JP2012041381A - Epoxy-modified silicone, method for producing the same and curable resin composition using the same, and application thereof - Google Patents

Epoxy-modified silicone, method for producing the same and curable resin composition using the same, and application thereof Download PDF

Info

Publication number
JP2012041381A
JP2012041381A JP2010180890A JP2010180890A JP2012041381A JP 2012041381 A JP2012041381 A JP 2012041381A JP 2010180890 A JP2010180890 A JP 2010180890A JP 2010180890 A JP2010180890 A JP 2010180890A JP 2012041381 A JP2012041381 A JP 2012041381A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy
group
modified silicone
carbon
less
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010180890A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshito Kuroda
義人 黒田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Kasei Chemicals Corp
Original Assignee
Asahi Kasei Chemicals Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Kasei Chemicals Corp filed Critical Asahi Kasei Chemicals Corp
Priority to JP2010180890A priority Critical patent/JP2012041381A/en
Publication of JP2012041381A publication Critical patent/JP2012041381A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: an epoxy-modified silicone excellent in transparency, heat resistance, crack resistance, adhesion, etc.; a curable resin composition for sealing light-emitting elements; and a light-emitting part.SOLUTION: The epoxy-modified silicone is represented by an average compositional formula (3) containing silicone compounds represented by general formula (2) or the like.

Description

本発明は、発光素子用封止材やレンズ等に用いられる硬化性樹脂組成物の主剤として好適に用いられるエポキシ変性シリコーンに関する。   The present invention relates to an epoxy-modified silicone suitably used as a main component of a curable resin composition used for a sealing material for light emitting elements, a lens, and the like.

従来より、酸無水物系硬化剤を用いたエポキシ樹脂組成物は、透明な硬化物を与え、耐熱性が高い発光ダイオードやフォトダイオード等の発光素子の封止材料として好適に用いられてきた。しかしながら、近年、光半導体の高性能化が進み、封止用樹脂にも良好な透明性と高い耐熱性以外に、優れた耐光性、耐酸化性、LEDのオン/オフサイクルに伴う温冷サイクル時の耐クラック性(以下、耐クラック性と略記する。)、温冷サイクル時の密着性(以下、密着性と略記する。)、並びに、250℃以上で行われる半田リフロー時の耐クラック性及び接着性(以下、半田リフロー耐性と略記する。)、を有する硬化物が要求されるようになり、従来用いられてきたビスフェノールA系エポキシ樹脂やビスフェノールF系エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂を主成分とする組成物では、十分な特性が得られなくなっているのが実情である。   Conventionally, an epoxy resin composition using an acid anhydride-based curing agent has been suitably used as a sealing material for light-emitting elements such as light-emitting diodes and photodiodes that give a transparent cured product and have high heat resistance. However, in recent years, the performance of optical semiconductors has advanced, and in addition to good transparency and high heat resistance for sealing resins, it also has excellent light resistance, oxidation resistance, and warm / cool cycle accompanying LED on / off cycle Crack resistance (hereinafter abbreviated as “crack resistance”), adhesion during heating and cooling cycle (hereinafter abbreviated as “adhesion”), and crack resistance during solder reflow performed at 250 ° C. or higher And a cured product having adhesiveness (hereinafter abbreviated as solder reflow resistance) is required, and the epoxy resin such as bisphenol A-based epoxy resin and bisphenol F-based epoxy resin which has been conventionally used as a main component. In the case of the composition, it is the actual situation that sufficient characteristics cannot be obtained.

シロキサン骨格を繰り返し単位とし、有機基にエポキシ基を有するエポキシ変性シリコーンは、エポキシ樹脂が有する優れた透明性や耐熱性を有するばかりでなく、シリコーンが有する耐光性、耐酸化性、更には、柔軟性を併せもつことが期待されることから、高性能封止材として注目を集めている。   Epoxy-modified silicones with a siloxane skeleton as a repeating unit and an epoxy group in the organic group not only have the excellent transparency and heat resistance of epoxy resins, but also the light resistance, oxidation resistance, and flexibility of silicone. It is attracting attention as a high-performance sealing material because it is expected to have both properties.

例えば、特許文献1には、T構造を必須繰り返し単位として含有し、1分子中の珪素原子に結合する全有機基に対してエポキシ基含有有機基を0.1〜40モル%の範囲で含有するエポキシ変性シリコーンが提案されている。しかしながら、T構造を主体とするエポキシ変性シリコーンは脆く、発光素子封止材に求められる耐クラック性を満足することは困難である。   For example, Patent Document 1 contains a T structure as an essential repeating unit and contains an epoxy group-containing organic group in the range of 0.1 to 40 mol% with respect to all organic groups bonded to a silicon atom in one molecule. Epoxy-modified silicones have been proposed. However, the epoxy-modified silicone mainly composed of the T structure is brittle, and it is difficult to satisfy the crack resistance required for the light emitting device sealing material.

特許文献2及び3には、オルガノハイドロジェンシクロシロキサンと、脂肪族不飽和基を有するオルガノポリシロキサンとの反応により得られるオルガノハイドロジェンシリコン化合物のSiH結合の5〜50%がアリルグリシジルエーテル又はビニルシクロヘキシルエポキシドでヒドロシリル化された、オルガノハイドロジェンシロキサン化合物及びその硬化コーティングへの利用についての提案がなされている。このオルガノハイドロジェンシロキサン化合物の特徴は、そのSiH単位が部分的にエポキシ化合物でヒドロシリル化を受け、一部のSiH単位が未反応のまま残る点である。この未反応のSiH単位は更なる架橋反応に利用され、剥離コーティング材等に使用されるが、光半導体等の光学用途への利用についてはこれらの明細書中には何ら記載はなされていない。   In Patent Documents 2 and 3, 5 to 50% of the SiH bond of the organohydrogensilicon compound obtained by the reaction of an organohydrogencyclosiloxane and an organopolysiloxane having an aliphatic unsaturated group is allyl glycidyl ether or vinyl. Proposals have been made for organohydrogensiloxane compounds hydrosilylated with cyclohexyl epoxide and their use in cured coatings. A feature of this organohydrogensiloxane compound is that the SiH unit is partially hydrosilylated with an epoxy compound, and a part of the SiH unit remains unreacted. This unreacted SiH unit is used for further cross-linking reaction, and is used for a release coating material or the like. However, there is no description in these specifications for use in optical applications such as optical semiconductors.

特許文献4には、特定範囲の分子量を有しかつ1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するシリコーン化合物を含む組成物と、その光半導体封止材への利用についての提案がなされている。また、特許文献5には、1分子中に少なくとも1つのエポキシシクロヘキシル基を有する環状シロキサンを含有するエポキシ樹脂組成物と、その光半導体封止剤への利用に関する提案がなされている。しかしながら、これらの樹脂組成物は耐光性が不充分であり、耐クラック性、密着性も満足できるレベルにない。   Patent Document 4 proposes a composition containing a silicone compound having a molecular weight in a specific range and having at least two epoxy groups in one molecule, and its use for an optical semiconductor encapsulant. . Patent Document 5 proposes an epoxy resin composition containing a cyclic siloxane having at least one epoxycyclohexyl group in one molecule and its use for an optical semiconductor encapsulant. However, these resin compositions have insufficient light resistance, and crack resistance and adhesion are not at satisfactory levels.

また、特許文献6には、環式構造を有するシロキサン及びエポキシ基単位を置換基として有するオルガノポリシロキサンが開示されている。該公報には、該オルガノポリシロキサンを硬化させることにより、透明性、耐熱性、熱衝撃性、密着性の高い硬化物が得られることが記載されているが、半田リフロー耐性については必ずしも十分満足できる性能を有するものではなかった。
特許文献7には、2価の有機基の両端から、イソシアヌル環骨格を含む基を介して結合するエポキシ基を少なくとも置換基として有するシロキサン単位が結合した、エポキシシリコーン樹脂が開示されている。しかしながら、この樹脂組成物は耐光性が不充分であり、更に、密着性も充分に満足できるレベルではない。
Patent Document 6 discloses a siloxane having a cyclic structure and an organopolysiloxane having an epoxy group unit as a substituent. This publication describes that a cured product having high transparency, heat resistance, thermal shock resistance, and adhesion can be obtained by curing the organopolysiloxane, but the solder reflow resistance is not always satisfactory. It did not have the performance that can be done.
Patent Document 7 discloses an epoxy silicone resin in which a siloxane unit having at least an epoxy group bonded through a group containing an isocyanuric ring skeleton as a substituent is bonded from both ends of a divalent organic group. However, this resin composition has insufficient light resistance, and furthermore, the adhesiveness is not at a sufficiently satisfactory level.

特許文献8には、ビニルシリコーン、水素化シリル官能性シリコーン、及びオレフィンエポキシ化合物の反応生成物からなるエポキシシロキサンが開示されている。また特許文献9には、両末端水酸基オルガノポリシロキサン、オルガノヒドロポリシロキサン、及びエポキシ基及びアルケニル基含有化合物の反応生成物からなるエポキシ基含有オルガノポリシロキサンが開示されている。これらのポリシロキサンは、紫外線硬化性剥離塗料組成物として使用されており、光半導体等の光学用途への利用についてはかかる明細書中には何ら記載はない。   Patent Document 8 discloses an epoxy siloxane comprising a reaction product of vinyl silicone, silyl hydride functional silicone, and olefin epoxy compound. Patent Document 9 discloses an epoxy group-containing organopolysiloxane composed of a reaction product of a hydroxyl group-containing organopolysiloxane, an organohydropolysiloxane, and an epoxy group and alkenyl group-containing compound. These polysiloxanes are used as ultraviolet curable release coating compositions, and there is no description in the specification regarding the use for optical applications such as optical semiconductors.

特許文献10には、末端にビニル基を有するポリオルガノシロキサンとSiH単位を有するオルガノシロキサンオリゴマー、及び過剰のアルケニル基含有エポキシ化合物の反応から得られる、末端にエポキシ基を複数有するテレケリックシロキサンポリマーが開示されている。このポリマーについても剥離コーティング材としての用途が記載されているが、光半導体等の光学用途への利用についてはこれらの明細書中には何ら記載はない。   Patent Document 10 discloses a telechelic siloxane polymer having a plurality of terminal epoxy groups, which is obtained from the reaction of a polyorganosiloxane having a vinyl group at the end, an organosiloxane oligomer having an SiH unit, and an excess of an alkenyl group-containing epoxy compound. It is disclosed. Although the use of this polymer as a release coating material is also described, there is no description in these specifications for use in optical applications such as optical semiconductors.

また、上記特許文献2〜10には、シロキサン単位からなる環状構造とエポキシ単位を分子内に有するエポキシ変性シリコーンの構造が開示されているが、ビシクロ構造についての開示はなく、その物性に関する記載や示唆も一切なされていない。   Moreover, although the structure of the epoxy modified silicone which has the cyclic structure which consists of a siloxane unit, and an epoxy unit in a molecule | numerator is disclosed in the said patent documents 2-10, there is no indication about a bicyclo structure, the description regarding the physical property, There is no suggestion.

特許文献11には、特定範囲の高分子量範囲の成分を特定量範囲で含有する、1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有する変性ポリシロキサン及び該変性ポリシロキサンを含有する熱硬化性組成物が開示されている。該公報には、高分子量成分を特定量含有せしめることにより、ガラス転移温度を高めることができる旨の記載があるが、半田リフロー耐性に関する記載や示唆は一切なされていない。   Patent Document 11 discloses a modified polysiloxane having at least two epoxy groups in one molecule containing components in a specific molecular weight range in a specific range, and a thermosetting composition containing the modified polysiloxane. Is disclosed. In this publication, there is a description that the glass transition temperature can be increased by adding a specific amount of a high molecular weight component, but there is no description or suggestion regarding solder reflow resistance.

更に、特許文献12には、単環状及びビシクロ環構造のシロキサン成分を特定量範囲で含有するエポキシシリコーンが開示されている。該公報記載のエポキシシリコーンは、耐光性、耐熱性、耐熱変色性、冷熱サイクルにおける耐クラック性と密着性を有することが記載されているが、半田リフロー耐性については必ずしも満足できるものとはいえなかった。   Furthermore, Patent Document 12 discloses an epoxy silicone containing a monocyclic and bicyclo ring structure siloxane component in a specific amount range. The epoxy silicone described in the publication is described as having light resistance, heat resistance, heat discoloration resistance, crack resistance and adhesion in a thermal cycle, but it cannot be said that the solder reflow resistance is necessarily satisfactory. It was.

特許第3263177号公報Japanese Patent No. 3263177 特表2005−523980号公報JP 2005-523980 A 特表2005−529989号公報JP 2005-529989 A 特開2005−171021号公報JP 2005-171021 A 特許第4371211号公報Japanese Patent No. 4371111 国際公開2007/46399号パンフレットInternational Publication No. 2007/46399 Pamphlet 特開2009−203258号公報JP 2009-203258 A 特開平7−216308号公報JP 7-216308 A 特開平10−182826号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-182826 米国特許6313255号明細書US Pat. No. 6,313,255 特開2008−255295号公報JP 2008-255295 A 国際公開2008/133108号パンフレットInternational Publication 2008/133108 Pamphlet

本発明は、良好な透明性を有すると共に、優れた耐光性、耐熱性、耐熱変色性、冷熱サイクルにおける耐クラック性と密着性、更に半田リフロー耐性を有するエポキシ変性シリコーン、素子やパッケージ材料との密着性に優れクラックの発生がなく、長期にわたって輝度の低下を抑制可能な発光素子封止用硬化性樹脂組成物、並びに、該樹脂組成物を用いて形成された発光部品を提供することを目的とする。   The present invention has excellent transparency, light resistance, heat resistance, heat discoloration, crack resistance and adhesion in a thermal cycle, and epoxy-modified silicone having resistance to solder reflow, element and package material. An object of the present invention is to provide a curable resin composition for sealing a light-emitting element that has excellent adhesion and does not generate cracks and can suppress a decrease in luminance over a long period of time, and a light-emitting component formed using the resin composition. And

また、本発明は、射出成形に適し、硬化後において硬質であり寸法安定性にも優れた、レンズ材料として好適な硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。   Another object of the present invention is to provide a curable resin composition suitable as a lens material that is suitable for injection molding, hard after curing, and excellent in dimensional stability.

上記点に鑑み、本発明者らが、シロキサン骨格構造について鋭意検討した結果、シロキサン骨格からなる単環構造とビシクロ構造とを同時に有すると共に、特定範囲の分子量及び特定骨格のシロキサン単位を各々特定比率で含有するエポキシ変性シリコーンが上記課題を解決可能であることを見出し、本発明を完成させるに至った。   In view of the above points, as a result of intensive studies on the siloxane skeleton structure, the present inventors have a monocyclic structure and a bicyclo structure composed of a siloxane skeleton at the same time, and have a specific range of molecular weight and a specific ratio of siloxane units of a specific skeleton. It has been found that the epoxy-modified silicone contained in can solve the above-mentioned problems, and the present invention has been completed.

即ち、本発明は以下のとおりである。
[1] 下記一般式(1)で表される化合物及び下記一般式(2)で表される化合物を少なくとも含み、且つ、下記(a)〜(e)を満足することを特徴とする、平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーン。
(a)マトリックス支援イオン化飛行時間型質量分析法にて測定した際に得られるピーク強度から下記数式(1)によって算出される、前記一般式(1)で表される化合物の含有量[WA]に対する前記一般式(2)で表される化合物の含有量[WB]の比[WB]/[WA]の値が0.10以上2.00以下、
That is, the present invention is as follows.
[1] An average comprising at least a compound represented by the following general formula (1) and a compound represented by the following general formula (2) and satisfying the following (a) to (e): Epoxy-modified silicone represented by composition formula (3).
(A) The content of the compound represented by the general formula (1) [WA] calculated from the peak intensity obtained when measured by matrix-assisted ionization time-of-flight mass spectrometry by the following formula (1) The ratio [WB] / [WA] of the content [WB] of the compound represented by the general formula (2) to 0.10 or more and 2.00 or less,

Figure 2012041381
Figure 2012041381

(b) [g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値が0.020以下、
(c) [(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値が0.25以上0.35以下、
(d) 分子量800以下の成分の含有率が20%以上40%以下、
(e) 分子量10,000以上の成分の含有率が10%以上25%以下
(B) The value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] is 0.020 or less,
(C) The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] is 0.25 or more and 0.35 or less,
(D) the content of components having a molecular weight of 800 or less is 20% or more and 40% or less,
(E) The content of components having a molecular weight of 10,000 or more is 10% or more and 25% or less

Figure 2012041381
Figure 2012041381

Figure 2012041381
Figure 2012041381

Figure 2012041381
Figure 2012041381

[ここで、Rは各々独立に、A)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の脂肪族有機基、B)無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、C)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族及び/又は芳香族炭化水素単位を有する、炭素数が5以上26以下、酸素数が0以上5以下、並びに珪素数が1である1価の有機基、からなる群から選ばれる少なくとも1種以上の有機基を表す。 [Wherein R 1 is each independently A) an unsubstituted or substituted carbon having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from a chain, branched and cyclic structure group A monovalent aliphatic organic group having a number of 1 to 24 and an oxygen number of 0 to 5, B) an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, which is unsubstituted or substituted as necessary A monovalent fragrance having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of chain, branched and cyclic, having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms A group organic group, C) having an aliphatic and / or aromatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched, and cyclic structure. 5 to 26, oxygen number 0 to 5, and silicon number 1 represents at least one organic group selected from the group consisting of a monovalent organic group which is 1.

は各々独立に、D)無置換又は置換された、鎖状、分岐状、環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数が4以上24以下及び酸素数が1以上5以下からなるエポキシ基を含有する有機基を表す。 R 2 each independently has 4 or more carbon atoms having an aliphatic hydrocarbon unit having one or more types of structures selected from the group consisting of D) unsubstituted or substituted, chain, branched, and cyclic structures. And an organic group containing an epoxy group having an oxygen number of 1 or more and 5 or less.

は各々独立に、A)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の脂肪族有機基、B)無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、C)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族及び/又は芳香族炭化水素単位を有する、炭素数が5以上26以下、酸素数が0以上5以下、並びに珪素数が1である1価の有機基、E)炭素−炭素2重結合を含む炭素数が2以上6以下の無置換又は置換された、鎖状及び分岐状なる群から選ばれる1種以上の構造からなる1価の脂肪族有機基、からなる群から選ばれる少なくとも1種以上の有機基を表す。 R 3 each independently has A) an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic structure, and having 1 or more carbon atoms A monovalent aliphatic organic group having 24 or less and an oxygen number of 0 or more and 5 or less, B) an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, which is optionally substituted or substituted, a chain, A monovalent aromatic organic group having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms, which has an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of branched and cyclic structures; C) having 5 or more and 26 or less carbon atoms, having an aliphatic and / or aromatic hydrocarbon unit having one or more structures selected from the group consisting of unsubstituted, substituted, and chain-like, branched and cyclic structures 1 in which the oxygen number is 0 or more and 5 or less, and the silicon number is 1. A monovalent organic group, E) a monovalent structure comprising one or more structures selected from the group consisting of a chain-like and a branched-chain, unsubstituted or substituted, having 2 to 6 carbon atoms, including a carbon-carbon double bond It represents at least one organic group selected from the group consisting of aliphatic organic groups.

Xは炭素数が2以上6以下の無置換又は置換された、鎖状及び分岐状よりなる群から選ばれる1種以上の構造からなる2価の炭化水素基を表す。   X represents an unsubstituted or substituted divalent hydrocarbon group having one or more structures selected from the group consisting of a chain and a branch having 2 to 6 carbon atoms.

また、Yは各々独立に、炭素数が2以上6以下の無置換又は置換された、鎖状及び分岐状よりなる群から選ばれる1種以上の構造からなる2価の炭化水素基を表す。   Each Y independently represents a divalent hydrocarbon group having one or more structures selected from the group consisting of a chain and a branched group, which are unsubstituted or substituted with 2 to 6 carbon atoms.

更に、Zは2価の炭化水素基Yとの結合を表す。   Furthermore, Z represents a bond with a divalent hydrocarbon group Y.

式中のtは各々独立に0以上の整数、uは各々独立に3以上の整数、vは0以上の整数を表す。   In the formula, t each independently represents an integer of 0 or more, u represents each independently an integer of 3 or more, and v represents an integer of 0 or more.

また、a、b、c、d、e、f、g、h、i、jは、エポキシ変性シリコーン1モル中に存在する各構成単位のモル数を表し、a、e、fは0を越える値であり、b、c、d、g、h、i、jは各々0以上の値でe=a+d+iを満足する値である。一般式(1)及び(2)中の連鎖はランダムでもブロックでもよい。]
[2] 前記平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーンのエポキシ価が0.20以上0.40以下であることを特徴とする[1]に記載のエポキシ変性シリコーン。
[3] 前記一般式(2)におけるvの値が0以上9以下であることを特徴とする、上記[1]又は[2]に記載のエポキシ変性シリコーン。
[4] 前記平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーンの[(h+i+j)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値が0.040以下の範囲であることを特徴とする、上記[1]から[3]のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーン。
[5] 上記[1]から[4]のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーン100質量部、エポキシ樹脂用硬化剤1質量部以上200質量部以下、を含むことを特徴とする硬化性樹脂組成物。
[6] 硬化促進剤0.001質量部以上10質量部以下を更に含むことを特徴とする、上記[5]記載の硬化性樹脂組成物。
[7] 上記[1]から[4]のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーン100質量部、カチオン重合触媒0.001質量部以上10質量部以下、を含むことを特徴とする硬化性樹脂組成物。
[8] 上記[5]から[7]のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物からなる発光素子用封止材。
[9] 上記[8]記載の発光素子用封止材で封止された発光部品。
[10] 上記[5]から[7]のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物からなるレンズ。
A, b, c, d, e, f, g, h, i, j represent the number of moles of each structural unit present in 1 mol of the epoxy-modified silicone, and a, e, f exceeds 0. B, c, d, g, h, i, and j are values that are 0 or more and satisfy e = a + d + i. The chain in the general formulas (1) and (2) may be random or block. ]
[2] The epoxy-modified silicone according to [1], wherein an epoxy value of the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) is 0.20 or more and 0.40 or less.
[3] The epoxy-modified silicone according to [1] or [2] above, wherein the value of v in the general formula (2) is 0 or more and 9 or less.
[4] The value of [(h + i + j) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] of the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) is in the range of 0.040 or less. [3] The epoxy-modified silicone according to any one of [3].
[5] A curable resin comprising 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone according to any one of [1] to [4] and 1 part by mass or more and 200 parts by mass or less of a curing agent for epoxy resin. Composition.
[6] The curable resin composition according to the above [5], further comprising 0.001 part by mass or more and 10 parts by mass or less of a curing accelerator.
[7] A curable resin comprising 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone according to any one of [1] to [4] and 0.001 to 10 parts by mass of a cationic polymerization catalyst. Composition.
[8] A sealing material for a light-emitting element comprising the curable resin composition according to any one of [5] to [7].
[9] A light-emitting component sealed with the light-emitting element sealing material according to [8].
[10] A lens comprising the curable resin composition according to any one of [5] to [7].

本発明によれば、透明性、耐光性、耐熱性、耐熱変色性、耐クラック性、密着性、半田リフロー耐性を有し、発光素子封止材用途に好適なエポキシ変性シリコーン、該エポキシ変性シリコーンを含有する発光素子封止用硬化性樹脂組成物、並びに、該樹脂組成物を用いて形成された、素子やパッケージ材料との密着性に優れクラックの発生がなく、長期にわたって輝度の低下が少ない、優れた発光ダイオード等の発光部品を提供することが可能となる。   According to the present invention, an epoxy-modified silicone having transparency, light resistance, heat resistance, heat discoloration resistance, crack resistance, adhesion, solder reflow resistance, and suitable for use as a light emitting device sealing material, the epoxy modified silicone And a curable resin composition for sealing a light-emitting element, as well as excellent adhesion to an element or a package material formed using the resin composition, without cracks, and with little decrease in luminance over a long period of time It is possible to provide a light emitting component such as an excellent light emitting diode.

また、本発明によれば、射出成形に適し、硬化後において硬質で寸法安定性に優れた、レンズ材料として好適な硬化性樹脂組成物を提供することが可能である。   Furthermore, according to the present invention, it is possible to provide a curable resin composition suitable as a lens material that is suitable for injection molding, hard after curing, and excellent in dimensional stability.

本発明のエポキシ変性シリコーンを含有する発光素子用封止材及びダイボンド材を用いてなる光半導体発光素子の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically an example of the optical semiconductor light-emitting device using the sealing material for light emitting devices and the die-bonding material containing the epoxy modified silicone of this invention. 本発明のエポキシ変性シリコーンを含有する発光素子用封止材及びダイボンド材を用いてなる光半導体発光素子の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically an example of the optical semiconductor light-emitting device using the sealing material for light emitting devices and the die-bonding material containing the epoxy modified silicone of this invention.

本発明におけるエポキシ変性シリコーンは、下記一般式(1)で表される化合物及び下記一般式(2)で表される化合物を少なくとも含む平均組成式(3)で表されるものである。   The epoxy-modified silicone in the present invention is represented by an average composition formula (3) including at least a compound represented by the following general formula (1) and a compound represented by the following general formula (2).

Figure 2012041381
Figure 2012041381

Figure 2012041381
Figure 2012041381

Figure 2012041381
Figure 2012041381

[ここで、Rは各々独立に、A)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の脂肪族有機基、B)無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、C)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族及び/又は芳香族炭化水素単位を有する、炭素数が5以上26以下、酸素数が0以上5以下、並びに珪素数が1である1価の有機基、からなる群から選ばれる少なくとも1種以上の有機基を表す。 [Wherein R 1 is each independently A) an unsubstituted or substituted carbon having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from a chain, branched and cyclic structure group A monovalent aliphatic organic group having a number of 1 to 24 and an oxygen number of 0 to 5, B) an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, which is unsubstituted or substituted as necessary A monovalent fragrance having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of chain, branched and cyclic, having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms A group organic group, C) having an aliphatic and / or aromatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched, and cyclic structure. 5 to 26, oxygen number 0 to 5, and silicon number 1 represents at least one organic group selected from the group consisting of a monovalent organic group which is 1.

は各々独立に、D)無置換又は置換された、鎖状、分岐状、環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数が4以上24以下及び酸素数が1以上5以下からなるエポキシ基を含有する有機基を表す。 R 2 each independently has 4 or more carbon atoms having an aliphatic hydrocarbon unit having one or more types of structures selected from the group consisting of D) unsubstituted or substituted, chain, branched, and cyclic structures. And an organic group containing an epoxy group having an oxygen number of 1 or more and 5 or less.

は各々独立に、A)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の脂肪族有機基、B)無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、C)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族及び/又は芳香族炭化水素単位を有する、炭素数が5以上26以下、酸素数が0以上5以下、並びに珪素数が1である1価の有機基、E)炭素−炭素2重結合を含む炭素数が2以上6以下の無置換又は置換された、鎖状及び分岐状なる群から選ばれる1種以上の構造からなる1価の脂肪族有機基、からなる群から選ばれる少なくとも1種以上の有機基を表す。 R 3 each independently has A) an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic structure, and having 1 or more carbon atoms A monovalent aliphatic organic group having 24 or less and an oxygen number of 0 or more and 5 or less, B) an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, which is optionally substituted or substituted, a chain, A monovalent aromatic organic group having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms, which has an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of branched and cyclic structures; C) having 5 or more and 26 or less carbon atoms, having an aliphatic and / or aromatic hydrocarbon unit having one or more structures selected from the group consisting of unsubstituted, substituted, and chain-like, branched and cyclic structures 1 in which the oxygen number is 0 or more and 5 or less, and the silicon number is 1. A monovalent organic group, E) a monovalent structure comprising one or more structures selected from the group consisting of a chain-like and a branched-chain, unsubstituted or substituted, having 2 to 6 carbon atoms, including a carbon-carbon double bond It represents at least one organic group selected from the group consisting of aliphatic organic groups.

Xは炭素数が2以上6以下の無置換又は置換された、鎖状及び分岐状よりなる群から選ばれる1種以上の構造からなる2価の炭化水素基を表す。   X represents an unsubstituted or substituted divalent hydrocarbon group having one or more structures selected from the group consisting of a chain and a branch having 2 to 6 carbon atoms.

また、Yは各々独立に、炭素数が2以上6以下の無置換又は置換された、鎖状及び分岐状よりなる群から選ばれる1種以上の構造からなる2価の炭化水素基を表す。   Each Y independently represents a divalent hydrocarbon group having one or more structures selected from the group consisting of a chain and a branched group, which are unsubstituted or substituted with 2 to 6 carbon atoms.

更に、Zは2価の炭化水素基Yとの結合を表す。   Furthermore, Z represents a bond with a divalent hydrocarbon group Y.

式中のtは各々独立に0以上の整数、uは各々独立に3以上の整数、vは0以上の整数を表す。また、a、b、c、d、e、f、g、h、i、jは、エポキシ変性シリコーン1モル中に存在する各構成単位のモル数を表し、a、e、fは0を越える値であり、b、c、d、g、h、i、jは各々0以上の値でe=a+d+iを満足する値である。一般式(1)及び(2)中の連鎖はランダムでもブロックでもよい。]
ここで、平均組成式(3)において、h、i、jが下記数式(2)、数式(3)を同時に満足する場合には、上記のa、b、h、i、jは、数式(4)を満足する範囲から選択される数値である。
In the formula, t each independently represents an integer of 0 or more, u represents each independently an integer of 3 or more, and v represents an integer of 0 or more. A, b, c, d, e, f, g, h, i, j represent the number of moles of each structural unit present in 1 mol of the epoxy-modified silicone, and a, e, f exceeds 0. B, c, d, g, h, i, and j are values that are 0 or more and satisfy e = a + d + i. The chain in the general formulas (1) and (2) may be random or block. ]
Here, in the average composition formula (3), when h, i, and j satisfy the following formulas (2) and (3), the above a, b, h, i, and j It is a numerical value selected from a range satisfying 4).

h+i≠0 ・・・式(2)
j≠0 ・・・式(3)
0≦b≦a+(h+i)+2j+2・・・式(4)
また、上記のh、i、jが下記数式(5)、数式(6)を同時に満足する場合には、上記のa、bは下記式(7)を満足する範囲から選択される数値である。
h + i ≠ 0 Formula (2)
j ≠ 0 Expression (3)
0 ≦ b ≦ a + (h + i) + 2j + 2 (4)
Moreover, when said h, i, j satisfy | fills following numerical formula (5) and numerical formula (6) simultaneously, said a and b are numerical values selected from the range which satisfies following formula (7). .

h+i=0 ・・・式(5)
j=0 ・・・式(6)
0≦b≦a+2 ・・・式(7)
また、上記のh、i、jが各々下記数式(2)、数式(6)を同時に満足する場合には、上記のa、b、h、iは下記数式(8)を満足する範囲から選択される数値である。
h + i = 0 Expression (5)
j = 0 Expression (6)
0 ≦ b ≦ a + 2 (7)
When h, i, and j satisfy the following expressions (2) and (6), respectively, a, b, h, and i are selected from a range that satisfies the following expression (8). It is a numerical value.

h+i≠0 ・・・式(2)
j=0 ・・・式(6)
0≦b≦a+(h+i)+2 ・・・式(8)
更に、h、i、jが下記数式(5)、数式(3)を同時に満足する場合には、上記のa、b、jは下記数式(9)を満足する範囲から選択される数値である。
h + i ≠ 0 Formula (2)
j = 0 Expression (6)
0 ≦ b ≦ a + (h + i) +2 (8)
Further, when h, i, and j satisfy the following mathematical expressions (5) and (3), the above a, b, and j are numerical values selected from a range that satisfies the following mathematical expression (9). .

h+i=0 ・・・式(5)
j≠0 ・・・式(3)
0≦b≦a+2j+2 ・・・式(9)
一般式(2)で表されるビシクロ構造は、本発明のエポキシ変性シリコーンを硬化して得られる硬化物が優れた耐光性、耐クラック性及び密着性を発揮する上で重要な役割を果たす成分である。一般式(1)で表される単環構造のみでは、硬化後において、十分な耐光性、耐クラック性及び密着性を得ることは難しい。硬化物の耐光性、耐クラック性及び密着性を更に優れたものとするためには、一般式(1)で表される単環構造の化合物の含有量を[WA]、一般式(2)で表されるビシクロ構造を有する化合物の含有量を[WB]としたときの、その比[WB]/[WA]の値を0.10以上2.00以下の範囲とすることが必要である。
h + i = 0 Expression (5)
j ≠ 0 Expression (3)
0 ≦ b ≦ a + 2j + 2 (9)
The bicyclo structure represented by the general formula (2) is a component that plays an important role when the cured product obtained by curing the epoxy-modified silicone of the present invention exhibits excellent light resistance, crack resistance and adhesion. It is. With only the monocyclic structure represented by the general formula (1), it is difficult to obtain sufficient light resistance, crack resistance and adhesion after curing. In order to further improve the light resistance, crack resistance and adhesion of the cured product, the content of the compound having a monocyclic structure represented by the general formula (1) is set to [WA] and the general formula (2). When the content of the compound having a bicyclo structure represented by [WB] is [WB], the ratio [WB] / [WA] needs to be in the range of 0.10 or more and 2.00 or less. .

本発明においては、一般式(1)で表される化合物と一般式(2)で表される化合物の含有量の比を算出する方法としてマトリックス支援イオン化飛行時間型質量分析法(以下、MALDI−TOF/MS)を用いるものとし、本発明のエポキシ変性シリコーンをMALDI−TOF/MSにて測定して得られる一般式(1)及び一般式(2)の化合物のピーク強度を用いて、[WB]/[WA]の値を下記数式(1)によって算出する。   In the present invention, matrix-assisted ionization time-of-flight mass spectrometry (hereinafter referred to as MALDI-) is used as a method for calculating the content ratio of the compound represented by the general formula (1) and the compound represented by the general formula (2). (TOF / MS) is used, and the peak intensity of the compounds of the general formula (1) and the general formula (2) obtained by measuring the epoxy-modified silicone of the present invention by MALDI-TOF / MS is used. ] / [WA] is calculated by the following mathematical formula (1).

Figure 2012041381
Figure 2012041381

[WB]/[WA]の値が0.10未満である場合、或いは、2.00を越える場合には、耐光性、耐クラック性、或いは、密着性が不十分となる傾向にある。得られるエポキシ変性シリコーンを硬化して得られる硬化物の耐光性、耐クラック性と密着性が高まると共に、更に耐熱性が高まる傾向にあるため、[WB]/[WA]の値は、0.25以上1.50以下であることがより好ましく、0.40以上1.30以下であることが更に好ましい。   When the value of [WB] / [WA] is less than 0.10 or exceeds 2.00, light resistance, crack resistance, or adhesion tends to be insufficient. Since the cured product obtained by curing the resulting epoxy-modified silicone has improved light resistance, crack resistance and adhesion, and further has increased heat resistance, the value of [WB] / [WA] is 0. It is more preferably 25 or more and 1.50 or less, and further preferably 0.40 or more and 1.30 or less.

上記式(I)において、一般式(1)及び一般式(2)の各々の構造に該当する質量とは、かかる構造を構成する元素が同位体を有する場合には、各々の元素の同位体の質量の内、最も存在率の大きな同位体の質量を用いて算出された値のことをいう。   In the above formula (I), the mass corresponding to each structure of the general formula (1) and the general formula (2) is an isotope of each element when the elements constituting the structure have isotopes. This is a value calculated using the mass of the isotope having the largest abundance among the masses of.

また、本発明において、一般式(1)及び(2)に相当するピークが複数個存在する場合には、[WB]/[WA]の値は、各々の構造に相当する複数のピーク強度の合計値を用いて算出する。ただし、本発明において、一般式(1)及び一般式(2)の各々の構造に該当する質量とナトリウムの質量23とを合計した質量に該当するピークの最大強度に対して、3%以下の強度を有するピークは、ピーク強度の合計値の算出からは除外する。
以下に、MALDI−TOF/MSによる測定方法の具体的方法を記載する。
In the present invention, when there are a plurality of peaks corresponding to the general formulas (1) and (2), the value of [WB] / [WA] is a plurality of peak intensities corresponding to each structure. Calculate using the total value. However, in the present invention, 3% or less of the maximum intensity of the peak corresponding to the total mass of the mass corresponding to each structure of the general formula (1) and the general formula (2) and the mass 23 of sodium. Peaks having intensity are excluded from the calculation of the total peak intensity.
Below, the specific method of the measuring method by MALDI-TOF / MS is described.

室温にて0.1gのエポキシ変性シリコーンを100mLのテトラヒドロフランに溶解した溶液と、10mgのジスラノールを1mLのテトラヒドロフランに溶解した溶液とを、室温にて体積比で1対1の割合で均一に混合して溶液aを作製する。次いで、10mgのヨウ化ナトリウムを10mLのアセトンに溶解した溶液1μLを乗せたサンプルプレートに溶液aを1μL滴下し、室温にて溶媒を蒸発後、下記測定条件でMALDI−TOF/MSにて測定を行う。   A solution in which 0.1 g of epoxy-modified silicone is dissolved in 100 mL of tetrahydrofuran at room temperature and a solution in which 10 mg of dithranol is dissolved in 1 mL of tetrahydrofuran are uniformly mixed at a volume ratio of 1: 1 at room temperature. To prepare solution a. Next, 1 μL of solution a was dropped on a sample plate on which 1 μL of 10 mg sodium iodide dissolved in 10 mL of acetone was placed, the solvent was evaporated at room temperature, and measurement was performed with MALDI-TOF / MS under the following measurement conditions. Do.

<測定条件>
装置 :島津 AXIMA CFRplus
レーザー :窒素レーザー(337nm)
検出器形式:リニアモード
イオン検出:正イオン(ポジティブモード)
積算回数 :500回
<Measurement conditions>
Equipment: Shimadzu AXIMA CFRplus
Laser: Nitrogen laser (337 nm)
Detector type: Linear mode Ion detection: Positive ion (positive mode)
Integration count: 500 times

本発明のエポキシ変性シリコーンの平均組成式(3)について以下に詳細を説明する。
本発明において、Rは各々独立に、A)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の脂肪族有機基、B)無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、C)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族及び/又は芳香族炭化水素単位を有する、炭素数が5以上26以下、酸素数が0以上5以下、並びに珪素数が1である1価の有機基、からなる群から選ばれる少なくとも1種以上の有機基を表す。
The average composition formula (3) of the epoxy-modified silicone of the present invention will be described in detail below.
In the present invention, each R 1 is independently a carbon having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of A) unsubstituted or substituted, a chain, a branch, and a ring. A monovalent aliphatic organic group having a number of 1 to 24 and an oxygen number of 0 to 5, B) an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, which is unsubstituted or substituted as necessary A monovalent fragrance having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of chain, branched and cyclic, having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms A group organic group, C) having an aliphatic and / or aromatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched, and cyclic structure. 5 to 26, oxygen number of 0 to 5, and silica It represents at least one organic group selected from the group consisting of monovalent organic groups having a prime number of 1.

これらは、1種又は2種以上が混在した有機基であってよい。
上記A)の無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の脂肪族有機基としては、例えば、
(A−1)メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基等の脂肪族炭化水素からなる鎖状の有機基、
(A−2)シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ノルボルニル基等の環状単位を含む炭化水素からなる有機基、
(A−3)メトキシエチル、エトキシエチル、プロポキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロポキシプロピル基等のエーテル結合を含む有機基、等が挙げられる。
These may be organic groups in which one kind or two or more kinds are mixed.
The number of carbon atoms is 1 to 24 and the number of oxygens having an aliphatic hydrocarbon unit having one or more structures selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic structure of A) above Examples of the monovalent aliphatic organic group in which is from 0 to 5 include, for example,
(A-1) Methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, t-butyl, pentyl, neopentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl A chain organic group comprising an aliphatic hydrocarbon such as a group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group,
(A-2) an organic group comprising a hydrocarbon containing a cyclic unit such as a cyclopentyl group, a methylcyclopentyl group, a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, a norbornyl group,
(A-3) Organic groups containing an ether bond such as methoxyethyl, ethoxyethyl, propoxyethyl group, methoxypropyl group, ethoxypropyl group, propoxypropyl group, and the like.

上記B)の無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、α−メチルスチリル基、3−メチルスチリル基、4−メチルスチリル基等が挙げられる。   From the one or more structures selected from the group consisting of chain, branched and cyclic, which are unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon units of the above B), which are unsubstituted or substituted as necessary Examples of the monovalent aromatic organic group having an aliphatic hydrocarbon unit and having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms include, for example, phenyl group, tolyl group, xylyl group, benzyl group, α -A methyl styryl group, 3-methyl styryl group, 4-methyl styryl group etc. are mentioned.

上記C)の無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族及び/又は芳香族炭化水素単位を有する、炭素数が5以上26以下、酸素数が0以上5以下、並びに珪素数が1である1価の有機基としては、例えば、下記一般式(4)、一般式(5)で表される有機基が挙げられる。
−CH−CH−SiR ・・・(4)
−CH(CH)−SiR ・・・(5)
[ここで、Rは各々独立に、F)無置換又は置換された、鎖状、分岐状、環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数が1以上8以下及び酸素数が0以上5以下の1価の脂肪族有機基、或いは、G)無置換又は置換された芳香族炭化水素単位と、必要に応じて無置換又は置換された、鎖状、分岐状、環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数が6以上8以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、からなる群から選ばれる少なくとも1種以上の有機基を表す。]
以下に、Rの具体例について述べる。
The number of carbon atoms is 5 or more, having an aliphatic and / or aromatic hydrocarbon unit composed of one or more kinds of structures selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic structure of C) above Examples of the monovalent organic group having 26 or less, an oxygen number of 0 to 5 and a silicon number of 1 include organic groups represented by the following general formula (4) and general formula (5).
—CH 2 —CH—SiR 4 3 (4)
—CH (CH 3 ) —SiR 4 3 (5)
[Wherein R 4 is each independently F) an unsubstituted or substituted carbon number having one or more aliphatic hydrocarbon units selected from a chain, branched, or cyclic structure group. Is a monovalent aliphatic organic group having 1 to 8 and an oxygen number of 0 to 5 or G) an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, and optionally substituted or substituted, A monovalent aromatic organic compound having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more kinds of structures selected from a chain, branched, and cyclic structure group, having 6 to 8 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms Represents at least one organic group selected from the group consisting of groups. ]
A specific example of R 4 will be described below.

上記F)の無置換又は置換された、鎖状、分岐状、環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数が1以上8以下及び酸素数が0以上5以下の1価の脂肪族有機基としては、例えば、
(F−1)メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基等の脂肪族炭化水素からなる鎖状の有機基、
(F−2)シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ノルボルニル基等の環状単位を含む炭化水素からなる有機基、
(F−3)メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、t−ブトキシ基等のアルコキシ基、メトキシエチル、エトキシエチル、プロポキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロポキシプロピル基等のエーテル結合を含む有機基、
等が挙げられる。
The number of carbon atoms having an aliphatic hydrocarbon unit having one or more kinds of structures selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched, and cyclic structure of F) is 1 to 8 and oxygen number is Examples of monovalent aliphatic organic groups of 0 or more and 5 or less include, for example:
(F-1) Methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, t-butyl, pentyl, neopentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl A chain organic group comprising an aliphatic hydrocarbon such as a group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group,
(F-2) an organic group comprising a hydrocarbon containing a cyclic unit such as a cyclopentyl group, a methylcyclopentyl group, a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, a norbornyl group,
(F-3) Methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, isobutoxy group, alkoxy group such as t-butoxy group, methoxyethyl, ethoxyethyl, propoxyethyl group, methoxypropyl group, ethoxypropyl group An organic group containing an ether bond such as a propoxypropyl group,
Etc.

更に、上記G)の無置換又は置換された芳香族炭化水素単位と、必要に応じて無置換又は置換された、鎖状、分岐状、環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数が6以上8以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、α−メチルスチリル基、3−メチルスチリル基、4−メチルスチリル基等の芳香族炭化水素からなる有機基等が挙げられる。   Further, from the above-mentioned G) unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit and, if necessary, one or more structures selected from the group consisting of a chain, a branched, and a cyclic, unsubstituted or substituted Examples of the monovalent aromatic organic group having 6 to 8 carbon atoms and an oxygen number of 0 to 5 having an aliphatic hydrocarbon unit include, for example, phenyl group, tolyl group, xylyl group, benzyl group, α- Examples thereof include organic groups composed of aromatic hydrocarbons such as a methylstyryl group, a 3-methylstyryl group, and a 4-methylstyryl group.

上記のRには、前記の炭素数及び酸素数、必要に応じて、珪素数の範囲内であれば、有機基としてヒドロキシル単位、アルコキシ単位、アシル単位、カルボキシル単位、アルケニルオキシ単位、アシルオキシ単位、フッ素や塩素等のハロゲン原子、或いは、エステル結合、更には、酸素原子や珪素原子を除く窒素、リン、硫黄等のヘテロ原子を含んでいてもよい。また、これらは、1種又は2種以上が混在した有機基であってよい。
次に、本発明における有機基Rについて説明する。
In the above R 1 , the number of carbon and oxygen, and, if necessary, within the range of the number of silicon, the hydroxyl group, alkoxy unit, acyl unit, carboxyl unit, alkenyloxy unit, acyloxy unit as an organic group In addition, halogen atoms such as fluorine and chlorine, ester bonds, and hetero atoms such as nitrogen, phosphorus and sulfur other than oxygen atoms and silicon atoms may be contained. These may be organic groups in which one kind or two or more kinds are mixed.
Next, the organic group R 2 in the present invention will be described.

は無置換又は置換された、鎖状、分岐状、環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数が4以上24以下及び酸素数が1以上5以下からなるエポキシ基を含有する有機基であり、例えば、下記一般式(6)〜(11)等の構造が例示できる。これらは、1種又は2種以上が混在した有機基であってよい。 R 2 has 4 or more and 24 or less carbon atoms and 1 oxygen atom having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of unsubstituted, substituted, and chain-like, branched, and cyclic structures. An organic group containing an epoxy group consisting of 5 or less, and examples thereof include the following general formulas (6) to (11). These may be organic groups in which one kind or two or more kinds are mixed.

Figure 2012041381
Figure 2012041381

Figure 2012041381
Figure 2012041381

Figure 2012041381
Figure 2012041381

Figure 2012041381
Figure 2012041381

Figure 2012041381
Figure 2012041381

Figure 2012041381
Figure 2012041381

上記の一般式中のR5としては、例えば、−(CH−O−、−(CH−O−、−(CH−O−、−CH−CH(CH)−O−、−CH−CH(CH)−CH−O−、−CH−CH−CH(CH)−O−、−CH−CH(CH)−COO−、−CH−CH−COO−等のエーテル結合又はエステル結合を含む構造単位、−(CH−、−CH(CH)−、−(CH−、−CH(CH)−CH−、−CH−CH(CH)−、−(CH−、−(CH−、−(CH−、−(CH−、−(CH−、−(CH−、−(CH10−、−(CH11−、−(CH12−、−(CH13−、−(CH14−、−(CH15−、−(CH16−等の鎖状及び/又は分岐状からなる脂肪族炭化水素単位が例示できる。 The R 5 in the general formula above, for example, - (CH 2) 2 -O -, - (CH 2) 3 -O -, - (CH 2) 4 -O -, - CH 2 -CH (CH 3) -O -, - CH 2 -CH (CH 3) -CH 2 -O -, - CH 2 -CH 2 -CH (CH 3) -O -, - CH 2 -CH (CH 3) -COO- , —CH 2 —CH 2 —COO— and other structural units containing an ether bond or an ester bond, — (CH 2 ) 2 —, —CH (CH 3 ) —, — (CH 2 ) 3 —, —CH (CH 3) -CH 2 -, - CH 2 -CH (CH 3) -, - (CH 2) 4 -, - (CH 2) 5 -, - (CH 2) 6 -, - (CH 2) 7 -, - (CH 2) 8 -, - (CH 2) 9 -, - (CH 2) 10 -, - (CH 2) 11 -, - (CH 2) 12 -, (CH 2) 13 -, - (CH 2) 14 -, - (CH 2) 15 -, - (CH 2) 16 - linear and / or aliphatic hydrocarbon unit consisting of branched like.

これらは1種又は2種以上が混在した有機基であってよい。更に、光学異性体が存在する場合には、単独、或いは、2種以上の光学異性体が混在した有機基であってもよい。   These may be organic groups in which one kind or two or more kinds are mixed. Furthermore, when an optical isomer exists, it may be an organic group mixed alone or in combination of two or more optical isomers.

次に、本発明における有機基Rについて説明する。
は、各々独立に、A)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の脂肪族有機基、B)無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、C)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族及び/又は芳香族炭化水素単位を有する、炭素数が5以上26以下、酸素数が0以上5以下、並びに珪素数が1である1価の有機基、E)炭素−炭素2重結合を含む炭素数が2以上6以下の無置換又は置換された、鎖状及び分岐状よりなる群から選ばれる1種以上の構造からなる1価の脂肪族有機基、からなる群から選ばれる少なくとも1種以上の有機基を表す。 ここで、本発明における「炭素−炭素2重結合」について説明する。本発明における「炭素−炭素2重結合」とは脂肪族の炭素−炭素2重結合のことを指し、ベンゼン環やナフタレン環等の2重結合は含まない。
Next, the organic group R 3 in the present invention will be described.
R 3 each independently has A) an aliphatic hydrocarbon unit having one or more types of structures selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted, chain, branched, and cyclic structure, and having 1 carbon atom. A monovalent aliphatic organic group having 24 or less and an oxygen number of 0 or more and 5 or less, B) an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, which is optionally substituted or substituted, in the form of a chain A monovalent aromatic organic group having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms, which has an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of branched and cyclic structures C) 5 or 26 carbon atoms having an aliphatic and / or aromatic hydrocarbon unit having one or more kinds of structures selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched, and cyclic structure. Hereinafter, the oxygen number is 0 or more and 5 or less, and the silicon number is 1. 1 which consists of a monovalent organic group, E) 1 or more types of structures chosen from the group which consists of the chain | strand shape and the branched form which are 2 or 6 carbon atoms containing a carbon-carbon double bond, and are unsubstituted or substituted. Represents at least one organic group selected from the group consisting of valent aliphatic organic groups. Here, the “carbon-carbon double bond” in the present invention will be described. The “carbon-carbon double bond” in the present invention refers to an aliphatic carbon-carbon double bond and does not include a double bond such as a benzene ring or a naphthalene ring.

上記のRにおける、A)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の脂肪族有機基、B)無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、C)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族及び/又は芳香族炭化水素単位を有する、炭素数が5以上26以下、酸素数が0以上5以下、並びに珪素数が1である1価の有機基は、前記と同様である。 In the above R 3 , A) an aliphatic hydrocarbon unit having one or more kinds of structures selected from the group consisting of unsubstituted, substituted, and chain, branched and cyclic structures, and having 1 to 24 carbon atoms A monovalent aliphatic organic group having 0 or less and 5 or less oxygen, B) an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, optionally substituted or substituted, chain or branched A monovalent aromatic organic group having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms, which has an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from a structural group consisting of a ring and a ring, C ) Having 5 or more and 26 or less carbon atoms, having an aliphatic and / or aromatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of unsubstituted, substituted, and chain-like, branched and cyclic structures; The oxygen number is 0 or more and 5 or less, and the silicon number is 1. The monovalent organic group is the same as described above.

一方、上記E)の炭素−炭素2重結合を含む炭素数が2以上6以下の無置換又は置換された、鎖状及び分岐状よりなる群から選ばれる1種以上の構造からなる1価の脂肪族有機基としては、例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上が混在した有機基であってよい。   On the other hand, the monovalent | monohydric structure which consists of 1 or more types of structures chosen from the group which consists of the chain | strand shape and the branched form by which carbon number containing the carbon-carbon double bond of said E) is 2 or less 6 or less. Examples of the aliphatic organic group include a vinyl group, an allyl group, an isopropenyl group, a butenyl group, an isobutenyl group, a pentenyl group, and a hexenyl group. These may be organic groups in which one kind or two or more kinds are mixed.

上記のRには、前記の炭素数及び酸素数、必要に応じて、珪素数の範囲内であれば、有機基としてヒドロキシル単位、アルコキシ単位、アシル単位、カルボキシル単位、アルケニルオキシ単位、アシルオキシ単位、フッ素や塩素等のハロゲン原子、或いは、エステル結合、更には、酸素原子や珪素原子を除く窒素、リン、硫黄等のヘテロ原子を含んでいてもよい。また、これらは、1種又は2種以上が混在した有機基であってよい。
次に、本発明における有機基X、Y、Zについて説明する。
In the above R 3 , the number of carbons and oxygen, and if necessary, within the range of the number of silicons, as an organic group, a hydroxyl unit, an alkoxy unit, an acyl unit, a carboxyl unit, an alkenyloxy unit, an acyloxy unit In addition, halogen atoms such as fluorine and chlorine, ester bonds, and hetero atoms such as nitrogen, phosphorus and sulfur other than oxygen atoms and silicon atoms may be contained. These may be organic groups in which one kind or two or more kinds are mixed.
Next, the organic groups X, Y, and Z in the present invention will be described.

有機基X及びYは、後述する本発明のエポキシ変性シリコーンの製造の際にヒドロシリル化によって生成する連結基であり、炭素数が2以上6以下の無置換又は置換された、鎖状及び分岐状よりなる群から選ばれる1種以上の構造からなる2価の炭化水素基である。具体的には、例えば、−(CH−、−(CH−、−(CH−、−(CH−、−(CH−、−CH(CH)−、−CH−CH(CH)−、−CH(CH)−CH−等が例示できる。これらは、1種又は2種以上が混在した有機基であってよい。 The organic groups X and Y are linking groups generated by hydrosilylation during the production of the epoxy-modified silicone of the present invention described later, and are unsubstituted or substituted having 2 to 6 carbon atoms, chained and branched. A divalent hydrocarbon group having at least one structure selected from the group consisting of: Specifically, for example, — (CH 2 ) 2 —, — (CH 2 ) 3 —, — (CH 2 ) 4 —, — (CH 2 ) 5 —, — (CH 2 ) 6 —, —CH ( CH 3 ) —, —CH 2 —CH (CH 3 ) —, —CH (CH 3 ) —CH 2 — and the like can be exemplified. These may be organic groups in which one kind or two or more kinds are mixed.

Zは2価の炭化水素基Yとの結合を表し、具体的にはSi−Y−Z−Siの構造で、上記に記載の−X−の炭化水素基を表す。   Z represents a bond with a divalent hydrocarbon group Y, specifically, a Si—Y—Z—Si structure, and the —X— hydrocarbon group described above.

本発明の一般式(1)及び一般式(2)を含む平均組成式(3)の有機基R及びRとしては、本発明のエポキシ変性シリコーンの耐光性が良好となる、或いは、保存時の安定性が高まる傾向にあるため、平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーンの全Si単位の合計モル数に対する、ヒドロキシル単位、アルコキシ単位、アシル単位、カルボキシル単位、アルケニルオキシ単位、アシルオキシ単位、フッ素や塩素等のハロゲン原子、或いは、エステル結合、更には、酸素原子や珪素原子を除く窒素、リン、硫黄等のヘテロ原子を含む有機基が結合した珪素原子の合計モル数が、10%以下であることが好ましく、1%以下であることがより好ましく、全く含まないことが更に好ましい。 As the organic groups R 1 and R 3 in the average composition formula (3) including the general formula (1) and the general formula (2) of the present invention, the light resistance of the epoxy-modified silicone of the present invention is improved or stored. Since the stability at the time tends to increase, the hydroxyl unit, alkoxy unit, acyl unit, carboxyl unit, alkenyloxy unit with respect to the total number of moles of all Si units of the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3), The total number of moles of silicon atoms bonded to an acyloxy unit, a halogen atom such as fluorine or chlorine, or an ester bond, and further an organic group containing a hetero atom such as nitrogen, phosphorus or sulfur excluding an oxygen atom or silicon atom, It is preferably 10% or less, more preferably 1% or less, and still more preferably not contained at all.

