JP2007099699A - Sunscreen cosmetic - Google Patents

Sunscreen cosmetic Download PDF

Info

Publication number
JP2007099699A
JP2007099699A JP2005292493A JP2005292493A JP2007099699A JP 2007099699 A JP2007099699 A JP 2007099699A JP 2005292493 A JP2005292493 A JP 2005292493A JP 2005292493 A JP2005292493 A JP 2005292493A JP 2007099699 A JP2007099699 A JP 2007099699A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
ethylhexyloxy
hydroxy
oil
benzotriazole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2005292493A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Abe
公司 阿部
Mare Oguchi
希 小口
Isao Yajima
勲 矢島
Hidefumi Araki
秀文 荒木
Hiroyuki Kaneki
宏之 鹿子木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shiseido Co Ltd
Original Assignee
Shiseido Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shiseido Co Ltd filed Critical Shiseido Co Ltd
Priority to JP2005292493A priority Critical patent/JP2007099699A/en
Priority to PCT/JP2006/319447 priority patent/WO2007040171A1/en
Priority to EP06810853A priority patent/EP1944012A1/en
Priority to US11/991,350 priority patent/US20090169494A1/en
Priority to KR1020077030070A priority patent/KR20080056114A/en
Priority to CNA2006800366187A priority patent/CN101277676A/en
Publication of JP2007099699A publication Critical patent/JP2007099699A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sunscreen cosmetic containing sufficiently dissolved 2,4-bis[[4-(2-ethylhexyloxy)-2-hydroxy]phenyl]-6-(4-methoxyphenyl)-1,3,5-triazine having low solubility and high crystallinity, exhibiting excellent UV-A absorption and having extremely excellent stability. <P>SOLUTION: The sunscreen cosmetic contains 2,4-bis[[4-(2-ethylhexyloxy)-2-hydroxy]phenyl]-6-(4-methoxyphenyl)-1,3,5-triazine and a benzotriazole derivative expressed by general formula (I) (R' is a 1-6C straight-chain alkyl; and R" is a 1-3C straight-chain alkyl). <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は日焼け止め化粧料に関するものである。さらに詳しくは、特定の粉末固体状の紫外線吸収剤の溶解能に優れ、UV−A領域の吸収能に特に優れた日焼け止め化粧料に関する。   The present invention relates to a sunscreen cosmetic. More specifically, the present invention relates to a sunscreen cosmetic that is excellent in the dissolving ability of a specific powder solid ultraviolet absorber and particularly excellent in the absorbing ability in the UV-A region.

日焼け止め化粧料による重要な紫外線吸収波長領域は、UV−A領域(320〜400nm)とUV−B領域(290〜320nm)である。そして、UV−A領域(320〜400nm)の紫外線は皮膚を黒く侵すが、UV−B領域(290〜320nm)の紫外線のようにサンバーンを起こし、皮膚の老化を促進させるものではないと考えられていた。ところが近年になってUV−B領域の紫外線が比較的、皮膚の表面部分にとどまるのに対してUV−A領域の紫外線が、皮膚の深部にまで達し、皮膚の老化はもとより皮膚癌を誘発する原因となることがわかってきた。   The important ultraviolet absorption wavelength regions by sunscreen cosmetics are the UV-A region (320 to 400 nm) and the UV-B region (290 to 320 nm). UV rays in the UV-A region (320 to 400 nm) invade the skin black, but it is considered that sunburn occurs like the ultraviolet rays in the UV-B region (290 to 320 nm) and does not promote skin aging. It was. However, in recent years, ultraviolet rays in the UV-B region stay relatively on the surface of the skin, whereas ultraviolet rays in the UV-A region reach the deep part of the skin, and induce skin cancer as well as skin aging. It has been found to be the cause.

今日までに使用されてきた化粧料用紫外線吸収剤は、構造面から分類すると、(1)安息香酸誘導体、(2)ケイ皮酸誘導体、(3)ベンゾフェノン誘導体、(4)ジベンゾイルメタン誘導体、(5)サリチル酸誘導体等がある。そして近年は、(2)と(4)の紫外線吸収剤が多用されている。   Cosmetic UV absorbers that have been used to date are classified according to the structure: (1) benzoic acid derivatives, (2) cinnamic acid derivatives, (3) benzophenone derivatives, (4) dibenzoylmethane derivatives, (5) Salicylic acid derivatives and the like. In recent years, the ultraviolet absorbers (2) and (4) are frequently used.

しかしながら、上記にあげた紫外線吸収剤は、実用面から見るとそれぞれに問題がある。例えば、(1)の安息香酸誘導体では、例えばp−ジメチルアミノ安息香酸−2−エチルヘキシルは、液状、透明であり、扱いやすい長所はあるが、これらの誘導体を含めて安全性の疑いがあり、近年は使用されていない。また、極大吸収波長が290nm付近にあり、UV−B領域のみの紫外線を吸収する。   However, the ultraviolet absorbers listed above have their respective problems from a practical standpoint. For example, in the benzoic acid derivative of (1), for example, p-dimethylaminobenzoic acid-2-ethylhexyl is liquid and transparent, and has advantages that it is easy to handle, but there is a suspicion of safety including these derivatives. It has not been used in recent years. Further, the maximum absorption wavelength is in the vicinity of 290 nm, and the ultraviolet ray only in the UV-B region is absorbed.

(2)のケイ皮酸誘導体では、現在市販されているサンケア化粧品に最もよく使用されている紫外線吸収剤として、p−メトキシケイ皮酸−2−エチルヘキシルエステルがある。極大吸収波長は310nm付近にあり、吸収域がUV−A領域には及ばない。また、日光により変質して着色性や紫外線防御効果の持続性に問題がある。   In the cinnamic acid derivative (2), there is p-methoxycinnamic acid-2-ethylhexyl ester as an ultraviolet absorber most frequently used in sun care cosmetics currently on the market. The maximum absorption wavelength is around 310 nm, and the absorption region does not reach the UV-A region. In addition, the color changes due to sunlight and there is a problem in the sustainability of the coloring property and the UV protection effect.

(3)のベンゾフェノン誘導体では、例えば2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノンがUV−A、UV−B領域にわたって吸収があり、比較的皮膚外用剤基剤への溶解性も良いが、極大吸収波長がややUV−B領域に近いところにあり、吸光度もあまり大きくない。また近年では基本骨格の構造物(ベンゾフェノン)が環境ホルモンとして指摘されていて、その使用が敬遠されている。   In the benzophenone derivative of (3), for example, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone has absorption over the UV-A and UV-B regions and has relatively good solubility in a skin external preparation base, but has a maximum absorption wavelength. Slightly close to the UV-B region and the absorbance is not very large. In recent years, a basic skeleton structure (benzophenone) has been pointed out as an environmental hormone and its use has been avoided.

