JP2007133203A - Display device and electronic apparatus - Google Patents

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JP2007133203A JP2005327149A JP2005327149A JP2007133203A JP 2007133203 A JP2007133203 A JP 2007133203A JP 2005327149 A JP2005327149 A JP 2005327149A JP 2005327149 A JP2005327149 A JP 2005327149A JP 2007133203 A JP2007133203 A JP 2007133203A
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Hirofumi Kurosawa
弘文 黒沢
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a thin, small-sized display device by solving the problems, wherein the thickness of a display device cannot be smaller than the combined thickness of a glass substrate and electric circuit components. <P>SOLUTION: An electrophoretic display device 10 comprises an electrophoretic display sheet 500, produced by uniformly applying microcapsules 502 encapsulating a dispersion medium, containing electrophoretic particles on a flexible transparent substrate 501 having a transparent electrode on the surface, and a semiconductor circuit board 100 laminated on the sheet. The semiconductor circuit board 100 has a thin-film semiconductor circuit formed on a glass substrate 101. A display region 105, for displaying an image driven by the semiconductor circuit, is formed on the glass substrate 101, and the back face of the glass substrate 101 has a recessed part 110, where an electric circuit board 200 for control the image display is placed so as to be housed within the recessed part 110. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、表示装置および電子機器に関するものである。   The present invention relates to a display device and an electronic apparatus.

表示装置の小型化、薄型化は近年ますます進んでいる。例えば特許文献1には、アクティブマトリックス駆動方式の液晶表示装置のようなフラットパネル型の表示装置を薄型化する技術が開示されている。
表示装置は、ガラス基板上に画素電極、薄膜トランジスタ、それらを駆動する制御回路などが設けられている。このため、表示装置の厚みは、ガラス基板と電気回路部品とを合わせた厚さ以下にはならなかった。
In recent years, display devices have become smaller and thinner. For example, Patent Document 1 discloses a technique for thinning a flat panel display device such as an active matrix drive type liquid crystal display device.
In the display device, a pixel electrode, a thin film transistor, a control circuit for driving them, and the like are provided over a glass substrate. For this reason, the thickness of the display device was not less than or equal to the total thickness of the glass substrate and the electric circuit component.

特開2000−305476号公報JP 2000-305476 A

そこで、本発明の目的は、表示装置の薄型化、小型化を図ることである。   Therefore, an object of the present invention is to reduce the thickness and size of the display device.

本発明の表示装置は、表面が平坦な第1の面と表面に凹部が形成された第2の面を有する基板と、前記第1の面に形成された半導体回路と、前記半導体回路によって駆動され画像表示を行う表示部と、前記凹部内に設置され、画像表示を制御するための電気回路とを備えたものである。   The display device of the present invention is driven by a substrate having a first surface with a flat surface, a second surface having a recess formed on the surface, a semiconductor circuit formed on the first surface, and the semiconductor circuit. And a display unit for displaying an image, and an electric circuit installed in the recess for controlling the image display.

このように、電気回路を凹部内に設置することにより、表示装置の薄型化を図ることができる。
ここで、表示装置は、例えば電気泳動表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置、液晶表示装置等である。
また、前記凹部の側壁の傾斜は90度より小さいほうが望ましい。これにより、電気回路部品の基板への密着度を高めることができる。
In this manner, the display device can be thinned by installing the electric circuit in the recess.
Here, the display device is, for example, an electrophoretic display device, an electroluminescence display device, a liquid crystal display device, or the like.
The inclination of the side wall of the recess is preferably smaller than 90 degrees. Thereby, the adhesion degree of the electric circuit component to the substrate can be increased.

また、本発明の表示装置は、基板の第1の面に形成された半導体回路と、前記半導体回路によって駆動され画像表示を行う表示部と、前記第1の面上の前記半導体回路の外周部に配置された接続端子電極部と、前記第1の面の反対側の第2の面に配置された、画像表示を制御するための電気回路と、前記接続端子電極部から前記第2の面へ貫通する導通路を備え、前記半導体回路と前記電気回路は、前記接続端子電極部と前記導通路を介して接続されているものである。
これにより、半導体回路と電気回路の接続配線を基板内に収めることができるので、表示装置の小型化を図ることができる。
The display device of the present invention includes a semiconductor circuit formed on a first surface of a substrate, a display unit that is driven by the semiconductor circuit to display an image, and an outer peripheral portion of the semiconductor circuit on the first surface. A connection terminal electrode portion disposed on the second surface, an electric circuit for controlling image display disposed on a second surface opposite to the first surface, and the second surface from the connection terminal electrode portion. The semiconductor circuit and the electric circuit are connected to the connection terminal electrode portion via the conduction path.
Accordingly, since the connection wiring between the semiconductor circuit and the electric circuit can be accommodated in the substrate, the display device can be reduced in size.

