JP2007095326A

JP2007095326A - Organic el display and method of manufacturing same

Info

Publication number: JP2007095326A
Application number: JP2005279262A
Authority: JP
Inventors: Masaaki Asano; 雅朗浅野
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2005-09-27
Filing date: 2005-09-27
Publication date: 2007-04-12

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL (Electroluminescent) display in which light reflection in the display can be controlled and light utilization is high, and to provide a method of manufacturing such an organic EL display in a simple way. <P>SOLUTION: The organic EL display is composed of an organic EL element having a luminous layer at least between electrodes, a transparent base material placed on one face side of the organic EL element, and a light path adjustment layer positioned on a light-taking face side of this transparent base material and/or on a side of the organic EL element of the transparent base material. This light path adjustment layer is arranged so that a plurality of areas of different refractive index may contact each other. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機発光ディスプレイに係り、特に有機ＥＬディスプレイとその製造方法に関する。 The present invention relates to an organic light emitting display, and more particularly to an organic EL display and a manufacturing method thereof.

有機のエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子を用いた有機ＥＬディスプレイは、自発光により視認性が高いこと、液晶ディスプレイと異なり全固体ディスプレイであること、温度変化の影響をあまり受けないこと、視野角が大きいこと等の利点をもっており、近年、フルカラー表示装置、エリアカラー表示装置、照明等の有機発光ディスプレイとして実用化が進んでいる。
有機ＥＬディスプレイとしては、例えば、（１）三原色の有機ＥＬ素子を各発光色毎に所定のパターンで配列する方式、（２）白色発光の有機ＥＬ素子を使用し、三原色のカラーフィルタ層を介して表示する方式、（３）青色発光の有機ＥＬ素子を使用し、蛍光色素を利用した色変換蛍光体層（ＣＣＭ層）を設置して、青色光を緑色蛍光や赤色蛍光に変換して三原色表示をするＣＣＭ方式等が提案されている。 An organic EL display using an organic electroluminescence (EL) element has high visibility due to self-emission, is an all-solid-state display unlike a liquid crystal display, is hardly affected by temperature changes, and has a large viewing angle. In recent years, it has been put into practical use as an organic light emitting display such as a full color display device, an area color display device, and illumination.
As an organic EL display, for example, (1) a system in which three primary color organic EL elements are arranged in a predetermined pattern for each emission color, and (2) a white light emission organic EL element is used, and the three primary color color filter layers are interposed. (3) Using a blue light-emitting organic EL element, installing a color conversion phosphor layer (CCM layer) using a fluorescent dye, and converting blue light into green fluorescence or red fluorescence, the three primary colors A CCM method for displaying has been proposed.

このような有機ＥＬディスプレイでは、有機ＥＬ素子から出た光が、例えば、カラーフィルタ層や、色変換蛍光体層（ＣＣＭ層）、透明基材等の積層構造を透過して、観察者に表示光として認識される。
しかし、積層構造の界面、あるいは、透明基材と空気との界面において、大きな入射角で入射した光が反射され、有機ＥＬ素子を構成する積層構造内を伝搬してしまい表示に供されない、すなわち、有機ＥＬ素子から出た光の利用効率が低いという問題があった。
上記のようなディスプレイ内部での反射を防止するために、例えば、ガラス基板と透明導電膜との間に低屈折率層（１．００３〜１．３００）を設けた窓材が開発されている（特許文献１）。
特開２００１−２０２８２７号公報 In such an organic EL display, light emitted from an organic EL element is transmitted to a laminated structure such as a color filter layer, a color conversion phosphor layer (CCM layer), a transparent substrate, etc., and displayed to an observer. Recognized as light.
However, light incident at a large incident angle is reflected at the interface of the laminated structure or the interface between the transparent base material and air, and propagates through the laminated structure constituting the organic EL element and is not used for display. There is a problem that the utilization efficiency of light emitted from the organic EL element is low.
In order to prevent reflection inside the display as described above, for example, a window material in which a low refractive index layer (1.003 to 1.300) is provided between a glass substrate and a transparent conductive film has been developed. (Patent Document 1).
JP 2001-202827 A

上記のような低屈折率層を備えた窓材を使用することにより、低屈折率層よりも外側に位置するガラス基板中を伝搬する光は減少して、取り出し効率が上がる。しかしながら、有機ＥＬ素子は１８０°全方位に発光がなされており、上記の低屈折率層により、発光の一部が取り出されるだけでは、有機ＥＬ素子から出た光の利用効率が不十分である。一方、低屈折率層を複数層とすることにより、光の取り出し量を増加させることは可能であるが、複数層の低屈折率層を形成するための積層工程が必要となり、工程数が増加するという問題があった。
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、ディスプレイ内部での光の反射を抑制し、光の利用効率が高い有機ＥＬディスプレイと、このような有機ＥＬディスプレイを簡便に製造する方法を提供することを目的とする。 By using the window material provided with the low refractive index layer as described above, the light propagating through the glass substrate located outside the low refractive index layer is reduced, and the extraction efficiency is increased. However, the organic EL element emits light in all directions of 180 °, and the utilization efficiency of the light emitted from the organic EL element is insufficient only by extracting a part of the light emission by the low refractive index layer. . On the other hand, it is possible to increase the amount of light extracted by using a plurality of low refractive index layers. However, a lamination process for forming a plurality of low refractive index layers is required, and the number of processes is increased. There was a problem to do.
The present invention has been made in view of such circumstances, suppresses reflection of light inside the display, and easily manufactures an organic EL display having high light use efficiency and such an organic EL display. It aims to provide a method.

このような目的を達成するために、本発明の有機ＥＬディスプレイは、電極間に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ素子と、該有機ＥＬ素子の一方の面側に配設された透明基材と、該透明基材の光取出し面側および／または該透明基材の前記有機ＥＬ素子側に位置する光行路調整層とを備え、該光行路調整層は屈折率が異なる複数種の領域が接するように配設された層であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記透明基材の前記有機ＥＬ素子側にカラーフィルタ層を有し、前記光行路調整層は前記透明基材の光取出し面側、前記透明基材と前記カラーフィルタ層との間、および、前記カラーフィルタ層の有機ＥＬ素子側の少なくとも１つに位置するような構成とした。 In order to achieve such an object, an organic EL display of the present invention includes an organic EL element having at least a light emitting layer between electrodes, a transparent substrate disposed on one surface side of the organic EL element, An optical path adjusting layer located on the light extraction surface side of the transparent substrate and / or the organic EL element side of the transparent substrate, and the optical path adjusting layer is in contact with a plurality of regions having different refractive indexes. It was set as the structure which is a layer arrange | positioned in.
As another embodiment of the present invention, the transparent substrate has a color filter layer on the organic EL element side, and the optical path adjusting layer is a light extraction surface side of the transparent substrate, the transparent substrate and the color filter. It was set as the structure located in at least 1 between the layers and the organic EL element side of the said color filter layer.

本発明の他の態様として、前記透明基材の前記有機ＥＬ素子側に色変換蛍光体層を有し、前記光行路調整層は前記透明基材の光取出し面側、前記透明基材と前記色変換蛍光体層との間、および、前記色変換蛍光体層の有機ＥＬ素子側の少なくとも１つに位置するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記透明基材の前記有機ＥＬ素子側に、前記有機ＥＬ素子側から順に色変換蛍光体層とカラーフィルタ層とを積層して有し、前記光行路調整層は前記透明基材の光取出し面側、前記透明基材と前記カラーフィルタ層との間、および、前記色変換蛍光体層の有機ＥＬ素子側の少なくとも１つに位置するような構成とした。 As another aspect of the present invention, the transparent substrate has a color conversion phosphor layer on the organic EL element side, and the optical path adjusting layer is a light extraction surface side of the transparent substrate, the transparent substrate and the transparent substrate. The configuration is such that it is positioned between the color conversion phosphor layer and at least one of the color conversion phosphor layer on the organic EL element side.
As another aspect of the present invention, a color conversion phosphor layer and a color filter layer are laminated in order from the organic EL element side on the organic EL element side of the transparent substrate, and the optical path adjustment layer is It was set as the structure located in the at least 1 of the light extraction surface side of the said transparent base material, between the said transparent base material and the said color filter layer, and the organic EL element side of the said color conversion fluorescent substance layer.

本発明の他の態様として、前記発光層は三原色の各発光層が所望のパターンで配列されたものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記発光層は白色の発光層であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記発光層は青色の発光層であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記光行路調整層は、厚みが１〜３００μｍの範囲であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記光行路調整層を構成する屈折率が異なる複数種の領域の１つの面積は１００μｍ²以上であるような構成とした。 As another aspect of the present invention, the light emitting layer is configured such that the light emitting layers of the three primary colors are arranged in a desired pattern.
As another aspect of the present invention, the light emitting layer is configured to be a white light emitting layer.
As another aspect of the present invention, the light emitting layer is configured to be a blue light emitting layer.
As another aspect of the present invention, the optical path adjusting layer has a thickness in the range of 1 to 300 μm.
As another aspect of the present invention, the optical path adjusting layer is configured such that one area of a plurality of types of regions having different refractive indexes is 100 μm ² or more.

本発明の他の態様として、前記光行路調整層は、屈折率が異なる２種の領域が碁盤目状に配設されたものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記光行路調整層は、屈折率が異なる２種の領域の一方が他方の領域内に海島状に配設されたものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記光行路調整層は、屈折率が異なる２種の領域の一方が格子状であり、他方の領域が前記格子内に配設されたものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記光行路調整層を構成する屈折率が異なる複数種の領域の境界面は、層面内方向に対して７０°〜１１０°の範囲であるような構成とした。 As another aspect of the present invention, the optical path adjusting layer is configured such that two types of regions having different refractive indexes are arranged in a grid pattern.
As another aspect of the present invention, the optical path adjusting layer has a configuration in which one of two types of regions having different refractive indexes is disposed in a sea-island shape in the other region.
As another aspect of the present invention, the optical path adjusting layer has a configuration in which one of two types of regions having different refractive indexes is in a lattice shape and the other region is disposed in the lattice. did.
As another aspect of the present invention, the boundary surface of a plurality of types of regions having different refractive indexes constituting the optical path adjusting layer is configured to have a range of 70 ° to 110 ° with respect to the in-layer direction.

本発明の他の態様として、前記有機ＥＬ素子は、基材と、該基材の一方の面に配設された１対の電極と、該電極間に配設された発光層とを少なくとも有するとともに、前記基材から遠い位置の前記電極は透明電極であって、前記透明電極側から光を取り出すトップ・エミッションタイプであり、前記有機ＥＬ素子の光取り出し側に前記光行路調整層が位置するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記有機ＥＬ素子は、透明基材と、該透明基材の一方の面に配設された１対の電極と、該電極間に配設された発光層とを少なくとも有するとともに、前記透明基材側の前記電極は透明電極であって、前記透明基材側から光を取り出すボトム・エミッションタイプであり、前記有機ＥＬ素子の光取り出し側に前記光行路調整層が位置するような構成とした。 As another aspect of the present invention, the organic EL element has at least a base material, a pair of electrodes disposed on one surface of the base material, and a light emitting layer disposed between the electrodes. In addition, the electrode far from the base material is a transparent electrode, and is a top emission type that extracts light from the transparent electrode side, and the optical path adjustment layer is positioned on the light extraction side of the organic EL element. The configuration is as follows.
As another aspect of the present invention, the organic EL element comprises a transparent substrate, a pair of electrodes disposed on one surface of the transparent substrate, and a light emitting layer disposed between the electrodes. At least, the electrode on the transparent substrate side is a transparent electrode, and is a bottom emission type that extracts light from the transparent substrate side, and the light path adjustment layer is provided on the light extraction side of the organic EL element. It was set as the structure which is located.

本発明の有機ＥＬディスプレイの製造方法は、光行路調整層を形成する被形成体に、所望の屈折率を有する材料を用いて所望のパターンで複数の凸状部を形成し、該凸状部が存在しない部位を埋めるように屈折率の異なる材料を配し、その後、所望の厚みとなるように研磨して光行路調整層を形成するような構成とした。 In the method for producing an organic EL display of the present invention, a plurality of convex portions are formed in a desired pattern using a material having a desired refractive index on an object for forming an optical path adjusting layer, and the convex portions A material having a different refractive index is disposed so as to fill a portion where no light is present, and thereafter, an optical path adjusting layer is formed by polishing to a desired thickness.

本発明の有機ＥＬディスプレイでは、屈折率の異なる複数種の領域が接することにより形成された境界面が光行路調整層に存在しているので、有機ＥＬ素子から出た光は、光行路調整層の上記境界面で反射されて発散が抑制され、光取り出し方向に誘導されるので、ディスプレイ内部での光損失が大幅に低減され、光の利用効率が極めて高いものとなる。
また、本発明の製造方法では、光行路調整層の形成が多層膜形成のような複雑な工程ではなく、有機ＥＬディスプレイの製造が容易である。 In the organic EL display of the present invention, since the boundary surface formed by the contact of a plurality of types of regions having different refractive indexes exists in the optical path adjustment layer, the light emitted from the organic EL element is reflected by the optical path adjustment layer. Therefore, divergence is suppressed and guided in the light extraction direction, so that the light loss inside the display is greatly reduced and the light utilization efficiency is extremely high.
Further, in the manufacturing method of the present invention, the formation of the optical path adjustment layer is not a complicated process such as the formation of a multilayer film, and the manufacture of the organic EL display is easy.

以下、本発明について図面を参照しながら説明する。
［第１の形態］
図１は、本発明の有機ＥＬディスプレイの一実施形態を示す概略構成図である。図１に示されるように、本発明の有機ＥＬディスプレイ１は、有機ＥＬ素子２と、この有機ＥＬ素子２の一方の面側に、光行路調整層３と透明基材４とを備えている。図１（Ａ）に示される有機ＥＬディスプレイ１では、光行路調整層３が透明基材４の有機ＥＬ素子２側に位置している。また、図１（Ｂ）に示される有機ＥＬディスプレイ１では、光行路調整層３が透明基材４の光取出し面４ａ側に配設されている。
有機ＥＬディスプレイ１を構成する有機ＥＬ素子２は、三原色の有機ＥＬ素子２Ｒ，２Ｇ，２Ｂが所定のパターンで配列したものである。 The present invention will be described below with reference to the drawings.
[First embodiment]
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of an organic EL display of the present invention. As shown in FIG. 1, the organic EL display 1 of the present invention includes an organic EL element 2, and an optical path adjustment layer 3 and a transparent substrate 4 on one surface side of the organic EL element 2. . In the organic EL display 1 shown in FIG. 1A, the optical path adjustment layer 3 is located on the organic EL element 2 side of the transparent substrate 4. In the organic EL display 1 shown in FIG. 1B, the optical path adjustment layer 3 is disposed on the light extraction surface 4 a side of the transparent substrate 4.
The organic EL element 2 constituting the organic EL display 1 is formed by arranging organic EL elements 2R, 2G, and 2B of three primary colors in a predetermined pattern.