(4)のジベンゾイルメタン誘導体では、4−tert−ブトキシ−4−メトキシジベンゾイルメタンがよく皮膚外用剤に使用されている。極大吸収が360nm付近にあり、吸光度も大きく、UV−A領域の紫外線吸収剤として優れている。しかしながら、光安定性に問題があり、皮膚外用剤用の油分に対しての相溶性が悪く、少量しか混合できない。   Of the dibenzoylmethane derivatives of (4), 4-tert-butoxy-4-methoxydibenzoylmethane is often used as a skin external preparation. The maximum absorption is in the vicinity of 360 nm, the absorbance is large, and it is excellent as an ultraviolet absorber in the UV-A region. However, there is a problem in light stability, the compatibility with the oil for skin external preparation is poor, and only a small amount can be mixed.

(5)のサリチル酸誘導体では、サリチル酸オクチルが使われている。UV−B領域に極大吸収波長をもち、オイル状であり、パラフィンオイル等の相溶性に優れるが吸光度が低いため、あまり実用化されていない。   In the salicylic acid derivative (5), octyl salicylate is used. It has a maximum absorption wavelength in the UV-B region, is oily, and is excellent in compatibility with paraffin oil or the like, but is not practically used because of its low absorbance.

このため、UV−B領域においては、(2)のp−メトキシケイ皮酸−2−エチルヘキシルが、UV−A領域に関しては(4)の4−tert−ブトキシ−4−メトキシジベンゾイルメタンが使用されることが多い。特に近年では、UV−A領域の紫外線吸収に対する要求が高まっている。   For this reason, 2-ethylhexyl p-methoxycinnamate (2) is used in the UV-B region, and 4-tert-butoxy-4-methoxydibenzoylmethane (4) is used in the UV-A region. Often done. Particularly in recent years, there has been an increasing demand for ultraviolet absorption in the UV-A region.

これに対して、一般式(I)で示されるベンゾトリアゾール誘導体を紫外線吸収剤として配合し、各種皮膚外用剤基剤の油分との相溶性に優れ、UV−A領域において優れた紫外線吸収を有し、かつ紫外線吸収剤自体の光安定性に優れ、長期にわたって紫外線吸収効果を持続可能な皮膚外用剤が開発されている(特許文献1)。   On the other hand, the benzotriazole derivative represented by the general formula (I) is blended as an ultraviolet absorber, has excellent compatibility with oils of various skin external preparation bases, and has excellent ultraviolet absorption in the UV-A region. However, an external preparation for skin that is excellent in light stability of the ultraviolet absorber itself and has a sustainable ultraviolet absorption effect over a long period of time has been developed (Patent Document 1).

一方、2,4−ビス[[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジンは、UV−Aの吸収能に優れた公知の紫外線吸収剤であり、商品名Tinosorb(登録商標) Sとして、Ciba Specialty Chemicals Holding Inc.により市販されている。   On the other hand, 2,4-bis [[4- (2-ethylhexyloxy) -2-hydroxy] phenyl] -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine has UV-A absorption ability. It is an excellent known UV absorber and is traded under the trade name Tinosorb® S as Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Is commercially available.

しかしながら、この紫外線吸収剤は粉末であり、油分に対する溶解度が低く、溶解させたとしても再結晶化し易い。したがって、化粧料に配合した場合に十分な紫外線吸収能を発揮できない。また、経時で結晶が析出し、安定した化粧料を製造することが極めて困難である。   However, this ultraviolet absorber is a powder, has low solubility in oil, and is easily recrystallized even if dissolved. Therefore, when it mix | blends with cosmetics, sufficient ultraviolet absorption ability cannot be exhibited. In addition, crystals precipitate over time, making it very difficult to produce a stable cosmetic.

これを回避するべく、化粧料に配合可能な溶解油分が検討されているが十分でない。例えば特許文献2において、これを可溶化させるために、2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸エチルヘキシル(オクトクリレン)を使用することが記載されているが、必ずしも十分な溶解油分とは言えない。また、この油分自体も、UV−Aの吸収に必ずしも寄与しない。   In order to avoid this, dissolved oil components that can be blended in cosmetics have been studied, but are not sufficient. For example, Patent Document 2 describes that ethylhexyl 2-cyano-3,3-diphenylacrylate (octocrylene) is used to solubilize it, but it cannot always be said to be a sufficient dissolved oil content. Further, the oil itself does not necessarily contribute to the absorption of UV-A.

特開2005−206473号公報JP 2005-206473 A 特開2000−309520号公報JP 2000-309520 A

本発明者らは、上記観点から鋭意研究を重ねた結果、UV−A領域において優れた紫外線吸収を有する一般式(I)のベンゾトリアゾール誘導体が、2,4−ビス[[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジンの優れた溶解油分として使用できることを見出し、UV−Aの紫外線吸収能に優れ、安定性に優れた日焼け止め化粧料を製造して本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies from the above viewpoint, the present inventors have found that a benzotriazole derivative of the general formula (I) having excellent ultraviolet absorption in the UV-A region is 2,4-bis [[4- (2- [Ethylhexyloxy) -2-hydroxy] phenyl] -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine has been found to be used as an excellent dissolved oil, and is excellent in UV-A ultraviolet absorption ability and stability. The present invention has been completed by producing an excellent sunscreen cosmetic.

すなわち、本発明は、2,4−ビス[[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジンと、下記一般式(I)で示されるベンゾトリアゾール誘導体とを含有することを特徴とする日焼け止め化粧料を提供するものである。
一般式(I)

Figure 2007099699
(式中、R’=C1〜C6の直鎖のアルキル基、R”=C1〜C3の直鎖のアルキル基である。) That is, the present invention relates to 2,4-bis [[4- (2-ethylhexyloxy) -2-hydroxy] phenyl] -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine and the following general formula: The present invention provides a sunscreen cosmetic comprising the benzotriazole derivative represented by (I).
Formula (I)
Figure 2007099699
(In the formula, R ′ = C1-C6 linear alkyl group, R ″ = C1-C3 linear alkyl group.)

