JP2007118593A - Photogravure reproduction roll with cushion layer and its manufacturing method - Google Patents

Photogravure reproduction roll with cushion layer and its manufacturing method Download PDF

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Tatsuo Shigeta
龍男 重田
Tsutomu Sato
勉 佐藤
Koichi Sugiyama
浩一 杉山
Takayuki Asano
貴之 浅野
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a gravure plate having a cushion property suitable for color printing a matrix image for composing a color filter in a glass for liquid crystal or color printing an image on a compact disk or the like by enabling good gravure printing on a rough surface such as flexo printing or the like since direct gravure printing which does not use a blanket roll for a hard printed matter by having a printing form plate especially a cushion property. <P>SOLUTION: A hollow roll 11a on a surface of which a cushion layer 11b comprising rubber or resin having a cushion property; a copper plated layer 12 provided on a surface of the cushion layer 11b and many gravure cells 14 formed on the surface of the cushion layer 11b; a metal layer 16 provided on a surface of the copper plated layer 12; a metallic carbide layer 18 of the metal provided on a surface of the metal layer 16; and a diamond like carbon film 20 which covers a surface of the metallic carbide layer 18, are contained. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、段ボール等の粗面に印刷したり、あるいはコンパクトディスク等に画像を印刷したり、あるいは液晶パネル用ガラスへカラーフィルタを構成するためのマトリックス画像をカラー印刷するのに好適なクッション層付グラビア製版ロール及びその製造方法に関し、特に表面強化被覆層としてダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜層を設けるようにしたクッション層付グラビア製版ロール及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a cushioning layer suitable for printing on a rough surface such as cardboard, printing an image on a compact disk or the like, or color printing a matrix image for constituting a color filter on a glass for a liquid crystal panel. More particularly, the present invention relates to a gravure printing roll with a cushion layer in which a diamond-like carbon (DLC) coating layer is provided as a surface-enhanced coating layer, and a method for manufacturing the same.

従来、印刷版、特に、液晶パネル用ガラスへカラーフィルタを構成するためのマトリックス画像をカラー印刷したり、あるいはコンパクトディスク等に画像をカラー印刷するには、グラビアオフセット印刷または水なしオフセット印刷が採用されてきており、グラビア印刷は採用されてこなかった。その理由は、グラビア印刷は、クッション性がないので印圧が増大するとガラスを割ってしまったり、コンパクトディスク等に歪みを与える惧れがあるので、ゴムからなるブランケットロールを介して印刷することにより、印圧が増大するときはゴムの変形により印圧の増大を抑制できるグラビアオフセット印刷が適切だからである。   Conventionally, gravure offset printing or waterless offset printing has been adopted for color printing of matrix images for forming color filters on printing plates, especially glass for liquid crystal panels, or color printing of images on compact discs, etc. Gravure printing has not been adopted. The reason for this is that gravure printing is not cushioning, so if the printing pressure increases, it may break the glass or distort the compact disc, etc., so printing via a blanket roll made of rubber This is because, when the printing pressure increases, gravure offset printing that can suppress an increase in printing pressure by deformation of rubber is appropriate.

液晶パネル用ガラスへカラー印刷するには、ガラスに転移した直後のウエットのインキの膜厚を均一な5〜6μmとして、ドライなインキの膜厚を均一な1〜1.5μmとして、バックライト光を均一に透過しかつ高い透過率を保障する必要がある。また、コンパクトディスク等に画像をカラー印刷するには、画像がシャープに得られる限度にインキの膜厚を可能な限り薄くする必要がある。その理由は、コンパクトディスク等に印刷する画像は、中心に対して偏って印刷されるので、画像を形成しているインキの重量が、次世代のコンパクトディスク装置の流体動圧軸受を採用したスピンドルモータの高速回転化にともなって、アンバランス回転の原因として無視できなくなることが分かった。   For color printing on glass for liquid crystal panels, the thickness of the wet ink film immediately after transfer to the glass is set to a uniform 5-6 μm, and the dry ink film thickness is set to a uniform 1-1.5 μm. It is necessary to ensure uniform transmission and high transmittance. In addition, in order to print an image on a compact disk or the like, it is necessary to make the ink film thickness as thin as possible to the extent that the image can be obtained sharply. The reason is that the image printed on a compact disk or the like is printed with a bias with respect to the center, so the weight of the ink forming the image is the spindle that uses the fluid dynamic pressure bearing of the next generation compact disk device It was found that as the motor rotates faster, it can no longer be ignored as the cause of unbalanced rotation.

従来のグラビア印刷版は、銅メッキの表層部に深さが15〜25μmとなるようにセルを形成する必要があり、そうすると、ウエットのインキの膜厚が15〜25μmとなるから、液晶パネル用ガラスへカラー印刷したり、あるいはコンパクトディスク等に画像をカラー印刷するのにはインキの膜厚が厚すぎて適していない。   In conventional gravure printing plates, it is necessary to form cells in the surface layer portion of copper plating so that the depth is 15 to 25 μm. Then, the film thickness of the wet ink is 15 to 25 μm. The film thickness of the ink is not suitable for color printing on glass or color printing of images on compact discs.

従来のグラビア印刷版において、銅メッキの表面に深さが5〜6μmとなるようにセルをエッチング形成できないのは、銅メッキ被膜が結晶組織であるためエッチングの進行が均一に行われないためである。セルの輪郭や底面に凹凸が生じたり、大きさによって深さが異なったセルができることは避けられない。特にシャドウ部の大きなセルについて、深さが5〜6μmとなるように得ても、ハイライト部の小さなセルについては、輪郭や底面に凹凸が生じる確率が高く、深さが5〜6μmに確実に得ることはほとんど望めない。   In conventional gravure printing plates, the cells cannot be etched to a depth of 5-6 μm on the surface of the copper plating because the copper plating film has a crystalline structure and the etching process is not performed uniformly. is there. It is inevitable that the contour and bottom surface of the cell are uneven and that cells having different depths depending on the size are formed. Especially for cells with a large shadow part, even if the depth is 5 to 6 μm, for cells with a small highlight part, there is a high probability of irregularities on the contour and bottom, and the depth is reliably 5 to 6 μm. Can hardly get to.

そこで、セルの深さが5〜6μmのグラビア版を確実に得るには、アルカリガラスに画像を焼き付けて現像しフッ酸によりエッチングすることにより深さが均一なかなり正確なセルを形成することができる。ただし、これは、グラビア印刷とはならず、ブランケットロールを介して印刷を行うグラビアオフセット印刷となる。   Therefore, in order to reliably obtain a gravure plate having a cell depth of 5 to 6 μm, it is possible to form a fairly accurate cell having a uniform depth by printing an image on alkali glass, developing and etching with hydrofluoric acid. it can. However, this is not gravure printing but gravure offset printing in which printing is performed via a blanket roll.

こうして、従来は、液晶パネル用ガラスへカラー印刷したり、あるいはコンパクトディスク等にカラー印刷するには、グラビアオフセット印刷、または水なし平印刷版オフセット印刷が採用されてきており、グラビア印刷は採用されてこなかった。   Thus, conventionally, gravure offset printing or waterless flat printing plate offset printing has been adopted for color printing on glass for liquid crystal panels or color printing on compact discs, etc., and gravure printing has been adopted. I did not come.

他方、従来のフレキソ版(樹脂凸版)は、光硬化性樹脂にマスクフィルムを重ねて赤外光を照射しエッチングするか、又は光硬化性樹脂にカーボンブラックの被膜を形成し、ポジ型の感光膜を塗ってレーザーによりネガ画像を焼き付けて現像し、次いで赤外光を照射してからエッチングすることにより製版している。   On the other hand, conventional flexographic plates (resin relief plates) are formed by applying a mask film on a photocurable resin and irradiating it with infrared light for etching, or by forming a carbon black film on the photocurable resin to form a positive photosensitive resin. A film is applied, a negative image is printed with a laser, developed, and then irradiated with infrared light and then etched to make a plate.

