JP2007121326A - 電気光学装置及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】４色のカラーフィルタを備えた電気光学装置において、遮光層を形成する工程の
簡略化を図ると共に、充分な遮光性を有する遮光層を形成する。
【解決手段】電気光学装置は、液晶装置であり、液晶表示パネルなどの表示パネルを有す
る。表示パネルは、液晶などの電気光学物質を２つの基板の間に狭持してなる構造を有し
ている。複数の着色層が、２つの基板のうち、一方の基板の内面上に形成されている。こ
こでいう一方の基板とはカラーフィルタ基板である。複数の着色層は、４色以上の複数の
着色部材の夫々で形成されている。この着色層が、カラーフィルタとして機能する。複数
の着色層を区画する位置、及び画像を表示することのできる有効表示領域の外側の額縁領
域に対応する位置には、遮光層が設けられ、遮光層は、３色以上の選択された着色部材を
積層してなる。
【選択図】図５

Description

本発明は、各種情報の表示に用いて好適な電気光学装置及び電子機器に関する。

液晶装置に代表される電気光学装置は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色のカラー
フィルタを備えた液晶表示パネルなどの表示パネルによりカラー表示を行っている。この
種の電気光学装置においては、表示画像のコントラストを向上させるために、各サブ画素
の間隙を覆う遮光層、いわゆるブラックマトリクスが設けられる。この遮光層は、クロム
（Ｃｒ）などの遮光性を有する金属材料の他、黒色に着色された樹脂材料によっても形成
されうる。

しかしながら、上述したような材料を用いて遮光層を形成する場合、表示パネルの製造
工程中において、遮光層を形成する工程を設ける必要がある。遮光層を形成する工程とし
ては、例えば、クロム（Ｃｒ）で遮光層を形成する場合、基板上に、カラーフィルタを形
成する前に、クロム膜をスパッタ法などにより基板上に成膜し、次いで、フォトリソグラ
フィー技術によりマトリクス状にクロム膜のパターンを施すことで形成される。

なお、下記の特許文献１には、ＲＧＢの３色のカラーフィルタのうち、２色を積層する
ことにより遮光層を形成する技術が提案されている。

特開２００５−６２７６０号公報

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、４色のカラーフィルタを備えたで電気
光学装置において、遮光層を形成する工程の簡略化を図ると共に、充分な遮光性を有する
遮光層を形成することを課題とする。

本発明の１つの観点では、電気光学装置は、２つの基板の間に狭持されてなる電気光学
物質と、前記２つの基板のうち、一方の基板の内面上に４色以上の複数の着色部材の夫々
で形成された複数の着色層を有する表示パネルを備え、前記一方の基板上において、前記
複数の着色層を区画する位置、及び画像を表示することのできる有効表示領域の外側の額
縁領域に対応する位置には、前記複数の着色部材のうち、３色以上の選択された着色部材
を積層してなる遮光層が設けられている。

上記の電気光学装置は、例えば、液晶装置であり、液晶表示パネルなどの表示パネルを
有する。表示パネルは、液晶などの電気光学物質を２つの基板の間に狭持してなる構造を
有している。複数の着色層が、前記２つの基板のうち、一方の基板の内面上に形成されて
いる。ここでいう一方の基板とはカラーフィルタ基板である。前記複数の着色層は、４色
以上の複数の着色部材の夫々で形成されている。この着色層が、カラーフィルタとして機
能する。前記複数の着色層を区画する位置、及び画像を表示することのできる有効表示領
域の外側の額縁領域に対応する位置には、遮光層が設けられ、前記遮光層は、３色以上の
選択された着色部材を積層してなる。このようにすることで、着色層を形成すると共に、
充分な遮光性を有する遮光層を形成することが可能となる。

上記の電気光学装置の一態様は、前記一方の基板上において、前記複数の着色層を区画
する位置、及び画像を表示することのできる有効表示領域の外側の額縁領域に対応する位
置には、前記４色以上の複数の着色部材のうち、４色以上の選択された着色部材を積層し
てなる遮光層が設けられている。このようにすることで、より遮光性の高い遮光層を形成
することが可能となる。

上記の電気光学装置の他の一態様は、前記遮光層は、前記複数の着色部材のうち、光学
濃度の濃い着色部材から順に３色以上の選択された着色部材を積層してなる。このように
しても、より遮光性の高い遮光層を形成することが可能となる。

上記の電気光学装置の他の一態様は、前記遮光層及び前記複数の着色層には、透明膜が
塗布されてなる。透明膜は、オーバーコート層であり、具体的には、アクリルなどの有機
膜、又は感光性の有機膜である。このようにすることで、着色層と遮光層との間に発生す
る段差を、透明膜で吸収することができる。

上記の電気光学装置の他の一態様は、前記遮光層は、積層された前記着色部材が上層に
なるに従って狭く形成されてなる。このようにすることで、透明膜の表面を、遮光層が形
成される領域から着色層が形成されるサブ画素領域にかけてなだらかにすることができ、
平坦化を図ることができる。

上記の電気光学装置の他の一態様は、前記表示パネルは、１つのサブ画素領域が透過領
域と反射領域からなる半透過反射型の表示パネルであり、前記一方の基板の内面上の前記
透過領域及び前記反射領域の夫々に、前記４色以上の複数の着色部材の夫々で形成された
複数の着色層を有し、前記一方の基板上において、前記複数の着色層を区画する位置、及
び画像を表示することのできる有効表示領域の外側の額縁領域に対応する位置には、前記
透過領域に形成される着色層及び前記反射領域に形成される着色層に用いられる複数の着
色部材のうち、３色以上の選択された着色部材を積層してなる遮光層が設けられている。
このように、半透過反射型の表示パネルであっても、前記透過領域及び前記反射領域に
形成される着色層に用いられる複数の着色部材から、３色以上の着色部材を積層すること
により、遮光性の高い遮光層を形成することが可能となる。

上記の電気光学装置の好適な実施例は、前記透過領域に設けられる着色層に用いられる
着色部材は、前記反射領域に設けられる着色層に用いられる着色部材よりも光学濃度が濃
くされてなり、前記遮光層は、前記透過領域に設けられる着色層に用いられる着色部材の
うち、光学濃度の濃い着色部材から順に選択された複数の着色部材を積層してなる。

上記の電気光学装置の好適な実施例は、前記４色以上の複数の着色部材は、赤（Ｒ）、
緑（Ｇ）、青（Ｂ）、シアン（Ｃ）の４色の着色部材である。

本発明の他の観点では、電気光学装置は、２つの基板の間に狭持されてなる電気光学物
質と、前記２つの基板のうち、一方の基板の内面上に、波長に応じて色相が変化する可視
光領域のうち、少なくとも青系の色相を有する着色部材からなる着色層、赤系の色相を有
する着色部材からなる着色層、青から黄までの色相の中で選択された２種の色相を有する
着色部材からなる着色層を有する少なくとも４色のサブ画素を含む表示領域からなり、前
記一方の基板上において、前記複数の着色層を区画する位置、または前記表示領域の外側
の額縁領域に対応する位置には、前記複数の着色層のうち、３色以上の選択された着色層
を積層してなる遮光層が設けられている。
このようにすることで、サブ画素を含む表示領域を形成すると共に、充分な遮光性を有
する遮光層を形成することが可能となる。

上記の電気光学装置の一態様は、前記遮光層は、前記４色以上の選択された着色層を積
層してなる。
このようにすることで、より遮光性の高い遮光層を形成することが可能となる。

上記の電気光学装置の他の一態様は、前記遮光層は、前記複数の着色部材のうち、光学
濃度の濃い着色部材から順に３色以上の選択された着色層を積層してなる。
このようにしても、より遮光性の高い遮光層を形成することが可能となる。

上記の電気光学装置の他の一態様は、前記遮光層及び前記複数の着色層には、透明膜が
塗布されてなる。透明膜は、オーバーコート層であり、具体的には、アクリルなどの有機
膜、又は感光性の有機膜である。
このようにすることで、着色層と遮光層との間に発生する段差を、透明膜で吸収するこ
とができる。

上記の電気光学装置の他の一態様は、前記遮光層は、積層された着色層が上層になるに
従って狭く形成されてなる。
このようにすることで、透明膜の表面を、遮光層が形成される領域から着色層が形成さ
れるサブ画素領域にかけてなだらかにすることができ、平坦化を図ることができる。

上記の電気光学装置の他の一態様は、前記１つのサブ画素領域が透過領域と反射領域か
らなる。
このように、前記透過領域及び前記反射領域に形成される着色層に用いられる複数の着
色部材から、３色以上の着色部材を積層することにより、半透過反射型の電気光学装置で
あっても、遮光性の高い遮光層を形成することが可能となる。

上記の電気光学装置の他の一態様は、前記透過領域に設けられる着色層に用いられる着
色部材は、前記反射領域に設けられる着色層に用いられる着色部材よりも光学濃度が濃い
着色部材を積層してなる。

本発明の他の観点では、上記の電気光学装置を表示部に備えることを特徴とする電子機
器を構成することができる。

以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。尚、以下
の各種実施形態は、本発明を液晶装置に適用したものである。

［第１実施形態］
第１実施形態は、本発明を、Ｒ（赤）、Ｂ（青）、Ｇ（緑）及びＣ（シアン）の４色を
有する透過型の液晶装置に適用する。

（液晶装置の構成）
まず、図１及び図２を参照して、本発明の第１実施形態に係る液晶装置１００の構成等
について説明する。

図１は、本発明の第１実施形態に係る液晶装置１００の概略構成を模式的に示す平面図
である。図１では、紙面手前側（観察側）にカラーフィルタ基板９２が、また、紙面奥側
に素子基板９１が夫々配置されている。なお、図１では、紙面縦方向（列方向）をＹ方向
と、また、紙面横方向（行方向）をＸ方向と規定する。また、図１において、Ｒ、Ｇ、Ｂ
、Ｃの各色に対応する領域は１つのサブ画素領域ＳＧを示していると共に、Ｒ、Ｇ、Ｂ、
Ｃに対応する、１行４列の画素配列は、１つの画素領域ＡＧを示している。なお、以下で
は、１つのサブ画素領域ＳＧ内に存在する１つの表示領域を「サブ画素」と称し、また、
１つの画素領域ＡＧ内に存在する複数の表示領域を「１画素」と称する。さらに、色を区
別してサブ画素領域ＳＧを表す場合には、「サブ画素領域ＳＧ（Ｒ）」のようにカッコ書
きで示すこととする。

液晶装置１００は、素子基板９１と、その素子基板９１に対向して配置されるカラーフ
ィルタ基板９２とが枠状のシール材５を介して貼り合わされ、そのシール材５の内側に、
例えば、ＴＮ（Twisted Nematic）型の液晶が封入されて液晶層４が形成されてなる。

