JP2007095513A - Method of manufacturing optical display device - Google Patents

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Takahisa Shimizu
貴央 清水
Koji Takeshita
耕二 竹下
Hironori Kawakami
宏典 川上
Nahoko Kadota
奈歩子 門田
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Toppan Printing Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing an optical display device, in which when forming a functional thin film included in the optical display device by the letterpress printing method, the quantity of ink held on a printing plate is controlled to make the thickness of the functional thin film uniform, thereby enabling display without unevenness. <P>SOLUTION: In the method of manufacturing an organic EL display device 9 as an optical display device having an organic light emitting layer 5 as a functional thin film layer by the letterpress printing method, the surface energy of a projection part of the letterpress printing plate is 50-80 mN/m<SP>2</SP>and the surface energy of a recess part thereof is 20-50 mN/m<SP>2</SP>, wherein the UV-ozone treatment or the low temperature plasma treatment is applied to the projection part. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、視認可能な画像を表示する光学式表示装置の製造方法に関するものであり、特に有機エレクトロルミネッセンス表示装置(以下有機EL表示装置と記す)の有機発光層の形成方法に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing an optical display device that displays a visually recognizable image, and more particularly to a method for forming an organic light emitting layer of an organic electroluminescence display device (hereinafter referred to as an organic EL display device).

有機EL素子は、ふたつの対向する電極の間に有機発光材料からなる発光層が形成され、発光層に電流を流すことで発光させるものであるが、効率よく発光させるには発光層の膜厚が重要であり、100nm程度の薄膜にする必要がある。さらに、これをディスプレイ化するには高精細にパターニングする必要がある。   In an organic EL element, a light emitting layer made of an organic light emitting material is formed between two opposing electrodes, and light is emitted by passing a current through the light emitting layer. Is important, and a thin film of about 100 nm is required. Further, in order to make this a display, it is necessary to pattern it with high definition.

上記発光層を形成する有機発光材料には、低分子材料と高分子材料があり、一般に低分子材料は抵抗加熱蒸着法等により薄膜形成し、このときに微細パターンのマスクを用いてパターニングするが、この方法では基板が大型化すればするほどパターニング精度が出難いという問題がある。   The organic light emitting material for forming the light emitting layer includes a low molecular material and a high molecular material. Generally, a low molecular material is formed into a thin film by resistance heating vapor deposition or the like, and is patterned using a fine pattern mask at this time. In this method, there is a problem that the patterning accuracy is less likely as the substrate becomes larger.

そこで、最近では高分子材料を溶剤に溶かして塗工液にし、これをウェットコーティング方法で薄膜形成する方法が試みられるようになってきている。薄膜形成するためのウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、塗出コート法、ディップコート法等があるが、高精細にパターニングしたりRGB3色に塗り分けしたりするためには、これらのウェットコーティング法では難しく、塗り分け・パターニングを得意とする印刷法による薄膜形成が最も有効であると考えられる。   Therefore, recently, a method of forming a thin film by a wet coating method, in which a polymer material is dissolved in a solvent to form a coating solution, has been tried. As a wet coating method for forming a thin film, there are a spin coating method, a bar coating method, a coating coating method, a dip coating method, and the like. These wet coating methods are difficult, and it is thought that thin film formation by a printing method that is good at coating and patterning is most effective.

さらに、各種印刷法のなかでも、ガラスを基板とする有機EL表示装置や液晶表示装置等の光学式表示装置では、グラビア印刷法等のように金属製の印刷版等の硬い版を用いる方法は不向きであり、弾性を有するゴムブランケットを用いるオフセット印刷法や同じく弾性を有するゴム版や樹脂版を用いる凸版印刷法が適正である。実際ににこれらの印刷法による試みとして、オフセット印刷による方法(例えば、特許文献1参照)、凸版印刷による方法(例えば、特許文献2参照)などが提唱されている。   Furthermore, among various printing methods, in an optical display device such as an organic EL display device or a liquid crystal display device using a glass substrate, a method of using a hard plate such as a metal printing plate such as a gravure printing method is used. An offset printing method using an unsuitable elastic rubber blanket and a relief printing method using an elastic rubber plate or resin plate are also appropriate. Actually, as an attempt by these printing methods, a method by offset printing (for example, see Patent Document 1), a method by letterpress printing (for example, see Patent Document 2), and the like have been proposed.

