JP2007093318A - Inspection signal generator and semiconductor inspection device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、IC(Integrated Circuit)、LSI(Large Scale Integraton)等の被検査対象に与える検査信号を生成する検査信号生成装置、及び当該検査信号生成装置で生成された信号を用いて被検査対象を検査する半導体検査装置に関する。 The present invention relates to an inspection signal generation device that generates an inspection signal to be applied to an inspection target such as an IC (Integrated Circuit) or LSI (Large Scale Integraton), and an inspection target using the signal generated by the inspection signal generation device The present invention relates to a semiconductor inspection apparatus for inspecting semiconductor devices.
半導体検査装置は、IC,LSI等の被検査対象(以下、DUT(Device Under Test)という)に検査信号(テストパターン)を与え、DUTから出力される信号が予め定められた期待値と一致するか否かにより良否の判定を行う。半導体検査装置がDUTに与えるテストパターンには、いくつかのフォーマット(波形フォーマット)が存在するが、このフォーマットの代表的なものに、例えばRZ(Return to Zero)、NRZ(Non Return to Zero)等がある。半導体検査装置は、このようなフォーマットのテストパターンを生成する検査信号生成装置を備えている。 A semiconductor inspection apparatus gives an inspection signal (test pattern) to an object to be inspected (hereinafter referred to as a DUT (Device Under Test)) such as an IC or LSI, and a signal output from the DUT matches a predetermined expected value. It is judged whether the quality is good or not. There are several formats (waveform formats) in the test pattern given to the DUT by the semiconductor inspection apparatus. Typical examples of this format include RZ (Return to Zero), NRZ (Non Return to Zero), etc. There is. The semiconductor inspection apparatus includes an inspection signal generation apparatus that generates a test pattern of such a format.
図7は、従来の検査信号生成装置の構成を示すブロック図である。図7に示す通り、従来の検査信号生成装置100は、フォーマットデータ生成回路101、バッファ102、及び検査信号生成回路103を備えており、入力されるレート信号S101及びタイミング信号S102によってテストパターンとしての検査信号S103を出力する。ここで、レート信号S101は検査信号の周波数を規定する信号であり、タイミング信号S102はレート信号S101の周波数とほぼ同一の周波数の信号であって検査信号S103の出力タイミングを規定する信号である。
FIG. 7 is a block diagram showing a configuration of a conventional inspection signal generation apparatus. As shown in FIG. 7, the conventional inspection
フォーマットデータ生成回路101は、入力されるレート信号S101に同期して、波形フォーマットの生成に必要なパターンデータD101を生成する。尚、図7では図示を省略しているが、フォーマットデータ生成回路101及び検査信号生成回路103には制御信号が入力されており、この制御信号によって検査信号S103の波形フォーマットが設定される。バッファ102は、フォーマットデータ生成回路101から出力されるパターンデータD101を一時的に記憶する。このバッファ102は、FIFO(First-In First-Out:先入れ先出し)メモリであり、パターンデータD101の書き込みタイミングはレート信号S101によって制御され、その読み出しタイミングはタイミング信号S102によって制御される。検査信号生成回路103は、バッファ102から読み出された読み出しパターンデータD102及びタイミング信号S102から検査信号S103を生成する。
The format
上記構成において、DUTの検査を行う場合には、まず半導体検査装置に設けられた検査用プログラム等(図示省略)から検査信号生成回路103に制御信号が出力されて検査信号S103の波形フォーマットが設定される。次に、検査用プログラム等からフォーマットデータ生成回路101に制御信号が出力され、これにより波形フォーマット生成に必要なパターンデータD101が生成されて出力される。フォーマットデータ生成回路101からのパターンデータD101は、レート信号S101に同期して順次バッファ102に記憶される。次いで、タイミング信号S102が入力されると、バッファ102に一時的に記憶されたパターンデータD101がタイミング信号S102に同期して読み出されて読み出しパターンデータD102として検査信号生成回路103に出力される。