一方、本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて硬化物を製造する際に、安定的に再現性よく硬化させることが可能となる傾向にあるため、平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーンの全Si単位の合計モル数に対する、炭素−炭素2重結合を含む炭素数が2以上6以下の無置換又は置換された、鎖状及び分岐状なる群から選ばれる1種以上の構造からなる1価の脂肪族有機基が結合した珪素原子の合計モル数は、10%以下であることが好ましく、5%以下であることがより好ましく、1%以下であることが更に好ましく、全く含まないことが特に好ましい。   On the other hand, when producing a cured product using the epoxy-modified silicone of the present invention, the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) tends to be stably cured with good reproducibility. It consists of one or more types of structures selected from the group consisting of unsubstituted and substituted groups having a carbon-carbon double bond of 2 or more and 6 or less, and a chain and a branch, with respect to the total number of moles of all Si units. The total number of moles of silicon atoms bonded to a monovalent aliphatic organic group is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, still more preferably 1% or less, and none at all. It is particularly preferred.

また、本発明のエポキシ変性シリコーンの耐光性が良好となると共に、耐熱変色性が向上する傾向にあるため、本発明における一般式(1)及び一般式(2)を含む平均組成式(3)の有機基R及びRとしては、上記(A−1)、(A−2)、Rが(F−1)及び(F−2)であるC)からなる群から選択されることが好ましく、(A−1)及び(A−2)中の炭素数が1以上8以下、酸素数0からなる群から選択される有機基であることがより好ましく、(A−1)及び(A−2)中の炭素数が1以上8以下、酸素数0からなる群から選択される無置換の鎖状の有機基であることが更に好ましく、メチル基であることが特に好ましい。 In addition, since the epoxy-modified silicone of the present invention tends to have good light resistance and improved heat discoloration, the average composition formula (3) including the general formula (1) and the general formula (2) in the present invention. The organic groups R 1 and R 3 are selected from the group consisting of C) in which (A-1), (A-2) and R 5 are (F-1) and (F-2). Is more preferable, and is more preferably an organic group selected from the group consisting of 1 to 8 carbon atoms and 0 oxygen number in (A-1) and (A-2). A-2 is more preferably an unsubstituted chain organic group selected from the group consisting of 1 to 8 carbon atoms and 0 oxygen number, and particularly preferably a methyl group.

本発明の一般式(1)で表される化合物及び一般式(2)で表される化合物を含む平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーンにおける有機基Rとしては、得られるエポキシ変性シリコーンを硬化させる際の硬化速度が高まる、或いは、エポキシ変性シリコーンを用いて得られた硬化物の耐光性が高まる傾向にあるため、Rが鎖状及び/又は分岐状からなる脂肪族炭化水素単位である一般式(7)〜(11)で表されるものが好ましく、Rが−(CH−である一般式(7)〜(11)で表されるものがより好ましく、Rが−(CH−である一般式(8)〜(11)で表されるものが更に好ましく、Rが−(CH−である一般式(9)で表されるものが特に好ましい。 As the organic group R 2 in the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) including the compound represented by the general formula (1) and the compound represented by the general formula (2) of the present invention, an epoxy obtained Since the curing rate at the time of curing the modified silicone is increased or the light resistance of the cured product obtained by using the epoxy-modified silicone tends to be increased, aliphatic carbonization in which R 5 is a chain and / or a branched chain formula is a hydrogen unit (7) is preferably one represented by - (11), R 5 is - (CH 2) 2 - are more preferable those represented by the general formula (7) to (11) is , R 5 is - (CH 2) 2 - formula (8) to (11) in those represented more preferably, R 5 is - Table at a is the formula (9) - (CH 2) 2 Are particularly preferred.

本発明における2価の炭化水素基Xとしては、本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化物の耐光性及び耐熱変色性が高まる傾向にあるため、−(CH−、−CH(CH)−、からなる群から選ばれる1種以上の構造であることが好ましく、−(CH−であることがより好ましい。 The divalent hydrocarbon group X in the present invention tends to increase the light resistance and heat discoloration of a cured product obtained using the epoxy-modified silicone of the present invention, and therefore-(CH 2 ) 2- , -CH One or more structures selected from the group consisting of (CH 3 ) — are preferable, and — (CH 2 ) 2 — is more preferable.

一般式(1)及び(2)におけるt、uの値は、連鎖の数を表し、その連鎖はランダムであってもブロックであってもよい。本発明において、tは各々独立に0以上の整数、また、uは各々独立に3以上の整数である。   The values of t and u in the general formulas (1) and (2) represent the number of chains, and the chains may be random or block. In the present invention, t is each independently an integer of 0 or more, and u is each independently an integer of 3 or more.

本発明においては、エポキシ変性シリコーンの粘度が低減されて取り扱い性が高まる、或いは、エポキシ変性シリコーン用いて得られた硬化物の耐熱変色性が向上する傾向にあるため、一般式(1)及び一般式(2)における(t+u)の値は10以下であることが好ましく、tが1以下、且つ、uが3以上7以下であることがより好ましく、tが0、且つ、uが3以上7以下であることが更に好ましく、tが0、且つ、uが3以上5以下であることが特に好ましい。   In the present invention, the viscosity of the epoxy-modified silicone is reduced to increase the handleability, or the heat-discoloration property of the cured product obtained using the epoxy-modified silicone tends to be improved. Therefore, the general formula (1) and the general formula The value of (t + u) in the formula (2) is preferably 10 or less, more preferably 1 or less, and u is preferably 3 or more and 7 or less, t is 0, and u is 3 or more and 7 or less. More preferably, t is 0, and u is particularly preferably 3 or more and 5 or less.

上述の一般式(1)及び(2)におけるt、uの値は、前記のMALDI−TOF/MS測定により算出することができる。
本発明において、vは0以上の整数である。本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化物の耐熱性が向上する、硬化剤との相溶性がよく透明で均一な硬化物が得られる、密着性が良好になる傾向にあるため、vの値は0以上9以下であることが好ましく、0以上6以下であることがより好ましく、0以上3以下であることが更に好ましく、0であることが特に好ましい。
The values of t and u in the above general formulas (1) and (2) can be calculated by the MALDI-TOF / MS measurement.
In the present invention, v is an integer of 0 or more. The heat resistance of the cured product obtained using the epoxy-modified silicone of the present invention is improved, the compatibility with the curing agent is good, and a transparent and uniform cured product is obtained. The value of is preferably 0 or more and 9 or less, more preferably 0 or more and 6 or less, still more preferably 0 or more and 3 or less, and particularly preferably 0.

本発明の平均組成式(3)において、a、b、c、d、e、f、g、h、i、jは、エポキシ変性シリコーン1モル中に存在する各構成単位のモル数を表し、a、e、fは0を越える値であり、b、c、d、g、h、i、jは各々0以上の値でe=a+d+iを満足する値である。   In the average composition formula (3) of the present invention, a, b, c, d, e, f, g, h, i, and j represent the number of moles of each structural unit present in 1 mole of the epoxy-modified silicone, a, e, and f are values exceeding 0, and b, c, d, g, h, i, and j are values that are 0 or more and satisfy e = a + d + i.

本発明のエポキシ変性シリコーンが、保存時において変性反応や粘度変化を示さず、優れた保存安定性を示すと同時に、硬化後において優れた耐クラック性を示すためには、エポキシ変性シリコーン中に残存する未反応のSiH基の残存量を表す[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値が0.020以下であることが必要であり、0.015以下であることが好ましく、0.010以下であることがより好ましく、0.005以下であることが更に好ましい。   The epoxy-modified silicone of the present invention does not show a modification reaction or a change in viscosity during storage, exhibits excellent storage stability, and at the same time exhibits excellent crack resistance after curing. The value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] representing the remaining amount of unreacted SiH groups to be required must be 0.020 or less, preferably 0.015 or less, and preferably 0.010 or less. Is more preferable, and it is still more preferable that it is 0.005 or less.

本発明のエポキシ変性シリコーンが、耐クラック性、密着性に加え、半田リフロー耐性を発現するためには、平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーン中に存在するM構造の存在量を表す[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値が0.25以上0.35以下の範囲であること、平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーン中の分子量800以下の成分の含有率が20%以上40%以下であること、且つ、平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーン中の分子量10,000以上の成分の含有率が10%以上25%以下であること、を同時に満足する必要がある。   In order for the epoxy-modified silicone of the present invention to exhibit solder reflow resistance in addition to crack resistance and adhesion, the abundance of M structure present in the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] is within the range of 0.25 to 0.35, and the content of components having a molecular weight of 800 or less in the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) That the content of the component having a molecular weight of 10,000 or more in the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) is 10% or more and 25% or less. It is necessary to be satisfied at the same time.

本発明のエポキシ変性シリコーンの耐クラック性、密着性に加え、半田リフロー耐性を更に高める上で、平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーン中に存在するM構造の存在量を表す[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値としては、0.26以上0.34以下の範囲が好ましく、0.27以上0.33以下の範囲がより好ましい。また、平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーン中の分子量800以下の成分の含有率としては、23%以上37%以下の範囲であることが好ましく、25%以上35%以下の範囲であることがより好ましい。更に、平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーン中の分子量10,000以上の成分の含有率としては、12%以上22%以下の範囲であることが好ましく、12%以上20%以下の範囲であることがより好ましい。   In addition to the crack resistance and adhesion of the epoxy-modified silicone of the present invention, it represents the abundance of the M structure present in the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) in order to further increase the solder reflow resistance [ The value of (a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] is preferably in the range of 0.26 to 0.34, and more preferably in the range of 0.27 to 0.33. The content of the component having a molecular weight of 800 or less in the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) is preferably in the range of 23% to 37%, and in the range of 25% to 35%. It is more preferable that Furthermore, the content of the component having a molecular weight of 10,000 or more in the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) is preferably in the range of 12% or more and 22% or less, and 12% or more and 20% or less. More preferably, it is the range.

分岐鎖の含有量を表す[(h+i+j)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は、エポキシ変性シリコーンの取り扱い性が向上し、更には硬化剤、硬化促進剤との相溶性、均一混合性が良好となり、硬化後において耐クラック性が良好となる傾向にあるため、0.040以下であることが好ましく、0.010以下であることがより好ましく、0であることが更に好ましい。   The value of [(h + i + j) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] representing the branched chain content improves the handleability of the epoxy-modified silicone, and further improves the compatibility with the curing agent and the curing accelerator, and the uniform mixing property. Since crack resistance tends to be good after curing, it is preferably 0.040 or less, more preferably 0.010 or less, and even more preferably 0.

また、本発明において、エポキシ変性シリコーンを用いて得られた硬化物の表面のベタツキが抑制される傾向にあるため、fは1以上であることが好ましく、1.5以上であることがより好ましい。   In the present invention, f tends to be less sticky on the surface of the cured product obtained using epoxy-modified silicone, and therefore f is preferably 1 or more, more preferably 1.5 or more. .

本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化物の耐熱性が高まる傾向にあるため、エポキシ変性シリコーンのエポキシ価は0.20以上であることが好ましく、0.23以上であることがより好ましく、0.25以上であることが更に好ましい。一方、エポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化物の耐光性、耐熱変色性が高まる傾向にあるため、エポキシ変性シリコーンのエポキシ価は0.40以下であることが好ましく、0.37以下であることがより好ましく、0.35以下であることが更に好ましい。   Since the heat resistance of the cured product obtained using the epoxy-modified silicone of the present invention tends to increase, the epoxy value of the epoxy-modified silicone is preferably 0.20 or more, more preferably 0.23 or more. And more preferably 0.25 or more. On the other hand, since the light resistance and heat discoloration of a cured product obtained using epoxy-modified silicone tend to increase, the epoxy value of epoxy-modified silicone is preferably 0.40 or less, and is 0.37 or less. Is more preferable, and it is still more preferable that it is 0.35 or less.

本発明の平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーンは、流動性等に起因する取り扱い性や加工性を向上させる観点から、該エポキシ変性シリコーンの数平均分子量が、400以上1,000,000以下の範囲が好ましく、500以上500,000以下の範囲がより好ましく、500以上100,000以下の範囲が更に好ましく、500以上50,000以下の範囲が更により好ましく、500以上10,000以下の範囲が特に好ましい。   The epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) of the present invention has a number average molecular weight of 400 or more and 1,000 from the viewpoint of improving handleability and processability due to fluidity and the like. Is preferably in the range of 500 to 100,000, more preferably in the range of 500 to 100,000, still more preferably in the range of 500 to 50,000, and more preferably in the range of 500 to 10,000. The following ranges are particularly preferred.

ここで、本発明の平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーンにおける[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]、[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]、[(h+i+j)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]、並びに、fの算出法について説明する。   Here, [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)], [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)], [(h + i + j) / (a + b + c, +++), and (+) ++ A method for calculating f will be described.

本発明の平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーンにおける[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]、[(h+i+j)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]は、下記記載の方法による29Si−NMR測定を行って得られるスペクトルパターンから算出された積分値を元に、全Siに対するg、(a+b)、並びに、(h+i+j)に該当する各構成単位の存在比率を算出することによって得られる値である。 [G / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] and [(h + i + j) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) of the present invention are obtained by performing 29 Si-NMR measurement by the method described below. This is a value obtained by calculating the abundance ratio of each structural unit corresponding to g, (a + b), and (h + i + j) with respect to the total Si based on the integrated value calculated from the obtained spectrum pattern.

一方、fは、後述するゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定により得られた数平均分子量を、後述するエポキシ価の測定により得られたエポキシ価を用いて、下記数式(10)で算出される値である。   On the other hand, f is calculated by the following mathematical formula (10) using the number average molecular weight obtained by gel permeation chromatography (GPC) measurement described later, and the epoxy value obtained by measuring epoxy value described later. Value.

f=(数平均分子量)/(100/エポキシ価) ・・・式(10)
29Si−NMRの測定方法>
エポキシ変性シリコーン0.15gを重水素化クロロホルム1gに溶解して得られた溶液に、Cr(acac)を0.015g、テトラメチルシランを10μL添加してNMR測定溶液とする。該NMR測定溶液を用いて、プロトン完全デカップル条件における29Si−NMRの測定を積算回数4,000回にて実施する。
f = (number average molecular weight) / (100 / epoxy value) Formula (10)
<Measurement method of 29 Si-NMR>
To a solution obtained by dissolving 0.15 g of epoxy-modified silicone in 1 g of deuterated chloroform, 0.015 g of Cr (acac) 3 and 10 μL of tetramethylsilane are added to obtain an NMR measurement solution. Using this NMR measurement solution, measurement of 29 Si-NMR under the complete proton decoupling condition is carried out at a total number of 4000 times.

次に、本発明における平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーンの数平均分子量、平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーン中の分子量800以下の成分の含有率、並びに、平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーン中の分子量10,000以上の成分の含有率について説明する。   Next, the number average molecular weight of the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) in the present invention, the content of components having a molecular weight of 800 or less in the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3), and The content of components having a molecular weight of 10,000 or more in the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) will be described.

平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーン中の分子量は、溶離液としてクロロホルムを用い、標準物質として単分散ポリスチレン及びスチレンモノマーを用いるゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定によって得られる値である。具体的には、RI検出による溶出時間から求めた検量線を予め作成し、測定試料溶液の溶出時間と検出強度から、上記の検量線を用いて算出された数平均分子量のことをいう。   The molecular weight in the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) is a value obtained by gel permeation chromatography (GPC) measurement using chloroform as an eluent and monodisperse polystyrene and styrene monomers as standard substances. is there. Specifically, it refers to the number average molecular weight calculated using the above calibration curve from the elution time and detection intensity of the measurement sample solution prepared in advance from the elution time by RI detection.

一方、平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーン中の分子量800以下の成分の含有率とは、上記のGPC測定によって得られる溶出曲線において、エポキシ変性シリコーンの溶出開始点と溶出終了点を結んで得られる該溶出ピーク面積(ピーク面積1)に対する、分子量800以下に相当するピークの面積(ピーク面積2)の比率を百分率で表記した数値[すなわち、(ピーク面積2)/(ピーク面積1)×100(%)で表される数値]のことをいう。   On the other hand, the content of components having a molecular weight of 800 or less in the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) is the elution start point and elution end point of the epoxy-modified silicone in the elution curve obtained by the GPC measurement. A numerical value expressed as a percentage of the peak area (peak area 2) corresponding to a molecular weight of 800 or less with respect to the elution peak area (peak area 1) obtained by linking [[(peak area 2) / (peak area] 1) Numerical value represented by x100 (%)].

また、平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーン中の分子量10,000以上の成分の含有率とは、上記のGPC測定によって得られる溶出曲線において、エポキシ変性シリコーンの溶出開始点と溶出終了点を結んで得られる該溶出ピーク面積(ピーク面積1)に対する、分子量10,000以上に相当するピークの面積(ピーク面積3)の比率を百分率で表記した数値[すなわち、(ピーク面積3)/(ピーク面積1)×100(%)で表される数値]のことをいう。   The content of components having a molecular weight of 10,000 or more in the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) is the elution start point and elution of the epoxy-modified silicone in the elution curve obtained by the above GPC measurement. A numerical value representing the ratio of the peak area (peak area 3) corresponding to a molecular weight of 10,000 or more to the elution peak area (peak area 1) obtained by linking the end points [ie, (peak area 3) / (Peak area 1) × a numerical value represented by 100 (%)].

次に、本発明におけるエポキシ価について説明する。
本発明におけるエポキシ価とは、エポキシ変性シリコーン100g中に存在するエポキシ単位の数のことを指し、具体的には、以下の方法によって測定される値のことをいう。
Next, the epoxy value in the present invention will be described.
The epoxy value in the present invention refers to the number of epoxy units present in 100 g of epoxy-modified silicone, and specifically refers to a value measured by the following method.

<エポキシ価の測定方法>
樹脂試料をベンジルアルコールと1−プロパノールに溶解する。この溶液にヨウ化カリウム水溶液、ブロモフェノールブルー指示薬を添加した後、1規定塩酸にて滴定し、反応系内が青色から黄色になった点を当量点とする。当量点より、エポキシ変性シリコーンのエポキシ価を以下の数式(11)に従って算出する。
<Method for measuring epoxy value>
The resin sample is dissolved in benzyl alcohol and 1-propanol. To this solution, an aqueous potassium iodide solution and a bromophenol blue indicator are added, followed by titration with 1N hydrochloric acid, and the point where the reaction system turns from blue to yellow is taken as the equivalent point. From the equivalent point, the epoxy value of the epoxy-modified silicone is calculated according to the following formula (11).

エポキシ価(当量/100g)=(V×N×F)/(10×W)・・・式(11)
[ここで、W、V、N、Fは各々以下の値を表す。
W:試料の重量(g)、
V:滴定量(mL)、
N:滴定に使用した塩酸の規定度(N)、
F:滴定に使用した塩酸のファクター ]
Epoxy value (equivalent / 100 g) = (V × N × F) / (10 × W) Formula (11)
[W, V, N, and F represent the following values, respectively.
W: weight of sample (g),
V: titer (mL)
N: Normality of hydrochloric acid used for titration (N),
F: Factor of hydrochloric acid used for titration]

次に、本発明のエポキシ変性シリコーンの製造方法の具体例について説明する。
本発明のエポキシ変性シリコーンには、少なくとも前出の一般式(1)及び一般式(2)で表される化合物を少なくとも含むことが必要である。本発明のエポキシ変性シリコーンは、本発明の要件を満足すればその製造方法の限定はなく、例えば、(a−1)Si−H基を含有する環状のオルガノハイドロジェンシリコーンと、必要に応じて鎖状、分岐状からなるオルガノハイドロジェンシリコーンを含む基質に対し、ヒドロシリル化反応によって、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物と、炭素−炭素2重結合を2個以上有するシリコーンとを付加させる方法、(a−2)オルガノハロシランやオルガノアルコキシシラン等の縮合反応性基を含有するオルガノシリコーンを基質として、必要に応じて加水分解した後、縮合反応に供することよって、エポキシ単位を有する有機基等を導入する方法、更に(a−3)エポキシ単位を含有する有機基を置換基として有する環状オルガノシリコーンを、必要に応じて分子内にSi−H基を含有、又は含有しない、鎖状及び/又は分岐状のシロキサン類共存下で開環重合する方法、(a−4)前記(a−1)、(a−2)、(a−3)記載の方法によって得られる変性ポリシロキサン類を再平衡化反応させることによって合成する方法、等により製造することが可能である。また、上記の方法によって得られたエポキシ変性シリコーン同士を混合する方法、上記の方法によって得られたエポキシ変性シリコーンと、一般式(1)、一般式(2)、並びに、その他の分子中に少なくとも1個以上のエポキシ基を有するエポキシ変性シリコーンなる群から選ばれる少なくとも1種以上のエポキシ変性シリコーンとを混合する方法により、本発明の平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーンを製造することも可能である。
Next, the specific example of the manufacturing method of the epoxy modified silicone of this invention is demonstrated.
The epoxy-modified silicone of the present invention needs to contain at least the compounds represented by the above general formula (1) and general formula (2). As long as the epoxy-modified silicone of the present invention satisfies the requirements of the present invention, the production method is not limited. For example, (a-1) a cyclic organohydrogen silicone containing a Si—H group, and if necessary, A compound having a chain-branched organohydrogen silicone is subjected to a hydrosilylation reaction to form a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, and a silicone having two or more carbon-carbon double bonds. (A-2) An organosilicone containing a condensation-reactive group such as an organohalosilane or an organoalkoxysilane as a substrate, hydrolyzed as necessary, and then subjected to a condensation reaction. A method of introducing an organic group having a cyclic structure having (a-3) an organic group containing an epoxy unit as a substituent A method of ring-opening polymerization of luganosilicone in the presence of linear and / or branched siloxanes, containing or not containing Si-H groups in the molecule as required, (a-4) It can be produced by a method of synthesizing a modified polysiloxane obtained by the methods described in 1), (a-2) and (a-3) by re-equilibration reaction. In addition, a method of mixing the epoxy-modified silicones obtained by the above-described method, an epoxy-modified silicone obtained by the above-mentioned method, the general formula (1), the general formula (2), and other molecules at least The epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) of the present invention is produced by a method of mixing at least one epoxy-modified silicone selected from the group consisting of epoxy-modified silicones having one or more epoxy groups. It is also possible.

これらの内、(a−1)の方法は、本願発明の一般式(1)及び一般式(2)を同時に形成することが可能であり、一般式(1)及び一般式(2)とを含む平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーンを製造することが可能であることから好ましく用いられる方法である。更に、引き続き、(a−1)の方法によって得られたエポキシ変性シリコーンと、一般式(1)、一般式(2)、並びに、その他の分子中に少なくとも1個以上のエポキシ基を有するエポキシ変性シリコーンなる群から選ばれる少なくとも1種以上のエポキシ変性シリコーンとを混合する方法、或いは、(a−1)の方法によって得られるエポキシ変性シリコーン同士を混合する方法は、簡便な操作で本願発明の要件を満足するエポキシ変性シリコーンを製造できることから好ましい方法である。   Among these, the method (a-1) can simultaneously form the general formula (1) and the general formula (2) of the present invention, and the general formula (1) and the general formula (2) It is a method preferably used because it is possible to produce an epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3). Further, subsequently, the epoxy-modified silicone obtained by the method (a-1) and the epoxy-modified silicone having at least one epoxy group in the general formula (1), the general formula (2), and other molecules. The method of mixing at least one epoxy-modified silicone selected from the group consisting of silicones, or the method of mixing the epoxy-modified silicones obtained by the method (a-1) is a requirement of the present invention by a simple operation. This is a preferable method because an epoxy-modified silicone satisfying the above can be produced.

以下、(a−1)の方法について説明する。
(a−1)の方法は、少なくとも以下の一般式(12)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンと、一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを少なくとも含む平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンと、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>を含むビニル化合物<B>とを付加させることによってエポキシ変性シリコーンを製造する方法である。
Hereinafter, the method (a-1) will be described.
The method of (a-1) is an average composition containing at least an organohydrogensilicon represented by the following general formula (12) and a silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13). Epoxy-modified silicone by adding a silicone having a carbon-carbon double bond represented by formula (14) and a vinyl compound <B> containing a compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group It is a method of manufacturing.

Figure 2012041381
Figure 2012041381

Figure 2012041381
Figure 2012041381

Figure 2012041381
Figure 2012041381

[ここで、Rは上記と同様であり、Rは、各々独立に、炭素−炭素2重結合を含む炭素数が2以上6以下の無置換又は置換された、鎖状及び分岐状よりなる群から選ばれる1種以上の構造からなる1価の脂肪族有機基を表す。 [Wherein R 1 is the same as described above, and each R 6 is independently an unsubstituted or substituted chain or branched chain having 2 to 6 carbon atoms including a carbon-carbon double bond. Represents a monovalent aliphatic organic group having at least one structure selected from the group consisting of:

式中のt、u、vは上記と同様であり、k、l、m、n、o、p、qは炭素−炭素2重結合を有するシリコーン1モル中に存在する各構成単位のモル数を表し、kは0を越える値であり、l、m、n、o、p、qは各々0以上の値である。   T, u, and v in the formula are the same as above, and k, l, m, n, o, p, and q are the number of moles of each structural unit present in 1 mole of silicone having a carbon-carbon double bond. K is a value exceeding 0, and l, m, n, o, p, q are each a value of 0 or more.

一般式(12)中の連鎖はランダムであってもブロックであってもよい。]
なお、平均組成式(14)において、o、p、qが各々下記数式(12)、数式(13)、を同時に満足する場合には、上記のk、l、o、p、qは、数式(14)を満足する範囲から選択される数値である。
o+p≠0・・・式(12)
q≠0・・・式(13)
0≦k+l≦o+p+2q+2・・・式(14)
更に、上記のo、p、qが各々下記数式(15)、数式(16)、を同時に満足する場合には、上記のk、lは下記数式(17)を満足する範囲から選択される数値である。
The chain in general formula (12) may be random or block. ]
In the average composition formula (14), when o, p, and q simultaneously satisfy the following formulas (12) and (13), the above k, l, o, p, and q It is a numerical value selected from a range that satisfies (14).
o + p ≠ 0 Formula (12)
q ≠ 0 Formula (13)
0 ≦ k + l ≦ o + p + 2q + 2 (14)
Further, when the above o, p, and q simultaneously satisfy the following formulas (15) and (16), k and l are numerical values selected from a range that satisfies the following formula (17). It is.

o+p=0・・・式(15)
q=0・・・式(16)
0≦k+l≦2・・・式(17)
また、上記のo、p、qが各々下記数式(12)、数式(16)、を同時に満足する場合には、上記のk、l、o、pは下記数式(18)を満足する範囲から選択される数値である。
o + p = 0 Formula (15)
q = 0 ... Formula (16)
0 ≦ k + l ≦ 2 (17)
Further, when the above o, p, and q satisfy the following equations (12) and (16) respectively, the above k, l, o, and p are within the range that satisfies the following equation (18). The number to be selected.

o+p≠0・・・式(12)
q=0・・・式(16)
0≦k+l≦o+p+2・・・式(18)
更に、o、p、qが各々下記数式(15)、数式(13)、を同時に満足する場合には、上記のk、l、qは下記数式(19)を満足する範囲から選択される数値である。
o + p ≠ 0 Formula (12)
q = 0 ... Formula (16)
0 ≦ k + l ≦ o + p + 2 Formula (18)
Further, when o, p, and q satisfy the following equations (15) and (13), respectively, k, l, and q are numerical values selected from a range that satisfies the following equation (19). It is.

o+p=0・・・式(15)
q≠0・・・式(13)
0≦k+l≦2q+2・・・式(19)
本発明において用いられる一般式(12)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーン、一般式(13)、並びに平均組成式(14)で表されるシリコーンの製造方法には特に限定はなく、従来公知の方法により製造された化合物を利用することが可能である。
o + p = 0 Formula (15)
q ≠ 0 Formula (13)
0 ≦ k + l ≦ 2q + 2 (19)
The method for producing the silicone represented by the organohydrogen silicone represented by the general formula (12), the general formula (13), and the average composition formula (14) used in the present invention is not particularly limited, and is conventionally known. It is possible to utilize the compound produced by the method.

本発明において、平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンは、該シリコーンの一部が一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンであってもよく、平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの全部が一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンであってもよい。平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの一部が一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンである場合、平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンには、一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーン以外に、直鎖状、環状、分岐状、ラダー状、籠状等のいずれの構造の炭素−炭素2重結合を有するシリコーンが含まれていてもよい。   In the present invention, the silicone having a carbon-carbon double bond represented by the average composition formula (14) is a silicone in which a part of the silicone has a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13). The silicone having a carbon-carbon double bond represented by the average composition formula (14) may be a silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13). . When a part of the silicone having a carbon-carbon double bond represented by the average composition formula (14) is a silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13), the average composition formula (14 In addition to the silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13), the silicone having a carbon-carbon double bond represented by) is linear, cyclic, branched, ladder-like, Silicone having a carbon-carbon double bond of any structure such as a cage may be included.

本発明において用いることができる一般式(12)の化合物としては、式中、tが各々独立に0以上の整数、uが各々独立に3以上の整数であって、Rが前記に記載の有機基であれば特に限定はなく、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。 As the compound of the general formula (12) that can be used in the present invention, t is independently an integer of 0 or more, u is independently an integer of 3 or more, and R 1 is as described above. If it is an organic group, there will be no limitation in particular, It can be used as a 1 type, or 2 or more types of mixture.

本発明のエポキシ変性シリコーンの耐光性が良好となる傾向にあるため、一般式(12)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンとしては、Rが、無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下の1価の脂肪族有機基である化合物が好ましく用いられ、この様な化合物としては、例えば、1,3,5−トリメチルシクロトリシロキサン、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタメチルシクロペンタシロキサン、1,3,5,7,9,11−ヘキサメチルシクロヘキサシロキサン、1,3,5,7,9,11,13−ヘプタメチルシクロヘプタシロキサン、1,3,5,7,9,11,13,15−オクタメチルシクロオクタシロキサン、1,3,5,7,9,11,13,15,17−ノナメチルシクロノナシロキサン、1,3,5,7,9,11,13,15,17,19−デカメチルシクロデカシロキサン、1,3,5,7,9,11,13,15,17,19,21−ドデカメチルシクロデカシロキサン、1,1,3,5−テトラメチルシクロトリシロキサン、1,1,3,5,5,7−ヘキサメチルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7−テトラエチルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタエチルシクロペンタシロキサン、1,3,5,7,9,11−ヘキサエチルシクロヘキサシロキサン、1,3,5,7,9,11,13−ヘプタエチルシクロヘプタシロキサン等が例示できる。 Since the light resistance of the epoxy-modified silicone of the present invention tends to be good, the organohydrogensilicone represented by the general formula (12) is a linear or branched chain in which R 1 is unsubstituted or substituted. And a compound having a monovalent aliphatic organic group having 1 to 24 carbon atoms and having an aliphatic hydrocarbon unit consisting of one or more structures selected from the group consisting of cyclic structures, such as Examples of the compound include 1,3,5-trimethylcyclotrisiloxane, 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7,9-pentamethylcyclopentasiloxane, 1,3 , 5,7,9,11-hexamethylcyclohexasiloxane, 1,3,5,7,9,11,13-heptamethylcycloheptasiloxane, 1,3,5,7,9, 11,13,15-octamethylcyclooctasiloxane, 1,3,5,7,9,11,13,15,17-nonamethylcyclononasiloxane, 1,3,5,7,9,11,13, 15,17,19-decamethylcyclodecasiloxane, 1,3,5,7,9,11,13,15,17,19,21-dodecamethylcyclodecasiloxane, 1,1,3,5-tetramethyl Cyclotrisiloxane, 1,1,3,5,5,7-hexamethylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7-tetraethylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7,9-pentaethylcyclopentasiloxane 1,3,5,7,9,11-hexaethylcyclohexasiloxane, 1,3,5,7,9,11,13-heptaethylcycloheptasiloxane and the like.

上記の内、本発明のエポキシ変性シリコーンの粘度が低減されて取り扱い性が高まる、或いは、本発明のエポキシ変性シリコーン用いて得られた硬化物の耐熱変色性や耐クラック性が向上する傾向にあるため、一般式(12)における(t+u)の値が10以下である化合物を用いることが好ましく、tが1以下、且つ、uが3以上7以下である化合物を用いることがより好ましく、tが0、且つ、uが3以上7以下である化合物を用いることが更に好ましく、tが0、且つ、uが3以上5以下である化合物を用いることが更により好ましく、tが0、uが3以上5以下であり、且つ、Rがメチル基ある化合物を用いることが特に好ましく、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンを用いることが最も好ましい。 Among the above, the viscosity of the epoxy-modified silicone of the present invention is reduced to increase the handleability, or the heat discoloration and crack resistance of the cured product obtained using the epoxy-modified silicone of the present invention tend to be improved. Therefore, it is preferable to use a compound having a value of (t + u) of 10 or less in general formula (12), more preferably a compound having t of 1 or less and u of 3 or more and 7 or less. It is more preferable to use a compound having 0 and u is 3 or more and 7 or less, even more preferable to use a compound having t is 0 and u is 3 or more and 5 or less, and t is 0 and u is 3 It is particularly preferable to use a compound having 5 or less and R 1 is a methyl group, and most preferably 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane.

本発明における一般式(13)の化合物は、Rが前記と同様であり、Rが炭素−炭素2重結合を含む炭素数が2以上6以下の無置換又は置換された、鎖状及び分岐状よりなる群から選ばれる1種以上の構造からなる1価の脂肪族有機基を有する化合物である。Rの有機基としては、例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上が混在した有機基であってよい。 In the compound of the general formula (13) in the present invention, R 1 is the same as described above, and R 6 is an unsubstituted or substituted chain having 2 to 6 carbon atoms including a carbon-carbon double bond, It is a compound having a monovalent aliphatic organic group having at least one structure selected from the group consisting of branched groups. Examples of the organic group for R 6 include a vinyl group, an allyl group, an isopropenyl group, a butenyl group, an isobutenyl group, a pentenyl group, and a hexenyl group. These may be organic groups in which one kind or two or more kinds are mixed.

上記のRには、前記の炭素数及び酸素数、必要に応じて、珪素数の範囲内であれば、有機基としてヒドロキシル単位、アルコキシ単位、アシル単位、カルボキシル単位、アルケニルオキシ単位、アシルオキシ単位、フッ素や塩素等のハロゲン原子、或いは、エステル結合、更には、酸素原子や珪素原子を除く窒素、リン、硫黄等のヘテロ原子を含んでいてもよい。 In the above R 1 , the number of carbon and oxygen, and, if necessary, within the range of the number of silicon, the hydroxyl group, alkoxy unit, acyl unit, carboxyl unit, alkenyloxy unit, acyloxy unit as an organic group In addition, halogen atoms such as fluorine and chlorine, ester bonds, and hetero atoms such as nitrogen, phosphorus and sulfur other than oxygen atoms and silicon atoms may be contained.

一般式(13)の化合物としては、反応性が高く、再現性よくヒドロシリル化反応が行える傾向にあるため、Rとして、ビニル基を有する化合物が好ましい。 As the compound of the general formula (13), a compound having a vinyl group is preferable as R 6 because it has a high reactivity and tends to perform a hydrosilylation reaction with high reproducibility.

一方、一般式(13)の化合物としては、本発明のエポキシ変性シリコーンの耐光性、耐熱変色が良好となる、或いは、保存時の安定性が高まる傾向にあるため、一般式(13)の化合物中の全Si単位の合計モル数に対する、ヒドロキシル単位、アルコキシ単位、アシル単位、カルボキシル単位、アルケニルオキシ単位、アシルオキシ単位、フッ素や塩素等のハロゲン原子、或いは、エステル結合、更には、酸素原子や珪素原子を除く窒素、リン、硫黄等のヘテロ原子を含む有機基が結合した珪素原子の合計モル数が、10%以下であることが好ましく、1%以下であることがより好ましく、全く含まないことが更に好ましい。   On the other hand, as the compound of the general formula (13), the epoxy-modified silicone of the present invention has good light resistance and heat discoloration, or the stability during storage tends to increase. Hydroxyl unit, alkoxy unit, acyl unit, carboxyl unit, alkenyloxy unit, acyloxy unit, halogen atom such as fluorine or chlorine, ester bond, oxygen atom or silicon The total number of moles of silicon atoms bonded to organic groups containing heteroatoms such as nitrogen, phosphorus and sulfur excluding atoms is preferably 10% or less, more preferably 1% or less, and no inclusion Is more preferable.

更に、Rが前記の上記A)の無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の脂肪族有機基中の(A−1)及び(A−2)からなる群から選択されることが好ましく、(A−1)及び(A−2)中の炭素数が1以上8以下、酸素数0からなる群から選択される有機基であることがより好ましく、(A−1)及び(A−2)中の炭素数が1以上8以下、酸素数0からなる群から選択される無置換の鎖状の有機基であることが更に好ましい。この様な化合物としては、例えば、ジメチルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン、ジメチルビニルシロキシ末端ジメチルシロキサン−メチルエチルシロキサン共重合体、ジメチルビニルシロキシ末端ジメチルシロキサン−メチルオクチルシロキサン共重合体等が例示できる。更に、本発明における一般式(13)の化合物としては、Rがメチル基であることが特に好ましい。 Further, R 1 has an aliphatic hydrocarbon unit having one or more kinds of structures selected from the above-mentioned unsubstituted or substituted structure group consisting of a chain, a branched chain and a cyclic structure of A), It is preferably selected from the group consisting of (A-1) and (A-2) in a monovalent aliphatic organic group having 1 to 24 and an oxygen number of 0 to 5; It is more preferable that it is an organic group selected from the group consisting of 1 to 8 carbon atoms and 0 oxygen number in (A-2), and the number of carbon atoms in (A-1) and (A-2) is More preferably, it is an unsubstituted chain organic group selected from the group consisting of 1 to 8 and oxygen number 0. Examples of such compounds include dimethylvinylsiloxy-terminated polydimethylsiloxane, dimethylvinylsiloxy-terminated dimethylsiloxane-methylethylsiloxane copolymer, dimethylvinylsiloxy-terminated dimethylsiloxane-methyloctylsiloxane copolymer, and the like. Furthermore, as the compound of the general formula (13) in the present invention, it is particularly preferable R 1 is a methyl group.

本発明において、一般式(13)におけるvは0以上の整数である。本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化物の耐熱性が向上する、硬化剤との相溶性がよく透明で均一な硬化物が得られる、密着性が良好となる傾向にあるため、vの値は0以上9以下であることが好ましく、0以上6以下であることがより好ましく、0以上3以下であることが更に好ましく、0であることが特に好ましい。   In the present invention, v in the general formula (13) is an integer of 0 or more. Since the heat resistance of the cured product obtained by using the epoxy-modified silicone of the present invention is improved, the compatibility with the curing agent is good, a transparent and uniform cured product is obtained, and the adhesion tends to be good. The value of is preferably 0 or more and 9 or less, more preferably 0 or more and 6 or less, still more preferably 0 or more and 3 or less, and particularly preferably 0.

本発明における一般式(13)の化合物の好ましい例としては、v=0の場合の1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、v=1の場合の1,5−ジビニル−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサン、vの値が9以下であるジメチルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサンが挙げられ、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンが特に好ましい。   Preferred examples of the compound of the general formula (13) in the present invention include 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane when v = 0, and 1,5 when v = 1. -Divinyl-1,1,3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane, dimethylvinylsiloxy-terminated polydimethylsiloxane having a value of v of 9 or less, and 1,3-divinyl-1,1,3 , 3-tetramethyldisiloxane is particularly preferred.

本発明における一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを少なくとも含む平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの有機基R及びRは、前記と同様である。また、平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンのRには、前記の炭素数及び酸素数、必要に応じて、珪素数の範囲内であれば、有機基としてヒドロキシル単位、アルコキシ単位、アシル単位、カルボキシル単位、アルケニルオキシ単位、アシルオキシ単位、フッ素や塩素等のハロゲン原子、或いは、エステル結合、更には、酸素原子や珪素原子を除く窒素、リン、硫黄等のヘテロ原子を含んでいてもよい。 Organic groups R 1 and R of silicone having a carbon-carbon double bond represented by an average composition formula (14) including at least a silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13) in the present invention. 6 is the same as described above. In addition, R 1 of the silicone having a carbon-carbon double bond represented by the average composition formula (14) may be organic as long as it is within the range of the number of carbons and oxygen, and, if necessary, the number of silicons. As a group, hydroxyl unit, alkoxy unit, acyl unit, carboxyl unit, alkenyloxy unit, acyloxy unit, halogen atom such as fluorine or chlorine, ester bond, nitrogen, phosphorus, sulfur other than oxygen atom or silicon atom, etc. Of heteroatoms.

本発明のエポキシ変性シリコーンの耐光性が良好となる、或いは、保存時の安定性が高まる傾向にあるため、一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを少なくとも含む平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーン中の全Si単位の合計モル数に対するヒドロキシル単位、アルコキシ単位、アシル単位、カルボキシル単位、アルケニルオキシ単位、アシルオキシ単位、フッ素や塩素等のハロゲン原子、或いは、エステル結合、更には、酸素原子や珪素原子を除く窒素、リン、硫黄等のヘテロ原子を含む有機基が結合した珪素原子の合計モル数が、10%以下であることが好ましく、1%以下であることがより好ましく、全く含まないことが更に好ましい。   Since the light resistance of the epoxy-modified silicone of the present invention tends to be good or stability during storage tends to increase, an average containing at least a silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13) Hydroxyl unit, alkoxy unit, acyl unit, carboxyl unit, alkenyloxy unit, acyloxy unit, fluorine and chlorine with respect to the total number of moles of all Si units in the silicone having a carbon-carbon double bond represented by the composition formula (14) The total number of moles of silicon atoms bonded to organic atoms containing hetero atoms such as nitrogen atoms, phosphorus bonds and sulfur atoms other than halogen atoms such as halogen atoms, ester bonds, and oxygen atoms and silicon atoms is 10% or less. Is preferably 1% or less, and more preferably not contained at all.

更に、Rが上記A)の無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の脂肪族有機基中の(A−1)及び(A−2)からなる群から選択されることが好ましく、(A−1)及び(A−2)中の炭素数が1以上8以下、酸素数0なる群から選択される有機基であることがより好ましく、(A−1)及び(A−2)中の炭素数が1以上8以下、酸素数0なる群から選択される無置換の鎖状の有機基であることが更に好ましく、有機基がメチル基であるものが特に好ましい。 Further, R 1 has an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the structural group consisting of a chain, a branched chain and a ring, which is unsubstituted or substituted in the above A), and has 1 or more carbon atoms It is preferably selected from the group consisting of (A-1) and (A-2) in a monovalent aliphatic organic group having 24 or less and an oxygen number of 0 or more and 5 or less, and (A-1) and (A -2) It is more preferably an organic group selected from the group consisting of 1 to 8 carbon atoms and 0 oxygen number, and (A-1) and (A-2) have 1 to 8 carbon atoms. Hereinafter, an unsubstituted chain organic group selected from the group having 0 oxygen is more preferable, and a methyl group is particularly preferable.

本発明の一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを少なくとも含む平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンは、本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて得られた硬化物の耐熱性が向上する、硬化剤との相溶性がよく透明で均一な硬化物が得られる、密着性が良好となる傾向にあるため、数平均分子量が180以上1,000以下であることが好ましく、180以上800以下であることがより好ましく、180以上600以下であること更に好ましい。   The silicone having a carbon-carbon double bond represented by the average composition formula (14) including at least the silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13) of the present invention is the epoxy-modified of the present invention. The heat resistance of the cured product obtained using silicone is improved, the compatibility with the curing agent is good, a transparent and uniform cured product is obtained, and the adhesion tends to be good, so the number average molecular weight is 180. Preferably, it is 1,000 or less, more preferably 180 or more and 800 or less, and further preferably 180 or more and 600 or less.

また、本発明の一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを少なくとも含む平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの1モルを構成する各単位のモル数は、本発明のエポキシ変性シリコーンを製造する際のヒドロシリル化反応を安定的に、且つ、再現性よく進行させる観点から、[q/(k+l+m+o+p+q)]の値が0.040以下であることが好ましく、qが0、且つ、[(o+p)/(k+l+m+o+p+q)]の値が0.010以下であることがより好ましく、[(o+p+q)/(k+l+m+o+p+q)]の値が0であることが更に好ましい。   Moreover, 1 mol of the silicone which has a carbon-carbon double bond represented by the average composition formula (14) including at least the silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13) of the present invention is constituted. The number of moles of each unit is such that the value of [q / (k + l + m + o + p + q)] is 0.040 from the viewpoint of allowing the hydrosilylation reaction in producing the epoxy-modified silicone of the present invention to proceed stably and with good reproducibility. It is preferable that q is 0, and the value of [(o + p) / (k + l + m + o + p + q)] is more preferably 0.010 or less, and the value of [(o + p + q) / (k + l + m + o + p + q)] is 0. More preferably it is.

一方、本発明の製法により製造されたエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化物の表面のベタツキが抑制される傾向にあるため、一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを少なくとも含む平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの(k+n+p)の値が1以上であることが好ましく、1.5以上であることがより好ましく、1.8以上であることが更に好ましい。   On the other hand, since the stickiness of the surface of the cured product obtained using the epoxy-modified silicone produced by the production method of the present invention tends to be suppressed, it has a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13). The value of (k + n + p) of the silicone having a carbon-carbon double bond represented by the average composition formula (14) containing at least silicone is preferably 1 or more, more preferably 1.5 or more. More preferably, it is 8 or more.

ここで、一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを少なくとも含む平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンにおけるk〜qの算出法について説明する。   Here, a calculation method of k to q in the silicone having a carbon-carbon double bond represented by the average composition formula (14) including at least the silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13). Will be described.

一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを少なくとも含む平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンのk〜qの算出は、29Si−NMR測定、GPC測定、更に必要に応じて、H−NMR測定によって得られる結果を用いて算出されるものである。具体的には、まず、平均組成式(14)で表されるシリコーンの29Si−NMR測定と、H−NMR測定を行い、得られるスペクトルパターンから算出された積分値を元に、各構成単位の存在率を百分率で算出する。 Calculation of k to q of the silicone having a carbon-carbon double bond represented by the average composition formula (14) including at least the silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13) is 29 Si -NMR measurement, GPC measurement, and, if necessary, calculated using results obtained by 1 H-NMR measurement. Specifically, first, 29 Si-NMR measurement and 1 H-NMR measurement of silicone represented by the average composition formula (14) are performed, and each component is based on an integral value calculated from the obtained spectrum pattern. Calculate the abundance of units as a percentage.

次に、得られた各構成単位の存在率と各構成単位の理論式量とを用いて、構成単位の平均的式量を算出する。   Next, an average formula amount of the structural unit is calculated using the obtained abundance ratio of each structural unit and the theoretical formula amount of each structural unit.

更に、平均組成式(14)で表されるシリコーンのGPC測定によって得られた数平均分子量を、かかるシリコーンの1モル当りの分子量として、上記で算出した各構成単位の存在率を考慮した平均的式量で除して平均組成式(14)で表されるシリコーンを構成する各単位の全モル数を算出する。得られた平均組成式(14)で表されるシリコーンを構成する各単位の全モル数と、該各単位の存在率とから、平均組成式(14)で表されるシリコーン1モルを構成する各単位のモル数を算出することができる。   Furthermore, the number average molecular weight obtained by GPC measurement of the silicone represented by the average composition formula (14) is defined as an average considering the abundance of each structural unit calculated above as the molecular weight per mole of the silicone. Dividing by the formula amount, the total number of moles of each unit constituting the silicone represented by the average composition formula (14) is calculated. From the total number of moles of each unit constituting the silicone represented by the obtained average composition formula (14) and the abundance of each unit, one mole of silicone represented by the average composition formula (14) is constructed. The number of moles of each unit can be calculated.

本発明においては、平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンは、該シリコーンの全部が一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンであることが好ましく、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,5−ジビニル−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサン、vの値が9以下であるジメチルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサンであることがより好ましく、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンが更に好ましい。   In the present invention, the silicone having a carbon-carbon double bond represented by the average composition formula (14) is a silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13). Preferably, 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,5-divinyl-1,1,3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane, value of v Is more preferably 9 or less, more preferably 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane.

本発明において、ビニル化合物<B>の一部が炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>であってもよく、ビニル化合物<B>の全部が炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>であってもよい。   In the present invention, a part of the vinyl compound <B> may be a compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, and the entire vinyl compound <B> is a carbon-carbon double bond and an epoxy. It may be a compound <A> having a group.

本発明において用いることができる炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>としては、本発明のエポキシ変性シリコーンが製造できれば特に限定されず、エポキシ基及び炭素−炭素2重結合を必須構成単位として有し、無置換又は置換された、鎖状、分岐状、環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数が4以上24以下及び酸素数が1以上5以下からなる化合物を用いることができる。この様な化合物の具体例としては、例えば、下記一般式(15)〜一般式(20)で表される化合物が例示できる。   The compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group that can be used in the present invention is not particularly limited as long as the epoxy-modified silicone of the present invention can be produced, and an epoxy group and a carbon-carbon double bond are essential. The number of carbon atoms having an aliphatic hydrocarbon unit having at least one structure selected from the group consisting of a chain, a branched, and a cyclic structure, which is a non-substituted or substituted structural unit, is 4 to 24 and oxygen A compound having a number of 1 or more and 5 or less can be used. Specific examples of such compounds include compounds represented by the following general formula (15) to general formula (20).

Figure 2012041381
Figure 2012041381

Figure 2012041381
Figure 2012041381

Figure 2012041381
Figure 2012041381

Figure 2012041381
Figure 2012041381

Figure 2012041381
Figure 2012041381

Figure 2012041381
Figure 2012041381

上記の一般式(15)〜一般式(20)中のRとしては、例えば、CH=CH−O−、CH=CH−CH−O−、CH=CH−CH−CH−O−、CH=C(CH)−O−、CH=C(CH)−CH−O−、CH=CH−CH(CH)−O−、CH=C(CH)−COO−、CH=CH−COO−等のエーテル結合、又はエステル結合を含む構造単位、CH=CH−、CH=CH−CH−、CH=C(CH)−、CH=CH−(CH2−、CH=CH−(CH−、CH=CH−(CH−、CH=CH−(CH−、CH=CH−(CH−、CH=CH−(CH−、CH=CH−(CH−、CH=CH−(CH−、CH=CH−(CH10−、CH=CH−(CH11−、CH=CH−(CH12−、CH=CH−(CH13−、CH=CH−(CH14−等の鎖状及び/又は分岐状からなる脂肪族炭化水素単位が例示できる。これらは1種又は2種以上が混在した有機基であってよい。更に、光学異性体が存在する場合には、単独、或いは、2種以上の光学異性体が混在した有機基であってもよい。 Examples of R 7 in the general formula (15) to the general formula (20) include CH 2 ═CH—O—, CH 2 ═CH—CH 2 —O—, and CH 2 ═CH—CH 2 —CH. 2 -O-, CH 2 = C ( CH 3) -O-, CH 2 = C (CH 3) -CH 2 -O-, CH 2 = CH 2 -CH (CH 3) -O-, CH 2 = Structural units containing an ether bond or ester bond such as C (CH 3 ) —COO—, CH 2 ═CH—COO—, CH 2 ═CH—, CH 2 ═CH—CH 2 —, CH 2 ═C (CH 3) -, CH 2 = CH- (CH 2) 2 -, CH 2 = CH- (CH 2) 3 -, CH 2 = CH- (CH 2) 4 -, CH 2 = CH- (CH 2) 5 -, CH 2 = CH- (CH 2) 6 -, CH 2 = CH- (CH 2) 7 -, CH 2 = CH- ( H 2) 8 -, CH 2 = CH- (CH 2) 9 -, CH 2 = CH- (CH 2) 10 -, CH 2 = CH- (CH 2) 11 -, CH 2 = CH- (CH 2 ) 12 -, CH 2 = CH- (CH 2) 13 -, CH 2 = CH- (CH 2) 14 - linear and / or aliphatic hydrocarbon unit consisting of branched like. These may be organic groups in which one kind or two or more kinds are mixed. Furthermore, when an optical isomer exists, it may be an organic group mixed alone or in combination of two or more optical isomers.

得られるエポキシ変性シリコーンを硬化させる際の硬化速度が高まる、或いは、エポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化物の耐光性、耐熱変色性が高まる傾向にあるため、化合物<A>としては、Rが炭素−炭素2重結合を必須構成単位として有し、無置換又は置換された、鎖状、分岐状なる群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位から構成される一般式(16)〜(20)が好ましく、Rがビニル基である一般式(16)〜(20)がより好ましく、Rがビニル基である一般式(17)〜(20)が更に好ましく、Rがビニル基である一般式(18)の化合物、すなわち、4−ビニルシクロヘキセンオキサイドが特に好ましい。 As the compound <A> has a tendency to increase the curing speed when curing the resulting epoxy-modified silicone, or the light resistance and heat discoloration of the cured product obtained using the epoxy-modified silicone tend to increase, R 7 Has a carbon-carbon double bond as an essential constituent unit, and is a general formula composed of one or more aliphatic hydrocarbon units selected from the group consisting of a chain and a branch, which are unsubstituted or substituted (16) - (20) are preferred, the general formula R 7 is a vinyl group (16) to (20) are more preferable, the general formula R 7 is a vinyl group (17) to more preferably (20), A compound of the general formula (18) in which R 7 is a vinyl group, that is, 4-vinylcyclohexene oxide is particularly preferable.

炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>以外のビニル化合物<B>として用いられる化合物としては、例えば、(ア)エポキシ基を含有せず、炭素−炭素2重結合を必須構成単位として有する、無置換又は置換された、鎖状、分岐状、環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数が3以上24以下及び酸素数が0以上5以下の化合物、(イ)炭素−炭素2重結合を必須構成単位として有し、無置換又は置換された芳香族炭化水素単位と、必要に応じて無置換又は置換された、鎖状、分岐状、環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が8以上24以下及び酸素数が0以上5以下の化合物、(ウ)下記一般式(21)で表される分子内に1個以上の炭素−炭素2重結合を含有するシラン等が挙げられる。   As a compound used as a vinyl compound <B> other than the compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, for example, (a) an epoxy group is not contained and a carbon-carbon double bond is an essential component. The unit has an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of unsubstituted, substituted, and chain-like, branched, and cyclic structures, having 3 to 24 carbon atoms and an oxygen number of 0 or more and 5 or less compounds, (I) a carbon-carbon double bond as an essential constituent unit, an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, and an optionally substituted or substituted chain A compound having an aliphatic hydrocarbon unit consisting of one or more structures selected from a structural group consisting of branched, cyclic, and having 8 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms, (c) Expressed by equation (21) 1 or more carbon atoms in the molecule that - include silane containing a carbon double bond.

CH=CH−SiR ・・・(21)
[ここで、Rは各々独立に、上記と同様である。]
上記の(ア)〜(ウ)の化合物は、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。また、これらの化合物には、前記の炭素数及び酸素数の範囲内であれば、ヒドロキシル単位、アルコキシ単位、アシル単位、カルボキシル単位、アルケニルオキシ単位、アシルオキシ単位、フッ素や塩素等のハロゲン原子、或いは、エステル結合、更には、酸素原子や珪素原子を除く窒素、リン、硫黄等のヘテロ原子を含んでいてもよい。
CH 2 = CH-SiR 5 3 ··· (21)
[Wherein R 5 is independently the same as described above. ]
The above compounds (a) to (c) can be used as one kind or a mixture of two or more kinds. In addition, these compounds have a hydroxyl unit, an alkoxy unit, an acyl unit, a carboxyl unit, an alkenyloxy unit, an acyloxy unit, a halogen atom such as fluorine or chlorine, or the like, as long as the carbon number and the oxygen number are within the ranges described above. Further, it may contain an ester bond and a heteroatom such as nitrogen, phosphorus or sulfur excluding an oxygen atom or a silicon atom.

