JP2007069420A - Method of manufacturing film, and the film - Google Patents

Method of manufacturing film, and the film Download PDF

Info

Publication number
JP2007069420A
JP2007069420A JP2005257653A JP2005257653A JP2007069420A JP 2007069420 A JP2007069420 A JP 2007069420A JP 2005257653 A JP2005257653 A JP 2005257653A JP 2005257653 A JP2005257653 A JP 2005257653A JP 2007069420 A JP2007069420 A JP 2007069420A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
dope
present
ring
polymer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005257653A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiya Sakurai
靖也 桜井
Hirohisa Sotozono
裕久 外園
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2005257653A priority Critical patent/JP2007069420A/en
Publication of JP2007069420A publication Critical patent/JP2007069420A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a film which is superior in transparency, heat resistance, and flatness and reduced in defect, and efficient in productivity, and provide the film manufactured by the method. <P>SOLUTION: In the method of manufacturing the film, dope prepared by dissolving a polymer in an organic solvent is poured on a support and dried to produce the film with a glass transition temperature of at least 250°C and a total light transmittance of at least 70%. The adjusted dope is evacuated/deaerated before being poured. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は耐熱性、透明性、平面性、寸度安定性に優れたフィルムを高い生産性で製造することのできるフィルムの製造方法および該製造方法によって製造されたフィルムに関する。   The present invention relates to a film production method capable of producing a film excellent in heat resistance, transparency, flatness and dimensional stability with high productivity, and a film produced by the production method.

有機ポリマーよりなるフィルムは一般にその熱変形温度や融点以上の温度をかけることにより溶融状態とし、それを口金から溶融膜として吐出してフィルムを成形する。これに対し、熱変形温度や融点と分解温度の近い、または熱変形温度や融点が分解温度より高いポリマーは、溶融と同時に分解が発生するため、適当な溶剤にポリマーを溶かし、そうして得られた溶液を支持体上にキャストし、その後溶剤を除去する溶液製膜法によってフィルムに成形される。このようなポリマーとしては例えば、セルローストリアセテートあるいは芳香族ポリアミド、芳香族ポリイミドなどが挙げられる。溶液製膜法により得られるフィルムは、溶融製膜により得られるフィルムに較べ、溶剤の除去に時間がかかるなど生産性上不利になる場合があるが、表面平滑性等のフィルム特性が優れる場合が多く、使用される用途によっては溶液製膜法により得られるフィルムが好ましく用いられる。しかし、その一方で優れたフィルム特性を維持したまま生産性を向上させることが溶液製膜法に求められるようになっている。   A film made of an organic polymer is generally made into a molten state by applying a temperature equal to or higher than its thermal deformation temperature or melting point, and is discharged from the die as a molten film to form a film. In contrast, a polymer having a heat distortion temperature or melting point close to the decomposition temperature or a heat deformation temperature or melting point higher than the decomposition temperature is decomposed simultaneously with melting. The resulting solution is cast on a support and then formed into a film by a solution casting method in which the solvent is removed. Examples of such a polymer include cellulose triacetate, aromatic polyamide, and aromatic polyimide. Films obtained by the solution casting method may be disadvantageous in terms of productivity, such as it takes time to remove the solvent, compared to films obtained by melt casting, but film properties such as surface smoothness may be excellent. In many cases, a film obtained by a solution casting method is preferably used depending on the intended use. However, on the other hand, solution casting methods are required to improve productivity while maintaining excellent film characteristics.

近年、液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス素子(以下「有機EL素子」という。)等のフラットパネルディスプレイ分野において、耐破損性の向上、軽量化、薄型化の要望から、基板をガラスからプラスチックに置き換えることが検討されている。特に、携帯電話や、電子手帳、ラップトップ型パソコンなど携帯情報端末などの移動型情報通信機器用表示装置の分野では、プラスチック基板に対する強い要望がある。   In recent years, in the field of flat panel displays such as liquid crystal display elements and organic electroluminescence elements (hereinafter referred to as “organic EL elements”), the substrate is replaced from glass to plastic in order to improve breakage resistance, reduce weight, and reduce thickness. It is being considered. In particular, there is a strong demand for plastic substrates in the field of mobile information communication device display devices such as mobile phones, electronic notebooks, laptop computers, and other portable information terminals.

上記プラスチック基板は導電性を付与するために、酸化インジウム、酸化スズ、またはスズ−インジウム合金の酸化物等の半導体膜、金、銀、パラジウム合金の酸化膜等の金属膜、または前記半導体膜と前記金属膜とを組み合わせた透明導電層をプラスチック基板上に形成する検討がなされている。また、液晶配向層やTFT設置など各種機能化が検討されているが、いずれの場合も高い耐熱性と透明性とがプラスチック基板には求められている。また、各種機能層の特性維持のため、基板として用いるフィルムは、気泡、ゴミなどの欠陥がないこと、平滑性に優れることなどが求められている。   In order to impart conductivity to the plastic substrate, a semiconductor film such as an oxide of indium oxide, tin oxide, or tin-indium alloy, a metal film such as an oxide film of gold, silver, or palladium alloy, or the semiconductor film Studies have been made to form a transparent conductive layer combined with the metal film on a plastic substrate. In addition, various functionalizations such as liquid crystal alignment layers and TFTs have been studied. In any case, high heat resistance and transparency are required for plastic substrates. Moreover, in order to maintain the characteristics of various functional layers, a film used as a substrate is required to be free from defects such as bubbles and dust and to be excellent in smoothness.

特許文献1および2には、脂環構造を有するポリイミドを用いた透明導電性フィルム、薄膜トランジスタ基板に関する記載がある。該ポリイミドは、透明性に優れ、ガラス転移温度が250℃以上と高い耐熱性を示す。また、一般的な全芳香族ポリイミドに対して有機溶剤に対する溶解性に優れ、溶液製膜に適している。   Patent Documents 1 and 2 describe a transparent conductive film using a polyimide having an alicyclic structure and a thin film transistor substrate. The polyimide is excellent in transparency and exhibits high heat resistance with a glass transition temperature of 250 ° C. or higher. Moreover, it is excellent in the solubility with respect to the organic solvent with respect to a general wholly aromatic polyimide, and is suitable for solution film forming.

特許文献3には、6,6’−ジヒドロキシ−4,4,4’,4’,7,7’−ヘキサメチルー2,2’−スピロビクロマン(以下、「スピロビクロマンジオール」とも称する。)とイソフタル酸およびテレフタル酸とから誘導されるポリエステルフィルムに関する記載がある。該ポリエステルは、透明性に優れ、柔軟性に富んだ優れた力学特性を有するフィルムを与え、ガラス転移温度が250℃以上と高い耐熱性を示す。また、ジクロロメタンなど低沸点溶剤に対する溶解性にも優れ、溶液製膜に適している。   Patent Document 3 discloses 6,6′-dihydroxy-4,4,4 ′, 4 ′, 7,7′-hexamethyl-2,2′-spirobichroman (hereinafter also referred to as “spirobichromandiol”). And polyester films derived from isophthalic acid and terephthalic acid. The polyester provides a film having excellent mechanical properties with excellent transparency and flexibility, and exhibits high heat resistance with a glass transition temperature of 250 ° C. or higher. Moreover, it is excellent in solubility in low boiling point solvents such as dichloromethane, and is suitable for solution film formation.

特許文献4には、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン(以下、「ビスフェノールフルオレン」とも称する。)とイソフタル酸およびテレフタル酸とから誘導されるポリエステルフィルムに関する記載がある。また、特許文献5には、アルキル置換されたビスフェノールフルオレンとイソフタル酸およびテレフタル酸とから誘導されるポリエステルフィルムに関する記載がある。更に、特許文献6には、フェノールのオルト位をハロゲン等で置換したビスフェノールフルオレンから誘導されるポリエステルフィルムの記載がある。
これらの置換または無置換のビスフェノールフルオレンとイソフタル酸およびテレフタル酸とから誘導されるポリエステルは、いずれもガラス転移温度(Tg)が300℃付近若しくはそれ以上であり、透明性や破断伸びに優れた柔軟なフィルムを作製することができる。また、ジクロロメタンなど低沸点溶剤に対する溶解性にも優れ、溶液製膜に適している。
Patent Document 4 describes a polyester film derived from 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene (hereinafter also referred to as “bisphenolfluorene”), isophthalic acid and terephthalic acid. Patent Document 5 describes a polyester film derived from alkyl-substituted bisphenolfluorene, isophthalic acid and terephthalic acid. Furthermore, Patent Document 6 describes a polyester film derived from bisphenolfluorene in which the ortho position of phenol is substituted with halogen or the like.
Polyesters derived from these substituted or unsubstituted bisphenolfluorenes and isophthalic acid and terephthalic acid all have a glass transition temperature (Tg) of about 300 ° C. or higher, and have excellent transparency and elongation at break. Film can be produced. Moreover, it is excellent in solubility in low boiling point solvents such as dichloromethane, and is suitable for solution film formation.

上記のように透明性や耐熱性に優れるポリマーを用いたフィルムをプラスチック基板として用いる検討が多数行われている。しかしながら、一方で透明性や耐熱性に優れたポリマーは溶液製膜により製膜することができるが、フィルム欠陥が少なく、平面性に優れたフィルムを溶液製膜により生産性良く製造する方法については知られていない。   Many studies have been made on the use of a film using a polymer having excellent transparency and heat resistance as a plastic substrate as described above. However, on the other hand, a polymer having excellent transparency and heat resistance can be formed by solution casting, but there are few film defects and a method for producing a film having excellent flatness by solution casting with high productivity. unknown.

特許文献7など多数の文献に、セルローストリアセテートの溶液製膜方法についての記載がある。セルローストリアセテートはジクロロメタンなど低沸点溶剤を用いて高速で製膜が可能であり、溶液製膜であっても生産性に優れることが知られている。
しかし、本発明者が、セルローストリアセテートと同様の方法を上述のような透明性、耐熱性に優れるフィルムに適用した結果、フィルム欠陥が少なく、平面性に優れたフィルムを生産性良く製造することが難しいことが明らかとなった。
特開2003−141936号公報(特許請求の範囲) 特開2003−168800号公報(特許請求の範囲) 特開平11−302364号公報(特許請求の範囲) 特開平3−28222号公報(特許請求の範囲) 国際公開WO99/18141号公報(クレーム) 特開2002−145998号公報(特許請求の範囲) 特開2002−103360号公報(特許請求の範囲)
Many documents such as Patent Document 7 describe a solution film-forming method of cellulose triacetate. Cellulose triacetate can be formed at high speed using a low-boiling solvent such as dichloromethane, and it is known that it is excellent in productivity even in the case of solution film formation.
However, as a result of applying the same method as cellulose triacetate to a film having excellent transparency and heat resistance as described above, the present inventors can produce a film having few film defects and excellent flatness with high productivity. It became clear that it was difficult.
JP 2003-141936 A (Claims) JP 2003-168800 A (Claims) Japanese Patent Laid-Open No. 11-302364 (Claims) JP-A-3-28222 (Claims) International Publication No. WO99 / 18141 (claim) JP 2002-145998 A (Claims) JP 2002-103360 A (Claims)

本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、本発明の目的は、透明性、耐熱性に優れ、かつフィルム欠陥が少なく、平面性に優れたフィルムを生産性良く製造できるフィルムの製造方法、並びに、該フィルムの製造方法によって製造されたフィルムを提供することにある。   The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and the object of the present invention is to provide a film that is excellent in transparency and heat resistance, has few film defects, and has excellent flatness with high productivity. It is in providing the film manufactured by the manufacturing method and the manufacturing method of this film.

本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、透明性、耐熱性に優れ、かつフィルム欠陥が少なく、平面性に優れたフィルムを溶液製膜によって生産性良く製造できる製造方法を見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の上記課題は以下の手段によって達成される。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has developed a production method capable of producing a film having excellent transparency, heat resistance, few film defects, and excellent flatness by solution casting. The headline and the present invention were completed.
That is, the said subject of this invention is achieved by the following means.

(1)ポリマーを有機溶剤に溶解させたドープを支持体上に流延し乾燥させて、ガラス転移温度が250℃以上かつ全光線透過率が70%以上のフィルムを形成するフィルムの製造方法であって、
調製後の前記ドープを流延前に減圧脱気することを特徴とするフィルムの製造方法。
(1) A film manufacturing method in which a dope in which a polymer is dissolved in an organic solvent is cast on a support and dried to form a film having a glass transition temperature of 250 ° C. or higher and a total light transmittance of 70% or higher. There,
A method for producing a film, wherein the prepared dope is degassed under reduced pressure before casting.

(2)流延前の前記ドープに超音波処理を行うことを特徴とする(1)に記載のフィルムの製造方法。   (2) The method for producing a film according to (1), wherein the dope before casting is subjected to ultrasonic treatment.

(3)流延前の前記ドープを、濾過助剤を用いて濾過することを特徴とする(1)または(2)に記載のフィルムの製造方法。   (3) The method for producing a film according to (1) or (2), wherein the dope before casting is filtered using a filter aid.

(4)乾燥後のフィルムに2段階の加熱処理を行うことを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載のフィルムの製造方法。   (4) The method for producing a film according to any one of (1) to (3), wherein the dried film is subjected to two-stage heat treatment.

(5)前記ポリマーが下記一般式(1)で表されるスピロ構造または下記一般式(2)で表されるカルド構造を含む繰り返し単位を有することを特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記載のフィルムの製造方法。

Figure 2007069420
〔一般式(1)中、環αは単環式または多環式の環を表し、2つの環はスピロ結合によって結合される。〕
Figure 2007069420
〔一般式(2)中、環βおよび環γは単環式または多環式の環を表し、2つの環γはそれぞれ同一若しくは異なっていてもよい。また、環βおよび環γは、環β上の1つの4級炭素原子によって連結される。〕 (5) The polymer has a repeating unit containing a spiro structure represented by the following general formula (1) or a cardo structure represented by the following general formula (2): (1) to (4) The manufacturing method of the film in any one.
Figure 2007069420
[In general formula (1), ring α represents a monocyclic or polycyclic ring, and the two rings are connected by a spiro bond. ]
Figure 2007069420
[In general formula (2), ring β and ring γ represent a monocyclic or polycyclic ring, and the two rings γ may be the same or different. Ring β and ring γ are connected by one quaternary carbon atom on ring β. ]

(6)(1)〜(5)のいずれかに記載のフィルムの製造方法によって製造されるフィルム。
(7)1m2当たりの気泡の数が10個以下であることを特徴とする(6)に記載のフィルム。
(6) A film produced by the method for producing a film according to any one of (1) to (5).
(7) The film according to (6), wherein the number of bubbles per 1 m 2 is 10 or less.

(8)70mm2当たりの5μm以上の異物の数が60個以下であることを特徴とする(6)または(7)に記載のフィルム。 (8) The film according to (6) or (7), wherein the number of foreign matters of 5 μm or more per 70 mm 2 is 60 or less.

(9)200℃で5時間保持した場合の寸法変化率が±0.1%以下であることを特徴とする(6)〜(8)のいずれかに記載のフィルム。   (9) The film according to any one of (6) to (8), wherein a dimensional change rate when held at 200 ° C. for 5 hours is ± 0.1% or less.

本発明は、ポリマーを有機溶剤に溶解させたドープを支持体上に流延し、乾燥させて、ガラス転移温度が250℃以上かつ全光線透過率が70%以上のフィルムを形成するフィルムの製造方法に関するものであり、本発明によれば、流延前のドープを減圧脱気することで透明性、耐熱性に優れ、かつフィルム欠陥が少なく、平面性に優れたフィルムを生産性良く製造可能となる。
更に、本発明によれば、透明性、耐熱性に優れ、かつフィルム欠陥が少なく、平面性に優れたフィルムを提供することができる。
The present invention provides a film in which a dope having a polymer dissolved in an organic solvent is cast on a support and dried to form a film having a glass transition temperature of 250 ° C. or higher and a total light transmittance of 70% or higher. According to the present invention, a film having excellent transparency and heat resistance, few film defects, and excellent flatness can be produced with high productivity by degassing the dope before casting under reduced pressure. It becomes.
Furthermore, according to the present invention, it is possible to provide a film having excellent transparency and heat resistance, few film defects, and excellent flatness.

以下、本発明のフィルムの製造方法について詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」は、その前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味として使用される。
Hereafter, the manufacturing method of the film of this invention is demonstrated in detail.
In the present specification, “to” is used as a meaning including numerical values described before and after the lower limit value and the upper limit value.

〔フィルムの製造方法〕
本発明のフィルムの製造方法は、ポリマーを有機溶剤に溶解させたドープを支持体上に流延し乾燥させて、ガラス転移温度が250℃以上かつ全光線透過率が70%以上のフィルムを形成するフィルムの製造方法であって、流延前の前記ドープを減圧脱気することを特徴とする。尚、本発明においては有機溶剤にポリマーを溶解させた溶液を「ドープ」と称する。
本発明のフィルムの製造方法によれば、流延前のドープを減圧脱気することで透明性、耐熱性に優れ、かつフィルム欠陥が少なく、平面性に優れた本発明のフィルムを生産性良く製造することができる。
本発明のフィルムは、本発明のフィルムの製造方法によって製造されるフィルムであって、1m2当たりの気泡の数が10個以下であることが好ましい。
[Method for producing film]
In the method for producing a film of the present invention, a dope in which a polymer is dissolved in an organic solvent is cast on a support and dried to form a film having a glass transition temperature of 250 ° C. or higher and a total light transmittance of 70% or higher. The film manufacturing method is characterized in that the dope before casting is degassed under reduced pressure. In the present invention, a solution in which a polymer is dissolved in an organic solvent is referred to as “dope”.
According to the method for producing a film of the present invention, the dope before casting is degassed under reduced pressure so that the film of the present invention is excellent in transparency and heat resistance, has few film defects, and has excellent flatness. Can be manufactured.
The film of the present invention is a film produced by the method for producing a film of the present invention, and the number of bubbles per 1 m 2 is preferably 10 or less.

本発明のフィルムの製造方法は、ポリマーを有機溶剤に熔解させてドープを調製する工程(ドープ調製工程)と、前記ドープを減圧脱気する工程(減圧脱気工程)と、減圧脱気を施したドープを支持体上に流延し乾燥する工程(流延乾燥工程)と、を少なくとも含み、その他必要に応じた諸工程を含むものである。
以下に、本発明のフィルムの製造方法について工程ごとに説明する。
The film production method of the present invention comprises a step of dissolving a polymer in an organic solvent to prepare a dope (dope preparation step), a step of degassing the dope under reduced pressure (vacuum degassing step), and vacuum degassing. And a step of casting the dried dope on a support and drying it (casting drying step), and other various steps as required.
Below, the manufacturing method of the film of this invention is demonstrated for every process.

(ドープ調製工程)
本発明におけるドープ調製工程は、ポリマーを有機溶剤に溶解させてドープを調製する工程である。
(Dope preparation process)
The dope preparation step in the present invention is a step of preparing a dope by dissolving a polymer in an organic solvent.

−ポリマー−
本発明に用いることのできるポリマー(以降、「本発明におけるポリマー」とも称する。)は、熱可塑性樹脂でも硬化性樹脂でもよく特に制限はないが、少なくとも1種の有機溶媒に可溶で、フィルムにした場合のガラス転移温度が250℃以上であり、かつ、全光線透過率が70%以上であるポリマーが用いられる。
本発明におけるポリマーの例としては、ポリマー自身のガラス転移温度が250℃以上でありかつ実質的に無色透明であるものが好ましく、例えば、含フッ素ポリイミド、脂環構造を含むポリイミド、または、剛直な連結基を含むポリアリレートやポリアミドなどが挙げられる。本発明におけるポリマーとして特に好ましくは、下記一般式(1)で表されるスピロ構造または下記一般式(2)で表されるカルド構造を含む繰り返し単位を有するポリマーが挙げられる。
-Polymer-
The polymer that can be used in the present invention (hereinafter also referred to as “polymer in the present invention”) may be a thermoplastic resin or a curable resin, and is not particularly limited, but is soluble in at least one organic solvent and is a film. In this case, a polymer having a glass transition temperature of 250 ° C. or higher and a total light transmittance of 70% or higher is used.
Examples of the polymer in the present invention are preferably those having a glass transition temperature of 250 ° C. or higher and substantially colorless and transparent, for example, fluorine-containing polyimide, polyimide containing an alicyclic structure, or rigid Examples include polyarylate containing a linking group and polyamide. Particularly preferable examples of the polymer in the present invention include polymers having a repeating unit including a spiro structure represented by the following general formula (1) or a cardo structure represented by the following general formula (2).

Figure 2007069420
〔一般式(1)中、環αは単環式または多環式の環を表し、2つの環はスピロ結合によって結合される。〕
Figure 2007069420
[In general formula (1), ring α represents a monocyclic or polycyclic ring, and the two rings are connected by a spiro bond. ]

Figure 2007069420
〔一般式(2)中、環βおよび環γは単環式または多環式の環を表し、2つの環γはそれぞれ同一若しくは異なっていてもよい。また、環βおよび環γは、環β上の1つの4級炭素原子によって連結される。〕
Figure 2007069420
[In general formula (2), ring β and ring γ represent a monocyclic or polycyclic ring, and the two rings γ may be the same or different. Ring β and ring γ are connected by one quaternary carbon atom on ring β. ]

前記一般式(1)における環αは単環式または多環式の環を表し、例えば、インダン、クロマン、ベンゾフランが挙げられる。また、2つの環αはスピロ結合によって結合される。前記一般式(1)で表されるスピロ構造を含む繰り返し単位を有するポリマーの好ましい例として、下記一般式(3)で表されるスピロビクロマン構造を含む繰り返し単位を有するポリマーを挙げることができる。
また、前記一般式(2)における環βは、単環式または多環式の環を表し、例えばフルオレン、1,4−ビベンゾシクロヘキサンが挙げられる。環βは4級炭素原子を含むものであり、係る4級炭素原子によって環βおよび環γは連結される。環γは、単環式または多環式の環を表し、例えばベンゼン、ナフタレンが挙げられる。2つの環γはそれぞれ同一若しくは異なっていてもよい。一般式(2)で表されるカルド構造を含む繰り返し単位を有するポリマーの好ましい例として、下記一般式(4)で表されるフルオレン構造を含む繰り返し単位を有するポリマーを挙げることができる。
The ring α in the general formula (1) represents a monocyclic or polycyclic ring, and examples thereof include indane, chromane, and benzofuran. Further, the two rings α are connected by a spiro bond. Preferable examples of the polymer having a repeating unit containing a spiro structure represented by the general formula (1) include a polymer having a repeating unit containing a spirobichroman structure represented by the following general formula (3). .
The ring β in the general formula (2) represents a monocyclic or polycyclic ring, and examples thereof include fluorene and 1,4-bibenzocyclohexane. Ring β contains a quaternary carbon atom, and ring β and ring γ are connected by such a quaternary carbon atom. Ring γ represents a monocyclic or polycyclic ring, and examples thereof include benzene and naphthalene. The two rings γ may be the same or different from each other. Preferable examples of the polymer having a repeating unit containing a cardo structure represented by the general formula (2) include a polymer having a repeating unit containing a fluorene structure represented by the following general formula (4).

Figure 2007069420
Figure 2007069420

前記一般式(3)中、R41はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、R42は置換基を表す。また、R41およびR42はそれぞれが連結して環を形成してもよい。mおよびnは0〜3の整数を表す。前記置換基の好ましい例は、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基である。R41のより好ましい例としては、水素原子、メチル基、フェニル基であり、R42のより好ましい例としては、塩素原子、臭素原子、メチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、フェニル基である。 In the general formula (3), R 41 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and R 42 represents a substituent. R 41 and R 42 may be connected to each other to form a ring. m and n represent an integer of 0 to 3. Preferred examples of the substituent are a halogen atom, an alkyl group, and an aryl group. More preferred examples of R 41 are a hydrogen atom, a methyl group, and a phenyl group, and more preferred examples of R 42 are a chlorine atom, a bromine atom, a methyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, and a phenyl group. .

Figure 2007069420
Figure 2007069420

一般式(4)中、R61、R62はそれぞれ独立に置換基を表す。また、R61およびR62はそれぞれが連結して環を形成してもよい。jおよびkは0〜4の整数を表す。前記置換基の好ましい例は、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基である。また、R61およびR62のより好ましい例としては、塩素原子、臭素原子、メチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、フェニル基である。 In general formula (4), R 61 and R 62 each independently represent a substituent. R 61 and R 62 may be connected to each other to form a ring. j and k represent the integer of 0-4. Preferred examples of the substituent are a halogen atom, an alkyl group, and an aryl group. More preferred examples of R 61 and R 62 are chlorine atom, bromine atom, methyl group, isopropyl group, t-butyl group, and phenyl group.