また、前記電気回路は、配線および接続端子を形成された絶縁基板と、前記絶縁基板上に実装された電子部品を含み、前記電気回路は、前記導通路と導電性の膜を介して接続してもよい。   The electric circuit includes an insulating substrate on which wiring and connection terminals are formed, and an electronic component mounted on the insulating substrate, and the electric circuit is connected to the conduction path through a conductive film. May be.

また、前記電気回路は、配線および接続端子を形成された絶縁基板と、前記絶縁基板上に実装された電子部品を含み、前記電気回路は、前記導通路に対応して設けられた前記絶縁基板中の接続電極を介して、前記導通路と接続してもよい。   The electric circuit includes an insulating substrate on which wiring and connection terminals are formed, and an electronic component mounted on the insulating substrate, and the electric circuit is provided corresponding to the conduction path. You may connect with the said conduction path via the inside connection electrode.

また、前記電気回路は、前記第2の面に導電性材料を塗布することにより形成された配線および接続端子と、前記接続端子に合わせて実装された電子部品を含み、前記配線と前記導通路が接続してもよい。
なお、前記配線はインクジェット法で形成することにより、導電性材料を塗布しにくい凹部内等でも容易に形成することができる。
The electrical circuit includes a wiring and a connection terminal formed by applying a conductive material to the second surface, and an electronic component mounted according to the connection terminal, and the wiring and the conduction path May be connected.
Note that the wiring can be easily formed in a recess or the like where it is difficult to apply a conductive material by forming the wiring by an inkjet method.

また、本発明の電子機器は、上述した表示装置を表示部として備えるあらゆる機器を含むもので、ディスプレイ装置、テレビジョン装置、電子ペーパ、時計、電卓、携帯電話、携帯情報端末等を含む。また、「機器」という概念からはずれるもの、例えば可撓性のある紙状/フィルム状の物体、これら物体が貼り付けられた壁面等の不動産に属するもの、車両、飛行体、船舶等の移動体に属するものも含む。   The electronic device of the present invention includes all devices including the display device described above as a display unit, and includes a display device, a television device, an electronic paper, a clock, a calculator, a mobile phone, a portable information terminal, and the like. Also, things that deviate from the concept of “equipment”, for example, flexible paper / film-like objects, belonging to real estate such as wall surfaces to which these objects are attached, moving objects such as vehicles, flying objects, ships, etc. Including those belonging to.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
実施の形態1.
図1(A)は、本発明の実施の形態1による電気泳動表示装置(表示装置)10の平面を概略的に示した図であり、図1(B)は図1(A)のA−A’方向の断面図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
Embodiment 1 FIG.
FIG. 1 (A) is a diagram schematically showing a plane of an electrophoretic display device (display device) 10 according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 1 (B) is a cross-sectional view taken along line A- of FIG. It is sectional drawing of A 'direction.

電気泳動表示装置10は、表面にITO膜などの透明電極(共通電極)を有する柔軟な透明基板501に、電気泳動粒子を含有する分散媒を封じたマイクロカプセル502を均一に塗工して形成した電気泳動表示シート500と、半導体回路基板100を貼り合わせたものである。   The electrophoretic display device 10 is formed by uniformly applying a microcapsule 502 containing a dispersion medium containing electrophoretic particles to a flexible transparent substrate 501 having a transparent electrode (common electrode) such as an ITO film on the surface. The electrophoretic display sheet 500 and the semiconductor circuit substrate 100 are bonded together.

半導体回路基板100は、ガラス基板(基板)101上に薄膜半導体回路(半導体回路)が形成されている。
薄膜半導体回路は、行方向および列方向にそれぞれ複数配列された配線群、画素電極群、画素駆動回路、接続端子、駆動画素を選択する行デコーダ102および列デコーダ103等を含んで構成されている。画素駆動回路は、薄膜トランジスタ(TFT)等の回路素子を含んで構成されている。
In the semiconductor circuit substrate 100, a thin film semiconductor circuit (semiconductor circuit) is formed on a glass substrate (substrate) 101.
The thin film semiconductor circuit includes a plurality of wiring groups, a pixel electrode group, a pixel driving circuit, connection terminals, a row decoder 102 and a column decoder 103 for selecting driving pixels, which are arranged in a row direction and a column direction. . The pixel drive circuit includes a circuit element such as a thin film transistor (TFT).