In the above configuration, when DUT inspection is performed, first, a control signal is output to the inspection
検査信号生成回路130は、入力される読み出しパターンデータD102とタイミング信号S102とから検査信号S103を生成して出力する。以下、フォーマットデータ生成回路101からのパターンデータD101に基づいて検査信号S103が順次生成される。尚、従来の半導体検査装置の詳細については、例えば以下の特許文献1〜3を参照されたい。
ところで、図7に示す従来の検査信号生成装置100においては、パターンデータD101はレート信号S101が入力される度にフォーマットデータ生成回路101で生成され、このパターンデータD101とタイミング信号S102とを用いて検査信号S103が生成される。よって、連続的に検査信号S103を生成するためには、検査信号S103の出力タイミングを規定するタイミング信号S102の周波数と、パターンデータD101を生成するタイミングを規定するレート信号S101の周波数とが同等である必要がある。
By the way, in the conventional inspection
ここで、レート信号S101及びタイミング信号S102の周波数は全く同一である必要はないが、その差はバッファ102で吸収することができる範囲内である必要がある。このため、例えばタイミング信号S102の最高周波数が100MHzである場合には、レート信号S101の最高周波数も100MHz前後にする必要がある。
Here, the frequency of the rate signal S101 and the timing signal S102 need not be exactly the same, but the difference needs to be within a range that can be absorbed by the
ところで、近年においては、DUTの動作周波数が向上しているため、DUTに与える検査信号S103の最高周波数を高める必要性が生じている。図7に示す検査信号生成装置100において、例えば検査信号S103の最高周波数を200MHzにするために、タイミング信号S102の最高周波数を200MHzに変更すると、レート信号S101の最高周波数も200MHz前後に変更し、更に検査信号生成装置100の内部回路が最高周波数200MHzで動作するよう再設計する必要がある。このように、図7に示す従来の検査信号生成装置100は、内部回路の全てが最高周波数で動作するように設計する必要があり、動作周波数が高くなると多大な設計工数を要するという問題があった。
Incidentally, in recent years, since the operating frequency of the DUT has been improved, there is a need to increase the maximum frequency of the inspection signal S103 given to the DUT. In the inspection
この問題を解決するために、フォーマットデータ生成回路を並列に2系統設けて動作周波数の上昇を抑える構成とすることが考えられる。図8は、従来の検査信号生成装置100の変形例を示す図である。図8に示す検査信号生成装置110は、図7に示すフォーマットデータ生成回路101に代えて、並列に設けられたフォーマットデータ生成回路111a,111bを備えるとともに、図7に示すバッファ102に代えてフォーマットデータ生成回路111a,111bの出力を入力とするバッファ112を備えている。また、図7に示す検査信号生成回路103に代えて、より高速動作可能な検査信号生成回路113を備えている。
In order to solve this problem, it is conceivable that two systems of format data generation circuits are provided in parallel to suppress an increase in operating frequency. FIG. 8 is a diagram illustrating a modification of the conventional inspection
ここで、図8に示す検査信号生成装置110では、フォーマットデータ生成回路111a,111bを並列に設けているため、フォーマットデータ生成回路111a,111bの最高動作周波数を従来と同じ(例えば100MHz)にしても、実質的に2倍の周波数でパターンデータが得られることになる。しかしながら、レート信号S101が入力される度に、バッファ112には2つのパターンデータD111a,D111bが記憶されるため、バッファ112の出力側の最高動作周波数をフォーマットデータ生成回路111a,111bの最高動作周波数の2倍(例えば、200MHz)にする必要があり、設計工数の上昇を招く要因になると考えられる。
Here, in the test
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、設計が平易であり、高周波数で動作可能な検査信号生成装置、及び当該検査信号生成装置を備える半導体検査装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide an inspection signal generation device that is easy to design and can operate at a high frequency, and a semiconductor inspection device including the inspection signal generation device. .