また、本発明は、前記ベンゾトリアゾール誘導体が、2−[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシフェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−4−イソブトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールから選ばれる1種または2種以上であることを特徴とする上記の日焼け止め化粧料を提供するものである。   In the present invention, the benzotriazole derivative may be 2- [4- (2-ethylhexyloxy) -2-hydroxyphenyl] -2H-benzotriazole, 2- (2-hydroxy-4-isobutoxyphenyl) -2H. -The above-mentioned sunscreen cosmetics characterized by being one or more selected from benzotriazole.

本発明の日焼け止め化粧料は、UV−Aの優れた紫外線吸収剤である2,4−ビス[[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジンの溶解油分として、一般式(I)のベンゾトリアゾール誘導体を配合することにより、粉末の該紫外線吸収剤を十分に溶解できる。
その結果、該紫外線吸収剤の十分なUV−Aの紫外線吸収能を発揮でき、さらに、該紫外線吸収剤の結晶が析出することがなく、製品安定性に優れた日焼け止め化粧料を提供することが可能である。
また、溶解油分の一般式(I)のベンゾトリアゾール誘導体自体も、UV−Aの紫外線吸収能に優れているので、総合して、高い紫外線吸収能を発揮できる。これにより、同じ程度の紫外線吸収能を発揮させるために、他の日焼け止め化粧料と比較して、紫外線吸収剤の配合量を少なくすることが出来るという利点も有する。
The sunscreen cosmetic of the present invention is 2,4-bis [[4- (2-ethylhexyloxy) -2-hydroxy] phenyl] -6- (4-methoxyphenyl), which is an ultraviolet absorber excellent in UV-A. ) By mixing the benzotriazole derivative of the general formula (I) as a dissolved oil component of 1,3,5-triazine, the powdery ultraviolet absorber can be sufficiently dissolved.
As a result, it is possible to provide a sunscreen cosmetic that can exhibit sufficient UV-A UV-absorbing ability of the UV-absorbing agent, and does not precipitate crystals of the UV-absorbing agent, and has excellent product stability. Is possible.
Moreover, since the benzotriazole derivative itself of the general formula (I) of the dissolved oil component is also excellent in UV-A ultraviolet absorbing ability, it can collectively exhibit high ultraviolet absorbing ability. Thereby, in order to exhibit the same level of ultraviolet absorbing ability, there is also an advantage that the blending amount of the ultraviolet absorbent can be reduced as compared with other sunscreen cosmetics.

以下、本発明について詳述する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

2,4−ビス[[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジンは、商品名Tinosorb(登録商標) Sとして、Ciba Specialty Chemicals Holding Inc.により市販されている。粉末状のUV−A紫外線吸収剤である。   2,4-Bis [[4- (2-ethylhexyloxy) -2-hydroxy] phenyl] -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine is traded under the trade name Tinosorb® S , Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Is commercially available. It is a powdery UV-A ultraviolet absorber.

「一般式(I)で示されるベンゾトリアゾール誘導体」
一般式(I)のベンゾトリアゾール誘導体は公知の化合物であり、以下のようにして合成する。すなわち、o−ニトロアニリンを亜硝酸ソーダ等でジアゾニウム塩とし、フェノールとカップリングしてモノアゾ化合物を合成した後、還元してベンゾトリアゾールとする方法が一般的である。
(A法)
第1工程

Figure 2007099699
第2工程
Figure 2007099699




第3工程
Figure 2007099699
第4工程
Figure 2007099699
(式中、2,3−DCNは2,3−ジクロロ−1,4−ナフトキノンを表す。)
第5工程
Figure 2007099699
(式中、R=HもしくはCH3、R’=C1〜C6の直鎖のアルキル基、R”=C1〜C3の直鎖のアルキル基である。)

(B法)
第1工程
Figure 2007099699
第2工程
Figure 2007099699
第3工程
Figure 2007099699
第4工程
Figure 2007099699
第5工程
Figure 2007099699
(式中、R’=C1〜C6の直鎖のアルキル基、R”=C1〜C3の直鎖のアルキル基である。なお、2,3−DCNは2,3−ジクロロ−1,4−ナフトキノンを表す。) “Benzotriazole derivatives represented by general formula (I)”
The benzotriazole derivatives of general formula (I) are known compounds and are synthesized as follows. That is, a method is generally used in which o-nitroaniline is converted to a diazonium salt with sodium nitrite or the like, coupled with phenol to synthesize a monoazo compound, and then reduced to benzotriazole.
(Method A)
First step
Figure 2007099699
Second step
Figure 2007099699




Third step
Figure 2007099699
4th process
Figure 2007099699
(In the formula, 2,3-DCN represents 2,3-dichloro-1,4-naphthoquinone.)
5th process
Figure 2007099699
(In the formula, R = H or CH3, R ′ = C1-C6 linear alkyl group, R ″ = C1-C3 linear alkyl group.)

(Method B)
First step
Figure 2007099699
Second step
Figure 2007099699
Third step
Figure 2007099699
4th process
Figure 2007099699
5th process
Figure 2007099699
(In the formula, R ′ = C1-C6 linear alkyl group, R ″ = C1-C3 linear alkyl group. In addition, 2,3-DCN is 2,3-dichloro-1,4- Represents naphthoquinone.)

また、対応するベンゾトリアゾールと、ハロゲン化アルキルとをメチルイソブチルケトンとジメチルホルムアミドとの混合溶媒中にて還流すると、特に高い収率で一般式(I)の化合物が製造できる。
より具体的に説明すれば、6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)レゾルシノールを、温度計と還流冷却器を備えた四つ口フラスコに入れ、メチルイソブチルケトンとジメチルホルムアミドとを加えて撹拌する。この中に炭酸ソーダと2−エチルヘキシルブロマイドとを加えて撹拌しながら還流温度まで加熱する。還流温度を保持しながら所定時間撹拌した後、メチルイソブチルケトンを常圧で回収して残留したオイルを水洗にて過剰の炭酸ソーダと生成した無機物を除去し、液状の2−[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシフェニル]−2H−ベンゾトリアゾールが高い収率で得られる。
When the corresponding benzotriazole and alkyl halide are refluxed in a mixed solvent of methyl isobutyl ketone and dimethylformamide, the compound of the general formula (I) can be produced with a particularly high yield.
More specifically, 6- (2H-benzotriazol-2-yl) resorcinol is placed in a four-necked flask equipped with a thermometer and a reflux condenser, and methyl isobutyl ketone and dimethylformamide are added and stirred. To do. Sodium carbonate and 2-ethylhexyl bromide are added to this, and it heats to reflux temperature, stirring. After stirring for a predetermined time while maintaining the reflux temperature, methyl isobutyl ketone was recovered at normal pressure, and the remaining oil was washed with water to remove excess sodium carbonate and the produced inorganic substance, and liquid 2- [4- (2 -Ethylhexyloxy) -2-hydroxyphenyl] -2H-benzotriazole is obtained in high yield.

