JP2007099569A - Electrode coating glass and plasma display panel - Google Patents
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Abstract
Description
本発明はプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）およびＰＤＰのガラス基板上に形成された透明電極等の被覆に好適な電極被覆用ガラスに関する。 The present invention relates to a plasma display panel (PDP) and an electrode coating glass suitable for coating a transparent electrode or the like formed on a glass substrate of the PDP.
近年、薄型の平板型カラー表示装置が注目を集めている。このような表示装置では画像を形成する画素における表示状態を制御するために各画素に電極が形成される。このような電極としては、画像の質の低下を防ぐために、ガラス基板上に形成されたＩＴＯまたは酸化スズの薄膜等の透明電極および厚膜タイプＡｇ電極もしくは薄膜タイプＣｒ−Ｃｕ−Ｃｒ電極が用いられている。 In recent years, thin flat panel color display devices have attracted attention. In such a display device, an electrode is formed in each pixel in order to control a display state in the pixel forming the image. As such an electrode, a transparent electrode such as an ITO or tin oxide thin film formed on a glass substrate and a thick film type Ag electrode or a thin film type Cr—Cu—Cr electrode are used in order to prevent deterioration in image quality. It has been.
前記表示装置の表示面として使用されるガラス基板の表面に形成される透明電極は、精細な画像を実現するために細い線状に加工される。そして各画素を独自に制御するためには、このような微細に加工された透明電極相互の絶縁性を確保する必要がある。ところが、ガラス基板の表面に水分が存在する場合やガラス基板中にアルカリ成分が存在する場合、このガラス基板の表面を介して若干の電流が流れることがある。このような電流を防止するには、透明電極間に絶縁層を形成することが有効である。また、透明電極間に形成される絶縁層による画像の質の低下を防ぐべくこの絶縁層は透明であることが好ましい。
このような絶縁層を形成する絶縁材料としては種々のものが知られているが、なかでも、透明であり信頼性の高い絶縁材料であるガラス材料が広く用いられている。
The transparent electrode formed on the surface of the glass substrate used as the display surface of the display device is processed into a thin line shape in order to realize a fine image. And in order to control each pixel independently, it is necessary to ensure the insulation between such finely processed transparent electrodes. However, when moisture is present on the surface of the glass substrate or when an alkali component is present in the glass substrate, a slight current may flow through the surface of the glass substrate. In order to prevent such a current, it is effective to form an insulating layer between the transparent electrodes. The insulating layer is preferably transparent in order to prevent deterioration in image quality due to the insulating layer formed between the transparent electrodes.
Various insulating materials for forming such an insulating layer are known. Among them, glass materials that are transparent and highly reliable insulating materials are widely used.
最近大型平面カラーディスプレイ装置として期待されているＰＤＰにおいては、表示面として使用される前面基板、背面基板および隔壁によりセルが区画形成されており、そのセル中でプラズマ放電を発生させることにより画像が形成される。前記前面基板の表面には透明電極が形成されており、さらに透明電極の導電性を補うためにバス電極と呼ばれる電極が形成されている。このバス電極としてはＡｇ電極、Ｃｒ−Ｃｕ−Ｃｒ電極などが用いられている。この透明電極およびバス電極をプラズマ放電から保護するために、プラズマ耐久性に優れたガラスにより前記電極を被覆することが必須である。 In a PDP that has recently been expected as a large flat color display device, cells are defined by a front substrate, a rear substrate, and barrier ribs used as a display surface, and an image is generated by generating plasma discharge in the cells. It is formed. A transparent electrode is formed on the surface of the front substrate, and an electrode called a bus electrode is formed to supplement the conductivity of the transparent electrode. As this bus electrode, an Ag electrode, a Cr—Cu—Cr electrode, or the like is used. In order to protect the transparent electrode and the bus electrode from plasma discharge, it is essential to cover the electrode with glass having excellent plasma durability.
このような電極被覆に用いられるガラスは、通常はガラス粉末にして使用される。たとえば、前記ガラス粉末に必要に応じてフィラー等を添加した上で樹脂、溶剤等と混合してガラスペーストとしこれを透明電極等が形成されているガラス基板に塗布後焼成する、前記ガラス粉末に樹脂、さらに必要に応じてフィラー等を混合して得られたスラリーをグリーンシートに成形しこれを透明電極等が形成されているガラス基板上にラミネート後焼成する、等の方法によって前記透明電極等を被覆する。 The glass used for such electrode coating is usually used as a glass powder. For example, after adding a filler or the like to the glass powder as necessary, it is mixed with a resin, a solvent or the like to form a glass paste, which is applied to a glass substrate on which a transparent electrode or the like is formed and then fired. A slurry obtained by mixing a resin and, if necessary, a filler or the like is formed into a green sheet, laminated on a glass substrate on which a transparent electrode or the like is formed, and then fired. Coating.
