JP2007142040A - 固体撮像素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】多数の光電変換素子1と、光電変換素子1から読み出された電荷をY方向に転送する複数の垂直転送チャネル2と、垂直転送チャネル2を転送されてきた電荷をX方向に転送する水平転送チャネル6とを有するCCD型の固体撮像素子であって、光電変換素子1と垂直転送チャネル2との間に形成される電荷読み出し領域TGを除く光電変換素子1の周囲に形成された素子分離領域3と、接地された遮光膜15とを、水平転送チャネル6近傍にて電気的に接続した。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の第一実施形態を説明するためのCCD型の固体撮像素子の半導体基板上方の積層物を除く部分の平面模式図である。
図1に示す固体撮像素子は、半導体基板9の所定方向である行方向(図中のX方向)と、行方向に交差(ここでは直交)する方向である列方向(図中のY方向)に正方格子状に配設された多数の光電変換素子1と、光電変換素子1から読み出された電荷(ここでは電子とする)を列方向に転送するための複数本の垂直転送チャネル(VCCD)2と、各垂直転送チャネル2に接続され、各垂直転送チャネル2を転送されてきた電子を一時的に蓄積するn型不純物からなる蓄積領域4a及び隣接する蓄積領域4a同士を分離するためのp型不純物からなるメモリ分離領域4bからなるラインメモリ(LM)4と、蓄積領域4aに蓄積されている電子を読み出して行方向に転送するための水平転送チャネル(HCCD)6と、水平転送チャネル6を転送されてきた電子を信号に変換する出力アンプ7とを備える。
半導体基板9は、n型半導体層9aと、n型半導体層9a上に形成されたpウェル層9bとから構成される。pウェル層9bの表面部には、p+型半導体領域(以下、p+領域と略す)1aが形成され、p+領域1aの下にn型半導体領域(以下、n領域と略す)1bが形成されている。n領域1bとpウェル層9bとのpn接合で光電変換されて発生した電荷(電子及び正孔)がn領域1bに蓄積される。p+領域1aは、暗電流を防ぐためのものである。p+領域1aとn領域1bとによって光電変換素子1が構成される。
図3に示すように、pウェル層9bの表面部には、蓄積領域4aを構成するn領域4aと、メモリ分離領域4bを構成するp+領域4bとが、行方向に向かって交互に形成されている。各p+領域4bには、1つの素子分離領域3が接続されている。n領域4a上方には、ゲート絶縁膜11を介して、ラインメモリを駆動するための駆動電極14が形成されている。n領域4a及びp+領域4bの上方には、タングステンやアルミニウム等からなる接地された遮光膜15が形成されている。ラインメモリ4及びHCCD6上方に形成される遮光膜15は、通常、抵抗が小さいアルミニウムが用いられる。
撮像によって発生した電子は、光電変換素子1のn領域1bに蓄積された後、電荷読み出し領域TGからVCCD2に読み出され、ここから転送されて信号に変換されて出力される。一方、撮像によって発生した正孔は、光電変換素子1のn領域1bに蓄積された後、このn領域1bに接続されている素子分離領域3に移動し、素子分離領域3に接続されているメモリ分離領域4bに到達する。又、n領域1bに蓄積された正孔はp+領域1aにも移動するが、この正孔も、p+領域1aに接続された素子分離領域3に移動して、メモリ分離領域4bに到達する。そして、メモリ分離領域4bに到達した正孔は、接地された遮光膜15へと掃き出される。
図4は、本発明の第二実施形態を説明するためのCCD型の固体撮像素子の半導体基板上方の積層物を除く部分の平面模式図である。図4において図1と同様の構成には同一符号を付してある。
図4に示す固体撮像素子は、図1に示す固体撮像素子において、メモリ分離領域4bに遮光膜15を直接接続する代わりに、同一のVCCD2に電子が読み出される多数の光電変換素子1のうち、HCCD6に最も近い光電変換素子1を被写体からの光を検出させない無効光電変換素子(スミアレベル検出用の光電変換素子や、黒レベル検出用の光電変換素子等)とし、この無効光電変換素子の表面のp+領域1aに、接地された遮光膜13を直接接続する構成とした点のみが異なる。
図5に示すように、無効光電変換素子1が通常の光電変換素子1と異なる点は、無効光電変換素子1上方の遮光膜13に開口が形成されていない点である。通常、被写体からの光を検出させない無効光電変換素子は、図5に示すように、無効光電変換素子1上方の遮光膜13に開口が形成されておらず、又、遮光膜13は、絶縁膜16上に形成される。しかし、本実施形態の固体撮像素子では、素子分離領域3と遮光膜13とを、HCCD6になるべく近い位置にて電気的に接続するために、図5に示したように、無効光電変換素子1のp+領域1a上のゲート絶縁膜11及び絶縁膜16の一部に開口を形成し、この開口において、無効光電変換素子1のp+領域1aと遮光膜13とを接続した構成となっている。無効光電変換素子1のp+領域1aと遮光膜13とが接続されている領域が、図4の符号10で示した領域に相当する。このような構成により、素子分離領域3と遮光膜13とが、無効光電変換素子1のp+領域1aを介して電気的に接続される。つまり、遮光膜13の無効光電変換素子1のp+領域1aとの接続部分が、正孔ドレインとして機能することになる。
