JP2007129268A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 誘電体で形成され、その内部にプラズマ生成用ガスが導入される放電管6と、放電管6に向けてマイクロ波Mを放射する開口12が形成されたマイクロ波導波管10と、放電管6を冷却するための冷却手段20と、を備える。放電管6の外周面には、マイクロ波導波管10の開口12から放射されたマイクロ波Mを放電管6の内部に導入するためのマイクロ波透過窓部分13を残すようにして、導電性材料より成る被膜14が形成されている。冷却手段20は、放電管6の外周面の被膜14に液体の冷却媒体を循環させながら接触させる。
【選択図】 図2
Description
2、37 処理室
3 被処理物
4 載置台
6 放電管
9 プラズマ発生領域
10、33 マイクロ波導波管
12、32 スロット
13、34 マイクロ波透過窓
14、35 被膜
20、40 冷却手段
21 押さえブロック
22、42、43 Oリング
23、44 冷却水入口
24、45 冷却水出口
25、46 液密空間
31 マイクロ波透過板
41 平板部材
M マイクロ波
P プラズマ
Claims (6)
- 誘電体で形成され、その内部にプラズマ生成用ガスが導入される放電管と、前記放電管に向けてマイクロ波を放射する開口が形成されたマイクロ波導波管と、前記放電管を冷却するための冷却手段と、を備え、前記放電管の外周面には、前記マイクロ波導波管の前記開口から放射されたマイクロ波を前記放電管の内部に導入するためのマイクロ波透過窓部分を残すようにして、導電性材料より成る被膜が形成されており、前記冷却手段は、前記放電管の外周面の前記被膜に液体の冷却媒体を循環させながら接触させることを特徴とするプラズマ発生装置。
- 前記冷却手段は、前記放電管を挟み込んで押さえる一対の押さえブロックと、前記押さえブロックと前記放電管との間に配置されたOリングと、を備え、前記Oリングの内側に形成された液密空間に前記液体の冷却媒体を循環させることを特徴とする請求項1記載のプラズマ発生装置。
- 前記マイクロ波導波管と前記放電管の外周面の前記被膜とが電気的に接続されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマ発生装置。
- 前記被膜は、アルミニウム又は銅のような高い導電性を持つ材料を蒸着して形成されたものであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のプラズマ発生装置。
- 前記被膜は、導電性シートを密着させて形成されたものであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載のプラズマ発生装置。
- 前記液体の冷却媒体は水であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載のプラズマ発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007027415A JP4632316B2 (ja) | 2007-02-06 | 2007-02-06 | プラズマ処理装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001095354A Division JP3930691B2 (ja) | 2001-03-29 | 2001-03-29 | プラズマ発生装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007129268A true JP2007129268A (ja) | 2007-05-24 |
JP2007129268A5 JP2007129268A5 (ja) | 2008-07-10 |
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JP (1) | JP4632316B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107683010A (zh) * | 2016-08-02 | 2018-02-09 | 韩国基础科学支援研究院 | 水冷式表面波等离子体发生装置 |
JP2020161319A (ja) * | 2019-03-26 | 2020-10-01 | 株式会社ダイヘン | プラズマ発生装置 |
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2007
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