (%)].

(4)オルガノハイドロジェンシリコーンの組成
29Si−NMR測定、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定、更に、H−NMR測定によって得られる結果を用いて算出する。
具体的には、まず、前記(1)にて実施した平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの29Si−NMR測定によって得られたスペクトルパターンから算出された積分値を解析して末端基、水素アルキル単位、ジアルキルシロキシ単位の含有分率を百分率で算出する。
更に、下記に記すH−NMR測定によって得られるスペクトルパターンから算出された積分値を元に、各置換基を有するジアルキルシロキシ単位の存在率を百分率で算出する。
得られた各構成単位の存在率と各構成単位の理論式量とを用いて、構成単位の平均的式量を算出する。
次に、前記(3)にて実施した平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのGPC測定によって得られた数平均分子量を平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの1モル当りの分子量として、上記で算出した末端基、水素アルキル単位、ジアルキルシロキシ単位の存在率を考慮した平均的式量で除して平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する各単位の全モル数を算出する。得られた平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する各単位の全モル数と、該各単位の存在率とから、平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成する各単位のモル数を算出した。
H−NMR測定方法>
シリコーン30mgに対して、1mlの割合で重水素化クロロホルム溶媒に溶解した溶液を測定試料とする。この測定試料を用いて、400MHz(日本分光社製α−400)のH−NMRの測定を積算回数200回にて行う。
(4) Composition of organohydrogen silicone
It calculates using the result obtained by < 29 > Si-NMR measurement, a gel permeation chromatography (GPC) measurement, and also < 1 > H-NMR measurement.
Specifically, first, an integrated value calculated from a spectrum pattern obtained by 29 Si-NMR measurement of the block type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) performed in the above (1) is used. Analysis is performed to calculate the percentage content of terminal groups, hydrogen alkyl units, and dialkylsiloxy units as a percentage.
Furthermore, based on the integrated value calculated from the spectrum pattern obtained by 1 H-NMR measurement described below, the abundance of dialkylsiloxy units having each substituent is calculated as a percentage.
Using the obtained abundance ratio of each structural unit and the theoretical formula amount of each structural unit, an average formula amount of the structural unit is calculated.
Next, the block type represented by the average composition formula (1) is the number average molecular weight obtained by the GPC measurement of the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) carried out in the above (3). The molecular weight per mole of the organohydrogensilicone is represented by the average composition formula (1) divided by the average formula weight considering the abundance of the terminal groups, hydrogen alkyl units and dialkylsiloxy units calculated above. The total number of moles of each unit constituting the block type organohydrogensilicone is calculated. The block represented by the average composition formula (1) from the total number of moles of each unit constituting the block type organohydrogen silicone represented by the obtained average composition formula (1) and the abundance of each unit. The number of moles of each unit constituting 1 mol of the type organohydrogensilicone was calculated.
<1 H-NMR measurement method>
A solution dissolved in deuterated chloroform solvent at a rate of 1 ml per 30 mg of silicone is used as a measurement sample. Using this measurement sample, 1 H-NMR measurement at 400 MHz (manufactured by JASCO Corporation α-400) is performed at 200 integration times.

(5)エポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物量及び揮発性化合物量の測定
島津社製ガスクロマトグラフィー分析装置GC−14Bを用い、以下の条件により求める。
5mlのメスフラスコに、エポキシ変性シリコーン約0.5g及び内部標準としてn−オクタン0.015gを秤量した後、クロロホルムで5mlに希釈した溶液を、測定サンプルとする。
カラム:J&W Scientific社製DB−1(登録商標)、
長さ30m、内径0.25mm、液膜1μm
キャリアーガス:ヘリウム
検出器:FID
インジェクション温度:250℃
検出器温度:300℃
昇温条件:50℃にて5min保持した後、50℃から300℃まで
10℃/minで昇温する。
得られた結果から、別途作成した内部標準法による検量線を用いて、エポキシ変性シリコーン中に含有される各成分の含有量を定量し合計する。なお、数値は、エポキシ変性シリコーンに対する質量分率で表したものである。
(5) Measurement of low-boiling compound amount and volatile compound amount remaining in epoxy-modified silicone Using a gas chromatography analyzer GC-14B manufactured by Shimadzu Corporation, the following conditions are used.
In a 5 ml volumetric flask, about 0.5 g of epoxy-modified silicone and 0.015 g of n-octane as an internal standard are weighed, and a solution diluted to 5 ml with chloroform is used as a measurement sample.
Column: DB-1 (registered trademark) manufactured by J & W Scientific,
Length 30m, inner diameter 0.25mm, liquid film 1μm
Carrier gas: Helium Detector: FID
Injection temperature: 250 ° C
Detector temperature: 300 ° C
Temperature rising condition: After holding at 50 ° C. for 5 minutes, from 50 ° C. to 300 ° C.
The temperature is raised at 10 ° C / min.
From the obtained results, the content of each component contained in the epoxy-modified silicone is quantified and summed up using a separately prepared calibration curve by an internal standard method. In addition, a numerical value is represented with the mass fraction with respect to epoxy-modified silicone.

(6)エポキシ価
以下の操作と算出法により求める。
樹脂試料をベンジルアルコールと1−プロパノールで溶解する。この溶液にヨウ化カリウム水溶液、ブロモフェノールブルー指示薬を添加した後、1規定塩酸にて滴定し、反応系内が青色から黄色になった点を当量点とする。当量点より、エポキシ変性シリコーンのエポキシ価を以下の式に従って算出する。
エポキシ価(当量/100g)=(V×N×F)/(10×W)
[ただし、W、V、N、Fは各々以下の値を表す。
W;試料の重量(g)
V;滴定量(ml)
N;滴定に使用した塩酸の規定度(N)
F;滴定に使用した塩酸のファクター
(6) Epoxy value Determined by the following procedure and calculation method.
The resin sample is dissolved with benzyl alcohol and 1-propanol. To this solution, an aqueous potassium iodide solution and a bromophenol blue indicator are added, followed by titration with 1N hydrochloric acid, and the point where the reaction system turns from blue to yellow is taken as the equivalent point. From the equivalent point, the epoxy value of the epoxy-modified silicone is calculated according to the following formula.
Epoxy value (equivalent / 100 g) = (V × N × F) / (10 × W)
[W, V, N, and F represent the following values, respectively.
W: Weight of sample (g)
V; titration volume (ml)
N: Normality of hydrochloric acid used for titration (N)
F: Factor of hydrochloric acid used for titration

(7)元素含有量
含有白金量の分析は四重極ICP質量分析装置(Thermo Elemental製:X7−ICP−MS)を用いて測定する。
(8)透明性
厚さ3mmの硬化物を用い、厚さ方向の350nm、400nm、450nmの光線透過率を日本分光(株)社製JASCO V−550により測定する。初期における光線透過率が80%以上を◎、70%以上80%未満を○、50%以上70%未満を△、50%未満を×とした。
(9)耐熱性
粉砕した硬化物のTgをセイコーインスツールメント社製DSC220Cにより昇温速度10℃/分の条件で測定し、耐熱性の指標とした。硬化物のTgが120℃以上を◎、100℃以上120℃未満を○、80℃以上100℃未満を△、80℃未満を×とした。
(7) Element content The platinum content is analyzed using a quadrupole ICP mass spectrometer (manufactured by Thermo Elemental: X7-ICP-MS).
(8) Transparency Using a cured product having a thickness of 3 mm, the light transmittance at 350 nm, 400 nm, and 450 nm in the thickness direction is measured by JASCO V-550 manufactured by JASCO Corporation. The initial light transmittance of 80% or more was evaluated as ◎, 70% or more and less than 80% as ○, 50% or more and less than 70% as Δ, and less than 50% as ×.
(9) Heat resistance Tg of the pulverized cured product was measured with a DSC220C manufactured by Seiko Instruments Inc. under a temperature rising rate of 10 ° C / min, and used as a heat resistance index. The Tg of the cured product was 120 ° C. or higher, ◯, 100 ° C. or higher and lower than 120 ° C., 80 ° C. or higher and lower than 100 ° C., and 80 ° C. or lower.

(10)耐光性
光ファイバーを経由してUV照射装置(ウシオ電機製:SP−7)から100℃一定にした恒温乾燥機中の厚さ3mmの硬化物にUV光を照射できるようにセットする。365nmバンドパスフィルターを用いて、330〜410nmの光を、3W/cm2になるように照射する。
照射開始後、250時間以上硬化物が着色しないものを◎、200時間以上250時間未満で硬化物が着色するものを○、200時間未満で着色するものを×とした。
(11)耐熱変色性
厚さ3mmの硬化物を用い、厚さ方向の400nmの光線透過率を日本分光(株)社製JASCO V−550により測定する。次に該硬化物をSUS316製の型枠に入れ、空気下で150℃で100時間加熱条件に供した後、室温で放冷する。その後、試料の厚さ方向における400nmの光線透過率を再度測定し、加熱処理前の試料における400nmの光線透過率に対する加熱処理後の試料における400nmの光線透過率の値を算出し、加熱処理前の試料の光線透過率に対する加熱処理後の試料の光線透過率の比率を、光線透過保持率として算出する。光線透過保持率が90%以上を◎、88%以上90%未満を○、85%以上88%未満を△、85%未満を×とした。
(10) Light resistance It is set so that UV light can be irradiated to a cured product having a thickness of 3 mm in a constant temperature dryer kept constant at 100 ° C. from a UV irradiation device (USHIO: SP-7) via an optical fiber. Using a 365 nm band pass filter, the light of 330-410 nm is irradiated so that it may become 3 W / cm <2>.
After the start of irradiation, ◎ indicates that the cured product is not colored for 250 hours or more, ○ indicates that the cured product is colored in 200 hours or more and less than 250 hours, and × indicates that the cured product is colored in less than 200 hours.
(11) Heat-resistant discoloration Using a cured product having a thickness of 3 mm, a light transmittance of 400 nm in the thickness direction is measured by JASCO V-550 manufactured by JASCO Corporation. Next, the cured product is put into a mold made of SUS316, subjected to heating conditions at 150 ° C. for 100 hours under air, and then allowed to cool at room temperature. Thereafter, the light transmittance at 400 nm in the thickness direction of the sample is measured again, and the value of the light transmittance at 400 nm in the sample after the heat treatment is calculated with respect to the light transmittance at 400 nm in the sample before the heat treatment. The ratio of the light transmittance of the sample after the heat treatment to the light transmittance of the sample is calculated as the light transmission retention rate. The light transmission retention was 90% or more, ◎, 88% or more and less than 90%, ○, 85% or more and less than 88%, or less than 85%.

(12)耐クラック性
10mm×10mm×2mmのサイズの型枠内に、5mm×5mm×0.2mmのシリコンチップを入れておき、樹脂組成物を注型して加熱して試験片を得る。得られた硬化物を型枠から取り出し、冷熱サイクル試験(エスペック社製TSE−11−A)で−40℃にて15分保持した後、平均3分で120℃まで昇温し、120℃で15分間保持し、次いで、平均3分で−40℃まで降温するサイクルで試験して、クラックの発生有無を目視で観察する。40サイクル以上クラックが入らなかったものを◎、20サイクル以上40サイクル未満でクラックが発生したものを○、5サイクル未満でクラックが発生したものを×とした。
(13)表面硬度
JIS−K−5600−5−4に準拠して、実施した。
試験結果が、HB以上を◎、B〜2Bを○、3B以下を×とした。
(12) Crack resistance A silicon chip of 5 mm × 5 mm × 0.2 mm is placed in a 10 mm × 10 mm × 2 mm size mold, and the resin composition is cast and heated to obtain a test piece. The obtained cured product was taken out from the mold and held at −40 ° C. for 15 minutes in a cooling cycle test (TSE-11-A manufactured by Espec Corp.), and then the temperature was raised to 120 ° C. in an average of 3 minutes. The test is held for 15 minutes, and then tested in a cycle in which the temperature is lowered to -40 ° C in an average of 3 minutes, and the presence or absence of cracks is visually observed. The case where cracks did not occur for 40 cycles or more was rated as ◎, the case where cracks occurred after 20 cycles or more and less than 40 cycles was rated as ◯, and the case where cracks occurred after less than 5 cycles was marked as x.
(13) Surface hardness It implemented based on JIS-K-5600-5-4.
The test results were evaluated as 以上 for HB or more, ◯ for B to 2B, and x for 3B or less.

[触媒合成例]
窒素雰囲気下で、還流管及びスターラーバーを備えた50mlの2口フラスコに、5塩化リン(和光純薬製試薬)8.34g、塩化アンモニウム(和光純薬製試薬特級品)1.06g及びテトラクロロエタン(アルドリッチ社製試薬)20mlを仕込んだ後、大気圧の窒素を20ml/分で流通させながら160℃で15時間反応を実施し、黄色溶液を得た。反応終了後、大気圧窒素雰囲気下にて攪拌を継続しながら系内に石油エーテル(和光純薬製試薬)20mlを加えて、固体を析出させた。引き続き窒素雰囲気下にて、得られた固体を減圧濾過し、n−ヘキサン(和光純薬社製試薬有機合成用脱水グレード)100mlを用いて洗浄後、再度、窒素下にて減圧濾過を行った後、減圧乾燥して、淡黄色粉末のフォスファゼン化合物7.1gを得た。以下の参考例1〜3では、ジクロロメタン(和光純薬社製試薬有機合成用脱水グレード)1g当たり、得られたフォスファゼン化合物60mgを溶解した溶液を、フォスファゼン溶液として用いた。
[Example of catalyst synthesis]
Under a nitrogen atmosphere, in a 50 ml two-necked flask equipped with a reflux tube and a stirrer bar, 8.34 g of phosphorus pentachloride (Wako Pure Chemicals reagent), 1.06 g of ammonium chloride (Wako Pure Chemicals reagent special grade) and tetra After charging 20 ml of chloroethane (aldrich reagent), the reaction was carried out at 160 ° C. for 15 hours while flowing atmospheric nitrogen at 20 ml / min to obtain a yellow solution. After completion of the reaction, 20 ml of petroleum ether (Wako Pure Chemicals Reagent) was added to the system while stirring under an atmospheric pressure of nitrogen atmosphere to precipitate a solid. Subsequently, the obtained solid was filtered under reduced pressure in a nitrogen atmosphere, washed with 100 ml of n-hexane (dehydrated grade for reagent organic synthesis manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and then filtered again under nitrogen. Thereafter, it was dried under reduced pressure to obtain 7.1 g of a phosphazene compound as a pale yellow powder. In Reference Examples 1 to 3 below, a solution in which 60 mg of the obtained phosphazene compound was dissolved per 1 g of dichloromethane (dehydrated grade for reagent organic synthesis manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was used as the phosphazene solution.

[参考例1]
<加水分解物の合成>
攪拌翼を備えた内容積3リットルのバッフル付きセパラブルフラスコに蒸留水1500gを仕込んだ後、内部を60℃に加熱する。セパラブルフラスコの攪拌翼を600回転/分で回転させながら、シクロヘキシルメチルジクロロシラン(信越化学社製試薬)400gとジメチルジクロロシラン65.5gとを均一に混合した溶液を、2g/分で滴下する。滴下完了後、引き続き2時間反応を継続し、加熱及び攪拌を停止して内溶液を相分離させ、水槽を廃棄する。次いで、室温にて、トルエン(和光純薬製試薬特級品)500g、0.02mol/リットルの蟻酸ナトリウム水溶液1リットルを添加し、攪拌翼を600回転/分で回転させた後、攪拌を停止して内溶液を相分離させ、水槽を廃棄する。引き続き、室温にて蒸留水1リットルを添加し、攪拌翼を600回転/分で回転させた後、攪拌を停止して内溶液を相分離させ、水相を廃棄する操作を2回実施する。セパラブルフラスコからトルエン溶液を回収し、エバポレーターにて、減圧下、65℃でトルエンを留去して、加水分解物1を得た。
[Reference Example 1]
<Synthesis of hydrolyzate>
After charging 1500 g of distilled water into a separable flask with a baffle having an internal volume of 3 liters equipped with a stirring blade, the inside is heated to 60 ° C. While rotating the stirring blade of the separable flask at 600 rpm, a solution in which 400 g of cyclohexylmethyldichlorosilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. reagent) and 65.5 g of dimethyldichlorosilane are uniformly mixed is dropped at 2 g / min. . After completion of dropping, the reaction is continued for 2 hours, heating and stirring are stopped, the inner solution is phase-separated, and the water tank is discarded. Next, at room temperature, 500 g of toluene (special grade reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 1 liter of 0.02 mol / liter sodium formate aqueous solution were added, and the stirring blade was rotated at 600 rpm, and stirring was stopped. Phase separate the inner solution and discard the water bath. Subsequently, 1 liter of distilled water is added at room temperature, the stirring blade is rotated at 600 rpm, the stirring is stopped, the inner solution is phase-separated, and the aqueous phase is discarded twice. A toluene solution was recovered from the separable flask, and toluene was distilled off at 65 ° C. under reduced pressure using an evaporator to obtain hydrolyzate 1.

<ポリジアルキルシロキサンの合成>
留出管及び攪拌翼を供えた500mlのセパラブルフラスコに、得られた加水分解物300g、触媒合成例で得られたフォスファゼン溶液1gを仕込んだ後、攪拌しながら系内を減圧窒素置換する。引き続き、系内を120℃に加熱し、圧力150torrで45分間、重縮合反応させた後、反応系内を窒素にて大気圧に戻すと共に60℃に冷却する。次いで、乾燥窒素下にて蒸留精製した1,1,3,3−テトラメチル−ジシロキサン(信越化学社製試薬)7gを、窒素雰囲気下にて系内に添加し、3時間攪拌を継続して末端封止反応をさせた後、室温に冷却する。内容物をトルエン(和光純薬社製試薬特級品)を合計500ml用いて溶解回収し、得られた溶液からエバポレーターにて、減圧下、65℃でトルエンを留去して、ポリジアルキルシロキサンを得た。
得られたポリジアルキルシロキサンの全ての末端構造は、H−Si(CH−O−であり、末端基以外の組成は、ジメチルシロキシ単位20モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位80モル%であった。分子量測定の結果、溶出曲線は2峰性であり、高分子量側のピークの数平均分子量は11,700、エリア面積は全ピークに対して65%であった。
必要に応じて、上記の合成操作を繰り返し実施してポリジアルキルシロキサンを得て、以下の反応に用いた。
<Synthesis of polydialkylsiloxane>
A 500 ml separable flask equipped with a distillation tube and a stirring blade is charged with 300 g of the obtained hydrolyzate and 1 g of the phosphazene solution obtained in the catalyst synthesis example, and then the inside of the system is purged with nitrogen under reduced pressure. Subsequently, the system is heated to 120 ° C. and subjected to a polycondensation reaction at a pressure of 150 torr for 45 minutes, and then the reaction system is returned to atmospheric pressure with nitrogen and cooled to 60 ° C. Next, 7 g of 1,1,3,3-tetramethyl-disiloxane (reagent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) purified by distillation under dry nitrogen was added to the system under a nitrogen atmosphere, and stirring was continued for 3 hours. After end-capping reaction, cool to room temperature. The contents were dissolved and recovered using a total of 500 ml of toluene (special grade reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and the toluene was distilled off from the resulting solution with an evaporator at 65 ° C. under reduced pressure to obtain a polydialkylsiloxane. It was.
All terminal structures of the obtained polydialkylsiloxane were H—Si (CH 3 ) 2 —O—, and the composition other than the terminal groups was 20 mol% of dimethylsiloxy units and 80 mol% of cyclohexylmethylsiloxy units. It was. As a result of molecular weight measurement, the elution curve was bimodal, the number average molecular weight of the peak on the high molecular weight side was 11,700, and the area area was 65% with respect to all peaks.
If necessary, the above synthesis operation was repeated to obtain a polydialkylsiloxane, which was used in the following reaction.

[参考例2]
<加水分解物の合成>
シクロヘキシルメチルジクロロシラン及びジメチルジクロロシランの使用量を各々、430g、31.3gとした以外は参考例1と同様にして、加水分解物2を得た。
<ポリジアルキルシロキサンの合成>
加水分解物1を用いる代わりに、加水分解物2を用いたこと、重縮合反応時間を2時間としたこと、1,1,3,3−テトラメチル−ジシロキサンを4g用いたこと以外は、参考例1と同様にしてポリジアルキルシロキサンを得た。
得られたポリジアルキルシロキサンの全ての末端構造は、H−Si(CH−O−であり、末端基以外の組成は、ジメチルシロキシ単位10モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位90モル%であった。分子量測定の結果、溶出曲線は2峰性であり、高分子量側のピークの数平均分子量は20,400、エリア面積は全ピークに対して60%であった。
必要に応じて、上記の合成操作を繰り返し実施してポリジアルキルシロキサンを得て、以下の反応に用いた。
[Reference Example 2]
<Synthesis of hydrolyzate>
Hydrolyzate 2 was obtained in the same manner as in Reference Example 1 except that the amounts of cyclohexylmethyldichlorosilane and dimethyldichlorosilane were changed to 430 g and 31.3 g, respectively.
<Synthesis of polydialkylsiloxane>
Instead of using hydrolyzate 1, hydrolyzate 2 was used, the polycondensation reaction time was 2 hours, and 4 g of 1,1,3,3-tetramethyl-disiloxane was used. A polydialkylsiloxane was obtained in the same manner as in Reference Example 1.
All terminal structures of the obtained polydialkylsiloxane were H—Si (CH 3 ) 2 —O—, and the composition other than the terminal groups was 10 mol% of dimethylsiloxy units and 90 mol% of cyclohexylmethylsiloxy units. It was. As a result of molecular weight measurement, the elution curve was bimodal, the number average molecular weight of the peak on the high molecular weight side was 20,400, and the area area was 60% with respect to all peaks.
If necessary, the above synthesis operation was repeated to obtain a polydialkylsiloxane, which was used in the following reaction.

[参考例3]
<加水分解物の合成>
シクロヘキシルメチルジクロロシラン及びジメチルジクロロシランの使用量を各々、320g、139.7gとした以外は参考例1と同様にして、加水分解物3を得た。
<ポリジアルキルシロキサンの合成>
加水分解物1を用いる代わりに、加水分解物3を用いたこと、触媒合成例で得られたフォスファゼン溶液を0.5g用いたこと、重縮合反応時間を1時間としたこと、1,1,3,3−テトラメチル−ジシロキサンを15.6g用いたこと以外は、参考例1と同様にしてポリジアルキルシロキサンを得た。
得られたポリジアルキルシロキサンの全ての末端構造は、H−Si(CH−O−であり、末端基以外の組成は、ジメチルシロキシ単位40モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位60モル%であった。分子量測定の結果、溶出曲線は2峰性であり、高分子量側のピークの数平均分子量は5,300、エリア面積は全ピークに対して32%であった。
必要に応じて、上記の合成操作を繰り返し実施してポリジアルキルシロキサンを得て、以下の反応に用いた。
[Reference Example 3]
<Synthesis of hydrolyzate>
Hydrolyzate 3 was obtained in the same manner as in Reference Example 1 except that the amounts of cyclohexylmethyldichlorosilane and dimethyldichlorosilane used were 320 g and 139.7 g, respectively.
<Synthesis of polydialkylsiloxane>
Instead of using hydrolyzate 1, hydrolyzate 3 was used, 0.5 g of the phosphazene solution obtained in the catalyst synthesis example was used, the polycondensation reaction time was 1 hour, 1, 1, A polydialkylsiloxane was obtained in the same manner as in Reference Example 1 except that 15.6 g of 3,3-tetramethyl-disiloxane was used.
All terminal structures of the obtained polydialkylsiloxane were H—Si (CH 3 ) 2 —O—, and the composition other than the terminal groups was 40 mol% dimethylsiloxy units and 60 mol% cyclohexylmethylsiloxy units. It was. As a result of the molecular weight measurement, the elution curve was bimodal, the number average molecular weight of the peak on the high molecular weight side was 5,300, and the area area was 32% with respect to the total peak.
If necessary, the above synthesis operation was repeated to obtain a polydialkylsiloxane, which was used in the following reaction.