上記の(ア)エポキシ基を含有せず、炭素−炭素2重結合を必須構成単位として有する、無置換又は置換された、鎖状、分岐状、環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数が3以上24以下及び酸素数が0以上5以下の化合物の具体例としては、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、1−ウンデセン、1−ドデセン、1−トリデセン、1−テトラデセン、1−ペンタデセン、1−ヘキサデセン、1−ヘプタデセン、1−オクタデセン、シクロペンテン、メチルシルロペンテン、シクロヘキセン、メチルシクロヘキセン、ノルボルネン、ビニルシクロヘキサン、ビニルデカヒドロナフタレン等の炭素−炭素2重結合と炭化水素からなる化合物、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルプロピルエーテル、アリルメチルエーテル、アリルエチルエーテル、アリルプロピルエーテル等の炭素−炭素2重結合とエーテル結合を有する化合物等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の混合物として使用することが可能である。   (A) one or more selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched, and cyclic structure that does not contain an epoxy group and has a carbon-carbon double bond as an essential constituent unit Specific examples of the compound having an aliphatic hydrocarbon unit having a structure of 3 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms include propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene and 1-heptene. 1-octene, 1-nonene, 1-decene, 1-undecene, 1-dodecene, 1-tridecene, 1-tetradecene, 1-pentadecene, 1-hexadecene, 1-heptadecene, 1-octadecene, cyclopentene, methylsiluro Carbon-carbon double bonds such as pentene, cyclohexene, methylcyclohexene, norbornene, vinylcyclohexane, vinyldecahydronaphthalene Compound consisting of a hydrocarbon, vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, vinyl propyl ether, allyl methyl ether, allyl ethyl ether, carbon atoms such as allyl propyl ether - a compound having a carbon double bond and an ether bond, and the like. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

(イ)炭素−炭素2重結合を必須構成単位として有し、無置換又は置換された芳香族炭化水素単位と、必要に応じて無置換又は置換された、鎖状、分岐状、環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が8以上24以下及び酸素数が0以上5以下とからなる化合物の具体例としては、例えば、スチレン、3−メチルスチレン、4−メチルスチレン、α―メチルスチレン等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の混合物として使用することが可能である。   (A) It has a carbon-carbon double bond as an essential constituent unit, and is composed of an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, and an unsubstituted or substituted chain, branched or cyclic as necessary. Specific examples of the compound having an aliphatic hydrocarbon unit having one or more structures selected from the structural group and having 8 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms include, for example, styrene, 3 -Methylstyrene, 4-methylstyrene, α-methylstyrene and the like. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

(ウ)分子内に1個以上の炭素−炭素2重結合を含有するシランの具体例としては、例えば、ビニルトリメチルシラン、ビニルエチルジメチルシラン、ビニルジエチルメチルシラン、ビニルトリエチルシラン等の炭素−炭素2重結合を有するビニルアルキルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルジメチルメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルジメチルエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリ−t−ブトキシシラン、等の炭素−炭素2重結合を有する脂肪族ビニルアルコキシシラン、ビニルフェニルメチルメトキシシラン、ビニルフェニルジエトキシシラン、ビニルジフェニルエトキシシラン等の炭素−炭素2重結合を有する芳香族ビニルアルコキシシラン、ビニルフェニルジメチルシラン、ビニルフェニルジエチルシラン等の炭素−炭素2重結合を有するビニルアリールシラン、ビニルベンジルジメチルシラン、ビニルベンジルジエチルシラン等の炭素−炭素2重結合を有するビニルアラルキルシラン等が挙げられる。これらの分子内に炭素−炭素2重結合を含有するシランは1種又は2種以上の混合物として使用することが可能である。   (C) Specific examples of silanes containing one or more carbon-carbon double bonds in the molecule include carbon-carbons such as vinyltrimethylsilane, vinylethyldimethylsilane, vinyldiethylmethylsilane, and vinyltriethylsilane. Vinyl alkylsilane having a double bond, vinyltrimethoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane, vinyldimethylmethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinylmethyldiethoxysilane, vinyldimethylethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltri-t- Aromatics having carbon-carbon double bonds such as butoxysilane, aliphatic vinylalkoxysilanes having carbon-carbon double bonds, vinylphenylmethylmethoxysilane, vinylphenyldiethoxysilane, vinyldiphenylethoxysilane, etc. Vinyl arylsilanes having a carbon-carbon double bond such as vinylalkoxysilane, vinylphenyldimethylsilane, vinylphenyldiethylsilane, vinylaralkylsilanes having a carbon-carbon double bond such as vinylbenzyldimethylsilane, vinylbenzyldiethylsilane, etc. Is mentioned. Silanes containing a carbon-carbon double bond in these molecules can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

これらの内、ヒドロシリル化反応後に得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化物の耐光性が高まる傾向にあるため、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>以外のビニル化合物<B>としては、ヒドロキシル単位、アルコキシ単位、アシル単位、カルボキシル単位、アルケニルオキシ単位、アシルオキシ単位、フッ素や塩素等のハロゲン原子、或いは、エステル結合、更には、酸素原子や珪素原子を除く窒素、リン、硫黄等のヘテロ原子を含む有機基を全く含まないことが好ましい。更に、上記ア)エポキシ基を含有せず、炭素−炭素2重結合を必須構成単位として有する、無置換又は置換された、鎖状、分岐状、環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数が3以上24以下及び酸素数が0以上5以下の化合物、及び、上記ウ)炭素−炭素2重結合を有するビニルアルキルシランからなる群から選択されることがより好ましい。   Among these, since there exists a tendency for the light resistance of the hardened | cured material obtained using the epoxy-modified silicone obtained after hydrosilylation reaction to increase, vinyl compounds other than the compound <A> which has a carbon-carbon double bond and an epoxy group < B> is a hydroxyl unit, an alkoxy unit, an acyl unit, a carboxyl unit, an alkenyloxy unit, an acyloxy unit, a halogen atom such as fluorine or chlorine, an ester bond, or nitrogen or phosphorus other than an oxygen atom or a silicon atom. It is preferable that no organic group containing a hetero atom such as sulfur is contained. Furthermore, a) one or more kinds selected from the structural group consisting of an unsubstituted or substituted, chain, branched, and cyclic structure that does not contain an epoxy group and has a carbon-carbon double bond as an essential constituent unit. Selected from the group consisting of a compound having an aliphatic hydrocarbon unit having a structure of 3 to 24 carbon atoms and an oxygen number of 0 to 5 and the above-mentioned c) vinylalkylsilane having a carbon-carbon double bond. More preferably.

好ましい(ア)の化合物の具体例としては、ビニル化合物の取り扱い性が高まる、或いは、余剰の化合物の留去が容易となる傾向にあるため、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、1−ウンデセン、1−ドデセン、1−トリデセン、1−テトラデセン、1−ペンタデセン、1−ヘキサデセン、1−ヘプタデセン、1−オクタデセン、シクロペンテン、シクロヘキセン、メチルシクロヘキセン、ノルボルネン、ビニルシクロヘキサンが挙げられる。一方、好ましいウ)の化合物の具体例としては、余剰の化合物の留去が容易となる傾向にあるため、ビニルトリメチルシラン、ビニルエチルジメチルシラン、ビニルジエチルメチルシラン、ビニルトリエチルシランが挙げられ、より好ましくは、ビニルトリメチルシランが挙げられる。   Specific examples of the compound (a) are preferably 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1 because it tends to increase the handleability of vinyl compounds or to facilitate the removal of excess compounds. -Nonene, 1-decene, 1-undecene, 1-dodecene, 1-tridecene, 1-tetradecene, 1-pentadecene, 1-hexadecene, 1-heptadecene, 1-octadecene, cyclopentene, cyclohexene, methylcyclohexene, norbornene, vinylcyclohexane Is mentioned. On the other hand, specific examples of the preferred compound (c) include vinyltrimethylsilane, vinylethyldimethylsilane, vinyldiethylmethylsilane, and vinyltriethylsilane, because the excess compound tends to be easily distilled off. Preferably, a vinyl trimethylsilane is mentioned.

次に、一般式(12)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンと、一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを少なくとも含む平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンと、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>を含むビニル化合物<B>とを付加させて、エポキシ変性シリコーンを製造する具体的方法の例を説明する。   Next, carbon represented by an average composition formula (14) including at least an organohydrogensilicon represented by the general formula (12) and a silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13). Example of specific method for producing epoxy-modified silicone by adding silicone having carbon double bond and vinyl compound <B> including compound <A> having carbon-carbon double bond and epoxy group explain.

本発明のエポキシ変性シリコーンは、前記の一般式(12)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位に対し、前記の一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを少なくとも含む前記の平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンと、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>を含むビニル化合物<B>と、を以下の[製造法1]又は[製造法2]の方法で付加させることによって製造することができる。   The epoxy-modified silicone of the present invention is a silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13) with respect to the SiH unit of the organohydrogen silicone represented by the general formula (12). A silicone having a carbon-carbon double bond represented by the above average composition formula (14) and a vinyl compound <B> including a compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group; It can manufacture by adding by the method of the following [manufacturing method 1] or [manufacturing method 2].

[製造法1]
ヒドロシリル化触媒の存在下、一般式(12)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位に対し、一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを少なくとも含む平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンと、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>を含むビニル化合物<B>と、の混合物を同時に付加させる1段の工程からなる方法。
[Production Method 1]
Average composition formula containing at least a silicone having a carbon-carbon double bond represented by general formula (13) with respect to the SiH unit of the organohydrogensilicon represented by general formula (12) in the presence of a hydrosilylation catalyst. One step of simultaneously adding a mixture of a silicone having a carbon-carbon double bond represented by (14) and a vinyl compound <B> containing a compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group A method comprising the steps of:

[製造法2]
ヒドロシリル化触媒の存在下、一般式(12)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位に対し、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>を含むビニル化合物<B>を付加させる第1工程と、続いて一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを少なくとも含む平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを付加させる第2工程と、の2段の工程からなる方法。
[Production Method 2]
In the presence of a hydrosilylation catalyst, a vinyl compound <B> containing a compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is added to the SiH unit of the organohydrogensilicon represented by the general formula (12). And then adding a silicone having a carbon-carbon double bond represented by the average composition formula (14) including at least a silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13) And a second step. The method comprises two steps.

本発明のエポキシ変性シリコーンは上記[製造法1]及び[製造法2]のいずれの方法によっても製造することができる。また、[製造法2]に従う場合においては、第1工程と第2工程を連続して行ってもよく、第1工程で得られた付加生成物を分離回収した後、第2工程を行ってもよい。   The epoxy-modified silicone of the present invention can be produced by any of the above [Production Method 1] and [Production Method 2]. In the case of [Production Method 2], the first step and the second step may be performed continuously, and after the additional product obtained in the first step is separated and recovered, the second step is performed. Also good.

上述したように、本発明のエポキシ変性シリコーンにおいては、一般式(1)で表される化合物の含有量[WA]に対する一般式(2)で表される化合物の含有量[WB]の比[WB]/[WA]の値が0.5以上6.00以下であることが好ましい。この[WB]/[WA]の値は、一般式(12)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位に対して付加させる一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの炭素−炭素2重結合の量、及び、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>の炭素−炭素2重結合の量を以下に述べるような範囲で制御することにより得ることができる。   As described above, in the epoxy-modified silicone of the present invention, the ratio of the content [WB] of the compound represented by the general formula (2) to the content [WA] of the compound represented by the general formula (1) [ The value of [WB] / [WA] is preferably 0.5 or more and 6.00 or less. The value of [WB] / [WA] has a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13) added to the SiH unit of the organohydrogensilicon represented by the general formula (12). It is obtained by controlling the amount of the carbon-carbon double bond of silicone and the amount of the carbon-carbon double bond of the compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group within the ranges described below. be able to.

[製造法1]においては、ヒドロシリル化触媒の存在下、一般式(12)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位のモル数(r1)に対し、一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの炭素−炭素2重結合のモル数(r2)と、一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーン以外の平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの炭素−炭素2重結合のモル数(r3)と、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>の炭素−炭素2重結合のモル数(r4)と、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>以外のビニル化合物<B>の炭素−炭素2重結合のモル数(r5)と、が下記式(A1)〜式(A5)を同時に満足する範囲となるように、各化合物を反応系に共存させて付加反応させるのが好ましい。   In [Production Method 1], in the presence of a hydrosilylation catalyst, the carbon represented by the general formula (13) with respect to the number of moles (r1) of the SiH unit of the organohydrogensilicon represented by the general formula (12). -The number of moles (r2) of the carbon-carbon double bond of the silicone having a carbon double bond and the average composition formula (14) other than the silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13) The number of moles (r3) of the carbon-carbon double bond of the silicone having a carbon-carbon double bond represented, and the carbon-carbon double bond of the compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group The number of moles (r4) and the number of moles of carbon-carbon double bonds (r5) of the vinyl compound <B> other than the compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group are represented by the following formula (A1). ~ Simultaneously satisfies formula (A5) As the circumference, preferably an addition reaction coexist Each compound to the reaction system.

0.05≦r2/r1≦0.75 ・・・式(A1)
0.15≦r4/r1 ・・・式(A2)
0≦r3 ・・・式(A3)
0≦r5 ・・・式(A4)
1≦(r2+r3+r4+r5)/r1≦5 ・・・式(A5)
[r2/r1]の値が0.05未満、又は、0.75を越える場合、或いは、[r4/r1]の値が0.15未満の場合には、[WB]/[WA]の値が0.10未満、或いは、2.00を越える場合があり、本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化物の耐クラック性、或いは、密着性が不十分となる傾向にあるため好ましくない。
0.05 ≦ r2 / r1 ≦ 0.75 Formula (A1)
0.15 ≦ r4 / r1 Formula (A2)
0 ≦ r3 Formula (A3)
0 ≦ r5 Formula (A4)
1 ≦ (r2 + r3 + r4 + r5) / r1 ≦ 5 Formula (A5)
When the value of [r2 / r1] is less than 0.05 or exceeds 0.75, or when the value of [r4 / r1] is less than 0.15, the value of [WB] / [WA] May be less than 0.10 or may exceed 2.00, which is not preferable because the cured product obtained by using the epoxy-modified silicone of the present invention tends to have insufficient crack resistance or adhesion. .

また、[(r2+r3+r4+r5)/r1]の値が1未満の場合には、一般式(12)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の一部が未反応のまま残存し、エポキシ基が開環して高分子量体を含有するエポキシ変性シリコーンが生じ、エポキシ変性シリコーンを安定的に再現性よく製造することができなくなる、エポキシ変性シリコーンが保存時において変性反応や粘度変化を起こして保存安定性が低下する、エポキシ変性シリコーンを硬化させた際、耐クラック性が低下する等の不都合が生じる恐れがあるため好ましくない。   In addition, when the value of [(r2 + r3 + r4 + r5) / r1] is less than 1, a part of the SiH unit of the organohydrogensilicon represented by the general formula (12) remains unreacted and the epoxy group is opened. An epoxy-modified silicone containing a high molecular weight is generated in the ring, making it impossible to produce the epoxy-modified silicone stably and with good reproducibility. Epoxy-modified silicone undergoes a modification reaction and a viscosity change during storage, so that the storage stability When the epoxy-modified silicone is cured, there is a possibility that inconveniences such as a decrease in crack resistance may occur.

一方、[(r2+r3+r4+r5)/r1]の値が5を越える場合には、ヒドロシリル化反応触媒が安定化されてヒドロシリル化反応速度が低下する場合があり、本発明の方法によって得られるエポキシ変性シリコーンを含む反応混合物から、エポキシ変性シリコーンを分離回収する工程の負荷が増加する傾向にあるため好ましくない。   On the other hand, when the value of [(r2 + r3 + r4 + r5) / r1] exceeds 5, the hydrosilylation reaction catalyst may be stabilized and the hydrosilylation reaction rate may be reduced. The epoxy-modified silicone obtained by the method of the present invention may be reduced. This is not preferable because the load of the process of separating and recovering the epoxy-modified silicone from the reaction mixture is increased.

また、一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーン以外の平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンと、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>以外のビニル化合物<B>は、必要に応じて用いることが可能な化合物であり、その炭素−炭素2重結合のモル数(r3)及び(r5)は、0以上の数値である。   Further, a silicone having a carbon-carbon double bond represented by an average composition formula (14) other than a silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13), a carbon-carbon double bond, and The vinyl compound <B> other than the compound <A> having an epoxy group is a compound that can be used as necessary, and the number of moles (r3) and (r5) of the carbon-carbon double bond is 0. It is the above numerical value.

安定的に再現性よく、透明性、耐光性、耐熱性、耐クラック性、密着性に優れたエポキシ変性シリコーンを製造する観点から、r1〜r5が下記式(A3)、式(A4)、並びに、式(A6)〜式(A8)を同時に満足することが好ましく、
0.10≦r2/r1≦0.70 ・・・式(A6)
0.20≦r4/r1 ・・・式(A7)
0≦r3 ・・・式(A3)
0≦r5 ・・・式(A4)
1≦(r2+r3+r4+r5)/r1≦2 ・・・式(A8)
From the viewpoint of producing an epoxy-modified silicone having excellent reproducibility, transparency, light resistance, heat resistance, crack resistance and adhesion, r1 to r5 are represented by the following formulas (A3), (A4), and It is preferable that the formulas (A6) to (A8) are simultaneously satisfied,
0.10 ≦ r2 / r1 ≦ 0.70 Formula (A6)
0.20 ≦ r4 / r1 Formula (A7)
0 ≦ r3 Formula (A3)
0 ≦ r5 Formula (A4)
1 ≦ (r2 + r3 + r4 + r5) / r1 ≦ 2 Formula (A8)

r1〜r5が下記式(A3)、式(A4)、並びに、式(A9)〜式(A11)を同時に満足することがより好ましく、
0.15≦r2/r1≦0.65 ・・・式(A9)
0.25≦r4/r1 ・・・式(A10)
0≦r3 ・・・式(A3)
0≦r5 ・・・式(A4)
1≦(r2+r3+r4+r5)/r1≦1.8 ・・・式(A11)
More preferably, r1 to r5 simultaneously satisfy the following formula (A3), formula (A4), and formula (A9) to formula (A11),
0.15 ≦ r2 / r1 ≦ 0.65 Formula (A9)
0.25 ≦ r4 / r1 Formula (A10)
0 ≦ r3 Formula (A3)
0 ≦ r5 Formula (A4)
1 ≦ (r2 + r3 + r4 + r5) /r1≦1.8 Formula (A11)

r1〜r5が下記式(A9)、式(A10)、並びに、下記式(A12)〜式(A14)を同時に満足することが更に好ましい。
0.15≦r2/r1≦0.65 ・・・式(A9)
0.25≦r4/r1 ・・・式(A10)
r3=0 ・・・式(A12)
r5=0 ・・・式(A13)
1≦(r2+r4)/r1≦1.5 ・・・式(A14)
More preferably, r1 to r5 simultaneously satisfy the following formula (A9), formula (A10), and the following formula (A12) to formula (A14).
0.15 ≦ r2 / r1 ≦ 0.65 Formula (A9)
0.25 ≦ r4 / r1 Formula (A10)
r3 = 0 Formula (A12)
r5 = 0 Formula (A13)
1 ≦ (r2 + r4) /r1≦1.5 Formula (A14)

[製造法2]においては、ヒドロシリル化触媒の存在下、第1工程において、一般式(12)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位のモル数(s1)に対して、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>の炭素−炭素2重結合のモル数(s2)と、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>以外のビニル化合物<B>の炭素−炭素2重結合のモル数(s3)と、が下記式(B1)〜式(B3)を同時に満足する範囲で各化合物を反応系に共存させて付加させ、続いて第2工程において、前記(s1)〜(s3)及び一般式(5)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの炭素−炭素2重結合のモル数(s4)と、一般式(5)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーン以外の平均組成式(6)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの炭素−炭素2重結合のモル数(s5)と、が下記式(B4)〜式(B6)を同時に満足する範囲で各化合物を反応系に共存させて付加させるのが好ましい。   In [Production Method 2], in the first step in the presence of a hydrosilylation catalyst, carbon-carbon 2 is used relative to the number of moles of SiH units (s1) of the organohydrogensilicone represented by the general formula (12). The number of moles of carbon-carbon double bond (s2) of compound <A> having a heavy bond and an epoxy group, and the carbon of vinyl compound <B> other than compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group -The number of moles of carbon double bonds (s3) and the compounds satisfy the following formulas (B1) to (B3) at the same time, the compounds are added together in the reaction system, and then in the second step, The number of moles (s4) of the carbon-carbon double bond of the silicone having a carbon-carbon double bond represented by (s1) to (s3) and the general formula (5), and the general formula (5) Silicone having carbon-carbon double bond The number of moles (s5) of the carbon-carbon double bond of the silicone having a carbon-carbon double bond represented by the other average composition formula (6) satisfies the following formulas (B4) to (B6) at the same time. It is preferable to add each compound in the reaction system in such a range.

0≦s3 ・・・式(B1)
0.25≦s2/s1≦0.95 ・・・式(B2)
0.25≦(s2+s3)/s1≦0.95 ・・・式(B3)
0≦s5 ・・・式(B4)
0.05≦s4/s1 ・・・式(B5)
1.0≦(s4+s5)/[s1−(s2+s3)]≦3.0 ・・・式(B6)
[s2/s1]の値が0.25未満、又は、0.95を越える場合、或いは、[(s2+s3)/s1]の値が0.25未満、又は、0.95を越える場合、或いは、[s4/s1]の値が0.05未満の場合には、[WB]/[WA]の値が0.10未満、或いは、2.00を越える場合があり、本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化物の耐クラック性、或いは、密着性が不十分となる傾向にあるため好ましくない。
0 ≦ s3 Formula (B1)
0.25 ≦ s2 / s1 ≦ 0.95 (formula (B2))
0.25 ≦ (s2 + s3) /s1≦0.95 Expression (B3)
0 ≦ s5 Formula (B4)
0.05 ≦ s4 / s1 Formula (B5)
1.0 ≦ (s4 + s5) / [s1− (s2 + s3)] ≦ 3.0 Formula (B6)
When the value of [s2 / s1] is less than 0.25 or exceeds 0.95, or when the value of [(s2 + s3) / s1] is less than 0.25 or exceeds 0.95, or When the value of [s4 / s1] is less than 0.05, the value of [WB] / [WA] may be less than 0.10 or may exceed 2.00. It is not preferable because the cured product obtained by use tends to have insufficient crack resistance or adhesion.

また、{(s4+s5)/[s1−(s2+s3)]}の値が、1.0未満の場合には、一般式(4)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の一部が未反応のまま残存し、エポキシ基が開環して高分子量体を含有するエポキシ変性シリコーンが生じ、エポキシ変性シリコーンを安定的に再現性よく製造することができなくなる、エポキシ変性シリコーンが保存時において変性反応や粘度変化を起こして保存安定性が低下する、エポキシ変性シリコーンを硬化させた際、耐クラック性が低下する等の不都合が生じるおそれがあり好ましくない。一方、{(s4+s5)/[s1−(s2+s3)]}の値が3を越える場合には、ヒドロシリル化反応触媒が安定化されてヒドロシリル化反応速度が低下する場合があり、本発明の方法によって得られるエポキシ変性シリコーンを含む反応混合物から、エポキシ変性シリコーンを分離回収する工程の負荷が増加する傾向にあるため好ましくない。   When the value of {(s4 + s5) / [s1- (s2 + s3)]} is less than 1.0, a part of the SiH unit of the organohydrogensilicon represented by the general formula (4) is unreacted. As a result, an epoxy-modified silicone containing a high molecular weight product is generated by ring opening of an epoxy group, and it becomes impossible to stably produce the epoxy-modified silicone with good reproducibility. In addition, there is a possibility that inconveniences such as a decrease in storage stability due to a change in viscosity and a decrease in crack resistance when epoxy-modified silicone is cured are not preferable. On the other hand, when the value of {(s4 + s5) / [s1- (s2 + s3)]} exceeds 3, the hydrosilylation reaction catalyst may be stabilized and the hydrosilylation reaction rate may be reduced. Since the load of the process of separating and recovering the epoxy-modified silicone from the reaction mixture containing the resulting epoxy-modified silicone tends to increase, it is not preferable.

ここで、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>以外のビニル化合物<B>と、一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーン以外の平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンは、必要に応じて用いることが可能な化合物であり、その炭素−炭素2重結合のモル数(s3)及び(s5)は0以上の数値である。   Here, an average composition formula other than a vinyl compound <B> other than the compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, and a silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13) The silicone having a carbon-carbon double bond represented by (14) is a compound that can be used as necessary, and the number of moles (s3) and (s5) of the carbon-carbon double bond is 0. It is the above numerical value.

安定的に再現性よく、透明性、耐光性、耐熱性、耐クラック性、密着性に優れたエポキシ変性シリコーンを製造する観点から、s1〜s5が下記式(B1)、式(B4)並びに、式(B7)〜式(B10)を同時に満足することが好ましく、
0≦s3 ・・・式(B1)
0.30≦s2/s1≦0.90 ・・・式(B7)
0.30≦(s2+s3)/s1≦0.90 ・・・式(B8)
0≦s5 ・・・式(B4)
0.10≦s4/s1 ・・・式(B9)
1.0≦(s4+s5)/[s1−(s2+s3)]≦2.0 ・・・式(B10)
s1〜s5が下記式(B1)、式(B4)並びに、式(B11)〜式(B14)を同時に満足することがより好ましく、
0≦s3 ・・・式(B1)
0.35≦s2/s1≦0.85 ・・・式(B11)
0.35≦(s2+s3)/s1≦0.85 ・・・式(B12)
0≦s5 ・・・式(B4)
0.15≦s4/s1 ・・・式(B13)
1.0≦(s4+s5)/[s1−(s2+s3)]≦1.8 ・・・式(B14)
s1〜s5が下記式(B11)、並びに、式(B15)〜式(B18)を同時に満足することが更に好ましい。
From the viewpoint of producing an epoxy-modified silicone having excellent reproducibility, transparency, light resistance, heat resistance, crack resistance, and adhesion, s1 to s5 are represented by the following formulas (B1), (B4), and It is preferable that the formulas (B7) to (B10) are satisfied at the same time,
0 ≦ s3 Formula (B1)
0.30 ≦ s2 / s1 ≦ 0.90 (formula (B7))
0.30 ≦ (s2 + s3) /s1≦0.90 Formula (B8)
0 ≦ s5 Formula (B4)
0.10 ≦ s4 / s1 Formula (B9)
1.0 ≦ (s4 + s5) / [s1− (s2 + s3)] ≦ 2.0 Formula (B10)
It is more preferable that s1 to s5 satisfy the following formula (B1), formula (B4), and formula (B11) to formula (B14) at the same time,
0 ≦ s3 Formula (B1)
0.35 ≦ s2 / s1 ≦ 0.85 Formula (B11)
0.35 ≦ (s2 + s3) /s1≦0.85 Formula (B12)
0 ≦ s5 Formula (B4)
0.15 ≦ s4 / s1 Formula (B13)
1.0 ≦ (s4 + s5) / [s1− (s2 + s3)] ≦ 1.8 Formula (B14)
More preferably, s1 to s5 satisfy the following formula (B11) and formulas (B15) to (B18) at the same time.

s3=0 ・・・式(B15)
0.35≦s2/s1≦0.85 ・・・式(B11)
s5=0 ・・・式(B16)
0.15≦s4/s1≦0.97 ・・・式(B17)
1.0≦s4/(s1−s2)≦1.5 ・・・式(B18)
ヒドロシリル化触媒が存在しない場合には、一般式(4)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位と、炭素−炭素2重結合を有する化合物とのヒドロシリル化反応が進行しないため、本発明の製造方法においてはヒドロシリル化触媒を用いる。
s3 = 0 Formula (B15)
0.35 ≦ s2 / s1 ≦ 0.85 Formula (B11)
s5 = 0 Formula (B16)
0.15 ≦ s4 / s1 ≦ 0.97 (formula (B17))
1.0 ≦ s4 / (s1-s2) ≦ 1.5 Formula (B18)
In the absence of a hydrosilylation catalyst, the hydrosilylation reaction between the SiH unit of the organohydrogensilicon represented by the general formula (4) and the compound having a carbon-carbon double bond does not proceed. In the production method, a hydrosilylation catalyst is used.

本発明において用いることができるヒドロシリル化触媒としては、従来公知のものが使用可能である。この様なヒドロシリル化触媒としては、例えば、周期表第8属の金属の単体、該金属固体をアルミナ、シリカ、カーボンブラック等の担体に担持させたもの、該金属の塩、或いは、該金属の錯体等が例示される。これらの内、ヒドロシリル化反応の活性が高く、副反応を生じにくい周期表第8族の金属である、白金、ロジウム、ルテニウムが好ましく、特に白金が好ましい。白金を用いたヒドロシリル化反応触媒としては、例えば、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトンとの錯体、白金−ビニルシリコーン錯体、白金−ホスフィン錯体、白金−ホスファイト錯体、ジカルボニルジクロロ白金、ジシクロペンタジエニルジクロロ白金等が挙げられる。   As the hydrosilylation catalyst that can be used in the present invention, a conventionally known catalyst can be used. Examples of such a hydrosilylation catalyst include a simple substance of Group 8 metal, a metal solid supported on a support such as alumina, silica, and carbon black, a salt of the metal, Examples include complexes. Of these, platinum, rhodium, and ruthenium, which are metals of Group 8 of the periodic table, which have high hydrosilylation reaction activity and are unlikely to cause side reactions, are preferred, and platinum is particularly preferred. Examples of the hydrosilylation reaction catalyst using platinum include chloroplatinic acid, complexes of chloroplatinic acid and alcohol, aldehyde, ketone, platinum-vinyl silicone complex, platinum-phosphine complex, platinum-phosphite complex, dicarbonyldichloro. Platinum, dicyclopentadienyl dichloro platinum, etc. are mentioned.

ヒドロシリル化反応を行う際に用いられる触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応中のエポキシ基の開環を抑制してエポキシ変性シリコーンを再現性よく製造する観点から、ヒドロシリル化反応前のオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/1,200倍以下とすることが好ましく、1/6,000倍以下とすることがより好ましく、1/25,000倍以下とすることが更に好ましい。一方、ヒドロシリル化反応を再現性ある速度で行う観点から、ヒドロシリル化反応を行う際に用いられる触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前のオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/5,000,000倍以上とすることが好ましく、1/1,000,000倍以上とすることがより好ましく、1/800,000倍以上とすることが更に好ましい。   The number of moles in terms of metal atom of the catalyst used in the hydrosilylation reaction is the same as that before the hydrosilylation reaction from the viewpoint of producing an epoxy-modified silicone with good reproducibility by suppressing the ring opening of the epoxy group during the hydrosilylation reaction. The total number of SiH units of the organohydrogensilicone is preferably 1 / 1,200 times or less, more preferably 1 / 6,000 times or less, and 1 / 25,000 times or less. More preferably. On the other hand, from the viewpoint of performing the hydrosilylation reaction at a reproducible rate, the number of moles in terms of metal atom of the catalyst used when the hydrosilylation reaction is performed is the total number of SiH units of the organohydrogensilicone before the hydrosilylation reaction. On the other hand, it is preferably 1 / 5,000,000 times or more, more preferably 1 / 1,000,000 times or more, and further preferably 1 / 800,000 times or more.

一般式(12)で表されるオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位に対して、一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを少なくとも含む平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンと、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>を含むビニル化合物<B>とを付加する際に用いられるヒドロシリル化触媒の量は、上記の範囲内であれば一定である必要は無く、反応初期や反応途中において変化させてもよい。   It is represented by an average composition formula (14) including at least a silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13) with respect to the SiH unit of the organohydrogen silicone represented by the general formula (12). The amount of the hydrosilylation catalyst used when adding the silicone having a carbon-carbon double bond and the vinyl compound <B> containing the compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is as described above. If it is in the range, it is not necessary to be constant, and it may be changed at the initial stage of the reaction or during the reaction.

本発明において、ヒドロシリル化反応を行う際の反応温度は、用いるオルガノハイドロジェンシリコーン、一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを少なくとも含む平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの種類や分子量、或いは、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>を含むビニル化合物<B>の種類、更には、回分式、半回分式、或いは連続式等の反応様式によっても異なるが、反応速度を高め、効率的に反応を完結させる観点において0℃以上250℃以下の範囲が好ましく、10℃以上200℃以下の範囲がより好ましく、20℃以上150℃以下の範囲が更に好ましく、30℃以上120℃以下の範囲が特に好ましい。反応温度は、上記の範囲内であれば一定である必要は無く、反応初期や反応途中において変化させてもよい。   In the present invention, the reaction temperature for the hydrosilylation reaction is represented by an average composition formula (14) including at least the organohydrogensilicone used and the silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13). Type and molecular weight of silicone having carbon-carbon double bond, or type of vinyl compound <B> including compound <A> having carbon-carbon double bond and epoxy group, further batch type, semi Although it varies depending on the reaction mode such as batch type or continuous type, the range of 0 ° C. or higher and 250 ° C. or lower is preferable and the range of 10 ° C. or higher and 200 ° C. or lower is more preferable in terms of increasing the reaction rate and completing the reaction efficiently. The range of 20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower is more preferable, and the range of 30 ° C. or higher and 120 ° C. or lower is particularly preferable. The reaction temperature does not need to be constant as long as it is within the above range, and may be changed at the initial stage of the reaction or during the reaction.

本発明においてヒドロシリル化反応を行う際には、ヒドロシリル化反応による反応熱の除去を可能とし、得られるエポキシ変性シリコーンの変性を抑制したり、付加反応による反応系の粘度上昇を抑制する観点から、溶媒を用いることが好ましい。   In carrying out the hydrosilylation reaction in the present invention, it is possible to remove the reaction heat by the hydrosilylation reaction, from the viewpoint of suppressing the modification of the resulting epoxy-modified silicone, or suppressing the increase in the viscosity of the reaction system due to the addition reaction, It is preferable to use a solvent.

用いられる溶媒としては、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、アニソール等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、エチルベンゼン等の芳香族水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール等のアルコール系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。   Examples of the solvent used include dimethyl ether, diethyl ether, diisopropyl ether, 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, and anisole. Ether solvents, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, cyclohexane, heptane, octane, isooctane, toluene, o-xylene, m-xylene, p-xylene, ethylbenzene Aromatic solvent such as ethyl acetate, ester solvent such as ethyl acetate and butyl acetate, alcohol such as butyl cellosolve and butyl carbitol System solvents. These solvents can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

これらの内、ヒドロシリル化反応速度が比較的大きく、原料の溶解性及び/又は溶媒回収性の観点から、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒が好ましく、エーテル系溶媒を50質量%以上含む溶媒がより好ましく、大気圧における沸点が120℃以下である1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテルからなる群から選ばれる少なくとも1種又は2種以上の混合溶媒が更に好ましい。   Among these, the hydrosilylation reaction rate is relatively high, and ether solvents, ketone solvents, aliphatic hydrocarbon solvents, and aromatic hydrocarbon solvents are preferable from the viewpoints of solubility of raw materials and / or solvent recoverability. , More preferably a solvent containing 50% by mass or more of an ether solvent, and at least one selected from the group consisting of 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol dimethyl ether having a boiling point at atmospheric pressure of 120 ° C. or lower, or Two or more kinds of mixed solvents are more preferable.

用いる溶媒量は、オルガノハイドロジェンシリコーン、一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを少なくとも含む平均組成式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの種類や分子量、或いは、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>を含むビニル化合物<B>の種類、更には、回分式、半回分式、或いは連続式等の反応様式によっても異なるが、通常、ヒドロシリル化反応中において、該混合物の全質量に対する溶媒の質量は、0.1質量%以上99.9質量%以下の範囲、好ましくは10質量%以上95質量%以下の範囲、更に好ましくは20質量%以上90質量%以下の範囲である。   The amount of solvent used is an organohydrogen silicone, a silicone having a carbon-carbon double bond represented by an average composition formula (13) containing at least a silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13). Depending on the type and molecular weight, or the type of vinyl compound <B> including the compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, and further, the reaction mode such as batch, semi-batch, or continuous However, in general, in the hydrosilylation reaction, the mass of the solvent relative to the total mass of the mixture is in the range of 0.1% by mass to 99.9% by mass, preferably in the range of 10% by mass to 95% by mass. More preferably, it is the range of 20 mass% or more and 90 mass% or less.

本発明において、ヒドロシリル化反応は窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。   In the present invention, the hydrosilylation reaction is preferably performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen, helium, or argon.

本発明において、ヒドロシリル化反応を行う際の反応方法は、特に限定されず、例えば、本発明で用いるオルガノハイドロジェンシリコーンと一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを少なくとも含む平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーン及び炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>を含むビニル化合物<B>からなる少なくとも1種以上の化合物とを回分式、半回分式、連続式からなる群から選ばれる1種又は2種以上の組合せの方法により、逐次的、連続的、或いは、一度に反応させる方法が例示できる。   In the present invention, the reaction method for carrying out the hydrosilylation reaction is not particularly limited. For example, an organohydrogen silicone used in the present invention and a silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13) are used. At least one or more kinds consisting of a silicone having a carbon-carbon double bond represented by at least an average composition formula (14) and a vinyl compound <B> containing a compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group Examples thereof include a method in which the compound is reacted sequentially, continuously or all at once by a method of one or a combination of two or more selected from the group consisting of batch, semi-batch and continuous.

ヒドロシリル化触媒の添加方法としては、上記[製造法1]に従う場合においては、一般式(12)のオルガノハイドロジェンシリコーン、一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを少なくとも含む平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーン、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>を含むビニル化合物<B>、更に必要に応じて溶媒を予め混合し、最後にヒドロシリル化触媒を添加することが好ましい。また上記[製造法2]に従う場合においては、一般式(12)のオルガノハイドロジェンシリコーン、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>を含むビニル化合物<B>、更に必要に応じて溶媒を予め混合し、最後にヒドロシリル化触媒を添加して第1工程を実施し、続いて一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを少なくとも含む平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを添加して第2工程を実施することが好ましい。また、第2工程においてはヒドロシリル化触媒を追加添加することができ、その場合は、一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを少なくとも含む平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを添加した後に、ヒドロシリル化触媒を追加添加することが好ましい。このようにヒドロシリル化触媒を最後に反応系に添加する方法は、副反応により反応系がゲル化することを防ぐ上で有効となることがあるため好ましい方法である。   As a method for adding the hydrosilylation catalyst, in the case of following the [Production Method 1], an organohydrogen silicone of the general formula (12) and a silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13) are used. A vinyl compound <B> including a compound <A> having at least a silicone having a carbon-carbon double bond and a carbon-carbon double bond and an epoxy group represented by the average composition formula (14) including at least It is preferred to premix the solvent and finally add the hydrosilylation catalyst. In the case of following [Production Method 2], a vinyl compound <B> containing an organohydrogensilicone of general formula (12), a compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, and further if necessary The solvent is premixed, and finally the hydrosilylation catalyst is added to carry out the first step, followed by the average composition formula including at least the silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13) ( It is preferable to carry out the second step by adding a silicone having a carbon-carbon double bond represented by 14). In the second step, a hydrosilylation catalyst can be additionally added. In that case, the average composition formula (14) including at least a silicone having a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13) is used. It is preferable to add a hydrosilylation catalyst after adding the silicone having the carbon-carbon double bond represented. Thus, the method of adding the hydrosilylation catalyst to the reaction system at the end is a preferable method because it may be effective in preventing the reaction system from gelling due to side reactions.

オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位に対して、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>を含むビニル化合物<B>と一般式(13)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを少なくとも含む平均組成式(14)で表される炭素−炭素2重結合を有するシリコーンとをヒドロシリル化反応により付加させる際には、系内の水分が影響を及ぼす場合がある。ヒドロシリル化反応速度を維持する、或いは、エポキシ基の開環反応を抑制する観点から、反応系の水分量は反応系の質量を基準として2質量%以下であることが好ましく、1質量%以下であることがより好ましく、0.5質量%以下であることが更に好ましく、0.1質量%以下が更により好ましく、0.05質量%以下が特に好ましく、0.01質量%以下が最も好ましい。   A vinyl compound <B> containing a compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group and a carbon-carbon double bond represented by the general formula (13) with respect to the SiH unit of the organohydrogensilicone When the silicone having a carbon-carbon double bond represented by the average composition formula (14) including at least the silicone having is added by a hydrosilylation reaction, the moisture in the system may affect. From the viewpoint of maintaining the hydrosilylation reaction rate or suppressing the ring opening reaction of the epoxy group, the water content of the reaction system is preferably 2% by mass or less based on the mass of the reaction system, and preferably 1% by mass or less. More preferably, it is more preferably 0.5% by mass or less, still more preferably 0.1% by mass or less, particularly preferably 0.05% by mass or less, and most preferably 0.01% by mass or less.

反応混合物からエポキシ変性シリコーンを分離回収するのに先立ち、以下のような後処理の操作を行うことは、反応混合物からエポキシ変性シリコーンを分離回収する際のエポキシ変性シリコーンの変性を抑制する観点から、好ましく用いられる方法である。即ち、a)アルコール類を反応混合物と接触或いは混合して、未反応SiH単位を減少又は消失させる処理を行うこと、b)従来公知のヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤を反応混合物と接触或いは混合して、該触媒を失活又は不活性化処理すること、c)吸着剤に反応混合物を接触、混合、或いは、流通して、ヒドロシリル化触媒等の金属成分や着色成分等を吸着除去或いは低減する処理を行うこと、或いは、d)これらの組み合わせの処理を行うこと、等が後処理の方法として挙げられる。   Prior to separating and collecting the epoxy-modified silicone from the reaction mixture, the following post-treatment operation is performed from the viewpoint of suppressing the modification of the epoxy-modified silicone when separating and collecting the epoxy-modified silicone from the reaction mixture. It is a method preferably used. That is, a) the alcohol is brought into contact with or mixed with the reaction mixture to reduce or eliminate the unreacted SiH units, and b) a conventionally known hydrosilylation catalyst deactivator or deactivator is reacted with the reaction mixture. C) deactivating or deactivating the catalyst by contacting or mixing, and c) contacting, mixing, or circulating the reaction mixture with the adsorbent to remove a metal component such as a hydrosilylation catalyst or a coloring component. Examples of post-processing methods include a process of removing or reducing adsorption, or d) a process of a combination of these.

a)に用いられるアルコール類としては、例えば、炭素数1以上4以下の鎖状、分岐状、環状よりなる構造群から選ばれる構造を有する少なくとも1種以上のアルコールが挙げられる。b)に用いられるヒドロシリル化触媒の失活剤、不活性化剤としては、例えば、ドデシルメルカプタン、2−メルカプトベンゾチアゾール等の含硫黄化合物類、アセトニトリル、アクリロニトリル、2−ペンテンニロリル、3−ペンテンニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類、1−ヘプチン、1−オクチン、1−デシン、3−メチルー1−ペンチン、2−プロピン−1−オール、3−ブチン−1−オール、2−ペンチン−1−オール、4−ペンチン−1−オール、4−ペンチン−2−オール、2−メチル−3−ブチン−1−オール、3−メチル−1−ペンチン−3−オール、3−メチル−1−ヘキシンー3−オール、3,5−ジメチル−1−ヘキシンー3−オール、2−フェニル−3−ブチン−2−オール、1−エチニル−1−シクロヘキサノール、2,5−ジメチル−3−ヘキシンー2,5−ジオール、1,1−ジメチル−2−プロピニルアミン、3−メチル−3−(トリメチルシロキシ)−1−ブチン、ジメチル−ビス(1,1−ジメチル−2−プロピノキシ)−シラン、3−メチル−3−(トリメチルシロキシ)−1−ペンチン、3,5−ジメチル−3−(トリメチルシロキシ)−1−ヘキシン、3−エチル−3−(トリメチルシロキシ)−1−ペンチン、メチルプロピオネート、エチルプロピオネート等のアセチレン系化合物等が挙げられる。また、c)に用いられるヒドロシリル化触媒等の金属成分や着色成分等を吸着除去或いは低減する吸着剤としては、例えば、活性炭、セライト、シリカゲル、アルミナ粉、イオン交換樹脂等が挙げられる。   Examples of the alcohols used in a) include at least one alcohol having a structure selected from a chain, branched or cyclic structure group having 1 to 4 carbon atoms. Examples of the deactivator and deactivator of the hydrosilylation catalyst used in b) include sulfur-containing compounds such as dodecyl mercaptan and 2-mercaptobenzothiazole, acetonitrile, acrylonitrile, 2-pentenylolyl, 3-pentenenitrile, Nitriles such as benzonitrile, 1-heptin, 1-octyne, 1-decyne, 3-methyl-1-pentyne, 2-propyn-1-ol, 3-butyn-1-ol, 2-pentyn-1-ol, 4-pentyn-1-ol, 4-pentyn-2-ol, 2-methyl-3-butyn-1-ol, 3-methyl-1-pentyn-3-ol, 3-methyl-1-hexyn-3-ol 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol, 2-phenyl-3-butyn-2-ol, 1-ethynyl-1-cyclohe Sanol, 2,5-dimethyl-3-hexyne-2,5-diol, 1,1-dimethyl-2-propynylamine, 3-methyl-3- (trimethylsiloxy) -1-butyne, dimethyl-bis (1,1 -Dimethyl-2-propinoxy) -silane, 3-methyl-3- (trimethylsiloxy) -1-pentyne, 3,5-dimethyl-3- (trimethylsiloxy) -1-hexyne, 3-ethyl-3- (trimethyl And acetylene compounds such as (siloxy) -1-pentyne, methylpropionate, and ethylpropionate. Moreover, as an adsorbent which adsorbs, removes, or reduces metal components such as hydrosilylation catalyst used in c) and coloring components, for example, activated carbon, celite, silica gel, alumina powder, ion exchange resin, and the like can be given.

これらの後処理の操作は、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。   These post-treatment operations are preferably performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen, helium, or argon.

またこれらの後処理を行う際の温度は、エポキシ変性シリコーンの変性を抑制する観点から、好ましくは0℃以上200℃以下の範囲、より好ましくは5℃以上150℃以下の範囲、更に好ましくは10℃以上100℃以下の範囲、特に好ましくは15℃以上100℃以下の範囲である。前記範囲内であれは、一定の温度である必要はなく、途中で温度を変化させることも可能である。
上記後処理により得られたエポキシ変性シリコーンを含む混合物は、エポキシ変性シリコーンを分離する工程に供され、本発明のエポキシ変性シリコーンが回収される。
Moreover, the temperature at the time of performing these post-treatments is preferably in the range of 0 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, more preferably in the range of 5 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, more preferably 10 from the viewpoint of suppressing the modification of the epoxy-modified silicone. It is in the range of not less than 100 ° C and particularly preferably not less than 15 ° C and not more than 100 ° C. If it is in the said range, it is not necessary to be constant temperature, and it is also possible to change temperature on the way.
The mixture containing the epoxy-modified silicone obtained by the post-treatment is subjected to a step of separating the epoxy-modified silicone, and the epoxy-modified silicone of the present invention is recovered.

以下、本発明のエポキシ変性シリコーンの製造方法における、炭素−炭素2重結合を有する化合物、及び、必要に応じて用いたヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤を低沸化合物と総称し、必要に応じて用いた溶媒、及び未反応SiH単位を減少或いは消失させる処理操作で必要に応じて用いたアルコール類を揮発性化合物と総称する。   Hereinafter, in the method for producing an epoxy-modified silicone of the present invention, the compound having a carbon-carbon double bond and the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst used as necessary are collectively referred to as a low boiling point compound. The solvents used as necessary and the alcohols used as necessary in the treatment operation for reducing or eliminating unreacted SiH units are collectively referred to as volatile compounds.

次に、エポキシ変性シリコーンを含む混合物から、エポキシ変性シリコーンを分離する方法について説明する。   Next, a method for separating the epoxy-modified silicone from the mixture containing the epoxy-modified silicone will be described.

エポキシ変性シリコーンを含む混合物から、エポキシ変性シリコーンを分離する方法は、特に限定されず、例えば、エポキシ変性シリコーンを含む混合物から、低沸化合物と揮発性化合物とを留去してエポキシ変性シリコーンを回収する方法、或いは、エポキシ変性シリコーンが高い揮発性を有する化合物の場合には、蒸留によりエポキシ変性シリコーンを分離回収する方法、等が挙げられる。   The method for separating the epoxy-modified silicone from the mixture containing the epoxy-modified silicone is not particularly limited. For example, the low-boiling compound and the volatile compound are distilled off from the mixture containing the epoxy-modified silicone to recover the epoxy-modified silicone. In the case where the epoxy-modified silicone is a compound having high volatility, a method of separating and recovering the epoxy-modified silicone by distillation, and the like can be mentioned.

エポキシ変性シリコーンを含む混合物から、エポキシ変性シリコーンを分離する際の温度は、エポキシ変性シリコーン、低沸化合物と揮発性化合物の種類によっても異なるが、エポキシ変性シリコーンの変性を抑制する観点から、好ましくは0℃以上200℃以下の範囲、より好ましくは5℃以上150℃以下の範囲、更に好ましくは10℃以上140℃以下の範囲、特に好ましくは15℃以上130℃以下の範囲である。前記範囲内であれは、エポキシ変性シリコーンを含む混合物からエポキシ変性シリコーンを分離する際の温度は、一定の温度である必要はなく、途中で温度を変化させることも可能である。   The temperature at which the epoxy-modified silicone is separated from the mixture containing the epoxy-modified silicone varies depending on the types of the epoxy-modified silicone, the low-boiling compound and the volatile compound, preferably from the viewpoint of suppressing the modification of the epoxy-modified silicone. The range is from 0 ° C to 200 ° C, more preferably from 5 ° C to 150 ° C, still more preferably from 10 ° C to 140 ° C, and particularly preferably from 15 ° C to 130 ° C. If it is in the said range, the temperature at the time of isolate | separating an epoxy-modified silicone from the mixture containing an epoxy-modified silicone does not need to be a fixed temperature, and it is also possible to change temperature on the way.

これらの分離操作は、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。   These separation operations are preferably performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen, helium, or argon.

エポキシ変性シリコーンを含む混合物からエポキシ変性シリコーンを分離する工程には、低沸化合物と揮発性化合物の含有量が低減してエポキシ変性シリコーンを含む混合物の粘度が上昇した場合においても、効率的に低沸化合物と揮発性化合物を分離し得る装置を用いることが好ましい。この様な装置としては、例えば、竪型撹拌槽、表面更新型撹拌槽、薄膜蒸発装置、表面更新型二軸混練器、二軸横型撹拌器、濡れ壁式反応器、自由落下型の多孔板型反応器、支持体に沿わせて化合物を落下させながら揮発成分を留去させる反応器等が挙げられる。これらの装置は、1種又は2種以上を組み合わせて用いることも可能である。   The process of separating the epoxy-modified silicone from the mixture containing the epoxy-modified silicone is effective even when the viscosity of the mixture containing the epoxy-modified silicone is increased by reducing the content of low-boiling compounds and volatile compounds. It is preferable to use an apparatus capable of separating a boiling compound and a volatile compound. Examples of such devices include vertical stirring tanks, surface renewal stirring tanks, thin film evaporators, surface renewal biaxial kneaders, biaxial horizontal stirrers, wet wall reactors, free-falling perforated plates Examples thereof include a type reactor, and a reactor in which volatile components are distilled off while dropping a compound along a support. These apparatuses can be used alone or in combination of two or more.

本発明の製造方法により得られるエポキシ変性シリコーンには、エポキシ変性シリコーンを製造する際に用いた、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>を含むビニル化合物<B>に由来する、炭素−炭素2重結合を有する化合物や溶媒等の低沸化合物及び/又は揮発性化合物が残留する場合がある。   The epoxy-modified silicone obtained by the production method of the present invention is derived from the vinyl compound <B> including the compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, which was used when the epoxy-modified silicone was produced. In some cases, a low boiling point compound such as a compound having a carbon-carbon double bond or a solvent and / or a volatile compound may remain.

ここで、本発明における「炭素−炭素2重結合を有する化合物」について説明する。本発明における炭素−炭素2重結合を有する化合物とは、シリコーン以外の化合物であって、分子内に1つ以上の炭素−炭素2重結合を有する化合物をいう。したがって、ビニルシリコーンやエポキシ変性シリコーンについては分子内に炭素−炭素2重結合を有していてもこれには含まない。   Here, the “compound having a carbon-carbon double bond” in the present invention will be described. The compound having a carbon-carbon double bond in the present invention refers to a compound other than silicone and having one or more carbon-carbon double bonds in the molecule. Therefore, vinyl silicone and epoxy-modified silicone are not included even if they have a carbon-carbon double bond in the molecule.

このような炭素−炭素2重結合を有する化合物としては、例えば、
(i)ヒドロシリル化反応に供するために添加したビニル化合物の余剰あるいは未反応物、
(ii)ヒドロシリル化反応に供するために添加したビニル化合物中に含有されていた炭素−炭素2重結合を有する不純物、
(iii)ヒドロシリル化反応に供するために添加したビニル化合物中の炭素−炭素2重結合が、ヒドロシリル化反応中に内部転位を起こして生成した副生成物、等が挙げられる。
As a compound having such a carbon-carbon double bond, for example,
(I) excess or unreacted vinyl compound added to be subjected to hydrosilylation reaction,
(Ii) Impurities having a carbon-carbon double bond contained in the vinyl compound added for use in the hydrosilylation reaction,
(Iii) The by-product etc. which the carbon-carbon double bond in the vinyl compound added in order to use for hydrosilylation reaction produced | generated internal rearrangement in hydrosilylation reaction, etc. are mentioned.

前記(ii)ヒドロシリル化反応に供するために添加したビニル化合物中に含有されていた炭素−炭素2重結合を有する不純物の具体例としては、例えば、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド中に含まれることのある4−エポキシエチルシクロへキセン等が挙げられる。   As a specific example of the impurity having a carbon-carbon double bond contained in the vinyl compound added for use in the (ii) hydrosilylation reaction, it may be contained in, for example, 4-vinylcyclohexene oxide. 4-epoxyethylcyclohexene etc. are mentioned.

前記(iii)ヒドロシリル化反応に供するために添加したビニル化合物中の炭素−炭素2重結合が、ヒドロシリル化反応中に内部転位を起こして生成した副生成物としては、使用するビニル化合物の種類やヒドロシリル化反応条件によっても異なるが、例えば、ビニル化合物として1−ヘキセンを用いた場合の副生成物としては、2−ヘキセン、3−ヘキセン等が、また、例えば、ビニル化合物としてビニルシクロヘキサンを用いた場合の副生成物としては、エチリデニルシクロヘキサン等が挙げられる。   The (iii) by-product produced by the internal rearrangement of the carbon-carbon double bond in the vinyl compound added to be used for the hydrosilylation reaction during the hydrosilylation reaction includes the type of vinyl compound used, Although depending on the hydrosilylation reaction conditions, for example, as a by-product when 1-hexene is used as the vinyl compound, 2-hexene, 3-hexene, etc. are used, and, for example, vinylcyclohexane is used as the vinyl compound. Examples of by-products include ethylidenylcyclohexane.

更に、ビニル化合物として、例えば、(a−1)4−ビニルシクロへキセンオキサイド、(a−2)1−メチル−4−イソプロペニルシクロヘキセンオキサイド、(a−3)1,4−ジメチル−4−ビニルシクロヘキセンオキサイド、(a−4)ビニルノルボルネンオキサイド等のビニル基を有するエポキシシクロアルカンを用いた場合、(a−1)〜(a−4)に対応する副生成物としては、各々、(b−1)4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、(b−2)1−メチル−4−イソプロペリデニルシクロヘキセンオキサイド、(b−3)1,4−ジメチル−4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイド、(b−4)エチリデニルノルボルネンオキサイド等が挙げられる。更に、例えば、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物として、(a−5)1,2−エポキシ−5−ヘキセンを用いた場合、(a−5)に対応するビニル化合物中の炭素−炭素2重結合がヒドロシリル化反応中に内部転位を起こして生成した副生成物としては、1,2−エポキシ−4−ヘキセン、1,2−エポキシ−3−ヘキセン、1,2−エポキシ−2−ヘキセン等が挙げられる。   Furthermore, as the vinyl compound, for example, (a-1) 4-vinylcyclohexene oxide, (a-2) 1-methyl-4-isopropenylcyclohexene oxide, (a-3) 1,4-dimethyl-4-vinyl When epoxycycloalkanes having a vinyl group such as cyclohexene oxide and (a-4) vinyl norbornene oxide are used, by-products corresponding to (a-1) to (a-4) are respectively (b- 1) 4-ethylidenylcyclohexene oxide, (b-2) 1-methyl-4-isoproperenyl cyclohexene oxide, (b-3) 1,4-dimethyl-4-ethylidenylcyclohexene oxide, (b- 4) Ethylidenyl norbornene oxide and the like. Further, for example, when (a-5) 1,2-epoxy-5-hexene is used as a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, carbon in the vinyl compound corresponding to (a-5) -By-products generated by internal rearrangement of the carbon double bond during the hydrosilylation reaction include 1,2-epoxy-4-hexene, 1,2-epoxy-3-hexene, 1,2-epoxy- 2-hexene and the like can be mentioned.