2,4−ビス[[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジンの配合量は、目的の製品に応じて適宜決定されるが、日焼け止め化粧料全量に対して0.5〜5質量%が好ましく、1〜3質量%がさらに好ましい。   The amount of 2,4-bis [[4- (2-ethylhexyloxy) -2-hydroxy] phenyl] -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine depends on the target product. Although it determines suitably, 0.5-5 mass% is preferable with respect to the sunscreen cosmetics whole quantity, and 1-3 mass% is more preferable.

また、一般式(I)で示されるベンゾトリアゾール誘導体の配合量は、溶解する2,4−ビス[[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジンの配合量により適宜決定される。通常、日焼け止め化粧料全量に対して2〜10質量%が好ましく、3〜7質量%がさらに好ましい。   The amount of the benzotriazole derivative represented by the general formula (I) is 2,4-bis [[4- (2-ethylhexyloxy) -2-hydroxy] phenyl] -6- (4-methoxyphenyl) to be dissolved. ) -1,3,5-triazine is appropriately determined depending on the blending amount. Usually, 2-10 mass% is preferable with respect to the total amount of sunscreen cosmetics, and 3-7 mass% is further more preferable.

本発明の日焼け止め化粧料には、上記必須成分以外に、通常化粧品や医薬品等の皮膚外用剤に用いられる成分、例えば、美白剤、保湿剤、酸化防止剤、油性成分、その他の紫外線吸収剤、界面活性剤、増粘剤、アルコール類、粉末成分、色剤、水性成分、水、各種皮膚栄養剤等を必要に応じて適宜配合して常法により製造することができる。例えば配合成分としては次のようなものが挙げられる。   In addition to the above essential ingredients, the sunscreen cosmetics of the present invention are usually used in skin preparations such as cosmetics and pharmaceuticals, such as whitening agents, moisturizers, antioxidants, oily ingredients, and other ultraviolet absorbers. , Surfactants, thickeners, alcohols, powder components, colorants, aqueous components, water, various skin nutrients and the like can be appropriately blended as necessary to produce them by conventional methods. For example, the following are mentioned as a compounding component.

アボカド油、マカデミアナッツ油、トウモロコシ油、オリーブ油、ナタネ油、月見草油、ヒマシ油、ヒマワリ油、茶実油、コメヌカ油、ホホバ油、カカオ脂、ヤシ油、スクワレン、牛脂、モクロウ、ミツロウ、キャンデリラロウ、カルナバロウ、鯨ロウ、ラノリン、流動パラフィン、ポリオキシエチレン(8モル)オレイルアルコールエーテル、モノオレイン酸グリセリル、シクロメチコン、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサンなどの油分。
カプリルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、コレステロール、フィトステロールなどの高級アルコール。
カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘニン酸、ラノリン脂肪酸、リノール酸、リノレン酸などの高級脂肪酸。
ポリエチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、キシリトール、マルチトール、ムコ多糖、ヒアルロン酸、コンドロイチン硫酸、キトサンなどの保湿剤。
メチルセルロース、エチルセルロース、アラビアガム、ポリビニルアルコールなどの増粘剤。
エタノール、1,3−ブチレングリコールなどの有機溶剤。
ブチルヒドロキシトルエン、トコフェロール、フィチン酸などの酸化防止剤。
安息香酸、サリチル酸、ソルビン酸、パラオキシ安息香酸エステル(エチルパラベン、ブチルパラベンなど)、ヘキサクロロフェンなどの抗菌防腐剤。
グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、セリン、トレオニン、フェニルアラニン、チロシン、アスパラギン酸、アスパラギン、グルタミン、タウリン、アルギニン、ヒスチジンなどのアミノ酸と塩酸塩。
アシルサルコシン酸(例えばラウロイルサルコシンナトリウム)、グルタチオン、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、乳酸などの有機酸。
ビタミンA及びその誘導体、ビタミンB6塩酸塩、ビタミンB6トリパルミテート、ビタミンB6ジオクタノエート、ビタミンB2及びその誘導体、ビタミンB12、ビタミンB15及びその誘導体などのビタミンB類、アスコルビン酸、アスコルビン酸リン酸エステル(塩)、アスコルビン酸ジパルミテートなどのビタミンC類、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、ビタミンEアセテート、ビタミンEニコチネートなどのビタミンE類、ビタミンD類、ビタミンH、パントテン酸、パンテチンなどのビタミン類。
ニコチン酸アミド、ニコチン酸ベンジル、γ−オリザノール、アラントイン、グリチルリチン酸(塩)、グリチルレチン酸及びその誘導体、ヒノキチオール、ムシジン、ビサボロール、ユーカリプトール、チモール、イノシトール、サポニン類(サイコサポニン、ニンジンサポニン、ヘチマサポニン、ムクロジサポニンなど)、パントテニルエチルエーテル、エチニルエストラジオール、トラネキサム酸、セファランチン、プラセンタエキスなどの各種薬剤。
ギシギシ、クララ、コウホネ、オレンジ、セージ、タイム、ノコギリソウ、ゼニアオイ、センキュウ、センブリ、トウキ、トウヒ、バーチ、スギナ、ヘチマ、マロニエ、ユキノシタ、アルニカ、ユリ、ヨモギ、シャクヤク、アロエ、クチナシ、サワラなどの有機溶剤、アルコール、多価アルコール、水、水性アルコールなどで抽出した天然エキス。
ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、塩化ベンザルコニウム、ラウリルアミンオキサイドなどのカチオン界面活性剤。
エデト酸二ナトリウム、エデト酸三ナトリウム、クエン酸ナトリウム、ポリリン酸ナトリウム、メタリン酸ナトリウム、グルコン酸等の金属封鎖剤。
香料、スクラブ剤、精製水など。
Avocado oil, macadamia nut oil, corn oil, olive oil, rapeseed oil, evening primrose oil, castor oil, sunflower oil, teaseed oil, rice bran oil, jojoba oil, cacao butter, palm oil, squalene, beef tallow, owl, beeswax, candelilla wax Oils such as carnauba wax, whale wax, lanolin, liquid paraffin, polyoxyethylene (8 mol) oleyl alcohol ether, glyceryl monooleate, cyclomethicone, dimethylpolysiloxane, diphenylpolysiloxane.
Higher alcohols such as capryl alcohol, lauryl alcohol, myristyl alcohol, cetyl alcohol, cholesterol, phytosterol.
Higher fatty acids such as capric acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, behenic acid, lanolin fatty acid, linoleic acid, linolenic acid.
Moisturizers such as polyethylene glycol, glycerin, sorbitol, xylitol, maltitol, mucopolysaccharide, hyaluronic acid, chondroitin sulfate and chitosan.
Thickeners such as methylcellulose, ethylcellulose, gum arabic, and polyvinyl alcohol.
Organic solvents such as ethanol and 1,3-butylene glycol.
Antioxidants such as butylhydroxytoluene, tocopherol and phytic acid.
Antibacterial preservatives such as benzoic acid, salicylic acid, sorbic acid, paraoxybenzoic acid esters (such as ethylparaben and butylparaben), and hexachlorophene.
Amino acids and hydrochlorides such as glycine, alanine, valine, leucine, serine, threonine, phenylalanine, tyrosine, aspartic acid, asparagine, glutamine, taurine, arginine, histidine.
Organic acids such as acyl sarcosine acid (eg, lauroyl sarcosine sodium), glutathione, citric acid, malic acid, tartaric acid, lactic acid.
Vitamin A and its derivatives, vitamin B6 hydrochloride, vitamin B6 tripalmitate, vitamin B6 dioctanoate, vitamin B2 and its derivatives, vitamin B such as vitamin B12, vitamin B15 and its derivatives, ascorbic acid, ascorbic acid phosphate ( Salt), vitamin C such as ascorbic acid dipalmitate, α-tocopherol, β-tocopherol, γ-tocopherol, vitamin E acetate, vitamin E such as vitamin E nicotinate, vitamin D, vitamin H, pantothenic acid, pantethine, etc. Vitamins.
Nicotinamide, benzyl nicotinate, γ-oryzanol, allantoin, glycyrrhizic acid (salt), glycyrrhetinic acid and its derivatives, hinokitiol, mucidin, bisabolol, eucalyptol, thymol, inositol, saponins (psychosaponin, carrot saponin, loofah) Various drugs such as saponin, muclodisaponin, etc.), pantothenyl ethyl ether, ethinyl estradiol, tranexamic acid, cephalanthin, placenta extract.
Bark, Clara, Kouhone, Orange, Sage, Thyme, Yarrow, Zeni-oyster, Senkyu, Assembly, Spruce, Spruce, Birch, Sugina, Loofah, Maronie, Yukinoshita, Arnica, Lily, Mugwort, Peonies, Aloe, Gardenia, Sawara Natural extract extracted with solvent, alcohol, polyhydric alcohol, water, aqueous alcohol.
Cationic surfactants such as stearyltrimethylammonium chloride, benzalkonium chloride, and laurylamine oxide.
Metal sequestering agents such as disodium edetate, trisodium edetate, sodium citrate, sodium polyphosphate, sodium metaphosphate and gluconic acid.
Fragrance, scrub agent, purified water, etc.