ここに、液晶装置１００は、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色を用いて構成されるカラー表示用の
液晶装置であると共に、スイッチング素子としてａ−Ｓｉ型のＴＦＴ（Thin Film Transi
stor）素子を用いたアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置である。また、液晶装置１
００は、透過型の液晶装置である。

まず、素子基板９１の平面構成について説明する。素子基板９１の内面上には、主とし
て、複数のソース線３２、複数のゲート線３３、複数のａ−Ｓｉ型のＴＦＴ素子２１、複
数の画素電極１０、ドライバＩＣ４０、外部接続用配線３５及びＦＰＣ（Flexible Print
ed Circuit）４１などが形成若しくは実装されている。

図１に示すように、素子基板９１は、カラーフィルタ基板９２の一辺側から外側へ張り
出してなる張り出し領域３６を有しており、その張り出し領域３６上には、ドライバＩＣ
４０が実装されている。ドライバＩＣ４０の入力側の端子（図示略）は、複数の外部接続
用配線３５の一端側と電気的に接続されていると共に、複数の外部接続用配線３５の他端
側はＦＰＣと電気的に接続されている。各ソース線３２は、Ｙ方向に延在するように且つ
Ｘ方向に適宜の間隔をおいて形成されており、各ソース線３２の一端側は、ドライバＩＣ
４０の出力側の端子（図示略）に電気的に接続されている。

各ゲート線３３は、Ｙ方向に延在するように形成された第１配線３３ａと、その第１配
線３３ａの終端部からＸ方向に且つ後述する有効表示領域Ｖ内に延在するように形成され
た第２配線３３ｂとを備えている。各ゲート線３３の第２配線３３ｂは、各ソース線３２
と交差する方向、即ちＸ方向に延在するように且つＹ方向に適宜の間隔をおいて形成され
ており、各ゲート線３３の第１配線３３ａの一端側は、ドライバＩＣ４０の出力側の端子
（図示略）に電気的に接続されている。各ソース線３２と各ゲート線３３の第２配線３３
ｂの交差位置付近にはＴＦＴ素子２１が対応して設けられており、各ＴＦＴ素子２１は各
ソース線３２、各ゲート線３３及び各画素電極１０等に電気的に接続されている。各ＴＦ
Ｔ素子２１及び各画素電極１０は、各サブ画素領域ＳＧに対応する位置に設けられている
。各画素電極１０は、例えばＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）などの透明導電材料により形成
されている。

１つの画素領域ＡＧがＸ方向及びＹ方向に複数個、マトリクス状に並べられた領域が有
効表示領域Ｖ（２点鎖線により囲まれる領域）である。この有効表示領域Ｖに、文字、数
字、図形等の画像が表示される。なお、有効表示領域Ｖの外側の領域は表示に寄与しない
額縁領域３８となっている。また、各ソース線３２、各ゲート線３３、各ＴＦＴ素子２１
、及び各画素電極１０等の内面上には、配向膜１７（図２を参照）が形成されている。

次に、カラーフィルタ基板９２の平面構成について説明する。カラーフィルタ基板９２
は、一般にブラックマトリクスと呼ばれる遮光層ＢＭ、額縁用としての遮光層ＢＭ＿ｅｄ
ｇｅや、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色の着色層６Ｒ、６Ｇ、６Ｂ、６Ｃ及び共通電極８などを有
する。なお、以下の説明において、色を問わずに着色層を指す場合は単に「着色層６」と
記し、色を区別して着色層を指す場合は「着色層６Ｒ」などと記す。遮光層ＢＭは、各サ
ブ画素領域ＳＧを区画する位置に形成されている。遮光層ＢＭ_ｅｄｇｅは、額縁領域３
８に対応する位置に形成されている。共通電極８は、画素電極と同様にＩＴＯなどの透明
導電材料からなり、カラーフィルタ基板９２の略一面に亘って形成されている。共通電極
８は、シール材５の隅の領域Ｅ１において配線１５の一端側と電気的に接続されていると
共に、当該配線１５の他端側は、ドライバＩＣ４０のＣＯＭに対応する出力端子（接地用
端子）と電気的に接続されている。

以上の構成を有する液晶装置１００では、電子機器等と接続されたＦＰＣ４１側からの
信号及び電力等に基づき、ドライバＩＣ４０によって、Ｇ１、Ｇ２、・・・、Ｇｍ−１、
Ｇｍ（ｍは自然数）の順にゲート線３３が順次排他的に１本ずつ選択されるとともに、選
択されたゲート線３３には、選択電圧のゲート信号が供給される一方、他の非選択のゲー
ト線３３には、非選択電圧のゲート信号が供給される。そして、ドライバＩＣ４０は、選
択されたゲート線３３に対応する位置にある画素電極１０に対し、表示内容に応じたソー
ス信号を、それぞれ対応するＳ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎ−１、Ｓｎ（ｎは自然数）のソー
ス線３２及びＴＦＴ素子２１を介して供給する。その結果、液晶層４の表示状態が、非表
示状態または中間表示状態に切り替えられ、液晶層４の配向状態が制御されることとなる
。

次に、図２を参照して、液晶装置１００の断面構成について説明する。図２は、図１に
おける切断線Ａ−Ａ´断面図であり、特に、Ｒ、Ｇ、Ｃ、Ｂの各色の着色層６を通る位置
で切断した断面図である。

素子基板９１を構成する下側基板１は、ガラスや石英等の絶縁性を有する材料にて形成
されている。下側基板１の内面上には、サブ画素領域ＳＧ毎に画素電極１０が形成されて
いる。下側基板１の内面上であって、各画素電極１０の左端の近傍位置には、ソース線３
２が形成されている。各画素電極１０は、ＴＦＴ素子２１（図１等を参照）を介して、対
応する各ソース線３２に電気的に接続されている。下側基板１、画素電極１０、ＴＦＴ素
子２１、及びソース線３２の各内面上には、ポリイミド膜等よりなる配向膜１７が形成さ
れており、その配向膜１７の表面上には所定の方向にラビング処理が施されている。また
、下側基板１の外面上には偏光板１１が配置されていると共に、偏光板１１の外面上には
、照明装置としてのバックライト１５が配置されている。バックライト１５は、例えば、
ＬＥＤ（Light Emitting Diode）等といった点状光源や、冷陰極蛍光管等といった線状光
源と導光板を組み合わせたものなどが好適である。また、照明装置としてのバックライト
１５は、RGBの光源であればこれに限定されない。

一方、カラーフィルタ基板９２を構成する上側基板２の内面上には、サブ画素領域ＳＧ
毎に、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色のいずれかからなる着色層６がＲＧＣＢＲＧＣＢ・・・の配
列順序で設けられている。そして、各着色層６Ｒ、６Ｇ、６Ｃ及び６Ｂは、対応する各画
素電極１０と対向している。また、上側基板２の内面上であって、各着色層６を区画する
位置には、隣接するサブ画素領域ＳＧを隔て、一方のサブ画素領域ＳＧから他方のサブ画
素領域ＳＧへの光の混入を防止するため遮光層ＢＭが形成されている。また、額縁領域３
８に対応する位置にも、遮光層ＢＭ_ｅｄｇｅが形成されている。着色層６及び遮光層Ｂ
Ｍ等の内面上には、オーバーコート層１９が形成されている。このオーバーコート層１９
は、透明膜であり、具体的には、アクリルなどの有機膜、又は感光性の有機膜である。オ
ーバーコート層１９は、液晶装置１００の製造工程中に使用される薬剤等による腐食や汚
染から、着色層６等を保護する機能を有している。オーバーコート層１９の内面上には、
ＩＴＯ等からなる共通電極８が形成されている。共通電極８上の所定位置には、図示しな
いフォトスペーサが設けられている。このフォトスペーサによって、液晶層４が一定の厚
さに規定されている。なお、フォトスペーサは、一般的に、柱状スペーサ、貝柱又はリブ
などと称されることもある。共通電極８の内面上には、ポリイミド膜等よりなる配向膜２
０が形成されており、その配向膜２０の表面上には所定の方向にラビング処理が施されて
いる。また、上側基板２の外面上には、偏光板１２が配置されている。また、下側基板１
と上側基板２とはシール材５を介して対向しており、その両基板の間には液晶が封入され
液晶層４が形成されている。

以上の構成を有する液晶装置１００において透過型表示がなされる場合、バックライト
１５から出射した照明光は、図２に示す経路Ｔに沿って進行し、画素電極１０及びＲ、Ｇ
、Ｃ、Ｂの各着色層６等を通過して観察者に至る。この場合、その照明光は、その着色層
６等を透過することにより所定の色相及び明るさを呈する。こうして、所望のカラー表示
画像が観察者により視認される。特に、この液晶装置１００では、Ｒ、Ｇ、Ｃ、Ｂの４色
を用いて構成されているので、人間の視感度が高いＧの色の光の輝度の低下が抑制され、
また、いわゆるＣＩＥ色度図において、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色にて構成される液晶装置と比較
して、色再現範囲（色度域）が大きくなっている。

図３は、第１実施形態のカラーフィルタ基板９２における、２画素分に対応する平面的
なレイアウトを示す部分平面図である。なお、図３では、カラーフィルタ基板９２の各要
素と、素子基板９１の各要素との相対的な位置関係を理解し易くするため、素子基板９１
側に設けられる画素電極１０、ＴＦＴ素子２１、ソース線３２及びゲート線３３の第２配
線３３ｂも示す。

まず、カラーフィルタ基板９２の平面的な構成について説明する。

上側基板２上には、サブ画素領域ＳＧ毎に、Ｒ、Ｇ、Ｃ、Ｂのいずれか１色からなる着
色層６が設けられている。着色層６は、１つの画素領域ＡＧ毎に、Ｘ方向に向かって、６
Ｒ、６Ｇ、６Ｃ、６Ｂの配列順序でストライプ状に配置されている。この着色層６Ｒ、６
Ｇ、６Ｃ及び６Ｂの４色によりカラー表示の最小単位となるカラー１画素分が構成される
。各着色層６を区画する位置には遮光層ＢＭが配置されている。各着色層６及び遮光層Ｂ
Ｍ上にはオーバーコート層１９が設けられていると共に、オーバーコート層１９上には、
その一面に亘って共通電極８が設けられている。

続いて、カラーフィルタ基板９２の主要な要素と、素子基板９１の主要な要素との平面
的な位置関係について説明する。

素子基板９１において、各着色層６に対応する位置には、画素電極１０が配置されてい
る。また、素子基板９１において、Ｘ方向に相隣接する着色層６の間には、Ｙ方向に延在
するようにソース線３２が配置されている。このため、各ソース線３２は遮光層ＢＭと平
面的に重なり合っている。さらに、素子基板９１において、Ｙ方向に相隣接する着色層６
の間には、Ｘ方向に延在するようにゲート線３３の第２配線３３ｂが配置されている。こ
のため、各ゲート線３３の第２配線３３ｂは遮光層ＢＭと平面的に重なり合っている。