上記課題を解決するために、本発明の検査信号生成装置は、被検査対象に与える検査信号(S13)の周波数を規定する第1制御信号(S11)と、前記検査信号の出力タイミングを規定する第2制御信号(S12)とを用いて前記検査信号を生成する検査信号生成装置(10、20、30)において、前記第1制御信号に同期して前記検査信号の波形を規定するパターンデータを生成する複数の生成回路(11a、11b、21a〜21d)と、前記生成回路に対応してそれぞれ設けられ、対応する前記生成回路で生成された前記パターンデータを前記第1制御信号に同期して一時的に記憶する複数のバッファ(12a、12b、22a〜22d)と、前記第2制御信号に同期して前記複数のバッファの内の1つを選択し、選択されたバッファから一時的に記憶されている前記パターンデータを読み出す選択読出手段(13、14、23、24、33a〜33c、34)と、前記選択読出手段で読み出された前記パターンデータと前記第2制御信号とから前記検査信号を生成する検査信号生成回路(15)とを備えることを特徴としている。
この発明によると、生成回路の各々で生成されたパターンデータは第1制御信号に同期して対応するバッファに一時的に記憶される。そして、選択読出手段によって各バッファから何れか1つが選択されて、選択されたバッファに記憶されているパターンデータが読み出されて検査信号生成回路に入力されて検査信号が生成される。
また、本発明の検査信号生成装置は、前記第1制御信号の周波数が、前記被検査対象に与える前記検査信号の周波数を前記生成回路の数で除算して得られる周波数に設定されていることを特徴としている。
また、本発明の検査信号生成装置は、前記選択読出手段が、前記複数のバッファの出力端と前記検査信号生成回路の入力端とに接続されたセレクタ(13、23、33a〜33c)と、前記複数のバッファから前記パターンデータを読み出すバッファを選択するとともに、前記セレクタを制御して選択した当該バッファから読み出した前記パターンデータを前記検査信号生成回路に入力させる選択制御装置(14、24、34)とを備えることを特徴としている。
更に、本発明の検査信号生成装置は、前記セレクタが、前記複数のバッファに接続された複数の第1セレクタ(33a、33b)と、前記第1セレクタの出力端と前記検査信号生成回路の入力端とに接続された第2セレクタ(33c)と備えることを特徴としている。
本発明の半導体検査装置は、被検査対象の検査を行う半導体検査装置において、上記の何れかに記載の検査信号生成装置を備え、前記検査信号生成装置で生成された前記検査信号を前記被検査対象に与えて得られる信号を用いて前記被検査対象の検査を行うことを特徴としている。
In order to solve the above-described problem, the inspection signal generation device of the present invention specifies a first control signal (S11) that defines the frequency of the inspection signal (S13) to be given to the object to be inspected, and the output timing of the inspection signal. In the inspection signal generator (10, 20, 30) that generates the inspection signal using the second control signal (S12), pattern data that defines the waveform of the inspection signal in synchronization with the first control signal A plurality of generation circuits (11a, 11b, 21a to 21d) to be generated and the pattern data generated by the generation circuit corresponding to the generation circuits are synchronized with the first control signal. A plurality of buffers (12a, 12b, 22a to 22d) to be temporarily stored and one of the plurality of buffers are selected in synchronization with the second control signal, and the selected buffer is selected. Selective reading means (13, 14, 23, 24, 33a to 33c, 34) for reading the pattern data temporarily stored from the memory, the pattern data read by the selective reading means, and the second An inspection signal generation circuit (15) for generating the inspection signal from the control signal is provided.
According to the present invention, the pattern data generated by each of the generation circuits is temporarily stored in the corresponding buffer in synchronization with the first control signal. Then, any one of the buffers is selected by the selective reading means, and the pattern data stored in the selected buffer is read out and input to the inspection signal generation circuit to generate the inspection signal.
In the inspection signal generation device of the present invention, the frequency of the first control signal is set to a frequency obtained by dividing the frequency of the inspection signal given to the inspection target by the number of the generation circuits. It is characterized by.
In the inspection signal generation device according to the present invention, the selective reading means includes selectors (13, 23, 33a to 33c) connected to the output ends of the plurality of buffers and the input ends of the inspection signal generation circuit, A selection control device (14, 24, 34) that selects a buffer from which the pattern data is read from the plurality of buffers, and controls the selector to input the pattern data read from the selected buffer to the inspection signal generation circuit. ).
Furthermore, in the inspection signal generation device of the present invention, the selector includes a plurality of first selectors (33a, 33b) connected to the plurality of buffers, an output terminal of the first selector, and an input of the inspection signal generation circuit. A second selector (33c) connected to the end is provided.
A semiconductor inspection apparatus according to the present invention is a semiconductor inspection apparatus that inspects an object to be inspected. The inspection object is inspected using a signal obtained by giving the object.
本発明によれば、選択読出手段によるバッファの選択が第2制御信号に同期して行われるため、個々のバッファの動作周波数を第2制御信号の周波数よりも低くすることができ、これによって検査信号生成装置の設計が平易になるという効果がある。
また、本発明によれば生成回路及びバッファの並列数を増加させるだけで検査信号の周波数を高めた高周波数での動作が可能であるという効果がある。
更に、本発明によれば、セレクタの段数を増加させれば、バッファに接続されるセレクタ(第1セレクタ)の動作周波数を低減することができるという効果がある。
According to the present invention, since the selection of the buffer by the selective reading means is performed in synchronism with the second control signal, the operating frequency of each buffer can be made lower than the frequency of the second control signal. There is an effect that the design of the signal generation device becomes simple.
In addition, according to the present invention, there is an effect that it is possible to operate at a high frequency in which the frequency of the inspection signal is increased only by increasing the number of parallel generation circuits and buffers.
Furthermore, according to the present invention, if the number of selector stages is increased, there is an effect that the operating frequency of the selector (first selector) connected to the buffer can be reduced.
