JP2007080910A - Organic electroluminescent element, exposure device and image forming device - Google Patents

Organic electroluminescent element, exposure device and image forming device Download PDF

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Ryuichi Yatsunami
竜一 八浪
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic electroluminescent element in which emission intensity distribution in a light emitting face is uniform even if a light emitting layer is formed by using a wet process; and to provide an exposure device where emission intensity distribution of the organic electro luminescent elements is uniform, and an image forming device of high image quality, which uses the exposure device. <P>SOLUTION: The element is provided with a glass substrate 2, a first electrode 3 formed on the glass substrate 2, an insulating layer 4 formed to cover a part of at least the first electrode 3, the light emitting layer 8, and a second electrode 9 which is brought into contact with the light emitting layer 8 and which is arranged to face the first electrode 3. An intermediate layer 5 in prescribed thickness is disposed between the first electrode 3 and the light emitting layer 8, and between the insulating layer 4 and the light emitting layer 8. The intermediate layer 5 is constituted of an inorganic layer 6 formed by using a dry process, and an organic layer 7 formed by using the wet process. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は各種光源などに用いられる電気的発光素子である有機エレクトロルミネッセント素子、この有機エレクトロルミネッセント素子を光源として用いる露光装置およびこの露光装置を搭載した画像形成装置に関するものである。   The present invention relates to an organic electroluminescent element which is an electroluminescent element used for various light sources, an exposure apparatus using the organic electroluminescent element as a light source, and an image forming apparatus equipped with the exposure apparatus.

有機エレクトロルミネッセント素子は固体蛍光性物質の電界発光現象を利用した発光デバイスであり、小型のディスプレイとして既に一部で実用化されている。   An organic electroluminescent element is a light emitting device utilizing the electroluminescence phenomenon of a solid fluorescent material, and has already been put into practical use as a small display.

有機エレクトロルミネッセント素子は発光層に用いられる材料の違いからいくつかのグループに分類することができる。代表的なものの一つは発光層に低分子量の有機化合物を用いる低分子有機エレクトロルミネッセント素子で、主に真空蒸着法を用いて作製される。そして今一つは発光層に高分子化合物を用いる高分子有機エレクトロルミネッセント素子である。   Organic electroluminescent devices can be classified into several groups based on the difference in materials used for the light emitting layer. One typical example is a low molecular weight organic electroluminescent device using a low molecular weight organic compound in a light emitting layer, which is mainly produced by using a vacuum deposition method. The other is a polymer organic electroluminescent device using a polymer compound in the light emitting layer.

高分子有機エレクトロルミネッセント素子は各機能層を構成する材料を溶解した溶液を用いることでスピンコート法やインクジェット法、スリットコート法、ディップコート法、印刷法等による製膜工程(以降このように液体材料を薄膜状に塗布する手段を用い、高分子エレクトロルミネッセント素子の作製プロセスの特徴である簡便性をもった製膜工程を「湿式プロセス」と呼称する。これに対し真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法などに代表される製膜工程を「乾式プロセス」と呼称する。)を採用することが可能であり、その簡便なプロセスから低コスト化や大面積化が期待できる技術として注目されている。   A polymer organic electroluminescent device uses a solution in which materials constituting each functional layer are dissolved to form a film by a spin coating method, an ink jet method, a slit coating method, a dip coating method, a printing method, etc. A film forming process having a simple characteristic that is a feature of a process for producing a polymer electroluminescent element using a means for applying a liquid material to a thin film is called a “wet process.” In contrast, a vacuum deposition method is used. The film forming process represented by sputtering method, CVD method, etc. is referred to as “dry process”.) As a technology that can be expected to reduce the cost and increase the area from the simple process. Attention has been paid.

図9は従来の高分子有機エレクトロルミネッセント素子の構造を示す断面図である。   FIG. 9 is a cross-sectional view showing the structure of a conventional polymer organic electroluminescent device.

以降図9を用いて従来の有機エレクトロルミネッセント素子の構造およびその作成手順について説明する。   Hereinafter, the structure of a conventional organic electroluminescent element and the production procedure thereof will be described with reference to FIG.

なお以降の説明において高分子有機エレクトロルミネッセント素子を単に「有機エレクトロルミネッセント素子」と呼称する。また特に区別する必要がある場合は高分子、低分子の別を示すこととする。   In the following description, the polymer organic electroluminescent element is simply referred to as “organic electroluminescent element”. In addition, when it is necessary to distinguish between them, the distinction between high molecules and low molecules will be shown.

典型的な有機エレクトロルミネッセント素子11は陽極13および陰極19の間に電荷注入層(後述するPEDOT層10)、発光層18等の複数の機能層を積層することで作製される。   A typical organic electroluminescent element 11 is produced by laminating a plurality of functional layers such as a charge injection layer (PEDOT layer 10 described later) and a light emitting layer 18 between an anode 13 and a cathode 19.

まず陽極13としてITO(インジウム錫酸化物)を製膜した後にエッチングによって所定の形状にパターニングし、所望の発光形状が得られるように絶縁層14を配置するなどしたガラス基板12上に、電荷注入層としてのPEDOT:PSS(ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸の混合物:以下PEDOTと記載する。)薄膜からなるPEDOT層10を湿式プロセスであるスピンコート法などによって製膜する。PEDOT層10は電荷注入層として事実上の標準となっている材料であり、陽極13側に配置されることでホール注入層として機能する。   First, an ITO (indium tin oxide) film is formed as the anode 13 and then patterned into a predetermined shape by etching, and an electric charge is injected onto the glass substrate 12 in which an insulating layer 14 is disposed so as to obtain a desired light emission shape. PEDOT: PSS (mixture of polythiophene and polystyrene sulfonic acid: hereinafter referred to as PEDOT) as a layer is formed into a film by a spin coating method which is a wet process. The PEDOT layer 10 is a material that has become a de facto standard as a charge injection layer, and functions as a hole injection layer by being disposed on the anode 13 side.

PEDOT層10の上に発光層18として例えばポリフェニレンビニレン(以下PPVと表す)およびその誘導体、またはポリフルオレンおよびそれらの誘導体が湿式プロセスであるスピンコート法などによって製膜される。そしてこれら発光層18上に真空蒸着法によって陰極19としての金属電極が製膜され素子が完成する。   On the PEDOT layer 10, for example, polyphenylene vinylene (hereinafter referred to as PPV) and a derivative thereof, or polyfluorene and a derivative thereof are formed by a spin coating method or the like, which is a wet process. Then, a metal electrode as a cathode 19 is formed on these light emitting layers 18 by vacuum deposition to complete the device.

さて従来の有機エレクトロルミネッセント素子に関して、特に低分子有機エレクトロルミネッセント素子の信頼性向上のための工夫として、たとえば特許文献1に開示されたようなシリコンを主な材料とする中間層を導入する技術が提案されている。しかしながら、これらの物質からなる中間層は、第一イオン化ポテンシャルが大きいために電極との間に著しい電位ギャップを生じる。その結果これら中間層は電気抵抗が著しく高くなってしまい、低電圧で電荷を注入するためにはその厚みを極力小さくする必要があった。またこれらの中間層は、基板の表面粗さの改善や電極面からの不純物の機能層内への拡散を阻止するなどの作用はあるものの、本質的には電荷のバリア層として作用するため、素子の発光効率を向上できるものではなかった。
特開2002−280186号公報
Now, with respect to the conventional organic electroluminescent device, as an idea for improving the reliability of the low-molecular organic electroluminescent device, for example, an intermediate layer made of silicon as a main material as disclosed in Patent Document 1 is used. Technologies to be introduced have been proposed. However, since the intermediate layer made of these materials has a high first ionization potential, a significant potential gap is generated between the electrodes. As a result, the intermediate layer has an extremely high electric resistance, and it is necessary to reduce its thickness as much as possible in order to inject charges at a low voltage. In addition, although these intermediate layers have actions such as improving the surface roughness of the substrate and preventing diffusion of impurities from the electrode surface into the functional layer, they essentially act as a charge barrier layer, The luminous efficiency of the device could not be improved.
JP 2002-280186 A

さて上述したPPVおよびポリフルオレンは高分子有機エレクトロルミネッセント素子11に用いられる発光層18用の材料として代表的なものであり、通常はトルエンやキシレンなどの有機溶媒に溶解させて塗布される。このように有機エレクトロルミネッセント素子11は機能層の多くを湿式プロセスという簡易な方法で作製することができるが、材料溶液をガラス基板12に塗布する際に、ガラス基板12そのもの、およびガラス基板12上に配置された陽極13および絶縁層14相互の濡れ性の違いによって均一な製膜が行われないという課題があった。この課題は例えば真空蒸着法等の乾式プロセスによってガラス基板12の表面状態にかかわらず均一な製膜が行われる低分子エレクトロルミネッセント素子と異なり、高分子有機エレクトロルミネッセント素子に代表される湿式プロセスを用いて作製される有機エレクトロルミネッセント素子に特有の課題である。   The PPV and polyfluorene described above are typical materials for the light emitting layer 18 used in the polymer organic electroluminescent element 11, and are usually applied after being dissolved in an organic solvent such as toluene or xylene. . As described above, the organic electroluminescent element 11 can be manufactured by a simple method called a wet process in which many of the functional layers are produced. However, when the material solution is applied to the glass substrate 12, the glass substrate 12 itself and the glass substrate There is a problem that uniform film formation is not performed due to the difference in wettability between the anode 13 and the insulating layer 14 disposed on the substrate 12. This problem is represented by a polymer organic electroluminescent element, unlike a low molecular electroluminescent element in which uniform film formation is performed regardless of the surface state of the glass substrate 12 by a dry process such as a vacuum deposition method. This is a problem peculiar to an organic electroluminescent device manufactured using a wet process.

このような課題について以下に一例をあげて詳細に説明する。   Such a problem will be described in detail below with an example.

一般的に陽極13を構成するITOの表面は親水性であるのに対し、絶縁層14を構成する多くの絶縁材料はアクリルやポリイミドなどの有機材料からなりその表面は親油性であることが多い。これら表面の特性が異なる部位が混在している面上に前述したPEDOT層10を塗布により形成すると、塗布面の濡れ性の違いによって、特に陽極13を構成するITOと絶縁層14の境界部分において膜厚の不均一が強く生じる。   In general, the surface of ITO constituting the anode 13 is hydrophilic, whereas many insulating materials constituting the insulating layer 14 are made of an organic material such as acrylic or polyimide, and the surface is often oleophilic. . When the above-described PEDOT layer 10 is formed by coating on a surface where portions having different surface characteristics are mixed, due to the difference in wettability of the coated surface, particularly at the boundary portion between ITO and the insulating layer 14 constituting the anode 13. Non-uniform film thickness is strongly generated.

塗布によりPEDOT層10を形成した際に発生した膜厚の不均一は、その後PEDOT層10の上方に重ねて塗布されるその他の機能層によっても改善されることは無く、その結果、有機エレクトロルミネッセント素子11の発光面は例えば周辺部に向かって膜厚が薄くなるとか、その逆であるとか、さらに複雑な場合には発光面内で水面の波のような形状となることがある。特に後者は湿式プロセスの一つであるインクジェット法を用いて絶縁層14に囲まれた陽極13上に高分子有機エレクトロルミネッセント材料の溶液を滴下したときに生じることが多い。   The non-uniformity of the film thickness that occurs when the PEDOT layer 10 is formed by coating is not improved by other functional layers that are subsequently applied over the PEDOT layer 10, and as a result, organic electroluminescence The light emitting surface of the nescent element 11 may be shaped like a wave of the water surface within the light emitting surface, for example, when the film thickness decreases toward the periphery, or vice versa. In particular, the latter often occurs when a solution of a polymer organic electroluminescent material is dropped onto the anode 13 surrounded by the insulating layer 14 using an inkjet method which is one of wet processes.

膜厚の不均一は有機エレクトロルミネッセント素子11の駆動時に発光面の膜厚方向にかかる電界の不均一となって現れ、輝度ムラや劣化の促進による短寿命化、また局部的な絶縁破壊による不点灯などの問題を引き起こす。   The non-uniformity of the film thickness appears as non-uniformity of the electric field applied in the film thickness direction of the light emitting surface when the organic electroluminescent element 11 is driven. Cause problems such as non-lighting.

これらの課題は有機エレクトロルミネッセント素子11を発光デバイス等に応用する場合にもそのまま課題となる。短寿命化や不点灯はもとより、発光面内の輝度ムラは特に有機エレクトロルミネッセント素子11を光源として用いる露光装置の場合にその影響が大きい。露光装置に用いられる光源に発光面内輝度ムラがあると、詳細は後述するが、露光を行った際に感光体の表面電位の分布も不均一となり、結果トナーの付着状態も不均一化し鮮明で正しい印刷出力を得ることができなくなる。   These problems remain as they are even when the organic electroluminescent element 11 is applied to a light emitting device or the like. In addition to shortening the lifetime and not lighting, the luminance unevenness in the light emitting surface is particularly affected in the case of an exposure apparatus using the organic electroluminescent element 11 as a light source. If the light source used in the exposure apparatus has uneven brightness in the light emitting surface, the details will be described later. However, the surface potential distribution of the photoconductor becomes non-uniform when the exposure is performed, resulting in non-uniform toner adhesion and sharpness. In this case, correct print output cannot be obtained.

本発明は湿式プロセスを用いて有機エレクトロルミネッセント素子を製造した場合においても、発光面内の発光強度分布が均一な有機エレクトロルミネッセント素子、各有機エレクトロルミネッセント素子の光強度が均一な露光装置、およびこの露光装置を用いた高画質な画像形成装置を提供することを目的とする。   In the present invention, even when an organic electroluminescent device is manufactured using a wet process, the organic electroluminescent device having a uniform emission intensity distribution in the light emitting surface, and the light intensity of each organic electroluminescent device is uniform. An object of the present invention is to provide a simple exposure apparatus and a high-quality image forming apparatus using the exposure apparatus.

本発明の有機エレクトロルミネッセント素子は上記課題に鑑みてなされたもので、基板と、この基板上に形成された第1の電極と、少なくとも第1の電極の一部を覆うように形成された絶縁層と、この絶縁層および第1の電極の上に形成された発光層と、この発光層と接して第1の電極と対向して配置された第2の電極とを備え、第1の電極と発光層の間および絶縁層と発光層の間に所定の厚みの中間層が配置され、この中間層を乾式プロセスを用いて形成された無機物層と湿式プロセスを用いて形成された有機物層によって構成したものである。   The organic electroluminescent device of the present invention has been made in view of the above problems, and is formed to cover a substrate, a first electrode formed on the substrate, and at least a part of the first electrode. An insulating layer, a light emitting layer formed on the insulating layer and the first electrode, and a second electrode disposed in contact with the light emitting layer and facing the first electrode. An intermediate layer having a predetermined thickness is disposed between the electrode and the light-emitting layer and between the insulating layer and the light-emitting layer. The intermediate layer is formed by using a dry process and an inorganic material layer formed by using a wet process and an organic material formed by using a wet process. It is composed of layers.

本発明によれば、中間層によって基板上に混在する濡れ性の異なる部分が一様に覆われ、濡れ性を均一化することができ、その上面に湿式プロセスによって塗布される発光層材料の膜厚が均一化し、発光ムラのない安定動作可能な素子を得ることができる。また湿式プロセスという簡便な工程を用いることができることから、有機エレクトロルミネッセント素子を低コストで製造することが可能となる。この有機エレクトロルミネッセント素子を露光装置に応用することによって高精細な露光装置を低コストで提供でき、またこの露光装置を搭載した画像形成装置を低コストで提供できるとともに画像形成装置の画質を向上させることができる。   According to the present invention, the portion of the wettability mixed on the substrate is uniformly covered by the intermediate layer, the wettability can be made uniform, and the film of the light emitting layer material applied on the upper surface by a wet process It is possible to obtain an element that can be stably operated with uniform thickness and no unevenness in light emission. Moreover, since a simple process called a wet process can be used, an organic electroluminescent element can be manufactured at low cost. By applying this organic electroluminescent element to an exposure apparatus, a high-definition exposure apparatus can be provided at low cost, and an image forming apparatus equipped with this exposure apparatus can be provided at low cost and the image quality of the image forming apparatus can be improved. Can be improved.