有機ＥＬディスプレイ１を構成する光行路調整層３は、屈折率が異なる複数種の領域が接するように配設された層であり、例えば、図２に示されるように、屈折率ｎ_aの領域３ａと、屈折率ｎ_bの領域３ｂとが、境界面Ｓで相互に接するような断面構造である。
このような有機ＥＬディスプレイ１では、有機ＥＬ素子２から出た光は、光行路調整層３に対して大きな入射角で入射した光も含めて、光行路調整層３が有する境界面Ｓで反射されて発散が抑制され、光取り出し方向（図１の矢印方向）に誘導される。このため、有機ＥＬディスプレイ１内部での光損失が大幅に低減され、光の利用効率が極めて高いものとなる。
尚、本発明の有機ＥＬディスプレイは、図１（Ａ）、図１（Ｂ）に示される双方の位置に光行路調整層３が配設された構造（光行路調整層３を複数備える構造）であってもよい。
また、透明基材４は、三原色の有機ＥＬ素子２Ｒ，２Ｇ，２Ｂの境界部位に対応したパターン形状のブラックマトリックスを有機ＥＬ素子２側に備えたものであってもよい。 Light path adjusting layer 3 of the organic EL display 1 is a layer refractive index is disposed as a plurality of kinds of regions different in contact, for example, as shown in FIG. 2, the region of the refractive index n _a and 3a, a region 3b of the refractive index n _b is a cross-sectional structure in contact with each other at the interface S.
In such an organic EL display 1, the light emitted from the organic EL element 2 is reflected by the boundary surface S of the optical path adjustment layer 3, including the light incident on the optical path adjustment layer 3 at a large incident angle. Thus, the divergence is suppressed and the light is guided in the light extraction direction (the arrow direction in FIG. 1). For this reason, the light loss inside the organic EL display 1 is significantly reduced, and the light utilization efficiency is extremely high.
The organic EL display of the present invention has a structure in which the optical path adjustment layer 3 is disposed at both positions shown in FIGS. 1A and 1B (structure having a plurality of optical path adjustment layers 3). It may be.
Further, the transparent substrate 4 may be provided with a black matrix having a pattern shape corresponding to the boundary portion of the three primary color organic EL elements 2R, 2G, and 2B on the organic EL element 2 side.

［第２の形態］
図３は、本発明の有機ＥＬディスプレイの他の実施形態を示す概略構成図である。図３に示される有機ＥＬディスプレイ１１は、有機ＥＬ素子１２と、この有機ＥＬ素子１２の一方の面側に、光行路調整層１３と透明基材１４とカラーフィルタ層１５を備えている。図３（Ａ）に示される有機ＥＬディスプレイ１１では、光行路調整層１３が有機ＥＬ素子１２とカラーフィルタ層１５との間に位置し、図３（Ｂ）に示される有機ＥＬディスプレイ１１では、光行路調整層１３が透明基材１４とカラーフィルタ層１５との間に位置し、また、図３（Ｃ）に示される有機ＥＬディスプレイ１１では、光行路調整層１３が透明基材１４の光取出し面１４ａ側に配設されている。
有機ＥＬディスプレイ１１を構成する有機ＥＬ素子１２は、三原色の有機ＥＬ素子１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂが所定のパターンで配列したものである。 [Second form]
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing another embodiment of the organic EL display of the present invention. The organic EL display 11 shown in FIG. 3 includes an organic EL element 12 and an optical path adjustment layer 13, a transparent substrate 14, and a color filter layer 15 on one surface side of the organic EL element 12. In the organic EL display 11 shown in FIG. 3A, the optical path adjustment layer 13 is located between the organic EL element 12 and the color filter layer 15, and in the organic EL display 11 shown in FIG. The optical path adjustment layer 13 is located between the transparent base material 14 and the color filter layer 15, and in the organic EL display 11 shown in FIG. It is arranged on the take-out surface 14a side.
The organic EL element 12 constituting the organic EL display 11 is obtained by arranging three primary color organic EL elements 12R, 12G, and 12B in a predetermined pattern.

有機ＥＬディスプレイ１１を構成する光行路調整層１３、透明基材１４は、上述の有機ＥＬディスプレイ１を構成する光行路調整層３、透明基材４と同様である。したがって、光行路調整層１３は、屈折率が異なる複数種の領域が境界面Ｓで相互に接するように配設された層である。
有機ＥＬディスプレイ１１を構成するカラーフィルタ層１５は、有機ＥＬ素子１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂに対応した三原色の着色層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂからなり、着色層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの境界部位にはブラックマトリックス１７が配設されている。 The optical path adjustment layer 13 and the transparent base material 14 constituting the organic EL display 11 are the same as the optical path adjustment layer 3 and the transparent base material 4 constituting the organic EL display 1 described above. Therefore, the optical path adjusting layer 13 is a layer arranged such that a plurality of types of regions having different refractive indexes are in contact with each other at the boundary surface S.
The color filter layer 15 constituting the organic EL display 11 is composed of three primary color layers 15R, 15G, and 15B corresponding to the organic EL elements 12R, 12G, and 12B. A black matrix is formed at the boundary between the colored layers 15R, 15G, and 15B. 17 is disposed.

このような有機ＥＬディスプレイ１１では、有機ＥＬ素子１２から出た光は、光行路調整層１３に対して大きな入射角で入射した光も含めて、光行路調整層１３が有する境界面Ｓで反射されて発散が抑制され、光取り出し方向（図３の矢印方向）に誘導される。このため、有機ＥＬディスプレイ１１内部での光損失が大幅に低減され、光の利用効率が極めて高いものとなる。
尚、本発明の有機ＥＬディスプレイは、図３（Ａ）〜図３（Ｃ）に示される３種の光行路調整層配設位置の２箇所以上に光行路調整層１３が配設された構造（光行路調整層１３を複数備える構造）であってもよい。 In such an organic EL display 11, the light emitted from the organic EL element 12 is reflected by the boundary surface S of the optical path adjustment layer 13 including the light incident on the optical path adjustment layer 13 at a large incident angle. Thus, the divergence is suppressed and the light is guided in the light extraction direction (the arrow direction in FIG. 3). For this reason, the light loss inside the organic EL display 11 is greatly reduced, and the light utilization efficiency is extremely high.
The organic EL display of the present invention has a structure in which the optical path adjustment layers 13 are arranged at two or more positions of the three types of optical path adjustment layers shown in FIGS. 3 (A) to 3 (C). (A structure including a plurality of optical path adjustment layers 13) may be used.

［第３の形態］
図４は、本発明の有機ＥＬディスプレイの他の実施形態を示す概略構成図である。図４に示されるように、有機ＥＬディスプレイ２１は、有機ＥＬ素子２２と、この有機ＥＬ素子２２の一方の面側に、光行路調整層２３と透明基材２４とカラーフィルタ層２５を備えている。図４（Ａ）に示される有機ＥＬディスプレイ２１では、光行路調整層２３が有機ＥＬ素子２２とカラーフィルタ層２５との間に位置し、図４（Ｂ）に示される有機ＥＬディスプレイ２１では、光行路調整層２３が透明基材２４とカラーフィルタ層２５との間に位置し、また、図４（Ｃ）に示される有機ＥＬディスプレイ２１では、光行路調整層２３が透明基材２４の光取出し面２４ａ側に配設されている。 [Third embodiment]
FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing another embodiment of the organic EL display of the present invention. As shown in FIG. 4, the organic EL display 21 includes an organic EL element 22 and an optical path adjustment layer 23, a transparent substrate 24, and a color filter layer 25 on one surface side of the organic EL element 22. Yes. In the organic EL display 21 shown in FIG. 4A, the optical path adjustment layer 23 is located between the organic EL element 22 and the color filter layer 25, and in the organic EL display 21 shown in FIG. The optical path adjustment layer 23 is located between the transparent substrate 24 and the color filter layer 25. In the organic EL display 21 shown in FIG. It is arranged on the take-out surface 24a side.

有機ＥＬディスプレイ２１を構成する有機ＥＬ素子２２は、白色発光の有機ＥＬ素子である。
有機ＥＬディスプレイ２１を構成する光行路調整層２３、透明基材２４は、上述の有機ＥＬディスプレイ１を構成する光行路調整層３、透明基材４と同様である。したがって、光行路調整層２３は、屈折率が異なる複数種の領域が境界面Ｓで相互に接するように配設された層である。
有機ＥＬディスプレイ２１を構成するカラーフィルタ層２５は、三原色の着色層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂが所望のパターンで配列されたものであり、着色層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂの境界部位にはブラックマトリックス２７が配設されている。 The organic EL element 22 constituting the organic EL display 21 is a white light emitting organic EL element.
The optical path adjustment layer 23 and the transparent base material 24 constituting the organic EL display 21 are the same as the optical path adjustment layer 3 and the transparent base material 4 constituting the organic EL display 1 described above. Therefore, the optical path adjusting layer 23 is a layer arranged so that a plurality of types of regions having different refractive indexes are in contact with each other at the boundary surface S.
The color filter layer 25 that constitutes the organic EL display 21 has three primary color layers 25R, 25G, and 25B arranged in a desired pattern, and a black matrix 27 is formed at the boundary between the color layers 25R, 25G, and 25B. It is arranged.

このような有機ＥＬディスプレイ２１では、有機ＥＬ素子２２から出た光は、光行路調整層２３に対して大きな入射角で入射した光も含めて、光行路調整層２３が有する境界面Ｓで反射されて発散が抑制され、光取り出し方向（図４の矢印方向）に誘導される。このため、有機ＥＬディスプレイ２１内部での光損失が大幅に低減され、光の利用効率が極めて高いものとなる。
尚、本発明の有機ＥＬディスプレイは、図４（Ａ）〜図４（Ｃ）に示される３種の光行路調整層配設位置の２箇所以上に光行路調整層２３が配設された構造（光行路調整層２３を複数備える構造）であってもよい。 In such an organic EL display 21, the light emitted from the organic EL element 22 is reflected by the boundary surface S of the optical path adjustment layer 23, including the light incident on the optical path adjustment layer 23 at a large incident angle. Thus, the divergence is suppressed and the light is guided in the light extraction direction (the arrow direction in FIG. 4). For this reason, the light loss inside the organic EL display 21 is greatly reduced, and the light utilization efficiency is extremely high.
The organic EL display of the present invention has a structure in which the optical path adjustment layers 23 are arranged at two or more positions of the three types of optical path adjustment layers shown in FIGS. 4 (A) to 4 (C). (A structure including a plurality of optical path adjustment layers 23) may be used.

［第４の形態］
図５は、本発明の有機ＥＬディスプレイの他の実施形態を示す概略構成図である。図５に示される有機ＥＬディスプレイ３１は、有機ＥＬ素子３２と、この有機ＥＬ素子３２の一方の面側に、光行路調整層３３と透明基材３４と色変換蛍光体層３６を備えている。図５（Ａ）に示される有機ＥＬディスプレイ３１では、光行路調整層３３が有機ＥＬ素子３２と色変換蛍光体層３６との間に位置し、図５（Ｂ）に示される有機ＥＬディスプレイ３１では、光行路調整層３３が透明基材３４と色変換蛍光体層３６との間に位置し、また、図５（Ｃ）に示される有機ＥＬディスプレイ３１では、光行路調整層３３が透明基材３４の光取出し面３４ａ側に配設されている。
有機ＥＬディスプレイ３１を構成する有機ＥＬ素子３２は、青色発光の有機ＥＬ素子である。 [Fourth form]
FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing another embodiment of the organic EL display of the present invention. An organic EL display 31 shown in FIG. 5 includes an organic EL element 32, and an optical path adjustment layer 33, a transparent substrate 34, and a color conversion phosphor layer 36 on one surface side of the organic EL element 32. . In the organic EL display 31 shown in FIG. 5A, the optical path adjustment layer 33 is located between the organic EL element 32 and the color conversion phosphor layer 36, and the organic EL display 31 shown in FIG. In the organic EL display 31 shown in FIG. 5C, the optical path adjustment layer 33 is positioned between the transparent base material 34 and the color conversion phosphor layer 36, and the optical path adjustment layer 33 is a transparent substrate. The material 34 is disposed on the light extraction surface 34a side.
The organic EL element 32 constituting the organic EL display 31 is a blue light emitting organic EL element.

有機ＥＬディスプレイ３１を構成する光行路調整層３３、透明基材３４は、上述の有機ＥＬディスプレイ１を構成する光行路調整層３、透明基材４と同様である。したがって、光行路調整層３３は、屈折率が異なる複数種の領域が境界面Ｓで相互に接するように配設された層である。
有機ＥＬディスプレイ３１を構成する色変換蛍光体層３６は、青色光を赤色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層３６Ｒ、青色光を緑色蛍光に変換する緑色変換蛍光体層３６Ｇ、青色光をそのまま透過する青色変換ダミー層３６Ｂが所望のパターンで配列されたものであり、各層３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂの境界部位には、ブラックマトリックス３７を備えている。 The optical path adjustment layer 33 and the transparent base material 34 constituting the organic EL display 31 are the same as the optical path adjustment layer 3 and the transparent base material 4 constituting the organic EL display 1 described above. Therefore, the optical path adjusting layer 33 is a layer disposed so that a plurality of types of regions having different refractive indexes are in contact with each other at the boundary surface S.
The color conversion phosphor layer 36 constituting the organic EL display 31 includes a red conversion phosphor layer 36R that converts blue light into red fluorescence, a green conversion phosphor layer 36G that converts blue light into green fluorescence, and transmits blue light as it is. The blue conversion dummy layers 36B are arranged in a desired pattern, and a black matrix 37 is provided at the boundary between the layers 36R, 36G, and 36B.