表示領域部(表示部)105は、複数のマトリクス状に配列された画素領域から構成されている。各画素領域は、スイッチング素子としてのTFTや、このTFTに接続された画素電極を含み、各画素電極と透明電極に電圧が供給されることによって電気泳動表示シート500のマイクロカプセルに含まれる電気泳動粒子が泳動し、画像表示を行う。   The display area part (display part) 105 is composed of a plurality of pixel areas arranged in a matrix. Each pixel region includes a TFT as a switching element and a pixel electrode connected to the TFT, and the voltage is supplied to each pixel electrode and the transparent electrode so that the electrophoresis is included in the microcapsules of the electrophoretic display sheet 500. The particles migrate and display an image.

ガラス基板101の裏面(表示領域部105の形成面とは反対の面)には、画像表示を制御する電気回路基板(電気回路)200が設けられている。
接続端子電極部104は、例えば薄膜半導体回路層と電気回路基板200を電気的に接続するためのものであり、薄膜半導体回路層の外周部に形成されている。
On the back surface of the glass substrate 101 (the surface opposite to the surface on which the display area portion 105 is formed), an electric circuit substrate (electric circuit) 200 for controlling image display is provided.
The connection terminal electrode portion 104 is, for example, for electrically connecting the thin film semiconductor circuit layer and the electric circuit board 200, and is formed on the outer peripheral portion of the thin film semiconductor circuit layer.

電気回路基板200には、画像信号処理回路やタイミングジェネレータが含まれる。画像信号処理回路は、画像データおよび対向電極制御信号を生成し、それぞれデータ線駆動回路、対向電極変調回路に入力する。タイミングジェネレータは、リセット設定や画像データが画像信号処理回路から出力されるときに、走査線駆動回路やデータ線駆動回路を制御するための各種タイミング信号を生成する.   The electric circuit board 200 includes an image signal processing circuit and a timing generator. The image signal processing circuit generates image data and a counter electrode control signal, and inputs them to the data line driving circuit and the counter electrode modulation circuit, respectively. The timing generator generates various timing signals for controlling the scanning line driving circuit and the data line driving circuit when reset settings and image data are output from the image signal processing circuit.

電気回路基板200はポリイミド製の両面基板上に、IC等の電子部品が搭載されている。ここでは、ICは厚さ0.1mmまで薄型加工し、FC(フリップチップ)実装されている。また、IC以外の電子部品は表面実装用部品を採用することにより、電気回路基板200全体の高さ、大きさを制限する。   The electric circuit board 200 has an electronic component such as an IC mounted on a double-sided polyimide substrate. Here, the IC is thinned to a thickness of 0.1 mm and mounted on an FC (flip chip). In addition, by adopting surface mounting components for electronic components other than ICs, the overall height and size of the electric circuit board 200 are limited.

図1(B)に示すように、ガラス基板101の裏面には凹部110が形成されており、電気回路基板200は凹部110内に収まるように、回路の上面を表示面側(表示領域部105の形成面側)に向けて設置されている。   As shown in FIG. 1B, a concave portion 110 is formed on the back surface of the glass substrate 101, and the upper surface of the circuit is placed on the display surface side (display region portion 105 so that the electric circuit substrate 200 is accommodated in the concave portion 110. It is installed toward the (formation surface side).

凹部110は、半導体回路基板100上に薄膜半導体回路層を形成した後に形成する。これは、半導体回路基板100の形成工程において、ガラス基板101の強度を十分に保つためである。以下、凹部110の形成方法について具体的に説明する。
まず、薄膜半導体回路層を形成したガラス基板101の裏面に感光性フィルムをラミネートする。感光性フィルムを露光して、現像した後、電気回路基板200を埋め込む領域の感光性フィルムを除去してレジストパターンを形成する。
The recess 110 is formed after the thin film semiconductor circuit layer is formed on the semiconductor circuit substrate 100. This is because the glass substrate 101 is sufficiently strong in the process of forming the semiconductor circuit substrate 100. Hereinafter, the formation method of the recessed part 110 is demonstrated concretely.
First, a photosensitive film is laminated on the back surface of the glass substrate 101 on which the thin film semiconductor circuit layer is formed. After exposing and developing the photosensitive film, the photosensitive film in the region where the electric circuit board 200 is embedded is removed to form a resist pattern.