ＰＤＰの電極被覆用ガラスとしては現在ＰｂＯ含有ガラスが使用されているが、これをＰｂＯを含有しないガラスとするべく開発が行われている（たとえば特許文献１）。
特許文献１には、ＰＤＰの誘電体層（前記絶縁層に相当）のバス電極起因黄変の発生を低減させ得るものとして、質量百分率表示で、Ｂｉ２Ｏ３ ２５〜５０％、ＺｎＯ １０〜２０％、ＢａＯ ５〜２０％、Ｂ２Ｏ３ ５〜３５％、ＳｉＯ２ ０〜１５％、Ａｌ２Ｏ３ ０〜１０％、の組成を有するガラス粉末を含むＰＤＰ用誘電体材料が記載されている。
Currently, PbO-containing glass is used as an electrode coating glass for PDP. However, development has been made to make this a glass that does not contain PbO (for example, Patent Document 1).
Patent Document 1 discloses that Bi 2 O 3 25 to 50%, ZnO 10 to 10% can be expressed in terms of mass percentage as being able to reduce the occurrence of yellowing due to the bus electrode of the dielectric layer (corresponding to the insulating layer) of the PDP. 20%, BaO 5~20%, B 2 O 3 5~35%, SiO 2 0~15%, Al 2 O 3 0~10%, is described dielectric material for a PDP comprising a glass powder having a composition of ing.
ＰＤＰ前面基板において電極を被覆しているガラス層の光透過率はＰＤＰ画質向上のため、より高くすることが求められている。
特許文献１ではその光透過率は、ガラス粉末を５８０℃で１０分間焼成して得られたガラス層等について全光線透過率（波長：５５０ｎｍ）を用いて評価されている。しかし、全光線透過率は散乱光を含む透過光を測定して得られるものであり、前記光透過率として必ずしも適切なものではない。
The light transmittance of the glass layer covering the electrodes on the PDP front substrate is required to be higher in order to improve the PDP image quality.
In patent document 1, the light transmittance is evaluated using the total light transmittance (wavelength: 550 nm) about the glass layer etc. which were obtained by baking glass powder for 10 minutes at 580 degreeC. However, the total light transmittance is obtained by measuring transmitted light including scattered light, and is not necessarily appropriate as the light transmittance.
前記光透過率としては後述する直線光透過率（Ｔ）を用いることが適切であり、近年ではＴを７０％以上とすることが求められている。
しかし、特許文献１に記載されている組成範囲に含まれる後述の例２１のガラス（質量百分率表示組成：Ｂ２Ｏ３ １８．９％、ＳｉＯ２ ９．２％、ＺｎＯ １８．２％、ＢａＯ １３．８％、Ｂｉ２Ｏ３ ３９．９％）の粉末を含むガラスペーストをガラス基板に塗布したものを２枚用意し、それぞれ５７０℃、５９０℃に３０分間保持し、得られたガラス層付き基板についてＴを測定したところそれぞれ６３％、６１％であった。すなわち、特許文献１に記載されている組成範囲のガラスは必ずしもＴを７０％以上とする求めに応じられないものであった。
本発明は、ＰｂＯを含有しないＢ２Ｏ３−ＳｉＯ２−ＺｎＯ−ＢａＯ−Ｂｉ２Ｏ３系ガラスであって前記Ｔを高くできる電極被覆用ガラスの提供を目的とする。
As the light transmittance, it is appropriate to use a linear light transmittance (T) described later, and in recent years, T is required to be 70% or more.
However, the glass of Example 21 described later included in the composition range described in Patent Document 1 (mass percentage display composition: B 2 O 3 18.9%, SiO 2 9.2%, ZnO 18.2%, BaO Two glass pastes containing 13.8%, Bi 2 O 3 ( 39.9%) powder applied to a glass substrate were prepared and held at 570 ° C. and 590 ° C. for 30 minutes, respectively. When T was measured for the attached substrate, they were 63% and 61%, respectively. That is, the glass having the composition range described in Patent Document 1 cannot always meet the requirement for T to be 70% or more.
An object of the present invention is to provide a glass for electrode coating that is a B 2 O 3 —SiO 2 —ZnO—BaO—Bi 2 O 3 -based glass that does not contain PbO and can increase the T.