各光電変換素子1で撮像によって発生した電子は、光電変換素子1のn領域1bに蓄積された後、電荷読み出し領域TGからVCCD2に読み出され、ここから転送されて信号に変換されて出力される。一方、各光電変換素子1で撮像によって発生した正孔は、光電変換素子1のn領域1bに蓄積された後、このn領域1bに接続されている素子分離領域3に移動し、素子分離領域3に接続されている無効光電変換素子1のp+領域1aに到達する。又、光電変換素子1のn領域1bに蓄積された正孔はp+領域1aにも移動するが、この正孔も、p+領域1aに接続された素子分離領域3に移動して、無効光電変換素子1のp+領域1aに到達する。そして、無効光電変換素子1のp+領域1aに到達した正孔は、接地された遮光膜13へと掃き出される。
2 垂直転送チャネル
3 素子分離領域
4 ラインメモリ
4a 蓄積領域
4b メモリ分離領域
6 水平転送チャネル
7 出力アンプ
Claims (5)
- 多数の光電変換素子と、前記光電変換素子から読み出された電荷を所定方向に転送する複数の第一転送路と、前記第一転送路を転送されてきた電荷を前記所定方向に交差する方向に転送する第二転送路とを有するCCD型の固体撮像素子であって、
前記光電変換素子と前記第一転送路との間に形成される電荷読み出し領域を除く前記光電変換素子の周囲に形成された素子分離領域と、接地された接地部材とを、前記第二転送路近傍にて電気的に接続した固体撮像素子。 - 請求項1記載の固体撮像素子であって、
前記素子分離領域に接続された前記素子分離領域と同一導電型の導電領域によって、前記第一転送路を転送されてきた電荷が蓄積される蓄積領域が分離されるラインメモリを有し、
前記接地部材が前記導電領域に接続された固体撮像素子。 - 請求項1記載の固体撮像素子であって、
同一の前記第一転送路に電荷が読み出される光電変換素子のうち、前記第二転送路の近傍にある光電変換素子を、被写体光を検出させない無効光電変換素子とし、
前記接地部材が、前記無効光電変換素子の表面に接続された固体撮像素子。 - 請求項3記載の固体撮像素子であって、
前記無効光電変換素子が、同一の前記第一転送路に電荷が読み出される光電変換素子のうち、前記第二転送路に最も近い位置にある光電変換素子である固体撮像素子。 - 請求項1〜4のいずれか記載の固体撮像素子であって、
前記接地部材が遮光膜である固体撮像素子。
Priority Applications (1)
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JP2005331736A JP2007142040A (ja) | 2005-11-16 | 2005-11-16 | 固体撮像素子 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2005331736A JP2007142040A (ja) | 2005-11-16 | 2005-11-16 | 固体撮像素子 |
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Family Applications (1)
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JP2005331736A Abandoned JP2007142040A (ja) | 2005-11-16 | 2005-11-16 | 固体撮像素子 |
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11177078A (ja) * | 1997-12-10 | 1999-07-02 | Sony Corp | Ccd固体撮像素子 |
JP2004200310A (ja) * | 2002-12-17 | 2004-07-15 | Fuji Film Microdevices Co Ltd | 電荷転送素子の駆動方法及び固体撮像素子の駆動方法 |
-
2005
- 2005-11-16 JP JP2005331736A patent/JP2007142040A/ja not_active Abandoned
Patent Citations (2)
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JPH11177078A (ja) * | 1997-12-10 | 1999-07-02 | Sony Corp | Ccd固体撮像素子 |
JP2004200310A (ja) * | 2002-12-17 | 2004-07-15 | Fuji Film Microdevices Co Ltd | 電荷転送素子の駆動方法及び固体撮像素子の駆動方法 |
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