次に、電気回路基板200を埋め込む領域に凹部110を形成する。凹部110の側壁の傾斜は90度より小さいことが望ましい。凹部110は、例えばサンドブラスト法を用いて、ガラス基板101を深さ0.3mm程度まで掘ることにより形成する。サンドブラスト法では、レジストパターンの上から砂の粒子を叩きつけて基板表面を削ることによりパターンを形成する。サンドブラスト法は簡便な方法で細部の高精度な加工が可能である。また、エッチングを用いた場合のようにガラス基板101の表面側をマスクする必要がない。   Next, the recess 110 is formed in a region where the electric circuit board 200 is embedded. It is desirable that the inclination of the side wall of the recess 110 is smaller than 90 degrees. The concave portion 110 is formed by digging the glass substrate 101 to a depth of about 0.3 mm using, for example, a sand blast method. In the sandblasting method, a pattern is formed by hitting sand particles from above a resist pattern and scraping the substrate surface. Sandblasting is a simple method that enables high-precision processing of details. Further, it is not necessary to mask the surface side of the glass substrate 101 as in the case of using etching.

なお、凹部110は、電気回路基板200全体を埋め込めるように形成してもよいが、電気回路基板200上の個々の電子部品毎に凹部110を設けても良い。個々の電子部品毎に設ける方が、ガラス基板101の強度を保つ上では望ましい。また、レジストマスクは感光性フィルムで一括処理できるため、形成する凹部の形状や数は製造コストには影響しない。   The recess 110 may be formed so that the entire electric circuit board 200 can be embedded, but the recess 110 may be provided for each individual electronic component on the electric circuit board 200. In order to maintain the strength of the glass substrate 101, it is desirable to provide each individual electronic component. In addition, since the resist mask can be collectively processed with the photosensitive film, the shape and number of the concave portions to be formed do not affect the manufacturing cost.

半導体回路基板100と電気泳動表示シート500を加熱圧着によって貼りあわせた後、凹部110に電気回路基板200を設置し、ACF(異方性導電膜)で接続することにより、電気泳動表示装置10が完成する。電気泳動表示装置10は、表裏両面をフィルムなどでラミネートしておいてもよい。これにより、装置の破損等を防ぎ、信頼性を向上させることができる。ラミネート用のフィルムに防水性が付加されていればさらに良い。   After the semiconductor circuit board 100 and the electrophoretic display sheet 500 are bonded together by thermocompression bonding, the electric circuit board 200 is placed in the recess 110 and connected by an ACF (anisotropic conductive film), whereby the electrophoretic display device 10 is Complete. The electrophoretic display device 10 may be laminated with a film or the like on both sides. Thereby, damage etc. of an apparatus can be prevented and reliability can be improved. It is even better if waterproofing is added to the laminating film.

また、ガラス基板101の裏面にマスクを付けない状態でサンドブラストを行い、ガラス基板101全体の厚みを薄くしてから凹部110を形成してもよい。これにより、電気泳動表示装置10をさらに薄型化することができる。   Alternatively, the concave portion 110 may be formed after sandblasting is performed without attaching a mask to the back surface of the glass substrate 101 to reduce the thickness of the entire glass substrate 101. Thereby, the electrophoretic display device 10 can be further reduced in thickness.

また、図1に示す例では、電気回路基板200は凹部110内に、回路の上面を表示面側に向けて設置したが、図2に示すように、回路の上面を表示面とは反対側に向けて設置するような構成としてもよい。なお、図2においては、電気泳動表示シート500の図示を省略している。   In the example shown in FIG. 1, the electric circuit board 200 is installed in the recess 110 with the upper surface of the circuit facing the display surface. However, as shown in FIG. 2, the upper surface of the circuit is opposite to the display surface. It is good also as a structure which installs toward. In FIG. 2, the electrophoretic display sheet 500 is not shown.

以上のように、ガラス基板101の裏面に凹部110を設け、電気回路基板200を凹部110内に設置することにより、電気泳動表示装置10の薄型化を図ることができる。   As described above, the electrophoretic display device 10 can be thinned by providing the recess 110 on the back surface of the glass substrate 101 and installing the electric circuit board 200 in the recess 110.

実施の形態2.
図3(A)は、本発明の実施の形態2による電気泳動表示装置の表面を示す図、図3(B)は図3(A)のA−A’方向の断面図、図3(C)は、電気泳動表示装置の裏面を示す図である。なお、図3においては、電気泳動表示シート500の図示を省略している。
Embodiment 2. FIG.
3A is a view showing the surface of the electrophoretic display device according to Embodiment 2 of the present invention, FIG. 3B is a cross-sectional view in the direction of AA ′ of FIG. 3A, and FIG. ) Is a diagram showing a back surface of the electrophoretic display device. In FIG. 3, the electrophoretic display sheet 500 is not shown.