一方、高分子有機発光材料は、アルコールや脂肪族系の有機溶剤に対する溶解性が悪く、塗工液(以下インキと記す)化するには、トルエンやキシレン等の芳香族有機溶剤を用いて溶解させる必要があり、よって高分子有機発光材料のインキ(以下有機ELインキと記す)は芳香族有機溶剤のインキとなっている。ところが、オフセット印刷に用いるゴムブランケットはトルエンやキシレン等の芳香族有機溶剤によって膨潤や変形を起こしやすいという問題がある。オフセット印刷は、画線が形成されている版にインキを付け、そのインキを弾性をもつブランケットに転移させ、さらにブランケットから印刷基材にインキを転写することで印刷する方式であるが、インキの転移を仲介するブランケットは弾性をもつことが要求され、一般にゴム製のものが使われる。使用されるゴムの種類はオレフィン系のゴムからシリコーン系のゴムまで多様であるが、いずれのゴムもトルエン、キシレン系の溶剤に対して耐性がなく、膨潤や変形が起こりやすく、よって有機ELインキの印刷には不適切である。   On the other hand, polymeric organic light-emitting materials are poorly soluble in alcohol and aliphatic organic solvents, and are dissolved in aromatic organic solvents such as toluene and xylene to make a coating liquid (hereinafter referred to as ink). Therefore, the organic organic light-emitting material ink (hereinafter referred to as organic EL ink) is an aromatic organic solvent ink. However, a rubber blanket used for offset printing has a problem that it is easily swollen or deformed by an aromatic organic solvent such as toluene or xylene. Offset printing is a system in which ink is applied to a plate on which image lines are formed, the ink is transferred to an elastic blanket, and the ink is transferred from the blanket to a printing substrate. The blanket that mediates the transition is required to have elasticity, and rubber is generally used. The types of rubbers used range from olefin rubbers to silicone rubbers, but none of these rubbers are resistant to toluene or xylene solvents and are prone to swelling and deformation. It is inappropriate for printing.

いずれにおいても、有機ELインキを印刷する際、インキの転移量を確保するためには、版の表面性を制御する必要がある。この原因は、有機EL材料が溶解する溶剤の種類が限られていること、溶解度が小さいことから、自ずと、溶剤、固形分量、粘度等が決まってしまうためである。また、添加剤を加えこのようなインキ側の制限を緩和し、粘度を上
げる、レベリング性を良くするなどといった方法も考えられるが、有機EL材料に異物を混入させると、その発光の効率、寿命を著しく低下させてしまうという問題点があり、添加剤を使用することは難しい。すなわち、このようにインキ側の制約がある為に、版の表面性を制御することでインキの転移量、膜厚の均一化等を制御する必要がある。また、これら溶媒や添加物の制限に関しては光学式表示装置を構成するカラーフィルタや電極に代表される導電性パターンを形成する場合においても共通する問題となる。
In any case, when the organic EL ink is printed, it is necessary to control the surface property of the plate in order to ensure the transfer amount of the ink. This is because the type of solvent in which the organic EL material dissolves is limited and the solubility is small, so that the solvent, solid content, viscosity, and the like are naturally determined. In addition, methods such as adding additives to alleviate such restrictions on the ink side, increase viscosity, and improve leveling properties are also conceivable. However, if foreign substances are mixed in the organic EL material, the light emission efficiency and lifetime are increased. It is difficult to use an additive. That is, since there are restrictions on the ink side as described above, it is necessary to control the transfer amount of ink, the uniformity of film thickness, and the like by controlling the surface properties of the plate. In addition, the limitation of these solvents and additives is a common problem even in the case of forming a conductive pattern typified by a color filter and an electrode constituting an optical display device.

以下に、上記先行技術文献を示す。
特開2001−93668公報 特開2001−155858公報
The above prior art documents are shown below.
JP 2001-93668 A JP 2001-155858 A

本発明は、かかる従来技術の問題点を解決するものであり、その課題とするところは、凸版印刷法により光学式表示装置が具備する機能性薄膜を形成する際において、印刷版に保持されるインキの量を制御し、機能性薄膜の膜厚を均一とすることによって、ムラのない表示の可能な光学式表示装置の製造方法を提供することにある。   The present invention solves the problems of the prior art, and the problem is that the printing plate retains the functional thin film included in the optical display device by the relief printing method. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing an optical display device capable of displaying without unevenness by controlling the amount of ink and making the thickness of a functional thin film uniform.

