JP2007142372A5 - - Google Patents

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Claims (10)

第1の基板上に設けられた第1のスペーサ層と、
前記第1のスペーサ層上に設けられた圧電素子と、
前記圧電素子の上方又は側方に設けられた第2のスペーサ層と、
前記第2のスペーサ層上に設けられた第2の基板とを有し、
前記圧電素子は、第1の電極、圧電材料、び第2の電極を有し、
前記第1のスペーサ層前記第2のスペーサ層はそれぞれ、接着性を有し、前記圧電素子と重なる開口部をすることを特徴とする微小電気機械式装置。
A first spacer layer provided on the first substrate;
A piezoelectric element provided on the first spacer layer;
A second spacer layer provided above or on the side of the piezoelectric element;
Anda second substrate provided on said second spacer layer,
The piezoelectric element has a first electrode, a piezoelectric material, a second electrode beauty,
The first respective spacer layer and the second spacer layer has an adhesive property, micro-electro-mechanical device, which comprises perforated openings overlapping the piezoelectric element.
第1の基板上に設けられた第1のスペーサ層と、
前記第1のスペーサ層上に設けられた機能層と、
前記機能層の上方又は側方に設けられた第2のスペーサ層と、
前記第2のスペーサ層上に設けられた第2の基板とを有し、
前記機能層は、圧電素子、熱電素子、歪み抵抗素子、インダクタ、及びコンデンサから選ばれた一つまたは複数の機能を奏し、
前記第1のスペーサ層前記第2のスペーサ層はそれぞれ、接着性を有し、前記機能層と重なる開口部をすることを特徴とする微小電気機械式装置。
A first spacer layer provided on the first substrate;
A functional layer provided on the first spacer layer;
A second spacer layer provided above or on the side of the functional layer;
And a second substrate provided on said second spacer layer,
The functional layer has one or more functions selected from piezoelectric elements, thermoelectric elements, strain resistance elements, inductors, and capacitors,
The first respective spacer layer and the second spacer layer has an adhesive property, micro-electro-mechanical device, which comprises perforated openings overlapping the functional layer.
請求項1又は請求項2において、In claim 1 or claim 2,
前記第1の基板と前記第2の基板はそれぞれ、フィルム基板であることを特徴とする微小電気機械式装置。Each of the first substrate and the second substrate is a film substrate.
請求項1乃至請求項3のいずれか一項において、In any one of Claims 1 thru | or 3,
前記第1のスペーサ層は異方性導電接着剤を有することを特徴とする微小電気機械式装置。The micro electromechanical device, wherein the first spacer layer has an anisotropic conductive adhesive.
第1の基板上に設けられたトランジスタ
前記トランジスタに電気的に接続された接続端子と、
前記接続端子の上方又は側方に設けられた第1のスペーサ層と、
前記第1のスペーサ層上に設けられた圧電素子と、
前記圧電素子の上方又は側方に設けられた第2のスペーサ層と、
前記第2のスペーサ層上に設けられた第の基板とを有し、
前記圧電素子は、第1の電極、圧電材料、び第2の電極を有し、
前記第1のスペーサ層前記第2のスペーサ層はそれぞれ、接着性を有し、前記圧電素子と重なる開口部をすることを特徴とする半導体装置。
A transistor provided over a first substrate,
A connection terminal electrically connected to the transistor ;
A first spacer layer provided above or on the side of the connection terminal ;
A piezoelectric element provided on the first spacer layer;
A second spacer layer provided above or on the side of the piezoelectric element;
And a second substrate provided on said second spacer layer,
The piezoelectric element has a first electrode, a piezoelectric material, a second electrode beauty,
Wherein each of the first spacer layer and the second spacer layer, having adhesion, the semiconductor device characterized in that it have the aperture overlapping the piezoelectric element.
第1の基板上に設けられたトランジスタと、
前記トランジスタに電気的に接続された接続端子と、
前記接続端子の上方又は側方に設けられた第1のスペーサ層と、
前記第1のスペーサ層上に設けられた機能層と、
前記機能層の上方又は側方に設けられた第2のスペーサ層と、
前記第2のスペーサ層上に設けられた第2の基板とを有し、
前記機能層は、圧電素子、熱電素子、歪み抵抗素子、インダクタ、及びコンデンサから選ばれた一つまたは複数の機能を奏し、
前記第1のスペーサ層前記第2のスペーサ層はそれぞれ、接着性を有し、前記機能層と重なる開口部をすることを特徴とする半導体装置。
A transistor provided on a first substrate;
A connection terminal electrically connected to the transistor ;
A first spacer layer provided above or on the side of the connection terminal ;
A functional layer provided on the first spacer layer;
A second spacer layer provided above or on the side of the functional layer;
And a second substrate provided on said second spacer layer,
The functional layer has one or more functions selected from piezoelectric elements, thermoelectric elements, strain resistance elements, inductors, and capacitors,
Wherein each of the first spacer layer and the second spacer layer, having adhesion, the semiconductor device characterized in that it have the aperture overlapping the functional layer.
請求項又は請求項において、
前記第1の基板と前記第2の基板それぞれフィルム基板であることを特徴とする半導体装置。
In claim 5 or claim 6 ,
Each said first substrate and the second substrate, wherein a film substrate der Rukoto.
請求項5において、In claim 5,
前記第1のスペーサ層は異方性導電接着剤を有し、The first spacer layer has an anisotropic conductive adhesive;
前記接続端子と前記圧電素子は、前記第1のスペーサ層を介して電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。The semiconductor device, wherein the connection terminal and the piezoelectric element are electrically connected via the first spacer layer.
請求項6において、In claim 6,
前記第1のスペーサ層は異方性導電接着剤を有し、The first spacer layer has an anisotropic conductive adhesive;
前記接続端子と前記機能層は、前記第1のスペーサ層を介して電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。The semiconductor device, wherein the connection terminal and the functional layer are electrically connected through the first spacer layer.
請求項5乃至請求項9のいずれか一項において、In any one of Claims 5 thru / or 9,
前記トランジスタは薄膜トランジスタであることを特徴とする半導体装置。The semiconductor device, wherein the transistor is a thin film transistor.
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