実施の形態2では、半導体回路基板100上の接続端子電極部104の一部からガラス基板101の裏面へ突き抜ける導通路106が設けられている。   In the second embodiment, a conduction path 106 that penetrates from a part of the connection terminal electrode portion 104 on the semiconductor circuit substrate 100 to the back surface of the glass substrate 101 is provided.

導通路106の形成方法について具体的に説明する。
まず、薄膜半導体回路層を形成したガラス基板101の表面(または裏面)に感光性フィルムをラミネートする。感光性フィルムを露光して、現像した後、接続端子電極部104の一部の感光性フィルムを除去してレジストパターンを形成する。
A method for forming the conduction path 106 will be specifically described.
First, a photosensitive film is laminated on the front surface (or back surface) of the glass substrate 101 on which the thin film semiconductor circuit layer is formed. After exposing and developing the photosensitive film, a part of the photosensitive film of the connection terminal electrode portion 104 is removed to form a resist pattern.

次に、導通路106を形成する位置に貫通孔を形成する。貫通孔は、例えばサンドブラスト法を用いて、接続端子電極部104の一部に、ガラス基板101の表面から裏面に貫通するように形成する。
なお、ここでは、接続端子電極部104の各端子電極の長さ1.0mm、幅0.1mm、端子電極同士の間隔を0.2mmとし、貫通孔のサイズを長さ0.5mm、幅0.1mmとした。
Next, a through hole is formed at a position where the conduction path 106 is formed. The through hole is formed in a part of the connection terminal electrode portion 104 so as to penetrate from the front surface to the back surface of the glass substrate 101 by using, for example, a sandblast method.
Here, the length of each terminal electrode of the connection terminal electrode portion 104 is 1.0 mm, the width is 0.1 mm, the distance between the terminal electrodes is 0.2 mm, and the size of the through hole is 0.5 mm in length and 0 mm in width. 1 mm.

次に、形成した貫通孔に導電性材料を充填する。本実施の形態では、導電性材料として太陽インキ製造社製の導電性ペーストECM100を用い、ディスペンサにより貫通孔に充填した。充填後、100℃−15分の条件で硬化させた。なお、ここで、接続端子電極部104の各端子電極に導電性ペーストを塗布した後に貫通孔を導電性材料で充填することにより、接続抵抗を低減させることができる。   Next, the formed through hole is filled with a conductive material. In the present embodiment, a conductive paste ECM100 manufactured by Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd. was used as the conductive material, and the through holes were filled with a dispenser. After filling, it was cured at 100 ° C. for 15 minutes. Here, the connection resistance can be reduced by applying the conductive paste to each terminal electrode of the connection terminal electrode portion 104 and then filling the through holes with a conductive material.

次に、電気回路基板200を半導体回路基板100に電極位置を合わせて配置し、ACF接合により電気的に接続する。両者の電気的接続は、ACF以外にも、はんだ、ACP、導電性接着剤等を用いても良い。また、ここでは、電気回路基板200は、板厚0.1mmのガラエポ製のリジット基板(両面基板)の片面に電子部品を実装することにより形成した。   Next, the electric circuit board 200 is disposed on the semiconductor circuit board 100 with the electrode positions aligned, and is electrically connected by ACF bonding. For electrical connection between them, solder, ACP, conductive adhesive, or the like may be used in addition to ACF. Here, the electric circuit board 200 is formed by mounting electronic components on one side of a rigid board (double-sided board) made of glass epoxy having a thickness of 0.1 mm.

なお、実施の形態2では、実施の形態1と同様にガラス基板101裏面の電気回路基板200設置位置に凹部110が設けられているが、ガラス基板101の形状はこれに限られない。   In the second embodiment, the recess 110 is provided at the electrical circuit board 200 installation position on the back surface of the glass substrate 101 as in the first embodiment, but the shape of the glass substrate 101 is not limited to this.

半導体回路基板100と電気泳動表示シート500を加熱圧着によって貼りあわせた後、電気泳動表示装置10が完成する。電気泳動表示装置10は、表裏両面をフィルムなどでラミネートしておいてもよい。これにより、装置の破損等を防ぎ、信頼性を向上させることができる。ラミネート用のフィルムに防水性が付加されていればさらに良い。   After the semiconductor circuit board 100 and the electrophoretic display sheet 500 are bonded together by thermocompression bonding, the electrophoretic display device 10 is completed. The electrophoretic display device 10 may be laminated with a film or the like on both sides. Thereby, damage etc. of an apparatus can be prevented and reliability can be improved. It is even better if waterproofing is added to the laminating film.