本発明に於いて上記課題を達成するために、まず請求項1の発明では、機能性薄膜を凸版印刷法によって形成する光学式表示装置の製造方法であって、当該凸版印刷法に用いる印刷版の凸部の表面エネルギーが50〜80mN/m2、凹部の表面エネルギーが20〜50mN/m2であることを特徴とする光学式表示装置の製造方法としたものである。 In order to achieve the above object in the present invention, first, the invention of claim 1 is a method of manufacturing an optical display device in which a functional thin film is formed by a relief printing method, and is a printing plate used in the relief printing method. The surface energy of the convex part is 50 to 80 mN / m 2 , and the surface energy of the concave part is 20 to 50 mN / m 2 .

また、請求項2の発明では、前記印刷版の凸部はUVオゾン処理が施されていることを特徴とする請求項1記載の光学式表示装置の製造方法としたものである。   According to a second aspect of the present invention, there is provided the method for manufacturing an optical display device according to the first aspect, wherein the convex portions of the printing plate are subjected to UV ozone treatment.

また、請求項2の発明では、前記印刷版の凸部は低温プラズマ処理が施されていることを特徴とする請求項1記載の光学式表示装置の製造方法としたものである。   According to a second aspect of the present invention, there is provided the method for manufacturing an optical display device according to the first aspect, wherein the convex portion of the printing plate is subjected to a low temperature plasma treatment.

また、請求項3の発明では、前記印刷版は水現像可能な樹脂からなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の光学式表示装置の製造方法としたものである。   According to a third aspect of the present invention, there is provided the method for manufacturing an optical display device according to any one of the first to third aspects, wherein the printing plate is made of a water developable resin.

また、請求項4の発明では、前記光学式表示装置は機能性薄膜が形成されている有機エレクトロルミネッセンス表示装置であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の光学式表示装置の製造方法としたものである。   According to a fourth aspect of the present invention, the optical display device is an organic electroluminescence display device in which a functional thin film is formed. The optical display according to any one of the first to fourth aspects, This is a device manufacturing method.

また、請求項5の発明では、前記機能性薄膜は前記有機エレクトロルミネッセンス表示装置を構成する有機発光層であることを特徴とする請求項5記載の光学式表示装置の製造方法としたものである。   According to a fifth aspect of the present invention, the functional thin film is an organic light emitting layer constituting the organic electroluminescent display device. The method for manufacturing an optical display device according to the fifth aspect is provided. .

上記請求項でいう光学式表示装置とは、静止画、動画にかかわらず視認可能な画像を表示することのできる装置を指し、例えば有機EL表示装置、液晶表示装置等が挙げられる。   The optical display device in the above claims refers to a device capable of displaying a visible image regardless of a still image or a moving image, and examples thereof include an organic EL display device and a liquid crystal display device.

また、機能性薄膜とは、光学式表示のために必要な機能を果たす薄膜を指し、有機EL表示装置においては電極、薄膜トランジスタ、正孔輸送/注入層、有機発光層が、また液晶表示装置においては電極、薄膜トランジスタ、カラーフィルタ層を挙げることができる
。ここでは有機エレクトロルミネッセンス表示装置(有機EL表示装置)の有機発光層を形成する場合について説明する。前記有機EL表示装置とは少なくとも有機発光層と、これを挟む一対の電極から構成される。
A functional thin film refers to a thin film that performs a function necessary for optical display. In an organic EL display device, an electrode, a thin film transistor, a hole transport / injection layer, an organic light emitting layer, and a liquid crystal display device. Can include electrodes, thin film transistors, and color filter layers. Here, a case where an organic light emitting layer of an organic electroluminescence display device (organic EL display device) is formed will be described. The organic EL display device includes at least an organic light emitting layer and a pair of electrodes sandwiching the organic light emitting layer.