本発明は、下記酸化物基準のモル％表示で、Ｂ２Ｏ３ ２８〜３２％、ＳｉＯ２ １１〜１７％、ＺｎＯ ２９〜３５％、ＢａＯ １０〜１４％、Ｂｉ２Ｏ３ ７〜１０％、Ａｌ２Ｏ３ ０〜５％、から本質的になりＰｂＯを含有しない電極被覆用ガラス（以下、第１のガラスということがある。）を提供する。
また、下記酸化物基準の質量百分率表示で、Ｂ２Ｏ３ １４〜２０％、ＳｉＯ２ ６〜９％、ＺｎＯ ２０〜２５％、ＢａＯ １０〜１９％、Ｂｉ２Ｏ３ ３０〜３８％、Ａｌ２Ｏ３ ０〜５％、から本質的になり、ＺｎＯ−（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３）が９．５％以上であり、ＰｂＯを含有しない電極被覆用ガラス（以下、第２のガラスということがある。）を提供する。
The present invention, in mol% based on the following oxides, B 2 O 3 28~32%, SiO 2 11~17%, ZnO 29~35%, BaO 10~14%, Bi 2 O 3 7~10% , Al 2 O 3 0 to 5%, and an electrode coating glass that does not contain PbO (hereinafter sometimes referred to as a first glass).
Moreover, in mass percentage based on the following oxides, B 2 O 3 14~20%, SiO 2 6~9%, 20~25% ZnO, BaO 10~19%, Bi 2 O 3 30~38%, Al 2 O 3 0-5%, ZnO— (SiO 2 + Al 2 O 3 ) is 9.5% or more, and does not contain PbO (hereinafter referred to as second glass). There is.)
また、表示面として使用される前面基板、背面基板および隔壁によりセルが区画形成されているＰＤＰであって、前面基板を構成するガラス基板上に形成された電極または背面基板を構成するガラス基板上に形成された電極が前記電極被覆用ガラスによって被覆されているＰＤＰを提供する。 In addition, a PDP in which cells are defined by a front substrate, a rear substrate, and partition walls used as a display surface, the electrodes formed on the glass substrate constituting the front substrate or the glass substrate constituting the rear substrate A PDP in which an electrode formed in (1) is covered with the electrode coating glass is provided.
先に述べたように特許文献１に記載の発明はＰＤＰの誘電体層のバス電極起因黄変の発生を低減させることを課題とし、そのような課題を解決できる無鉛のＢ２Ｏ３−ＳｉＯ２−ＺｎＯ−ＢａＯ−Ｂｉ２Ｏ３系ガラスを提供するものであったが、そのガラスは必ずしも前記Ｔが７０％以上となるものではないという問題があった。 As described above, the invention described in Patent Document 1 aims to reduce the occurrence of yellowing caused by the bus electrodes in the dielectric layer of the PDP, and lead-free B 2 O 3 —SiO that can solve such problems. They were to provide a 2 -ZnO-BaO-Bi 2 O 3 based glass, but the glass had always a problem that the T is not to be 70% or more.
本発明者は、Ｂｉ２Ｏ３のような重元素を含むガラスの発明を質量百分率表示組成を用いてなすことに問題があると考え、モル％表示組成を用いる本発明の第１のガラスを想到した。
また、第２のガラスの発明は質量百分率表示組成を用いてなしたものであるが、前記Ｔを高くするためにはＺｎＯ−（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３）を９．５％以上とすることが重要であることを見出し、想到したものである。
The present inventor considers that there is a problem in the invention of a glass containing a heavy element such as Bi 2 O 3 using a mass percentage display composition, and the first glass of the present invention using a mol% display composition is used. I came up with it.
The invention of the second glass is made by using a mass percentage display composition. In order to increase the T, ZnO— (SiO 2 + Al 2 O 3 ) should be 9.5% or more. Has been found and arrived.
ＰｂＯを含有しない電極被覆用ガラスを用いたＰＤＰの輝度を高くすることが可能になる。 It becomes possible to increase the brightness of the PDP using the electrode coating glass not containing PbO.
本発明の電極被覆用ガラス（以下、本発明のガラスという。）は通常、粉末状にして使用される。たとえば、本発明のガラスの粉末は印刷性を付与するための有機ビヒクル等を用いてガラスペーストとされ、ガラス基板上に形成された電極上に前記ガラスペーストを塗布、焼成して電極を被覆する。なお、有機ビヒクルとはエチルセルロース等のバインダをα−テルピネオール等の有機溶剤に溶解したものである。また、先に述べたようなグリーンシート法を用いて電極を被覆してもよい。 The electrode coating glass of the present invention (hereinafter referred to as the glass of the present invention) is usually used in powder form. For example, the glass powder of the present invention is made into a glass paste using an organic vehicle or the like for imparting printability, and the glass paste is applied onto the electrode formed on the glass substrate and fired to coat the electrode. . The organic vehicle is obtained by dissolving a binder such as ethyl cellulose in an organic solvent such as α-terpineol. Further, the electrode may be coated using the green sheet method as described above.