本発明の有機エレクトロルミネッセント素子は、基板と、この基板上に形成された第1の電極と、少なくとも第1の電極の一部を覆うように形成された絶縁層と、この絶縁層および第1の電極の上に形成された発光層と、この発光層と接して第1の電極と対向して配置された第2の電極とを備え、第1の電極と発光層の間および絶縁層と発光層の間に所定の厚みの中間層が配置され、中間層を乾式プロセスを用いて形成された無機物層と湿式プロセスを用いて形成された有機物層によって構成したものである。この中間層によって基板上に混在する濡れ性の異なる部分が一様に覆われ、濡れ性を均一化することができ、その上面に湿式プロセスによって塗布される発光層材料の膜厚が均一化する。これによって個々の有機エレクトロルミネッセント素子において発光面の周辺部まで均一な発光強度を持たせることができるため、発光ムラのない安定動作可能な有機エレクトロルミネッセント素子を得ることができる。中間層における無機物層を乾式プロセスによって形成する際に、無機物層は第1の電極と絶縁層という互いに濡れ性の異なる面に形成されるが、乾式プロセスの性格上基板面の濡れ性に関係なく、無機物層を均一な厚さで製膜することが可能となる。また中間層における有機物層の形成に際して湿式プロセスという簡便な工程を用いることができることから、有機エレクトロルミネッセント素子を低コストで製造することが可能となる。   An organic electroluminescent element of the present invention includes a substrate, a first electrode formed on the substrate, an insulating layer formed so as to cover at least a part of the first electrode, and the insulating layer and A light-emitting layer formed on the first electrode; and a second electrode disposed in contact with the light-emitting layer and facing the first electrode, and insulating between the first electrode and the light-emitting layer An intermediate layer having a predetermined thickness is disposed between the layer and the light-emitting layer, and the intermediate layer is constituted by an inorganic layer formed using a dry process and an organic layer formed using a wet process. This intermediate layer uniformly covers portions with different wettability mixed on the substrate, can make the wettability uniform, and the thickness of the light emitting layer material applied on the upper surface by a wet process becomes uniform. . Thus, since the individual organic electroluminescent elements can have uniform light emission intensity up to the periphery of the light emitting surface, it is possible to obtain an organic electroluminescent element capable of stable operation without light emission unevenness. When the inorganic layer in the intermediate layer is formed by a dry process, the inorganic layer is formed on the surfaces of the first electrode and the insulating layer that have different wettability, but regardless of the wettability of the substrate surface due to the nature of the dry process. The inorganic layer can be formed with a uniform thickness. In addition, since a simple process called a wet process can be used for forming the organic layer in the intermediate layer, the organic electroluminescent element can be manufactured at low cost.

また本発明は、中間層を構成する無機物層を第1の電極および絶縁層と接するように構成したものである。これによって第1の電極と絶縁層という互いに濡れ性の異なる面に均一な濡れ性を付与することが可能となる。   In the present invention, the inorganic layer constituting the intermediate layer is configured to be in contact with the first electrode and the insulating layer. This makes it possible to impart uniform wettability to the surfaces of the first electrode and the insulating layer having different wettability.

また本発明は、中間層における無機物層を酸化物、窒化物、酸窒化物、複合酸化物のいずれかで構成したものである。これらの物質は真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法などの乾式プロセスを用いて製膜するのに好適であり、濡れ性の異なる部分が混在する基板上にも均一な膜を形成することが可能となるので、均一な発光特性を持ったエレクトロルミネッセント素子を実現することが可能となる。   In the present invention, the inorganic layer in the intermediate layer is composed of any one of oxide, nitride, oxynitride, and composite oxide. These materials are suitable for forming a film using a dry process such as vacuum deposition, sputtering, or CVD, and can form a uniform film on a substrate having portions with different wettability. Therefore, an electroluminescent element having uniform light emission characteristics can be realized.

また本発明は、中間層における無機物層をモリブデン、タングステン、バナジウムのいずれかの酸化物で構成したものである。酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化バナジウム等は十分に安定であり、かつ導電率が高く、効率的なキャリア注入を行なうことができ、しかも光透過率が高い。即ち本発明の中間層は単に濡れ性を改善するのみにとどまらず、有機エレクトロルミネッセント素子の電荷注入特性を改善することにも寄与する。これによって有機エレクトロルミネッセント素子の発光効率を高め、素子の寿命を改善することが可能となる。   In the present invention, the inorganic layer in the intermediate layer is composed of an oxide of molybdenum, tungsten, or vanadium. Molybdenum oxide, tungsten oxide, vanadium oxide, and the like are sufficiently stable, have high conductivity, can perform efficient carrier injection, and have high light transmittance. That is, the intermediate layer of the present invention contributes not only to improving the wettability but also to improving the charge injection characteristics of the organic electroluminescent device. As a result, the luminous efficiency of the organic electroluminescent device can be increased, and the lifetime of the device can be improved.

また本発明は、中間層を構成する有機物層を発光層と接するように構成したものである。有機物層は無機物層を被覆するように形成されるが、有機物層の形成に先立って無機物層によって基板面の濡れ性が均一化されているため、有機物層を極めて均一に形成することができる。この有機物層はこれに次いで形成される発光層の材料と濡れ性が極めて近いため、有機エレクトロルミネッセント素子の発光層を均一に形成することが可能となる。   In the present invention, the organic material layer constituting the intermediate layer is configured to be in contact with the light emitting layer. The organic material layer is formed so as to cover the inorganic material layer. Since the wettability of the substrate surface is made uniform by the inorganic material layer prior to the formation of the organic material layer, the organic material layer can be formed extremely uniformly. Since the organic layer has very close wettability to the material of the light emitting layer to be formed next, the light emitting layer of the organic electroluminescent element can be formed uniformly.

また本発明は、中間層を構成する有機物層の膜厚をL1とし、発光層の膜厚をL2とするとき、L1を(L2/20)<L1<(L2/3)の関係を満たすように構成したものである。これによって絶縁性が高い無機物を中間層として導入しても駆動のための電圧が上昇することがなく、かつ素子の絶縁破壊を防止することができる。また、無機物が着色していても膜厚が薄いために発光層から放出される光が吸収によって失われることがない。更に中間層に次いで行われる発光層の形成に好適な濡れ性が均一化された表面状態をなすことができ、均一な発光層膜厚を得ることが可能となる。   In the present invention, when the thickness of the organic material layer constituting the intermediate layer is L1 and the thickness of the light emitting layer is L2, L1 satisfies the relationship of (L2 / 20) <L1 <(L2 / 3). It is configured. Accordingly, even when an inorganic material having high insulating properties is introduced as the intermediate layer, the driving voltage does not increase, and dielectric breakdown of the element can be prevented. Even if the inorganic substance is colored, the light emitted from the light emitting layer is not lost by absorption because the film thickness is thin. Furthermore, it is possible to achieve a surface state in which wettability suitable for formation of the light emitting layer performed next to the intermediate layer is made uniform, and a uniform light emitting layer thickness can be obtained.

また本発明は、発光層を高分子系材料を用い湿式プロセスによって形成したものである。発光層を構成する高分子系材料を溶媒に溶解した溶液と、中間層を構成する有機物層の濡れ性は極めて近いため、湿式プロセスによって有機エレクトロルミネッセント素子の発光層を均一に形成することが可能となる。   In the present invention, the light emitting layer is formed by a wet process using a polymer material. Since the wettability of the solution of the polymer material constituting the light emitting layer dissolved in the solvent and the organic material layer constituting the intermediate layer is very close, the light emitting layer of the organic electroluminescent element should be uniformly formed by a wet process. Is possible.

本発明の露光装置は、上述した有機エレクトロルミネッセント素子を列状に配置し、個々の有機エレクトロルミネッセント素子を独立して点灯/消灯制御可能に構成したものである。本発明の有機エレクトロルミネッセント素子は発光面の周辺部まで均一な発光強度を持っているため、この有機エレクトロルミネッセント素子を用いた露光装置によって安定した潜像を形成することが可能となる。また本発明の有機エレクトロルミネッセント素子は簡易な湿式プロセスにて製造できるため、露光装置を低コストで提供することが可能となる。   In the exposure apparatus of the present invention, the above-described organic electroluminescent elements are arranged in a row, and each organic electroluminescent element can be controlled to be turned on / off independently. Since the organic electroluminescent element of the present invention has a uniform light emission intensity up to the periphery of the light emitting surface, it is possible to form a stable latent image by an exposure apparatus using this organic electroluminescent element. Become. In addition, since the organic electroluminescent device of the present invention can be manufactured by a simple wet process, an exposure apparatus can be provided at a low cost.

本発明の画像形成装置は、上述した露光装置と、この露光装置によって静電潜像が形成される感光体と、この感光体上に形成された静電潜像を顕画化する現像手段とを有するものである。本発明の露光装置により感光体に照射される光の強度分布も均一となり、露光による感光体の表面電位分布の均一化、トナーの付着状態均一化を実現されるため、本発明の画像形成装置によって高精細かつ忠実な印刷出力を得ることができる。   The image forming apparatus of the present invention includes the above-described exposure apparatus, a photoreceptor on which an electrostatic latent image is formed by the exposure apparatus, and a developing unit that visualizes the electrostatic latent image formed on the photoreceptor. It is what has. The intensity distribution of the light irradiated onto the photoconductor by the exposure apparatus of the present invention is also uniform, and the surface potential distribution of the photoconductor and the toner adhesion state are uniformized by exposure. Therefore, the image forming apparatus of the present invention High-definition and faithful print output can be obtained.

以下、本発明の具体的な内容について実施例を用いて説明する。   Hereinafter, specific contents of the present invention will be described with reference to examples.

(実施例1)
図1は本発明の実施例1における有機エレクトロルミネッセント素子の構成図である。
Example 1
FIG. 1 is a configuration diagram of an organic electroluminescent element in Example 1 of the present invention.

図1において1は有機エレクトロルミネッセント素子である。2は有機エレクトロルミネッセント素子1を支持する透光性を有する例えばガラス基板である。実施例1における有機エレクトロルミネッセント素子1を製造する工程の詳細については後述するが、実施例1ではガラス基板2上に第1の電極として透光性の例えばITO等によって構成された陽極3が形成され、その少なくとも一部が絶縁層4で覆われている。その上方全面に中間層5を構成する無機物層6が乾式プロセスを用いて形成され、次いで中間層5を構成する有機物層7が湿式プロセスで形成される。さらに発光層8としての高分子系材料層が湿式プロセスによって形成され、最後に対極としての第2の電極である陰極9が真空蒸着法で形成される。   In FIG. 1, 1 is an organic electroluminescent element. Reference numeral 2 denotes a translucent glass substrate for supporting the organic electroluminescent element 1. The details of the process of manufacturing the organic electroluminescent element 1 in Example 1 will be described later. In Example 1, the anode 3 made of translucent ITO, for example, as the first electrode on the glass substrate 2 is used. Are formed, and at least a part thereof is covered with the insulating layer 4. An inorganic layer 6 constituting the intermediate layer 5 is formed on the entire upper surface by a dry process, and then an organic layer 7 constituting the intermediate layer 5 is formed by a wet process. Further, a polymer material layer as the light emitting layer 8 is formed by a wet process, and finally a cathode 9 as a second electrode as a counter electrode is formed by a vacuum deposition method.

有機エレクトロルミネッセント素子1の陽極3をプラス極として、また陰極9をマイナス極として直流電圧または直流電流を印加すると、発光層8には陽極3から中間層5を介してホールが注入されるとともに陰極9から電子が注入される。発光層8ではこのようにして注入されたホールと電子とが再結合し、これに伴って生成される励起子が励起状態から基底状態へ移行する際に発光現象が起るというわけである。   When a direct current voltage or direct current is applied with the anode 3 of the organic electroluminescent element 1 as a positive electrode and the cathode 9 as a negative electrode, holes are injected into the light emitting layer 8 from the anode 3 through the intermediate layer 5. At the same time, electrons are injected from the cathode 9. In the light emitting layer 8, the holes and electrons injected in this way are recombined, and a light emission phenomenon occurs when excitons generated along with this recombine from the excited state to the ground state.

以降図1を用いて実施例1の有機エレクトロルミネッセント素子1の製造工程の詳細を説明する。   Hereinafter, the details of the manufacturing process of the organic electroluminescent element 1 of Example 1 will be described with reference to FIG.

まずガラス基板2上への陽極3の形成から絶縁層4の形成までの工程について説明する。   First, steps from the formation of the anode 3 on the glass substrate 2 to the formation of the insulating layer 4 will be described.

ガラス基板2上にスパッタリング法により150〜200nm程度の厚さでITO薄膜を形成し、フォトリソグラフィー法とエッチング法を用いるなどして所定の形状の電極パターンを作製し陽極3を形成する。続いて感光性ポリイミドからなる1μm程度の絶縁材料をスピンコート法で全面に塗布し、やはりフォトリソグラフィー法で所定の形状にパターニングして絶縁層4を形成する。絶縁層4のパターニングは陽極3とガラス基板2の境界部分を覆うように行われ発光面の形状を規制する。   An ITO thin film having a thickness of about 150 to 200 nm is formed on the glass substrate 2 by sputtering, an electrode pattern having a predetermined shape is formed by using a photolithography method and an etching method, and the anode 3 is formed. Subsequently, an insulating material made of photosensitive polyimide having a thickness of about 1 μm is applied to the entire surface by a spin coating method, and patterned into a predetermined shape by a photolithography method to form the insulating layer 4. The patterning of the insulating layer 4 is performed so as to cover the boundary portion between the anode 3 and the glass substrate 2 and regulates the shape of the light emitting surface.

発光面を絶縁層4で規制する理由は用途によってさまざまであるが、例えば露光装置を想定した場合は、発光面の位置と形状を正確に決めるために行われる。もちろん、有機エレクトロルミネッセント素子1は前述した原理によって対向する陽極3と陰極9の重なった部位が発光するため、陽極3と陰極9の形状によって発光面を規制することも可能であるが、露光装置では個々の発光面が大変小さなものとなるため、これを陽極3と陰極9といった電極のみで規制するには個々の電極線が細くなりすぎ、結果的に抵抗値が増大するという問題が生じる。よって抵抗値が大きくならないようある程度の幅の電極を作製した上で、その一部を絶縁層4によって規制して発光面を規制するという方法が一般的に用いられている。   The reason why the light emitting surface is regulated by the insulating layer 4 varies depending on the application. For example, when an exposure apparatus is assumed, it is performed to accurately determine the position and shape of the light emitting surface. Of course, the organic electroluminescent element 1 emits light from the overlapping portion of the anode 3 and the cathode 9 facing each other according to the principle described above, and thus the light emitting surface can be regulated by the shape of the anode 3 and the cathode 9. In the exposure apparatus, the individual light emitting surfaces are very small. Therefore, in order to restrict the light emitting surfaces only by the electrodes such as the anode 3 and the cathode 9, the individual electrode lines become too thin, resulting in an increase in resistance. Arise. Therefore, a method is generally used in which an electrode having a certain width is produced so that the resistance value does not increase, and then a part thereof is regulated by the insulating layer 4 to regulate the light emitting surface.

このようにして陽極3、絶縁層4が作製されたガラス基板2の上に、中間層5を形成する。中間層5は以下に詳細に説明するように無機物層6と有機物層7から構成されている。   An intermediate layer 5 is formed on the glass substrate 2 on which the anode 3 and the insulating layer 4 have been produced. The intermediate layer 5 includes an inorganic layer 6 and an organic layer 7 as will be described in detail below.

以下に中間層5を形成する工程について説明する。   The process for forming the intermediate layer 5 will be described below.

中間層5を構成する無機物層6は例えば真空蒸着法といった乾式プロセスで形成され、図示するように陽極3および絶縁層4の両方と接するように構成されている。無機物層6は陽極3と絶縁層4という互いに濡れ性の異なる面に形成されるが、乾式プロセスの特性上基板面の濡れ性に関係なく均一な厚さで製膜することができる。   The inorganic layer 6 constituting the intermediate layer 5 is formed by, for example, a dry process such as a vacuum deposition method, and is configured to be in contact with both the anode 3 and the insulating layer 4 as illustrated. The inorganic layer 6 is formed on the surfaces of the anode 3 and the insulating layer 4 having different wettability, but can be formed with a uniform thickness regardless of the wettability of the substrate surface due to the characteristics of the dry process.

実施例1では、無機物層6として10nmの厚みを持つ酸化モリブデンから構成される層を乾式プロセスである真空蒸着法によって形成した。この無機物層6による膜の形成はガラス基板2の全面に対して行ってもよいし、あるいは真空蒸着時にマスクを使用してガラス基板2の一部に対して製膜してもよい。いずれにしても本発明の効果を得るためには少なくとも陽極3と絶縁層4の境界部分は酸化モリブデン層で覆われている必要がある。   In Example 1, a layer made of molybdenum oxide having a thickness of 10 nm was formed as the inorganic layer 6 by a vacuum deposition method which is a dry process. The formation of the film by the inorganic layer 6 may be performed on the entire surface of the glass substrate 2 or may be formed on a part of the glass substrate 2 using a mask during vacuum deposition. In any case, in order to obtain the effect of the present invention, at least the boundary portion between the anode 3 and the insulating layer 4 needs to be covered with a molybdenum oxide layer.

