JP2007080770A - 有機エレクトロルミネッセンス素子、有機エレクトロルミネッセンス発光体及び液晶表示装置 - Google Patents

有機エレクトロルミネッセンス素子、有機エレクトロルミネッセンス発光体及び液晶表示装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 発光輝度が均一な有機EL素子を提供することにある。
【解決手段】 光学手段が設けられている有機エレクトロルミネッセンス素子において、透明電極層と金属電極層の間に電力を供給することにより発光する有機発光層の発光面に対応した透明電極層の外周部に接触して、透明電極層の電気抵抗よりも低い電気抵抗を有する金属層を設けてなる。
【選択図】 図3

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子、液晶表示素子及び有機EL発光装置に関する。
近年、有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子と呼ぶ。)からなる発光パネルが照明器具や電子情報機器における液晶表示画面のバックライトとして用いられている。図1に照明装置やバックライトに用いられる有機EL素子の断面の概略構成を示し、図2に上面から見た概略構成図を示す。図1において、透明基板1の上面には透明電極層(以下陽極という)2が形成されており、この陽極2の上面には発光する化合物を含有する有機EL層3が形成されている。さらにこの有機層3の上面には、金属電極層(以下陰極という)4が形成されている。陽極2と陰極4には、スイッチ7を介して、発光駆動電源6が接続されている。スイッチ7をオンすることにより有機層3に電子及び正孔が注入され、再結合することにより励起子(エキシトン)を生成する。このエキシトンが失活する際の光の放出(蛍光・燐光)を利用して発光エリアSを全面発光させ、照明器具やバックライトとして用いることができる。この時発光駆動電圧としては、数V〜数十V程度の電圧で発光が可能である。
上記のような有機EL素子の製造方法の一例としては、まず透明基板1上にスパッタリング法等によって透明電極として機能する透明導電膜であるITO膜を成膜後、パターニングして陽極2を形成する。その後、真空蒸着法等によって有機EL層3として機能する有機物質を単層、若しくは多層構造で成膜してゆき、最後に、真空蒸着法などによって金属を蒸着して陰極4を形成する。
このような有機EL素子は、光源として用いる場合、発光した光を発光面より効率よく取り出すことと発光面全域で均一な発光が得られることが重要である。
発光した光を効率よく取り出す方法として、透明基板自体に集光性を持たせたり、光拡散層を形成する方法が提案されている。特許文献1では、光の取り出し効率を上げる目的で、発光面の前面に光拡散板を取り付ける方法が提案されている。
また、このような有機EL素子を反射型の液晶表示素子のバックライトに用いる提案もされている。夜間などの周囲が暗い場合には、有機EL素子を発光させて照明を行い、昼間など周囲が十分に明るい場合には、有機EL素子を発光させずに、外光を取り入れて、有機EL素子の陰極を反射板として利用する方法である。しかし、通常、有機EL素子の陰極の表面は平滑であるため、入射する外光を鏡面のように反射し、外光の向きに応じて特定方向の反射光が強くなり、照明が不均一になるという問題が生じる。そこで、例えば特許文献2に示される液晶表示素子では、液晶パネルと有機EL素子との間に拡散板を設け、拡散板により有機EL素子からの光を均一にする方法が考えられている。
また、R、G,Bに発光する3種類の発光層を互いに区分して設けた有機EL素子をバックライトに用いた液晶表示装置が提案されている。この場合、R、G、B各色の発光輝度を均一にする必要があり、そのために液晶パネルと有機EL素子との間に拡散板を設ける方法が特許文献3で提案されている。
更に、有機EL素子からの光は、効率良く視野角内に集光させることも求められ、特許文献4では、有機EL素子の光出射側にプリズムシートを設ける方法が提案されている。
特開2004−33518号公報 特開平9−50031号公報 特開2000−241811号公報 特開2004−265850号公報
しかしながら、上述した特許文献1乃至4を用いた方法では、発光面の外周部周辺の輝度が低下し、均一な輝度が得られないという問題があった。
本発明は上記の事情に鑑みて成されたものであり、その目的は、発光面全領域での発光輝度が均一な有機EL素子及び有機EL発光体並びに有機EL素子又は有機EL発光体を備えた液晶表示装置を提供することにある。
発明者は、鋭意研究を重ねたところ、以下の記載の何れかの構成により、前記課題を解決することができた。
(1)