また、凸版印刷方式とは広義には画線部が凸形状をしている版すなわち凸版を用いるすべての印刷方式をいうが、本明細書で述べる凸版印刷方式とはゴム版または樹脂版からなる凸版を用いる印刷方式を示すこととする。また、印刷業界ではゴム凸版を用いるものをフレキソ印刷といい、樹脂凸版を用いるものを樹脂凸版印刷と区別して呼んでいるが、本明細書では両者を特に区別せず、凸版印刷方式と呼ぶこととする。凸版印刷方式で用いられるゴム版や樹脂版は、現在は感光性のゴム版や樹脂版が用いられが、版の材質も多様化し、感光性ゴム版と感光性樹脂版の区別も不明確になってきており、本明細書ではこの区別も特に設けず、両者とも感光性樹脂版と呼ぶこととする。感光性樹脂凸版とは、画線部にのみ光が透過するマスクを利用して感光性樹脂を露光し画線部を硬化させ、未硬化部分を溶剤等で洗い流すことで凸版を形成する版であるが、主に溶剤で洗い出す溶剤現像タイプと水で洗い出す水現像タイプのものがあり、それぞれ版材が親水性成分で成るか疎水性成分で成るかで異なる。   In addition, the letterpress printing method is a printing method in which the image portion has a convex shape, that is, any printing method using a letterpress, but the letterpress printing method described in this specification is composed of a rubber plate or a resin plate. A printing method using a letterpress will be shown. In the printing industry, the one using rubber letterpress is called flexographic printing, and the one using resin letterpress is distinguished from resin letterpress printing. And Currently, photosensitive rubber plates and resin plates are used in the relief printing system, but the material of the plates is diversified, and the distinction between photosensitive rubber plates and photosensitive resin plates is unclear. In this specification, this distinction is not particularly provided, and both are referred to as photosensitive resin plates. The photosensitive resin relief plate is a plate that forms a relief plate by exposing the photosensitive resin using a mask that transmits light only to the image area, curing the image area, and washing away the uncured portion with a solvent or the like. There are two types: a solvent development type in which washing is mainly carried out with a solvent and a water development type in which washing is carried out with water, depending on whether the plate material comprises a hydrophilic component or a hydrophobic component.

本発明は以上の構成であるから、下記に示す如き効果がある。   Since this invention is the above structure, there exist the following effects.

即ち、上記請求項1に係る発明によれば、機能性薄膜を凸版印刷法によって形成する光学式表示装置の製造方法において、機能性薄膜を形成するインキは、その機能性を損なわないために溶媒や添加物に制限が多いが、上記凸版印刷法に用いる印刷版の凸部の表面エネルギーを50〜80mN/m2、凹部の表面エネルギーを20〜50mN/m2の範囲とすることによって、被印刷基板へのインキの転移量を適正な範囲に保ち、印刷されたパターンの膜厚を均一に保つことができる。 That is, according to the first aspect of the invention, in the method of manufacturing an optical display device in which the functional thin film is formed by the relief printing method, the ink for forming the functional thin film is a solvent in order not to impair the functionality. Although there are many restrictions on additives, the surface energy of the convex part of the printing plate used in the above-mentioned relief printing method is 50 to 80 mN / m 2 , and the surface energy of the concave part is in the range of 20 to 50 mN / m 2. The amount of ink transferred to the printed circuit board can be kept within an appropriate range, and the film thickness of the printed pattern can be kept uniform.

また、上記請求項2、3に係る発明によれば、印刷版の凸部をUVオゾン処理により、あるいは低温プラズマにより処理することによって、印刷版の表面エネルギーを機能性薄膜を形成するためのインキが適正な量になるように調整され、保持され、被印刷基板に転移する範囲に改質することができる。   Further, according to the inventions according to claims 2 and 3, the ink for forming the functional thin film on the surface energy of the printing plate by treating the convex portions of the printing plate by UV ozone treatment or by low temperature plasma. Can be adjusted so as to be an appropriate amount, and can be modified so as to be transferred to the substrate to be printed.

また、上記請求項4に係る発明によれば、印刷版は水現像可能な樹脂から光学式表示装置の製造方法とすることによって、水現像可能な樹脂はSP(Solubility parameter)値が高い溶媒に対して耐性が高いため、SP値が高い溶媒を用いることが多い機能性薄膜を形成するためのインキを好適に印刷することができる。   According to the fourth aspect of the present invention, the printing plate is made from a water-developable resin and a method for producing an optical display device, whereby the water-developable resin becomes a solvent having a high SP (Solubility parameter) value. Since the resistance is high, an ink for forming a functional thin film often using a solvent having a high SP value can be suitably printed.

従って本発明は、凸版印刷法により光学式表示装置が具備する機能性薄膜を形成する際において、印刷版に保持されるインキの量を制御し、機能性薄膜の膜厚を均一とすることができたため、ムラがなく、ショートのない光学式表示装置のうちの有機EL表示装置の製造方法を提供することができる。   Therefore, the present invention can control the amount of ink retained on the printing plate when forming the functional thin film included in the optical display device by the relief printing method, and make the film thickness of the functional thin film uniform. Therefore, it is possible to provide a method of manufacturing an organic EL display device among optical display devices that are free from unevenness and short-circuited.

以下本発明を実施するための最良の形態を詳細に説明する。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described in detail.