無機物層6を形成した後に有機物層7を塗布により形成するが、有機物層7は例えばスピンコート法といった湿式プロセスで形成され、図示するように有機物層7は発光層8と接するように構成されている。有機物層7を形成するにあたり、その塗布面全面あるいは少なくとも陽極3と絶縁層4の境界部分は上述の無機物層6である酸化モリブデン層で覆われているため、有機物層7を均一性高く製膜することが可能である。即ち有機物層7を形成する際に既に無機物層6によって塗布面は均一な無機物膜で覆われているため、湿式プロセスによっても均一性が高い有機物層7を製膜することが可能である。   After the inorganic layer 6 is formed, the organic layer 7 is formed by coating. The organic layer 7 is formed by a wet process such as a spin coating method, and the organic layer 7 is configured to be in contact with the light emitting layer 8 as illustrated. Yes. In forming the organic layer 7, the entire coated surface or at least the boundary between the anode 3 and the insulating layer 4 is covered with the molybdenum oxide layer, which is the inorganic layer 6 described above. Is possible. That is, when the organic layer 7 is formed, the coated surface is already covered with a uniform inorganic film by the inorganic layer 6, so that it is possible to form the organic layer 7 with high uniformity even by a wet process.

さて有機物層7は、これが塗布される面が無機物層6で覆われているものの濡れ性は異なるために若干ながら膜厚の不均一を生じる可能性がある。しかしながら有機物層7は後に説明するように非常に薄く製膜されるため、膜厚に多少の不均一が生じても事実上発光の均一性に影響を与えることはない。   The organic material layer 7 may be slightly non-uniform in film thickness because the wettability is different although the surface on which the organic material layer 7 is coated is covered with the inorganic material layer 6. However, since the organic layer 7 is formed very thin as will be described later, even if some non-uniformity occurs in the film thickness, the uniformity of light emission is not substantially affected.

実施例1では有機物層7の材料としてポリ[9,9−ジオクチルフルオレニル−2,7−ジイル)−コ−1,4−ベンゾ−{2,1‘−3}−チアジアゾール](Poly[9,9−dioctylfluorenyl−2,7−diyl]−co−1,4−benzo−{2,1’−3}−thiadiazole)])を用いている。これを10nmの厚みを持つ薄膜として湿式プロセスであるスピンコート法によって形成する。   In Example 1, poly [9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl) -co-1,4-benzo- {2,1′-3} -thiadiazole] (Poly [9] is used as the material for the organic layer 7. 9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl] -co-1,4-benzo- {2,1'-3} -thiazole)]). This is formed as a thin film having a thickness of 10 nm by a spin coating method which is a wet process.

この材料は後述する発光層8の材料であるMEH−PPVとの組み合わせにおいて電子ブロック層としても機能し、陰極9から注入される電子が陽極3にすり抜けるのを防止するため、有機エレクトロルミネッセント素子1の発光効率を向上させる効果がある。   This material also functions as an electron blocking layer in combination with MEH-PPV, which is a material of the light emitting layer 8 described later, and in order to prevent electrons injected from the cathode 9 from slipping through the anode 3, an organic electroluminescent material is used. There is an effect of improving the luminous efficiency of the element 1.

有機物層7は10nmという薄膜に形成するためにスピンコート法に用いる溶液の濃度を下げ粘度を低くすることが望ましい。実施例1では10nmといった薄い有機物層7を形成するために溶液の濃度は0.5%としている。しかしこの濃度は代表的な値であって、この値にとらわれるものではない。有機物層7の膜厚は溶液の濃度のほか、有機物の分子量、溶媒の種類、スピンコート時の回転数、スピンコート雰囲気等の影響を受ける。多少溶液の濃度が高い、あるいは溶解している有機物の分子量が大きい等により溶液の粘度が高いといった場合であれば、スピンコート時の回転数を高くすることによりある程度の薄膜を形成することが可能である。   In order to form the organic layer 7 in a thin film having a thickness of 10 nm, it is desirable to lower the viscosity by lowering the concentration of the solution used in the spin coating method. In Example 1, the concentration of the solution is set to 0.5% in order to form the organic layer 7 as thin as 10 nm. However, this concentration is a representative value and is not limited to this value. The film thickness of the organic layer 7 is affected by the concentration of the solution, the molecular weight of the organic substance, the type of solvent, the number of rotations during spin coating, the spin coating atmosphere, and the like. If the viscosity of the solution is high due to the fact that the concentration of the solution is somewhat high or the dissolved organic substance has a large molecular weight, it is possible to form a thin film to some extent by increasing the number of revolutions during spin coating. It is.

上述の0.5%という溶液濃度は、有機物層7を構成する材料の分子量として20万付近と、一般的なスピンコート条件である1000から5000rpmの回転数を想定した際の代表的な値である。この材料の平均分子量は10万から50万程度の値であり、好ましくは20万付近である。このような有機物を0.1から2.0%程度の範囲の溶液とし、スピンコート法を適用する際のスピンコータの回転数などの条件を調整することによって10nmの膜厚を容易に得ることができる。   The above-mentioned solution concentration of 0.5% is a typical value assuming a molecular weight of the material constituting the organic layer 7 of around 200,000 and a general spin coating condition of 1000 to 5000 rpm. is there. The average molecular weight of this material is about 100,000 to 500,000, preferably around 200,000. It is possible to easily obtain a film thickness of 10 nm by making such an organic substance a solution in the range of about 0.1 to 2.0% and adjusting the conditions such as the spin coater rotation speed when applying the spin coating method. it can.

以上説明したように、乾式プロセスで形成された無機物層6と湿式プロセスで形成された有機物層7からなる二層膜を中間層5として形成することで、湿式プロセスを用いて発光層8を塗布するにあたって発光層8の膜厚の分布が均一なエレクトロルミネッセント素子1を製造することができる。   As described above, the light emitting layer 8 is applied by using a wet process by forming the intermediate layer 5 by forming a two-layer film composed of the inorganic layer 6 formed by the dry process and the organic layer 7 formed by the wet process. In doing so, the electroluminescent device 1 having a uniform thickness distribution of the light emitting layer 8 can be manufactured.

次に発光層8を形成する工程について説明する。   Next, a process for forming the light emitting layer 8 will be described.

発光層8は中間層5(中間層5を構成する有機物層7)の上面に湿式プロセスで塗布されるが、発光層8が形成される面が既に有機物層7という均一な濡れ性の膜で覆われていることはもとより、発光層8の材料を溶解した溶液の濡れ性と有機物層7によって形成された膜の濡れ性はきわめて近いために、発光層8を非常に均一性が高く製膜することができる。   The light emitting layer 8 is applied to the upper surface of the intermediate layer 5 (the organic material layer 7 constituting the intermediate layer 5) by a wet process. The surface on which the light emitting layer 8 is formed is already a uniform wettability film called the organic material layer 7. Since the wettability of the solution in which the material of the light emitting layer 8 is dissolved and the wettability of the film formed by the organic material layer 7 are very close, the light emitting layer 8 is very highly uniform. can do.

湿式プロセスであるスピンコート法により高分子材料からなる発光層8を塗布形成するにあたり、実施例1では高分子系有機エレクトロルミネッセント材料としてトルエンに溶解したMEH−PPVを用い、膜厚は120nmとしている。MEH−PPVは高分子系有機エレクトロルミネッセント材料としてきわめて一般的であり、たとえば日本シーベルヘグナー社にて購入可能である。   In applying and forming the light emitting layer 8 made of a polymer material by a spin coating method which is a wet process, in Example 1, MEH-PPV dissolved in toluene is used as the polymer organic electroluminescent material, and the film thickness is 120 nm. It is said. MEH-PPV is very common as a polymer organic electroluminescent material, and can be purchased from, for example, Nippon Sebel Hegner.

なお実施例1では発光層8をMEH−PPVからなる単層膜としたが、これはいくつかの材料からなる積層膜であってもよい。たとえばMEH−PPV層内に注入された電荷を閉じ込め再結合効率を向上させるために、電子ブロック機能やホールブロック機能をもった材料からなる層を追加するのは素子の特性向上につながり望ましいものである。   In Example 1, the light emitting layer 8 is a single layer film made of MEH-PPV, but it may be a laminated film made of several materials. For example, in order to confine the charge injected into the MEH-PPV layer and improve the recombination efficiency, it is desirable to add a layer made of a material having an electron blocking function or a hole blocking function, which leads to improvement of device characteristics. is there.

また材料そのものもMEH−PPVに限定されるものではない。現在様々な特性と発光色を持った高分子系有機エレクトロルミネッセント材料が提案されており、これらの中から適宜選択して発光層8を構成することができる。   Further, the material itself is not limited to MEH-PPV. Currently, polymer organic electroluminescent materials having various characteristics and luminescent colors have been proposed, and the light emitting layer 8 can be configured by appropriately selecting from these materials.

そして最後に陰極9を形成するが、実施例1においてはバリウムと銀の積層電極を用いている。バリウムは陰極9からの電子注入を助け、有機エレクトロルミネッセント素子の駆動電圧を低下させるのに効果がある。同様の目的でカルシウムや、フッ化リチウムなどの化合物を用いてもよい。   Finally, the cathode 9 is formed. In Example 1, a barium and silver laminated electrode is used. Barium helps to inject electrons from the cathode 9 and is effective in reducing the driving voltage of the organic electroluminescent device. For the same purpose, compounds such as calcium and lithium fluoride may be used.

さて、上述したように有機物層7は、これが塗布される基板面が無機物層6で覆われているものの濡れ性は異なるために、若干ながら膜厚の不均一を生じる可能性がある。しかしながら、有機物層7は前述したように10nmとたいへん薄く製膜され、具体的には有機物層7の膜厚をL1とし、発光層8の膜厚をL2とするとき、L1を(L2/20)<L1<(L2/3)の関係を満たすように構成しているため、多少の不均一があっても膜厚分布に起因する発光面内の電界強度分布はきわめて小さなものに留まり、事実上発光の均一性に影響を与えることはない。   As described above, since the wettability of the organic layer 7 on which the substrate surface on which the organic layer 7 is applied is covered with the inorganic layer 6 is different, there is a possibility that the film thickness may be slightly uneven. However, the organic material layer 7 is formed as thin as 10 nm as described above. Specifically, when the film thickness of the organic material layer 7 is L1 and the film thickness of the light emitting layer 8 is L2, L1 is (L2 / 20). ) <L1 <(L2 / 3) so that the electric field intensity distribution in the light emitting surface due to the film thickness distribution is extremely small even if there is some non-uniformity. It does not affect the uniformity of the top emission.

発光層8の膜厚に対する有機物層7の膜厚の比率には最適な範囲が存在する。以下に(表1)を用いて発光層8の膜厚と有機物層7の膜厚の関係について説明する。   There is an optimum range for the ratio of the thickness of the organic layer 7 to the thickness of the light emitting layer 8. The relationship between the film thickness of the light emitting layer 8 and the film thickness of the organic layer 7 will be described below using (Table 1).

Figure 2007080910
Figure 2007080910

(表1)に示すように、発光層8の膜厚に対する有機物層7の膜厚の比率が1/30以下の場合、有機物層7の厚さとして10nmを想定すると、発光層8の厚さは300nmにもなる。これでは有機エレクトロルミネッセント素子1の全厚が厚くなりすぎ、点灯のために必要な印加電圧が高くなるため有機エレクトロルミネッセント素子1の電力効率が著しく低下する。印加電圧の上昇を避けるために発光層8の膜厚を100nm程度に留めると、今度は有機物層7の厚みが3nm程度となり、もはや湿式プロセスを用いて均一な製膜を得ることは困難である。   As shown in Table 1, when the ratio of the thickness of the organic layer 7 to the thickness of the light emitting layer 8 is 1/30 or less, the thickness of the light emitting layer 8 is assumed assuming that the thickness of the organic layer 7 is 10 nm. Becomes as large as 300 nm. As a result, the total thickness of the organic electroluminescent element 1 becomes too thick, and the applied voltage required for lighting becomes high, so that the power efficiency of the organic electroluminescent element 1 is remarkably lowered. If the thickness of the light emitting layer 8 is limited to about 100 nm in order to avoid an increase in applied voltage, the thickness of the organic material layer 7 is now about 3 nm, and it is difficult to obtain a uniform film using a wet process. .

一方、発光層8に対する有機物層7の膜厚の比率が1/3以上の場合は、有機物層7の膜厚を10nmと想定すると、発光層8は高々30nmの膜厚となり、有機エレクトロルミネッセント素子1の全厚が薄くなる結果絶縁破壊が生じやすくなる。また逆に発光層8の膜厚を100nm程度に確保すると有機物層7の厚みが30nm以上と厚くなりすぎ、無機物層7上への均一な製膜が困難となる。   On the other hand, when the ratio of the film thickness of the organic material layer 7 to the light emitting layer 8 is 1/3 or more, assuming that the film thickness of the organic material layer 7 is 10 nm, the light emitting layer 8 has a film thickness of 30 nm at most. As a result of the total thickness of the cent element 1 being reduced, dielectric breakdown is likely to occur. On the other hand, if the thickness of the light emitting layer 8 is secured to about 100 nm, the thickness of the organic layer 7 becomes too thick at 30 nm or more, and uniform film formation on the inorganic layer 7 becomes difficult.

このようなことから、発光層8に対する有機物層7の膜厚比率は1/20−1/3程度の範囲から選択されるべきであり、好ましくは1/10付近である。   For this reason, the film thickness ratio of the organic layer 7 to the light emitting layer 8 should be selected from the range of about 1 / 20-1 / 3, and preferably about 1/10.

さて、このようにして作製された有機エレクトロルミネッセント素子1の発光面から放射される発光強度分布を、従来技術であるPEDOTを用いた素子の場合と比較して説明する。   Now, the emission intensity distribution radiated from the light emitting surface of the organic electroluminescent device 1 manufactured in this way will be described in comparison with the case of a device using PEDOT which is a conventional technique.

図2(a)はPEDOTとPPV系材料を用いた従来技術に基づく有機エレクトロルミネッセント素子(中間層5を欠く有機エレクトロルミネッセント素子、以下PEDOT素子と呼称する)、同(b)は本発明の実施例1における有機エレクトロルミネッセント素子(中間層5を有する有機エレクトロルミネッセント素子、以下中間層素子と呼称する)、の発光強度分布を示す説明図である。図中ともに“A”で示された範囲が発光面でありその両側は絶縁層で規制された非発光面である。   FIG. 2A shows an organic electroluminescent element based on a conventional technique using PEDOT and a PPV material (an organic electroluminescent element lacking the intermediate layer 5, hereinafter referred to as a PEDOT element), and FIG. It is explanatory drawing which shows the emitted light intensity distribution of the organic electroluminescent element (The organic electroluminescent element which has the intermediate | middle layer 5, and henceforth an intermediate | middle layer element) in Example 1 of this invention. The range indicated by “A” in both figures is a light emitting surface, and both sides thereof are non-light emitting surfaces regulated by an insulating layer.

図2(b)から明らかなように、中間層素子は発光面の周辺部分で急激に発光強度が増大し、また発光面内の大部分にわたって均一な発光強度を維持しているのに対して、図2(a)に示すPEDOT素子では発光面周辺部の光量が少なく、また強度分布は山形をしており均一な発光強度を持っている範囲はほとんど無い。   As is clear from FIG. 2B, the intermediate layer element has a sudden increase in emission intensity in the peripheral portion of the light emitting surface, while maintaining a uniform emission intensity over most of the light emitting surface. In the PEDOT element shown in FIG. 2 (a), the amount of light around the light emitting surface is small, and the intensity distribution has a mountain shape, and there is almost no range having uniform light emission intensity.

このように発光強度分布に差が生じる原因は、発光面内の膜厚分布の不均一である。   The cause of the difference in the emission intensity distribution is the nonuniformity of the film thickness distribution in the light emitting surface.

図3(a)は従来技術に基づくPEDOT素子の層構成の断面図、同(b)は本発明に基づく中間層素子の層構成の断面図である。図3(a)および同(b)においてP1は絶縁層上の位置を、P2は発光面周辺部分の位置を、P3は発光面の中央部付近の位置を示している。   FIG. 3A is a cross-sectional view of the layer structure of the PEDOT element based on the prior art, and FIG. 3B is a cross-sectional view of the layer structure of the intermediate layer element based on the present invention. 3A and 3B, P1 indicates a position on the insulating layer, P2 indicates a position near the light emitting surface, and P3 indicates a position near the center of the light emitting surface.

以降図3(a)、同(b)を用いて発光面内の膜厚が不均一となるメカニズムについて説明する。   Hereinafter, the mechanism by which the film thickness in the light emitting surface becomes non-uniform will be described with reference to FIGS.