以下、図面を参照して本発明の実施形態による検査信号生成装置及び半導体検査装置について詳細に説明する。 Hereinafter, an inspection signal generation device and a semiconductor inspection device according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
〔第1実施形態〕
図1は、本発明の第1実施形態による検査信号生成装置の構成を示すブロック図である。図1に示す通り、本発明の第1実施形態による検査信号生成装置10は、フォーマットデータ生成回路11a,11b、バッファ12a,12b、バッファセレクタ13、バッファ選択制御回路14、及び検査信号生成回路15を含んで構成される。ここで、検査信号生成装置10にはレート信号S11とタイミング信号S12とが入力されており、検査信号生成装置10はこれらの信号に同期して動作して検査信号S13を出力する。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an inspection signal generation apparatus according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the test
ここで、レート信号S11は検査信号S13の周波数を規定する信号であり、タイミング信号S12は検査信号S13の出力タイミングを規定する信号である。尚、本実施形態では、検査信号S13の最高周波数は200MHzに設定されているものとする。また、レート信号S11の周波数は検査信号S13の半分の周波数である100MHzに設定され、タイミング信号S12の周波数は検査信号S13とほぼ同一の周波数(200MHz)に設定されているものとする。 Here, the rate signal S11 is a signal that defines the frequency of the inspection signal S13, and the timing signal S12 is a signal that defines the output timing of the inspection signal S13. In the present embodiment, it is assumed that the maximum frequency of the inspection signal S13 is set to 200 MHz. Further, it is assumed that the frequency of the rate signal S11 is set to 100 MHz, which is a half frequency of the inspection signal S13, and the frequency of the timing signal S12 is set to substantially the same frequency (200 MHz) as the inspection signal S13.
ここで、レート信号S11の周波数は、検査信号S13の周波数を、フォーマットデータ生成回路(フォーマットデータ生成回路11a,11b)の数で除算して得られる周波数(分周した周波数)に設定される。また、タイミング信号S12は、検査信号S13の出力タイミングを規定する信号であり、レート信号S11の1周期内での時間的位置が変化して周波数が一定ではないことがあるため、本明細書では「ほぼ同一の周波数」という表現を用いている。
Here, the frequency of the rate signal S11 is set to a frequency (frequency-divided frequency) obtained by dividing the frequency of the inspection signal S13 by the number of format data generation circuits (format
フォーマットデータ生成回路11a,11bは、入力されるレート信号S11に同期して、波形フォーマットの生成に必要なパターンデータD11a,D11bをそれぞれ生成する。尚、図1では図示を省略しているが、フォーマットデータ生成回路11及び検査信号生成回路15には制御信号が入力されており、この制御信号によって検査信号S13の波形フォーマットが設定される。
The format
バッファ12a,12bは、フォーマットデータ生成回路11a,11bに対応して設けられ、各々から出力されるパターンデータD11a,D11bをそれぞれ一時的に記憶する。このバッファ12a,12bは、FIFO(First-In First-Out:先入れ先出し)メモリであり、パターンデータD11a,D11bの書き込みタイミングはレート信号S11によって制御され、その読み出しタイミングはバッファ選択制御回路14からのバッファ切り替え信号SLによって制御される。
The
バッファセレクタ13は、バッファ12a,12bの出力端の各々と検査信号生成回路15の入力端とに接続され、バッファ選択制御回路14から出力されるバッファ切り替え信号SLに基づいてバッファ12a,12bの出力端から出力されるパターンデータの何れか一方を選択して検査信号生成回路15に出力する。バッファ選択制御回路14は、タイミング信号S12に同期して動作し、バッファ12a,12bの何れか一方を選択するバッファ切り替え信号SLをバッファ12a,12b出力する。
The
ここで、バッファ切り替え信号SLはバッファ12a,12bの両方に出力されるが、図1に示す通り、バッファ12bにおけるバッファ切り替え信号SLの入力端が反転入力となっているため、バッファ切り替え信号SLによってバッファ12a,12bは交互に選択される。尚、バッファセレクタ13は、バッファ12a,12bの内の選択されたバッファの出力端から出力されるパターンデータが検査信号生成回路15の入力端に入力されるようバッファ切り替え信号SLによって制御される。