[参考例4]
還流冷却器、温度計及びスターラーバーを備えた0.5リットルの反応器に、乾燥窒素下にて蒸留精製した1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン(信越化学社製試薬)を270g、窒素下にて蒸留精製した1,1,3,3−テトラメチル−ジシロキサン(信越化学社製試薬)を108g、真空下にて110℃で5時間乾燥した活性白土(TONSIL OPTIMUM 230FF:ズード ケミー社製)を0.38g仕込み、窒素下、65℃にて攪拌条件下、24時間反応を行った。得られた反応液を乾燥窒素下にて1μmのフィルターを通過させて触媒を除去した後、50℃、1.3kPaの条件で2時間かけて低分子量オリゴマーを留去してポリ水素メチルシロキサンを得た。
得られたポリ水素メチルシロキサンの全ての末端構造は、H−Si(CH−O−であり、主鎖構造は水素メチルシロキシ単位のみであった。また、数平均分子量は800であった。
必要に応じて、上記の合成操作を繰り返し実施してポリ水素メチルシロキサンを得て、以下の反応に用いた。
[Reference Example 4]
In a 0.5 liter reactor equipped with a reflux condenser, thermometer and stirrer bar, 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane (reagent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) purified by distillation under dry nitrogen was added. 270 g, 108 g of 1,1,3,3-tetramethyl-disiloxane purified by distillation under nitrogen (reagent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), activated clay (TONSIL OPTIMUM 230FF) dried at 110 ° C. for 5 hours under vacuum Zood Chemie Co., Ltd.) was charged in an amount of 0.38 g, and the reaction was performed at 65 ° C. under nitrogen for 24 hours under stirring. The obtained reaction solution was passed through a 1 μm filter under dry nitrogen to remove the catalyst, and then the low molecular weight oligomer was distilled off over 2 hours at 50 ° C. and 1.3 kPa to remove polyhydrogenmethylsiloxane. Obtained.
All terminal structures of the obtained polyhydrogenmethylsiloxane were H—Si (CH 3 ) 2 —O—, and the main chain structure was only hydrogen methylsiloxy units. The number average molecular weight was 800.
If necessary, the above synthesis operation was repeated to obtain polyhydrogenmethylsiloxane, which was used in the following reaction.

[参考例5]
1,1,3,3−テトラメチル−ジシロキサンを190g用いたこと、活性白土を0.46gを用いたこと、低分子量オリゴマーの留去を2.7kPaの条件で3時間かけて行ったこと以外は、参考例4と同様にして、ポリ水素メチルシロキサンを得た。
得られたポリ水素メチルシロキサンの全ての末端構造は、H−Si(CH−O−であり、主鎖構造は水素メチルシロキシ単位のみであった。また、数平均分子量は500であった。
必要に応じて、上記の合成操作を繰り返し実施してポリ水素メチルシロキサンを得て、以下の反応に用いた。
[Reference Example 5]
190 g of 1,1,3,3-tetramethyl-disiloxane was used, 0.46 g of activated clay was used, and low molecular weight oligomers were distilled off under conditions of 2.7 kPa over 3 hours. Except for the above, polyhydrogenmethylsiloxane was obtained in the same manner as in Reference Example 4.
All terminal structures of the obtained polyhydrogenmethylsiloxane were H—Si (CH 3 ) 2 —O—, and the main chain structure was only hydrogen methylsiloxy units. The number average molecular weight was 500.
If necessary, the above synthesis operation was repeated to obtain polyhydrogenmethylsiloxane, which was used in the following reaction.

[参考例6]
1,1,3,3−テトラメチル−ジシロキサンを115g用いたこと、活性白土を0.39gを用いたこと以外は、参考例4と同様にして、ポリ水素メチルシロキサンを得た。
得られたポリ水素メチルシロキサンの全ての末端構造は、H−Si(CH−O−であり、主鎖構造は水素メチルシロキシ単位のみであった。また、数平均分子量は750であった。
必要に応じて、上記の合成操作を繰り返し実施してポリ水素メチルシロキサンを得て、以下の反応に用いた。
[Reference Example 6]
Polyhydrogenmethylsiloxane was obtained in the same manner as in Reference Example 4 except that 115 g of 1,1,3,3-tetramethyl-disiloxane was used and 0.39 g of activated clay was used.
All terminal structures of the obtained polyhydrogenmethylsiloxane were H—Si (CH 3 ) 2 —O—, and the main chain structure was only hydrogen methylsiloxy units. The number average molecular weight was 750.
If necessary, the above synthesis operation was repeated to obtain polyhydrogenmethylsiloxane, which was used in the following reaction.

[参考例7]
1,1,3,3−テトラメチル−ジシロキサンを145g用いたこと、活性白土を0.42gを用いたこと、低分子量オリゴマーの留去を2kPaの条件で3時間かけて行ったこと以外は、参考例4と同様にして、ポリ水素メチルシロキサンを得た。
得られたポリ水素メチルシロキサンの全ての末端構造は、H−Si(CH−O−であり、主鎖構造は水素メチルシロキシ単位のみであった。また、数平均分子量は600であった。
必要に応じて、上記の合成操作を繰り返し実施してポリ水素メチルシロキサンを得て、以下の反応に用いた。
[Reference Example 7]
Except for using 145 g of 1,1,3,3-tetramethyl-disiloxane, using 0.42 g of activated clay, and distilling off the low molecular weight oligomer over 2 hours under the condition of 2 kPa. In the same manner as in Reference Example 4, polyhydrogenmethylsiloxane was obtained.
All terminal structures of the obtained polyhydrogenmethylsiloxane were H—Si (CH 3 ) 2 —O—, and the main chain structure was only hydrogen methylsiloxy units. The number average molecular weight was 600.
If necessary, the above synthesis operation was repeated to obtain polyhydrogenmethylsiloxane, which was used in the following reaction.

[参考例8]
1,1,3,3−テトラメチル−ジシロキサンを58g用いたこと、活性白土を0.33gを用いたこと、低分子量オリゴマーの留去を75℃、0.7kPaの条件で3時間かけて行ったこと以外は、参考例4と同様にして、ポリ水素メチルシロキサンを得た。
得られたポリ水素メチルシロキサンの全ての末端構造は、H−Si(CH−O−であり、主鎖構造は水素メチルシロキシ単位のみであった。また、数平均分子量は1,400であった。
必要に応じて、上記の合成操作を繰り返し実施してポリ水素メチルシロキサンを得て、以下の反応に用いた。
[Reference Example 8]
Using 58 g of 1,1,3,3-tetramethyl-disiloxane, using 0.33 g of activated clay, and distilling off low molecular weight oligomers under conditions of 75 ° C. and 0.7 kPa over 3 hours. A polyhydrogenmethylsiloxane was obtained in the same manner as in Reference Example 4 except that it was performed.
All terminal structures of the obtained polyhydrogenmethylsiloxane were H—Si (CH 3 ) 2 —O—, and the main chain structure was only hydrogen methylsiloxy units. The number average molecular weight was 1,400.
If necessary, the above synthesis operation was repeated to obtain polyhydrogenmethylsiloxane, which was used in the following reaction.

[参考例9]
1,1,3,3−テトラメチル−ジシロキサンを38g用いたこと、活性白土を0.31gを用いたこと、低分子量オリゴマーの留去を100℃、0.7kPaの条件で3時間かけて行ったこと以外は、参考例4と同様にして、ポリ水素メチルシロキサンを得た。
得られたポリ水素メチルシロキサンの全ての末端構造は、H−Si(CH−O−であり、主鎖構造は水素メチルシロキシ単位のみであった。また、数平均分子量は2,000であった。
必要に応じて、上記の合成操作を繰り返し実施してポリ水素メチルシロキサンを得て、以下の反応に用いた。
[Reference Example 9]
38 g of 1,1,3,3-tetramethyl-disiloxane was used, 0.31 g of activated clay was used, and low molecular weight oligomers were distilled off at 100 ° C. and 0.7 kPa over 3 hours. A polyhydrogenmethylsiloxane was obtained in the same manner as in Reference Example 4 except that it was performed.
All terminal structures of the obtained polyhydrogenmethylsiloxane were H—Si (CH 3 ) 2 —O—, and the main chain structure was only hydrogen methylsiloxy units. The number average molecular weight was 2,000.
If necessary, the above synthesis operation was repeated to obtain polyhydrogenmethylsiloxane, which was used in the following reaction.

[参考例10]
1,1,3,3−テトラメチル−ジシロキサンを23.6g用いたこと、活性白土を0.29gを用いたこと、低分子量オリゴマーの留去を150℃、0.1kPaの条件で3時間かけて行ったこと以外は、参考例4と同様にして、ポリ水素メチルシロキサンを得た。
得られたポリ水素メチルシロキサンの全ての末端構造は、H−Si(CH−O−であり、主鎖構造は水素メチルシロキシ単位のみであった。また、数平均分子量は3,150であった。
必要に応じて、上記の合成操作を繰り返し実施してポリ水素メチルシロキサンを得て、以下の反応に用いた。
[Reference Example 10]
The use of 23.6 g of 1,1,3,3-tetramethyl-disiloxane, the use of 0.29 g of activated clay, and the distillation of low molecular weight oligomers at 150 ° C. and 0.1 kPa for 3 hours. A polyhydrogenmethylsiloxane was obtained in the same manner as in Reference Example 4 except that the procedure was carried out.
All terminal structures of the obtained polyhydrogenmethylsiloxane were H—Si (CH 3 ) 2 —O—, and the main chain structure was only hydrogen methylsiloxy units. The number average molecular weight was 3,150.
If necessary, the above synthesis operation was repeated to obtain polyhydrogenmethylsiloxane, which was used in the following reaction.

[合成例1]
<平衡化反応>
攪拌翼を備えた300のセパラブルフラスコに、乾燥窒素下にて参考例1で得られたポリジアルキルシロキサン100g、参考例4で得られたポリ水素メチルシロキサン129.7gを仕込み、攪拌条件下、系内を20℃に冷却する。系内が均一に混合分散された後、乾燥窒素下にて、攪拌を継続しながらトリフルオロメタンスルホン酸(和光純薬社製試薬特級品)を乾燥窒素条件下でポリジアルキルシロキサンとポリ水素メチルシロキサンの合計重量に対して0.25wt%添加して、平衡化反応を45分間反応を行った後、添加したトリフルオロメタンスルホン酸と等モル量のトリエチルアミン(和光純薬社製試薬特級品)を添加して、攪拌を30分継続する。30分経過後、攪拌を停止して反応系を室温として、内容物をトルエン(和光純薬社製試薬特級品)を合計600ミリリットル用いて溶解回収する。回収溶液を2リットルの分液ロートに移し、0.02mol/リットルの炭酸水素ナトリウム水溶液700ミリリットルを添加して分液洗浄した後、相分離させて水相を廃棄する。引き続き、蒸留水700ミリリットルを添加して分液洗浄した後、相分離させて水相を廃棄する操作を2回実施する。トルエン溶液を回収し、エバポレーターにて、減圧下、65℃でトルエンを留去してシリコーンを得た。
[Synthesis Example 1]
<Equilibration reaction>
A 300 separable flask equipped with a stirring blade was charged with 100 g of the polydialkylsiloxane obtained in Reference Example 1 and 129.7 g of the polyhydrogenmethylsiloxane obtained in Reference Example 4 under dry nitrogen. The system is cooled to 20 ° C. After the system is uniformly mixed and dispersed, trifluoromethanesulfonic acid (special grade product manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) is mixed with polydialkylsiloxane and polyhydrogenmethylsiloxane under dry nitrogen conditions while continuing stirring under dry nitrogen. After adding 0.25 wt% with respect to the total weight of the mixture and performing the equilibration reaction for 45 minutes, add equimolar amount of triethylamine (reagent special grade manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) equivalent to the added trifluoromethanesulfonic acid. Then, stirring is continued for 30 minutes. After 30 minutes, stirring is stopped, the reaction system is brought to room temperature, and the contents are dissolved and recovered using a total of 600 ml of toluene (special grade product manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.). The recovered solution is transferred to a 2 liter separatory funnel, and 700 ml of a 0.02 mol / liter sodium hydrogen carbonate aqueous solution is added for separation and washing, followed by phase separation and discarding of the aqueous phase. Subsequently, 700 ml of distilled water is added for separation and washing, and then the phase separation is performed and the aqueous phase is discarded twice. The toluene solution was recovered, and toluene was distilled off at 65 ° C. under reduced pressure using an evaporator to obtain silicone.

<低分子量成分の留去>
内径70mm、有効長さ200mmのパイレックス(登録商標)ガラス製円筒状チューブに、上記で得られたシリコーンを仕込み、加熱用面ヒーターを有するガラスチューブオーブン[柴田科学(株)製GTO−350RG]にセットした。室温条件下、内部を窒素置換した後に、内部の円筒形チューブの回転を開始し、圧力0.1kPaの条件下、温度200℃に昇温して1時間、引き続き温度を250℃に昇温して3時間かけて低分子量成分の留去を実施した。低沸留去終了後、室温に冷却後に乾燥窒素で大気圧とし、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを得た。
分子量測定の結果、得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの数平均分子量は4,800、分子量1,000以下の成分の含有量は10%であった。
<Evaporation of low molecular weight components>
Into a glass tube oven [GTO-350RG manufactured by Shibata Kagaku Co., Ltd.], the silicone obtained above is charged into a cylindrical tube made of Pyrex (registered trademark) glass having an inner diameter of 70 mm and an effective length of 200 mm. I set it. After replacing the interior with nitrogen under room temperature conditions, the internal cylindrical tube started to rotate, and under a pressure of 0.1 kPa, the temperature was raised to 200 ° C. for 1 hour, and then the temperature was raised to 250 ° C. The low molecular weight component was distilled off for 3 hours. After completion of the low boiling point distillation, after cooling to room temperature, the pressure was changed to atmospheric pressure with dry nitrogen to obtain a block type organohydrogen silicone.
As a result of molecular weight measurement, the number average molecular weight of the obtained block type organohydrogen silicone was 4,800, and the content of components having a molecular weight of 1,000 or less was 10%.

得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全ての末端構造は、[H−Si(CH−O1/2−]であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの組成は、[H−Si(CH−O1/2−]単位2.2モル%、水素メチルシロキシ単位21.7モル%、ジメチルシロキシ単位22.0モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位54.1モル%、ジアルキルシロキシ単位及び水素メチルシロキシ単位の平均連鎖長は、各々9.8及び3.8であった。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する全Siに対するSiH単位の含有比[本願発明における(b+d+f)/(a+b+c+d+e+f+g)の値]は0.239、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成するジアルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるcの値]及び水素アルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるdの値]は、各々33.5、9.6であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1g中にはSiH単位が2.19ミリモル含まれていた。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中には、シロキサン交換反応に用いたトリフルオロメタンスルホン酸やトリエチルアミン由来の化合物は含まれていなかった。
必要に応じて、上記の合成操作を繰り返し実施してブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを得て、以下の反応に用いた。
All terminal structures of the obtained block-type organohydrogensilicone are [H—Si (CH 3 ) 2 —O 1/2 —], and the composition of the block-type organohydrogensilicone is [H—Si ( CH 3) 2 -O 1/2 -] units 2.2 mol%, hydrogen methylsiloxy units 21.7 mol% dimethylsiloxy units 22.0 mol%, cyclohexylmethyl siloxy units 54.1 mol%, dialkylsiloxy units And the average chain lengths of the hydrogen methylsiloxy units were 9.8 and 3.8, respectively.
The content ratio of SiH units to the total Si constituting the block type organohydrogen silicone [value of (b + d + f) / (a + b + c + d + e + f + g) in the present invention] is 0.239, and the dialkyl constituting 1 mol of the block type organohydrogen silicone. The number of moles of siloxy units [value of c in the present invention] and the number of moles of hydrogen alkylsiloxy units [value of d in the present invention] are 33.5 and 9.6, respectively, in 1 g of block type organohydrogen silicone. Contained 2.19 mmol of SiH units.
Further, the block type organohydrogen silicone did not contain trifluoromethanesulfonic acid or triethylamine-derived compound used for the siloxane exchange reaction.
If necessary, the above synthesis operation was repeated to obtain a block type organohydrogen silicone, which was used in the following reaction.

[合成例2]
平衡化反応を60分間行ったこと、低分子量成分の留去条件を圧力0.27kPa、温度200℃にて2時間としたこと以外は、合成例1と同様にしてブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを得た。
分子量測定の結果、得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの数平均分子量は2,400、分子量1,000以下の成分の含有量は13%であった。
得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全ての末端構造は、[H−Si(CH−O1/2−]であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの組成は、[H−Si(CH−O1/2−]単位3.0モル%、水素メチルシロキシ単位24.2モル%、ジメチルシロキシ単位8.3モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位64.5モル%、ジアルキルシロキシ単位及び水素メチルシロキシ単位の平均連鎖長は、各々5.8及び2.7であった。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する全Siに対するSiH単位の含有比[本願発明における(b+d+f)/(a+b+c+d+e+f+g)の値]は0.272、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成するジアルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるcの値]及び水素アルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるdの値]は、各々15.0、5.0であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1g中にはSiH単位が2.34ミリモル含まれていた。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中には、シロキサン交換反応に用いたトリフルオロメタンスルホン酸やトリエチルアミン由来の化合物は含まれていなかった。
[Synthesis Example 2]
A block type organohydrogensilicone was prepared in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the equilibration reaction was performed for 60 minutes, and the low molecular weight component was distilled off at a pressure of 0.27 kPa and a temperature of 200 ° C. for 2 hours. Obtained.
As a result of molecular weight measurement, the number average molecular weight of the obtained block type organohydrogen silicone was 2,400, and the content of components having a molecular weight of 1,000 or less was 13%.
All terminal structures of the obtained block-type organohydrogensilicone are [H—Si (CH 3 ) 2 —O 1/2 —], and the composition of the block-type organohydrogensilicone is [H—Si ( CH 3) 2 -O 1/2 -] units 3.0 mol%, hydrogen methylsiloxy units 24.2 mol% dimethylsiloxy units 8.3 mol%, cyclohexylmethyl siloxy units 64.5 mol%, dialkylsiloxy units And the average chain length of the hydrogen methylsiloxy units were 5.8 and 2.7, respectively.
The content ratio of SiH units to the total Si constituting the block type organohydrogen silicone [value of (b + d + f) / (a + b + c + d + e + f + g) in the present invention] is 0.272, and the dialkyl constituting 1 mol of the block type organohydrogen silicone. The number of moles of siloxy units [value of c in the present invention] and the number of moles of hydrogen alkylsiloxy units [value of d in the present invention] are 15.0 and 5.0, respectively, in 1 g of block type organohydrogen silicone. Contained 2.34 mmol of SiH units.
Further, the block type organohydrogen silicone did not contain trifluoromethanesulfonic acid or triethylamine-derived compound used for the siloxane exchange reaction.

[合成例3]
低分子量成分の留去条件を圧力0.1kPaの条件下、温度200℃に昇温して1時間、引き続き温度を250℃に昇温して3時間、更に引き続いて300℃に昇温して3時間としたこと以外は、合成例1と同様にしてブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを得た。
分子量測定の結果、得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの数平均分子量は6,000、分子量1,000以下の成分の含有量は2%であった。
[Synthesis Example 3]
The conditions for distilling off the low molecular weight component were the pressure of 0.1 kPa, the temperature was raised to 200 ° C. for 1 hour, the temperature was raised to 250 ° C. for 3 hours, and the temperature was further raised to 300 ° C. A block type organohydrogensilicone was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the time was 3 hours.
As a result of molecular weight measurement, the number average molecular weight of the obtained block type organohydrogen silicone was 6,000, and the content of components having a molecular weight of 1,000 or less was 2%.

得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全ての末端構造は、[H−Si(CH−O1/2−]であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの組成は、[H−Si(CH−O1/2−]単位2.6モル%、水素メチルシロキシ単位22.4モル%、ジメチルシロキシ単位23.9モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位51.1モル%、ジアルキルシロキシ単位及び水素メチルシロキシ単位の平均連鎖長は、各々12.2及び3.2であった。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する全Siに対するSiH単位の含有比[本願発明における(b+d+f)/(a+b+c+d+e+f+g)の値]は0.250、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成するジアルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるcの値]及び水素アルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるdの値]は、各々42.0、12.5であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1g中にはSiH単位が2.33ミリモル含まれていた。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中には、シロキサン交換反応に用いたトリフルオロメタンスルホン酸やトリエチルアミン由来の化合物は含まれていなかった。
All terminal structures of the obtained block-type organohydrogensilicone are [H—Si (CH 3 ) 2 —O 1/2 —], and the composition of the block-type organohydrogensilicone is [H—Si ( CH 3) 2 -O 1/2 -] units 2.6 mol%, hydrogen methylsiloxy units 22.4 mol% dimethylsiloxy units 23.9 mol%, cyclohexylmethyl siloxy units 51.1 mol%, dialkylsiloxy units And the average chain length of the hydrogen methylsiloxy units were 12.2 and 3.2, respectively.
The content ratio of SiH units to the total Si constituting the block type organohydrogen silicone [value of (b + d + f) / (a + b + c + d + e + f + g) in the present invention] is 0.250, and the dialkyl constituting 1 mol of the block type organohydrogen silicone. The number of moles of siloxy units [value of c in the present invention] and the number of moles of hydrogen alkylsiloxy units [value of d in the present invention] are 42.0 and 12.5, respectively, in 1 g of block type organohydrogen silicone. Contained 2.33 mmol of SiH units.
Further, the block type organohydrogen silicone did not contain trifluoromethanesulfonic acid or triethylamine-derived compound used for the siloxane exchange reaction.

[合成例4]
参考例1で得られたポリジアルキルシロキサンの代わりに参考例2で得られたポリジアルキルシロキサン110gを用いたこと、参考例4で得られたポリ水素メチルシロキサンの代わりに参考例5で得られたポリ水素メチルシロキサン21.4gを用いたこと、平衡化反応を60分間行ったこと、低分子量成分の留去条件を圧力0.1kPaの条件下、温度200℃に昇温して1時間、引き続き温度を250℃に昇温して3時間、更に引き続いて300℃に昇温して3時間としたこと以外は、合成例1と同様にしてブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを得た。
分子量測定の結果、得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの数平均分子量は5,200、分子量1,000以下の成分の含有量は2%であった。
[Synthesis Example 4]
110 g of the polydialkylsiloxane obtained in Reference Example 2 was used in place of the polydialkylsiloxane obtained in Reference Example 1, and that obtained in Reference Example 5 instead of the polyhydrogenmethylsiloxane obtained in Reference Example 4. Using 21.4 g of polyhydrogenmethylsiloxane, carrying out the equilibration reaction for 60 minutes, raising the temperature of the low molecular weight component to 200 ° C. under the pressure of 0.1 kPa and continuing for 1 hour. A block-type organohydrogensilicone was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the temperature was raised to 250 ° C. for 3 hours, and subsequently raised to 300 ° C. for 3 hours.
As a result of molecular weight measurement, the number average molecular weight of the obtained block-type organohydrogensilicone was 5,200, and the content of components having a molecular weight of 1,000 or less was 2%.