前記一般式(1)〜(4)で表される構造を繰り返し単位中に含むポリマーは、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレタンなど種々の結合方式で連結されたポリマーであってもよいが、前記一般式(1)〜(4)で表される構造を有するビスフェノール化合物から誘導されるポリエステルが耐熱性、透明性、有機溶剤に対する溶解性の観点で好ましい。   The polymer containing the structure represented by the general formulas (1) to (4) in the repeating unit may be a polymer linked by various bonding methods such as polycarbonate, polyester, polyamide, polyimide, polyurethane, Polyesters derived from bisphenol compounds having the structures represented by the general formulas (1) to (4) are preferable from the viewpoints of heat resistance, transparency, and solubility in organic solvents.

一般式(1)〜(4)で表される構造を有するビスフェノール化合物から誘導されるポリエステル(以下、「本発明におけるポリエステル」とも称する。)の好ましい例として、下記一般式(5)〜(6)で表される繰り返し単位を有するポリエステルを挙げることができる。   As preferred examples of polyesters derived from bisphenol compounds having the structures represented by the general formulas (1) to (4) (hereinafter also referred to as “polyesters in the present invention”), the following general formulas (5) to (6) The polyester which has a repeating unit represented by this can be mentioned.

Figure 2007069420
Figure 2007069420

一般式(5)中、環βは単環式または多環式の置換基を有していてもよい環を表す。環βは上述の一般式(2)の環βと同義である。好ましい環βは、少なくとも1つの芳香環を含む多環式の環である。環β上の好ましい置換基はアルキル基、アリール基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、塩素原子、臭素原子、メチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、フェニル基が挙げられる。Lは置換基を有していてもよい炭化水素からなる2価の連結基を表す。好ましいLは、アルキレン、アリーレンであり、好ましいアルキレンは脂環構造を含むアルキレンである。この中でも特にアリーレン連結が特に好ましくフェニレン、ナフタレン、ビフェニレンなどを挙げることができる。また、アリーレン連結の好ましい置換基はアルキル基、アリール基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、メチル基、塩素原子、臭素原子である。   In general formula (5), ring β represents a ring which may have a monocyclic or polycyclic substituent. Ring β has the same meaning as ring β in formula (2) above. Preferred ring β is a polycyclic ring containing at least one aromatic ring. Preferred substituents on the ring β are an alkyl group, an aryl group, and a halogen atom, and more preferred examples include a chlorine atom, a bromine atom, a methyl group, an isopropyl group, a tert-butyl group, and a phenyl group. L represents a divalent linking group composed of a hydrocarbon which may have a substituent. Preferred L is alkylene or arylene, and preferred alkylene is alkylene containing an alicyclic structure. Among these, arylene connection is particularly preferable, and examples thereof include phenylene, naphthalene, and biphenylene. Moreover, the preferable substituent of an arylene connection is an alkyl group, an aryl group, and a halogen atom, More preferably, they are a methyl group, a chlorine atom, and a bromine atom.

また、前記一般式(5)で表される繰り返し単位を有するポリエステルは、Lの異なる2種以上の繰り返し単位の共重合体とすることで溶媒に対する溶解性が向上することから、Lの異なる2種以上の共重合体として用いることが特に好ましい。前記共重合体の好ましい繰り返し単位の組み合わせとしては、パラフェニレンとメタフェニレンとの組み合わせ、パラフェニレン、2,6−ナフタレンおよび4,4'−ビフェニレンの3種の中から2種以上選択する組み合わせを挙げることができる。R1、R2はそれぞれ置換基を表し、好ましい置換基はアルキル基、アリール基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、塩素原子、臭素原子、メチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、フェニル基が挙げられる。lおよびmは0〜4の整数を表す。 Moreover, since the polyester which has a repeating unit represented by the said General formula (5) improves the solubility with respect to a solvent by making it the copolymer of 2 or more types of repeating units from which L differs, 2 different L It is particularly preferable to use it as a copolymer of seeds or more. As a preferred combination of repeating units of the copolymer, a combination of two or more selected from the combination of paraphenylene and metaphenylene, paraphenylene, 2,6-naphthalene and 4,4′-biphenylene is selected. Can be mentioned. R 1 and R 2 each represent a substituent, and preferred substituents are an alkyl group, an aryl group, and a halogen atom, and more preferably a chlorine atom, a bromine atom, a methyl group, an isopropyl group, a tert-butyl group, and a phenyl group. Is mentioned. l and m represent an integer of 0-4.

Figure 2007069420
Figure 2007069420

一般式(6)中、環αは単環式または多環式の置換基を有していてもよい環を表し、2つの環はスピロ結合によって結合する。環αは上述の一般式(1)の環αと同義である。Lは置換基を有していてもよい炭化水素からなる2価の連結基を表す。好ましいLは、アルキレン、アリーレンであり、好ましいアルキレンは脂環構造を含むアルキレンである。この中でも特にアリーレン連結が特に好ましくフェニレン、ナフタレン、ビフェニレンなどを挙げることができる。また、アリーレン連結の好ましい置換基はアルキル基、アリール基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、メチル基、塩素原子、臭素原子である。   In general formula (6), ring α represents a ring which may have a monocyclic or polycyclic substituent, and the two rings are connected by a spiro bond. Ring α has the same meaning as ring α in formula (1) described above. L represents a divalent linking group composed of a hydrocarbon which may have a substituent. Preferred L is alkylene or arylene, and preferred alkylene is alkylene containing an alicyclic structure. Among these, arylene connection is particularly preferable, and examples thereof include phenylene, naphthalene, and biphenylene. Also, preferred substituents for arylene linkage are an alkyl group, an aryl group, and a halogen atom, and more preferably a methyl group, a chlorine atom, and a bromine atom.

また、一般式(6)で表される繰り返し単位を有するポリエステルは、Lの異なる2種以上の繰り返し単位の共重合体とすることで溶媒に対する溶解性が向上することから、Lの異なる2種以上の共重合体として用いることが特に好ましい。前記共重合体の好ましい繰り返し単位の好ましい組み合わせとしては、パラフェニレンとメタフェニレンとの組み合わせ、パラフェニレン、2,6−ナフタレンおよび4,4'−ビフェニレンの3種の中から2種以上選択する組み合わせを挙げることができる。R1、R2はそれぞれ置換基を表し、好ましい置換基はアルキル基、アリール基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、塩素原子、臭素原子、メチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、フェニル基が挙げられる。lおよびmは0〜3の整数を表す。 Moreover, since the polyester which has a repeating unit represented by General formula (6) improves the solubility with respect to a solvent by making it the copolymer of 2 or more types of repeating units from which L differs, 2 types from which L differs It is particularly preferable to use as the above copolymer. Preferred combinations of preferred repeating units of the copolymer include a combination of paraphenylene and metaphenylene, or a combination of two or more selected from three types of paraphenylene, 2,6-naphthalene and 4,4′-biphenylene. Can be mentioned. R 1 and R 2 each represent a substituent, and preferred substituents are an alkyl group, an aryl group, and a halogen atom, and more preferably a chlorine atom, a bromine atom, a methyl group, an isopropyl group, a tert-butyl group, and a phenyl group. Is mentioned. l and m represent an integer of 0 to 3;

また、前記一般式(5)で表される繰り返し単位の好ましい例としては、下記一般式(7)で表される繰り返し単位が挙げられる。   Moreover, a preferable example of the repeating unit represented by the general formula (5) includes a repeating unit represented by the following general formula (7).

Figure 2007069420
Figure 2007069420

一般式(7)中、R3、R4はそれぞれ置換基を表し、好ましい置換基はアルキル基、アリール基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、塩素原子、臭素原子、メチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、フェニル基が挙げられる。jおよびkは0〜4の整数を表す。Lは置換基を有していてもよい炭化水素からなる2価の連結基を表す。好ましいLは、アルキレン、アリーレンであり、好ましいアルキレンは脂環構造を含むアルキレンである。この中でもアリーレン連結が特に好ましくフェニレン、ナフタレン、ビフェニレンなどを挙げることができる。また、アリーレン連結の好ましい置換基はアルキル基、アリール基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、メチル基、塩素原子、臭素原子である。 In the general formula (7), R 3 and R 4 each represent a substituent, and preferred substituents are an alkyl group, an aryl group, and a halogen atom, and more preferably a chlorine atom, a bromine atom, a methyl group, an isopropyl group, Examples thereof include a tert-butyl group and a phenyl group. j and k represent the integer of 0-4. L represents a divalent linking group composed of a hydrocarbon which may have a substituent. Preferred L is alkylene or arylene, and preferred alkylene is alkylene containing an alicyclic structure. Among these, arylene connection is particularly preferable, and examples thereof include phenylene, naphthalene, and biphenylene. Also, preferred substituents for arylene linkage are an alkyl group, an aryl group, and a halogen atom, and more preferably a methyl group, a chlorine atom, and a bromine atom.

また、一般式(7)で表される繰り返し単位を有するポリエステルは、Lの異なる2種以上の繰り返し単位の共重合体とすることで溶媒に対する溶解性が向上することから、Lの異なる2種以上の共重合体として用いることが特に好ましい。前記共重合体の好ましい繰り返し単位の好ましい組み合わせとしては、パラフェニレンとメタフェニレンとの組み合わせ、パラフェニレン、2,6−ナフタレン、4,4'−ビフェニレンの3種の中から2種以上選択する組み合わせを挙げることができる。R1、R2はそれぞれ置換基を表し、好ましい置換基はアルキル基、アリール基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、塩素原子、臭素原子、メチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、フェニル基が挙げられる。lおよびmは0〜4の整数を表す。 Moreover, since the polyester which has a repeating unit represented by General formula (7) improves the solubility with respect to a solvent by making it the copolymer of 2 or more types of repeating units from which L differs, 2 types from which L differs It is particularly preferable to use as the above copolymer. As a preferable combination of preferable repeating units of the copolymer, a combination of two or more selected from the combination of paraphenylene and metaphenylene, paraphenylene, 2,6-naphthalene, and 4,4′-biphenylene is selected. Can be mentioned. R 1 and R 2 each represent a substituent, and preferred substituents are an alkyl group, an aryl group, and a halogen atom, and more preferably a chlorine atom, a bromine atom, a methyl group, an isopropyl group, a tert-butyl group, and a phenyl group. Is mentioned. l and m represent an integer of 0-4.

以下に本発明におけるポリエステルの好ましい具体例(例示化合物PC−1〜PS−8)を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、繰り返し単位の数字は共重合比(mol%)を表し、ホモポリマーは100と記載する。   Although the preferable specific example (exemplary compound PC-1 to PS-8) of the polyester in this invention is given to the following, this invention is not limited to this. In addition, the number of a repeating unit represents a copolymerization ratio (mol%), and a homopolymer is described as 100.

Figure 2007069420
Figure 2007069420

Figure 2007069420
Figure 2007069420

Figure 2007069420
Figure 2007069420

Figure 2007069420
Figure 2007069420

Figure 2007069420
Figure 2007069420

Figure 2007069420
Figure 2007069420

Figure 2007069420
Figure 2007069420

Figure 2007069420
Figure 2007069420

Figure 2007069420
Figure 2007069420

Figure 2007069420
Figure 2007069420

本発明におけるポリマーの分子量は、重量平均分子量で10,000以上であることが好ましい。より好ましくは重量平均分子量で20,000〜300,000であり、特に好ましくは30,000〜150,000である。分子量が10,000以上の場合、フィルムなどの成形品に応用する場合、得られる成形品の力学特性が有利となる。一方、分子量が300,000以下の場合、合成上の分子量コントロールの点で有利であり、さらに溶液の粘度も高すぎず、取り扱い上有利である。なお、分子量の代わりに対応する粘度を目安にすることもできる。   The molecular weight of the polymer in the present invention is preferably 10,000 or more in terms of weight average molecular weight. More preferably, the weight average molecular weight is 20,000 to 300,000, and particularly preferably 30,000 to 150,000. When the molecular weight is 10,000 or more, the mechanical properties of the obtained molded product are advantageous when applied to a molded product such as a film. On the other hand, when the molecular weight is 300,000 or less, it is advantageous in terms of controlling the molecular weight in synthesis, and the viscosity of the solution is not too high, which is advantageous in handling. The viscosity corresponding to the molecular weight can be used as a guide.

上述の通り本発明におけるポリマーは、前記一般式(1)〜(7)で表される構造を含む繰り返し単位を複数種有するコポリマーであってもよい。また、前記一般式(1)〜(7)で表される構造を含む繰り返し単位以外の公知の繰り返し単位を本発明の効果を損ねない範囲で共重合してもよい。   As described above, the polymer in the present invention may be a copolymer having a plurality of types of repeating units including the structures represented by the general formulas (1) to (7). Moreover, you may copolymerize well-known repeating units other than the repeating unit containing the structure represented by the said General formula (1)-(7) in the range which does not impair the effect of this invention.

本発明におけるポリマー中における一般式(1)〜(7)で表される構造を含む繰り返し単位の合計のモル百分率は、40〜100モル%であることが好ましく、60〜100モル%であることがより好ましく、80〜100モル%であることがさらに好ましい。本発明におけるポリマーが一般式(1)〜(7)で表される構造を含む繰り返し単位を複数種有する場合、溶媒に対する溶解性や透明性が向上する場合があり、好ましい。この場合、いずれか1種の割合が5〜95mol%であることが好ましく、20〜80mol%であることがより好ましく、特に好ましくは30〜70mol%である。本発明におけるポリマー中における一般式(1)〜(7)で表される構造を含む繰り返し単位の割合が上記の場合、透明性、耐熱性、溶解性の観点で有利である。   The total molar percentage of the repeating units including the structures represented by the general formulas (1) to (7) in the polymer in the present invention is preferably 40 to 100 mol%, and preferably 60 to 100 mol%. Is more preferable, and it is further more preferable that it is 80-100 mol%. When the polymer in this invention has multiple types of repeating units containing the structure represented by General formula (1)-(7), the solubility with respect to a solvent and transparency may improve, and it is preferable. In this case, the proportion of any one of them is preferably 5 to 95 mol%, more preferably 20 to 80 mol%, and particularly preferably 30 to 70 mol%. When the ratio of the repeating unit including the structure represented by the general formulas (1) to (7) in the polymer in the present invention is the above, it is advantageous from the viewpoints of transparency, heat resistance, and solubility.

本発明におけるポリマーの耐熱温度は高い方が好ましく、DSC測定によるガラス転移温度を目安にすることができる。この場合、本発明におけるポリマーのガラス転移温度は250℃以上であり、好ましくは300℃以上であり、特に好ましくは350℃以上である。また、測定範囲内(例えば420℃以下)で実質的にガラス転移温度が観測されない場合も本発明におけるポリマーとして好ましい。本発明におけるポリマーに含まれる一般式(1)〜(7)で表される構造を含む繰り返し単位を有するポリマーのうち一般式(4)または(7)で表される構造を含む繰り返し単位を有するポリマーが、耐熱性が高くより好ましい。さらに一般式(7)で表される繰り返し単位を有するポリエステルは300℃以上のガラス転移温度を発現しやすく、低沸点溶剤に対する溶解性にも優れ、最も好ましい。   The higher heat resistant temperature of the polymer in the present invention is preferably high, and the glass transition temperature by DSC measurement can be used as a guide. In this case, the glass transition temperature of the polymer in the present invention is 250 ° C. or higher, preferably 300 ° C. or higher, particularly preferably 350 ° C. or higher. Further, a case where a glass transition temperature is not substantially observed within a measurement range (for example, 420 ° C. or lower) is also preferable as the polymer in the present invention. It has a repeating unit containing the structure represented by General formula (4) or (7) among the polymers which have a repeating unit containing the structure represented by General formula (1)-(7) contained in the polymer in this invention. A polymer is more preferable because of its high heat resistance. Furthermore, the polyester having the repeating unit represented by the general formula (7) is most preferable because it easily develops a glass transition temperature of 300 ° C. or higher and is excellent in solubility in a low boiling point solvent.

−有機溶剤−
本発明は上記で挙げたポリマーを有機溶剤に溶解させたドープを用いる。本発明に用いることのできる有機溶剤は、本発明におけるポリマーを溶解できるものであれば特に制限はないが、常圧下で液温が20℃の場合における本発明におけるポリマーの溶解度が5質量%以上であることが好ましく、より好ましくは10質量%以上、特に好ましくは15質量%以上である。
好ましい有機溶媒の種類としては、本発明におけるポリマーの種類にもよって異なるため一概には言えないが、例えば、テトラヒドロフラン、アニソール、1,4−ジオキサンなどのエーテル類;ベンゼン、シクロヘキサン、イソホロン、トルエン、キシレンなどの炭化水素類;γ−ブチロラクトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、フタル酸ジメチルなどのエステル類;ベンジルアルコ−ル、フェネチルアルコール、メタノール、エタノール、n−ブタノールなどのアルコール類;シクロヘキサノン、シクロペンタノン、アセトン、メチルエチルケトン、アセトフェノンなどのケトン類;N,N−ジメチルアセトアミド(DMAcとも称する)、N−メチル−2−ピロリドン(NMPとも称する)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMFとも称する)、ニトロベンゼン、ベンゾニトリルなどの含窒素溶媒;ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼンなどの含ハロゲン溶媒等が挙げられる。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。
その他の前記有機溶剤の例としては、講談社サイエンティフィック編「溶剤ハンドブック」に記載されているものを用いることができる。また、前記有機溶媒は良溶媒と貧溶媒との混合、あるいは、高沸点溶媒と低沸点溶媒との混合など2種以上を混合して用いてもよい。
-Organic solvent-
The present invention uses a dope obtained by dissolving the above-mentioned polymer in an organic solvent. The organic solvent that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it can dissolve the polymer in the present invention, but the solubility of the polymer in the present invention at a liquid temperature of 20 ° C. under normal pressure is 5% by mass or more. More preferably, it is 10% by mass or more, and particularly preferably 15% by mass or more.
The preferred organic solvent type varies depending on the type of polymer in the present invention, and cannot be generally stated. For example, ethers such as tetrahydrofuran, anisole, and 1,4-dioxane; benzene, cyclohexane, isophorone, toluene, Hydrocarbons such as xylene; esters such as γ-butyrolactone, ethyl acetate, butyl acetate, methyl benzoate and dimethyl phthalate; alcohols such as benzyl alcohol, phenethyl alcohol, methanol, ethanol and n-butanol; cyclohexanone , Cyclopentanone, acetone, methyl ethyl ketone, ketones such as acetophenone; N, N-dimethylacetamide (also referred to as DMAc), N-methyl-2-pyrrolidone (also referred to as NMP), N, N-dimethylformamide (Also referred to as DMF), nitrobenzene, nitrogen-containing solvents such as benzonitrile; dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, and a halogen-containing solvents such as such as chlorobenzene. However, the present invention is not limited to these.
As other examples of the organic solvent, those described in “Solvent Handbook” edited by Kodansha Scientific may be used. The organic solvent may be used as a mixture of two or more, such as a mixture of a good solvent and a poor solvent, or a mixture of a high boiling point solvent and a low boiling point solvent.

上記で挙げた有機溶剤は、用いられる本発明におけるポリマーの種類に対して溶解度の高いものを選択できる。本発明におけるポリマーの特に好ましい例として挙げられる上述の本発明におけるポリエステルを用いる場合を例に挙げると、例えば、テトラヒドロフラン、アニソール、1,4−ジオキサン、トルエン、キシレン、γ−ブチロラクトン、安息香酸メチル、フタル酸ジメチル、ベンジルアルコ−ル、フェネチルアルコール、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、アセトフェノン、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、ニトロベンゼン、ベンゾニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼンなどが溶解性の高い溶媒として挙げられる。   The organic solvent mentioned above can select a thing with high solubility with respect to the kind of polymer in this invention used. Examples of the case of using the above-described polyester according to the present invention, which is mentioned as a particularly preferable example of the polymer according to the present invention, include, for example, tetrahydrofuran, anisole, 1,4-dioxane, toluene, xylene, γ-butyrolactone, methyl benzoate, Dimethyl phthalate, benzyl alcohol, phenethyl alcohol, cyclohexanone, cyclopentanone, acetophenone, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, nitrobenzene, benzonitrile, dichloromethane, chloroform 1,2-dichloroethane, chlorobenzene and the like are mentioned as highly soluble solvents.

本発明に用いられる有機溶剤としては、これらの中でもさらに沸点が低いものが好ましい。前記有機溶剤の好ましい沸点は170℃以下であり、より好ましくは120℃以下である。上述した本発明におけるポリエステルに対する溶解性が高く、沸点が低い有機溶剤の例としては、例えば、テトラヒドロフラン、アニソール、1,4−ジオキサン、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼンなどが挙げられる。これらのうちジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタンなどの低沸点含ハロゲン溶剤は本発明におけるポリエステルに対する溶解性が高く、沸点も低い溶剤である。   Of these, organic solvents having a lower boiling point are preferred as the organic solvent used in the present invention. The boiling point of the organic solvent is preferably 170 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or lower. Examples of the organic solvent having high solubility and low boiling point for the polyester in the present invention include, for example, tetrahydrofuran, anisole, 1,4-dioxane, toluene, xylene, cyclohexanone, cyclopentanone, N, N-dimethylacetamide. N, N-dimethylformamide, dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene and the like. Of these, low-boiling halogen-containing solvents such as dichloromethane, chloroform, and 1,2-dichloroethane are solvents having high solubility in polyester and low boiling point in the present invention.

−添加剤−
本発明におけるドープには、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤(例えば、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など)を加えることができる。前記添加剤を添加する時期は、ドープ調製工程において何れの時期でも添加してもよいが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。
-Additives-
Various additives (for example, a plasticizer, an ultraviolet inhibitor, a deterioration inhibitor, fine particles, an optical property modifier, etc.) according to the use can be added to the dope in the present invention in each preparation step. The additive may be added at any time in the dope preparation step, but the additive may be added to the final preparation step of the dope preparation step.

本発明におけるドープに好ましく添加される可塑剤としては、リン酸エステル、カルボン酸エステル、またはグリコール酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート(TPP)およびトリクレジルホスフェート(TCP)、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェートが含まれる。   As the plasticizer preferably added to the dope in the present invention, phosphate ester, carboxylate ester, or glycolate ester is used. Examples of phosphate esters include triphenyl phosphate (TPP) and tricresyl phosphate (TCP), cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenyl biphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate.

前記カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。前記フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート(DMP)、ジエチルフタレート(DEP)、ジブチルフタレート(DBP)、ジオクチルフタレート(DOP)、ジフェニルフタレート(DPP)およびジエチルヘキシルフタレート(DEHP)が含まれる。前記クエン酸エステルの例には、O−アセチルクエン酸トリエチル(OACTE)およびO−アセチルクエン酸トリブチル(OACTB)、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、が含まれる。   Representative examples of the carboxylic acid ester include phthalic acid esters and citric acid esters. Examples of the phthalic acid ester include dimethyl phthalate (DMP), diethyl phthalate (DEP), dibutyl phthalate (DBP), dioctyl phthalate (DOP), diphenyl phthalate (DPP) and diethyl hexyl phthalate (DEHP). Examples of the citrate ester include triethyl O-acetylcitrate (OACTE) and tributyl O-acetylcitrate (OACTB), acetyltriethyl citrate, and acetyltributyl citrate.

その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。
グリコール酸エステルの例としては、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレートなどがある。さらにトリメチロールプロパントリベンゾエート、ペンタエリスリトールテトラベンゾエート、ジトリメチロールプロパンテトラアセテート、ジトリメチロールプロパンテトラプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラアセテート、ソルビトールヘキサアセテート、ソルビトールヘキサプロピオネート、ソルビトールトリアセテートトリプロピオネート、イノシトールペンタアセテート、ソルビタンテトラブチレート等も好ましく利用される。
Examples of other carboxylic acid esters include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, dibutyl sebacate, and various trimellitic acid esters.
Examples of glycolic acid esters include triacetin, tributyrin, butyl phthalyl butyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, and butyl phthalyl butyl glycolate. Further trimethylolpropane tribenzoate, pentaerythritol tetrabenzoate, ditrimethylolpropane tetraacetate, ditrimethylolpropane tetrapropionate, pentaerythritol tetraacetate, sorbitol hexaacetate, sorbitol hexapropionate, sorbitol triacetate tripropionate, inositol pentaacetate Sorbitan tetrabutyrate is also preferably used.

中でもトリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、トリブチルホスフェート、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジエチルヘキシルフタレート、トリアセチン、エチルフタリルエチルグリコレート、トリメチロールプロパントリベンゾエート、ペンタエリスリトールテトラベンゾエート、ジトリメチロールプロパンテトラアセテート、ペンタエリスリトールテトラアセテート、ソルビトールヘキサアセテート、ソルビトールヘキサプロピオネート、ソルビトールトリアセテートトリプロピオネート等が好ましく、特にトリフェニルホスフェート、ジエチルフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、トリメチロールプロパントリベンゾエート、ペンタエリスリトールテトラベンゾエート、ジトリメチロールプロパンテトラアセテート、ソルビトールヘキサアセテート、ソルビトールヘキサプロピオネート、ソルビトールトリアセテートトリプロピオネートが好ましい。これらの可塑剤は1種でもよいし2種以上併用してもよい。可塑剤の添加量は本発明におけるポリマーの種類にもより一概に言えないが、本発明のフィルム特性を大きく損ねない範囲が好ましく、例えば、本発明におけるポリマーの総量に対して0.1〜30質量%が好ましい範囲である。   Among them, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, tributyl phosphate, dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, diethyl hexyl phthalate, triacetin, ethyl phthalyl ethyl glycolate, trimethylol propane tribenzoate, penta Erythritol tetrabenzoate, ditrimethylolpropane tetraacetate, pentaerythritol tetraacetate, sorbitol hexaacetate, sorbitol hexapropionate, sorbitol triacetate tripropionate, etc. are preferred, especially triphenyl phosphate, diethyl phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, tri Methylolpropane tribe Zoeto, pentaerythritol tetrabenzoate, ditrimethylolpropane tetra acetate, sorbitol hexaacetate, sorbitol hexapropionate, sorbitol triacetate tripropionate are preferred. These plasticizers may be used alone or in combination of two or more. The amount of the plasticizer added is not unambiguous depending on the type of the polymer in the present invention, but is preferably within a range that does not greatly impair the film properties of the present invention. % By mass is a preferred range.

これらの可塑剤は、特開平11−124445号公報記載の(ジ)ペンタエリスリトールエステル類、特開平11−246704号公報記載のグリセロールエステル類、特開2000−63560号公報記載のジグリセロールエステル類、特開平11−92574号公報記載のクエン酸エステル類、特開平11−90946号公報記載の置換フェニルリン酸エステル類として公知文献に記載されている。   These plasticizers include (di) pentaerythritol esters described in JP-A No. 11-124445, glycerol esters described in JP-A No. 11-246704, diglycerol esters described in JP-A No. 2000-63560, The citrate esters described in JP-A No. 11-92574 and the substituted phenyl phosphate esters described in JP-A No. 11-90946 are described in known literatures.

本発明におけるドープには、劣化防止剤(例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン)や紫外線防止剤を添加してもよい。これらの劣化防止剤や紫外線防止剤については、特開昭60−235852号公報、特開平3−199201号公報、同5−1907073号公報、同5−194789号公報、同5−271471号公報、同6−107854号公報、同6−118233号公報、同6−148430号公報、同7−11056号公報、同7−11055号公報、同7−11056号公報、同8−29619号公報、同8−239509号公報、特開2000−204173号公報に記載がある。これらの添加量は、本発明におけるポリマーの総量に対して0.01〜3質量%であることが好ましく、0.01〜1質量%であることがさらに好ましい。添加量が上記の範囲であると、フィルム表面への劣化防止剤や紫外線防止剤のブリードアウト(滲み出し)が認められることも少なく、有効に作用できる。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン(BHT)を挙げることができる。   Deterioration inhibitors (eg, antioxidants, peroxide decomposers, radical inhibitors, metal deactivators, acid scavengers, amines) and UV inhibitors may be added to the dope in the present invention. About these deterioration preventing agents and ultraviolet ray preventing agents, JP-A-60-235852, JP-A-3-199201, JP-A-51907073, JP-A-5-194789, JP-A-5-271471, JP-A-6-107854, JP-A-6-118233, JP-A-6-148430, JP-A-7-11056, JP-A-7-11055, JP-A-7-11056, JP-A-8-29619, No. 8-239509 and JP-A 2000-204173. The amount of these added is preferably 0.01 to 3% by mass, more preferably 0.01 to 1% by mass, based on the total amount of the polymer in the present invention. When the addition amount is in the above range, the deterioration preventive agent or the ultraviolet preventive bleed-out (bleeding out) to the film surface is rarely observed, and it can work effectively. As a particularly preferred example of the deterioration preventing agent, butylated hydroxytoluene (BHT) can be mentioned.

また、特に好ましくは、本発明におけるドープに一種または二種以上の紫外線吸収剤を含有させることである。前記紫外線吸収剤は、波長380nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。特に好ましい紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系化合物やベンゾフェノン系化合物である。中でも、ベンゾトリアゾール系化合物は、不要な着色が少ないことから、好ましい。   Particularly preferably, the dope in the present invention contains one or more ultraviolet absorbers. The ultraviolet absorbent is preferably excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 380 nm or less and having little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more. Examples include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex compounds, and the like. Particularly preferred ultraviolet absorbers are benzotriazole compounds and benzophenone compounds. Among these, a benzotriazole-based compound is preferable because unnecessary coloring is small.

好ましい紫外線防止剤としては、例えば、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,6−ヘキサンジオール−ビス〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2,2−チオ−ジエチレンビス〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレイトなどが挙げられる。   Preferred examples of the ultraviolet ray inhibitor include 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], Triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4 -Hydroxyphenyl) propionate], 2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-tert-butylanilino) -1,3,5-triazine, 2,2-thio -Diethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- ( , 5-Di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N′-hexamethylenebis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamide), 1,3,5-trimethyl- 2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tris- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -isocyanurate, etc. It is done.

これらの中でも、特に2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕が最も好ましい。また例えば、N,N’−ビス〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル〕ヒドラジンなどのヒドラジン系の金属不活性剤やトリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)フォスファイトなどの燐系加工安定剤を併用してもよい。これらの化合物の添加量は、本発明におけるポリマーの総量に対して質量割合で1ppm〜3.0%が好ましく、10ppm〜2%がさらに好ましい。   Among these, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol- Bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate] is most preferred. Further, for example, hydrazine-based metal deactivators such as N, N′-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine and tris (2,4-di-tert A phosphorus processing stabilizer such as -butylphenyl) phosphite may be used in combination. The amount of these compounds added is preferably 1 ppm to 3.0%, more preferably 10 ppm to 2% in terms of mass ratio with respect to the total amount of the polymer in the present invention.

また、本発明のフィルムのレターデーションを調整するため、少なくとも2つの芳香族環を有する芳香族化合物を使用してもよい。前記芳香族化合物は、本発明におけるポリマー100質量部に対して、0.01〜20質量部の範囲で使用することができ、0.05〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、0.1〜10質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。また、2種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。前記芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。   In order to adjust the retardation of the film of the present invention, an aromatic compound having at least two aromatic rings may be used. The aromatic compound can be used in the range of 0.01 to 20 parts by mass, preferably in the range of 0.05 to 15 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the polymer in the present invention. More preferably, it is used in the range of 1 to 10 parts by mass. Two or more aromatic compounds may be used in combination. The aromatic ring of the aromatic compound includes an aromatic hetero ring in addition to the aromatic hydrocarbon ring.

前記芳香族炭化水素環は、6員環(すなわち、ベンゼン環)であることが特に好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、5員環、6員環または7員環であることが好ましく、5員環または6員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。前記不飽和ヘテロ環のヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および1,3,5−トリアジン環が含まれる。   The aromatic hydrocarbon ring is particularly preferably a 6-membered ring (that is, a benzene ring). The aromatic heterocycle is generally an unsaturated heterocycle. The aromatic heterocycle is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or 6-membered ring. Aromatic heterocycles generally have the most double bonds. As a hetero atom of the unsaturated heterocyclic ring, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom are preferable, and a nitrogen atom is particularly preferable. Examples of aromatic heterocycles include furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, oxazole ring, isoxazole ring, thiazole ring, isothiazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, furazane ring, triazole ring, pyran ring, pyridine ring , Pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring and 1,3,5-triazine ring.

また、本発明におけるドープには添加剤として、シリカ、カオリン、タルク、ケイソウ土、石英、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルミナなどの無機微粒子も添加する事もできる。   In addition, inorganic fine particles such as silica, kaolin, talc, diatomaceous earth, quartz, calcium carbonate, barium sulfate, titanium oxide, and alumina can be added to the dope in the present invention.

−ドープの調製−
次に、溶解工程(ドープ調製工程)について記述する。本発明におけるドープは、本発明におけるポリマーおよびその他の添加剤を必要に応じて、所望の有機溶媒に溶解して調製される。その溶解方法は特に限定されず、室温でもよく、さらには冷却溶解法、高温溶解方法、超臨界溶解法さらにはこれらの組み合わせで実施される。室温溶解の場合は、温度0〜55℃で本発明におけるポリマーを溶媒や添加剤と混合し、溶解釜などの中で攪拌・混合して溶解することができる。溶解に関しては、本発明におけるポリマーが粉体である場合には、溶媒に十分均一に浸すことが重要であり、所謂ママコ(溶媒が全く行き渡らない本発明におけるポリマー粉末部)を発生させないことが好ましい。そのため、攪拌容器の中に溶媒を予め添加しておき、その後に、溶解容器を減圧にして本発明におけるポリマーを添加することが好ましい場合もある。また、逆に攪拌容器の中に本発明におけるポリマーを予め添加しておき、その後に、溶解容器を減圧にして溶媒を添加することが好ましい場合もある。また、本発明におけるポリマーを予めアルコールなどの貧溶媒に湿らせておき、しかる後に本発明におけるポリマーの良溶媒となる有機溶媒を添加することも、好ましいドープの調製方法である。
-Preparation of dope-
Next, the dissolution process (dope preparation process) will be described. The dope in the present invention is prepared by dissolving the polymer and other additives in the present invention in a desired organic solvent as necessary. The dissolution method is not particularly limited, and may be room temperature, and further, a cooling dissolution method, a high temperature dissolution method, a supercritical dissolution method, or a combination thereof is performed. In the case of dissolution at room temperature, the polymer in the present invention can be mixed with a solvent or an additive at a temperature of 0 to 55 ° C., and can be dissolved by stirring and mixing in a dissolution vessel or the like. Regarding dissolution, when the polymer in the present invention is a powder, it is important to immerse it sufficiently in a solvent, and it is preferable not to generate so-called mamako (the polymer powder part in the present invention in which the solvent does not spread at all). . For this reason, it may be preferable to add a solvent in advance to the stirring vessel, and then add the polymer in the present invention under reduced pressure in the dissolution vessel. On the other hand, it may be preferable to add the polymer in the present invention in advance to the stirring vessel, and then add the solvent under reduced pressure in the dissolution vessel. It is also a preferable dope preparation method that the polymer in the present invention is preliminarily moistened with a poor solvent such as alcohol, and then an organic solvent which becomes a good solvent for the polymer in the present invention is added.

複数の有機溶媒を用いる場合、その添加順は特に限定されない。例えば、本発明におけるポリマーの良溶媒となる主溶媒中に本発明におけるポリマーを添加した後に、他の有機溶媒(例えばアルコールなどの貧溶媒など)を添加してもよいし、逆に貧溶媒を予め本発明におけるポリマーに湿らせた後に主溶媒を加えてもよい。この方法は不均一溶解の防止に有効である。なお、攪拌に当たっては本発明におけるポリマーと有機溶媒とを混合した後、そのまま静置して十分に本発明におけるポリマーを有機溶媒で膨潤させて、続いて攪拌して均一なドープとしてもよい。本発明におけるポリマーの添加量は、本発明におけるドープ中に5〜40質量%含まれるように調整することが好ましく、10〜30質量%であることがさらに好ましい。   When using a plurality of organic solvents, the order of addition is not particularly limited. For example, after adding the polymer according to the present invention to the main solvent that is a good solvent for the polymer according to the present invention, another organic solvent (for example, a poor solvent such as alcohol) may be added. The main solvent may be added after the polymer in the present invention is previously wetted. This method is effective in preventing non-uniform dissolution. In stirring, the polymer in the present invention and the organic solvent may be mixed, and then left as it is, and the polymer in the present invention may be sufficiently swollen with the organic solvent, followed by stirring to obtain a uniform dope. It is preferable to adjust the addition amount of the polymer in this invention so that it may contain 5-40 mass% in the dope in this invention, and it is more preferable that it is 10-30 mass%.

次に前記冷却溶解法について記述する。即ち、本発明におけるポリマー溶液(ドープ)の調製は、冷却溶解法に従い実施されてもよい。まず室温近辺の温度(−10〜40℃)で有機溶媒中に本発明におけるポリマーを撹拌しながら徐々に添加する。複数の溶媒を用いる場合、その添加順は特に限定されない。例えば、主溶媒中に本発明におけるポリマーを添加した後に、他の有機溶媒(例えばアルコールなどの溶媒など)を添加してもよいし、逆に貧溶媒を予め本発明におけるポリマーに湿らせた後に主溶媒を加えてもよい。この方法は不均一溶解の防止(所謂ママコ防止)に有効である。本発明におけるポリマーの量は、有機溶媒との混合物中に5〜40質量%含まれるように調整することが好ましく、10〜30質量%であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には任意の添加剤を添加しておいてもよい。   Next, the cooling dissolution method will be described. That is, the preparation of the polymer solution (dope) in the present invention may be performed according to a cooling dissolution method. First, the polymer in the present invention is gradually added to an organic solvent with stirring at a temperature around room temperature (-10 to 40 ° C). When using a plurality of solvents, the order of addition is not particularly limited. For example, after adding the polymer in the present invention to the main solvent, another organic solvent (for example, a solvent such as alcohol) may be added, or conversely, after the poor solvent has been previously wetted with the polymer in the present invention. A main solvent may be added. This method is effective in preventing non-uniform dissolution (so-called mamako prevention). The amount of the polymer in the present invention is preferably adjusted so that it is contained in the mixture with the organic solvent in an amount of 5 to 40% by mass, and more preferably 10 to 30% by mass. Furthermore, you may add arbitrary additives in a mixture.

次に、混合物は−100〜−10℃(好ましくは−80〜−10℃、さらに好ましくは−50〜−20℃)に冷却される。前記冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴(−75℃)や冷却したジエチレングリコール溶液(−30〜−20℃)中で実施できる。このように冷却すると、本発明におけるポリマーと有機溶媒との混合物が固化する場合がある。前記冷却速度は、特に限定されないがバッチ式での冷却の場合は、冷却に伴い本発明におけるポリマー溶液の粘度が上がり、冷却効率が劣るために所定の冷却温度に達するために効率よい溶解釜とすることが好ましい。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察して判断することができる。冷却溶解方法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時に減圧すると溶解時間を短縮することができる。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。   Next, the mixture is cooled to -100 to -10 ° C (preferably -80 to -10 ° C, more preferably -50 to -20 ° C). The cooling can be performed, for example, in a dry ice / methanol bath (−75 ° C.) or a cooled diethylene glycol solution (−30 to −20 ° C.). When cooled in this way, the mixture of the polymer and the organic solvent in the present invention may solidify. Although the cooling rate is not particularly limited, in the case of batch-type cooling, the viscosity of the polymer solution in the present invention increases with cooling, and the cooling efficiency is poor. It is preferable to do. If the dissolution is insufficient, the cooling and heating operations may be repeated. Whether the dissolution is sufficient or not can be judged by visually observing the appearance of the solution. In the cooling and melting method, it is desirable to use a sealed container in order to avoid moisture mixing due to condensation during cooling. In the cooling and heating operation, when the pressure is applied during cooling and the pressure is reduced during heating, the dissolution time can be shortened. In order to perform pressurization and decompression, it is desirable to use a pressure-resistant container.

また本発明では高温溶解法も好ましく用いられる。即ち、本発明におけるポリマー溶液(ドープ)の調製は、高温溶解法に従い実施されてもよい。まず室温近辺の温度(−10〜40℃)で有機溶媒中に本発明におけるポリマーを撹拌しながら徐々に添加する。複数の溶媒を用いる場合、その添加順は特に限定されない。例えば、主溶媒中に本発明におけるポリマーを添加した後に、他の溶媒(例えばアルコールなどの貧溶媒など)を添加してもよいし、逆に貧溶媒を予め本発明におけるポリマーに湿らせた後に主溶媒を加えてもよい。この方法は不均一溶解の防止に有効である。本発明におけるポリマー溶液は、各種溶媒を含有する混合有機溶媒中に本発明におけるポリマーを添加し予め膨潤させることが好ましい。その場合、−10〜40℃でいずれかの溶媒中に、本発明におけるポリマーを撹拌しながら徐々に添加してもよいし、場合により特定の有機溶媒で予め膨潤させその後に他の併用溶媒を加えて混合し均一の膨潤液としてもよく、さらには2種以上の有機溶媒で膨潤させ、しかる後に残りの溶媒を加えてもよい。   In the present invention, a high temperature dissolution method is also preferably used. That is, the preparation of the polymer solution (dope) in the present invention may be performed according to a high temperature dissolution method. First, the polymer in the present invention is gradually added to an organic solvent with stirring at a temperature around room temperature (-10 to 40 ° C). When using a plurality of solvents, the order of addition is not particularly limited. For example, after the polymer in the present invention is added to the main solvent, another solvent (for example, a poor solvent such as an alcohol) may be added, or conversely after the poor solvent has been previously wetted with the polymer in the present invention. A main solvent may be added. This method is effective in preventing non-uniform dissolution. The polymer solution in the present invention is preferably swollen in advance by adding the polymer in the present invention to a mixed organic solvent containing various solvents. In that case, the polymer in the present invention may be gradually added to any solvent at −10 to 40 ° C. with stirring, and in some cases, it may be pre-swelled with a specific organic solvent and then another combination solvent may be added. In addition, the mixture may be mixed to obtain a uniform swelling solution, or may be swollen with two or more organic solvents, and then the remaining solvent may be added.

次に有機溶媒混合液は、好ましくは0.2MPa〜30MPaの加圧下で70〜240℃に加熱される(好ましくは80〜220℃、さらに好ましくは100〜200℃、最も好ましくは100〜190℃)。前記加熱は、例えば高圧蒸気でもよく電気熱源でもよい。高圧のためには耐圧容器あるいは耐圧ラインを必要とするが、鉄やステンレス製あるいは他の金属耐圧容器やラインのいずれでもよく、特に限定されない。次にこれらの加熱溶液はそのままでは塗布できないため、使用された溶媒の最も低い沸点以下に冷却する必要がある。その場合、−10〜50℃に冷却して常圧に戻すことが一般的である。冷却は本発明におけるポリマー溶液が内蔵されている高圧高温容器やラインを、室温に放置するだけでもよく、さらに好ましくは冷却水などの冷媒を用いて該装置を冷却してもよい。なお、溶解を早めるために加熱と冷却の操作を繰り返してもよい。溶解が十分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。高圧高温溶解方法においては、溶媒の蒸発を避けるために密閉容器を用いる。また、膨潤工程おいて、加圧や減圧にしたりすることでさらに溶解時間を短縮することができる。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器あるいはラインが必須である。   Next, the organic solvent mixture is preferably heated to 70 to 240 ° C. under a pressure of 0.2 MPa to 30 MPa (preferably 80 to 220 ° C., more preferably 100 to 200 ° C., most preferably 100 to 190 ° C. ). The heating may be, for example, high-pressure steam or an electric heat source. A pressure vessel or a pressure line is required for high pressure, but any of iron, stainless steel, or other metal pressure vessel or line may be used, and is not particularly limited. Next, since these heated solutions cannot be applied as they are, it is necessary to cool them below the lowest boiling point of the solvent used. In that case, it is common to cool to -10-50 degreeC and to return to a normal pressure. For cooling, the high-pressure and high-temperature vessel or line containing the polymer solution in the present invention may be left at room temperature, and more preferably, the apparatus may be cooled using a coolant such as cooling water. Note that heating and cooling operations may be repeated in order to accelerate dissolution. Whether or not the dissolution is sufficient can be determined by merely observing the appearance of the solution with the naked eye. In the high-pressure and high-temperature dissolution method, a closed container is used to avoid evaporation of the solvent. In addition, the dissolution time can be further shortened by increasing the pressure or reducing the pressure in the swelling step. In order to perform pressurization and decompression, a pressure-resistant container or line is essential.

前述した方法により得られた本発明におけるドープは、高濃度のドープが得られるのが特徴であり、濃縮という手段に頼らずとも高濃度でしかも安定性の優れた本発明におけるドープが得られる。しかし、さらに溶解を短時間で達成するために低濃度で溶解してから、濃縮手段を用いて濃縮する方法も採用される。濃縮の方法としては、特に限定するものはないが、例えば、低濃度溶液を筒体とその内部の周方向に回転する回転羽根外周の回転軌跡との間に導くとともに、溶液との間に温度差を与えて溶媒を蒸発させながら高濃度溶液を得る方法(例えば、特開平4−259511号公報等)、加熱した低濃度溶液をノズルから容器内に吹き込み、溶液をノズルから容器内壁に当たるまでの間で溶媒をフラッシュ蒸発させるとともに、溶媒蒸気を容器から抜き出し、高濃度溶液を容器底から抜き出す方法(例えば米国特許第2,541,012号、同第2,858,229号、同第4,414,341号、同第4,504,355号各明細書等などに記載の方法)等で実施できる。   The dope according to the present invention obtained by the above-described method is characterized in that a high concentration dope is obtained, and the dope according to the present invention having a high concentration and excellent stability can be obtained without relying on the means of concentration. However, in order to achieve further dissolution in a short time, a method of concentrating using a concentration means after dissolving at a low concentration is also employed. The concentration method is not particularly limited. For example, the low-concentration solution is guided between the cylindrical body and the rotation trajectory of the outer periphery of the rotating blade rotating in the circumferential direction, and the temperature between the solution and the solution. A method of obtaining a high-concentration solution while evaporating the solvent by giving a difference (for example, JP-A-4-259511), a heated low-concentration solution is blown into the container from the nozzle, and the solution is applied from the nozzle to the inner wall of the container The solvent is flash-evaporated, the solvent vapor is extracted from the container, and the high-concentration solution is extracted from the bottom of the container (for example, US Pat. Nos. 2,541,012, 2,858,229, and 4, No. 414,341, No. 4,504,355, etc.).

本発明におけるドープの製膜直前の粘度は、製膜の際に流延可能な範囲であればよく、通常0.1Pa・s〜2000Pa・sの範囲に調製されることが好ましく、特に0.5Pa・s〜400Pa・sが好ましい。なお、この時の温度はその流延時の温度であれば特に限定されないが、好ましくは−5〜70℃であり、より好ましくは−5〜55℃である。   In the present invention, the viscosity of the dope immediately before film formation may be in a range that allows casting, and is usually preferably adjusted in the range of 0.1 Pa · s to 2000 Pa · s, and particularly preferably 0.8. 5 Pa · s to 400 Pa · s is preferable. In addition, although the temperature at this time will not be specifically limited if it is the temperature at the time of the casting, Preferably it is -5-70 degreeC, More preferably, it is -5-55 degreeC.

次に、本発明におけるドープの濾過について記述する。本発明におけるポリマー溶液は流延に先だって金網やネルなどの適当な濾材を用いて、未溶解物やゴミ、不純物などの異物を濾過除去しておくのが好ましい。本発明におけるドープの濾過には絶対濾過精度が0.005mm以上で、0.1mm以下のフィルター用いることが好ましく、さらには絶対濾過精度が0.005mm未満、0.0005mm以上であるフィルターを用いることが更に好ましい。その場合、16kg/cm2 以下(好ましくは12kg/cm2 以下、さらに好ましくは10kg/cm2 以下、特に好ましくは2kg/cm2 以下。)の濾過圧力で濾過して製膜することが好ましい。この濾過により50μmを越える異物は面積70mm2 当たり実質上0個を達成でき、さらに5〜50μmの異物については面積70mm2 当たり60個以下を達成できる。ここで、本発明で得られるフィルム中の異物の個数は光学顕微鏡(透過光源で倍率100倍)で観察し、その時の異物の数を10箇所にわたって測定し、この評価を5回繰り返した時の異物の数と定義したものである。 Next, filtration of the dope in the present invention will be described. Prior to casting the polymer solution in the present invention, it is preferable to filter off foreign matters such as undissolved matter, dust and impurities using a suitable filter medium such as a wire mesh or flannel. For the filtration of the dope in the present invention, it is preferable to use a filter having an absolute filtration accuracy of 0.005 mm or more and 0.1 mm or less, and further using a filter having an absolute filtration accuracy of less than 0.005 mm and 0.0005 mm or more. Is more preferable. In that case, it is preferable to form a film by filtration at a filtration pressure of 16 kg / cm 2 or less (preferably 12 kg / cm 2 or less, more preferably 10 kg / cm 2 or less, particularly preferably 2 kg / cm 2 or less). The foreign matter in excess of 50μm by filtration can achieve substantially zero per area 70 mm 2, further for 5~50μm foreign matter can be achieved following 60 per area 70 mm 2. Here, the number of foreign matters in the film obtained in the present invention was observed with an optical microscope (100 times magnification with a transmission light source), the number of foreign matters at that time was measured over 10 locations, and this evaluation was repeated five times. This is defined as the number of foreign objects.