本発明の製造方法によって得られるエポキシ変性シリコーンを用いた硬化物の耐熱変色性や耐光性が向上する傾向にあるため、エポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は2質量%以下であることが好ましく、1.5質量%以下であることがより好ましく、1質量%以下であることが更に好ましく、0.75質量%以下であることが更により好ましく、0.5質量%以下であることが特に好ましく、0.3質量%以下であることが最も好ましい。   Since the heat-resistant discoloration and light resistance of the cured product using the epoxy-modified silicone obtained by the production method of the present invention tend to be improved, the total amount of low-boiling compounds remaining in the epoxy-modified silicone is 2% by mass or less. Preferably, it is 1.5% by mass or less, more preferably 1% by mass or less, still more preferably 0.75% by mass or less, and 0.5% by mass or less. It is particularly preferable that it is 0.3% by mass or less.

本発明において、低沸化合物が2種以上の成分からなる場合には、本発明におけるエポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量とは、エポキシ変性シリコーン中に残留する各成分の合計値を意味する。   In the present invention, when the low-boiling compound is composed of two or more components, the total amount of low-boiling compounds remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is the total value of each component remaining in the epoxy-modified silicone. Means.

エポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は少ない方がよいが、残留する低沸化合物の合計量を0とするのは時間と労力がかかるのに比して、着色や変色を低減する効果が小さい。そのため、費用対効果という観点からは、エポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の合計量は、0.003質量%程度まで低減することが現実的である。   The total amount of low-boiling compounds remaining in the epoxy-modified silicone should be small, but reducing the total amount of low-boiling compounds to 0 reduces coloring and discoloration compared to the time and labor required. The effect to do is small. Therefore, from the viewpoint of cost effectiveness, it is realistic that the total amount of low boiling point compounds remaining in the epoxy-modified silicone is reduced to about 0.003% by mass.

また、エポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物の内、炭素−炭素2重結合を有する化合物の残留量は、硬化物の光や熱による着色や変色低減の観点から、エポキシ変性シリコーンに対して1.5質量%以下であることが好ましく、1質量%以下であることがより好ましく、0.75質量%以下であることが更に好ましく、0.5質量%以下であることが更により好ましく、0.3質量%以下であることが特に好ましく、0.1質量%以下であることが最も好ましい。   Of the low boiling point compounds remaining in the epoxy-modified silicone, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond is based on the epoxy-modified silicone from the viewpoint of coloring or reducing discoloration of the cured product by light or heat. It is preferably 1.5% by mass or less, more preferably 1% by mass or less, still more preferably 0.75% by mass or less, still more preferably 0.5% by mass or less, It is particularly preferably 0.3% by mass or less, and most preferably 0.1% by mass or less.

本発明において、炭素−炭素2重結合を有する化合物が2種以上の成分からなる場合には、本発明におけるエポキシ変性シリコーン中に残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の残留量とは、エポキシ変性シリコーン中に残留する各成分の合計値を意味する。
また、エポキシ変性シリコーン中に残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の内、エポキシ基を有する化合物の残留量は、硬化物の光や熱による着色や変色低減の観点から、エポキシ変性シリコーンに対して1質量%以下であることが好ましく、0.6質量%以下であることがより好ましく、0.3質量%以下であることが更に好ましく、0.1質量%以下であることが更により好ましく、0.05質量%以下であることが特に好ましい。
ここで、エポキシ変性シリコーン中に残留する、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物が2種以上ある場合には、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物の残留量とは、残留する各成分の合計量を意味する。
In the present invention, when the compound having a carbon-carbon double bond is composed of two or more components, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is: It means the total value of each component remaining in the epoxy-modified silicone.
Of the compounds having a carbon-carbon double bond remaining in the epoxy-modified silicone, the residual amount of the compound having an epoxy group is the same as that of the epoxy-modified silicone from the viewpoint of coloring or reducing discoloration of the cured product by light or heat. It is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.6% by mass or less, still more preferably 0.3% by mass or less, and even more preferably 0.1% by mass or less. Preferably, it is particularly preferably 0.05% by mass or less.
Here, when there are two or more compounds having a carbon-carbon double bond and an epoxy group remaining in the epoxy-modified silicone, the residual amount of the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is: It means the total amount of each remaining component.

更に、エポキシ変性シリコーン中に残留する炭素−炭素2重結合を有する化合物の内、ヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>の炭素−炭素2重結合が内部転位を起こして生成した副生成物の残留量は、硬化物の光や熱による着色や変色低減の観点から、エポキシ変性シリコーンに対し0.5質量%以下であることが好ましく、0.3質量%以下であることがより好ましく、0.1質量%以下であることが更に好ましく、0.05質量%以下であることが特に好ましい。   Further, among the compounds having a carbon-carbon double bond remaining in the epoxy-modified silicone, the carbon-carbon 2 of the compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group added for use in the hydrosilylation reaction. The residual amount of the by-product generated by causing internal dislocations in the double bond is preferably 0.5% by mass or less based on the epoxy-modified silicone from the viewpoint of reducing the coloration or discoloration of the cured product due to light or heat. It is more preferably 0.3% by mass or less, further preferably 0.1% by mass or less, and particularly preferably 0.05% by mass or less.

ここで、エポキシ変性シリコーン中に残留する、ヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>の炭素−炭素2重結合が内部転位を起こして生成した副生成物が2種以上ある場合には、ヒドロシリル化反応に供するために添加したエポキシ基を有するビニル化合物の炭素−炭素2重結合が内部転位を起こして生成した副生成物の残留量とは、残留する各成分の合計量を意味する。   Here, the carbon-carbon double bond of the compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, which was added to be used for the hydrosilylation reaction remaining in the epoxy-modified silicone, was generated due to internal rearrangement. When there are two or more by-products, the residual amount of by-products generated by the internal rearrangement of the carbon-carbon double bond of the vinyl compound having an epoxy group added for use in the hydrosilylation reaction Means the total amount of each remaining component.

なお、ヒドロシリル化反応に供するために添加した炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>中に、既に前記の炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物どうしの炭素−炭素2重結合位置が異なる化合物が含有されている場合には、該含有されている炭素−炭素2重結合位置が異なる化合物は、本発明における炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>の炭素−炭素2重結合が内部転位を起こして生成した副生成物には含めない。   In addition, in the compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group added for use in the hydrosilylation reaction, the carbon-carbon 2 between the compounds already having the carbon-carbon double bond and the epoxy group is included. When a compound having a different heavy bond position is contained, the compound having a different carbon-carbon double bond position is a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group in the present invention <A>. Of carbon-carbon double bonds are not included in by-products generated by internal rearrangement.

また、本発明において、ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤を反応混合物と接触或いは混合して、該触媒を失活又は不活性化処理した場合には、該処理に用いたヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は、硬化物の光や熱による着色や変色を低減する観点から、エポキシ変性シリコーンに対して0.5質量%以下であることが好ましく、0.3質量%以下であることがより好ましく、0.1質量%以下であることが更に好ましく、0.05質量%以下であることが特に好ましい。   Further, in the present invention, when the hydrosilylation catalyst deactivator or deactivator is brought into contact with or mixed with the reaction mixture to deactivate or deactivate the catalyst, the hydrosilylation used in the treatment is used. The residual amount of the catalyst deactivator or deactivator is preferably 0.5% by mass or less based on the epoxy-modified silicone from the viewpoint of reducing coloring or discoloration of the cured product due to light or heat. It is more preferably 3% by mass or less, still more preferably 0.1% by mass or less, and particularly preferably 0.05% by mass or less.

本発明において、ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤が2種以上の成分からなる場合には、本発明におけるエポキシ変性シリコーン中に残留するヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量とは、エポキシ変性シリコーン中に残留する各成分の合計値を意味する。   In the present invention, when the hydrosilylation catalyst deactivator or deactivator comprises two or more components, the hydrosilylation catalyst deactivator or deactivator remaining in the epoxy-modified silicone of the present invention The residual amount of means the total value of each component remaining in the epoxy-modified silicone.

本発明で得られるエポキシ変性シリコーンには、エポキシ変性シリコーンを製造する際に用いた溶媒や、反応混合物をアルコール類と接触或いは混合して、未反応SiH単位を減少又は消失させる処理するために用いた揮発性化合物が残留する場合がある。本発明のエポキシ変性シリコーンを硬化物とする際に、該硬化物中に気泡の発生を抑制する観点から、本発明のエポキシ変性シリコーン中に残留する揮発性化合物の合計量は、1質量%以下であることが好ましく、0.1質量%以下であることがより好ましく、0.05質量%以下であることが更に好ましく、0.005質量%以下とすることが特に望ましい。   The epoxy-modified silicone obtained in the present invention is used for processing to reduce or eliminate unreacted SiH units by contacting or mixing the solvent or reaction mixture used in producing the epoxy-modified silicone with alcohols. Volatile compounds may remain. When making the epoxy-modified silicone of the present invention a cured product, from the viewpoint of suppressing the generation of bubbles in the cured product, the total amount of volatile compounds remaining in the epoxy-modified silicone of the present invention is 1% by mass or less. Preferably, it is 0.1 mass% or less, more preferably 0.05 mass% or less, and particularly preferably 0.005 mass% or less.

本発明において、揮発性化合物が2種以上の成分からなる場合には、本発明における、エポキシ変性シリコーン中に残留する揮発性化合物の合計量とは、エポキシ変性シリコーン中に残留する各成分の合計値を意味する。   In the present invention, when the volatile compound is composed of two or more components, the total amount of the volatile compound remaining in the epoxy-modified silicone in the present invention is the total of each component remaining in the epoxy-modified silicone. Mean value.

エポキシ変性シリコーン中に残留する揮発性化合物の合計量は少ない方がよいが、残留する揮発性化合物の合計量を0とするのは時間と労力がかかるのに比して、着色や変色を低減する効果が小さい。そのため、費用対効果という観点からは、エポキシ変性シリコーン中に残留する揮発性化合物の合計量は、0.001質量%程度まで低減することが現実的である。   The total amount of volatile compounds remaining in the epoxy-modified silicone should be small, but reducing the total amount of remaining volatile compounds to 0 reduces the coloration and discoloration compared to the time and labor required. The effect to do is small. Therefore, from the viewpoint of cost effectiveness, it is realistic that the total amount of volatile compounds remaining in the epoxy-modified silicone is reduced to about 0.001% by mass.

本発明により得られるエポキシ変性シリコーンには、エポキシ変性シリコーンを製造する際に用いたヒドロシリル化触媒等の触媒の残渣、或いは、反応装置から溶出する金属成分等が混入する場合がある。例えば、SUS316合金を用いると、Fe、Ni、Cr、Mo等の金属元素が溶出する場合がある。これらの金属、中でも遷移金属成分が、本発明により得られるエポキシ変性シリコーンを硬化物とした際に、該硬化物の耐光性に影響を与える場合がある。該硬化物の耐光性を高いレベルで維持する観点から、本発明のエポキシ変性シリコーン中に含有される周期律表3族〜11族に該当する遷移金属成分の合計量は、元素換算で、20ppm以下であることが好ましく、10ppm以下であることがより好ましく、7ppm以下であることが更に好ましい。   The epoxy-modified silicone obtained by the present invention may contain a residue of a catalyst such as a hydrosilylation catalyst used when producing the epoxy-modified silicone, or a metal component eluted from the reaction apparatus. For example, when SUS316 alloy is used, metal elements such as Fe, Ni, Cr, and Mo may be eluted. These metals, especially transition metal components, may affect the light resistance of the cured product when the epoxy-modified silicone obtained by the present invention is cured. From the viewpoint of maintaining the light resistance of the cured product at a high level, the total amount of transition metal components corresponding to Groups 3 to 11 of the periodic table contained in the epoxy-modified silicone of the present invention is 20 ppm in terms of elements. Is preferably 10 ppm or less, more preferably 7 ppm or less.

遷移金属成分の含有量を低減させることが必要な場合、その方法としては、例えば、ヒドロシリル化反応後の反応液を、活性炭、シリカゲル、アルミナ粉、イオン交換樹脂等の吸着剤に通して金属成分を吸着除去する方法が例示できる。また、例えば、本発明のエポキシ変性シリコーンを製造する工程の反応装置から溶出する上記遷移金属元素量を考慮し、本発明のエポキシ変性シリコーン中に含有される遷移金属成分の合計量が上記範囲以下となるように、ヒドロシリル化反応に用いる触媒の使用量を低減する方法等も好ましい方法として例示される。   When it is necessary to reduce the content of the transition metal component, the method includes, for example, passing the reaction solution after the hydrosilylation reaction through an adsorbent such as activated carbon, silica gel, alumina powder, ion exchange resin, etc. An example of the method for adsorbing and removing is used. Also, for example, considering the amount of the transition metal element eluted from the reaction apparatus in the step of producing the epoxy-modified silicone of the present invention, the total amount of transition metal components contained in the epoxy-modified silicone of the present invention is below the above range. As a preferable method, a method of reducing the amount of the catalyst used for the hydrosilylation reaction is also exemplified.

本発明のエポキシ変性シリコーンを製造する際に、前記の(a−1)の方法によって得られたエポキシ変性シリコーンに混合させることが可能な、分子中に少なくとも1個以上のエポキシ基を有するエポキシ変性シリコーンは、平均組成式(22)によって表されるエポキシ変性シリコーンである。   When producing the epoxy-modified silicone of the present invention, the epoxy-modified silicone having at least one epoxy group in the molecule that can be mixed with the epoxy-modified silicone obtained by the method (a-1). The silicone is an epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (22).

Figure 2012041381
Figure 2012041381

[ここで、Rは前記と同様である。また、Rは各々独立に、水素、H)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の脂肪族有機基、I)無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、J)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族及び/又は芳香族炭化水素単位を有する、炭素数が5以上26以下、酸素数が0以上5以下、並びに珪素数が1である1価の有機基、からなる群から選ばれる少なくとも1種以上の有機基を表す。] [Wherein R 2 is the same as described above. Each R 8 independently represents hydrogen, H) an unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon unit having one or more types of structures selected from the group consisting of chain, branched and cyclic structures. A monovalent aliphatic organic group having a number of 1 to 24 and an oxygen number of 0 to 5, I) an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, which is unsubstituted or substituted as necessary A monovalent fragrance having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of chain, branched and cyclic, having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms A group organic group, J) having an aliphatic and / or aromatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched, and cyclic structure. 5 or more and 26 or less, oxygen number is 0 or more and 5 or less, and silicon number is 1 Represents at least one organic group selected from the group consisting of a monovalent organic group. ]

なお、平均組成式(22)中のW1〜W10は、(a−1)の方法によって得られたエポキシ変性シリコーンに混合させることが可能な、分子中に少なくとも1個以上のエポキシ基を有するエポキシ変性シリコーン1モル中に存在する各構成単位のモル数を表し、w1〜w10は各々0以上の値であり、(w2+w3+w4+w6+w7+w9)の値は、少なくとも1以上の値である。   In addition, W1-W10 in average composition formula (22) can be mixed with the epoxy-modified silicone obtained by the method (a-1), and has at least one epoxy group in the molecule. The number of moles of each structural unit present in 1 mole of the modified silicone is represented, w1 to w10 each have a value of 0 or more, and the value of (w2 + w3 + w4 + w6 + w7 + w9) is at least 1 or more.

また、上記のw1〜w10が各々下記数式(12)〜数式(14)を同時に満足する場合には、上記のw1〜w4及びw8〜w10は数式(15)を満足する範囲から選択される。
w5+w6+w7≠0 ・・・式(12)
w8+w9≠0 ・・・式(13)
w10≠0 ・・・式(14)
0≦w1+w2+w3+w4≦w8+w9+2×w10+2 ・・・式(15)
Moreover, when said w1-w10 each satisfy | fills following numerical formula (12)-numerical formula (14) simultaneously, said w1-w4 and w8-w10 are selected from the range which satisfy | fills numerical formula (15).
w5 + w6 + w7 ≠ 0 (12)
w8 + w9 ≠ 0 (13)
w10 ≠ 0 Expression (14)
0 ≦ w1 + w2 + w3 + w4 ≦ w8 + w9 + 2 × w10 + 2 Expression (15)

更に、上記のw8〜w10が各々下記数式(16)及び数式(17)を同時に満足する場合には、上記のw1〜w4は数式(18)を満足する範囲から選択される。
w8+w9=0 ・・・式(16)
w10=0 ・・・式(17)
0≦w1+w2+w3+w4≦2 ・・・式(18)
Furthermore, when said w8-w10 each satisfy | fills following numerical formula (16) and numerical formula (17) simultaneously, said w1-w4 is selected from the range which satisfy | fills numerical formula (18).
w8 + w9 = 0 Formula (16)
w10 = 0 Formula (17)
0 ≦ w1 + w2 + w3 + w4 ≦ 2 (18)

また、上記のw8〜w10が各々下記数式(13)及び数式(17)を同時に満足する場合には、上記のw1〜w4及びw8、w9は数式(19)を満足する範囲から選択される。
w8+w9≠0 ・・・式(13)
w10=0 ・・・式(17)
0≦w1+w2+w3+w4≦w8+w9+2 ・・・式(19)
Moreover, when said w8-w10 each satisfy | fills following Numerical formula (13) and Numerical formula (17) simultaneously, said w1-w4, w8, and w9 are selected from the range which satisfy | fills Numerical formula (19).
w8 + w9 ≠ 0 (13)
w10 = 0 Formula (17)
0 ≦ w1 + w2 + w3 + w4 ≦ w8 + w9 + 2 Formula (19)

更に、上記のw8〜w10が各々下記数式(16)及び数式(14)を同時に満足する場合には、上記のw1〜w4及びw10は数式(20)を満足する範囲から選択される。
w8+w9=0 ・・・式(16)
w10≠0 ・・・式(14)
0≦w1+w2+w3+w4≦2×w10+2 ・・・式(20)
Furthermore, when said w8-w10 each satisfy | fills following numerical formula (16) and numerical formula (14) simultaneously, said w1-w4 and w10 are selected from the range which satisfy | fills numerical formula (20).
w8 + w9 = 0 Formula (16)
w10 ≠ 0 Expression (14)
0 ≦ w1 + w2 + w3 + w4 ≦ 2 × w10 + 2 (20)

本発明において用いられる(a−1)の方法によって得られたエポキシ変性シリコーンに混合させることが可能な、分子中に少なくとも1個以上のエポキシ基を有するエポキシ変性シリコーンの構造については特に限定はなく、直鎖状、分岐状、環状、ラダー状、籠状、等、いずれの構造でもよく、これらの2種以上の混合物であってもよい。また、各々の構造単位がブロック的な連鎖構造を有していてもよいし、ランダムに分散していてもよく、これらの混合物であってもよい。   The structure of the epoxy-modified silicone having at least one epoxy group in the molecule that can be mixed with the epoxy-modified silicone obtained by the method (a-1) used in the present invention is not particularly limited. Any structure such as linear, branched, cyclic, ladder-like, and cage-like, or a mixture of two or more of these may be used. Further, each structural unit may have a block-like chain structure, may be randomly dispersed, or a mixture thereof.

本発明において、Rは各々独立に、水素、H)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の脂肪族有機基、I)無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、J)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族及び/又は芳香族炭化水素単位を有する、炭素数が5以上26以下、酸素数が0以上5以下、並びに珪素数が1である1価の有機基、からなる群から選ばれる少なくとも1種以上の有機基を表す。
これらは、1種又は2種以上が混在した有機基であってよい。
In the present invention, each R 8 independently has hydrogen, H) an unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from a chain, branched and cyclic structure group. A monovalent aliphatic organic group having 1 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms, I) an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, which is unsubstituted or substituted as necessary A monovalent valence having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms, which has an aliphatic hydrocarbon unit having one or more structures selected from the group consisting of chain, branched and cyclic structures. An aromatic organic group, J) an unsubstituted or substituted carbon having an aliphatic and / or aromatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of chain, branched and cyclic structures The number is from 5 to 26, the oxygen number is from 0 to 5, and It represents at least one organic group selected from the group consisting of monovalent organic groups having 1 silicon.
These may be organic groups in which one kind or two or more kinds are mixed.

上記H)の無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の脂肪族有機基としては、例えば、
(H−1)メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基等の脂肪族炭化水素からなる鎖状の有機基、
(H−2)シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ノルボルニル基等の環状単位を含む炭化水素からなる有機基、
(H−3)メトキシエチル、エトキシエチル、プロポキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロポキシプロピル基等のエーテル結合を含む有機基、等が挙げられる。
H) an aliphatic hydrocarbon unit having one or more structures selected from the group consisting of unsubstituted, substituted, and chain-like, branched, and cyclic structures, having 1 to 24 carbon atoms and an oxygen number Examples of the monovalent aliphatic organic group in which is from 0 to 5 include, for example,
(H-1) Methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, t-butyl, pentyl, neopentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl A chain organic group comprising an aliphatic hydrocarbon such as a group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group,
(H-2) an organic group comprising a hydrocarbon containing a cyclic unit such as a cyclopentyl group, a methylcyclopentyl group, a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, a norbornyl group,
(H-3) Organic groups containing an ether bond such as methoxyethyl, ethoxyethyl, propoxyethyl group, methoxypropyl group, ethoxypropyl group, propoxypropyl group, and the like.

上記I)の無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、α−メチルスチリル基、3−メチルスチリル基、4−メチルスチリル基等が挙げられる。
上記J)の無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族及び/又は芳香族炭化水素単位を有する、炭素数が5以上26以下、酸素数が0以上5以下、並びに珪素数が1である1価の有機基としては、例えば、下記一般式(23)、一般式(24)で表される有機基が挙げられる。
−CH−CH−SiR ・・・(23)
−CH(CH)−SiR ・・・(24)
[ここで、Rは前記と同様である。]
上記のRには、前記の炭素数及び酸素数、必要に応じて、珪素数の範囲内であれば、有機基としてヒドロキシル単位、アルコキシ単位、アシル単位、カルボキシル単位、アルケニルオキシ単位、アシルオキシ単位、フッ素や塩素等のハロゲン原子、或いは、エステル結合、更には、酸素原子や珪素原子を除く窒素、リン、硫黄等のヘテロ原子を含んでいてもよい。また、これらは、1種又は2種以上が混在した有機基であってよい。
From the one or more structures selected from the group consisting of a chain, a branch and a ring, which are unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon units of the above I), which are unsubstituted or substituted as necessary Examples of the monovalent aromatic organic group having an aliphatic hydrocarbon unit and having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms include, for example, phenyl group, tolyl group, xylyl group, benzyl group, α -A methyl styryl group, 3-methyl styryl group, 4-methyl styryl group etc. are mentioned.
The number of carbon atoms is 5 or more, having an aliphatic and / or aromatic hydrocarbon unit having one or more types of structures selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic structure of J) above Examples of the monovalent organic group having 26 or less, an oxygen number of 0 or more and 5 or less, and a silicon number of 1 include organic groups represented by the following general formula (23) and general formula (24).
—CH 2 —CH—SiR 4 3 (23)
—CH (CH 3 ) —SiR 4 3 (24)
[Wherein R 4 is the same as described above. ]
In the above R 8 , as long as it is within the range of the carbon number and oxygen number, and if necessary, the silicon number, an organic group is a hydroxyl unit, an alkoxy unit, an acyl unit, a carboxyl unit, an alkenyloxy unit, an acyloxy unit. In addition, halogen atoms such as fluorine and chlorine, ester bonds, and hetero atoms such as nitrogen, phosphorus and sulfur other than oxygen atoms and silicon atoms may be contained. These may be organic groups in which one kind or two or more kinds are mixed.

本発明において用いられる(a−1)の方法によって得られたエポキシ変性シリコーンに混合させることが可能な、平均組成式(22)で表される分子中に少なくとも1個以上のエポキシ基を有するエポキシ変性シリコーンとしては、本発明のエポキシ変性シリコーンが、保存時において変性反応や粘度変化を示さず、優れた保存安定性を示すと同時に、硬化後において優れた耐クラック性を示すたことから、全構成単位の合計モル量である(w1+w2+w3+w4+w5+w6+w7+w8+w9+w10)に対する、上記のRとして水素を有する各構成単位の合計モル量が、2%以下であることが好ましく、1.5%以下であることがより好ましく、1%以下であることが更に好ましく、0.5%以下であることが特に好ましい。 Epoxy having at least one epoxy group in the molecule represented by the average composition formula (22), which can be mixed with the epoxy-modified silicone obtained by the method (a-1) used in the present invention. As the modified silicone, the epoxy-modified silicone of the present invention does not exhibit a modification reaction or viscosity change during storage, exhibits excellent storage stability, and at the same time exhibits excellent crack resistance after curing. The total molar amount of each structural unit having hydrogen as R 8 is preferably 2% or less, more preferably 1.5% or less, relative to the total molar amount of the structural units (w1 + w2 + w3 + w4 + w5 + w6 + w7 + w8 + w9 + w10). It is more preferably 1% or less, and particularly preferably 0.5% or less.

一方、本発明において用いられる(a−1)の方法によって得られたエポキシ変性シリコーンに混合させることが可能な、平均組成式(22)で表される分子中に少なくとも1個以上のエポキシ基を有するエポキシ変性シリコーンのRとしては、本発明のエポキシ変性シリコーンの耐光性が良好となる、或いは、保存時の安定性が高まる傾向にあるため、平均組成式(22)で表されるエポキシ変性シリコーンの全Si単位の合計モル数に対する、ヒドロキシル単位、アルコキシ単位、アシル単位、カルボキシル単位、アルケニルオキシ単位、アシルオキシ単位、フッ素や塩素等のハロゲン原子、或いは、エステル結合、更には、酸素原子や珪素原子を除く窒素、リン、硫黄等のヘテロ原子を含む有機基が結合した珪素原子の合計モル数が、10%以下であることが好ましく、1%以下であることがより好ましく、全く含まないことが更に好ましい。 On the other hand, at least one epoxy group in the molecule represented by the average composition formula (22) that can be mixed with the epoxy-modified silicone obtained by the method (a-1) used in the present invention. The epoxy-modified silicone R 8 has an epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (22) because the epoxy-modified silicone of the present invention tends to have good light resistance or increase stability during storage. Hydroxyl unit, alkoxy unit, acyl unit, carboxyl unit, alkenyloxy unit, acyloxy unit, halogen atom such as fluorine or chlorine, ester bond, oxygen atom or silicon relative to the total number of moles of all Si units in silicone The total number of moles of silicon atoms bonded to organic groups containing heteroatoms such as nitrogen, phosphorus, and sulfur, excluding atoms, is It is preferably 10% or less, more preferably 1% or less, and still more preferably not contained at all.

また、同様に本願発明の一般式(1)及び一般式(2)で表される化合物を少なくとも含む平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーンの耐光性が良好となると共に、耐熱変色性が向上する傾向にあるため、本発明において用いられる(a−1)の方法によって得られたエポキシ変性シリコーンに混合させることが可能な、平均組成式(22)で表される分子中に少なくとも1個以上のエポキシ基を有するエポキシ変性シリコーンのRとしては、上記(H−1)、(H−2)からなる群から選択されることが好ましく、(H−1)及び(H−2)中の炭素数が1以上8以下、酸素数0からなる群から選択される有機基であることがより好ましく、(H−1)及び(H−2)中の炭素数が1以上8以下、酸素数0からなる群から選択される無置換の鎖状の有機基であることが更に好ましく、メチル基であることが特に好ましい。 Similarly, the light resistance of the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) containing at least the compounds represented by the general formula (1) and the general formula (2) of the present invention is improved, and heat discoloration is achieved. In the molecule represented by the average composition formula (22), which can be mixed with the epoxy-modified silicone obtained by the method (a-1) used in the present invention. R 8 of the epoxy-modified silicone having one or more epoxy groups is preferably selected from the group consisting of (H-1) and (H-2), and (H-1) and (H-2). ) Is more preferably an organic group selected from the group consisting of 1 to 8 carbon atoms and 0 oxygen atoms, and (H-1) and (H-2) have 1 to 8 carbon atoms. , Selected from the group consisting of oxygen number 0 A substituted chain organic group is more preferred, and a methyl group is particularly preferred.

本発明において用いられる(a−1)の方法によって得られたエポキシ変性シリコーンに混合させることが可能な、平均組成式(22)で表される分子中に少なくとも1個以上のエポキシ基を有するエポキシ変性シリコーンの分子量は、本願発明の一般式(1)及び一般式(2)で表される化合物を少なくとも含む平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーンの要件を満たすことができれば特に制限はないが、流動性等に起因する取り扱い性や加工性を向上させる観点から、該エポキシ変性シリコーンの数平均分子量が、400以上1,000,000以下の範囲が好ましく、500以上500,000以下の範囲がより好ましく、500以上100,000以下の範囲が更に好ましく、500以上50,000以下の範囲が更により好ましく、500以上10,000以下の範囲が特に好ましい。   Epoxy having at least one epoxy group in the molecule represented by the average composition formula (22), which can be mixed with the epoxy-modified silicone obtained by the method (a-1) used in the present invention. The molecular weight of the modified silicone is particularly limited as long as it can satisfy the requirements of the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) including at least the compound represented by the general formula (1) and the general formula (2) of the present invention. However, the number average molecular weight of the epoxy-modified silicone is preferably in the range of 400 or more and 1,000,000 or less, and 500 or more and 500,000 or less from the viewpoint of improving the handleability and processability due to fluidity and the like. The range of 500 to 100,000 is more preferable, and the range of 500 to 50,000 is more preferable. Preferably, and particularly preferably from 500 to 10,000.

本発明において、(a−1)の方法によって得られたエポキシ変性シリコーンと、一般式(1)、一般式(2)、並びに、その他の分子中に少なくとも1個以上のエポキシ基を有するエポキシ変性シリコーンなる群から選ばれる少なくとも1種以上のエポキシ変性シリコーンとを混合する、或いは、(a−1)の方法によって得られるエポキシ変性シリコーン同士を混合する際の、各々の重量比については、本願発明の一般式(1)及び一般式(2)で表される化合物を少なくとも含む平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーンの要件を満たすことができれば特に制限はない。   In the present invention, the epoxy-modified silicone obtained by the method of (a-1), the general formula (1), the general formula (2), and an epoxy modified having at least one epoxy group in other molecules About each weight ratio at the time of mixing the epoxy modified silicone obtained by the method of (a-1) with at least 1 sort (s) or more of epoxy modified silicone selected from the group which consists of silicone, this invention There is no particular limitation as long as the requirements of the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) including at least the compound represented by the general formula (1) and the general formula (2) can be satisfied.

本発明において、(a−1)の方法によって得られたエポキシ変性シリコーンと、一般式(1)、一般式(2)、並びに、その他の分子中に少なくとも1個以上のエポキシ基を有するエポキシ変性シリコーンなる群から選ばれる少なくとも1種以上のエポキシ変性シリコーンとを混合する方法、或いは、(a−1)の方法によって得られるエポキシ変性シリコーン同士を混合するための方法について、均一に混合することが可能で有れば特に制限はなく、必要に応じて混合させる化合物が溶解する溶媒を使用して均一に混合した後に溶媒を留去する方法、或いは、バルクで混合させる化合物を均一に混合する方法、或いは、これらの組み合わせによる方法を用いることが可能である。これらの内、溶媒等の揮発成分を除く労力とエネルギーを低減できることから、バルクで均一に混合する方法を用いることが好ましい。   In the present invention, the epoxy-modified silicone obtained by the method of (a-1), the general formula (1), the general formula (2), and an epoxy modified having at least one epoxy group in other molecules The method of mixing at least one epoxy-modified silicone selected from the group consisting of silicones, or the method of mixing the epoxy-modified silicones obtained by the method (a-1) may be uniformly mixed. There is no particular limitation as long as it is possible, and a method in which the compound to be mixed is uniformly mixed using a solvent in which the compound is mixed, if necessary, and then the solvent is distilled off, or a method in which the compound to be mixed in a bulk is uniformly mixed Alternatively, a method based on a combination of these can be used. Among these, it is preferable to use a method of uniformly mixing in bulk because the labor and energy for removing volatile components such as solvents can be reduced.

混合操作に先立ち、予め混合させる化合物中に残留する前記の低沸化合物を低減しておくことは、安定的に再現性よく本願発明の一般式(1)及び一般式(2)で表される化合物を少なくとも含む平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーンの耐光性及び耐熱変色性を高められることから好ましい方法として用いられる。混合させる化合物中に残留する前記の低沸化合物の合計量は、2質量%以下に低減しておくことが好ましく、1.5質量%以下としておくことがより好ましく、1質量%以下としておくことが更に好ましく、0.75質量%以下としておくことが更により好ましく、0.5質量%以下としておくことが特に好ましく、0.3質量%以下まで低減しておくことが最も好ましい。   Prior to the mixing operation, reducing the low-boiling compounds remaining in the compound to be mixed in advance is represented by the general formula (1) and the general formula (2) of the present invention stably and with good reproducibility. Since the light resistance and heat discoloration resistance of the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) containing at least the compound can be enhanced, it is used as a preferred method. The total amount of the low boiling compounds remaining in the compound to be mixed is preferably reduced to 2% by mass or less, more preferably 1.5% by mass or less, and 1% by mass or less. Is more preferably 0.75% by mass or less, particularly preferably 0.5% by mass or less, and most preferably reduced to 0.3% by mass or less.

混合に用いることができる装置としては、従来公知の縦型又は横型の混合機、攪拌機、並びに押出機や、インラインミキサー等の使用が可能である。この様な装置としては、例えば、竪型撹拌槽、表面更新型撹拌槽、表面更新型二軸混練機、単軸又は二軸横型撹拌機、短軸又は二軸の押出機、スパイラル・スラントミキサー、容器回転揺動式混合機、容器回転形混合器、等が挙げられる。   As a device that can be used for mixing, a conventionally known vertical or horizontal mixer, stirrer, extruder, in-line mixer, or the like can be used. Examples of such devices include vertical stirring tanks, surface renewal stirring tanks, surface renewal twin screw kneaders, single or biaxial horizontal stirrers, short or twin screw extruders, and spiral slant mixers. , A container rotating and shaking mixer, a container rotating mixer, and the like.

本発明において、(a−1)の方法によって得られたエポキシ変性シリコーンと、一般式(1)、一般式(2)、並びに、その他の分子中に少なくとも1個以上のエポキシ基を有するエポキシ変性シリコーンなる群から選ばれる少なくとも1種以上のエポキシ変性シリコーンとを混合する、或いは、(a−1)の方法によって得られるエポキシ変性シリコーン同士を混合する操作を行う際の温度は、用いる化合物の種類によっても異なるが、エポキシ変性シリコーンの変性を抑制する上で、好ましくは−20℃以上200℃以下の範囲、好ましくは0℃以上150℃以下の範囲、より好ましくは10℃以上100℃以下の範囲、更に好ましくは10℃以上80℃以下の範囲である。前記範囲内であれは、混合する操作を行う際の温度は、一定の温度である必要はなく、途中で温度を変化させることも可能である。   In the present invention, the epoxy-modified silicone obtained by the method of (a-1), the general formula (1), the general formula (2), and an epoxy modified having at least one epoxy group in other molecules The temperature at which the operation of mixing at least one epoxy-modified silicone selected from the group consisting of silicones or mixing the epoxy-modified silicones obtained by the method (a-1) is the kind of the compound used. Although it varies depending on the case, it is preferably in the range of −20 ° C. to 200 ° C., preferably in the range of 0 ° C. to 150 ° C., more preferably in the range of 10 ° C. to 100 ° C. More preferably, it is the range of 10 degreeC or more and 80 degrees C or less. If it is in the said range, the temperature at the time of performing mixing operation does not need to be a fixed temperature, and it is also possible to change temperature in the middle.

本発明において、(a−1)の方法によって得られたエポキシ変性シリコーンと、一般式(1)、一般式(2)、並びに、その他の分子中に少なくとも1個以上のエポキシ基を有するエポキシ変性シリコーンなる群から選ばれる少なくとも1種以上のエポキシ変性シリコーンとを混合する、或いは、(a−1)の方法によって得られるエポキシ変性シリコーン同士を混合する操作を行う際の雰囲気は、空気、或いは、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、炭酸ガス等の不活性ガス、炭素数1以上4以下の低級飽和炭化水素系ガス、空気なる群から選ばれるガスの雰囲気下、流通下、減圧下又は加圧下、バブリング下、或いは、これらを組み合わせた条件下で行うことができる。これらのガスは、一種又は二種以上の混合ガスとして用いることができる。これらの内、好ましいガスは、空気、又は、前記不活性ガス、炭素数1以上4以下の低級飽和炭化水素系ガスであり、更に好ましくは、空気又は前記不活性ガスであり、より好ましくは露点が−30℃以下の乾燥空気、又は窒素である。   In the present invention, the epoxy-modified silicone obtained by the method of (a-1), the general formula (1), the general formula (2), and an epoxy modified having at least one epoxy group in other molecules The atmosphere when performing the operation of mixing at least one epoxy-modified silicone selected from the group consisting of silicones, or mixing the epoxy-modified silicones obtained by the method of (a-1) is air, or Inert gas such as nitrogen, helium, neon, argon, krypton, xenon, carbon dioxide, lower saturated hydrocarbon gas having 1 to 4 carbon atoms, gas atmosphere selected from the group consisting of air, distribution and reduced pressure Alternatively, it can be performed under pressure, bubbling, or a combination of these. These gases can be used as one kind or a mixture of two or more kinds. Among these, a preferable gas is air, or the above-mentioned inert gas, a lower saturated hydrocarbon gas having 1 to 4 carbon atoms, more preferably air or the above-mentioned inert gas, and more preferably a dew point. Is dry air of −30 ° C. or lower, or nitrogen.

本発明において、(a−1)の方法によって得られたエポキシ変性シリコーンと、一般式(1)、一般式(2)、並びに、その他の分子中に少なくとも1個以上のエポキシ基を有するエポキシ変性シリコーンなる群から選ばれる少なくとも1種以上のエポキシ変性シリコーンとを混合する、或いは、(a−1)の方法によって得られるエポキシ変性シリコーン同士を混合する操作を行う際の時間は、用いる化合物の種類や分子量によっても異なるが、エポキシ変性シリコーンの変性を抑制する上で、通常0.1秒以上24時間以下、好ましくは1秒以上10時間以下、より好ましくは1分以上1時間以下の範囲である。   In the present invention, the epoxy-modified silicone obtained by the method of (a-1), the general formula (1), the general formula (2), and an epoxy modified having at least one epoxy group in other molecules The time for performing the operation of mixing at least one epoxy-modified silicone selected from the group consisting of silicones or mixing the epoxy-modified silicones obtained by the method (a-1) is the type of compound used. Although it varies depending on the molecular weight, it is usually in the range of 0.1 second to 24 hours, preferably 1 second to 10 hours, more preferably 1 minute to 1 hour in order to suppress the modification of the epoxy-modified silicone. .

本発明により得られるエポキシ変性シリコーンは、透明性が求められる用途に用いることが可能な優れた透明性を有すると共に、優れた耐光性、耐熱性、耐熱変色性、更には耐クラック性、密着性、半田リフロー耐性を有することから、発光素子用封止材として好適に用いられる。また、本発明のエポキシ変性シリコーンは、硬質で寸法安定性に優れた硬化物を与えることから、眼鏡レンズ、光学機器用レンズ、CDやDVDのピックアップ用レンズ、自動車ヘッドランプ用レンズ、プロジェクター用レンズ等のレンズ材料としても好適に用いられる。更には光ファイバー、光導波路、光フィルター、光学用接着剤、ダイボンド剤、光半導体素子用アンダーフィル材、光ディスク基板、ディスプレイ基板、反射防止膜等のコーティング材料等、各種光学部材としても用いることが可能である。
前記用途に用いる場合には、本発明により得られるエポキシ変性シリコーンは、必要に応じてエポキシ樹脂及び/又はエポキシ樹脂用硬化剤、硬化促進剤、カチオン重合触媒、変性剤、酸化防止剤、熱安定剤、シランカップリング剤、消泡剤、着色剤、蛍光体、光拡散剤、無機フィラー、熱伝導性フィラー等、従来公知の添加剤を適宜配合した硬化性樹脂組成物として使用される。
The epoxy-modified silicone obtained by the present invention has excellent transparency that can be used in applications requiring transparency, and also has excellent light resistance, heat resistance, heat discoloration, and crack resistance, adhesion. Since it has solder reflow resistance, it is preferably used as a sealing material for light emitting elements. In addition, since the epoxy-modified silicone of the present invention gives a hardened product having excellent dimensional stability, it is a spectacle lens, a lens for optical equipment, a lens for picking up CDs or DVDs, a lens for automobile headlamps, a lens for projectors. It is also suitably used as a lens material. Furthermore, it can also be used as various optical members such as optical fibers, optical waveguides, optical filters, optical adhesives, die bonding agents, underfill materials for optical semiconductor elements, optical disk substrates, display substrates, antireflection coatings and other coating materials. It is.
When used in the above-mentioned applications, the epoxy-modified silicone obtained by the present invention is an epoxy resin and / or a curing agent for epoxy resin, a curing accelerator, a cationic polymerization catalyst, a modifying agent, an antioxidant, and a thermal stability as necessary. It is used as a curable resin composition appropriately mixed with conventionally known additives such as an agent, a silane coupling agent, an antifoaming agent, a colorant, a phosphor, a light diffusing agent, an inorganic filler, and a heat conductive filler.

用いられるエポキシ樹脂としては、従来公知の芳香族グリシジルエーテルに代表される芳香族系エポキシ樹脂、芳香族系エポキシ樹脂の芳香環を水素化して得られるグリシジルエーテル類、脂環式エポキシ樹脂類、その他のエポキシ樹脂等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の混合物として用いることができる。   Epoxy resins used include aromatic epoxy resins represented by conventionally known aromatic glycidyl ethers, glycidyl ethers obtained by hydrogenating aromatic rings of aromatic epoxy resins, alicyclic epoxy resins, and others Epoxy resin and the like. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

前記の芳香族グリシジルエーテルとしては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、ビスフェノールS、テトラメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールAD、テトラメチルビスフェノールS、テトラブロモビスフェノールA、テトラクロロビスフェノールA、テトラフルオロビスフェノールA等のビスフェノール類をグリシジル化したビスフェノール型エポキシ樹脂、ビフェノール、ジヒドロキシナフタレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン等のその他の2価フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、4,4−(1−(4−(1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル)フェニル)エチリデン)ビスフェノール等のトリスフェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、1,1,2,2,−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン等のテトラキスフェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、フェノールノボラック、クレゾールノボラック、ビスフェノールAノボラック、臭素化フェノールノボラック、臭素化ビスフェノールAノボラック等のノボラック類をグリシジル化したノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。   Examples of the aromatic glycidyl ether include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, bisphenol S, tetramethylbisphenol A, tetramethylbisphenol F, tetramethylbisphenol AD, tetramethylbisphenol S, tetrabromobisphenol A, and tetrachloro. Bisphenol type epoxy resin obtained by glycidylation of bisphenols such as bisphenol A and tetrafluorobisphenol A, and epoxy obtained by glycidylation of other dihydric phenols such as biphenol, dihydroxynaphthalene and 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene Resin, 1,1,1-tris (4-hydroxyphenyl) methane, 4,4- (1- (4- (1- (4-hydroxyphenyl) -1-methyl ester) Epoxy resin obtained by glycidylation of trisphenol such as l) phenyl) ethylidene) bisphenol, epoxy resin obtained by glycidylation of tetrakisphenol such as 1,1,2,2, -tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolac Novolak type epoxy resins obtained by glycidylating novolaks such as cresol novolak, bisphenol A novolak, brominated phenol novolak, brominated bisphenol A novolak, and the like.

芳香族グリシジルエーテルの芳香環の水素化反応は、例えば、ルテニウム系触媒、ロジウム系触媒等を用いる従来公知の方法により実施することが可能である。
脂環式エポキシ樹脂類としては、従来公知の化合物、例えば、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート等が挙げられる。
The hydrogenation reaction of the aromatic ring of the aromatic glycidyl ether can be carried out by a conventionally known method using, for example, a ruthenium-based catalyst or a rhodium-based catalyst.
Examples of the alicyclic epoxy resins include conventionally known compounds such as 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate and 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol. , 2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, and the like.

その他のエポキシ樹脂類としては、ダイマー酸グリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸グリシジルエステル等のグリシジルエステル類、トリグリシジルイソシアヌレート等のグリシジルアミン類、エポキシ化大豆油、エポキシ化ポリブタジエン等の線状脂肪族エポキシ化合物等が例示できる。   Other epoxy resins include glycidyl esters such as dimer acid glycidyl ester and hexahydrophthalic acid glycidyl ester, glycidyl amines such as triglycidyl isocyanurate, linear aliphatic epoxies such as epoxidized soybean oil and epoxidized polybutadiene. A compound etc. can be illustrated.

前記のエポキシ樹脂として、芳香族系エポキシ樹脂を用いる場合、耐光性が良好となる傾向にあるため、用いられるエポキシ樹脂の総質量に対する該芳香族系エポキシ樹脂の比率は50質量%以下であることが好ましく、30質量%以下であることがより好ましく、10質量%以下であることが更に好ましく、上記のエポキシ樹脂として、芳香族系エポキシ樹脂を全く含まないエポキシ樹脂を用いることが特に好ましい。   When an aromatic epoxy resin is used as the epoxy resin, the light resistance tends to be good, so the ratio of the aromatic epoxy resin to the total mass of the epoxy resin used is 50% by mass or less. It is preferably 30% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and it is particularly preferable to use an epoxy resin containing no aromatic epoxy resin as the epoxy resin.

前記エポキシ樹脂の使用量は、本発明により得られるエポキシ変性シリコーン100質量部に対して、好ましくは0.1〜100質量部、より好ましくは1〜100質量部、更に好ましくは1〜80質量部である。   The amount of the epoxy resin used is preferably 0.1 to 100 parts by weight, more preferably 1 to 100 parts by weight, and still more preferably 1 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy-modified silicone obtained by the present invention. It is.

本発明において用いることができるエポキシ樹脂用硬化剤としては、特に制限はなく、従来公知の一般的なものが使用できるが、透明で着色のない硬化物が得られる傾向にあるため、酸無水物系硬化剤が好適に使用される。具体的には、ポリアゼライン酸無水物、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物、ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチル−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチル−ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物等の脂環式酸無水物類、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等の芳香族酸無水物類、1分子中に2個以上の酸無水物含有官能基を置換基として有するシリコーン類、等が挙げられる。   The curing agent for epoxy resin that can be used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known general ones can be used. However, since there is a tendency to obtain a cured product that is transparent and not colored, an acid anhydride is used. A system curing agent is preferably used. Specifically, polyazeline acid anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, norbornane-2 , 3-dicarboxylic acid anhydride, methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid anhydride, alicyclic acid anhydrides such as methyl-norbornane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, phthalic anhydride, anhydrous Examples thereof include aromatic acid anhydrides such as trimellitic acid and pyromellitic anhydride, silicones having two or more acid anhydride-containing functional groups as a substituent in one molecule, and the like.

これらの硬化剤の内、本発明のエポキシ変性シリコーンを硬化して得られる硬化物の耐光性が高まる傾向にあるため、脂環式酸無水物類、1分子中に2個以上の酸無水物含有官能基を置換基として有するシリコーン類がより好ましく、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチルノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物が更に好ましい。これらの硬化剤は1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。   Among these curing agents, the light resistance of the cured product obtained by curing the epoxy-modified silicone of the present invention tends to increase, so alicyclic acid anhydrides, two or more acid anhydrides per molecule Silicones having a functional group as a substituent are more preferable, and methylhexahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, norbornane-2,3-dicarboxylic anhydride, methylnorbornane-2,3-dicarboxylic anhydride are further included. preferable. These curing agents can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

エポキシ樹脂用硬化剤の使用量は、本発明により得られるエポキシ変性シリコーンのエポキシ基に対して好ましくは0.1〜3当量、より好ましくは0.5〜2当量の範囲であり、エポキシ変性シリコーン100質量部に対して好ましくは1質量部〜200質量部、より好ましくは10質量部〜150質量部、更に好ましくは20質量部〜100質量部の範囲である。   The amount of the epoxy resin curing agent used is preferably in the range of 0.1 to 3 equivalents, more preferably 0.5 to 2 equivalents with respect to the epoxy groups of the epoxy-modified silicone obtained by the present invention. Preferably it is 1 mass part-200 mass parts with respect to 100 mass parts, More preferably, it is 10 mass parts-150 mass parts, More preferably, it is the range of 20 mass parts-100 mass parts.

本発明により得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、硬化促進剤が含有されていてもよい。用いられる硬化促進剤としては、イミダゾール化合物、4級アンモニウム塩、ホスホニウム塩、アミン化合物、アルミニウムキレート化合物、有機ホスフィン化合物、金属カルボン酸塩やアセチルアセトンキレート化合物等が挙げられる。これらの硬化促進剤は1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。   The curable resin composition obtained by using the epoxy-modified silicone obtained by the present invention may contain a curing accelerator as necessary. Examples of the curing accelerator used include imidazole compounds, quaternary ammonium salts, phosphonium salts, amine compounds, aluminum chelate compounds, organic phosphine compounds, metal carboxylates and acetylacetone chelate compounds. These curing accelerators can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

これらの化合物の具体例としては、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、トリメチルアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール等のアミン化合物及びその塩、テトラメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムブロミド等の4級アンモニウム塩、アルミニウムキレート、テトラ−n−ブチルホスホニウムベンゾトリアゾレート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−0,0−ジエチルホスホロジチオエート等の有機ホスフィン化合物、クロム(III)トリカルボキシレート、オクチル酸スズ、クロムアセチルアセトナート等の金属カルボン酸塩やアセチルアセトンキレート化合物が例示できる。また、市販品としてはサンアプロ社よりU−CAT SA1、U−CAT 2026、U−CAT 18X等が例示できる。これらの中でも、着色の少ない硬化物を与える観点から、イミダゾール化合物、4級アンモニウム塩、ホスホニウム塩、有機ホスフィン化合物等が好ましく用いられる。   Specific examples of these compounds include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1,8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene-7, trimethylamine, benzyldimethylamine, triethylamine, 2 , 4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, amine compounds such as 2- (dimethylaminomethyl) phenol and salts thereof, quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, tetrabutylammonium bromide, Organic phosphine compounds such as aluminum chelate, tetra-n-butylphosphonium benzotriazolate, tetra-n-butylphosphonium-0,0-diethyl phosphorodithioate, chromium (III) tricarboxylate, octyl Tin, metal carboxylate and acetylacetone chelate compounds such as chromium acetylacetonate can be exemplified. Moreover, as a commercial item, U-CAT SA1, U-CAT 2026, U-CAT 18X etc. can be illustrated from a San Apro company. Among these, an imidazole compound, a quaternary ammonium salt, a phosphonium salt, an organic phosphine compound, and the like are preferably used from the viewpoint of giving a cured product with less coloring.

これら硬化促進剤の配合量は、エポキシ変性シリコーン100質量部に対して硬化速度を高める観点から、0.001質量部以上であることが好ましく、0.01質量部以上であることがより好ましく、0.1質量部以上であることが特に好ましい。一方、耐湿性や硬化物の着色の観点から、10質量部以下であることが好ましく、5質量部以下であることがより好ましく、3質量部以下であることが更に好ましく、1質量部以下であることが特に好ましい。   The blending amount of these curing accelerators is preferably 0.001 parts by mass or more, more preferably 0.01 parts by mass or more, from the viewpoint of increasing the curing rate with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone. It is especially preferable that it is 0.1 mass part or more. On the other hand, from the viewpoint of moisture resistance and coloration of the cured product, it is preferably 10 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass or less, still more preferably 3 parts by mass or less, and 1 part by mass or less. It is particularly preferred.

また、本発明のエポキシ変性シリコーンは、従来公知のカチオン重合触媒を配合することにより硬化性樹脂組成物とすることも可能である。   The epoxy-modified silicone of the present invention can be made into a curable resin composition by blending a conventionally known cationic polymerization catalyst.

用いることができるカチオン重合触媒としては、BF・アミン錯体、PF、BF、AsF、SbF等に代表されるルイス酸系触媒、ホスホニウム塩や4級アンモニウム塩、スルホニウム塩、ベンジルアンモニウム塩、ベンジルピリジニウム塩、ベンジルスルホニウム塩、ヒドラジニウム塩、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル、アミンイミドに代表される熱硬化性カチオン重合触媒、ジアリールヨードニウムヘキサフロオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモン酸ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウム等に代表される紫外硬化性カチオン重合触媒等が挙げられる。 Examples of cationic polymerization catalysts that can be used include Lewis acid catalysts such as BF 3 / amine complexes, PF 5 , BF 3 , AsF 5 , SbF 5 , phosphonium salts, quaternary ammonium salts, sulfonium salts, benzyl ammonium Salt, benzylpyridinium salt, benzylsulfonium salt, hydrazinium salt, carboxylic acid ester, sulfonic acid ester, thermosetting cationic polymerization catalyst represented by amine imide, diaryliodonium hexafluorophosphate, bis (dodecylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate And UV curable cationic polymerization catalysts represented by the above.

これらの内、ガラス転移温度が高く半田耐熱性や密着性に優れた着色の少ない透明な硬化物が得られる傾向にあるため、熱硬化性カチオン重合触媒が好ましく用いられる。このような熱硬化性カチオン重合触媒としては、例えば、スルホニウム塩系のカチオン重合開始剤であるSI−100L、SI−60L(以上、三新化学工業製)、CP−66、CP−77(以上、旭電化工業製)等を挙げることができる。   Among these, a thermosetting cationic polymerization catalyst is preferably used because a transparent cured product having a high glass transition temperature and excellent solder heat resistance and adhesion and less coloring is obtained. As such a thermosetting cationic polymerization catalyst, for example, SI-100L, SI-60L (manufactured by Sanshin Chemical Co., Ltd.), CP-66, CP-77 (and above) which are sulfonium salt-based cationic polymerization initiators. Asahi Denka Kogyo).

これらカチオン重合触媒の配合量は、通常、エポキシ変性シリコーン100質量部に対して硬化速度を高める観点から、0.001質量部以上であることが好ましく、0.005質量部以上であることがより好ましく、0.01質量部以上であることが更に好ましい。一方、耐湿性や硬化物の着色の観点から、10質量部以下であることが好ましく、1質量部以下であることがより好ましく、0.5質量部以下であることが更に好ましく、0.2質量部以下であることが特に好ましい。   The blending amount of these cationic polymerization catalysts is usually preferably 0.001 parts by mass or more and more preferably 0.005 parts by mass or more from the viewpoint of increasing the curing rate with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone. Preferably, it is 0.01 mass part or more. On the other hand, from the viewpoint of moisture resistance and coloration of the cured product, it is preferably 10 parts by mass or less, more preferably 1 part by mass or less, still more preferably 0.5 parts by mass or less, and 0.2 It is particularly preferable that the amount is not more than part by mass.