透明基板上に透明電極層と有機発光層と金属電極層とが順次積層形成され、前記透明基板の前記有機発光層が形成されている側とは反対側の面に光学手段が設けられている有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記透明電極層と前記金属電極層の間に電力を供給することにより発光する前記有機発光層の発光面に対応した前記透明電極層の外周部に接触して、前記透明電極層の電気抵抗よりも低い電気抵抗を有する金属層を設けてなることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
(2)
前記光学手段が、拡散板又はプリズムシートの何れか1つを含むことを特徴とする(1)に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
(3)
前記金属層は、前記発光面に対応した前記透明電極層の外周部全体の50%以上に設けられていることを特徴とする(1)又は(2)に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
(4)
前記透明電極層の電気抵抗が5Ω/□以上50Ω/□以下であることを特徴とする(1)乃至(3)の何れか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
(5)
前記透明基板の厚さが0.1mm以上1.0mm以下であることを特徴とする(1)乃至(4)の何れか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
(6)
液晶を2枚の透明電極層が形成された透明基板で挟持した液晶パネルと、前記液晶パネルの背後に、前記光学手段が設けられている側を前記液晶パネル側として配置された(1)乃至(5)のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えてなることを特徴とする液晶表示装置。
(7)
光取出側に配置した光学手段と共に用いる有機エレクトロルミネッセンス発光体において、前記有機エレクトロルミネッセンス発光体は、透明基板上に透明電極層と有機発光層と金属電極層とが順次積層形成されてなり、前記透明電極層と前記金属電極層の間に電力を供給することにより発光する前記有機発光層の発光面に対応した前記透明電極層の外周部に接触して、前記透明電極層の電気抵抗よりも低い電気抵抗を有する金属層を設けたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス発光体。
(8)
前記光学手段が、拡散板又はプリズムシートであることを特徴とする(7)に記載の有機エレクトロルミネッセンス発光体。
(9)
液晶を2枚の透明電極層が形成された透明基板で挟持した液晶パネルと、前記液晶パネルの背後に配置された光学手段と、前記拡散板側を光取出側として配置された(7)又は(8)に記載の有機エレクトロルミネッセンス発光体とを備えてなることを特徴とする液晶表示装置。
透明基板上に透明電極層と有機発光層と金属電極層とが順次積層形成され、前記透明基板の前記有機発光層が形成されている側とは反対側の面に光学手段が設けられている有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記透明電極層と前記金属電極層の間に電力を供給することにより発光する前記有機発光層の発光面に対応した前記透明電極層の外周部に接触して、前記透明電極層の電気抵抗よりも低い電気抵抗を有する金属層を設けることにより、発光面全領域での発光輝度が均一な有機エレクトロルミネッセンス素子及び本素子を備えた液晶表示装置を得ることができる。
また、光取出側に配置した光学手段と共に用いる有機エレクトロルミネッセンス発光体において、前記有機エレクトロルミネッセンス発光体は、透明基板上に透明電極層と有機発光層と金属電極層とが順次積層形成されてなり、前記透明電極層と前記金属電極層の間に電力を供給することにより発光する前記有機発光層の発光面に対応した前記透明電極層の外周部に接触して、前記透明電極層の電気抵抗よりも低い電気抵抗を有する金属層を設けることにより、発光面全領域での発光輝度が均一な有機エレクトロルミネッセンス発光体及び本素子を備えた液晶表示装置を得ることができる。
本発明に係る有機EL素子に関し、好適な実施の形態について、図を参照して以下に示す。
本発明に係る有機EL素子を用いたバックライトの概略断面図を図3に示す。
透明基板1の上面に透明な陽極2が形成されており、この陽極2の上面に有機EL層3を設け、透明基板1側に光を出射するボトムエミッション型の有機EL素子である。陽極2の上面には、正孔輸送層31が設けられている。さらにこの正孔輸送層31の上面に発光層30が設けられ、その上面に正孔阻止層32が設けられている。正孔阻止層32の上面に電子輸送層33が設けられ、さらに電子輸送層33の上面に陰極4が設けられている。透明電極1の光出射面側には、接着層10を介して、光学素子11が設けられ、有機EL素子を構成している。