得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全ての末端構造は、[H−Si(CH−O1/2−]であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの組成は、[H−Si(CH−O1/2−]単位3.1モル%、水素メチルシロキシ単位22.3モル%、ジメチルシロキシ単位9.2モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位65.4モル%、ジアルキルシロキシ単位及び水素メチルシロキシ単位の平均連鎖長は、各々58及び2.3であった。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する全Siに対するSiH単位の含有比[本願発明における(b+d+f)/(a+b+c+d+e+f+g)の値]は0.254、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成するジアルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるcの値]及び水素アルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるdの値]は、各々33.1、9.9であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1g中にはSiH単位が2.17ミリモル含まれていた。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中には、シロキサン交換反応に用いたトリフルオロメタンスルホン酸やトリエチルアミン由来の化合物は含まれていなかった。
All terminal structures of the obtained block-type organohydrogensilicone are [H—Si (CH 3 ) 2 —O 1/2 —], and the composition of the block-type organohydrogensilicone is [H—Si ( CH 3) 2 -O 1/2 -] units 3.1 mol%, hydrogen methylsiloxy units 22.3 mol% dimethylsiloxy units 9.2 mol%, cyclohexylmethyl siloxy units 65.4 mol%, dialkylsiloxy units And the average chain length of the hydrogen methylsiloxy units were 58 and 2.3, respectively.
The content ratio of SiH units to the total Si constituting the block type organohydrogen silicone [value of (b + d + f) / (a + b + c + d + e + f + g) in the present invention] is 0.254, and the dialkyl constituting 1 mol of the block type organohydrogen silicone. The number of moles of siloxy units [value of c in the present invention] and the number of moles of hydrogen alkylsiloxy units [value of d in the present invention] are 33.1 and 9.9, respectively, in 1 g of block type organohydrogen silicone. Contained 2.17 mmol of SiH units.
Further, the block type organohydrogen silicone did not contain trifluoromethanesulfonic acid or triethylamine-derived compound used for the siloxane exchange reaction.

[合成例5]
参考例1で得られたポリジアルキルシロキサンの代わりに参考例2で得られたポリジアルキルシロキサン115gを用いたこと、参考例4で得られたポリ水素メチルシロキサンの代わりに参考例6で得られたポリ水素メチルシロキサン15.3gを用いたこと、平衡化反応を30℃で90分間行ったこと、低分子量成分の留去条件を圧力0.1kPaの条件下、温度200℃に昇温して1時間、引き続き温度を250℃に昇温して3時間、更に引き続いて300℃に昇温して3時間としたこと以外は、合成例1と同様にしてブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを得た。
分子量測定の結果、得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの数平均分子量は4,000、分子量1,000以下の成分の含有量は3%であった。
[Synthesis Example 5]
115 g of the polydialkylsiloxane obtained in Reference Example 2 was used instead of the polydialkylsiloxane obtained in Reference Example 1, and that obtained in Reference Example 6 instead of the polyhydrogenmethylsiloxane obtained in Reference Example 4. 15.3 g of polyhydrogenmethylsiloxane was used, the equilibration reaction was carried out at 30 ° C. for 90 minutes, the low molecular weight component was distilled off under a pressure of 0.1 kPa and the temperature was raised to 200 ° C. to 1 A block-type organohydrogensilicone was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the temperature was raised to 250 ° C. for 3 hours, and then further raised to 300 ° C. for 3 hours.
As a result of molecular weight measurement, the number average molecular weight of the obtained block type organohydrogen silicone was 4,000, and the content of components having a molecular weight of 1,000 or less was 3%.

得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全ての末端構造は、[H−Si(CH−O1/2−]であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの組成は、[H−Si(CH−O1/2−]単位3.4モル%、水素メチルシロキシ単位17.4モル%、ジメチルシロキシ単位15.0モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位64.2モル%、ジアルキルシロキシ単位及び水素メチルシロキシ単位の平均連鎖長は、各々37及び2.6であった。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する全Siに対するSiH単位の含有比[本願発明における(b+d+f)/(a+b+c+d+e+f+g)の値]は0.208、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成するジアルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるcの値]及び水素アルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるdの値]は、各々27.0、5.9であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1g中にはSiH単位が1.77ミリモル含まれていた。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中には、シロキサン交換反応に用いたトリフルオロメタンスルホン酸やトリエチルアミン由来の化合物は含まれていなかった。
All terminal structures of the obtained block-type organohydrogensilicone are [H—Si (CH 3 ) 2 —O 1/2 —], and the composition of the block-type organohydrogensilicone is [H—Si ( CH 3) 2 -O 1/2 -] units 3.4 mol%, hydrogen methylsiloxy units 17.4 mol% dimethylsiloxy units 15.0 mol%, cyclohexylmethyl siloxy units 64.2 mol%, dialkylsiloxy units And the average chain length of the hydrogen methylsiloxy units were 37 and 2.6, respectively.
The content ratio of SiH units to the total Si constituting the block type organohydrogen silicone [value of (b + d + f) / (a + b + c + d + e + f + g) in the present invention] was 0.208, and dialkyl constituting 1 mol of the block type organohydrogen silicone. The number of moles of siloxy units [value of c in the present invention] and the number of moles of hydrogen alkylsiloxy units [value of d in the present invention] are 27.0 and 5.9, respectively, in 1 g of block type organohydrogen silicone. Contained 1.77 mmol of SiH units.
Further, the block type organohydrogen silicone did not contain trifluoromethanesulfonic acid or triethylamine-derived compound used for the siloxane exchange reaction.

[合成例6]
参考例4で得られたポリ水素メチルシロキサンの代わりに参考例7で得られたポリ水素メチルシロキサン31.3gを用いたこと、平衡化反応を17分間行ったこと、低分子量成分の留去条件を圧力0.1kPaの条件下、温度200℃に昇温して1時間、引き続き温度を250℃に昇温して3時間、更に引き続いて300℃に昇温して3時間としたこと以外は、合成例1と同様にしてブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを得た。
分子量測定の結果、得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの数平均分子量は3,800、分子量1,000以下の成分の含有量は2%であった。
[Synthesis Example 6]
The use of 31.3 g of the polyhydrogenmethylsiloxane obtained in Reference Example 7 instead of the polyhydrogenmethylsiloxane obtained in Reference Example 4, the equilibration reaction for 17 minutes, and the distillation conditions for the low molecular weight component Except that the temperature was raised to 200 ° C. for 1 hour under the condition of a pressure of 0.1 kPa, then the temperature was raised to 250 ° C. for 3 hours, and further raised to 300 ° C. for 3 hours. In the same manner as in Synthesis Example 1, a block type organohydrogen silicone was obtained.
As a result of molecular weight measurement, the number average molecular weight of the obtained block type organohydrogen silicone was 3,800, and the content of components having a molecular weight of 1,000 or less was 2%.

得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全ての末端構造は、[H−Si(CH−O1/2−]であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの組成は、[H−Si(CH−O1/2−]単位3.7モル%、水素メチルシロキシ単位23.1モル%、ジメチルシロキシ単位14.9モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位58.3モル%、ジアルキルシロキシ単位及び水素メチルシロキシ単位の平均連鎖長は、各々21及び2.7であった。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する全Siに対するSiH単位の含有比[本願発明における(b+d+f)/(a+b+c+d+e+f+g)の値]は0.268、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成するジアルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるcの値]及び水素アルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるdの値]は、各々24.7、7.8であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1g中にはSiH単位が2.38ミリモル含まれていた。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中には、シロキサン交換反応に用いたトリフルオロメタンスルホン酸やトリエチルアミン由来の化合物は含まれていなかった。
All terminal structures of the obtained block-type organohydrogensilicone are [H—Si (CH 3 ) 2 —O 1/2 —], and the composition of the block-type organohydrogensilicone is [H—Si ( CH 3) 2 -O 1/2 -] units 3.7 mol%, hydrogen methylsiloxy units 23.1 mol% dimethylsiloxy units 14.9 mol%, cyclohexylmethyl siloxy units 58.3 mol%, dialkylsiloxy units And the average chain length of the hydrogen methylsiloxy units were 21 and 2.7, respectively.
The content ratio of SiH units to the total Si constituting the block type organohydrogen silicone [value of (b + d + f) / (a + b + c + d + e + f + g) in the present invention] is 0.268, and the dialkyl constituting 1 mol of the block type organohydrogen silicone. The number of moles of siloxy units [value of c in the present invention] and the number of moles of hydrogen alkylsiloxy units [value of d in the present invention] are 24.7 and 7.8, respectively, in 1 g of block type organohydrogen silicone. Contained 2.38 mmol of SiH units.
Further, the block type organohydrogen silicone did not contain trifluoromethanesulfonic acid or triethylamine-derived compound used for the siloxane exchange reaction.

[合成例7]
参考例1で得られたポリジアルキルシロキサンの代わりに参考例2で得られたポリジアルキルシロキサン95gを用いたこと、参考例4で得られたポリ水素メチルシロキサンの代わりに参考例7で得られたポリ水素メチルシロキサン35.1gを用いたこと、平衡化反応を15分間行ったこと、低分子量成分の留去条件を圧力0.1kPaの条件下、温度200℃に昇温して1時間、引き続き温度を250℃に昇温して3時間、更に引き続いて300℃に昇温して3時間としたこと以外は、合成例1と同様にしてブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを得た。
分子量測定の結果、得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの数平均分子量は7,200、分子量1,000以下の成分の含有量は2%であった。
[Synthesis Example 7]
95 g of the polydialkylsiloxane obtained in Reference Example 2 was used instead of the polydialkylsiloxane obtained in Reference Example 1, and that obtained in Reference Example 7 instead of the polyhydrogenmethylsiloxane obtained in Reference Example 4. Using 35.1 g of polyhydrogenmethylsiloxane, carrying out the equilibration reaction for 15 minutes, evaporating the low molecular weight components under a pressure of 0.1 kPa, raising the temperature to 200 ° C. and continuing for 1 hour, A block-type organohydrogensilicone was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the temperature was raised to 250 ° C. for 3 hours, and subsequently raised to 300 ° C. for 3 hours.
As a result of molecular weight measurement, the number average molecular weight of the obtained block type organohydrogen silicone was 7,200, and the content of components having a molecular weight of 1,000 or less was 2%.

得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全ての末端構造は、[H−Si(CH−O1/2−]であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの組成は、[H−Si(CH−O1/2−]単位2.3モル%、水素メチルシロキシ単位29.3モル%、ジメチルシロキシ単位14.2モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位54.2モル%、ジアルキルシロキシ単位及び水素メチルシロキシ単位の平均連鎖長は、各々40及び4.3であった。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する全Siに対するSiH単位の含有比[本願発明における(b+d+f)/(a+b+c+d+e+f+g)の値]は0.316、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成するジアルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるcの値]及び水素アルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるdの値]は、各々45.5、19.5であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1g中にはSiH単位が2.92ミリモル含まれていた。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中には、シロキサン交換反応に用いたトリフルオロメタンスルホン酸やトリエチルアミン由来の化合物は含まれていなかった。
All terminal structures of the obtained block-type organohydrogensilicone are [H—Si (CH 3 ) 2 —O 1/2 —], and the composition of the block-type organohydrogensilicone is [H—Si ( CH 3) 2 -O 1/2 -] units 2.3 mol%, hydrogen methylsiloxy units 29.3 mol% dimethylsiloxy units 14.2 mol%, cyclohexylmethyl siloxy units 54.2 mol%, dialkylsiloxy units The average chain lengths of the hydrogen methylsiloxy units were 40 and 4.3, respectively.
The content ratio of SiH units to the total Si constituting the block type organohydrogen silicone [value of (b + d + f) / (a + b + c + d + e + f + g) in the present invention] is 0.316, and the dialkyl constituting 1 mol of the block type organohydrogen silicone. The number of moles of siloxy units [value of c in the present invention] and the number of moles of hydrogen alkylsiloxy units [value of d in the present invention] are 45.5 and 19.5, respectively, in 1 g of block type organohydrogen silicone. Contained 2.92 mmol of SiH units.
Further, the block type organohydrogen silicone did not contain trifluoromethanesulfonic acid or triethylamine-derived compound used for the siloxane exchange reaction.

[合成例8]
参考例4で得られたポリ水素メチルシロキサンの代わりに参考例7で得られたポリ水素メチルシロキサン31.3gを用いたこと、平衡化反応を7分間行ったこと、低分子量成分の留去条件を圧力0.1kPaの条件下、温度200℃に昇温して1時間、引き続き温度を250℃に昇温して3時間、更に引き続いて300℃に昇温して3時間としたこと以外は、合成例1と同様にしてブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを得た。
分子量測定の結果、得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの数平均分子量は4,400、分子量1,000以下の成分の含有量は2%であった。
[Synthesis Example 8]
Using 31.3 g of the polyhydrogenmethylsiloxane obtained in Reference Example 7 instead of the polyhydrogenmethylsiloxane obtained in Reference Example 4, carrying out the equilibration reaction for 7 minutes, and the conditions for distilling off the low molecular weight component Except that the temperature was raised to 200 ° C. for 1 hour under the condition of a pressure of 0.1 kPa, then the temperature was raised to 250 ° C. for 3 hours, and further raised to 300 ° C. for 3 hours. In the same manner as in Synthesis Example 1, a block type organohydrogen silicone was obtained.
As a result of molecular weight measurement, the number average molecular weight of the obtained block type organohydrogen silicone was 4,400, and the content of components having a molecular weight of 1,000 or less was 2%.

得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全ての末端構造は、[H−Si(CH−O1/2−]であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの組成は、[H−Si(CH−O1/2−]単位3.3モル%、水素メチルシロキシ単位22.2モル%、ジメチルシロキシ単位17.4モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位57.1モル%、ジアルキルシロキシ単位及び水素メチルシロキシ単位の平均連鎖長は、各々60及び4.8であった。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する全Siに対するSiH単位の含有比[本願発明における(b+d+f)/(a+b+c+d+e+f+g)の値]は0.255、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成するジアルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるcの値]及び水素アルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるdの値]は、各々29.3、8.8であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1g中にはSiH単位が2.29ミリモル含まれていた。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中には、シロキサン交換反応に用いたトリフルオロメタンスルホン酸やトリエチルアミン由来の化合物は含まれていなかった。
All terminal structures of the obtained block-type organohydrogensilicone are [H—Si (CH 3 ) 2 —O 1/2 —], and the composition of the block-type organohydrogensilicone is [H—Si ( CH 3) 2 -O 1/2 -] units 3.3 mol%, hydrogen methylsiloxy units 22.2 mol% dimethylsiloxy units 17.4 mol%, cyclohexylmethyl siloxy units 57.1 mol%, dialkylsiloxy units And the average chain length of the hydrogen methylsiloxy units were 60 and 4.8, respectively.
The content ratio of SiH units to the total Si constituting the block type organohydrogen silicone [value of (b + d + f) / (a + b + c + d + e + f + g) in the present invention] is 0.255, and the dialkyl constituting 1 mol of the block type organohydrogen silicone. The number of moles of siloxy units [value of c in the present invention] and the number of moles of hydrogen alkylsiloxy units [value of d in the present invention] are 29.3 and 8.8, respectively, in 1 g of block type organohydrogen silicone. Contained 2.29 mmol of SiH units.
Further, the block type organohydrogen silicone did not contain trifluoromethanesulfonic acid or triethylamine-derived compound used for the siloxane exchange reaction.

[合成例9]
参考例1で得られたポリジアルキルシロキサンの代わりに参考例3で得られたポリジアルキルシロキサン115gを用いたこと、参考例4で得られたポリ水素メチルシロキサンの代わりに参考例8で得られたポリ水素メチルシロキサン16.3gを用いたこと、平衡化反応を10℃で50分間行ったこと、低分子量成分の留去条件を圧力0.1kPaの条件下、温度200℃に昇温して1時間、引き続き温度を250℃に昇温して3時間、更に引き続いて300℃に昇温して3時間としたこと以外は、合成例1と同様にしてブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを得た。
分子量測定の結果、得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの数平均分子量は3,500、分子量1,000以下の成分の含有量は1%であった。
[Synthesis Example 9]
115 g of the polydialkylsiloxane obtained in Reference Example 3 was used instead of the polydialkylsiloxane obtained in Reference Example 1, and that obtained in Reference Example 8 instead of the polyhydrogenmethylsiloxane obtained in Reference Example 4. 16.3 g of polyhydrogenmethylsiloxane was used, the equilibration reaction was carried out at 10 ° C. for 50 minutes, and the low molecular weight component was distilled off under a pressure of 0.1 kPa at a temperature of 200 ° C. A block-type organohydrogensilicone was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the temperature was raised to 250 ° C. for 3 hours, and then further raised to 300 ° C. for 3 hours.
As a result of molecular weight measurement, the number average molecular weight of the obtained block type organohydrogen silicone was 3,500, and the content of components having a molecular weight of 1,000 or less was 1%.

得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全ての末端構造は、[H−Si(CH−O1/2−]であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの組成は、[H−Si(CH−O1/2−]単位5.1モル%、水素メチルシロキシ単位14.2モル%、ジメチルシロキシ単位17.6モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位63.1モル%、ジアルキルシロキシ単位及び水素メチルシロキシ単位の平均連鎖長は、各々3.2及び2.2であった。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する全Siに対するSiH単位の含有比[本願発明における(b+d+f)/(a+b+c+d+e+f+g)の値]は0.193、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成するジアルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるcの値]及び水素アルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるdの値]は、各々23.9、4.2であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1g中にはSiH単位が1.64ミリモル含まれていた。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中には、シロキサン交換反応に用いたトリフルオロメタンスルホン酸やトリエチルアミン由来の化合物は含まれていなかった。
All terminal structures of the obtained block-type organohydrogensilicone are [H—Si (CH 3 ) 2 —O 1/2 —], and the composition of the block-type organohydrogensilicone is [H—Si ( CH 3) 2 -O 1/2 -] units 5.1 mol%, hydrogen methylsiloxy units 14.2 mol% dimethylsiloxy units 17.6 mol%, cyclohexylmethyl siloxy units 63.1 mol%, dialkylsiloxy units And the average chain length of the hydrogen methylsiloxy units were 3.2 and 2.2, respectively.
The content ratio of SiH units to the total Si constituting the block type organohydrogen silicone [value of (b + d + f) / (a + b + c + d + e + f + g) in the present invention] is 0.193, and the dialkyl constituting 1 mol of the block type organohydrogen silicone. The number of moles of siloxy units [value of c in the present invention] and the number of moles of hydrogen alkylsiloxy units [value of d in the present invention] are 23.9 and 4.2, respectively, in 1 g of block type organohydrogen silicone. Contained 1.64 mmol of SiH units.
Further, the block type organohydrogen silicone did not contain trifluoromethanesulfonic acid or triethylamine-derived compound used for the siloxane exchange reaction.

[合成例10]
参考例1で得られたポリジアルキルシロキサンの代わりに参考例2で得られたポリジアルキルシロキサン98gを用いたこと、参考例4で得られたポリ水素メチルシロキサンの代わりに参考例8で得られたポリ水素メチルシロキサン31.9gを用いたこと、平衡化反応を10℃で10分間行ったこと、低分子量成分の留去条件を圧力0.1kPaの条件下、温度200℃に昇温して1時間、引き続き温度を250℃に昇温して3時間、更に引き続いて300℃に昇温して3時間としたこと以外は、合成例1と同様にしてブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを得た。
分子量測定の結果、得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの数平均分子量は5,900、分子量1,000以下の成分の含有量は4%であった。
[Synthesis Example 10]
Instead of the polydialkylsiloxane obtained in Reference Example 1, 98 g of the polydialkylsiloxane obtained in Reference Example 2 was used, and instead of the polyhydrogenmethylsiloxane obtained in Reference Example 4, it was obtained in Reference Example 8. 31.9 g of polyhydrogenmethylsiloxane was used, the equilibration reaction was carried out at 10 ° C. for 10 minutes, the low molecular weight component was distilled off under a pressure of 0.1 kPa and the temperature was raised to 200 ° C. to 1 A block-type organohydrogensilicone was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the temperature was raised to 250 ° C. for 3 hours, and then further raised to 300 ° C. for 3 hours.
As a result of molecular weight measurement, the number average molecular weight of the obtained block type organohydrogen silicone was 5,900, and the content of components having a molecular weight of 1,000 or less was 4%.

得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全ての末端構造は、[H−Si(CH−O1/2−]であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの組成は、[H−Si(CH−O1/2−]単位2.1モル%、水素メチルシロキシ単位26.4モル%、ジメチルシロキシ単位12.8モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位58.7モル%、ジアルキルシロキシ単位及び水素メチルシロキシ単位の平均連鎖長は、各々90及び15であった。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する全Siに対するSiH単位の含有比[本願発明における(b+d+f)/(a+b+c+d+e+f+g)の値]は0.285、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成するジアルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるcの値]及び水素アルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるdの値]は、各々37.8、14.0であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1g中にはSiH単位が2.56ミリモル含まれていた。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中には、シロキサン交換反応に用いたトリフルオロメタンスルホン酸やトリエチルアミン由来の化合物は含まれていなかった。
All terminal structures of the obtained block-type organohydrogensilicone are [H—Si (CH 3 ) 2 —O 1/2 —], and the composition of the block-type organohydrogensilicone is [H—Si ( CH 3) 2 -O 1/2 -] units 2.1 mol%, hydrogen methylsiloxy units 26.4 mol% dimethylsiloxy units 12.8 mol%, cyclohexylmethyl siloxy units 58.7 mol%, dialkylsiloxy units And the average chain length of the hydrogen methylsiloxy units were 90 and 15, respectively.
The content ratio of SiH units to the total Si constituting the block type organohydrogen silicone [value of (b + d + f) / (a + b + c + d + e + f + g) in the present invention] is 0.285, and dialkyl constituting 1 mol of the block type organohydrogen silicone. The number of moles of siloxy units [value of c in the present invention] and the number of moles of hydrogen alkylsiloxy units [value of d in the present invention] are 37.8 and 14.0, respectively, in 1 g of block type organohydrogen silicone. Contained 2.56 mmol of SiH units.
Further, the block type organohydrogen silicone did not contain trifluoromethanesulfonic acid or triethylamine-derived compound used for the siloxane exchange reaction.