本発明のエポキシ変性シリコーンに好適に用いられる硬化剤、硬化触媒としては、上記以外に、例えば、特開平4−84444号公報、特開2005−93569号公報に記載されているようなアルミニウムトリスアセチルアセトネート等の有機基を有するアルミニウム化合物と、ジフェニルシランジオール、ジフェニルジエトキシシラン等のSiに直結したOH基もしくはアルコキシ基を有する化合物の組み合わせ等が挙げられる。   As a curing agent and a curing catalyst suitably used for the epoxy-modified silicone of the present invention, in addition to the above, for example, aluminum trisacetyl as described in JP-A-4-84444 and JP-A-2005-93569 A combination of an aluminum compound having an organic group such as acetonate and a compound having an OH group or an alkoxy group directly bonded to Si, such as diphenylsilanediol and diphenyldiethoxysilane.

本発明により得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化性樹脂組成物には、硬化物に可撓性を付与し剥離接着力を向上させる観点から、必要に応じて、変性剤が含有されていてもよい。用いられる変性剤としては、1分子中に2個以上の水酸基を含有するポリオール類が例示でき、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、グリセリン、エリスリトール、トリメチロールプロパン、1,2,4−ブタントリオール等の脂肪族系ポリオール類や、ポリカーボネートジオール、末端にシラノール基を有するシリコーン類が好ましく用いられる。これらの変性剤は、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。   The curable resin composition obtained by using the epoxy-modified silicone obtained by the present invention contains a modifier as necessary from the viewpoint of imparting flexibility to the cured product and improving the peel adhesion. May be. Examples of the modifier used include polyols containing two or more hydroxyl groups in one molecule, such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3- Propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, polypropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, glycerin, erythritol, trimethylolpropane, 1,2,4-butanetriol, etc. Aliphatic polyols, polycarbonate diols, and silicones having a silanol group at the terminal are preferably used. These modifiers can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

1分子中に2個以上の水酸基を含有するポリオール類の配合量は、エポキシ変性シリコーン100質量部に対して、密着性を高めるという観点から好ましくは0.1質量部以上、耐熱性、耐湿性の観点から好ましくは50質量部以下であり、より好ましくは1〜30質量部、更に好ましくは3〜20重量部、特に好ましくは3〜10重量部である。
本発明の硬化性樹脂組成物には密着性等の物性を改善する目的で各種シランカップリング剤を用いることができる。本発明に適したシランカップリング剤としては、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルジメチルエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、3−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)アミノメチルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)(3−アミノプロピル)トリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)(3−アミノプロピル)トリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)(3−アミノプロピル)メチルジメトキシシラン、N−[N’−(2−アミノエチル)(2−アミノエチル)](3−アミノプロピル)トリメトキシシラン、2−(2−アミノエチル)チオエチルトリエトキシシラン、2−(2−アミノエチル)チオエチルメチルジエトキシシラン、3−(N−フェニルアミノ)プロピルトリメトキシシラン、3−(N−シクロヘキシルアミノ)プロピルトリメトキシシラン、(N−フェニルアミノメチル)トリメトキシシラン、(N−フェニルアミノメチル)メチルジメトキシシラン、(N−シクロヘキシルアミノメチル)トリエトキシシラン、(N−シクロヘキシルアミノメチル)メチルジエトキシシラン、ピペラジノメチルトリメトキシシラン、ピペラジノメチルトリエトキシシラン、3−ピペラジノプロピルトリメトキシシラン、3−ピペラジノプロピルメチルジメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリエトキシシラン、メルカプトメチルメチルジメトキシシラン、メルカプトメチルメチルジエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、3−(トリメトキシシリル)プロピルコハク酸無水物、3−(トリエトキシシリル)プロピルコハク酸無水物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、シクロペンチルトリメトキシシラン、シクロペンチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、メチルシクロヘキシルジメトキシシラン、メチルシクロヘキシルジエトキシシラン、メチルシクロペンチルジメトキシシラン、メチルシクロペンチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。またこれらのシランカップリング剤の部分縮合物を用いることもできる。
The blending amount of the polyols containing two or more hydroxyl groups in one molecule is preferably 0.1 parts by mass or more from the viewpoint of improving the adhesion with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone, and has heat resistance and moisture resistance. From this viewpoint, it is preferably 50 parts by mass or less, more preferably 1 to 30 parts by mass, still more preferably 3 to 20 parts by weight, and particularly preferably 3 to 10 parts by weight.
In the curable resin composition of the present invention, various silane coupling agents can be used for the purpose of improving physical properties such as adhesion. Suitable silane coupling agents for the present invention include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldisilane. Ethoxysilane, 3-glycidoxypropyldimethylmethoxysilane, 3-glycidoxypropyldimethylethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltri Ethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, 3-aminopropyldimethylethoxysilane, N- (2-aminoethyl) aminomethyltrimethoxysilane N- (2-aminoethyl) (3-aminopropyl) trimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) (3-aminopropyl) triethoxysilane, N- (2-aminoethyl) (3-aminopropyl) Methyldimethoxysilane, N- [N ′-(2-aminoethyl) (2-aminoethyl)] (3-aminopropyl) trimethoxysilane, 2- (2-aminoethyl) thioethyltriethoxysilane, 2- ( 2-aminoethyl) thioethylmethyldiethoxysilane, 3- (N-phenylamino) propyltrimethoxysilane, 3- (N-cyclohexylamino) propyltrimethoxysilane, (N-phenylaminomethyl) trimethoxysilane, ( N-phenylaminomethyl) methyldimethoxysilane, (N-cyclohexylaminomethyl) triet Sisilane, (N-cyclohexylaminomethyl) methyldiethoxysilane, piperazinomethyltrimethoxysilane, piperazinomethyltriethoxysilane, 3-piperazinopropyltrimethoxysilane, 3-piperazinopropylmethyldimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, mercaptomethyltrimethoxysilane, mercaptomethyltriethoxysilane, mercaptomethylmethyldimethoxysilane, mercaptomethylmethyldiethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3 -Mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, 3- (trimethoxysilyl) propyl succinic anhydride, 3- (triethoxy Ryl) propyl succinic anhydride, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, propyltrimethoxysilane, propyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane , Vinyltriethoxysilane, cyclohexyltrimethoxysilane, cyclohexyltriethoxysilane, cyclopentyltrimethoxysilane, cyclopentyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane, Methylvinyldiethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, methylphenyldiethoxysilane, methylcyclo Hexyldimethoxysilane, methylcyclohexyldiethoxysilane, methylcyclopentyldimethoxysilane, methylcyclopentyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3 -Methacryloxypropyltriethoxysilane and the like. Moreover, the partial condensate of these silane coupling agents can also be used.

本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化性樹脂組成物の硬化方法は公知の方法を用いることができる。前記の公知技術の内、加熱によって硬化させる方法、或いは、紫外線(UV)を照射することによって硬化させる方法は、エポキシ樹脂の硬化方法として一般的に用いられる方法であり、本発明において好ましい方法として例示できる。加熱により硬化させる際の温度は、用いられるエポキシ樹脂や硬化剤等に依るため特に限定はないが、通常、20〜200℃の範囲である。   As a method for curing the curable resin composition obtained using the epoxy-modified silicone of the present invention, a known method can be used. Among the above-mentioned known techniques, the method of curing by heating or the method of curing by irradiating with ultraviolet rays (UV) is a method generally used as a method for curing an epoxy resin, and is a preferable method in the present invention. It can be illustrated. The temperature for curing by heating is not particularly limited because it depends on the epoxy resin and the curing agent used, but is usually in the range of 20 to 200 ° C.

硬化反応は空気中で行う他、必要に応じて窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行うことができる。   The curing reaction can be performed in air or in an inert gas atmosphere such as nitrogen, helium, or argon as necessary.

本発明のエポキシ変性シリコーンを含む硬化性樹脂組成物は、発光素子用封止材として好適に用いることができる。また、その発光素子用封止材を用いて発光素子を封止することにより、発光ダイオード等の発光部品を製造することができる。   The curable resin composition containing the epoxy-modified silicone of the present invention can be suitably used as a sealing material for a light emitting device. Further, by sealing the light emitting element using the light emitting element sealing material, a light emitting component such as a light emitting diode can be manufactured.

本発明のエポキシ変性シリコーンを含む硬化性樹脂組成物からなる発光素子用封止材を用いて封止された発光素子の発光波長は、赤外から赤色、緑色、青色、紫色、紫外まで幅広く用いることができ、従来の封止材では耐光性が不足して劣化してしまう250nm〜550nmの波長の光まで実用的に用いることができる。これにより、長寿命で、エネルギー効率が高く、色再現性の高い白色発光ダイオードを得ることができる。ここで、発光波長とは、主発光ピーク波長のことをいう。   The emission wavelength of the light emitting device sealed with the sealing material for light emitting device comprising the curable resin composition containing the epoxy-modified silicone of the present invention is widely used from infrared to red, green, blue, purple and ultraviolet. In addition, light having a wavelength of 250 nm to 550 nm, which is deteriorated due to insufficient light resistance, can be practically used with conventional sealing materials. As a result, a white light-emitting diode having a long life, high energy efficiency, and high color reproducibility can be obtained. Here, the emission wavelength refers to the main emission peak wavelength.

使用される発光素子の具体例としては、例えば、基板上に半導体材料を積層して形成した発光素子を例示することができる。この場合、半導体材料としては、例えば、GaAs、GaP、GaAlAs、GaAsP、AlGaInP、GaN、InN、AlN、InGaAlN、SiC等が挙げられる。   As a specific example of the light emitting element to be used, for example, a light emitting element formed by stacking semiconductor materials on a substrate can be exemplified. In this case, examples of the semiconductor material include GaAs, GaP, GaAlAs, GaAsP, AlGaInP, GaN, InN, AlN, InGaAlN, and SiC.

基板としては、例えば、サファイア、スピネル、SiC、Si、ZnO、GaN単結晶等が挙げられる。必要に応じ、基板と半導体材料の間にバッファー層を形成してもよい。これらバッファー層としては、GaN、AlN等が挙げられる。   Examples of the substrate include sapphire, spinel, SiC, Si, ZnO, and GaN single crystal. If necessary, a buffer layer may be formed between the substrate and the semiconductor material. Examples of these buffer layers include GaN and AlN.

基板上へ半導体材料を積層する方法としては、特に制限はないが、例えば、MOCVD法、HDVPE法、液相成長法等が用いられる。
発光素子の構造は、例えば、MIS接合、PN接合、PIN接合を有するホモ接合、ヘテロ接合、ダブルヘテロ構造等が挙げられる。また、単一或いは多重量子井戸構造とすることも可能である。
The method for laminating the semiconductor material on the substrate is not particularly limited, but for example, MOCVD method, HDVPE method, liquid phase growth method and the like are used.
Examples of the structure of the light emitting element include a homojunction having a MIS junction, a PN junction, and a PIN junction, a heterojunction, and a double heterostructure. A single or multiple quantum well structure may also be used.

本発明のエポキシ変性シリコーンを含む硬化性樹脂組成物からなる発光素子封止材を用いて発光素子を封止することにより、発光ダイオードを製造することができる。この場合の封止は、発光素子を発光素子封止材のみで封止することもできるが、他の封止材を併用して封止することも可能である。他の封止材を併用する場合、本発明により得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる発光素子封止材で封止した後、その周囲を他の封止材で封止する、或いは、他の封止材で封止した後、その周囲を本発明により得られるエポキシ変性シリコーンを用いて得られる発光素子封止材で封止することも可能である。他の封止材としては、例えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ウレア樹脂、イミド樹脂、ガラス等が挙げられる。   A light emitting diode can be manufactured by sealing a light emitting element using the light emitting element sealing material which consists of curable resin composition containing the epoxy modified silicone of this invention. In this case, the light-emitting element can be sealed only with the light-emitting element sealing material, but it is also possible to use another sealing material in combination. When other sealing materials are used in combination, after sealing with the light emitting device sealing material obtained using the epoxy-modified silicone obtained by the present invention, the periphery is sealed with other sealing materials, or other It is also possible to seal the periphery with a light emitting element sealing material obtained by using the epoxy-modified silicone obtained by the present invention. Examples of the other sealing material include an epoxy resin, a silicone resin, an acrylic resin, a urea resin, an imide resin, and glass.

本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて得られる発光素子封止材で発光素子を封止する方法としては、例えば、モールド型枠中に発光素子封止材を予め注入し、そこに発光素子が固定されたリードフレーム等を浸漬した後に硬化させる方法、発光素子を挿入した型枠中に発光素子封止材を注入し、硬化する方法等が挙げられる。この際、発光素子封止材を注入する方法としては、ディスペンサーによる注入、トランスファー成形、射出成形等が挙げられる。更にその他の封止方法としては、発光素子封止材を発光素子上へ滴下し、孔版印刷、スクリーン印刷、或いは、マスクを介して塗布し硬化させる方法、低部に発光素子を配置したカップ等に発光素子封止材をディスペンサー等により注入し、硬化させる方法等が挙げられる。   As a method of sealing a light emitting element with a light emitting element sealing material obtained by using the epoxy-modified silicone of the present invention, for example, a light emitting element sealing material is previously injected into a mold mold, and the light emitting element is fixed thereto. Examples include a method of curing after immersing the prepared lead frame and the like, a method of injecting a light emitting element sealing material into a mold having the light emitting element inserted therein, and a method of curing. At this time, examples of the method for injecting the light-emitting element sealing material include injection by a dispenser, transfer molding, injection molding, and the like. Other sealing methods include a method in which a light emitting device sealing material is dropped onto the light emitting device, and stencil printing, screen printing, or a method of applying and curing through a mask, a cup in which the light emitting device is disposed in the lower part, etc. For example, a method of injecting a light-emitting element sealing material with a dispenser or the like and curing it.

本発明により得られるエポキシ変性シリコーンを含む硬化性樹脂組成物は、発光素子をリード端子やパッケージに固定するダイボンド材、発光素子上のパッシベーション膜、パッケージ基板として用いることもできる。
封止部分の形状は、例えば、砲弾型のレンズ形状、板状、薄膜状等が挙げられる。
The curable resin composition containing the epoxy-modified silicone obtained by the present invention can also be used as a die bond material for fixing a light emitting element to a lead terminal or a package, a passivation film on the light emitting element, and a package substrate.
Examples of the shape of the sealing portion include a bullet-shaped lens shape, a plate shape, and a thin film shape.

本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて得られた発光ダイオードは、従来公知の方法で性能の向上を図ることができる。性能を向上させる方法としては、例えば、発光素子背面に光の反射層或いは集光層を設ける方法、補色着色部を底部に形成する方法、主発光ピークより短波長の光を吸収する層を発光素子上に設ける方法、発光素子を封止した後、更に硬質材料でモールディングする方法、発光ダイオードを貫通孔に挿入して固定する方法、発光素子をフリップチップ接続等によってリード部材等と接続して基板方向から光を取り出す方法等が挙げられる。   The performance of the light-emitting diode obtained using the epoxy-modified silicone of the present invention can be improved by a conventionally known method. As a method for improving the performance, for example, a method of providing a light reflecting layer or a light collecting layer on the back surface of the light emitting element, a method of forming a complementary colored portion on the bottom, and a layer that absorbs light having a wavelength shorter than the main emission peak is emitted. Method of providing on the element, sealing the light emitting element, molding with a hard material, inserting the light emitting diode into the through hole and fixing, connecting the light emitting element to the lead member by flip chip connection, etc. For example, a method of extracting light from the substrate direction.

本発明のエポキシ変性シリコーンを用いて得られた発光ダイオードは、例えば、液晶ディスプレイ等のバックライト、照明、各種センサー、プリンター、コピー機等の光源、車両用計器光源、信号灯、表示灯、表示装置、面状発光体の光源、ディスプレイ、装飾、各種ライト等として有用である。   The light-emitting diode obtained by using the epoxy-modified silicone of the present invention includes, for example, a backlight such as a liquid crystal display, illumination, various sensors, a light source such as a printer and a copying machine, an instrument light source for vehicles, a signal lamp, a display lamp, and a display It is useful as a light source for a planar light emitter, a display, a decoration, various lights, and the like.

以下に実施例を示して、本発明をより詳細に説明するが、本発明は以下に記載の実施例によって限定されるものではない。
シリコーンの組成及び特性は、以下に示す方法により求めた。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to the examples described below.
The composition and properties of silicone were determined by the following method.

(1)一般式(1)で表される化合物及び一般式(2)で表される化合物の含有量比([WB]/[WA])の算出
本発明における[WA]及び[WB]の値は、エポキシ変性シリコーンのマトリックス支援イオン化飛行時間型質量分析法(以下、MALDI−TOF/MS)にて測定を行って得られる一般式(1)及び一般式(2)の各々の構造に該当する質量とナトリウムの質量23とを合計した質量に該当するピークの強度を表す。
(1) Calculation of content ratio of compound represented by general formula (1) and compound represented by general formula (2) ([WB] / [WA]) [WA] and [WB] in the present invention The values correspond to the structures of general formula (1) and general formula (2) obtained by measuring with epoxy-modified silicone matrix-assisted ionization time-of-flight mass spectrometry (hereinafter, MALDI-TOF / MS). The intensity of the peak corresponding to the total mass of the mass to be added and the mass 23 of sodium is expressed.

なお、一般式(1)及び一般式(2)の各々の構造に該当する質量とは、前記の構造を構成する元素が同位体を有する場合には、各々の元素の同位体の質量の内、最も存在率の大きな同位体の質量を用いて算出された値のことをいう。   In addition, the mass corresponding to each structure of the general formula (1) and the general formula (2) is the mass of the isotope of each element when the elements constituting the structure have isotopes. The value calculated using the mass of the isotope having the highest abundance.

また、本発明において、一般式(1)及び(2)に相当するピークが複数個存在する場合には、一般式(1)の構造を有する化合物の含有量[WA]及び一般式(2)で表される化合物の含有量[WB]は、各々の構造に相当するピーク強度の合計値とした。   In the present invention, when a plurality of peaks corresponding to the general formulas (1) and (2) are present, the content [WA] of the compound having the structure of the general formula (1) and the general formula (2) The content [WB] of the compound represented by the formula was the total peak intensity corresponding to each structure.

ただし、一般式(1)及び一般式(2)の各々の構造に該当する質量とナトリウムの質量23とを合計した質量に該当するピークの最大強度に対して、3%以下の強度を有するピークの強度は、ピーク強度の合計値の算出からは除外した。
MALDI−TOF/MSの測定方法は以下の方法により行った。
However, the peak having an intensity of 3% or less with respect to the maximum intensity of the peak corresponding to the total mass of the mass corresponding to each structure of the general formula (1) and the general formula (2) and the mass 23 of sodium. The intensity of was excluded from the calculation of the total peak intensity.
The measurement method of MALDI-TOF / MS was performed by the following method.

<MALDI−TOF/MSの測定方法>
室温にて0.1gのエポキシ変性シリコーンを100mLのテトラヒドロフランに溶解した溶液と、10mgのジスラノールを1mLのテトラヒドロフランに溶解した溶液とを、室温にて体積比で1対1の割合で均一に混合して溶液aを作製した。次いで、10mgのヨウ化ナトリウムを10mLのアセトンに溶解した溶液1μLを乗せたサンプルプレートに溶液aを1μL滴下し、室温にて溶媒を蒸発後、下記測定条件でMALDI−TOF/MSにて測定を行った。
<Measurement method of MALDI-TOF / MS>
A solution in which 0.1 g of epoxy-modified silicone is dissolved in 100 mL of tetrahydrofuran at room temperature and a solution in which 10 mg of dithranol is dissolved in 1 mL of tetrahydrofuran are uniformly mixed at a volume ratio of 1: 1 at room temperature. Thus, solution a was prepared. Next, 1 μL of solution a was dropped on a sample plate on which 1 μL of 10 mg sodium iodide dissolved in 10 mL of acetone was placed, the solvent was evaporated at room temperature, and measurement was performed with MALDI-TOF / MS under the following measurement conditions. went.

(測定条件)
装置 :島津 AXIMA CFRplus
レーザー :窒素レーザー(337nm)
検出器形式:リニアモード
イオン検出:正イオン(ポジティブモード)
積算回数 :500回
(Measurement condition)
Equipment: Shimadzu AXIMA CFRplus
Laser: Nitrogen laser (337 nm)
Detector type: Linear mode Ion detection: Positive ion (positive mode)
Integration count: 500 times

(2)エポキシ変性シリコーンの組成
29Si−NMR測定、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定、及び、H−NMR測定によって得られる結果を用いて算出した。
(2) Composition of epoxy-modified silicone
It calculated using the result obtained by < 29 > Si-NMR measurement, a gel permeation chromatography (GPC) measurement, and < 1 > H-NMR measurement.

具体的には、まず、エポキシ変性シリコーンの29Si−NMR測定を下記記載の方法に従って行い、得られたスペクトルパターンから算出された積分値を解析して、水素アルキル単位、ジアルキルシロキシ単位等の含有分率を百分率で算出した。
次いで、H−NMR測定を下記記載の方法に従って行い、得られたスペクトルパターンから算出された積分値を元に、各有機基を有するアルキルシロキシ単位の存在率を百分率で算出した。
Specifically, first, 29 Si-NMR measurement of the epoxy-modified silicone is performed according to the method described below, and the integrated value calculated from the obtained spectrum pattern is analyzed to contain hydrogen alkyl units, dialkylsiloxy units, and the like. The fraction was calculated as a percentage.
Next, 1 H-NMR measurement was performed according to the method described below, and the abundance of alkylsiloxy units having each organic group was calculated as a percentage based on the integral value calculated from the obtained spectrum pattern.

上記より得られた各構成単位の存在率と各構成単位の理論式量とを用いて、構成単位の平均的式量を算出した。   Using the abundance ratio of each structural unit obtained from the above and the theoretical formula amount of each structural unit, the average formula weight of the structural unit was calculated.

引き続いて、エポキシ変性シリコーンのゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定を下記記載の方法に従って行い、得られた数平均分子量を平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーンの1モル当りの分子量として、上記で算出した各単位の存在率を考慮した平均的式量で除して平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーンを構成する各単位の全モル数を算出した。得られた平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーンを構成する各単位の全モル数と、該各単位の存在率とから、平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーン1モルを構成する各単位のモル数を算出した。   Subsequently, gel permeation chromatography (GPC) measurement of the epoxy-modified silicone was performed according to the method described below, and the number average molecular weight obtained was the molecular weight per mole of the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3). The total number of moles of each unit constituting the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) was calculated by dividing by the average formula amount considering the abundance of each unit calculated above. From the total number of moles of each unit constituting the epoxy-modified silicone represented by the obtained average composition formula (3) and the abundance of each unit, the epoxy-modified silicone 1 represented by the average composition formula (3) The number of moles of each unit constituting the mole was calculated.

29Si−NMR測定方法>
エポキシ変性シリコーン0.15gを重水素化クロロホルム1gに溶解した。該溶解液にCr(acac)を0.015g添加して溶解した溶液に、テトラメチルシランを10μL更に添加してNMR測定溶液とした。該NMR測定溶液を用いて、プロトン完全デカップル条件における29Si−NMRの測定を積算回数4,000回(装置:日本電子社製α−400)にて行った。
<29 Si-NMR measurement method>
0.15 g of epoxy-modified silicone was dissolved in 1 g of deuterated chloroform. To the solution obtained by adding 0.015 g of Cr (acac) 3 to the solution, 10 μL of tetramethylsilane was further added to prepare an NMR measurement solution. Using this NMR measurement solution, 29 Si-NMR measurement under proton complete decoupling conditions was performed with a cumulative number of 4000 times (apparatus: α-400 manufactured by JEOL Ltd.).

H−NMR測定方法>
重水素化クロロホルム1mLに対して、エポキシ変性シリコーン30mgを溶解した溶液を測定試料とした。この測定試料を用いて、400MHz(日本電子社製α−400)のH−NMRの測定を積算回数200回にて行った。
<1 H-NMR measurement method>
A solution in which 30 mg of epoxy-modified silicone was dissolved in 1 mL of deuterated chloroform was used as a measurement sample. Using this measurement sample, 1 H-NMR measurement at 400 MHz (α-400, manufactured by JEOL Ltd.) was performed at a total number of 200 times.

<ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定>
東ソー社製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)分析装置8020GPCシステムを用い、以下の条件により求めた。
<Gel permeation chromatography (GPC) measurement>
Using a gel permeation chromatography (GPC) analyzer 8020GPC system manufactured by Tosoh Corporation, the following conditions were used.

エポキシ変性シリコーンの0.5質量%テトラヒドロフラン溶液を調製し、その後、0.45μmのフィルターにて濾過したものを測定試料溶液とした。
カラム温度40℃にて、溶離液(テトラヒドロフラン)を流量1mL/分の条件下でカラムを通し、RI検出による溶出時間と検出強度から数平均分子量を算出した。
A 0.5 mass% tetrahydrofuran solution of epoxy-modified silicone was prepared, and then filtered through a 0.45 μm filter to obtain a measurement sample solution.
The number average molecular weight was calculated from the elution time and detection intensity by RI detection at a column temperature of 40 ° C. and through the column with an eluent (tetrahydrofuran) at a flow rate of 1 mL / min.

カラム構成は、ガードカラムとして東ソー(株)社製TSKguardcolumnHXL−H(登録商標)を用い、東ソー(株)製TSKgel(登録商標)G5000HXL、東ソー(株)製TSKgel(登録商標)G3000HXL、及び東ソー(株)製TSKgel(登録商標)G1000HXLの各1本ずつを直列に配置して使用した。また、Polymer Laboratories社製の分子量が各7,500,000、2,560,000、841,700、320,000、148,000、59,500、28,500、10,850、2,930、580の単分散ポリポリスチレン標準物質、及びスチレンモノマー(分子量104)を用い、予め作成した検量線から数平均分子量を算出した。 The column configuration uses TSKguardcolumnH XL- H (registered trademark) manufactured by Tosoh Corporation as a guard column, TSKgel (registered trademark) G5000H XL manufactured by Tosoh Corporation, TSKgel (registered trademark) G3000H XL manufactured by Tosoh Corporation, And one each of TSKgel (registered trademark) G1000H XL manufactured by Tosoh Corporation was used in series. Further, the molecular weights manufactured by Polymer Laboratories are 7,500,000, 2,560,000, 841,700, 320,000, 148,000, 59,500, 28,500, 10,850, 2,930, A number average molecular weight was calculated from a calibration curve prepared in advance using 580 monodisperse polypolystyrene standard substance and styrene monomer (molecular weight 104).

(3)エポキシ変性シリコーン中の分子量800以下の成分の含有率及び分子量10,000以上の成分の含有率
上記のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定により得られた溶出曲線を解析して算出した。
具体的には、該溶出曲線において、エポキシ変性シリコーンに基づくピークとベースラインとで囲まれた総面積(ピーク面積1)に対する、分子量800以下に相当するピークの面積(ピーク面積2)の比率を百分率で表記した数値[すなわち、(ピーク面積2)/(ピーク面積1)×100(%)で表される数値]で表した。
(3) Content of component having molecular weight of 800 or less and content of component having molecular weight of 10,000 or more in epoxy-modified silicone Calculated by analyzing the elution curve obtained by the above-mentioned gel permeation chromatography (GPC) measurement. .
Specifically, in the elution curve, the ratio of the peak area (peak area 2) corresponding to a molecular weight of 800 or less to the total area (peak area 1) surrounded by the peak based on the epoxy-modified silicone and the baseline is expressed as follows. It was expressed by a numerical value expressed as a percentage [that is, a numerical value represented by (peak area 2) / (peak area 1) × 100 (%)].

また、平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーン中の分子量10,000以上の成分の含有率とは、上記のGPC測定によって得られる溶出曲線において、エポキシ変性シリコーンの溶出開始点と溶出終了点を結んで得られる該溶出ピーク面積(ピーク面積1)に対する、分子量10,000以上に相当するピークの面積(ピーク面積3)の比率を百分率で表記した数値[すなわち、(ピーク面積3)/(ピーク面積1)×100(%)で表される数値]で表した。   The content of components having a molecular weight of 10,000 or more in the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) is the elution start point and elution of the epoxy-modified silicone in the elution curve obtained by the above GPC measurement. A numerical value representing the ratio of the peak area (peak area 3) corresponding to a molecular weight of 10,000 or more to the elution peak area (peak area 1) obtained by linking the end points [ie, (peak area 3) / (Peak area 1) × 100 (%))].

(4)エポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物量及び揮発性化合物量の測定
島津社製ガスクロマトグラフィー分析装置GC−14Bを用い、以下の条件により求めた。
5mLのメスフラスコに、エポキシ変性シリコーン約0.5g及び内部標準としてn−オクタン0.015gを秤量した後、クロロホルムで5mLに希釈した溶液を、測定サンプルとした。
(4) Measurement of amount of low boiling point compound and amount of volatile compound remaining in epoxy-modified silicone Using a gas chromatography analyzer GC-14B manufactured by Shimadzu Corporation, the amount was determined under the following conditions.
After measuring about 0.5 g of epoxy-modified silicone and 0.015 g of n-octane as an internal standard in a 5 mL volumetric flask, a solution diluted to 5 mL with chloroform was used as a measurement sample.

カラム:J&W Scientific社製DB−1(登録商標)、
長さ30m、内径0.25mm、液膜1μm
キャリアーガス:ヘリウム
検出器:FID
インジェクション温度:250℃
検出器温度:300℃
昇温条件:50℃にて5min保持した後、50℃から300℃まで10℃/minで昇温した。
Column: DB-1 (registered trademark) manufactured by J & W Scientific,
Length 30m, inner diameter 0.25mm, liquid film 1μm
Carrier gas: Helium detector: FID
Injection temperature: 250 ° C
Detector temperature: 300 ° C
Temperature raising condition: After holding at 50 ° C. for 5 min, the temperature was raised from 50 ° C. to 300 ° C. at 10 ° C./min.

得られた結果から、別途作成した内部標準法による検量線を用いて、エポキシ変性シリコーン中に含有される各成分の含有量を定量し合計した。なお、数値は、エポキシ変性シリコーンに対する質量分率で表したものである。   From the obtained results, the content of each component contained in the epoxy-modified silicone was quantified and summed up using a separately prepared calibration curve by an internal standard method. In addition, a numerical value is represented with the mass fraction with respect to epoxy-modified silicone.

(5)エポキシ価
以下の操作と算出法により求めた。
エポキシ変性シリコーンをベンジルアルコールと1−プロパノールに溶解した。この溶液にヨウ化カリウム水溶液、ブロモフェノールブルー指示薬を添加した後、1規定塩酸にて滴定し、反応系内が青色から黄色になった点を当量点とした。当量点より、エポキシ変性シリコーンのエポキシ価を以下の式に従って算出した。
エポキシ価(当量/100g)=(V×N×F)/(10×W)
[ここで、W、V、N、Fは各々以下の値を表す。
(5) Epoxy value Determined by the following procedure and calculation method.
Epoxy-modified silicone was dissolved in benzyl alcohol and 1-propanol. A potassium iodide aqueous solution and a bromophenol blue indicator were added to this solution, followed by titration with 1N hydrochloric acid, and the point where the reaction system turned from blue to yellow was defined as the equivalent point. From the equivalent point, the epoxy value of the epoxy-modified silicone was calculated according to the following formula.
Epoxy value (equivalent / 100 g) = (V × N × F) / (10 × W)
[W, V, N, and F represent the following values, respectively.

W:試料の重量(g)
V:滴定量(mL)
N:滴定に使用した塩酸の規定度(N)
F:滴定に使用した塩酸のファクター ]
W: Weight of sample (g)
V: Titration volume (mL)
N: Normality of hydrochloric acid used for titration (N)
F: Factor of hydrochloric acid used for titration]

(6)金属元素含有量
含有白金量の分析は四重極ICP質量分析装置(Thermo Elemental製:X7−ICP−MS)を用いて測定した。
(6) Metal Element Content The platinum content was analyzed using a quadrupole ICP mass spectrometer (manufactured by Thermo Elemental: X7-ICP-MS).

(7)透明性
厚さ3mmの硬化物を用い、厚さ方向の350nm、400nm、450nmの光線透過率を日本分光(株)社製JASCO V−550により測定した。初期における光線透過率が80%以上を◎、70%以上80%未満を○、70%未満を×とした。
(7) Transparency Using a cured product having a thickness of 3 mm, the light transmittance at 350 nm, 400 nm, and 450 nm in the thickness direction was measured by JASCO V-550 manufactured by JASCO Corporation. The initial light transmittance of 80% or more was evaluated as ◎, 70% or more and less than 80% as ○, and less than 70% as ×.

(8)耐熱性
粉砕した硬化物のTgをセイコーインスツールメント社製DSC220Cにより昇温速度10℃/分の条件で測定し、耐熱性の指標とした。硬化物のTgが120℃以上を◎、100℃以上120℃未満を○、100℃未満を×とした。
(8) Heat resistance Tg of the pulverized cured product was measured with a DSC220C manufactured by Seiko Instruments Inc. under a temperature rising rate of 10 ° C / min, and used as an index of heat resistance. Tg of the cured product was 120 ° C. or more, ◯, 100 ° C. or more and less than 120 ° C., and less than 100 ° C.

(9)耐光性
光ファイバーを経由してUV照射装置(ウシオ電機製:SP−7)から50℃一定にした恒温乾燥機中の厚さ3mmの硬化物にUV光を照射できるようにセットした。365nmバンドパスフィルターを用いて、330〜410nmの光を、3W/cmになるように照射した。
照射開始後、250時間以上硬化物が着色しないものを◎、200時間以上250時間未満で硬化物が着色するものを○、200時間未満で着色するものを×とした。
(9) Light resistance It set so that UV light could be irradiated to the hardened | cured material of thickness 3mm in the constant temperature dryer made 50 degreeC constant from the UV irradiation apparatus (product made from Ushio Electric: SP-7) via the optical fiber. Using a 365 nm band pass filter, light of 330 to 410 nm was irradiated so as to be 3 W / cm 2 .
After the start of irradiation, ◎ indicates that the cured product is not colored for 250 hours or more, ○ indicates that the cured product is colored in 200 hours or more and less than 250 hours, and × indicates that the cured product is colored in less than 200 hours.

(10)耐熱変色性
厚さ3mmの硬化物を用い、厚さ方向の400nmの光線透過率を日本分光(株)社製JASCO V−550により測定した。次に該硬化物を、空気下で150℃で100時間加熱条件に供した後、室温で放冷した。その後、試料の厚さ方向における400nmの光線透過率を再度測定した。加熱処理前の試料の光線透過率に対する加熱処理後の試料の光線透過率の比率を光線透過保持率として算出した。光線透過保持率が90%以上を◎、85%以上90%未満を○、85%未満を×とした。
(10) Heat-resistant discoloration Using a cured product having a thickness of 3 mm, the light transmittance at 400 nm in the thickness direction was measured with JASCO V-550 manufactured by JASCO Corporation. Next, the cured product was subjected to heating conditions at 150 ° C. for 100 hours under air, and then allowed to cool at room temperature. Thereafter, the light transmittance at 400 nm in the thickness direction of the sample was measured again. The ratio of the light transmittance of the sample after the heat treatment to the light transmittance of the sample before the heat treatment was calculated as the light transmittance retention. The light transmission retention was 90% or more, ◎, 85% or more and less than 90%, and ○ or less than 85%.

(11)耐クラック性及び密着性
20mm×20mm×2mmの平板の中央に、10mmφ、深さ1mmの窪みを施したポリフタルアミド(ソルベイ社製アモデル4122)製樹脂型枠内に、5mm×5mm×0.2mmのシリコンチップを入れておき、樹脂組成物を注型し、加熱硬化して試験片を得た。得られた試験片を、冷熱サイクル試験機(エスペック社製TSE−11−A)で−40℃にて15分保持した後、平均3分で120℃まで昇温し、120℃で15分間保持し、次いで、平均3分で−40℃まで降温するサイクルにて試験を行った。
(11) Crack resistance and adhesion 5 mm × 5 mm in a resin mold made of polyphthalamide (Amodel 4122 manufactured by Solvay) with a recess of 10 mmφ and 1 mm depth in the center of a 20 mm × 20 mm × 2 mm flat plate A test piece was obtained by placing a silicon chip of × 0.2 mm, casting the resin composition, and heating and curing. The obtained test piece was held at −40 ° C. for 15 minutes with a thermal cycle tester (Espec Corp. TSE-11-A), then heated up to 120 ° C. in an average of 3 minutes, and held at 120 ° C. for 15 minutes. Then, the test was performed in a cycle in which the temperature was lowered to -40 ° C in an average of 3 minutes.

硬化した樹脂中のクラックの発生有無を目視で観察し、耐クラック性の評価とした。40サイクル以上クラックが入らなかったものを◎、20サイクル以上40サイクル未満でクラックが発生したものを△、5サイクル未満でクラックが発生したものを×とした。   The presence or absence of cracks in the cured resin was visually observed to evaluate crack resistance. The case where cracks did not occur for 40 cycles or more was rated as ◎, the case where cracks occurred in 20 cycles or more and less than 40 cycles, and the case where cracks occurred in less than 5 cycles were marked as x.

また、密着性は、硬化した樹脂とポリフタルアミド樹脂型枠の間に剥離が発生した回数で評価し、40サイクル以上剥離が生じなかったものを◎、20サイクル以上40サイクル未満で剥離が発生したものを△、5サイクル未満で剥離が発生したものを×とした。
なお、硬化終了時点で既にクラックが発生しており評価不可の場合は××とした。
In addition, the adhesion is evaluated by the number of occurrences of peeling between the cured resin and the polyphthalamide resin mold, and ◎ indicates that peeling did not occur for 40 cycles or more, and peeling occurred for 20 cycles or more and less than 40 cycles. The case where peeling occurred in less than 5 cycles was evaluated as x.
In addition, it was set as xx when the crack has already generate | occur | produced at the time of completion | finish of hardening and evaluation is impossible.

(12)半田リフロー耐性
作製した光半導体素子(20個)を85℃、85RH%に24時間放置し、吸湿させた光半導体素子を半田リフロー炉(プレヒート150℃×100秒+リフロー[最高温度260℃])に2回通過させた後のクラック、ハウジング材や光半導体素子、或いは、リード電極から剥離が生じた素子の個数を確認した(吸湿リフロー試験)。半田リフロー耐性は、クラック又はハウジング剤やクラックが発生した個数で評価し、1個以下を◎、2個以上4個以下を○、5個以上を×とした。
(12) Resistance to solder reflow The produced optical semiconductor elements (20 pieces) were left at 85 ° C. and 85 RH% for 24 hours, and the absorbed optical semiconductor elements were subjected to a solder reflow oven (preheat 150 ° C. × 100 seconds + reflow [maximum temperature 260 C]]), and the number of cracks, housing materials, optical semiconductor elements, or elements peeled off from the lead electrode after passing twice (a moisture absorption reflow test) was confirmed. Solder reflow resistance was evaluated based on the number of cracks, housing agent, or cracks. 1 or less was evaluated as ◎, 2 or more and 4 or less as ○, and 5 or more as ×.

[エポキシ変性シリコーンの製造例1]
還流冷却器、温度計及び撹拌装置を有する3Lの反応器を乾燥窒素で置換した。乾燥窒素条件下にて、前記装置に、乾燥窒素下にて脱水蒸留精製した1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン(信越化学社製試薬)80g、乾燥窒素下にて脱水蒸留精製した1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン(信越化学社製試薬)77g、乾燥窒素下にて脱水蒸留精製した4−ビニルシクロへキセンオキサイド(アルドリッチ社製試薬)81.5g、窒素下にて脱水蒸留精製した1,4−ジオキサン(和光純薬社製試薬)954gを仕込んだ後、大気圧乾燥窒素雰囲気下で攪拌しながら70℃に昇温したオイルバスで加熱した。
[Production Example 1 of Epoxy-Modified Silicone]
A 3 L reactor with reflux condenser, thermometer and stirrer was replaced with dry nitrogen. Under dry nitrogen conditions, 80 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane (reagent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) purified by dehydration distillation under dry nitrogen in the above apparatus, dehydration distillation purification under dry nitrogen 77 g of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane (Shin-Etsu Chemical reagent), 81.5 g of 4-vinylcyclohexene oxide (Aldrich reagent) purified by dehydration distillation under dry nitrogen, dehydration distillation under nitrogen After charging 954 g of purified 1,4-dioxane (a reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), the mixture was heated in an oil bath heated to 70 ° C. with stirring in an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere.

内溶液の温度が65℃を超えた後、白金元素換算で500ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシリコーン錯体の1,4−ジオキサン溶液2.0gを乾燥窒素下にて溶液に添加し、ヒドロシリル化反応を90時間行った。この際、反応液の温度は、65℃〜75℃の間であった。90時間反応後、ヒドロシリル化反応は定量的に進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。次いで、反応液の加熱を停止し、室温まで放冷した。   After the temperature of the inner solution exceeds 65 ° C., 2.0 g of a 1,4-dioxane solution of platinum divinyltetramethyldisilicone complex containing 500 ppm of platinum in terms of platinum element is added to the solution under dry nitrogen, The hydrosilylation reaction was performed for 90 hours. At this time, the temperature of the reaction solution was between 65 ° C and 75 ° C. After the reaction for 90 hours, the hydrosilylation reaction proceeded quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected. Subsequently, the heating of the reaction solution was stopped and the mixture was allowed to cool to room temperature.

反応開始時において、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの炭素−炭素2重結合のモル数(r2)との比(r2/r1)の値は0.62、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>の炭素−炭素2重結合のモル数(r4)との比(r4/r1)の値は0.49、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対し、添加した化合物中の炭素−炭素2重結合の合計モル数は1.11倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前のオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して1/259,459倍であった。
At the start of the reaction, the ratio between the total number of SiH units (r1) of the organohydrogensilicone and the number of moles (r2) of the carbon-carbon double bonds of the silicone having a coexisting carbon-carbon double bond ( The value of r2 / r1) is 0.62, the total number of SiH units of the organohydrogensilicone (r1), and the carbon-carbon 2 of the compound <A> having a coexisting carbon-carbon double bond and epoxy group. The value of the ratio (r4 / r1) to the number of moles of heavy bonds (r4) is 0.49, and the total number of carbon-carbon double bonds in the added compound relative to the total number of moles of SiH units in the organohydrogensilicone. The number of moles was 1.11 times.
In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms was 1 / 259,459 times the total number of moles of SiH units in the organohydrogensilicone before the hydrosilylation reaction. .

冷却が完了した後、該反応液に乾燥窒素下にて脱水蒸留精製したアセトニトリル(和光純薬社製試薬)954gを添加し、大気圧乾燥窒素雰囲気下で2時間攪拌した後、攪拌を停止した。次いで、乾燥窒素気流下にて150℃で3時間加熱乾燥した活性炭(和光純薬製:顆粒状)790gを添加して、乾燥窒素雰囲気下にて48時間活性炭処理を行った。   After the cooling was completed, 954 g of acetonitrile (reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) dehydrated and purified under dry nitrogen was added to the reaction solution, and the mixture was stirred for 2 hours under an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere, and then the stirring was stopped. . Next, 790 g of activated carbon (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd .: granular) heated and dried at 150 ° C. for 3 hours under a dry nitrogen stream was added, and activated carbon treatment was performed for 48 hours under a dry nitrogen atmosphere.

活性炭処理終了後、孔径1μmのPTFE製メンブレンフィルターを用いて活性炭をろ過してろ液を回収した。更に、前記操作にて分離された活性炭を、窒素下にて脱水蒸留精製した1,4−ジオキサン(和光純薬社製試薬)1500gで洗浄し、同様にメンブレンフィルターを用いて活性炭をろ過して洗浄液を回収して、先に得られたろ液と混合した。回収された混合液をエバポレーターを用いて、減圧条件下、加熱温度40℃にて1,4−ジオキサン及びアセトニトリルを留去し、エポキシ変性シリコーン含有成分を得た。   After the activated carbon treatment was completed, the activated carbon was filtered using a PTFE membrane filter having a pore size of 1 μm to collect the filtrate. Furthermore, the activated carbon separated by the above operation was washed with 1500 g of 1,4-dioxane (reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) purified by dehydration distillation under nitrogen, and the activated carbon was similarly filtered using a membrane filter. The washing liquid was collected and mixed with the previously obtained filtrate. 1,4-dioxane and acetonitrile were distilled off from the collected liquid mixture using an evaporator at a heating temperature of 40 ° C. under reduced pressure to obtain an epoxy-modified silicone-containing component.

得られたエポキシ変性シリコーン含有成分の一部を内径70mm、有効長さ200mmのパイレックス(登録商標)ガラス製円筒状チューブに入れ、ガラスチューブオーブン(柴田科学製GTO−350)にセットした。内部の円筒形チューブの回転を開始し、室温条件下にて内部を乾燥窒素置換した後に、温度40℃、圧力0.2kPaにて、内部に大気圧換算で10mL/分の流量にて乾燥窒素を導入しながら80時間加熱減圧処理して、低沸化合物を低減したエポキシ変性シリコーンを得た。この操作を上記で得られた1,4−ジオキサン及びアセトニトリルを留去した残りのエポキシ変性シリコーン含有成分に対して繰り返し行い、低沸化合物を低減した[エポキシ変性シリコーン1a]190gを得た。   A part of the obtained epoxy-modified silicone-containing component was placed in a Pyrex (registered trademark) glass cylindrical tube having an inner diameter of 70 mm and an effective length of 200 mm, and set in a glass tube oven (GTO-350 manufactured by Shibata Kagaku). After starting rotation of the internal cylindrical tube and substituting the inside with dry nitrogen under room temperature conditions, at a temperature of 40 ° C. and a pressure of 0.2 kPa, the dry nitrogen was supplied at a flow rate of 10 mL / min in terms of atmospheric pressure. An epoxy-modified silicone with reduced low-boiling compounds was obtained by heating under reduced pressure for 80 hours while introducing. This operation was repeated for the remaining epoxy-modified silicone-containing component obtained by distilling off 1,4-dioxane and acetonitrile obtained above to obtain 190 g of [epoxy-modified silicone 1a] with reduced low boiling point compounds.

得られた[エポキシ変性シリコーン1a]は、数平均分子量2,100の下記平均組成式(H−1)で表される構造であった。
(MeYSiO1/2)7.91(MeZSiO2/2)7.91(Me[VCHO]SiO2/2)4.83 ・・・(H−1)
[ここで、平均組成式(H−1)中におけるYは−CH−CH−で表される2価の有機基、Zは2価の炭化水素基Yとの結合を表す。また、(Me[VCHO]SiO2/2)は水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
The obtained [epoxy-modified silicone 1a] had a structure represented by the following average composition formula (H-1) having a number average molecular weight of 2,100.
(Me 2 YSiO 1/2 ) 7.91 (MeZSiO 2/2 ) 7.91 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 4.83 (H-1)
[Wherein Y in the average composition formula (H-1) represents a divalent organic group represented by —CH 2 —CH 2 —, and Z represents a bond with a divalent hydrocarbon group Y. In addition, (Me [VCHO] SiO 2/2 ) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a hydrogen methylsiloxy unit by an anti-markovnikov by a hydrosilylation reaction. ]

未反応のSiH単位が検出されなかったことから、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。
また、該[エポキシ変性シリコーン1a]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、下記化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、下記化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は2.10、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.383であった。また、[エポキシ変性シリコーン1a]中の分子量800以下の成分の含有率は20.4%、分子量1万以上の成分の含有率は26.5%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン1a]のエポキシ価は0.23、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で0.5ppmであった。
Since no unreacted SiH unit was detected, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.
The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 1a] is a compound represented by the following chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), while the general formula The compound represented by (2) is a compound represented by the following chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 2.10, average composition The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in formula (3) was 0.383. The content of components having a molecular weight of 800 or less in [Epoxy-modified silicone 1a] was 20.4%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 26.5%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy-modified silicone 1a] was 0.23, the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 0.5 ppm in terms of platinum element.

Figure 2012041381
Figure 2012041381

Figure 2012041381
Figure 2012041381

[エポキシ変性シリコーン1a]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.001質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。
また、[エポキシ変性シリコーン1a]は、25℃で1週間保管しても、分子量の増大は認められなかった。
As the volatile compound remaining in the [epoxy-modified silicone 1a], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.001 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.
[Epoxy-modified silicone 1a] was not observed to increase in molecular weight even when stored at 25 ° C. for 1 week.

[エポキシ変性シリコーンの製造例2]
2Lの反応器を用いたこと、脱水蒸留精製した1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンを40g用いたこと、1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンを用いなかったこと、脱水蒸留精製した4−ビニルシクロへキセンオキサイドを108g用いたこと、脱水蒸留精製した1,4−ジオキサンを590g用いたこと、白金元素換算で500ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシリコーン錯体の1,4−ジオキサン溶液を1g添加したこと、大気圧乾燥窒素雰囲気下で攪拌しながら70℃に昇温したオイルバスで加熱し、内溶液の温度が65℃を超えた後、白金元素換算で500ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシリコーン錯体の1,4−ジオキサン溶液を1g添加したこと、ヒドロシリル化反応時間を5時間としたこと以外は、[エポキシ変性シリコーンの製造例1]と同様に、ヒドロシリル化反応を実施した。
[Production Example 2 of Epoxy-Modified Silicone]
2 L reactor was used, 40 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane purified by dehydration distillation was used, 1,3-divinyltetramethyldisiloxane was not used, dehydration distillation purification 108 g of the prepared 4-vinylcyclohexene oxide, 590 g of 1,4-dioxane purified by dehydration distillation, 1,4-diplatinum tetramethyldisilicone complex containing 500 ppm platinum in terms of platinum element After adding 1 g of dioxane solution and heating in an oil bath heated to 70 ° C. while stirring under an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere, the temperature of the inner solution exceeded 65 ° C., and then 500 ppm of platinum in terms of platinum element was added. 1 g of 1,4-dioxane solution of platinum divinyltetramethyldisilicone complex contained was added, Except that the reaction time is 5 hours, in the same manner as Production Example of the epoxy-modified silicone 1], was carried out hydrosilylation reaction.

この際、反応液の温度は、65℃〜100℃の間であった。5時間反応後、ヒドロシリル化反応は定量的に進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。次いで、反応液の加熱を停止し、室温まで放冷した。   At this time, the temperature of the reaction solution was between 65 ° C and 100 ° C. After the reaction for 5 hours, the hydrosilylation reaction proceeded quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected. Subsequently, the heating of the reaction solution was stopped and the mixture was allowed to cool to room temperature.

冷却が完了した後、該反応液に乾燥窒素下にて脱水蒸留精製したアセトニトリル(和光純薬社製試薬)590gを添加し、大気圧乾燥窒素雰囲気下で2時間攪拌した後、攪拌を停止した。次いで、乾燥窒素気流下にて150℃で3時間加熱乾燥した活性炭(和光純薬製:顆粒状)800gを添加して、乾燥窒素雰囲気下にて48時間活性炭処理を行った。   After cooling was completed, 590 g of acetonitrile (reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) purified by dehydration distillation under dry nitrogen was added to the reaction solution, and the mixture was stirred for 2 hours under an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere, and then the stirring was stopped. . Next, 800 g of activated carbon (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd .: granular) heated and dried at 150 ° C. for 3 hours under a dry nitrogen stream was added, and activated carbon treatment was performed for 48 hours under a dry nitrogen atmosphere.

活性炭処理終了後、孔径1μmのPTFE製メンブレンフィルターを用いて活性炭をろ過してろ液を回収した。更に、前記操作にて分離された活性炭を、窒素下にて脱水蒸留精製した1,4−ジオキサン(和光純薬社製試薬)900gで洗浄し、同様にメンブレンフィルターを用いて活性炭をろ過して洗浄液を回収して、先に得られたろ液と混合した。回収された混合液をエバポレーターを用いて、減圧条件下、加熱温度40℃にて1,4−ジオキサン及びアセトニトリルを留去し、エポキシ変性シリコーン含有成分を得た。   After the activated carbon treatment was completed, the activated carbon was filtered using a PTFE membrane filter having a pore size of 1 μm to collect the filtrate. Furthermore, the activated carbon separated by the above operation was washed with 900 g of 1,4-dioxane (reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) purified by dehydration distillation under nitrogen, and the activated carbon was similarly filtered using a membrane filter. The washing liquid was collected and mixed with the previously obtained filtrate. 1,4-dioxane and acetonitrile were distilled off from the collected liquid mixture using an evaporator at a heating temperature of 40 ° C. under reduced pressure to obtain an epoxy-modified silicone-containing component.

得られたエポキシ変性シリコーンの一部を内径70mm、有効長さ200mmのパイレックス(登録商標)ガラス製円筒状チューブに入れ、ガラスチューブオーブン(柴田科学製GTO−350)にセットした。内部の円筒形チューブの回転を開始し、室温条件下にて内部を乾燥窒素置換した後に、温度40℃、圧力0.2kPaにて、内部に大気圧換算で10ml/分の流量にて乾燥窒素を導入しながら24時間加熱減圧処理して低沸化合物を低減した後、乾燥窒素の導入を停止し、引続き20Paの圧力で280℃〜300℃に加熱して低沸化合物を低減したエポキシ変性シリコーンを得た。この操作を上記で得られた1,4−ジオキサン及びアセトニトリルを留去した残りのエポキシ変性シリコーンに対して繰り返し行い、低沸化合物を低減した[エポキシ変性シリコーン2a]50gを得た。   A part of the resulting epoxy-modified silicone was placed in a Pyrex (registered trademark) glass cylindrical tube having an inner diameter of 70 mm and an effective length of 200 mm, and set in a glass tube oven (GTO-350 manufactured by Shibata Kagaku). After starting rotation of the internal cylindrical tube and substituting the inside with dry nitrogen at room temperature, dry nitrogen at a temperature of 40 ° C. and a pressure of 0.2 kPa at a flow rate of 10 ml / min in terms of atmospheric pressure inside. Epoxy-modified silicone with reduced low-boiling compounds by reducing the low-boiling compounds by reducing the low-boiling compounds by introducing heat treatment under reduced pressure for 24 hours, and then stopping the introduction of dry nitrogen and subsequently heating to 280 ° C. to 300 ° C. at a pressure of 20 Pa Got. This operation was repeated for the remaining epoxy-modified silicone obtained by distilling off 1,4-dioxane and acetonitrile obtained above to obtain 50 g of [epoxy-modified silicone 2a] with reduced low boiling point compounds.

得られた[エポキシ変性シリコーン2a]は、下記の化学式(H−2)で表される構造であった。また、エポキシ価は0.54、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で0.5ppmであった。   [Epoxy-modified silicone 2a] thus obtained had a structure represented by the following chemical formula (H-2). Moreover, the epoxy value was 0.54, the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 0.5 ppm in terms of platinum element.

Figure 2012041381
Figure 2012041381

[エポキシ変性シリコーン2a]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.001質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。
また、[エポキシ変性シリコーン2a]は、25℃で1週間保管しても、分子量の増大は認められなかった。
As the volatile compound remaining in the [epoxy-modified silicone 2a], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.001 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.
[Epoxy-modified silicone 2a] was not observed to increase in molecular weight even when stored at 25 ° C. for 1 week.

[エポキシ変性シリコーンの製造例3]
ヒドロシリル化反応時に、脱水蒸留精製した1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンを84g用いたこと、脱水蒸留精製した4−ビニルシクロへキセンオキサイドを69.31g用いたこと、脱水蒸留精製した1,4−ジオキサンを930g用いたこと、ヒドロシリル化反応を110時間行ったこと、ヒドロシリル化反応後に溶液を冷却した後に、添加するアセトニトリルを930gとしたこと以外は[エポキシ変性シリコーンの製造例1]と同様にして、低沸化合物を低減した、[エポキシ変性シリコーン3a]187gを得た。
[Production Example 3 of Epoxy-Modified Silicone]
In the hydrosilylation reaction, 84 g of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane purified by dehydration distillation was used, 69.31 g of 4-vinylcyclohexene oxide purified by dehydration distillation was used, [Epoxy-modified silicone production example 1], except that 930 g of dioxane was used, the hydrosilylation reaction was performed for 110 hours, and the solution was cooled after the hydrosilylation reaction, and then added to 930 g of acetonitrile. Thus, 187 g of [epoxy-modified silicone 3a] with reduced low boiling point compounds was obtained.

ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。   When sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction progressed quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected.