ＰＤＰにおいては、その前面基板のガラス基板の上に透明電極が形成されており、本発明のガラスはその透明電極の被覆に好適に使用される。なお、この場合のＰＤＰは本発明のＰＤＰである。また、本発明のガラスはＰＤＰ背面基板の不透明電極の被覆にも使用でき、この場合のＰＤＰも本発明のＰＤＰである。 In the PDP, a transparent electrode is formed on the glass substrate of the front substrate, and the glass of the present invention is suitably used for coating the transparent electrode. In this case, the PDP is the PDP of the present invention. The glass of the present invention can also be used for coating the opaque electrode of the PDP back substrate, and the PDP in this case is also the PDP of the present invention.
前面基板に用いられるガラス基板の厚さは通常２．８ｍｍであり、このガラス基板自体の波長５５０ｎｍの光に対する透過率（直線光透過率）は典型的には９０％である。
前記透明電極は、たとえば幅０．５ｍｍの帯状であり、それぞれの帯状電極が互いに平行となるように形成される。各帯状電極中心線間の距離は、たとえば０．８３〜１．０ｍｍであり、この場合、透明電極がガラス基板表面を占める割合は５０〜６０％である。
本発明のガラスによってＰＤＰ前面基板の透明電極が被覆されているその前面基板については、波長５５０ｎｍの光に対する直線光透過率（Ｔ５５０）は７０％以上であることが好ましい。７０％未満ではＰＤＰの画質が不十分になるおそれがある。
The thickness of the glass substrate used for the front substrate is usually 2.8 mm, and the transmittance (linear light transmittance) for light having a wavelength of 550 nm of the glass substrate itself is typically 90%.
The transparent electrode has, for example, a strip shape having a width of 0.5 mm, and is formed so that the strip electrodes are parallel to each other. The distance between the strip electrode center lines is, for example, 0.83 to 1.0 mm. In this case, the ratio of the transparent electrode to the surface of the glass substrate is 50 to 60%.
For the front substrate in which the transparent electrode of the PDP front substrate is coated with the glass of the present invention, the linear light transmittance (T 550 ) for light having a wavelength of 550 nm is preferably 70% or more. If it is less than 70%, the image quality of the PDP may be insufficient.
前面基板の電極被覆に本発明のガラスが用いられている本発明のＰＤＰは、たとえば交流方式のものであれば次のようにして製造される。
ガラス基板の表面に、パターニングされた透明電極およびバス電極（典型的にはＡｇ線）を形成し、その上に本発明のガラスの粉末を塗布・焼成してガラス層を形成し、最後に保護膜として酸化マグネシウムの層を形成して前面基板とする。一方、別のガラス基板の表面に、パターニングされたアドレス用電極を形成し、その上に本発明のガラスの粉末もしくはＴｓが本発明のガラスと同程度であるガラスの粉末、またはこれらガラスの粉末をアルミナ等金属酸化物の粉末、チタニア等の無機顔料などと混合したものを塗布・焼成してガラス層を形成し、その上にストライプ状、格子状などに隔壁を形成し、さらに蛍光体層を印刷・焼成して背面基板とする。なお、前記ガラス層を形成するのにガラスペーストを使用せず、グリーンシート法等を用いてもよい。
前面基板と背面基板の周縁にシール材をディスペンサで塗布し、前記透明電極と前記アドレス用電極が対向するように組み立てた後、焼成してＰＤＰとする。そしてＰＤＰ内部を排気して、放電空間（セル）にＮｅやＨｅ−Ｘｅなどの放電ガスを封入する。
なお、上記の例は交流方式のものであるが、本発明は直流方式のものにも適用できる。
The PDP of the present invention in which the glass of the present invention is used for electrode coating on the front substrate is manufactured as follows if it is of an alternating current type, for example.