[合成例11]
参考例1で得られたポリジアルキルシロキサンを75g用いたこと、参考例4で得られたポリ水素メチルシロキサンの代わりに参考例9で得られたポリ水素メチルシロキサン55.9gを用いたこと、平衡化反応を5℃で8分間行ったこと、低分子量成分の留去条件を圧力0.1kPaの条件下、温度200℃に昇温して1時間、引き続き温度を250℃に昇温して3時間、更に引き続いて300℃に昇温して3時間としたこと以外は、合成例1と同様にしてブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを得た。
分子量測定の結果、得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの数平均分子量は4,000、分子量1,000以下の成分の含有量は2%であった。
[Synthesis Example 11]
75 g of the polydialkylsiloxane obtained in Reference Example 1 was used, 55.9 g of the polyhydrogenmethylsiloxane obtained in Reference Example 9 was used instead of the polyhydrogenmethylsiloxane obtained in Reference Example 4, The reaction was carried out at 5 ° C. for 8 minutes, the low molecular weight component was distilled off under a pressure of 0.1 kPa, the temperature was raised to 200 ° C. for 1 hour, and then the temperature was raised to 250 ° C. A block type organohydrogen silicone was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the temperature was further raised to 300 ° C. for 3 hours.
As a result of molecular weight measurement, the number average molecular weight of the obtained block type organohydrogen silicone was 4,000, and the content of components having a molecular weight of 1,000 or less was 2%.

得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全ての末端構造は、[H−Si(CH−O1/2−]であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの組成は、[H−Si(CH−O1/2−]単位2.8モル%、水素メチルシロキシ単位53.5モル%、ジメチルシロキシ単位14.5モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位29.2モル%、ジアルキルシロキシ単位及び水素メチルシロキシ単位の平均連鎖長は、各々6及び18であった。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する全Siに対するSiH単位の含有比[本願発明における(b+d+f)/(a+b+c+d+e+f+g)の値]は0.563、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成するジアルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるcの値]及び水素アルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるdの値]は、各々19.9、24.3であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1g中にはSiH単位が6.40ミリモル含まれていた。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中には、シロキサン交換反応に用いたトリフルオロメタンスルホン酸やトリエチルアミン由来の化合物は含まれていなかった。
All terminal structures of the obtained block-type organohydrogensilicone are [H—Si (CH 3 ) 2 —O 1/2 —], and the composition of the block-type organohydrogensilicone is [H—Si ( CH 3) 2 -O 1/2 -] units 2.8 mol%, hydrogen methylsiloxy units 53.5 mol% dimethylsiloxy units 14.5 mol%, cyclohexylmethyl siloxy units 29.2 mol%, dialkylsiloxy units And the average chain length of the hydrogen methylsiloxy units were 6 and 18, respectively.
The content ratio of SiH units to the total Si constituting the block type organohydrogen silicone [value of (b + d + f) / (a + b + c + d + e + f + g) in the present invention] is 0.563, and the dialkyl constituting 1 mol of the block type organohydrogen silicone. The number of moles of siloxy units [value of c in the present invention] and the number of moles of hydrogen alkylsiloxy units [value of d in the present invention] are 19.9 and 24.3, respectively, in 1 g of block type organohydrogen silicone. Contained 6.40 mmol of SiH units.
Further, the block type organohydrogen silicone did not contain trifluoromethanesulfonic acid or triethylamine-derived compound used for the siloxane exchange reaction.

[合成例12]
参考例1で得られたポリジアルキルシロキサンの代わりに参考例3で得られたポリジアルキルシロキサン115gを用いたこと、参考例4で得られたポリ水素メチルシロキサンの代わりに参考例8で得られたポリ水素メチルシロキサン16.3gを用いたこと、平衡化反応を10℃で65分間行ったこと、低分子量成分の留去条件を圧力0.1kPaの条件下、温度200℃に昇温して1時間、引き続き温度を250℃に昇温して3時間、更に引き続いて300℃に昇温して3時間としたこと以外は、合成例1と同様にしてブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを得た。
分子量測定の結果、得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの数平均分子量は2,100、分子量1,000以下の成分の含有量は1%であった。
[Synthesis Example 12]
115 g of the polydialkylsiloxane obtained in Reference Example 3 was used instead of the polydialkylsiloxane obtained in Reference Example 1, and that obtained in Reference Example 8 instead of the polyhydrogenmethylsiloxane obtained in Reference Example 4. 16.3 g of polyhydrogenmethylsiloxane was used, the equilibration reaction was carried out at 10 ° C. for 65 minutes, the conditions for distilling off the low molecular weight components were raised to 200 ° C. under a pressure of 0.1 kPa, and A block-type organohydrogensilicone was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the temperature was raised to 250 ° C. for 3 hours, and then further raised to 300 ° C. for 3 hours.
As a result of molecular weight measurement, the number average molecular weight of the obtained block type organohydrogen silicone was 2,100, and the content of components having a molecular weight of 1,000 or less was 1%.

得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全ての末端構造は、[H−Si(CH−O1/2−]であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの組成は、[H−Si(CH−O1/2−]単位8.0モル%、水素メチルシロキシ単位14.7モル%、ジメチルシロキシ単位16.1モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位61.2モル%、ジアルキルシロキシ単位及び水素メチルシロキシ単位の平均連鎖長は、各々2及び1.6であった。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する全Siに対するSiH単位の含有比[本願発明における(b+d+f)/(a+b+c+d+e+f+g)の値]は0.227、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成するジアルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるcの値]及び水素アルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるdの値]は、各々13.7、2.6であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1g中にはSiH単位が1.92ミリモル含まれていた。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中には、シロキサン交換反応に用いたトリフルオロメタンスルホン酸やトリエチルアミン由来の化合物は含まれていなかった。
All terminal structures of the obtained block-type organohydrogensilicone are [H—Si (CH 3 ) 2 —O 1/2 —], and the composition of the block-type organohydrogensilicone is [H—Si ( CH 3) 2 -O 1/2 -] units 8.0 mol%, hydrogen methylsiloxy units 14.7 mol% dimethylsiloxy units 16.1 mol%, cyclohexylmethyl siloxy units 61.2 mol%, dialkylsiloxy units And the average chain length of the hydrogen methylsiloxy units were 2 and 1.6, respectively.
The content ratio of SiH units to the total Si constituting the block type organohydrogen silicone [value of (b + d + f) / (a + b + c + d + e + f + g) in the present invention] is 0.227, and the dialkyl constituting 1 mol of the block type organohydrogen silicone. The number of moles of siloxy units [value of c in the present invention] and the number of moles of hydrogen alkylsiloxy units [value of d in the present invention] are 13.7 and 2.6, respectively, in 1 g of block type organohydrogen silicone. Contained 1.92 mmol of SiH units.
Further, the block type organohydrogen silicone did not contain trifluoromethanesulfonic acid or triethylamine-derived compound used for the siloxane exchange reaction.

[合成例13]
参考例4で得られたポリ水素メチルシロキサンの代わりに参考例8で得られたポリ水素メチルシロキサン31.4gを用いたこと、平衡化反応を60分間行ったこと、低分子量成分の留去条件を圧力0.1kPaの条件下、温度200℃に昇温して1時間、引き続き温度を250℃に昇温して3時間、更に引き続いて300℃に昇温して3時間としたこと以外は、合成例1と同様にしてブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを得た。
分子量測定の結果、得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの数平均分子量は3,700、分子量1,000以下の成分の含有量は1%であった。
[Synthesis Example 13]
Using 31.4 g of the polyhydrogenmethylsiloxane obtained in Reference Example 8 instead of the polyhydrogenmethylsiloxane obtained in Reference Example 4, carrying out the equilibration reaction for 60 minutes, and the conditions for distilling off the low molecular weight component Except that the temperature was raised to 200 ° C. for 1 hour under the condition of a pressure of 0.1 kPa, then the temperature was raised to 250 ° C. for 3 hours, and further raised to 300 ° C. for 3 hours. In the same manner as in Synthesis Example 1, a block type organohydrogen silicone was obtained.
As a result of molecular weight measurement, the number average molecular weight of the obtained block type organohydrogen silicone was 3,700, and the content of components having a molecular weight of 1,000 or less was 1%.

得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全ての末端構造は、[H−Si(CH−O1/2−]であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの組成は、[H−Si(CH−O1/2−]単位4.0モル%、水素メチルシロキシ単位21.6モル%、ジメチルシロキシ単位9.1モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位65.3モル%、ジアルキルシロキシ単位及び水素メチルシロキシ単位の平均連鎖長は、各々2及び4であった。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する全Siに対するSiH単位の含有比[本願発明における(b+d+f)/(a+b+c+d+e+f+g)の値]は0.256、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成するジアルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるcの値]及び水素アルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるdの値]は、各々23.4、6.8であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1g中にはSiH単位が2.17ミリモル含まれていた。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中には、シロキサン交換反応に用いたトリフルオロメタンスルホン酸やトリエチルアミン由来の化合物は含まれていなかった。
All terminal structures of the obtained block-type organohydrogensilicone are [H—Si (CH 3 ) 2 —O 1/2 —], and the composition of the block-type organohydrogensilicone is [H—Si ( CH 3) 2 -O 1/2 -] units 4.0 mol%, hydrogen methylsiloxy units 21.6 mol% dimethylsiloxy units 9.1 mol%, cyclohexylmethyl siloxy units 65.3 mol%, dialkylsiloxy units And the average chain length of the hydrogen methylsiloxy units were 2 and 4, respectively.
The content ratio of SiH units to the total Si constituting the block type organohydrogen silicone [value of (b + d + f) / (a + b + c + d + e + f + g) in the present invention] is 0.256, and the dialkyl constituting 1 mol of the block type organohydrogen silicone. The number of moles of siloxy units [value of c in the present invention] and the number of moles of hydrogen alkylsiloxy units [value of d in the present invention] are 23.4 and 6.8, respectively, in 1 g of block type organohydrogen silicone. Contained 2.17 mmol of SiH units.
Further, the block type organohydrogen silicone did not contain trifluoromethanesulfonic acid or triethylamine-derived compound used for the siloxane exchange reaction.

[合成例14]
参考例1で得られたポリジアルキルシロキサンの代わりに参考例2で得られたポリジアルキルシロキサン115gを用いたこと、参考例4で得られたポリ水素メチルシロキサンの代わりに参考例6で得られたポリ水素メチルシロキサン15.3gを用いたこと、平衡化反応を30℃で55分間行ったこと、低分子量成分の留去条件を圧力0.1kPaの条件下、温度200℃に昇温して1時間、引き続き温度を250℃に昇温して3時間、更に引き続いて300℃に昇温して3時間としたこと以外は、合成例1と同様にしてブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを得た。
分子量測定の結果、得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの数平均分子量は6,100、分子量1,000以下の成分の含有量は2%であった。
[Synthesis Example 14]
115 g of the polydialkylsiloxane obtained in Reference Example 2 was used instead of the polydialkylsiloxane obtained in Reference Example 1, and that obtained in Reference Example 6 instead of the polyhydrogenmethylsiloxane obtained in Reference Example 4. 15.3 g of polyhydrogenmethylsiloxane was used, the equilibration reaction was carried out at 30 ° C. for 55 minutes, and the conditions for distilling off the low molecular weight component were raised to 200 ° C. under a pressure of 0.1 kPa and 1 A block-type organohydrogensilicone was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the temperature was raised to 250 ° C. for 3 hours, and then further raised to 300 ° C. for 3 hours.
As a result of molecular weight measurement, the number average molecular weight of the obtained block-type organohydrogensilicone was 6,100, and the content of components having a molecular weight of 1,000 or less was 2%.

得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全ての末端構造は、[H−Si(CH−O1/2−]であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの組成は、[H−Si(CH−O1/2−]単位2.9モル%、水素メチルシロキシ単位15.5モル%、ジメチルシロキシ単位13.6モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位68.0モル%、ジアルキルシロキシ単位及び水素メチルシロキシ単位の平均連鎖長は、各々110及び4であった。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する全Siに対するSiH単位の含有比[本願発明における(b+d+f)/(a+b+c+d+e+f+g)の値]は0.184、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成するジアルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるcの値]及び水素アルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるdの値]は、各々41.5、7.9であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1g中にはSiH単位が1.54ミリモル含まれていた。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中には、シロキサン交換反応に用いたトリフルオロメタンスルホン酸やトリエチルアミン由来の化合物は含まれていなかった。
All terminal structures of the obtained block-type organohydrogensilicone are [H—Si (CH 3 ) 2 —O 1/2 —], and the composition of the block-type organohydrogensilicone is [H—Si ( CH 3) 2 -O 1/2 -] units 2.9 mol%, hydrogen methylsiloxy units 15.5 mol% dimethylsiloxy units 13.6 mol%, cyclohexylmethyl siloxy units 68.0 mol%, dialkylsiloxy units And the average chain lengths of the hydrogen methylsiloxy units were 110 and 4, respectively.
The content ratio of SiH units to the total Si constituting the block type organohydrogen silicone [value of (b + d + f) / (a + b + c + d + e + f + g) in the present invention] is 0.184, and the dialkyl constituting 1 mol of the block type organohydrogen silicone. The number of moles of siloxy units [value of c in the present invention] and the number of moles of hydrogen alkylsiloxy units [value of d in the present invention] are 41.5 and 7.9, respectively, in 1 g of block type organohydrogen silicone. Contained 1.54 mmol of SiH units.
Further, the block type organohydrogen silicone did not contain trifluoromethanesulfonic acid or triethylamine-derived compound used for the siloxane exchange reaction.

[合成例15]
参考例4で得られたポリ水素メチルシロキサンの代わりに参考例10で得られたポリ水素メチルシロキサン32.3gを用いたこと、平衡化反応を15℃で12分間行ったこと、低分子量成分の留去条件を圧力0.1kPaの条件下、温度200℃に昇温して1時間、引き続き温度を250℃に昇温して3時間、更に引き続いて300℃に昇温して3時間としたこと以外は、合成例1と同様にしてブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを得た。
分子量測定の結果、得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの数平均分子量は6,200、分子量1,000以下の成分の含有量は2%であった。
[Synthesis Example 15]
In place of the polyhydrogenmethylsiloxane obtained in Reference Example 4, 32.3 g of the polyhydrogenmethylsiloxane obtained in Reference Example 10 was used, the equilibration reaction was carried out at 15 ° C. for 12 minutes, The distillation conditions were a pressure of 0.1 kPa and the temperature was raised to 200 ° C. for 1 hour, then the temperature was raised to 250 ° C. for 3 hours, and subsequently the temperature was raised to 300 ° C. for 3 hours. Except for this, a block-type organohydrogensilicone was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1.
As a result of molecular weight measurement, the number average molecular weight of the obtained block type organohydrogen silicone was 6,200, and the content of components having a molecular weight of 1,000 or less was 2%.

得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全ての末端構造は、[H−Si(CH−O1/2−]であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの組成は、[H−Si(CH−O1/2−]単位2.7モル%、水素メチルシロキシ単位22.4モル%、ジメチルシロキシ単位16.0モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位58.9モル%、ジアルキルシロキシ単位及び水素メチルシロキシ単位の平均連鎖長は、各々8及び23であった。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する全Siに対するSiH単位の含有比[本願発明における(b+d+f)/(a+b+c+d+e+f+g)の値]は0.251、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成するジアルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるcの値]及び水素アルキルシロキシ単位のモル数[本願発明におけるdの値]は、各々41.3、12.3であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1g中にはSiH単位が2.23ミリモル含まれていた。
また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中には、シロキサン交換反応に用いたトリフルオロメタンスルホン酸やトリエチルアミン由来の化合物は含まれていなかった。
All terminal structures of the obtained block-type organohydrogensilicone are [H—Si (CH 3 ) 2 —O 1/2 —], and the composition of the block-type organohydrogensilicone is [H—Si ( CH 3) 2 -O 1/2 -] units 2.7 mol%, hydrogen methylsiloxy units 22.4 mol% dimethylsiloxy units 16.0 mol%, cyclohexylmethyl siloxy units 58.9 mol%, dialkylsiloxy units And the average chain length of the hydrogen methylsiloxy units were 8 and 23, respectively.
The content ratio of SiH units to the total Si constituting the block type organohydrogen silicone [value of (b + d + f) / (a + b + c + d + e + f + g) in the present invention] is 0.251, and the dialkyl constituting 1 mol of the block type organohydrogen silicone. The number of moles of siloxy units [value of c in the present invention] and the number of moles of hydrogen alkylsiloxy units [value of d in the present invention] are 41.3 and 12.3, respectively, in 1 g of block type organohydrogen silicone. Contained 2.23 mmol of SiH units.
Further, the block type organohydrogen silicone did not contain trifluoromethanesulfonic acid or triethylamine-derived compound used for the siloxane exchange reaction.

<エポキシ変性シリコーンの製造1a>
還流冷却器、温度計及び撹拌装置を有する1リットルの反応器を乾燥窒素で置換する。乾燥窒素条件下にて、前記装置に、合成例1にて製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン60g、乾燥窒素下にて脱水蒸留精製した4−ビニルシクロへキセンオキサイド(アルドリッチ社製試薬)163.4g(1315.9ミリモル)、窒素下にて脱水蒸留精製したテトラヒドロフラン(和光純薬社製試薬特級品)305.8gを仕込んだ後、大気圧乾燥窒素雰囲気下で攪拌しながら66℃に昇温する。仕込んだブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれるSiH単位の合計モル数は、131.55ミリモルであった。
これに、白金元素換算で500ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のテトラヒドロフラン溶液0.31gを乾燥窒素下にて添加し、ヒドロシリル化反応を20時間反応する。20時間反応後、前記の白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のテトラヒドロフラン溶液0.15gを乾燥窒素下にて添加して、更に20時間反応を継続する。更に引き続き、前記の白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のテトラヒドロフラン溶液0.15gを乾燥窒素下にて添加して、24時間反応を実施したところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。次いで、反応液の加熱を停止し、室温まで放冷した。
反応開始時において、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させたビニル化合物の全ビニル基の合計モル数は、10倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/168.030倍、一方、触媒の追添を行った反応終期における該値は、1/84,015倍であった。
<Production 1a of epoxy-modified silicone>
A 1 liter reactor with reflux condenser, thermometer and stirrer is replaced with dry nitrogen. Under dry nitrogen conditions, 60 g of the block-type organohydrogensilicone produced in Synthesis Example 1 was added to the above apparatus, and 163.4 g of 4-vinylcyclohexene oxide (reagent manufactured by Aldrich) purified by dehydration distillation under dry nitrogen. (1315.9 mmol), 305.8 g of tetrahydrofuran (reagent grade manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) purified by dehydration and distillation under nitrogen was added, and the temperature was raised to 66 ° C. with stirring in an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere. . The total number of moles of SiH units contained in the prepared block type organohydrogensilicone was 131.55 mmol.
To this, 0.31 g of a tetrahydrofuran solution of a platinum divinyltetramethyldisiloxane complex containing 500 ppm of platinum in terms of platinum element is added under dry nitrogen, and the hydrosilylation reaction is allowed to react for 20 hours. After the reaction for 20 hours, 0.15 g of the tetrahydrofuran solution of the platinum divinyltetramethyldisiloxane complex is added under dry nitrogen, and the reaction is continued for another 20 hours. Further, 0.15 g of the above-mentioned platinum divinyltetramethyldisiloxane complex tetrahydrofuran solution was added under dry nitrogen and the reaction was carried out for 24 hours. As a result, the hydrosilylation reaction progressed quantitatively, and the reaction was unreacted. No SiH unit was detected. Subsequently, the heating of the reaction solution was stopped and the mixture was allowed to cool to room temperature.
At the start of the reaction, the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound was 10 times the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone.
In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms is the total number of moles of SiH units in the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. In contrast, the value at the end of the reaction when the catalyst was added was 1 / 84,015 times.

反応液の冷却が終了した後、乾燥窒素気流下にて150℃で3時間加熱乾燥した活性炭(和光純薬製:顆粒状特級)170gを添加して、乾燥窒素雰囲気下にて48時間活性炭処理を継続した後、孔径1ミクロンのPTFE製メンブレンフィルターを用いて活性炭をろ過してろ液を回収した。更に、分離された活性炭を、テトラヒドロフラン600mlで洗浄し、同様にメンブレンフィルターを用いて活性炭をろ過して洗浄液を回収して、先に得られたろ液と混合した。回収されたテトラヒドロフラン溶液をエバポレーターを用いて、減圧条件下、加熱温度40℃にてテトラヒドロフランを留去し、エポキシ変性シリコーンを得た。   After cooling the reaction solution, 170 g of activated carbon (manufactured by Wako Pure Chemicals: Granular Special Grade) heated and dried at 150 ° C. for 3 hours under a dry nitrogen stream is added, and activated carbon treatment is performed for 48 hours under a dry nitrogen atmosphere. Then, the activated carbon was filtered using a PTFE membrane filter having a pore size of 1 micron to collect the filtrate. Furthermore, the separated activated carbon was washed with 600 ml of tetrahydrofuran, and the activated carbon was similarly filtered using a membrane filter to collect the washing solution, which was mixed with the previously obtained filtrate. The recovered tetrahydrofuran solution was evaporated using an evaporator under reduced pressure at a heating temperature of 40 ° C. to obtain an epoxy-modified silicone.

得られたエポキシ変性シリコーンを内径70mm、有効長さ200mmのパイレックス(登録商標)ガラス製円筒状チューブに入れ、ガラスチューブオーブン(柴田科学製GTO−350)にセットする。内部の円筒形チューブの回転を開始し、室温条件下にて内部を乾燥窒素置換した後に、温度50℃、圧力0.2kPaにて、内部に大気圧換算で10ml/分の流量にて乾燥窒素を導入しながら70時間処理して、低沸化合物を低減した、エポキシ変性シリコーン(1a)54gを得た。
得られたエポキシ変性シリコーン(1a)の全ての末端構造は、ヒドロシリル化反応によりトリアルキルシロキシ基に変性されており、末端基を除いた組成は、水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドが付加した単位22.2モル%、ジメチルシロキシ単位22.5モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位55.3モル%であった。分子量測定の結果、分子量1,000以下のピークの含有量は8%であった。また、エポキシ基の開環に伴う高分子量部の形成は全く見られなかった。
The obtained epoxy-modified silicone is put into a Pyrex (registered trademark) glass cylindrical tube having an inner diameter of 70 mm and an effective length of 200 mm, and set in a glass tube oven (GTO-350 manufactured by Shibata Kagaku). After starting rotation of the internal cylindrical tube and substituting the inside with dry nitrogen at room temperature, dry nitrogen at a flow rate of 10 ml / min in terms of atmospheric pressure at a temperature of 50 ° C. and a pressure of 0.2 kPa. Was added for 70 hours to obtain 54 g of epoxy-modified silicone (1a) with reduced low boiling point compounds.
All terminal structures of the resulting epoxy-modified silicone (1a) are modified to a trialkylsiloxy group by hydrosilylation reaction, and the composition excluding the terminal group is a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a hydrogen methylsiloxy unit. They were 22.2 mol%, dimethylsiloxy unit 22.5 mol%, and cyclohexylmethylsiloxy unit 55.3 mol%. As a result of molecular weight measurement, the peak content with a molecular weight of 1,000 or less was 8%. In addition, formation of a high molecular weight part accompanying the ring opening of the epoxy group was not observed at all.

エポキシ変性シリコーン(1a)中に残留する、テトラヒドロフランのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.002質量%であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.004質量%、0.003質量%であった。その他の化合物は検出されなかった。これより、本発明におけるエポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は0.007質量%、残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の合計量は0.007質量%、残留する炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物の合計量は0.007質量%、残留するヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の合計量は0.003質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(1a)のエポキシ価は0.172、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で1ppm以下であった。
Only tetrahydrofuran remaining in the epoxy-modified silicone (1a) was detected, and the total amount of remaining volatile compounds was 0.002% by mass. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.004% by mass and 0.003% by mass, respectively. Other compounds were not detected. Thus, the total amount of the low boiling point compounds remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is 0.007% by mass, the total amount of the remaining compounds having a carbon-carbon double bond is 0.007% by mass, and the remaining carbon. -The total amount of the compound having a carbon double bond and an epoxy group is 0.007% by mass, the carbon of the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group added to be used for the remaining hydrosilylation reaction- The total amount of by-products generated by the internal transition of the carbon double bond was 0.003% by mass.
Moreover, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (1a) was 0.172, the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 1 ppm or less in terms of platinum element.