しかしながら、従来の印刷法によって製作される液晶パネル用カラーフィルタは、画像のシャープさが低く、線画像のエッジの乱れ、線画像の凹凸があり、フィルム法によって製作される液晶パネル用カラーフィルタに比べて著しく品質が劣り、このため、玩具関係にしか用途が広がらず、コンピュータディスプレイやテレビジョン等の高級品には全く採用されていない。   However, the color filter for liquid crystal panels manufactured by the conventional printing method has low image sharpness, the edge of the line image is irregular, and the line image has irregularities. The quality is remarkably inferior to that of the above, and therefore, its use is widespread only for toys, and it is not used at all for luxury products such as computer displays and televisions.

グラビアオフセット印刷によって製作される液晶パネル用カラーフィルタの品質が劣る原因は、次のように考えられる。グラビアオフセット印刷は、ブランケットロールからガラス等の被印刷物にインキを転移させる際に多少なりとも印圧が加わる。該印圧は、インキを押圧するので、インキの輪郭が外側に広がりあるいは乱れ、これが、ラインアンドスペースの値を小さくできない原因の一つである。また、転移するインキが版からブランケットロールに、さらにブランケットロールからガラス等の被印刷物に、それぞれ100%の確率で転移しないときは、インキが引きちぎられる結果となり、ガラス等の被印刷物に印刷されるインキの膜厚は均一でなく表面に凹凸ができる。   The reason why the quality of the color filter for a liquid crystal panel manufactured by gravure offset printing is inferior is considered as follows. In gravure offset printing, a printing pressure is applied to some extent when ink is transferred from a blanket roll to a substrate such as glass. Since the printing pressure presses the ink, the contour of the ink spreads outward or is disturbed, which is one of the reasons why the line and space value cannot be reduced. In addition, when the transferred ink does not transfer from the plate to the blanket roll and from the blanket roll to the printed material such as glass with a probability of 100%, the ink is torn off and printed on the printed material such as glass. The ink film thickness is not uniform and the surface is uneven.

転移するインキがガラス等の被印刷物に100%の確率で転移できるとした研究結果が論文に発表されている。それによれば、アルカリガラス製の印刷版の0.1μmのシリコンゴムの被膜をコートして離型性を付与すること、及びセルに光硬化性のインキを盛った時点で光を照射してインキを半乾きにして千切れ難いインキにすることによって、版からブランケットロールに100%の確率でインキを転移させることができたとしており、さらに、シリコン誘導体のブランケットロールに転移したインキを液晶パネル用ガラスに印刷する前にもう一度光を照射してインキを半乾きにして千切れ難いインキにするとともに、液晶パネル用ガラスの表面に0.2〜0.3μmの膜厚のアクリル系粘着剤をコートすることにより、ブランケットロールから液晶パネル用ガラスに100%の確率でインキを転移させることができたとしている。   Research results have been published in the paper that the transferred ink can be transferred to a printed material such as glass with 100% probability. According to this, a 0.1 μm silicon rubber film on a printing plate made of alkali glass is coated to give releasability, and light is irradiated when the photocurable ink is applied to the cell. The ink was transferred to the blanket roll from the plate with a probability of 100% by semi-drying the ink to make it difficult to break. Furthermore, the ink transferred to the blanket roll of silicon derivative was used for liquid crystal panels. Before printing on glass, irradiate the light once more to make the ink semi-dry and make it hard to break, and coat the surface of the liquid crystal panel glass with an acrylic adhesive with a thickness of 0.2 to 0.3 μm By doing so, the ink could be transferred from the blanket roll to the liquid crystal panel glass with a probability of 100%.

しかし、ブランケットロールから液晶パネル用ガラスに100%の確率でインキを転移させるためには、版や印刷装置を超精密に製作することが必須条件である。すなわち、通常の印刷装置の機械精度では、ブランケットロールから液晶パネル用ガラスにインキを転移させる際に印圧が掛りしかも変動することが避けられない。印圧が全く無くしたり、全く変動しないように機械精度を高めることは至難である。   However, in order to transfer the ink from the blanket roll to the liquid crystal panel glass with a probability of 100%, it is indispensable to manufacture a plate and a printing apparatus with high precision. That is, with the mechanical accuracy of a normal printing apparatus, it is inevitable that printing pressure is applied and fluctuates when ink is transferred from a blanket roll to glass for a liquid crystal panel. It is extremely difficult to increase the mechanical accuracy so that the printing pressure is completely eliminated or does not fluctuate at all.

仮に、ブランケットロールと液晶パネル用ガラスとの隙間をインキの膜厚と完全に一致させてしかも印刷中に隙間寸法に変動が生じないように、印刷機械を超精密に製作できたとすれば、印圧は殆どかからず変動しない。しかしながら、そのような装置を実用化することはほとんど不可能である。   If the printing machine can be manufactured with high precision so that the gap between the blanket roll and the glass for the LCD panel is completely matched with the ink film thickness, and the gap dimension does not fluctuate during printing. The pressure is almost constant and does not fluctuate. However, it is almost impossible to put such a device into practical use.

なぜならば、ブランケットロールと液晶パネル用ガラスとの隙間を例えば5.5μmに保持し、ブランケットロールに付着している6μmの膜厚のインキを液晶パネル用ガラスに転移させるときには、インキの膜厚が5.5μmとなるように印圧が発生する。ブランケットロールが回転するとともに、ブランケットロールの表面の速度に完全に一致させて液晶パネル用ガラスを直動させる際に、ブランケットロールと液晶パネル用ガラスとの隙間を全く変動させないようにすることは至難である。   This is because when the gap between the blanket roll and the liquid crystal panel glass is maintained at, for example, 5.5 μm, and the 6 μm thick ink adhering to the blanket roll is transferred to the liquid crystal panel glass, the ink film thickness is Printing pressure is generated so as to be 5.5 μm. When the blanket roll rotates and when the liquid crystal panel glass is moved directly in line with the surface speed of the blanket roll, it is difficult to prevent the gap between the blanket roll and the liquid crystal panel glass from changing at all. It is.

ブランケットロールは真円・真円筒となるように超精密に製作する必要があり、液晶パネル用ガラスを全く波動が生じないように直動させる必要がある。ブランケットロールの直径に1μmの偏心があっても、または液晶パネル用ガラスがブランケットロールに対して1μm近づくか遠ざかったりすると、それだけで、インキの膜厚が4.5μmとなり印圧が変動し、または、ブランケットロールと液晶パネル用ガラスとの隙間が5.5μmよりも大きくなってしまい、そのときは、ブランケットロールに付着しているインキが液晶パネル用ガラスに転移できない。   The blanket roll needs to be manufactured with high precision so as to be a perfect circle and a perfect cylinder, and the glass for the liquid crystal panel needs to be linearly moved so that no wave motion occurs. Even if the diameter of the blanket roll has an eccentricity of 1 μm, or if the liquid crystal panel glass approaches or moves away from the blanket roll by 1 μm, the ink film thickness becomes 4.5 μm, and the printing pressure fluctuates. In addition, the gap between the blanket roll and the liquid crystal panel glass becomes larger than 5.5 μm, and at this time, the ink adhering to the blanket roll cannot be transferred to the liquid crystal panel glass.

このことから言えることは、グラビアオフセット印刷機械の超精密化をいくら追求しても、印圧をかける必要があり、印圧の変動を抑えることは不可能である。従って、印圧がかかり、印圧が変動することが必須なので、ブランケットロールから液晶パネル用ガラスに100%の確率でインキを転移させることは、実験ではできたとしても、実用化はとても困難であると考えられる。   What can be said from this is that no matter how much the precision of the gravure offset printing machine is pursued, it is necessary to apply the printing pressure, and it is impossible to suppress the fluctuation of the printing pressure. Therefore, since it is essential that printing pressure is applied and the printing pressure fluctuates, it is very difficult to put it into practical use even if it is possible to transfer ink from the blanket roll to the liquid crystal panel glass with a probability of 100%. It is believed that there is.