A patterned transparent electrode and a bus electrode (typically Ag wire) are formed on the surface of the glass substrate, and the glass powder of the present invention is applied and fired thereon to form a glass layer, and finally protected. A magnesium oxide layer is formed as a film to form a front substrate. On the other hand, a patterned address electrode is formed on the surface of another glass substrate, and the glass powder of the present invention or the glass powder of which Ts is comparable to the glass of the present invention, or the powder of these glasses A glass layer is formed by applying and firing a powder of a metal oxide such as alumina mixed with an inorganic pigment such as titania to form a glass layer, on which a barrier rib is formed in a stripe shape, a lattice shape, etc., and a phosphor layer Is printed and fired to obtain a back substrate. The glass layer may be formed by using a green sheet method or the like without using glass paste.
A sealant is applied to the peripheral edges of the front substrate and the rear substrate with a dispenser, assembled so that the transparent electrode and the address electrode face each other, and then baked to form a PDP. Then, the inside of the PDP is exhausted, and a discharge gas such as Ne or He—Xe is sealed in the discharge space (cell).
Although the above example is an AC type, the present invention can also be applied to a DC type.
本発明のガラスのＴｓは６０５℃以下であることが好ましい。６０５℃超では焼成温度が高くなりガラス基板が変形等するおそれがある。典型的には５８０〜６００℃である。
本発明のガラスのガラス転移点（Ｔｇ）は４８０〜５００℃であることが好ましい。
本発明のガラスの５０〜３５０℃における平均線膨張係数（α）は７０×１０−７〜８０×１０−７／℃であることが好ましい。
It is preferable that Ts of the glass of this invention is 605 degrees C or less. If it exceeds 605 ° C., the firing temperature becomes high and the glass substrate may be deformed. The temperature is typically 580 to 600 ° C.
The glass transition point (Tg) of the glass of the present invention is preferably 480 to 500 ° C.
The average linear expansion coefficient at 50 to 350 ° C. of glass of the present invention (alpha) is preferably 70 × 10 -7 ~80 × 10 -7 / ℃.
本発明のガラスの２０℃、１ｋＨｚにおける比誘電率（ε）は１１．０〜１２．５であることが好ましい。εがこの範囲外では、従来使用されているＰｂＯ含有・電極被覆用ガラスのεとの相違が大きくなってセルの静電容量が大きく変化し、従来の駆動回路が使用できなくなるおそれがある。 The relative dielectric constant (ε) of the glass of the present invention at 20 ° C. and 1 kHz is preferably 11.0 to 12.5. If ε is outside this range, the difference from ε of the conventionally used PbO-containing / electrode-covering glass becomes large, and the capacitance of the cell changes greatly, and the conventional drive circuit may not be usable.
本発明の第１のガラスの組成についてモル％を単に％と表示して以下で説明する。
Ｂ２Ｏ３はガラスネットワークフォーマであり、必須である。２８％未満では焼成して得られたガラス層の透過率（以下、単に透過率ということがある。）が低下しやすくなる。典型的には２９％以上である。３２％超ではやはり透過率が低下しやすくなる。
ＳｉＯ２はガラスネットワークフォーマであり、必須である。１１％未満ではガラスが不安定になる。典型的には１４％以上である。１７％超では透過率が低下しやすくなる。典型的には１６％以下である。
ＺｎＯはＴｓを低下させる成分であり、必須である。２９％未満では透過率が低下しやすくなる。典型的には３１％以上である。３５％超ではガラスが不安定になる。
The composition of the first glass of the present invention will be described below with mol% simply expressed as%.
B 2 O 3 is a glass network former and is essential. If it is less than 28%, the transmittance of the glass layer obtained by firing (hereinafter sometimes simply referred to as transmittance) tends to decrease. Typically 29% or more. If it exceeds 32%, the transmittance tends to decrease.
SiO 2 is a glass network former and is essential. If it is less than 11%, the glass becomes unstable. Typically 14% or more. If it exceeds 17%, the transmittance tends to decrease. Typically 16% or less.
ZnO is a component that lowers Ts and is essential. If it is less than 29%, the transmittance tends to decrease. Typically 31% or more. If it exceeds 35%, the glass becomes unstable.
ＢａＯはＴｓを低下させる成分であり、必須である。１０％未満では透過率が低下しやすくなる。１４％超ではαが大きくなるおそれがある。
Ｂｉ２Ｏ３はＴｓを低下させる成分であり、必須である。７％未満ではＴｓが高くなる。典型的には８％以上である。１０％超ではαまたはεが大きくなるおそれがある。
Ａｌ２Ｏ３は必須ではないが、ガラスを安定化させる等のために５％まで含有してもよい。５％超では透過率が低下しやすくなる。Ａｌ２Ｏ３を含有する場合その含有量は典型的には１．５％以上である。
BaO is a component that lowers Ts and is essential. If it is less than 10%, the transmittance tends to decrease. If it exceeds 14%, α tends to be large.