<硬化物の製造と特性評価1a>
得られたエポキシ変性シリコーン(1a)100質量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸28.9質量部、1,3−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.25質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して硬化性組成物−1aを得た。硬化性組成物−1aを窒素下にて深さ3mmの型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間、更に引き続いて170℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture of cured product and characteristic evaluation 1a>
100 parts by mass of the resulting epoxy-modified silicone (1a), 28.9 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride, 3 parts by mass of 1,3-propanediol, and 0.25 parts by mass of diazabicycloundecene octylate were added to nitrogen. The mixture was mixed at the bottom, stirred until the whole became uniform, and then defoamed to obtain a curable composition-1a. The curable composition-1a was poured into a mold having a depth of 3 mm under nitrogen, and cured at 120 ° C. for 1 hour, further at 150 ° C. for 2 hours, and subsequently at 170 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. . Table 1 shows the performance of the obtained cured product.

<エポキシ変性シリコーンの製造2a>
ヒドロシリル化反応時に、4−ビニルシクロへキセンオキサイドを89.8g(723.2ミリモル)用いたこと以外は実施例1と同様にして、低沸化合物を低減した、エポキシ変性シリコーン(2a)52gを得た。仕込んだブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれるSiH単位の合計モル数は、131.55ミリモルであった。
ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。
反応開始時において、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させたビニル化合物の全ビニル基の合計モル数は、5.5倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/168.030倍、一方、触媒の追添を行った反応終期における該値は、1/84,015倍であった。
<Manufacture 2a of epoxy-modified silicone>
52 g of epoxy-modified silicone (2a) with reduced low-boiling compounds was obtained in the same manner as in Example 1 except that 89.8 g (723.2 mmol) of 4-vinylcyclohexene oxide was used during the hydrosilylation reaction. It was. The total number of moles of SiH units contained in the prepared block type organohydrogensilicone was 131.55 mmol.
When sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction progressed quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected.
At the start of the reaction, the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound was 5.5 times the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone.
In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms is the total number of moles of SiH units in the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. In contrast, the value at the end of the reaction when the catalyst was added was 1 / 84,015 times.

得られたエポキシ変性シリコーン(2a)の全ての末端構造は、ヒドロシリル化反応によりトリアルキルシロキシ基に変性されており、末端基を除いた組成は、水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドが付加した単位22.2モル%、ジメチルシロキシ単位22.5モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位55.3モル%であった。分子量測定の結果、分子量1,000以下のピークの含有量は8%であった。また、エポキシ基の開環に伴う高分子量部の形成は全く見られなかった。
エポキシ変性シリコーン(2a)中に残留する、テトラヒドロフランのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.002質量%であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.004質量%、0.002質量%であった。その他の化合物は検出されなかった。これより、本発明におけるエポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は0.006質量%、残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の合計量は0.006質量%、残留する炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物の合計量は0.006質量%、残留するヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の合計量は0.002質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(2a)のエポキシ価は0.172、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で1ppm以下であった。
All terminal structures of the resulting epoxy-modified silicone (2a) are modified to a trialkylsiloxy group by hydrosilylation reaction, and the composition excluding the terminal group is a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a hydrogen methylsiloxy unit. They were 22.2 mol%, dimethylsiloxy unit 22.5 mol%, and cyclohexylmethylsiloxy unit 55.3 mol%. As a result of molecular weight measurement, the peak content with a molecular weight of 1,000 or less was 8%. In addition, formation of a high molecular weight part accompanying the ring opening of the epoxy group was not observed at all.
Only tetrahydrofuran remaining in the epoxy-modified silicone (2a) was detected, and the total amount of remaining volatile compounds was 0.002% by mass. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.004 mass% and 0.002 mass%, respectively. Other compounds were not detected. From this, the total amount of the low-boiling compounds remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is 0.006% by mass, the total amount of the remaining compounds having a carbon-carbon double bond is 0.006% by mass, and the remaining carbon. -The total amount of the compound having a carbon double bond and an epoxy group is 0.006% by mass; the carbon of the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group added to be used for the remaining hydrosilylation reaction- The total amount of by-products generated by the internal transition of the carbon double bond was 0.002% by mass.
The epoxy value of the epoxy-modified silicone (2a) was 0.172, and the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 1 ppm or less in terms of platinum element.

<硬化物の製造と特性評価2a>
得られたエポキシ変性シリコーン(2a)100質量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸28.9質量部、1,3−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.25質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して硬化性組成物−2aを得た。硬化性組成物−2aを窒素下にて深さ3mmの型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間、更に引き続いて170℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture of cured product and characteristic evaluation 2a>
100 parts by mass of the resulting epoxy-modified silicone (2a), 28.9 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride, 3 parts by mass of 1,3-propanediol, and 0.25 parts by mass of diazabicycloundecene octylate were added to nitrogen. The mixture was mixed at the bottom, stirred until the whole became uniform, and then defoamed to obtain a curable composition-2a. The curable composition-2a was poured into a mold having a depth of 3 mm under nitrogen, and cured at 120 ° C. for 1 hour, further at 150 ° C. for 2 hours, and subsequently at 170 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. . Table 1 shows the performance of the obtained cured product.

<エポキシ変性シリコーンの製造3a>
ヒドロシリル化反応時に、1.5リットルの反応器を用いたこと、4−ビニルシクロへキセンオキサイドを1470.2g(11840.2ミリモル)用いたこと、ガラスチューブオーブンでの処理時間を90時間としたこと以外は実施例1と同様にして、低沸化合物を低減した、エポキシ変性シリコーン(3a)53gを得た。仕込んだブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれるSiH単位の合計モル数は、131.55ミリモルであった。
ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。
反応開始時において、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させたビニル化合物の全ビニル基の合計モル数は、90倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/168.030倍、一方、触媒の追添を行った反応終期における該値は、1/84,015倍であった。
<Manufacture 3a of epoxy-modified silicone>
During the hydrosilylation reaction, a 1.5 liter reactor was used, 1470.2 g (11840.2 mmol) of 4-vinylcyclohexene oxide was used, and the processing time in the glass tube oven was 90 hours. Except that, 53 g of epoxy-modified silicone (3a) in which the low boiling point compound was reduced was obtained in the same manner as in Example 1. The total number of moles of SiH units contained in the prepared block type organohydrogensilicone was 131.55 mmol.
When sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction progressed quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected.
At the start of the reaction, the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound was 90 times the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone.
In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms is the total number of moles of SiH units in the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. In contrast, the value at the end of the reaction when the catalyst was added was 1 / 84,015 times.

得られたエポキシ変性シリコーン(3a)の全ての末端構造は、ヒドロシリル化反応によりトリアルキルシロキシ基に変性されており、末端基を除いた組成は、水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドが付加した単位22.2モル%、ジメチルシロキシ単位22.5モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位55.3モル%であった。分子量測定の結果、分子量1,000以下のピークの含有量は8%であった。また、エポキシ基の開環に伴う高分子量部の形成は全く見られなかった。
エポキシ変性シリコーン(3a)中に残留するテトラヒドロフランのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.005質量%、0.002質量%であった。その他の化合物は検出されなかった。これより、本発明におけるエポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は0.007質量%、残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の合計量は0.007質量%、残留する炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物の合計量は0.007質量%、残留するヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の合計量は0.002質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(3a)のエポキシ価は0.172、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で1ppm以下であった。
All terminal structures of the resulting epoxy-modified silicone (3a) have been modified to trialkylsiloxy groups by hydrosilylation reaction, and the composition excluding the terminal groups is a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to hydrogen methylsiloxy units. They were 22.2 mol%, dimethylsiloxy unit 22.5 mol%, and cyclohexylmethylsiloxy unit 55.3 mol%. As a result of molecular weight measurement, the peak content with a molecular weight of 1,000 or less was 8%. In addition, formation of a high molecular weight part accompanying the ring opening of the epoxy group was not observed at all.
Only the tetrahydrofuran remaining in the epoxy-modified silicone (3a) was detected, and the total amount of the remaining volatile compounds was 0.001% by mass. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.005 mass% and 0.002 mass%, respectively. Other compounds were not detected. Thus, the total amount of the low boiling point compounds remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is 0.007% by mass, the total amount of the remaining compounds having a carbon-carbon double bond is 0.007% by mass, and the remaining carbon. -The total amount of the compound having a carbon double bond and an epoxy group is 0.007% by mass, the carbon of the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group added to be used for the remaining hydrosilylation reaction- The total amount of by-products generated by the internal transition of the carbon double bond was 0.002% by mass.
The epoxy value of the epoxy-modified silicone (3a) was 0.172, and the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 1 ppm or less in terms of platinum element.

<硬化物の製造と特性評価3a>
得られたエポキシ変性シリコーン(3a)100質量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸28.9質量部、1,3−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.25質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して硬化性組成物−3aを得た。硬化性組成物−3aを窒素下にて深さ3mmの型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間、更に引き続いて170℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture of cured product and characteristic evaluation 3a>
100 parts by mass of the resulting epoxy-modified silicone (3a), 28.9 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride, 3 parts by mass of 1,3-propanediol, and 0.25 parts by mass of diazabicycloundecene octylate were added to nitrogen. The mixture was mixed at the bottom, stirred until the whole became uniform, and then defoamed to obtain a curable composition-3a. The curable composition-3a was poured into a mold having a depth of 3 mm under nitrogen, and cured at 120 ° C. for 1 hour, further at 150 ° C. for 2 hours, and subsequently at 170 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. . Table 1 shows the performance of the obtained cured product.

<エポキシ変性シリコーンの製造4a>
ヒドロシリル化反応時に、合成例1にて製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの代わりに合成例2で製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを用いたこと、4−ビニルシクロへキセンオキサイドを174.0g(1401.3ミリモル)用いたこと、テトラヒドロフランを310g用いたこと、以外は実施例1と同様にして、低沸化合物を低減した、エポキシ変性シリコーン(4a)52gを得た。仕込んだブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれるSiH単位の合計モル数は、140.11ミリモルであった。
ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。
反応開始時において、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させたビニル化合物の全ビニル基の合計モル数は、10倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/176,262倍、一方、触媒の追添を行った反応終期における該値は、1/89,576倍であった。
<Manufacture 4a of epoxy-modified silicone>
In the hydrosilylation reaction, the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 2 was used instead of the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 1, and 174.0 g (1401) of 4-vinylcyclohexene oxide was used. .3 mmol) and using 310 g of tetrahydrofuran were obtained in the same manner as in Example 1 to obtain 52 g of an epoxy-modified silicone (4a) having a reduced low boiling point compound. The total number of moles of SiH units contained in the prepared block type organohydrogensilicone was 140.11 mmol.
When sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction progressed quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected.
At the start of the reaction, the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound was 10 times the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone.
In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms is the total number of moles of SiH units in the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. On the other hand, the value at the end of the reaction when the catalyst was added was 1 / 89,576 times.

得られたエポキシ変性シリコーン(4a)の全ての末端構造は、ヒドロシリル化反応によりトリアルキルシロキシ基に変性されており、末端基を除いた組成は、水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドが付加した単位24.9モル%、ジメチルシロキシ単位8.6モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位66.5モル%であった。分子量測定の結果、分子量1,000以下のピークの含有量は13%であった。また、エポキシ基の開環に伴う高分子量部の形成は全く見られなかった。
エポキシ変性シリコーン(4a)中に残留するテトラヒドロフランのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.002質量%、0.002質量%であった。その他の化合物は検出されなかった。これより、本発明におけるエポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は0.004質量%、残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の合計量は0.004質量%、残留する炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物の合計量は0.004質量%、残留するヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の合計量は0.002質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(4a)のエポキシ価は0.181、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で1ppm以下であった。
All terminal structures of the resulting epoxy-modified silicone (4a) are modified to a trialkylsiloxy group by hydrosilylation reaction, and the composition excluding the terminal group is a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a hydrogen methylsiloxy unit. They were 24.9 mol%, dimethylsiloxy unit 8.6 mol%, and cyclohexylmethylsiloxy unit 66.5 mol%. As a result of measuring the molecular weight, the content of a peak having a molecular weight of 1,000 or less was 13%. In addition, formation of a high molecular weight part accompanying the ring opening of the epoxy group was not observed at all.
Only the tetrahydrofuran remaining in the epoxy-modified silicone (4a) was detected, and the total amount of the remaining volatile compounds was 0.001% by mass. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.002 mass% and 0.002 mass%, respectively. Other compounds were not detected. From this, the total amount of the low-boiling compounds remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is 0.004% by mass, the total amount of the remaining compounds having a carbon-carbon double bond is 0.004% by mass, and the remaining carbon. -The total amount of the compound having a carbon double bond and an epoxy group is 0.004% by mass, the carbon of the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group added to be used for the remaining hydrosilylation reaction- The total amount of by-products generated by the internal transition of the carbon double bond was 0.002% by mass.
Moreover, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (4a) was 0.181, and the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 1 ppm or less in terms of platinum element.

<硬化物の製造と特性評価4a>
得られたエポキシ変性シリコーン(4a)90質量部、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンジカルボキシレート10質量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸27.4質量部、1,3−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.25質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して硬化性組成物−4aを得た。硬化性組成物−4aを窒素下にて深さ3mmの型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間、更に引き続いて170℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture of cured product and characteristic evaluation 4a>
90 parts by mass of the resulting epoxy-modified silicone (4a), 10 parts by mass of 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanedicarboxylate, 27.4 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride, 3 parts by mass of 3-propanediol and 0.25 parts by mass of diazabicycloundecene octylate are mixed under nitrogen, stirred until the whole becomes uniform, and then defoamed to obtain a curable composition-4a. It was. The curable composition-4a was poured into a mold having a depth of 3 mm under nitrogen, and cured at 120 ° C. for 1 hour, further at 150 ° C. for 2 hours, and subsequently at 170 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. . Table 1 shows the performance of the obtained cured product.

<エポキシ変性シリコーンの製造5a>
ヒドロシリル化反応時に、合成例1にて製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの代わりに合成例3で製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを用いたこと、4−ビニルシクロへキセンオキサイドを173.8g(1399.7ミリモル)用いたこと、テトラヒドロフランを310g用いたこと、反応開始時に白金元素換算で500ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のテトラヒドロフラン溶液を0.93g用いたこと以外は実施例1と同様にして、低沸化合物を低減した、エポキシ変性シリコーン(5a)55gを得た。仕込んだブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれるSiH単位の合計モル数は、139.94ミリモルであった。
ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。
反応開始時において、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させたビニル化合物の全ビニル基の合計モル数は、10倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/58,686倍、一方、触媒の追添を行った反応終期における該値は、1/44,372倍であった。
<Manufacture 5a of epoxy-modified silicone>
In the hydrosilylation reaction, the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 3 was used instead of the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 1, and 173.8 g (1399) of 4-vinylcyclohexene oxide was used. Example 1 except that 0.9 g of tetrahydrofuran was used, 310 g of tetrahydrofuran was used, and 0.93 g of a tetrahydrofuran solution of a platinum divinyltetramethyldisiloxane complex containing 500 ppm of platinum in terms of platinum at the start of the reaction. In the same manner as above, 55 g of an epoxy-modified silicone (5a) with reduced low boiling point compounds was obtained. The total number of moles of SiH units contained in the prepared block type organohydrogensilicone was 139.94 mmol.
When sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction progressed quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected.
At the start of the reaction, the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound was 10 times the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone.
In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms is the total number of moles of SiH units in the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. On the other hand, the value at the end of the reaction when the catalyst was added was 1 / 44,372 times.

得られたエポキシ変性シリコーン(5a)の全ての末端構造は、ヒドロシリル化反応によりトリアルキルシロキシ基に変性されており、末端基を除いた組成は、水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドが付加した単位23.0モル%、ジメチルシロキシ単位24.5モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位52.5モル%であった。分子量測定の結果、分子量1,000以下のピークの含有量は3%であった。また、エポキシ基の開環に伴う高分子量部の形成は全く見られなかった。
エポキシ変性シリコーン(5a)中に残留するテトラヒドロフランのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.003質量%であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.005質量%、0.004質量%であった。その他の化合物は検出されなかった。これより、本発明におけるエポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は0.009質量%、残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の合計量は0.009質量%、残留する炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物の合計量は0.009質量%、残留するヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の合計量は0.004質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(5a)のエポキシ価は0.181、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で1ppm以下であった。
All terminal structures of the resulting epoxy-modified silicone (5a) are modified to trialkylsiloxy groups by hydrosilylation reaction, and the composition excluding the terminal groups is a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to hydrogen methylsiloxy units. They were 23.0 mol%, dimethylsiloxy unit 24.5 mol%, and cyclohexylmethylsiloxy unit 52.5 mol%. As a result of measuring the molecular weight, the content of a peak having a molecular weight of 1,000 or less was 3%. In addition, formation of a high molecular weight part accompanying the ring opening of the epoxy group was not observed at all.
Only the tetrahydrofuran remaining in the epoxy-modified silicone (5a) was detected, and the total amount of the remaining volatile compounds was 0.003% by mass. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.005% by mass and 0.004% by mass, respectively. Other compounds were not detected. Thus, the total amount of the low boiling point compounds remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is 0.009% by mass, the total amount of the remaining compounds having a carbon-carbon double bond is 0.009% by mass, and the remaining carbon. -The total amount of the compound having a carbon double bond and an epoxy group is 0.009% by mass, the carbon of the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group added to be used for the remaining hydrosilylation reaction- The total amount of by-products generated by the internal transition of the carbon double bond was 0.004% by mass.
Moreover, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (5a) was 0.181, and the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 1 ppm or less in terms of platinum element.

<硬化物の製造と特性評価5a>
得られたエポキシ変性シリコーン(5a)100質量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸30.4質量部、1,3−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.25質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して硬化性組成物−5aを得た。硬化性組成物−5aを窒素下にて深さ3mmの型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間、更に引き続いて170℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture of cured product and characteristic evaluation 5a>
100 parts by mass of the resulting epoxy-modified silicone (5a), 30.4 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride, 3 parts by mass of 1,3-propanediol, and 0.25 parts by mass of diazabicycloundecene octylate were added to nitrogen. The mixture was mixed at the bottom, stirred until the whole became uniform, and then defoamed to obtain a curable composition-5a. The curable composition-5a was poured into a mold having a depth of 3 mm under nitrogen and cured at 120 ° C. for 1 hour, further at 150 ° C. for 2 hours, and subsequently at 170 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. . Table 1 shows the performance of the obtained cured product.

<エポキシ変性シリコーンの製造6a>
ヒドロシリル化反応時に、合成例1にて製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの代わりに合成例4で製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを用いたこと、4−ビニルシクロへキセンオキサイドを129.1g(1039.7ミリモル)用いたこと、テトラヒドロフランを306g用いたこと、活性炭処理時に使用した活性炭量を160gとしたこと、以外は実施例1と同様にして、低沸化合物を低減した、エポキシ変性シリコーン(6a)54gを得た。仕込んだブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれるSiH単位の合計モル数は、129.95ミリモルであった。
ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。
反応開始時において、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させたビニル化合物の全ビニル基の合計モル数は、8倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/163,484倍、一方、触媒の追添を行った反応終期における該値は、1/83,082倍であった。
<Manufacture 6a of epoxy-modified silicone>
In the hydrosilylation reaction, the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 4 was used instead of the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 1, and 129.1 g (1039) of 4-vinylcyclohexene oxide was used. .7 mmol), the use of 306 g of tetrahydrofuran, and the amount of activated carbon used during the activated carbon treatment was changed to 160 g. ) 54 g was obtained. The total number of moles of SiH units contained in the prepared block type organohydrogensilicone was 129.95 mmol.
When sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction progressed quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected.
At the start of the reaction, the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound was 8 times the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone.
In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms is the total number of moles of SiH units in the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. On the other hand, the value at the end of the reaction when the catalyst was added was 1 / 83,082 times.

得られたエポキシ変性シリコーン(6a)の全ての末端構造は、ヒドロシリル化反応によりトリアルキルシロキシ基に変性されており、末端基を除いた組成は、水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドが付加した単位23.0モル%、ジメチルシロキシ単位9.5モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位67.5モル%であった。分子量測定の結果、分子量1,000以下のピークの含有量は3%であった。また、エポキシ基の開環に伴う高分子量部の形成は全く見られなかった。
エポキシ変性シリコーン(6a)中に残留するテトラヒドロフランのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.003質量%であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.015質量%、0.01質量%であった。その他の化合物は検出されなかった。これより、本発明におけるエポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は0.025質量%、残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の合計量は0.025質量%、残留する炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物の合計量は0.025質量%、残留するヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の合計量は0.01質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(6a)のエポキシ価は0.171、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で1ppm以下であった。
All terminal structures of the resulting epoxy-modified silicone (6a) were modified to trialkylsiloxy groups by a hydrosilylation reaction, and the composition excluding the terminal groups was a unit in which vinylcyclohexene oxide was added to hydrogen methylsiloxy units. They were 23.0 mol%, dimethylsiloxy unit 9.5 mol%, and cyclohexylmethylsiloxy unit 67.5 mol%. As a result of measuring the molecular weight, the content of a peak having a molecular weight of 1,000 or less was 3%. In addition, formation of a high molecular weight part accompanying the ring opening of the epoxy group was not observed at all.
Only the tetrahydrofuran remaining in the epoxy-modified silicone (6a) was detected, and the total amount of the remaining volatile compounds was 0.003% by mass. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.015 mass% and 0.01 mass%, respectively. Other compounds were not detected. From this, the total amount of the low-boiling compounds remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is 0.025% by mass, the total amount of the remaining compounds having a carbon-carbon double bond is 0.025% by mass, and the remaining carbon. -The total amount of the compound having a carbon double bond and an epoxy group is 0.025% by mass, the carbon of the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group added to be used for the remaining hydrosilylation reaction- The total amount of by-products generated by the internal transition of the carbon double bond was 0.01% by mass.
Moreover, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (6a) was 0.171, and the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 1 ppm or less in terms of platinum element.

<硬化物の製造と特性評価6a>
得られたエポキシ変性シリコーン(6a)100質量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸28.7質量部、1,3−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.25質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して硬化性組成物−6aを得た。硬化性組成物−6aを窒素下にて深さ3mmの型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間、更に引き続いて170℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture and characteristic evaluation 6a of cured product>
100 parts by mass of the resulting epoxy-modified silicone (6a), 28.7 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride, 3 parts by mass of 1,3-propanediol, and 0.25 parts by mass of diazabicycloundecene octylate were added to nitrogen. The mixture was mixed at the bottom, stirred until the whole became uniform, and then defoamed to obtain a curable composition-6a. The curable composition-6a was poured into a mold having a depth of 3 mm under nitrogen, and cured at 120 ° C. for 1 hour, further at 150 ° C. for 2 hours, and subsequently at 170 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. . Table 1 shows the performance of the obtained cured product.