他方、従来のフレキソ版(樹脂凸版)は、光硬化性樹脂を使用しているので、ちいさなドットを柱状に形成すると容易に折損してしまい、硬化樹脂の脆性を解消できず、高精細な版を作ることができなかった。   On the other hand, the conventional flexographic plate (resin relief plate) uses a photo-curing resin, so if a small dot is formed in a columnar shape, it easily breaks, and the brittleness of the cured resin cannot be eliminated. Could not make.

また、グラビア印刷では、グラビア製版ロール(グラビアシリンダー)に対し、製版情報に応じた微小な凹部(グラビアセル)を形成して版面を製作し当該グラビアセルにインキを充填して被印刷物に転写するものである。一般的なグラビア製版ロールにおいては、アルミニウムや鉄などの金属製又は炭素繊維強化樹脂(CFRP)等の強化樹脂製中空ロールの表面に版面形成用の銅メッキ層(版材)を設け、該銅メッキ層にエッチングによって製版情報に応じ多数の微小な凹部(グラビアセル)を形成し、次いでグラビア製版ロールの耐刷力を増すためのクロムメッキによって硬質のクロム層を形成して表面強化被覆層とし、製版(版面の製作)が完了する。しかし、クロムメッキ工程においては毒性の高い六価クロムを用いているために、作業の安全維持を図るために余分なコストがかかる他、公害発生の問題もあり、クロム層に替わる表面強化被覆層の出現が待望されているのが現状である。   Also, in gravure printing, a gravure printing roll (gravure cylinder) is formed with a minute recess (gravure cell) according to the plate making information to produce a plate surface, and the gravure cell is filled with ink and transferred to a printing material. Is. In a general gravure plate roll, a copper plating layer (plate material) for forming a plate surface is provided on the surface of a hollow roll made of a metal such as aluminum or iron or a reinforced resin such as carbon fiber reinforced resin (CFRP). A large number of concave portions (gravure cells) are formed on the plating layer according to the plate making information by etching, and then a hard chromium layer is formed by chromium plating to increase the printing durability of the gravure plate making roll to form a surface-enhanced coating layer. , Plate making (plate surface production) is completed. However, because highly toxic hexavalent chromium is used in the chrome plating process, there is an extra cost to maintain work safety, and there are also problems of pollution, and the surface-enhanced coating layer replaces the chrome layer. The current situation is that the appearance of

一方、グラビア製版ロール(グラビアシリンダー)の製造について、セルを形成した銅メッキ層にダイヤモンドライクカーボン(DLC)を形成し、表面強化被覆層として用いる技術は知られているが(特許文献1〜3)、DLC層は銅との密着性が弱く、剥離し易いという問題があった。また、本願出願人は、中空ロールにゴム又は樹脂層を形成し、その上にダイヤモンドライクカーボン(DLC)の被膜を形成した後、セルを形成し、グラビア印刷版を製造する技術をすでに提案している(特許文献4〜7)。
特開平4−282296号公報 特開2002−172752号公報 特開2002−178653号公報 特開平11−309950号公報 特開平11−327124号公報 特開2000−15770号公報 特開2000−10300号公報
On the other hand, for the production of a gravure printing roll (gravure cylinder), a technique is known in which diamond-like carbon (DLC) is formed on a copper plating layer on which cells are formed and used as a surface reinforcing coating layer (Patent Documents 1 to 3). ), The DLC layer has a problem that the adhesiveness with copper is weak and easy to peel off. The applicant of the present application has already proposed a technique for forming a gravure printing plate by forming a rubber or resin layer on a hollow roll, forming a diamond-like carbon (DLC) film thereon, and then forming a cell. (Patent Documents 4 to 7).
JP-A-4-282296 JP 2002-172752 A JP 2002-178653 A Japanese Patent Laid-Open No. 11-309950 JP-A-11-327124 JP 2000-15770 A JP 2000-10300 A

本発明は、上述した点に鑑み案出したもので、印刷版、特に、クッション性を有することにより、硬質な被印刷物に対してブランケットロールを用いないダイレクトなグラビア印刷が可能であり、段ボール印刷等、粗面に対するグラビア印刷が良好に行えて、液晶パネル用ガラスへカラーフィルタを構成するためのマトリックス画像をカラー印刷したり、あるいはコンパクトディスク等に画像をカラー印刷するのに好適であるクッション性を有するグラビア版の製造方法を提供することを目的としている。   The present invention has been devised in view of the above points, and has a printing plate, in particular, a cushioning property, so that direct gravure printing can be performed on a hard substrate without using a blanket roll, and cardboard printing. Cushioning that is suitable for gravure printing on rough surfaces, such as matrix printing for color filters on glass for liquid crystal panels, or color printing on compact discs, etc. It aims at providing the manufacturing method of the gravure plate which has.

上記課題を解決するために、本発明のクッション層付グラビア製版ロールは、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を表面に設けた中空ロールと、該クッション層の表面に設けられかつ表面に多数のグラビアセルが形成された銅メッキ層と、該銅メッキ層の表面に設けられた金属層と、該金属層の表面に設けられた当該金属の炭化金属層と、該炭化金属層の表面を被覆するダイヤモンドライクカーボン被膜とを含むことを特徴とする。   In order to solve the above-mentioned problems, a gravure plate-making roll with a cushion layer according to the present invention is provided with a hollow roll provided with a cushion layer made of rubber or a resin having cushioning properties on the surface, and provided on the surface of the cushion layer. Copper plating layer on which a number of gravure cells are formed, a metal layer provided on the surface of the copper plating layer, a metal carbide layer of the metal provided on the surface of the metal layer, and a surface of the metal carbide layer And a diamond-like carbon coating for coating.

本発明のクッション層付グラビア製版ロールの製造方法は、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を表面に設けた中空ロールを準備する工程と、該クッション層の表面に銅メッキ層を形成する銅メッキ工程と、該銅メッキ層の表面に多数のグラビアセルを形成するグラビアセル形成工程と、該銅メッキ層の表面に金属層を形成する金属層形成工程と、該金属層の表面に当該金属の炭化金属層を形成する炭化金属層形成工程と、該炭化金属層の表面にダイヤモンドライクカーボン被膜を形成するダイヤモンドライクカーボン被膜形成工程とを含むことを特徴とする。   The method for producing a gravure printing roll with a cushion layer according to the present invention includes a step of preparing a hollow roll provided with a cushion layer made of rubber or a resin having cushioning properties on the surface, and a copper plating layer is formed on the surface of the cushion layer. A copper plating step, a gravure cell forming step of forming a number of gravure cells on the surface of the copper plating layer, a metal layer forming step of forming a metal layer on the surface of the copper plating layer, and a surface of the metal layer. A metal carbide layer forming step of forming a metal metal carbide layer; and a diamond-like carbon film forming step of forming a diamond-like carbon film on the surface of the metal carbide layer.

前記炭化金属層としては炭化金属傾斜層が好適であり、該炭化金属傾斜層における炭素の組成比が前記金属層側から前記ダイヤモンドライクカーボン被膜方向に対して炭素の比率が徐々に増大するように設定されている。   The metal carbide layer is preferably a metal carbide gradient layer, and the carbon composition ratio in the metal carbide gradient layer is such that the carbon ratio gradually increases from the metal layer side to the diamond-like carbon coating direction. Is set.