Bi 2 O 3 is a component that lowers Ts and is essential. If it is less than 7%, Ts becomes high. Typically 8% or more. If it exceeds 10%, α or ε may increase.
Al 2 O 3 is not essential, but may be contained up to 5% in order to stabilize the glass. If it exceeds 5%, the transmittance tends to decrease. When Al 2 O 3 is contained, its content is typically 1.5% or more.
本発明の第１のガラスは本質的に上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲で他の成分を含有してもよい。その場合、当該他の成分の含有量の合計は４％以下であることが好ましい。
そのような成分としては、バス電極起因黄変抑制等を目的とするＣｅＯ２、ＭｎＯ２、ＣｏＯ、ガラスの粘性挙動を緩やかにする等を目的とするＭｇＯ、樹脂の分解の促進等を目的とするＳｎＯ２、εの調整等を目的とするＬａ２Ｏ３などが例示される。
The first glass of the present invention consists essentially of the above components, but may contain other components as long as the object of the present invention is not impaired. In that case, the total content of the other components is preferably 4% or less.
Examples of such components include CeO 2 , MnO 2 , CoO for the purpose of suppressing yellowing caused by bus electrodes, MgO for the purpose of slowing the viscosity behavior of glass, and the purpose of promoting the decomposition of the resin. Examples include SnO 2 and La 2 O 3 for the purpose of adjusting ε and the like.
本発明の第１のガラスはＰｂＯを含有しないが、この他にＰ２Ｏ５も含有しないことが好ましい。Ｐ２Ｏ５を含有すると透過率が低下するおそれがある。
また、ＣｕＯを含有する場合その含有量は０．３％以下であることが好ましい。０．２％超では透過率が低下するおそれがある。
ＴｉＯ２を含有する場合その含有量は２％以下であることが好ましい。２％超ではガラスが不安定になるまたは透過率が低下するおそれがある。
First glass of the present invention does not contain PbO, it is preferred not to contain even P 2 O 5 in the other. If P 2 O 5 is contained, the transmittance may decrease.
Moreover, when it contains CuO, it is preferable that the content is 0.3% or less. If it exceeds 0.2%, the transmittance may decrease.
When TiO 2 is contained, the content is preferably 2% or less. If it exceeds 2%, the glass may become unstable or the transmittance may be lowered.
次に、本発明の第２のガラスの組成について質量百分率表示を用いて説明する。
Ｂ２Ｏ３はガラスネットワークフォーマであり、必須である。１４％未満では透過率が低下しやすくなる。典型的には１６％以上である。２０％超ではやはり透過率が低下しやすくなる。
ＳｉＯ２はガラスネットワークフォーマであり、必須である。６％未満ではガラスが不安定になる。９％超では透過率が低下しやすくなる。
ＺｎＯはＴｓを低下させる成分であり、必須である。２０％未満では透過率が低下しやすくなる。典型的には２１％以上である。２５％超ではガラスが不安定になる。
Next, the composition of the second glass of the present invention will be described using mass percentage display.
B 2 O 3 is a glass network former and is essential. If it is less than 14%, the transmittance tends to decrease. Typically 16% or more. If it exceeds 20%, the transmittance tends to decrease.
SiO 2 is a glass network former and is essential. If it is less than 6%, the glass becomes unstable. If it exceeds 9%, the transmittance tends to decrease.
ZnO is a component that lowers Ts and is essential. If it is less than 20%, the transmittance tends to decrease. Typically 21% or more. If it exceeds 25%, the glass becomes unstable.
ＢａＯはＴｓを低下させる成分であり、必須である。１０％未満では透過率が低下しやすくなる。典型的には１２％以上である。１９％超ではαが大きくなるおそれがある。典型的には１７．５％以下である。
Ｂｉ２Ｏ３はＴｓを低下させる成分であり、必須である。３０％未満ではＴｓが高くなる。典型的には３３％以上である。３８％超ではαまたはεが大きくなるおそれがある。
Ａｌ２Ｏ３は必須ではないが、ガラスを安定化させる等のために５％まで含有してもよい。５％超では透過率が低下しやすくなる。典型的には４％以下である。Ａｌ２Ｏ３を含有する場合その含有量は典型的には１．５％以上である。
BaO is a component that lowers Ts and is essential. If it is less than 10%, the transmittance tends to decrease. Typically 12% or more. If it exceeds 19%, α tends to be large. Typically, it is 17.5% or less.