このような有機ＥＬディスプレイ３１では、有機ＥＬ素子３２から出た光は、光行路調整層３３に対して大きな入射角で入射した光も含めて、光行路調整層３３が有する境界面Ｓで反射されて発散が抑制され、光取り出し方向（図５の矢印方向）に誘導される。このため、有機ＥＬディスプレイ３１内部での光損失が大幅に低減され、光の利用効率が極めて高いものとなる。
尚、本発明の有機ＥＬディスプレイは、図５（Ａ）〜図５（Ｃ）に示される３種の光行路調整層配設位置の２箇所以上に光行路調整層３３が配設された構造（光行路調整層３３を複数備える構造）であってもよい。 In such an organic EL display 31, the light emitted from the organic EL element 32 is reflected by the boundary surface S of the optical path adjustment layer 33, including the light incident on the optical path adjustment layer 33 at a large incident angle. Thus, the divergence is suppressed and the light is guided in the light extraction direction (the arrow direction in FIG. 5). For this reason, the light loss inside the organic EL display 31 is significantly reduced, and the light utilization efficiency is extremely high.
The organic EL display of the present invention has a structure in which the optical path adjustment layers 33 are arranged at two or more positions of the three kinds of optical path adjustment layer arrangement positions shown in FIGS. 5 (A) to 5 (C). (A structure including a plurality of optical path adjustment layers 33) may be used.

［第５の形態］
図６は、本発明の有機ＥＬディスプレイの他の実施形態を示す概略構成図である。図６に示される有機ＥＬディスプレイ４１は、有機ＥＬ素子４２と、この有機ＥＬ素子４２の一方の面側に、光行路調整層４３と透明基材４４とカラーフィルタ層４５と色変換蛍光体層４６を備えている。図６（Ａ）に示される有機ＥＬディスプレイ４１では、光行路調整層４３が有機ＥＬ素子４２と色変換蛍光体層４６との間に位置し、図６（Ｂ）に示される有機ＥＬディスプレイ４１では、光行路調整層４３が透明基材４４とカラーフィルタ層４５との間に位置し、また、図６（Ｃ）に示される有機ＥＬディスプレイ４１では、光行路調整層４３が透明基材４４の光取出し面４４ａ側に配設されている。
有機ＥＬディスプレイ４１を構成する有機ＥＬ素子４２は、青色発光の有機ＥＬ素子である。 [Fifth embodiment]
FIG. 6 is a schematic configuration diagram showing another embodiment of the organic EL display of the present invention. An organic EL display 41 shown in FIG. 6 includes an organic EL element 42, an optical path adjustment layer 43, a transparent substrate 44, a color filter layer 45, and a color conversion phosphor layer on one surface side of the organic EL element 42. 46 is provided. In the organic EL display 41 shown in FIG. 6A, the optical path adjustment layer 43 is located between the organic EL element 42 and the color conversion phosphor layer 46, and the organic EL display 41 shown in FIG. Then, the optical path adjustment layer 43 is located between the transparent base material 44 and the color filter layer 45, and in the organic EL display 41 shown in FIG. Is disposed on the light extraction surface 44a side.
The organic EL element 42 constituting the organic EL display 41 is a blue light emitting organic EL element.

有機ＥＬディスプレイ４１を構成する光行路調整層４３、透明基材４４は、上述の有機ＥＬディスプレイ１を構成する光行路調整層３、透明基材４と同様である。したがって、光行路調整層３３は、屈折率が異なる複数種の領域が境界面Ｓで相互に接するように配設された層である。また、有機ＥＬディスプレイ４１を構成するカラーフィルタ層４５は、上述の有機ＥＬディスプレイ２１を構成するカラーフィルタ層２５と同様である。また、有機ＥＬディスプレイ４１を構成する色変換蛍光体層４６は、ブラックマトリックスを備えていない他は、上述の有機ＥＬディスプレイ３１を構成する色変換蛍光体層３６と同様である。 The optical path adjustment layer 43 and the transparent base material 44 constituting the organic EL display 41 are the same as the optical path adjustment layer 3 and the transparent base material 4 constituting the organic EL display 1 described above. Therefore, the optical path adjusting layer 33 is a layer disposed so that a plurality of types of regions having different refractive indexes are in contact with each other at the boundary surface S. The color filter layer 45 constituting the organic EL display 41 is the same as the color filter layer 25 constituting the organic EL display 21 described above. The color conversion phosphor layer 46 constituting the organic EL display 41 is the same as the color conversion phosphor layer 36 constituting the organic EL display 31 described above except that it does not include a black matrix.

このような有機ＥＬディスプレイ４１では、有機ＥＬ素子４２から出た光は、光行路調整層４３に対して大きな入射角で入射した光も含めて、光行路調整層４３が有する境界面Ｓで反射されて発散が抑制され、光取り出し方向（図６の矢印方向）に誘導される。このため、有機ＥＬディスプレイ４１内部での光損失が大幅に低減され、光の利用効率が極めて高いものとなる。
尚、本発明の有機ＥＬディスプレイは、図６（Ａ）〜図６（Ｃ）に示される３種の光行路調整層配設位置の２箇所以上に光行路調整層４３が配設された構造（光行路調整層４３を複数備える構造）であってもよい。
本発明の有機ＥＬディスプレイは、上述の実施形態に限定されるものではない。例えば、有機ＥＬ素子２，１２，２２，３２，４２と他の層との間にガスバリアー層を有するものであってもよい。 In such an organic EL display 41, the light emitted from the organic EL element 42 is reflected by the boundary surface S of the optical path adjustment layer 43, including the light incident on the optical path adjustment layer 43 at a large incident angle. Thus, the divergence is suppressed and the light is guided in the light extraction direction (the arrow direction in FIG. 6). For this reason, the light loss inside the organic EL display 41 is significantly reduced, and the light utilization efficiency is extremely high.
The organic EL display of the present invention has a structure in which the optical path adjustment layers 43 are arranged at two or more positions of the three types of optical path adjustment layers shown in FIGS. 6 (A) to 6 (C). (A structure including a plurality of optical path adjustment layers 43) may be used.
The organic EL display of the present invention is not limited to the above-described embodiment. For example, a gas barrier layer may be provided between the organic EL elements 2, 12, 22, 32, and 42 and other layers.

次に、本発明の有機ＥＬディスプレイの各構成部材について説明する。
［光行路調整層］
本発明の有機ＥＬディスプレイを構成する光行路調整層３，１３，２３，３３，４３は、屈折率が異なる複数種の領域が相互に接するように配設された層であり、例えば、図２に光行路調整層３を例として示したように、屈折率ｎ_aの領域３ａと、屈折率ｎ_bの領域３ｂとが、境界面Ｓで接する構造である。以下、光行路調整層３を例として説明するが、光行路調整層１３，２３，３３，４３も同様である。
光行路調整層３の厚みは、１〜３００μｍ、好ましくは３〜３０μｍの範囲で設定することができる。光行路調整層３の厚みが１μｍ未満であると、形成される境界面Ｓが不十分であり、有機ＥＬ素子２から出た光の利用効率が低いものとなる。また、３００μｍを超えると、視野角依存性が顕著となり、有機ＥＬディスプレイの表示性能が低下する。 Next, each component of the organic EL display of the present invention will be described.
[Optical path adjustment layer]
The optical path adjustment layers 3, 13, 23, 33, and 43 constituting the organic EL display of the present invention are layers arranged so that a plurality of types of regions having different refractive indexes are in contact with each other. For example, FIG. as shown the light path adjusting layer 3 as examples, a region 3a of the refractive index n _a, a region 3b of the refractive index n _b is a structure that is in contact at the interface S. Hereinafter, although the optical path adjustment layer 3 will be described as an example, the same applies to the optical path adjustment layers 13, 23, 33, and 43.
The thickness of the optical path adjusting layer 3 can be set in the range of 1 to 300 μm, preferably 3 to 30 μm. If the thickness of the optical path adjusting layer 3 is less than 1 μm, the formed boundary surface S is insufficient, and the utilization efficiency of light emitted from the organic EL element 2 is low. On the other hand, if it exceeds 300 μm, the viewing angle dependency becomes remarkable, and the display performance of the organic EL display is lowered.

また、領域３ａと領域３ｂの境界面Ｓは、図２（Ａ）〜図２（Ｄ）に示されるように種々の形状であってよく、層面内方向（図２の矢印ａ方向）に対する角度θ、θ₁、θ₂は７０°〜１１０°、好ましくは８０°〜１００°の範囲で設定することができる。
光行路調整層３を構成する領域３ａと領域３ｂの最小面積は、３０μｍ²であり、面積が小さすぎると、散乱性が顕著となり、有機ＥＬディスプレイの表示性能が低下する。
また、有機ＥＬ素子２側において光行路調整層３に隣接する層（部材）の屈折率ｎ₀と、光行路調整層３を構成する領域３ａの屈折率ｎ_aと、領域３ｂの屈折率ｎ_bとの関係は、ｎ_a＞ｎ_bとしたときに、下記のいずれであってもよい。
ｎ₀＞ｎ_a＞ｎ_{b ｎa}＞ｎ₀＞ｎ_{b ｎa}＞ｎ_b＞ｎ₀ Further, the boundary surface S between the region 3a and the region 3b may have various shapes as shown in FIGS. 2A to 2D, and an angle with respect to the in-layer direction (the direction of arrow a in FIG. 2). θ, θ ₁ , and θ ₂ can be set in the range of 70 ° to 110 °, preferably 80 ° to 100 °.
The minimum area of the region 3a and the region 3b constituting the optical path adjustment layer 3 is 30 μm ² , and if the area is too small, the scattering property becomes remarkable and the display performance of the organic EL display is deteriorated.
Further, the refractive index n ₀ of the layer adjacent to the light path adjusting layer 3 (members) in the organic EL device 2 side, the refractive index and n _a region 3a constituting the light path adjusting layer 3, the refractive index of the region 3b n relationship with _b, upon a n _a> n _b, may be any of the following.
_{_{_{n 0> n a> n b}}} na> n 0> n b na> n b> n 0

_{また、領域３ａの屈折率ｎa}と、領域３ｂの屈折率ｎ_bとの差は、０．３以上、好ましくは０．３〜０．６程度とすることができる。
尚、本発明において屈折率の測定は、屈折計（Ｖブロック法）、または分光計（最小偏角法）を用いて行うものとする。
光行路調整層３を構成する領域３ａと領域３ｂは、例えば、図７に示されるように、領域３ａと領域３ｂが碁盤目状に配設されたもの、図８に示されるように、領域３ａが領域３ｂ内に海島状に配設されたもの等とすることができる。尚、図８の例では、領域３ｂが領域３ａ内に海島状に配設されたものであってもよい。 _{The refractive index} and _{na region 3a,} the difference between the refractive index n _b of the region 3b, 0.3 or more, preferably to about 0.3 to 0.6.
In the present invention, the refractive index is measured using a refractometer (V block method) or a spectrometer (minimum deviation method).
The region 3a and the region 3b constituting the optical path adjustment layer 3 are, for example, a region in which the region 3a and the region 3b are arranged in a grid pattern as shown in FIG. 7, and a region as shown in FIG. 3a may be arranged in a sea-island shape in the region 3b. In the example of FIG. 8, the region 3b may be arranged in a sea island shape in the region 3a.

また、光行路調整層３を構成する領域３ａと領域３ｂは、例えば、図９に示されるように、領域３ａが格子状であり、領域３ｂが領域３ａの格子内に配設されたものとすることができる。この場合、領域３ａの格子をブラックマトリックス１７，２７，３７，４７に対応したパターン（幅はブラックマトリックスと異なってもよい）とすることもできる。尚、図９の例でも、領域３ｂを格子状とし、領域３ａが領域３ｂの格子内に配設されたものであってもよい。 Further, the region 3a and the region 3b constituting the optical path adjustment layer 3 are, for example, as shown in FIG. 9, in which the region 3a is in a lattice shape and the region 3b is disposed in the lattice of the region 3a. can do. In this case, the lattice of the region 3a may be a pattern corresponding to the black matrix 17, 27, 37, 47 (the width may be different from that of the black matrix). In the example of FIG. 9 as well, the region 3b may have a lattice shape, and the region 3a may be disposed within the lattice of the region 3b.

このような光行路調整層３，１３，２３，３３，４３は、屈折率が異なる所望の材料を組み合わせて構成することができる。高屈折率材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等の透明（可視光透過率５０％以上）樹脂を使用することができる。また、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、環ゴム系等の反応性ビニル基を有する電離放射線硬化性樹脂を挙げることができる。また、低屈折率材料としては、例えば、多孔質の二酸化ケイ素膜を挙げることができる。
上述の例では、光行路調整層３，１３，２３，３３，４３は、屈折率ｎ_aと屈折率ｎ_bの２種の領域３ａ，３ｂからなるものであるが、屈折率が異なる３種以上の領域からなるものであってもよい。 Such optical path adjustment layers 3, 13, 23, 33, and 43 can be configured by combining desired materials having different refractive indexes. Examples of the high refractive index material include polymethyl methacrylate, polyacrylate, polycarbonate, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, polyvinyl chloride resin, melamine resin, phenol resin, alkyd resin, epoxy resin, polyurethane resin, Transparent (visible light transmittance of 50% or more) resin such as polyester resin, maleic acid resin, and polyamide resin can be used. Further, ionizing radiation curable resins having reactive vinyl groups such as acrylic acid-based, methacrylic acid-based, polyvinyl cinnamate-based, and ring rubber-based can be mentioned. Examples of the low refractive index material include a porous silicon dioxide film.
In the above example, the optical path adjusting layer 3,13,23,33,43 are two regions 3a of the refractive index n _a and the refractive index n _b, but is made of 3b, 3 kinds having different refractive indexes It may consist of the above regions.