図４は、図３における切断線Ｂ−Ｂ´に沿った断面図である。なお、図４では、便宜上
、配向膜２０等の図示を省略している。また、以下では、上記で説明した要素については
同一の符号を付し、その説明は簡略化又は省略する。

まず、上記の約２画素分に対応する素子基板９１の断面構成について説明する。

下側基板１の内面上であって、サブ画素領域ＳＧの隅の位置には、ゲート線３３の第２
配線３３ｂと接続されたゲート電極３３ｃが形成されている。ゲート電極３３ｃの内面上
には、モリブデンなどからなる導電層５２が形成されている。下側基板１及び導電層５２
の内面上には、絶縁性を有するゲート絶縁膜５０が形成されている。ゲート絶縁膜５０の
内面上であって、ゲート電極３３ｃと重なる位置には、α−Ｓｉ層５５が設けられている
。ゲート絶縁膜５０の内面上であって、α−Ｓｉ層５５の左端付近にはソース線３２と接
続されたソース電極３２ａが設けられていると共に、α−Ｓｉ層５５の右端付近にはドレ
イン電極５４が設けられている。ソース電極３２ａ及びドレイン電極５４は、α−Ｓｉ層
５５と部分的に重なっている。ゲート絶縁膜５０、ソース電極３２ａ、ドレイン電極５４
及びα−Ｓｉ層５５の内面上には、絶縁性を有するパシベーション層（反応防止層）５１
が形成されている。パシベーション層５１は、ＴＦＴ素子２１の要素であるドレイン電極
５４の一端側に対応する位置に開口５１ａを有する。かかる積層構造によりＴＦＴ素子２
１が構成されている。なお、本発明では、ＴＦＴ素子２１は、上記の構成に限定されるも
のではない。また、パシベーション層５１等の内面上には、サブ画素領域ＳＧ毎に、ＩＴ
Ｏ等からなる画素電極１０が形成されている。画素電極１０の一部は、パシベーション層
５１の開口５１ａ内まで形成されており、ドレイン電極５４の一端側と電気的に接続され
ている。このため、画素電極１０は、ＴＦＴ素子２１と電気的に接続されている。画素電
極１０等の内面上には、所定の方向にラビング処理が施された配向膜１７が形成されてい
る。

次に、上記の約２画素分に対応するカラーフィルタ基板９２の断面構成について説明す
る。

上側基板２の内面上であって、１つのサブ画素領域ＳＧ内には、Ｃ（シアン）に対応す
る着色層６Ｃが、また、当該１つのサブ画素領域ＳＧと隣接する、他の１つのサブ画素領
域ＳＧ内には、Ｂ（青）に対応する着色層６Ｂが夫々形成されている。着色層６Ｃ及び６
Ｂの各々を区画する位置には、遮光層ＢＭが形成されている。着色層６Ｃ、着色層６Ｂ及
び遮光層ＢＭの内面上には、オーバーコート層１９が形成されている。オーバーコート層
１９の内面上には、ＩＴＯ等からなる共通電極８が形成されている。

以上の構成を有する素子基板９１とカラーフィルタ基板９２の間には液晶が封入され、
液晶層４が形成されている。

次に、遮光層ＢＭの構造について、図５及び図６を用いて詳しく説明する。図５（ａ）
は、図３における切断線Ｃ−Ｃ´に沿ったカラーフィルタ基板９２の拡大断面図である。
図２で言うと、破線Ｐｃで囲まれた部分の拡大断面図である。図５（ｂ）は、図３にお
ける切断線Ｄ−Ｄ´に沿ったカラーフィルタ基板９２の拡大断面図である。図２で言うと
、破線Ｐｄで囲まれた部分の拡大断面図である。図５（ｃ）は、図３における切断線Ｅ−
Ｅ´に沿ったカラーフィルタ基板９２の拡大断面図である。図２で言うと、破線Ｐｅで囲
まれた部分の拡大断面図である。図５（ａ）〜（ｃ）では、共通電極８を省略して図示し
ている。

図６（ａ）は、図３における切断線Ｆ−Ｆ´に沿ったカラーフィルタ基板９２の拡大断
面図である。図６（ｂ）は、図３における切断線Ｇ−Ｇ´に沿ったカラーフィルタ基板９
２の拡大断面図である。図６（ｃ）は、図３における切断線Ｈ−Ｈ´に沿ったカラーフィ
ルタ基板９２の拡大断面図である。図６（ｄ）は、図３における切断線Ｉ−Ｉ´に沿った
カラーフィルタ基板９２の拡大断面図である。図６（ａ）〜（ｄ）についても、図５（ａ
）〜（ｃ）と同様に、共通電極８を省略して図示している。

図５（ａ）〜（ｃ）、図６（ａ）〜（ｄ）に示すように、カラーフィルタ基板９２の内
面上におけるサブ画素領域ＳＧ（Ｒ）、ＳＧ（Ｇ）、ＳＧ（Ｃ）、ＳＧ（Ｂ）には、着色
部材７Ｒ、７Ｇ、７Ｃ、７Ｂが夫々塗布されている。サブ画素領域ＳＧ（Ｒ）、ＳＧ（Ｇ
）、ＳＧ（Ｃ）、ＳＧ（Ｂ）の夫々に塗布された着色部材７Ｒ、７Ｇ、７Ｃ、７Ｂが、夫
々着色層６Ｒ、６Ｇ、６Ｃ、６Ｂとなる。

また、図５（ａ）〜（ｃ）、図６（ａ）〜（ｄ）に示すように、カラーフィルタ基板９
２の内面上における遮光層ＢＭが形成される領域、即ちＢＭ領域には、４色の着色部材７
Ｒ、７Ｇ、７Ｃ、７Ｂが、この順に積層されてなる構造を有している。このように積層さ
れた着色部材７Ｒ、７Ｇ、７Ｃ、７Ｂが、遮光層ＢＭとなる。つまり、第１実施形態に係
る液晶装置では、いずれの位置にある遮光層ＢＭであっても、４色の着色部材７Ｒ、７Ｇ
、７Ｃ、７Ｂが、この順に積層されてなる構造を有する。このようにして形成された遮光
層ＢＭは、充分な遮光性を有する。

カラーフィルタ基板９２は、このような構造を採ることにより、サブ画素領域ＳＧ（Ｒ
）、ＳＧ（Ｇ）、ＳＧ（Ｃ）、ＳＧ（Ｂ）における着色部材７の層の数は１層となる一方
、遮光層ＢＭが形成されるＢＭ領域における着色部材７の層の数は４層となる。従って、
サブ画素領域ＳＧ（Ｒ）、ＳＧ（Ｇ）、ＳＧ（Ｃ）、ＳＧ（Ｂ）における着色部材７、即
ち着色層６と、ＢＭ領域における着色部材７、即ち遮光層ＢＭとの間に段差が生じる。そ
こで、透明膜、具体的には、アクリルなどの有機膜、又は感光性の有機膜で、着色層６及
び遮光層ＢＭを覆うことにより、オーバーコート層１９を形成する。このようにすること
で、着色層６と遮光層ＢＭとの間に発生する段差を、オーバーコート層１９で吸収するこ
とができ、カラーフィルタ基板９２の内面の平坦化を図ることができる。

さらに、遮光層ＢＭとして積層される着色部材７Ｒ、７Ｇ、７Ｃ、７Ｂは、その各層毎
に幅が異なり、上層に向かうに従って幅が狭くなる先細りの形状、いわゆるテーパー形状
となる。具体的には、図５（ａ）〜（ｃ）、図６（ａ）〜（ｄ）に示すように、着色部材
７Ｒの層の幅が最も広く、着色部材７Ｂの層の幅が最も狭い形状となる。このようにする
ことで、ＢＭ領域からサブ画素領域ＳＧにかけて、遮光層ＢＭと着色層６を覆うオーバー
コート層１９をなだらかにすることができ、よりカラーフィルタ基板９２の内面の平坦化
を図ることができる。具体的には、着色層６と遮光層ＢＭとの間に発生する段差Ｌ１は、
１[ｕｍ]未満まで低減される。

次に、遮光層ＢＭ_ｅｄｇｅの構造について、図７及び図８を用いて詳しく説明する。

図７は、第１実施形態のカラーフィルタ基板９２の遮光領域３８付近における、２画素
分に対応する平面的なレイアウトを示す部分平面図である。具体的には、図７は、図１に
おける破線３０で囲まれた部分の部分拡大図である。先にも述べたように、カラーフィル
タ基板９２の内面上の額縁領域３８に対応する位置にも、遮光層ＢＭ_ｅｄｇｅが形成さ
れている。図８（ａ）は、図７における切断線Ｊ−Ｊ´に沿ったカラーフィルタ基板９２
の拡大断面図である。図８（ｂ）は、図７における切断線Ｋ−Ｋ´に沿ったカラーフィル
タ基板９２の拡大断面図である。図８（ｃ）は、図７における切断線Ｌ−Ｌ´に沿ったカ
ラーフィルタ基板９２の拡大断面図である。図８（ｄ）は、図７における切断線Ｍ−Ｍ´
に沿ったカラーフィルタ基板９２の拡大断面図である。

図８（ａ）〜（ｄ）に示すように、カラーフィルタ基板９２の内面上において、サブ画
素領域ＳＧ（Ｒ）、ＳＧ（Ｇ）、ＳＧ（Ｃ）、ＳＧ（Ｂ）には、着色層６Ｒ、６Ｇ、６Ｃ
、６Ｂとなる着色部材７Ｒ、７Ｇ、７Ｃ、７Ｂが夫々塗布されているのに対し、額縁領域
３８には、４色の着色部材７Ｒ、７Ｇ、７Ｃ、７Ｂが、この順に積層されてなる構造を有
している。このように積層された着色部材７Ｒ、７Ｇ、７Ｃ、７Ｂが、遮光層ＢＭ_ｅｄ
ｇｅとなる。遮光層ＢＭ_ｅｄｇｅは、遮光層ＢＭと同様の着色部材７の積層構造を有し
ている。第１実施形態に係る液晶装置では、いずれの位置にある遮光層ＢＭ_ｅｄｇｅで
あっても、４色の着色部材７Ｒ、７Ｇ、７Ｃ、７Ｂが、この順に積層されてなる構造を有
する。このようにして形成された遮光層ＢＭ_ｅｄｇｅは、充分な遮光性を有する。

サブ画素領域ＳＧ（Ｒ）、ＳＧ（Ｇ）、ＳＧ（Ｃ）、ＳＧ（Ｂ）における着色部材７、
即ち着色層６と、遮光層ＢＭ_ｅｄｇｅとの間にも段差が生じる。そこで、遮光層ＢＭと
同様に、透明膜、具体的には、アクリルなどの有機膜、又は感光性の有機膜で、着色層６
及び遮光層ＢＭｅｄｇｅを覆うことにより、オーバーコート層１９を形成する。このよう
にすることで、着色層６と遮光層ＢＭ_ｅｄｇｅとの間に発生する段差を、オーバーコー
ト層１９で吸収することができ、カラーフィルタ基板９２の内面の平坦化を図ることがで
きる。