本発明における有機EL素子の発光層の形成は、凸版印刷法で行う。樹脂凸版による、凸版印刷法、ゴム性のフレキソ版を用いて印刷を行うことができるが、有機EL材料は、芳香族系の有機溶剤に可溶であり、高精細なディスプレイに適用する為には、高い溶剤耐性を要求される。水現像タイプの感光性樹脂は親水成分を多く含むことで耐溶剤性が向上し、よってトルエン・キシレン等の芳香族溶剤を使用する有機ELインキの印刷版として
使用可能であり、また耐溶剤性をSP値で判断することもでき、親水成分の多い樹脂版はトルエン・キシレンのSP値8〜9の範囲よりも離れた高い値を示し、12以上で充分なトルエン・キシレン耐性を示す。また、溶剤耐性を直接的に、実際にトルエンに浸漬したときの膨張率で評価することもでき、24時間浸漬後の膨張1%以下の場合、有機ELインキ用版として使用可能である。水現像タイプの感光性樹脂凸版は高精細化、耐溶剤性の面で非常に好ましい。
Formation of the light emitting layer of the organic EL element in the present invention is performed by a relief printing method. Printing can be performed using a letterpress printing method using a resin letterpress, or a rubber-type flexographic plate, but the organic EL material is soluble in an aromatic organic solvent and is used for high-definition displays. Is required to have high solvent resistance. The water-developable photosensitive resin improves the solvent resistance by containing many hydrophilic components, so it can be used as a printing plate for organic EL inks that use aromatic solvents such as toluene and xylene. The resin plate with a large amount of hydrophilic components shows a high value far from the SP value range of 8 to 9 of toluene / xylene, and a sufficient toluene / xylene resistance at 12 or more. Further, the solvent resistance can be directly evaluated by the expansion rate when actually immersed in toluene. When the expansion is 1% or less after immersion for 24 hours, it can be used as a plate for organic EL ink. A water-developable photosensitive resin relief is very preferable in terms of high definition and solvent resistance.

また、版表面は、表面改質を行う必要がある。それは、ディスプレイが高精細になればなるほど、インキが載る印刷版の凸部のサイズが小さくなるため、インキの転移量が減少してしまうためである。また、現像を必要とする感光性樹脂版では、現像によって溶け出した成分が、凸部を覆い、版面の表面エネルギーが大きくなり、インキの着肉量が少なくなるので、それを改質する為にも表面改質処理を施す必要がある。   Further, the plate surface needs to be surface-modified. This is because the higher the definition of the display is, the smaller the size of the convex portion of the printing plate on which the ink is placed, so that the amount of ink transfer decreases. Also, in photosensitive resin plates that require development, the components dissolved by development cover the projections, increasing the surface energy of the plate surface and reducing the amount of ink that is deposited. It is also necessary to perform surface modification treatment.

上記表面改質処理としては、本発明では紫外線を照射するUVオゾン処理または低温プラズマ処理としたもので、その低温プラズマ処理としてはコロナ放電処理、グロー放電処理、大気圧プラズマ処理等を用いることができる。   As the surface modification treatment, in the present invention, UV ozone treatment or low-temperature plasma treatment for irradiating ultraviolet rays is used, and as the low-temperature plasma treatment, corona discharge treatment, glow discharge treatment, atmospheric pressure plasma treatment, or the like is used. it can.

上記表面エネルギーとしては、印刷版の凸部は50〜80mN/m2 の範囲、好ましくは65〜75mN/m2 の範囲とすると良く、該表面エネルギーが75mN/m2 より大きいと、インキの転移量が著しく減少し、適正な膜厚を得ることができなくなる。また、65mN/m2 より小さいと凹部との表面エネルギーと近くなる為、凹部にインキを取られ、膜厚が小さくなったり、凹部の形状を反映し、パターン精度が悪くなる。 As the surface energy, the convex portion of the printing plate may be in the range of 50 to 80 mN / m 2 , preferably in the range of 65 to 75 mN / m 2 , and if the surface energy is greater than 75 mN / m 2 , the ink transfer The amount is remarkably reduced and an appropriate film thickness cannot be obtained. On the other hand, if it is smaller than 65 mN / m 2, it becomes close to the surface energy of the concave portion, so that ink is taken in the concave portion and the film thickness is reduced or the shape of the concave portion is reflected, resulting in poor pattern accuracy.