ここで、本発明の製造方法について説明する。図１０は、本発明の製造方法による光行路調整層の形成を、光行路調整層３を例として説明するための工程図である。図１０において、まず、光行路調整層３の被形成体である透明基材４に、屈折率ｎ_aの材料を用いて凸状部３ａ′を形成する（図１０（Ａ））。凸状部３ａ′の形成は、例えば、感光性樹脂材料を塗布しフォトリソグラフィー法でパターニングする方法、スクリーン印刷等の印刷方法等により行うことができる。また、無機材料膜を成膜し、感光性レジストを塗布し、露光、現像してレジストパターンを形成し、これをマスクとしてエッチングした後、レジストを剥離することにより凸状部３ａ′を形成してもよい。形成した凸状部３ａ′は、後工程の研磨により残存する部位が光行路調整層３の領域３ａとなる。このため、上記の図２に示したような所望の境界面Ｓを想定して凸状部３ａ′を形成することが好ましい。 Here, the manufacturing method of the present invention will be described. FIG. 10 is a process diagram for explaining the formation of the optical path adjustment layer by the manufacturing method of the present invention, using the optical path adjustment layer 3 as an example. In FIG. 10, first, a convex portion 3 a ′ is formed using _a material having _a refractive index na on a transparent base material 4 that is an object for forming the optical path adjustment layer 3 (FIG. 10A). The convex portion 3a ′ can be formed by, for example, a method of applying a photosensitive resin material and patterning it by a photolithography method, a printing method such as screen printing, or the like. In addition, an inorganic material film is formed, a photosensitive resist is applied, exposed and developed to form a resist pattern. After etching using this as a mask, the resist is peeled off to form a convex portion 3a ′. May be. In the formed convex portion 3 a ′, the portion remaining after polishing in the subsequent process becomes the region 3 a of the optical path adjustment layer 3. For this reason, it is preferable to form the convex portion 3a ′ assuming a desired boundary surface S as shown in FIG.

次に、凸状部３ａ′が存在しない部位を埋めるように、屈折率ｎ_bの低屈折率材料を用いて被覆層３ｂ′を形成する（図１０（Ｂ））。この被覆層３ｂ′の形成としては、例えば、有機シランと水とアルコールとを含む有機シラン液を用い、有機シランを酸加水分解またはアルカリ加水分解し、界面活性剤の存在下で加熱処理して多孔質の二酸化ケイ素膜を形成することができる。有機シランとしては、例えば、テトラメチルオルソシリケート、テトラメトキシシラン等の加水分解可能な有機オキシシランを挙げることができる。また、撥水性を有するヘキサメチルジシロキサンやヘキサメチルジシラザンを含有した溶液を塗布し、焼成処理を施すことにより、多孔質の二酸化ケイ素膜を形成することもできる。図示例では、凸状部３ａ′を完全に被覆するように被覆層３ｂ′が形成されているが、凸状部３ａ′の寸法に応じて、凸状部３ａ′の一部が露出するものであってもよい。 Next, 'to fill the site is not present, the coating layer 3b with a low refractive index material having a refractive index n _b' protruding portion 3a is formed (FIG. 10 (B)). As the formation of the coating layer 3b ', for example, an organic silane liquid containing an organic silane, water and alcohol is used, and the organic silane is acid-hydrolyzed or alkali-hydrolyzed and heat-treated in the presence of a surfactant. A porous silicon dioxide film can be formed. Examples of the organic silane include hydrolyzable organic oxysilanes such as tetramethyl orthosilicate and tetramethoxysilane. Further, a porous silicon dioxide film can be formed by applying a solution containing hexamethyldisiloxane or hexamethyldisilazane having water repellency and performing a baking treatment. In the illustrated example, the coating layer 3b 'is formed so as to completely cover the convex portion 3a', but a portion of the convex portion 3a 'is exposed according to the dimension of the convex portion 3a'. It may be.

次いで、凸状部３ａ′と被覆層３ｂ′を透明基材４方向に所望の厚みを残すように研磨して、光行路調整層３を形成する（図１０（Ｃ））。凸状部３ａ′と被覆層３ｂ′の研磨は、例えば、適宜な砥粒をシート上に散布して接着したサンドペーパー等を用いて行うほか、化学的研磨法、もしくは機械的研磨法、または、それらを併用したメカノケミカルポリッシング（ＭＣＰ、またはケミカルメカニカルポリッシング（ＣＭＰ）とも言われる）によって行うことが好ましい。化学的研磨法は、例えば、布、不織布、もしくはポリウレタン樹脂等の発泡体からなる研磨部材に、研磨剤として、エッチング性の液体を供給して行うものである。また、機械的研磨法は、例えば、布、不織布、もしくはポリウレタン樹脂等の発泡体を研磨部材とし、コロイダルシリカもしくは酸化セリウムの微粉末を研磨剤として含浸させて用いるか、またはコロイダルシリカもしくは酸化セリウムを分散させた分散液を供給して行うものである。 Next, the convex portion 3a ′ and the coating layer 3b ′ are polished so as to leave a desired thickness in the direction of the transparent substrate 4, thereby forming the optical path adjustment layer 3 (FIG. 10C). Polishing of the convex portion 3a ′ and the coating layer 3b ′ is performed using, for example, sandpaper or the like in which appropriate abrasive grains are dispersed and adhered on the sheet, or a chemical polishing method, a mechanical polishing method, or It is preferable to carry out by mechanochemical polishing using both of them (also referred to as MCP or chemical mechanical polishing (CMP)). The chemical polishing method is performed, for example, by supplying an etching liquid as an abrasive to a polishing member made of a foam such as cloth, non-woven fabric, or polyurethane resin. The mechanical polishing method is, for example, a cloth, a nonwoven fabric, or a foamed material such as polyurethane resin used as an abrasive member and impregnated with a fine powder of colloidal silica or cerium oxide as an abrasive, or colloidal silica or cerium oxide. This is performed by supplying a dispersion in which is dispersed.

上記のような凸状部３ａ′と被覆層３ｂ′の研磨は、対象物を回転させる等して対象物と研磨部材とを相対的に移動させつつ、対象物に研磨部材を接触させ、必要に応じて研磨剤を供給しながら行い、不要部分にある、上記の例では、凸状部３ａ′上に存在する被覆層３ｂ′が、すべて除去されるまで行うことが好ましい。さらに、先に設けられている凸状部３ａ′も、その上面が削られるまで研磨することが好ましい。
このような本発明の製造方法では、光行路調整層３の形成工程が、従来の多層反射防止膜を備えた有機ＥＬディスプレイ製造のような複雑な工程ではなく、上述の本発明の有機ＥＬディスプレイの製造が容易である。 Polishing of the convex portion 3a 'and the coating layer 3b' as described above is necessary by bringing the polishing member into contact with the object while relatively moving the object and the polishing member by rotating the object. In accordance with the above, it is preferable to carry out the process until the coating layer 3b 'existing on the convex part 3a' is completely removed. Furthermore, it is preferable to polish the convex portion 3a ′ provided earlier until the upper surface thereof is shaved.
In such a manufacturing method of the present invention, the process of forming the optical path adjusting layer 3 is not a complicated process as in the manufacture of an organic EL display having a conventional multilayer antireflection film, but the above-described organic EL display of the present invention. Is easy to manufacture.

［有機ＥＬ素子］
本発明の有機ＥＬディスプレイを構成する有機ＥＬ素子２，１２，２２，３２，４２は、基本的に、１対の電極と、この電極間に位置する発光層とを少なくとも有している。また、有機ＥＬ素子の駆動方式は、パッシブマトリックス、アクティブマトリックスのいずれであってもよい。
図１１は、アクティブマトリックス駆動方式の有機ＥＬ素子２の例を示す概略構成図である。図１１において、有機ＥＬ素子２は、透明基材５１と、１対の電極５２，５４と、この電極５２，５４間に挟持された有機ＥＬ発光層５３を備えている。尚、有機ＥＬ素子１２，２２，３２，４２についても同様である。 [Organic EL device]
The organic EL elements 2, 12, 22, 32 and 42 constituting the organic EL display of the present invention basically have at least a pair of electrodes and a light emitting layer located between the electrodes. Further, the driving method of the organic EL element may be either a passive matrix or an active matrix.
FIG. 11 is a schematic configuration diagram illustrating an example of an organic EL element 2 of an active matrix driving method. In FIG. 11, the organic EL element 2 includes a transparent base 51, a pair of electrodes 52 and 54, and an organic EL light emitting layer 53 sandwiched between the electrodes 52 and 54. The same applies to the organic EL elements 12, 22, 32, and 42.

透明基材５１は、有機ＥＬ発光層５３からの光を図１１の矢印ａ方向に取り出すボトム・エミッションの場合には、有機ＥＬ発光層５３からの光を観察者が容易に視認することができる程度の透明性を有するものである。また、有機ＥＬ発光層５３からの光を図１１の矢印ｂ方向に取り出すトップ・エミッションの場合には、透明基材５１に替えて不透明な基材を使用してもよい。いずれの場合も、有機ＥＬ素子２の両面のうち、有機ＥＬ発光層５３からの光の取り出し方向の面に、上述の光行路調整層３、透明基材４等が配設される。
透明基材５１（これに替わる不透明な基材も含む）としては、ガラス材料、樹脂材料、または、これらの複合材料からなるもの、例えば、ガラス板に保護プラスチックフィルムもしくは保護プラスチック層を設けたもの等が用いられる。 In the case of bottom emission in which the transparent substrate 51 takes out light from the organic EL light emitting layer 53 in the direction of arrow a in FIG. 11, the observer can easily see the light from the organic EL light emitting layer 53. It has a degree of transparency. In the case of top emission in which light from the organic EL light emitting layer 53 is extracted in the direction of arrow b in FIG. 11, an opaque base material may be used instead of the transparent base material 51. In any case, the above-described optical path adjusting layer 3, the transparent base material 4 and the like are disposed on the surface of the organic EL element 2 in the light extraction direction from the organic EL light emitting layer 53.
The transparent substrate 51 (including an opaque substrate instead) is made of a glass material, a resin material, or a composite material thereof, for example, a glass plate provided with a protective plastic film or a protective plastic layer Etc. are used.

上記の樹脂材料、保護プラスチック材料としては、例えば、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、ポリエステル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、液晶性ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリオキシメチレン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアクリレート、アクリロニトリル−スチレン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、シリコーン樹脂、非晶質ポリオレフィン等が挙げられる。この他の樹脂材料であっても、有機ＥＬディスプレイ用として使用できる高分子材料であれば、使用可能である。
透明基材５１の厚さは、通常、０．３〜３ｍｍ程度である。 Examples of the resin material and protective plastic material include fluorine resin, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinyl fluoride, polystyrene, ABS resin, polyamide, polyacetal, polyester, polycarbonate, modified polyphenylene ether, polysulfone, and polyarylate. , Polyetherimide, polyamideimide, polyimide, polyphenylene sulfide, liquid crystalline polyester, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyoxymethylene, polyethersulfone, polyetheretherketone, polyacrylate, acrylonitrile-styrene resin, Phenolic resin, urea resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, epoxy resin, polyurethane, Recone resins, amorphous polyolefins, and the like. Even other resin materials can be used as long as they are polymer materials that can be used for organic EL displays.
The thickness of the transparent substrate 51 is usually about 0.3 to 3 mm.

このような透明基材５１は、有機ＥＬディスプレイの用途にもよるが、水蒸気や酸素等のガスバリアー性の良好なものであれば更に好ましい。また、透明基材５１に、水蒸気や酸素等のガスバリアー層を形成してもよい。このようなガスバリアー層としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機酸化物をスパッタリング法や真空蒸着法等の物理蒸着法により形成したものであってよい。
電極５２は画素電極であり、透明基材５１上に形成された図示しない信号線、走査線、と、駆動素子であるＴＦＴ（薄膜トランジスタ）６１とともに、電極配線パターンを構成するものである。そして、この電極５２は、有機ＥＬ発光層５３からの光を図１１の矢印ａ方向に取り出すボトム・エミッションの場合には、透明電極（画素電極）となり、図１１の矢印ｂ方向に取り出すトップ・エミッションの場合には、透明、不透明いずれの電極（画素電極）であってもよい。 Such a transparent substrate 51 is more preferable if it has good gas barrier properties such as water vapor and oxygen, although it depends on the use of the organic EL display. Further, a gas barrier layer such as water vapor or oxygen may be formed on the transparent substrate 51. As such a gas barrier layer, for example, an inorganic oxide such as silicon oxide, aluminum oxide, or titanium oxide may be formed by a physical vapor deposition method such as a sputtering method or a vacuum vapor deposition method.
The electrode 52 is a pixel electrode, and constitutes an electrode wiring pattern together with signal lines and scanning lines (not shown) formed on the transparent substrate 51 and a TFT (thin film transistor) 61 as a driving element. In the case of bottom emission in which light from the organic EL light emitting layer 53 is extracted in the direction of arrow a in FIG. 11, this electrode 52 becomes a transparent electrode (pixel electrode), and the top electrode that is extracted in the direction of arrow b in FIG. In the case of emission, it may be either transparent or opaque electrode (pixel electrode).

このような電極５２は、通常の有機ＥＬディスプレイに使用されるものであれば特に限定されず、金属、合金、これらの混合物等を使用することができ、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料を挙げることができる。この電極５２が正孔を注入するための電極である場合、正孔が注入し易いように、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）透明、または半透明材料であるＩＴＯ、ＩＺＯ、酸化インジウム、金が好ましい。また、電極５２は、シート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、材質にもよるが、その厚みは、例えば、０．００５〜１μｍ程度とすることができる。
一方、電極５４は、共通電極であり、有機ＥＬ発光層５３からの光を、図１１の矢印ａ方向に取り出すボトム・エミッションの場合には、透明、不透明いずれであってもよく、図１１の矢印ｂ方向に取り出すトップ・エミッションの場合には、透明電極とする。 Such an electrode 52 is not particularly limited as long as it is used in a normal organic EL display, and a metal, an alloy, a mixture thereof, or the like can be used. For example, indium tin oxide (ITO), oxidation A thin film electrode material such as indium, indium zinc oxide (IZO), zinc oxide, stannic oxide, or gold can be given. When this electrode 52 is an electrode for injecting holes, ITO, IZO, indium oxide, and gold, which are transparent or translucent materials having a large work function (4 eV or more) so that holes can be easily injected, are used. preferable. The electrode 52 preferably has a sheet resistance of several hundreds Ω / □ or less, and the thickness can be, for example, about 0.005 to 1 μm, although depending on the material.
On the other hand, the electrode 54 is a common electrode, and may be either transparent or opaque in the case of bottom emission in which light from the organic EL light emitting layer 53 is extracted in the direction of arrow a in FIG. In the case of top emission extracted in the direction of arrow b, a transparent electrode is used.