また、遮光層ＢＭ_ｅｄｇｅとして積層される着色部材７Ｒ、７Ｇ、７Ｃ、７Ｂも、遮
光層ＢＭと同様に、その各層毎に幅が異なり、上層に向かうに従って幅が狭くなる先細り
の形状、いわゆるテーパー形状となる。具体的には、図８（ａ）〜（ｄ）に示すように、
着色部材７Ｒの層の幅が最も広く、着色部材７Ｂの層の幅が最も狭い形状となる。このよ
うにすることで、額縁領域３８からサブ画素領域ＳＧにかけて、オーバーコート層１９を
なだらかにすることができ、よりカラーフィルタ基板９２の内面の平坦化を図ることがで
きる。具体的には、着色層６と遮光層ＢＭ_ｅｄｇｅとの間に発生する段差Ｌ２は、１[ｕ
ｍ]未満まで低減される。

第１実施形態に係るカラーフィルタ基板９２の製造方法としては、着色部材７Ｒ、７Ｇ
、７Ｃ、７Ｂを、以下に述べるように、フォトリソグラフィー技術などによりパターニン
グする方法が考えられる。

まず、着色部材７Ｒを、サブ画素領域ＳＧ（Ｒ）、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの形成
される領域に、パターニングする。次に、着色部材７Ｇを、サブ画素領域ＳＧ（Ｇ）、遮
光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの形成される領域にパターニングする。次に、着色部材７Ｃを
、サブ画素領域ＳＧ（Ｃ）、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの形成される領域にパターニン
グする。最後に、着色部材７Ｂを、サブ画素領域ＳＧ（Ｂ）、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇ
ｅの形成される領域にパターニングする。このようにすることで、サブ画素領域ＳＧ（Ｒ
）、ＳＧ（Ｇ）、ＳＧ（Ｃ）、ＳＧ（Ｂ）には、着色層６Ｒ、６Ｇ、６Ｃ、６Ｂが夫々形
成され、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの形成される領域には、４色の着色部材７Ｒ、７Ｇ
、７Ｃ、７Ｂが積層された遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅが、夫々形成される。

以上に述べたように、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅは、４色の着色部材７Ｒ、７Ｇ、７
Ｃ、７Ｂを積層して形成される。このようにすることで、着色層６を形成すると共に充分
な遮光性を有する遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅを形成することが可能となる。さらに、Ｒ
、Ｇ、Ｃ、Ｂの着色部材７の光学濃度は、一般的には、Ｇの着色部材、Ｒの着色部材、Ｃ
の着色部材、Ｂの着色部材の順に濃くなる。従って、ＲＧＢの着色部材にＣの着色部材を
加えた４色の着色部材を積層して遮光層を形成する方が、ＲＧＢの着色部材のみを積層し
て遮光層を形成するよりも、高い遮光性を得ることができる。なお、遮光層ＢＭ、ＢＭ_
ｅｄｇｅにおける着色部材７Ｒ、７Ｇ、７Ｃ、７Ｂの積層順序は、上述したものには限ら
れず、どのような積層順序であってもかまわない。

[第２実施形態]
次に、本発明に係る第２実施形態について説明する。第１実施形態と第２実施形態を比
較した場合、両者の構成は略共通している。具体的には、第１実施形態において図１〜図
４、図７を用いて述べた液晶装置の構成は、第２実施形態における液晶装置でも同じ構成
となる。第１実施形態と第２実施形態との違いは、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの着色部
材７の積層構造が異なる点である。具体的には、第１実施形態では、遮光層ＢＭ、ＢＭ_
ｅｄｇｅの積層構造は、着色部材７を４層積層した構造となるのに対し、第２実施形態で
は、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの積層構造は、着色部材７を３層積層した構造となる。
以下、第２実施形態に係る遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの構成について、図９〜図１１
を参照しつつ説明する。

図９（ａ）は、図３における切断線Ｃ−Ｃ´に沿ったカラーフィルタ基板９２の拡大断
面図である。図９（ｂ）は、図３における切断線Ｄ−Ｄ´に沿ったカラーフィルタ基板９
２の拡大断面図である。図９（ｃ）は、図３における切断線Ｅ−Ｅ´に沿ったカラーフィ
ルタ基板９２の拡大断面図である。図９（ａ）〜（ｃ）では、共通電極８を省略して図示
している。

図１０（ａ）は、図３における切断線Ｆ−Ｆ´に沿ったカラーフィルタ基板９２の拡大
断面図である。図１０（ｂ）は、図３における切断線Ｇ−Ｇ´に沿ったカラーフィルタ基
板９２の拡大断面図である。図１０（ｃ）は、図３における切断線Ｈ−Ｈ´に沿ったカラ
ーフィルタ基板９２の拡大断面図である。図１０（ｄ）は、図３における切断線Ｉ−Ｉ´
に沿ったカラーフィルタ基板９２の拡大断面図である。図１０（ａ）〜（ｄ）についても
、図９（ａ）〜（ｃ）と同様に、共通電極８を省略して図示している。

図９（ａ）〜（ｃ）、図１０（ａ）〜（ｄ）に示すように、第１実施形態と同様、カラ
ーフィルタ基板９２の内面上におけるサブ画素領域ＳＧ（Ｒ）、ＳＧ（Ｇ）、ＳＧ（Ｃ）
、ＳＧ（Ｂ）には、着色部材７Ｒ、７Ｇ、７Ｃ、７Ｂが夫々塗布されている。サブ画素領
域ＳＧ（Ｒ）、ＳＧ（Ｇ）、ＳＧ（Ｃ）、ＳＧ（Ｂ）の夫々に塗布された着色部材７Ｒ、
７Ｇ、７Ｃ、７Ｂが、夫々着色層６Ｒ、６Ｇ、６Ｃ、６Ｂとなる。

図９（ａ）〜（ｃ）、図１０（ａ）〜（ｄ）に示すように、カラーフィルタ基板９２の
内面上における遮光層ＢＭが形成されるＢＭ領域には、３色の着色部材７Ｒ、７Ｃ、７Ｂ
が、この順に積層されてなる構造を有している。このように積層された着色部材７Ｒ、７
Ｃ、７Ｂが、遮光層ＢＭとなる。つまり、第１実施形態に係る液晶装置では、４色の着色
部材７Ｒ、７Ｇ、７Ｃ、７Ｂを積層して遮光層ＢＭを形成していたが、第２実施形態に係
る液晶装置では、３色の着色部材７Ｒ、７Ｃ、７Ｂを積層して遮光層ＢＭを形成している
。このようにしても、遮光層ＢＭは、充分な遮光性を有する。

カラーフィルタ基板９２は、このような構造を採ることにより、サブ画素領域ＳＧ（Ｒ
）、ＳＧ（Ｇ）、ＳＧ（Ｃ）、ＳＧ（Ｂ）における着色部材７の層の数は１層となる一方
、ＢＭ領域における着色部材７の層の数は３層となる。従って、第１実施形態の場合と同
様、サブ画素領域ＳＧ（Ｒ）、ＳＧ（Ｇ）、ＳＧ（Ｃ）、ＳＧ（Ｂ）における着色部材７
、即ち着色層６と、ＢＭ領域における着色部材７、即ち遮光層ＢＭとの間に段差が生じる
。そこで、第１実施形態と同様に、透明膜、具体的には、アクリルなどの有機膜、又は感
光性の有機膜で、着色層６及び遮光層ＢＭを覆うことにより、オーバーコート層１９を形
成する。このようにすることで、着色層６と遮光層ＢＭとの間に発生する段差を、オーバ
ーコート層１９で吸収することができ、カラーフィルタ基板９２の内面の平坦化を図るこ
とができる。

さらに、遮光層ＢＭとして積層される着色部材７Ｒ、７Ｇ、７Ｃは、第１実施形態と同
様、その各層毎に幅が異なり、上層に向かうに従って幅が狭くなる先細りの形状、いわゆ
るテーパー形状となる。具体的には、図９（ａ）〜（ｃ）、図１０（ａ）〜（ｄ）に示す
ように、着色部材７Ｒの層の幅が最も広く、着色部材７Ｂの層の幅が最も狭い形状となる
。このようにすることで、遮光層ＢＭが形成される領域からサブ画素領域ＳＧにかけて、
オーバーコート層１９をなだらかにすることができ、よりカラーフィルタ基板９２の内面
の平坦化を図ることができる。具体的には、着色層６と遮光層ＢＭとの間に発生する段差
Ｌ３は、１[ｕｍ]未満まで低減される。

次に、第２実施形態に係る遮光層ＢＭ_ｅｄｇｅの構造について、図１１を用いて詳し
く説明する。

図１１（ａ）は、図７における切断線Ｊ−Ｊ´に沿ったカラーフィルタ基板９２の拡大
断面図である。図１１（ｂ）は、図７における切断線Ｋ−Ｋ´に沿ったカラーフィルタ基
板９２の拡大断面図である。図１１（ｃ）は、図７における切断線Ｌ−Ｌ´に沿ったカラ
ーフィルタ基板９２の拡大断面図である。図１１（ｄ）は、図７における切断線Ｍ−Ｍ´
に沿ったカラーフィルタ基板９２の拡大断面図である。

図１１（ａ）〜（ｄ）に示すように、額縁領域３８には、３色の着色部材７Ｒ、７Ｃ、
７Ｂが、この順に積層されてなる構造を有している。このように積層された着色部材７Ｒ
、７Ｃ、７Ｂが、遮光層ＢＭ_ｅｄｇｅとなる。つまり、遮光層ＢＭと遮光層ＢＭ_ｅｄｇ
ｅは、どちらも３色の着色部材７が積層されてなる構造を有している。このようにしても
、遮光層ＢＭ_ｅｄｇｅは、充分な遮光性を有する。

サブ画素領域ＳＧ（Ｒ）、ＳＧ（Ｇ）、ＳＧ（Ｃ）、ＳＧ（Ｂ）における着色部材７、
即ち着色層６と、遮光層ＢＭ_ｅｄｇｅとの間にも段差が生じる。そこで、第１実施形態
と同様に、透明膜、具体的には、アクリルなどの有機膜、又は感光性の有機膜で、着色層
６及び遮光層ＢＭを覆うことにより、オーバーコート層１９を形成する。このようにする
ことで、着色層６と遮光層ＢＭ_ｅｄｇｅとの間に発生する段差を、オーバーコート層１
９で吸収することができ、カラーフィルタ基板９２の内面の平坦化を図ることができる。