Here, the buffer switching signal SL is output to both of the
図2は、バッファ選択制御回路14の回路構成の一例を示す図である。図2に示す通り、バッファ選択制御回路14は、Dフリップフロップ16を備えており、タイミング信号S12をクロック入力端の入力とし、反転出力端とD入力端とを接続し、出力端からの出力をバッファ切り替え信号SLとした構成である。これにより、トグル・フリップフロップが構成されており、タイミング信号S12が入力される度にバッファ切り替え信号SLのレベルが「H(ハイ)」、「L(ロー)」,「H」、「L」、…と順に変化する。図1に戻り、検査信号生成回路15は、バッファ12a,12bから読み出された読み出しパターンデータD12a,12bの内のバッファセレクタ13で選択されたセレクトデータD13とタイミング信号S12とから検査信号S13を生成する。
FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a circuit configuration of the buffer
上記構成において、DUTの検査を行う場合には、まず半導体検査装置に設けられた検査用プログラム等(図示省略)から検査信号生成回路15に制御信号が出力されて検査信号S13の波形フォーマットが設定される。次に、検査用プログラム等からフォーマットデータ生成回路11a,11bに制御信号が出力され、これにより波形フォーマット生成に必要なパターンデータD11a,D11bがそれぞれ生成されて出力される。フォーマットデータ生成回路11a,11bからのパターンデータD11a,D11bは、レート信号S11に同期して順次バッファ12a,12bにそれぞれ記憶される。
In the above configuration, when performing a DUT inspection, first, a control signal is output to the inspection
図3は、バッファ12a,12bの各々に記憶されるパターンデータを説明するための図である。フォーマットデータ生成回路11a,11bで生成されるパターンデータD11a,D11bが(A),(B),(C),(D),(E),(F),(G),(H),…の順で連続するものであるとすると、これらは図3に示す通り、バッファ12a,12bに交互に記憶されることにより、バッファ12aには(A),(C),(E),(G),…の順でパターンデータが記憶され、バッファ12bには(B),(D),(F),(H),…の順でパターンデータが記憶される。
FIG. 3 is a diagram for explaining pattern data stored in each of the
次に、バッファ12a,12bの各々に記憶されたパターンデータの読み出し動作について説明する。図4は、バッファ12a,12bからのパターンデータの読み出し動作を説明するためのタイミングチャートである。いま、バッファ選択制御回路14から出力されるバッファ切り替え信号SLのレベルが「L」であるとする。また、図3に示す通り、バッファ12aに記憶されているパターンデータの内の最も古いものが「(A)」であり、バッファ12bに記憶されているパターンデータの内の最も古いものが「(B)」であるとする。この状態では、バッファ切り替え信号SLのレベルが「L」であるため、バッファ12aが選択される。よって、セレクトデータD13はバッファ12aに記憶されている最も古いパターンデータ「(A)」となる。
Next, the reading operation of the pattern data stored in each of the
この状態でタイミング信号S12がバッファ選択制御回路14に入力されると、バッファ切り替え信号SLが立ち上がってレベルが「H」になる。このバッファ切り替え信号SLがバッファ12a,12bに入力されると、バッファ12aから読み出される読み出しパターンデータD12aが2番目のパターンデータ「(C)」に変化する。一方、バッファ12bから読み出される読み出しパターンデータD12bは変化せず、パターンデータ「(B)」のままである。また、上記のバッファ切り替え信号SLがバッファセレクタ13に入力されると、セレクトデータD13はバッファ12bに記憶されている最も古いパターンデータ「(B)」となる(時刻t11)。
When the timing signal S12 is input to the buffer
次のタイミング信号S12がバッファ選択制御回路14に入力されると、バッファ切り替え信号SLが立ち下がってレベルが「L」になる。このバッファ切り替え信号SLがバッファ12a,12bに入力されると、バッファ12bから読み出される読み出しパターンデータD12bが2番目のパターンデータ「(D)」に変化する。一方、バッファ12aから読み出される読み出しパターンデータD12aは変化せず、パターンデータ「(C)」のままである。また、上記のバッファ切り替え信号SLがバッファセレクタ13に入力されると、セレクトデータD13はバッファ12aからのパターンデータ「(C)」となる(時刻t12)。
When the next timing signal S12 is input to the buffer
更に、次のタイミング信号S12がバッファ選択制御回路14に入力されると、バッファ切り替え信号SLが立ち上がってレベルが「H」になる。このバッファ切り替え信号SLがバッファ12a,12bに入力されると、バッファ12aから読み出される読み出しパターンデータD12aが3番目のパターンデータ「(E)」に変化する。一方、バッファ12bから読み出される読み出しパターンデータD12bは変化せず、パターンデータ「(D)」のままである。また、上記のバッファ切り替え信号SLがバッファセレクタ13に入力されると、セレクトデータD13はバッファ12bからのパターンデータ「(D)」となる(時刻t13)。
Further, when the next timing signal S12 is input to the buffer