このような電極５４の材料としては、通常の有機ＥＬディスプレイに使用されるものであれば特に限定されず、上述の電極層５２と同様に、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化第二錫、または金等の薄膜電極材料、さらに、マグネシウム合金（例えば、ＭｇＡｇ等）、アルミニウムまたはその合金（ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等）、銀等を挙げることができる。この電極５４が電子を注入するための電極である場合、電子が注入し易いように仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）マグネシウム合金、アルミニウム、銀等が好ましい。このような電極層５４はシート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、このため、電極層５４の厚みは、例えば、０．００５〜０．５μｍ程度とすることができる。 The material of the electrode 54 is not particularly limited as long as it is used for a normal organic EL display, and similarly to the electrode layer 52 described above, indium tin oxide (ITO), indium oxide, indium zinc oxide. Thin film electrode materials such as (IZO), zinc oxide, stannic oxide, or gold, and magnesium alloys (eg, MgAg), aluminum or alloys thereof (AlLi, AlCa, AlMg, etc.), silver, etc. it can. When this electrode 54 is an electrode for injecting electrons, a magnesium alloy, aluminum, silver or the like having a small work function (4 eV or less) is preferable so that electrons can be easily injected. Such an electrode layer 54 preferably has a sheet resistance of several hundred Ω / □ or less. For this reason, the thickness of the electrode layer 54 can be, for example, about 0.005 to 0.5 μm.

有機ＥＬ素子２を構成する有機ＥＬ発光層５３は、例えば、電極層５２側から正孔注入層、発光層、および電子注入層が積層された構造、発光層単独からなる構造、正孔注入層と発光層とからなる構造、発光層と電子注入層とからなる構造、さらに、正孔注入層と発光層との間に正孔輸送層を介在させた構造、発光層と電子注入層との間に電子輸送層を介在させた構造等とすることができる。
また、発光波長を調整したり、発光効率を向上させる等の目的で、上記の各層に適当な材料をドーピングすることもできる。 The organic EL light-emitting layer 53 constituting the organic EL element 2 has, for example, a structure in which a hole injection layer, a light-emitting layer, and an electron injection layer are stacked from the electrode layer 52 side, a structure including a single light-emitting layer, a hole injection layer A structure composed of a light emitting layer, a structure composed of a light emitting layer and an electron injection layer, a structure in which a hole transport layer is interposed between the hole injection layer and the light emitting layer, and a structure comprising a light emitting layer and an electron injection layer. A structure in which an electron transport layer is interposed therebetween can be employed.
In addition, for the purpose of adjusting the emission wavelength or improving the light emission efficiency, an appropriate material can be doped in each of the above layers.

有機ＥＬ発光層５３を構成する発光層は、図１、図３に示す有機ＥＬ素子２，１２では、赤色発光、緑色発光、青色発光の三原色の有機ＥＬ素子２Ｒ，２Ｇ，２Ｂ、有機ＥＬ素子１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂからなっているが、有機ＥＬディスプレイの使用目的等に応じて、所望の発光色（例えば、黄色、水色、オレンジ色）である発光層を単独で、また、赤色発光、緑色発光、青色発光以外の他の複数の発光色の所望の組み合わせ等、いずれであってもよい。また、図４に示す有機ＥＬ素子２２では白色発光、図５、図６に示される有機ＥＬ素子３２，４２では青色発光とする。 The light emitting layers constituting the organic EL light emitting layer 53 are organic EL elements 2R, 2G, and 2B having three primary colors of red light emission, green light emission, and blue light emission in the organic EL elements 2 and 12 shown in FIGS. It consists of 12R, 12G, and 12B. Depending on the purpose of use of the organic EL display, a light emitting layer having a desired light emitting color (for example, yellow, light blue, orange) alone, red light emitting, green Any desired combination of a plurality of emission colors other than light emission and blue light emission may be used. Further, the organic EL element 22 shown in FIG. 4 emits white light, and the organic EL elements 32 and 42 shown in FIGS. 5 and 6 emit blue light.

有機ＥＬ発光層５３を構成する発光層に用いる有機発光材料としては、例えば、下記のような色素系、金属錯体系、高分子系のものを挙げることができる。
（１）色素系発光材料
シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等が挙げられる。 Examples of the organic light emitting material used for the light emitting layer constituting the organic EL light emitting layer 53 include the following dye-based, metal complex-based, and polymer-based materials.
(1) Dye-based luminescent materials cyclopentadiene derivatives, tetraphenylbutadiene derivatives, triphenylamine derivatives, oxadiazole derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylarylene derivatives, silole derivatives, thiophene ring compounds, pyridine rings Examples thereof include compounds, perinone derivatives, perylene derivatives, oligothiophene derivatives, trifumanylamine derivatives, oxadiazole dimers, and pyrazoline dimers.

（２）金属錯体系発光材料
アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポリフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、中心金属にＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等、または、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体が挙げられる。 (2) Metal complex light emitting material Aluminum quinolinol complex, benzoquinolinol beryllium complex, benzoxazole zinc complex, benzothiazole zinc complex, azomethylzinc complex, porphyrin zinc complex, europium complex, etc. , Tb, Eu, Dy and the like, and a metal complex having oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzimidazole, quinoline structure and the like as a ligand.

（３）高分子系発光材料
ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリフルオレン誘導体等が挙げられる。
特に、図５、図６に示される有機ＥＬ素子３２，４２において、有機ＥＬ発光層５３に使用する青色発光である有機発光材料としては、例えば、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤、金属キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物、ジスチリルピラジン誘導体、芳香族ジメチリディン系化合物等を挙げることができる。 (3) Polymer-based light-emitting material Examples include polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyparaphenylene derivatives, polysilane derivatives, polyacetylene derivatives, polyvinylcarbazole derivatives, polyfluorene derivatives, and the like.
In particular, in the organic EL elements 32 and 42 shown in FIGS. 5 and 6, examples of the organic light emitting material that emits blue light used for the organic EL light emitting layer 53 include benzothiazole, benzimidazole, and benzoxazole. And fluorescent whitening agents, metal chelated oxinoid compounds, styrylbenzene compounds, distyrylpyrazine derivatives, aromatic dimethylidin compounds, and the like.

具体的には、２−２′−（ｐ−フェニレンジビニレン）−ビスヘンゾチアゾール等のベンゾチアゾール系；２−［２−［４−（２−ベンゾイミダゾリル）フェニル］ビニル］ベンゾイミダゾール、２−［２−（４−カルボキシフェニル）ビニル］ベンゾイミダゾール等のベンゾイミダゾール系；２，５−ビス（５，７−ジ−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）−１，３，４−チアジアゾール、４，４′−ビス（５，７−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）スチルベン、２−［２−（４−クロロフェニル）ビニル］ナフト［１，２−ｄ］オキサゾール等のベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤を挙げることができる。
また、上記の金属キレート化オキシノイド化合物としては、トリス（８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）マグネシウム、ビス（ベンゾ［ｆ］−８−キノリノール）亜鉛等の８−ヒドロキシキノリン系金属錯体やジリチウムエピントリジオン等を挙げることができる。 Specifically, benzothiazoles such as 2-2 '-(p-phenylenedivinylene) -bishenzothiazole; 2- [2- [4- (2-benzimidazolyl) phenyl] vinyl] benzimidazole, 2- [ Benzimidazoles such as 2- (4-carboxyphenyl) vinyl] benzimidazole; 2,5-bis (5,7-di-t-pentyl-2-benzoxazolyl) -1,3,4-thiadiazole, Benzoxazole series such as 4,4'-bis (5,7-t-pentyl-2-benzoxazolyl) stilbene, 2- [2- (4-chlorophenyl) vinyl] naphtho [1,2-d] oxazole And the like.
Examples of the metal chelated oxinoid compound include 8-hydroxyquinoline metal complexes such as tris (8-quinolinol) aluminum, bis (8-quinolinol) magnesium, and bis (benzo [f] -8-quinolinol) zinc. Examples include dilithium epinetridione.

また、上記のスチリルベンゼン系化合物としては、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（４−メチルスチリル）ベンゼン、ジスチリルベンゼン、１，４−ビス（２−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−メチルベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−エチルベンゼン等を挙げることができる。
また、上記のジスチリルピラジン誘導体としては、２，５−ビス（４−メチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス（４−エチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ナフチル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス（４−メトキシスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（４−ビフェニル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ピレニル）ビニル］ピラジン等を挙げることができる。 Examples of the styrylbenzene compound include 1,4-bis (2-methylstyryl) benzene, 1,4-bis (3-methylstyryl) benzene, 1,4-bis (4-methylstyryl) benzene, Distyrylbenzene, 1,4-bis (2-ethylstyryl) benzene, 1,4-bis (3-ethylstyryl) benzene, 1,4-bis (2-methylstyryl) -2-methylbenzene, 1,4 -Bis (2-methylstyryl) -2-ethylbenzene and the like can be mentioned.
Examples of the distyrylpyrazine derivative include 2,5-bis (4-methylstyryl) pyrazine, 2,5-bis (4-ethylstyryl) pyrazine, and 2,5-bis [2- (1-naphthyl). Vinyl] pyrazine, 2,5-bis (4-methoxystyryl) pyrazine, 2,5-bis [2- (4-biphenyl) vinyl] pyrazine, 2,5-bis [2- (1-pyrenyl) vinyl] pyrazine Etc.

また、上記の芳香族ジメチリディン系化合物としては、１，４−フェニレンジメチリディン、４，４−フェニレンジメチリディン、２，５−キシレンジメチリディン、２，６−ナフチレンジメチリディン、１，４−ビフェニレンジメチリディン、１，４−ｐ−テレフェニレンジメチリディン、９，１０−アントラセンジイルジルメチリディン、４，４′−ビス（２，２−ジ−ｔ−ブチルフェニルビニル）ビフェニル、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル等、およびその誘導体を挙げることができる。
さらに、発光層の材料として、一般式（Ｒｓ−Ｑ）２−ＡＬ−Ｏ−Ｌで表される化合物も挙げることができる（上記式中、ＡＬはベンゼン環を含む炭素原子６〜２４個の炭化水素であり、Ｏ−Ｌはフェニラート配位子であり、Ｑは置換８−キノリノラート配位子であり、Ｒｓはアルミニウム原子に置換８−キノリノラート配位子が２個以上結合するのを立体的に妨害するように選ばれた８−キノリノラート置換基を表す）。具体的には、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（パラーフェニルフェノラート）アルミニウム（III）、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（１−ナフトラート）アルミニウム（III）等が挙げられる。 Examples of the aromatic dimethylidin compounds include 1,4-phenylene dimethylidin, 4,4-phenylene dimethylidin, 2,5-xylene dimethylidin, 2,6-naphthylene dimethylidin, 1 , 4-biphenylenedimethylidin, 1,4-p-terephenylenedimethylidin, 9,10-anthracenediyldimethylidin, 4,4'-bis (2,2-di-t-butylphenylvinyl) Biphenyl, 4,4'-bis (2,2-diphenylvinyl) biphenyl, and the like, and derivatives thereof can be mentioned.
Furthermore, as a material of the light emitting layer, a compound represented by the general formula (Rs-Q) 2-AL-OL can be exemplified (in the above formula, AL has 6 to 24 carbon atoms including a benzene ring). A hydrocarbon, OL is a phenylate ligand, Q is a substituted 8-quinolinolato ligand, Rs is a steric bond of two or more substituted 8-quinolinolato ligands to an aluminum atom. Represents an 8-quinolinolate substituent selected to interfere with. Specific examples include bis (2-methyl-8-quinolinolato) (paraphenylphenolate) aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (1-naphtholato) aluminum (III), and the like.

有機ＥＬ発光層５３の各層に用いるドーピング材料、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子注入材料等は、下記に例示するような無機材料、有機材料いずれでもよい。有機ＥＬ発光層５３の各層の厚みは特に制限はなく、例えば、１０〜１０００ｎｍ程度とすることができる。
（ドーピング材料）
ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポリフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン等が挙げられる。 The doping material, hole transport material, hole injection material, electron injection material, and the like used for each layer of the organic EL light emitting layer 53 may be any of inorganic materials and organic materials as exemplified below. The thickness of each layer of the organic EL light emitting layer 53 is not particularly limited, and can be, for example, about 10 to 1000 nm.
(Doping material)
Examples include perylene derivatives, coumarin derivatives, rubrene derivatives, quinacridone derivatives, squalium derivatives, porphyrin derivatives, styryl dyes, tetracene derivatives, pyrazoline derivatives, decacyclene, phenoxazone, and the like.

（正孔輸送材料）
オキサジアゾール系、オキサゾール系、トリアゾール系、チアゾール系、トリフェニルメタン系、スチリル系、ピラゾリン系、ヒドラゾン系、芳香族アミン系、カルバゾール系、ポリビニルカルバゾール系、スチルベン系、エナミン系、アジン系、トリフェニルアミン系、ブタジエン系、多環芳香族化合物系、スチルベン二量体等が挙げられる。
また、π共役系高分子として、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（Ｐ−フェニレン）、ポリ（Ｐ−フェニレンスルフィド）、ポリ（Ｐ−フェニレンオキシド）、ポリ（１，６−ヘプタジエン）、ポリ（Ｐ−フェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレン）、ポリ（２，５−ピロール）、ポリ（ｍ−フェニレンスルフィド）、ポリ（４，４′−ビフェニレン）等が挙げられる。 (Hole transport material)
Oxadiazole, oxazole, triazole, thiazole, triphenylmethane, styryl, pyrazoline, hydrazone, aromatic amine, carbazole, polyvinylcarbazole, stilbene, enamine, azine, tri Examples include phenylamine-based, butadiene-based, polycyclic aromatic compound-based, and stilbene dimer.
Further, as the π-conjugated polymer, polyacetylene, polydiacetylene, poly (P-phenylene), poly (P-phenylene sulfide), poly (P-phenylene oxide), poly (1,6-heptadiene), poly (P— Phenylene vinylene), poly (2,5-thienylene), poly (2,5-pyrrole), poly (m-phenylene sulfide), poly (4,4'-biphenylene) and the like.