また、遮光層ＢＭ_ｅｄｇｅとして積層される着色部材７Ｒ、７Ｃ、７Ｂも、第１実施
形態と同様、その各層毎に幅が異なり、上層に向かうに従って幅が狭くなる先細りの形状
、いわゆるテーパー形状となる。具体的には、図１１（ａ）〜（ｄ）に示すように、着色
部材７Ｒの層の幅が最も広く、着色部材７Ｂの層の幅が最も狭い形状となる。このように
することで、額縁領域３８からサブ画素領域ＳＧにかけて、オーバーコート層１９をなだ
らかにすることができ、よりカラーフィルタ基板９２の内面の平坦化を図ることができる
。具体的には、着色層６と遮光層ＢＭとの間に発生する段差Ｌ４は、１[ｕｍ]未満まで低
減される。

第２実施形態に係るカラーフィルタ基板９２の製造方法としては、第１実施形態で述べ
たカラーフィルタ基板９２の製造方法と同様、まず、着色部材７Ｒを、サブ画素領域ＳＧ
（Ｒ）、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの形成される領域に、フォトリソグラフィー技術等
によってパターニングする。次に、着色部材７Ｇを、サブ画素領域ＳＧ（Ｇ）にパターニ
ングする。次に、着色部材７Ｃを、サブ画素領域ＳＧ（Ｃ）、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇ
ｅの形成される領域にパターニングする。最後に、着色部材７Ｂを、サブ画素領域ＳＧ（
Ｂ）、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの形成される領域にパターニングする。このようにす
ることで、サブ画素領域ＳＧ（Ｒ）、ＳＧ（Ｇ）、ＳＧ（Ｃ）、ＳＧ（Ｂ）には、着色層
６Ｒ、６Ｇ、６Ｃ、６Ｂが夫々形成され、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの形成される領域
には、３色の着色部材７Ｒ、７Ｃ、７Ｂが積層された遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅが、夫
々形成される。なお、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅにおける着色部材７Ｒ、７Ｃ、７Ｂの
積層順序は、上述したものには限られず、どのような積層順序であってもかまわない。

また、上述した実施形態では、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅを形成するのに、着色部材
７Ｒ、７Ｃ、７Ｂを用いるとしているが、これに限られるものではなく、代わりに、着色
部材７Ｒ、７Ｇ、７Ｃ、７Ｂのうち、いずれか３色の着色部材を選択して、遮光層ＢＭ、
ＢＭ_ｅｄｇｅを形成するとしてもよい。例えば、図１０（ｂ）において、着色部材７Ｒ
、７Ｃ、７Ｂを積層して遮光層ＢＭを形成するとしているが、着色部材７Ｒを用いる代わ
りに、着色部材７Ｇを用いて遮光層ＢＭを形成することとしてもよい。このようにするこ
とで、２つのサブ画素領域ＳＧ（Ｇ）に挟まれたＢＭ領域に着色部材７Ｒを塗布する必要
性はなくなり、ＢＭ領域を挟んだ２つのサブ画素領域ＳＧ（Ｇ）と、当該ＢＭ領域に着色
部材７Ｇをまとめて塗布することができる。これにより、製造工程の簡略化を図ることが
できる。遮光性の観点からすると、第１実施形態でも述べたように、Ｒ、Ｇ、Ｃ、Ｂの着
色部材７の光学濃度は、一般的には、Ｇの着色部材、Ｒの着色部材、Ｃの着色部材、Ｂの
着色部材の順に濃くなる。従って、上述したように、着色部材７Ｒ、７Ｃ、７Ｂを積層し
てＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅを形成する方が好適である。

第２実施形態では、上述したように、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅにおける着色部材７
の層の数は３層となるので、第１実施形態の遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅにおける着色部
材７の層の数が４層となるのと比較して、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの厚さを薄く形成
することができる。例えば、各色の着色部材７の厚さが１．５[ｕｍ]となる場合、第１実
施形態で述べた４色の着色部材７を積層して形成された遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの厚
さは、６[ｕｍ]となるのに対し、第２実施形態で述べた３色の着色部材７を積層して形成
された遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの厚さは、４．５[ｕｍ]となる。つまり、第２実施形
態に係る遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの方が、第１実施形態に係る遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄ
ｇｅよりも薄く形成することができる。また、このようにすることで、着色層６と遮光層
ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの段差の大きさを縮めることができ、上述のカラーフィルタ基板９
２の平坦化を容易に行うことができる。

ここで、着色部材７として、第１実施形態の着色部材よりも高い光学濃度の着色部材を
用いるのであれば、着色部材７を３層積層して形成された遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅは
、着色部材を４層積層して形成された遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅと同程度の遮光性を得
ることができる。具体的な例として、色度域を広げた着色部材７を用いる場合、各色の着
色部材７は、その光学濃度が高くなるが、その厚さも厚くなる。例えば、第１実施形態で
用いた各色の着色部材７の厚さが１．０[ｕｍ]程度となるのに対し、第２実施形態で用い
られる各色の着色部材７の厚さが、色度域を広げたために、１．５[ｕｍ]以上となるよう
な場合、３色の着色部材７を３層積層して形成された遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅは、４
色の着色部材７を４層積層して形成された遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅと同程度の遮光性
を得ることができる。このように、色度域を広げたために厚さが１．５[ｕｍ]以上あるよ
うな各色の着色部材７を用いる場合には、第１実施形態で述べたように、４色の着色部材
７を４層積層して遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅを形成するよりも、上述したように、３色
の着色部材７を３層積層して遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅを形成する方が、カラーフィル
タ基板９２の平坦化を容易に行うことができ、好適である。

[第３実施形態]
次に、本発明に係る第３実施形態について説明する。

図１２は、図３に対応する図であり、第３実施形態に係る２画素分に対応するレイアウ
トを示す部分平面図である。なお、図１２では、カラーフィルタ基板９４の各要素と、素
子基板９３の各要素との相対的な位置関係を理解し易くするため、素子基板９３側に設け
られる画素電極１０、ＴＦＴ素子２１、ソース線３２及びゲート線３３の第２配線３３ｂ
も示す。なお、以下では、上記の各実施形態と同一の要素については同一の符号を付し、
その説明は簡略化又は省略する。

第１及び第２実施形態では、透過型の液晶装置に本発明を適用したのに対して、第３実
施形態では、半透過反射型の液晶装置に本発明を適用する。

まず、以下では、図１２を参照して、第３実施形態に係る液晶装置の平面構成について
説明し、その後、図１３を参照して、第３実施形態に係る液晶装置の断面構成について説
明する。なお、図１２は、遮光領域３８付近における、２画素分に対応する平面的なレイ
アウトを示す部分平面図である。即ち、図１２は、図１における破線３０で囲まれた部分
に対応する部分の部分拡大図である。

まず、第３実施形態に係る液晶装置の平面構成について説明する。図１２において、１
つの画素領域ＡＧは、透過型表示が行われる透過領域Ｅｔと、当該透過領域ＥｔにＹ方向
に隣接し、反射型表示が行われる反射領域Ｅｒとを備えて構成される。

上側基板２上であって且つ各サブ画素領域ＳＧを区画する位置には遮光層ＢＭが形成さ
れていると共に、上側基板２の内面上であって且つ各サブ画素領域ＳＧの透過領域Ｅｔに
対応する位置には、１つの画素領域Ｇ毎に、第１実施形態及び第２実施形態と同様の配列
順序で着色層６Ｒａ、６Ｇａ、６Ｃａ、６Ｂａが設けられている。一方、各サブ画素領域
ＳＧの反射領域Ｅｒに対応する位置には、１つの画素領域Ｇ毎に、第１実施形態及び第２
実施形態と同様の配列順序で着色層６Ｒｂ、６Ｇｂ、６Ｃｂ、６Ｂｂが設けられている。

透過領域Ｅｔでは、バックライト１５からの照明光が着色層６を１回だけ通過するのに
対して、反射領域Ｅｒでは、外光が着色層６を往復で２回通過する。このため、透過型表
示では、明るい表示が可能であるものの彩度を高め難い一方、その逆に、反射型表示では
、彩度を高め易いものの明るさが犠牲になってしまうという問題が生じる。そこで、透過
領域Ｅｔに設けられた着色層６Ｒａ、６Ｇａ、６Ｂａ、６Ｃａの光学濃度は、反射領域Ｅ
ｒに設けられた着色層６Ｒｂ、６Ｇｂ、６Ｂｂ、６Ｃｂの光学濃度より濃くなるように設
定されている。

また、少なくとも反射領域Ｅｒに対応する着色層６等の内面上には、セルギャップを調
整する機能を有し、オーバーコート層６２（セル厚調整膜）が設けられる（図１３も参照
）。オーバーコート層６２及び透過領域Ｅｔに対応する着色層６の各内面上には、共通電
極８が形成されている。

次に、図１３を参照して、第３実施形態に係る液晶装置の断面構成について簡略化して
説明する。図１３は、図１２における切断線Ｎ−Ｎ´に沿った断面図であり、便宜上、配
向膜２０等の図示を省略している。

下側基板１上であって、各着色層６Ｒｂ、６Ｇｂ、６Ｂｂ、６Ｃｂの隅の位置には、上
記した積層構造を有するＴＦＴ素子２１が設けられている。少なくとも、反射領域Ｅｒに
対応するパシベーション層５１の内面上、及び、ＴＦＴ素子２１に対応するパシベーショ
ン層５１の内面上には、それぞれ、上記したオーバーコート層６２と共に液晶層４の厚さ
（セルギャップ）を調整する機能を有し、アクリル樹脂等の透明性を有する樹脂材料より
なる層間膜６１（他のセル厚調整膜）が設けられている。反射領域Ｅｒに対応する層間膜
６１の表面上には、複数の凹凸が形成されている。層間膜６１は、各ＴＦＴ素子２１の要
素であるドレイン電極５４の一端側に対応する位置にコンタクトホール６１ａを有する。
反射領域Ｅｒに対応する層間膜６１上には、アルミニウム、アルミニウム合金、銀合金
等の反射性を有する材料よりなる反射膜５が形成されている。この反射膜５は、複数の凹
凸を有する層間膜６１上に形成されているため、その複数の凹凸を反映した形状に形成さ
れている。これにより、液晶装置内へ入射した光を適度に散乱させることができる。また
、各反射膜５は、層間膜６１の各コンタクトホール６１ａに対応する位置に開口５ａを有
する。少なくとも、反射領域Ｅｒに対応する反射膜５の内面上、及び、透過領域Ｅｔに対
応するパシベーション層５１の内面上には、サブ画素領域ＳＧと略同一の大きさを有する
画素電極１０が形成されている。画素電極１０等の内面上には、所定の方向にラビング処
理が施された配向膜１７が形成されている。以上の構成により、素子基板９３が構成され
ている。

一方、上側基板２上において、１つのサブ画素領域ＳＧの透過領域Ｅｔには着色層６Ｃ
ａが、反射領域Ｅｒには着色層６Ｃｂが設けられている。また、また、当該１つのサブ画
素領域ＳＧに隣接する、他の１つのサブ画素領域ＳＧの透過領域Ｅｔには着色層６Ｂａが
、反射領域Ｅｒには着色層６Ｂｂが設けられている。上側基板２上であって、各サブ画素
領域ＳＧを区画する位置には遮光層ＢＭが設けられている。以上の構成により、第３実施
形態に係るカラーフィルタ基板９４が構成されている。