まず図3(a)に示す従来技術に基づくPEDOT素子においては、PEDOT層10形成の際、ガラス基板12の表面には親油性の絶縁層14と親水性のITOから構成された陽極13が混在しており、スピンコート法によって塗布されたPEDOT層10は親水性の陽極13との濡れはよいが、親油性の絶縁層14との濡れはよくないために、絶縁層14上から陽極13側へ移動しようとする。しかしながらそれらの現象が生じるのはPEDOT層10がスピンコート法により塗布されてから溶媒が乾燥するまでのきわめて短い時間に限られるため、結果的に不均一な膜厚が固定される。すなわちP2に示すところの発光面周辺部ではP1に示す親油性の絶縁層4上から移動してきたPEDOTによって素子中央部P3よりも膜厚が厚くなってしまい、発光面の中央部に向かって次第に薄くなるという“すり鉢状”の膜厚分布を持つようになる。   First, in the PEDOT element based on the prior art shown in FIG. 3A, when the PEDOT layer 10 is formed, the surface of the glass substrate 12 is mixed with an oleophilic insulating layer 14 and an anode 13 composed of hydrophilic ITO. The PEDOT layer 10 applied by spin coating is good in wettability with the hydrophilic anode 13, but is not good in wetness with the lipophilic insulating layer 14. Try to move to. However, these phenomena occur only in a very short time from when the PEDOT layer 10 is applied by the spin coating method to when the solvent is dried, and as a result, a non-uniform film thickness is fixed. That is, in the peripheral portion of the light emitting surface shown by P2, the film thickness becomes thicker than the element central portion P3 by PEDOT moving from the lipophilic insulating layer 4 shown by P1, and gradually toward the central portion of the light emitting surface. It has a “mortar-shaped” film thickness distribution that becomes thinner.

PEDOT層10の形成によって塗布面はPEDOT層10という均一な濡れ性の膜に覆われることになるため、その後に塗布される発光層18を構成するPPV系材料の膜厚は均一となる。また、それに続く陰極19の形成は真空蒸着法によるので、原理的に均一な膜厚となる。しかしながらPEDOT層10の塗布によって素子周辺部P2で生じた膜厚の不均一はその後の工程で解消されることは無いために、有機エレクトロルミネッセント素子11としての総膜厚は発光面内で不均一な分布を持つことになる。これは即ち通電時の発光面内に電界強度の不均一が生じることを意味する。   By forming the PEDOT layer 10, the coated surface is covered with a uniform wettability film called the PEDOT layer 10, so that the film thickness of the PPV material constituting the light emitting layer 18 to be coated thereafter is uniform. Further, since the subsequent formation of the cathode 19 is performed by a vacuum vapor deposition method, a uniform film thickness is obtained in principle. However, since the non-uniformity of the film thickness generated at the element peripheral portion P2 due to the application of the PEDOT layer 10 is not eliminated in the subsequent process, the total film thickness as the organic electroluminescent element 11 is within the light emitting surface. It will have a non-uniform distribution. This means that the electric field strength is nonuniform in the light emitting surface when energized.

これに対して図3(b)に示す本発明に基づく中間層素子では、発光層8の塗布に先立ち親油性の絶縁層4と親水性の陽極3が混在しているガラス基板2上に中間層5が形成される。中間層5の形成によって少なくとも絶縁層4と陽極3の境界部分、および陽極3の表面は均一な濡れ性を持った膜で覆われることになる。しかも前述したように無機物層6と有機物層7によって構成された中間層5は膜厚の均一性が高い。よって中間層5に次いで湿式プロセスで形成される発光層8は均一な濡れ性を持った面に対する塗布であるために、その膜厚は均一となる。   On the other hand, in the intermediate layer element according to the present invention shown in FIG. 3B, an intermediate layer is formed on the glass substrate 2 in which the lipophilic insulating layer 4 and the hydrophilic anode 3 are mixed prior to the application of the light emitting layer 8. Layer 5 is formed. By forming the intermediate layer 5, at least the boundary between the insulating layer 4 and the anode 3 and the surface of the anode 3 are covered with a film having uniform wettability. Moreover, as described above, the intermediate layer 5 constituted by the inorganic layer 6 and the organic layer 7 has high uniformity in film thickness. Therefore, since the light emitting layer 8 formed by the wet process next to the intermediate layer 5 is applied to a surface having uniform wettability, the film thickness becomes uniform.

このように中間層5を形成することにより有機エレクトロルミネッセント素子1の発光層8の膜厚を均一化することができ、発光面の周辺部まで均一な発光強度を持った優れた有機エレクトロルミネッセント素子を得ることが可能となる。   By forming the intermediate layer 5 in this way, the film thickness of the light emitting layer 8 of the organic electroluminescent element 1 can be made uniform, and excellent organic electroluminescence with uniform light emission intensity to the periphery of the light emitting surface. A luminescent element can be obtained.

さて実施例1では中間層5を構成する無機物層6として酸化モリブデンを用いたが、これは酸化モリブデンが十分に安定であり、かつ導電率が高く、効率的なキャリア注入を行なうことができ、しかも光透過率が高いからである。材料特性上の観点から同様の効果を得ることができる材料として、タングステンやバナジウムの酸化物を用いることが可能である。   In Example 1, molybdenum oxide was used as the inorganic material layer 6 constituting the intermediate layer 5. However, this is because molybdenum oxide is sufficiently stable, has high conductivity, and can perform efficient carrier injection. In addition, the light transmittance is high. Tungsten or vanadium oxide can be used as a material capable of obtaining the same effect from the viewpoint of material characteristics.

また、さらに中間層5を構成する無機物層6を酸化物、窒化物、酸窒化物、複合酸化物のいずれかで構成しても、上述してきた酸化モリブデン層と同様の効果を得ることができる。   Further, even if the inorganic layer 6 constituting the intermediate layer 5 is made of any of oxide, nitride, oxynitride, and composite oxide, the same effect as the above-described molybdenum oxide layer can be obtained. .

酸化物としては、クロム(Cr)、タングステン(W)、バナジウム(V)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、スカンジウム(Sc)、イットリウム(Y)、トリウム(Tr)、マンガン(Mn)、鉄(Fe)、ルテニウム(Ru)、オスミウム(Os)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、亜鉛(Zn)、カドミウム(Cd)、アルミニウム(Al)、ガリウム(Ga)、インジウム(In)、シリコン(Si)、ゲルマニウム(Ge)、錫(Sn)、鉛(Pb)、アンチモン(Sb)、ビスマス(Bi)あるいは、ランタン(La)からルテチウム(Lu)までのいわゆる希土類元素などの酸化物を挙げることができる。   Examples of oxides include chromium (Cr), tungsten (W), vanadium (V), niobium (Nb), tantalum (Ta), titanium (Ti), zirconium (Zr), hafnium (Hf), scandium (Sc), Yttrium (Y), Thorium (Tr), Manganese (Mn), Iron (Fe), Ruthenium (Ru), Osmium (Os), Cobalt (Co), Nickel (Ni), Copper (Cu), Zinc (Zn), Cadmium (Cd), Aluminum (Al), Gallium (Ga), Indium (In), Silicon (Si), Germanium (Ge), Tin (Sn), Lead (Pb), Antimony (Sb), Bismuth (Bi) or And oxides of so-called rare earth elements from lanthanum (La) to lutetium (Lu).

また窒化物としては、窒化ガリウム(GaN)、窒化インジウム(InN)、窒化アルミニウム(AlN)、窒化ホウ素(BN)、窒化珪素(SiN)、窒化マグネシウム(MgN)、窒化モリブデン(MoN)、窒化カルシウム(CaN)、窒化ニオブ(NbN)、窒化タンタル(TaN)、窒化バナジウム(BaN)、窒化亜鉛(ZnN)、窒化ジルコニウム(ZrN)、窒化鉄(FeN)、窒化銅(CuN)、窒化バリウム(BaN)、窒化ランタン(LaN)、窒化クロム(CrN)、窒化イットリウム(YN)、窒化リチウム(LiN)、窒化チタン(TiN)、およびこれらの複合窒化物等を挙げることができる。   As nitrides, gallium nitride (GaN), indium nitride (InN), aluminum nitride (AlN), boron nitride (BN), silicon nitride (SiN), magnesium nitride (MgN), molybdenum nitride (MoN), calcium nitride (CaN), niobium nitride (NbN), tantalum nitride (TaN), vanadium nitride (BaN), zinc nitride (ZnN), zirconium nitride (ZrN), iron nitride (FeN), copper nitride (CuN), barium nitride (BaN) ), Lanthanum nitride (LaN), chromium nitride (CrN), yttrium nitride (YN), lithium nitride (LiN), titanium nitride (TiN), and composite nitrides thereof.

また、前述した酸窒化物としては、バリウムサイアロン(BaSiAlON)、カルシウムサイアロン(CaSiAlON)、セリウムサイアロン(CeSiAlON)、リチウムサイアロン(LiSiAlON)、マグネシウムサイアロン(MgSiAlON)、スカンジウムサイアロン(ScSiAlON)、イットリウムサイアロン(YSiAlON)、エルビウムサイアロン(ErSiAlON)、ネオジムサイアロン(NdSiAlON)などのIA、IIA、IIIB族の元素を含むサイアロン、または多元サイアロン等の酸窒化物を挙げることができ、また窒化珪素酸ランタン(LaSiON)、窒化珪素酸ランタンユーロピウム(LaEuSi)、酸窒化珪素(SiON)等も適用可能である。 Examples of the oxynitrides include barium sialon (BaSiAlON), calcium sialon (CaSiAlON), cerium sialon (CeSiAlON), lithium sialon (LiSiAlON), magnesium sialon (MgSiAlON), scandium sialon (ScSiAlON), and yttrium sialon (YSiAlON). ), Sialon containing elements of group IA, IIA, IIIB such as erbium sialon (ErSiAlON), neodymium sialon (NdSiAlON), or oxynitrides such as multi-element sialon, and lanthanum silicon oxynitrate (LaSiON), Lanthanum europium silicon nitride (LaEuSi 2 O 2 N 3 ), silicon oxynitride (SiON 3 ), and the like are also applicable.

さらに、前述した複合酸化物としては、チタン酸バリウム(BaTiO)、チタン酸ストロンチウム(SrTiO)の他、チタン酸カルシウム(CaTiO)、ニオブ酸カリウム(KNbO)、ビスマス酸化鉄(BiFeO)、ニオブ酸リチウム(LiNbO)、バナジウム酸ナトリウム(NaVO)、バナジウム酸鉄(FeVO)、チタン酸バナジウム(TiVO)、クロム酸バナジウム(CrVO)、バナジウム酸ニッケル(NiVO)、バナジウム酸マグネシウム(MgVO)、バナジウム酸カルシウム(CAVO)、バナジウム酸ランタン(LaVO)、モリブデン酸バナジウム(VMoO)、モリブデン酸バナジウム(VMoO)、バナジウム酸リチウム(LiV)、珪酸マグネシウム(MgSiO)、珪酸マグネシウム(MgSiO)、チタン酸ジルコニウム(ZrTiO)、チタン酸ストロンチウム(SrTiO)、マグネシウム酸鉛(PbMgO)、ニオブ酸鉛(PbNbO)、ホウ酸バリウム(BaB)、クロム酸ランタン(LaCrO)、チタン酸リチウム(LiTi)、銅酸ランタン(LaCuO)、チタン酸亜鉛(ZnTiO)、タングステン酸カルシウム(CaWO)等を挙げることができる。 Further, examples of the composite oxide described above include barium titanate (BaTiO 3 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), calcium titanate (CaTiO 3 ), potassium niobate (KNbO 3 ), and bismuth iron oxide (BiFeO 3). ), lithium niobate (LiNbO 3), sodium vanadate (Na 3 VO 4), vanadium iron (FeVO 3), titanate vanadium (TiVO 3), chromic acid vanadium (CRVO 3), vanadium, nickel (NiVO 3 ), Magnesium vanadate (MgVO 3 ), calcium vanadate (CAVO 3 ), lanthanum vanadate (LaVO 3 ), vanadium molybdate (VMoO 5 ), vanadium molybdate (V 2 MoO 8 ), lithium vanadate (LiV) 2 O 5 ), magnesium silicate (Mg 2 SiO 4 ), magnesium silicate (MgSiO 3 ), zirconium titanate (ZrTiO 4 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), lead magnesium oxide (PbMgO 3 ), lead niobate (PbNbO) 3 ), barium borate (BaB 2 O 4 ), lanthanum chromate (LaCrO 3 ), lithium titanate (LiTi 2 O 4 ), lanthanum cuprate (LaCuO 4 ), zinc titanate (ZnTiO 3 ), calcium tungstate (CaWO 4 ) and the like.

なお、上記化合物はあくまで適用可能なものの一部であり、また上記化合物においては価数の異なる化合物も存在し易く、例示したもの以外にも価数の異なる化合物の形をとるものも含まれる。   In addition, the said compound is a part of what can be applied to the last, and in the said compound, the compound from which a valence differs easily exists, and what takes the form of the compound from which a valence differs from what was illustrated is also contained.

前述した化合物には絶縁性の高いものも含まれているが、一般的には絶縁体とされている物質であっても、その膜厚を1nmから5nm程度と薄くすることにより通電が可能となり本発明に示すところの中間層5を構成する無機物層6として適用可能となる。また前述した化合物のうち着色があるものについても、形成する膜の厚さを数nmとすることで事実上の問題を回避することができ、本発明の効果を奏することができる。   The above-mentioned compounds include those with high insulation properties. However, even if the material is generally an insulator, it can be energized by reducing the film thickness to about 1 nm to 5 nm. The present invention can be applied as the inorganic layer 6 constituting the intermediate layer 5 shown in the present invention. Moreover, even for the above-mentioned compounds that are colored, the problem can be avoided by setting the thickness of the film to be formed to several nm, and the effects of the present invention can be achieved.

なお前述した有機エレクトロルミネッセント素子1の発光層8とは、単に発光機能のみを有した層に限定されるものではなく、電荷輸送機能など、他の機能を有しているもの、あるいはそれらを含む複数材料からなる積層膜であってもよい。   In addition, the light emitting layer 8 of the organic electroluminescent element 1 described above is not limited to a layer having only a light emitting function, but has other functions such as a charge transport function, or those A laminated film made of a plurality of materials including may be used.

また実施例1では真空蒸着法を用いて無機物層6としての酸化モリブデン層の製膜を行なったが、もちろんこれはスパッタリング法を始めとする前述した他の乾式プロセスを用いてもよい。たとえば、酸化モリブデン、酸化バナジウムは昇華性を持っており一般的な真空蒸着法による製膜が可能であるが、酸化タングステンについてはスパッタリング法による製膜が必要である。また前述した他の酸化物等についても真空蒸着法を適用できないものが多く、それらについてはむしろスパッタリング法を用いる方が望ましい。   Further, in Example 1, the molybdenum oxide layer as the inorganic layer 6 was formed by using the vacuum evaporation method, but of course, other dry processes as described above including the sputtering method may be used. For example, molybdenum oxide and vanadium oxide have sublimability and can be formed by a general vacuum deposition method, but tungsten oxide needs to be formed by a sputtering method. In addition, many of the other oxides described above cannot be applied with the vacuum deposition method, and it is preferable to use the sputtering method for these.

有機物層7についても同様に、実施例1で用いられた材料に限定されるものではない。発光層8の材料との濡れ性を始めとする適合性を考慮して適宜最適な選択がなされるべきものである。   Similarly, the organic layer 7 is not limited to the material used in Example 1. The optimum selection should be made as appropriate in consideration of compatibility with the material of the light emitting layer 8 including wettability.

さて、このような均一な発光強度分布を持った有機エレクトロルミネッセント素子を露光装置に応用した例について以下に詳細に説明する。   Now, an example in which such an organic electroluminescent element having a uniform emission intensity distribution is applied to an exposure apparatus will be described in detail below.

図4は本発明の実施例1における露光装置の構成図である。以降露光装置の構造について図4を用いて詳細に説明する。   FIG. 4 is a block diagram of the exposure apparatus in Embodiment 1 of the present invention. Hereinafter, the structure of the exposure apparatus will be described in detail with reference to FIG.

図4において、33は図示しない画像形成装置に搭載された露光装置であり、感光体28の表面に静電潜像を形成する部材である。なお感光体28上への静電潜像の形成過程および画像形成装置の構成および動作については後に詳細に説明する。   In FIG. 4, an exposure device 33 is mounted on an image forming apparatus (not shown), and is a member that forms an electrostatic latent image on the surface of the photoreceptor 28. The formation process of the electrostatic latent image on the photoreceptor 28 and the configuration and operation of the image forming apparatus will be described in detail later.

2は既に説明したガラス基板であり、ガラス基板2の面Aには露光光源として有機エレクトロルミネッセント素子1が図面と垂直な方向(主走査方向)に600dpi(dot/inch)の解像度で形成されている。   Reference numeral 2 denotes the glass substrate already described, and the organic electroluminescent element 1 is formed on the surface A of the glass substrate 2 as an exposure light source at a resolution of 600 dpi (dot / inch) in a direction perpendicular to the drawing (main scanning direction). Has been.