また、電荷移動高分子錯体として、ポリスチレン・ＡｇＣ１０４、ポリビニルナフタレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルナフタレン・Ｐ−ＣＡ、ポリビニルナフタレン・ＤＤＱ、ポリビニルメシチレン・ＴＣＮＥ、ポリナフタアセチレン・ＴＣＮＥ、ポリビニルアントラセン・Ｂｒ２、ポリビニルアントラセン・Ｉ２、ポリビニルアントラセン・ＴＮＢ、ポリジメチルアミノスチレン・ＣＡ、ポリビニルイミダゾール・ＣＱ、ポリ−Ｐ−フェニレン・Ｉ２、ポリ−１−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−４−ビニルピリジン・Ｉ２、ポリ−Ｐ−１−フェニレン・Ｉ２、ポリビニルピリジウム・ＴＣＮＱ等が挙げられ、さらに、電荷移動低分子錯体として、ＴＣＮＱ−ＴＴＦ等が、高分子金属錯体としては、ポリ銅フタロシアニン等が挙げられる。
正孔輸送材料としては、イオン化ポテンシャルの小さい材料が好ましく、特に、ブタジエン系、エナミン系、ヒドラゾン系、トリフェニルアミン系が好ましい。 As the charge transfer polymer complex, polystyrene / AgC104, polyvinylnaphthalene / TCNE, polyvinylnaphthalene / P-CA, polyvinylnaphthalene / DDQ, polyvinylmesitylene / TCNE, polynaphthaacetylene / TCNE, polyvinylanthracene / Br2, polyvinylanthracene / I2 , Polyvinyl anthracene / TNB, polydimethylaminostyrene / CA, polyvinyl imidazole / CQ, poly-P-phenylene / I2, poly-1-vinylpyridine / I2, poly-4-vinylpyridine / I2, poly-P-1- Examples include phenylene, I2, polyvinylpyridium, TCNQ, and the like. Further, TCNQ-TTF and the like are exemplified as a charge transfer low molecular complex, and polycopper phthalocyanine and the like are exemplified as a polymer metal complex.
As the hole transport material, a material having a low ionization potential is preferable, and in particular, a butadiene system, an enamine system, a hydrazone system, and a triphenylamine system are preferable.

（正孔注入材料）
フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー等の誘電性高分子オリゴマー等、を挙げることができる。 (Hole injection material)
Phenylamine, starburst amine, phthalocyanine, oxide such as vanadium oxide, molybdenum oxide, ruthenium oxide, aluminum oxide, amorphous carbon, polyaniline, polythiophene derivative, triazole derivative, oxadiazole derivative, imidazole derivative, polyaryl Alkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, polysilanes, aniline copolymers, And dielectric polymer oligomers such as thiophene oligomers.

さらに、正孔注入材料として、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物を挙げることもできる。上記のポリフィリン化合物としては、ポリフィン、１，１０，１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ、２３Ｈ−ポリフィン銅（II）、アルミニウムフタロシアニンクロリド、銅オクタメチルフタロシアニン等を挙げることができる。また、芳香族第三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−［４（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル］スチルベン、３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル、４，４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン等を挙げることができる。 Furthermore, examples of the hole injection material include a porphyrin compound, an aromatic tertiary amine compound, and a styrylamine compound. Examples of the porphyrin compound include polyfin, 1,10,15,20-tetraphenyl-21H, 23H-polyfin copper (II), aluminum phthalocyanine chloride, copper octamethylphthalocyanine, and the like. In addition, aromatic tertiary amine compounds and styrylamine compounds include N, N, N ′, N′-tetraphenyl-4,4′-diaminophenyl, N, N′-diphenyl-N, N′-bis. (3-methylphenyl)-[1,1′-biphenyl] -4,4′-diamine, 4- (di-p-tolylamino) -4 ′-[4 (di-p-tolylamino) styryl] stilbene, 3, -Methoxy-4'-N, N-diphenylaminostilbenzene, 4,4'-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl, 4,4 ', 4 "-tris [N- ( 3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine and the like.

（電子注入材料）
カルシウム、バリウム、アルミリチウム、フッ化リチウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ストロンチウム、酸化カルシウム、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム、ニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、上記のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ジスチリルピラジン誘導体等を挙げることができる。 (Electron injection material)
Calcium, barium, lithium aluminum, lithium fluoride, strontium, magnesium oxide, magnesium fluoride, strontium fluoride, calcium fluoride, barium fluoride, aluminum oxide, strontium oxide, calcium oxide, polymethyl methacrylate, sodium polystyrene sulfonate, Nitro-substituted fluorene derivatives, anthraquinodimethane derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyrandioxide derivatives, heterocyclic tetracarboxylic anhydrides such as naphthaleneperylene, carbodiimides, fluorenylidenemethane derivatives, anthraquinodimethane and anthrone derivatives, oxa Diazole derivatives, thiazole derivatives in which the oxygen atom of the above oxadiazole ring is substituted with a sulfur atom, quinoxaline known as an electron withdrawing group Can quinoxaline derivative having, tris (8-quinolinol) metal complexes of 8-quinolinol derivatives, such as aluminum, phthalocyanine, metal phthalocyanine, a distyryl pyrazine derivatives.

有機ＥＬ発光層５３を構成する各層の形成は、グラビアオフセット印刷やスクリーン印刷法等の印刷方法、フォトマスクを介した真空蒸着法等により成膜して形成することができる。
また、パッシブマトリックス駆動方式の有機ＥＬ素子の場合には、例えば、上述のＴＦＴ６１や信号線、走査線を設けずに、電極５２を所定方向にストライプ形状に形成し、電極５４を電極５２に直交する方向でストライプ形状に形成することができる。また、パッシブマトリックス駆動方式においても、有機ＥＬ発光層５３からの光の取り出し方向は、上述のボトム・エミッション、トップ・エミッションのいずれであってもよい。 Each layer constituting the organic EL light emitting layer 53 can be formed by forming a film by a printing method such as gravure offset printing or a screen printing method, a vacuum vapor deposition method through a photomask, or the like.
Further, in the case of a passive matrix driving type organic EL element, for example, without providing the TFT 61, the signal line, and the scanning line, the electrode 52 is formed in a stripe shape in a predetermined direction, and the electrode 54 is orthogonal to the electrode 52. It can be formed in a stripe shape in the direction to be. Also in the passive matrix driving method, the light extraction direction from the organic EL light emitting layer 53 may be any of the above-described bottom emission and top emission.

本発明の有機ＥＬディスプレイを構成する有機ＥＬ素子２，１２，２２，３２，４２は、上述の形態に限定されるものではなく、例えば、透明基材５１を備えていないものであってもよい。この場合、例えば、図１（Ａ）に示される例では光行路調整層３上に、図１（Ｂ）に示される例では透明基材４上に、１対の電極５２，５４と、この電極５２，５４間に挟持された有機ＥＬ発光層５３を、ボトム・エミッション、トップ・エミッションを考慮して積層形成することができる。また、ガスバリアー層を介して有機ＥＬ素子を積層形成してもよい。ガスバリアー層としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機酸化物をスパッタリング法や真空蒸着法等の物理蒸着法により形成したものであってよい。 The organic EL elements 2, 12, 22, 32, and 42 constituting the organic EL display of the present invention are not limited to the above-described embodiments, and may not include the transparent substrate 51, for example. . In this case, for example, in the example shown in FIG. 1A, a pair of electrodes 52, 54 are formed on the optical path adjustment layer 3 and in the example shown in FIG. The organic EL light-emitting layer 53 sandwiched between the electrodes 52 and 54 can be laminated in consideration of bottom emission and top emission. In addition, organic EL elements may be stacked through a gas barrier layer. As the gas barrier layer, for example, an inorganic oxide such as silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide or the like may be formed by a physical vapor deposition method such as a sputtering method or a vacuum vapor deposition method.

［透明基材］
透明基材４，１４，２４，３４，４４は、観察者側に設けられ、有機ＥＬ素子からの光を観察者が容易に視認することができる程度の透明性を有するものである。このような透明基材としては、上述の透明基材５１として挙げた透明材料が使用可能である。 [Transparent substrate]
The transparent base materials 4, 14, 24, 34, 44 are provided on the viewer side and have such transparency that the viewer can easily see the light from the organic EL element. As such a transparent substrate, the transparent material mentioned as the above-mentioned transparent substrate 51 can be used.

［カラーフィルタ層］
カラーフィルタ層１５，２５，４５は、有機ＥＬ素子１２，２２，４２からの光を色補正したり、色純度を高めるものである。カラーフィルタ層１５，２５，４５を構成する赤色着色層１５Ｒ，２５Ｒ，４５Ｒ、緑色着色層１５Ｇ，２５Ｇ，４５Ｇ、青色着色層１５Ｂ，２５Ｂ，４５Ｂは、有機ＥＬ素子１２，２２，４２の発光特性に応じて適宜材料を選択することができ、例えば、顔料、顔料分散剤、バインダー樹脂、反応性化合物および溶媒を含有する顔料分散組成物で形成することができる。このようなカラーフィルタ層１５，２５，４５の厚みは、各着色層の材料、有機ＥＬ素子１２，２２，４２の発光特性等に応じて適宜設定することができ、例えば、１〜３μｍ程度の範囲で設定することができる。 [Color filter layer]
The color filter layers 15, 25, and 45 are for color correction of light from the organic EL elements 12, 22, and 42 and for enhancing color purity. The red colored layers 15R, 25R, and 45R, the green colored layers 15G, 25G, and 45G, and the blue colored layers 15B, 25B, and 45B that constitute the color filter layers 15, 25, and 45 are emission characteristics of the organic EL elements 12, 22, and 42, respectively. Depending on the material, the material can be appropriately selected. For example, it can be formed of a pigment dispersion composition containing a pigment, a pigment dispersant, a binder resin, a reactive compound and a solvent. The thicknesses of the color filter layers 15, 25, 45 can be appropriately set according to the material of each colored layer, the light emission characteristics of the organic EL elements 12, 22, 42, and the thickness is, for example, about 1 to 3 μm. Can be set by range.

［色変換蛍光体層］
色変換蛍光体層３６，４６は、有機ＥＬ素子３２，４２で発光された青色光を赤色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層３６Ｒ，４６Ｒ、青色光を緑色蛍光に変換する緑色変換蛍光体層３６Ｇ，４６Ｇ、青色光をそのまま透過する青色変換ダミー層３６Ｂ，４６Ｂが所望のパターンで配列されたものである。 [Color conversion phosphor layer]
The color conversion phosphor layers 36 and 46 are red conversion phosphor layers 36R and 46R that convert blue light emitted from the organic EL elements 32 and 42 into red fluorescence, and a green conversion phosphor layer that converts blue light into green fluorescence. The blue conversion dummy layers 36B and 46B that transmit the blue light as they are are arranged in a desired pattern.

上記の赤色変換蛍光体層３６Ｒ，４６Ｒおよび緑色変換蛍光体層３６Ｇ，４６Ｇは、蛍光色素単体からなる層、あるいは、樹脂中に蛍光色素を含有した層である。青色発光を赤色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層３６Ｒ，４６Ｒに使用する蛍光色素としては、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン等のシアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリジウム−パークロレート等のピリジン色素、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ等のローダミン系色素、オキサジン系色素等が挙げられる。また、青色発光を緑色蛍光に変換する緑色変換蛍光体層３６Ｇ，４６Ｇに使用する蛍光色素としては、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジノ（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン、３−（２′−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２′−ベンズイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン等のクマリン色素、ベーシックイエロー５１等のクマリン色素系染料、ソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６等のナフタルイミド色素等が挙げられる。さらに、直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料等の各種染料も蛍光性があれば使用することができる。上述のような蛍光色素は単独、あるいは、２種以上の組み合わせで使用することができる。赤色変換蛍光体層３６Ｒ，４６Ｒおよび緑色変換蛍光体層３６Ｇ，４６Ｇが樹脂中に蛍光色素を含有したものである場合、蛍光色素の含有量は、使用する蛍光色素、色変換蛍光体層の厚み等を考慮して適宜設定することができるが、例えば、使用する樹脂１００重量部に対し０．１〜１重量部程度とすることができる。 The red conversion phosphor layers 36R and 46R and the green conversion phosphor layers 36G and 46G are layers made of a single fluorescent dye or a layer containing a fluorescent dye in a resin. Fluorescent dyes used for the red conversion phosphor layers 36R and 46R that convert blue light emission into red fluorescence include cyanine compounds such as 4-dicyanomethylene-2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -4H-pyran. Dyes, pyridine dyes such as 1-ethyl-2- [4- (p-dimethylaminophenyl) -1,3-butadienyl] -pyridium-perchlorate, rhodamine dyes such as rhodamine B and rhodamine 6G, oxazine dyes, etc. Is mentioned. Moreover, as a fluorescent dye used for the green conversion phosphor layers 36G and 46G for converting blue light emission into green fluorescence, 2,3,5,6-1H, 4H-tetrahydro-8-trifluoromethylquinolidino (9 , 9a, 1-gh) coumarin, 3- (2′-benzothiazolyl) -7-diethylaminocoumarin, coumarin dyes such as 3- (2′-benzimidazolyl) -7-N, N-diethylaminocoumarin, basic yellow 51, etc. And naphthalimide dyes such as Solvent Yellow 11 and Solvent Yellow 116. Furthermore, various dyes such as direct dyes, acid dyes, basic dyes, and disperse dyes can be used as long as they have fluorescence. The above fluorescent dyes can be used alone or in combination of two or more. When the red color conversion phosphor layers 36R and 46R and the green color conversion phosphor layers 36G and 46G contain a fluorescent dye in the resin, the content of the fluorescent dye is the thickness of the fluorescent dye used and the color conversion phosphor layer. For example, it can be set to about 0.1 to 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the resin to be used.