Bi 2 O 3 is a component that lowers Ts and is essential. If it is less than 30%, Ts becomes high. Typically 33% or more. If it exceeds 38%, α or ε may increase.
Al 2 O 3 is not essential, but may be contained up to 5% in order to stabilize the glass. If it exceeds 5%, the transmittance tends to decrease. Typically 4% or less. When Al 2 O 3 is contained, its content is typically 1.5% or more.
ＺｎＯ−（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３）すなわちＺｎＯ含有量からＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の含有量の和を減じた値が９．５％未満ではＴが低下する。好ましくは１０％以上である。また、典型的には１７％以下である。 If the value obtained by subtracting the sum of the content of SiO 2 and Al 2 O 3 from the content of ZnO— (SiO 2 + Al 2 O 3 ), that is, ZnO is less than 9.5%, T decreases. Preferably it is 10% or more. Moreover, it is typically 17% or less.
本発明の第２のガラスは本質的に上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲で他の成分を含有してもよい。その場合、当該他の成分の含有量の合計は８％以下であることが好ましい。
そのような成分としては、バス電極起因黄変抑制等を目的とするＣｅＯ２、ＭｎＯ２、ＣｏＯ、ガラスの粘性挙動を緩やかにする等を目的とするＭｇＯ、樹脂の分解の促進等を目的とするＳｎＯ２、εの調整等を目的とするＬａ２Ｏ３などが例示される。
Although the 2nd glass of this invention consists essentially of the said component, you may contain another component in the range which does not impair the objective of this invention. In that case, the total content of the other components is preferably 8% or less.
Examples of such components include CeO 2 , MnO 2 , CoO for the purpose of suppressing yellowing caused by bus electrodes, MgO for the purpose of slowing the viscous behavior of glass, etc., and the purpose of promoting the decomposition of the resin Examples include SnO 2 and La 2 O 3 for the purpose of adjusting ε and the like.
本発明の第２のガラスはＰｂＯを含有しないが、この他にＰ２Ｏ５も含有しないことが好ましい。Ｐ２Ｏ５を含有すると透過率が低下するおそれがある。
また、ＣｕＯを含有する場合その含有量は０．２％以下であることが好ましい。０．２％超では透過率が低下するおそれがある。
ＴｉＯ２を含有する場合その含有量は１．２％以下であることが好ましい。１．２％超ではガラスが不安定になるまたは透過率が低下するおそれがある。
The second glass of the present invention does not contain PbO, it is preferred not to contain even P 2 O 5 in the other. If P 2 O 5 is contained, the transmittance may decrease.
Moreover, when it contains CuO, it is preferable that the content is 0.2% or less. If it exceeds 0.2%, the transmittance may decrease.
When TiO 2 is contained, the content is preferably 1.2% or less. If it exceeds 1.2%, the glass may become unstable or the transmittance may be lowered.
表１、３、５のＢ２Ｏ３からＣｏＯまでの欄にモル％表示で示す組成となるように原料を調合して混合し、１２００〜１３５０℃の電気炉中で白金ルツボを用いて１時間溶融し、薄板状ガラスに成形した後、ボールミルで粉砕し、風力分級により分級し、ガラス粉末とした。例１〜２０は実施例、例２１、２２は比較例である。なお、表２、４、６には各ガラスの質量百分率表示組成を示し、「Ｚｎ−（Ｓｉ＋Ａｌ）」欄にはＺｎＯ−（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３）を示す。 In Tables 1, 3 and 5, the raw materials were prepared and mixed so as to have a composition represented by mol% in the columns from B 2 O 3 to CoO, and 1 was obtained using a platinum crucible in an electric furnace at 1200 to 1350 ° C. After being melted for a period of time and formed into a sheet glass, it was pulverized with a ball mill and classified by air classification to obtain a glass powder. Examples 1 to 20 are examples, and examples 21 and 22 are comparative examples. Tables 2, 4, and 6 show the mass percentage display composition of each glass, and the “Zn— (Si + Al)” column shows ZnO— (SiO 2 + Al 2 O 3 ).