71はプラスティックまたはガラスで構成される棒レンズ(図示せず)を列状に配置したレンズアレイであり、ガラス基板2の面Aに形成された有機エレクトロルミネッセント素子1の出射光を正立等倍の像として、潜像が形成される感光体28の表面に結像させる。レンズアレイ71の一方の焦点はガラス基板2の面Aであり、もう一方の焦点は感光体28の表面となるようにガラス基板2、レンズアレイ71、感光体28の位置関係が調整されている。即ち面Aからレンズアレイ71の近い方の面までの距離L1と、レンズアレイ71の他方の面と感光体28の表面までの距離L2とするとき、L1=L2となるように設定される。   Reference numeral 71 denotes a lens array in which rod lenses (not shown) made of plastic or glass are arranged in a row, and the emitted light of the organic electroluminescent element 1 formed on the surface A of the glass substrate 2 is erect. An image of the same magnification is formed on the surface of the photoreceptor 28 where a latent image is formed. The positional relationship of the glass substrate 2, the lens array 71, and the photoconductor 28 is adjusted so that one focus of the lens array 71 is the surface A of the glass substrate 2 and the other focus is the surface of the photoconductor 28. . That is, when the distance L1 from the surface A to the surface closer to the lens array 71 and the distance L2 from the other surface of the lens array 71 to the surface of the photosensitive member 28 are set, L1 = L2.

72は例えばガラスエポキシ基板上に電子部品によって回路を構成した中継基板である。73aはコネクタA、73bはコネクタBであり、中継基板72には少なくともコネクタA 73aおよびコネクタB 73bが実装されている。中継基板72は例えばフレキシブルフラットケーブルなどのケーブル76によって露光装置33に外部から供給される画像データや光量補正データ、及びその他の制御信号をコネクタB 73bを介して一旦中継し、これらの信号をガラス基板2に渡す。   Reference numeral 72 denotes a relay substrate in which a circuit is configured by electronic components on a glass epoxy substrate, for example. 73 a is a connector A, 73 b is a connector B, and at least a connector A 73 a and a connector B 73 b are mounted on the relay board 72. The relay substrate 72 temporarily relays image data, light amount correction data, and other control signals supplied from the outside to the exposure apparatus 33 via a cable 76 such as a flexible flat cable, etc., via a connector B 73b, and these signals are glass. Pass to substrate 2.

ガラス基板2の表面にコネクタを直接実装することは接合強度や、露光装置33が置かれる多様な環境における信頼性を考慮すると困難であるため、実施例1では中継基板72のコネクタA 73aとガラス基板2との接続手段としてFPC(フレキシブルプリント回路)を採用し(図示せず、詳細は後述する)、ガラス基板2とFPCの接合は例えばACF(異方性導電フィルム)を用いて、予めガラス基板2上に形成された例えばITO電極に直接接続する構成としている。   Since it is difficult to directly mount the connector on the surface of the glass substrate 2 in consideration of bonding strength and reliability in various environments where the exposure apparatus 33 is placed, the connector A 73a of the relay substrate 72 and the glass are used in the first embodiment. FPC (flexible printed circuit) is adopted as a connection means with the substrate 2 (not shown, details will be described later), and the glass substrate 2 and FPC are bonded in advance using, for example, ACF (anisotropic conductive film). For example, it is configured to be directly connected to, for example, an ITO electrode formed on the substrate 2.

一方コネクタB 73bは露光装置33を外部と接続するためのコネクタである。一般的にACF等による接続は接合強度が問題となる場合が多いが、このように中継基板72上にユーザが露光装置33を接続するためのコネクタB 73bを設けることで、ユーザが直接アクセスするインタフェースに十分な強度を確保することができる。   On the other hand, the connector B 73b is a connector for connecting the exposure apparatus 33 to the outside. In general, connection by ACF or the like often has a problem of bonding strength, but by providing the connector B 73b for connecting the exposure apparatus 33 on the relay substrate 72 in this way, the interface directly accessed by the user. Sufficient strength can be secured.

74aは筐体Aであり金属板を例えば折り曲げ加工により成型したものである。筐体A 74aの感光体28に対向する側にはL字状部位75が形成されており、L字状部位75に沿ってガラス基板2およびレンズアレイ71が配設されている。筐体A 74aの感光体28側の端面とレンズアレイ71の端面を同一面に合わせ、更に筐体A 74aによってガラス基板2の一端部を支持する構造とすることで、L字状部位75の成型精度を確保すれば、ガラス基板2とレンズアレイ71の成す位置関係を精度よく合わせ込むことが可能となる。このように筐体A 74aは寸法精度を要求されるため、金属にて構成することが望ましい。また筐体A 74aを金属製とすることで、ガラス基板2上に形成される制御回路およびガラス基板2上に表面実装されるICチップ等の電子部品へのノイズの影響を抑制することが可能である。   Reference numeral 74a denotes a casing A which is formed by bending a metal plate, for example. An L-shaped portion 75 is formed on the side of the housing A 74 a facing the photoreceptor 28, and the glass substrate 2 and the lens array 71 are disposed along the L-shaped portion 75. By aligning the end surface of the housing A 74a on the photosensitive member 28 side with the end surface of the lens array 71 and further supporting one end of the glass substrate 2 by the housing A 74a, the L-shaped portion 75 of the L-shaped portion 75 is supported. If the molding accuracy is ensured, the positional relationship between the glass substrate 2 and the lens array 71 can be accurately adjusted. As described above, since the casing A 74a is required to have dimensional accuracy, the casing A 74a is preferably made of metal. Further, by making the casing A 74a made of metal, it is possible to suppress the influence of noise on electronic components such as a control circuit formed on the glass substrate 2 and an IC chip surface-mounted on the glass substrate 2. It is.

74bは樹脂を成型して得られる筐体Bである。筐体B 74bのコネクタB 73bの近傍には切欠き部(図示せず)が設けられており、ユーザはこの切欠き部からコネクタB 73bにアクセスが可能となっている。コネクタB 73bに接続されたケーブル76を介して露光装置33の外部から露光装置33に画像データ、光量補正データ、クロック信号やライン同期信号等の制御信号、制御回路の駆動電源、発光素子である有機エレクトロルミネッセント素子の駆動電源などが供給される。   74b is a casing B obtained by molding a resin. A notch (not shown) is provided in the vicinity of the connector B 73b of the housing B 74b, and the user can access the connector B 73b from this notch. The image data, the light amount correction data, the control signal such as the clock signal and the line synchronization signal, the driving power source of the control circuit, and the light emitting element are supplied from the outside of the exposure apparatus 33 to the exposure apparatus 33 through the cable 76 connected to the connector B 73b. Drive power for the organic electroluminescent element is supplied.

図5(a)は本発明の実施例1の露光装置33に係るガラス基板2の上面図であり、図5(b)は同要部拡大図である。以降図5に図4を併用して実施例1におけるガラス基板2の構成について詳細に説明する。   FIG. 5A is a top view of the glass substrate 2 according to the exposure apparatus 33 of Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 5B is an enlarged view of the main part thereof. Hereinafter, the configuration of the glass substrate 2 in Example 1 will be described in detail with reference to FIG.

図5において、ガラス基板2は厚みが約0.7mmの、少なくとも長辺と短辺を有する長方形形状の基板であり、その長辺方向(主走査方向)には複数の有機エレクトロルミネッセント素子1が列状に形成されている。実施例1ではガラス基板2の長辺方向には少なくともA4サイズ(210mm)の露光に必要な有機エレクトロルミネッセント素子1が配置され、ガラス基板2の長辺方向は後述する駆動制御部78の配置スペースを含め250mmとしている。また実施例1では簡単のためにガラス基板2を長方形として説明するが、ガラス基板2を筐体A 74aに取り付ける際の位置決め用などのために、ガラス基板2の一部に切り欠きを設けるような変形を伴っていてもよい。   In FIG. 5, a glass substrate 2 is a rectangular substrate having a thickness of about 0.7 mm and having at least a long side and a short side, and a plurality of organic electroluminescent elements are arranged in the long side direction (main scanning direction). 1 is formed in a row. In Example 1, the organic electroluminescent element 1 necessary for exposure of at least A4 size (210 mm) is arranged in the long side direction of the glass substrate 2, and the long side direction of the glass substrate 2 is the drive control unit 78 described later. It is 250 mm including the arrangement space. In the first embodiment, the glass substrate 2 is described as a rectangle for the sake of simplicity. However, a notch is provided in a part of the glass substrate 2 for positioning when the glass substrate 2 is attached to the housing A 74a. May be accompanied by various deformations.

78はガラス基板2の外部から供給される制御信号(有機エレクトロルミネッセント素子1を駆動するための信号)を受け取り、この制御信号に基づいて有機エレクトロルミネッセント素子1の駆動を制御する駆動制御部であり、後述するように制御信号をガラス基板2の外部から受け取るインタフェース手段とインタフェース手段を介して受け取った制御信号に基づき有機エレクトロルミネッセント素子1の駆動を制御するICチップ(ソースドライバ)を含んでいる。   A drive 78 receives a control signal (a signal for driving the organic electroluminescent element 1) supplied from the outside of the glass substrate 2, and controls driving of the organic electroluminescent element 1 based on the control signal. An IC chip (source driver) that controls the driving of the organic electroluminescent element 1 based on an interface unit that receives a control signal from the outside of the glass substrate 2 and a control signal received through the interface unit as will be described later ) Is included.

80は中継基板72のコネクタA 73aとガラス基板2とを接続するインタフェース手段としてのFPC(フレキシブルプリント回路)であり、コネクタ等を介さずガラス基板2に設けられた図示しない回路パターンに直接接続されている。既に説明したように、露光装置33に外部から供給された画像データ、光量補正データ、クロック信号やライン同期信号等の制御信号、制御回路の駆動電源、有機エレクトロルミネッセント素子1の駆動電源は、図4に示す中継基板72を一旦経由した後にFPC80を介してガラス基板2に供給される。   Reference numeral 80 denotes an FPC (flexible printed circuit) as an interface means for connecting the connector A 73a of the relay substrate 72 and the glass substrate 2, and is directly connected to a circuit pattern (not shown) provided on the glass substrate 2 without using a connector or the like. ing. As already described, image data, light amount correction data, control signals such as clock signals and line synchronization signals, drive power for the control circuit, and drive power for the organic electroluminescent element 1 are supplied to the exposure apparatus 33 from the outside. Then, after passing through the relay substrate 72 shown in FIG. 4, it is supplied to the glass substrate 2 through the FPC 80.

実施例1では露光装置33の光源としての有機エレクトロルミネッセント素子1は、主走査方向に600dpiの解像度で5120個が列状に形成されており、個々の有機エレクトロルミネッセント素子1はそれぞれ独立に後述のTFT回路によって点灯/消灯を制御される。   In Example 1, 5120 organic electroluminescent elements 1 as a light source of the exposure apparatus 33 are formed in a row at a resolution of 600 dpi in the main scanning direction, and each of the organic electroluminescent elements 1 is respectively Lighting / extinguishing is controlled independently by a TFT circuit described later.

81は有機エレクトロルミネッセント素子1の駆動を制御するICチップとして供給されるソースドライバであり、ガラス基板2上にフリップチップ実装されている。ガラス面へ表面実装を行うことを考慮しソースドライバ81はベアチップ品を採用している。ソースドライバ81には露光装置33の外部からFPC80を介して、電源、クロック信号、ライン同期信号等の制御関連信号および光量補正データ(例えば8ビットの多値データ)が供給される。ソースドライバ81は有機エレクトロルミネッセント素子1に対する駆動パラメータ設定手段であり、より具体的にはFPC80を介して受け渡された光量補正データに基づき個々の有機エレクトロルミネッセント素子1の駆動電流値を設定するためのものである。   A source driver 81 is supplied as an IC chip for controlling the driving of the organic electroluminescent element 1 and is flip-chip mounted on the glass substrate 2. Considering that surface mounting is performed on the glass surface, the source driver 81 employs a bare chip product. The source driver 81 is supplied with control-related signals such as a power supply, a clock signal, and a line synchronization signal and light amount correction data (for example, 8-bit multi-value data) from the outside of the exposure apparatus 33 via the FPC 80. The source driver 81 is a drive parameter setting means for the organic electroluminescent element 1. More specifically, the source driver 81 is a drive current value of each organic electroluminescent element 1 based on the light amount correction data passed through the FPC 80. Is for setting.

ガラス基板2においてFPC80の接合部とソースドライバ81は、例えば表面にメタルを形成したITOの回路パターン(図示せず)を介して接続されており、駆動パラメータ設定手段たるソースドライバ81にはFPC80を介して光量補正データ、クロック信号、ライン同期信号等の制御信号が入力される。このようにインタフェース手段としてのFPC80および駆動パラメータ設定手段としてのソースドライバ81は駆動制御部78を構成している。   In the glass substrate 2, the joint portion of the FPC 80 and the source driver 81 are connected through, for example, an ITO circuit pattern (not shown) having a metal formed on the surface, and the FPC 80 is connected to the source driver 81 as drive parameter setting means. Control signals such as light quantity correction data, a clock signal, and a line synchronization signal are input via the control signal. Thus, the FPC 80 as the interface means and the source driver 81 as the drive parameter setting means constitute the drive control unit 78.

82はガラス基板2上に形成されたTFT(Thin Film Transistor)回路である。TFT回路82はシフトレジスタ、データラッチ部など、有機エレクトロルミネッセント素子1の点灯/消灯のタイミングを制御するゲートコントローラ、および個々の有機エレクトロルミネッセント素子1に駆動電流を供給する駆動回路(以降ピクセル回路と呼称する)とを含んでいる。ピクセル回路は各有機エレクトロルミネッセント素子1に対して1つずつ設けられ、有機エレクトロルミネッセント素子1が形成する発光素子列と並列に配置されている。駆動パラメータ設定手段であるソースドライバ81によって、個々の有機エレクトロルミネッセント素子1を駆動するための駆動電流値がピクセル回路に設定される。   Reference numeral 82 denotes a TFT (Thin Film Transistor) circuit formed on the glass substrate 2. The TFT circuit 82 includes a shift controller, a data latch unit, and the like, a gate controller that controls the timing of turning on / off the organic electroluminescent element 1, and a driving circuit that supplies a driving current to each organic electroluminescent element 1 ( Hereinafter referred to as a pixel circuit). One pixel circuit is provided for each organic electroluminescent element 1 and is arranged in parallel with a light emitting element array formed by the organic electroluminescent element 1. A drive current value for driving each organic electroluminescent element 1 is set in the pixel circuit by the source driver 81 which is a drive parameter setting means.

TFT回路82には露光装置33の外部からFPC80を介して、電源、クロック信号、ライン同期信号等の制御信号および画像データ(1ビットの2値データ)が供給され、TFT回路82はこれらの電源および信号に基づいて個々の有機エレクトロルミネッセント素子1の点灯/消灯タイミングを制御する。   The TFT circuit 82 is supplied with a control signal such as a power supply, a clock signal, and a line synchronization signal and image data (1-bit binary data) from the outside of the exposure apparatus 33 via the FPC 80. The TFT circuit 82 supplies these power supplies. And the lighting / extinguishing timing of each organic electroluminescent element 1 is controlled based on the signal.

84は封止ガラスである。有機エレクトロルミネッセント素子1は水分の影響を受けると発光領域が経時的に収縮(シュリンキング)したり、発光領域内の微小な非発光部位(ダークスポット)が拡大する等して発光特性が極端に劣化するため、水分を遮断するための封止が必要である。実施例1ではガラス基板2に接着剤を介して封止ガラス84を貼り付けるベタ封止法を採用しているが、封止領域における水分を吸着するため、封止ガラス84とガラス基板2の間に図示しない乾燥剤を配置してもよい。封止領域は一般に有機エレクトロルミネッセント素子1が構成する発光素子列から副走査方向に数mmから数cm必要とされており、実施例1では封止しろとして2000μmを確保している。   84 is sealing glass. When the organic electroluminescent device 1 is affected by moisture, the light emitting region shrinks (shrinking) with time, or a minute non-light emitting portion (dark spot) in the light emitting region expands. Since it deteriorates extremely, the sealing for interrupting | blocking a water | moisture content is required. In Example 1, the solid sealing method in which the sealing glass 84 is attached to the glass substrate 2 via an adhesive is employed. However, in order to adsorb moisture in the sealing region, the sealing glass 84 and the glass substrate 2 You may arrange | position the desiccant which is not illustrated in between. In general, the sealing region is required to be several mm to several cm in the sub-scanning direction from the light emitting element array formed by the organic electroluminescent element 1. In Example 1, 2000 μm is secured as a sealing margin.

77はアモルファスシリコンなどで構成される複数の光量センサをガラス基板2に沿って主走査方向に配置した光量センサユニットである。光量センサユニット77によって個々の有機エレクトロルミネッセント素子1の発光光量が計測される。光量センサユニット77の出力は図示しない配線によって一旦TFT回路82に取り込まれ図示しない信号処理手段によって増幅、アナログ−ディジタル変換などの信号処理を経た後、FPC80、中継基板72(図4参照)、ケーブル76(図4参照)を介して露光装置33の外部に出力される。   Reference numeral 77 denotes a light quantity sensor unit in which a plurality of light quantity sensors made of amorphous silicon or the like are arranged along the glass substrate 2 in the main scanning direction. The amount of light emitted from each organic electroluminescent element 1 is measured by the light amount sensor unit 77. The output of the light quantity sensor unit 77 is once taken into the TFT circuit 82 by a wiring (not shown) and subjected to signal processing such as amplification and analog-digital conversion by a signal processing means (not shown), and then FPC 80, relay board 72 (see FIG. 4), cable It is output to the outside of the exposure apparatus 33 via 76 (see FIG. 4).

