JP2007084362A - 光ファイバー母材の製造方法 - Google Patents
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Abstract
プラズマCVDによりガラス管基材の内部にプラズマを励起させて当該ガラス管基材の内面にガラス成分を蒸着させるプロセスを行うに際して、ガラス管基材の内面にクラックを生じさせない。
【解決手段】
プラズマCVD法による光ファイバー母材の製造方法であって、前記非平衡プラズマnepの励起部位のガラス管基材3の内面温度Tinが上限温度1300℃以下かつ下限温度1100℃以上となるように温度範囲制御を行うとともに、当該内面温度Tinの変化率が+50℃/secを超えずかつ−50℃/secを下回らないように温度変化率制御を行う。
【選択図】 図1
Description
マイクロ波共振器91には、図示しない冷却管が付設されている。また、ガラス管基材90はマイクロ波共振器91に対して、図示しない移動機構により軸方向に相対往復移動できるように構成されている。
IWCS(International Workshop on Comutational Semantics) 1998,P66
減圧状態のガラス管基材内部にガラス原料ガスを供給するとともに、前記ガラス管基材の少なくとも一部を加熱炉により加熱しながら前記ガラス管基材に沿って移動するマイクロ波共振器を用いて前記ガラス管基材内部に非平衡プラズマを励起させ、前記ガラス管基材の内側に合成ガラスを形成する工程を含み、
前記合成ガラスを形成する工程では、前記合成ガラスの内面の温度の変化率が+50℃/secを超えずかつ−50℃/secを下回らないように温度変化率制御を行うことを特徴とする。
図1において、光ファイバー母材製造装置2は、円筒状のマイクロ波共振器21と、このマイクロ波共振器21の外側を覆うヒータ221が内臓された加熱炉22とを備えており、ガラス管基材3はマイクロ波共振器21の内側に配置される。ガラス管基材は、ガラス管移動機構23に保持されて回転される。
本発明の製造方法では、ガラス管基材3の内部を所定圧力に減圧して、ガラス管基材3の一方端側からガラス原料ガスGGを供給し他端から排出しつつ、マイクロ波共振器21を用いて非平衡プラズマnepをガラス管基材3内に励起させる。以下、ガラス原料ガスGGが供給されるガラス管基材3の一端側を「上流側」、ガラス原料ガスGGが排気されるガラス管の他端側を「下流側」と言う。
内面温度Tinは、
Q1:非平衡プラズマnepから供給される熱量
Q2:炉12から投入される熱量Q2
Q3:マイクロ波共振器21の吸熱
として、
Q1、Q2、Q3の関数
で表される。
制御装置26は、マイクロ波共振器21が発生するマイクロ波出力の上限PMAXを制限する(すなわち、Q1によるガラス管基材3の内面温度Tinに与える影響を制限する)ことで、非平衡プラズマnepの励起部位のガラス管基材3の内面温度の変化率が+50℃/secを上回らないように温度変化率制御を行う。制御装置26は、マイクロ波共振器21が発生するマイクロ波出力の下限PMINも制限している。このマイクロ波出力の下限PMINによる制限は、クラックの発生に主眼を置いたものではないが、非平衡プラズマnepによる気相反応が安定するように作用する。具体的には、たとえば、マイクロ波共振器21が発生するマイクロ波出力の下限PMINを0.5kWとし上限PMAXを5kWとすることで、非平衡プラズマnepによる気相反応を安定にしつつ、非平衡プラズマnepの励起部位EPのガラス管基材3の内面温度の変化率が+50℃/secを上回らないようにできる。
図4は光ファイバー母材製造装置2の詳細な熱交換モデルである。図4に示すように、ガラス管基材3の長手方向に沿って有限個のセグメントsを想定する。
熱源は、非平衡プラズマnepと加熱炉22の2つであり、熱のやり取りは、基本的には、(1)非平衡プラズマnepとガラス管基材3との間の熱の出入り(前述したQ1に相当する)、(2)加熱炉22とガラス管基材3との間の熱の出入り(前述したQ2に相当する)、(3)マイクロ波共振器11とガラス管基材3との間の熱の出入り(前述したQ3に相当する)、(4)加熱炉12内雰囲気,ガラス管基材3内雰囲気と、ガラス管基材3との間の熱の出入りを考察するが、(5)セグメントs間の熱のやり取り、(6)炉外の空気と石英パイプの熱のやり取りも考慮する。
(非定常項)=(熱伝導)+(熱発生)
で表すことができる。
(熱伝導)の項は、上述した(5)が対応し、(熱発生)の項は上述した(1)から(4)および(6)が対応する。
これらを考慮して、非平衡プラズマnepの励起部位EPをガラス管基材3に沿って往復移動したときの、図4のモデルでの熱の出入りをシミュレートし、ガラス管基材3の内面温度Tinの時間変化を計算することができる。
また、励起部位EPの移動速度vを速度vMIN(1000mm/min)以下とするとガラス管基材の内面の温度の変化率が−50℃/secを下回り、クラックが生じ、マイクロ波共振器11が発生するマイクロ波出力を出力5kW以上とするとガラス管基材の内面の温度の変化率が50℃/secを越え、クラックが生じる(図5における「×」参照)
3 ガラス管基材
11,21 マイクロ波共振器
12,22 加熱炉
13 ロッド移動装置
14,24 マイクロ波パワー供給装置
15,25 加熱電力供給装置
16,26 制御装置
17 電界アップ用リング
18 導波管
121,221 ヒータ
131 操作ロッド
132 操作ロッド制御装置
212 ダミー管
Claims (4)
- ガラス管基材と前記ガラス管基材の内側の合成ガラスとからなる光ファイバー母材の製造方法であって、
減圧状態のガラス管基材内部にガラス原料ガスを供給するとともに、前記ガラス管基材の少なくとも一部を加熱炉により加熱しながら前記ガラス管基材に沿って移動するマイクロ波共振器を用いて前記ガラス管基材内部に非平衡プラズマを励起させ、前記ガラス管基材の内側に合成ガラスを形成する工程を含み、
前記合成ガラスを形成する工程では、前記合成ガラスの内面の温度の変化率が+50℃/secを超えずかつ−50℃/secを下回らないように温度変化率制御を行うことを特徴とする光ファイバー母材の製造方法。 - 前記合成ガラスを形成する工程では、前記マイクロ波共振器が発生するマイクロ波出力の上限を前記内面の温度の変化率が+50℃/secを上回らないように制限し、かつ、前記マイクロ波共振器の移動速度の下限を前記内面の温度の変化率が−50℃/secを下回らないように制限することを特徴とする請求項1に記載の光ファイバー母材の製造方法。
- 前記合成ガラスを形成する工程では、前記マイクロ波共振器に入射する高周波パワーに対する前記マイクロ波共振器から反射されてくる高周波パワーの比が0.2以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の光ファイバー母材の製造方法。
- 前記合成ガラスを形成する工程では、前記マイクロ波共振器が発生するマイクロ波出力の下限を0.5kwとし上限を5kwとし、かつ、前記マイクロ波共振器の移動速度の上限を14000mm/minとし、下限を1000mm/minとすることを特徴とする請求項1に記載の光ファイバー母材の製造方法。
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JP2005272789A JP2007084362A (ja) | 2005-09-20 | 2005-09-20 | 光ファイバー母材の製造方法 |
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---|---|---|---|---|
JP2009013053A (ja) * | 2007-06-29 | 2009-01-22 | Draka Comteq Bv | 光ファイバ用の母材を気相成長プロセスによって製造する方法 |
-
2005
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