また、本発明のフィルムをディスプレイ用などプラスチック基板として用いる場合、フィルム上に導電性層、ガスバリア層など各種機能層を設置して用いられる。この場合、フィルム中の異物があると表面平滑性へ影響し、各種機能性層の特性を低下させる場合がある。このような場合、本発明のフィルム中に含まれる異物の数は、50μmを越える異物は面積70mm2 当たり実質上0個であることが好ましく、さらには5〜50μmの異物が面積70mm2 当たり30個以下が好ましく、より好ましくは10個以下である。 When the film of the present invention is used as a plastic substrate for displays or the like, various functional layers such as a conductive layer and a gas barrier layer are installed on the film. In this case, if there is a foreign substance in the film, it affects the surface smoothness and may deteriorate the characteristics of various functional layers. In such a case, the number of foreign matters contained in the film of the present invention is preferably substantially zero for foreign matters exceeding 50 μm per 70 mm 2 area, and further, foreign matters of 5 to 50 μm are 30 per 70 mm 2 area. Or less, more preferably 10 or less.

このような異物個数を達成するための方法としては、本発明におけるドープを濾過する際に用いるフィルターの平均孔径を小さくする方法が挙げられる。好ましい平均孔径は1μm〜40μmが好ましく、より好ましくは2μm〜以上20μm、特に好ましくは3μm〜10μmである。一方でフィルターの平均孔径を小さくする方法は本発明におけるドープの濾過圧力が上昇したり、濾過速度が遅くなる場合があり注意を要する。このような場合、本発明では、濾過助剤を用いて濾過する方法を特に好ましい方法として挙げることができる。   As a method for achieving such a number of foreign matters, a method of reducing the average pore diameter of the filter used when filtering the dope in the present invention can be mentioned. The average pore diameter is preferably 1 μm to 40 μm, more preferably 2 μm to 20 μm, and particularly preferably 3 μm to 10 μm. On the other hand, the method of reducing the average pore diameter of the filter requires caution because the dope filtration pressure in the present invention may increase or the filtration rate may be reduced. In such a case, in the present invention, a method of filtering using a filter aid can be mentioned as a particularly preferable method.

ここでいう濾過助剤とは、使用する濾過フィルターの平均孔径よりも平均粒子サイズが大きく、不規則形状の細粉であって、本発明におけるドープに溶解しないものであり、濾過フィルター上にあらかじめ積層しておく(プレコート)ことで濾過効率を高めることができるものである。濾過助剤の種類としては特に制限はないが、セルロース、ケイソウ土、パーライト、活性炭、粉末木炭が好ましく用いられ、その中でもセルロース、ケイソウ土、パーライトが好ましく、平均長さ40〜300μmのセルロース、平均粒子サイズ2〜50μmのケイソウ土、平均粒子サイズ2〜50μmのパーライトが特に好ましい。例えば、セルロースとしては「ファイブラルセルBH−100」(米国セライト社製)、「ダイアセル−150」(セルロース−フルストッフ−ファブリック社製)、「ソルカ−フロックBW−40」(ブラウン社製)が、ケイソウ土としては「ラジオライト」(昭和化学工業(株)製)、「セライトSSC」、「C−512」、「C−505」(ジョンズ−マンビレ−インターナショナル−コーポレーション社製)、「ダイカライト スーパーエイド」、「ダイカライト2500」、「ダイカライト6000」(グレフコ社製)が、パーライトとしては「トプコパーライト」(昭和化学工業(株)製)、「ダイカライトパーライト」(ダイカライトオリエント社製)が挙げられる。これらの濾過助剤は必要に応じて複数種併用することができ、材質の異なるもの、形状の異なるもの、平均サイズの異なるもの同士を組み合わせることで単独で用いるよりも濾過効率を高めることができる場合がある。   The filter aid here is an average particle size larger than the average pore size of the filter used, and is an irregularly shaped fine powder that does not dissolve in the dope of the present invention. Filtration efficiency can be improved by laminating (pre-coating). Although there is no restriction | limiting in particular as a kind of filter aid, A cellulose, diatomaceous earth, pearlite, activated carbon, powdered charcoal is used preferably, Among these, a cellulose, diatomaceous earth, and pearlite are preferable, the average length of 40-300 micrometers cellulose, an average Diatomaceous earth having a particle size of 2 to 50 μm and pearlite having an average particle size of 2 to 50 μm are particularly preferable. For example, as the cellulose, “Fibral Cell BH-100” (manufactured by Celite, USA), “Diacel-150” (manufactured by Cellulose-Fullstoff Fabric), “Solker-Flock BW-40” (manufactured by Brown), As for diatomaceous earth, “Radiolite” (manufactured by Showa Chemical Industry Co., Ltd.), “Celite SSC”, “C-512”, “C-505” (manufactured by Johns Manbile International Corporation), “Daikalite Super” "Aid", "Daikalite 2500", "Daikalite 6000" (manufactured by Grefco), as perlite "Topco perlite" (manufactured by Showa Chemical Industry Co., Ltd.), "Daikalite perlite" (manufactured by Daikalite Orient) Is mentioned. These filter aids can be used in combination as needed, and the filtration efficiency can be improved compared to using them alone by combining different materials, different shapes, and different average sizes. There is a case.

前記濾過助剤の使用量は、濾過助剤のサイズ、必要とする異物除去レベルにもより一概に言えないが、濾過面積1m2 当り0.2〜5kgが好ましく、より好ましくは0.5〜4kgである。助剤の使用量が少なすぎる場合、濾過効果が減少し異物除去が不十分であったり、濾過圧力が上昇したり濾過速度が低下する場合がある。また助剤の使用量が多すぎても、濾過効果が変らない場合があり経済的に有利とならない。 The amount of the filter aid used is not generally determined by the size of the filter aid and the required level of removing foreign matter, but is preferably 0.2 to 5 kg, more preferably 0.5 to 1 m 2 of the filtration area. 4 kg. If the amount of the auxiliary agent used is too small, the filtration effect may be reduced, foreign matter removal may be insufficient, the filtration pressure may increase, or the filtration rate may decrease. Moreover, even if there is too much usage-amount of auxiliary agent, the filtration effect may not change and it is not economically advantageous.

本発明におけるドープの濾過を行う際、必要に応じて吸着剤を併用してもよい。用いられる吸着剤としては、活性アルミナ、活性白土、活性炭、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素等があげられる、これらは単独で用いても濾過助剤と併用してもよい。吸着剤を用いることで本発明におけるポリマー中に高極性物質(ビスフェノール化合物やジカルボン酸などのモノマー類、4級アンモニウム塩、Na塩などのイオン性物質など)が含まれる場合、これを低減でき好ましい。吸着剤の使用量は、一般に本発明におけるドープの質量に対して0.1質量%〜3質量%が好ましく、より好ましくは0.2質量%〜2質量%である。   When filtering the dope in the present invention, an adsorbent may be used in combination as necessary. Examples of the adsorbent used include activated alumina, activated clay, activated carbon, magnesium oxide, aluminum oxide, and silicon oxide. These may be used alone or in combination with a filter aid. When the polymer in the present invention contains a highly polar substance (monomers such as bisphenol compounds and dicarboxylic acids, and ionic substances such as quaternary ammonium salts and Na salts), it is preferable to use an adsorbent. . In general, the amount of the adsorbent used is preferably 0.1% by mass to 3% by mass, and more preferably 0.2% by mass to 2% by mass with respect to the mass of the dope in the present invention.

本発明における濾過助剤を用いた濾過方法については、予め濾過助剤と本発明におけるドープに用いる有機溶媒と好ましくは同一の溶媒からなるスラリーを濾過して濾過フィルター表面に濾過助剤のプレコート層を形成させ、これを濾材として本発明におけるドープを濾過するプレコート法や、本発明におけるドープに適量の濾過助剤を混入して濾過するボディフィード法等がある。一方、吸着操作については、吸着剤をドープ液に加え、撹拌して吸着を行なう方法、即ち接触吸着法、あるいは吸着剤を充填した層にドープを通して吸着させる方法、即ち固定相吸着法等がある。本発明においては、いずれの濾過方法および吸着法でも適用可能であり、かつ組み合わせることもできる。特に濾過助剤を用いた濾過はプレコート法とボディフィード法とを併用する方法が特に好ましい。吸着温度および濾過温度は、除去したい異物の種類にもより異なるが、一般的に0〜120℃が好ましく、より好ましくは10〜100℃である。   Regarding the filtration method using the filter aid in the present invention, a slurry made of the same solvent as the organic solvent used in the filter aid and the dope in the present invention is filtered in advance, and a precoat layer of the filter aid is formed on the filter surface. There are a pre-coating method in which the dope according to the present invention is filtered using this as a filter medium, and a body feed method in which an appropriate amount of filter aid is mixed in the dope according to the present invention for filtration. On the other hand, with respect to the adsorption operation, there is a method in which an adsorbent is added to a dope solution and adsorbed by stirring, that is, a contact adsorption method, or a method in which a dope is adsorbed through a layer filled with an adsorbent, that is, a stationary phase adsorption method . In the present invention, any filtration method and adsorption method can be applied and combined. In particular, the filtration using a filter aid is particularly preferably a method in which the precoat method and the body feed method are used in combination. Although the adsorption temperature and the filtration temperature vary depending on the type of foreign matter to be removed, generally 0 to 120 ° C is preferable, and 10 to 100 ° C is more preferable.

(減圧脱気工程)
本発明のフィルムの製造方法においては、本発明におけるドープを流延する前に、前記ドープを減圧脱気工程において減圧脱気する。これによりドープ中に残存する空気が脱気され、気泡の発生の少ないフィルムを生産性良く製造することができる。本発明のフィルムに含まれる気泡の数は、クロスニコル下での目視観察で評価することが好ましく、1m2当たり、10個以下であることが好ましい。より好ましくは5個以下であり、特に好ましくは1個以下である。一般に有機溶剤中に含まれる空気を脱気する方法としては、超音波で振動を与える方法、アルゴンガスなど有機溶剤に対する溶解度の低い気体をバブリングさせる方法などが用いられる。一方、溶液製膜のためのドープは高濃度、高粘度のポリマー溶液であり、脱気しにくい。さらに一般コーティングと異なり通常100μm程度の厚膜とする場合が多く製膜乾燥時に気泡が抜けにくく、膜中にピンホールなどが発生しやすいことが知られる。
(Low pressure degassing process)
In the method for producing a film of the present invention, the dope is degassed under reduced pressure in a vacuum degassing step before casting the dope according to the present invention. Thereby, the air remaining in the dope is degassed, and a film with less generation of bubbles can be manufactured with high productivity. The number of bubbles contained in the film of the present invention is preferably evaluated by visual observation under crossed Nicols, and is preferably 10 or less per 1 m 2 . More preferably, it is 5 or less, and particularly preferably 1 or less. In general, as a method for degassing air contained in an organic solvent, a method of applying vibration with ultrasonic waves, a method of bubbling a gas having low solubility in an organic solvent such as argon gas, or the like is used. On the other hand, the dope for forming a solution is a polymer solution having a high concentration and a high viscosity, and is difficult to deaerate. In addition, unlike general coatings, it is usually a thick film of about 100 μm, and it is known that bubbles are difficult to escape during film-forming and drying, and pinholes are likely to occur in the film.

溶液製膜のためのドープの脱気に関して、特開2003−200445号公報には、流延の気泡による故障を防止するため、流延支持体に流延する前の高濃度セルロースアシレート溶液を、1気圧下での飽和溶存空気量の90%以下に脱気したことを特徴とする溶液製膜方法が記載されている。該公報実施例によれば、1)ドープ調製時に減圧する方法(その後濾過)、2)濾過後のドープを加温、静置する方法、3)濾過後のドープを減圧する方法、4)濾過後のドープをフラッシュさせる方法、5)流延ダイ内部または吐出口におけるドープ温度をドープ調製時よりも低くする方法などいずれの方法を用いても脱気がなされ、流延後のフィルム上にほとんど気泡が発生しないと記載されている。   Regarding the deaeration of the dope for solution casting, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-200445 describes a high-concentration cellulose acylate solution before casting on a casting support in order to prevent failure due to casting bubbles. A solution casting method characterized by degassing to 90% or less of the amount of saturated dissolved air under 1 atm is described. According to the examples of the publication, 1) a method of reducing the pressure at the time of dope preparation (subsequent filtration), 2) a method of heating and leaving the dope after filtration, 3) a method of reducing the pressure of the dope after filtration, and 4) filtration. Degassing is performed by any method such as a method of flushing the dope afterwards, 5) a method of lowering the dope temperature in the casting die or at the discharge port than that at the time of preparing the dope, and the film is almost entirely on the film after casting. It is stated that no bubbles are generated.

さらに、特開2002−241511号公報には乾燥後のフィルム中の気泡を0個とするため、すなわち気泡を防止するための方法として(1)耐圧溶解容器中でセルロースエステルと有機溶媒等を混合後沸点付近にまで昇温し、(2)その温度で6分以上静置したまま耐圧溶解容器を大気に開放した後、(3)該耐圧溶解容器を大気から閉じ、沸点をBPとすると、BP+20℃〜BP+50℃に昇温し加圧状態とし、(4)引き続き該加圧状態で溶解したドープを使用して形成すること、等が開示されている。   Furthermore, in JP-A-2002-241511, in order to reduce the number of bubbles in the film after drying, that is, as a method for preventing bubbles, (1) a cellulose ester and an organic solvent are mixed in a pressure-resistant dissolution vessel After raising the temperature to near the post-boiling point, (2) after opening the pressure-resistant dissolution vessel to the atmosphere while standing at that temperature for 6 minutes or more, and (3) closing the pressure-resistant dissolution vessel from the atmosphere and setting the boiling point to BP, It is disclosed that the temperature is raised to BP + 20 ° C. to BP + 50 ° C. to obtain a pressurized state, and (4) the dope is subsequently dissolved using the pressurized state.

上記のようにセルロースアシレートを用いたドープでは種々の方法により、フィルム中の気泡を低減させる効果を発現できる。本発明者はこれら種々の方法をガラス転移温度が250℃以上かつ全光線透過率が70%以上のフィルムの製造方法に応用しようと試みたところ、ドープの減圧脱気を行うことが特異的に優れることを見出した。
ここで、「減圧脱気」とは、減圧下で脱気を行うことである。
As described above, the dope using cellulose acylate can exhibit the effect of reducing bubbles in the film by various methods. The present inventor attempted to apply these various methods to a method for producing a film having a glass transition temperature of 250 ° C. or higher and a total light transmittance of 70% or higher. I found it excellent.
Here, “vacuum degassing” is degassing under reduced pressure.

本発明におけるドープの減圧脱気は、減圧下で脱気を行うこと以外は特に制限はないが、より好ましい減圧脱気の方法としては、沸騰させながら減圧脱気する方法、振動を与えながら減圧脱気する方法が挙げられる。沸騰させながら減圧脱気する場合の沸騰方法としては、ドープに使用する有機溶媒の最低沸点を超える温度で処理する方法でよく、室温で減圧度を高めて沸騰させる方法でもよく、加熱しながら減圧にする方法でもよい。沸騰させながら脱気を行うことで、より短時間で効率的に脱気が可能である。また、セルロースアシレートのドープの脱気方法として知られるフラッシュ法は送り容器を加圧する加圧フラッシュ、受け容器を減圧にする減圧フラッシュに分けられるが、減圧フラッシュは結果としてドープを減圧下にさらすこととなり、本発明におけるドープの減圧脱気方法に含まれる。   The vacuum degassing of the dope in the present invention is not particularly limited except that degassing is performed under reduced pressure, but a more preferable method of vacuum degassing is a method of vacuum degassing while boiling, a pressure reduction while giving vibration, The method of deaeration is mentioned. In the case of degassing while boiling, the boiling method may be a method of processing at a temperature exceeding the lowest boiling point of the organic solvent used for the dope, or a method of boiling at an increased degree of vacuum at room temperature. It is also possible to use this method. By performing deaeration while boiling, the deaeration can be efficiently performed in a shorter time. In addition, the flash method known as a method for degassing cellulose acylate dope can be divided into a pressurized flash that pressurizes the feeding container and a reduced pressure flash that reduces the pressure in the receiving container, but the reduced pressure flash results in exposing the dope under reduced pressure. This is included in the vacuum degassing method of the dope in the present invention.

また、ドープに振動を与えながら脱気する方法の振動は、できるだけ細かく且つ強い振動を与えるのがよく、脱気方法の種類としては、超音波処理を行うことが好ましい。また、振動を与える方法として配管や容器の外部から与えても良く、内部に超音波振動素子を直接配置してもよい。また有用な振動装置の振動周波数としては100Hz〜40kHzが好ましく、特に超音波振動素子としては10〜40kHzが好ましい。   Further, the vibration of the method of deaeration while applying vibration to the dope is preferably as fine and strong as possible, and it is preferable to perform ultrasonic treatment as the type of deaeration method. Further, as a method of applying vibration, the vibration may be applied from the outside of the pipe or the container, or the ultrasonic vibration element may be directly disposed inside. The vibration frequency of a useful vibration device is preferably 100 Hz to 40 kHz, and particularly preferably 10 to 40 kHz as an ultrasonic vibration element.

本発明におけるドープの減圧脱気方法は、上記の沸騰や振動を併用する方法を段階的に組み合わせてもよく、また同時に組み合わせてもよい。さらに単独では効果の少ないその他の方法(撹拌、加温、静置、加圧フラッシュ)を減圧脱気に組み合わせることも有効である場合が多い。この中でも撹拌しながら超音波による振動を与えた後、減圧脱気する方法が、脱気効果が高く、装置が簡便となり特に好ましい。   The vacuum degassing method of the dope in the present invention may be a stepwise combination of the above-described methods using boiling and vibration, or may be combined simultaneously. In addition, it is often effective to combine other methods (stirring, warming, standing, pressure flash), which are less effective alone, with vacuum degassing. Among these, the method of degassing under reduced pressure after applying vibration by ultrasonic waves while stirring is particularly preferable because the degassing effect is high and the apparatus is simple.

また、本発明におけるドープを濾過する場合、ドープの減圧脱気は濾過終了後に行うことが好ましい。ドープ濾過を行う場合、通常、空気を巻き込みやすく、本発明におけるドープを脱気後にドープ濾過を行う場合、脱気の効果が低下する懸念がある。
本発明におけるドープの減圧脱気を行う際の減圧度は、ドープの温度、ドープに用いる溶媒種にもより一概には言えないが、好ましい圧力範囲として1〜90000Pa、より好ましくは100〜80000Pa、特に好ましくは1000〜70000Paである。また、本発明では上記で挙げたように沸騰させながら減圧脱気する方法が好ましく、この場合の好ましい圧力は使用する溶媒種、ドープの温度で決定され、最も沸点の低い溶媒の蒸気圧以下であることが好ましい。また、本発明におけるドープの減圧脱気後に溶媒の揮発分を添加して濃度調整をすることもできる。
Moreover, when filtering the dope in this invention, it is preferable to perform the vacuum deaeration of dope after completion | finish of filtration. When performing dope filtration, it is usually easy to entrain air, and when performing dope filtration after deaeration of the dope in the present invention, there is a concern that the effect of deaeration is reduced.
The degree of vacuum when performing vacuum degassing of the dope in the present invention cannot be said more generally than the temperature of the dope and the type of solvent used for the dope, but is preferably 1 to 90000 Pa, more preferably 100 to 80000 Pa, Especially preferably, it is 1000-70000 Pa. Further, in the present invention, as described above, the method of degassing while boiling is preferred, and the preferred pressure in this case is determined by the type of solvent used, the temperature of the dope, and below the vapor pressure of the solvent having the lowest boiling point. Preferably there is. In addition, the concentration can be adjusted by adding a volatile component of the solvent after the degassing of the dope under reduced pressure in the present invention.

(流延乾燥工程)
次に本発明のフィルムの溶液の流延工程について述べる。前記流延乾燥工程は、減圧脱気を施したドープを支持体上に流延する工程である。本発明のフィルムの製造方法において用いられる溶液流延方法は、少量で行う場合はガラスや金属の容器にドープを調製し、必要に応じて濾過を行った後に減圧脱気を行い、このドープを平滑性の高い、ガラス板や金属板などの支持体上に小型ダイやドクターブレードなどを用いて所望の膜厚に流延する。流延後、一次乾燥を行い、支持体から剥離し、必要に応じて枠張りし、後乾燥を行う。
(Casting drying process)
Next, the process for casting the solution of the film of the present invention will be described. The casting drying step is a step of casting a dope that has been degassed under reduced pressure onto a support. The solution casting method used in the method for producing a film of the present invention is prepared by preparing a dope in a glass or metal container when performing in a small amount, and performing vacuum degassing after performing filtration as necessary. The film is cast to a desired film thickness using a small die or a doctor blade on a highly smooth substrate such as a glass plate or a metal plate. After casting, primary drying is performed, and the film is peeled off from the support, framed as necessary, and post-dried.

また、大量、特に連続的にフィルムを得る場合には、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法および溶液流延製膜装置を用いることができる。溶解機(釜)で調製されたドープを濾過、減圧脱気などを行いドープの最終調製をする。その後ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金(スリット)からエンドレスに走行している流延部の支持体(ドラムやバンド)の上に均一に流延され、支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜(ウェブとも呼ぶ)を支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥を終了して巻き取り機で所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許第2,336,310号明細書、同2,367,603号明細書、同2,492,078号明細書、同2,492,977号明細書、同2,492,978号明細書、同2,607,704号明細書、同2,739,069号明細書、同2,739,070号明細書、英国特許第640731号明細書、同736892号明細書、特公昭45−4554号公報、同49−5614号公報、特開昭60−176834号公報、同60−203430号公報、同62−115035号公報に記載がある。ドープは、任意の表面温度に調整したドラムまたはバンド上に流延することが好ましく用いられる。   Moreover, when obtaining a film in large quantities, especially continuously, a solution casting film forming method and a solution casting film forming apparatus conventionally used for producing a cellulose triacetate film can be used. The dope prepared in the dissolving machine (kettle) is filtered, degassed under reduced pressure, etc., and the dope is finally prepared. After that, the dope is sent from the dope discharge port to the pressure die through a pressure metering gear pump capable of delivering a constant amount of liquid with high accuracy, for example, by the rotational speed, and the dope is run endlessly from the die (slit) of the pressure die. The dope film (also referred to as a web) is peeled off from the support at a peeling point that is uniformly cast on the support (drum or band) and the support has almost gone around. Both ends of the obtained web are sandwiched between clips, transported by a tenter while keeping the width, dried, then transported by a roll group of a drying device, dried, and wound up to a predetermined length by a winder. The combination of the tenter and the roll group dryer varies depending on the purpose. The surface of the drum or band is preferably finished in a mirror state. The casting and drying methods in the solvent casting method are described in U.S. Pat. Nos. 2,336,310, 2,367,603, 2,492,078, 2,492,977. No. 2,492,978, No. 2,607,704, No. 2,739,069, No. 2,739,070, British Patent No. 640731 No. 736892, JP-B 45-4554, 49-5614, JP-A-60-176834, 60-203430, and 62-1115035. The dope is preferably cast on a drum or band adjusted to an arbitrary surface temperature.