前記銅メッキ層の厚さが50〜200μm、前記グラビアセルの深度が5〜150μm、前記金属層の厚さが0.001〜1μm、好ましくは0.001〜0.1μm、より好ましくは0.001〜0.05μm、前記炭化金属層の厚さが0.1〜1μm、及び前記ダイヤモンドライクカーボン被膜の厚さが0.1〜10μmであることが好ましい。   The copper plating layer has a thickness of 50 to 200 μm, the gravure cell has a depth of 5 to 150 μm, and the metal layer has a thickness of 0.001 to 1 μm, preferably 0.001 to 0.1 μm, more preferably 0.00. Preferably, the metal carbide layer has a thickness of 0.1 to 1 μm, and the diamond-like carbon film has a thickness of 0.1 to 10 μm.

前記金属層、前記炭化金属層、好ましくは炭化金属傾斜層及び前記ダイヤモンドライクカーボン被膜をスパッタリング法によってそれぞれ形成することが好適である。   It is preferable that the metal layer, the metal carbide layer, preferably the metal carbide inclined layer, and the diamond-like carbon film are formed by sputtering.

前記金属が炭化可能でありかつ銅と親和性の高い金属であることが好ましい。   The metal is preferably a metal that can be carbonized and has a high affinity for copper.

前記金属が、タングステン(W)、珪素(Si)、チタン(Ti)、クロム(Cr)、タンタル(Ta)、及びジルコニウム(Zr)からなる群から選ばれる一種又は二種以上の金属であることが好適である。   The metal is one or more metals selected from the group consisting of tungsten (W), silicon (Si), titanium (Ti), chromium (Cr), tantalum (Ta), and zirconium (Zr). Is preferred.

前記グラビアセルの形成をエッチング法又は電子彫刻法によって行うことが好ましい。   The gravure cell is preferably formed by an etching method or an electronic engraving method.

本発明によれば、印刷版に、クッション性を持たせることができ、硬質な被印刷物に対してブランケットロールを用いないダイレクトなグラビア印刷が可能であり、液晶パネル用ガラスへカラーフィルタを構成するためのマトリックス画像をカラー印刷したり、あるいはコンパクトディスク等に画像をカラー印刷するのに好適であり、また、段ボール印刷等、粗面に対する印刷も良好にできる。また、本発明によれば、表面強化被覆層としてダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜を用いることにより、クロムメッキ工程を省略することができるので、毒性の高い六価クロムを用いることがなくなり、作業の安全性を図るための余分なコストが不要で、公害発生の心配も全くなく、しかもダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜はクロム層に匹敵する強度を有し耐刷力にも優れるという大きな効果を奏する。   According to the present invention, the printing plate can have cushioning properties, and direct gravure printing can be performed on a hard substrate without using a blanket roll, and a color filter is formed on the glass for a liquid crystal panel. Therefore, it is suitable for color printing a matrix image or color printing an image on a compact disk or the like, and printing on a rough surface such as corrugated cardboard printing can be performed well. In addition, according to the present invention, the use of a diamond-like carbon (DLC) film as the surface-enhanced coating layer eliminates the need for chromium plating, thereby eliminating the use of highly toxic hexavalent chromium. No extra cost for safety is required, there is no concern about pollution, and the diamond-like carbon (DLC) film has a strength equivalent to that of the chromium layer and excellent printing durability. .

以下に本発明の実施の形態を説明するが、これら実施の形態は例示的に示されるもので、本発明の技術思想から逸脱しない限り種々の変形が可能なことはいうまでもない。   Embodiments of the present invention will be described below, but these embodiments are exemplarily shown, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the technical idea of the present invention.

図1は本発明のクッション層付グラビア製版ロールの製造工程を模式的に示す説明図で、(a)はゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を中空ロールの表面に設けた版母材の全体断面図、(b)はクッション層の表面に銅メッキ層を形成した状態を示す部分拡大断面図、(c)は銅メッキ層にグラビアセルを形成した状態を示す部分拡大断面図、(d)は銅メッキ層表面に炭化タングステン層を形成した状態を示す部分拡大断面図、(e)は、金属層表面に炭化金属層を形成した状態を示す部分拡大断面図、(f)は炭化金属層表面にダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜を被覆した状態を示す部分拡大断面図である。図2は本発明のグラビア製版ロールの製造方法を示すフローチャートである。図3は本発明のクッション層付グラビア製版ロールの要部の拡大断面図である。   FIG. 1 is an explanatory view schematically showing a production process of a gravure plate-making roll with a cushion layer according to the present invention. (A) is a plate base material in which a cushion layer made of a rubber or a resin having cushioning properties is provided on the surface of a hollow roll. (B) is a partially enlarged sectional view showing a state in which a copper plating layer is formed on the surface of the cushion layer, (c) is a partially enlarged sectional view showing a state in which a gravure cell is formed in the copper plating layer, d) is a partially enlarged sectional view showing a state in which a tungsten carbide layer is formed on the surface of the copper plating layer, (e) is a partially enlarged sectional view showing a state in which the metal carbide layer is formed on the surface of the metal layer, and (f) is carbonized. It is a partial expanded sectional view which shows the state which coat | covered the diamond-like carbon (DLC) film on the metal layer surface. FIG. 2 is a flowchart showing a method for producing a gravure plate-making roll of the present invention. FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of the main part of the gravure printing roll with a cushion layer of the present invention.

本発明方法を図1〜図3を用いて説明する。図1(a)及び図3において、符号10は版母材で、アルミニウム、鉄、又は炭素繊維強化樹脂(CFRP)等の強化樹脂等からなる中空ロール11aの表面にクッション層11bを設けたものが用いられる(図2のステップ100)。該クッション層11bは、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなり、1mm〜10cm程度の均一な厚さで表面の平滑度が高いシート状のものを、継ぎ目に隙間が開かないように中空ロール11aに巻き付けて強固に接着し、その後精密円筒研削及び鏡面研磨される。該クッション層11bの表面には銅メッキ処理によって銅メッキ層12が形成される(図2のステップ102)。   The method of the present invention will be described with reference to FIGS. 1A and 3, reference numeral 10 denotes a plate base material in which a cushion layer 11 b is provided on the surface of a hollow roll 11 a made of reinforced resin such as aluminum, iron, or carbon fiber reinforced resin (CFRP). Is used (step 100 in FIG. 2). The cushion layer 11b is made of rubber or a resin having cushioning properties, and a sheet-like material having a uniform thickness of about 1 mm to 10 cm and high surface smoothness is formed on the hollow roll 11a so as not to open a gap at the seam. Wound and firmly bonded, then precision cylindrical grinding and mirror polishing. A copper plating layer 12 is formed on the surface of the cushion layer 11b by a copper plating process (step 102 in FIG. 2).

該銅メッキ層12の表面には多数の微小な凹部(グラビアセル)14が形成される(図2のステップ104)。グラビアセル14の形成方法としては、エッチング法(版胴面に感光液を塗布して直接焼き付けた後、エッチングしてグラビアセル14を形成する)や電子彫刻法(デジタル信号によりダイヤモンド彫刻針を機械的に作動させ銅表面にグラビアセル14を彫刻する)等の公知の方法を用いることができるが、エッチング法が好適である。   A large number of minute recesses (gravure cells) 14 are formed on the surface of the copper plating layer 12 (step 104 in FIG. 2). As a method for forming the gravure cell 14, an etching method (a photosensitive liquid is applied to the plate cylinder surface and directly baked and then etched to form the gravure cell 14) or an electronic engraving method (a diamond engraving needle is machined by a digital signal) A known method such as engraving the gravure cell 14 on the copper surface can be used, but an etching method is preferred.