この有機EL素子を接着剤52により、封止缶5で封止し、バックライトを構成している。封止缶5の内面には保水剤51を取り付けている。陽極2と陰極4には、制御用IC9を介して電源ユニット8に接続されている。
図4に透明基板1上に形成した陽極2と陽極2に電力を供給するための電極層20と陰極4のそれぞれの形状と概略配置図を示す。ここでは、電極部材の配置を説明するため、正孔輸送層31、発光層30、正孔阻止層32、電子輸送層33の4つの層については、図示していない。
電源ユニット8から供給される電力は、制御用IC9を介して、負極側は陰極4に接続され、正極側は、電極層20を介して陽極2に供給される。
一般に、電極層20を有していない有機EL素子の出射側に光学素子を取り付けた場合、光取りだし効率の向上や集光効果を得ることができるが、発光面の外周部においては、発光輝度が中央部より低下するという問題があった。図5にこの時の発光輝度分布を模式的に示す。
本発明人は、光学素子11を取り付けた場合の発光領域の外周部における発光輝度の低下を解消すべく検討した結果、電極層20を陽極2の外周部に設け、電極層20を介して陽極2に電力を供給することにより、発光領域全域で均一な輝度を得ることができることを見出した。
電極層20を陽極2の外周部に設け、有機EL素子の出射側に光学素子11を取り付けなかった場合、図6に示すように外周部の発光輝度が中央部に比べ高くなるという現象があった。これは陽極2の抵抗による電圧降下が生じ、中央部での発光効率が低下したためと考えられる。この現象を利用して、光学素子11を取り付けたときの発光領域の外周部における輝度低下をなくし、均一な輝度を得ることができた。
以下、実施形態の有機EL素子及び有機EL発光体の構成を具体的に説明する。
透明基板1としては、透明な材料であればよく、透明ガラスや透明プラスチックを用いることが出来る。例えばポリカーボネート(PC)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリアリレート(PAR)、ポリエチレンテレフタレート(PET)等の透明なプラスチック基板を使用することができるが、透明なプラスチックフィルムであれば、より好ましい。透明なプラスチックフィルムであれば、外力による変形や衝撃に強く、割れにくい。また、厚さは0.1mm以上1.0mm以下であればより好ましく、軽量であり、携帯性に富む。
透明電極である陽極2としては、例えば、Indium Tin Oxide(ITO:インジウム錫酸化物)、Indium Zinc Oxide(IZO:インジウム亜鉛酸化物)等の透明導電膜を用いることができる。このような材料を透明基板1上に、スパッタリング法によるマスク蒸着や全面蒸着又は塗布した後にフォトリソグラフィ法でパターニングしたり、またスクリーン印刷などで形成することができる。なお、陽極2の膜厚は、特に限定されないが、通常10nm〜2μm、好ましくは20nm〜1μmである。また、この陽極2の外周部は、電極層20と接しており、この電極層20を介して陽極2に電力供給している。この電極層20と陽極2の外周部は、陽極2の外周長の50%以上が接するようにするのが好ましい。
このように電極層20を設けることにより、光学素子11による発光領域外周部における輝度低下を改善することができ、均一な発光を得ることができる。
この電極層20の電気抵抗は、少なくとも陽極2よりも低抵抗な金属材料であれば良く、特に限定されないが、陰極4に用いる材料と同一であればより好ましい。電極層20の材料が陰極4と同一材料であれば、陰極4を形成するときに同時に電極層20を形成することができ、生産性に富む。
また、この時の陽極2の電気抵抗は5Ω/□以上50Ω/□以下であることが好ましい。陽極2の電気抵抗が5Ω/□未満の場合には、発光領域の中央部における電圧降下の程度が少なく、電極層20による発光領域の中央部と外周部の発光効率の差を作り出せないために光学素子11による輝度変化を補正できないためである。また、陽極2の電気抵抗が50Ω/□を越える場合には、発光領域の中央部における電圧降下が大きすぎ、全体としての発光効率が低下しすぎて十分な輝度が得られないという問題が生じる。
電極層20の材料は、アルミニウムであれば、導電率や扱いやすさの観点からよい。また、電極層20の厚みは、100nm以上が好ましく、より好ましくは200nm以上である。電極層20の厚みが100nm以下の場合は、低抵抗な材料を用いても電圧降下が大きくなり、全体的な輝度低下を生じる。電極層20の形成方法としては、次に示す正孔輸送層31、発光層30、正孔阻止層32、電子輸送層33の4つの層を形成した後、陰極4と同時に形成してもよい。形成方法としては、スパッタ法、抵抗加熱蒸着法、エレクトロンビーム蒸着法等がある。メタルマスクを使用することにより陰極4と分割して形成することができる。