以下同様の動作を繰り返して、バッファ12a,12bから順にパターンデータが読み出される。そして、バッファ12a,12bの各々から読み出された読み出しパターンデータD12a,D12bはバッファセレクタ12を介してセレクトデータD13として検査信号生成回路15に入力される。検査信号生成回路15には、セレクトデータD13とタイミング信号S12が入力されているため、これらを用いて検査信号S13を生成して出力する。
Thereafter, the same operation is repeated, and the pattern data is sequentially read from the
以上説明した本実施形態の検査信号生成装置10では、バッファセレクタ13、バッファ選択制御回路14、検査信号生成回路15は、タイミング信号S12の周波数と同等の周波数で動作させる必要がある。しかしながら、図4を参照すると、バッファ12a,12bに入力されるバッファ切り替え信号SLの周波数は、タイミング信号S12の半分になっており、このタイミング信号S12に従ってバッファ12a,12bが交互に選択されるため、バッファ12a,12bの動作周波数(出力側の動作周波数)をレート信号S11と同等の周波数にすることができる。尚、バッファセレクタ13は、例えば2対1の多重化回路で実現でき、バッファ選択制御回路14は、図2に示す通り、トグル・フリップフロップで実現できる。以上から、本実施形態の検査信号生成装置10は設計が平易であり、且つ高周波数の動作が可能である。
In the inspection
〔第2実施形態〕
図5は、本発明の第2実施形態による検査信号生成装置の構成を示すブロック図である。本実施形態の検査信号生成装置20は、主としてフォーマットデータ生成回路及びバッファの並列数が、図1に示す検査信号生成装置10と相違する。図5に示す通り、本実施形態の検査信号生成装置20は、フォーマットデータ生成回路21a〜21d、バッファ22a〜22d、バッファセレクタ23、バッファ選択制御回路24、及び検査信号生成回路15を含んで構成され、フォーマットデータ生成回路21a〜21d及びバッファ22a〜22dの並列数が「4」となっている。尚、検査信号生成回路15は、図1に示すものと同様のものである。
[Second Embodiment]
FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of the inspection signal generation apparatus according to the second embodiment of the present invention. The inspection
本実施形態においても、検査信号S13の最高周波数は200MHzに設定されているものとする。本実施形態では、4つのフォーマットデータ生成回路21a〜21d及び4つのバッファ22a〜22dを備えているため、レート信号S11の周波数は検査信号S13の4分の1の周波数である50MHzに設定され、タイミング信号S12の周波数は検査信号S13とほぼ同一の周波数(200MHz)に設定される。ここで、フォーマットデータ生成回路21a〜21dの動作周波数を規定するレート信号S11の周波数を第1実施形態と同様の100MHzにすると、検査信号S13の最高周波数及びタイミング信号S12の周波数を400MHzにすることができ、より高速な動作が可能となる。
Also in this embodiment, it is assumed that the maximum frequency of the inspection signal S13 is set to 200 MHz. In the present embodiment, since the four format
バッファ22a〜22dは、その入力端がフォーマットデータ生成回路21a〜21dの出力端にそれぞれ接続されており、その出力端がバッファセレクタ23に接続されている。バッファ選択制御回路24は、バッファ22a〜22dに対してはバッファ選択信号BSを供給し、バッファセレクタ23に対してはバッファ切り替え信号SLを供給している。バッファ選択信号BSは、バッファ22a〜22dの何れかに出力され、バッファ22a〜22dの何れかを選択するとともに、選択したバッファに記憶されたパターンデータを読み出すために用いられる。
The
ここで、図1に示す検査信号生成装置20は、バッファの並列数が「2」であったため、バッファ切り替え信号SLをバッファの各々に入力することで、この信号をバッファを選択してパターンデータを読み出すための信号(バッファ選択信号)と共用することができた。しかしながら、本実施形態ではバッファ切り替え信号SLを共用することができないため、バッファ選択制御回路24からバッファ22a〜22dの各々にバッファ選択信号BSを供給している。
Here, since the number of parallel buffers is “2”, the
上記構成において、フォーマットデータ生成回路21a〜21dで生成されたパターンデータは、第1実施形態と同様に、バッファ22a〜22dにそれぞれ記憶される。そして、バッファ選択制御回路24がバッファ22a、バッファ22b、バッファ22c、バッファ22d、バッファ22a、…の順にバッファ選択信号BSを順次供給してバッファ22a〜22dから何れか1つを選択して記憶されているパターンデータを読み出す。また、バッファ選択信号BSの供給に合わせてバッファセレクタ23に対してバッファ切り替え信号SLを供給して選択したバッファから読み出したパターンデータをセレクトデータD23として検査信号生成回路15に出力させる。検査信号生成回路15は、入力されるセレクトデータD23とタイミング信号S12を用いて検査信号S13を生成して出力する。
In the above configuration, the pattern data generated by the format
本実施形態の検査信号生成装置20によれば、フォーマットデータ生成回路21a〜21d及びバッファ22a〜22dの動作周波数をより低下させることができる。或いは、フォーマットデータ生成回路21a〜21d及びバッファ22a〜22dの動作周波数を第1実施形態と同様にして、検査信号S13の周波数をより高くすることができる。尚、図5に示す例では、フォーマットデータ生成回路及びバッファの並列数が「4」である構成を図示しているが、その並列数は任意である。