なお、半導体回路基板100と電気回路基板200の電気的接続方法としては、上述したようなACF、はんだ、ACP、導電性接着剤等を用いる方法以外にも例えば以下のような方法が可能である。
図4に示すように、電気回路基板200に、半導体回路基板100の導通路106と対応したスルーホール107を開口する。電気回路基板200と半導体回路基板100を位置決めして合わせた後、スルーホール107内に導電性ペーストを充填し、半導体回路基板100に達するようにしてもよい。
As an electrical connection method between the semiconductor circuit board 100 and the electric circuit board 200, for example, the following method is possible in addition to the method using ACF, solder, ACP, conductive adhesive, or the like as described above. .
As shown in FIG. 4, a through hole 107 corresponding to the conduction path 106 of the semiconductor circuit board 100 is opened in the electric circuit board 200. After the electric circuit board 200 and the semiconductor circuit board 100 are positioned and aligned, the through hole 107 may be filled with a conductive paste to reach the semiconductor circuit board 100.

以上のように、半導体回路基板100上の接続端子電極部104の一部から、ガラス基板101の裏面へ貫通する導通路106を形成し、半導体回路基板100と電気回路基板200を導通路106を介して接続するようにしたので、半導体回路基板100と電気回路基板200の接続配線をガラス基板101内に収めることが可能となり、電気泳動表示装置10の小型化を図ることができる。   As described above, a conduction path 106 penetrating from the part of the connection terminal electrode portion 104 on the semiconductor circuit substrate 100 to the back surface of the glass substrate 101 is formed, and the conduction path 106 is connected between the semiconductor circuit substrate 100 and the electric circuit board 200. Thus, the connection wiring between the semiconductor circuit board 100 and the electric circuit board 200 can be accommodated in the glass substrate 101, and the electrophoretic display device 10 can be downsized.

実施の形態3.
図5(A)は、本発明の実施の形態3による電気泳動表示装置の表面を示す図、図5(B)は図5(A)のA−A’方向の断面図、図5(C)は、電気泳動表示装置の裏面を示す図である。なお、図5においては、電気泳動表示シート500の図示を省略している。
Embodiment 3 FIG.
5A is a view showing the surface of the electrophoretic display device according to Embodiment 3 of the present invention, FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 5A, and FIG. ) Is a diagram showing a back surface of the electrophoretic display device. In FIG. 5, the electrophoretic display sheet 500 is not shown.

実施の形態2では、電子部品は電気回路基板200に搭載されており、半導体回路基板100を導通路106を介して接続した。
実施の形態3では、まず半導体回路基板100の裏面にスクリーン印刷法を用いて導電性ペースト(例えば藤倉化成社製ドータイト等)を塗布することにより、電気回路配線108と電子部品実装用の端子電極を形成する。
In the second embodiment, the electronic component is mounted on the electric circuit board 200, and the semiconductor circuit board 100 is connected via the conduction path 106.
In the third embodiment, first, a conductive paste (for example, Dotite manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.) is applied to the back surface of the semiconductor circuit substrate 100 using a screen printing method, so that the electric circuit wiring 108 and terminal electrodes for mounting electronic components are used. Form.

次に、形成した印刷回路の電極に合わせて電子部品を実装する。その後150℃−30分の条件で導電性ペーストの焼成を行う。この時、電子部品と電極との接続も同時に行う。なお、電極部分のペーストの厚みを配線部分の2〜3倍にすると電極と電子部品との接続性が向上する。   Next, electronic components are mounted according to the electrodes of the formed printed circuit. Thereafter, the conductive paste is baked under conditions of 150 ° C. for 30 minutes. At this time, the electronic component and the electrode are also connected at the same time. In addition, when the thickness of the paste of the electrode part is 2-3 times that of the wiring part, the connectivity between the electrode and the electronic component is improved.

半導体回路基板100と電気泳動表示シート500を加熱圧着によって貼りあわせた後、電気泳動表示装置10が完成する。電気泳動表示装置10は、表裏両面をフィルムなどでラミネートしておいてもよい。これにより、装置の破損等を防ぎ、信頼性を向上させることができる。ラミネート用のフィルムに防水性が付加されていればさらに良い。   After the semiconductor circuit board 100 and the electrophoretic display sheet 500 are bonded together by thermocompression bonding, the electrophoretic display device 10 is completed. The electrophoretic display device 10 may be laminated with a film or the like on both sides. Thereby, damage etc. of an apparatus can be prevented and reliability can be improved. It is even better if waterproofing is added to the laminating film.