次に、前記グラビアセル14を形成した銅メッキ層12(グラビアセル14を含む)の表面に金属層16を形成する(図2のステップ106)。さらに、この金属層16の表面に当該金属の炭化金属層、好ましくは炭化金属傾斜層18を形成する(図2のステップ108)。金属層16及び炭化金属層、好ましくは炭化金属傾斜層18の形成方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法(エレクトロンビーム法)、イオンプレーティング法、MBE(分子線エピタキシー法)、レーザーアブレーション法、イオンアシスト成膜法、プラズマCVD法等の公知の方法を適用できるが、スパッタリング法が好適である。   Next, a metal layer 16 is formed on the surface of the copper plating layer 12 (including the gravure cell 14) on which the gravure cell 14 is formed (step 106 in FIG. 2). Further, a metal carbide layer of the metal, preferably a metal carbide gradient layer 18 is formed on the surface of the metal layer 16 (step 108 in FIG. 2). As a method for forming the metal layer 16 and the metal carbide layer, preferably the metal carbide inclined layer 18, a sputtering method, a vacuum deposition method (electron beam method), an ion plating method, an MBE (molecular beam epitaxy method), a laser ablation method, Known methods such as ion-assisted film formation and plasma CVD can be applied, but sputtering is preferred.

前記金属としては、炭化可能でありかつ銅と親和性の高い金属が好ましい。この金属としては、タングステン(W)、珪素(Si)、チタン(Ti)、クロム(Cr)、タンタル(Ta)、及びジルコニウム(Zr)等を用いることができる。   The metal is preferably a metal that can be carbonized and has a high affinity for copper. As this metal, tungsten (W), silicon (Si), titanium (Ti), chromium (Cr), tantalum (Ta), zirconium (Zr), or the like can be used.

前記炭化金属層、好ましくは炭化金属傾斜層18における金属は前記金属層16と同一の金属を用いる。炭化金属傾斜層18における炭素の組成比は金属層16側から後述するダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜20方向に対して炭素の比率が徐々に増大するように設定する。つまり、炭素の組成比は0%〜徐々に(段階状もしくは無段階状に)比率を増し、最後はほぼ100%となるように成膜を行う。   As the metal in the metal carbide layer, preferably the metal carbide inclined layer 18, the same metal as the metal layer 16 is used. The composition ratio of carbon in the metal carbide inclined layer 18 is set so that the ratio of carbon gradually increases from the metal layer 16 side toward the diamond-like carbon (DLC) coating 20 described later. That is, film formation is performed so that the composition ratio of carbon increases from 0% to gradually (stepwise or steplessly), and finally becomes approximately 100%.

この場合、炭化金属層、好ましくは炭化金属傾斜層18中の炭素の組成比の調整方法は公知の方法を用いればよいが、例えば、スパッタリング法(固体金属ターゲットを用い、アルゴンガス雰囲気で炭化水素ガス、例えば、メタンガス、エタンガス、プロパンガス、ブタンガス、アセチレンガス等の注入量を階段状又は無段階状に徐々に増大する)によって、炭化金属層18中の炭素の割合が銅メッキ層12の側からダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜20方向に対して階段状又は無段階状に徐々に増大するように炭素及び金属の両者の組成割合を変化させた炭化金属層、即ち炭化金属傾斜層18を形成することができる。   In this case, a known method may be used to adjust the composition ratio of carbon in the metal carbide layer, preferably the metal carbide inclined layer 18. For example, a sputtering method (using a solid metal target and hydrocarbon in an argon gas atmosphere) Gas, for example, methane gas, ethane gas, propane gas, butane gas, acetylene gas, or the like, is gradually increased stepwise or steplessly to increase the ratio of carbon in the metal carbide layer 18 to the copper plating layer 12 side. A metal carbide layer in which the composition ratio of both carbon and metal is changed so as to gradually increase stepwise or steplessly with respect to the diamond-like carbon (DLC) coating 20 direction, that is, a metal carbide inclined layer 18 is formed. can do.

このように炭化金属層18の炭素の割合を調整することによって金属層16及びダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜20の双方に対する炭化金属層18の密着度を向上させることができる。また、炭化水素ガスの注入量を一定とすれば、炭素及び金属の組成割合を一定とした炭化金属層とすることができ、炭化金属傾斜層と同様の作用を行わせることができる。   By adjusting the carbon ratio of the metal carbide layer 18 in this manner, the adhesion of the metal carbide layer 18 to both the metal layer 16 and the diamond-like carbon (DLC) film 20 can be improved. Further, if the injection amount of hydrocarbon gas is constant, a metal carbide layer having a constant composition ratio of carbon and metal can be obtained, and the same action as that of the metal carbide gradient layer can be performed.

続いて、前記炭化金属層、好ましくは炭化金属傾斜層18の表面にダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜20を被覆形成する(図2のステップ110)。ダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜20の形成方法としては、金属層16及び炭化金属層、好ましくは炭化金属傾斜層18の形成と同様に、スパッタリング法、真空蒸着法(エレクトロンビーム法)、イオンプレーティング法、MBE(分子線エピタキシー法)、レーザーアブレーション法、イオンアシスト成膜法、プラズマCVD法等の公知の方法を適用できるが、スパッタリング法が好適である。   Subsequently, a diamond-like carbon (DLC) film 20 is formed on the surface of the metal carbide layer, preferably the metal carbide inclined layer 18 (step 110 in FIG. 2). As a method for forming the diamond-like carbon (DLC) film 20, as in the formation of the metal layer 16 and the metal carbide layer, preferably the metal carbide inclined layer 18, a sputtering method, a vacuum deposition method (electron beam method), an ion plating method. Known methods such as a method, MBE (molecular beam epitaxy method), laser ablation method, ion-assisted film formation method, plasma CVD method and the like can be applied, but a sputtering method is preferable.

上記したダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜20を被覆し、このダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜20を表面強化被覆層として作用させることによって、毒性がなくかつ公害発生の心配も皆無となるとともに耐刷力に優れたグラビア製版ロール10aを得ることができる。   By coating the diamond-like carbon (DLC) film 20 and causing the diamond-like carbon (DLC) film 20 to act as a surface-enhanced coating layer, there is no toxicity and no concern about the occurrence of pollution, and printing durability. Can be obtained.

ここで、スパッタリング法は、薄膜にしたい材料(ターゲット材料)にイオンをぶつけると材料がはね飛ばされるが、このはね飛ばされた材料を基板上に堆積させ薄膜を作製する方法であり、ターゲット材料の制約が少なく、薄膜を大面積に再現性よく作製できるなどの特徴がある。   Here, the sputtering method is a method for producing a thin film by depositing the splashed material on a substrate when ions are struck against a material (target material) to be formed into a thin film. There are few restrictions on materials, and the thin film can be manufactured in a large area with good reproducibility.

真空蒸着法(エレクトロンビーム法)は、薄膜にしたい材料に電子ビームを照射し加熱蒸発させ、この蒸発させた材料を基板上に付着(堆積)させ、薄膜を作製する方法であり、成膜速度が速く基板へのダメージが少ない等の特徴がある。   The vacuum deposition method (electron beam method) is a method for producing a thin film by irradiating a material to be thinned with an electron beam, evaporating it by heating, and depositing (depositing) the evaporated material on a substrate. There are features such as fast and less damage to the substrate.

イオンプレーティング法は、薄膜にしたい材料を蒸発させた後、高周波(RF)(RFイオンプレーティング法)又はアーク(アークイオンプレーティング法)によりイオン化させた基板上に堆積させ薄膜を作製する方法であり、成膜速度が速い、付着強度が大きい等の特徴がある。   In the ion plating method, a material to be thinned is evaporated and then deposited on a substrate ionized by radio frequency (RF) (RF ion plating method) or arc (arc ion plating method) to produce a thin film. There are features such as a high deposition rate and high adhesion strength.

分子線エピタキシー法は、超高真空中で原料物質を蒸発させ、加熱した基板上へ供給し薄膜を形成する方法である。   The molecular beam epitaxy method is a method in which a raw material is evaporated in an ultrahigh vacuum and supplied onto a heated substrate to form a thin film.

レーザーアブレーション法は、ターゲットに高密度化したレーザーパルスを入射することによりイオンを放出させ、対向の基板上に薄膜を形成する方法である。   The laser ablation method is a method in which ions are emitted by making a high-density laser pulse incident on a target to form a thin film on an opposing substrate.