本発明では得られた本発明におけるドープを、支持体としての平滑なバンド上あるいはドラム上に単層液として流延してもよいし、2層以上の複数の本発明におけるドープを流延してもよい。複数の本発明におけるドープを流延する場合、支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口から本発明におけるドープをそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよく、例えば特開昭61−158414号公報、特開平1−122419号公報、特開平11−198285号公報などに記載の方法が適応できる。また、2つ以上の流延口から同時に本発明におけるドープを流延することによってもフィルム化することでもよく、例えば特公昭60−27562号公報、特開昭61−94724号公報、特開昭61−947245号公報、特開昭61−104813号公報、特開昭61−158413号公報、特開平6−134933号公報に記載の方法で実施できる。また、特開昭56−162617号公報に記載の高粘度の本発明におけるドープの流れを低粘度の本発明におけるドープで包み込み、その高,低粘度の本発明におけるドープを同時に押出す流延方法でもよい。   In the present invention, the obtained dope according to the present invention may be cast as a single layer liquid on a smooth band or drum as a support, or a plurality of the dopes according to the present invention having two or more layers may be cast. May be. When casting a plurality of dopes in the present invention, a film may be produced while casting and laminating the dopes in the present invention from a plurality of casting openings provided at intervals in the traveling direction of the support. For example, methods described in JP-A-61-158414, JP-A-1-122419, JP-A-11-198285 and the like can be applied. Further, the dope according to the present invention may be cast from two or more casting ports simultaneously to form a film. For example, Japanese Patent Publication No. 60-27562, Japanese Patent Publication No. 61-94724, Japanese Patent Publication No. It can be carried out by the methods described in JP-A 61-947245, JP-A 61-104413, JP-A 61-158413, and JP-A 6-134933. Also, a casting method in which the dope according to the present invention having a low viscosity is wrapped with the dope according to the present invention having a low viscosity, and the dope according to the present invention having a high and low viscosity is simultaneously extruded, as described in JP-A-56-162617. But you can.

さらに、本発明においては、2個の流延口を用いて、第一の流延口により支持体に成型したフィルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第二の流延を行なうことによりフィルムを作製することでもよく、例えば特公昭44−20235号公報に記載されている方法を用いることができる。流延する本発明におけるドープは同一の溶液でもよいし、異なる本発明におけるドープでもよく特に限定されない。複数の本発明におけるポリマー層に機能を持たせるために、その機能に応じた本発明におけるドープを、それぞれの流延口から押出せばよい。さらに本発明におけるドープは、他の機能層(例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、UV吸収層、偏光膜など)を同時に流延することも実施しうる。   Furthermore, in the present invention, using two casting ports, the film cast on the support is peeled off by the first casting port, and the second casting is performed on the side in contact with the support surface. For example, a method described in Japanese Patent Publication No. 44-20235 can be used. The dope in the present invention to be cast may be the same solution or may be a different dope in the present invention, and is not particularly limited. In order to give a plurality of polymer layers of the present invention a function, the dope according to the present invention corresponding to the function may be extruded from each casting port. Furthermore, the dope in the present invention can be cast by simultaneously casting other functional layers (for example, an adhesive layer, a dye layer, an antistatic layer, an antihalation layer, a UV absorbing layer, a polarizing film, etc.).

また、詳細に本発明に有用な流延方法について記すと、調製されたドープを加圧ダイから支持体上に均一に押し出す方法;一旦支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法;あるいは逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、加圧ダイによる方法が好ましい。加圧ダイにはコートハンガータイプやTダイタイプ等があるがいずれも好ましく用いることができる。また、ここで挙げた方法以外にも従来知られているセルローストリアセテート溶液を流延製膜する種々の方法(例えば特開昭61−94724号公報、同61−148013号公報、特開平4−85011号公報、同4−286611号公報、同5−185443号公報、同5−185445号公報、同6−278149号公報、同8−207210号公報などに記載の方法)を好ましく用いることができ、用いる溶媒の沸点等の違いを考慮して各条件を設定することによりそれぞれの公報に記載の内容と同様の効果が得られる。   The casting method useful in the present invention will be described in detail. A method of uniformly extruding the prepared dope from the pressure die onto the support; the thickness of the dope once cast on the support with a blade is increased. There are a method using a doctor blade for adjustment; a method using a reverse roll coater for adjustment using a reverse rotating roll, etc., and a method using a pressure die is preferred. The pressure die includes a coat hanger type and a T die type, and any of them can be preferably used. In addition to the methods listed here, various known methods for casting a cellulose triacetate solution (for example, JP-A-61-94724, JP-A-61-148013, JP-A-4-85011). No. 4-286611, No. 5-185443, No. 5-185445, No. 6-278149, No. 8-207210, and the like. By setting each condition in consideration of the difference in the boiling point of the solvent to be used, the same effects as described in the respective publications can be obtained.

本発明のフィルムを製造方法に使用されるエンドレスに走行する支持体としては、表面がクロムメッキによって鏡面仕上げされたドラムや表面研磨によって鏡面仕上げされたステンレスベルト(バンドといってもよい)などが用いられる。本発明のフィルムの製造に用いられる加圧ダイは、支持体の上方に1基あるいは2基以上の設置でもよい。好ましくは1基または2基である。2基以上設置する場合には流延するドープ量をそれぞれのダイに種々な割合にわけてもよく、複数の精密定量ギヤアポンプからそれぞれの割合でダイにドープを送液することができる。   The endlessly running support used in the production method of the film of the present invention includes a drum whose surface is mirror-finished by chrome plating and a stainless steel belt (which may be called a band) whose surface is polished by surface polishing. Used. One or more pressure dies used for producing the film of the present invention may be installed above the support. Preferably 1 or 2 groups. When two or more are installed, the amount of dope to be cast may be divided into various ratios for each die, and the dope can be fed to the dies at each ratio from a plurality of precision quantitative gear pumps.

本発明のフィルムの製造方法に係わる支持体上におけるドープの乾燥は、一般的には支持体(ドラムあるいはベルト)の表面側、つまり支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てる方法、ドラムあるいはベルトの裏面から熱風を当てる方法、温度コントロールした液体をベルトやドラムのドープ流延面の反対側の裏面から接触させて、伝熱によりドラムあるいはベルトを加熱し表面温度をコントロールする液体伝熱方法などがあるが、裏面液体伝熱方式が好ましい。流延される前の支持体の表面温度はドープに用いられている溶媒の沸点以下であれば特に制限はない。しかし乾燥を促進するためには、また支持体上での流動性を失わせるためには、使用される溶媒の内の最も沸点の低い溶媒の沸点より1〜10℃低い温度に設定することが好ましい。また、沸点の異なる溶媒を複数種用いる場合、温度を多段階にまたは連続的に上昇させてもよい。一方で使用される溶媒の内の最も沸点の低い溶媒の沸点より20℃以上低い温度に設定することでフィルム中に発生する泡数が減少する傾向にある。このことはフィルムの乾燥速度を低下させることで気泡の抜けを促進させているものと推測でき、生産性向上とは両立しにくい。   The drying of the dope on the support according to the film production method of the present invention is generally performed by applying hot air from the surface side of the support (drum or belt), that is, the surface of the web on the support, the drum or A method of applying hot air from the back of the belt, a liquid heat transfer method of controlling the surface temperature by contacting the temperature-controlled liquid from the back of the belt or drum opposite the dope casting surface and heating the drum or belt by heat transfer However, the back surface liquid heat transfer method is preferable. The surface temperature of the support before casting is not particularly limited as long as it is not higher than the boiling point of the solvent used for the dope. However, in order to promote drying and to lose fluidity on the support, the temperature may be set to 1 to 10 ° C lower than the boiling point of the lowest boiling solvent used. preferable. Further, when a plurality of solvents having different boiling points are used, the temperature may be increased in multiple steps or continuously. On the other hand, the number of bubbles generated in the film tends to be reduced by setting the temperature to 20 ° C. or more lower than the boiling point of the solvent having the lowest boiling point. This can be inferred that the bubble removal is promoted by lowering the drying speed of the film, and it is difficult to achieve both productivity improvement.

支持体上に形成された本発明におけるポリマーフィルムは、支持体から剥離される。このときの、剥離荷重の最大値(最大剥離荷重)は1〜30g/cmであることが好ましく、1〜28g/cmであることがより好ましく、3〜25g/cmであることがさらに好ましい。また、本発明におけるドープを支持体上に流延した時点から剥離を開始するまでの時間は、30秒〜600秒であることが好ましく、30秒〜400秒がより好ましく、30秒〜240秒がさらに好ましい。   The polymer film in the present invention formed on the support is peeled from the support. At this time, the maximum value of the peeling load (maximum peeling load) is preferably 1 to 30 g / cm, more preferably 1 to 28 g / cm, and further preferably 3 to 25 g / cm. In addition, the time from when the dope is cast on the support to the start of peeling is preferably 30 seconds to 600 seconds, more preferably 30 seconds to 400 seconds, and more preferably 30 seconds to 240 seconds. Is more preferable.

支持体から剥離した後の乾燥工程では、溶媒の蒸発によってフィルムは巾方向に収縮しようとする。このため、高温度で乾燥するほど収縮が大きくなる。この収縮は可能な限り抑制しながら乾燥することが、でき上がったフィルムの平面性を良好にする上で好ましい。この観点から、例えば、特開昭62−46625号公報に示されているような乾燥全工程あるいは一部の工程を幅方向にクリップでウェブの巾両端を巾保持しつつ乾燥させる方法(テンター方式)が好ましい。   In the drying process after peeling from the support, the film tends to shrink in the width direction by evaporation of the solvent. For this reason, shrinkage becomes large, so that it dries at high temperature. Drying while suppressing this shrinkage as much as possible is preferable for improving the flatness of the finished film. From this point of view, for example, a method of drying the entire drying process or a part of the process as shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-46625 while holding the width at both ends of the web with a clip in the width direction (tenter method) ) Is preferred.

本発明のフィルムの製造方法における乾燥工程は多段階に温度を上昇させて乾燥させることが好ましい。初期乾燥温度は用いる有機溶媒の沸点によっても異なるが、40〜250℃が好ましく、70〜220℃がより好ましい。さらに残留溶剤を除去するために、初期乾燥温度よりも高温で乾燥させることが好ましく、50℃〜本発明のフィルムのガラス転移温度以下の温度範囲で乾燥される。その場合逐次温度を変えた高温風で乾燥してもよく、赤外線ヒーターを用いてもよく、両方を併用することもできる。以上の方法は、特公平5−17844号公報などに記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。使用する溶媒によって乾燥温度、乾燥風量および乾燥時間が異なり、使用溶媒の種類、組合せに応じて適宜選べばよい。最終仕上がりフィルムの残留溶剤量は2質量%以下が好ましく、0.4質量%以下がより好ましく、特に好ましくは0.1質量%以下である。また、フィルムの乾燥は必要に応じて不活性ガス気流下で行ってもよく、減圧下で行ってもよい。   The drying step in the film production method of the present invention is preferably dried by increasing the temperature in multiple stages. The initial drying temperature varies depending on the boiling point of the organic solvent used, but is preferably 40 to 250 ° C, more preferably 70 to 220 ° C. Furthermore, in order to remove a residual solvent, it is preferable to dry at a temperature higher than the initial drying temperature, and it is dried in a temperature range from 50 ° C. to the glass transition temperature of the film of the present invention. In that case, it may dry with the high temperature wind which changed temperature one by one, an infrared heater may be used, and both can also be used together. The above method is described in Japanese Patent Publication No. 5-17844. According to this method, it is possible to shorten the time from casting to stripping. The drying temperature, the amount of drying air, and the drying time vary depending on the solvent used, and may be appropriately selected according to the type and combination of the solvents used. The amount of residual solvent in the final finished film is preferably 2% by mass or less, more preferably 0.4% by mass or less, and particularly preferably 0.1% by mass or less. Moreover, drying of a film may be performed under an inert gas stream as needed, and may be performed under reduced pressure.

本発明においては、その物理特性を向上させるために積極的に幅方向に延伸してもよく、例えば、特開昭62−115035号公報、特開平4−152125号、同4−284211号公報、同4−298310号公報、同11−48271号公報などに記載されている方法を適用できる。フィルムの延伸は、一般にはTg(ガラス転移温度)よりもさらに10〜20℃高い温度で行う場合が多いが、本発明のフィルムはガラス転移温度が高く、ガラス転移温度以上に加熱することでポリマーの分解が開始する場合がある。このような場合、本発明では特に本発明のフィルムの乾燥中の処理で延伸することが有効である。つまり溶媒を含んだ見かけのガラス転移温度が低い状態で延伸を行うことでポリマーの分解を起こさない温度で延伸することができる。その延伸方法としては、例えば、剥ぎ取り時の場合フィルムの搬送ローラーの速度を調節して、フィルムの剥ぎ取り速度よりもフィルムの巻き取り速度の方を速くするとフィルムは延伸される。また、剥ぎ取り後の乾燥時の場合、搬送方向手前側の搬送ローラーの搬送速度に対して搬送先の搬送ローラーの搬送速度を速くすることでフィルムは延伸される。また、フィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げることでフィルムを幅方向に延伸できる。   In the present invention, in order to improve its physical properties, it may be positively stretched in the width direction. For example, JP-A-62-115035, JP-A-4-152125, JP-A-4284221, The methods described in JP-A-4-298310 and JP-A-11-48271 can be applied. The film is generally stretched at a temperature 10 to 20 ° C. higher than Tg (glass transition temperature). However, the film of the present invention has a high glass transition temperature and is heated to a temperature higher than the glass transition temperature. Decomposition may begin. In such a case, in the present invention, it is particularly effective to stretch the film of the present invention by treatment during drying. That is, by performing stretching in a state where the apparent glass transition temperature containing the solvent is low, stretching can be performed at a temperature at which the polymer does not decompose. As the stretching method, for example, in the case of stripping, the film is stretched by adjusting the speed of the film transport roller so that the film winding speed is higher than the film stripping speed. In the case of drying after peeling, the film is stretched by increasing the transport speed of the transport roller at the transport destination relative to the transport speed of the transport roller on the near side in the transport direction. Further, the film can be stretched in the width direction by conveying the film while holding the film with a tenter and gradually increasing the width of the tenter.

フィルムの延伸倍率(元の長さに対する延伸後の長さの倍率)は、1.03〜3倍であることが好ましく、さらに好ましいのは1.05〜2.5倍であり、より好ましくは1.05〜1.8倍である。この時、延伸方向は流延方向でもよいし、流延方向と直角な方向に延伸されてもよく、さらに場合によっては両方向に延伸されてもよい。この時、延伸は同時に実施されてもよく、一方向に延伸してその後別方向に延伸されてもよい。これら流延から後乾燥までの工程は、空気雰囲気下でもよいし窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下でもよい。   The stretch ratio of the film (the ratio of the length after stretching relative to the original length) is preferably 1.03 to 3 times, more preferably 1.05 to 2.5 times, and more preferably 1.05 to 1.8 times. At this time, the stretching direction may be the casting direction, may be stretched in a direction perpendicular to the casting direction, or may be stretched in both directions depending on circumstances. At this time, stretching may be performed simultaneously, or stretching in one direction and then stretching in another direction. These steps from casting to post-drying may be performed in an air atmosphere or an inert gas atmosphere such as nitrogen gas.

本発明におけるポリマーフィルムの製造に係わる巻き取り機は一般的に使用されているものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法などの巻き取り方法で巻き取ることができる。本発明のでき上がり(乾燥後)の本発明におけるポリマーフィルムの厚さは、使用目的によって異なるが、通常20から500μmの範囲が好ましく、さらに30〜250μmの範囲が好ましく、特に30〜150μmの範囲が最も好ましい。フィルム厚さの調製は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、支持体速度等を調節すればよい。   The winder related to the production of the polymer film in the present invention may be a commonly used winder such as a constant tension method, a constant torque method, a taper tension method, or a program tension control method with a constant internal stress. Can be wound up. The thickness of the polymer film in the present invention (after drying) varies depending on the purpose of use, but is usually preferably in the range of 20 to 500 μm, more preferably in the range of 30 to 250 μm, and particularly preferably in the range of 30 to 150 μm. Most preferred. The film thickness may be adjusted by adjusting the solid content concentration contained in the dope, the slit gap of the die base, the extrusion pressure from the die, the support speed, and the like so as to obtain a desired thickness.

延伸速度は5%/分〜1000%/分であることが好ましく、さらに10%/分〜500%/分であることが好ましい。延伸はヒートロールあるいは/および放射熱源(IRヒーター等)、温風により行なうことが好ましい。また、温度の均一性を高めるために恒温槽を設けてもよい。ロール延伸で一軸延伸を行なう場合、ロール間距離(L)とフィルム幅(W)との比であるL/Wが、2.0〜5.0であることが好ましい。さらに、テンター乾燥のウェブの発泡を防止し、離脱性を向上させ、発塵を防止するために、乾燥装置において乾燥器の熱風や熱源がウェブ両縁部に当たらないように、乾燥器の幅がウェブの幅よりも短く形成することも好ましい。また、テンターの保持部に熱風や熱源が当たらないようウェブ両側端部内側に遮蔽板を設置してもよい。   The stretching speed is preferably 5% / min to 1000% / min, and more preferably 10% / min to 500% / min. The stretching is preferably performed by a heat roll or / and a radiant heat source (such as an IR heater) or warm air. Moreover, you may provide a thermostat in order to improve the uniformity of temperature. When performing uniaxial stretching by roll stretching, it is preferable that L / W which is ratio of the distance between rolls (L) and film width (W) is 2.0-5.0. Furthermore, in order to prevent foaming of the tenter-dried web, improve detachability, and prevent dust generation, the width of the dryer should be set so that the hot air and heat source of the dryer do not hit the edges of the web in the dryer. However, it is also preferable that the length is shorter than the width of the web. Moreover, you may install a shielding board inside web both ends so that a hot air and a heat source may not hit a holding | maintenance part of a tenter.

延伸フィルムは所定の厚さにすべき延伸倍率を選定すればよい。また、延伸することにより平面性などの面状の改良が達成でき好ましい場合がある。さらに、厚みのムラをより小さくするために、延伸温度を幅方向に勾配を持たせることで、一定の温度で延伸するより一層均一な延伸が達成できる場合もある。   What is necessary is just to select the draw ratio which should make a stretched film the predetermined | prescribed thickness. Further, by stretching, it may be preferable that an improvement in planarity such as flatness can be achieved. Furthermore, in order to make the thickness unevenness smaller, by providing a gradient in the width direction of the stretching temperature, it may be possible to achieve more uniform stretching than stretching at a constant temperature.

本発明のフィルムの厚みムラは流延方向、幅方向いずれも0%〜5%が好ましく、より好ましくは0%〜3%、さらに好ましくは0%〜1%である。また、本発明のフィルムは、寸法変化率が低いことが好ましい。特にディスプレイ用基板として各種機能層を設置する用途に用いる場合、寸法変化率の要求レベルが高く、好ましくは200℃(より好ましくは250℃、特に好ましくは300℃)、5時間加熱処理を行った場合の縦および横の寸法変化率は±0.1%以下であることが好ましく、より好ましくは±0.01%以下、特に好ましくは±0.005%以下である。   The thickness unevenness of the film of the present invention is preferably 0% to 5% in both the casting direction and the width direction, more preferably 0% to 3%, and still more preferably 0% to 1%. The film of the present invention preferably has a low dimensional change rate. In particular, when used for the purpose of installing various functional layers as a display substrate, the required level of dimensional change is high, preferably 200 ° C. (more preferably 250 ° C., particularly preferably 300 ° C.), and 5 hours heat treatment. In this case, the vertical and horizontal dimensional change rates are preferably ± 0.1% or less, more preferably ± 0.01% or less, and particularly preferably ± 0.005% or less.

本発明のフィルムの寸法変化率を低下させるためには、あらかじめ加熱処理をすることが有効である。この場合の加熱温度は使用する用途や要求される寸法変化率のレベルにもよるが、150℃〜ガラス転移温度以下の温度範囲で任意に選択できる。加熱時間は温度が高いほど短時間で済み、必要とする寸法変化率のレベルと加熱処理温度とによって決定される。一方、ここで行う加熱処理はフィルムの乾燥工程や必要に応じて行う延伸工程でフィルム内部に残留する内部応力を解消するために行うものであり、加熱処理によりフィルムは収縮する。従ってフィルムの収縮を急激に行うとフィルムの平面性が悪化する場合があり、注意を要する。このような場合、本発明のフィルムの製造方法における加熱処理方法としては、乾燥後のフィルムに急激な収縮を起こさないように端部を固定して加熱処理を行い、ついで端部を固定せずに加熱処理を行い、収縮を完了させる2段階で加熱処理を行う方法が平面性を悪化させずに寸法変化率を低減できる方法として特に有効である。加熱処理は裁断後のフィルムを1枚ずつ処理することもロール状にフィルムを巻取りながら連続的に加熱処理することもできる。裁断後のフィルムは金枠にクリップ等で固定し、第1加熱処理を行ったのち、クリップを外して再度加熱処理を行うことで、上記で挙げた2段階の加熱処理を行うことができる。連続的に加熱処理を行う場合は幅方向テンタークリップで固定しながら幅サイズを維持するか所望の収縮量まで収縮させながら、搬送方向は搬送ロール回転数をロールごとに調節することで端部を固定するのと同様の効果が得られ急激な収縮を抑えながら第1の加熱処理を行うことができる。その後、第2の加熱処理は、テンタークリップを解除し、全ての搬送ロール回転数を同じとすることで連続的に実施する方法と巻取り後のロールをそのまま加熱処理を行ういずれかの方法を選択することができる。   In order to reduce the dimensional change rate of the film of the present invention, it is effective to perform heat treatment in advance. The heating temperature in this case can be arbitrarily selected within the temperature range of 150 ° C. to the glass transition temperature or less, although it depends on the application to be used and the level of the required dimensional change rate. The heating time is shorter as the temperature is higher, and is determined by the level of the required dimensional change rate and the heat treatment temperature. On the other hand, the heat treatment performed here is performed in order to eliminate the internal stress remaining in the film in the film drying process or the stretching process performed as necessary, and the film shrinks by the heat treatment. Therefore, if the film is contracted rapidly, the flatness of the film may be deteriorated, so care must be taken. In such a case, as the heat treatment method in the film production method of the present invention, the heat treatment is performed by fixing the end portion so as not to cause rapid shrinkage on the dried film, and then the end portion is not fixed. The method of performing the heat treatment in two stages to complete the shrinkage is particularly effective as a method capable of reducing the dimensional change rate without deteriorating the flatness. In the heat treatment, the cut film can be processed one by one, or the film can be continuously heat-treated while winding the film into a roll. The cut film is fixed to a metal frame with a clip or the like, and after the first heat treatment is performed, the clip is removed and the heat treatment is performed again, whereby the two-stage heat treatment described above can be performed. In the case of continuous heat treatment, while maintaining the width size while fixing with the width direction tenter clip or shrinking to the desired shrinkage amount, the conveyance direction is adjusted by adjusting the rotation speed of the conveyance roll for each roll. The same effect as that of fixing can be obtained, and the first heat treatment can be performed while suppressing rapid contraction. After that, the second heat treatment is either a method in which the tenter clip is released and all conveyance roll rotation speeds are made the same, or a method in which the roll after winding is directly heat-treated. You can choose.

ここで、上記加熱処理後の冷却温度は、処理温度やフィルム厚みによって異なるが、好ましくは、0〜40℃である。この際、フィルムの表面と裏面を冷却する空気等の冷却媒体の温度差が大き過ぎると、得られるフィルムの表裏両面の熱収縮率差が大きくなり、加熱時にフィルムが歪み、ソリが生じ易くなり、変形が大きくなる場合がある。かかる点を考慮すると、フィルムの表面と裏面を冷却する空気等の冷却媒体の温度差は小さい方が好ましいが、本発明の目的を達成するためには、該温度差を5℃以内に調整することが好ましい。   Here, although the cooling temperature after the said heat processing changes with process temperature and film thickness, Preferably it is 0-40 degreeC. At this time, if the temperature difference between the cooling medium such as air that cools the front and back surfaces of the film is too large, the difference in thermal shrinkage between the front and back surfaces of the resulting film will increase, and the film will be distorted and warped easily during heating. In some cases, the deformation becomes large. Considering such points, it is preferable that the temperature difference between the cooling medium such as air for cooling the front and back surfaces of the film is small. However, in order to achieve the object of the present invention, the temperature difference is adjusted within 5 ° C. It is preferable.

上記の方法で本発明のフィルムを作製することで耐熱性、透過率が高く、気泡および異物などの欠陥が少なく、平面性、寸度安定性に優れたフィルムを生産性良く得ることができる。本発明のフィルムは耐熱性が高いほど好ましく、ガラス転移温度は、250℃以上であり、好ましくは300℃以上、より好ましくは350℃以上である。ガラス転移温度はDSC、TMA、粘弾性測定など公知のいずれかの方法で測定可能であり、TMA測定が最も簡便で好ましい測定法である。本発明のフィルムは透過率が高いことが好ましく、全光線透過率が70%以上であり、好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上である。全光線透過率はスガ試験製、直読式ヘイズコンピューターHGM−2DPを用いて測定できる。また、全光線透過率と同時にフィルムのヘイズも測定可能であり、好ましいヘイズは0.8%以下であり、より好ましくは0.5%以下である。   By producing the film of the present invention by the above method, a film having high heat resistance and high transmittance, few defects such as bubbles and foreign matters, and excellent flatness and dimensional stability can be obtained with high productivity. The film of the present invention preferably has higher heat resistance, and the glass transition temperature is 250 ° C. or higher, preferably 300 ° C. or higher, more preferably 350 ° C. or higher. The glass transition temperature can be measured by any known method such as DSC, TMA, or viscoelasticity measurement, and TMA measurement is the simplest and preferred measurement method. The film of the present invention preferably has a high transmittance, and the total light transmittance is 70% or more, preferably 75% or more, more preferably 80% or more. The total light transmittance can be measured using a direct reading type haze computer HGM-2DP manufactured by Suga Test. Further, the haze of the film can be measured simultaneously with the total light transmittance, and the preferred haze is 0.8% or less, more preferably 0.5% or less.