本発明における有機EL素子の発光層を印刷する印刷機としては、例えば、図2に示すように、有機EL用インキを貯留しているインキタンク10とインキチャンバー12とアニロックスロール14と凸版16が巻かれている版胴18を有し、アニロックスロール14の回転でその表面に供給されたインキ層14aは均一な膜厚に形成され、このインキ層14aのインキは版胴18に巻かれた凸版16の凸部に転移され、一方支持台20には、被印刷基板24が載置され、印刷位置まで移動し、これに前記のインキが転移されるようにした円圧式の凸版印刷機がある。   As a printing machine which prints the light emitting layer of the organic EL element in this invention, as shown in FIG. 2, the ink tank 10, the ink chamber 12, the anilox roll 14, and the letterpress 16 which have stored the ink for organic EL, for example An ink layer 14a having a wound plate cylinder 18 and supplied to the surface by rotation of the anilox roll 14 is formed in a uniform film thickness, and the ink of this ink layer 14a is a relief printing plate wound on the plate cylinder 18. On the other hand, there is a circular pressure type letterpress printing machine on which the substrate to be printed 24 is placed and moved to a printing position, and the ink is transferred to the support table 20. .

また、例えば図3に示すように、インキタンク10からのインキ13がダイヘッド11に供給され、このダイヘッド11よりアニロックスロール14を介して凸版16に転移される方式の凸版印刷機を用いることもできる。   For example, as shown in FIG. 3, a relief printing press of a type in which the ink 13 from the ink tank 10 is supplied to the die head 11 and transferred from the die head 11 to the relief plate 16 via the anilox roll 14 can be used. .

次に本発明における有機EL素子の構造を例示するが、この構造に限定されるものではなく、例えば、図1の側断面図に示すように、本発明における有機EL表示装置9を作成する場合、ガラス基板(1)の上に透明な画素電極(2)としてインジウム−錫酸化物(ITO)膜が成膜され、電極としてパターン状に形成されており、その上にウェットコート法により高分子の正孔輸送層(4)が形成されている。   Next, the structure of the organic EL element in the present invention is exemplified, but the structure is not limited to this structure. For example, as shown in the side sectional view of FIG. 1, the organic EL display device 9 in the present invention is formed. An indium-tin oxide (ITO) film is formed as a transparent pixel electrode (2) on a glass substrate (1) and is formed into a pattern as an electrode, and a polymer is formed thereon by wet coating. Hole transport layer (4) is formed.

その上に前述した印刷法で有機発光層(5)がパターン状に形成され、さらにその上に蒸着法により、金属薄膜からなる陰極(6)がパターン状に形成され、これらの有機EL構成体は、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップ(7)で密閉封止される。   On top of this, the organic light emitting layer (5) is formed in a pattern by the printing method described above, and further, a cathode (6) made of a metal thin film is formed in a pattern on the organic light emitting layer (5) by these vapor deposition methods. Is hermetically sealed with a glass cap (7) to protect it from external oxygen and moisture.

以下に、本発明の具体的実施例について説明する。   Specific examples of the present invention will be described below.

印刷条件は、その印刷機としては、印刷版へインキを供給するためのアニロックスロー
ルと、シリンダー状の版胴と、基板を載せる平台とを有し、シリンダー状の版胴が回転して平台上の基板へ印刷する方式の平台印刷機を用いて印刷を行った。また、印刷版は製版済みの各種シート状凸版をシリンダー状の版胴に巻きつける方式の印刷版を用いた。
As for the printing conditions, the printing machine has an anilox roll for supplying ink to the printing plate, a cylindrical plate cylinder, and a flat table on which the substrate is placed, and the cylindrical plate cylinder rotates on the flat table. Printing was performed using a flatbed printing machine that prints on the substrate. As the printing plate, a printing plate of a type in which various prepressed sheet-like relief plates are wound around a cylindrical plate cylinder was used.

また、有機発光材料インキとしては、高分子蛍光体であるポリフェニレンビニレン誘導体をテトラリンに溶かした溶液を用いた。また、有機発光層を印刷する基板としては、透明電極であるインジウム−錫酸化物(ITO)膜がEL素子の画素に合わせてパターンニングして形成されているガラス基板で、その上に正孔輸送層を全面にコーティングした基板を用いた。正孔輸送材料は、ポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルフォン酸からなる高分子材料を用いた。   As the organic light emitting material ink, a solution in which a polyphenylene vinylene derivative, which is a polymeric fluorescent substance, was dissolved in tetralin was used. In addition, as a substrate on which the organic light emitting layer is printed, a glass substrate in which an indium-tin oxide (ITO) film, which is a transparent electrode, is patterned according to the pixel of the EL element, and a hole is formed thereon A substrate having a transport layer coated on the entire surface was used. As the hole transport material, a polymer material composed of a polythiophene derivative and polystyrene sulfonic acid was used.