反応開始時において、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの炭素−炭素2重結合のモル数(r2)との比(r2/r1)の値は0.68、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>の炭素−炭素2重結合のモル数(r4)との比(r4/r1)の値は0.42、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対し、添加した化合物中の炭素−炭素2重結合の合計モル数は1.10倍であった。
また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前のオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/259,459倍であった。
At the start of the reaction, the ratio between the total number of SiH units (r1) of the organohydrogensilicone and the number of moles (r2) of the carbon-carbon double bonds of the silicone having a coexisting carbon-carbon double bond ( The value of r2 / r1) is 0.68, and the total number of SiH units of the organohydrogensilicone (r1) and the carbon-carbon 2 of the compound <A> having a coexisting carbon-carbon double bond and epoxy group. The ratio (r4 / r1) to the number of moles of heavy bonds (r4) is 0.42, and the total number of carbon-carbon double bonds in the added compound with respect to the total number of moles of SiH units in the organohydrogensilicone. The number of moles was 1.10 times.
Further, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms was 1 / 259,459 times the total number of moles of SiH units of the organohydrogensilicone before the hydrosilylation reaction. It was.

得られた[エポキシ変性シリコーン3a]は、数平均分子量2,400の下記平均組成式(H−3)で表される構造であった。
(MeYSiO1/2)9.97(MeZSiO2/2)9.97(Me[VCHO]SiO2/2)4.75 ・・・(H−3)
[ここで、平均組成式(H−3)において、Yは−CH−CH−で表される2価の有機基、Zは2価の炭化水素基Yとの結合を表す。また、(Me[VCHO]SiO2/2)は水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
[Epoxy-modified silicone 3a] obtained had a structure represented by the following average composition formula (H-3) having a number average molecular weight of 2,400.
(Me 2 YSiO 1/2 ) 9.97 (MeZSiO 2/2 ) 9.97 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 4.75 (H-3)
Here, in the average composition formula (H-3), Y represents a divalent organic group represented by —CH 2 —CH 2 —, and Z represents a bond with a divalent hydrocarbon group Y. In addition, (Me [VCHO] SiO 2/2 ) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a hydrogen methylsiloxy unit by an anti-markovnikov by a hydrosilylation reaction. ]

未反応のSiH単位が検出されなかったことから、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0となった。
また、該[エポキシ変性シリコーン3a]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は3.03、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.400であった。また、[エポキシ変性シリコーン1a]中の分子量800以下の成分の含有率は17.0%、分子量1万以上の成分の含有率は34.9%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン3a]のエポキシ価は0.20、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で0.5ppmであった。
Since no unreacted SiH unit was detected, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.
The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 3a] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is the compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 3.03, The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.400. The content of components having a molecular weight of 800 or less in [Epoxy-modified silicone 1a] was 17.0%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 34.9%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy-modified silicone 3a] was 0.20, the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 0.5 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン3a]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.002質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。
また、[エポキシ変性シリコーン3a]は、25℃で1週間保管しても、分子量の増大は認められなかった。
As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 3a], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.002 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.
[Epoxy-modified silicone 3a] was not observed to increase in molecular weight even when stored at 25 ° C. for 1 week.

[エポキシ変性シリコーンの製造例4]
1.5Lの反応器を用いたこと、ヒドロシリル化反応時に、脱水蒸留精製した1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンを80g用いたこと、脱水蒸留精製した4−ビニルシクロへキセンオキサイドを76.24g用いたこと、脱水蒸留精製した1,4−ジオキサンを860g用いたこと、白金元素換算で500ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシリコーン錯体の1,4−ジオキサン溶液を1g添加したこと、ヒドロシリル化反応時間を100時間としたこと以外は、[エポキシ変性シリコーンの製造例1]と同様に、ヒドロシリル化反応を実施した。
[Production Example 4 of Epoxy-Modified Silicone]
Use of 1.5 L reactor, 80 g of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane purified by dehydration distillation during hydrosilylation reaction, 76.24 g of 4-vinylcyclohexene oxide purified by dehydration distillation 860 g of 1,4-dioxane purified by dehydration and distillation, 1 g of 1,4-dioxane solution of platinum divinyltetramethyldisilicone complex containing 500 ppm of platinum in terms of platinum element, hydrosilylation The hydrosilylation reaction was carried out in the same manner as in [Epoxy-modified silicone production example 1] except that the reaction time was 100 hours.

反応開始時において、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの炭素−炭素2重結合のモル数(r2)との比(r2/r1)の値は0.65、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>の炭素−炭素2重結合のモル数(r4)との比(r4/r1)の値は0.46、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対し、添加した化合物中の炭素−炭素2重結合の合計モル数は1.11倍であった。   At the start of the reaction, the ratio between the total number of SiH units (r1) of the organohydrogensilicone and the number of moles (r2) of the carbon-carbon double bonds of the silicone having a coexisting carbon-carbon double bond ( The value of r2 / r1) is 0.65, the total number of SiH units of the organohydrogensilicone (r1), and the carbon-carbon 2 of the compound <A> having a coexisting carbon-carbon double bond and epoxy group. The value of the ratio (r4 / r1) to the number of moles of heavy bonds (r4) is 0.46, and the total number of carbon-carbon double bonds in the added compound with respect to the total number of moles of SiH units of the organohydrogensilicone. The number of moles was 1.11 times.

また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前のオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して1/235,872倍であった。また、ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。   Further, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms was 1 / 235,872 times the total number of moles of SiH units of the organohydrogensilicone before the hydrosilylation reaction. . Further, when sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction proceeded quantitatively, and unreacted SiH units were not detected.

ヒドロシリル化反応完了後、加熱温度を保ったまま、該反応液に乾燥窒素下にて脱水蒸留精製したベンゾニトリル(和光純薬社製試薬)86gを添加し、大気圧乾燥窒素雰囲気下で2時間攪拌した後、攪拌を停止して室温まで冷却した。   After completion of the hydrosilylation reaction, 86 g of benzonitrile (reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) purified by dehydration distillation under dry nitrogen was added to the reaction solution while maintaining the heating temperature, and the reaction solution was kept under an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere for 2 hours. After stirring, stirring was stopped and cooled to room temperature.

次いで、乾燥窒素気流下にて150℃で3時間加熱乾燥した活性炭(和光純薬製:顆粒状)300gを添加して、乾燥窒素雰囲気下にて48時間活性炭処理を行った。活性炭処理終了後、孔径1μmのPTFE製メンブレンフィルターを用いて活性炭をろ過してろ液を回収した。更に、前記操作にて分離された活性炭を、窒素下にて脱水蒸留精製した1,4−ジオキサン(和光純薬社製試薬)1500gで洗浄し、同様にメンブレンフィルターを用いて活性炭をろ過して洗浄液を回収して、先に得られたろ液と混合した。回収された混合液をエバポレーターを用いて、減圧条件下、加熱温度40℃にて1,4−ジオキサンを留去し、エポキシ変性シリコーン含有成分を得た。   Next, 300 g of activated carbon (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd .: granular) heated and dried at 150 ° C. for 3 hours under a dry nitrogen stream was added, and the activated carbon treatment was performed for 48 hours under a dry nitrogen atmosphere. After the activated carbon treatment was completed, the activated carbon was filtered using a PTFE membrane filter having a pore size of 1 μm to collect the filtrate. Furthermore, the activated carbon separated by the above operation was washed with 1500 g of 1,4-dioxane (reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) purified by dehydration distillation under nitrogen, and the activated carbon was similarly filtered using a membrane filter. The washing liquid was collected and mixed with the previously obtained filtrate. 1,4-dioxane was distilled off from the recovered mixture using an evaporator at a heating temperature of 40 ° C. under reduced pressure to obtain an epoxy-modified silicone-containing component.

得られたエポキシ変性シリコーン含有成分を、「エポキシ変性シリコーンの製造例1」と同様に、内部に大気圧換算で10mL/分の流量にて乾燥窒素を導入しながら、温度40℃、圧力0.2kPaにてガラスチューブオーブンで低沸化合物を留去し、低沸化合物を低減したエポキシ変性シリコーン含有成分を得た。この操作を上記で得られた1,4−ジオキサンを留去した残りのエポキシ変性シリコーンに対して繰り返し行い、低沸化合物を低減した[エポキシ変性シリコーン4a]208gを得た。
得られた[エポキシ変性シリコーン4a]は、数平均分子量2,300の下記平均組成式(H−4)で表される構造であった。
The obtained epoxy-modified silicone-containing component was introduced into the inside at a flow rate of 10 mL / min in terms of atmospheric pressure, while the temperature was 40 ° C. and the pressure was 0. The low boiling compound was distilled off in a glass tube oven at 2 kPa to obtain an epoxy-modified silicone-containing component with reduced low boiling compound. This operation was repeated for the remaining epoxy-modified silicone obtained by distilling off the 1,4-dioxane obtained above to obtain 208 g of [epoxy-modified silicone 4a] with reduced low boiling point compounds.
[Epoxy-modified silicone 4a] obtained had a structure represented by the following average composition formula (H-4) having a number average molecular weight of 2,300.

(MeYSiO1/2)9.05(MeZSiO2/2)9.05(Me[VCHO]SiO2/2)4.98 ・・・(H−4)
[ここで、平均組成式(H−4)中におけるYは−CH−CH−で表される2価の有機基、Zは2価の炭化水素基Yとの結合を表す。また、(Me[VCHO]SiO2/2)は水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
(Me 2 YSiO 1/2 ) 9.05 (MeZSiO 2/2 ) 9.05 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 4.98 (H-4)
[Wherein Y in the average composition formula (H-4) represents a divalent organic group represented by —CH 2 —CH 2 —, and Z represents a bond with a divalent hydrocarbon group Y. In addition, (Me [VCHO] SiO 2/2 ) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a hydrogen methylsiloxy unit by an anti-markovnikov by a hydrosilylation reaction. ]

未反応のSiH単位が検出されなかったことから、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。
また、該[エポキシ変性シリコーン4a]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は2.44、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.39であった。また、[エポキシ変性シリコーン4a]中の分子量800以下の成分の含有率は17.7%、分子量1万以上の成分の含有率は30.7%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン4a]のエポキシ価は0.22、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で0.5ppmであった。
Since no unreacted SiH unit was detected, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.
The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 4a] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is the compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 2.44. The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.39. The content of components having a molecular weight of 800 or less in [Epoxy-modified silicone 4a] was 17.7%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 30.7%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy modified silicone 4a] was 0.22, and the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 0.5 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン4a]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.002質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。
また、[エポキシ変性シリコーン4a]は、25℃で1週間保管しても、分子量の増大は認められなかった。
As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 4a], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.002 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.
[Epoxy-modified silicone 4a] showed no increase in molecular weight even when stored at 25 ° C. for 1 week.

[エポキシ変性シリコーンの製造例5]
還流冷却器、温度計及び撹拌装置を有する2.5Lの反応器を乾燥窒素で置換する。乾燥窒素条件下にて、前記装置に、乾燥窒素下にて脱水蒸留精製した1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン(信越化学社製試薬)80g、乾燥窒素下にて脱水蒸留精製した4−ビニルシクロへキセンオキサイド(アルドリッチ社製試薬)104.5g、窒素下にて脱水蒸留精製した1,4−ジオキサン(和光純薬社製試薬)855gを仕込んだ後、大気圧乾燥窒素雰囲気下で攪拌しながら70℃に昇温したオイルバスで加熱した。
内溶液の温度が65℃を超えた後、白金元素換算で500ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシリコーン錯体の1,4−ジオキサン溶液2.5gを、乾燥窒素下にて溶液に添加し、ヒドロシリル化反応を4時間行った。この際、反応液の温度は、65℃〜100℃の間であった。4時間反応後、反応溶液中に4−ビニルシクロヘキセンオキサイドは検出されなかった。その後、引き続き乾燥窒素下にて脱水蒸留精製した1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン(信越化学社製試薬)50gを反応溶液に添加し、大気圧乾燥窒素雰囲気下で攪拌しながら、引き続き70℃のオイルバスで加熱してヒドロシリル化反応を36時間行い、反応液の加熱を停止して室温まで放冷した。この際、反応液の温度は、65℃〜75℃の間であった。加熱停止前に溶液を分析した結果、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。
[Production Example 5 of Epoxy-Modified Silicone]
A 2.5 L reactor with reflux condenser, thermometer and stirrer is replaced with dry nitrogen. Under dry nitrogen conditions, 80 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane (reagent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) purified by dehydration distillation under dry nitrogen in the above apparatus, dehydration distillation purification under dry nitrogen After charging 104.5 g of 4-vinylcyclohexene oxide (reagent manufactured by Aldrich) and 855 g of 1,4-dioxane (reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) purified by dehydration distillation under nitrogen, the reaction was performed under an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere. The mixture was heated in an oil bath heated to 70 ° C. with stirring.
After the temperature of the inner solution exceeds 65 ° C., 2.5 g of a 1,4-dioxane solution of platinum divinyltetramethyldisilicone complex containing 500 ppm of platinum in terms of platinum element is added to the solution under dry nitrogen. The hydrosilylation reaction was carried out for 4 hours. At this time, the temperature of the reaction solution was between 65 ° C and 100 ° C. After the reaction for 4 hours, 4-vinylcyclohexene oxide was not detected in the reaction solution. Thereafter, 50 g of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane (reagent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), which was subsequently purified by dehydration and distillation under dry nitrogen, was added to the reaction solution, followed by stirring at 70 ° C. while stirring in an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere. The hydrosilylation reaction was performed for 36 hours by heating in an oil bath, and the reaction liquid was stopped from heating and allowed to cool to room temperature. At this time, the temperature of the reaction solution was between 65 ° C and 75 ° C. As a result of analyzing the solution before stopping the heating, the hydrosilylation reaction progressed quantitatively, and unreacted SiH units were not detected.

本製造例では炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>以外のビニル化合物<B>は用いておらず、反応開始時における、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(s1)と、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>の炭素−炭素2重結合のモル数(s2)との比(s2/s1)の値は0.63、反応開始時におけるオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(s1)と、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>との反応が終了した後に添加した炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの炭素−炭素2重結合のモル数(s4)との比(s4/s1)の値は0.40であり、[s4/(s1−s2)]の値は1.10であった。   In this production example, no vinyl compound <B> other than the compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is used, and the total number of SiH units of organohydrogensilicone at the start of the reaction (s1 ) And the number of moles of carbon-carbon double bonds (s2) of the compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group (s2 / s1) is 0.63, at the start of the reaction Of the silicone having a carbon-carbon double bond added after the reaction of the total number of SiH units (s1) of the organohydrogensilicone with the compound <A> having a carbon-carbon double bond and an epoxy group is completed. The value of the ratio (s4 / s1) to the number of moles of carbon-carbon double bonds (s4) (s4 / s1) was 0.40, and the value of [s4 / (s1-s2)] was 1.10.

また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前のオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して、1/207,568倍であった。   In addition, the number of moles of the catalyst used to start the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms was 1 / 207,568 times the total number of moles of SiH units in the organohydrogensilicone before the hydrosilylation reaction. It was.

冷却が完了した後、該反応液に乾燥窒素下にて脱水蒸留精製したアセトニトリル855gを用いたこと以外は、[エポキシ変性シリコーンの製造例1]と同様のガラスチューブオーブンでの処理を行って、低沸化合物を低減した[エポキシ変性シリコーン5a]200gを得た。   After the cooling was completed, the reaction solution was treated in the same glass tube oven as [Epoxy-modified silicone production example 1], except that 855 g of acetonitrile dehydrated and purified under dry nitrogen was used. 200 g of [epoxy-modified silicone 5a] with reduced low boiling point compounds was obtained.

得られた[エポキシ変性シリコーン5a]は、数平均分子量1,200の下記平均組成式(H−5)で表される構造であった。
(MeYSiO1/2)2.82(MeZSiO2/2)2.82(Me[VCHO]SiO2/2)4.18 ・・・(H−5)
[ここで、平均組成式(H−5)において、Yは−CH−CH−で表される2価の有機基、Zは2価の炭化水素基Yとの結合を表す。また、(Me[VCHO]SiO2/2)は水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
The obtained [epoxy-modified silicone 5a] had a structure represented by the following average composition formula (H-5) having a number average molecular weight of 1,200.
(Me 2 YSiO 1/2 ) 2.82 (MeZSiO 2/2 ) 2.82 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 4.18 (H-5)
Here, in the average composition formula (H-5), Y represents a divalent organic group represented by —CH 2 —CH 2 —, and Z represents a bond with a divalent hydrocarbon group Y. In addition, (Me [VCHO] SiO 2/2 ) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a hydrogen methylsiloxy unit by an anti-markovnikov by a hydrosilylation reaction. ]

未反応のSiH単位が検出されなかったことから、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0となった。
また、該[エポキシ変性シリコーン5a]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は0.66、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.29であった。また、[エポキシ変性シリコーン5a]中の分子量800以下の成分の含有率は31.8%、分子量1万以上の成分の含有率は10.8%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン5a]のエポキシ価は0.35、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で0.5ppmであった。
Since no unreacted SiH unit was detected, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.
The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 5a] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is a compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 0.66, The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.29. The content of components having a molecular weight of 800 or less in [Epoxy-modified silicone 5a] was 31.8%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 10.8%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy-modified silicone 5a] was 0.35, the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 0.5 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン5a]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.001質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。
また、[エポキシ変性シリコーン5a]は、25℃で1週間保管しても、分子量の増大は認められなかった。
As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 5a], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.001 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.
[Epoxy-modified silicone 5a] showed no increase in molecular weight even when stored at 25 ° C. for 1 week.

[エポキシ変性シリコーンの製造例6]
1.5Lの反応器を用いたこと、ヒドロシリル化反応時に、脱水蒸留精製した1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンを72g用いたこと、脱水蒸留精製した4−ビニルシクロへキセンオキサイドを90.1g用いたこと、脱水蒸留精製した1,4−ジオキサンを850g用いたこと、白金元素換算で500ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシリコーン錯体の1,4−ジオキサン溶液を2g添加したこと、ヒドロシリル化反応時間を90時間としたこと、以外は、[エポキシ変性シリコーンの製造例1]と同様に、ヒドロシリル化反応を実施した。
[Production Example 6 of Epoxy-Modified Silicone]
Use of 1.5 L reactor, 72 g of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane purified by dehydration distillation during hydrosilylation reaction, 90.1 g of 4-vinylcyclohexene oxide purified by dehydration distillation 850 g of 1,4-dioxane purified by dehydration and distillation, 2 g of 1,4-dioxane solution of platinum divinyltetramethyldisilicone complex containing 500 ppm platinum in terms of platinum element, hydrosilylation The hydrosilylation reaction was carried out in the same manner as in [Epoxy-modified silicone production example 1] except that the reaction time was 90 hours.

反応開始時において、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの炭素−炭素2重結合のモル数(r2)との比(r2/r1)の値は0.58、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>の炭素−炭素2重結合のモル数(r4)との比(r4/r1)の値は0.55、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対し、添加した化合物中の炭素−炭素2重結合の合計モル数は1.13倍であった。   At the start of the reaction, the ratio between the total number of SiH units (r1) of the organohydrogensilicone and the number of moles (r2) of the carbon-carbon double bonds of the silicone having a coexisting carbon-carbon double bond ( The value of r2 / r1) is 0.58, the total number of moles of SiH units in the organohydrogen silicone (r1), and the carbon-carbon 2 of the compound <A> having a coexisting carbon-carbon double bond and epoxy group. The ratio (r4 / r1) to the number of moles of heavy bonds (r4) is 0.55, and the total number of carbon-carbon double bonds in the added compound relative to the total number of moles of SiH units in the organohydrogensilicone. The number of moles was 1.13 times.

また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前のオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して1/259,459倍であった。また、ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。   In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms was 1 / 259,459 times the total number of moles of SiH units in the organohydrogensilicone before the hydrosilylation reaction. . Further, when sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction proceeded quantitatively, and unreacted SiH units were not detected.

ヒドロシリル化反応完了後、加熱温度を保ったまま、該反応液に乾燥窒素下にて脱水蒸留精製したベンゾニトリル(和光純薬社製試薬)43gを添加し、大気圧乾燥窒素雰囲気下で2時間攪拌した後、攪拌を停止して室温まで冷却した。   After completion of the hydrosilylation reaction, 43 g of benzonitrile (reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) purified by dehydration distillation under dry nitrogen was added to the reaction solution while maintaining the heating temperature, and the reaction solution was kept under an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere for 2 hours. After stirring, stirring was stopped and cooled to room temperature.

冷却した反応溶液をエバポレーターを用いて、減圧条件下、加熱温度40℃にて1,4−ジオキサンを留去し、エポキシ変性シリコーン含有成分を得た。   1,4-dioxane was distilled off from the cooled reaction solution using an evaporator at a heating temperature of 40 ° C. under reduced pressure to obtain an epoxy-modified silicone-containing component.

得られたエポキシ変性シリコーン含有成分を、「エポキシ変性シリコーンの製造例1」と同様に、内部に大気圧換算で10mL/分の流量にて乾燥窒素を導入しながら、温度40℃、圧力0.2kPaにてガラスチューブオーブンで低沸化合物を留去し、低沸化合物を低減したエポキシ変性シリコーン含有成分を得た。この操作を上記で得られた1,4−ジオキサンを留去した残りのエポキシ変性シリコーンに対して繰り返し行い、低沸化合物を低減した[エポキシ変性シリコーン6a]210gを得た。   The obtained epoxy-modified silicone-containing component was introduced into the inside at a flow rate of 10 mL / min in terms of atmospheric pressure, while the temperature was 40 ° C. and the pressure was 0. 0, as in “Epoxy-modified silicone production example 1”. The low boiling compound was distilled off in a glass tube oven at 2 kPa to obtain an epoxy-modified silicone-containing component with reduced low boiling compound. This operation was repeated for the remaining epoxy-modified silicone obtained by distilling off 1,4-dioxane obtained above to obtain 210 g of [epoxy-modified silicone 6a] with reduced low boiling point compounds.

得られた[エポキシ変性シリコーン6a]は、数平均分子量1,900の下記平均組成式(H−6)で表される構造であった。
(MeYSiO1/2)6.65(MeZSiO2/2)6.65(Me[VCHO]SiO2/2)4.80 ・・・(H−6)
[ここで、平均組成式(H−6)中におけるYは−CH−CH−で表される2価の有機基、Zは2価の炭化水素基Yとの結合を表す。また、(Me[VCHO]SiO2/2)は水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
The obtained [epoxy-modified silicone 6a] had a structure represented by the following average composition formula (H-6) having a number average molecular weight of 1,900.
(Me 2 YSiO 1/2 ) 6.65 (MeZSiO 2/2 ) 6.65 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 4.80 (H-6)
Here, Y in the average composition formula (H-6) represents a divalent organic group represented by —CH 2 —CH 2 —, and Z represents a bond with a divalent hydrocarbon group Y. In addition, (Me [VCHO] SiO 2/2 ) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a hydrogen methylsiloxy unit by an anti-markovnikov by a hydrosilylation reaction. ]

未反応のSiH単位が検出されなかったことから、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。
また、該[エポキシ変性シリコーン6a]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は1.56、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.37であった。また、[エポキシ変性シリコーン6a]中の分子量800以下の成分の含有率は23.4%、分子量1万以上の成分の含有率は20.9%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン6a]のエポキシ価は0.25、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で5ppmであった。
Since no unreacted SiH unit was detected, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.
The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 6a] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is a compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 1.56, The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.37. In [Epoxy-modified silicone 6a], the content of components having a molecular weight of 800 or less was 23.4%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 20.9%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy-modified silicone 6a] was 0.25, the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 5 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン6a]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.002質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。
また、[エポキシ変性シリコーン6a]は、25℃で1週間保管しても、分子量の増大は認められなかった。
As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 6a], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.002 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.
[Epoxy-modified silicone 6a] did not increase in molecular weight even when stored at 25 ° C. for 1 week.

[エポキシ変性シリコーンの製造例7]
(1)Si−H含有シリコーンの合成
還流冷却器、温度計及びスターラーバーを備えた0.5リットルの反応器に、窒素下にて蒸留精製したオクタメチルシクロテトラシロキサン(アズマックス社製試薬)を80g、窒素下にて蒸留精製した1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン(アズマックス社製試薬)を31.04g、真空下にて110℃で5時間乾燥した活性白土(Tonsil Optimum 230FF:ズード ケミー社製)を0.6g仕込み、窒素下、65℃にて攪拌条件下、20時間反応を行った。得られた反応液を1μmのフィルターを通過させて触媒を除去し、330gのヘキサン(和光純薬試薬特級品)に溶解する。前記溶液を、炭酸水素ナトリウム(和光純薬社製試薬特級品)0.012gを含有する650gの水溶液で中和洗浄した後、水相を分離する。得られたn−ヘキサン溶液を、330gの純水で洗浄、水相分離を水相が中性となるまで繰り返し実施する。次いで、無水硫酸ナトリウム(和光純薬社製試薬特級品)25gを添加し、12時間20℃で静置してn−ヘキサン相を脱水し、Si−H含有シリコーンのn−ヘキサン溶液を得た。次いで、水洗後の、Si−H含有シリコーンのn−ヘキサン溶液から、65℃、26kPaで1時間、次いで圧力を670Paに下げ0.5時間かけて溶媒を留去した後、150℃、50Paの条件で1.5時間かけて低分子量オリゴマーを除去して両末端にSiH結合を有するジメチルシロキサン重合体[Si−H含有シリコーン7a]70gを得た。両末端にSiH結合を有するジメチルシロキサン重合体の数平均分子量は870であった。
[Production Example 7 of Epoxy-Modified Silicone]
(1) Synthesis of Si-H containing silicone In a 0.5 liter reactor equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer bar, octamethylcyclotetrasiloxane (reagent made by Azmax) purified by distillation under nitrogen was added. 80 g, 31.04 g of 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane (Azmax reagent) purified by distillation under nitrogen, activated clay (Tonsil Optimum 230FF) dried at 110 ° C. for 5 hours under vacuum: 0.6 g of Zude Chemie) was charged, and the reaction was carried out for 20 hours under stirring at 65 ° C. under nitrogen. The obtained reaction solution is passed through a 1 μm filter to remove the catalyst, and dissolved in 330 g of hexane (special grade Wako Pure Chemicals reagent). The solution is neutralized and washed with 650 g of an aqueous solution containing 0.012 g of sodium hydrogen carbonate (special grade product manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and then the aqueous phase is separated. The obtained n-hexane solution is washed with 330 g of pure water, and the aqueous phase separation is repeated until the aqueous phase becomes neutral. Next, 25 g of anhydrous sodium sulfate (special grade product manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added, and the n-hexane phase was dehydrated by standing at 20 ° C. for 12 hours to obtain an n-hexane solution of Si—H containing silicone. . Next, from the n-hexane solution of the Si—H-containing silicone after washing with water, the solvent was distilled off at 65 ° C. and 26 kPa for 1 hour, and then the pressure was reduced to 670 Pa over 0.5 hour. Under the conditions, the low molecular weight oligomer was removed over 1.5 hours to obtain 70 g of a dimethylsiloxane polymer [Si-H containing silicone 7a] having SiH bonds at both ends. The number average molecular weight of the dimethylsiloxane polymer having SiH bonds at both ends was 870.

(2)エポキシ変性シリコーンの製造
ヒドロシリル化反応時に、脱水蒸留精製した1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン及び脱水蒸留精製した1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンの代わりに上記(1)で得られた[Si−H含有シリコーン7a]を70g用いたこと、脱水蒸留精製した4−ビニルシクロへキセンオキサイドを30g用いたこと、脱水蒸留精製した1,4−ジオキサンを400g用いたこと、白金元素換算で500ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシリコーン錯体の1,4−ジオキサン溶液を2g添加したこと、ヒドロシリル化反応時間を5時間としたこと、以外は、[エポキシ変性シリコーンの製造例1]と同様に、ヒドロシリル化反応を実施した。
(2) Production of epoxy-modified silicone In the hydrosilylation reaction, 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane purified by dehydration distillation and 1,3-divinyltetramethyldisiloxane purified by dehydration distillation (1) above 70 g of [Si—H-containing silicone 7a] obtained in the above), 30 g of dehydrated and purified 4-vinylcyclohexene oxide, 400 g of dehydrated and purified 1,4-dioxane, Except that 2 g of a 1,4-dioxane solution of a platinum divinyltetramethyldisilicone complex containing 500 ppm of platinum in terms of platinum element was added, and that the hydrosilylation reaction time was 5 hours, [Manufacturing of epoxy-modified silicone] The hydrosilylation reaction was performed as in Example 1].

反応開始時において、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの炭素−炭素2重結合のモル数(r2)との比(r2/r1)の値は0、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>の炭素−炭素2重結合のモル数(r4)との比(r4/r1)の値は1.51、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対し、添加した化合物中の炭素−炭素2重結合の合計モル数は1.51倍であった。   At the start of the reaction, the ratio between the total number of SiH units (r1) of the organohydrogensilicone and the number of moles (r2) of the carbon-carbon double bonds of the silicone having a coexisting carbon-carbon double bond ( The value of r2 / r1) is 0, the total number of SiH units of the organohydrogen silicone (r1), and the carbon-carbon double bond of the compound <A> having a coexisting carbon-carbon double bond and epoxy group. The ratio (r4 / r1) to the number of moles of (r4) is 1.51, and the total number of carbon-carbon double bonds in the added compound with respect to the total number of SiH units of the organohydrogensilicone Was 1.51 times.

また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前のオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して1/31,236倍であった。また、ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。   Further, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms was 1 / 31,236 times the total number of moles of SiH units of the organohydrogensilicone before the hydrosilylation reaction. . Further, when sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction proceeded quantitatively, and unreacted SiH units were not detected.

この際、反応液の温度は、65℃〜100℃の間であった。5時間反応後、ヒドロシリル化反応は定量的に進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。次いで、反応液の加熱を停止し、室温まで放冷した。   At this time, the temperature of the reaction solution was between 65 ° C and 100 ° C. After the reaction for 5 hours, the hydrosilylation reaction proceeded quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected. Subsequently, the heating of the reaction solution was stopped and the mixture was allowed to cool to room temperature.

冷却が完了した後、該反応液に乾燥窒素下にて脱水蒸留精製したアセトニトリル400gを添加し、大気圧乾燥窒素雰囲気下で2時間攪拌した後、攪拌を停止した。次いで、乾燥窒素気流下にて150℃で3時間加熱乾燥した活性炭330gを添加して、乾燥窒素雰囲気下にて48時間活性炭処理を行った。活性炭処理終了後、孔径1μmのPTFE製メンブレンフィルターを用いて活性炭をろ過してろ液を回収した。更に、前記操作にて分離された活性炭を、窒素下にて脱水蒸留精製した1,4−ジオキサン900gで洗浄し、同様にメンブレンフィルターを用いて活性炭をろ過して洗浄液を回収して、先に得られたろ液と混合した。回収された混合液をエバポレーターを用いて、減圧条件下、加熱温度40℃にて1,4−ジオキサン及びアセトニトリルを留去し、エポキシ変性シリコーン含有成分を得た。   After cooling was completed, 400 g of acetonitrile dehydrated and purified under dry nitrogen was added to the reaction solution, and the mixture was stirred for 2 hours under an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere, and then the stirring was stopped. Next, 330 g of activated carbon heated and dried at 150 ° C. for 3 hours under a dry nitrogen stream was added, and the activated carbon treatment was performed for 48 hours under a dry nitrogen atmosphere. After the activated carbon treatment was completed, the activated carbon was filtered using a PTFE membrane filter having a pore size of 1 μm to collect the filtrate. Furthermore, the activated carbon separated by the above operation was washed with 900 g of 1,4-dioxane purified by dehydration distillation under nitrogen, and the activated carbon was similarly filtered using a membrane filter to recover the washing solution. The resulting filtrate was mixed. 1,4-dioxane and acetonitrile were distilled off from the collected liquid mixture using an evaporator at a heating temperature of 40 ° C. under reduced pressure to obtain an epoxy-modified silicone-containing component.

得られたエポキシ変性シリコーン含有成分を、処理時間を3時間としてこと以外は「エポキシ変性シリコーンの製造例1」と同様に、内部に大気圧換算で10mL/分の流量にて乾燥窒素を導入しながら、温度40℃、圧力0.2kPaにてガラスチューブオーブンで低沸化合物を留去し、低沸化合物を低減したエポキシ変性シリコーン含有成分を得た。この操作を上記で得られた1,4−ジオキサンを留去した残りのエポキシ変性シリコーンに対して繰り返し行い、低沸化合物を低減した[エポキシ変性シリコーン7a]75gを得た。   The obtained epoxy-modified silicone-containing component was introduced with dry nitrogen at a flow rate of 10 mL / min in terms of atmospheric pressure, similarly to “Epoxy-modified silicone production example 1” except that the treatment time was 3 hours. However, the low-boiling compound was distilled off in a glass tube oven at a temperature of 40 ° C. and a pressure of 0.2 kPa to obtain an epoxy-modified silicone-containing component in which the low-boiling compound was reduced. This operation was repeated for the remaining epoxy-modified silicone obtained by distilling off the 1,4-dioxane obtained above to obtain 75 g of [epoxy-modified silicone 7a] in which the low boiling point compound was reduced.

得られた[エポキシ変性シリコーン7a]は、数平均分子量1,100の下記平均組成式(H−7)で表される構造であった。
(Me[VCHO]SiO1/2)(MeSiO2/2)10 ・・・(H−7)
[ここで、平均組成式(H−7)中における(Me[VCHO]SiO2/2)は、ジメチル水素シロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
The obtained [Epoxy-modified silicone 7a] had a structure represented by the following average composition formula (H-7) having a number average molecular weight of 1,100.
(Me 2 [VCHO] SiO 1/2 ) 2 (Me 2 SiO 2/2 ) 10 (H-7)
[Here, (Me 2 [VCHO] SiO 2/2 ) in the average composition formula (H-7) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a dimethylhydrogensiloxy unit by an anti-Markovnikov by a hydrosilylation reaction. ]

未反応のSiH単位が検出されなかったことから、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。
また、該[エポキシ変性シリコーン7a]には一般式(1)及び一般式(2)で表される化合物は、含有されていなかった。また、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.167であった。また、[エポキシ変性シリコーン7a]中の分子量800以下の成分の含有率は20%、分子量1万以上の成分の含有率は15%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン7a]のエポキシ価は0.18、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で0.8ppmであった。
Since no unreacted SiH unit was detected, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.
Further, the [epoxy-modified silicone 7a] did not contain the compounds represented by the general formulas (1) and (2). In addition, the value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.167. In [Epoxy-modified silicone 7a], the content of components having a molecular weight of 800 or less was 20%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 15%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy modified silicone 7a] was 0.18, the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 0.8 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン7a]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.001質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。
また、[エポキシ変性シリコーン7a]は、25℃で1週間保管しても、分子量の増大は認められなかった。
As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 7a], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.001 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.
[Epoxy-modified silicone 7a] was not observed to increase in molecular weight even when stored at 25 ° C. for 1 week.

[エポキシ変性シリコーンの製造例8]
ヒドロシリル化反応時に、脱水蒸留精製した1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンを37g用いたこと、脱水蒸留精製した4−ビニルシクロへキセンオキサイドを150.7g用いたこと、ヒドロシリル化反応時間を20時間としたこと、以外は、[エポキシ変性シリコーンの製造例6]と同様に、ヒドロシリル化反応を実施した。
[Production Example 8 of Epoxy-Modified Silicone]
During the hydrosilylation reaction, 37 g of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane purified by dehydration distillation was used, 150.7 g of 4-vinylcyclohexene oxide purified by dehydration distillation was used, and the hydrosilylation reaction time was 20 hours. Except for this, the hydrosilylation reaction was carried out in the same manner as in [Production Example 6 of Epoxy-Modified Silicone].

反応開始時において、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの炭素−炭素2重結合のモル数(r2)との比(r2/r1)の値は0.298、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>の炭素−炭素2重結合のモル数(r4)との比(r4/r1)の値は0.912、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対し、添加した化合物中の炭素−炭素2重結合の合計モル数は1.21倍であった。   At the start of the reaction, the ratio between the total number of SiH units (r1) of the organohydrogensilicone and the number of moles (r2) of the carbon-carbon double bonds of the silicone having a coexisting carbon-carbon double bond ( The value of r2 / r1) is 0.298, the total number of SiH units of the organohydrogen silicone (r1), and the carbon-carbon 2 of the compound <A> having a coexisting carbon-carbon double bond and epoxy group. The value of the ratio (r4 / r1) to the number of moles of heavy bonds (r4) is 0.912, and the total number of carbon-carbon double bonds in the added compound with respect to the total number of moles of SiH units of the organohydrogensilicone. The number of moles was 1.21 times.

また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前のオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して1/259,459倍であった。また、ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。   In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms was 1 / 259,459 times the total number of moles of SiH units in the organohydrogensilicone before the hydrosilylation reaction. . Further, when sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction proceeded quantitatively, and unreacted SiH units were not detected.

ヒドロシリル化反応完了後、加熱温度を保ったまま、該反応液に乾燥窒素下にて脱水蒸留精製したベンゾニトリル43gを添加し、大気圧乾燥窒素雰囲気下で2時間攪拌した後、攪拌を停止して室温まで冷却した。   After completion of the hydrosilylation reaction, 43 g of benzonitrile purified by dehydration and distillation under dry nitrogen was added to the reaction solution while maintaining the heating temperature. After stirring for 2 hours under an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere, the stirring was stopped. And cooled to room temperature.

冷却した反応溶液をエバポレーターを用いて、減圧条件下、加熱温度40℃にて1,4−ジオキサンを留去し、エポキシ変性シリコーン含有成分を得た。   1,4-dioxane was distilled off from the cooled reaction solution using an evaporator at a heating temperature of 40 ° C. under reduced pressure to obtain an epoxy-modified silicone-containing component.

得られたエポキシ変性シリコーン含有成分を、「エポキシ変性シリコーンの製造例6」と同様に、内部に大気圧換算で10mL/分の流量にて乾燥窒素を導入しながら、温度40℃、圧力0.2kPaにてガラスチューブオーブンで低沸化合物を留去し、低沸化合物を低減したエポキシ変性シリコーン含有成分を得た。この操作を上記で得られた1,4−ジオキサンを留去した残りのエポキシ変性シリコーンに対して繰り返し行い、低沸化合物を低減した[エポキシ変性シリコーン8a]220gを得た。   The obtained epoxy-modified silicone-containing component was introduced at a temperature of 40 ° C. and a pressure of 0. The low boiling compound was distilled off in a glass tube oven at 2 kPa to obtain an epoxy-modified silicone-containing component with reduced low boiling compound. This operation was repeated with respect to the remaining epoxy-modified silicone obtained by distilling off 1,4-dioxane obtained above to obtain 220 g of [epoxy-modified silicone 8a] in which low boiling point compounds were reduced.

得られた[エポキシ変性シリコーン8a]は、数平均分子量1,000の下記平均組成式(H−8)で表される構造であった。
(MeYSiO1/2)1.71(MeZSiO2/2)1.71(Me[VCHO]SiO2/2)4.02 ・・・(H−8)
[ここで、平均組成式(H−8)中におけるYは−CH−CH−で表される2価の有機基、Zは2価の炭化水素基Yとの結合を表す。また、(Me[VCHO]SiO2/2)は水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
The obtained [epoxy-modified silicone 8a] had a structure represented by the following average composition formula (H-8) having a number average molecular weight of 1,000.
(Me 2 YSiO 1/2 ) 1.71 (MeZSiO 2/2 ) 1.71 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 4.02 (H-8)
Here, Y in the average composition formula (H-8) represents a divalent organic group represented by —CH 2 —CH 2 —, and Z represents a bond with a divalent hydrocarbon group Y. In addition, (Me [VCHO] SiO 2/2 ) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a hydrogen methylsiloxy unit by an anti-markovnikov by a hydrosilylation reaction. ]

未反応のSiH単位が検出されなかったことから、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。
また、該[エポキシ変性シリコーン8a]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は0.42、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.23であった。また、[エポキシ変性シリコーン8a]中の分子量800以下の成分の含有率は37.1%、分子量1万以上の成分の含有率は9.2%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン8a]のエポキシ価は0.40、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で4ppmであった。
Since no unreacted SiH unit was detected, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.
The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 8a] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is the compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 0.42. The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.23. The content of components having a molecular weight of 800 or less in [Epoxy-modified silicone 8a] was 37.1%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 9.2%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy modified silicone 8a] was 0.40, the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 4 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン8a]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.001質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。
また、[エポキシ変性シリコーン8a]は、25℃で1週間保管しても、分子量の増大は認められなかった。
As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 8a], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.001 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.
[Epoxy-modified silicone 8a] was not observed to increase in molecular weight even when stored at 25 ° C. for 1 week.

[エポキシ変性シリコーンの製造例9]
ヒドロシリル化反応時に、脱水蒸留精製した1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンを75g用いたこと、脱水蒸留精製した4−ビニルシクロへキセンオキサイドを84.9g用いたこと、白金元素換算で500ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシリコーン錯体の1,4−ジオキサン溶液を2.2g添加したこと、ヒドロシリル化反応時間を90時間としたこと、以外は、[エポキシ変性シリコーンの製造例6]と同様に、ヒドロシリル化反応を実施した。
[Production Example 9 of Epoxy-Modified Silicone]
During hydrosilylation reaction, 75 g of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane purified by dehydration distillation was used, 84.9 g of 4-vinylcyclohexene oxide purified by dehydration distillation was used, and 500 ppm of platinum in terms of platinum element was used. Except that 2.2 g of 1,4-dioxane solution of platinum divinyltetramethyldisilicone complex contained was added and that the hydrosilylation reaction time was 90 hours, the same as [Production Example 6 of Epoxy-Modified Silicone] The hydrosilylation reaction was carried out.

反応開始時において、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの炭素−炭素2重結合のモル数(r2)との比(r2/r1)の値は0.605、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>の炭素−炭素2重結合のモル数(r4)との比(r4/r1)の値は0.514、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対し、添加した化合物中の炭素−炭素2重結合の合計モル数は1.12倍であった。   At the start of the reaction, the ratio between the total number of SiH units (r1) of the organohydrogensilicone and the number of moles (r2) of the carbon-carbon double bonds of the silicone having a coexisting carbon-carbon double bond ( The value of r2 / r1) is 0.605, the total number of moles of SiH units of organohydrogensilicone (r1), and the carbon-carbon 2 of the compound <A> having a coexisting carbon-carbon double bond and epoxy group. The value of the ratio (r4 / r1) to the number of moles (r4) of heavy bonds is 0.514, and the total number of carbon-carbon double bonds in the added compound relative to the total number of moles of SiH units in the organohydrogensilicone The number of moles was 1.12 times.

また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前のオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して1/235,872倍であった。また、ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。   Further, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms was 1 / 235,872 times the total number of moles of SiH units of the organohydrogensilicone before the hydrosilylation reaction. . Further, when sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction proceeded quantitatively, and unreacted SiH units were not detected.

ヒドロシリル化反応完了後、加熱温度を保ったまま、該反応液に乾燥窒素下にて脱水蒸留精製したベンゾニトリル43gを添加し、大気圧乾燥窒素雰囲気下で2時間攪拌した後、攪拌を停止して室温まで冷却した。   After completion of the hydrosilylation reaction, 43 g of benzonitrile purified by dehydration and distillation under dry nitrogen was added to the reaction solution while maintaining the heating temperature. After stirring for 2 hours under an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere, the stirring was stopped. And cooled to room temperature.

冷却した反応溶液をエバポレーターを用いて、減圧条件下、加熱温度40℃にて1,4−ジオキサンを留去し、エポキシ変性シリコーン含有成分を得た。   1,4-dioxane was distilled off from the cooled reaction solution using an evaporator at a heating temperature of 40 ° C. under reduced pressure to obtain an epoxy-modified silicone-containing component.

得られたエポキシ変性シリコーン含有成分を、「エポキシ変性シリコーンの製造例6」と同様に、内部に大気圧換算で10mL/分の流量にて乾燥窒素を導入しながら、温度40℃、圧力0.2kPaにてガラスチューブオーブンで低沸化合物を留去し、低沸化合物を低減したエポキシ変性シリコーン含有成分を得た。この操作を上記で得られた1,4−ジオキサンを留去した残りのエポキシ変性シリコーンに対して繰り返し行い、低沸化合物を低減した[エポキシ変性シリコーン9a]210gを得た。   The obtained epoxy-modified silicone-containing component was introduced at a temperature of 40 ° C. and a pressure of 0. The low boiling compound was distilled off in a glass tube oven at 2 kPa to obtain an epoxy-modified silicone-containing component with reduced low boiling compound. This operation was repeated for the remaining epoxy-modified silicone obtained by distilling off 1,4-dioxane obtained above to obtain 210 g of [epoxy-modified silicone 9a] with reduced low boiling point compounds.

得られた[エポキシ変性シリコーン9a]は、数平均分子量2,000の下記平均組成式(H−9)で表される構造であった。
(MeYSiO1/2)7.32(MeZSiO2/2)7.32(Me[VCHO]SiO2/2)4.78 ・・・(H−9)
[ここで、平均組成式(H−9)中におけるYは−CH−CH−で表される2価の有機基、Zは2価の炭化水素基Yとの結合を表す。また、(Me[VCHO]SiO2/2)は水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
The obtained [epoxy-modified silicone 9a] had a structure represented by the following average composition formula (H-9) having a number average molecular weight of 2,000.
(Me 2 YSiO 1/2 ) 7.32 (MeZSiO 2/2 ) 7.32 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 4.78 (H-9)
Here, Y in the average composition formula (H-9) represents a divalent organic group represented by —CH 2 —CH 2 —, and Z represents a bond with a divalent hydrocarbon group Y. In addition, (Me [VCHO] SiO 2/2 ) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a hydrogen methylsiloxy unit by an anti-markovnikov by a hydrosilylation reaction. ]

未反応のSiH単位が検出されなかったことから、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。
また、該[エポキシ変性シリコーン9a]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は1.85、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.38であった。また、[エポキシ変性シリコーン9a]中の分子量800以下の成分の含有率は22%、分子量1万以上の成分の含有率は23%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン9a]のエポキシ価は0.24、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で5ppmであった。
Since no unreacted SiH unit was detected, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.
The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 9a] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is the compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 1.85, The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.38. In [Epoxy-modified silicone 9a], the content of components having a molecular weight of 800 or less was 22%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 23%. Furthermore, the epoxy value of [Epoxy-modified silicone 9a] was 0.24, the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 5 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン9a]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.002質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。
また、[エポキシ変性シリコーン9a]は、25℃で1週間保管しても、分子量の増大は認められなかった。
As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 9a], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.002 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.
[Epoxy-modified silicone 9a] showed no increase in molecular weight even when stored at 25 ° C. for 1 week.

[エポキシ変性シリコーンの製造例10]
ヒドロシリル化反応時に、脱水蒸留精製した1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンを25g用いたこと、脱水蒸留精製した4−ビニルシクロへキセンオキサイドを171.5g用いたこと、白金元素換算で500ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシリコーン錯体の1,4−ジオキサン溶液を2.4g添加したこと、ヒドロシリル化反応時間を15時間としたこと、以外は、[エポキシ変性シリコーンの製造例6]と同様に、ヒドロシリル化反応を実施した。
[Production Example 10 of Epoxy-Modified Silicone]
At the time of hydrosilylation reaction, 25 g of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane purified by dehydration distillation was used, 171.5 g of 4-vinylcyclohexene oxide purified by dehydration distillation was used, and 500 ppm of platinum in terms of platinum element. [Epoxy-modified silicone production example 6], except that 2.4 g of a 1,4-dioxane solution of platinum divinyltetramethyldisilicone complex contained was added and the hydrosilylation reaction time was 15 hours. The hydrosilylation reaction was carried out.

反応開始時において、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの炭素−炭素2重結合のモル数(r2)との比(r2/r1)の値は0.202、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>の炭素−炭素2重結合のモル数(r4)との比(r4/r1)の値は1.04、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対し、添加した化合物中の炭素−炭素2重結合の合計モル数は1.24倍であった。   At the start of the reaction, the ratio between the total number of SiH units (r1) of the organohydrogensilicone and the number of moles (r2) of the carbon-carbon double bonds of the silicone having a coexisting carbon-carbon double bond ( The value of r2 / r1) is 0.202, and the total number of SiH units of the organohydrogensilicone (r1), and the carbon-carbon 2 of the compound <A> having a coexisting carbon-carbon double bond and epoxy group. The value of the ratio (r4 / r1) to the number of moles of heavy bonds (r4) is 1.04, and the total number of carbon-carbon double bonds in the added compound relative to the total number of moles of SiH units in the organohydrogensilicone. The number of moles was 1.24 times.

また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前のオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して1/216,216倍であった。また、ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。   Further, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms was 1 / 216,216 times the total number of moles of SiH units of the organohydrogensilicone before the hydrosilylation reaction. . Further, when sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction proceeded quantitatively, and unreacted SiH units were not detected.

ヒドロシリル化反応完了後、加熱温度を保ったまま、該反応液に乾燥窒素下にて脱水蒸留精製したベンゾニトリル43gを添加し、大気圧乾燥窒素雰囲気下で2時間攪拌した後、攪拌を停止して室温まで冷却した。   After completion of the hydrosilylation reaction, 43 g of benzonitrile purified by dehydration and distillation under dry nitrogen was added to the reaction solution while maintaining the heating temperature. After stirring for 2 hours under an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere, the stirring was stopped. And cooled to room temperature.

冷却した反応溶液をエバポレーターを用いて、減圧条件下、加熱温度40℃にて1,4−ジオキサンを留去し、エポキシ変性シリコーン含有成分を得た。   1,4-dioxane was distilled off from the cooled reaction solution using an evaporator at a heating temperature of 40 ° C. under reduced pressure to obtain an epoxy-modified silicone-containing component.

得られたエポキシ変性シリコーン含有成分を、「エポキシ変性シリコーンの製造例6」と同様に、内部に大気圧換算で10mL/分の流量にて乾燥窒素を導入しながら、温度40℃、圧力0.2kPaにてガラスチューブオーブンで低沸化合物を留去し、低沸化合物を低減したエポキシ変性シリコーン含有成分を得た。この操作を上記で得られた1,4−ジオキサンを留去した残りのエポキシ変性シリコーンに対して繰り返し行い、低沸化合物を低減した[エポキシ変性シリコーン10a]225gを得た。   The obtained epoxy-modified silicone-containing component was introduced at a temperature of 40 ° C. and a pressure of 0. The low boiling compound was distilled off in a glass tube oven at 2 kPa to obtain an epoxy-modified silicone-containing component with reduced low boiling compound. This operation was repeated with respect to the remaining epoxy-modified silicone obtained by distilling off 1,4-dioxane obtained above to obtain 225 g of [epoxy-modified silicone 10a] in which low boiling point compounds were reduced.

得られた[エポキシ変性シリコーン10a]は、数平均分子量900の下記平均組成式(H−10)で表される構造であった。
(MeYSiO1/2)1.02 (MeZSiO2/2)1.02(Me[VCHO]SiO2/2)4.04 ・・・(H−10)
[ここで、平均組成式(H−10)中におけるYは−CH−CH−で表される2価の有機基、Zは2価の炭化水素基Yとの結合を表す。また、(Me[VCHO]SiO2/2)は水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
The obtained [epoxy-modified silicone 10a] had a structure represented by the following average composition formula (H-10) having a number average molecular weight of 900.
(Me 2 YSiO 1/2 ) 1.02 (MeZSiO 2/2 ) 1.02 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 4.04 (H-10)
Here, Y in the average composition formula (H-10) represents a divalent organic group represented by —CH 2 —CH 2 —, and Z represents a bond with a divalent hydrocarbon group Y. In addition, (Me [VCHO] SiO 2/2 ) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a hydrogen methylsiloxy unit by an anti-markovnikov by a hydrosilylation reaction. ]

未反応のSiH単位が検出されなかったことから、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。
また、該[エポキシ変性シリコーン10a]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は0.25、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.17であった。また、[エポキシ変性シリコーン10a]中の分子量800以下の成分の含有率は46.5%、分子量1万以上の成分の含有率は9%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン10a]のエポキシ価は0.45、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で5ppmであった。
Since no unreacted SiH unit was detected, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.
The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 10a] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is the compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 0.25, The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.17. In [Epoxy-modified silicone 10a], the content of components having a molecular weight of 800 or less was 46.5%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 9%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy modified silicone 10a] was 0.45, the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 5 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン10a]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.001質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。
また、[エポキシ変性シリコーン10a]は、25℃で1週間保管しても、分子量の増大は認められなかった。
As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 10a], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.001 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.
[Epoxy-modified silicone 10a] was not observed to increase in molecular weight even when stored at 25 ° C. for 1 week.

[エポキシ変性シリコーンの製造例11]
ヒドロシリル化反応時に、脱水蒸留精製した1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンを55.8g用いたこと、脱水蒸留精製した4−ビニルシクロへキセンオキサイドを118.2g用いたこと、白金元素換算で500ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシリコーン錯体の1,4−ジオキサン溶液を2.4g添加したこと、ヒドロシリル化反応時間を55時間としたこと、以外は、[エポキシ変性シリコーンの製造例6]と同様に、ヒドロシリル化反応を実施した。
[Production Example 11 of Epoxy-Modified Silicone]
During hydrosilylation reaction, 55.8 g of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane purified by dehydration distillation was used, 118.2 g of 4-vinylcyclohexene oxide purified by dehydration distillation was used, and 500 ppm in terms of platinum element. Except that 2.4 g of a 1,4-dioxane solution of a platinum divinyltetramethyldisilicone complex containing platinum was added and the hydrosilylation reaction time was 55 hours, [Epoxy-modified silicone production example 6] and Similarly, a hydrosilylation reaction was performed.

反応開始時において、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの炭素−炭素2重結合のモル数(r2)との比(r2/r1)の値は0.450、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>の炭素−炭素2重結合のモル数(r4)との比(r4/r1)の値は0.715、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対し、添加した化合物中の炭素−炭素2重結合の合計モル数は1.17倍であった。   At the start of the reaction, the ratio between the total number of SiH units (r1) of the organohydrogensilicone and the number of moles (r2) of the carbon-carbon double bonds of the silicone having a coexisting carbon-carbon double bond ( The value of r2 / r1) is 0.450, the total number of SiH units of the organohydrogen silicone (r1), and the carbon-carbon 2 of the compound <A> having a coexisting carbon-carbon double bond and epoxy group. The value of the ratio (r4 / r1) to the number of moles of heavy bonds (r4) is 0.715, and the total number of carbon-carbon double bonds in the added compound with respect to the total number of moles of SiH units in the organohydrogensilicone. The number of moles was 1.17 times.

また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前のオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して1/216,216倍であった。また、ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。   Further, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms was 1 / 216,216 times the total number of moles of SiH units of the organohydrogensilicone before the hydrosilylation reaction. . Further, when sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction proceeded quantitatively, and unreacted SiH units were not detected.

ヒドロシリル化反応完了後、加熱温度を保ったまま、該反応液に乾燥窒素下にて脱水蒸留精製したベンゾニトリル84.9gを添加し、大気圧乾燥窒素雰囲気下で2時間攪拌した後、攪拌を停止して室温まで冷却した。   After completion of the hydrosilylation reaction, 84.9 g of benzonitrile purified by dehydration distillation under dry nitrogen was added to the reaction solution while maintaining the heating temperature, and the mixture was stirred for 2 hours under an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere. Stop and cool to room temperature.