本発明の日焼け止め化粧料の特に好ましい基剤は、デカメチルシクロペンタシロキサン、イソノナン酸イソノニル、ジメチルポリシロキサン、ヘプタメチルオクチルトリシロキサン、トリメチルシロキシケイ酸、流動パラフィン、スクワラン、イソオクタン酸セチル、イソオクタン酸トリグリセライド、コハク酸ジ2−エチルヘキシルの油分である。本発明は特にデカメチルシクロペンタシロキサンを主成分基剤とする日焼け止め化粧料に好ましく利用される。   Particularly preferred bases for the sunscreen cosmetics of the present invention are decamethylcyclopentasiloxane, isononyl isononanoate, dimethylpolysiloxane, heptamethyloctyltrisiloxane, trimethylsiloxysilicic acid, liquid paraffin, squalane, cetyl isooctanoate, isooctanoic acid It is an oil component of triglyceride and di-2-ethylhexyl succinate. Especially this invention is preferably utilized for the sunscreen cosmetics which have decamethylcyclopentasiloxane as a main component base.

本発明の日焼け止め化粧料は、例えば、軟膏、クリーム、乳液、ローション、パック等、その製品形態は問わない。またその剤型も特に問わない。   The sunscreen cosmetics of the present invention may be in any product form, such as ointments, creams, emulsions, lotions, packs, and the like. The dosage form is not particularly limited.

以下に実施例により本発明を具体的に説明する。本発明はこれらの実施例に限定されない。   The present invention will be specifically described below with reference to examples. The present invention is not limited to these examples.

<一般式(I)で示されるベンゾトリアゾール誘導体の合成例>
「合成例1:2−[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシフェニル]−2H−ベンゾトリアゾールの合成」
常法により合成した6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)レゾルシノール45.4g(0.20モル)を温度計、還流冷却器を備えた500ml四つ口フラスコに入れ、メチルイソブチルケトン50ml、ジメチルホルムアミド4.0gを加えて撹拌した。この中に炭酸ソーダ25.4g(0.24モル)、および2−エチルヘキシルブロマイド77.2g(0.40モル)を加えて撹拌しながら還流温度まで加熱した。還流温度を保持しながら15時間撹拌した後、メチルイソブチルケトンを常圧で回収して残留したオイルを水洗にて、過剰の炭酸ソーダと生成した無機物を除去した。このオイルから減圧蒸留して220〜225℃/0.2〜0.3mmHgの黄色透明の留分52.1gを得た。この化合物は、常温域で液状であり、収率は、76.7%、HPLC純度99.0%であった。
<Synthesis example of benzotriazole derivative represented by general formula (I)>
"Synthesis Example 1: Synthesis of 2- [4- (2-ethylhexyloxy) -2-hydroxyphenyl] -2H-benzotriazole"
65.4 g (0.20 mol) of 6- (2H-benzotriazol-2-yl) resorcinol synthesized by a conventional method was put into a 500 ml four-necked flask equipped with a thermometer and a reflux condenser, and 50 ml of methyl isobutyl ketone, 4.0 g of dimethylformamide was added and stirred. To this, 25.4 g (0.24 mol) of sodium carbonate and 77.2 g (0.40 mol) of 2-ethylhexyl bromide were added and heated to the reflux temperature with stirring. After stirring for 15 hours while maintaining the reflux temperature, methyl isobutyl ketone was recovered at normal pressure, and the remaining oil was washed with water to remove excess sodium carbonate and produced inorganic substances. This oil was distilled under reduced pressure to obtain 52.1 g of a yellow transparent fraction of 220 to 225 ° C./0.2 to 0.3 mmHg. This compound was liquid at normal temperature, and the yield was 76.7% and the HPLC purity was 99.0%.