この信号は画像形成装置の有するコントローラ(図示せず)にて受信、信号処理されて光量補正データ(例えば8ビット)が生成されるが、光量センサユニット77によって計測されるのは個々の有機エレクトロルミネッセント素子1のトータルの発光光量であって、発光領域の発光輝度分布ではない。従って光量補正データに基づく補正によって有機エレクトロルミネッセント素子1のトータルの発光光量は回復させることができるが、例えば経時劣化によって変化した発光領域における発光強度分布を回復させることは困難である。   This signal is received and signal-processed by a controller (not shown) of the image forming apparatus to generate light amount correction data (for example, 8 bits). The light amount sensor unit 77 measures each organic electrometer. This is the total amount of light emitted from the luminescent element 1, and not the light emission luminance distribution in the light emitting region. Therefore, although the total light emission amount of the organic electroluminescent element 1 can be recovered by correction based on the light amount correction data, it is difficult to recover the light emission intensity distribution in the light emission region that has changed due to deterioration over time, for example.

実施例1においては既に述べたように有機エレクトロルミネッセント素子1の発光強度分布は均一となっているため、有機エレクトロルミネッセント素子1の劣化は均一に発生し、劣化が生じた場合でも発光領域における発光輝度の分布は変化しない。   In Example 1, since the emission intensity distribution of the organic electroluminescent element 1 is uniform as already described, the deterioration of the organic electroluminescent element 1 occurs uniformly, and even when the deterioration occurs. The light emission luminance distribution in the light emitting region does not change.

このため実施例1の有機エレクトロルミネッセント素子1を用いた露光装置33は、上述したように光量センサユニット77によって個々の有機エレクトロルミネッセント素子1の発光光量を計測し、計測した発光光量に基づいて例えば有機エレクトロルミネッセント素子1を駆動する駆動電流を再設定するだけで、有機エレクトロルミネッセント素子1のトータルの発光光量と発光領域における発光輝度分布の双方を確実に回復させることができるという極めて顕著な効果を奏する。   For this reason, the exposure apparatus 33 using the organic electroluminescent element 1 of Example 1 measures the emitted light amount of each organic electroluminescent element 1 by the light amount sensor unit 77 as described above, and measures the emitted light amount. For example, by resetting the drive current for driving the organic electroluminescent element 1 based on the above, it is possible to reliably recover both the total light emission amount of the organic electroluminescent element 1 and the light emission luminance distribution in the light emission region. There is an extremely remarkable effect that can be done.

さて実施例1では駆動制御部78を構成するインタフェース手段たるFPC80、および駆動パラメータ設定手段たるソースドライバ81を、有機エレクトロルミネッセント素子1が形成する発光素子列の延長線上(EL_dir)の位置に設けるようにした。   In the first embodiment, the FPC 80 serving as the interface means that constitutes the drive control unit 78 and the source driver 81 serving as the drive parameter setting means are placed on the extension line (EL_dir) of the light emitting element array formed by the organic electroluminescent element 1. I made it.

このような配置とすると、ガラス基板2の長辺方向(主走査方向)の任意位置において、駆動制御部78は発光素子列とオーバーラップしない位置に配置されることとなる。同時にこの構成では、ガラス基板2の長辺方向(主走査方向)の任意位置において、駆動制御部78は発光素子列と並列に形成されたTFT回路82(ピクセル回路を含む)ともオーバーラップしない位置に配置されることとなる。このような配置によってガラス基板2のサイズを小さくすることが可能となる。   With such an arrangement, the drive control unit 78 is arranged at a position that does not overlap the light emitting element array at an arbitrary position in the long side direction (main scanning direction) of the glass substrate 2. At the same time, in this configuration, at any position in the long side direction (main scanning direction) of the glass substrate 2, the drive control unit 78 does not overlap with the TFT circuit 82 (including the pixel circuit) formed in parallel with the light emitting element array. Will be placed. With such an arrangement, the size of the glass substrate 2 can be reduced.

図6は本発明の実施例1の有機エレクトロルミネッセント素子1を応用した露光装置33によって感光体28を露光している状況を示す説明図である。   FIG. 6 is an explanatory view showing a situation in which the photosensitive member 28 is exposed by the exposure device 33 to which the organic electroluminescent element 1 of Example 1 of the present invention is applied.

図6において20は有機エレクトロルミネッセント素子1から照射された光の伝播経路である。有機エレクトロルミネッセント素子1はガラス基板2の面A(図4参照)に形成されており、ガラス基板2の下面が光取り出し面である。   In FIG. 6, reference numeral 20 denotes a propagation path of light emitted from the organic electroluminescent element 1. The organic electroluminescent element 1 is formed on the surface A (see FIG. 4) of the glass substrate 2, and the lower surface of the glass substrate 2 is a light extraction surface.

以降図6を用いて実施例1の露光装置33による潜像形成過程を詳細に説明する。   Hereinafter, the latent image forming process by the exposure apparatus 33 according to the first embodiment will be described in detail with reference to FIG.

なお図6では説明を簡単にするために、説明に必要な部分のみを抜粋して記載しており、ガラス基板2、レンズアレイ71等は図4に示す筐体A 74aに適切に支持されており、感光体28との位置関係も適切に保たれているものとして説明を行なう。   In FIG. 6, for simplification of explanation, only portions necessary for explanation are extracted and described, and the glass substrate 2, the lens array 71 and the like are appropriately supported by the casing A 74a shown in FIG. In the following description, it is assumed that the positional relationship with the photosensitive member 28 is also properly maintained.

また実施例1では感光体28上に正立等倍像を結像する光学系として、既に説明したレンズアレイ71を使用しているが、この光導系は有機エレクトロルミネッセント素子1からの出射光を適切に感光体28上に結像できるものであればどのようなものでもよく、たとえばマイクロレンズアレイや平面型の光学系を用いてもよく、また例えば100μm以下のガラス基板2に有機エレクトロルミネッセント素子1を形成し、いわゆるレンズレスの接触露光系を構成してもよい。   In the first embodiment, the lens array 71 described above is used as an optical system for forming an erecting equal-magnification image on the photoreceptor 28, but this optical system is output from the organic electroluminescent element 1. Any material can be used as long as the incident light can be appropriately imaged on the photosensitive member 28. For example, a microlens array or a planar optical system may be used. The luminescent element 1 may be formed to constitute a so-called lensless contact exposure system.

図6に図示されている有機エレクトロルミネッセント素子1は、ガラス基板2上に600dpiの解像度で5120個配置された有機エレクトロルミネッセント素子1のうちの一つである。実際の露光にあたってはこれら多数配置されている有機エレクトロルミネッセント素子1が既に図5を用いて説明したように連携して制御され二次元の印刷像を作成するものである。   The organic electroluminescent element 1 illustrated in FIG. 6 is one of the 5120 organic electroluminescent elements 1 arranged on the glass substrate 2 with a resolution of 600 dpi. In actual exposure, the organic electroluminescent elements 1 arranged in large numbers are controlled in cooperation as described with reference to FIG. 5 to create a two-dimensional printed image.

感光体28上に潜像を形成し、これを現像して顕画化されたトナー像を用紙上に転写し、次いで熱定着を行なういわゆる電子写真プロセスの全体については後に説明するものとし、ここでは有機エレクトロルミネッセント素子1からの光が感光体上28上に結像し、潜像と呼ばれる静電的な分布が形成された後、トナーが付着されるまでの過程についての説明を行なう。   The entire so-called electrophotographic process in which a latent image is formed on the photoreceptor 28, developed to transfer a toner image that has been visualized onto a sheet of paper, and then heat-fixed will be described later. Now, the process from when the light from the organic electroluminescent element 1 forms an image on the photosensitive member 28 and an electrostatic distribution called a latent image is formed until the toner is attached will be described. .

まず感光体28の表面をスコロトロンチャージャ、ローラ帯電器等の図示しない帯電手段を用いて帯電させる。次いで有機エレクトロルミネッセント素子1からの放射光をレンズアレイ71を用いて伝播させた後に感光体28の表面に結像させる。この際レンズアレイ71は正立等倍レンズであるので、有機エレクトロルミネッセント素子1からの放射光は伝播経路20を通って発光面形状、及び発光強度分布を保ったままで感光体28上に像を結ぶ。つまり図2を用いて説明したところの発光強度分布がそのまま感光体28上に反映されることになる。   First, the surface of the photosensitive member 28 is charged using a charging means (not shown) such as a scorotron charger or a roller charger. Next, the radiated light from the organic electroluminescent element 1 is propagated using the lens array 71 and then imaged on the surface of the photoreceptor 28. At this time, since the lens array 71 is an erecting equal-magnification lens, the radiated light from the organic electroluminescent element 1 passes through the propagation path 20 and remains on the photoconductor 28 while maintaining the light emitting surface shape and the light emission intensity distribution. Tie the statue. That is, the light emission intensity distribution described with reference to FIG. 2 is reflected on the photoconductor 28 as it is.

感光体28上で光を受けた領域はそこだけ電位を開放し、目視できない静電的な像、即ち潜像を形成する。これは感光体28が光導電性を持った材料で構成されているためである。光が照射されることによりその部分のみ導電性が上昇し、結果として光を受けた部分の電荷は感光体28の裏面に形成された導電部分を通過してアースへと開放されることになる。このとき感光体28上の表面電荷開放の度合いは、一定時間のもとでは照射される光の強度に依存し、強い光が当たったところほど表面電位はアースの電位に近づく。よって潜像は照射される光の強度分布、即ち有機エレクトロルミネッセント素子1の発光強度分布を反映した形となる。   The region receiving light on the photoconductor 28 releases the electric potential so as to form an invisible electrostatic image, that is, a latent image. This is because the photoreceptor 28 is made of a material having photoconductivity. When the light is irradiated, the conductivity of only that portion increases, and as a result, the charge of the portion receiving the light passes through the conductive portion formed on the back surface of the photoreceptor 28 and is released to the ground. . At this time, the degree of release of the surface charge on the photoconductor 28 depends on the intensity of the irradiated light under a certain time, and the surface potential approaches the ground potential as the strong light hits. Therefore, the latent image has a shape reflecting the intensity distribution of the irradiated light, that is, the emission intensity distribution of the organic electroluminescent element 1.

潜像の形成後、やはり図示しない現像手段によって感光体28の表面にトナーの付着がなされる。トナーはあらかじめ帯電されており、図示しない現像手段に所定のバイアス電位を印加することで感光体28の表面電位と静電的相互作用を行い、その表面電位に基づくクーロン力に応じて感光体28の潜像が形成された部分に付着する。このときもトナーの感光体28上への付着の度合いは潜像の状態に依存、即ち有機エレクトロルミネッセント素子1の発光強度分布に依存する。   After the latent image is formed, toner is adhered to the surface of the photoreceptor 28 by a developing means (not shown). The toner is charged in advance, and by applying a predetermined bias potential to a developing means (not shown), the toner interacts with the surface potential of the photoreceptor 28, and the photoreceptor 28 responds to the Coulomb force based on the surface potential. It adheres to the part where the latent image is formed. Also at this time, the degree of adhesion of the toner onto the photoreceptor 28 depends on the state of the latent image, that is, depends on the light emission intensity distribution of the organic electroluminescent element 1.

このように露光装置33の光源である有機エレクトロルミネッセント素子1の発光強度分布は最終的に感光体28上へのトナーの付着状態を左右し、これはそのまま印刷結果に反映されるのである。   As described above, the light emission intensity distribution of the organic electroluminescent element 1 which is the light source of the exposure device 33 finally determines the adhesion state of the toner on the photosensitive member 28, and this is directly reflected in the printing result. .

さて、このような動作を行なう露光装置33において、有機エレクトロルミネッセント素子1の発光強度分布が図2(a)及び同(b)に示すごときものであった場合の差異について、以下に図6に図2を併用して説明する。   Now, in the exposure apparatus 33 that performs such an operation, the difference in the case where the emission intensity distribution of the organic electroluminescent element 1 is as shown in FIGS. 2A and 2B will be described below. 6 will be described with reference to FIG.

図2(b)の発光強度分布の場合(即ち本発明の有機エレクトロルミネッセント素子の場合)、発光強度分布が強くかつ平坦であるので、感光体28上の潜像は十分に広い範囲で電位が低下する。しかしながら図2(a)の発光強度分布の場合(即ち従来技術に基づく有機エレクトロルミネッセント素子の場合)は潜像の中央部分は十分に電位の低下が見られるが、中央部から離れると急激に照射光が弱くなるために感光体28における電位の低下が不十分になる。   In the case of the emission intensity distribution of FIG. 2B (that is, in the case of the organic electroluminescent device of the present invention), the emission intensity distribution is strong and flat, so that the latent image on the photoreceptor 28 is in a sufficiently wide range. The potential drops. However, in the case of the emission intensity distribution shown in FIG. 2A (that is, in the case of an organic electroluminescent device based on the prior art), a potential drop is sufficiently observed in the central portion of the latent image, but suddenly moves away from the central portion. Further, since the irradiation light becomes weak, the potential of the photoreceptor 28 is not sufficiently lowered.

これらの潜像に対して図示しない現像手段によりトナー付着を行なうと、図2(b)のごとき発光強度分布を有する有機エレクトロルミネッセント素子1から得られた潜像では十分な量のトナーが付着するのに対して、図2(a)のごとき発光強度分布を有する有機エレクトロルミネッセント素子1から得られた潜像の場合には、感光体28上のトナー付着量が少なくなる。   When toner is attached to these latent images by developing means (not shown), a sufficient amount of toner is contained in the latent image obtained from the organic electroluminescent element 1 having a light emission intensity distribution as shown in FIG. In contrast, in the case of a latent image obtained from the organic electroluminescent element 1 having a light emission intensity distribution as shown in FIG. 2A, the toner adhesion amount on the photosensitive member 28 is reduced.

これを印刷結果で見た場合は、図2(b)の発光強度分布の場合ではいわゆるベタ黒が高濃度に再現されるのに対して、図2(a)の発光強度分布の場合では感光体28に付着するトナー量が不足するために黒くなりきれない。つまり、図2(a)からの印刷結果ではコントラスト比が小さな出力しか得ることができないということである。   When this is seen in the print result, in the case of the emission intensity distribution of FIG. 2B, so-called solid black is reproduced at a high density, whereas in the case of the emission intensity distribution of FIG. Since the amount of toner adhering to the body 28 is insufficient, it cannot be completely black. That is, only the output with a small contrast ratio can be obtained from the printing result from FIG.

さて本発明の実施例1における有機エレクトロルミネッセント素子1は、前述したように中間層を配置することで、湿式プロセスによって中間層上に作成される発光層の膜厚の均一化を実現している。つまり発光面周辺部分での膜厚が発光面中央部と同じであるために図2(b)の発光強度パターンを示す。これは即ち、本発明によるところの露光装置33を用いれば十分にコントラスト比のある鮮明な印刷出力を得ることができるということである。   Now, the organic electroluminescent element 1 in Example 1 of the present invention realizes the uniform thickness of the light emitting layer formed on the intermediate layer by the wet process by arranging the intermediate layer as described above. ing. That is, since the film thickness around the light emitting surface is the same as that at the center of the light emitting surface, the light emission intensity pattern of FIG. This means that a clear print output with a sufficient contrast ratio can be obtained by using the exposure apparatus 33 according to the present invention.

このように、湿式プロセスを用いて発光層を製膜する有機エレクトロルミネッセント素子1において、絶縁層と発光層の間に濡れ性を改善するための中間層を配置することで、後に続く湿式プロセスによる発光層の膜厚を均一にすることができ、結果として発光強度分布が発光面内において均一であるようなすぐれた有機エレクトロルミネッセント素子1を得ることができる。また、このような優れた発光強度分布特性を持つ有機エレクトロルミネッセント素子1を露光装置33に用いることで、潜像形成時の感光体28上の電位分布が改善され、コントラスト比の高い鮮明で正しい印刷出力をなす露光装置33を実現することができる。   Thus, in the organic electroluminescent element 1 which forms a light emitting layer using a wet process, the intermediate layer for improving the wettability is disposed between the insulating layer and the light emitting layer, so that the subsequent wet process is performed. The film thickness of the light emitting layer by the process can be made uniform, and as a result, an excellent organic electroluminescent device 1 in which the light emission intensity distribution is uniform in the light emitting surface can be obtained. Further, by using the organic electroluminescent element 1 having such excellent light emission intensity distribution characteristics for the exposure device 33, the potential distribution on the photoconductor 28 at the time of forming the latent image is improved, and the contrast ratio is high. Thus, it is possible to realize the exposure apparatus 33 that makes a correct print output.