正孔輸送層31は、正孔を陽極2から発光層30に輸送する機能を有する。正孔輸送層31における正孔輸送材料としては、一般に有機EL素子に用いられるものであれば用いることができるが、例えばトリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、芳香族第3級アミン化合物などを用いることができる。この正孔輸送材料を、例えば真空蒸着装法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、LB法等の公知の方法により、薄膜化することにより陽極2の上面に形成することができる。正孔輸送層31の膜厚としては、特に制限はないが、通常は5nm〜5000nm程度である。
発光層30は、少なくとも発光機能に関与する1種、または2種以上の有機化合物から成る。発光層30は、正孔及び電子の注入機能、それらの輸送機能、正孔と電子の再結合により励起子を生成させる機能を有する。発光層30の材料は、一般に有機EL素子で用いられている公知のものを使用することができる。例えば、キノリノラト錯体が知られている。具体的には、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム、ビス(8−キノリノラト)マグネシウム、ビス(ベンゾ{f}−8−キノリノラト)亜鉛、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)アルミニウムオキシド、トリス(8−キノリノラト)インジウム、トリス(5−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム、8−キノリノラトリチウム、トリス(5−クロロ−8−キノリノラト)ガリウム、ビス(5−クロロ−8−キノリノラト)カルシウム、5,7−ジクロル−8−キノリノラトアルミニウム、トリス(5,7−ジブロモ−8−ヒドロキシキノリノラト)アルミニウム、ポリ[亜鉛(II)−ビス(8−ヒドロキシ−5−キノリニル)メタン]等がある。発光層30の膜厚としては、特に制限はないが、通常は5nm〜5000nm程度である。
正孔阻止層32は、電子を輸送し、正孔を輸送する能力が著しく低い機能を有し、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。
正孔阻止層32としては、例えば特開平11−204258号公報、同11−204359号公報、及び「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日 エヌ・ティー・エス社発行)」の237頁等に記載の正孔阻止(ホールブロック)層等を本発明に係る正孔阻止層32として適用可能である。
電子輸送層33は、陰極4より注入された電子を発光層30に伝達する機能を有していれば良く、その電子輸送材料としては、一般に有機EL素子に用いられる公知の材料からに任意に選択することができる。例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレン、ペリレンなどの芳香族テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体などが挙げられる。さらに、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送材料として用いることができる。この電子輸送層33は、上記電子輸送材料を、例えば真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、LB法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。電子輸送層33の膜厚については特に制限はないが、通常は5〜5000nm程度である。
陰極4としては、通常の金属が使用できる。中でも導電率や扱いやすさの観点から、Al、Ag、In、Ti、Cu、Au、Mg、Mo、W、Ptから選択される1種以上の金属元素が好ましい。陰極4の形成方法は、スパッタ法、抵抗加熱蒸着法、エレクトロンビーム蒸着法等がある。メタルマスクを使用することにより分割された電極として、補助配線23を同時に形成することができる。陰極4の膜厚については特に制限はないが、通常は5〜500nm程度である。
次にガラス製の封止缶5に紫外線硬化型の接着剤52により紫外線ランプを照射することで接着封止し、有機EL発光体を作製した。