本発明のフィルムの製造は、回転ドラムまたはバンド上への溶液流延、剥ぎ取りおよび乾燥を連続的に行い、ロール状に巻取ることにより行なう方法が好ましい。この際、フィルムを機械的に搬送するときに、フィルムの力学強度が高いことが好ましい。好ましい力学強度は、搬送装置によって異なるため一概に言えないが、目安としてフィルムの引張試験から得られる破断応力と破断伸度とを用いることができる。好ましい破断応力は、50MPa以上、より好ましくは80MPa以上、さらに好ましくは100MPa以上である。破断伸度は、サンプル作製条件等によっても変動するため、破断応力よりは信頼性がやや低いが、好ましくは5%以上、より好ましくは10%以上、さらに好ましくは15%以上である。   The production of the film of the present invention is preferably carried out by continuously casting the solution onto a rotating drum or band, stripping and drying, and winding it into a roll. At this time, when the film is mechanically conveyed, it is preferable that the mechanical strength of the film is high. The preferable mechanical strength varies depending on the conveying device and cannot be generally specified, but as a guide, the breaking stress and the breaking elongation obtained from the tensile test of the film can be used. A preferable breaking stress is 50 MPa or more, more preferably 80 MPa or more, and further preferably 100 MPa or more. Since the elongation at break varies depending on the sample preparation conditions and the like, the reliability is slightly lower than the break stress, but is preferably 5% or more, more preferably 10% or more, and even more preferably 15% or more.

(本発明のフィルムの改質)
次に本発明のフィルムについて、さらに機能を付与する場合の好ましい態様を記述する。まず本発明のフィルムの表面処理方法について記述する。
本発明のフィルムは、場合により表面処理を行なうことによって、本発明のフィルムと各種機能層との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。グロー放電処理とは、10-3〜20Torr(0.13〜2700Pa)の低圧ガス下でおこる、いわゆる低温プラズマのことも示すが、大気圧下でのグロー放電処理でもよい。
(Modification of the film of the present invention)
Next, the preferable aspect in the case of providing the function further about the film of this invention is described. First, the film surface treatment method of the present invention will be described.
The film of the present invention can achieve improved adhesion between the film of the present invention and various functional layers by optionally performing a surface treatment. For example, glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona treatment, flame treatment, acid or alkali treatment can be used. The glow discharge treatment refers to so-called low temperature plasma that occurs under a low pressure gas of 10 −3 to 20 Torr (0.13 to 2700 Pa), but may be a glow discharge treatment under atmospheric pressure.

まず、低圧下でのグロー放電処理は、米国特許第3,462,335号明細書、同3,761,299号明細書、同4,072,769号明細書および英国特許第891,469号明細書に記載されている。また不活性ガス、酸化窒素類、有機化合物ガス等の特定のガス等を導入することも行われる。水蒸気バリアフィルムの表面をグロー放電処理する際には大気圧でもよいし減圧下で実施されてもよい。さらに、グロー放電処理の雰囲気に酸素、窒素、ヘリウムあるいはアルゴンのような種々のガスや水を導入しながら実施してもよい。グロー放電処理時の真空度は0.005〜20Torr(0.6666〜2700Pa)が好ましく、より好ましくは0.02〜2Torr(2.666〜266.6Pa)である。また、電圧は500〜5000Vの間が好ましく、より好ましくは500〜3000Vである。使用する放電周波数は、直流から数千MHz、より好ましくは50Hz〜20MHz、さらに好ましくは1KHz〜1MHzである。放電処理強度は、0.01KV・A・分/m2〜5KV・A・分/m2が好ましく、より好ましくは0.15KV・A・分/m2〜1KV・A・分/m2である。 First, glow discharge treatment under low pressure is performed in US Pat. Nos. 3,462,335, 3,761,299, 4,072,769, and British Patent 891,469. It is described in the specification. In addition, a specific gas such as an inert gas, nitrogen oxides, or an organic compound gas is also introduced. When the surface of the water vapor barrier film is subjected to glow discharge treatment, it may be at atmospheric pressure or under reduced pressure. Furthermore, it may be carried out while introducing various gases such as oxygen, nitrogen, helium or argon and water into the atmosphere of the glow discharge treatment. The degree of vacuum during the glow discharge treatment is preferably 0.005 to 20 Torr (0.6666 to 2700 Pa), and more preferably 0.02 to 2 Torr (2.666 to 266.6 Pa). The voltage is preferably between 500 and 5000V, more preferably between 500 and 3000V. The discharge frequency to be used is from direct current to several thousand MHz, more preferably 50 Hz to 20 MHz, and further preferably 1 KHz to 1 MHz. The discharge treatment intensity is preferably 0.01 KV · A · min / m 2 to 5 KV · A · min / m 2 , more preferably 0.15 KV · A · min / m 2 to 1 KV · A · min / m 2 . is there.

次に本発明のフィルムの表面処理としては、紫外線照射法も本発明では好ましく用いられる。使用される水銀灯は石英管からなる高圧水銀灯で、紫外線の波長が180〜380nmの間であるものが好ましい。紫外線照射の方法については、光源は本発明のフィルムの表面温度が150℃前後にまで上昇することが支持体性能上問題なければ、主波長が365nmの高圧水銀灯ランプを使用することができる。低温処理が必要とされる場合には主波長が254nmの低圧水銀灯が好ましい。またオゾンレスタイプの高圧水銀ランプ、および低圧水銀ランプを使用する事も可能である。処理光量に関しては処理光量が多いほど本発明のフィルムと被接着層との接着力は向上するが、光量の増加に伴い支持体が着色し、また支持体が脆くなるという問題が発生する。従って、365nmを主波長とする高圧水銀ランプで、照射光量20〜10000(mJ/cm2)がよく、より好ましくは50〜2000(mJ/cm2)である。254nmを主波長とする低圧水銀ランプの場合には、照射光量100〜10000(mJ/cm2)がよく、より好ましくは300〜1500(mJ/cm2)である。 Next, as the surface treatment of the film of the present invention, an ultraviolet irradiation method is also preferably used in the present invention. The mercury lamp used is a high-pressure mercury lamp made of a quartz tube and preferably has an ultraviolet wavelength of 180 to 380 nm. As for the method of ultraviolet irradiation, a high pressure mercury lamp with a dominant wavelength of 365 nm can be used as long as the surface temperature of the film of the present invention rises to around 150 ° C. if there is no problem in the performance of the support. When low-temperature treatment is required, a low-pressure mercury lamp having a dominant wavelength of 254 nm is preferable. Ozone-less high-pressure mercury lamps and low-pressure mercury lamps can also be used. With regard to the amount of processed light, the greater the amount of processed light, the better the adhesive force between the film of the present invention and the adherend layer, but the problem arises that the support becomes colored and the support becomes brittle as the amount of light increases. Therefore, a high-pressure mercury lamp having a main wavelength of 365 nm has a good irradiation light quantity of 20 to 10000 (mJ / cm 2 ), more preferably 50 to 2000 (mJ / cm 2 ). In the case of low-pressure mercury lamp for a 254nm main wavelength, the irradiation light amount 100~10000 (mJ / cm 2) C., more preferably 300~1500 (mJ / cm 2).

次に本発明のフィルムの表面処理としてコロナ放電処理も好ましく用いることができる。コロナ放電処理装置としては、Pillar社製ソリッドステートコロナ処理機、LEPEL型表面処理機、VETAPHON型処理機等を用いることができる。また、コロナ放電処理は空気中、常圧で行なうことができる。処理時の放電周波数は、5〜40KV、より好ましくは10〜30KVであり、波形は交流正弦波が好ましい。電極と誘電体ロールとのギャップクリアランスは0.1〜10mm、より好ましくは1.0〜2.0mmである。放電は、放電帯域に設けられた誘電サポートローラーの上方で処理し、処理量は、0.3〜0.4KV・A・分/m2、より好ましくは0.34〜0.38KV・A・分/m2である。 Next, corona discharge treatment can also be preferably used as the surface treatment of the film of the present invention. As the corona discharge treatment apparatus, a solid state corona treatment machine manufactured by Pillar, a LEPEL type surface treatment machine, a VETAPHON type treatment machine, or the like can be used. Further, the corona discharge treatment can be performed in air at normal pressure. The discharge frequency during the treatment is 5 to 40 KV, more preferably 10 to 30 KV, and the waveform is preferably an AC sine wave. The gap clearance between the electrode and the dielectric roll is 0.1 to 10 mm, more preferably 1.0 to 2.0 mm. The discharge is processed above a dielectric support roller provided in the discharge zone, and the treatment amount is 0.3 to 0.4 KV · A · min / m 2 , more preferably 0.34 to 0.38 KV · A ·. Min / m 2 .

次に火炎処理について記述する。前記火炎処理に用いられるガスは天然ガス、液化プロパンガス、都市ガスのいずれでもかまわないが、空気との混合比が重要である。天然ガス/空気の好ましい混合比は容積比で1/6〜1/10、好ましくは1/7〜1/9である。また、液化プロパンガス/空気の場合は1/14〜1/22、好ましくは1/16〜1/19、都市ガス/空気の場合は1/2〜1/8、好ましくは1/3〜1/7である。また、火炎処理量は1〜50Kcal/m2、より好ましくは3〜20Kcal/m2の範囲で行なうとよい。 Next, flame treatment is described. The gas used for the flame treatment may be natural gas, liquefied propane gas, or city gas, but the mixing ratio with air is important. A preferable mixing ratio of natural gas / air is 1/6 to 1/10, preferably 1/7 to 1/9 by volume. In the case of liquefied propane gas / air, 1/14 to 1/22, preferably 1/16 to 1/19, and in the case of city gas / air, 1/2 to 1/8, preferably 1/3 to 1. / 7. The flame treatment amount is preferably 1 to 50 Kcal / m 2 , more preferably 3 to 20 Kcal / m 2 .

次にアルカリケン化処理について具体的に説明する。本発明のフィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。前記アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオンの濃度は0.1mol/L〜4.0mol/Lであることが好ましく、0.5mol/L〜3.5mol/Lであることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温〜90℃の範囲が好ましく、40℃〜70℃がさらに好ましい。次に一般には水洗され、しかる後に酸性水溶液を通過させた後に、水洗して表面処理したフィルムを得る。   Next, the alkali saponification treatment will be specifically described. The film surface of the present invention is preferably immersed in an alkaline solution, then neutralized with an acidic solution, washed with water and dried. Examples of the alkaline solution include a potassium hydroxide solution and a sodium hydroxide solution, and the concentration of hydroxide ions is preferably 0.1 mol / L to 4.0 mol / L, and 0.5 mol / L to 3. More preferably, it is 5 mol / L. The alkaline solution temperature is preferably in the range of room temperature to 90 ° C, more preferably 40 ° C to 70 ° C. Next, the film is generally washed with water, then passed through an acidic aqueous solution, and then washed with water to obtain a surface-treated film.

この時、酸としては塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、蟻酸、クロロ酢酸、シュウ酸などであり、その濃度は0.01mol/L〜3.0mol/Lであることが好ましく、0.05mol/L〜2.0mol/Lであることがさらに好ましい。アルカリケン化時間は、20秒〜600秒で実施されるがことが好ましくは、さらには30秒〜300秒が好ましく、特には40秒〜210秒であることが好ましい。また中和は、20秒〜600秒で実施されることが好ましく、より好ましくは30秒〜250秒、特には40秒〜180秒であるであることが好ましい。さらに水洗については、20秒〜400秒で実施されることが好ましく、より好ましくは30秒〜300秒、特には40秒〜210秒であるであることが好ましい。   At this time, the acid is hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, acetic acid, formic acid, chloroacetic acid, oxalic acid, etc., and its concentration is preferably 0.01 mol / L to 3.0 mol / L, 0.05 mol / L More preferably, it is -2.0 mol / L. The alkali saponification time is preferably 20 seconds to 600 seconds, more preferably 30 seconds to 300 seconds, and particularly preferably 40 seconds to 210 seconds. The neutralization is preferably carried out for 20 seconds to 600 seconds, more preferably 30 seconds to 250 seconds, and particularly preferably 40 seconds to 180 seconds. Further, the washing with water is preferably performed for 20 seconds to 400 seconds, more preferably 30 seconds to 300 seconds, and particularly preferably 40 seconds to 210 seconds.

本発明のフィルムと機能性層とを接着するために、表面活性化処理をしたのち、直接本発明のフィルム上に機能層を形成して接着力を得る方法と、一旦何がしかの表面処理をした後、あるいは表面処理なしで、下塗層(接着層)を設けこの上に機能層を形成する方法とがある。下塗層は第1層として支持体によく接着する層を設け、その上に第2層として機能層とよく接着する下塗り第2層を塗布する所謂重層法を用いてもよい。   In order to bond the film of the present invention and the functional layer, after surface activation treatment, a method of directly forming the functional layer on the film of the present invention to obtain an adhesive force, and once some surface treatment There is a method in which an undercoat layer (adhesive layer) is provided and a functional layer is formed thereon after or after surface treatment. The undercoat layer may be a so-called multi-layer method in which a layer that adheres well to the support is provided as the first layer, and a second undercoat layer that adheres well to the functional layer is applied thereon as the second layer.

本発明のフィルムに場合により施される下塗り層には、機能層の透明性などを実質的に損なわない程度に無機または、有機の微粒子をマット剤として含有させることができる。無機の微粒子のマット剤としてはシリカ(SiO2),二酸化チタン(TiO2),炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムなどを使用することができる。有機の微粒子マット剤としては、ポリメチルメタクリレ−ト、セルロースアセテートプロピオネ−ト、ポリスチレン、米国特許第4,142,894号明細書に記載されている処理液可溶性のもの、米国特許第4,396,706号明細書に記載されているポリマーなどを用いることができる。これらの微粒子マット剤の平均粒子サイズは0.01〜10μmのものが好ましい。より好ましくは、0.05〜5μmである。また、その含有量は0.5〜600mg/m2が好ましく、さらに好ましくは、1〜400mg/m2である。下塗液は、一般に良く知られた塗布方法、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法、あるいは、米国特許第2,681,294号明細書に記載のホッパ−を使用するエクストルージョンコート法により塗布することができる。 The undercoat layer optionally applied to the film of the present invention may contain inorganic or organic fine particles as a matting agent to such an extent that the transparency of the functional layer is not substantially impaired. Silica (SiO 2 ), titanium dioxide (TiO 2 ), calcium carbonate, magnesium carbonate and the like can be used as the inorganic fine particle matting agent. Examples of the organic fine particle matting agent include polymethyl methacrylate, cellulose acetate propionate, polystyrene, a treatment solution-soluble one described in US Pat. No. 4,142,894, US Pat. , 396, 706, and the like. These fine particle matting agents preferably have an average particle size of 0.01 to 10 μm. More preferably, it is 0.05-5 micrometers. Moreover, the content is preferably 0.5 to 600 mg / m 2 , more preferably 1 to 400 mg / m 2 . The undercoat liquid is a generally well-known coating method, such as dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, slide coating, or U.S. Pat. It can apply | coat by the extrusion coat method using the hopper as described in 681,294 specification.

本発明のフィルムの表面には用途に応じて下塗り層以外にも、表面平滑化のため平滑化層、耐傷性付与のためのハードコート層、耐光性を高めるための紫外線吸収層、フィルムの搬送性を改良させるための表面粗面化層など目的に応じて種々の公知の機能性層を付与することができる。   Depending on the application, the surface of the film of the present invention may have an undercoat layer, a smoothing layer for smoothing the surface, a hard coat layer for imparting scratch resistance, an ultraviolet absorbing layer for enhancing light resistance, and film transport. Various known functional layers can be provided depending on the purpose such as a surface roughened layer for improving the properties.

本発明のフィルムは、耐熱性、透明性に優れ、各種ディスプレイ基板に用いることができ、この場合、透明導電層、ガスバリア層などを形成し、TFTや有機EL素子などを本発明のフィルム上に形成することもできる。
前記透明導電層としては、公知の金属膜、金属酸化物膜等が適用できるが、中でも、透明性、導電性、機械的特性の点から、金属酸化物膜が好ましい。例えば、不純物としてスズ、テルル、カドミウム、モリブテン、タングステン、フッ素、亜鉛、ゲルマニウム等を添加した酸化インジウム、酸化カドミウムおよび酸化スズ、不純物としてアルミニウムを添加した酸化亜鉛、酸化チタン等の金属酸化物膜が挙げられる。中でも酸化スズから主としてなり、酸化亜鉛を2〜15質量%含有した酸化インジウムの薄膜が、透明性、導電性が優れており、好ましく用いられる。
The film of the present invention is excellent in heat resistance and transparency and can be used for various display substrates. In this case, a transparent conductive layer, a gas barrier layer and the like are formed, and a TFT, an organic EL element, etc. are formed on the film of the present invention. It can also be formed.
As the transparent conductive layer, a known metal film, metal oxide film, or the like can be applied. Among these, a metal oxide film is preferable from the viewpoint of transparency, conductivity, and mechanical characteristics. For example, metal oxide films such as indium oxide, cadmium oxide and tin oxide added with tin, tellurium, cadmium, molybdenum, tungsten, fluorine, zinc, germanium, etc. as impurities, zinc oxide, titanium oxide, etc. added aluminum as impurities Can be mentioned. Among them, an indium oxide thin film mainly composed of tin oxide and containing 2 to 15% by mass of zinc oxide is excellent in transparency and conductivity, and is preferably used.

これら透明導電層の製膜方法は、目的の薄膜を形成できる方法であれば、いかなる方法でもよいが、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法等の気相中より材料を堆積させて膜形成する気相堆積法などが適しており、特許第3400324号、特開2002−322561号、特開2002−361774号各公報記載の方法で製膜する事ができる。中でも、特に優れた導電性・透明性が得られるという観点からは、スパッタリング法が好ましい。   The transparent conductive layer can be formed by any method as long as the target thin film can be formed. For example, a material from the gas phase such as sputtering, vacuum deposition, ion plating, and plasma CVD can be used. A vapor phase deposition method in which a film is deposited to form a film is suitable, and a film can be formed by the methods described in Japanese Patent No. 3430344, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-322561, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-361774. Among these, the sputtering method is preferable from the viewpoint that particularly excellent conductivity and transparency can be obtained.

スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法の好ましい真空度は0.133mPa〜6.65Pa、より好ましくは0.665mPa〜1.33Paである。このような透明導電層を設ける前に、プラズマ処理(逆スパッタ)、コロナ処理のように基材フィルムに表面処理を加えることが好ましい。また透明導電層を設けている間に50〜200℃に昇温してもよい。   A preferable degree of vacuum of the sputtering method, vacuum deposition method, ion plating method, and plasma CVD method is 0.133 mPa to 6.65 Pa, more preferably 0.665 mPa to 1.33 Pa. Before providing such a transparent conductive layer, it is preferable to subject the base film to a surface treatment such as plasma treatment (reverse sputtering) or corona treatment. Moreover, you may heat up to 50-200 degreeC during providing the transparent conductive layer.

透明導電層の膜厚は20〜500nmであることが好ましく、50〜300nmであることがさらに好ましい。   The thickness of the transparent conductive layer is preferably 20 to 500 nm, and more preferably 50 to 300 nm.

また、透明導電層の25℃・60%RH(relative humidity)で測定した表面電気抵抗は0.1〜200Ω/□であることが好ましく、0.1〜100Ω/□であることがより好ましく、0.5〜60Ω/□であることがさらに好ましい。また透明導電層の光透過性は80%以上、より好ましくは83%以上、さらに好ましくは85%以上である。   Further, the surface electrical resistance measured at 25 ° C. and 60% RH (relative humidity) of the transparent conductive layer is preferably 0.1 to 200Ω / □, more preferably 0.1 to 100Ω / □, More preferably, it is 0.5-60Ω / □. The light transmittance of the transparent conductive layer is 80% or more, more preferably 83% or more, and still more preferably 85% or more.

本発明のフィルムには、ガス透過性を抑制するために、ガスバリア層を設けることも好ましい。好ましいガスバリア層としては、例えば珪素、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、ジルコニウム、チタン、イットリウム、タンタルからなる群から選ばれる1種または2種以上の金属を主成分とする金属酸化物、珪素、アルミニウム、ホウ素の金属窒化物またはこれらの混合物を挙げることができる。この中でも、ガスバリア性、透明性、表面平滑性、屈曲性、膜応力、コスト等の点から珪素原子数に対する酸素原子数の割合が1.5〜2.0の珪素酸化物を主成分とする金属酸化物が良好である。   The film of the present invention is preferably provided with a gas barrier layer in order to suppress gas permeability. Preferred gas barrier layers include, for example, metal oxides composed mainly of one or more metals selected from the group consisting of silicon, aluminum, magnesium, zinc, zirconium, titanium, yttrium, and tantalum, silicon, aluminum, boron Metal nitrides or mixtures thereof. Among these, the main component is silicon oxide having a ratio of the number of oxygen atoms to the number of silicon atoms of 1.5 to 2.0 in terms of gas barrier properties, transparency, surface smoothness, flexibility, film stress, cost, and the like. Metal oxide is good.

これら無機のガスバリア層は、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法等の気相中より材料を堆積させて膜形成する気相堆積法により作製できる。中でも、特に優れたガスバリア性が得られるという観点から、スパッタリング法が好ましい。また、ガスバリア層を設けている間に50〜200℃に昇温してもよい。   These inorganic gas barrier layers can be produced, for example, by a vapor deposition method in which a material is deposited in a vapor phase such as sputtering, vacuum deposition, ion plating, or plasma CVD to form a film. Among these, the sputtering method is preferable from the viewpoint that particularly excellent gas barrier properties can be obtained. Moreover, you may heat up to 50-200 degreeC during providing the gas barrier layer.

前記ガスバリア層の膜厚は、10〜300nmであることが好ましく、30〜200nmであることがより好ましい。   The film thickness of the gas barrier layer is preferably 10 to 300 nm, and more preferably 30 to 200 nm.

前記ガスバリア層は、透明導電層と同じ側または反対側いずれに設けてもよく、また両面に設けてもよい。   The gas barrier layer may be provided on the same side or the opposite side of the transparent conductive layer, or may be provided on both sides.

ガスバリア層を設けたフィルムのガスバリア性は、40℃・相対湿度100%で測定した水蒸気透過度が0〜5g/m2・dayであることが好ましく、0〜1g/m2・dayであることがより好ましく、0〜0.5g/m2・dayであることがさらに好ましい。また、40℃・相対湿度90%で測定した酸素透過度は0〜1ml/m2・day・atmであることが好ましく、0〜0.7ml/m2・day・atmであることがより好ましく、0〜0.5ml/m2・day・atmであることがさらに好ましい。 Gas barrier film having a gas barrier layer is preferably a water vapor permeability as measured at 40 ° C. · 100% relative humidity is 0~5g / m 2 · day, it is 0~1g / m 2 · day Is more preferably 0 to 0.5 g / m 2 · day. The oxygen permeability was measured at 40 ° C. · 90% RH is preferably from 0~1ml / m 2 · day · atm , more preferably from 0~0.7ml / m 2 · day · atm 0 to 0.5 ml / m 2 · day · atm is more preferable.