<エポキシ変性シリコーンの製造7a>
ヒドロシリル化反応時に、合成例1にて製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの代わりに合成例5で製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを用いたこと、4−ビニルシクロへキセンオキサイドを158.5g(1276.5ミリモル)用いたこと、テトラヒドロフランを294g用いたこと、活性炭処理時に使用した活性炭量を160gとしたこと、以外は実施例1と同様にして、低沸化合物を低減した、エポキシ変性シリコーン(7a)51gを得た。仕込んだブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれるSiH単位の合計モル数は、106.34ミリモルであった。
ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。
反応開始時において、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させたビニル化合物の全ビニル基の合計モル数は、12倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/133,787倍、一方、触媒の追添を行った反応終期における該値は、1/67,990倍であった。
<Manufacture 7a of epoxy-modified silicone>
In the hydrosilylation reaction, the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 5 was used instead of the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 1, and 158.5 g (1276) of 4-vinylcyclohexene oxide was used. .5 mmol), 294 g of tetrahydrofuran, 160 g of activated carbon used in the activated carbon treatment, and the amount of activated carbon used in the treatment was changed to 160 g. ) 51 g was obtained. The total number of moles of SiH units contained in the prepared block type organohydrogensilicone was 106.34 mmol.
When sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction progressed quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected.
At the start of the reaction, the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound was 12 times the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone.
In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms is the total number of moles of SiH units in the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. On the other hand, the value at the end of the reaction when the catalyst was added was 1 / 67,990 times.

得られたエポキシ変性シリコーン(7a)の全ての末端構造は、ヒドロシリル化反応によりトリアルキルシロキシ基に変性されており、末端基を除いた組成は、水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドが付加した単位18.0モル%、ジメチルシロキシ単位15.5モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位66.5モル%であった。分子量測定の結果、分子量1,000以下のピークの含有量は5%であった。また、エポキシ基の開環に伴う高分子量部の形成は全く見られなかった。
エポキシ変性シリコーン(7a)中に残留するテトラヒドロフランは0.005質量%以下、炭素−炭素2重結合を有する化合物として、テトラヒドロフランのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.003質量%であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.006質量%、0.004質量%であった。その他の化合物は検出されなかった。これより、本発明におけるエポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は0.01質量%、残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の合計量は0.01質量%、残留する炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物の合計量は0.01質量%、残留するヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の合計量は0.004質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(7a)のエポキシ価は0.145、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で1ppm以下であった。
All terminal structures of the resulting epoxy-modified silicone (7a) are modified to a trialkylsiloxy group by hydrosilylation reaction, and the composition excluding the terminal group is a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a hydrogen methylsiloxy unit. They were 18.0 mol%, dimethylsiloxy unit 15.5 mol%, and cyclohexylmethylsiloxy unit 66.5 mol%. As a result of measuring the molecular weight, the content of a peak having a molecular weight of 1,000 or less was 5%. In addition, formation of a high molecular weight part accompanying the ring opening of the epoxy group was not observed at all.
Tetrahydrofuran remaining in the epoxy-modified silicone (7a) is 0.005% by mass or less, and only tetrahydrofuran is detected as a compound having a carbon-carbon double bond, and the total amount of remaining volatile compounds is 0.003% by mass. Met. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.006% by mass and 0.004% by mass, respectively. Other compounds were not detected. From this, the total amount of the low-boiling compounds remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is 0.01% by mass, the total amount of the remaining compounds having a carbon-carbon double bond is 0.01% by mass, and the remaining carbon -The total amount of the compound having a carbon double bond and an epoxy group is 0.01% by mass. The total amount of by-products generated by the internal transition of the carbon double bond was 0.004% by mass.
The epoxy value of the epoxy-modified silicone (7a) was 0.145, and the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 1 ppm or less in terms of platinum element.

<硬化物の製造と特性評価7a>
得られたエポキシ変性シリコーン(7a)100質量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸24.4質量部、1,3−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.25質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して硬化性組成物−7aを得た。硬化性組成物−7aを窒素下にて深さ3mmの型に流し込み、120℃で1時間、更に140℃で2時間、更に引き続いて160℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture of cured product and characteristic evaluation 7a>
100 parts by mass of the resulting epoxy-modified silicone (7a), 24.4 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride, 3 parts by mass of 1,3-propanediol, and 0.25 parts by mass of diazabicycloundecene octylate were added to nitrogen. The mixture was mixed at the bottom, stirred until the whole became uniform, and then defoamed to obtain a curable composition-7a. The curable composition-7a was poured into a mold having a depth of 3 mm under nitrogen, and cured at 120 ° C. for 1 hour, further at 140 ° C. for 2 hours, and then at 160 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. . Table 1 shows the performance of the obtained cured product.

<エポキシ変性シリコーンの製造8a>
ヒドロシリル化反応時に、合成例1にて製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの代わりに合成例6で製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを用いたこと、4−ビニルシクロへキセンオキサイドを177.4g(1428.7ミリモル)用いたこと、テトラヒドロフランを313g用いたこと、以外は実施例1と同様にして、低沸化合物を低減した、エポキシ変性シリコーン(8a)55gを得た。仕込んだブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれるSiH単位の合計モル数は、142.87ミリモルであった。
ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。
反応開始時において、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させたビニル化合物の全ビニル基の合計モル数は、10倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/179,737倍、一方、触媒の追添を行った反応終期における該値は、1/91,342倍であった。
<Manufacture of epoxy-modified silicone 8a>
In the hydrosilylation reaction, the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 6 was used instead of the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 1, and 177.4 g (1428) of 4-vinylcyclohexene oxide was used. 0.7 mmol), and using 313 g of tetrahydrofuran was carried out in the same manner as in Example 1 to obtain 55 g of epoxy-modified silicone (8a) with reduced low boiling point compounds. The total number of moles of SiH units contained in the prepared block type organohydrogensilicone was 142.87 mmol.
When sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction progressed quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected.
At the start of the reaction, the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound was 10 times the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone.
In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms is the total number of moles of SiH units in the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. On the other hand, the value at the end of the reaction when the catalyst was added was 1 / 191,737 times, and 1 / 191,342 times.

得られたエポキシ変性シリコーン(8a)の全ての末端構造は、ヒドロシリル化反応によりトリアルキルシロキシ基に変性されており、末端基を除いた組成は、水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドが付加した単位24.0モル%、ジメチルシロキシ単位15.5モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位60.5モル%であった。分子量測定の結果、分子量1,000以下のピークの含有量は3%であった。また、エポキシ基の開環に伴う高分子量部の形成は全く見られなかった。
エポキシ変性シリコーン(8a)中に残留するテトラヒドロフランは0.005質量%以下、炭素−炭素2重結合を有する化合物として、テトラヒドロフランのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.002質量%であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.004質量%、0.002質量%であった。その他の化合物は検出されなかった。これより、本発明におけるエポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は0.006質量%、残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の合計量は0.006質量%、残留する炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物の合計量は0.006質量%、残留するヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の合計量は0.002質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(8a)のエポキシ価は0.184、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で1ppm以下であった。
All terminal structures of the resulting epoxy-modified silicone (8a) are modified to trialkylsiloxy groups by hydrosilylation reaction, and the composition excluding the terminal groups is a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to hydrogen methylsiloxy units. They were 24.0 mol%, dimethylsiloxy unit 15.5 mol%, and cyclohexylmethylsiloxy unit 60.5 mol%. As a result of measuring the molecular weight, the content of a peak having a molecular weight of 1,000 or less was 3%. In addition, formation of a high molecular weight part accompanying the ring opening of the epoxy group was not observed at all.
Tetrahydrofuran remaining in the epoxy-modified silicone (8a) is 0.005% by mass or less, and only tetrahydrofuran is detected as a compound having a carbon-carbon double bond, and the total amount of remaining volatile compounds is 0.002% by mass. Met. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.004 mass% and 0.002 mass%, respectively. Other compounds were not detected. From this, the total amount of the low-boiling compounds remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is 0.006% by mass, the total amount of the remaining compounds having a carbon-carbon double bond is 0.006% by mass, and the remaining carbon. -The total amount of the compound having a carbon double bond and an epoxy group is 0.006% by mass; the carbon of the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group added to be used for the remaining hydrosilylation reaction- The total amount of by-products generated by the internal transition of the carbon double bond was 0.002% by mass.
The epoxy value of the epoxy-modified silicone (8a) was 0.184, the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 1 ppm or less in terms of platinum element.

<硬化物の製造と特性評価8a>
得られたエポキシ変性シリコーン(8a)100質量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸30.9質量部、1,3−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.25質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して硬化性組成物−8aを得た。硬化性組成物−8aを窒素下にて深さ3mmの型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間、更に引き続いて170℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture and characteristic evaluation 8a of cured product>
100 parts by mass of the resulting epoxy-modified silicone (8a), 30.9 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride, 3 parts by mass of 1,3-propanediol, and 0.25 parts by mass of diazabicycloundecene octylate were added to nitrogen. The mixture was mixed at the bottom, stirred until the whole became uniform, and then defoamed to obtain a curable composition-8a. The curable composition-8a was poured into a mold having a depth of 3 mm under nitrogen, and cured at 120 ° C. for 1 hour, further at 150 ° C. for 2 hours, and subsequently at 170 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. . Table 1 shows the performance of the obtained cured product.

<エポキシ変性シリコーンの製造9a>
ヒドロシリル化反応時に、合成例1にて製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの代わりに合成例7で製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを用いたこと、4−ビニルシクロへキセンオキサイドを217.8g(1754.0ミリモル)用いたこと、テトラヒドロフランを328g用いたこと、反応開始時に白金元素換算で500ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のテトラヒドロフラン溶液を0.15g用いたこと、活性炭処理時に使用した活性炭量を180gとしたこと、以外は実施例1と同様にして、低沸化合物を低減した、エポキシ変性シリコーン(9a)57gを得た。仕込んだブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれるSiH単位の合計モル数は、175.37ミリモルであった。
ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。
反応開始時において、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させたビニル化合物の全ビニル基の合計モル数は、10倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/427,464倍、一方、触媒の追添を行った反応終期における該値は、1/148,683倍であった。
<Manufacture 9a of epoxy-modified silicone>
In the hydrosilylation reaction, the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 7 was used in place of the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 1, and 217.8 g (1754) of 4-vinylcyclohexene oxide was used. 0.0 mmol), 328 g of tetrahydrofuran was used, 0.15 g of a tetrahydrofuran solution of a platinum divinyltetramethyldisiloxane complex containing 500 ppm of platinum in terms of platinum was used at the start of the reaction, and used during activated carbon treatment. Except that the amount of activated carbon was 180 g, 57 g of an epoxy-modified silicone (9a) with reduced low boiling point compounds was obtained in the same manner as in Example 1. The total number of moles of SiH units contained in the prepared block type organohydrogensilicone was 175.37 mmol.
When sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction progressed quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected.
At the start of the reaction, the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound was 10 times the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone.
In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms is the total number of moles of SiH units in the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. On the other hand, the value was 1 / 427,464 times, and the value at the end of the reaction in which the catalyst was added was 1 / 148,683 times.

得られたエポキシ変性シリコーン(9a)の全ての末端構造は、ヒドロシリル化反応によりトリアルキルシロキシ基に変性されており、末端基を除いた組成は、水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドが付加した単位30.0モル%、ジメチルシロキシ単位14.5モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位55.5モル%であった。分子量測定の結果、分子量1,000以下のピークの含有量は3%であった。また、エポキシ基の開環に伴う高分子量部の形成は全く見られなかった。
エポキシ変性シリコーン(9a)中に残留するテトラヒドロフランは0.005質量%以下、炭素−炭素2重結合を有する化合物として、テトラヒドロフランのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.003質量%であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.006質量%、0.003質量%であった。その他の化合物は検出されなかった。これより、本発明におけるエポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は0.009質量%、残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の合計量は0.009質量%、残留する炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物の合計量は0.009質量%、残留するヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の合計量は0.003質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(9a)のエポキシ価は0.214、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で1ppm以下であった。
All terminal structures of the resulting epoxy-modified silicone (9a) are modified to trialkylsiloxy groups by hydrosilylation reaction, and the composition excluding the terminal groups is a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to hydrogen methylsiloxy units. They were 30.0 mol%, dimethylsiloxy unit 14.5 mol%, and cyclohexylmethylsiloxy unit 55.5 mol%. As a result of measuring the molecular weight, the content of a peak having a molecular weight of 1,000 or less was 3%. In addition, formation of a high molecular weight part accompanying the ring opening of the epoxy group was not observed at all.
Tetrahydrofuran remaining in the epoxy-modified silicone (9a) is 0.005% by mass or less, and only tetrahydrofuran is detected as a compound having a carbon-carbon double bond, and the total amount of remaining volatile compounds is 0.003% by mass. Met. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.006% by mass and 0.003% by mass, respectively. Other compounds were not detected. Thus, the total amount of the low boiling point compounds remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is 0.009% by mass, the total amount of the remaining compounds having a carbon-carbon double bond is 0.009% by mass, and the remaining carbon. -The total amount of the compound having a carbon double bond and an epoxy group is 0.009% by mass, the carbon of the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group added to be used for the remaining hydrosilylation reaction- The total amount of by-products generated by the internal transition of the carbon double bond was 0.003% by mass.
Moreover, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (9a) was 0.214, and the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 1 ppm or less in terms of platinum element.

<硬化物の製造と特性評価9a>
得られたエポキシ変性シリコーン(9a)100質量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸36.0質量部、1,3−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.25質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して硬化性組成物−9aを得た。硬化性組成物−9aを窒素下にて深さ3mmの型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間、更に引き続いて170℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture and characteristic evaluation 9a of cured product>
100 parts by mass of the resulting epoxy-modified silicone (9a), 36.0 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride, 3 parts by mass of 1,3-propanediol, and 0.25 parts by mass of diazabicycloundecene octylate were added to nitrogen. The mixture was mixed at the bottom, stirred until the whole became uniform, and then defoamed to obtain a curable composition-9a. The curable composition-9a was poured into a mold having a depth of 3 mm under nitrogen, and cured at 120 ° C. for 1 hour, further at 150 ° C. for 2 hours, and subsequently at 170 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. . Table 1 shows the performance of the obtained cured product.

<エポキシ変性シリコーンの製造10a>
ヒドロシリル化反応時に、合成例1にて製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの代わりに合成例8で製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを用いたこと、4−ビニルシクロへキセンオキサイドを170.4g(1372.3ミリモル)用いたこと、テトラヒドロフランを310g用いたこと、以外は実施例1と同様にして、低沸化合物を低減した、エポキシ変性シリコーン(10a)54gを得た。仕込んだブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれるSiH単位の合計モル数は、137.24ミリモルであった。
ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。
反応開始時において、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させたビニル化合物の全ビニル基の合計モル数は、10倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/172,658倍、一方、触媒の追添を行った反応終期における該値は、1/87,744倍であった。
<Manufacture 10a of epoxy-modified silicone>
In the hydrosilylation reaction, the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 8 was used instead of the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 1, and 170.4 g (1372) of 4-vinylcyclohexene oxide was used. .3 mmol) and using 310 g of tetrahydrofuran were carried out in the same manner as in Example 1 to obtain 54 g of an epoxy-modified silicone (10a) having a reduced low boiling point compound. The total number of moles of SiH units contained in the prepared block type organohydrogensilicone was 137.24 mmol.
When sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction progressed quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected.
At the start of the reaction, the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound was 10 times the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone.
In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms is the total number of moles of SiH units in the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. On the other hand, the value at the end of the reaction when the catalyst was added was 1 / 87,744 times.

得られたエポキシ変性シリコーン(10a)の全ての末端構造は、ヒドロシリル化反応によりトリアルキルシロキシ基に変性されており、末端基を除いた組成は、水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドが付加した単位23.0モル%、ジメチルシロキシ単位18.0モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位59.0モル%であった。分子量測定の結果、分子量1,000以下のピークの含有量は3%であった。また、エポキシ基の開環に伴う高分子量部の形成は全く見られなかった。
エポキシ変性シリコーン(10a)中に残留するテトラヒドロフランのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.002質量%であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.005質量%、0.004質量%であった。その他の化合物は検出されなかった。これより、本発明におけるエポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は0.009質量%、残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の合計量は0.009質量%、残留する炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物の合計量は0.009質量%、残留するヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の合計量は0.004質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(10a)のエポキシ価は0.178、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で1ppm以下であった。
All terminal structures of the obtained epoxy-modified silicone (10a) are modified to trialkylsiloxy groups by hydrosilylation reaction, and the composition excluding the terminal groups is a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to hydrogen methylsiloxy units. They were 23.0 mol%, dimethylsiloxy unit 18.0 mol%, and cyclohexylmethylsiloxy unit 59.0 mol%. As a result of measuring the molecular weight, the content of a peak having a molecular weight of 1,000 or less was 3%. In addition, formation of a high molecular weight part accompanying the ring opening of the epoxy group was not observed at all.
Only the tetrahydrofuran remaining in the epoxy-modified silicone (10a) was detected, and the total amount of the remaining volatile compounds was 0.002% by mass. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.005% by mass and 0.004% by mass, respectively. Other compounds were not detected. Thus, the total amount of the low boiling point compounds remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is 0.009% by mass, the total amount of the remaining compounds having a carbon-carbon double bond is 0.009% by mass, and the remaining carbon. -The total amount of the compound having a carbon double bond and an epoxy group is 0.009% by mass, the carbon of the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group added to be used for the remaining hydrosilylation reaction- The total amount of by-products generated by the internal transition of the carbon double bond was 0.004% by mass.
The epoxy value of the epoxy-modified silicone (10a) was 0.178, and the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 1 ppm or less in terms of platinum element.

<硬化物の製造と特性評価10a>
得られたエポキシ変性シリコーン(10a)100質量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸29.9質量部、1,3−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.25質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して硬化性組成物−10aを得た。硬化性組成物−10aを窒素下にて深さ3mmの型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間、更に引き続いて170℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
<Manufacture of cured product and characteristic evaluation 10a>
100 parts by mass of the resulting epoxy-modified silicone (10a), 29.9 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride, 3 parts by mass of 1,3-propanediol, and 0.25 parts by mass of diazabicycloundecene octylate were added to nitrogen. The mixture was mixed under and stirred until the whole became uniform, and then defoamed to obtain a curable composition-10a. The curable composition-10a was poured into a mold having a depth of 3 mm under nitrogen, and cured at 120 ° C. for 1 hour, further at 150 ° C. for 2 hours, and subsequently at 170 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. . Table 1 shows the performance of the obtained cured product.

<エポキシ変性シリコーンの製造11a>
ヒドロシリル化反応時に、合成例1にて製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの代わりに合成例9で製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを用いたこと、4−ビニルシクロへキセンオキサイドの代わりに、乾燥窒素下にて脱水蒸留精製した1,2−エポキシ−5−ヘキセン(アルドリッチ社製試薬)96.5g(983.3ミリモル)を用いたこと、テトラヒドロフランを284g用いたこと、活性炭処理時に使用した活性炭量を160gとしたこと、以外は実施例1と同様にして、低沸化合物を低減した、エポキシ変性シリコーン(11a)50gを得た。仕込んだブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれるSiH単位の合計モル数は、98.33ミリモルであった。
ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。
反応開始時において、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させたビニル化合物の全ビニル基の合計モル数は、10倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/123,705倍、一方、触媒の追添を行った反応終期における該値は、1/62,866倍であった。
<Manufacture 11a of epoxy-modified silicone>
During the hydrosilylation reaction, the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 9 was used instead of the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 1, and dry nitrogen was used instead of 4-vinylcyclohexene oxide. 1,2-Epoxy-5-hexene (reagent made by Aldrich) 96.5 g (983.3 mmol) purified by dehydration distillation was used, 284 g of tetrahydrofuran was used, and the amount of activated carbon used during the activated carbon treatment In the same manner as in Example 1 except that the amount was changed to 160 g, 50 g of an epoxy-modified silicone (11a) with reduced low boiling point compounds was obtained. The total number of moles of SiH units contained in the prepared block type organohydrogensilicone was 98.33 mmol.
When sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction progressed quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected.
At the start of the reaction, the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound was 10 times the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone.
In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms is the total number of moles of SiH units in the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. On the other hand, the value at the end of the reaction when the catalyst was added was 1 / 62,866 times.

得られたエポキシ変性シリコーン(11a)の全ての末端構造は、ヒドロシリル化反応によりトリアルキルシロキシ基に変性されており、末端基を除いた組成は、水素メチルシロキシ単位に1,2−エポキシ−5−へキセンが付加した単位15.0モル%、ジメチルシロキシ単位18.5モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位66.5モル%であった。分子量測定の結果、分子量1,000以下のピークの含有量は2%であった。また、エポキシ基の開環に伴う高分子量部の形成は全く見られなかった。
エポキシ変性シリコーン(11a)中に残留するテトラヒドロフランのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.002質量%であった。また、低沸化合物としては、1,2−エポキシ−5−ヘキセン、及び前記の1,2−エポキシ−5−ヘキセンの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物である1,2−エポキシ−4−ヘキセン、1,2−エポキシ−3−ヘキセン、1,2−エポキシ−2−ヘキセンが検出され、それらの残留量は各々0.003質量%、0.002質量%、0.002質量%、0.002質量%であった。その他の化合物は検出されなかった。これより、本発明におけるエポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は0.009質量%、残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の合計量は0.009質量%、残留する炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物の合計量は0.009質量%、残留するヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の合計量は0.006質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(11a)のエポキシ価は0.141、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で1ppm以下であった。
All terminal structures of the resulting epoxy-modified silicone (11a) were modified to trialkylsiloxy groups by hydrosilylation reaction, and the composition excluding the terminal groups was 1,2-epoxy-5 in hydrogen methylsiloxy units. The amount of units added with -hexene was 15.0 mol%, the dimethylsiloxy unit was 18.5 mol%, and the cyclohexylmethylsiloxy unit was 66.5 mol%. As a result of measuring the molecular weight, the content of a peak having a molecular weight of 1,000 or less was 2%. In addition, formation of a high molecular weight part accompanying the ring opening of the epoxy group was not observed at all.
Only the tetrahydrofuran remaining in the epoxy-modified silicone (11a) was detected, and the total amount of the remaining volatile compounds was 0.002% by mass. The low boiling point compounds are 1,2-epoxy-5-hexene and by-products generated by the internal transition of the carbon-carbon double bond of the aforementioned 1,2-epoxy-5-hexene. 1,2-epoxy-4-hexene, 1,2-epoxy-3-hexene and 1,2-epoxy-2-hexene were detected, and the residual amounts thereof were 0.003% by mass and 0.002% by mass, respectively. 0.002 mass% and 0.002 mass%. Other compounds were not detected. Thus, the total amount of the low boiling point compounds remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is 0.009% by mass, the total amount of the remaining compounds having a carbon-carbon double bond is 0.009% by mass, and the remaining carbon. -The total amount of the compound having a carbon double bond and an epoxy group is 0.009% by mass, the carbon of the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group added to be used for the remaining hydrosilylation reaction- The total amount of by-products generated by the internal transition of the carbon double bond was 0.006% by mass.
Moreover, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (11a) was 0.141, the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 1 ppm or less in terms of platinum element.