冷却した反応溶液をエバポレーターを用いて、減圧条件下、加熱温度40℃にて1,4−ジオキサンを留去し、エポキシ変性シリコーン含有成分を得た。
得られたエポキシ変性シリコーン含有成分を、「エポキシ変性シリコーンの製造例6」と同様に、内部に大気圧換算で10mL/分の流量にて乾燥窒素を導入しながら、温度40℃、圧力0.2kPaにてガラスチューブオーブンで低沸化合物を留去し、低沸化合物を低減したエポキシ変性シリコーン含有成分を得た。この操作を上記で得られた1,4−ジオキサンを留去した残りのエポキシ変性シリコーンに対して繰り返し行い、低沸化合物を低減した[エポキシ変性シリコーン11a]215gを得た。
1,4-dioxane was distilled off from the cooled reaction solution using an evaporator at a heating temperature of 40 ° C. under reduced pressure to obtain an epoxy-modified silicone-containing component.
The obtained epoxy-modified silicone-containing component was introduced at a temperature of 40 ° C. and a pressure of 0. The low boiling compound was distilled off in a glass tube oven at 2 kPa to obtain an epoxy-modified silicone-containing component with reduced low boiling compound. This operation was repeated for the remaining epoxy-modified silicone obtained by distilling off 1,4-dioxane obtained above to obtain 215 g of [epoxy-modified silicone 11a] with reduced low boiling point compounds.

得られた[エポキシ変性シリコーン11a]は、数平均分子量1,400の下記平均組成式(H−11)で表される構造であった。
(MeYSiO1/2)3.70 (MeZSiO2/2)3.70(Me[VCHO]SiO2/2) 4.53 ・・・(H−11)
[ここで、平均組成式(H−11)中におけるYは−CH−CH−で表される2価の有機基、Zは2価の炭化水素基Yとの結合を表す。また、(Me[VCHO]SiO2/2)は水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
[Epoxy-modified silicone 11a] thus obtained had a structure represented by the following average composition formula (H-11) having a number average molecular weight of 1,400.
(Me 2 YSiO 1/2 ) 3.70 (MeZSiO 2/2 ) 3.70 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 4.53 (H-11)
Here, Y in the average composition formula (H-11) represents a divalent organic group represented by —CH 2 —CH 2 —, and Z represents a bond with a divalent hydrocarbon group Y. In addition, (Me [VCHO] SiO 2/2 ) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a hydrogen methylsiloxy unit by an anti-markovnikov by a hydrosilylation reaction. ]

未反応のSiH単位が検出されなかったことから、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。
また、該[エポキシ変性シリコーン11a]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は0.83、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.31であった。また、[エポキシ変性シリコーン10a]中の分子量800以下の成分の含有率は29.8%、分子量1万以上の成分の含有率は11%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン11a]のエポキシ価は0.32、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で5ppmであった。
Since no unreacted SiH unit was detected, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.
The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 11a] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is the compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 0.83, The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.31. In addition, the content of components having a molecular weight of 800 or less in [Epoxy-modified silicone 10a] was 29.8%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 11%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy-modified silicone 11a] was 0.32, and the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 5 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン11a]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.001質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。
また、[エポキシ変性シリコーン11a]は、25℃で1週間保管しても、分子量の増大は認められなかった。
As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 11a], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.001 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.
[Epoxy-modified silicone 11a] did not increase in molecular weight even when stored at 25 ° C. for 1 week.

[エポキシ変性シリコーンの製造例12]
ヒドロシリル化反応時に、脱水蒸留精製した1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンを89g用いたこと、脱水蒸留精製した4−ビニルシクロへキセンオキサイドを60.7g用いたこと、白金元素換算で500ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシリコーン錯体の1,4−ジオキサン溶液を2.4g添加したこと、ヒドロシリル化反応時間を110時間としたこと、以外は、[エポキシ変性シリコーンの製造例6]と同様に、ヒドロシリル化反応を実施した。
[Production Example 12 of Epoxy-Modified Silicone]
During hydrosilylation reaction, 89 g of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane purified by dehydration distillation was used, 60.7 g of 4-vinylcyclohexene oxide purified by dehydration distillation was used, and 500 ppm of platinum in terms of platinum element. Except that 2.4 g of a 1,4-dioxane solution of platinum divinyltetramethyldisilicone complex contained was added and that the hydrosilylation reaction time was 110 hours, as in [Production Example 6 of Epoxy-Modified Silicone]. The hydrosilylation reaction was carried out.

反応開始時において、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの炭素−炭素2重結合のモル数(r2)との比(r2/r1)の値は0.72、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>の炭素−炭素2重結合のモル数(r4)との比(r4/r1)の値は0.37、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対し、添加した化合物中の炭素−炭素2重結合の合計モル数は1.09倍であった。   At the start of the reaction, the ratio between the total number of SiH units (r1) of the organohydrogensilicone and the number of moles (r2) of the carbon-carbon double bonds of the silicone having a coexisting carbon-carbon double bond ( The value of r2 / r1) is 0.72, the total number of SiH units of the organohydrogen silicone (r1), and the carbon-carbon 2 of the compound <A> having a coexisting carbon-carbon double bond and epoxy group. The value of the ratio (r4 / r1) to the number of moles of heavy bonds (r4) is 0.37, and the total number of carbon-carbon double bonds in the added compound relative to the total number of moles of SiH units in the organohydrogensilicone. The number of moles was 1.09 times.

また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前のオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して1/216,216倍であった。また、ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。   Further, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms was 1 / 216,216 times the total number of moles of SiH units of the organohydrogensilicone before the hydrosilylation reaction. . Further, when sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction proceeded quantitatively, and unreacted SiH units were not detected.

ヒドロシリル化反応完了後、加熱温度を保ったまま、該反応液に乾燥窒素下にて脱水蒸留精製したベンゾニトリル84.9gを添加し、大気圧乾燥窒素雰囲気下で2時間攪拌した後、攪拌を停止して室温まで冷却した。   After completion of the hydrosilylation reaction, 84.9 g of benzonitrile purified by dehydration distillation under dry nitrogen was added to the reaction solution while maintaining the heating temperature, and the mixture was stirred for 2 hours under an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere. Stop and cool to room temperature.

冷却した反応溶液をエバポレーターを用いて、減圧条件下、加熱温度40℃にて1,4−ジオキサンを留去し、エポキシ変性シリコーン含有成分を得た。   1,4-dioxane was distilled off from the cooled reaction solution using an evaporator at a heating temperature of 40 ° C. under reduced pressure to obtain an epoxy-modified silicone-containing component.

得られたエポキシ変性シリコーン含有成分を、「エポキシ変性シリコーンの製造例6」と同様に、内部に大気圧換算で10mL/分の流量にて乾燥窒素を導入しながら、温度40℃、圧力0.2kPaにてガラスチューブオーブンで低沸化合物を留去し、低沸化合物を低減したエポキシ変性シリコーン含有成分を得た。この操作を上記で得られた1,4−ジオキサンを留去した残りのエポキシ変性シリコーンに対して繰り返し行い、低沸化合物を低減した[エポキシ変性シリコーン12a]200gを得た。   The obtained epoxy-modified silicone-containing component was introduced at a temperature of 40 ° C. and a pressure of 0. The low boiling compound was distilled off in a glass tube oven at 2 kPa to obtain an epoxy-modified silicone-containing component with reduced low boiling compound. This operation was repeated for the remaining epoxy-modified silicone obtained by distilling off the 1,4-dioxane obtained above, to obtain 200 g of [epoxy-modified silicone 12a] with reduced low boiling point compounds.

得られた[エポキシ変性シリコーン12a]は、数平均分子量2,700の下記平均組成式(H−12)で表される構造であった。
(MeYSiO1/2)12.0 (MeZSiO2/2)12.0(Me[VCHO]SiO2/2) 4.7 ・・・(H−12)
[ここで、平均組成式(H−12)中におけるYは−CH−CH−で表される2価の有機基、Zは2価の炭化水素基Yとの結合を表す。また、(Me[VCHO]SiO2/2)は水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
The obtained [epoxy-modified silicone 12a] had a structure represented by the following average composition formula (H-12) having a number average molecular weight of 2,700.
(Me 2 YSiO 1/2 ) 12.0 (MeZSiO 2/2 ) 12.0 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 4.7 (H-12)
[Wherein Y in the average composition formula (H-12) represents a divalent organic group represented by —CH 2 —CH 2 —, and Z represents a bond with a divalent hydrocarbon group Y. In addition, (Me [VCHO] SiO 2/2 ) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a hydrogen methylsiloxy unit by an anti-markovnikov by a hydrosilylation reaction. ]

未反応のSiH単位が検出されなかったことから、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。
また、該[エポキシ変性シリコーン11a]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は4.70、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.42であった。また、[エポキシ変性シリコーン12a]中の分子量800以下の成分の含有率は9%、分子量1万以上の成分の含有率は40.4%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン12a]のエポキシ価は0.17、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で6ppmであった。
[エポキシ変性シリコーン12a]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。
Since no unreacted SiH unit was detected, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.
The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 11a] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is the compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 4.70, The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.42. The content of components having a molecular weight of 800 or less in [Epoxy-modified silicone 12a] was 9%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 40.4%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy-modified silicone 12a] was 0.17, the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 6 ppm in terms of platinum element.
As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 12a], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less.

また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.002質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。
また、[エポキシ変性シリコーン12a]は、25℃で1週間保管しても、分子量の増大は認められなかった。
Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.002 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.
[Epoxy-modified silicone 12a] was not observed to increase in molecular weight even when stored at 25 ° C. for 1 week.

[エポキシ変性シリコーンの製造例13]
ヒドロシリル化反応時に、脱水蒸留精製した1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンを87g用いたこと、脱水蒸留精製した4−ビニルシクロへキセンオキサイドを64.1g用いたこと、白金元素換算で500ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシリコーン錯体の1,4−ジオキサン溶液を2.4g添加したこと、ヒドロシリル化反応時間を110時間としたこと、以外は、[エポキシ変性シリコーンの製造例6]と同様に、ヒドロシリル化反応を実施した。
[Production Example 13 of Epoxy-Modified Silicone]
During the hydrosilylation reaction, 87 g of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane purified by dehydration distillation was used, 64.1 g of 4-vinylcyclohexene oxide purified by dehydration distillation was used, and 500 ppm of platinum in terms of platinum element. Except that 2.4 g of a 1,4-dioxane solution of platinum divinyltetramethyldisilicone complex contained was added and that the hydrosilylation reaction time was 110 hours, as in [Production Example 6 of Epoxy-Modified Silicone]. The hydrosilylation reaction was carried out.

反応開始時において、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの炭素−炭素2重結合のモル数(r2)との比(r2/r1)の値は0.702、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>の炭素−炭素2重結合のモル数(r4)との比(r4/r1)の値は0.388、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対し、添加した化合物中の炭素−炭素2重結合の合計モル数は1.09倍であった。   At the start of the reaction, the ratio between the total number of SiH units (r1) of the organohydrogensilicone and the number of moles (r2) of the carbon-carbon double bonds of the silicone having a coexisting carbon-carbon double bond ( The value of r2 / r1) is 0.702, the total number of SiH units of the organohydrogen silicone (r1), and the carbon-carbon 2 of the compound <A> having a coexisting carbon-carbon double bond and epoxy group. The value of the ratio (r4 / r1) to the number of moles (r4) of heavy bonds is 0.388, and the total number of carbon-carbon double bonds in the added compound with respect to the total number of moles of SiH units in the organohydrogensilicone. The number of moles was 1.09 times.

また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前のオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して1/216,216倍であった。また、ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。   Further, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms was 1 / 216,216 times the total number of moles of SiH units of the organohydrogensilicone before the hydrosilylation reaction. . Further, when sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction proceeded quantitatively, and unreacted SiH units were not detected.

ヒドロシリル化反応完了後、加熱温度を保ったまま、該反応液に乾燥窒素下にて脱水蒸留精製したベンゾニトリル84.9gを添加し、大気圧乾燥窒素雰囲気下で2時間攪拌した後、攪拌を停止して室温まで冷却した。
冷却した反応溶液をエバポレーターを用いて、減圧条件下、加熱温度40℃にて1,4−ジオキサンを留去し、エポキシ変性シリコーン含有成分を得た。
After completion of the hydrosilylation reaction, 84.9 g of benzonitrile purified by dehydration distillation under dry nitrogen was added to the reaction solution while maintaining the heating temperature, and the mixture was stirred for 2 hours under an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere. Stop and cool to room temperature.
1,4-dioxane was distilled off from the cooled reaction solution using an evaporator at a heating temperature of 40 ° C. under reduced pressure to obtain an epoxy-modified silicone-containing component.

得られたエポキシ変性シリコーン含有成分を、「エポキシ変性シリコーンの製造例6」と同様に、内部に大気圧換算で10mL/分の流量にて乾燥窒素を導入しながら、温度40℃、圧力0.2kPaにてガラスチューブオーブンで低沸化合物を留去し、低沸化合物を低減したエポキシ変性シリコーン含有成分を得た。この操作を上記で得られた1,4−ジオキサンを留去した残りのエポキシ変性シリコーンに対して繰り返し行い、低沸化合物を低減した[エポキシ変性シリコーン11a]205gを得た。   The obtained epoxy-modified silicone-containing component was introduced at a temperature of 40 ° C. and a pressure of 0. The low boiling compound was distilled off in a glass tube oven at 2 kPa to obtain an epoxy-modified silicone-containing component with reduced low boiling compound. This operation was repeated for the remaining epoxy-modified silicone obtained by distilling off the 1,4-dioxane obtained above to obtain 205 g of [epoxy-modified silicone 11a] in which low boiling point compounds were reduced.

得られた[エポキシ変性シリコーン13a]は、数平均分子量2,600の下記平均組成式(H−13)で表される構造であった。
(MeYSiO1/2)11.24(MeZSiO2/2)11.24(Me[VCHO]SiO2/2) 4.78 ・・・(H−13)
[ここで、平均組成式(H−13)中におけるYは−CH−CH−で表される2価の有機基、Zは2価の炭化水素基Yとの結合を表す。また、(Me[VCHO]SiO2/2)は水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
[Epoxy-modified silicone 13a] thus obtained had a structure represented by the following average composition formula (H-13) having a number average molecular weight of 2,600.
(Me 2 YSiO 1/2 ) 11.24 (MeZSiO 2/2 ) 11.24 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 4.78 (H-13)
Here, Y in the average composition formula (H-13) represents a divalent organic group represented by —CH 2 —CH 2 —, and Z represents a bond with a divalent hydrocarbon group Y. In addition, (Me [VCHO] SiO 2/2 ) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a hydrogen methylsiloxy unit by an anti-markovnikov by a hydrosilylation reaction. ]

未反応のSiH単位が検出されなかったことから、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。
また、該[エポキシ変性シリコーン13a]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は3.65、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.41であった。また、[エポキシ変性シリコーン13a]中の分子量800以下の成分の含有率は11.8%、分子量1万以上の成分の含有率は37.7%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン13a]のエポキシ価は0.18、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で6ppmであった。
Since no unreacted SiH unit was detected, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.
The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 13a] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is a compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 3.65, The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.41. In addition, the content of components having a molecular weight of 800 or less in [Epoxy-modified silicone 13a] was 11.8%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 37.7%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy modified silicone 13a] was 0.18, the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 6 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン13a]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.001質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。
また、[エポキシ変性シリコーン13a]は、25℃で1週間保管しても、分子量の増大は認められなかった。
As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 13a], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.001 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.
[Epoxy-modified silicone 13a] showed no increase in molecular weight even when stored at 25 ° C. for 1 week.

[エポキシ変性シリコーンの製造例14]
(1)Si−H含有シリコーンの合成
エポキシ変性シリコーンの製造例7の(1)Si−H含有シリコーンの合成と同様の操作を行って得られたSi−H含有シリコーンのn−ヘキサン溶液を、65℃、26kPaで1時間、次いで圧力を670Paに下げ0.5時間かけて溶媒を留去した後、150℃、50Paの条件で4時間かけて低分子量オリゴマーを除去して、両末端にSiH結合を有するジメチルシロキサン重合体[Si−H含有シリコーン14a]61を得た。両末端にSiH結合を有するジメチルシロキサン重合体の数平均分子量は1,100であった。
[Production Example 14 of Epoxy-Modified Silicone]
(1) Synthesis of Si-H-containing silicone An n-hexane solution of Si-H-containing silicone obtained by performing the same operation as the synthesis of epoxy-modified silicone in Production Example 7 (1) Si-H-containing silicone, After the solvent was distilled off at 65 ° C. and 26 kPa for 1 hour and then the pressure was reduced to 670 Pa over 0.5 hour, the low molecular weight oligomer was removed over 4 hours under the conditions of 150 ° C. and 50 Pa. A dimethylsiloxane polymer [Si-H containing silicone 14a] 61 having a bond was obtained. The number average molecular weight of the dimethylsiloxane polymer having SiH bonds at both ends was 1,100.

(2)エポキシ変性シリコーンの製造
ヒドロシリル化反応時に、脱水蒸留精製した1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン及び脱水蒸留精製した1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンの代わりに上記(1)で得られた[Si−H含有シリコーン14a]を60g用いたこと、脱水蒸留精製した4−ビニルシクロへキセンオキサイドを22g用いたこと、脱水蒸留精製した1,4−ジオキサンを330g用いたこと、白金元素換算で500ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシリコーン錯体の1,4−ジオキサン溶液を1.4g添加したこと、以外は、[エポキシ変性シリコーンの製造例7]に記載のエポキシ変性シリコーンの製造方法と同様に、ヒドロシリル化反応を実施した。
(2) Production of epoxy-modified silicone In the hydrosilylation reaction, 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane purified by dehydration distillation and 1,3-divinyltetramethyldisiloxane purified by dehydration distillation (1) above 60 g of [Si—H-containing silicone 14a] obtained in the above), 22 g of dehydrated and purified 4-vinylcyclohexene oxide, 330 g of dehydrated and purified 1,4-dioxane, Epoxy-modified silicone according to [Epoxy-modified silicone production example 7] except that 1.4 g of a 1,4-dioxane solution of a platinum divinyltetramethyldisilicone complex containing 500 ppm of platinum in terms of platinum element was added. The hydrosilylation reaction was carried out in the same manner as in the production method.

反応開始時において、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの炭素−炭素2重結合のモル数(r2)との比(r2/r1)の値は0、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>の炭素−炭素2重結合のモル数(r4)との比(r4/r1)の値は1.62、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対し、添加した化合物中の炭素−炭素2重結合の合計モル数は1.62倍であった。   At the start of the reaction, the ratio between the total number of SiH units (r1) of the organohydrogensilicone and the number of moles (r2) of the carbon-carbon double bonds of the silicone having a coexisting carbon-carbon double bond ( The value of r2 / r1) is 0, the total number of SiH units of the organohydrogen silicone (r1), and the carbon-carbon double bond of the compound <A> having a coexisting carbon-carbon double bond and epoxy group. The ratio (r4 / r1) to the number of moles of (r4) is 1.62, the total number of carbon-carbon double bonds in the added compound relative to the total number of SiH units of the organohydrogensilicone Was 1.62 times.

また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前のオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して1/30,390倍であった。また、ヒドロシリル化反応の停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。   In addition, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms was 1 / 30,390 times the total number of moles of SiH units in the organohydrogensilicone before the hydrosilylation reaction. . Further, when sampling was performed immediately before the hydrosilylation reaction was stopped, the hydrosilylation reaction proceeded quantitatively, and unreacted SiH units were not detected.

この際、反応液の温度は、65℃〜100℃の間であった。5時間反応後、ヒドロシリル化反応は定量的に進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。次いで、反応液の加熱を停止し、室温まで放冷した。   At this time, the temperature of the reaction solution was between 65 ° C and 100 ° C. After the reaction for 5 hours, the hydrosilylation reaction proceeded quantitatively, and no unreacted SiH unit was detected. Subsequently, the heating of the reaction solution was stopped and the mixture was allowed to cool to room temperature.

冷却が完了した後、該反応液に乾燥窒素下にて脱水蒸留精製したアセトニトリル330gを添加し、大気圧乾燥窒素雰囲気下で2時間攪拌した後、攪拌を停止した。次いで、乾燥窒素気流下にて150℃で3時間加熱乾燥した活性炭270gを添加して、乾燥窒素雰囲気下にて48時間活性炭処理を行った。活性炭処理終了後、孔径1μmのPTFE製メンブレンフィルターを用いて活性炭をろ過してろ液を回収した。更に、前記操作にて分離された活性炭を、窒素下にて脱水蒸留精製した1,4−ジオキサン500gで洗浄し、同様にメンブレンフィルターを用いて活性炭をろ過して洗浄液を回収して、先に得られたろ液と混合した。回収された混合液をエバポレーターを用いて、減圧条件下、加熱温度40℃にて1,4−ジオキサン及びアセトニトリルを留去し、エポキシ変性シリコーン含有成分を得た。   After the cooling was completed, 330 g of acetonitrile dehydrated and purified under dry nitrogen was added to the reaction solution, and the mixture was stirred for 2 hours under an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere, and then the stirring was stopped. Next, 270 g of activated carbon heated and dried at 150 ° C. for 3 hours under a dry nitrogen stream was added, and the activated carbon treatment was performed for 48 hours under a dry nitrogen atmosphere. After the activated carbon treatment was completed, the activated carbon was filtered using a PTFE membrane filter having a pore size of 1 μm to collect the filtrate. Further, the activated carbon separated by the above operation was washed with 500 g of 1,4-dioxane purified by dehydration distillation under nitrogen, and the activated carbon was similarly filtered using a membrane filter to recover the washing solution. The resulting filtrate was mixed. 1,4-dioxane and acetonitrile were distilled off from the collected liquid mixture using an evaporator at a heating temperature of 40 ° C. under reduced pressure to obtain an epoxy-modified silicone-containing component.

得られたエポキシ変性シリコーン含有成分を、処理時間を4時間としてこと以外は「エポキシ変性シリコーンの製造例1」と同様に、内部に大気圧換算で10mL/分の流量にて乾燥窒素を導入しながら、温度40℃、圧力0.2kPaにてガラスチューブオーブンで低沸化合物を留去し、低沸化合物を低減したエポキシ変性シリコーン含有成分を得た。この操作を上記で得られた1,4−ジオキサンを留去した残りのエポキシ変性シリコーンに対して繰り返し行い、低沸化合物を低減した[エポキシ変性シリコーン14a]60gを得た。   The obtained epoxy-modified silicone-containing component was introduced with dry nitrogen at a flow rate of 10 mL / min in terms of atmospheric pressure, similarly to “Epoxy-modified silicone production example 1” except that the treatment time was 4 hours. However, the low-boiling compound was distilled off in a glass tube oven at a temperature of 40 ° C. and a pressure of 0.2 kPa to obtain an epoxy-modified silicone-containing component in which the low-boiling compound was reduced. This operation was repeated for the remaining epoxy-modified silicone obtained by distilling off 1,4-dioxane obtained above to obtain 60 g of [epoxy-modified silicone 14a] with reduced low boiling point compounds.

得られた[エポキシ変性シリコーン14a]は、数平均分子量1350の下記平均組成式(H−14)で表される構造であった。
(Me[VCHO]SiO1/2)(MeSiO2/2)13 ・・・(H−14)
[ここで、平均組成式(H−7)中における(Me[VCHO]SiO2/2)は、ジメチル水素シロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
[Epoxy-modified silicone 14a] thus obtained had a structure represented by the following average composition formula (H-14) having a number average molecular weight of 1350.
(Me 2 [VCHO] SiO 1/2 ) 2 (Me 2 SiO 2/2 ) 13 (H-14)
[Here, (Me 2 [VCHO] SiO 2/2 ) in the average composition formula (H-7) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a dimethylhydrogensiloxy unit by an anti-Markovnikov by a hydrosilylation reaction. ]

未反応のSiH単位が検出されなかったことから、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。
また、該[エポキシ変性シリコーン14a]には一般式(1)及び一般式(2)で表される化合物は、含有されていなかった。また、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.133であった。また、[エポキシ変性シリコーン14a]中の分子量800以下の成分の含有率は8%、分子量1万以上の成分の含有率は19%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン14a]のエポキシ価は0.15、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で0.8ppmであった。
Since no unreacted SiH unit was detected, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.
Further, the [epoxy-modified silicone 14a] did not contain the compounds represented by the general formulas (1) and (2). In addition, the value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.133. In addition, the content of components having a molecular weight of 800 or less in [Epoxy-modified silicone 14a] was 8%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 19%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy-modified silicone 14a] was 0.15, the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 0.8 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン14a]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.001質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。
また、[エポキシ変性シリコーン14a]は、25℃で1週間保管しても、分子量の増大は認められなかった。
As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 14a], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.001 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.
[Epoxy-modified silicone 14a] was not observed to increase in molecular weight even when stored at 25 ° C. for 1 week.

[実施例1]
1)[エポキシ変性シリコーン1b]の製造
[エポキシ変性シリコーン1a]80質量部と、[エポキシ変性シリコーン2a]20質量部とを均一混合することにより、[エポキシ変性シリコーン1b]を製造した。
得られた[エポキシ変性シリコーン1b]は、数平均分子量1,800の下記平均組成式(I−1)で表される構造であった。
(MeYSiO1/2)5.51(MeZSiO2/2)5.51(Me[VCHO]SiO2/2) 5.35 ・・・(I−1)
[ここで、平均組成式(I−1)中における(Me[VCHO]SiO2/2)は、ジメチル水素シロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
[Example 1]
1) Production of [Epoxy-modified silicone 1b] [Epoxy-modified silicone 1b] was produced by uniformly mixing 80 parts by mass of [Epoxy-modified silicone 1a] and 20 parts by mass of [Epoxy-modified silicone 2a].
[Epoxy-modified silicone 1b] thus obtained had a structure represented by the following average composition formula (I-1) having a number average molecular weight of 1,800.
(Me 2 YSiO 1/2 ) 5.51 (MeZSiO 2/2 ) 5.51 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 5.35 (I-1)
[Here, (Me 2 [VCHO] SiO 2/2 ) in the average composition formula (I-1) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to an anti-Markovnikov by a hydrosilylation reaction to a dimethylhydrogensiloxy unit. ]

[エポキシ変性シリコーン1b]中にはSiH単位が含有されず、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。   [Epoxy-modified silicone 1b] contained no SiH unit, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.

また、該[エポキシ変性シリコーン1b]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は0.34、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.337であった。また、[エポキシ変性シリコーン1b]中の分子量800以下の成分の含有率は30.0%、分子量1万以上の成分の含有率は21.2%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン1b]のエポキシ価は0.29、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で0.5ppmであった。   The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 1b] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is the compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 0.34, The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.337. In addition, the content of components having a molecular weight of 800 or less in [Epoxy-modified silicone 1b] was 30.0%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 21.2%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy-modified silicone 1b] was 0.29, the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 0.5 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン1b]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。
また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.001質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。
As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 1b], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less.
Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.001 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.

2)[硬化性樹脂組成物−1b]の製造と特性評価
得られた[エポキシ変性シリコーン1b]100質量部、リカシッドMH−700G(新日本理化社製品;メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸混合物)51.9質量部、1,2−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.3質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して[硬化性樹脂組成物−1b]を得た。[硬化性樹脂組成物−1b]を窒素下にて型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
2) Manufacture and characterization of [curable resin composition-1b] 100 parts by weight of obtained [epoxy-modified silicone 1b], Ricacid MH-700G (product of Shin Nippon Rika Co., Ltd .; methylhexahydrophthalic anhydride / hexahydrophthalic anhydride) Acid mixture) 51.9 parts by mass, 1,2-propanediol 3 parts by mass, and diazabicycloundecene octylate 0.3 parts by mass under nitrogen, stirred until the whole becomes homogeneous, and then removed. It foamed and [curable resin composition-1b] was obtained. [Curable resin composition-1b] was poured into a mold under nitrogen and subjected to a curing reaction at 120 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 2 hours to obtain a cured product. Table 1 shows the performance of the obtained cured product.

[実施例2]
1)[エポキシ変性シリコーン2b]の製造
[エポキシ変性シリコーン4a]80質量部と、[エポキシ変性シリコーン2a]20質量部とを均一混合することにより、[エポキシ変性シリコーン2b]を製造した。
得られた[エポキシ変性シリコーン2b]は、数平均分子量2,000の下記平均組成式(I−2)で表される構造であった。
(MeYSiO1/2) 6.25(MeZSiO2/2)6.25(Me[VCHO]SiO2/2) 5.60 ・・・(I−2)
[ここで、平均組成式(I−2)中における(Me[VCHO]SiO2/2)は、ジメチル水素シロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
[Example 2]
1) Production of [Epoxy-modified silicone 2b] [Epoxy-modified silicone 2b] was produced by uniformly mixing 80 parts by mass of [Epoxy-modified silicone 4a] and 20 parts by mass of [Epoxy-modified silicone 2a].
The obtained [epoxy-modified silicone 2b] had a structure represented by the following average composition formula (I-2) having a number average molecular weight of 2,000.
(Me 2 YSiO 1/2 ) 6.25 (MeZSiO 2/2 ) 6.25 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 5.60 (I-2)
[Here, (Me 2 [VCHO] SiO 2/2 ) in the average composition formula (I-2) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to an anti-Markovnikov by a hydrosilylation reaction to a dimethylhydrogensiloxy unit. ]

[エポキシ変性シリコーン2b]中にはSiH単位が含有されず、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。   [Epoxy-modified silicone 2b] contained no SiH unit, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.

また、該[エポキシ変性シリコーン2b]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は0.34、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.345であった。また、[エポキシ変性シリコーン2b]中の分子量800以下の成分の含有率は38.0%、分子量1万以上の成分の含有率は24.6%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン2b]のエポキシ価は0.29、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で0.4ppmであった。   The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 2b] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is the compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 0.34, The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.345. In [Epoxy-modified silicone 2b], the content of components having a molecular weight of 800 or less was 38.0%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 24.6%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy-modified silicone 2b] was 0.29, the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 0.4 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン2b]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.002質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。   As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 2b], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.002 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.

2)[硬化性樹脂組成物−2b]の製造と特性評価
得られた[エポキシ変性シリコーン2b]100質量部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸47.2質量部、1,3−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.3質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して[硬化性樹脂組成物−2b]を得た。[硬化性樹脂組成物−2b]を窒素下にて型に流し込み、120℃で1時間、更に140℃で2時間、更に引き続いて160℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
2) Manufacture and evaluation of [curable resin composition-2b] 100 parts by weight of the obtained [epoxy-modified silicone 2b], 47.2 parts by weight of methylhexahydrophthalic anhydride, 3 parts by weight of 1,3-propanediol Then, 0.3 part by mass of diazabicycloundecene octylate was mixed under nitrogen, stirred until the whole became uniform, and then defoamed to obtain [curable resin composition-2b]. [Curable resin composition-2b] was poured into a mold under nitrogen, and a curing reaction was performed at 120 ° C. for 1 hour, further at 140 ° C. for 2 hours, and further at 160 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. Table 1 shows the performance of the obtained cured product.

[実施例3]
1)[エポキシ変性シリコーン3b]の製造
[エポキシ変性シリコーン5a]90質量部と、[エポキシ変性シリコーン2a]10質量部とを均一混合することにより、[エポキシ変性シリコーン3b]を製造した。
得られた[エポキシ変性シリコーン3b]は、数平均分子量1,150の下記平均組成式(I−3)で表される構造であった。
(MeYSiO1/2) 2.44(MeZSiO2/2)4.24(Me[VCHO]SiO2/2) 2.44 ・・・(I−3)
[ここで、平均組成式(I−3)中における(Me[VCHO]SiO2/2)は、ジメチル水素シロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
[Example 3]
1) Production of [Epoxy-modified silicone 3b] [Epoxy-modified silicone 3b] was produced by uniformly mixing 90 parts by mass of [Epoxy-modified silicone 5a] and 10 parts by mass of [Epoxy-modified silicone 2a].
The obtained [epoxy-modified silicone 3b] had a structure represented by the following average composition formula (I-3) having a number average molecular weight of 1,150.
(Me 2 YSiO 1/2 ) 2.44 (MeZSiO 2/2 ) 4.24 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 2.44 (I-3)
[Here, (Me 2 [VCHO] SiO 2/2 ) in the average composition formula (I-3) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a dimethylhydrogensiloxy unit by an anti-Markovnikov by a hydrosilylation reaction. ]

[エポキシ変性シリコーン3b]中にはSiH単位が含有されず、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。   [Epoxy-modified silicone 3b] did not contain SiH units, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.

また、該[エポキシ変性シリコーン3b]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は0.42、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.268であった。また、[エポキシ変性シリコーン3b]中の分子量800以下の成分の含有率は37.0%、分子量1万以上の成分の含有率は9.7%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン3b]のエポキシ価は0.37、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で0.5ppmであった。   The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 3b] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is the compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 0.42. The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.268. In addition, the content of components having a molecular weight of 800 or less in [Epoxy-modified silicone 3b] was 37.0%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 9.7%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy-modified silicone 3b] was 0.37, the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 0.5 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン3b]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.001質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。   As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 3b], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.001 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.

2)[硬化性樹脂組成物−3b]の製造と特性評価
得られた[エポキシ変性シリコーン3b]100質量部、リカシッドMH−700G(新日本理化社製品;メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸混合物)65.3質量部、1,2−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.3質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して[硬化性樹脂組成物−3b]を得た。[硬化性樹脂組成物−3b]を窒素下にて型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
2) Manufacture and characterization of [curable resin composition-3b] 100 parts by weight of obtained [epoxy-modified silicone 3b], Ricacid MH-700G (product of Shin Nippon Rika Co., Ltd .; methylhexahydrophthalic anhydride / hexahydrophthalic anhydride) Acid mixture) 65.3 parts by mass, 1,2-propanediol 3 parts by mass, diazabicycloundecene octylate 0.3 parts by mass under nitrogen, stirring until the whole becomes uniform, It foamed and [curable resin composition-3b] was obtained. [Curable resin composition-3b] was poured into a mold under nitrogen and subjected to a curing reaction at 120 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 2 hours to obtain a cured product. Table 1 shows the performance of the obtained cured product.

[実施例4]
1)[エポキシ変性シリコーン4b]の製造
[エポキシ変性シリコーン6a]75質量部と、[エポキシ変性シリコーン7a]25質量部とを均一混合することにより、[エポキシ変性シリコーン4b]を製造した。
得られた[エポキシ変性シリコーン4b]は、数平均分子量1,700の下記平均組成式(I−4)で表される構造であった。
(Me[VCHO]SiO1/2)0.76(MeYSiO1/2) 4.47(MeSiO2/2)3.80
(MeZSiO2/2)4.47(Me[VCHO]SiO2/2) 3.23 ・・・(I−5)
[ここで、平均組成式(I−5)中における(Me[VCHO]SiO2/2)は、ジメチル水素シロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位、(Me[VCHO]SiO2/2)は、ジメチル水素シロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を各々表す。]
[Example 4]
1) Production of [Epoxy Modified Silicone 4b] [Epoxy Modified Silicone 4b] was produced by uniformly mixing 75 parts by mass of [Epoxy Modified Silicone 6a] and 25 parts by mass of [Epoxy Modified Silicone 7a].
[Epoxy-modified silicone 4b] thus obtained had a structure represented by the following average composition formula (I-4) having a number average molecular weight of 1,700.
(Me 2 [VCHO] SiO 1/2 ) 0.76 (Me 2 YSiO 1/2 ) 4.47 (Me 2 SiO 2/2 ) 3.80
(MeZSiO 2/2 ) 4.47 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 3.23 (I-5)
[Wherein (Me 2 [VCHO] SiO 2/2 ) in the average composition formula (I-5) is a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a dimethylhydrogensiloxy unit by an anti-markovnikov by a hydrosilylation reaction, (Me 2 [VCHO] SiO 2/2 ) each represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to an anti-Markovnikov by a hydrosilylation reaction to a dimethylhydrogensiloxy unit. ]

[エポキシ変性シリコーン4b]中にはSiH単位が含有されず、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。   [Epoxy-modified silicone 4b] contained no SiH unit, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.

また、該[エポキシ変性シリコーン4b]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は0.42、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は1.56であった。また、[エポキシ変性シリコーン4b]中の分子量800以下の成分の含有率は22.6%、分子量1万以上の成分の含有率は19.4%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン4b]のエポキシ価は0.23、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で3.6ppmであった。   The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 4b] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is the compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 0.42. The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 1.56. The content of components having a molecular weight of 800 or less in [Epoxy-modified silicone 4b] was 22.6%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 19.4%. Furthermore, the epoxy value of [Epoxy-modified silicone 4b] was 0.23, the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 3.6 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン4b]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.002質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。   As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 4b], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.002 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.

2)[硬化性樹脂組成物−4b]の製造と特性評価
得られた[エポキシ変性シリコーン4b]90質量部、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンジカルボキシレート10質量部、リカシッドMH−700G(新日本理化社製品;メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸混合物)44.7質量部、1,2−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.3質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して[硬化性樹脂組成物−4b]を得た。[硬化性樹脂組成物−4b]を窒素下にて型に流し込み、120℃で1時間、更に140℃で3時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
2) Manufacture and characteristic evaluation of [curable resin composition-4b] 90 parts by weight of the obtained [epoxy-modified silicone 4b], 10 parts by weight of 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanedicarboxylate Parts, RIKACID MH-700G (product of Shin Nippon Rika Co., Ltd .; methylhexahydrophthalic anhydride / hexahydrophthalic anhydride mixture) 44.7 parts, 1,2-propanediol 3 parts, diazabicycloundecene octylate 0.3 part by mass was mixed under nitrogen, stirred until the whole became uniform, and then defoamed to obtain [curable resin composition-4b]. [Curable resin composition-4b] was poured into a mold under nitrogen and subjected to a curing reaction at 120 ° C. for 1 hour and further at 140 ° C. for 3 hours to obtain a cured product. Table 1 shows the performance of the obtained cured product.

[実施例5]
1)[エポキシ変性シリコーン5b]の製造
[エポキシ変性シリコーン8a]50質量部と、[エポキシ変性シリコーン9a]50質量部とを均一混合することにより、[エポキシ変性シリコーン5b]を製造した。
得られた[エポキシ変性シリコーン5b]は、数平均分子量1,500の下記平均組成式(I−5)で表される構造であった。
(MeYSiO1/2) 4.03(MeZSiO2/2)4.03(Me[VCHO]SiO2/2) 4.80 ・・・(I−5)
[ここで、平均組成式(I−5)中における(Me[VCHO]SiO2/2)は、ジメチル水素シロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
[Example 5]
1) Production of [Epoxy-modified silicone 5b] [Epoxy-modified silicone 5b] was produced by uniformly mixing 50 parts by mass of [Epoxy-modified silicone 8a] and 50 parts by mass of [Epoxy-modified silicone 9a].
[Epoxy-modified silicone 5b] thus obtained had a structure represented by the following average composition formula (I-5) having a number average molecular weight of 1,500.
(Me 2 YSiO 1/2 ) 4.03 (MeZSiO 2/2 ) 4.03 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 4.80 (I-5)
[Here, (Me 2 [VCHO] SiO 2/2 ) in the average composition formula (I-5) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to an anti-Markovnikov by a hydrosilylation reaction to a dimethylhydrogensiloxy unit. ]

[エポキシ変性シリコーン5b]中にはSiH単位が含有されず、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。   [Epoxy-modified silicone 5b] contained no SiH unit, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.

また、該[エポキシ変性シリコーン5b]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は0.65、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.313であった。また、[エポキシ変性シリコーン5b]中の分子量800以下の成分の含有率は29.6%、分子量1万以上の成分の含有率は16.1%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン5b]のエポキシ価は0.32、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で4.5ppmであった。   The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 5b] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is a compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 0.65, The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.313. The content of components having a molecular weight of 800 or less in [Epoxy-modified silicone 5b] was 29.6%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 16.1%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy modified silicone 5b] was 0.32, and the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 4.5 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン5b]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.002質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。   As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 5b], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.002 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.

2)[硬化性樹脂組成物−5b]の製造と特性評価
得られた[エポキシ変性シリコーン5b]100質量部、リカシッドMH−700G(新日本理化社製品;メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸混合物)56.9質量部、1,2−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.3質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して[硬化性樹脂組成物−5b]を得た。[硬化性樹脂組成物−5b]を窒素下にて型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
2) Manufacture and characterization of [curable resin composition-5b] 100 parts by weight of obtained [epoxy-modified silicone 5b], Ricacid MH-700G (product of Shin Nippon Rika Co., Ltd .; methylhexahydrophthalic anhydride / hexahydrophthalic anhydride) Acid mixture) 56.9 parts by mass, 1,2-propanediol 3 parts by mass, and diazabicycloundecene octylate 0.3 parts by mass under nitrogen, stirring until the whole is uniform, Foamed to obtain [Curable Resin Composition-5b]. [Curable resin composition-5b] was poured into a mold under nitrogen and subjected to a curing reaction at 120 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 2 hours to obtain a cured product. Table 1 shows the performance of the obtained cured product.

[実施例6]
1)[エポキシ変性シリコーン6b]の製造
[エポキシ変性シリコーン10a]27質量部と、[エポキシ変性シリコーン4a]73質量部とを均一混合することにより、[エポキシ変性シリコーン6b]を製造した。
得られた[エポキシ変性シリコーン6b]は、数平均分子量1,900の下記平均組成式(I−6)で表される構造であった。
(MeYSiO1/2) 6.11(MeZSiO2/2)6.11(Me[VCHO]SiO2/2) 5.37 ・・・(I−6)
[ここで、平均組成式(I−6)中における(Me[VCHO]SiO2/2)は、ジメチル水素シロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
[Example 6]
1) Production of [Epoxy Modified Silicone 6b] [Epoxy Modified Silicone 6b] was produced by uniformly mixing 27 parts by mass of [Epoxy Modified Silicone 10a] and 73 parts by mass of [Epoxy Modified Silicone 4a].
The obtained [epoxy-modified silicone 6b] had a structure represented by the following average composition formula (I-6) having a number average molecular weight of 1,900.
(Me 2 YSiO 1/2 ) 6.11 (MeZSiO 2/2 ) 6.11 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 5.37 (I-6)
[Here, (Me 2 [VCHO] SiO 2/2 ) in the average composition formula (I-6) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to an anti-Markovnikov by a hydrosilylation reaction to a dimethylhydrogensiloxy unit. ]

[エポキシ変性シリコーン6b]中にはSiH単位が含有されず、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。   [Epoxy-modified silicone 6b] contained no SiH unit, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.

また、該[エポキシ変性シリコーン6b]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は0.67、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.347であった。また、[エポキシ変性シリコーン6b]中の分子量800以下の成分の含有率は25.5%、分子量1万以上の成分の含有率は24.8%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン6b]のエポキシ価は0.28、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で1.7ppmであった。   The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 6b] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is a compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 0.67, The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.347. In addition, the content of components having a molecular weight of 800 or less in [Epoxy-modified silicone 6b] was 25.5%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 24.8%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy-modified silicone 6b] was 0.28, the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 1.7 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン6b]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.002質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。   As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 6b], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.002 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.

2)[硬化性樹脂組成物−6b]の製造と特性評価
得られた[エポキシ変性シリコーン6b]100質量部、リカシッドMH−700G(新日本理化社製品;メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸混合物)49.6質量部、1,2−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.3質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して[硬化性樹脂組成物−6b]を得た。[硬化性樹脂組成物−6b]を窒素下にて型に流し込み、120℃で1時間、更に140℃で2時間、更に引き続き160℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
2) Manufacture and evaluation of [curable resin composition-6b] 100 parts by weight of obtained [epoxy-modified silicone 6b], Ricacid MH-700G (product of Shin Nippon Rika Co., Ltd .; methylhexahydrophthalic anhydride / hexahydrophthalic anhydride) Acid mixture) 49.6 parts by mass, 1,2-propanediol 3 parts by mass, and diazabicycloundecene octylate 0.3 parts by mass under nitrogen and stirring until the whole becomes homogeneous Foamed to obtain [Curable Resin Composition-6b]. [Curable resin composition-6b] was poured into a mold under nitrogen and subjected to a curing reaction at 120 ° C. for 1 hour, further at 140 ° C. for 2 hours, and further at 160 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. Table 1 shows the performance of the obtained cured product.

[実施例7]
1)[エポキシ変性シリコーン7b]の製造
[エポキシ変性シリコーン4a]40質量部と、[エポキシ変性シリコーン5a]70質量部とを均一混合することにより、[エポキシ変性シリコーン7b]を製造した。
得られた[エポキシ変性シリコーン7b]は、数平均分子量1,530の下記平均組成式(I−7)で表される構造であった。
(MeYSiO1/2) 4.32(MeZSiO2/2)4.32(Me[VCHO]SiO2/2) 4.72 ・・・(I−7)
[ここで、平均組成式(I−7)中における(Me[VCHO]SiO2/2)は、ジメチル水素シロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
[Example 7]
1) Production of [Epoxy Modified Silicone 7b] [Epoxy Modified Silicone 7b] was produced by uniformly mixing 40 parts by mass of [Epoxy Modified Silicone 4a] and 70 parts by mass of [Epoxy Modified Silicone 5a].
[Epoxy-modified silicone 7b] thus obtained had a structure represented by the following average composition formula (I-7) having a number average molecular weight of 1,530.
(Me 2 YSiO 1/2 ) 4.32 (MeZSiO 2/2 ) 4.32 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 4.72 (I-7)
[Here, (Me 2 [VCHO] SiO 2/2 ) in the average composition formula (I-7) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to an anti-Markovnikov by a hydrosilylation reaction to a dimethylhydrogensiloxy unit. ]

[エポキシ変性シリコーン7b]中にはSiH単位が含有されず、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。   [Epoxy-modified silicone 7b] contained no SiH unit, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.

また、該[エポキシ変性シリコーン7b]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は0.81、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.323であった。また、[エポキシ変性シリコーン7b]中の分子量800以下の成分の含有率は27.6%、分子量1万以上の成分の含有率は16.8%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン7b]のエポキシ価は0.31、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で0.5ppmであった。   The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 7b] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is the compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 0.81. The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.323. In [Epoxy-modified silicone 7b], the content of components having a molecular weight of 800 or less was 27.6%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 16.8%. Furthermore, the epoxy value of [Epoxy-modified silicone 7b] was 0.31, and the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 0.5 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン7b]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.001質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。   As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 7b], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.001 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.

2)[硬化性樹脂組成物−7b]の製造と特性評価
得られた[エポキシ変性シリコーン7b]100質量部、リカシッドMH−700G(新日本理化社製品;メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸混合物)54.8質量部、1,2−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.3質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して[硬化性樹脂組成物−7b]を得た。[硬化性樹脂組成物−7b]を窒素下にて型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
2) Manufacture and evaluation of [curable resin composition-7b] 100 parts by weight of obtained [epoxy-modified silicone 7b], Ricacid MH-700G (product of Shin Nippon Rika Co., Ltd .; methylhexahydrophthalic anhydride / hexahydrophthalic anhydride) Acid mixture) 54.8 parts by mass, 1,2-propanediol 3 parts by mass, diazabicycloundecene octylate 0.3 parts by mass under nitrogen, stirring until the whole is uniform, It foamed and [curable resin composition-7b] was obtained. [Curable resin composition-7b] was poured into a mold under nitrogen, and a curing reaction was performed at 120 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 2 hours to obtain a cured product. Table 1 shows the performance of the obtained cured product.

[実施例8]
1)[エポキシ変性シリコーン8b]の製造
[エポキシ変性シリコーン8a]40質量部、[エポキシ変性シリコーン9a]50質量部、[エポキシ変性シリコーン2a]10質量部とを均一混合することにより、[エポキシ変性シリコーン8b]を製造した。
得られた[エポキシ変性シリコーン8b]は、数平均分子量1,470の下記平均組成式(I−8)で表される構造であった。
(MeYSiO1/2) 3.70 (MeZSiO2/2)3.70(Me[VCHO]SiO2/2) 4.93 ・・・(I−8)
[ここで、平均組成式(I−8)中における(Me[VCHO]SiO2/2)は、ジメチル水素シロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
[Example 8]
1) Production of [Epoxy-modified silicone 8b] [Epoxy-modified silicone 8a] [Epoxy-modified silicone 8a] 40 parts by mass, [Epoxy-modified silicone 9a] 50 parts by mass, [Epoxy-modified silicone 2a] 10 parts by mass [Epoxy-modified silicone 8b] Silicone 8b] was produced.
[Epoxy-modified silicone 8b] thus obtained had a structure represented by the following average composition formula (I-8) having a number average molecular weight of 1,470.
(Me 2 YSiO 1/2 ) 3.70 (MeZSiO 2/2 ) 3.70 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 4.93 (I-8)
[Wherein (Me 2 [VCHO] SiO 2/2 ) in the average composition formula (I-8) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a dimethylhydrogensiloxy unit by an anti-Markovnikov by a hydrosilylation reaction. ]

[エポキシ変性シリコーン8b]中にはSiH単位が含有されず、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。   [Epoxy-modified silicone 8b] contained no SiH unit, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.

また、該[エポキシ変性シリコーン8b]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は0.42、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.300であった。また、[エポキシ変性シリコーン8b]中の分子量800以下の成分の含有率は35.8%、分子量1万以上の成分の含有率は15.2%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン8b]のエポキシ価は0.33、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で4.3ppmであった。   The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 8b] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is the compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 0.42. The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.300. In [Epoxy-modified silicone 8b], the content of components having a molecular weight of 800 or less was 35.8%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 15.2%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy modified silicone 8b] was 0.33, the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 4.3 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン8b]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.002質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。   As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 8b], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.002 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.

2)[硬化性樹脂組成物−8b]の製造と特性評価
得られた[エポキシ変性シリコーン8b]100質量部、リカシッドMH−700G(新日本理化社製品;メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸混合物)59.4質量部、1,2−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.3質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して[硬化性樹脂組成物−8b]を得た。[硬化性樹脂組成物−8b]を窒素下にて型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
2) Manufacture and characterization of [curable resin composition-8b] 100 parts by weight of obtained [epoxy-modified silicone 8b], Ricacid MH-700G (product of Shin Nippon Rika Co., Ltd .; methylhexahydrophthalic anhydride / hexahydrophthalic anhydride) Acid mixture) 59.4 parts by weight, 1,2-propanediol 3 parts by weight, diazabicycloundecene octylate 0.3 parts by weight are mixed under nitrogen, stirred until the whole becomes uniform, Foamed to obtain [Curable Resin Composition-8b]. [Curable resin composition-8b] was poured into a mold under nitrogen and subjected to a curing reaction at 120 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 2 hours to obtain a cured product. Table 1 shows the performance of the obtained cured product.

[実施例9]
[硬化性樹脂組成物−9b]の製造と特性評価
得られた[エポキシ変性シリコーン4b]100質量部、熱硬化性カチオン重合触媒(旭電化製 アデカオプトマー CP−66)0.1質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して[硬化性樹脂組成物−9b]を得た。[硬化性樹脂組成物−9b]を窒素下にて型に流し込み、120℃で1時間、更に140℃で3時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表1に示す。
[Example 9]
Production and evaluation of [curable resin composition-9b] 100 parts by mass of the obtained [epoxy-modified silicone 4b] and 0.1 part by mass of a thermosetting cationic polymerization catalyst (Adekaoptomer CP-66 manufactured by Asahi Denka) The mixture was mixed under nitrogen, stirred until the whole became uniform, and then defoamed to obtain [Curable Resin Composition-9b]. [Curable resin composition-9b] was poured into a mold under nitrogen and subjected to a curing reaction at 120 ° C. for 1 hour and further at 140 ° C. for 3 hours to obtain a cured product. Table 1 shows the performance of the obtained cured product.

[比較例1]
1)[エポキシ変性シリコーン1c]の製造
[エポキシ変性シリコーン1a]45質量部と、[エポキシ変性シリコーン7a]55質量部とを均一混合することにより、[エポキシ変性シリコーン1c]を製造した。
得られた[エポキシ変性シリコーン1c]は、数平均分子量1,600の下記平均組成式(J−1)で表される構造であった。
(Me[VCHO]SiO1/2)1.53(MeYSiO1/2) 2.65(MeSiO2/2)7.65
(MeZSiO2/2)2.65(Me[VCHO]SiO2/2) 1.62 ・・・(J−1)
[ここで、平均組成式(J−1)中における(Me[VCHO]SiO2/2)は、ジメチル水素シロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位、(Me[VCHO]SiO2/2)は、ジメチル水素シロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を各々表す。]
[Comparative Example 1]
1) Production of [Epoxy-modified silicone 1c] [Epoxy-modified silicone 1c] was produced by uniformly mixing 45 parts by mass of [Epoxy-modified silicone 1a] and 55 parts by mass of [Epoxy-modified silicone 7a].
[Epoxy-modified silicone 1c] thus obtained had a structure represented by the following average composition formula (J-1) having a number average molecular weight of 1,600.
(Me 2 [VCHO] SiO 1/2 ) 1.53 (Me 2 YSiO 1/2 ) 2.65 (Me 2 SiO 2/2 ) 7.65
(MeZSiO 2/2 ) 2.65 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 1.62 (J-1)
Here, (Me 2 [VCHO] SiO 2/2 ) in the average composition formula (J-1) is a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a dimethylhydrogensiloxy unit by anti-markovnikov by a hydrosilylation reaction, (Me 2 [VCHO] SiO 2/2 ) each represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to an anti-Markovnikov by a hydrosilylation reaction to a dimethylhydrogensiloxy unit. ]

[エポキシ変性シリコーン1c]中にはSiH単位が含有されず、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。   [Epoxy-modified silicone 1c] contained no SiH unit, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.

また、該[エポキシ変性シリコーン1c]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は2.10、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.26であった。また、[エポキシ変性シリコーン1c]中の分子量800以下の成分の含有率は20.2%、分子量1万以上の成分の含有率は20.2%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン1c]のエポキシ価は0.20、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で4.2ppmであった。   The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 1c] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is the compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 2.10, The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.26. The content of components having a molecular weight of 800 or less in [Epoxy-modified silicone 1c] was 20.2%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 20.2%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy-modified silicone 1c] was 0.20, the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 4.2 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン1c]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.001質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。   As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 1c], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.001 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.

2)[硬化性樹脂組成物−1c]の製造と特性評価
得られた[エポキシ変性シリコーン1c]100質量部、リカシッドMH−700G(新日本理化社製品;メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸混合物)35.7質量部、1,2−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.3質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して[硬化性樹脂組成物−1c]を得た。[硬化性樹脂組成物−1c]を窒素下にて型に流し込み、110℃で2時間、更に120℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表2に示す。
2) Manufacture and characterization of [curable resin composition-1c] 100 parts by weight of the obtained [epoxy-modified silicone 1c], Ricacid MH-700G (product of Shin Nippon Rika Co., Ltd .; methylhexahydrophthalic anhydride / hexahydrophthalic anhydride) Acid mixture) 35.7 parts by mass, 1,2-propanediol 3 parts by mass, diazabicycloundecene octylate 0.3 parts by mass under nitrogen, stirred until the whole becomes homogeneous, and then removed. It foamed and [curable resin composition-1c] was obtained. [Curable resin composition-1c] was poured into a mold under nitrogen, and a curing reaction was performed at 110 ° C. for 2 hours and further at 120 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. Table 2 shows the performance of the obtained cured product.

[比較例2]
[硬化性樹脂組成物−2c]の製造と特性評価
得られた[エポキシ変性シリコーン9b]100質量部、リカシッドMH−700G(新日本理化社製品;メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸混合物)42.5質量部、1,2−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.3質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して[硬化性樹脂組成物−2c]を得た。[硬化性樹脂組成物−2c]を窒素下にて型に流し込み、120℃で1時間、更に140℃で3時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表2に示す。
[Comparative Example 2]
Production and Characterization of [Curable Resin Composition-2c] 100 parts by mass of [Epoxy-modified silicone 9b] obtained, Ricacid MH-700G (product of Shin Nippon Rika Co., Ltd .; methylhexahydrophthalic anhydride / hexahydrophthalic anhydride mixture) ) 42.5 parts by mass, 1,2-propanediol 3 parts by mass, diazabicycloundecene octylate 0.3 parts by mass under nitrogen, stirred until the whole becomes uniform, and then defoamed Thus, [curable resin composition-2c] was obtained. [Curable resin composition-2c] was poured into a mold under nitrogen and subjected to a curing reaction at 120 ° C. for 1 hour and further at 140 ° C. for 3 hours to obtain a cured product. Table 2 shows the performance of the obtained cured product.