これらガラスについて次のようにしてＴｇ（単位：℃）、Ｔｓ（単位：℃）、α（単位：１０−７／℃）、εを測定した。結果を表１、３、５に示す。
Ｔｇ：示差熱分析装置を用いて測定した。
Ｔｓ：示差熱分析装置を用いて測定した。
α：ガラス粉末を成形後、５８０℃に１０分間保持する焼成によって得た焼結体を直径が５ｍｍ、長さが２ｃｍの円柱形状に加工し、熱膨張計で５０〜３５０℃における平均線熱膨張係数を測定した。
ε：溶融ガラスを徐冷して板状に成形し、直径５０ｍｍ、厚さ３ｍｍの直径形状に切削研磨加工し、その両面に金電極を真空蒸着法により形成してサンプルとした。このサンプルの２０℃、１ｋＨｚにおける比誘電率をＬＣＲメータを用いて測定した。
Tg (unit: ° C.), Ts (unit: ° C.), α (unit: 10 −7 / ° C.), and ε were measured for these glasses as follows. The results are shown in Tables 1, 3, and 5.
Tg: Measured using a differential thermal analyzer.
Ts: measured using a differential thermal analyzer.
α: After the glass powder is molded, a sintered body obtained by firing held at 580 ° C. for 10 minutes is processed into a cylindrical shape having a diameter of 5 mm and a length of 2 cm, and an average linear heat at 50 to 350 ° C. with a thermal dilatometer The expansion coefficient was measured.
ε: Molten glass was gradually cooled and formed into a plate shape, cut and polished into a diameter shape with a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm, and gold electrodes were formed on both surfaces thereof by a vacuum deposition method to prepare a sample. The relative dielectric constant of this sample at 20 ° C. and 1 kHz was measured using an LCR meter.
前記ガラス粉末３２．５ｇを有機ビヒクル１２．５ｇと混練してガラスペーストを作製した。なお、有機ビヒクルは、α−テルピネオールにエチルセルロースを質量百分率表示で１０％溶解して作製した。 A glass paste was prepared by kneading 32.5 g of the glass powder with 12.5 g of an organic vehicle. The organic vehicle was prepared by dissolving 10% ethyl cellulose in α-terpineol in terms of mass percentage.
また、大きさ５０ｍｍ×７５ｍｍ、厚さ２．８ｍｍのガラス基板（旭硝子社製ＰＤ２００）を２枚用意する。フロート法で製造されたこれらガラス基板のトップ面（フロート成形時に溶融スズと接触していない方の面）の４８ｍｍ×３８ｍｍの部分に前記ガラスペーストを均一に１００または１２５μｍ厚みのメタルマスクを用いてブレードコートし、１２０℃で１０分間乾燥した。これらガラス基板を昇温速度１０℃／分で温度がそれぞれ５７０℃、５９０℃に達するまで加熱し、その温度に３０分間保持して焼成した。このようにしてガラス基板上に形成されたガラス層の厚さは２０〜３０μｍであった。 Also, two glass substrates (PD200 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) having a size of 50 mm × 75 mm and a thickness of 2.8 mm are prepared. The glass paste is uniformly applied to a 48 mm × 38 mm portion of the top surface of the glass substrate manufactured by the float process (the surface not in contact with molten tin at the time of float forming) using a metal mask having a thickness of 100 or 125 μm. Blade coated and dried at 120 ° C. for 10 minutes. These glass substrates were heated at a heating rate of 10 ° C./min until the temperatures reached 570 ° C. and 590 ° C., respectively, held at that temperature for 30 minutes, and fired. Thus, the thickness of the glass layer formed on the glass substrate was 20-30 micrometers.
これらガラス層付きガラス基板について、波長５５０ｎｍの直線光の透過率を以下に述べるようにして測定した。結果を表に示す。なお、Ｔ（５７０℃）、Ｔ（５９０℃）はそれぞれ５７０℃、５９０℃で焼成した場合の透過率である。 About these glass substrates with a glass layer, the transmittance | permeability of the linear light of wavelength 550nm was measured as described below. The results are shown in the table. T (570 ° C.) and T (590 ° C.) are transmittances when fired at 570 ° C. and 590 ° C., respectively.
透過率：日立製作所社製自記分光光度計Ｕ−４１００を用いて波長５５０ｎｍの直線光の透過率を測定した（試料のない状態を１００％とした）。この透過率は、好ましくは７０％以上である。 Transmittance: Transmittance of linear light having a wavelength of 550 nm was measured using a self-recording spectrophotometer U-4100 manufactured by Hitachi, Ltd. (the state where there was no sample was taken as 100%). This transmittance is preferably 70% or more.
ＰＤＰ基板の電極被覆に利用できる。
It can be used for electrode coating of a PDP substrate.
Claims (3)
A plasma display panel in which cells are defined by a front substrate, a rear substrate and partition walls used as a display surface, the electrodes formed on the glass substrate constituting the front substrate or the glass substrate constituting the rear substrate A plasma display panel in which the electrode formed on the substrate is covered with the electrode coating glass according to claim 1.
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