なお、凹部110に形成する電気回路配線108や端子電極は、インクジェット法などの非接触の印刷法により塗布するとよい。この際、まず配線形成部分にエポキシ系樹脂を塗布しておき、それから金属配線を塗布するのが望ましい。これにより配線と下地との密着性が向上する。インクジェット法を用いて形成する金属配線の材料としては、アルバック製パーフェクトシルバーなどが適している。また、電子部品実装用の端子電極は金めっき処理等を施したものが望ましい。   Note that the electric circuit wiring 108 and the terminal electrode formed in the recess 110 may be applied by a non-contact printing method such as an ink jet method. At this time, it is desirable to first apply an epoxy resin to the wiring forming portion and then apply a metal wiring. This improves the adhesion between the wiring and the base. ULVAC Perfect Silver is suitable as a material for the metal wiring formed using the inkjet method. Further, it is desirable that the terminal electrode for mounting the electronic component is subjected to a gold plating process or the like.

なお、実施の形態3では、ガラス基板101裏面の電子部品設置位置に凹部110が設けられているが、ガラス基板101の形状はこれに限られない。   In Embodiment 3, the concave portion 110 is provided at the electronic component installation position on the back surface of the glass substrate 101, but the shape of the glass substrate 101 is not limited to this.

電子機器
図6は、本発明の表示装置を適用した電子機器の具体例を説明する斜視図である。図6(A)は、電子機器の一例である電子ブックを示す斜視図である。この電子ブック1000は、ブック形状のフレーム1001と、このフレーム1001に対して回動自在に設けられた(開閉可能な)カバー1002と、操作部1003と、本発明の表示装置によって構成された表示部1004と、を備えている。
Electronic Device FIG. 6 is a perspective view illustrating a specific example of an electronic device to which the display device of the present invention is applied. FIG. 6A is a perspective view illustrating an electronic book which is an example of the electronic apparatus. The electronic book 1000 includes a book-shaped frame 1001, a cover 1002 provided so as to be rotatable (openable and closable) with respect to the frame 1001, an operation unit 1003, and a display configured by the display device of the present invention. Part 1004.

図6(B)は、電子機器の一例である腕時計を示す斜視図である。この腕時計1100は、本発明の表示装置によって構成された表示部1101を備えている。   FIG. 6B is a perspective view illustrating a wrist watch which is an example of an electronic apparatus. The wristwatch 1100 includes a display unit 1101 configured by the display device of the present invention.

図6(C)は、電子機器の一例である電子ペーパーを示す斜視図である。この電子ペーパー1200は、紙と同様の質感および柔軟性を有するリライタブルシートで構成される本体部1201と、本発明の表示装置によって構成された表示部1202を備えている。   FIG. 6C is a perspective view illustrating electronic paper which is an example of the electronic apparatus. This electronic paper 1200 includes a main body 1201 formed of a rewritable sheet having the same texture and flexibility as paper, and a display unit 1202 configured by the display device of the present invention.

なお、本発明の表示装置を適用可能な電子機器の範囲はこれに限定されず、帯電粒子の移動に伴う視覚上の色調の変化を利用した装置を広く含むものである。   Note that the range of electronic devices to which the display device of the present invention can be applied is not limited to this, and includes a wide range of devices that utilize changes in visual color tone accompanying the movement of charged particles.

図1(A)は、本発明の実施の形態1による電気泳動表示装置の平面図、図1(B)は図1(A)のA−A’方向の断面図である。FIG. 1A is a plan view of an electrophoretic display device according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 1B is a cross-sectional view in the A-A ′ direction of FIG. 図2は、本発明の実施の形態1による電気泳動表示装置の変形例の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of a modification of the electrophoretic display device according to the first embodiment of the present invention. 図3(A)は、本発明の実施の形態2による電気泳動表示装置の表面を示す図、図3(B)は図3(A)のA−A’方向の断面図、図3(C)は、表示装置の裏面を示す図である。3A is a view showing the surface of the electrophoretic display device according to Embodiment 2 of the present invention, FIG. 3B is a cross-sectional view in the direction of AA ′ of FIG. 3A, and FIG. ) Is a diagram showing a back surface of the display device. 図4は、本発明の実施の形態2による電気泳動表示装置の変形例の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a modification of the electrophoretic display device according to Embodiment 2 of the present invention. 図5(A)は、本発明の実施の形態3による電気泳動表示装置の表面を示す図、図5(B)は図5(A)のA−A’方向の断面図、図5(C)は、表示装置の裏面を示す図である。5A is a view showing the surface of the electrophoretic display device according to Embodiment 3 of the present invention, FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 5A, and FIG. ) Is a diagram showing a back surface of the display device. 図6(A)〜(C)は、本発明による電子機器の例を示した図である。6A to 6C are diagrams showing examples of electronic devices according to the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