イオンアシスト成膜法は、真空容器内に蒸発源とイオン源とを設置し、イオンを補助的に利用して成膜する方法である。   The ion-assisted film formation method is a method in which an evaporation source and an ion source are installed in a vacuum vessel and a film is formed using ions supplementarily.

プラズマCVD法は、減圧下でCVD法を行う際により低温で薄膜形成を行う目的から、プラズマ励起を利用して原料ガスを分解させ、基板上で反応堆積させる方法である。   The plasma CVD method is a method in which a source gas is decomposed using plasma excitation and reactively deposited on a substrate for the purpose of forming a thin film at a lower temperature when the CVD method is performed under reduced pressure.

以下に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、これらの実施例は例示的に示されるもので限定的に解釈されるべきでないことはいうまでもない。
(実施例1)
ブーメランライン(株式会社シンク・ラボラトリー製グラビア製版ロール製造装置)を用いて下記する銅メッキ層の形成及びエッチング処理までを行った。まず、円周600mm、面長1100mmのアルミ中空ロールの表面に厚さ5cmのシリコンゴム層を巻き付けて形成したクッション層付版母材を準備した。この版母材をメッキ槽に装着し、陽極室をコンピューターシステムによる自動スライド装置で20mmまで中空ロールに近接させ、メッキ液をオーバーフローさせ、版母材を全没させて18A/dm2、6.0Vで80μmの銅メッキ層を形成した。メッキ時間は20分、メッキ表面はブツやピットの発生がなく、均一な銅メッキ層を得た。この銅メッキ層の表面を4H研磨機(株式会社シンク・ラボラトリー製研磨機)を用いて12分間研磨して当該銅メッキ層の表面を均一な研磨面とした。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. However, it is needless to say that these examples are shown by way of illustration and should not be construed in a limited manner.
Example 1
Using a boomerang line (a gravure plate making apparatus manufactured by Sink Laboratories, Inc.), formation of a copper plating layer and etching treatment described below were performed. First, a plate base material with a cushion layer formed by winding a silicon rubber layer having a thickness of 5 cm around the surface of an aluminum hollow roll having a circumference of 600 mm and a surface length of 1100 mm was prepared. This plate base material is mounted on a plating tank, the anode chamber is brought close to a hollow roll up to 20 mm by an automatic slide device by a computer system, the plating solution is overflowed, and the plate base material is completely submerged to be 18 A / dm 2 , 6. An 80 μm copper plating layer was formed at 0V. The plating time was 20 minutes, and the surface of the plating was free of spots and pits, and a uniform copper plating layer was obtained. The surface of the copper plating layer was polished for 12 minutes using a 4H polishing machine (Sink Laboratory polishing machine) to make the surface of the copper plating layer a uniform polishing surface.

上記形成した銅メッキ層に感光膜(サーマルレジスト:TSER−2104E4)を塗布(フオンテインコーター)、乾燥した。得られた感光膜の膜厚は膜厚計(FILLMETRICS社製F20、松下テクノトレーデイング社販売)で計ったところ、4μmであった。ついで、画像をレーザー露光し現像した。上記レーザー露光は、Laser Stream FXを用い露光条件5分/m2/10Wで所定のパターン露光を行った。また、上記現像は、TLD現像液(株式会社シンク・ラボラトリー製現像液)を用い、現像液希釈比率(原液1:水7)で、24℃60秒間行い、所定のパターンを形成した。このパターンを乾燥(バーニング)してレジスト画像を形成した。 A photosensitive film (thermal resist: TSER-2104E4) was applied to the copper plating layer formed above (fonte coater) and dried. The film thickness of the obtained photosensitive film was 4 μm as measured by a film thickness meter (F20 manufactured by FILLMETRICS, sold by Matsushita Techno Trading). The image was then developed with laser exposure. It said laser exposure was carried out a predetermined pattern exposed in the exposure condition 5 min / m 2/10 W using a Laser Stream FX. The development was performed at 24 ° C. for 60 seconds at a developer dilution ratio (stock solution 1: water 7) using a TLD developer (Sink Laboratory Co., Ltd. developer) to form a predetermined pattern. This pattern was dried (burned) to form a resist image.

さらに、シリンダーエッチングを行ってグラビアセルからなる画像を彫り込み、その後レジスト画像を取り除くことにより印刷版を形成した。このとき、グラビアセルの深度を5μmとしてシリンダーを作製した。上記エッチングは、銅濃度60g/L、塩酸濃度35g/L、温度37℃、時間70秒の条件でスプレー方式によって行った。   Further, cylinder printing was performed to engrave an image composed of gravure cells, and then the resist image was removed to form a printing plate. At this time, a cylinder was manufactured with a gravure cell depth of 5 μm. The etching was performed by a spray method under the conditions of a copper concentration of 60 g / L, a hydrochloric acid concentration of 35 g / L, a temperature of 37 ° C., and a time of 70 seconds.

このグラビアセルを形成した銅メッキ層の上面にスパッタリング法によってタングステン(W)層を形成した。スパッタリング条件は次の通りである。タングステン(W)試料:固体タングステンターゲット、雰囲気:アルゴンガス雰囲気、成膜温度:200〜300℃、成膜時間:60分、成膜厚さ:0.03μm。   A tungsten (W) layer was formed by sputtering on the upper surface of the copper plating layer on which the gravure cell was formed. The sputtering conditions are as follows. Tungsten (W) sample: solid tungsten target, atmosphere: argon gas atmosphere, deposition temperature: 200 to 300 ° C., deposition time: 60 minutes, deposition thickness: 0.03 μm.

次に、タングステン(W)層の上面に炭化タングステン層を形成した。スパッタリング条件は次の通りである。タングステン(W)試料:固体タングステンターゲット、雰囲気:アルゴンガス雰囲気で炭化水素ガスを徐々に増加、成膜温度:200〜300℃、成膜時間:60分、成膜厚さ:0.1μm。   Next, a tungsten carbide layer was formed on the top surface of the tungsten (W) layer. The sputtering conditions are as follows. Tungsten (W) sample: solid tungsten target, atmosphere: hydrocarbon gas gradually increased in an argon gas atmosphere, film formation temperature: 200 to 300 ° C., film formation time: 60 minutes, film formation thickness: 0.1 μm.

さらに、炭化タングステン層の上面にスパッタリング法によってダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜を被覆形成した。スパッタリング条件は次の通りである。DLC試料:固体カーボンターゲット、雰囲気:アルゴンガス雰囲気、成膜温度:200〜300℃、成膜時間:150分、成膜厚さ:1μm。このようにして、グラビア製版ロール(グラビアシリンダー)を完成した。   Further, a diamond-like carbon (DLC) film was formed on the upper surface of the tungsten carbide layer by sputtering. The sputtering conditions are as follows. DLC sample: solid carbon target, atmosphere: argon gas atmosphere, film formation temperature: 200 to 300 ° C., film formation time: 150 minutes, film formation thickness: 1 μm. In this way, a gravure printing roll (gravure cylinder) was completed.