「合成例2:2−(2−ヒドロキシ−4−イソブトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールの合成」
2−エチルヘキシルブロマイドの替わりに臭化イソブチルを同モル量使用して合成例1と同様に行った。微黄灰白色の粉末状結晶を収率72.5%で得た。m.p.120.0から120.8℃、λmax=345.6nm、ε=21750であった。
"Synthesis Example 2: Synthesis of 2- (2-hydroxy-4-isobutoxyphenyl) -2H-benzotriazole"
The same procedure as in Synthesis Example 1 was carried out using the same molar amount of isobutyl bromide instead of 2-ethylhexyl bromide. A slightly yellowish white powdery crystal was obtained with a yield of 72.5%. m. p. They were 120.0 to 120.8 ° C., λmax = 345.6 nm, and ε = 21750.

下記A〜Eの油分について、2,4−ビス[[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジンの溶解度を調べた。その結果を、図1に示す。
A:安息香酸イソデシル
B:2−エチルヘキシルベンゾエート
C:2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸エチルヘキシル(オクトクリレン)
<特許文献2記載の油分>
D:2−[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシフェニル]−2H−ベンゾトリアゾール
<合成例1の油分>
E:2−(2−ヒドロキシ−4−イソブトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール
<合成例2の油分>
For the oil components A to E below, the solubility of 2,4-bis [[4- (2-ethylhexyloxy) -2-hydroxy] phenyl] -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine was measured. Examined. The result is shown in FIG.
A: Isodecyl benzoate B: 2-ethylhexylbenzoate C: ethylhexyl 2-cyano-3,3-diphenylacrylate (octocrylene)
<Oil content of patent document 2>
D: 2- [4- (2-Ethylhexyloxy) -2-hydroxyphenyl] -2H-benzotriazole <Oil content of Synthesis Example 1>
E: 2- (2-hydroxy-4-isobutoxyphenyl) -2H-benzotriazole <Oil content of Synthesis Example 2>

「溶解度測定方法及び条件」
上記A〜Eの各油分に、2,4−ビス[[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジンを、80℃で加熱溶解する。室温まで放冷後、粉のままの2,4−ビス[[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジンを少量添加し、0℃にて3日間攪拌冷却(スターラー)を行う。その後、温度が上がらないように速やかに上澄溶液を採取し、30mg(実測値記録)を、酢酸エチルで100mLに希釈する。得られた希釈液の342.8nmにおける吸光度を求める。得られた吸光度をあらかじめ作成した検量線にプロットすることで溶解度を求める。
"Solubility Measurement Methods and Conditions"
2,4-bis [[4- (2-ethylhexyloxy) -2-hydroxy] phenyl] -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine is added to each of the oils A to E. Dissolve by heating at 80 ° C. After allowing to cool to room temperature, 2,4-bis [[4- (2-ethylhexyloxy) -2-hydroxy] phenyl] -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine as powder is obtained. Add a small amount and cool with stirring (stirrer) at 0 ° C. for 3 days. Thereafter, the supernatant solution is quickly collected so that the temperature does not rise, and 30 mg (measured value record) is diluted to 100 mL with ethyl acetate. The absorbance at 342.8 nm of the obtained diluted solution is determined. The solubility is obtained by plotting the obtained absorbance on a calibration curve prepared in advance.

図1〜5から、D及びEの一般式(I)のベンゾトリアゾール誘導体に対する溶解度が、格別顕著に優れていることが分かる。
したがって、2,4−ビス[[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジンと一般式(I)のベンゾトリアゾール誘導体を配合した日焼け止め化粧料は、2,4−ビス[[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジンの溶解性に優れ、その結果、該紫外線吸収剤の十分なUV−Aの紫外線吸収能を発揮でき、さらに、該紫外線吸収剤の結晶が析出することがなく、製品安定性に優れた日焼け止め化粧料を提供することが可能である。
また、溶解油分の一般式(I)のベンゾトリアゾール誘導体自体も、UV−Aの紫外線吸収能に優れているので、総合して、高い紫外線吸収能を発揮できる。これにより、同じ程度の紫外線吸収能を発揮させるために、他の日焼け止め化粧料よりも、紫外線吸収剤の配合量を少なくすることが出来るという利点も有する。
1 to 5 show that the solubility of D and E in the benzotriazole derivative of the general formula (I) is remarkably excellent.
Thus, 2,4-bis [[4- (2-ethylhexyloxy) -2-hydroxy] phenyl] -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine and the benzotriazole of general formula (I) The sunscreen cosmetics containing the derivatives are 2,4-bis [[4- (2-ethylhexyloxy) -2-hydroxy] phenyl] -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine. Sunscreen makeup excellent in solubility, and as a result, can exhibit the sufficient UV-A UV-absorbing ability of the UV-absorbing agent, and further, the UV-absorbing agent crystal does not precipitate and has excellent product stability. It is possible to provide a fee.
Moreover, since the benzotriazole derivative itself of the general formula (I) of the dissolved oil component is also excellent in UV-A ultraviolet absorbing ability, it can collectively exhibit high ultraviolet absorbing ability. Thereby, in order to exhibit the ultraviolet-ray absorption ability of the same grade, it also has the advantage that the compounding quantity of a ultraviolet absorber can be decreased rather than other sunscreen cosmetics.