更に既に説明したように中間層を構成する有機物層、発光層は簡便な湿式プロセスによって形成されることから、製造設備のコストを下げることができ、また製膜に要する時間も短くてよいことから、露光装置33を安価に提供できる。   Furthermore, as already described, since the organic layer and the light emitting layer constituting the intermediate layer are formed by a simple wet process, the cost of manufacturing equipment can be reduced, and the time required for film formation can be shortened. The exposure apparatus 33 can be provided at a low cost.

図7は本発明の実施例1の有機エレクトロルミネッセント素子1を応用した露光装置33を搭載した画像形成装置の構成図である。   FIG. 7 is a block diagram of an image forming apparatus equipped with an exposure device 33 to which the organic electroluminescent element 1 of Example 1 of the present invention is applied.

図7において、画像形成装置21は装置内にイエロー現像ステーション22Y、マゼンタ現像ステーション22M、シアン現像ステーション22C、ブラック現像ステーション22Kの4色分の現像ステーションを縦方向に階段状に配列し、その上方には記録紙23が収容される給紙トレイ24を配設すると共に、各現像ステーション22Y〜22Kに対応した箇所には給紙トレイ24から供給された記録紙23の搬送路となる記録紙搬送路25を上方から下方の縦方向に配置したものである。   In FIG. 7, an image forming apparatus 21 has four color developing stations, a yellow developing station 22Y, a magenta developing station 22M, a cyan developing station 22C, and a black developing station 22K, arranged in a stepwise manner in the vertical direction. Is provided with a paper feed tray 24 in which the recording paper 23 is accommodated, and a recording paper transport serving as a transport path for the recording paper 23 supplied from the paper feed tray 24 at locations corresponding to the developing stations 22Y to 22K. The path 25 is arranged in the vertical direction from the top to the bottom.

現像ステーション22Y〜22Kは、記録紙搬送路25の上流側から順に、イエロー、マゼンタ、シアン、ブラックのトナー像を形成するものであり、イエロー現像ステーション22Yは感光体28Y、マゼンタ現像ステーション22Mには感光体28M、シアン現像ステーション22Cには感光体28C、ブラック現像ステーション22Kには感光体28Kが含まれ、更に各現像ステーション22Y〜22Kには図示しない現像スリーブ、帯電器等、一連の電子写真方式における現像プロセスを実現する部材が含まれている。   The developing stations 22Y to 22K form yellow, magenta, cyan, and black toner images in order from the upstream side of the recording paper conveyance path 25. The yellow developing station 22Y includes a photoconductor 28Y and a magenta developing station 22M. The photosensitive member 28M and the cyan developing station 22C include the photosensitive member 28C, the black developing station 22K includes the photosensitive member 28K, and each developing station 22Y to 22K includes a series of electrophotographic systems such as a developing sleeve and a charger (not shown). The member which implement | achieves the image development process in is included.

更に各現像ステーション22Y〜22Kの下部には感光体28Y〜28Kの表面を露光して静電潜像を形成するための露光装置33Y、33M、33C、33Kが配置されている。   Further, exposure devices 33Y, 33M, 33C, and 33K for exposing the surfaces of the photoreceptors 28Y to 28K to form electrostatic latent images are disposed below the developing stations 22Y to 22K.

さて現像ステーション22Y〜22Kは充填された現像剤の色が異なっているが、構成は現像色に関わらず同一であるため、以降の説明を簡単にするため特に必要がある場合を除いて現像ステーション22、感光体28、露光装置33のごとく特定の色を明示せずに説明する。   The developing stations 22Y to 22K are different in the color of the filled developer, but the configuration is the same regardless of the developing color. Therefore, the developing stations are excluded unless particularly necessary to simplify the following description. 22, the photosensitive member 28, and the exposure device 33 will be described without specifying specific colors.

図8は本発明の実施例1の画像形成装置21における現像ステーション22の周辺を示す構成図である。図8において現像ステーション22の内部にはキャリアとトナーを混合物である現像剤26が充填されている。27a、27bは現像剤26を攪拌する攪拌パドルであり、攪拌パドル27aと27bの回転によって現像剤26中のトナーはキャリアとの摩擦によって所定の電位に帯電されると共に、現像ステーション22の内部を巡回することでトナーとキャリアが十分に攪拌混合される。感光体28は図示しない駆動源によって方向D3に回転する。29は帯電器であり感光体28の表面を所定の電位に帯電する。30は現像スリーブ、31は薄層化ブレードである。現像スリーブ30は内部に複数の磁極が形成されたマグロール32を有している。薄層化ブレード31によって現像スリーブ30の表面に供給される現像剤26の層厚が規制されると共に、現像スリーブ30は図示しない駆動源によって方向D4に回転し、この回転およびマグロール32の磁極の作用によって現像剤26は現像スリーブ30の表面に供給され、後述する露光装置によって感光体28に形成された静電潜像を現像するとともに、感光体28に転写されなかった現像剤26は現像ステーション22の内部に回収される。   FIG. 8 is a configuration diagram illustrating the periphery of the developing station 22 in the image forming apparatus 21 according to the first exemplary embodiment of the present invention. In FIG. 8, the developing station 22 is filled with a developer 26 which is a mixture of carrier and toner. Reference numerals 27a and 27b denote stirring paddles for stirring the developer 26. The toner in the developer 26 is charged to a predetermined potential by friction with the carrier by the rotation of the stirring paddles 27a and 27b, and the interior of the developing station 22 is also charged. By circulating, the toner and the carrier are sufficiently stirred and mixed. The photoreceptor 28 is rotated in the direction D3 by a driving source (not shown). A charger 29 charges the surface of the photoreceptor 28 to a predetermined potential. 30 is a developing sleeve, and 31 is a thinning blade. The developing sleeve 30 has a mag roll 32 having a plurality of magnetic poles formed therein. The layer thickness of the developer 26 supplied to the surface of the developing sleeve 30 is regulated by the thinning blade 31 and the developing sleeve 30 is rotated in a direction D4 by a driving source (not shown). The developer 26 is supplied to the surface of the developing sleeve 30 by the action, and an electrostatic latent image formed on the photoconductor 28 is developed by an exposure device to be described later, and the developer 26 that has not been transferred to the photoconductor 28 is developed in the developing station. 22 is collected inside.

33は既に説明した露光装置である。実施例1の露光装置33を応用した画像形成装置21は、既に述べたように実施例1の有機エレクトロルミネッセント素子1は個々の有機エレクトロルミネッセント素子1における発光強度分布が極めて均一であるから、実施例1の露光装置33は所望の形状の静電潜像を長期にわたって得られるため、これを搭載した画像形成装置21は常に高画質の画像を形成することができる。   Reference numeral 33 denotes the exposure apparatus already described. In the image forming apparatus 21 to which the exposure apparatus 33 according to the first embodiment is applied, as described above, the organic electroluminescent element 1 according to the first embodiment has a very uniform emission intensity distribution in each organic electroluminescent element 1. Therefore, since the exposure apparatus 33 of Example 1 can obtain an electrostatic latent image of a desired shape over a long period of time, the image forming apparatus 21 equipped with the exposure apparatus 33 can always form a high-quality image.

さて実施例1における露光装置33は有機エレクトロルミネッセント素子を600dpi(dot/inch)の解像度で直線状に配置したもので、帯電器29によって所定の電位に帯電した感光体28に対し、画像データに応じて選択的に有機エレクトロルミネッセント素子をON/OFFすることで、最大A4サイズの静電潜像を形成する。この静電潜像部分に現像スリーブ30の表面に供給された現像剤26のうちトナーのみが付着し、静電潜像が顕画化される。この顕画化の過程は図6を用いて既に詳細に説明したので、ここでは省略する。   The exposure apparatus 33 according to the first embodiment has organic electroluminescent elements arranged linearly with a resolution of 600 dpi (dot / inch). An electrostatic latent image of maximum A4 size is formed by selectively turning ON / OFF the organic electroluminescent element according to data. Only the toner of the developer 26 supplied to the surface of the developing sleeve 30 adheres to the electrostatic latent image portion, and the electrostatic latent image is visualized. This visualization process has already been described in detail with reference to FIG.

感光体28に対し記録紙搬送路25と対向する位置には転写ローラ36が設けられており、図示しない駆動源により方向D5に回転する。転写ローラ36には所定の転写バイアスが印加されており、感光体28上に形成されたトナー像を、記録紙搬送路25を搬送されてきた記録紙に転写する。   A transfer roller 36 is provided at a position facing the recording paper conveyance path 25 with respect to the photoreceptor 28, and is rotated in the direction D5 by a driving source (not shown). A predetermined transfer bias is applied to the transfer roller 36, and the toner image formed on the photoconductor 28 is transferred to the recording paper conveyed through the recording paper conveyance path 25.

以降図7に戻って説明を続ける。   Hereinafter, the description will be continued returning to FIG.

これまで説明してきたように、実施例1における画像形成装置21は複数の現像ステーション22Y〜22Kを縦方向に階段状に配列したタンデム型のカラー画像形成装置であり、カラーインクジェットプリンタと同等クラスのサイズを目指すものである。現像ステーション22Y〜22Kは複数のユニットが配置されるため、画像形成装置21の小型化を図るためには現像ステーション22Y〜22Kそのものの小型化と共に、現像ステーション22Y〜22Kの周辺に配置される作像プロセスに関与する部材を小さくし、現像ステーション22Y〜22Kの配置ピッチを極力小さくする必要がある。   As described above, the image forming apparatus 21 according to the first exemplary embodiment is a tandem type color image forming apparatus in which a plurality of developing stations 22Y to 22K are arranged in a stepwise manner in the vertical direction, and is equivalent to a color inkjet printer. It aims at size. Since a plurality of units are arranged in the developing stations 22Y to 22K, in order to reduce the size of the image forming apparatus 21, the developing stations 22Y to 22K themselves are reduced in size and are arranged around the developing stations 22Y to 22K. It is necessary to reduce the members involved in the image process and to reduce the arrangement pitch of the developing stations 22Y to 22K as much as possible.

オフィス等においてデスクトップに画像形成装置21を設置した際のユーザの使い勝手、特に給紙時や排紙時の記録紙23へのアクセス性を考慮すると、画像形成装置21の底面から給紙口65までの高さは250mm以下にすることが望ましい。これを実現するためには画像形成装置21の全体の構成の中で現像ステーション22Y〜22K全体の高さを100mm程度に抑える必要がある。   In consideration of user convenience when installing the image forming apparatus 21 on the desktop in an office or the like, in particular, accessibility to the recording paper 23 at the time of paper feeding or paper ejection, from the bottom surface of the image forming apparatus 21 to the paper feed port 65. The height is preferably 250 mm or less. In order to realize this, it is necessary to suppress the height of the entire developing stations 22Y to 22K to about 100 mm in the entire configuration of the image forming apparatus 21.

しかしながら既存の例えばLEDヘッドは厚みが15mm程度あり、これを現像ステーション22Y〜22K間に配置すると目標を達成することが困難である。本発明者等の検討結果によれば露光装置33の厚みを7mm以下とすると、現像ステーション22Y〜22K間の隙間に露光装置33Y〜33Kを配置しても現像ステーション全体の高さを100mm以下に抑えることが可能である。   However, the existing LED head, for example, has a thickness of about 15 mm, and if it is disposed between the developing stations 22Y to 22K, it is difficult to achieve the target. According to the examination results of the present inventors, when the thickness of the exposure device 33 is 7 mm or less, the height of the entire development station is 100 mm or less even if the exposure devices 33Y to 33K are arranged in the gaps between the development stations 22Y to 22K. It is possible to suppress.

37はトナーボトルであり、イエロー、マゼンタ、シアン、ブラックのトナーが格納されている。トナーボトル37から各現像ステーション22Y〜22Kには、図示しないトナー搬送用のパイプが配設され、各現像ステーション22Y〜22Kにトナーを供給している。   A toner bottle 37 stores yellow, magenta, cyan, and black toners. A toner transport pipe (not shown) is provided from the toner bottle 37 to each of the developing stations 22Y to 22K, and supplies toner to each of the developing stations 22Y to 22K.

38は給紙ローラであり、図示しない電磁クラッチを制御することで方向D1に回転し、給紙トレイ24に装填された記録紙23を記録紙搬送路25に送り出す。   A paper feed roller 38 is rotated in the direction D1 by controlling an electromagnetic clutch (not shown), and feeds the recording paper 23 loaded in the paper feeding tray 24 to the recording paper transport path 25.

給紙ローラ38と最上流のイエロー現像ステーション22Yの転写部位との間に位置する記録紙搬送路25には、入口側のニップ搬送手段としてレジストローラ39、ピンチローラ40対が設けられている。レジストローラ39、ピンチローラ40対は、給紙ローラ38により搬送された記録紙23を一時的に停止させ、所定のタイミングでイエロー現像ステーション22Yの方向に搬送する。この一時停止によって記録紙23の先端がレジストローラ39、ピンチローラ40対の軸方向と平行に規制され、記録紙23の斜行を防止する。   A registration paper 39 and a pair of pinch rollers 40 are provided as a nip conveyance means on the inlet side in the recording paper conveyance path 25 positioned between the paper supply roller 38 and the transfer portion of the most upstream yellow developing station 22Y. The registration roller 39 and the pinch roller 40 pair temporarily stop the recording paper 23 conveyed by the paper supply roller 38 and convey it in the direction of the yellow developing station 22Y at a predetermined timing. This temporary stop restricts the leading edge of the recording paper 23 in parallel with the axial direction of the registration roller 39 and pinch roller 40 pair, thereby preventing the recording paper 23 from skewing.

41は記録紙通過検出センサである。記録紙通過検出センサ41は反射型センサ(フォトリフレクタ)によって構成され、反射光の有無で記録紙23の先端および後端を検出する。   Reference numeral 41 denotes a recording paper passage detection sensor. The recording paper passage detection sensor 41 is constituted by a reflective sensor (photo reflector), and detects the leading edge and the trailing edge of the recording paper 23 based on the presence or absence of reflected light.

さてレジストローラ39の回転を開始すると(図示しない電磁クラッチによって動力伝達を制御し、回転ON/OFFを行う)記録紙23は記録紙搬送路25に沿ってイエロー現像ステーション22Yの方向に搬送されるが、レジストローラ39の回転開始のタイミングを起点として、各現像ステーション22Y〜22Kの近傍に配置された露光装置33Y〜33Kによる静電潜像の書き込みタイミングが独立して制御される。   When the rotation of the registration roller 39 is started (the power transmission is controlled by an electromagnetic clutch (not shown) and the rotation is turned ON / OFF), the recording paper 23 is conveyed along the recording paper conveyance path 25 in the direction of the yellow developing station 22Y. However, starting from the rotation start timing of the registration roller 39, the writing timing of the electrostatic latent images by the exposure devices 33Y to 33K disposed in the vicinity of the developing stations 22Y to 22K is independently controlled.

最下流のブラック現像ステーション22Kの更に下流側に位置する記録紙搬送路25には出口側のニップ搬送手段として定着器43が設けられている。定着器43は加熱ローラ44と加圧ローラ45から構成されている。加熱ローラ44は表面から近い順に、発熱ベルト、ゴムローラ、芯材(共に図示せず)から構成されている多層構造のローラである。このうち発熱ベルトは更に3層構造を有するベルトであり、表面に近い方から離型層、シリコンゴム層、基材層(共に図示せず)から構成される。離型層は厚み約20〜30μmのフッ素樹脂からなり、加熱ローラ44に離型性を付与する。シリコンゴム層は約170μmのシリコンゴムで構成され、加圧ローラ45に適度な弾性を与える。基材層は鉄・ニッケル・クロム等の合金である磁性材料によって構成されている。   A fixing device 43 is provided as a nip conveying means on the outlet side in the recording paper conveyance path 25 located further downstream of the most downstream black developing station 22K. The fixing device 43 includes a heating roller 44 and a pressure roller 45. The heating roller 44 is a multi-layered roller composed of a heating belt, a rubber roller, and a core material (both not shown) in order from the surface. Among them, the heat generating belt is a belt having a three-layer structure, and is composed of a release layer, a silicon rubber layer, and a base material layer (both not shown) from the side closer to the surface. The release layer is made of a fluororesin having a thickness of about 20 to 30 μm and imparts release properties to the heating roller 44. The silicon rubber layer is made of silicon rubber having a thickness of about 170 μm and gives the pressure roller 45 a suitable elasticity. The base material layer is made of a magnetic material that is an alloy of iron, nickel, chromium, or the like.