光学素子11としては、市販されている拡散板やプリズムシートを用いることができる。例えば光取りだし効率を上げるためには、ツジデン(株)製D121(透過率64.8%、ヘーズ値78.5%)やD123(透過率55%、ヘーズ値82.4%)を用いることができる。また、拡散板の代わりにマイクロレンズアレイとしてプリズムシートを用いることもできる。プリズムシートとしては、例えば住友スリーエム(株)製BEFII(頂角90度、ピッチ50μmの三角柱)を用いることができる。また、基板1の表面を粗面にしたものや、基板1の中に拡散用の粒子を混入させたものでも光取りだし効率を上げることができ、用いることができる。
また、基板1に拡散板を接着する接着層10としては、透明の接着剤であれば特に限定するものではないが、透明両面粘着シートを用いれば、簡便に拡散板を取り付けることができる。例えば、日東電工(株)製の透明両面粘着テープCS9621を用いることができる。
効率的な光取りだし構造として、具体的な光学素子11の取り付け形態を図7に示す。拡散板やマイクロレンズアレイを単独で用いても良いが、図7のように拡散板にプリズムシートを直交するように重ねた構成が、光取りだしこうりつが良く、好ましい。
以上のようにして、有機EL発光体に光学素子11を一体的に作製することにより有機EL素子を作製した。
なお、封止缶5は、大気に接触させないように窒素雰囲気下で接着するのが好ましい。これは空気中の水分などと発光層などの有機層が反応することによって劣化することを防止する理由による。また、封止缶5の内部には、補水剤51を入れておくことが好ましい。これは封止缶内に残存する微量な水分の影響を捕集して、有機層の劣化を防止する理由による。
次に本発明に係る有機EL素子又は有機EL発光体の駆動方法について述べる。
電源ユニット8は、有機EL素子又は発光体の駆動用の電位+V1と−V1とを出力している。この出力電圧を制御用IC9を用いて、陽極2と陰極4に印加している。このようにすることで、輝度ムラを低減し、目立たなくすることが出来るとともに、外形寸法を大きくすること無く、生産性にすぐれた有機EL素子又は有機EL発光体を提供できる。
また、本発明に係る有機EL素子と液晶パネルとを用いた液晶表示装置を図9に示す。ここでは、光学手段は、透明両面粘着テープにより接着されて、有機EL素子を形成しているが、有機EL発光体と光学手段と液晶パネルがそれぞれの部品でできていて、それらを一体的に押圧接触させたものや接着剤により貼り合わせたものでも良い。更に、光学手段が液晶パネルに一体的に取り付けられており、その液晶パネルと有機EL発光体を押圧接触又は接着剤により貼り合わせたものでも良い。
本液晶表示装置を用いて発光させたところ、輝度ムラのない、発光領域全域で均一な発光輝度を有する液晶表示素子を得ることができた。
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されない。
(実施例1)
図8に有機EL素子製造のフローを示す。基板1上に陽極2を形成し、その上に電極層20を形成する。次に正孔輸送層31、発光層30、正孔阻止層32、電子輸送層33の4つの層を形成した後、陰極4を形成した。以下により詳しく説明する。
陽極2として75mm×75mmのガラス上にITOを150nm成膜した基板(NHテクノグラス社製:NA−45)に一般的なフォトリソグラフィー法によって電極形状のパターニングを行った。図8に示す陽極形状のフォトマスクを用い、陽極2を形成した。この時の陽極2の抵抗は、三菱化学社製ロレスタを用いて測定し、20Ω/□であった。また、陽極2の形状は、35×46mmとした。
次にこの透明支持基板をiso−プロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。
その後、この透明支持基板を、市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、陽極2の上にステンレス鋼製のマスクを設置し、一方、モリブデン製抵抗加熱ボートに、アルミニウム3gを入れ真空蒸着装置に取付けた。次いで、真空槽を4×10-4Paまで減圧した後、アルミニウムの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、金属マスクを介して、蒸着速度1.5nm/秒〜2.0nm/秒で透明支持基板に幅1mm、膜厚100nmになるように蒸着し、電極層20を設けた。この時抵抗層20の形状は、陽極2の外周部3辺に接するようにし、電極層20の形成により、発光面積は34×45mmとした。
次に、真空槽をあけ、陽極2の上にステンレス鋼製のマスクを設置し、一方、5つのモリブデン製抵抗加熱ボートに、下記構造で示されるα−NPD、CBP、Ir−1、BCP、Alq3をそれぞれ入れ真空蒸着装置に取付けた。
Figure 2007080770
次いで、真空槽を4×10-4Paまで減圧した後、α−NPDの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒〜0.2nm/秒で透明支持基板に膜厚50nmの厚さになるように蒸着し、正孔輸送層を設けた。