上記発光層の印刷パターンは、対角1.8インチサイズのパッシブマトリック型のディスプレイを作製するためのラインパターンで、線幅166μmのラインが約33mm角の中に64本形成されるパターンとした。   The printed pattern of the light emitting layer is a line pattern for producing a passive matrix type display having a diagonal size of 1.8 inches, and is a pattern in which 64 lines having a line width of 166 μm are formed in about 33 mm square. .

上記発光層の印刷に用いた樹脂凸版は次のようにして製版した。PETフィルム基材の上に水現像タイプの感光性樹脂層が積層された版材を用いて、その版材の表面に所定の画線を形成するためのフィルムマスクを当て、そのマスクの上側から露光機で紫外線を照射して、画線部分を硬化させ、次にこれを水道水でブラシ洗浄して未硬化部分を洗い出して画線部(凸部)と非画線部(凹部)を形成し、これを乾燥させて水分を除去したあと再び露光機で後露光して樹脂凸版を得た。   The resin relief printing plate used for printing the light emitting layer was made as follows. Using a plate material in which a water-developable photosensitive resin layer is laminated on a PET film substrate, a film mask for forming a predetermined image line is applied to the surface of the plate material, and from above the mask Irradiate ultraviolet rays with an exposure machine to cure the image area, and then wash it with tap water to wash out the uncured area to form the image area (convex area) and non-image area (recess area). This was dried to remove moisture, and then post-exposed again with an exposure machine to obtain a resin relief plate.

このようにして得られた樹脂凸版の表面エネルギーは、凸部が65mN/m2 で、凹部も65mN/m2 であった。 The surface energy of the resin relief plate thus obtained, the convex portion at 65 mN / m 2, the recess was also 65 mN / m 2.

185nm及び254nmを主波長とするUV照射により、5ppmのオゾン雰囲気を作り、上記樹脂凸版をその雰囲気中に5分間晒してUVオゾン処理を施し、凸部の表面エネルギーを73mN/m、凹部の表面エネルギーを47mN/mとした。   UV irradiation with 185 nm and 254 nm as main wavelengths creates an ozone atmosphere of 5 ppm, the resin relief printing plate is exposed to the atmosphere for 5 minutes to perform UV ozone treatment, the surface energy of the convex part is 73 mN / m, the surface of the concave part The energy was 47 mN / m.

このようにしてUVオゾン処理した樹脂凸版を用いて、上記印刷条件により、発光層印刷用基板の上に、発光層の印刷を行った。発光層の膜厚は発光効率の最適値である80nmとなった。膜厚の均一性は80nm±5nmであった。これにより、ITO電極層と正孔輸送層を有するガラス基板の上にパターニングされた発光層を得た。発光の輝度は均一であり、また、ショートもなかった。   Using the resin relief printing plate treated with UV ozone in this way, the light emitting layer was printed on the light emitting layer printing substrate under the above printing conditions. The film thickness of the light emitting layer was 80 nm which is the optimum value of the light emission efficiency. The uniformity of the film thickness was 80 nm ± 5 nm. Thereby, the light emitting layer patterned on the glass substrate which has an ITO electrode layer and a positive hole transport layer was obtained. The luminance of light emission was uniform and there was no short circuit.

実施例1と同様に作製した樹脂凸版の表面処理として、2.5m/minの速度で8mAの強さの低温プラズマ処理の一種であるコロナ放電処理を施し、凸部の表面エネルギーを71mN/m、凹部の表面エネルギーを49mN/mとした。   As the surface treatment of the resin relief plate produced in the same manner as in Example 1, a corona discharge treatment, which is a kind of low-temperature plasma treatment with an intensity of 8 mA, is performed at a speed of 2.5 m / min, and the surface energy of the convex portion is 71 mN / m. The surface energy of the recess was 49 mN / m.