そして、素子基板９３とカラーフィルタ基板９４とは、図示しない枠状のシール材５を
介して貼り合わされ、その両基板の間に液晶が封入され液晶層４が形成されてなる。また
、この液晶装置では、図示しないフォトスペーサにより、透過領域Ｅｔに対応する液晶層
４の厚さｄ５が、反射領域Ｅｒに対応する液晶層４の厚さｄ１より大きく設定され、いわ
ゆるマルチギャップ構造をなしている。これにより、透過型表示と反射型表示とで適切な
表示特性となるように設定されている。

さて、かかる構成を有する第３実施形態の液晶装置において、透過型表示がなされる場
合、バックライト１５から出射した照明光は、図１３の一点鎖線矢印に示す経路Ｔに沿っ
て進行し、主として、画素電極１０、共通電極８及び着色層６等を夫々通過して観察者に
至る。このため、その照明光は、着色層６を夫々透過することにより所定の色相及び明る
さを呈する。こうして、所望のカラー表示画像が観察者により視認される。一方、反射型
表示がなされる場合、液晶装置内に入射した外光は、図１３の一点鎖線矢印に示す経路Ｒ
に沿って進行する。つまり、液晶装置内に入射した外光は、反射膜５によって反射され観
察者に至る。この場合、その外光は、各着色層６が形成されている領域を夫々通過して、
その各着色層６の下方に位置する反射膜５により反射され、再度、各着色層６を夫々通過
することによって所定の色相及び明るさを呈する。こうして、所望のカラー表示画像が観
察者により視認される。

特に、この第３実施形態の液晶装置では、Ｒ、Ｇ、Ｃ、Ｂの４色を用いて構成されてい
るので、人間の視感度が高いＧの色の光の輝度の低下が抑制され、また、いわゆるＣＩＥ
色度図において、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色にて構成される液晶装置と比較して、色再現範囲（色
度域）が大きくなっている。

次に、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの構造について、図１４及び図１５を用いて詳しく
説明する。図１４及び図１５は、第１実施形態で述べたのと同様、４色の着色部材７を積
層することによって、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅを形成する例を示している。

図１４（ａ）は、図１２における切断線Ｏ−Ｏ´に沿ったカラーフィルタ基板９４の拡
大断面図である。図１４（ｂ）は、図１２における切断線Ｐ−Ｐ´に沿ったカラーフィル
タ基板９４の拡大断面図である。図１４（ｃ）は、図１２における切断線Ｑ−Ｑ´に沿っ
たカラーフィルタ基板９４の拡大断面図である。図１４（ａ）〜（ｃ）では、共通電極８
を省略して図示している。

カラーフィルタ基板９４の内面上におけるサブ画素領域ＳＧ（Ｒ）、ＳＧ（Ｇ）、ＳＧ
（Ｃ）、ＳＧ（Ｂ）の透過領域Ｅｔには、着色部材７Ｒａ、７Ｇａ、７Ｃａ、７Ｂａが、
塗布され、夫々着色層６Ｒａ、６Ｇａ、６Ｃａ、６Ｂａとなる。また、サブ画素領域ＳＧ
（Ｒ）、ＳＧ（Ｇ）、ＳＧ（Ｃ）、ＳＧ（Ｂ）の反射領域Ｅｒには、着色部材７Ｒｂ、７
Ｇｂ、７Ｃｂ、７Ｂｂが、塗布され、夫々着色層６Ｒｂ、６Ｇｂ、６Ｃｂ、６Ｂｂとなる
。従って、着色部材７Ｒａ、７Ｇａ、７Ｃａ、７Ｂａの光学濃度は、着色部材７Ｒｂ、７
Ｇｂ、７Ｃｂ、７Ｂｂの光学濃度よりも濃く設定される。

図１４（ａ）〜（ｂ）に示す遮光層ＢＭは、サブ画素領域ＳＧ（Ｒ）、ＳＧ（Ｇ）、Ｓ
Ｇ（Ｃ）、ＳＧ（Ｂ）の透過領域Ｅｔに塗布される着色部材７Ｒａ、７Ｇａ、７Ｃａ、７
Ｂａの４色の着色部材７が、ＢＭ領域に積層されてなる構造を有している。透過領域Ｅｔ
に塗布される着色部材７Ｒａ、７Ｇａ、７Ｃａ、７Ｂａの光学濃度は、反射領域Ｅｒに塗
布される着色部材７Ｒｂ、７Ｇｂ、７Ｃｂ、７Ｂｂの光学濃度よりも濃く設定されるので
、着色部材７Ｒｂ、７Ｇｂ、７Ｃｂ、７Ｂｂを積層して遮光層ＢＭを形成よりも、着色部
材７Ｒａ、７Ｇａ、７Ｃａ、７Ｂａを積層して遮光層ＢＭを形成する方が、より高い遮光
性を得ることができる。同様の理由により、図１４（ｃ）に示す遮光層ＢＭ_ｅｄｇｅも
、サブ画素領域ＳＧ（Ｒ）、ＳＧ（Ｇ）、ＳＧ（Ｃ）、ＳＧ（Ｂ）の透過領域Ｅｔに塗布
される着色部材７Ｒａ、７Ｇａ、７Ｃａ、７Ｂａが、遮光領域３８に積層されてなる構造
を有している。

遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの構造としては、上述したものには限られない。着色部材
７Ｒａ、７Ｇａ、７Ｃａ、７Ｂａのみを、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅに用いるとする代
わりに、着色部材７Ｒｂ、７Ｇｂ、７Ｃｂ、７Ｂｂを、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの一
部又は全部の層に用いてもよい。言い換えれば、着色部材７Ｒａ、７Ｇａ、７Ｃａ、７Ｂ
ａ、着色部材７Ｒｂ、７Ｇｂ、７Ｃｂ、７Ｂｂの８色の着色部材７から４色選択して積層
することとしてもよい。

図１５は、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの一部の層に着色部材７Ｒｂ、７Ｇｂ、７Ｃｂ
、７Ｂｂを用いた場合の一例を示している。図１５（ａ）は、図１２における切断線Ｏ−
Ｏ´に沿ったカラーフィルタ基板９４の拡大断面図である。図１５（ｂ）は、図１２にお
ける切断線Ｐ−Ｐ´に沿ったカラーフィルタ基板９４の拡大断面図である。図１５（ｃ）
は、図１２における切断線Ｑ−Ｑ´に沿ったカラーフィルタ基板９４の拡大断面図である
。図１５（ａ）〜（ｃ）では、共通電極８を省略して図示している。

図１５（ｂ）〜（ｃ）では、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅは、着色部材７Ｒｂ、７Ｇｂ
、７Ｃｂ、７Ｂｂの中で光学濃度が濃い着色部材７Ｃｂ、７Ｂｂと、着色部材７Ｒａ、７
Ｇａ、７Ｃａ、７Ｂａの中で光学濃度が濃い着色部材７Ｃａ、７Ｂａが、ＢＭ領域及び遮
光領域３８に積層されてなる構造を有している。このようにしても、高い遮光性を有する
遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅを形成することができる。

ここで、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅは、図１４、図１５に示すものには限られず、代
わりに、着色部材７Ｒａ、７Ｇａ、７Ｃａ、７Ｂａ、着色部材７Ｒｂ、７Ｇｂ、７Ｃｂ、
７Ｂｂの８色の着色部材７のうち、いずれか４色を用いて形成されるとすることもできる
のは言うまでもない。例えば、図１５（ａ）では、着色部材Ｒａ、Ｒｂ、Ｇａ、Ｇｂが、
ＢＭ領域に積層されてなる構造を有している。

遮光性の観点からすれば、遮光層ＢＭは、８色の着色部材のうち、光学濃度の濃い着色
部材から順に４色選択し、積層して遮光層を形成する方が、より高い遮光性を有する遮光
層を形成できる点で好適である。

次に、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの構造の他の例について、図１６及び図１７を用い
て詳しく説明する。図１６及び図１７は、第２実施形態で述べたのと同様、３色の着色部
材７を積層することによって、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅを形成する例を示している。

図１６（ａ）〜（ｂ）に示す遮光層ＢＭ、図１６（ｃ）に示す遮光層ＢＭ_ｅｄｇｅは
、サブ画素領域ＳＧ（Ｒ）、ＳＧ（Ｇ）、ＳＧ（Ｃ）、ＳＧ（Ｂ）の透過領域Ｅｔに塗布
される着色部材７Ｒａ、７Ｇａ、７Ｃａ、７Ｂａのうち、３色の着色部材７Ｒａ、７Ｃａ
、７Ｂａが、ＢＭ領域及び遮光領域３８に積層されてなる構造を有する。第２実施形態で
述べたのと同様、各色の着色部材７が１．５[ｕｍ]以上ある場合、３色の着色部材７を積
層して形成された遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅは、４色の着色部材７を積層して形成され
た遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅと同程度の遮光性を得ることができる。ここで、遮光層Ｂ
Ｍ、ＢＭ_ｅｄｇｅは、図１６に示す例のように、着色部材７Ｒａ、７Ｃａ、７Ｂａを用
いて形成されるとする代わりに、着色部材７Ｒａ、７Ｇａ、７Ｃａ、７Ｂａ、着色部材７
Ｒｂ、７Ｇｂ、７Ｃｂ、７Ｂｂの８色の着色部材７のうち、いずれか３色を用いて形成さ
れるとすることもできるのは言うまでもない。図１６に示す例では、遮光層ＢＭ、ＢＭ_
ｅｄｇｅが、着色部材７Ｒａ、７Ｇａ、７Ｃａ、７Ｂａのうち、光学濃度が高い着色部材
７Ｒａ、Ｃａ、７Ｂａを用いて形成されているので、高い遮光性を得ることができるとい
う点で好適である。つまり、８色の着色部材のうち、光学濃度の濃い着色部材から順に３
色選択し、積層して遮光層を形成する方が、より高い遮光性を有する遮光層を形成できる
点で好適である。

また、第３実施形態では、図１４〜１６からも分かるように、第１実施形態及び第２実
施形態のときと同様、サブ画素領域ＳＧ（Ｒ）、ＳＧ（Ｇ）、ＳＧ（Ｃ）、ＳＧ（Ｂ）に
おける着色部材７、即ち着色層６と、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅとの間に生じる段差を
、オーバーコート層６２で吸収し、カラーフィルタ基板９４の内面の平坦化を図っている
。