さらに、CBPの入った前記加熱ボートとIr−1の入ったボートをそれぞれ独立に通電して発光材料であるCBPとIr−1の蒸着速度が100:7になるように調節し膜厚30nmの厚さになるように蒸着し、発光層を設けた。
ついで、BCPの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒〜0.2nm/秒で厚さ10nmの正孔阻止層を設けた。更に、Alq3の入った前記加熱ボートを通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒〜0.2nm/秒で膜厚40nmの電子輸送層を設けた。
次に、真空槽をあけ、電子輸送層の上にステンレス鋼製のマスクを設置し、一方、モリブデン製抵抗加熱ボートにアルミニウム3gを入れ、再び真空槽を2×10-4Paまで減圧した後、マグネシウム入りのボートに通電して蒸着速度1.5nm/秒〜2.0nm/秒でアルミニウムを蒸着し、陰極(厚さ200nm)を作製した。
更に、この有機EL素子を大気に接触させることなく窒素雰囲気下のグローブボックス(純度99.999%以上の高純度窒素ガスで置換したグローブボックス)へ移し、図3に示す概略模式図のような封止構造にした。次に日東電工(株)製透明両面粘着テープCS9621を用いて基板1の光出射側にツジデン(株)製拡散板D123を貼り付け、実施例1の有機EL素子を作製した。
尚、図3中、補水剤である酸化バリウム51は、アルドリッチ社製の高純度酸化バリウム粉末を、粘着剤付きのフッ素樹脂系半透過膜(ミクロテックス:S−NTF8031Q(日東電工製))でガラス製封止缶5に貼り付けたものを予め準備して使用した。封止缶と有機EL素子との接着には紫外線硬化型の接着剤52を用い、紫外線ランプを照射することで両者を接着し封止することで発光パネルを作製した。
このようにして作製した発光パネルに電流密度25A/m2の電流を流して発光させ、コニカミノルタセンシング社製の輝度計(CS1000A)を用いて、発光面内の輝度ムラを測定したところ、面内の輝度ムラ(もっとも暗い部分の輝度/もっとも明るい部分の輝度×100)は85%であった。また、面内の平均輝度は1200cdであった。この時、目視観察では、ほとんど輝度ムラは認められなかった。
(実施例2)
実施例1において、拡散板D123の上に更にプリズムシート(住友スリーエム(株)製BEFII)2枚を直交させて配置し、プリズムシート端部を拡散板に押圧することで取り付けた他は、実施例1と同様に作製し、評価した。この時面内の平均輝度は1500cdであり、面内の輝度ムラは90%であった。この時、目視観察では、ほとんど輝度ムラは認められなかった。
(実施例3)
実施例1において、拡散板D123の上に更にプリズムシート(住友スリーエム(株)製BEFII)2枚を直交させて日東電工(株)製透明両面粘着テープCS9621を用いて貼り付けた他は、実施例1と同様に作製し、評価した。この時面内の平均輝度は2000cdであり、面内の輝度ムラは90%であった。この時、目視観察では、ほとんど輝度ムラは認められなかった。
(比較例1)
実施例1において、拡散板D123を取り付けなかった他は、実施例1と同様に作製し、評価した。この時面内の平均輝度は800cdであり、面内の輝度ムラは80%であった。この時、目視観察では、ほとんど輝度ムラは認められなかったが、十分な輝度が得られず暗く感じた。
(比較例2)
実施例1において、電極層と拡散板を設けなかった他は、実施例1と同様に作製し、評価した。この時面内の平均輝度は800cdであり、面内の輝度ムラは50%であった。この時、目視観察では、輝度ムラが認められ、十分な輝度も得られず暗く感じた。
(比較例3)
実施例1において、電極層を設けなかった他は、実施例1と同様に作製し、評価した。この時面内の平均輝度は1200cdであり、面内の輝度ムラは45%であった。この時、目視観察では、輝度ムラが認められた。
(比較例4)
実施例2において、電極層を設けなかった他は、実施例2と同様に作製し、評価した。この時面内の平均輝度は1500cdであり、面内の輝度ムラは40%であった。この時、目視観察では、輝度ムラが認められた。
(比較例5)
実施例3において、電極層を設けなかった他は、実施例3と同様に作製し、評価した。この時面内の平均輝度は2000cdであり、面内の輝度ムラは35%であった。この時、目視観察では、輝度ムラが認められた。
(実施例4〜7)
実施例1において、電極層の陽極外周全体に対する割合を変化させた他は、実施例1と同様に作製し、評価した。陽極の外周4辺全体に電極層を接するようにしたものを100%とし、電極層の一端を徐々に短くすることにより、40%までのものを作製した。この時作製した試料(実施例4〜7)の陽極外周に対する割合と評価結果を表1に示す。
Figure 2007080770