According to the inspection
〔第3実施形態〕
図6は、本発明の第3実施形態による検査信号生成装置の構成を示すブロック図である。本実施形態の検査信号生成装置30は、バッファセレクタ及びバッファ選択制御回路の構成が図5に示す検査信号生成装置20と異なる。図6に示す通り、本実施形態の検査信号生成装置30は、フォーマットデータ生成回路21a〜21d、バッファ22a〜22d、バッファセレクタ33a〜33c、バッファ選択制御回路34、及び検査信号生成回路15を含んで構成される。尚、ファオーマットデータ生成回路21a〜21d、バッファ22a〜22d、及び検査信号生成回路15は、図6に示すものと同様のものである。
[Third Embodiment]
FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of the inspection signal generation apparatus according to the third embodiment of the present invention. The inspection
本実施形態においては、図6に示す第2実施形態と同様に、検査信号S13の最高周波数は200MHzに設定されているものとする。また、本実施形態においても、4つのフォーマットデータ生成回路21a〜21d及び4つのバッファ22a〜22dを備えているため、レート信号S11の周波数は検査信号S13の4分の1の周波数である50MHzに設定され、タイミング信号S12の周波数は検査信号S13とほぼ同一の周波数(200MHz)に設定される。更に、第2実施形態と同様に、フォーマットデータ生成回路21a〜21dの動作周波数を規定するレート信号S11の周波数を第1実施形態と同様の100MHzにすると、検査信号S13の最高周波数及びタイミング信号S12の周波数を400MHzにすることができ、より高速な動作が可能となる。
In the present embodiment, it is assumed that the highest frequency of the inspection signal S13 is set to 200 MHz as in the second embodiment shown in FIG. Also in this embodiment, since the four format
バッファセレクタ33aの入力端はバッファ22a,22bの出力端に接続され、バッファセレクタ33bの入力端はバッファ22c,22dの出力端に接続されている。また、バッファセレクタ33cは、その入力端がバッファセレクタ33a,33bの出力端に接続されており、その出力端が検査信号生成回路15の入力端に接続されている。このように、本実施形態では、バッファセレクタを多段構成にしている。かかる構成にするのは、バッファセレクタの動作周波数を低減するためである。図6に示す構成では、バッファセレクタ33cの動作周波数は検査信号S13の周波数と同一の200MHzであるが、バッファセレクタ33a,33bの動作周波数はその半部の100MHzである。
The input end of the
バッファ選択制御回路34は、バッファセレクタ33a〜33cの各々に対してバッファ切り替え信号SL11〜SL13をそれぞれ供給し、バッファ選択信号BSの供給によって選択されたバッファから読み出されたパターンデータが検査信号生成回路15に入力されるよう制御する。
The buffer
本実施形態の検査信号生成装置30によれば、第2実施形態の検査信号生成装置20と同様に、フォーマットデータ生成回路21a〜21d及びバッファ22a〜22dの動作周波数をより低下させることができる。或いは、フォーマットデータ生成回路21a〜21d及びバッファ22a〜22dの動作周波数を第1実施形態と同様にして、検査信号S13の周波数をより高くすることができる。尚、図6に示す例では、バッファセレクタの段数が2段(バッファセレクタ33a,33bが第1段目であり、バッファセレクタ33cが第2段目)である構成を図示している。しかしながら、その段数は任意であり、バッファの並列数に応じて適宜設定するのが望ましい。
According to the test
以上本発明の実施形態による検査信号生成装置について説明したが、本実施形態の半導体検査装置は、以上の検査信号生成装置を備えている。そして、検査信号生成装置で生成された検査信号をDUTに印加するとともに、その検査信号をDUTに印加したときにDUTから出力される信号の期待値を求め、この期待値と実際にDUTから出力される信号とを比較し、DUTの良否を判定する。 Although the inspection signal generation apparatus according to the embodiment of the present invention has been described above, the semiconductor inspection apparatus of this embodiment includes the above inspection signal generation apparatus. Then, the inspection signal generated by the inspection signal generator is applied to the DUT, the expected value of the signal output from the DUT when the inspection signal is applied to the DUT is obtained, and the expected value and the actual output from the DUT are obtained. Is compared with the received signal to determine whether the DUT is good or bad.