26は励磁コイルが内包された背面コアである。背面コア46の内部には表面が絶縁された銅製の線材(図示せず)を所定本数束ねた励磁コイルを加熱ローラ44の回転軸方向に延伸し、かつ加熱ローラ44の両端部において、加熱ローラ44の周方向に沿って周回して形成されている。励磁コイルに半共振型インバータである励磁回路(図示せず)から約30kHzの交流電流を印加すると、背面コア46と加熱ローラ44の基材層によって構成される磁路に磁束が生じる。この磁束によって加熱ローラ44の発熱ベルトの基材層に渦電流が形成され基材層が発熱する。基材層で生じた熱はシリコンゴム層を経て離型層まで伝達され、加熱ローラ44の表面が発熱する。   A back core 26 includes an exciting coil. Inside the back core 46, an excitation coil in which a predetermined number of copper wires (not shown) whose surfaces are insulated is bundled in the direction of the rotation axis of the heating roller 44, and at both ends of the heating roller 44, the heating roller It circulates along the circumferential direction of 44. When an alternating current of about 30 kHz is applied to the exciting coil from an exciting circuit (not shown) that is a semi-resonant inverter, a magnetic flux is generated in a magnetic path constituted by the back core 46 and the base layer of the heating roller 44. Due to this magnetic flux, an eddy current is formed in the base material layer of the heat generating belt of the heating roller 44 and the base material layer generates heat. The heat generated in the base material layer is transmitted to the release layer through the silicon rubber layer, and the surface of the heating roller 44 generates heat.

47は加熱ローラ44の温度を検出するための温度センサである。温度センサ47は金属酸化物を主原料とし、高温で焼結して得られるセラミック半導体であり、温度に応じて負荷抵抗が変化することを応用して接触した対象物の温度を計測することができる。温度センサ47の出力は図示しない制御装置に入力され、制御装置は温度センサ47の出力に基づいて背面コア46内部の励磁コイルに出力する電力を制御し、加熱ローラ44の表面温度が約170゜Cとなるように制御する。   Reference numeral 47 denotes a temperature sensor for detecting the temperature of the heating roller 44. The temperature sensor 47 is a ceramic semiconductor obtained by sintering at a high temperature using a metal oxide as a main raw material, and it is possible to measure the temperature of a contacted object by applying a change in load resistance according to the temperature. it can. The output of the temperature sensor 47 is input to a control device (not shown). The control device controls the power output to the exciting coil inside the back core 46 based on the output of the temperature sensor 47, and the surface temperature of the heating roller 44 is about 170 °. Control to be C.

この温度制御がなされた加熱ローラ44と加圧ローラ45によって形成されるニップ部に、トナー像が形成された記録紙23が通紙されると、記録紙23上のトナー像は加熱ローラ44と加圧ローラ45によって加熱および加圧され、トナー像が記録紙23上に定着される。   When the recording paper 23 on which the toner image is formed is passed through the nip formed by the heating roller 44 and the pressure roller 45 that are controlled in temperature, the toner image on the recording paper 23 is connected to the heating roller 44. The toner image is fixed on the recording paper 23 by being heated and pressurized by the pressure roller 45.

48は記録紙後端検出センサであり、記録紙23の排出状況を監視するものである。52はトナー像検出センサである。トナー像検出センサ52は発光スペクトルの異なる複数の発光素子(共に可視光)と単一の受光素子を用いた反射型センサユニットであり、記録紙23の地肌と画像形成部分とで、画像色に応じて吸収スペクトルが異なることを利用して画像濃度を検出するものである。またトナー像検出センサ52は画像濃度のみならず、画像形成位置も検出できるため、実施例1における画像形成装置21ではトナー像検出センサ52を画像形成装置21の幅方向に2ヶ所設け、記録紙23上に形成した画像位置ずれ量検出パターンの検出位置に基づき、画像形成タイミングを制御している。   A recording paper trailing edge detection sensor 48 monitors the discharge state of the recording paper 23. Reference numeral 52 denotes a toner image detection sensor. The toner image detection sensor 52 is a reflective sensor unit that uses a plurality of light emitting elements (both visible light) having different emission spectra and a single light receiving element, and changes the image color between the background of the recording paper 23 and the image forming portion. Accordingly, the image density is detected by utilizing the fact that the absorption spectrum is different. Further, since the toner image detection sensor 52 can detect not only the image density but also the image forming position, the image forming apparatus 21 according to the first exemplary embodiment is provided with two toner image detection sensors 52 in the width direction of the image forming apparatus 21, and recording paper. The image formation timing is controlled based on the detection position of the image position deviation amount detection pattern formed on the image 23.

53は記録紙搬送ドラムである。記録紙搬送ドラム53は表面を200μm程度の厚さのゴムで被覆した金属製ローラであり、定着後の記録紙23は記録紙搬送ドラム53に沿って方向D2に搬送される。このとき記録紙23は記録紙搬送ドラム53によって冷却されると共に、画像形成面と逆方向に曲げられて搬送される。これによって記録紙全面に高濃度の画像を形成した場合などに発生するカールを大幅に軽減することができる。その後、記録紙23は蹴り出しローラ55によって方向D6に搬送され、排紙トレイ59に排出される。   53 is a recording paper transport drum. The recording paper transport drum 53 is a metal roller whose surface is covered with rubber having a thickness of about 200 μm, and the recording paper 23 after fixing is transported along the recording paper transport drum 53 in the direction D2. At this time, the recording sheet 23 is cooled by the recording sheet conveying drum 53 and is bent and conveyed in the direction opposite to the image forming surface. As a result, curling that occurs when a high density image is formed on the entire surface of the recording paper can be greatly reduced. Thereafter, the recording paper 23 is conveyed in the direction D6 by the kicking roller 55 and discharged to the paper discharge tray 59.

54はフェイスダウン排紙部である。フェイスダウン排紙部54は支持部材56を中心に回動可能に構成され、フェイスダウン排紙部54を開放状態にすると、記録紙23は方向D7に排紙される。このフェイスダウン排紙部54は閉状態では記録紙搬送ドラム53と共に記録紙23の搬送をガイドするように、背面に搬送経路に沿ったリブ57が形成されている。   Reference numeral 54 denotes a face-down paper discharge unit. The face-down paper discharge unit 54 is configured to be rotatable about the support member 56. When the face-down paper discharge unit 54 is opened, the recording paper 23 is discharged in the direction D7. In the closed state, the face-down paper discharge unit 54 is formed with ribs 57 along the transport path on the back surface so as to guide the transport of the recording paper 23 together with the recording paper transport drum 53.

58は駆動源であり、実施例1ではステッピングモータを採用している。駆動源58によって、給紙ローラ38、レジストローラ39、ピンチローラ40、感光体(28Y〜28K)、および転写ローラ(36Y〜36K)を含む各現像ステーション22Y〜22Kの周辺部、定着器43、記録紙搬送ドラム53、蹴り出しローラ55の駆動を行っている。   Reference numeral 58 denotes a drive source. In the first embodiment, a stepping motor is employed. By the drive source 58, peripheral portions of the developing stations 22Y to 22K including the paper feed roller 38, the registration roller 39, the pinch roller 40, the photoconductors (28Y to 28K), and the transfer rollers (36Y to 36K), the fixing device 43, The recording paper transport drum 53 and the kicking roller 55 are driven.

61はコントローラであり、外部のネットワークを介して図示しないコンピュータ等からの画像データを受信し、プリント可能な画像データを展開、生成する。   A controller 61 receives image data from a computer (not shown) via an external network and develops and generates printable image data.

62はエンジン制御部である。エンジン制御部62は画像形成装置21のハードウェアやメカニズムを制御し、コントローラ61から転送された画像データに基づいて記録紙23にカラー画像を形成すると共に、画像形成装置21の制御全般を行っている。   Reference numeral 62 denotes an engine control unit. The engine control unit 62 controls the hardware and mechanism of the image forming apparatus 21, forms a color image on the recording paper 23 based on the image data transferred from the controller 61, and performs overall control of the image forming apparatus 21. Yes.

63は電源部である。電源部63は、露光装置33Y〜33K、駆動源58、コントローラ61、エンジン制御部62へ所定電圧の電力供給を行うと共に、定着器43の加熱ローラ44への電力供給を行っている。また感光体28の表面の帯電、現像スリーブ(図8における図番30を参照)に印加する現像バイアス、転写ローラ36に印加する転写バイアス等のいわゆる高圧電源系もこの電源部に含まれている。   63 is a power supply unit. The power supply unit 63 supplies power of a predetermined voltage to the exposure apparatuses 33Y to 33K, the drive source 58, the controller 61, and the engine control unit 62, and supplies power to the heating roller 44 of the fixing device 43. The power supply unit also includes a so-called high-voltage power supply system such as charging of the surface of the photosensitive member 28, a developing bias applied to the developing sleeve (see reference numeral 30 in FIG. 8), and a transfer bias applied to the transfer roller 36. .

また電源部63には電源監視部64が含まれ、少なくともエンジン制御部62に供給される電源電圧をモニタできるようになっている。このモニタ信号はエンジン制御部62おいて検出され、電源スイッチのオフや停電等の際に発生する電源電圧の低下を検出している。   The power supply unit 63 includes a power supply monitoring unit 64 so that at least the power supply voltage supplied to the engine control unit 62 can be monitored. This monitor signal is detected by the engine control unit 62 to detect a decrease in power supply voltage that occurs when the power switch is turned off or a power failure occurs.

以上の説明においては本発明をカラー画像形成装置に適用した場合について説明したが、たとえばブラックなど単色の画像形成装置に適用することもできる。また、カラー画像形成装置に適用した場合、現像色はイエロー、マゼンタ、シアンおよびブラックの4色に限定されるものではない。   In the above description, the case where the present invention is applied to a color image forming apparatus has been described. However, the present invention can also be applied to a single color image forming apparatus such as black. When applied to a color image forming apparatus, the development colors are not limited to four colors of yellow, magenta, cyan and black.

本発明にかかる有機エレクトロルミネッセント素子は、発光面内の発光強度分布が均一であるので、露光装置を始めとして、フラットパネルディスプレイや表示素子、その他光源などを含む広範な応用において有用である。また本発明にかかる有機エレクトロルミネッセント素子を応用した露光装置は発光面内の発光強度分布が均一であることから、画像データに対して忠実な露光が可能でありプリンタや複写機といった電子写真装置、あるいは印画紙を画像データに基づいて直接的に露光するフォトプリンタへの応用が可能である。   The organic electroluminescent device according to the present invention has a uniform light emission intensity distribution in the light emitting surface, and thus is useful in a wide range of applications including exposure apparatuses, flat panel displays, display devices, and other light sources. . The exposure apparatus using the organic electroluminescent device according to the present invention has a uniform light emission intensity distribution in the light emitting surface, so that exposure faithful to image data is possible, and electrophotography such as printers and copiers. The present invention can be applied to an apparatus or a photo printer that directly exposes photographic paper based on image data.

本発明の実施例1における有機エレクトロルミネッセント素子の構成図Configuration diagram of organic electroluminescent element in Example 1 of the present invention (a)は従来技術に基づく有機エレクトロルミネッセント素子の発光強度分布を示す説明図、(b)は本発明の実施例1における有機エレクトロルミネッセント素子の発光強度分布を示す説明図(A) is explanatory drawing which shows the light emission intensity distribution of the organic electroluminescent element based on a prior art, (b) is explanatory drawing which shows the light emission intensity distribution of the organic electroluminescent element in Example 1 of this invention. (a)は従来技術に基づくPEDOT素子の層構成の断面図、(b)は本発明に基づく中間層素子の層構成の断面図(A) is sectional drawing of the layer structure of the PEDOT element based on a prior art, (b) is sectional drawing of the layer structure of the intermediate | middle layer element based on this invention 本発明の実施例1における露光装置の構成図FIG. 1 is a block diagram of an exposure apparatus in Embodiment 1 of the present invention. (a)は本発明の実施例1の露光装置に係るガラス基板の上面図、(b)は同要部拡大図(A) is a top view of the glass substrate which concerns on the exposure apparatus of Example 1 of this invention, (b) is the principal part enlarged view. 本発明の実施例1の有機エレクトロルミネッセント素子を応用した露光装置によって感光体を露光している状況を示す説明図Explanatory drawing which shows the condition which has exposed the photoreceptor with the exposure apparatus which applied the organic electroluminescent element of Example 1 of this invention 本発明の実施例1の有機エレクトロルミネッセント素子を応用した露光装置33を搭載した画像形成装置の構成図1 is a configuration diagram of an image forming apparatus equipped with an exposure device 33 to which an organic electroluminescent element of Example 1 of the present invention is applied. 本発明の実施例1の画像形成装置における現像ステーションの周辺を示す構成図1 is a configuration diagram showing the periphery of a developing station in an image forming apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. 従来の高分子有機エレクトロルミネッセント素子の構造を示す断面図Sectional drawing which shows the structure of the conventional polymer organic electroluminescent element

符号の説明Explanation of symbols

1 有機エレクトロルミネッセント素子
2 ガラス基板
3 陽極
4 絶縁層
5 中間層
6 無機物層
7 有機物層
8 発光層
9 陰極
10 PEDOT層
11 有機エレクトロルミネッセント素子
12 ガラス基板
13 陽極
14 絶縁層
18 発光層
19 陰極
21 画像形成装置
22,22Y,22M,22C,22K 現像ステーション
28,28Y,28M,28C,28K 感光体
33,33Y,33M,33C,33K 露光装置
71 レンズアレイ
78 駆動制御部
81 ソースドライバ
82 TFT回路
84 封止ガラス
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Organic electroluminescent element 2 Glass substrate 3 Anode 4 Insulating layer 5 Intermediate layer 6 Inorganic layer 7 Organic layer 8 Light emitting layer 9 Cathode 10 PEDOT layer 11 Organic electroluminescent element 12 Glass substrate 13 Anode 14 Insulating layer 18 Light emitting layer 19 Cathode 21 Image forming device 22, 22Y, 22M, 22C, 22K Developing station 28, 28Y, 28M, 28C, 28K Photosensitive member 33, 33Y, 33M, 33C, 33K Exposure device 71 Lens array 78 Drive controller 81 Source driver 82 TFT circuit 84 Sealing glass

Claims (9)

基板と、この基板上に形成された第1の電極と、少なくとも第1の電極の一部を覆うように形成された絶縁層と、この絶縁層および前記第1の電極の上に形成された発光層と、この発光層と接して第1の電極と対向して配置された第2の電極とを備え、前記第1の電極と発光層の間および前記絶縁層と発光層の間に中間層が配置され、前記中間層を乾式プロセスを用いて形成された無機物層と湿式プロセスを用いて形成された有機物層によって構成したことを特徴とする有機エレクトロルミネッセント素子。 A substrate, a first electrode formed on the substrate, an insulating layer formed to cover at least a part of the first electrode, and formed on the insulating layer and the first electrode A light-emitting layer and a second electrode disposed in contact with the light-emitting layer and facing the first electrode; an intermediate between the first electrode and the light-emitting layer and between the insulating layer and the light-emitting layer; An organic electroluminescent device characterized in that a layer is disposed, and the intermediate layer is composed of an inorganic layer formed using a dry process and an organic layer formed using a wet process. 前記無機物層を前記第1の電極および前記絶縁層と接するように構成したことを特徴とする請求項1記載の有機エレクトロルミネッセント素子。 2. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the inorganic layer is configured to be in contact with the first electrode and the insulating layer. 前記無機物層を酸化物、窒化物、酸窒化物、複合酸化物のいずれかで構成したことを特徴とする請求項1記載の有機エレクトロルミネッセント素子。 2. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the inorganic layer is composed of any one of an oxide, a nitride, an oxynitride, and a composite oxide. 前記無機物層をモリブデン、タングステン、バナジウムのいずれかの酸化物で構成したことを特徴とする請求項1記載の有機エレクトロルミネッセント素子。 2. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the inorganic layer is made of an oxide of molybdenum, tungsten, or vanadium. 前記有機物層を前記発光層と接するように構成したことを特徴とする請求項1記載の有機エレクトロルミネッセント素子。 The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the organic material layer is configured to be in contact with the light emitting layer. 前記有機物層の膜厚をL1とし、前記発光層の膜厚をL2とするとき、L1を(L2/20)<L1<(L2/3)の関係を満たすように構成したことを特徴とする請求項1記載の有機エレクトロルミネッセント素子。 When the thickness of the organic layer is L1 and the thickness of the light emitting layer is L2, L1 is configured to satisfy the relationship of (L2 / 20) <L1 <(L2 / 3). The organic electroluminescent device according to claim 1. 前記発光層を高分子系材料を用い湿式プロセスによって形成したことを特徴とする請求項1記載の有機エレクトロルミネッセント素子。 2. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the light emitting layer is formed by a wet process using a polymer material. 請求項1〜請求項7いずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセント素子を列状に配置し、個々の有機エレクトロルミネッセント素子を独立して点灯/消灯制御可能に構成した露光装置。 An exposure apparatus in which the organic electroluminescent elements according to any one of claims 1 to 7 are arranged in a line, and each organic electroluminescent element can be controlled to be turned on / off independently. 少なくとも請求項8記載の露光装置と、前記露光装置によって静電潜像が形成される感光体と、前記感光体上に形成された静電潜像を顕画化する現像手段とを有する画像形成装置。 9. An image forming apparatus comprising: an exposure apparatus according to claim 8; a photoconductor on which an electrostatic latent image is formed by the exposure apparatus; and a developing unit that visualizes the electrostatic latent image formed on the photoconductor. apparatus.
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JP2012124176A (en) * 2012-02-22 2012-06-28 Sumitomo Chemical Co Ltd Manufacturing method of light-emitting element array

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