<硬化物の製造と特性評価11a>
得られたエポキシ変性シリコーン(11a)100質量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸23.7質量部、1,3−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.25質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して硬化性組成物−11aを得た。硬化性組成物−11aを窒素下にて深さ3mmの型に流し込み、120℃で1時間、更に140℃で2時間、更に引き続いて160℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表2に示す。
<Manufacture of cured product and characteristic evaluation 11a>
100 parts by mass of the resulting epoxy-modified silicone (11a), 23.7 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride, 3 parts by mass of 1,3-propanediol, and 0.25 parts by mass of diazabicycloundecene octylate were added to nitrogen. The mixture was mixed at the bottom, stirred until the whole became uniform, and then defoamed to obtain a curable composition-11a. The curable composition-11a was poured into a mold having a depth of 3 mm under nitrogen, and cured at 120 ° C. for 1 hour, further at 140 ° C. for 2 hours, and subsequently at 160 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. . Table 2 shows the performance of the obtained cured product.

<エポキシ変性シリコーンの製造12a>
ヒドロシリル化反応時に、合成例1にて製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの代わりに合成例10で製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを用いたこと、4−ビニルシクロへキセンオキサイドを190.6g(1535.0ミリモル)用いたこと、テトラヒドロフランを317g用いたこと、以外は実施例1と同様にして、低沸化合物を低減した、エポキシ変性シリコーン(12a)56gを得た。仕込んだブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれるSiH単位の合計モル数は、153.46ミリモルであった。
ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。
反応開始時において、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させたビニル化合物の全ビニル基の合計モル数は、10倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/193,066倍、一方、触媒の追添を行った反応終期における該値は、1/98,116倍であった。
<Manufacture 12a of epoxy-modified silicone>
In the hydrosilylation reaction, the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 10 was used instead of the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 1, and 190.6 g (1535) of 4-vinylcyclohexene oxide was obtained. 0.0 mmol) and 317 g of tetrahydrofuran were used, and in the same manner as in Example 1, 56 g of epoxy-modified silicone (12a) with reduced low boiling point compounds was obtained. The total number of moles of SiH units contained in the prepared block type organohydrogensilicone was 153.46 mmol.
When sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction progressed quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected.
At the start of the reaction, the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound was 10 times the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone.
In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms is the total number of moles of SiH units in the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. On the other hand, the value at the end of the reaction when the catalyst was added was 1 / 198,116 times, and 1 / 198,116 times.

得られたエポキシ変性シリコーン(12a)の全ての末端構造は、ヒドロシリル化反応によりトリアルキルシロキシ基に変性されており、末端基を除いた組成は、水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドが付加した単位27.0モル%、ジメチルシロキシ単位13.0モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位60.0モル%であった。分子量測定の結果、分子量1,000以下のピークの含有量は5%であった。また、エポキシ基の開環に伴う高分子量部の形成は全く見られなかった。
エポキシ変性シリコーン(12a)中に残留するテトラヒドロフランのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.004質量%であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.02質量%、0.015質量%であった。その他の化合物は検出されなかった。これより、本発明におけるエポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は0.035質量%、残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の合計量は0.035質量%、残留する炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物の合計量は0.035質量%、残留するヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の合計量は0.015質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(12a)のエポキシ価は0.194、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で1ppm以下であった。
All terminal structures of the resulting epoxy-modified silicone (12a) have been modified to trialkylsiloxy groups by a hydrosilylation reaction, and the composition excluding the terminal groups is a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to hydrogen methylsiloxy units. They were 27.0 mol%, dimethylsiloxy unit 13.0 mol%, and cyclohexylmethylsiloxy unit 60.0 mol%. As a result of measuring the molecular weight, the content of a peak having a molecular weight of 1,000 or less was 5%. In addition, formation of a high molecular weight part accompanying the ring opening of the epoxy group was not observed at all.
Only the tetrahydrofuran remaining in the epoxy-modified silicone (12a) was detected, and the total amount of the remaining volatile compounds was 0.004% by mass. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.02% by mass and 0.015% by mass, respectively. Other compounds were not detected. From this, the total amount of the low boiling point compound remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is 0.035% by mass, the total amount of the remaining compound having a carbon-carbon double bond is 0.035% by mass, and the remaining carbon. -The total amount of the compound having a carbon double bond and an epoxy group is 0.035% by mass, the carbon of the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group added to be used for the remaining hydrosilylation reaction- The total amount of by-products generated by the internal transition of carbon double bonds was 0.015% by mass.
The epoxy value of the epoxy-modified silicone (12a) was 0.194, and the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 1 ppm or less in terms of platinum element.

<硬化物の製造と特性評価12a>
得られたエポキシ変性シリコーン(12a)100質量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸32.6質量部、1,3−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.25質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して硬化性組成物−12aを得た。硬化性組成物−12aを窒素下にて深さ3mmの型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間、更に引き続いて170℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表2に示す。
<Manufacture of cured product and characteristic evaluation 12a>
100 parts by mass of the resulting epoxy-modified silicone (12a), 32.6 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride, 3 parts by mass of 1,3-propanediol, and 0.25 parts by mass of diazabicycloundecene octylate were added to nitrogen. The mixture was mixed at the bottom, stirred until the whole became uniform, and then defoamed to obtain a curable composition-12a. The curable composition-12a was poured into a mold having a depth of 3 mm under nitrogen, and cured at 120 ° C. for 1 hour, further at 150 ° C. for 2 hours, and subsequently at 170 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. . Table 2 shows the performance of the obtained cured product.

<エポキシ変性シリコーンの製造13a>
ヒドロシリル化反応時に、1.5リットルの反応器を用いたこと、合成例1にて製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの代わりに合成例11で製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを用いたこと、4−ビニルシクロへキセンオキサイドを476.5g(3837.5ミリモル)用いたこと、テトラヒドロフランを435g用いたこと、反応開始時に白金元素換算で500ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のテトラヒドロフラン溶液0.43gを乾燥窒素下にて添加し、ヒドロシリル化反応を20時間反応させ、次いで前記の白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のテトラヒドロフラン溶液0.22gを乾燥窒素下にて添加して、更に20時間反応を継続させ、更に引き続き、前記の白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のテトラヒドロフラン溶液0.22gを乾燥窒素下にて添加して、24時間反応を実施したこと、活性炭処理時に使用した活性炭量を300gとしたこと、以外は実施例1と同様にして、低沸化合物を低減した、エポキシ変性シリコーン(13a)76gを得た。仕込んだブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれるSiH単位の合計モル数は、383.74ミリモルであった。
ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、エポキシ変性シリコーン中に含有される全Si数に対する未反応SiH単位数が0.2%であった。
反応開始時において、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させたビニル化合物の全ビニル基の合計モル数は、10倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/347,563倍、一方、触媒の追添を行った反応終期における該値は、1/173,781倍であった。
<Manufacture 13a of epoxy-modified silicone>
The use of a 1.5 liter reactor during the hydrosilylation reaction, the use of the block type organohydrogensilicone produced in Synthesis Example 11 instead of the block type organohydrogensilicone produced in Synthesis Example 1, Use of 476.5 g (3837.5 mmol) of 4-vinylcyclohexene oxide, use of 435 g of tetrahydrofuran, and a tetrahydrofuran solution of a platinum divinyltetramethyldisiloxane complex containing 500 ppm of platinum in terms of platinum at the start of the reaction 0.43 g was added under dry nitrogen and the hydrosilylation reaction was allowed to react for 20 hours, then 0.22 g of the above platinum divinyltetramethyldisiloxane complex tetrahydrofuran solution was added under dry nitrogen for another 20 hours. Continue the reaction, and Subsequently, 0.22 g of a tetrahydrofuran solution of the above platinum divinyltetramethyldisiloxane complex was added under dry nitrogen, and the reaction was carried out for 24 hours, except that the amount of activated carbon used during the activated carbon treatment was 300 g. Was obtained in the same manner as in Example 1 to obtain 76 g of an epoxy-modified silicone (13a) having a reduced low boiling point compound. The total number of moles of SiH units contained in the prepared block type organohydrogensilicone was 383.74 mmol.
When sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the number of unreacted SiH units relative to the total number of Si contained in the epoxy-modified silicone was 0.2%.
At the start of the reaction, the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound was 10 times the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone.
In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms is the total number of moles of SiH units in the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. On the other hand, the value at the end of the reaction when the catalyst was added was 1 / 173,563 times.

得られたエポキシ変性シリコーン(13a)の全ての末端構造は、ヒドロシリル化反応によりトリアルキルシロキシ基に変性されており、末端基を除いた組成は、水素メチルシロキシ単位が0.2モル%、水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドが付加した単位54.8モル%、ジメチルシロキシ単位15.0モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位30.0モル%であった。分子量測定の結果、分子量1,000以下のピークの含有量は3%であった。また、エポキシ基の開環に伴う高分子量部の形成は全く見られなかった。
エポキシ変性シリコーン(13a)中に残留するテトラヒドロフランのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.004質量%であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.01質量%、0.008質量%であった。その他の化合物は検出されなかった。これより、本発明におけるエポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は0.018質量%、残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の合計量は0.018質量%、残留する炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物の合計量は0.018質量%、残留するヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の合計量は0.008質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(13a)のエポキシ価は0.356、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で1ppm以下であった。
All terminal structures of the resulting epoxy-modified silicone (13a) were modified to trialkylsiloxy groups by hydrosilylation reaction, and the composition excluding the terminal groups was 0.2 mol% hydrogen methylsiloxy units, hydrogen They were 54.8 mol% of units in which vinylcyclohexene oxide was added to methylsiloxy units, 15.0 mol% of dimethylsiloxy units, and 30.0 mol% of cyclohexylmethylsiloxy units. As a result of measuring the molecular weight, the content of a peak having a molecular weight of 1,000 or less was 3%. In addition, formation of a high molecular weight part accompanying the ring opening of the epoxy group was not observed at all.
Only the tetrahydrofuran remaining in the epoxy-modified silicone (13a) was detected, and the total amount of the remaining volatile compounds was 0.004% by mass. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.01% by mass and 0.008% by mass, respectively. Other compounds were not detected. Accordingly, the total amount of the low boiling point compounds remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is 0.018% by mass, the total amount of the remaining compounds having a carbon-carbon double bond is 0.018% by mass, and the remaining carbon. -The total amount of the compound having a carbon double bond and an epoxy group is 0.018% by mass, the carbon of the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group added to be used for the remaining hydrosilylation reaction- The total amount of by-products generated through the internal transition of the carbon double bond was 0.008% by mass.
Moreover, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (13a) was 0.356, the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 1 ppm or less in terms of platinum element.

<硬化物の製造と特性評価13a>
得られたエポキシ変性シリコーン(13a)100質量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸59.8質量部、1,3−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.25質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して硬化性組成物−13aを得た。硬化性組成物−13aを窒素下にて深さ3mmの型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間、更に引き続いて170℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表2に示す。
<Manufacture of cured product and characteristic evaluation 13a>
100 parts by mass of the resulting epoxy-modified silicone (13a), 59.8 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride, 3 parts by mass of 1,3-propanediol, and 0.25 parts by mass of diazabicycloundecene octylate were added to nitrogen. The mixture was mixed at the bottom, stirred until the whole became uniform, and then defoamed to obtain a curable composition-13a. The curable composition-13a was poured into a mold having a depth of 3 mm under nitrogen, and cured at 120 ° C. for 1 hour, further at 150 ° C. for 2 hours, and subsequently at 170 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. . Table 2 shows the performance of the obtained cured product.

[比較例1]
<エポキシ変性シリコーンの製造1b>
ヒドロシリル化反応時に、4−ビニルシクロへキセンオキサイドを73.5g(591.9ミリモル)用いたこと以外は実施例1と同様にして、低沸化合物を低減した、エポキシ変性シリコーン(1b)51gを得た。仕込んだブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれるSiH単位の合計モル数は、131.55ミリモルであった。
ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。
反応開始時において、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させたビニル化合物の全ビニル基の合計モル数は、4.5倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/168.030倍、一方、触媒の追添を行った反応終期における該値は、1/84,015倍であった。
[Comparative Example 1]
<Manufacture of epoxy-modified silicone 1b>
51 g of epoxy-modified silicone (1b) with reduced low boiling point compounds was obtained in the same manner as in Example 1 except that 73.5 g (591.9 mmol) of 4-vinylcyclohexene oxide was used during the hydrosilylation reaction. It was. The total number of moles of SiH units contained in the prepared block type organohydrogensilicone was 131.55 mmol.
When sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction progressed quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected.
At the start of the reaction, the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound was 4.5 times the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone.
In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms is the total number of moles of SiH units in the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. In contrast, the value at the end of the reaction when the catalyst was added was 1 / 84,015 times.

得られたエポキシ変性シリコーン(1b)の全ての末端構造は、ヒドロシリル化反応によりトリアルキルシロキシ基に変性されており、末端基を除いた組成は、水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドが付加した単位22.2モル%、ジメチルシロキシ単位22.5モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位55.3モル%であった。分子量測定の結果、分子量1,000以下のピークの含有量は8%であったが、分子量10万から100万付近にこれまで観測されなかったピークが観測され、エポキシ基の開環に伴う高分子量部の形成が見られた。得られたエポキシ変性シリコーン(1b)のGPCの溶出曲線において、溶出開始点と溶出終了点を結んで得られる該溶出ピーク面積に対する、今回観測されたピークのエリア面積の比率は、約5%であった。   All terminal structures of the resulting epoxy-modified silicone (1b) have been modified to trialkylsiloxy groups by hydrosilylation reaction, and the composition excluding the terminal groups is a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to hydrogen methylsiloxy units. They were 22.2 mol%, dimethylsiloxy unit 22.5 mol%, and cyclohexylmethylsiloxy unit 55.3 mol%. As a result of molecular weight measurement, the peak content with a molecular weight of 1,000 or less was 8%, but a peak not observed before was observed in the vicinity of a molecular weight of 100,000 to 1,000,000. Formation of a molecular weight part was observed. In the GPC elution curve of the obtained epoxy-modified silicone (1b), the ratio of the area area of the peak observed this time to the elution peak area obtained by connecting the elution start point and the elution end point is about 5%. there were.

[比較例2]
<エポキシ変性シリコーンの製造2b>
ヒドロシリル化反応時に、3リットルの反応器を用いたこと、4−ビニルシクロへキセンオキサイドを1796.9g(14471.3ミリモル)用いたこと以外は実施例1と同様にして反応を行った。仕込んだブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれるSiH単位の合計モル数は、131.55ミリモルであった。
反応開始時において、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させたビニル化合物の全ビニル基の合計モル数は、110倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/168.030倍、一方、触媒の追添を行った反応終期における該値は、1/84,015倍であった。
所定時間反応後の反応液をサンプリングしたところ、仕込んだブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれるSiH単位の合計モル数の約4%が残留しており、ヒドロシリル化反応は完結していなかった。
[Comparative Example 2]
<Manufacture 2b of epoxy-modified silicone>
The reaction was conducted in the same manner as in Example 1 except that a 3 liter reactor was used during the hydrosilylation reaction, and 1796.9 g (14471.3 mmol) of 4-vinylcyclohexene oxide was used. The total number of moles of SiH units contained in the prepared block type organohydrogensilicone was 131.55 mmol.
At the start of the reaction, the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound was 110 times the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone.
In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms is the total number of moles of SiH units in the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. In contrast, the value at the end of the reaction when the catalyst was added was 1 / 84,015 times.
When the reaction solution after the reaction for a predetermined time was sampled, about 4% of the total mole number of SiH units contained in the charged block type organohydrogensilicone remained, and the hydrosilylation reaction was not completed.

[比較例3]
<エポキシ変性シリコーンの製造3b>
ヒドロシリル化反応時に、合成例1にて製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの代わりに合成例12で製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを用いたこと、4−ビニルシクロへキセンオキサイドを143.0g(1151.6ミリモル)用いたこと、テトラヒドロフランを300g用いたこと、活性炭処理時に使用した活性炭量を180gとしたこと、以外は実施例1と同様にして、低沸化合物を低減した、エポキシ変性シリコーン(3b)52gを得た。仕込んだブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれるSiH単位の合計モル数は、115.19ミリモルであった。
ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。
反応開始時において、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させたビニル化合物の全ビニル基の合計モル数は、10倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/144,919倍、一方、触媒の追添を行った反応終期における該値は、1/73,647倍であった。
[Comparative Example 3]
<Manufacture 3b of epoxy-modified silicone>
In the hydrosilylation reaction, the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 12 was used instead of the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 1, and 143.0 g (1151) of 4-vinylcyclohexene oxide was used. 0.6 mmole), the use of 300 g of tetrahydrofuran, and the amount of activated carbon used in the activated carbon treatment was changed to 180 g. ) 52 g was obtained. The total number of moles of SiH units contained in the prepared block type organohydrogensilicone was 115.19 mmol.
When sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction progressed quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected.
At the start of the reaction, the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound was 10 times the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone.
In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms is the total number of moles of SiH units in the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. On the other hand, the value at the end of the reaction when the catalyst was added was 1 / 173,647 times, 1 / 144,919 times.

得られたエポキシ変性シリコーン(3b)の全ての末端構造は、ヒドロシリル化反応によりトリアルキルシロキシ基に変性されており、末端基を除いた組成は、水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドが付加した単位16.0モル%、ジメチルシロキシ単位17.5モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位66.5モル%であった。分子量測定の結果、分子量1,000以下のピークの含有量は2%であった。また、エポキシ基の開環に伴う高分子量部の形成は全く見られなかった。
エポキシ変性シリコーン(3b)中に残留するテトラヒドロフランのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.002質量%、0.002質量%であった。その他の化合物は検出されなかった。これより、本発明におけるエポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は0.004質量%、残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の合計量は0.004質量%、残留する炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物の合計量は0.004質量%、残留するヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の合計量は0.002質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(3b)のエポキシ価は0.155、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で1ppm以下であった。
All terminal structures of the obtained epoxy-modified silicone (3b) are modified to trialkylsiloxy groups by hydrosilylation reaction, and the composition excluding the terminal groups is a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a hydrogen methylsiloxy unit. It was 16.0 mol%, dimethylsiloxy unit 17.5 mol%, and cyclohexylmethylsiloxy unit 66.5 mol%. As a result of measuring the molecular weight, the content of a peak having a molecular weight of 1,000 or less was 2%. In addition, formation of a high molecular weight part accompanying the ring opening of the epoxy group was not observed at all.
Only the tetrahydrofuran remaining in the epoxy-modified silicone (3b) was detected, and the total amount of the remaining volatile compounds was 0.001% by mass. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.002 mass% and 0.002 mass%, respectively. Other compounds were not detected. From this, the total amount of the low-boiling compounds remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is 0.004% by mass, the total amount of the remaining compounds having a carbon-carbon double bond is 0.004% by mass, and the remaining carbon. -The total amount of the compound having a carbon double bond and an epoxy group is 0.004% by mass, the carbon of the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group added to be used for the remaining hydrosilylation reaction- The total amount of by-products generated by the internal transition of the carbon double bond was 0.002% by mass.
The epoxy value of the epoxy-modified silicone (3b) was 0.155, and the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 1 ppm or less in terms of platinum element.

<硬化物の製造と特性評価3b>
得られたエポキシ変性シリコーン(3b)100質量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸26.0質量部、1,3−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.25質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して硬化性組成物−3bを得た。硬化性組成物−3bを窒素下にて深さ3mmの型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間、更に引き続いて170℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表2に示す。
<Manufacture of cured product and characteristic evaluation 3b>
100 parts by mass of the resulting epoxy-modified silicone (3b), 26.0 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride, 3 parts by mass of 1,3-propanediol, and 0.25 parts by mass of diazabicycloundecene octylate were added to nitrogen. The mixture was mixed at the bottom, stirred until the whole became uniform, and then defoamed to obtain a curable composition-3b. The curable composition-3b was poured into a mold having a depth of 3 mm under nitrogen, and cured at 120 ° C. for 1 hour, further at 150 ° C. for 2 hours, and subsequently at 170 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. . Table 2 shows the performance of the obtained cured product.

[比較例4]
<エポキシ変性シリコーンの製造4b>
ヒドロシリル化反応時に、合成例1にて製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの代わりに合成例13で製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを用いたこと、4−ビニルシクロへキセンオキサイドを162.0g(1304.7ミリモル)用いたこと、テトラヒドロフランを306g用いたこと、活性炭処理時に使用した活性炭量を165gとしたこと、以外は実施例1と同様にして、低沸化合物を低減した、エポキシ変性シリコーン(4b)54gを得た。仕込んだブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれるSiH単位の合計モル数は、130.43ミリモルであった。
ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。
反応開始時において、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させたビニル化合物の全ビニル基の合計モル数は、10倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/164,086倍、一方、触媒の追添を行った反応終期における該値は、1/82,740倍であった。
[Comparative Example 4]
<Manufacture 4b of epoxy-modified silicone>
In the hydrosilylation reaction, the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 13 was used instead of the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 1, and 162.0 g (1304) of 4-vinylcyclohexene oxide was used. .7 mmol), the use of 306 g of tetrahydrofuran, and the amount of activated carbon used in the activated carbon treatment was changed to 165 g. ) 54 g was obtained. The total number of moles of SiH units contained in the prepared block type organohydrogensilicone was 130.43 mmol.
When sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction progressed quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected.
At the start of the reaction, the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound was 10 times the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone.
In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms is the total number of moles of SiH units in the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. On the other hand, the value at the end of the reaction when the catalyst was added was 1 / 182,740 times.

得られたエポキシ変性シリコーン(4b)の全ての末端構造は、ヒドロシリル化反応によりトリアルキルシロキシ基に変性されており、末端基を除いた組成は、水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドが付加した単位22.5モル%、ジメチルシロキシ単位9.5モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位68.0モル%であった。分子量測定の結果、分子量1,000以下のピークの含有量は3%であった。また、エポキシ基の開環に伴う高分子量部の形成は全く見られなかった。
エポキシ変性シリコーン(4b)中に残留するテトラヒドロフランのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.002質量%であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.006質量%、0.004質量%であった。その他の化合物は検出されなかった。これより、本発明におけるエポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は0.01質量%、残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の合計量は0.01質量%、残留する炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物の合計量は0.01質量%、残留するヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の合計量は0.004質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(4b)のエポキシ価は0.171、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で1ppm以下であった。
All terminal structures of the resulting epoxy-modified silicone (4b) were modified to trialkylsiloxy groups by a hydrosilylation reaction, and the composition excluding the terminal groups was a unit in which vinylcyclohexene oxide was added to hydrogen methylsiloxy units. They were 22.5 mol%, dimethylsiloxy unit 9.5 mol%, and cyclohexylmethylsiloxy unit 68.0 mol%. As a result of measuring the molecular weight, the content of a peak having a molecular weight of 1,000 or less was 3%. In addition, formation of a high molecular weight part accompanying the ring opening of the epoxy group was not observed at all.
Only the tetrahydrofuran remaining in the epoxy-modified silicone (4b) was detected, and the total amount of the remaining volatile compounds was 0.002% by mass. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.006% by mass and 0.004% by mass, respectively. Other compounds were not detected. From this, the total amount of the low-boiling compounds remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is 0.01% by mass, the total amount of the remaining compounds having a carbon-carbon double bond is 0.01% by mass, and the remaining carbon -The total amount of the compound having a carbon double bond and an epoxy group is 0.01% by mass. The total amount of by-products generated by the internal transition of the carbon double bond was 0.004% by mass.
The epoxy value of the epoxy-modified silicone (4b) was 0.171, and the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 1 ppm or less in terms of platinum element.