10 電気泳動表示装置、100 半導体回路基板、101 ガラス基板、102 行デコーダ、103 列デコーダ、104 接続端子電極部、105 表示領域部、106 導通路、107スルーホール、108 電気回路配線、110 凹部、200 電気回路基板200、500 電気泳動表示シート、501 透明基板、502マイクロカプセル

DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Electrophoretic display apparatus, 100 Semiconductor circuit board, 101 Glass substrate, 102 row decoder, 103 column decoder, 104 Connection terminal electrode part, 105 Display area part, 106 Conduction path, 107 through hole, 108 Electric circuit wiring, 110 Recessed part, 200 Electric circuit board 200, 500 Electrophoretic display sheet, 501 Transparent substrate, 502 microcapsules

Claims (9)

表面が平坦な第1の面と表面に凹部が形成された第2の面を有する基板と、
前記第1の面に形成された半導体回路と、
前記半導体回路によって駆動され画像表示を行う表示部と、
前記凹部内に設置され、画像表示を制御するための電気回路と、
を備えた表示装置。
A substrate having a first surface having a flat surface and a second surface having a recess formed on the surface;
A semiconductor circuit formed on the first surface;
A display unit that is driven by the semiconductor circuit and displays an image;
An electrical circuit installed in the recess for controlling image display;
A display device comprising:
基板の第1の面に形成された半導体回路と、
前記半導体回路によって駆動され画像表示を行う表示部と、
前記第1の面上の前記半導体回路の外周部に配置された接続端子電極部と、
前記第1の面の反対側の第2の面に配置された、画像表示を制御するための電気回路と、
前記接続端子電極部から前記第2の面へ貫通する導通路と、を備え
前記半導体回路と前記電気回路は、前記接続端子電極部と前記導通路を介して接続されている表示装置。
A semiconductor circuit formed on the first surface of the substrate;
A display unit that is driven by the semiconductor circuit and displays an image;
A connection terminal electrode portion disposed on an outer periphery of the semiconductor circuit on the first surface;
An electrical circuit for controlling image display, disposed on a second surface opposite to the first surface;
A conductive path penetrating from the connection terminal electrode portion to the second surface, wherein the semiconductor circuit and the electric circuit are connected to the connection terminal electrode portion via the conduction path.
前記凹部の側壁の傾斜は90度より小さいことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the inclination of the side wall of the recess is smaller than 90 degrees. 前記電気回路は、配線および接続端子を形成された絶縁基板と、前記絶縁基板上に実装された電子部品を含み、
前記電気回路は、前記導通路と導電性の膜を介して接続されている請求項2に記載の表示装置。
The electrical circuit includes an insulating substrate on which wiring and connection terminals are formed, and an electronic component mounted on the insulating substrate,
The display device according to claim 2, wherein the electric circuit is connected to the conduction path via a conductive film.
前記電気回路は、配線および接続端子を形成された絶縁基板と、前記絶縁基板上に実装された電子部品を含み、
前記電気回路は、前記導通路に対応して設けられた前記絶縁基板中の接続電極を介して、前記導通路と接続されている請求項2に記載の表示装置。
The electrical circuit includes an insulating substrate on which wiring and connection terminals are formed, and an electronic component mounted on the insulating substrate,
The display device according to claim 2, wherein the electrical circuit is connected to the conduction path through a connection electrode in the insulating substrate provided corresponding to the conduction path.
前記電気回路は、前記第2の面に導電性材料を塗布することにより形成された配線および接続端子と、前記接続端子に合わせて実装された電子部品を含み、
前記配線と前記導通路が接続されている請求項2に記載の表示装置。
The electrical circuit includes wiring and connection terminals formed by applying a conductive material to the second surface, and electronic components mounted in accordance with the connection terminals,
The display device according to claim 2, wherein the wiring and the conduction path are connected.
前記配線がインクジェット法で形成されていることを特徴とする請求項6に記載の表示装置。   The display device according to claim 6, wherein the wiring is formed by an inkjet method. 電気泳動粒子を含有する分散系を共通電極と画素電極との間に介在させてなる電気泳動素子を備え、
前記表示部は、前記電気泳動粒子を泳動させることにより画像表示を行う請求項1から請求項7のいずれかに記載の表示装置。
An electrophoretic element comprising a dispersion system containing electrophoretic particles interposed between a common electrode and a pixel electrode,
The display device according to claim 1, wherein the display unit displays an image by causing the electrophoretic particles to migrate.
請求項1から請求項8のいずれかに記載の表示装置を備えた電子機器。

The electronic device provided with the display apparatus in any one of Claims 1-8.

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009008810A (en) * 2007-06-27 2009-01-15 Sony Corp Display device and electronic equipment

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