このようにしてコロナ放電処理した樹脂凸版を用いて、実施例1と同様な印刷条件1により、発光層印刷用基板の上に、発光層の印刷を行った。発光層の膜厚は発光効率の最適値である80nmとなった。膜厚の均一性は80nm±5nmであった。これにより、ITO電極層と正孔輸送層を有するガラス基板の上にパターニングされた発光層を得た。発光の輝度は均一であり、また、ショートもなかった。   Using the resin relief printing plate subjected to the corona discharge treatment in this manner, the light emitting layer was printed on the light emitting layer printing substrate under the same printing condition 1 as in Example 1. The film thickness of the light emitting layer was 80 nm which is the optimum value of the light emission efficiency. The uniformity of the film thickness was 80 nm ± 5 nm. Thereby, the light emitting layer patterned on the glass substrate which has an ITO electrode layer and a positive hole transport layer was obtained. The luminance of light emission was uniform and there was no short circuit.

以下に、本発明の比較例について説明する。   Below, the comparative example of this invention is demonstrated.

実施例1における水現像タイプの樹脂凸版を用い、UVオゾン処理等の表面処理を行わ
ずに上記実施例1と同様の印刷条件により、発光層印刷用基板に発光層の印刷を行った。発光層の膜厚は30nmしか得られず、また膜厚の均一性も40nm±20nmであったため、発光輝度にムラが生じ、またショートも多かった。
Using the water-developing type resin relief plate in Example 1, the light emitting layer was printed on the light emitting layer printing substrate under the same printing conditions as in Example 1 without performing surface treatment such as UV ozone treatment. The film thickness of the light emitting layer was only 30 nm, and the uniformity of the film thickness was 40 nm ± 20 nm, resulting in uneven emission luminance and many shorts.

本発明の光学式表示装置の製造方法の一事例で得られる有機EL表示素子の一事例を側断面で表した説明図である。It is explanatory drawing which represented the example of the organic EL display element obtained by the example of the manufacturing method of the optical display apparatus of this invention with the side cross section. 本発明の光学式表示装置の製造方法に用いる印刷装置の一事例を側面で表した説明図である。It is explanatory drawing which represented the example of the printing apparatus used for the manufacturing method of the optical display apparatus of this invention by the side surface. 本発明の光学式表示装置の製造方法に用いる印刷装置の他の事例を側面で表した説明図である。It is explanatory drawing which represented on the side the other example of the printing apparatus used for the manufacturing method of the optical display apparatus of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1‥‥ガラス基板
2‥‥画素電極
3‥‥絶縁性隔壁
4‥‥正孔輸送層
5‥‥有機発光層
6‥‥陰極
7‥‥封止キャップ
8‥‥接着剤
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Glass substrate 2 ... Pixel electrode 3 ... Insulating partition 4 ... Hole transport layer 5 ... Organic light emitting layer 6 ... Cathode 7 ... Sealing cap 8 ... Adhesive

Claims (6)

機能性薄膜を凸版印刷法によって形成する光学式表示装置の製造方法であって、当該凸版印刷法に用いる印刷版の凸部の表面エネルギーが50〜80mN/m2、凹部の表面エネルギーが20〜50mN/m2であることを特徴とする光学式表示装置の製造方法。 A method for manufacturing an optical display device in which a functional thin film is formed by a relief printing method, wherein the surface energy of a projection of the printing plate used in the relief printing method is 50 to 80 mN / m 2 , and the surface energy of a recess is 20 to 20 50 mN / m < 2 >, The manufacturing method of the optical display apparatus characterized by the above-mentioned. 前記印刷版の凸部はUVオゾン処理が施されていることを特徴とする請求項1記載の光学式表示装置の製造方法。   2. The method of manufacturing an optical display device according to claim 1, wherein the convex portion of the printing plate is subjected to UV ozone treatment. 前記印刷版の凸部は低温プラズマ処理が施されていることを特徴とする請求項1記載の光学式表示装置の製造方法。   The method for manufacturing an optical display device according to claim 1, wherein the convex portion of the printing plate is subjected to low-temperature plasma treatment. 前記印刷版は水現像可能な樹脂からなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の光学式表示装置の製造方法。   The method for manufacturing an optical display device according to claim 1, wherein the printing plate is made of a water-developable resin. 前記光学式表示装置は機能性薄膜が形成されている有機エレクトロルミネッセンス表示装置であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の光学式表示装置の製造方法。   5. The method of manufacturing an optical display device according to claim 1, wherein the optical display device is an organic electroluminescence display device in which a functional thin film is formed. 前記機能性薄膜は前記有機エレクトロルミネッセンス表示装置を構成する有機発光層であることを特徴とする請求項5記載の光学式表示装置の製造方法。   6. The method of manufacturing an optical display device according to claim 5, wherein the functional thin film is an organic light emitting layer constituting the organic electroluminescence display device.
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