以下に、上記効果を有する本願発明の日焼け止め化粧料の処方例を挙げる。
「実施例1:日焼け止め化粧料 W/O乳液」
質量%
1.ジメチルポリシロキサン 1
2.デカメチルシクロペンタシロキサン 25
3.トリメチルシロキシケイ酸 5
4.ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 1
5.ラウリルPEG−9ポリジメチルシロキシエチルジメチコン 1
6.イソノナン酸イソノニル 5
7.ジプロピレングリコール 5
8.グリチルリチン酸ジカリウム 0.02
9.グルタチオン 1
10.チオタウリン 0.05
11.クララエキス 1
12.パラベン 適量
13.フェノキシエタノール 適量
14.パラメトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 7.5
15.ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト 0.5
16.球状ポリアクリル酸アルキル粉体 5
17.ブチルエチルプロパンジオール 0.5
18.2,4−ビス[[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン 2
19.2−[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシフェニル]−2H−ベンゾトリアゾール 8
20.疎水化処理酸化亜鉛または疎水処理酸化チタン 15
21.精製水 残余
製造方法
油相に水相を徐々に添加し添加終了後、攪拌機を用いて乳化粒子が均一になるように調製した。
Below, the prescription example of the sunscreen cosmetics of this invention which has the said effect is given.
"Example 1: Sunscreen cosmetic W / O emulsion"
mass%
1. Dimethylpolysiloxane 1
2. Decamethylcyclopentasiloxane 25
3. Trimethylsiloxysilicic acid 5
4). Polyoxyethylene methylpolysiloxane copolymer 1
5. Lauryl PEG-9 polydimethylsiloxyethyl dimethicone 1
6). Isononyl isononanoate 5
7). Dipropylene glycol 5
8). Dipotassium glycyrrhizinate 0.02
9. Glutathione 1
10. Thiotaurine 0.05
11. Clara extract 1
12 Paraben appropriate amount13. Phenoxyethanol appropriate amount14. 2-Ethylhexyl paramethoxycinnamate 7.5
15. Dimethyl distearyl ammonium hectorite 0.5
16. Spherical polyalkyl acrylate powder 5
17. Butylethylpropanediol 0.5
18. 2,4-bis [[4- (2-ethylhexyloxy) -2-hydroxy] phenyl] -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine 2
19. 2- [4- (2-Ethylhexyloxy) -2-hydroxyphenyl] -2H-benzotriazole 8
20. Hydrophobized zinc oxide or hydrophobically treated titanium oxide 15
21. Purified water Residual production method The aqueous phase was gradually added to the oil phase, and after completion of the addition, the emulsified particles were prepared to be uniform using a stirrer.

「実施例2:日焼け止め化粧料 O/W乳液」
質量%
1.ポリオキシエチレン硬化ひまし油 1
2.ジメチコンコポリオール 0.5
3.デカメチルシクロペンタシロキサン 15
4.イソステアリン酸 0.5
5.フェニルトリメチコン 1
6.疎水化処理酸化チタン 5
7.パラメトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 3
8.2,4−ビス[[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン 2
9.2−(2−ヒドロキシ−4−イソブトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール

10.シリカ 1
11.クエン酸 0.01
12.クエン酸ナトリウム 0.09
13.パラベン 適量
14.フェノキシエタノール 適量
15.アルコール 5
16.ダイナマイトグリセリン 1
17.サクシノグルカン 0.2
18.セルロースガム 1
19.イオン交換水 残余
製造方法
9〜18の水相を調製後、1〜8の油相に徐々に添加し、最後にホモミキサーを用いて攪拌した。
"Example 2: Sunscreen cosmetic O / W emulsion"
mass%
1. Polyoxyethylene hydrogenated castor oil 1
2. Dimethicone copolyol 0.5
3. Decamethylcyclopentasiloxane 15
4). Isostearic acid 0.5
5. Phenyltrimethicone 1
6). Hydrophobized titanium oxide 5
7). 2-methoxyhexyl paramethoxycinnamate 3
8.2,4-bis [[4- (2-ethylhexyloxy) -2-hydroxy] phenyl] -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine 2
9. 2- (2-Hydroxy-4-isobutoxyphenyl) -2H-benzotriazole
5
10. Silica 1
11. Citric acid 0.01
12 Sodium citrate 0.09
13. Paraben appropriate amount14. Phenoxyethanol appropriate amount15. Alcohol 5
16. Dynamite Glycerin 1
17. Succinoglucan 0.2
18. Cellulose gum 1
19. Ion-exchanged water Residual production method After preparing the aqueous phase of 9 to 18, it was gradually added to the oil phase of 1 to 8, and finally stirred using a homomixer.

「実施例3:日焼け止め化粧料 O/W/O乳液」
質量%
1.ポリオキシエチレン硬化ひまし油 0.5
2.イソステアリン酸 0.2
3.パラメトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 7.5
4.2−[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシフェニル]−2H−ベンゾトリアゾール 3.0
5.2,4−ビス[[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン 3.0
6.デカメチルシクロペンタシロキサン 35
7.ポリオキシブチレンポリオキシプロピレングリコール 2.0
8.ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト 0.5
9.疎水化処理酸化チタン 12.0
10.クエン酸 0.04
11.クエン酸ナトリウム 0.06
12.ジプロピレングリコール 2.0
13.メチルグルコース 1.0
14.ダイナマイトグリセリン 1.0
15.食塩 0.1
16.メチルパラベン 適量
17.フェノキシエタノール 適量
18.イオン交換水 残余
製造方法
1〜5の油相を10〜18の水相に徐々に添加してO/W製剤を得た。この製剤を6〜9の油相中に徐々に添加後、ホモミキサーで攪拌を行い目的のサンプルを得た。
"Example 3: Sunscreen cosmetic O / W / O emulsion"
mass%
1. Polyoxyethylene hydrogenated castor oil 0.5
2. Isostearic acid 0.2
3. 2-Ethylhexyl paramethoxycinnamate 7.5
4. 2- [4- (2-Ethylhexyloxy) -2-hydroxyphenyl] -2H-benzotriazole 3.0
5. 2,4-Bis [[4- (2-ethylhexyloxy) -2-hydroxy] phenyl] -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine 3.0
6). Decamethylcyclopentasiloxane 35
7). Polyoxybutylene polyoxypropylene glycol 2.0
8). Dimethyl distearyl ammonium hectorite 0.5
9. Hydrophobized titanium oxide 12.0
10. Citric acid 0.04
11. Sodium citrate 0.06
12 Dipropylene glycol 2.0
13. Methyl glucose 1.0
14 Dynamite Glycerin 1.0
15. Salt 0.1
16. Methyl paraben appropriate amount 17. Phenoxyethanol appropriate amount 18. Ion-exchanged water Residual production method The oil phase of 1 to 5 was gradually added to the water phase of 10 to 18 to obtain an O / W preparation. This formulation was gradually added to the oil phase of 6-9, and then stirred with a homomixer to obtain the desired sample.