また、青色変換ダミー層３６Ｂ，４６Ｂは、有機ＥＬ素子３２，４２で発光された青色光をそのまま透過するものであり、赤色変換蛍光体層３６Ｒ，４６Ｒ、緑色変換蛍光体層３６Ｇ，４６Ｇとほぼ同じ厚みの透明樹脂層とすることができる。
赤色変換蛍光体層３６Ｒ，４６Ｒおよび緑色変換蛍光体層３６Ｇ，４６Ｇが樹脂中に蛍光色素を含有したものである場合、樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等の透明（可視光透過率５０％以上）樹脂を使用することができる。また、色変換蛍光体層３６，４６のパターン形成をフォトリソグラフィー法により行う場合、例えば、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、環ゴム系等の反応性ビニル基を有する光硬化型レジスト樹脂を使用することができる。さらに、これらの樹脂は、上述の青色変換ダミー層３６Ｂ，４６Ｂに使用することができる。 The blue conversion dummy layers 36B and 46B transmit the blue light emitted from the organic EL elements 32 and 42 as they are, and are almost the same as the red conversion phosphor layers 36R and 46R and the green conversion phosphor layers 36G and 46G. It can be set as the transparent resin layer of the same thickness.
When the red conversion phosphor layers 36R and 46R and the green conversion phosphor layers 36G and 46G contain a fluorescent dye in the resin, the resins include polymethyl methacrylate, polyacrylate, polycarbonate, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, Uses transparent (visible light transmittance of 50% or more) resin such as hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, polyvinyl chloride resin, melamine resin, phenol resin, alkyd resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, maleic acid resin, polyamide resin can do. When pattern formation of the color conversion phosphor layers 36 and 46 is performed by a photolithography method, for example, photocuring having a reactive vinyl group such as acrylic acid, methacrylic acid, polyvinyl cinnamate, and ring rubber. A type resist resin can be used. Further, these resins can be used for the blue conversion dummy layers 36B and 46B described above.

色変換蛍光体層３６，４６を構成する赤色変換蛍光体層３６Ｒ，４６Ｒと緑色変換蛍光体層３６Ｇ，４６Ｇは、蛍光色素単体で形成する場合、例えば、所望のパターンマスクを介して真空蒸着法、スパッタリング法により帯状に形成することができる。また、樹脂中に蛍光色素を含有した層として形成する場合、例えば、蛍光色素と樹脂とを分散、または可溶化させた塗布液をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする方法、上記の塗布液をスクリーン印刷法等でパターン印刷する方法等により赤色変換蛍光体層３６Ｒ，４６Ｒや緑色変換蛍光体層３６Ｇ，４６Ｇを形成することができる。また、青色変換ダミー層３６Ｂ，４６Ｂは、所望の感光性樹脂塗料をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする方法、所望の樹脂塗布液をスクリーン印刷法等でパターン印刷する方法等により形成することができる。 When the red color conversion phosphor layers 36R and 46R and the green color conversion phosphor layers 36G and 46G constituting the color conversion phosphor layers 36 and 46 are formed of a single fluorescent dye, for example, vacuum deposition is performed through a desired pattern mask. It can be formed in a band shape by sputtering. When forming a layer containing a fluorescent dye in the resin, for example, a coating solution in which the fluorescent dye and the resin are dispersed or solubilized is applied by a method such as spin coating, roll coating, or cast coating. The red conversion phosphor layers 36R and 46R and the green conversion phosphor layers 36G and 46G are formed by a method of patterning the film using a photolithography method, a method of pattern printing the coating liquid using a screen printing method, or the like. Can do. The blue conversion dummy layers 36B and 46B are formed by applying a desired photosensitive resin paint by a method such as spin coating, roll coating, or cast coating, and patterning this by a photolithography method, or a desired resin. The coating liquid can be formed by a pattern printing method using a screen printing method or the like.

このような色変換蛍光体層３６，４６の厚みは、赤色変換蛍光体層３６Ｒ，４６Ｒおよび緑色変換蛍光体層３６Ｇ，４６Ｇが有機ＥＬ素子３２，４２で発光された青色光を十分に吸収し蛍光を発生する機能が発現できるものとする必要があり、使用する蛍光色素、蛍光色素濃度等を考慮して適宜設定することができ、例えば、１０〜２０μｍ程度とすることができ、赤色変換蛍光体層３６Ｒ，４６Ｒと緑色変換蛍光体層３６Ｇ，４６Ｇとの厚みが異なる場合があってもよい。
上述の実施形態は例示であり、本発明はこれらに限定されるものではない。例えば、ブラックマトリックス１７，２７，３７，４７を備えないものであってもよい。 The thicknesses of the color conversion phosphor layers 36 and 46 are such that the red color conversion phosphor layers 36R and 46R and the green color conversion phosphor layers 36G and 46G sufficiently absorb the blue light emitted from the organic EL elements 32 and 42. It is necessary to be able to express the function of generating fluorescence, and can be appropriately set in consideration of the fluorescent dye to be used, the concentration of the fluorescent dye, etc., for example, about 10 to 20 μm, and red-converted fluorescence The body layers 36R and 46R and the green conversion phosphor layers 36G and 46G may have different thicknesses.
The above-mentioned embodiment is an illustration and this invention is not limited to these. For example, the black matrix 17, 27, 37, 47 may not be provided.

次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
［実施例１］
（透明基材への光行路調整層の形成）
透明基材として、１５０ｍｍ×１５０ｍｍ、厚み０．７ｍｍのガラス基板（旭硝子（株）製ＡＮ無アルカリ基板、屈折率ｎ₀＝１．５６）を準備した。このガラス基板の一方の面に、紫外線硬化性の樹脂（ＪＳＲ（株）製ＬＣＤ用ＯＣ材ＮＮ５２５）をスピンコート法で塗布し、フォトマスクを介して露光し、現像した。これにより、市松模様（図７の斜線を付したパターン形状）で複数の凸状部を形成した。この凸状部は底辺が２５μｍ×２５μｍの正方形で高さは５μｍであった。また、この凸状部の屈折率は１．６０であった。尚、屈折率の測定は、屈折計（Ｖブロック法）、または分光計（最小偏角法）を用いて行った。以下の実施例においても同様である。 Next, an Example is shown and this invention is demonstrated further in detail.
[Example 1]
(Formation of optical path adjustment layer on transparent substrate)
A glass substrate (AN non-alkali substrate manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., refractive index n ₀ = 1.56) having a size of 150 mm × 150 mm and a thickness of 0.7 mm was prepared as a transparent substrate. An ultraviolet curable resin (OCR material NN525 for LCD manufactured by JSR Co., Ltd.) was applied to one surface of the glass substrate by a spin coating method, exposed through a photomask, and developed. Thereby, a plurality of convex portions were formed in a checkered pattern (pattern shape with hatching in FIG. 7). The convex portion had a square with a base of 25 μm × 25 μm and a height of 5 μm. Moreover, the refractive index of this convex-shaped part was 1.60. The refractive index was measured using a refractometer (V block method) or a spectrometer (minimum deflection angle method). The same applies to the following embodiments.

次に、テトラメチルオルソシリケート１ｍｏｌの対して、硝酸０．７ｍｏｌ、水１２ｍｏｌ、エタノール１５ｍｏｌ、界面活性剤（ｎ−ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライド）０．２ｍｏｌを添加して、有機シラン液を調製した。次いで、この有機シラン液を、ガラス基板の上記凸状部を形成した面にスピンコート法で塗布し、塗布膜に空気中にて２００℃で加熱処理を施し、次に、１０^-5Ｐａの雰囲気中にて４００℃で焼成処理を施した。これにより、凸状部を被覆するように多孔質の二酸化ケイ素膜（凸状部が存在しない部位での厚みが７μｍ）を形成した。この多孔質の二酸化ケイ素膜の屈折率は１．３０であった。
次いで、上記の多孔質の二酸化ケイ素膜を凸状部と共にケミカルメカニカルポリッシング（ＣＭＰ）法により研磨して、厚みが４．５μｍの光行路調整層を形成した。この光行路調整層では、屈折率ｎ_aが１．６０である領域Ａと、屈折率ｎ_bが１．３０である領域Ｂが図７に示される碁盤目状に配されたものであり、境界面は光行路調整層の層面内方向に対して約９０°をなすものであった。 Next, 0.7 mol of nitric acid, 12 mol of water, 15 mol of ethanol, and 0.2 mol of a surfactant (n-hexadecyltrimethylammonium chloride) were added to 1 mol of tetramethyl orthosilicate to prepare an organosilane solution. Next, this organosilane liquid was applied to the surface of the glass substrate on which the convex portions were formed by a spin coating method, and the coating film was subjected to a heat treatment at 200 ° C. in air, and then 10 ⁻⁵ Pa. A baking treatment was performed at 400 ° C. in an atmosphere. As a result, a porous silicon dioxide film (thickness at the portion where the convex portion does not exist is 7 μm) so as to cover the convex portion. The refractive index of this porous silicon dioxide film was 1.30.
Next, the porous silicon dioxide film was polished by a chemical mechanical polishing (CMP) method together with the convex portions to form an optical path adjusting layer having a thickness of 4.5 μm. In this optical path adjusting layer, a region A having _a refractive index n _a of 1.60 and a region B having a refractive index n _b of 1.30 are arranged in a grid pattern shown in FIG. The boundary surface was about 90 ° with respect to the in-plane direction of the optical path adjusting layer.

（有機ＥＬ素子の形成と有機ＥＬディスプレイの作製）
まず、上述のように光行路調整層を形成したガラス基板の光行路調整層上に、スパッタリング法により酸化ケイ素からなるガスバリアー層（厚み６００ｎｍ）を形成した。
次に、このガスバリアー層に対して、イオンプレーティング法により膜厚２００ｎｍの酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）電極膜を形成し、このＩＴＯ電極膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ＩＴＯ電極膜のエッチングを行って、幅２．２ｍｍのストライプ形状の透明電極層を４ｍｍピッチで２０本形成した。
各透明電極層上に２ｍｍ×２ｍｍの発光エリアが４ｍｍピッチで存在するように、このような発光エリアに対応した開口部を備えたマスクを介して、４，４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミンを２００ｎｍ厚まで蒸着して成膜し、その後、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニルを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することによって、透明電極層上に正孔注入層を形成した。 (Formation of organic EL elements and production of organic EL displays)
First, a gas barrier layer (thickness 600 nm) made of silicon oxide was formed by sputtering on the optical path adjustment layer of the glass substrate on which the optical path adjustment layer was formed as described above.
Next, an indium tin oxide (ITO) electrode film having a thickness of 200 nm is formed on the gas barrier layer by an ion plating method, a photosensitive resist is applied on the ITO electrode film, mask exposure, development, The ITO electrode film was etched to form 20 transparent electrode layers having a stripe shape with a width of 2.2 mm at a pitch of 4 mm.
4, 4 ′, 4 ″ -Tris [N through a mask having openings corresponding to such light emitting areas so that light emitting areas of 2 mm × 2 mm exist on each transparent electrode layer at a pitch of 4 mm. -(3-Methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine was deposited to a thickness of 200 nm to form a film, and then 4,4'-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl Was deposited to a thickness of 20 nm to form a hole injection layer on the transparent electrode layer.

次に、下記組成の赤色発光層用のインキをスピンコート法で塗布し、１２０℃に設定したホットプレート上で３０分間乾燥して、厚み３００ｎｍの赤色発光層を形成した。
（赤色発光層用のインキ組成）
・ポリフルオレン誘導体系の赤色発光材料 … ２．５重量％
・溶媒（メシチレン：テトラリン＝５０：５０の混合溶媒）… ９７．５重量％
赤色発光層を形成した面側に、２．２ｍｍ幅のストライプ状の開口部を４ｍｍピッチで備えたメタルマスクを、この開口部が上記のストライプ形状の透明電極層と直交し、かつ、上記の正孔注入層の形成エリア上に位置するように配置した。次に、このマスクを介して真空蒸着法によりカルシウムを蒸着して成膜し、電子注入層（厚み１０ｎｍ）を４ｍｍピッチで２０本形成した。 Next, an ink for a red light emitting layer having the following composition was applied by a spin coat method and dried on a hot plate set at 120 ° C. for 30 minutes to form a red light emitting layer having a thickness of 300 nm.
(Ink composition for red light emitting layer)
・ Polyfluorene derivative-based red light-emitting material: 2.5% by weight
Solvent (mixed solvent of mesitylene: tetralin = 50: 50) ... 97.5% by weight
A metal mask having 2.2 mm wide stripe-shaped openings at a pitch of 4 mm on the surface side on which the red light emitting layer is formed, the openings are orthogonal to the stripe-shaped transparent electrode layer, and the above-mentioned It arrange | positioned so that it might be located on the formation area of a positive hole injection layer. Next, calcium was vapor-deposited by a vacuum vapor deposition method through this mask, and 20 electron injection layers (thickness 10 nm) were formed at a pitch of 4 mm.

次に、電子注入層の形成に用いたメタルマスクをそのまま使用して、真空蒸着法によりアルミニウムを蒸着して成膜した。これにより、電子注入層上に、アルミニウムからなる幅２．２ｍｍのストライプ形状の電極層（厚み３００ｎｍ）を形成した。
最後に、電極層を形成した面側に、紫外線硬化型接着剤を介して封止板を貼り合わせた。これにより、図１（Ａ）に示されるような構造（ただし、発光は赤色発光のみ）の本発明の有機ＥＬディスプレイを得た。
この有機ＥＬディスプレイについて、発光輝度が３０００ｃｄ／ｍ²となるときの印加電流値を測定し、結果を下記の表１に示した。尚、輝度測定はトプコン社製分光輝度計を用いて行った。以下の実施例においても同様である。 Next, the metal mask used for forming the electron injection layer was used as it was, and aluminum was deposited by vacuum deposition to form a film. Thereby, a stripe-shaped electrode layer (thickness 300 nm) made of aluminum and having a width of 2.2 mm was formed on the electron injection layer.
Finally, a sealing plate was bonded to the surface side on which the electrode layer was formed via an ultraviolet curable adhesive. As a result, an organic EL display of the present invention having a structure as shown in FIG. 1A (however, light emission was only red light emission) was obtained.
For this organic EL display, the applied current value was measured when the light emission luminance was 3000 cd / m ^2, and the results are shown in Table 1 below. The luminance measurement was performed using a spectral luminance meter manufactured by Topcon Corporation. The same applies to the following embodiments.