10 検査信号生成装置
11a,11b フォーマットデータ生成回路(生成回路)
12a,12b バッファ
13 バッファセレクタ(選択読出手段、セレクタ)
14 バッファ選択制御回路(選択読出手段、選択制御装置)
15 検査信号生成回路
20 検査信号生成装置
21a〜21d フォーマットデータ生成回路(生成回路)
22a〜22d バッファ
23 バッファセレクタ(選択読出手段、セレクタ)
24 バッファ選択制御回路(選択読出手段、選択制御装置)
30 検査信号生成装置
33a,33b バッファセレクタ(選択読出手段、セレクタ、第1セレクタ)
33c バッファセレクタ(選択読出手段、セレクタ、第2セレクタ)
S11 レート信号(第1制御信号)
S12 タイミング信号(第2制御信号)
S13 検査信号
10 Inspection
12a,
14 Buffer selection control circuit (selection reading means, selection control device)
DESCRIPTION OF
22a to
24 Buffer selection control circuit (selection reading means, selection control device)
30
33c Buffer selector (selection reading means, selector, second selector)
S11 Rate signal (first control signal)
S12 Timing signal (second control signal)
S13 Inspection signal
Claims (5)
前記第1制御信号に同期して前記検査信号の波形を規定するパターンデータを生成する複数の生成回路と、
前記生成回路に対応してそれぞれ設けられ、対応する前記生成回路で生成された前記パターンデータを前記第1制御信号に同期して一時的に記憶する複数のバッファと、
前記第2制御信号に同期して前記複数のバッファの内の1つを選択し、選択されたバッファから一時的に記憶されている前記パターンデータを読み出す選択読出手段と、
前記選択読出手段で読み出された前記パターンデータと前記第2制御信号とから前記検査信号を生成する検査信号生成回路と
を備えることを特徴とする検査信号生成装置。 In an inspection signal generation device that generates the inspection signal using a first control signal that defines a frequency of an inspection signal to be given to an object to be inspected and a second control signal that defines an output timing of the inspection signal,
A plurality of generation circuits for generating pattern data defining a waveform of the inspection signal in synchronization with the first control signal;
A plurality of buffers provided corresponding to the generation circuits, and temporarily storing the pattern data generated by the corresponding generation circuit in synchronization with the first control signal;
Selection reading means for selecting one of the plurality of buffers in synchronization with the second control signal and reading the pattern data temporarily stored from the selected buffer;
An inspection signal generation device comprising: an inspection signal generation circuit that generates the inspection signal from the pattern data read by the selective reading means and the second control signal.
前記複数のバッファから前記パターンデータを読み出すバッファを選択するとともに、前記セレクタを制御して選択した当該バッファから読み出した前記パターンデータを前記検査信号生成回路に入力させる選択制御装置と
を備えることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の検査信号生成装置。 The selective reading means includes a selector connected to an output end of the plurality of buffers and an input end of the inspection signal generation circuit;
A selection control device that selects a buffer that reads the pattern data from the plurality of buffers, and controls the selector to input the pattern data read from the selected buffer to the inspection signal generation circuit. The inspection signal generation device according to claim 1 or 2.
前記第1セレクタの出力端と前記検査信号生成回路の入力端とに接続された第2セレクタと
備えることを特徴とする請求項3記載の検査信号生成装置。 The selector includes a plurality of first selectors connected to the plurality of buffers;
The inspection signal generation device according to claim 3, further comprising: a second selector connected to an output terminal of the first selector and an input terminal of the inspection signal generation circuit.
請求項1から請求項4の何れか一項に記載の検査信号生成装置を備え、前記検査信号生成装置で生成された前記検査信号を前記被検査対象に与えて得られる信号を用いて前記被検査対象の検査を行うことを特徴とする半導体検査装置。
In semiconductor inspection equipment that inspects the inspection target,
5. The inspection signal generation device according to claim 1, wherein the inspection signal is generated using a signal obtained by applying the inspection signal generated by the inspection signal generation device to the inspection target. A semiconductor inspection apparatus for inspecting an inspection object.
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