本発明のフィルムは、バリア性を向上させる目的で、ガスバリア層と隣接して欠陥補償層を設けることが好ましい。前記欠陥補償層は、(1)米国特許第6171663号明細書、特開2003−94572号公報記載のようにゾルゲル法を用いて作製した無機酸化物層を利用する方法、(2)米国特許第6413645号明細書、同64163645号明細書記載のように有機物層を利用する方法で作製できる。また、欠陥補償層は、前記文献に記載されているように、真空下で蒸着後、紫外線若しくは電子線で硬化させる方法、または塗布した後、加熱、電子線、紫外線等で硬化させる方法で作製することが好ましい。塗布方式で作製する場合には、従来用いられる種々の塗布方法、例えば、スプレーコート、スピンコート、バーコート等の方法を用いることができる。   In the film of the present invention, it is preferable to provide a defect compensation layer adjacent to the gas barrier layer for the purpose of improving the barrier property. The defect compensation layer is (1) a method using an inorganic oxide layer produced using a sol-gel method as described in US Pat. No. 6,171,663 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-94572, and (2) US Pat. It can be produced by a method using an organic material layer as described in the specification of 64136645 and 64163645. Further, as described in the above-mentioned document, the defect compensation layer is prepared by a method of curing under ultraviolet light or electron beam after vacuum deposition, or a method of curing with heating, electron beam, ultraviolet light or the like after coating. It is preferable to do. When the coating method is used, various conventionally used coating methods such as spray coating, spin coating, and bar coating can be used.

〔画像表示素子〕
本発明のフィルムは、薄膜トランジスタ(TFT)表示素子用基板として用いることができる。TFTアレイの作製方法は、特表平10−512104号公報に記載された方法等が挙げられる。さらに、これらの基板はカラー表示のためのカラーフィルターを有していてもよい。カラーフィルターはいかなる方法を用いて作製してもよいが、好ましくはフォトリソグラフィー手法で作製することが好ましい。
(Image display element)
The film of the present invention can be used as a substrate for a thin film transistor (TFT) display element. Examples of the method for producing the TFT array include the method described in JP-T-10-512104. Further, these substrates may have a color filter for color display. The color filter may be produced by any method, but is preferably produced by a photolithography technique.

本発明のフィルムは、必要に応じて各種機能層を設けた上で画像表示素子に用いることができる。ここで、画像表示素子としては特に限定されず、従来知られているものを用いることができる。また、本発明のフィルムを用いて表示品質に優れたフラットパネルディスプレイを作製できる。フラットパネルディスプレイとしては液晶、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンス(EL)、蛍光表示管、発光ダイオードなどが挙げられ、これら以外にも従来ガラス基板が用いられてきたディスプレイ方式のガラス基板に代替する基板として用いることができる。さらに、本発明のフィルムは太陽電池、タッチパネルなどの用途にも利用可能である。太陽電池は、特開平9−148606号公報、特開平11?288745号公報、新しい有機太陽電池のオールプラスチック化への課題と対応策(2004年、技術情報協会出版)などに記載のものに応用できる。タッチパネルは、特開平5−127822号公報、特開2002−48913号公報等に記載のものに応用できる。   The film of this invention can be used for an image display element, after providing various functional layers as needed. Here, it does not specifically limit as an image display element, A conventionally well-known thing can be used. Moreover, the flat panel display excellent in display quality can be produced using the film of this invention. Flat panel displays include liquid crystals, plasma displays, electroluminescence (EL), fluorescent display tubes, light-emitting diodes, etc. In addition to these, they are used as substrates that replace glass-type display substrates that have conventionally used glass substrates. be able to. Furthermore, the film of the present invention can be used for applications such as solar cells and touch panels. The solar cells are applied to those described in JP-A-9-148606, JP-A-11-288745, problems and countermeasures for the all-plasticization of new organic solar cells (2004, published by the Japan Society for Information Technology). it can. The touch panel can be applied to those described in JP-A-5-127822, JP-A-2002-48913, and the like.

本発明のフィルムを液晶表示用途などに使用する場合には、光学的均一性を達成するために非晶性ポリマーであることが好ましい。また、複屈折は小さい方が好ましく、特に面内レタデ−ション(Re)は50nm以下であることが好ましく、30nm以下であることがより好ましく、15nm以下であることがさらに好ましい。本発明におけるポリマーのみを用いて複屈折の小さいフィルムを得るためには、溶液流延時の溶媒および乾燥条件を適宜調節し、または必要に応じて延伸して調節することもできる。さらに、レターデーション(Re)およびその波長分散を制御する目的で、固有複屈折の符号が異なる樹脂を組み合わせたり、波長分散の大きい(あるいは小さい)樹脂を組み合わせたりすることもできる。また、本発明のフィルムはレターデーション(Re)の制御を行ったり、ガス透過性や力学特性の改良を行ったりする目的で、異種樹脂の積層等を好適に用いることができる。また、公知の位相差板を併用して位相差補償を行うこともできる。   When the film of the present invention is used for liquid crystal display applications, it is preferably an amorphous polymer in order to achieve optical uniformity. The birefringence is preferably small, and the in-plane retardation (Re) is preferably 50 nm or less, more preferably 30 nm or less, and further preferably 15 nm or less. In order to obtain a film having a small birefringence using only the polymer in the present invention, the solvent and the drying conditions at the time of solution casting can be appropriately adjusted, or can be adjusted by stretching as necessary. Furthermore, for the purpose of controlling retardation (Re) and its wavelength dispersion, resins having different signs of intrinsic birefringence can be combined, or resins having large (or small) wavelength dispersion can be combined. In addition, the film of the present invention can be suitably used for the purpose of controlling retardation (Re) and improving gas permeability and mechanical properties, such as lamination of different resins. Further, phase difference compensation can be performed by using a known retardation plate in combination.

一方、光学異方性をコントロールすることで、本発明のフィルムを位相差板として用いることもできる。この場合、必ずしも複屈折が小さい必要はなく、所望の複屈折を有していればよい。所望の複屈折を得る方法としては、本発明のフィルムを延伸したり、複屈折を有する化合物を混合したり、塗設したり公知のあらゆる方法を用いることができる。   On the other hand, the film of the present invention can also be used as a retardation plate by controlling the optical anisotropy. In this case, the birefringence does not necessarily have to be small, and it is only necessary to have a desired birefringence. As a method for obtaining the desired birefringence, any known method such as stretching the film of the present invention, mixing a compound having birefringence, coating, or the like can be used.

反射型液晶表示装置に用いる場合は、下から順に、下基板、反射電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、透明電極、上基板、λ/4板、そして偏光膜からなる。このうち本発明のフィルムは光学特性の調節によりλ/4板、偏光膜用保護フィルム、他の位相差板(例えば視野角補償フィルム)として用いてもよいが、その耐熱性の観点から基板としての利用が好ましく、さらには透明性の観点から透明電極および配向膜付上基板として使用することが好ましい。また、必要に応じてガスバリア層、TFTなどを設けることもできる。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を反射電極と下配向膜との間、または上配向膜と透明電極との間に設けることが好ましい。   When used in a reflection type liquid crystal display device, it is composed of a lower substrate, a reflective electrode, a lower alignment film, a liquid crystal layer, an upper alignment film, a transparent electrode, an upper substrate, a λ / 4 plate, and a polarizing film in order from the bottom. Of these, the film of the present invention may be used as a λ / 4 plate, a polarizing film protective film, or other retardation plate (for example, a viewing angle compensation film) by adjusting optical characteristics, but as a substrate from the viewpoint of heat resistance. It is preferable to use as a transparent electrode and an upper substrate with an alignment film from the viewpoint of transparency. Moreover, a gas barrier layer, TFT, etc. can also be provided as needed. In the case of color display, it is preferable to further provide a color filter layer between the reflective electrode and the lower alignment film, or between the upper alignment film and the transparent electrode.

透過型液晶表示装置に用いる場合は、下から順に、バックライト、偏光板、λ/4板、下透明電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、上透明電極、上基板、λ/4板、そして偏光膜からなる。このうち本発明のフィルムは、光学特性の調節によりλ/4板、偏光膜用保護フィルム、他の位相差板(例えば視野角補償フィルム)として用いてもよいが、その耐熱性の観点から基板としての利用が好ましく、透明電極および配向膜付基板として使用することが好ましい。また、必要に応じてガスバリア層、TFTなどを設けることもできる。カラ−表示の場合には、さらにカラーフィルター層を下透明電極と下配向膜との間、または上配向膜と透明電極との間に設けることが好ましい。   When used in a transmissive liquid crystal display device, the backlight, polarizing plate, λ / 4 plate, lower transparent electrode, lower alignment film, liquid crystal layer, upper alignment film, upper transparent electrode, upper substrate, λ / 4 are sequentially arranged from the bottom. It consists of a plate and a polarizing film. Of these, the film of the present invention may be used as a λ / 4 plate, a protective film for a polarizing film, or other retardation plate (for example, a viewing angle compensation film) by adjusting optical characteristics, but is a substrate from the viewpoint of heat resistance. And is preferably used as a transparent electrode and a substrate with an alignment film. Moreover, a gas barrier layer, TFT, etc. can also be provided as needed. In the case of color display, it is preferable to further provide a color filter layer between the lower transparent electrode and the lower alignment film, or between the upper alignment film and the transparent electrode.

液晶セルは特に限定されないが、TN(Twisted Nematic)、IPS(In-Plane Switching)、FLC(Ferroelectric Liquid Crystal)、AFLC(Anti-ferroelectric Liquid Crystal)、OCB(Optically Compensated Bend)、STN(Super Twisted Nematic)、VA(Vertically Aligned)およびHAN(Hybrid Aligned Nematic)のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モ−ドを配向分割した表示モードも提案されている。本発明のフィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。   The liquid crystal cell is not particularly limited, but TN (Twisted Nematic), IPS (In-Plane Switching), FLC (Ferroelectric Liquid Crystal), AFLC (Anti-ferroelectric Liquid Crystal), OCB (Optically Compensated Bend), STN (Super Twisted Nematic) ), VA (Vertically Aligned) and HAN (Hybrid Aligned Nematic) have been proposed. There has also been proposed a display mode in which the above display mode is orientation-divided. The film of the present invention is effective in any display mode liquid crystal display device. Further, it is effective in any of a transmissive type, a reflective type, and a transflective liquid crystal display device.

これらは特開平2−176625号公報、特公平7−69536号公報、MVA(SID97,Digest of tech. Papers(予稿集)28(1997)845)、SID99, Digest of tech. Papers (予稿集)30(1999)206、特開平11−258605号公報、SURVAIVAL(月刊ディスプレイ、第6巻、第3号(1999)14)、PVA(Asia Display 98,Proc. of the-18th-Inter. Display res. Conf.(予稿集)(1998)383)、Para−A(LCD/PDP Iternational`99)、DDVA(SID98, Digest of tech. Papers(予稿集)29(1998)838)、EOC(SID98, Digest of tech. Papers(予稿集)29(1998)319)、PSHA(SID98, Digest of tech. Papers(予稿集)29(1998)1081)、RFFMH(Asia Display 98, Proc. of the-18th-Inter. Display res. Conf. (予稿集)(1998)375)、HMD(SID98, Digest of tech. Papers (予稿集)29(1998)702)、特開平10−123478号公報、国際公開W098/48320号公報、特許第3022477号公報、および国際公開WO00/65384号公報等に記載されている。   These are JP-A-2-176625, JP-B-7-69536, MVA (SID97, Digest of tech. Papers (Preliminary Collection) 28 (1997) 845), SID99, Digest of tech. Papers (Preliminary Collection) 30. (1999) 206, JP-A-11-258605, SURVAIVAL (Monthly Display, Vol. 6, No. 3 (1999) 14), PVA (Asia Display 98, Proc. Of the-18th-Inter. Display res. Conf. (Preliminary Collection (1998) 383), Para-A (LCD / PDP Iternational`99), DDVA (SID98, Digest of tech. Papers (Preliminary Collection) 29 (1998) 838), EOC (SID98, Digest of tech Papers 29 (1998) 319), PSHA (SID98, Digest of tech. Papers 29 (1998) 1081), RFFMH (Asia Display 98, Proc. Of the-18th-Inter. Display res Conf. (Preliminary Collection) (1998) 375), HMD (SID98, Digest of tech. Papers (Preliminary Collection) 29 (1998) 702), JP-A-10-123478, International Publication W098 / 48320, Patent No. 3022477 And it is described in International Publication WO00 / 65,384 Patent Publication.

本発明のフィルムは、必要に応じてガスバリア層、TFTを設け、透明電極付基板として有機EL表示用途に使用できる。
有機EL表示素子としての具体的な層構成としては、陽極/発光層/透明陰極、陽極/発光層/電子輸送層/透明陰極、陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/透明陰極、陽極/正孔輸送層/発光層/透明陰極、陽極/発光層/電子輸送層/電子注入層/透明陰極、陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/透明陰極等が挙げられる。
The film of the present invention is provided with a gas barrier layer and a TFT as necessary, and can be used for organic EL display applications as a substrate with a transparent electrode.
As a specific layer structure as the organic EL display element, anode / light emitting layer / transparent cathode, anode / light emitting layer / electron transport layer / transparent cathode, anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / transparent cathode , Anode / hole transport layer / light emitting layer / transparent cathode, anode / light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer / transparent cathode, anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / electron Examples include injection layer / transparent cathode.

本発明のフィルムが使用できる有機EL素子は、前記陽極と前記陰極との間に直流(必要に応じて交流成分を含んでもよい)電圧(通常2ボルト〜40ボルト)、または直流電流を印加することにより、発光を得ることができる。   In the organic EL device in which the film of the present invention can be used, a direct current (which may include an alternating current component as necessary) voltage (usually 2 to 40 volts) or a direct current is applied between the anode and the cathode. Thus, light emission can be obtained.

これら有機EL素子の駆動については、特開平2−148687号公報、特開平6−301355号公報、特開平5−29080号公報、特開平7−134558号公報、特開平8−234685号公報、特開平8−241047号公報、米国特許第5828429号明細書、同6023308号明細書、日本特許第2784615号公報等に記載された方法を利用できる。   Regarding driving of these organic EL elements, JP-A-2-148687, JP-A-6-301355, JP-A-5-29080, JP-A-7-134558, JP-A-8-234585, The methods described in Kaihei 8-24047, U.S. Pat. Nos. 5,828,429, 6023308, and Japanese Patent No. 2784615 can be used.

以下に実施例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。   The features of the present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the specific examples shown below.

[フィルム特性値の測定方法]
フィルムの特性値は以下のように測定した。
<フィルムの厚さ(膜厚)>
ダイヤル式厚さゲージ(アンリツ(株)製、K402B)により測定した。
<フィルムの全光線透過率>
スガ試験機製「直読式ヘイズコンピューターHGM−2DP」を用いてフィルムの全光線透過率を測定した。
<ガラス転移温度(Tg)>
フィルムサンプル(0.5cm×2.0cm片)を作製し、引張荷重100mNの条件下、TMA(リガク(株)製、TMA8310)の引張荷重法にて得られる熱変形開始温度をフィルムのガラス転移温度として測定した。
[Measurement method of film characteristic values]
The characteristic values of the film were measured as follows.
<Film thickness (film thickness)>
It measured with the dial-type thickness gauge (Anritsu Co., Ltd. product, K402B).
<Total light transmittance of film>
The total light transmittance of the film was measured using “Direct Reading Haze Computer HGM-2DP” manufactured by Suga Test Instruments.
<Glass transition temperature (Tg)>
A film sample (0.5 cm × 2.0 cm piece) was prepared, and the thermal deformation start temperature obtained by the tensile load method of TMA (manufactured by Rigaku Corporation, TMA8310) under the condition of a tensile load of 100 mN was the glass transition of the film. Measured as temperature.

<フィルムの泡数>
フィルムサンプル約1m2(32cm×100cm×3枚)内の泡の個数をクロスニコル下目視で数えフィルムの泡数とした。
<フィルムの異物数>
フィルムサンプルを光学顕微鏡によって150倍で観察し、70mm2(1.4mm2を50点観察)内の直径5μm以上の異物の数を数え、これをフィルムの異物数とした。
<フィルムの寸法変化率>
フィルムサンプル(0.5cm×2.0cm片)を作製し、引張荷重100mNの条件下、TMA(リガク(株)製、TMA8310)の引張荷重法にて任意の温度(フィルムのガラス転移温度−50℃)で5時間加熱した場合の寸法変化量を測定し、測定前のサンプル長で除した値をフィルムの寸法変化率とした(なお、いずれも収縮変化(マイナス値)を示したが、絶対値で表記した)。
<Number of bubbles in film>
The number of bubbles in a film sample of about 1 m 2 (32 cm × 100 cm × 3 sheets) was visually counted under crossed Nicols to obtain the number of bubbles in the film.
<Number of foreign objects on film>
The film sample was observed 150 times with an optical microscope, and the number of foreign matters having a diameter of 5 μm or more in 70 mm 2 (observation of 50 points of 1.4 mm 2 ) was counted, and this was taken as the number of foreign matters on the film.
<Dimensional change rate of film>
A film sample (0.5 cm × 2.0 cm piece) was prepared, and under the condition of a tensile load of 100 mN, an arbitrary temperature (the glass transition temperature of the film −50 by the tensile load method of TMA (manufactured by Rigaku Corporation, TMA8310)). The amount of dimensional change when heated at 5 ° C for 5 hours was measured, and the value obtained by dividing by the sample length before measurement was taken as the dimensional change rate of the film. Expressed as a value).

<フィルムの平面性>
フィルムサンプルに蛍光灯を写し込み目視で観察し、蛍光灯像の歪みから以下のように判定し、フィルムの平面性とした。
○:蛍光灯像の歪みはほとんどない。
△:蛍光灯像の歪みが一部見られる。
×:蛍光灯像の歪みが大部分に見られる。
<Flatness of film>
A fluorescent lamp was imprinted on the film sample and observed with the naked eye. The film was judged as follows from the distortion of the fluorescent lamp image, and the film was flat.
○: There is almost no distortion of the fluorescent lamp image.
Δ: Some distortion of the fluorescent lamp image is seen.
X: Most of the distortion of the fluorescent lamp image is seen.

[比較例1]
1.フィルムの製膜方法
1−1.セルローストリアセテートフィルムの製膜(特開2003−200445号公報実施例1に記載の方法)
(ドープ調製時に減圧する方法)
減圧配管を接続した攪拌羽根を有する1Lのガラス瓶に、下記組成の溶媒および可塑剤混合溶液を調製し、ガラス瓶内圧力を90000Paにし、よく攪拌しつつ、セルローストリアセテート粉体(平均サイズ2mm)を徐々に添加し、全体が920gになるように仕込んだ。添加後、室温(25℃)にて1時間放置し、セルローストリアセテートを膨潤させた。次に、ガラス瓶を−70℃のメタノール/ドライアイス混合浴で30分間冷却し、セルローストリアセテートを溶解したのち、50℃に加温し、平均孔径40μmの濾紙(東洋濾紙(株)製,『#63』)で、0.5MPaの圧力で加圧濾過しセルローストリアセテートドープを得た。このときの濾過面積は43cm2であり、濾過に要した時間は1時間であった。このセルローストリアセテートドープを幅40cmの小型流延ダイを用いてガラス基板上に流延した。流延後、露点6℃の送風下、22℃で2分間、70℃で3分間乾燥させた後、フィルムをガラス基板より剥離し、内径が32cm×100cmの金属枠に枠張りをした状態でさらに140℃で30分乾燥させてフィルム試料(試料101)を得た。
得られたフィルム試料の膜厚、全光線透過率、ガラス転移温度、泡数、異物数、寸法変化率、平面性を濾過時間とともに表1に結果を示す。
[Comparative Example 1]
1. 1. Film production method 1-1. Film formation of cellulose triacetate film (the method described in Example 1 of JP-A-2003-200445)
(Method of reducing pressure during dope preparation)
A solvent and plasticizer mixed solution having the following composition is prepared in a 1 L glass bottle having a stirring blade connected with a vacuum pipe, and the pressure inside the glass bottle is set to 90000 Pa, and the cellulose triacetate powder (average size 2 mm) is gradually added while stirring well. The total amount was 920 g. After the addition, the mixture was left at room temperature (25 ° C.) for 1 hour to swell the cellulose triacetate. Next, the glass bottle was cooled in a methanol / dry ice mixed bath at −70 ° C. for 30 minutes to dissolve the cellulose triacetate, and then heated to 50 ° C. to filter paper with an average pore diameter of 40 μm (manufactured by Toyo Filter Paper Co., Ltd., “# 63 ”) and filtered under pressure at a pressure of 0.5 MPa to obtain a cellulose triacetate dope. The filtration area at this time was 43 cm 2 , and the time required for filtration was 1 hour. This cellulose triacetate dope was cast on a glass substrate using a small casting die having a width of 40 cm. After casting, the film was dried at 22 ° C. for 2 minutes and at 70 ° C. for 3 minutes under blowing at a dew point of 6 ° C., then the film was peeled off from the glass substrate, and a metal frame with an inner diameter of 32 cm × 100 cm was framed. Furthermore, it was made to dry at 140 degreeC for 30 minutes, and the film sample (sample 101) was obtained.
The film thickness, total light transmittance, glass transition temperature, number of bubbles, number of foreign matters, dimensional change rate, and flatness of the obtained film sample are shown in Table 1 together with the filtration time.

〔組成〕
・セルローストリアセテート 28質量部
(置換度2.83、粘度平均重合度320、含水率0.4質量%、
メチレンクロライド溶液中6質量%の粘度305mPa・s)
・酢酸メチル 75質量部
・シクロペンタノン 10質量部
・アセトン 5質量部
・メタノール 5質量部
・エタノール 5質量部
・可塑剤A(ジペンタエリスリトールヘキサアセテート) 1質量部
・可塑剤B(トリフェニルフォスフェート) 1質量部
〔composition〕
Cellulose triacetate 28 parts by mass (substitution degree 2.83, viscosity average polymerization degree 320, water content 0.4 mass%,
6% by weight viscosity in methylene chloride solution 305 mPa · s)
-75 parts by weight of methyl acetate-10 parts by weight of cyclopentanone-5 parts by weight of acetone-5 parts by weight of methanol-5 parts by weight of plasticizer-1 part by weight of plasticizer A (dipentaerythritol hexaacetate)-Plasticizer B (triphenylphosphine) 1 part by weight

[比較例2]
1−2.セルローストリアセテートフィルムの製膜(特開2003−200445号公報実施例2に記載の方法)
(濾過後のドープを加温、静置する方法)
攪拌羽根を有する1Lのガラス瓶に、下記組成の溶媒および可塑剤混合溶液を調製し、よく攪拌しつつ、セルローストリアセテート粉体(平均サイズ2mm)を徐々に添加し、全体が920gになるように仕込んだ。添加後、室温(25℃)にて1時間放置し、セルローストリアセテートを膨潤させた。次に、ガラス瓶を−70℃のメタノール/ドライアイス混合浴で30分間冷却し、セルローストリアセテートを溶解したのち、50℃に加温し、平均孔径40μmの濾紙(東洋濾紙(株)製,『#63』)で0.5MPaの圧力で加圧濾過しセルローストリアセテートドープを得た。このときの濾過面積は43cm2であり、濾過に要した時間は1時間であった。その後、このセルローストリアセテートドープを50℃で2.5時間静置した後、幅40cmの小型流延ダイを用いてガラス基板上に流延した。流延後、露点6℃の送風下、22℃で2分間、70℃で3分間乾燥させた後、フィルムをガラス基板より剥離し、内径が32cm×100cmの金属枠に枠張りをした状態でさらに140℃で30分乾燥させてフィルム試料(試料102)を得た。
得られたフィルム試料の膜厚、全光線透過率、ガラス転移温度、泡数、異物数、寸法変化率、平面性を濾過時間とともに表1に結果を示す。
[Comparative Example 2]
1-2. Film formation of cellulose triacetate film (the method described in Example 2 of JP-A-2003-200445)
(Method of heating and leaving the dope after filtration)
Prepare a solvent and plasticizer mixed solution of the following composition in a 1 L glass bottle with stirring blades, gradually add cellulose triacetate powder (average size 2 mm) while stirring well, and charge to a total of 920 g. It is. After the addition, the mixture was left at room temperature (25 ° C.) for 1 hour to swell the cellulose triacetate. Next, the glass bottle was cooled in a methanol / dry ice mixed bath at −70 ° C. for 30 minutes to dissolve the cellulose triacetate, and then heated to 50 ° C. to filter paper with an average pore diameter of 40 μm (manufactured by Toyo Filter Paper Co., Ltd., “# 63 ”) and pressure filtered at a pressure of 0.5 MPa to obtain a cellulose triacetate dope. The filtration area at this time was 43 cm 2 , and the time required for filtration was 1 hour. Thereafter, this cellulose triacetate dope was allowed to stand at 50 ° C. for 2.5 hours, and then cast on a glass substrate using a small casting die having a width of 40 cm. After casting, the film was dried at 22 ° C. for 2 minutes and at 70 ° C. for 3 minutes under blowing at a dew point of 6 ° C., then the film was peeled off from the glass substrate, and a metal frame with an inner diameter of 32 cm × 100 cm was framed. The film was further dried at 140 ° C. for 30 minutes to obtain a film sample (Sample 102).
The film thickness, total light transmittance, glass transition temperature, number of bubbles, number of foreign matters, dimensional change rate, and flatness of the obtained film sample are shown in Table 1 together with the filtration time.