<硬化物の製造と特性評価4b>
得られたエポキシ変性シリコーン(4b)100質量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸28.7質量部、1,3−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.25質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して硬化性組成物−4bを得た。硬化性組成物−4bを窒素下にて深さ3mmの型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間、更に引き続いて170℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表2に示す。
<Manufacture of cured product and characteristic evaluation 4b>
100 parts by mass of the resulting epoxy-modified silicone (4b), 28.7 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride, 3 parts by mass of 1,3-propanediol, and 0.25 parts by mass of diazabicycloundecene octylate were added to nitrogen. The mixture was mixed under and stirred until the whole became uniform, and then defoamed to obtain a curable composition-4b. The curable composition-4b was poured into a mold having a depth of 3 mm under nitrogen, and cured at 120 ° C. for 1 hour, further at 150 ° C. for 2 hours, and subsequently at 170 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. . Table 2 shows the performance of the obtained cured product.

[比較例5]
<エポキシ変性シリコーンの製造5b>
ヒドロシリル化反応時に、合成例1にて製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの代わりに合成例14で製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを用いたこと、4−ビニルシクロへキセンオキサイドを114.7g(923.7ミリモル)用いたこと、テトラヒドロフランを287g用いたこと、活性炭処理時に使用した活性炭量を160gとしたこと、以外は実施例1と同様にして、低沸化合物を低減した、エポキシ変性シリコーン(5b)50gを得た。仕込んだブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれるSiH単位の合計モル数は、92.35ミリモルであった。
ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。
反応開始時において、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させたビニル化合物の全ビニル基の合計モル数は、10倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/116,177倍、一方、触媒の追添を行った反応終期における該値は、1/59,041倍であった。
[Comparative Example 5]
<Manufacture 5b of epoxy-modified silicone>
In the hydrosilylation reaction, the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 14 was used in place of the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 1, and 114.7 g (923) of 4-vinylcyclohexene oxide was obtained. 0.7 mmol), using 287 g of tetrahydrofuran, and changing the amount of activated carbon used during the activated carbon treatment to 160 g. ) 50 g was obtained. The total number of moles of SiH units contained in the prepared block type organohydrogensilicone was 92.35 mmol.
When sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction progressed quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected.
At the start of the reaction, the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound was 10 times the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone.
In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms is the total number of moles of SiH units in the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. On the other hand, the value at the end of the reaction when the catalyst was added was 1 / 159,041 times.

得られたエポキシ変性シリコーン(5b)の全ての末端構造は、ヒドロシリル化反応によりトリアルキルシロキシ基に変性されており、末端基を除いた組成は、水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドが付加した単位16.0モル%、ジメチルシロキシ単位14.0モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位70.0モル%であった。分子量測定の結果、分子量1,000以下のピークの含有量は3%であった。また、エポキシ基の開環に伴う高分子量部の形成は全く見られなかった。
エポキシ変性シリコーン(5b)中に残留するテトラヒドロフランのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.003質量%であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.005質量%、0.004質量%であった。その他の化合物は検出されなかった。これより、本発明におけるエポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は0.009質量%、残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の合計量は0.009質量%、残留する炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物の合計量は0.009質量%、残留するヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の合計量は0.004質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(5b)のエポキシ価は0.129、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で1ppm以下であった。
All terminal structures of the resulting epoxy-modified silicone (5b) have been modified to trialkylsiloxy groups by a hydrosilylation reaction, and the composition excluding the terminal groups is a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to hydrogen methylsiloxy units. They were 16.0 mol%, dimethylsiloxy unit 14.0 mol%, and cyclohexylmethylsiloxy unit 70.0 mol%. As a result of measuring the molecular weight, the content of a peak having a molecular weight of 1,000 or less was 3%. In addition, formation of a high molecular weight part accompanying the ring opening of the epoxy group was not observed at all.
Only the tetrahydrofuran remaining in the epoxy-modified silicone (5b) was detected, and the total amount of the remaining volatile compounds was 0.003% by mass. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.005% by mass and 0.004% by mass, respectively. Other compounds were not detected. Thus, the total amount of the low boiling point compounds remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is 0.009% by mass, the total amount of the remaining compounds having a carbon-carbon double bond is 0.009% by mass, and the remaining carbon. -The total amount of the compound having a carbon double bond and an epoxy group is 0.009% by mass, the carbon of the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group added to be used for the remaining hydrosilylation reaction- The total amount of by-products generated by the internal transition of the carbon double bond was 0.004% by mass.
The epoxy value of the epoxy-modified silicone (5b) was 0.129, the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 1 ppm or less in terms of platinum element.

<硬化物の製造と特性評価5b>
得られたエポキシ変性シリコーン(5b)100質量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸21.7質量部、1,3−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.25質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して硬化性組成物−5bを得た。硬化性組成物−5bを窒素下にて深さ3mmの型に流し込み、120℃で1時間、更に130℃で2時間、更に引き続いて150℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表2に示す。
<Manufacture of cured product and characteristic evaluation 5b>
100 parts by mass of the resulting epoxy-modified silicone (5b), 21.7 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride, 3 parts by mass of 1,3-propanediol, and 0.25 parts by mass of diazabicycloundecene octylate were added to nitrogen. The mixture was mixed at the bottom, stirred until the whole became uniform, and then defoamed to obtain a curable composition-5b. The curable composition-5b was poured into a mold having a depth of 3 mm under nitrogen, and cured at 120 ° C. for 1 hour, further at 130 ° C. for 2 hours, and further at 150 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. . Table 2 shows the performance of the obtained cured product.

[比較例6]
<エポキシ変性シリコーンの製造6b>
ヒドロシリル化反応時に、合成例1にて製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの代わりに合成例15で製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを用いたこと、4−ビニルシクロへキセンオキサイドを166.1g(1337.7ミリモル)用いたこと、テトラヒドロフランを307g用いたこと、活性炭処理時に使用した活性炭量を165gとしたこと、以外は実施例1と同様にして、低沸化合物を低減した、エポキシ変性シリコーン(6b)54gを得た。仕込んだブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含まれるSiH単位の合計モル数は、133.78ミリモルであった。
ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。
反応開始時において、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、共存させたビニル化合物の全ビニル基の合計モル数は、10倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/170,259倍、一方、触媒の追添を行った反応終期における該値は、1/85,130倍であった。
[Comparative Example 6]
<Manufacture 6b of epoxy-modified silicone>
In the hydrosilylation reaction, the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 15 was used in place of the block type organohydrogen silicone produced in Synthesis Example 1, and 166.1 g (1337) of 4-vinylcyclohexene oxide was used. .7 mmol), 307 g of tetrahydrofuran, and 165 g of activated carbon used in the activated carbon treatment were used in the same manner as in Example 1 except that the low-boiling compound was reduced. ) 54 g was obtained. The total number of moles of SiH units contained in the prepared block type organohydrogensilicone was 133.78 mmol.
When sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction progressed quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected.
At the start of the reaction, the total number of moles of all vinyl groups in the coexisting vinyl compound was 10 times the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone.
In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms is the total number of moles of SiH units in the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. On the other hand, the value at the end of the reaction in which the catalyst was added was 1 / 185,130 times, 1 / 185,130 times.

得られたエポキシ変性シリコーン(6b)の全ての末端構造は、ヒドロシリル化反応によりトリアルキルシロキシ基に変性されており、末端基を除いた組成は、水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドが付加した単位23.0モル%、ジメチルシロキシ単位16.5モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位60.5モル%であった。分子量測定の結果、分子量1,000以下のピークの含有量は3%であった。また、エポキシ基の開環に伴う高分子量部の形成は全く見られなかった。
エポキシ変性シリコーン(6b)中に残留するテトラヒドロフランのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.003質量%であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.006質量%、0.003質量%であった。その他の化合物は検出されなかった。これより、本発明におけるエポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は0.009質量%、残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の合計量は0.009質量%、残留する炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物の合計量は0.009質量%、残留するヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)の炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した副生成物の合計量は0.003質量%であった。
また、エポキシ変性シリコーン(6b)のエポキシ価は0.175、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で1ppm以下であった。
All terminal structures of the obtained epoxy-modified silicone (6b) are modified to trialkylsiloxy groups by hydrosilylation reaction, and the composition excluding the terminal groups is a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to hydrogen methylsiloxy units. They were 23.0 mol%, dimethylsiloxy unit 16.5 mol%, and cyclohexylmethylsiloxy unit 60.5 mol%. As a result of measuring the molecular weight, the content of a peak having a molecular weight of 1,000 or less was 3%. In addition, formation of a high molecular weight part accompanying the ring opening of the epoxy group was not observed at all.
Only the tetrahydrofuran remaining in the epoxy-modified silicone (6b) was detected, and the total amount of the remaining volatile compounds was 0.003% by mass. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.006% by mass and 0.003% by mass, respectively. Other compounds were not detected. Thus, the total amount of the low boiling point compounds remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is 0.009% by mass, the total amount of the remaining compounds having a carbon-carbon double bond is 0.009% by mass, and the remaining carbon. -The total amount of the compound having a carbon double bond and an epoxy group is 0.009% by mass, the carbon of the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group added to be used for the remaining hydrosilylation reaction- The total amount of by-products generated by the internal transition of the carbon double bond was 0.003% by mass.
Further, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (6b) was 0.175, and the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 1 ppm or less in terms of platinum element.

<硬化物の製造と特性評価6b>
得られたエポキシ変性シリコーン(6b)100質量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸29.4質量部、1,3−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.25質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して硬化性組成物−6bを得た。硬化性組成物−6bを窒素下にて深さ3mmの型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間、更に引き続いて170℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表2に示す。
<Manufacture of cured product and characteristic evaluation 6b>
100 parts by mass of the resulting epoxy-modified silicone (6b), 29.4 parts by mass of methylhexahydrophthalic anhydride, 3 parts by mass of 1,3-propanediol, and 0.25 parts by mass of diazabicycloundecene octylate were added to nitrogen. The mixture was mixed at the bottom, stirred until the whole became uniform, and then defoamed to obtain a curable composition-6b. The curable composition-6b was poured into a mold having a depth of 3 mm under nitrogen, and cured at 120 ° C. for 1 hour, further at 150 ° C. for 2 hours, and subsequently at 170 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. . Table 2 shows the performance of the obtained cured product.

[製造例1]
実施例1で得た硬化性組成物−1aを径が4mmの砲弾型のモールド型枠に注入し、そこに、発光波長400nmの発光素子が固定されたリードフレームを浸漬し、真空中で脱泡後、120℃で1時間、更に150℃で2時間、170℃で1時間硬化反応を行い、発光ダイオードを得た。本操作によって得られた発光ダイオードに対し、室温にて50mAで200時間通電しても、素子と封止部との剥離や輝度の低下は見られなかった。
[Production Example 1]
The curable composition-1a obtained in Example 1 was poured into a bullet-shaped mold mold having a diameter of 4 mm, and a lead frame on which a light-emitting element having an emission wavelength of 400 nm was fixed was immersed therein and removed in a vacuum. After foaming, a curing reaction was performed at 120 ° C. for 1 hour, further at 150 ° C. for 2 hours, and at 170 ° C. for 1 hour to obtain a light emitting diode. Even when the light-emitting diode obtained by this operation was energized at 50 mA at room temperature for 200 hours, peeling between the element and the sealing portion and reduction in luminance were not observed.

[製造例2]
実施例4で得た硬化性組成物−4aを用いて、製造例1と同様の方法で発光ダイオードを得た。本操作によって得られた発光ダイオードに対し、室温にて50mAで200時間通電しても、素子と封止部との剥離や輝度の低下は見られなかった。
[Production Example 2]
A light emitting diode was obtained in the same manner as in Production Example 1 using the curable composition-4a obtained in Example 4. Even when the light-emitting diode obtained by this operation was energized at 50 mA at room temperature for 200 hours, peeling between the element and the sealing portion and reduction in luminance were not observed.

[製造例3]
実施例11で得た硬化性組成物−11aを用い、硬化条件を120℃で1時間、更に140℃で2時間、160℃で1時間としたこと以外は、製造例1と同様の方法で発光ダイオードを得た。本操作によって得られた発光ダイオードに対し、室温にて50mAで200時間通電しても、素子と封止部との剥離や輝度の低下は見られなかった。
[Production Example 3]
Except that the curable composition-11a obtained in Example 11 was used and the curing conditions were 120 ° C. for 1 hour, 140 ° C. for 2 hours and 160 ° C. for 1 hour, the same method as in Production Example 1 A light emitting diode was obtained. Even when the light-emitting diode obtained by this operation was energized at 50 mA at room temperature for 200 hours, peeling between the element and the sealing portion and reduction in luminance were not observed.

[製造例4]
実施例11で得た硬化性組成物−13aを用いて、製造例1と同様の方法で発光ダイオードを得た。本操作によって得られた発光ダイオードに対し、室温にて50mAで200時間通電しても、素子と封止部との剥離や輝度の低下は見られなかった。
[Production Example 4]
Using the curable composition-13a obtained in Example 11, a light-emitting diode was obtained in the same manner as in Production Example 1. Even when the light-emitting diode obtained by this operation was energized at 50 mA at room temperature for 200 hours, peeling between the element and the sealing portion and reduction in luminance were not observed.

Figure 0005110630
Figure 0005110630

Figure 0005110630
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本発明によれば、透明性、耐光性、耐熱性、耐クラック性を有し、発光素子封止材用途に好適なエポキシ変性シリコーンを、安定的に再現性よく製造する方法を提供することが可能となる。   According to the present invention, it is possible to provide a method for stably and reproducibly producing an epoxy-modified silicone having transparency, light resistance, heat resistance, and crack resistance and suitable for use in a light emitting device sealing material. It becomes possible.

Claims (11)

下記<A>及び<B>の要件を同時に満足する下記平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンに対し、ヒドロシリル化触媒の存在下、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)を含むビニル化合物(b)をヒドロシリル化反応により付加してエポキシ変性シリコーンを製造する際に、SiH単位の合計モル数に対して、共存させるビニル化合物(b)の全ビニル基の合計モル数を5倍以上100倍以下とすることを特徴とするエポキシ変性シリコーンの製造方法。
<A>:(R SiO2/2)単位の平均連鎖長が3以上100以下。
<B>:(RHSiO2/2)単位の平均連鎖長が2以上20以下。
(R SiO1/2)(R HSiO1/2)(R SiO2/2)
(RHSiO2/2)(RSiO3/2)(HSiO3/2)(SiO4/2) ・・(1)
[但し、Rは各々独立に、A)ヒドロキシル基、B)ハロゲン原子、C)無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価又は2価の脂肪族有機基、D)無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、からなる群から選ばれる少なくとも1種以上の有機基を表す。
上記の有機基は、前記の炭素数及び酸素数の範囲内であれば、有機基としてヒドロキシル基、アルコキシ基、アシル基、カルボキシル基、アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、或いは、エステル結合を含んでいてもよい。また、酸素を除くヘテロ原子を含んでいてもよい。
また、平均組成式(1)におけるa、b、c、d、e、f、gは、オルガノハイドロジェンシリコーン1モル中に存在する各単位のモル数を表し、a、b、e、f、gは各々0以上、cは3以上、dは2以上の値である。
また、上記の、e、f、gが各々下記式(1)、式(2)、を同時に満足する場合には、上記のa、b、e、f、gは、式(3)を満足する範囲から選択される数値である。
e+f≠0 ・・・式(1)
g≠0 ・・・式(2)
0≦a+b≦e+f+2g+2・・・式(3)
さらに、上記のe、f、gが各々下記式(4)、式(5)、を同時に満足する場合には、上記のa、bは下記式(6)を満足する範囲から選択される数値である。
e+f=0 ・・・式(4)
g=0 ・・・式(5)
0≦a+b≦2・・・式(6)
また、上記のe、f、gが各々下記式(1)、式(5)、を同時に満足する場合には、上記のa、bは下記式(7)を満足する範囲から選択される数値である。
e+f≠0 ・・・式(1)
g=0 ・・・式(5)
0≦a+b≦e+f+2・・・式(7)
さらに、e、f、gが各々下記式(4)、式(2)、を同時に満足する場合には、上記のa、bは下記式(8)を満足する範囲から選択される数値である。
e+f=0 ・・・式(4)
g≠0 ・・・式(2)
0≦a+b≦2g+2 ・・・式(8)]
In the presence of a hydrosilylation catalyst, a carbon-carbon double bond and an epoxy group with respect to a block-type organohydrogensilicone represented by the following average composition formula (1) that simultaneously satisfies the following <A> and <B> requirements: When vinyl compound (b) containing a compound (a) having a hydrogen atom is added by a hydrosilylation reaction to produce an epoxy-modified silicone, the total vinyl of the vinyl compound (b) to be coexisted with respect to the total number of moles of SiH units A method for producing an epoxy-modified silicone, wherein the total number of moles of groups is 5 to 100 times.
<A>: The average chain length of (R 1 2 SiO 2/2 ) units is 3 or more and 100 or less.
<B>: The average chain length of (R 1 HSiO 2/2 ) units is 2 or more and 20 or less.
(R 1 3 SiO 1/2 ) a (R 1 2 HSiO 1/2 ) b (R 1 2 SiO 2/2 ) c
(R 1 HSiO 2/2 ) d (R 1 SiO 3/2 ) e (HSiO 3/2 ) f (SiO 4/2 ) g (1)
[However, each R 1 independently represents a fat having at least one structure selected from the group consisting of A) hydroxyl group, B) halogen atom, C) unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic. A monovalent or divalent aliphatic organic group having an aromatic hydrocarbon unit and having a carbon number of 1 to 24 and an oxygen number of 0 to 5, D) an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, , Having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of a chain, a branched chain and a ring, which are unsubstituted or substituted as necessary, having 6 to 24 carbon atoms and an oxygen number Represents at least one organic group selected from the group consisting of monovalent aromatic organic groups of 0 or more and 5 or less.
The above organic group has a hydroxyl group, an alkoxy group, an acyl group, a carboxyl group, an alkenyloxy group, an acyloxy group, a halogen atom, or an ester bond as long as it is within the range of the carbon number and oxygen number. May be included. Moreover, the hetero atom except oxygen may be included.
Moreover, a, b, c, d, e, f, and g in the average composition formula (1) represent the number of moles of each unit present in 1 mole of the organohydrogensilicone, and a, b, e, f, Each g is 0 or more, c is 3 or more, and d is 2 or more.
Further, when e, f, and g satisfy the following expressions (1) and (2), respectively, a, b, e, f, and g satisfy the expression (3). It is a numerical value selected from the range.
e + f ≠ 0 Formula (1)
g ≠ 0 Formula (2)
0 ≦ a + b ≦ e + f + 2g + 2 Formula (3)
Further, when the above e, f, and g satisfy the following formulas (4) and (5), respectively, the above a and b are numerical values selected from the range satisfying the following formula (6). It is.
e + f = 0 Formula (4)
g = 0 Formula (5)
0 ≦ a + b ≦ 2 Formula (6)
When the above e, f, and g satisfy the following formulas (1) and (5), respectively, the above a and b are numerical values selected from the range that satisfies the following formula (7). It is.
e + f ≠ 0 Formula (1)
g = 0 Formula (5)
0 ≦ a + b ≦ e + f + 2 Formula (7)
Furthermore, when e, f, and g satisfy the following expressions (4) and (2), respectively, a and b are numerical values selected from a range that satisfies the following expression (8). .
e + f = 0 Formula (4)
g ≠ 0 Formula (2)
0 ≦ a + b ≦ 2g + 2 (formula (8))
鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる炭化水素単位を有する炭素数が5以上20以下の1価の脂肪族有機基が結合したSi数が、全Siに対して5%以上95%以下の範囲であることを特徴とする請求項1に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法。   The number of Si bonded to a monovalent aliphatic organic group having 5 to 20 carbon atoms and having a hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from a chain, branched, and cyclic structure group is the total Si The method for producing an epoxy-modified silicone according to claim 1, wherein the content is in the range of 5% to 95%. 平均組成式(1)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンの(RHSiO2/2)単位の平均連鎖長が2.2以上5未満であることを特徴とする請求項1又は2に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法。 The average chain length of the (R 1 HSiO 2/2 ) unit of the organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) is 2.2 or more and less than 5, Production method of epoxy-modified silicone. 平均組成式(1)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの(b+d+f)/(a+b+c+d+e+f+g)の値が0.100以上0.800以下の範囲であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法。   The value of (b + d + f) / (a + b + c + d + e + f + g) of the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) is in the range of 0.100 or more and 0.800 or less. The manufacturing method of the epoxy-modified silicone of any one. 平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンにおいて、(e+f+g)の値がゼロであることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法。   The block-type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) has a value of (e + f + g) of zero, wherein the epoxy-modified silicone according to any one of claims 1 to 4 is produced. Method. 平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンにおいて、b/(a+b)の値が0.5以上であることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法。   The block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) has a value of b / (a + b) of 0.5 or more, according to any one of claims 1 to 5. Production method of epoxy-modified silicone. 平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンに含有される分子量1,000以下の成分の含有量が15%以下であることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法。   The content of the component having a molecular weight of 1,000 or less contained in the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) is 15% or less. The manufacturing method of the epoxy-modified silicone as described in a term. 平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、ヒドロシリル化反応により炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)を付加させるSiH単位のモル数の分率が70%以上であることを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法。   SiH in which a compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is added to the total number of moles of SiH units of the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) by a hydrosilylation reaction. The method for producing an epoxy-modified silicone according to any one of claims 1 to 7, wherein the mole fraction of units is 70% or more. ヒドロシリル化反応を行う際に用いられる触媒の金属原子換算のモル数が、ヒドロシリル化反応前の平均組成式(1)によって表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/5,000,000以上1/1,200以下の範囲であることを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法。   The number of moles in terms of metal atom of the catalyst used when the hydrosilylation reaction is performed is based on the total number of moles of SiH units in the block type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (1) before the hydrosilylation reaction. The method for producing an epoxy-modified silicone according to any one of claims 1 to 8, wherein the range is from 1 / 5,000,000 to 1 / 1,200. 平均組成式(1)によって表されるオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位に対し、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)を含むビニル化合物(b)をヒドロシリル化反応により付加した後に、混合物を0℃以上200℃以下の温度に供して、エポキシ変性シリコーンを分離回収する工程を含む請求項1から9のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法。   After the vinyl compound (b) containing the compound (a) having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is added to the SiH unit of the organohydrogen silicone represented by the average composition formula (1) by a hydrosilylation reaction. The method for producing an epoxy-modified silicone according to any one of claims 1 to 9, further comprising a step of subjecting the mixture to a temperature of 0 ° C to 200 ° C to separate and recover the epoxy-modified silicone. 分離回収する工程に供されるエポキシ変性シリコーン中に含有される全Si数に対する残留SiH単位数が2%以下であることを特徴とする請求項1から10のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法。   11. The epoxy modification according to claim 1, wherein the number of residual SiH units with respect to the total number of Si contained in the epoxy-modified silicone to be subjected to the separation and recovery step is 2% or less. Production method of silicone.
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