[比較例3]
1)[エポキシ変性シリコーン3c]の製造
[エポキシ変性シリコーン8a]90質量部と、[エポキシ変性シリコーン7a]10質量部とを均一混合することにより、[エポキシ変性シリコーン3c]を製造した。
得られた[エポキシ変性シリコーン3c]は、数平均分子量1,000の下記平均組成式(J−3)で表される構造であった。
(Me[VCHO]SiO1/2)0.18(MeYSiO1/2) 1.56(MeSiO2/2)0.90
(MeZSiO2/2)1.56(Me[VCHO]SiO2/2) 3.66 ・・・(J−3)
[ここで、平均組成式(J−3)中における(Me[VCHO]SiO2/2)は、ジメチル水素シロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位、(Me[VCHO]SiO2/2)は、ジメチル水素シロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を各々表す。]
[Comparative Example 3]
1) Production of [Epoxy Modified Silicone 3c] [Epoxy Modified Silicone 3c] was produced by uniformly mixing 90 parts by mass of [Epoxy Modified Silicone 8a] and 10 parts by mass of [Epoxy Modified Silicone 7a].
[Epoxy-modified silicone 3c] obtained had a structure represented by the following average composition formula (J-3) having a number average molecular weight of 1,000.
(Me 2 [VCHO] SiO 1/2 ) 0.18 (Me 2 YSiO 1/2 ) 1.56 (Me 2 SiO 2/2 ) 0.90
(MeZSiO 2/2 ) 1.56 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 3.66 (J-3)
[Wherein (Me 2 [VCHO] SiO 2/2 ) in the average composition formula (J-3) is a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a dimethylhydrogensiloxy unit by an anti-Markovnikov by a hydrosilylation reaction, (Me 2 [VCHO] SiO 2/2 ) each represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to an anti-Markovnikov by a hydrosilylation reaction to a dimethylhydrogensiloxy unit. ]

[エポキシ変性シリコーン3c]中にはSiH単位が含有されず、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。   [Epoxy-modified silicone 3c] contained no SiH unit, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.

また、該[エポキシ変性シリコーン3c]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は0.42、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.221であった。また、[エポキシ変性シリコーン1c]中の分子量800以下の成分の含有率は35.4%、分子量1万以上の成分の含有率は9.8%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン3c]のエポキシ価は0.38、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で3.9ppmであった。   The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 3c] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is the compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 0.42. The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.221. The content of components having a molecular weight of 800 or less in [Epoxy-modified silicone 1c] was 35.4%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 9.8%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy modified silicone 3c] was 0.38, the transition metal component contained was only platinum, and the content of the component was 3.9 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン3c]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.001質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。   As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 3c], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.001 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.

2)[硬化性樹脂組成物−3c]の製造と特性評価
得られた[エポキシ変性シリコーン3c]100質量部、リカシッドMH−700G(新日本理化社製品;メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸混合物)67.2質量部、1,2−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.3質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して[硬化性樹脂組成物−3c]を得た。[硬化性樹脂組成物−3c]を窒素下にて型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表2に示す。
2) Manufacture and characterization of [curable resin composition-3c] 100 parts by weight of obtained [epoxy-modified silicone 3c], Ricacid MH-700G (product of Shin Nippon Rika Co., Ltd .; methylhexahydrophthalic anhydride / hexahydrophthalic anhydride) Acid mixture) 67.2 parts by mass, 3 parts by mass of 1,2-propanediol, and 0.3 parts by mass of diazabicycloundecene octylate are mixed under nitrogen and stirred until the whole becomes uniform. It foamed and [curable resin composition-3c] was obtained. [Curable resin composition-3c] was poured into a mold under nitrogen and subjected to a curing reaction at 120 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 2 hours to obtain a cured product. Table 2 shows the performance of the obtained cured product.

[比較例4]
1)[エポキシ変性シリコーン4c]の製造
[エポキシ変性シリコーン11a]85質量部と、[エポキシ変性シリコーン2a]15質量部とを均一混合することにより、[エポキシ変性シリコーン4c]を製造した。
得られた[エポキシ変性シリコーン4c]は、数平均分子量1,300の下記平均組成式(J−4)で表される構造であった。
(MeYSiO1/2) 2.93 (MeZSiO2/2)2.93(Me[VCHO]SiO2/2) 4.64 ・・・(J−4)
[ここで、平均組成式(J−4)中における(Me[VCHO]SiO2/2)は、ジメチル水素シロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
[Comparative Example 4]
1) Production of [Epoxy Modified Silicone 4c] [Epoxy Modified Silicone 4c] was produced by uniformly mixing 85 parts by mass of [Epoxy Modified Silicone 11a] and 15 parts by mass of [Epoxy Modified Silicone 2a].
[Epoxy-modified silicone 4c] thus obtained had a structure represented by the following average composition formula (J-4) having a number average molecular weight of 1,300.
(Me 2 YSiO 1/2 ) 2.93 (MeZSiO 2/2 ) 2.93 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 4.64 (J-4)
[Here, (Me 2 [VCHO] SiO 2/2 ) in the average composition formula (J-4) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a dimethylhydrogensiloxy unit by an anti-Markovnikov by a hydrosilylation reaction. ]

[エポキシ変性シリコーン4c]中にはSiH単位が含有されず、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。   [Epoxy-modified silicone 4c] contained no SiH unit, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.

また、該[エポキシ変性シリコーン4c]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は0.38、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.279であった。また、[エポキシ変性シリコーン4c]中の分子量800以下の成分の含有率は40.3%、分子量1万以上の成分の含有率は9.4%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン4c]のエポキシ価は0.36、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で4.6ppmであった。   The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 4c] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is the compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 0.38, The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.279. In [Epoxy-modified silicone 4c], the content of components having a molecular weight of 800 or less was 40.3%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 9.4%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy-modified silicone 4c] was 0.36, and the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 4.6 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン4c]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.001質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。   As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 4c], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.001 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.

2)[硬化性樹脂組成物−4c]の製造と特性評価
得られた[エポキシ変性シリコーン4c]100質量部、リカシッドMH−700G(新日本理化社製品;メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸混合物)63.7質量部、1,2−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.3質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して[硬化性樹脂組成物−4c]を得た。[硬化性樹脂組成物−4c]を窒素下にて型に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表2に示す。
2) Production and Evaluation of [Curable Resin Composition-4c] 100 parts by mass of [Epoxy Modified Silicone 4c], Ricacid MH-700G (product of Shin Nippon Rika Co., Ltd .; methylhexahydrophthalic anhydride / hexahydrophthalic anhydride) Acid mixture) 63.7 parts by mass, 1,2-propanediol 3 parts by mass, diazabicycloundecene octylate 0.3 parts by mass under nitrogen, stirring until the whole is uniform, It foamed and [curable resin composition-4c] was obtained. [Curable resin composition-4c] was poured into a mold under nitrogen, and a curing reaction was performed at 120 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 2 hours to obtain a cured product. Table 2 shows the performance of the obtained cured product.

[比較例5]
1)[エポキシ変性シリコーン5c]の製造
[エポキシ変性シリコーン12a]70質量部と、[エポキシ変性シリコーン2a]30質量部とを均一混合することにより、[エポキシ変性シリコーン5c]を製造した。
得られた[エポキシ変性シリコーン5c]は、数平均分子量2,100の下記平均組成式(J−5)で表される構造であった。
(MeYSiO1/2) 6.56 (MeZSiO2/2)6.02(Me[VCHO]SiO2/2) 6.56 ・・・(J−5)
[ここで、平均組成式(J−5)中における(Me[VCHO]SiO2/2)は、ジメチル水素シロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
[Comparative Example 5]
1) Production of [Epoxy Modified Silicone 5c] [Epoxy Modified Silicone 5c] was produced by uniformly mixing 70 parts by mass of [Epoxy Modified Silicone 12a] and 30 parts by mass of [Epoxy Modified Silicone 2a].
[Epoxy-modified silicone 5c] thus obtained had a structure represented by the following average composition formula (J-5) having a number average molecular weight of 2,100.
(Me 2 YSiO 1/2 ) 6.56 (MeZSiO 2/2 ) 6.02 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 6.56 (J-5)
[Here, (Me 2 [VCHO] SiO 2/2 ) in the average composition formula (J-5) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a dimethylhydrogensiloxy unit by an anti-Markovnikov by a hydrosilylation reaction. ]

[エポキシ変性シリコーン5c]中にはSiH単位が含有されず、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。   [Epoxy-modified silicone 5c] contained no SiH unit, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.

また、該[エポキシ変性シリコーン5c]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は0.21、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.343であった。また、[エポキシ変性シリコーン5c]中の分子量800以下の成分の含有率は37.0%、分子量1万以上の成分の含有率は28.3%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン5c]のエポキシ価は0.29、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で4.0ppmであった。   The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 5c] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is the compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 0.21. The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.343. The content of components having a molecular weight of 800 or less in [Epoxy-modified silicone 5c] was 37.0%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 28.3%. Furthermore, the epoxy value of [Epoxy-modified silicone 5c] was 0.29, the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 4.0 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン5c]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.002質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。   As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 5c], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.002 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.

2)[硬化性樹脂組成物−5c]の製造と特性評価
得られた[エポキシ変性シリコーン5c]100質量部、リカシッドMH−700G(新日本理化社製品;メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸混合物)50.7質量部、1,2−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.3質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して[硬化性樹脂組成物−5c]を得た。[硬化性樹脂組成物−5c]を窒素下にて型に流し込み、120℃で1時間、更に140℃で2時間、」更に引き続き160℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表2に示す。
2) Manufacture and characterization of [curable resin composition-5c] 100 parts by weight of the obtained [epoxy-modified silicone 5c], Ricacid MH-700G (product of Shin Nippon Rika Co., Ltd .; methylhexahydrophthalic anhydride / hexahydrophthalic anhydride) Acid mixture) 50.7 parts by mass, 1,2-propanediol 3 parts by mass, diazabicycloundecene octylate 0.3 part by mass are mixed under nitrogen and stirred until the whole becomes uniform. It foamed and [curable resin composition-5c] was obtained. [Curable resin composition-5c] was poured into a mold under nitrogen and cured at 120 ° C. for 1 hour, further at 140 ° C. for 2 hours, and further at 160 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. Table 2 shows the performance of the obtained cured product.

[比較例6]
1)[エポキシ変性シリコーン6c]の製造
[エポキシ変性シリコーン13a]35質量部と、[エポキシ変性シリコーン2a]10質量部と、[エポキシ変性シリコーン14a]55質量部とを均一混合することにより、[エポキシ変性シリコーン6c]を製造した。
得られた[エポキシ変性シリコーン6c]は、数平均分子量1,730の下記平均組成式(J−6)で表される構造であった。
(Me[VCHO]SiO1/2)1.41(MeYSiO1/2) 2.61(MeSiO2/2)9.18
(MeZSiO2/2)2.61(Me[VCHO]SiO2/2) 2.05 ・・・(J−6)
[ここで、平均組成式(J−6)中における(Me[VCHO]SiO2/2)は、ジメチル水素シロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位、(Me[VCHO]SiO2/2)は、ジメチル水素シロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を各々表す。]
[Comparative Example 6]
1) Production of [Epoxy Modified Silicone 6c] By uniformly mixing 35 parts by mass of [Epoxy Modified Silicone 13a], 10 parts by mass of [Epoxy Modified Silicone 2a], and 55 parts by mass of [Epoxy Modified Silicone 14a], [ Epoxy-modified silicone 6c] was produced.
The obtained [epoxy-modified silicone 6c] had a structure represented by the following average composition formula (J-6) having a number average molecular weight of 1,730.
(Me 2 [VCHO] SiO 1/2 ) 1.41 (Me 2 YSiO 1/2 ) 2.61 (Me 2 SiO 2/2 ) 9.18
(MeZSiO 2/2 ) 2.61 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 2.05 (J-6)
[Wherein (Me 2 [VCHO] SiO 2/2 ) in the average composition formula (J-6) is a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a dimethylhydrogensiloxy unit by an anti-Markovnikov addition by a hydrosilylation reaction, (Me 2 [VCHO] SiO 2/2 ) each represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to an anti-Markovnikov by a hydrosilylation reaction to a dimethylhydrogensiloxy unit. ]

[エポキシ変性シリコーン6c]中にはSiH単位が含有されず、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。   [Epoxy-modified silicone 6c] contained no SiH unit, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.

また、該[エポキシ変性シリコーン6c]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は0.30、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.256であった。また、[エポキシ変性シリコーン6c]中の分子量800以下の成分の含有率は18.5%、分子量1万以上の成分の含有率は23.6%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン6c]のエポキシ価は0.20、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で2.4ppmであった。   The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 6c] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is a compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 0.30, The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.256. In addition, the content of components having a molecular weight of 800 or less in [Epoxy-modified silicone 6c] was 18.5%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 23.6%. Furthermore, the epoxy value of [epoxy-modified silicone 6c] was 0.20, and the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 2.4 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン6c]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.001質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。   As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 6c], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.001 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.

2)[硬化性樹脂組成物−6c]の製造と特性評価
得られた[エポキシ変性シリコーン6c]100質量部、リカシッドMH−700G(新日本理化社製品;メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸混合物)35.7質量部、1,2−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.3質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して[硬化性樹脂組成物−6c]を得た。[硬化性樹脂組成物−6c]を窒素下にて型に流し込み、110℃で2時間、更に120℃で1時間硬化反応を行い、硬化物を得た。得られた硬化物の性能を表2に示す。
2) Manufacture and characterization of [curable resin composition-6c] 100 parts by weight of obtained [epoxy-modified silicone 6c], Ricacid MH-700G (product of Shin Nippon Rika Co., Ltd .; methylhexahydrophthalic anhydride / hexahydrophthalic anhydride) Acid mixture) 35.7 parts by mass, 1,2-propanediol 3 parts by mass, and diazabicycloundecene octylate 0.3 parts by mass under nitrogen, stirred until the whole becomes homogeneous, and then removed. It foamed and [curable resin composition-6c] was obtained. [Curable resin composition-6c] was poured into a mold under nitrogen and subjected to a curing reaction at 110 ° C. for 2 hours and further at 120 ° C. for 1 hour to obtain a cured product. Table 2 shows the performance of the obtained cured product.

[比較例7]
ヒドロシリル化反応時に、脱水蒸留精製した1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンを75g用いたこと、脱水蒸留精製した4−ビニルシクロへキセンオキサイドを84.9g用いたこと、白金元素換算で500ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシリコーン錯体の1,4−ジオキサン溶液を2.2g添加したこと、ヒドロシリル化反応時間を80時間としたこと、以外は、[エポキシ変性シリコーンの製造例6]と同様に、ヒドロシリル化反応を実施した。
[Comparative Example 7]
During hydrosilylation reaction, 75 g of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane purified by dehydration distillation was used, 84.9 g of 4-vinylcyclohexene oxide purified by dehydration distillation was used, and 500 ppm of platinum in terms of platinum element was used. Except that 2.2 g of 1,4-dioxane solution of the platinum divinyltetramethyldisilicone complex contained was added and the hydrosilylation reaction time was 80 hours, the same as [Production Example 6 of Epoxy-Modified Silicone] The hydrosilylation reaction was carried out.

反応開始時において、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの炭素−炭素2重結合のモル数(r2)との比(r2/r1)の値は0.605、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数(r1)と、共存させた炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物<A>の炭素−炭素2重結合のモル数(r4)との比(r4/r1)の値は0.514、オルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対し、添加した化合物中の炭素−炭素2重結合の合計モル数は1.12倍であった。   At the start of the reaction, the ratio between the total number of SiH units (r1) of the organohydrogensilicone and the number of moles (r2) of the carbon-carbon double bonds of the silicone having a coexisting carbon-carbon double bond ( The value of r2 / r1) is 0.605, the total number of moles of SiH units of organohydrogensilicone (r1), and the carbon-carbon 2 of the compound <A> having a coexisting carbon-carbon double bond and epoxy group. The value of the ratio (r4 / r1) to the number of moles (r4) of heavy bonds is 0.514, and the total number of carbon-carbon double bonds in the added compound relative to the total number of moles of SiH units in the organohydrogensilicone The number of moles was 1.12 times.

また、ヒドロシリル化反応を開始する際に用いた触媒の金属原子換算のモル数は、ヒドロシリル化反応前のオルガノハイドロジェンシリコーンのSiH単位の合計モル数に対して1/235,872倍であった。   Further, the number of moles of the catalyst used for starting the hydrosilylation reaction in terms of metal atoms was 1 / 235,872 times the total number of moles of SiH units of the organohydrogensilicone before the hydrosilylation reaction. .

ヒドロシリル化反応完了後、加熱温度を保ったまま、該反応液に乾燥窒素下にて脱水蒸留精製したベンゾニトリル43gを添加し、大気圧乾燥窒素雰囲気下で2時間攪拌した後、攪拌を停止して室温まで冷却した。冷却後に溶液をサンプリングしてH−NMRにより解析したところ、SiH単位の転化率が95%であり、残りの5%のSiH単位は未反応であることが確認された。冷却した反応溶液をエバポレーターを用いて、減圧条件下、加熱温度40℃にて1,4−ジオキサンを留去し、エポキシ変性シリコーン含有成分を得た。 After completion of the hydrosilylation reaction, 43 g of benzonitrile purified by dehydration and distillation under dry nitrogen was added to the reaction solution while maintaining the heating temperature. After stirring for 2 hours under an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere, stirring was stopped. And cooled to room temperature. When the solution was sampled after cooling and analyzed by 1 H-NMR, it was confirmed that the conversion rate of SiH units was 95%, and the remaining 5% of SiH units were unreacted. 1,4-dioxane was distilled off from the cooled reaction solution using an evaporator at a heating temperature of 40 ° C. under reduced pressure to obtain an epoxy-modified silicone-containing component.

得られたエポキシ変性シリコーン含有成分を、「エポキシ変性シリコーンの製造例6」と同様に、内部に大気圧換算で10mL/分の流量にて乾燥窒素を導入しながら、温度40℃、圧力0.2kPaにてガラスチューブオーブンで低沸化合物を留去し、低沸化合物を低減したエポキシ変性シリコーン含有成分を得た。この操作を上記で得られた1,4−ジオキサンを留去した残りのエポキシ変性シリコーンに対して繰り返し行い、低沸化合物を低減した[エポキシ変性シリコーン15a]195gを得た。   The obtained epoxy-modified silicone-containing component was introduced at a temperature of 40 ° C. and a pressure of 0. The low boiling compound was distilled off in a glass tube oven at 2 kPa to obtain an epoxy-modified silicone-containing component with reduced low boiling compound. This operation was repeated with respect to the remaining epoxy-modified silicone obtained by distilling off 1,4-dioxane obtained above, to obtain 195 g of [epoxy-modified silicone 15a] in which low boiling point compounds were reduced.

得られた[エポキシ変性シリコーン7c]は、数平均分子量1,900の下記平均組成式(J−7)で表される構造であった。
(MeYSiO1/2)7.22(MeZSiO2/2)7.22
(Me[VCHO]SiO2/2)4.12(Me[VCHO]SiO2/2)0.60 ・・・(J−7)
[ここで、平均組成式(J−7)中におけるYは−CH−CH−で表される2価の有機基、Zは2価の炭化水素基Yとの結合を表す。また、(Me[VCHO]SiO2/2)は水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドがヒドロシリル化反応により、アンチマルコフニコフ付加した単位を表す。]
[Epoxy-modified silicone 7c] thus obtained had a structure represented by the following average composition formula (J-7) having a number average molecular weight of 1,900.
(Me 2 YSiO 1/2 ) 7.22 (MeZSiO 2/2 ) 7.22
(Me [VCHO] SiO 2/2 ) 4.12 (Me [VCHO] SiO 2/2 ) 0.60 (J-7)
Here, Y in the average composition formula (J-7) represents a divalent organic group represented by —CH 2 —CH 2 —, and Z represents a bond with a divalent hydrocarbon group Y. In addition, (Me [VCHO] SiO 2/2 ) represents a unit in which vinylcyclohexene oxide is added to a hydrogen methylsiloxy unit by an anti-markovnikov by a hydrosilylation reaction. ]

未反応のSiH単位が検出されなかったことから、平均組成式(3)におけるg=0であり、[g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0であった。
また、該[エポキシ変性シリコーン7c]に含まれる一般式(1)で表される化合物は、前記の化学式(25)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数759)、一方、一般式(2)で表される化合物は、前記の化学式(26)で表される化合物(ナトリウムの質量との合計質量数697)であり、[WB]/[WA]の値は1.85、平均組成式(3)における[(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値は0.38であった。また、[エポキシ変性シリコーン7c]中の分子量800以下の成分の含有率は22%、分子量1万以上の成分の含有率は22%であった。更に、[エポキシ変性シリコーン7c]のエポキシ価は0.24、含有される遷移金属成分は白金のみであり、該成分の含有量は白金元素換算で5ppmであった。
Since no unreacted SiH unit was detected, g = 0 in the average composition formula (3), and the value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] was 0.
The compound represented by the general formula (1) contained in the [epoxy-modified silicone 7c] is a compound represented by the chemical formula (25) (total mass number 759 with the mass of sodium), The compound represented by the formula (2) is the compound represented by the chemical formula (26) (total mass number 697 with the mass of sodium), and the value of [WB] / [WA] is 1.85, The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] in the average composition formula (3) was 0.38. In [Epoxy-modified silicone 7c], the content of components having a molecular weight of 800 or less was 22%, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or more was 22%. Furthermore, the epoxy value of [Epoxy-modified silicone 7c] was 0.24, the transition metal component contained was only platinum, and the content of this component was 5 ppm in terms of platinum element.

[エポキシ変性シリコーン7c]中に残留する揮発性化合物としては、1,4−ジオキサンのみが検出され、残留する揮発性化合物の合計量は0.001質量%以下であった。また、低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々0.001質量%、0.002質量%であった。ヒドロシリル化触媒の失活剤又は不活性化剤の残留量は0.001質量%以下であり、その他の化合物は検出されなかった。   As the volatile compound remaining in [epoxy-modified silicone 7c], only 1,4-dioxane was detected, and the total amount of the remaining volatile compound was 0.001% by mass or less. Further, as the low boiling point compound, 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide and 4-vinylcyclohexene oxide was detected, and the residual amount thereof was They were 0.001 mass% and 0.002 mass%, respectively. The residual amount of the deactivator or deactivator of the hydrosilylation catalyst was 0.001% by mass or less, and other compounds were not detected.

[エポキシ変性シリコーン7c]を、25℃で1週間保管したところ、分子量が増大しており、粘度も20%程度増加しgていることから、保存安定性が悪いと判断された。   When [Epoxy-modified silicone 7c] was stored at 25 ° C. for 1 week, the molecular weight was increased and the viscosity was increased by about 20%. Therefore, the storage stability was judged to be poor.

[実施例10]
1)ダイボンド材の製造
[エポキシ変性シリコーンの製造例8]にて製造した[エポキシ変性シリコーン8a]に、リカシッドMH−700G(新日本理化社製品;メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸混合物)71.3質量部、1,2−プロパンジオール3質量部、ジアザビシクロウンデセンオクチル酸塩0.3質量部を窒素下にて混合し、全体が均一になるまで撹拌後、脱泡して光半導体素子用ダイボンド材を得た。
[Example 10]
1) Manufacture of die-bonding material [Epoxy-modified silicone 8a] manufactured in [Epoxy-modified silicone production example 8] was added to Ricacid MH-700G (product of Shin Nippon Rika Co., Ltd .; methylhexahydrophthalic anhydride / hexahydrophthalic anhydride mixture). ) 71.3 parts by mass, 1,2-propanediol 3 parts by mass, diazabicycloundecene octylate 0.3 parts by mass under nitrogen, stirred until the whole becomes uniform, then defoamed Thus, a die bond material for an optical semiconductor element was obtained.

2)光半導体素子の作製
150℃で2時間加熱乾燥したリード電極付きポリフタルアミド製ハウジング材に、上記1)で製造した光半導体素子用ダイボンド材を用いて、主発光ピークが460nmの発光素子を実装し、120℃1hr、更に150℃で2時間硬化させ発光素子を固定した。続いて、発光素子とリード電極とを金ワイヤーで電気的に接続した後、窒素下にて[硬化性樹脂組成物−1b]を型に注入し、120℃で1時間、更に150℃で2時間硬化反応を行って、図1に示す構造の光半導体素子を20個作製した。得られた光半導体発光素子の半田リフロー耐性の結果を表3に示す。本操作によって得られた光半導体発光素子に対し、室温にて50mAで200時間通電しても、素子と封止部との剥離や輝度の低下は見られなかった。
2) Production of optical semiconductor element A light emitting element having a main emission peak of 460 nm using the die bond material for optical semiconductor element manufactured in 1) above for a housing material made of polyphthalamide with lead electrode heated and dried at 150 ° C. for 2 hours. Was mounted and cured at 120 ° C. for 1 hr and further at 150 ° C. for 2 hours to fix the light emitting element. Then, after electrically connecting a light emitting element and a lead electrode with a gold wire, [curable resin composition-1b] is inject | poured into a type | mold under nitrogen, 120 degreeC is 1 hour, Furthermore, 150 degreeC 2 A time curing reaction was performed to produce 20 optical semiconductor elements having the structure shown in FIG. Table 3 shows the results of solder reflow resistance of the obtained optical semiconductor light emitting device. Even if the optical semiconductor light-emitting device obtained by this operation was energized at room temperature at 50 mA for 200 hours, peeling between the device and the sealing portion and a decrease in luminance were not observed.

[実施例11]
[硬化性樹脂組成物−2b]を用いたこと、[硬化性樹脂組成物−2b]を型に注入した後の硬化条件を120℃で1時間、更に140℃で2時間、更に引き続いて160℃で1時間としたこと以外は、実施例10と同様にして、図1に示す構造の光半導体素子を20個作製した。得られた光半導体発光素子の半田リフロー耐性の結果を表3に示す。本操作によって得られた光半導体発光素子に対し、室温にて50mAで200時間通電しても、素子と封止部との剥離や輝度の低下は見られなかった。
[Example 11]
Using [Curable Resin Composition-2b], and curing conditions after injecting [Curable Resin Composition-2b] into the mold were 120 ° C. for 1 hour, 140 ° C. for 2 hours, and subsequently 160. Twenty optical semiconductor elements having the structure shown in FIG. 1 were produced in the same manner as in Example 10 except that the temperature was 1 hour at ° C. Table 3 shows the results of solder reflow resistance of the obtained optical semiconductor light emitting device. Even if the optical semiconductor light-emitting device obtained by this operation was energized at room temperature at 50 mA for 200 hours, peeling between the device and the sealing portion and a decrease in luminance were not observed.

[実施例12]
[硬化性樹脂組成物−3b]を用いたこと、[硬化性樹脂組成物−3b]を型に注入した後の硬化条件を120℃で1時間、更に150℃で2時間としたこと以外は、実施例10と同様にして、図1に示す構造の光半導体素子を20個作製した。得られた光半導体発光素子の半田リフロー耐性の結果を表3に示す。本操作によって得られた光半導体発光素子に対し、室温にて50mAで200時間通電しても、素子と封止部との剥離や輝度の低下は見られなかった。
[Example 12]
Except for using [Curable Resin Composition-3b], and curing conditions after injecting [Curable Resin Composition-3b] into the mold at 120 ° C. for 1 hour, and further at 150 ° C. for 2 hours. In the same manner as in Example 10, 20 optical semiconductor elements having the structure shown in FIG. Table 3 shows the results of solder reflow resistance of the obtained optical semiconductor light emitting device. Even if the optical semiconductor light-emitting device obtained by this operation was energized at room temperature at 50 mA for 200 hours, peeling between the device and the sealing portion and a decrease in luminance were not observed.

[実施例13]
[硬化性樹脂組成物−4b]を用いたこと、[硬化性樹脂組成物−4b]を型に注入した後の硬化条件を120℃で1時間、更に140℃で3時間としたこと以外は、実施例10と同様にして、図1に示す構造の光半導体素子を20個作製した。得られた光半導体発光素子の半田リフロー耐性の結果を表3に示す。本操作によって得られた光半導体発光素子に対し、室温にて50mAで200時間通電しても、素子と封止部との剥離や輝度の低下は見られなかった。
[Example 13]
Except that [curable resin composition-4b] was used, and that the curing conditions after injecting [curable resin composition-4b] into the mold were 1 hour at 120 ° C and 3 hours at 140 ° C. In the same manner as in Example 10, 20 optical semiconductor elements having the structure shown in FIG. Table 3 shows the results of solder reflow resistance of the obtained optical semiconductor light emitting device. Even if the optical semiconductor light-emitting device obtained by this operation was energized at room temperature at 50 mA for 200 hours, peeling between the device and the sealing portion and a decrease in luminance were not observed.

[実施例14]
[硬化性樹脂組成物−5b]を用いたこと、[硬化性樹脂組成物−5b]を型に注入した後の硬化条件を120℃で1時間、更に150℃で2時間としたこと以外は、実施例10と同様にして、図1に示す構造の光半導体素子を20個作製した。得られた光半導体発光素子の半田リフロー耐性の結果を表3に示す。本操作によって得られた光半導体発光素子に対し、室温にて50mAで200時間通電しても、素子と封止部との剥離や輝度の低下は見られなかった。
[Example 14]
Except that [curable resin composition-5b] was used, and that the curing conditions after injecting [curable resin composition-5b] into the mold were 120 ° C for 1 hour, and further 150 ° C for 2 hours. In the same manner as in Example 10, 20 optical semiconductor elements having the structure shown in FIG. Table 3 shows the results of solder reflow resistance of the obtained optical semiconductor light emitting device. Even if the optical semiconductor light-emitting device obtained by this operation was energized at room temperature at 50 mA for 200 hours, peeling between the device and the sealing portion and a decrease in luminance were not observed.

[実施例15]
[硬化性樹脂組成物−6b]を用いたこと、[硬化性樹脂組成物−6b]を型に注入した後の硬化条件を120℃で1時間、更に140℃で2時間、更に引き続き160℃で1時間としたこと以外は、実施例10と同様にして、図1に示す構造の光半導体素子を20個作製した。得られた光半導体発光素子の半田リフロー耐性の結果を表3に示す。本操作によって得られた光半導体発光素子に対し、室温にて50mAで200時間通電しても、素子と封止部との剥離や輝度の低下は見られなかった。
[Example 15]
[Curable resin composition-6b] was used, and the curing conditions after injecting [curable resin composition-6b] into the mold were 120 ° C for 1 hour, 140 ° C for 2 hours, and then 160 ° C. 20 optical semiconductor elements having the structure shown in FIG. 1 were produced in the same manner as in Example 10 except that the time was 1 hour. Table 3 shows the results of solder reflow resistance of the obtained optical semiconductor light emitting device. Even if the optical semiconductor light-emitting device obtained by this operation was energized at room temperature at 50 mA for 200 hours, peeling between the device and the sealing portion and a decrease in luminance were not observed.

[実施例16]
[硬化性樹脂組成物−7b]を用いたこと、[硬化性樹脂組成物−7b]を型に注入した後の硬化条件を120℃で1時間、更に150℃で2時間としたこと以外は、実施例10と同様にして、図1に示す構造の光半導体素子を20個作製した。得られた光半導体発光素子の半田リフロー耐性の結果を表3に示す。本操作によって得られた光半導体発光素子に対し、室温にて50mAで200時間通電しても、素子と封止部との剥離や輝度の低下は見られなかった。
[Example 16]
Except for using [Curable Resin Composition-7b] and curing conditions after injecting [Curable Resin Composition-7b] into the mold at 120 ° C. for 1 hour, and further at 150 ° C. for 2 hours. In the same manner as in Example 10, 20 optical semiconductor elements having the structure shown in FIG. Table 3 shows the results of solder reflow resistance of the obtained optical semiconductor light emitting device. Even if the optical semiconductor light-emitting device obtained by this operation was energized at room temperature at 50 mA for 200 hours, peeling between the device and the sealing portion and a decrease in luminance were not observed.

[実施例17]
[硬化性樹脂組成物−8b]を用いたこと、[硬化性樹脂組成物−8b]を型に注入した後の硬化条件を120℃で1時間、更に150℃で2時間としたこと以外は、実施例10と同様にして、図1に示す構造の光半導体素子を20個作製した。得られた光半導体発光素子の半田リフロー耐性の結果を表3に示す。本操作によって得られた光半導体発光素子に対し、室温にて50mAで200時間通電しても、素子と封止部との剥離や輝度の低下は見られなかった。
[Example 17]
Except for using [Curable Resin Composition-8b], and curing conditions after injecting [Curable Resin Composition-8b] into the mold at 120 ° C. for 1 hour, and further at 150 ° C. for 2 hours. In the same manner as in Example 10, 20 optical semiconductor elements having the structure shown in FIG. Table 3 shows the results of solder reflow resistance of the obtained optical semiconductor light emitting device. Even if the optical semiconductor light-emitting device obtained by this operation was energized at room temperature at 50 mA for 200 hours, peeling between the device and the sealing portion and a decrease in luminance were not observed.

[実施例18]
[硬化性樹脂組成物−9b]を用いたこと、[硬化性樹脂組成物−9b]を型に注入した後の硬化条件を120℃で1時間、更に140℃で3時間としたこと以外は、実施例10と同様にして、図1に示す構造の光半導体素子を20個作製した。得られた光半導体発光素子の半田リフロー耐性の結果を表3に示す。本操作によって得られた光半導体発光素子に対し、室温にて50mAで200時間通電しても、素子と封止部との剥離や輝度の低下は見られなかった。
[Example 18]
Except for using [Curable Resin Composition-9b] and curing conditions after injecting [Curable Resin Composition-9b] into the mold at 120 ° C. for 1 hour and further at 140 ° C. for 3 hours. In the same manner as in Example 10, 20 optical semiconductor elements having the structure shown in FIG. Table 3 shows the results of solder reflow resistance of the obtained optical semiconductor light emitting device. Even if the optical semiconductor light-emitting device obtained by this operation was energized at room temperature at 50 mA for 200 hours, peeling between the device and the sealing portion and a decrease in luminance were not observed.

[比較例8]
[硬化性樹脂組成物−1c]を用いたこと、[硬化性樹脂組成物−1c]を型に注入した後の硬化条件を110℃で2時間、更に120℃で1時間としたこと以外は、実施例10と同様にして、図1に示す構造の光半導体素子を20個作製した。得られた光半導体発光素子の半田リフロー耐性の結果を表4に示す。
[Comparative Example 8]
Except for using [Curable Resin Composition-1c], and curing conditions after injecting [Curable Resin Composition-1c] into a mold at 110 ° C. for 2 hours, and further at 120 ° C. for 1 hour. In the same manner as in Example 10, 20 optical semiconductor elements having the structure shown in FIG. Table 4 shows the results of solder reflow resistance of the obtained optical semiconductor light emitting device.

[比較例9]
[硬化性樹脂組成物−2c]を用いたこと、[硬化性樹脂組成物−2c]を型に注入した後の硬化条件を120℃で1時間、更に140℃で3時間としたこと以外は、実施例10と同様にして、図1に示す構造の光半導体素子を20個作製した。得られた光半導体発光素子の半田リフロー耐性の結果を表4に示す。
[Comparative Example 9]
Except for using [Curable Resin Composition-2c] and curing conditions after injecting [Curable Resin Composition-2c] into the mold at 120 ° C. for 1 hour, and further at 140 ° C. for 3 hours. In the same manner as in Example 10, 20 optical semiconductor elements having the structure shown in FIG. Table 4 shows the results of solder reflow resistance of the obtained optical semiconductor light emitting device.

[比較例10]
[硬化性樹脂組成物−3c]を用いたこと、[硬化性樹脂組成物−3c]を型に注入した後の硬化条件を120℃で1時間、更に150℃で2時間としたこと以外は、実施例10と同様にして、図1に示す構造の光半導体素子を20個作製した。得られた光半導体発光素子の半田リフロー耐性の結果を表4に示す。
[Comparative Example 10]
Except that [curable resin composition-3c] was used, and that the curing conditions after injecting [curable resin composition-3c] into the mold were 120 ° C for 1 hour, and further 150 ° C for 2 hours. In the same manner as in Example 10, 20 optical semiconductor elements having the structure shown in FIG. Table 4 shows the results of solder reflow resistance of the obtained optical semiconductor light emitting device.

[比較例11]
[硬化性樹脂組成物−4c]を用いたこと、[硬化性樹脂組成物−4c]を型に注入した後の硬化条件を120℃で1時間、更に150℃で2時間としたこと以外は、実施例10と同様にして、図1に示す構造の光半導体素子を20個作製した。得られた光半導体発光素子の半田リフロー耐性の結果を表4に示す。
[Comparative Example 11]
Except for using [Curable Resin Composition-4c], and curing conditions after injecting [Curable Resin Composition-4c] into a mold at 120 ° C. for 1 hour, and further at 150 ° C. for 2 hours. In the same manner as in Example 10, 20 optical semiconductor elements having the structure shown in FIG. Table 4 shows the results of solder reflow resistance of the obtained optical semiconductor light emitting device.

[比較例12]
[硬化性樹脂組成物−5c]を用いたこと、[硬化性樹脂組成物−5c]を型に注入した後の硬化条件を120℃で1時間、更に140℃で2時間、更に引き続き、160℃で1時間としたこと以外は、実施例10と同様にして、図1に示す構造の光半導体素子を20個作製した。得られた光半導体発光素子の半田リフロー耐性の結果を表2に示す。
[Comparative Example 12]
Using [Curable Resin Composition-5c], and curing conditions after injecting [Curable Resin Composition-5c] into a mold were 1 hour at 120 ° C., 2 hours at 140 ° C., and 160 Twenty optical semiconductor elements having the structure shown in FIG. 1 were produced in the same manner as in Example 10 except that the temperature was 1 hour at ° C. Table 2 shows the results of solder reflow resistance of the obtained optical semiconductor light emitting device.

[比較例13]
[硬化性樹脂組成物−6c]を用いたこと、[硬化性樹脂組成物−6c]を型に注入した後の硬化条件を110℃で2時間、更に120℃で1時間としたこと以外は、実施例10と同様にして、図1に示す構造の光半導体素子を20個作製した。得られた光半導体発光素子の半田リフロー耐性の結果を表4に示す。
[Comparative Example 13]
Except for using [Curable Resin Composition-6c], and curing conditions after injecting [Curable Resin Composition-6c] into the mold at 110 ° C. for 2 hours and further at 120 ° C. for 1 hour. In the same manner as in Example 10, 20 optical semiconductor elements having the structure shown in FIG. Table 4 shows the results of solder reflow resistance of the obtained optical semiconductor light emitting device.

Figure 2012041381
Figure 2012041381

Figure 2012041381
Figure 2012041381

Figure 2012041381
Figure 2012041381

Figure 2012041381
Figure 2012041381

本発明によれば、透明性、耐光性、耐熱性、耐熱変色性、耐クラック性、密着性、半田リフロー耐性を有し、発光素子封止材用途に好適なエポキシ変性シリコーン、該エポキシ変性シリコーンを含有する発光素子封止用硬化性樹脂組成物、並びに、該樹脂組成物を用いて形成された、素子やパッケージ材料との密着性に優れクラックの発生がなく、長期にわたって輝度の低下が少ない、優れた発光ダイオード等の発光部品を提供することが可能となる。   According to the present invention, an epoxy-modified silicone having transparency, light resistance, heat resistance, heat discoloration resistance, crack resistance, adhesion, solder reflow resistance, and suitable for use as a light emitting device sealing material, the epoxy modified silicone And a curable resin composition for sealing a light-emitting element, as well as excellent adhesion to an element or a package material formed using the resin composition, without cracks, and with little decrease in luminance over a long period of time It is possible to provide a light emitting component such as an excellent light emitting diode.

また、本発明によれば、射出成形に適し、硬化後において硬質で寸歩安定性に優れたレンズ材料として好適な硬化性樹脂組成物を提供することが可能である。   In addition, according to the present invention, it is possible to provide a curable resin composition that is suitable for injection molding, and is suitable as a lens material that is hard and has excellent step stability after curing.

1 発光素子
2 発光素子用ダイボンド材
3 発光素子用封止材
4 金ワイヤー
5 リード電極
6 放熱板
7 ハウジング材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Light emitting element 2 Light emitting element die bond material 3 Light emitting element sealing material 4 Gold wire 5 Lead electrode 6 Heat sink 7 Housing material

Claims (10)

下記一般式(1)で表される化合物及び下記一般式(2)で表される化合物を少なくとも含み、且つ、下記(a)〜(e)を満足することを特徴とする、平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーン。
(a)マトリックス支援イオン化飛行時間型質量分析法にて測定した際に得られるピーク強度から下記数式(1)によって算出される、前記一般式(1)で表される化合物の含有量[WA]に対する前記一般式(2)で表される化合物の含有量[WB]の比[WB]/[WA]の値が0.10以上2.00以下、
Figure 2012041381
(b) [g/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値が0.020以下、
(c) [(a+b)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値が0.25以上0.35以下、
(d) 分子量800以下の成分の含有率が20%以上40%以下、
(e) 分子量10,000以上の成分の含有率が10%以上25%以下
Figure 2012041381
Figure 2012041381
Figure 2012041381
[ここで、Rは各々独立に、A)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の脂肪族有機基、B)無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、C)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族及び/又は芳香族炭化水素単位を有する、炭素数が5以上26以下、酸素数が0以上5以下、並びに珪素数が1である1価の有機基、からなる群から選ばれる少なくとも1種以上の有機基を表す。
は各々独立に、D)無置換又は置換された、鎖状、分岐状、環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する炭素数が4以上24以下及び酸素数が1以上5以下からなるエポキシ基を含有する有機基を表す。
は各々独立に、A)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が1以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の脂肪族有機基、B)無置換又は置換された芳香族炭化水素単位であって、必要に応じて無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族炭化水素単位を有する、炭素数が6以上24以下及び酸素数が0以上5以下の1価の芳香族有機基、C)無置換又は置換された、鎖状、分岐状及び環状よりなる構造群から選ばれる1種以上の構造からなる脂肪族及び/又は芳香族炭化水素単位を有する、炭素数が5以上26以下、酸素数が0以上5以下、並びに珪素数が1である1価の有機基、E)炭素−炭素2重結合を含む炭素数が2以上6以下の無置換又は置換された、鎖状及び分岐状なる群から選ばれる1種以上の構造からなる1価の脂肪族有機基、からなる群から選ばれる少なくとも1種以上の有機基を表す。
Xは炭素数が2以上6以下の無置換又は置換された、鎖状及び分岐状よりなる群から選ばれる1種以上の構造からなる2価の炭化水素基を表す。
また、Yは各々独立に、炭素数が2以上6以下の無置換又は置換された、鎖状及び分岐状よりなる群から選ばれる1種以上の構造からなる2価の炭化水素基を表す。
更に、Zは2価の炭化水素基Yとの結合を表す。
式中のtは各々独立に0以上の整数、uは各々独立に3以上の整数、vは0以上の整数を表す。
また、a、b、c、d、e、f、g、h、i、jは、エポキシ変性シリコーン1モル中に存在する各構成単位のモル数を表し、a、e、fは0を越える値であり、b、c、d、g、h、i、jは各々0以上の値でe=a+d+iを満足する値である。一般式(1)及び(2)中の連鎖はランダムでもブロックでもよい。]
An average composition formula comprising at least a compound represented by the following general formula (1) and a compound represented by the following general formula (2) and satisfying the following (a) to (e): Epoxy-modified silicone represented by 3).
(A) The content of the compound represented by the general formula (1) [WA] calculated from the peak intensity obtained when measured by matrix-assisted ionization time-of-flight mass spectrometry by the following formula (1) The ratio [WB] / [WA] of the content [WB] of the compound represented by the general formula (2) to 0.10 or more and 2.00 or less,
Figure 2012041381
(B) The value of [g / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] is 0.020 or less,
(C) The value of [(a + b) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] is 0.25 or more and 0.35 or less,
(D) the content of components having a molecular weight of 800 or less is 20% or more and 40% or less,
(E) The content of components having a molecular weight of 10,000 or more is 10% or more and 25% or less
Figure 2012041381
Figure 2012041381
Figure 2012041381
[Wherein R 1 is each independently A) an unsubstituted or substituted carbon having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from a chain, branched and cyclic structure group A monovalent aliphatic organic group having a number of 1 to 24 and an oxygen number of 0 to 5, B) an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, which is unsubstituted or substituted as necessary A monovalent fragrance having an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of chain, branched and cyclic, having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms A group organic group, C) having an aliphatic and / or aromatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched, and cyclic structure. 5 to 26, oxygen number 0 to 5, and silicon number 1 represents at least one organic group selected from the group consisting of a monovalent organic group which is 1.
R 2 each independently has 4 or more carbon atoms having an aliphatic hydrocarbon unit having one or more types of structures selected from the group consisting of D) unsubstituted or substituted, chain, branched, and cyclic structures. And an organic group containing an epoxy group having an oxygen number of 1 or more and 5 or less.
R 3 each independently has A) an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic structure, and having 1 or more carbon atoms A monovalent aliphatic organic group having 24 or less and an oxygen number of 0 or more and 5 or less, B) an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon unit, which is optionally substituted or substituted, a chain, A monovalent aromatic organic group having 6 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms, which has an aliphatic hydrocarbon unit composed of one or more structures selected from the group consisting of branched and cyclic structures; C) having 5 or more and 26 or less carbon atoms, having an aliphatic and / or aromatic hydrocarbon unit having one or more structures selected from the group consisting of unsubstituted, substituted, and chain-like, branched and cyclic structures 1 in which the oxygen number is 0 or more and 5 or less, and the silicon number is 1. A monovalent organic group, E) a monovalent structure comprising one or more structures selected from the group consisting of a chain-like and a branched-chain, unsubstituted or substituted, having 2 to 6 carbon atoms, including a carbon-carbon double bond It represents at least one organic group selected from the group consisting of aliphatic organic groups.
X represents an unsubstituted or substituted divalent hydrocarbon group having one or more structures selected from the group consisting of a chain and a branch having 2 to 6 carbon atoms.
Each Y independently represents a divalent hydrocarbon group having one or more structures selected from the group consisting of a chain and a branched group, which are unsubstituted or substituted with 2 to 6 carbon atoms.
Furthermore, Z represents a bond with a divalent hydrocarbon group Y.
In the formula, t each independently represents an integer of 0 or more, u represents each independently an integer of 3 or more, and v represents an integer of 0 or more.
A, b, c, d, e, f, g, h, i, j represent the number of moles of each structural unit present in 1 mol of the epoxy-modified silicone, and a, e, f exceeds 0. B, c, d, g, h, i, and j are values that are 0 or more and satisfy e = a + d + i. The chain in the general formulas (1) and (2) may be random or block. ]
前記平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーンのエポキシ価が0.20以上0.40以下であることを特徴とする請求項1に記載のエポキシ変性シリコーン。 The epoxy-modified silicone according to claim 1, wherein an epoxy value of the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) is 0.20 or more and 0.40 or less. 前記一般式(2)におけるvの値が0以上9以下であることを特徴とする、請求項1又は2に記載のエポキシ変性シリコーン。 The epoxy-modified silicone according to claim 1 or 2, wherein a value of v in the general formula (2) is 0 or more and 9 or less. 前記平均組成式(3)で表されるエポキシ変性シリコーンの[(h+i+j)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j)]の値が0.040以下の範囲であることを特徴とする、請求項1から3のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーン。 The value of [(h + i + j) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j)] of the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (3) is in a range of 0.040 or less. The epoxy-modified silicone according to item. 請求項1から4のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーン100質量部、エポキシ樹脂用硬化剤1質量部以上200質量部以下、を含むことを特徴とする硬化性樹脂組成物。 A curable resin composition comprising 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone according to any one of claims 1 to 4 and 1 part by mass or more and 200 parts by mass or less of a curing agent for epoxy resin. 硬化促進剤0.001質量部以上10質量部以下を更に含むことを特徴とする、請求項5に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 5, further comprising 0.001 part by mass or more and 10 parts by mass or less of a curing accelerator. 請求項1から4のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーン100質量部、カチオン重合触媒0.001質量部以上10質量部以下、を含むことを特徴とする硬化性樹脂組成物。 A curable resin composition comprising 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone according to any one of claims 1 to 4 and 0.001 to 10 parts by mass of a cationic polymerization catalyst. 請求項5から7のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物からなる発光素子用封止材。 The sealing material for light emitting elements which consists of curable resin composition of any one of Claim 5 to 7. 請求項8に記載の発光素子用封止材で封止された発光部品。 The light emitting component sealed with the sealing material for light emitting elements of Claim 8. 請求項5から請求項7のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物からなるレンズ。 A lens comprising the curable resin composition according to any one of claims 5 to 7.
JP2010180890A 2010-08-12 2010-08-12 Epoxy-modified silicone, method for producing the same and curable resin composition using the same, and application thereof Pending JP2012041381A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010180890A JP2012041381A (en) 2010-08-12 2010-08-12 Epoxy-modified silicone, method for producing the same and curable resin composition using the same, and application thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010180890A JP2012041381A (en) 2010-08-12 2010-08-12 Epoxy-modified silicone, method for producing the same and curable resin composition using the same, and application thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012041381A true JP2012041381A (en) 2012-03-01

Family

ID=45898063

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010180890A Pending JP2012041381A (en) 2010-08-12 2010-08-12 Epoxy-modified silicone, method for producing the same and curable resin composition using the same, and application thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012041381A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014181754A1 (en) * 2013-05-08 2014-11-13 旭化成ケミカルズ株式会社 Curable resin composition and cured product thereof, sealing material for optical semiconductor, die bonding material, and optical semiconductor light-emitting element
JP2016141615A (en) * 2015-01-29 2016-08-08 旭化成株式会社 Organopolysiloxane and thermosetting resin composition comprising the same
CN106883613A (en) * 2015-12-16 2017-06-23 财团法人工业技术研究院 Silicone composition and optoelectronic device comprising same
WO2019216141A1 (en) * 2018-05-09 2019-11-14 信越化学工業株式会社 Method for producing cationically polymerizable organopolysiloxane, heavy-release additive, removable radiation-curable silicone composition, release sheet, and production method therefor
CN115010904A (en) * 2022-07-04 2022-09-06 青岛爱尔家佳新材料股份有限公司 Organosilicon modified waterborne epoxy emulsion, waterborne epoxy primer and preparation method thereof

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10182826A (en) * 1996-12-26 1998-07-07 Shin Etsu Chem Co Ltd Epoxy-containing organopplysiloxane, its production and ultraviolet/curing composition
WO2007046399A1 (en) * 2005-10-18 2007-04-26 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Thermosetting resin composition and photosemiconductor encapsulation material
JP2007246602A (en) * 2006-03-14 2007-09-27 Asahi Kasei Corp Method for producing modified silicone
WO2008133108A1 (en) * 2007-04-17 2008-11-06 Asahi Kasei Chemicals Corporation Epoxy silicone and method for production thereof, and curable resin composition using the same and use thereof
JP2009270027A (en) * 2008-05-08 2009-11-19 Asahi Kasei E-Materials Corp Photosensitive resin composition and method for producing base material with resin layer using the same

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10182826A (en) * 1996-12-26 1998-07-07 Shin Etsu Chem Co Ltd Epoxy-containing organopplysiloxane, its production and ultraviolet/curing composition
WO2007046399A1 (en) * 2005-10-18 2007-04-26 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Thermosetting resin composition and photosemiconductor encapsulation material
JP2007246602A (en) * 2006-03-14 2007-09-27 Asahi Kasei Corp Method for producing modified silicone
WO2008133108A1 (en) * 2007-04-17 2008-11-06 Asahi Kasei Chemicals Corporation Epoxy silicone and method for production thereof, and curable resin composition using the same and use thereof
JP2009270027A (en) * 2008-05-08 2009-11-19 Asahi Kasei E-Materials Corp Photosensitive resin composition and method for producing base material with resin layer using the same

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014181754A1 (en) * 2013-05-08 2014-11-13 旭化成ケミカルズ株式会社 Curable resin composition and cured product thereof, sealing material for optical semiconductor, die bonding material, and optical semiconductor light-emitting element
JPWO2014181754A1 (en) * 2013-05-08 2017-02-23 旭化成株式会社 Curable resin composition and cured product thereof, sealing material for optical semiconductor, die bonding material, and optical semiconductor light emitting device
US10208206B2 (en) 2013-05-08 2019-02-19 Asahi Kasei Chemicals Corporation Curable resin composition and cured product thereof, sealing material for optical semiconductor, die bonding material, and optical semiconductor light-emitting element
JP2016141615A (en) * 2015-01-29 2016-08-08 旭化成株式会社 Organopolysiloxane and thermosetting resin composition comprising the same
CN106883613A (en) * 2015-12-16 2017-06-23 财团法人工业技术研究院 Silicone composition and optoelectronic device comprising same
CN106883613B (en) * 2015-12-16 2020-04-14 财团法人工业技术研究院 Silicone composition and optoelectronic device comprising same
WO2019216141A1 (en) * 2018-05-09 2019-11-14 信越化学工業株式会社 Method for producing cationically polymerizable organopolysiloxane, heavy-release additive, removable radiation-curable silicone composition, release sheet, and production method therefor
JPWO2019216141A1 (en) * 2018-05-09 2021-06-10 信越化学工業株式会社 Method for producing cationically polymerizable organopolysiloxane, heavy release additive, releaseable radiation-curable silicone composition, release sheet and method for producing the same.
JP7060091B2 (en) 2018-05-09 2022-04-26 信越化学工業株式会社 Method for Producing Catiopolymerizable Organopolysiloxane, Releasable Radiation Curable Silicone Composition and Removable Sheet
CN115010904A (en) * 2022-07-04 2022-09-06 青岛爱尔家佳新材料股份有限公司 Organosilicon modified waterborne epoxy emulsion, waterborne epoxy primer and preparation method thereof
CN115010904B (en) * 2022-07-04 2023-12-19 青岛爱尔家佳新材料股份有限公司 Organosilicon modified aqueous epoxy emulsion, aqueous epoxy primer and preparation method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5335670B2 (en) Epoxy silicone, process for producing the same, curable resin composition using the same, and use thereof
JP4849602B2 (en) Method for producing modified silicone
WO2013005633A1 (en) Compound comprising isocyanuric skeleton, epoxy groups, and organopolysiloxane or silsesquioxane skeleton having sih groups, thermosetting resin composition comprising compound as agent for imparting adhesion, cured product, and sealing member for optical semiconductor
JP4198091B2 (en) Resin composition for sealing light emitting device
WO2014181754A1 (en) Curable resin composition and cured product thereof, sealing material for optical semiconductor, die bonding material, and optical semiconductor light-emitting element
JP2012041381A (en) Epoxy-modified silicone, method for producing the same and curable resin composition using the same, and application thereof
JP5149126B2 (en) Curable composition for semiconductor encapsulation
JP2006213762A (en) Resin composition for sealing light-emitting element, light-emitting part, and display device given by using the light-emitting part
JP5152894B2 (en) Epoxy-modified silicone, curable resin composition using the same, light-emitting component, and display device using the light-emitting component
JP2012236894A (en) Curing resin composition, and use thereof
JP5653826B2 (en) Epoxy compound, epoxy group-containing silicone compound and curable composition
JP5666347B2 (en) Silicone composition, curable composition, and light-emitting component using the same
JP6696420B2 (en) Silicone resin composition and optical semiconductor device
JP2006213760A (en) Resin composition for sealing light-emitting element
JP2017168808A (en) Thermosetting white ink for CSP-LED
JP6133248B2 (en) Silicone composition, curable composition, and light-emitting component using the same
JP2013194070A (en) Curable resin composition and use thereof
JP2007302825A (en) Epoxy-modified silicone
JP5110630B2 (en) Method for producing epoxy-modified silicone
JP2006213761A (en) Resin composition for sealing light-emitting element
JP2012236893A (en) Epoxy-modified silicone composition
JP5943104B2 (en) Curable composition, cured film, polysiloxane, and optical semiconductor device
JP2013256600A (en) Curable resin composition and its application
JP5807427B2 (en) Curable composition, cured film, polysiloxane, and optical semiconductor device
JP5077630B2 (en) Curing agent for epoxy resin and method for producing the same, epoxy resin composition and electronic component device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130711

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140206

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140401

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20141029