表1より、電極層の陽極外周に対する割合は50%以上がより好ましいことが分かる。
(実施例8〜12)
実施例1において、ITOの膜厚を調整した他は、実施例1と同様に作製し、評価した。この時作製した試料(実施例8〜12)の陽極の抵抗値と評価結果を表2に示す。
Figure 2007080770
表2より、陽極の抵抗値は、5Ω/□以上50Ω/□以下であることが好ましいことが分かる。
(実施例13〜17)
実施例1において、基板の厚さを調整した他は、実施例1と同様に作製し、評価した。この時作製した試料(実施例13〜17)の基板の厚さと評価結果を表3に示す。
Figure 2007080770
表3より、基板の厚さは、0.1mm以上1.0mm以下がより好ましいことが分かる。
照明装置やバックライトに用いられる有機EL素子の概略構成図である。 有機EL素子を上面から見た概略構成図である。 本発明に係る有機EL素子の断面図を模式的に示した図である。 本発明に係る有機EL素子の陽極と陽極に電力を供給するための電極層と陰極とを模式的に示した図である。 従来の有機EL素子において、光学素子を取り付けた場合の発光輝度分布を示す概略図である。 従来の有機EL素子において、電極層を有する場合の発光輝度分布を示す概略図である。 本発明に係る有機EL素子の断面図を模式的に示した図である。 本発明に係る有機EL素子の製造フローを模式的に示した図である。 本発明に係る液晶表示装置の断面図を模式的に示した図である。
符号の説明
1 透明基板
2 陽極
20 電極層
3 有機層
30 発光層
31 正孔輸送層
32 正孔阻止層
33 電子輸送層
4 陰極
5 封止缶
51 補水剤
52 接着剤
6 発光駆動電源
7 スイッチ
8 電源ユニット
9 制御用IC
10 接着層

Claims (9)

  1. 透明基板上に透明電極層と有機発光層と金属電極層とが順次積層形成され、前記透明基板の前記有機発光層が形成されている側とは反対側の面に光学手段が設けられている有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    前記透明電極層と前記金属電極層の間に電力を供給することにより発光する前記有機発光層の発光面に対応した前記透明電極層の外周部に接触して、前記透明電極層の電気抵抗よりも低い電気抵抗を有する金属層を設けてなることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
  2. 前記光学手段が、拡散板又はプリズムシートの何れか1つを含むことを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  3. 前記金属層は、前記発光面に対応した前記透明電極層の外周部全体の50%以上に設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  4. 前記透明電極層の電気抵抗が5Ω/□以上50Ω/□以下であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  5. 前記透明基板の厚さが0.1mm以上1.0mm以下であることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  6. 液晶を2枚の透明電極層が形成された透明基板で挟持した液晶パネルと、
    前記液晶パネルの背後に、前記光学手段が設けられている側を前記液晶パネル側として配置された請求項1乃至5のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えてなることを特徴とする液晶表示装置。
  7. 光取出側に配置した光学手段と共に用いる有機エレクトロルミネッセンス発光体において、
    前記有機エレクトロルミネッセンス発光体は、透明基板上に透明電極層と有機発光層と金属電極層とが順次積層形成されてなり、
    前記透明電極層と前記金属電極層の間に電力を供給することにより発光する前記有機発光層の発光面に対応した前記透明電極層の外周部に接触して、前記透明電極層の電気抵抗よりも低い電気抵抗を有する金属層を設けたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス発光体。
  8. 前記光学手段が、拡散板又はプリズムシートであることを特徴とする請求項7に記載の有機エレクトロルミネッセンス発光体。
  9. 液晶を2枚の透明電極層が形成された透明基板で挟持した液晶パネルと、
    前記液晶パネルの背後に配置された光学手段と、
    前記拡散板側を光取出側として配置された請求項7又は8に記載の有機エレクトロルミネッセンス発光体とを備えてなることを特徴とする液晶表示装置。
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