［実施例２］
（透明基材への光行路調整層の形成）
実施例１と同様にして、ガラス基板の片面に光行路調整層を形成した。
（有機ＥＬ素子の形成と有機ＥＬディスプレイの作製）
上述のように光行路調整層を形成したガラス基板（光行路調整層非形成面）上に、実施例１と同様にして、透明電極層、正孔注入層、赤色発光層、電子注入層、アルミニウム電極層を積層形成し、その後、封止板を貼り合わせて、図１（Ｂ）に示されるような構造（ただし、発光は赤色発光のみ）の本発明の有機ＥＬディスプレイを得た。
この有機ＥＬディスプレイについて、実施例１と同様に、発光輝度が３０００ｃｄ／ｍ²となるときの印加電流値を測定し、結果を下記の表１に示した。 [Example 2]
(Formation of optical path adjustment layer on transparent substrate)
In the same manner as in Example 1, an optical path adjusting layer was formed on one side of the glass substrate.
(Formation of organic EL elements and production of organic EL displays)
On the glass substrate (light path adjustment layer non-formation surface) on which the optical path adjustment layer is formed as described above, in the same manner as in Example 1, a transparent electrode layer, a hole injection layer, a red light emitting layer, an electron injection layer, An aluminum electrode layer was laminated, and then a sealing plate was bonded to obtain an organic EL display of the present invention having a structure as shown in FIG. 1B (however, light emission was only red light emission).
For this organic EL display, in the same manner as in Example 1, the applied current value when the light emission luminance was 3000 cd / m ² was measured, and the results are shown in Table 1 below.

［実施例３］
（透明基材への光行路調整層の形成）
実施例１で調製したのと同じ有機シラン液を、ガラス基板上にスピンコート法で塗布し、塗布膜に空気中にて２００℃で加熱処理を施し、次に、１０^-5Ｐａの雰囲気中にて４００℃で焼成処理を施した。これにより、厚みが５μｍの多孔質二酸化ケイ素膜を形成した。この多孔質の二酸化ケイ素膜の屈折率は１．３０であった。 [Example 3]
(Formation of optical path adjustment layer on transparent substrate)
The same organosilane solution as prepared in Example 1 was applied onto a glass substrate by a spin coating method, and the coating film was heated at 200 ° C. in air, and then in an atmosphere of 10 ⁻⁵ Pa. Baked at 400 ° C. Thereby, a porous silicon dioxide film having a thickness of 5 μm was formed. The refractive index of this porous silicon dioxide film was 1.30.

次いで、上記の多孔質の二酸化ケイ素膜上に感光性レジスト（シプレイ（株）製Ｓ１８０５マイクロポジット）を塗布し、クリーンオーブン中で１００℃、１０分間乾燥し、次に、所定のフォトマスクを使用して露光（露光量４０ｍＪ）し、現像（現像液は、ヘンケツジャパン（株）製ディスパースＹを使用）してレジストパターンを形成した後、クリーンオーブン中で１３０℃、１５分間にてポストベークを実施した。上記のレジストパターンをマスクとして、多孔質の二酸化ケイ素膜をエッチング（エッチング液は、バッファフッ酸水溶液を使用）した。その後、東京応化工業（株）製剥離液１０６を用いてレジスト剥離を実施した。これにより、市松模様（図７の斜線を付したパターン形状）で複数の凸状部を形成した。この凸状部は底辺が２５μｍ×２５μｍの正方形で高さは５μｍであった。 Next, a photosensitive resist (S1805 Microposit manufactured by Shipley Co., Ltd.) is applied on the porous silicon dioxide film, dried in a clean oven at 100 ° C. for 10 minutes, and then a predetermined photomask is used. After exposure (exposure amount 40 mJ) and development (developer uses Disperse Y manufactured by Henkets Japan Co., Ltd.) to form a resist pattern, post it in a clean oven at 130 ° C. for 15 minutes. Bake was performed. Using the resist pattern as a mask, the porous silicon dioxide film was etched (the buffer used was a buffered hydrofluoric acid solution). Thereafter, resist stripping was performed using a stripping solution 106 manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Thereby, a plurality of convex portions were formed in a checkered pattern (pattern shape with hatching in FIG. 7). The convex portion had a square with a base of 25 μm × 25 μm and a height of 5 μm.

次に、ガラス基板の上記凸状部を形成した面に、紫外線硬化性の樹脂（ＪＳＲ（株）製ＬＣＤ用ＯＣ材ＮＮ５２５）をスピンコート法で塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、凸状部を被覆するように樹脂層（凸状部が存在しない部位での厚みが７μｍ）を形成した。この樹脂層の屈折率は１．６０であった。
次いで、実施例１と同様にして、上記の樹脂層を凸状部と共に研磨して、ガラス基板の片面に光行路調整層を形成した。この光行路調整層では、屈折率ｎ_aが１．３０である領域Ａと、屈折率ｎ_bが１．６０である領域Ｂが図７に示される碁盤目状に配されたものであり、境界面は光行路調整層の層面内方向に対して約１００°をなすものであった。 Next, an ultraviolet curable resin (OCSR material NN525 manufactured by JSR Corporation) was applied to the surface of the glass substrate on which the convex portions were formed, and was cured by ultraviolet irradiation. In this way, a resin layer (thickness at a portion where the convex portion does not exist is 7 μm) so as to cover the convex portion. The refractive index of this resin layer was 1.60.
Next, in the same manner as in Example 1, the above resin layer was polished together with the convex portion to form an optical path adjusting layer on one surface of the glass substrate. In this optical path adjusting layer, a region A having _a refractive index n _a of 1.30 and a region B having a refractive index n _b of 1.60 are arranged in a grid pattern shown in FIG. The boundary surface was about 100 ° with respect to the in-plane direction of the optical path adjusting layer.

（有機ＥＬ素子の形成と有機ＥＬディスプレイの作製）
上記の光行路調整層を備えたガラス基板を用いて、実施例１と同様にして、本発明の有機ＥＬディスプレイを得た。
この有機ＥＬディスプレイについて、実施例１と同様に、発光輝度が３０００ｃｄ／ｍ²となるときの印加電流値を測定し、結果を下記の表１に示した。 (Formation of organic EL elements and production of organic EL displays)
An organic EL display of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 using the glass substrate provided with the optical path adjusting layer.
For this organic EL display, in the same manner as in Example 1, the applied current value when the light emission luminance was 3000 cd / m ² was measured, and the results are shown in Table 1 below.

［比較例］
光行路調整層を形成することなく、実施例１と同様にして、ガラス基板上に透明電極層、正孔注入層、赤色発光層、電子注入層、アルミニウム電極層を積層形成し、その後、封止板を貼り合わせて有機ＥＬディスプレイを得た。
この有機ＥＬディスプレイについて、実施例１と同様に、発光輝度が３０００ｃｄ／ｍ²となるときの印加電流値を測定し、結果を下記の表１に示した。 [Comparative example]
Without forming an optical path adjusting layer, a transparent electrode layer, a hole injection layer, a red light emitting layer, an electron injection layer, and an aluminum electrode layer were laminated on the glass substrate in the same manner as in Example 1, and then sealed. A stop plate was bonded to obtain an organic EL display.
For this organic EL display, in the same manner as in Example 1, the applied current value when the light emission luminance was 3000 cd / m ² was measured, and the results are shown in Table 1 below.

表１に示されるように、実施例１〜３の有機ＥＬディスプレイは、発光輝度が３０００ｃｄ／ｍ²となるときの印加電流値が、比較例に比べて小さく、有機ＥＬ素子で発光した光の利用効率が高いことが確認された。

As shown in Table 1, in the organic EL displays of Examples 1 to 3, the applied current value when the emission luminance was 3000 cd / m ² was smaller than that of the comparative example, and the light emitted from the organic EL element was reduced. It was confirmed that the utilization efficiency was high.

フルカラー表示装置、エリアカラー表示装置、照明等の種々の有機発光ディスプレイの製造において有用である。 It is useful in the manufacture of various organic light emitting displays such as full color display devices, area color display devices, and lighting.

本発明の有機ＥＬディスプレイの一実施形態を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows one Embodiment of the organic electroluminescent display of this invention. 本発明の有機ＥＬディスプレイを構成する光行路調整層の断面構造を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the cross-section of the optical path adjustment layer which comprises the organic electroluminescent display of this invention. 本発明の有機ＥＬディスプレイの他の実施形態を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows other embodiment of the organic electroluminescent display of this invention. 本発明の有機ＥＬディスプレイの他の実施形態を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows other embodiment of the organic electroluminescent display of this invention. 本発明の有機ＥＬディスプレイの他の実施形態を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows other embodiment of the organic electroluminescent display of this invention. 本発明の有機ＥＬディスプレイの他の実施形態を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows other embodiment of the organic electroluminescent display of this invention. 光行路調整層を構成する屈折率の異なる領域の配設の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of arrangement | positioning of the area | region where the refractive index which comprises an optical path adjustment layer differs. 光行路調整層を構成する屈折率の異なる領域の配設の他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of arrangement | positioning of the area | region where the refractive index which comprises an optical path adjustment layer differs. 光行路調整層を構成する屈折率の異なる領域の配設の他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of arrangement | positioning of the area | region where the refractive index which comprises an optical path adjustment layer differs. 本発明の製造方法による光行路調整層の形成を説明するための工程図である。It is process drawing for demonstrating formation of the optical path adjustment layer by the manufacturing method of this invention. 本発明の有機ＥＬディスプレイを構成する有機ＥＬ素子の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the organic EL element which comprises the organic EL display of this invention.

Explanation of symbols

１，１１，２１，３１，４１…有機ＥＬディスプレイ
２，１２，２２，３２，４２…有機ＥＬ素子
３，１３，２３，３３，４３…光行路調整層
４，１４，２４，３４，４４…透明基材
１５，２５，４５…カラーフィルタ層
１７，２７，３７，４７…ブラックマトリックス
３６，４６…色変換蛍光体層
５１…透明基材
５２，５４…電極
５３…有機ＥＬ発光層
６１…ＴＦＴ（薄膜トランジスタ） DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 11, 21, 31, 41 ... Organic EL display 2, 12, 22, 32, 42 ... Organic EL element 3, 13, 23, 33, 43 ... Optical path adjustment layer 4, 14, 24, 34, 44 ... Transparent substrate 15, 25, 45 ... Color filter layer 17, 27, 37, 47 ... Black matrix 36, 46 ... Color conversion phosphor layer 51 ... Transparent substrate 52, 54 ... Electrode 53 ... Organic EL light emitting layer 61 ... TFT (Thin film transistor)

Claims

An organic EL element having at least a light emitting layer between the electrodes, a transparent substrate disposed on one surface side of the organic EL element, a light extraction surface side of the transparent substrate and / or the transparent substrate. An organic EL display comprising: an optical path adjustment layer positioned on the organic EL element side, wherein the optical path adjustment layer is a layer disposed so that a plurality of types of regions having different refractive indexes are in contact with each other.

The transparent substrate has a color filter layer on the organic EL element side, and the optical path adjustment layer is on the light extraction surface side of the transparent substrate, between the transparent substrate and the color filter layer, and The organic EL display according to claim 1, wherein the organic EL display is located on at least one of the color filter layers on the organic EL element side.

The transparent substrate has a color conversion phosphor layer on the organic EL element side, and the light path adjustment layer is on the light extraction surface side of the transparent substrate, between the transparent substrate and the color conversion phosphor layer. The organic EL display according to claim 1, wherein the organic EL display is located on at least one of the color conversion phosphor layers on the organic EL element side.

A color conversion phosphor layer and a color filter layer are laminated in order from the organic EL element side on the organic EL element side of the transparent substrate, and the light path adjusting layer is a light extraction surface of the transparent substrate. 2. The organic EL display according to claim 1, wherein the organic EL display is located on at least one of the side, the transparent substrate and the color filter layer, and the organic EL element side of the color conversion phosphor layer.

3. The organic EL display according to claim 1, wherein the light emitting layers are formed by arranging the light emitting layers of the three primary colors in a desired pattern.

The organic EL display according to claim 2, wherein the light emitting layer is a white light emitting layer.

5. The organic EL display according to claim 3, wherein the light emitting layer is a blue light emitting layer.

The organic EL display according to claim 1, wherein the optical path adjusting layer has a thickness in a range of 1 to 300 μm.

9. The organic EL display according to claim 1, wherein one area of the plurality of types of regions having different refractive indexes constituting the optical path adjusting layer is 100 μm ² or more.

The organic EL display according to any one of claims 1 to 9, wherein the optical path adjusting layer includes two types of regions having different refractive indexes arranged in a grid pattern.

10. The optical path adjusting layer according to claim 1, wherein one of two types of regions having different refractive indexes is disposed in a sea-island shape in the other region. 11. Organic EL display.

10. The optical path adjusting layer according to claim 1, wherein one of two types of regions having different refractive indexes is in a lattice shape, and the other region is disposed in the lattice. An organic EL display according to any one of the above.

The boundary surface of a plurality of types of regions having different refractive indexes constituting the optical path adjusting layer is in a range of 70 ° to 110 ° with respect to the in-plane direction of the layer. An organic EL display according to any one of the above.

The organic EL element has at least a base material, a pair of electrodes disposed on one surface of the base material, and a light emitting layer disposed between the electrodes, and a position far from the base material 2. The electrode according to claim 1, wherein the electrode is a transparent electrode and is a top emission type that extracts light from the transparent electrode side, and the optical path adjustment layer is located on the light extraction side of the organic EL element. The organic EL display according to claim 13.

The organic EL element includes at least a transparent substrate, a pair of electrodes disposed on one surface of the transparent substrate, and a light emitting layer disposed between the electrodes. The electrode on the side is a transparent electrode, and is a bottom emission type that extracts light from the transparent substrate side, and the optical path adjustment layer is located on the light extraction side of the organic EL element. The organic EL display according to any one of claims 1 to 13.

16. A method for producing an organic EL display according to claim 1, wherein a material having a desired refractive index is formed in a desired pattern on an object for forming an optical path adjusting layer. Forming a plurality of convex portions, disposing materials having different refractive indexes so as to fill a portion where the convex portions do not exist, and then polishing to a desired thickness to form an optical path adjustment layer A method for producing an organic EL display characterized by the above.