また、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅとして積層される各色の着色部材７も、その各層毎
に幅が異なり、上層に向かうに従って幅が狭くなる先細りの形状、いわゆるテーパー形状
となっている。これにより、ＢＭ領域及び遮光領域３８からサブ画素領域ＳＧにかけて、
オーバーコート層６２をなだらかにすることができ、よりカラーフィルタ基板９４の内面
の平坦化を図ることができる。具体的には、着色層６と遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅとの
間に発生する段差Ｌ５、Ｌ６は、１[ｕｍ]未満まで低減される。

以上に説明した実施形態（第１〜第３実施形態）において、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色に対
応するカラーフィルタ基板９２の各着色層６Ｒ、６Ｇ、６Ｂ、６Ｃは、６Ｒ、６Ｇ、６Ｂ
、６Ｃに替えて、波長に応じて色相が変化する可視光領域のうち、少なくとも４色の色相
を有する着色部材からなる着色層（着色領域）で構成することができる。したがって、サ
ブ画素領域ＳＧ（Ｒ）、ＳＧ（Ｇ）、ＳＧ（Ｃ）、ＳＧ（Ｂ）の夫々に塗布される着色部
材７Ｒ、７Ｇ、７Ｃ、７Ｂには、前記４色の色相に対応した着色部材が用いられる。
なお、第３実施形態における着色層６Ｒａ，６Ｇａ，６Ｃａ，６Ｂａ、着色層６Ｒｂ，
６Ｇｂ，６Ｂｂ，６Ｃｂ、着色層６Ｒｂ，６Ｇｂ，６Ｂｂ，６Ｃｂ、および着色部材７Ｒ
ａ，７Ｇａ，７Ｃａ，７Ｂａについても同様である。

４色の色相を有する着色部材からなる着色領域は、波長に応じて色相が変化する可視光
領域（３８０−７８０ｎｍ）のうち、青系の色相の領域と、赤系の色相の領域と、青から
黄までの色相の中で選択された２種の色相の領域からなる。ここで系と用いているが、例
えば青系であれば純粋の青の色相に限定されるものでなく、青紫や青緑等を含むものであ
る。赤系の色相であれば、赤に限定されるものでなく橙を含む。また、これら着色層は単
一の着色層で構成されても良いし、複数の異なる色相の着色層を重ねて構成されても良い
。
また、これら着色領域は色相で述べているが、当該色相は、彩度、明度を適宜変更し、
色を設定し得るものである。

具体的な色相の範囲は、例えば、青系の色相の着色領域は、青紫から青緑であり、より
好ましくは藍から青である。赤系の色相の着色領域は、橙から赤である。青から黄までの
色相で選択される一方の着色領域は、青から緑であり、より好ましくは青緑から緑である
。青から黄までの色相で選択される他方の着色領域は、緑から橙であり、より好ましくは
緑から黄である。もしくは緑から黄緑である。ここで、各着色領域は、同じ色相を用いる
ことはない。例えば、青から黄までの色相で選択される２つの着色領域で緑系の色相を用
いる場合は、他方は一方の緑に対して青系もしくは黄緑系の色相を用いる。
これにより、従来のRGBの着色領域よりも広範囲の色再現性を実現することができる。

次に、４色の着色領域を透過光の波長で表現する。
青系の着色領域は、該領域を透過した光の波長のピークが４１５−５００ｎｍにある着
色領域、好ましくは、４３５−４８５ｎｍにある着色領域である。赤系の着色領域は、該
領域を透過した光の波長のピークが６００ｎｍ以上にある着色領域で、好ましくは、６０
５ｎｍ以上にある着色領域である。青から黄までの色相で選択される一方の着色領域は、
該領域を透過した光の波長のピークが４８５−５３５ｎｍにある着色領域で、好ましくは
、４９５−５２０ｎｍにある着色領域である。青から黄までの色相で選択される他方の着
色領域は、該領域を透過した光の波長のピークが５００−５９０ｎｍにある着色領域、好
ましくは５１０−５８５ｎｍにある着色領域、もしくは５３０−５６５ｎｍにある着色領
域である。

さらに、４色の着色領域を、ｘｙ色度図で示す。
青系の着色領域は、ｘ≦0.151、ｙ≦0.056にある着色領域であり、好ましくは、0.134
≦ｘ≦0.151、0.034≦ｙ≦0.056にある着色領域である。赤系の着色領域は、0.643≦ｘ、
ｙ≦0.333にある着色領域であり、好ましくは、0.643≦ｘ≦0.690、0.299≦ｙ≦0.333に
ある着色領域である。青から黄までの色相で選択される一方の着色領域は、ｘ≦0.164、0
.453≦ｙにある着色領域であり、好ましくは、0.098≦ｘ≦0.164、0.453≦ｙ≦0.759にあ
る着色領域である。青から黄までの色相で選択される他方の着色領域は、0.257≦ｘ、0.6
06≦ｙにある着色領域であり、好ましくは、0.257≦ｘ≦0.357、0.606≦ｙ≦0.670にある
着色領域である。

こうした４色の着色領域の構成の例として、以下のものが挙げられる。
（１）色相が、赤、青、緑、シアン（青緑）の着色領域。
（２）色相が、赤、青、緑、黄の着色領域。
（３）色相が、赤、青、深緑、黄の着色領域。あるいは、赤、青、エメラルド、黄の着
色領域。
（４）色相が、赤、青、深緑、黄緑の着色領域。あるいは、赤、青緑、深緑、黄緑の着
色領域。

また、照明装置としてのバックライト１５は、ＬＥＤ等といった点状光源や、冷陰極蛍
光管等といった線状光源と導光板を組み合わせたものなどが好適であが、RGBの光源であ
ればこれに限定されない。RGB光源としては、以下のものが好ましい。
（１）Bは波長のピークが４３５ｎｍ〜４８５ｎｍ範囲にあるもの。
（２）Gは波長のピークが５２０ｎｍ〜５４５ｎｍ範囲にあるもの。
（３）Rは波長のピークが６１０ｎｍ〜６５０ｎｍ範囲にあるもの。
そして、RGB光源の波長によって、上記カラーフィルタを適切に選定すればより広範囲
の色再現性を得ることができる。また、波長が例えば、４５０ｎｍと５６５ｎｍにピーク
がくるような、複数のピークを持つ光源を用いていも良い。

［変形例］
第１実施形態から第３実施形態では、Ｒ、Ｇ、Ｃ、Ｂの４色の着色層６を有する液晶装
置において、Ｒ、Ｇ、Ｃ、Ｂの４色の着色部材を積層、又は、Ｒ、Ｇ、Ｃ、Ｂの４色の着
色部材のうち、３色の着色部材を積層して、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅを形成するとし
ている。しかしながら、これに限られるものではなく、代わりに、４色以上の着色層を有
する液晶装置において、夫々の色の着色層を形成するのに用いられる４色以上の着色部材
から、４色以上、または、３色以上の着色部材を選択し、積層して、遮光層ＢＭ、ＢＭ_
ｅｄｇｅを形成するとしても、第１実施形態、及び第２実施形態で述べたのと同様の効果
、即ち、着色層を形成すると共に充分な遮光性を有する遮光層を形成することができる。
なお、このとき、着色層を形成するのに用いられる４色以上の着色部材から、光学濃度
の濃い着色部材から順に選択された４色以上、又は３色以上の着色部材を、遮光層を形成
するのに用いることで、より遮光性の高い遮光層を形成することができるのはいうまでも
ない。

また、第１実施形態から第３実施形態における遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの着色部材
７の積層構造は、すべてのＢＭ領域及び遮光領域３８で同じである必要性はなく、夫々の
ＢＭ領域及び遮光領域３８で異なる遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅの着色部材７の積層構造
を有するとしてもよいのはいうまでもない。

さらに、第３実施形態では、透過領域と反射領域で、異なる光学濃度を有する着色部材
を用いて着色層が形成されるとしているが、これに限られない。代わりに、透過領域と反
射領域で同じ光学濃度を有する着色部材を用いて着色層が形成され、反射領域に形成され
た着色層に開口部を設けることにより、光学濃度を調整している半透過反射型の液晶表示
にも適用可能である。この場合には、透過領域と反射領域で夫々に塗布される着色部材の
光学濃度は互いに等しくなるので、実質的には、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色の着色部材を積層
することにより、又は、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色の着色部材のうち、３色の着色部材を選択
して積層することにより、遮光層を形成することとなる。つまり、第１実施形態及び第２
実施形態で述べたのと同様の実施形態となる。

上記の各実施形態では、画素領域ＡＧ単位毎に、Ｒ、Ｇ、Ｃ、Ｂの配列順序で着色層６
をストライプ状に配置するように構成したが、これに限らず、本発明では、図１７に示す
ように、画素領域ＡＧ単位毎に、Ｒ、Ｇ、Ｃ、Ｂの各々に対応する各着色層６を田型若し
くはモザイク型となるように配置しても構わない。

ここで、図１７に示される１画素の平面構成について簡単に説明する。なお、図１７で
は、上記の各実施形態と同一の要素については同一の符号を付し、その説明は簡略化又は
省略する。

各着色層６に対応する各サブ画素領域ＳＧは、透過領域Ｅｔ及び反射領域Ｅｒを備えて
構成されている。Ｒ、Ｇ、Ｃ及びＢの各色の各着色層６は、図１７に示される配列順序で
配置されているが、本発明では、Ｒ、Ｇ、Ｃ、Ｂの配列順序について特に限定はない。カ
ラーフィルタ基板において、各サブ画素領域ＳＧを区画する位置には遮光層ＢＭが設けら
れ、額縁領域には図示しない遮光層ＢＭ_ｅｄｇｅが設けられている。

一方、素子基板において、各サブ画素領域ＳＧ内の左下隅の位置にはＴＦＴ素子２１が
設けられ、また、Ｘ方向に相隣接するサブ画素領域ＳＧの間にはソース線３２が設けられ
ていると共に、Ｙ方向に相隣接するサブ画素領域ＳＧの間にはゲート線３３の第２配線３
３ｂが設けられている。

この図１７に示す例においても、透過領域Ｅｔに塗布される夫々の色の着色部材、反射
領域Ｅｒに塗布される夫々の色の着色部材のうちから、３色又は４色の着色部材を積層す
ることにより、遮光層ＢＭ、ＢＭ_ｅｄｇｅを形成することができる。従って、第３実施
形態で述べたのと同様の効果を得ることができるのは言うまでもない。

また、上記の各実施形態及び変形例では、透過型の液晶装置又は半透過反射型の液晶装
置に本発明を適用したが、これに限らず、反射型の液晶装置にも本発明を適用することが
できる。また、上記の各実施形態では、ＴＦＴ素子などの三端子型素子を有する液晶装置
に本発明を適用したが、これに限らず、ＴＦＤ（Thin Film Diode）素子などの二端子型
非線形素子を有する液晶装置に本発明を適用しても構わない。

また、本発明は、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）方式を有する液晶装置、又はＩＰ
Ｓ（In Plane Switching）方式を有する液晶装置にも適用することが可能である。その他
、本発明は、上記の各実施形態及び変形例の構成に限定されず、その趣旨を逸脱しない範
囲において種々の変形をすることが可能である。