続いて、得られたグラビアシリンダーに対して印刷インキとしてシアンインキザーンカップ粘度18秒(サカタインクス社製水性インクスーパーラミピュア藍800PR−5)を適用しOPPフィルム(Oriented Polypropylene Film:2軸延伸ポリプロピレンフィルム)を用いて印刷テスト(印刷速度:120m/分)を行った。得られた印刷物は版カブリがなく、50,000mの長さまで印刷できた。パターンの精度は変化がなかった。また、エッチングされた銅メッキシリンダーに対するDLC被膜の密着性は問題がなかった。この本発明のグラビアシリンダーのハイライト部からシャドウ部のグラデーションは、常法に従って作製したクロムメッキグラビアシリンダーと変わらなかったことからインキ転移性は問題ないと判断される。この結果として、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜は従来のクロム層に匹敵する性能を有し、クロム層代替品として充分使用できることを確認した。
(実施例2)
実施例1と同様にしてグラビアセルの深度を5μmとしたシリンダーを作製した。このシリンダーに対してタングステン(W)試料を珪素(Si)試料に変更した以外は実施例1と同様にしてクッション層付グラビア製版ロールを完成し、同様に印刷テストを行ったところ、同様に版カブリがない等の同等の印刷性能を有することが判明した。この結果、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜は従来のクロム層に匹敵する性能を有し、クロム層代替品として充分使用できることを確認した。なお、金属試料として、チタン(Ti)、クロム(Cr)を用いて同様の実験を行い、同様の結果が得られることを確認した。
Subsequently, a cyan ink Zahn cup viscosity 18 seconds (water-based ink super rampy pure indigo 800PR-5 manufactured by Sakata Inx Co., Ltd.) was applied as a printing ink to the obtained gravure cylinder, and an OPP film (Oriented Polypropylene Film: biaxially oriented polypropylene film) ) Was used to perform a printing test (printing speed: 120 m / min). The obtained printed matter had no plate fog and could be printed up to a length of 50,000 m. The accuracy of the pattern did not change. Moreover, there was no problem in the adhesion of the DLC film to the etched copper plating cylinder. Since the gradation from the highlight portion to the shadow portion of the gravure cylinder of the present invention was not different from that of the chrome-plated gravure cylinder produced according to a conventional method, it is determined that there is no problem in ink transferability. As a result, it was confirmed that the diamond-like carbon (DLC) film has a performance comparable to that of the conventional chromium layer and can be sufficiently used as a substitute for the chromium layer.
(Example 2)
A cylinder having a gravure cell depth of 5 μm was produced in the same manner as in Example 1. A gravure plate-making roll with a cushion layer was completed in the same manner as in Example 1 except that the tungsten (W) sample was changed to a silicon (Si) sample for this cylinder, and a printing test was conducted in the same manner. It was found to have equivalent printing performance such as no fog. As a result, it was confirmed that the diamond-like carbon (DLC) film has a performance comparable to that of the conventional chromium layer and can be sufficiently used as a substitute for the chromium layer. In addition, the same experiment was performed using titanium (Ti) and chromium (Cr) as a metal sample, and it was confirmed that the same result was obtained.

本発明のクッション層付グラビア製版ロールの製造工程を模式的に示す説明図で、(a)はゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を中空ロールの表面に設けた版母材の全体断面図、(b)はクッション層の表面に銅メッキ層を形成した状態を示す部分拡大断面図、(c)は銅メッキ層にグラビアセルを形成した状態を示す部分拡大断面図、(d)は銅メッキ層表面に炭化タングステン層を形成した状態を示す部分拡大断面図、(e)は、金属層表面に炭化金属層を形成した状態を示す部分拡大断面図、(f)は炭化金属層表面にダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜を被覆した状態を示す部分拡大断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is explanatory drawing which shows typically the manufacturing process of the gravure plate-making roll with a cushion layer of this invention, (a) is the whole cross section of the plate base material which provided the cushion layer which consists of resin which has rubber | gum or cushioning properties on the surface of a hollow roll (B) is a partially enlarged sectional view showing a state in which a copper plating layer is formed on the surface of the cushion layer, (c) is a partially enlarged sectional view showing a state in which a gravure cell is formed in the copper plating layer, and (d) is a drawing. The partial expanded sectional view which shows the state which formed the tungsten carbide layer in the copper plating layer surface, (e) is the partial expanded sectional view which shows the state in which the metal carbide layer was formed in the metal layer surface, (f) is the metal carbide layer surface It is a partial expanded sectional view which shows the state which coat | covered the diamond-like carbon (DLC) film on. 本発明のグラビア製版ロールの製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the gravure printing roll of this invention. 本発明のクッション層付グラビア製版ロールの要部の拡大断面図である。It is an expanded sectional view of the important section of the gravure plate-making roll with a cushion layer of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

10:版母材(ゴムロール等)、10a:グラビア製版ロール、11a:中空ロール、11b:クッション層、12:銅メッキ層、14:グラビアセル、16:金属層、18:炭化金属層、好ましくは炭化金属傾斜層、20:ダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜。 10: Plate base material (rubber roll, etc.), 10a: Gravure plate roll, 11a: Hollow roll, 11b: Cushion layer, 12: Copper plating layer, 14: Gravure cell, 16: Metal layer, 18: Metal carbide layer, preferably Metal carbide gradient layer, 20: Diamond-like carbon (DLC) coating.

Claims (12)

ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を表面に設けた中空ロールと、該クッション層の表面に設けられかつ表面に多数のグラビアセルが形成された銅メッキ層と、該銅メッキ層の表面に設けられた金属層と、該金属層の表面に設けられた当該金属の炭化金属層と、該炭化金属層の表面を被覆するダイヤモンドライクカーボン被膜とを含むことを特徴とするクッション層付グラビア製版ロール。   A hollow roll provided with a cushion layer made of rubber or a resin having cushioning properties on the surface, a copper plated layer provided on the surface of the cushion layer and having a number of gravure cells formed on the surface, and a surface of the copper plated layer A gravure with a cushion layer, comprising: a metal layer provided on the metal layer; a metal carbide layer of the metal provided on a surface of the metal layer; and a diamond-like carbon film covering the surface of the metal carbide layer. Plate making roll. 前記炭化金属層が、炭化金属傾斜層であって、該炭化金属傾斜層における炭素の組成比が前記金属層側から前記ダイヤモンドライクカーボン被膜方向に対して炭素の比率が徐々に増大するように設定されていることを特徴とする請求項1記載のクッション層付グラビア製版ロール。   The metal carbide layer is a metal carbide inclined layer, and the composition ratio of carbon in the metal carbide inclined layer is set so that the carbon ratio gradually increases from the metal layer side to the diamond-like carbon coating direction. The gravure printing roll with a cushion layer according to claim 1, wherein the roll is a gravure printing roll. 前記銅メッキ層の厚さが50〜200μm、前記グラビアセルの深度が5〜150μm、前記金属層の厚さが0.001〜1μm、前記炭化金属層の厚さが0.1〜1μm、及び前記ダイヤモンドライクカーボン被膜の厚さが0.1〜10μmであることを特徴とする請求項1又は2記載のクッション層付グラビア製版ロール。   The copper plating layer has a thickness of 50 to 200 μm, the gravure cell has a depth of 5 to 150 μm, the metal layer has a thickness of 0.001 to 1 μm, the metal carbide layer has a thickness of 0.1 to 1 μm, and The gravure printing roll with a cushion layer according to claim 1 or 2, wherein the diamond-like carbon coating has a thickness of 0.1 to 10 µm. 前記金属が炭化可能でありかつ銅と親和性の高い金属であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載のクッション層付グラビア製版ロール。   The gravure plate-making roll with a cushion layer according to any one of claims 1 to 3, wherein the metal is a metal that can be carbonized and has a high affinity for copper. 前記金属が、タングステン(W)、珪素(Si)、チタン(Ti)、クロム(Cr)、タンタル(Ta)、及びジルコニウム(Zr)からなる群から選ばれる一種又は二種以上の金属であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載のクッション層付グラビア製版ロール。   The metal is one or more metals selected from the group consisting of tungsten (W), silicon (Si), titanium (Ti), chromium (Cr), tantalum (Ta), and zirconium (Zr). The gravure plate-making roll with a cushion layer of any one of Claims 1-4 characterized by these. ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を表面に設けた中空ロールを準備する工程と、該クッション層の表面に銅メッキ層を形成する銅メッキ工程と、該銅メッキ層の表面に多数のグラビアセルを形成するグラビアセル形成工程と、該銅メッキ層の表面に金属層を形成する金属層形成工程と、該金属層の表面に当該金属の炭化金属層を形成する炭化金属層形成工程と、該炭化金属層の表面にダイヤモンドライクカーボン被膜を形成するダイヤモンドライクカーボン被膜形成工程とを含むことを特徴とするクッション層付グラビア製版ロールの製造方法。   A step of preparing a hollow roll provided with a cushion layer made of rubber or a resin having cushioning properties on the surface, a copper plating step of forming a copper plating layer on the surface of the cushion layer, and a number of surfaces on the surface of the copper plating layer A gravure cell forming step for forming a gravure cell, a metal layer forming step for forming a metal layer on the surface of the copper plating layer, and a metal carbide layer forming step for forming a metal carbide layer of the metal on the surface of the metal layer; And a diamond-like carbon coating film forming step of forming a diamond-like carbon film on the surface of the metal carbide layer. 前記炭化金属層が、炭化金属傾斜層であって、該炭化金属傾斜層における炭素の組成比が前記金属層側から前記ダイヤモンドライクカーボン被膜方向に対して炭素の比率が徐々に増大するように設定することを特徴とする請求項6記載のクッション層付グラビア製版ロールの製造方法。   The metal carbide layer is a metal carbide inclined layer, and the composition ratio of carbon in the metal carbide inclined layer is set so that the carbon ratio gradually increases from the metal layer side to the diamond-like carbon coating direction. The manufacturing method of the gravure printing roll with a cushion layer of Claim 6 characterized by the above-mentioned. 前記銅メッキ層の厚さが50〜200μm、前記グラビアセルの深度が5〜150μm、前記金属層の厚さが0.001〜1μm、前記炭化金属層の厚さが0.1〜1μm、及び前記ダイヤモンドライクカーボン被膜の厚さが0.1〜10μmであることを特徴とする請求項6又は7記載のクッション層付グラビア製版ロールの製造方法。   The copper plating layer has a thickness of 50 to 200 μm, the gravure cell has a depth of 5 to 150 μm, the metal layer has a thickness of 0.001 to 1 μm, the metal carbide layer has a thickness of 0.1 to 1 μm, and The method for producing a gravure printing roll with a cushion layer according to claim 6 or 7, wherein the diamond-like carbon film has a thickness of 0.1 to 10 µm. 前記金属層、前記炭化金属層及び前記ダイヤモンドライクカーボン被膜をスパッタリング法によってそれぞれ形成することを特徴とする請求項6〜8のいずれか1項記載のクッション層付グラビア製版ロールの製造方法。   The method for producing a gravure plate-making roll with a cushion layer according to any one of claims 6 to 8, wherein the metal layer, the metal carbide layer, and the diamond-like carbon film are formed by sputtering. 前記金属が炭化可能でありかつ銅と親和性の高い金属であることを特徴とする請求項6〜9のいずれか1項記載のクッション層付グラビア製版ロールの製造方法。   The method for producing a gravure plate-making roll with a cushion layer according to any one of claims 6 to 9, wherein the metal is carbonizable and has a high affinity for copper. 前記金属が、タングステン(W)、珪素(Si)、チタン(Ti)、クロム(Cr)、タンタル(Ta)、及びジルコニウム(Zr)からなる群から選ばれる一種又は二種以上の金属であることを特徴とする請求項6〜10のいずれか1項記載のクッション層付グラビア製版ロールの製造方法。   The metal is one or more metals selected from the group consisting of tungsten (W), silicon (Si), titanium (Ti), chromium (Cr), tantalum (Ta), and zirconium (Zr). The manufacturing method of the gravure printing roll with a cushion layer of any one of Claims 6-10 characterized by these. 前記グラビアセルの形成をエッチング法又は電子彫刻法によって行うことを特徴とする請求項6〜11のいずれか1項記載のクッション層付グラビア製版ロールの製造方法。   The method for producing a gravure printing roll with a cushion layer according to any one of claims 6 to 11, wherein the gravure cell is formed by an etching method or an electronic engraving method.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010119831A1 (en) * 2009-04-13 2010-10-21 株式会社シンク・ラボラトリー Gravure platemaking roll and method of producing same
WO2011004758A1 (en) * 2009-07-09 2011-01-13 株式会社シンク・ラボラトリー Solar battery manufacturing method and solar battery
CN104407455A (en) * 2014-11-05 2015-03-11 长沙市宇顺显示技术有限公司 Liquid crystal panel manufacturing method and liquid crystal panel
WO2015076180A1 (en) * 2013-11-25 2015-05-28 株式会社シンク・ラボラトリー Roll with pattern and method for producing same
KR20210027694A (en) * 2019-09-02 2021-03-11 (주)한두패키지 A method of manufacturing gravure roll and a gravure roll manufactured by the same

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0726380A (en) * 1993-07-12 1995-01-27 Daikin Ind Ltd Thin diamondlike carbon film formed body and its production
JPH10203896A (en) * 1997-01-17 1998-08-04 Mitsubishi Electric Corp Member having diamond-like carbon thin film formed thereon and its formation
JPH11314470A (en) * 1998-05-02 1999-11-16 Think Laboratory Co Ltd Intaglio plate having cushion property
JP2000119843A (en) * 1998-10-12 2000-04-25 Kobe Steel Ltd Diamondlike carbon hard multilayer formed body
JP2002172752A (en) * 2000-12-06 2002-06-18 Utec:Kk Doctor blade and printing plate
JP2003214444A (en) * 2002-01-22 2003-07-30 Nsk Ltd Rolling sliding member and rolling device
JP2004130718A (en) * 2002-10-11 2004-04-30 Nikka Kk Plate cylinder and rotary press
JP2004339564A (en) * 2003-05-15 2004-12-02 Toyota Motor Corp Sliding member and film deposition method

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0726380A (en) * 1993-07-12 1995-01-27 Daikin Ind Ltd Thin diamondlike carbon film formed body and its production
JPH10203896A (en) * 1997-01-17 1998-08-04 Mitsubishi Electric Corp Member having diamond-like carbon thin film formed thereon and its formation
JPH11314470A (en) * 1998-05-02 1999-11-16 Think Laboratory Co Ltd Intaglio plate having cushion property
JP2000119843A (en) * 1998-10-12 2000-04-25 Kobe Steel Ltd Diamondlike carbon hard multilayer formed body
JP2002172752A (en) * 2000-12-06 2002-06-18 Utec:Kk Doctor blade and printing plate
JP2003214444A (en) * 2002-01-22 2003-07-30 Nsk Ltd Rolling sliding member and rolling device
JP2004130718A (en) * 2002-10-11 2004-04-30 Nikka Kk Plate cylinder and rotary press
JP2004339564A (en) * 2003-05-15 2004-12-02 Toyota Motor Corp Sliding member and film deposition method

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010119831A1 (en) * 2009-04-13 2010-10-21 株式会社シンク・ラボラトリー Gravure platemaking roll and method of producing same
JP2010247375A (en) * 2009-04-13 2010-11-04 Think Laboratory Co Ltd Gravure plate making roll and method for manufacturing the same
WO2011004758A1 (en) * 2009-07-09 2011-01-13 株式会社シンク・ラボラトリー Solar battery manufacturing method and solar battery
JP5788794B2 (en) * 2009-07-09 2015-10-07 株式会社シンク・ラボラトリー Manufacturing method of solar cell
WO2015076180A1 (en) * 2013-11-25 2015-05-28 株式会社シンク・ラボラトリー Roll with pattern and method for producing same
JPWO2015076180A1 (en) * 2013-11-25 2017-03-16 株式会社シンク・ラボラトリー Manufacturing method of roll with pattern
CN104407455A (en) * 2014-11-05 2015-03-11 长沙市宇顺显示技术有限公司 Liquid crystal panel manufacturing method and liquid crystal panel
KR20210027694A (en) * 2019-09-02 2021-03-11 (주)한두패키지 A method of manufacturing gravure roll and a gravure roll manufactured by the same
KR102231267B1 (en) 2019-09-02 2021-03-24 (주)한두패키지 A method of manufacturing gravure roll

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