本発明の日焼け止め化粧料は、UV−Aの優れた紫外線吸収剤である2,4−ビス[[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジンの溶解油分として、一般式(I)のベンゾトリアゾール誘導体を配合することにより、粉末の該紫外線吸収剤を十分に溶解できる。その結果、UV−A吸収能に優れ、かつ安定性に極めて優れた日焼け止め化粧料を提供できる。   The sunscreen cosmetic of the present invention is 2,4-bis [[4- (2-ethylhexyloxy) -2-hydroxy] phenyl] -6- (4-methoxyphenyl), which is an ultraviolet absorber excellent in UV-A. ) By mixing the benzotriazole derivative of the general formula (I) as a dissolved oil component of 1,3,5-triazine, the powdery ultraviolet absorber can be sufficiently dissolved. As a result, it is possible to provide a sunscreen cosmetic that is excellent in UV-A absorption ability and extremely stable.

各種油分に対する、2,4−ビス[[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジンの溶解度を示す図である。It is a figure which shows the solubility of 2, 4-bis [[4- (2-ethylhexyloxy) -2-hydroxy] phenyl] -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine to various oils. .

Claims (2)

2,4−ビス[[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジンと、下記一般式(I)で示されるベンゾトリアゾール誘導体とを含有することを特徴とする日焼け止め化粧料。
一般式(I)
Figure 2007099699
(式中、R’=C1〜C6の直鎖のアルキル基、R”=C1〜C3の直鎖のアルキル基である。)
2,4-bis [[4- (2-ethylhexyloxy) -2-hydroxy] phenyl] -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine and the following general formula (I) A sunscreen cosmetic comprising a benzotriazole derivative.
Formula (I)
Figure 2007099699
(In the formula, R ′ = C1-C6 linear alkyl group, R ″ = C1-C3 linear alkyl group.)
前記ベンゾトリアゾール誘導体が、2−[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシフェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−4−イソブトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールから選ばれる1種または2種以上であることを特徴とする請求項1記載の日焼け止め化粧料。
The benzotriazole derivative is selected from 2- [4- (2-ethylhexyloxy) -2-hydroxyphenyl] -2H-benzotriazole and 2- (2-hydroxy-4-isobutoxyphenyl) -2H-benzotriazole. The sunscreen cosmetic according to claim 1, wherein the sunscreen cosmetic is one type or two or more types.
JP2005292493A 2005-10-05 2005-10-05 Sunscreen cosmetic Withdrawn JP2007099699A (en)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005292493A JP2007099699A (en) 2005-10-05 2005-10-05 Sunscreen cosmetic
PCT/JP2006/319447 WO2007040171A1 (en) 2005-10-05 2006-09-29 Sunscreen cosmetic composition
EP06810853A EP1944012A1 (en) 2005-10-05 2006-09-29 Sunscreen cosmetic composition
US11/991,350 US20090169494A1 (en) 2005-10-05 2006-09-29 Sunscreen cosmetic composition
KR1020077030070A KR20080056114A (en) 2005-10-05 2006-09-29 Sunscreen cosmetic composition
CNA2006800366187A CN101277676A (en) 2005-10-05 2006-09-29 Sunscreen cosmetic composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005292493A JP2007099699A (en) 2005-10-05 2005-10-05 Sunscreen cosmetic

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007099699A true JP2007099699A (en) 2007-04-19

Family

ID=38026981

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005292493A Withdrawn JP2007099699A (en) 2005-10-05 2005-10-05 Sunscreen cosmetic

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2007099699A (en)
CN (1) CN101277676A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009119000A1 (en) * 2008-03-28 2009-10-01 株式会社資生堂 Water-in-oil emulsified cosmetic preparation
WO2011117976A1 (en) * 2010-03-24 2011-09-29 株式会社 資生堂 Sunscreen cosmetic
JP2011207789A (en) * 2010-03-29 2011-10-20 Kose Corp O/w/o type emulsion cosmetic

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5683468B2 (en) * 2009-09-04 2015-03-11 株式会社Adeka Sunscreen cosmetic composition containing an ultraviolet absorber
DE102014201541A1 (en) * 2014-01-29 2015-07-30 Beiersdorf Ag Octocrylene-free sunscreen with low tack

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009119000A1 (en) * 2008-03-28 2009-10-01 株式会社資生堂 Water-in-oil emulsified cosmetic preparation
WO2011117976A1 (en) * 2010-03-24 2011-09-29 株式会社 資生堂 Sunscreen cosmetic
JP5723359B2 (en) * 2010-03-24 2015-05-27 株式会社 資生堂 Sunscreen cosmetics
JP2011207789A (en) * 2010-03-29 2011-10-20 Kose Corp O/w/o type emulsion cosmetic

Also Published As

Publication number Publication date
CN101277676A (en) 2008-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5083933B2 (en) Sunscreen cosmetics
EP2027847A1 (en) Sunscreen preparations
WO2010110020A1 (en) Sunscreen cosmetic
JP2011520842A (en) Sunscreen agent
JP2007182388A (en) Sunscreen cosmetic
JP2007320916A (en) Sunscreen cosmetic
JP5540243B2 (en) Sunscreen cosmetics
WO2010026755A1 (en) Sunscreen cosmetic
JP4339136B2 (en) Topical skin preparation
JP2007099699A (en) Sunscreen cosmetic
JP2007131612A (en) Sunscreen cosmetic
JP4827877B2 (en) Sunscreen cosmetics
JP5855582B2 (en) Photostable sunscreen composition
WO2007077729A1 (en) Sunscreen cosmetics
EP0860164B1 (en) Cosmetic and dermatological composition for sun protection containing triazine derivates and butylenglycol diesters
JP2007182387A (en) Sunscreen cosmetic
JPH0532531A (en) Cosmetic
JP2005290240A (en) Ultraviolet light absorber and external preparation for skin comprising the same
JP4798765B2 (en) Sunscreen cosmetics
EP1944012A1 (en) Sunscreen cosmetic composition
JP2007182389A (en) Sunscreen oil-in-water type emulsion cosmetic
JP2009102387A (en) Method for improving persistence of ultraviolet light control effect of skin preparation for external use
EP0824913A2 (en) Use of camphor derivatives to achieve or improve the solubility of triazine derivatives in oils
JP4798762B2 (en) Sunscreen cosmetics
JP5285293B2 (en) Novel UV absorber and skin external preparation using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20080303

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20100114