さらに、本発明は、カラーフィルタ基板に関するものであるので、本発明に適用できる
装置としては、液晶装置には限られない。従って、上述したような構造のカラーフィルタ
基板を有する表示パネルを有する装置であれば、本発明を適用できるのはいうまでもない
。即ち、液晶装置のみでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッ
センス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、電子放出素子を用
いた装置（Field Emission Display 及び Surface-Conduction Electron-Emitter Displa
y 等）などの各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。

［表示画像の変換方法］
次に、上記の実施形態に係る液晶装置１００において、ＲＧＢの各色の画像信号をＲＧ
ＢＣの各色の画像信号に変換する方法について述べる。なお、この方法は、液晶装置１０
０に限らず、上記の各実施形態及び変形例に係る液晶装置にも適用可能である。

図１８は、上記の液晶装置１００の模式図である。液晶装置１００において、入力され
たＲＧＢの各色の画像信号がＲＧＢＣの各色の画像信号に変換される場合、液晶装置１０
０は、表示画像変換回路６１２を備える。表示画像変換回路６１２は、パーソナルコンピ
ュータなどの外部の表示画像出力源６１１より出力されたＲＧＢの各色の画像信号を、Ｒ
ＧＢＣの各色の画像信号に変換して、液晶表示パネル６００に出力する機能を有する。

表示画像出力回路６１２は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）などの演算処理部６
１２ａと、ＲＡＭ（Random Access Memory）などの記憶部６１２ｂとを備えて構成されて
いる。演算処理部６１２ａは、表示画像出力源６１１より出力された入力画像のＲＧＢの
各色の画像信号６１Ｒ、６１Ｇ、６１Ｂを、ＲＧＢＣの各色の画像信号６２Ｒ、６２Ｇ、
６２Ｂ、６２Ｃに変換する。記憶部６１２ｂには、所定の強度のＲＧＢの各色の画像信号
と、これに対応する強度のＲＧＢＣの各色の画像信号とを対応させたＬＵＴ（Look Up Ta
ble）が設けられている。例えば、演算処理部６１２ａに、Ｃの色のみを表示させるＲＧ
Ｂの各色の画像信号、例えば、Ｒ＝０、Ｇ＝１００、Ｂ＝１００の強度のＲＧＢの各色の
画像信号が入力された場合、演算処理部６１２ａは、このＲＧＢの各色の画像信号の強度
に対応する強度のＲＧＢＣの各色の画像信号（例えば、Ｒ＝０、Ｇ＝１０、Ｂ＝１０、Ｃ
＝１００）を、記憶部６１２ｂのＬＵＴより取得し、取得したＲＧＢＣの各色の画像信号
を液晶表示パネル６００へ出力する。これにより、液晶表示パネル６００の表示画面に、
ＲＧＢの各色だけでなく、Ｃの色を表示することができる。このようにすることで、入力
画像の画像信号として、ＲＧＢの画像信号が入力された場合においても、出力画像の色再
現範囲をシアン系色の色再現範囲に拡大することができる。

[電子機器]
次に、上述した各実施形態及び変形例に係る液晶装置１００等を適用可能な電子機器の
具体例について図１９を参照して説明する。

まず、各実施形態及び変形例に係る液晶装置１００等を、可搬型のパーソナルコンピュ
ータ（いわゆるノート型パソコン）の表示部に適用した例について説明する。図１９（ａ
）は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パー
ソナルコンピュータ７１０は、キーボード７１１を備えた本体部７１２と、本発明に係る
液晶装置１００等を適用した表示部７１３とを備えている。

続いて、各実施形態及び変形例に係る液晶装置１００等を、携帯電話機の表示部に適用
した例について説明する。図１９（ｂ）は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。
同図に示すように、携帯電話機７２０は、複数の操作ボタン７２１のほか、受話口７２
２、送話口７２３とともに、本発明に係る液晶装置１００等を適用した表示部７２４を備
える。

なお、各実施形態及び変形例に係る液晶装置１００等を適用可能な電子機器としては、
図１９（ａ）に示したパーソナルコンピュータや図１９（ｂ）に示した携帯電話機の他に
も、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビ
ゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、
テレビ電話、ＰＯＳ端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。

本発明の第１実施形態に係る液晶装置の構成を模式的に示す平面図。 図１における切断線Ａ−Ａ´に沿った断面図。 第１実施形態の画素構成を示す平面図。 図３の切断線Ｂ−Ｂ´に沿った部分断面図。 図３の切断線Ｃ−Ｃ´、Ｄ−Ｄ´、Ｅ−Ｅ´に沿った部分断面図。 図３の切断線Ｆ−Ｆ´、Ｇ−Ｇ´、Ｉ−Ｉ´、Ｈ−Ｈ´に沿った部分断面図。 第１実施形態の画素構成を示す平面図。 図３の切断線Ｊ−Ｊ´、Ｋ−Ｋ´、Ｌ−Ｌ´、Ｍ−Ｍ´に沿った部分断面図。 図３の切断線Ｃ−Ｃ´、Ｄ−Ｄ´、Ｅ−Ｅ´に沿った部分断面図。 切断線Ｆ−Ｆ´、Ｇ−Ｇ´、Ｉ−Ｉ´、Ｈ−Ｈ´に沿った部分断面図。 切断線Ｊ−Ｊ´、Ｋ−Ｋ´、Ｌ−Ｌ´、Ｍ−Ｍ´に沿った部分断面図。 第３実施形態の画素構成を示す平面図。 図１２の切断線Ｎ−Ｎ´に沿った部分断面図。 図１２の切断線Ｏ−Ｏ´、Ｐ−Ｐ´、Ｑ−Ｑ´に沿った部分断面図。 図１２の切断線Ｏ−Ｏ´、Ｐ−Ｐ´、Ｑ−Ｑ´に沿った部分断面図。 図１２の切断線Ｏ−Ｏ´、Ｐ−Ｐ´、Ｑ−Ｑ´に沿った部分断面図。 変形例に係る画素構成及びフォトスペーサの配向構造を示す平面図。 第１実施形態等に係る液晶装置の表示画像の変換方法を示す模式図。 本発明の液晶装置を適用した電子機器の例。

符号の説明

４…液晶層、５…反射膜、６…着色層、７…着色部材、８…共通電極、１０…画素電極
、１９，６２…オーバーコート層、２１…ＴＦＴ素子、３２…ソース線、３３…ゲート線
、９１，９３…素子基板、９２，９４…カラーフィルタ基板、１００…液晶装置。

Claims (16)

1. ２つの基板の間に狭持されてなる電気光学物質と、前記２つの基板のうち、一方の基板
   の内面上に４色以上の複数の着色部材の夫々で形成された複数の着色層を有する表示パネ
   ルを備え、
   前記一方の基板上において、前記複数の着色層を区画する位置、及び画像を表示するこ
   とのできる有効表示領域の外側の額縁領域に対応する位置には、前記複数の着色部材のう
   ち、３色以上の選択された着色部材を積層してなる遮光層が設けられていることを特徴と
   する電気光学装置。
2. 前記一方の基板上において、前記複数の着色層を区画する位置、及び画像を表示するこ
   とのできる有効表示領域の外側の額縁領域に対応する位置には、前記複数の着色部材のう
   ち、４色以上の選択された着色部材を積層してなる遮光層が設けられていることを特徴と
   する請求項１に記載の電気光学装置。
3. 前記遮光層は、前記複数の着色部材のうち、光学濃度の濃い着色部材から順に３色以上
   の選択された着色部材を積層してなることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学
   装置。
4. 前記遮光層及び前記複数の着色層には、透明膜が塗布されてなることを特徴とする請求
   項１乃至３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
5. 前記遮光層は、積層された着色部材が上層になるに従って狭く形成されてなることを特
   徴とする請求項４に記載の電気光学装置。
6. 前記表示パネルは、１つのサブ画素領域が透過領域と反射領域からなる半透過反射型の
   表示パネルであり、
   前記一方の基板の内面上の前記透過領域及び前記反射領域の夫々に、前記４色以上の複
   数の着色部材の夫々で形成された複数の着色層を有し、
   前記一方の基板上において、前記複数の着色層を区画する位置、及び画像を表示するこ
   とのできる有効表示領域の外側の額縁領域に対応する位置には、前記透過領域に形成され
   る着色層及び前記反射領域に形成される着色層に用いられる複数の着色部材のうち、３色
   以上の選択された着色部材を積層してなる遮光層が設けられていることを特徴とする請求
   項１乃至５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
7. 前記透過領域に設けられる着色層に用いられる着色部材は、前記反射領域に設けられる
   着色層に用いられる着色部材よりも光学濃度が濃くされてなり、
   前記遮光層は、前記透過領域に設けられる着色層に用いられる着色部材のうち、光学濃
   度の濃い着色部材から順に選択された複数の着色部材を積層してなることを特徴とする請
   求項６に記載の電気光学装置。
8. 前記４色以上の複数の着色部材は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）、シアン（Ｃ）の４
   色の着色部材であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の電気光学装
   置。
9. ２つの基板の間に狭持されてなる電気光学物質と、前記２つの基板のうち、一方の基板
   の内面上に、波長に応じて色相が変化する可視光領域のうち、少なくとも青系の色相を有
   する着色部材からなる着色層、赤系の色相を有する着色部材からなる着色層、青から黄ま
   での色相の中で選択された２種の色相を有する着色部材からなる着色層を有する少なくと
   も４色のサブ画素を含む表示領域からなり、
   前記一方の基板上において、前記複数の着色層を区画する位置、または前記表示領域の
   外側の額縁領域に対応する位置には、前記複数の着色層のうち、３色以上の選択された着
   色層を積層してなる遮光層が設けられることを特徴とする電気光学装置。
10. 前記遮光層は、前記４色以上の選択された着色層を積層してなることを特徴とする請求
    項９に記載の電気光学装置。
11. 前記遮光層は、前記複数の着色部材のうち、光学濃度の濃い着色部材から順に３色以上
    の選択された着色層を積層してなることを特徴とする請求項９又は１０に記載の電気光学
    装置。
12. 前記遮光層及び前記複数の着色層には、透明膜が塗布されてなることを特徴とする請求
    項９乃至１１のいずれか一項に記載の電気光学装置。
13. 前記遮光層は、積層された着色層が上層になるに従って狭く形成されてなることを特徴
    とする請求項１２に記載の電気光学装置。
14. 前記１つのサブ画素領域が透過領域と反射領域からなることを特徴とする請求項９乃至
    １３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
15. 前記透過領域に設けられる着色層に用いられる着色部材は、前記反射領域に設けられる
    着色層に用いられる着色部材よりも光学濃度が濃いことを特徴とする請求項１４に記載の
    電気光学装置。
16. 請求項１乃至１５のいずれか一項に記載の電気光学装置を表示部に備えることを特徴と
    する電子機器。
    

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