〔組成〕
・セルローストリアセテート 28質量部
(置換度2.83、粘度平均重合度320、含水率0.4質量%、
メチレンクロライド溶液中6質量%の粘度305mPa・s)
・酢酸メチル 75質量部
・シクロペンタノン 10質量部
・アセトン 5質量部
・メタノール 5質量部
・エタノール 5質量部
・可塑剤A(ジペンタエリスリトールヘキサアセテート) 1質量部
・可塑剤B(トリフェニルフォスフェート) 1質量部
〔composition〕
Cellulose triacetate 28 parts by mass (substitution degree 2.83, viscosity average polymerization degree 320, water content 0.4 mass%,
6% by weight viscosity in methylene chloride solution 305 mPa · s)
-75 parts by weight of methyl acetate-10 parts by weight of cyclopentanone-5 parts by weight of acetone-5 parts by weight of methanol-5 parts by weight of plasticizer-1 part by weight of plasticizer A (dipentaerythritol hexaacetate)-Plasticizer B (triphenylphosphine) 1 part by weight

[比較例3]
1−3.セルローストリアセテートフィルムの製膜(特開2003−200445号実施例4に記載の方法)
(濾過後のドープを減圧する方法)
攪拌羽根を有する1Lのガラス瓶に、下記組成の溶媒および可塑剤混合溶液を調製し、よく攪拌しつつ、セルローストリアセテート粉体(平均サイズ2mm)を徐々に添加し、全体が920gになるように仕込んだ。添加後、室温(25℃)にて1時間放置し、セルローストリアセテートを膨潤させた。次に、ガラス瓶を−70℃のメタノール/ドライアイス混合浴で30分間冷却し、セルローストリアセテートを溶解したのち、50℃に加温し、平均孔径40μmの濾紙(東洋濾紙(株)製,『#63』)で0.5MPaの圧力で加圧濾過しセルローストリアセテートドープを得た。このときの濾過面積は43cm2であり、濾過に要した時間は1時間であった。このセルローストリアセテートドープをガラス瓶に入れたまま、真空配管を取り付けた真空装置(EYELA製 VOS−301SD)内に入れ、4000〜5000Paに減圧したところ気泡の発生を目視で確認した。その後、幅40cmの小型流延ダイを用いてガラス基板上に流延した。流延後、露点6℃の送風下、22℃で2分間、70℃で3分間乾燥させた後、フィルムをガラス基板より剥離し、内径が32cm×100cmの金属枠に枠張りをした状態でさらに140℃で30分乾燥させてフィルム試料(試料103)を得た。
得られたフィルム試料の膜厚、全光線透過率、ガラス転移温度、泡数、異物数、寸法変化率、平面性を濾過時間とともに表1に結果を示す。
[Comparative Example 3]
1-3. Film formation of cellulose triacetate film (the method described in Example 4 of JP-A-2003-200445)
(Method of decompressing the dope after filtration)
Prepare a solvent and plasticizer mixed solution of the following composition in a 1 L glass bottle with stirring blades, gradually add cellulose triacetate powder (average size 2 mm) while stirring well, and charge to a total of 920 g. It is. After the addition, the mixture was left at room temperature (25 ° C.) for 1 hour to swell the cellulose triacetate. Next, the glass bottle was cooled in a methanol / dry ice mixed bath at −70 ° C. for 30 minutes to dissolve the cellulose triacetate, and then heated to 50 ° C. to filter paper with an average pore diameter of 40 μm (manufactured by Toyo Filter Paper Co., Ltd., “# 63 ”) and pressure filtered at a pressure of 0.5 MPa to obtain a cellulose triacetate dope. The filtration area at this time was 43 cm 2 , and the time required for filtration was 1 hour. While this cellulose triacetate dope was put in a glass bottle, it was put into a vacuum apparatus (VOS-301SD manufactured by EYELA) equipped with a vacuum pipe and the pressure was reduced to 4000 to 5000 Pa, and the generation of bubbles was visually confirmed. Then, it cast on the glass substrate using the small casting die of width 40cm. After casting, the film was dried at 22 ° C. for 2 minutes and at 70 ° C. for 3 minutes under blowing at a dew point of 6 ° C., then the film was peeled off from the glass substrate, and a metal frame with an inner diameter of 32 cm × 100 cm was framed. The film was further dried at 140 ° C. for 30 minutes to obtain a film sample (sample 103).
The film thickness, total light transmittance, glass transition temperature, number of bubbles, number of foreign matters, dimensional change rate, and flatness of the obtained film sample are shown in Table 1 together with the filtration time.

〔組成〕
・セルローストリアセテート 28質量部
(置換度2.83、粘度平均重合度320、含水率0.4質量%、
メチレンクロライド溶液中6質量%の粘度305mPa・s)
・酢酸メチル 75質量部
・シクロペンタノン 10質量部
・アセトン 5質量部
・メタノール 5質量部
・エタノール 5質量部
・可塑剤A(ジペンタエリスリトールヘキサアセテート) 1質量部
・可塑剤B(トリフェニルフォスフェート) 1質量部
〔composition〕
Cellulose triacetate 28 parts by mass (substitution degree 2.83, viscosity average polymerization degree 320, water content 0.4 mass%,
6% by weight viscosity in methylene chloride solution 305 mPa · s)
-75 parts by weight of methyl acetate-10 parts by weight of cyclopentanone-5 parts by weight of acetone-5 parts by weight of methanol-5 parts by weight of plasticizer-1 part by weight of plasticizer A (dipentaerythritol hexaacetate)-Plasticizer B (triphenylphosphine) 1 part by weight

[比較例4]
1−4.PF−1の製膜(脱気処理を行わない方法)
攪拌羽根を有する1Lのガラス瓶に、下記組成の溶媒を調製し、よく攪拌しつつ、上述のPF−1粉体(平均サイズ1mm)を徐々に添加し、全体が920gになるように仕込んだ。添加後、室温(25℃)にて1時間放置し、PF−1を膨潤させた。次に、ガラス瓶を密閉、シーソー回転式ローターで24時間撹拌を継続し、PF−1を溶解したのち、50℃に加温し、平均孔径40μmの濾紙(東洋濾紙(株)製,『#63』)で0.5MPaの圧力で加圧濾過しPF−1ドープを得た。このときの濾過面積は43cm2であり、濾過に要した時間は1時間であった。このPF−1ドープを幅40cmの小型流延ダイを用いてガラス基板上に流延した。流延後、露点6℃の送風下、22℃で2分間、70℃で3分間乾燥させた後、フィルムをガラス基板より剥離し、内径が32cm×100cmの金属枠に枠張りをした状態でさらに140℃で30分乾燥させてフィルム試料(試料104)を得た。
得られたフィルム試料の膜厚、全光線透過率、ガラス転移温度、泡数、異物数、寸法変化率、平面性を濾過時間とともに表1に結果を示す。
[Comparative Example 4]
1-4. PF-1 film formation (method without degassing)
In a 1 L glass bottle having a stirring blade, a solvent having the following composition was prepared, and the above-mentioned PF-1 powder (average size 1 mm) was gradually added while stirring well, so that the whole was 920 g. After the addition, it was allowed to stand at room temperature (25 ° C.) for 1 hour to swell PF-1. Next, the glass bottle was sealed, and stirring was continued for 24 hours with a seesaw rotary rotor. After dissolving PF-1, it was heated to 50 ° C. and filtered with an average pore size of 40 μm (manufactured by Toyo Roshi Kaisha, Ltd., “# 63 ]) And pressure filtered at a pressure of 0.5 MPa to obtain a PF-1 dope. The filtration area at this time was 43 cm 2 , and the time required for filtration was 1 hour. This PF-1 dope was cast on a glass substrate using a small casting die having a width of 40 cm. After casting, the film was dried at 22 ° C. for 2 minutes and at 70 ° C. for 3 minutes under blowing at a dew point of 6 ° C., then the film was peeled off from the glass substrate, and a metal frame with an inner diameter of 32 cm × 100 cm was framed. The film was further dried at 140 ° C. for 30 minutes to obtain a film sample (sample 104).
The film thickness, total light transmittance, glass transition temperature, number of bubbles, number of foreign matters, dimensional change rate, and flatness of the obtained film sample are shown in Table 1 together with the filtration time.

〔組成〕
・上述の例示化合物PF−1 21質量部
(重量平均分子量65000、DSC測定によるガラス転移温度320℃)
・ジクロロメタン 79質量部
〔composition〕
-21 parts by mass of the above exemplified compound PF-1 (weight average molecular weight 65000, glass transition temperature 320 ° C. by DSC measurement)
・ 79 parts by mass of dichloromethane

[比較例5]
1−5.PF−1の製膜(脱気処理を行わなずに低温で乾燥させる方法)
攪拌羽根を有する1Lのガラス瓶に、下記組成の溶媒を調製し、よく攪拌しつつ、PF−1粉体(平均サイズ1mm)を徐々に添加し、全体が920gになるように仕込んだ。添加後、室温(25℃)にて1時間放置し、PF−1を膨潤させた。次に、ガラス瓶を密閉、シーソー回転式ローターで24時間撹拌を継続し、PF−1を溶解したのち、50℃に加温し、平均孔径40μmの濾紙(東洋濾紙(株)製,『#63』)で0.5MPaの圧力で加圧濾過しPF−1ドープを得た。このときの濾過面積は43cm2であり、濾過に要した時間は1時間であった。このPF−1ドープを幅40cmの小型流延ダイを用いてガラス基板上に流延した。流延後、露点6℃の送風下、12℃で10分間、40℃で10分間乾燥させた後、フィルムをガラス基板より剥離し、内径が32cm×100cmの金属枠に枠張りをした状態でさらに140℃で30分乾燥させてフィルム試料(試料105)を得た。
得られたフィルム試料の膜厚、全光線透過率、ガラス転移温度、泡数、異物数、寸法変化率、平面性を濾過時間とともに表1に結果を示す。
[Comparative Example 5]
1-5. Film formation of PF-1 (Method of drying at low temperature without degassing)
In a 1 L glass bottle having a stirring blade, a solvent having the following composition was prepared, and PF-1 powder (average size 1 mm) was gradually added while stirring well, so that the whole was 920 g. After the addition, it was allowed to stand at room temperature (25 ° C.) for 1 hour to swell PF-1. Next, the glass bottle was sealed, and stirring was continued for 24 hours with a seesaw rotary rotor. After dissolving PF-1, it was heated to 50 ° C. and filtered with an average pore size of 40 μm (manufactured by Toyo Roshi Kaisha, Ltd., “# 63 ]) And pressure filtered at a pressure of 0.5 MPa to obtain a PF-1 dope. The filtration area at this time was 43 cm 2 , and the time required for filtration was 1 hour. This PF-1 dope was cast on a glass substrate using a small casting die having a width of 40 cm. After casting, the film was dried at 12 ° C. for 10 minutes and at 40 ° C. for 10 minutes while blowing with a dew point of 6 ° C., and then the film was peeled off from the glass substrate, and a metal frame having an inner diameter of 32 cm × 100 cm was framed. The film was further dried at 140 ° C. for 30 minutes to obtain a film sample (Sample 105).
The film thickness, total light transmittance, glass transition temperature, number of bubbles, number of foreign matters, dimensional change rate, and flatness of the obtained film sample are shown in Table 1 together with the filtration time.

・上述の例示化合物PF−1 21質量部
(重量平均分子量65000、DSC測定によるガラス転移温度320℃)
・ジクロロメタン 79質量部
-21 parts by mass of the above exemplified compound PF-1 (weight average molecular weight 65000, glass transition temperature 320 ° C. by DSC measurement)
・ 79 parts by mass of dichloromethane

[比較例6]
1−6.PF−1の製膜(ドープ調製時に減圧する方法)
減圧配管を接続した攪拌羽根を有する1Lのガラス瓶に、下記組成の溶媒を調製し、ガラス瓶内圧力を90000Paにし、よく攪拌しつつ、PF−1粉体(平均サイズ1mm)を徐々に添加し、全体が920gになるように仕込んだ。添加後、室温(25℃)にて1時間放置し、PF−1を膨潤させた。次に、ガラス瓶を密閉、シーソー回転式ローターで24時間撹拌を継続し、PF−1を溶解したのち、50℃に加温し、平均孔径40μmの濾紙(東洋濾紙(株)製,『#63』)で0.5MPaの圧力で加圧濾過しPF−1ドープを得た。このときの濾過面積は43cm2であり、濾過に要した時間は1時間fであった。このPF−1ドープを幅40cmの小型流延ダイを用いてガラス基板上に流延した。流延後、露点6℃の送風下、22℃で2分間、70℃で3分間乾燥させた後、フィルムをガラス基板より剥離し、内径が32cm×100cmの金属枠に枠張りをした状態でさらに140℃で30分乾燥させてフィルム試料(試料106)を得た。
得られたフィルム試料の膜厚、全光線透過率、ガラス転移温度、泡数、異物数、寸法変化率、平面性を濾過時間とともに表1に結果を示す。
[Comparative Example 6]
1-6. Film formation of PF-1 (Method of reducing pressure during dope preparation)
In a 1 L glass bottle having a stirring blade connected to a decompression pipe, a solvent having the following composition was prepared, the pressure in the glass bottle was set to 90000 Pa, and PF-1 powder (average size 1 mm) was gradually added while stirring well, The whole was charged to 920 g. After the addition, it was allowed to stand at room temperature (25 ° C.) for 1 hour to swell PF-1. Next, the glass bottle was sealed, and stirring was continued for 24 hours with a seesaw rotary rotor. After dissolving PF-1, it was heated to 50 ° C. and filtered with an average pore size of 40 μm (manufactured by Toyo Roshi Kaisha, Ltd., “# 63 ]) And pressure filtered at a pressure of 0.5 MPa to obtain a PF-1 dope. The filtration area at this time was 43 cm 2 , and the time required for filtration was 1 hour f. This PF-1 dope was cast on a glass substrate using a small casting die having a width of 40 cm. After casting, the film was dried at 22 ° C. for 2 minutes and at 70 ° C. for 3 minutes under blowing at a dew point of 6 ° C., then the film was peeled off from the glass substrate, and a metal frame with an inner diameter of 32 cm × 100 cm was framed. The film was further dried at 140 ° C. for 30 minutes to obtain a film sample (sample 106).
The film thickness, total light transmittance, glass transition temperature, number of bubbles, number of foreign matters, dimensional change rate, and flatness of the obtained film sample are shown in Table 1 together with the filtration time.

〔組成〕
・上述の例示化合物PF−1 21質量部
(重量平均分子量65000、DSC測定によるガラス転移温度320℃)
・ジクロロメタン 79質量部
〔composition〕
-21 parts by mass of the above exemplified compound PF-1 (weight average molecular weight 65000, glass transition temperature 320 ° C. by DSC measurement)
・ 79 parts by mass of dichloromethane

[比較例7]
1−7.PF−1の製膜(濾過後のドープを加温、静置する方法)
攪拌羽根を有する1Lのガラス瓶に、下記組成の溶媒を調製し、よく攪拌しつつ、PF−1粉体(平均サイズ1mm)を徐々に添加し、全体が920gになるように仕込んだ。添加後、室温(25℃)にて1時間放置し、PF−1を膨潤させた。次に、ガラス瓶を密閉、シーソー回転式ローターで24時間撹拌を継続し、PF−1を溶解したのち、50℃に加温し、平均孔径40μmの濾紙(東洋濾紙(株)製,『#63』)で0.5MPaの圧力で加圧濾過しPF−1ドープを得た。このときの濾過面積は43cm2であり、濾過に要した時間は1時間であった。その後、このPF−1ドープを50℃で2.5時間静置した後、幅40cmの小型流延ダイを用いてガラス基板上に流延した。流延後、露点6℃の送風下、22℃で2分間、70℃で3分間乾燥させた後、フィルムをガラス基板より剥離し、内径が32cm×100cmの金属枠に枠張りをした状態でさらに140℃で30分乾燥させてフィルム試料(試料107)を得た。
得られたフィルム試料の膜厚、全光線透過率、ガラス転移温度、泡数、異物数、寸法変化率、平面性を濾過時間とともに表1に結果を示す。
[Comparative Example 7]
1-7. Film formation of PF-1 (Method of heating and standing the dope after filtration)
In a 1 L glass bottle having a stirring blade, a solvent having the following composition was prepared, and PF-1 powder (average size 1 mm) was gradually added while stirring well, so that the whole was 920 g. After the addition, it was allowed to stand at room temperature (25 ° C.) for 1 hour to swell PF-1. Next, the glass bottle was sealed, and stirring was continued for 24 hours with a seesaw rotary rotor. After dissolving PF-1, it was heated to 50 ° C. and filtered with an average pore size of 40 μm (manufactured by Toyo Roshi Kaisha, Ltd., “# 63 ]) And pressure filtered at a pressure of 0.5 MPa to obtain a PF-1 dope. The filtration area at this time was 43 cm 2 , and the time required for filtration was 1 hour. Thereafter, this PF-1 dope was allowed to stand at 50 ° C. for 2.5 hours, and then cast on a glass substrate using a small casting die having a width of 40 cm. After casting, the film was dried at 22 ° C. for 2 minutes and at 70 ° C. for 3 minutes under blowing at a dew point of 6 ° C., then the film was peeled off from the glass substrate, and a metal frame with an inner diameter of 32 cm × 100 cm was framed. The film was further dried at 140 ° C. for 30 minutes to obtain a film sample (Sample 107).
The film thickness, total light transmittance, glass transition temperature, number of bubbles, number of foreign matters, dimensional change rate, and flatness of the obtained film sample are shown in Table 1 together with the filtration time.

〔組成〕
・上述の例示化合物PF−1 21質量部
(重量平均分子量65000、DSC測定によるガラス転移温度320℃)
・ジクロロメタン 79質量部
〔composition〕
-21 parts by mass of the above exemplified compound PF-1 (weight average molecular weight 65000, glass transition temperature 320 ° C. by DSC measurement)
・ 79 parts by mass of dichloromethane

[比較例8]
1−8.PF−1の製膜(ドープ調製時に減圧する方法、加熱収縮処理を行う)
減圧配管を接続した攪拌羽根を有する1Lのガラス瓶に、下記組成の溶媒を調製し、ガラス瓶内圧力を90000Paにし、よく攪拌しつつ、PF−1粉体(平均サイズ1mm)を徐々に添加し、全体が920gになるように仕込んだ。添加後、室温(25℃)にて1時間放置し、PF−1を膨潤させた。次に、ガラス瓶を密閉、シーソー回転式ローターで24時間撹拌を継続し、PF−1を溶解したのち、50℃に加温し、平均孔径40μmの濾紙(東洋濾紙(株)製,『#63』)で0.5MPaの圧力で加圧濾過しPF−1ドープを得た。このときの濾過面積は43cm2であり、濾過に要した時間は1時間であった。このPF−1ドープを幅40cmの小型流延ダイを用いてガラス基板上に流延した。流延後、露点6℃の送風下、22℃で2分間、70℃で3分間乾燥させた後、フィルムをガラス基板より剥離し、内径が32cm×100cmの金属枠に枠張りをした状態でさらに140℃で30分乾燥させた。その後、枠から外して270℃、8時間の加熱処理を行いフィルム試料(試料108)を得た。
得られたフィルム試料の膜厚、全光線透過率、ガラス転移温度、泡数、異物数、寸法変化率、平面性を濾過時間とともに表1に結果を示す。
[Comparative Example 8]
1-8. Film formation of PF-1 (Method of reducing pressure during dope preparation, heat shrinking treatment)
In a 1 L glass bottle having a stirring blade connected to a decompression pipe, a solvent having the following composition was prepared, the pressure in the glass bottle was set to 90000 Pa, and PF-1 powder (average size 1 mm) was gradually added while stirring well, The whole was charged to 920 g. After the addition, it was allowed to stand at room temperature (25 ° C.) for 1 hour to swell PF-1. Next, the glass bottle was sealed, and stirring was continued for 24 hours with a seesaw rotary rotor. After dissolving PF-1, it was heated to 50 ° C. and filtered with an average pore size of 40 μm (manufactured by Toyo Roshi Kaisha, Ltd., “# 63 ]) And pressure filtered at a pressure of 0.5 MPa to obtain a PF-1 dope. The filtration area at this time was 43 cm 2 , and the time required for filtration was 1 hour. This PF-1 dope was cast on a glass substrate using a small casting die having a width of 40 cm. After casting, the film was dried at 22 ° C. for 2 minutes and at 70 ° C. for 3 minutes under blowing at a dew point of 6 ° C., then the film was peeled off from the glass substrate, and a metal frame with an inner diameter of 32 cm × 100 cm was framed. Further, it was dried at 140 ° C. for 30 minutes. Then, it removed from the frame and heat-processed for 270 degreeC and 8 hours, and obtained the film sample (sample 108).
The film thickness, total light transmittance, glass transition temperature, number of bubbles, number of foreign matters, dimensional change rate, and flatness of the obtained film sample are shown in Table 1 together with the filtration time.

〔組成〕
・上述の例示化合物PF−1 21質量部
(重量平均分子量65000、DSC測定によるガラス転移温度320℃)
・ジクロロメタン 79質量部
〔composition〕
-21 parts by mass of the above exemplified compound PF-1 (weight average molecular weight 65000, glass transition temperature 320 ° C. by DSC measurement)
・ 79 parts by mass of dichloromethane

[比較例9]
1−9.PF−1の製膜(金属網での濾過後のドープを加温、静置する方法)
攪拌羽根を有する1Lのガラス瓶に、下記組成の溶媒を調製し、よく攪拌しつつ、PF−1粉体(平均サイズ1mm)を徐々に添加し、全体が920gになるように仕込んだ。添加後、室温(25℃)にて1時間放置し、PF−1を膨潤させた。次に、ガラス瓶を密閉、シーソー回転式ローターで24時間撹拌を継続し、PF−1を溶解したのち、50℃に加温し、平均孔径15μmの金属網を濾材として0.5MPaの圧力で加圧濾過しPF−1ドープを得た。このときの濾過面積は43cm2であり、濾過に要した時間は3時間であった。その後、このPF−1ドープを50℃で2.5時間静置した後、幅40cmの小型流延ダイを用いてガラス基板上に流延した。流延後、露点6℃の送風下、22℃で2分間、70℃で3分間乾燥させた後、フィルムをガラス基板より剥離し、内径が32cm×100cmの金属枠に枠張りをした状態でさらに140℃で30分乾燥させてフィルム試料(試料109)を得た。
得られたフィルム試料の膜厚、全光線透過率、ガラス転移温度、泡数、異物数、寸法変化率、平面性を濾過時間とともに表1に結果を示す。
[Comparative Example 9]
1-9. Film formation of PF-1 (Method of heating and leaving the dope after filtration through a metal net)
In a 1 L glass bottle having a stirring blade, a solvent having the following composition was prepared, and PF-1 powder (average size 1 mm) was gradually added while stirring well, so that the whole was 920 g. After the addition, it was allowed to stand at room temperature (25 ° C.) for 1 hour to swell PF-1. Next, the glass bottle was sealed, and stirring was continued for 24 hours with a seesaw rotary rotor to dissolve PF-1, and then heated to 50 ° C., and a metal net having an average pore diameter of 15 μm was applied as a filter medium at a pressure of 0.5 MPa. PF-1 dope was obtained by pressure filtration. The filtration area at this time was 43 cm 2 , and the time required for filtration was 3 hours. Thereafter, this PF-1 dope was allowed to stand at 50 ° C. for 2.5 hours, and then cast on a glass substrate using a small casting die having a width of 40 cm. After casting, the film was dried at 22 ° C. for 2 minutes and at 70 ° C. for 3 minutes under blowing at a dew point of 6 ° C., then the film was peeled off from the glass substrate, and a metal frame with an inner diameter of 32 cm × 100 cm was framed. The film was further dried at 140 ° C. for 30 minutes to obtain a film sample (sample 109).
The film thickness, total light transmittance, glass transition temperature, number of bubbles, number of foreign matters, dimensional change rate, and flatness of the obtained film sample are shown in Table 1 together with the filtration time.

〔組成〕
・上述の例示化合物PF−1 21質量部
(重量平均分子量65000、DSC測定によるガラス転移温度320℃)
・ジクロロメタン 79質量部
〔composition〕
-21 parts by mass of the above exemplified compound PF-1 (weight average molecular weight 65000, glass transition temperature 320 ° C. by DSC measurement)
・ 79 parts by mass of dichloromethane

[実施例1]
2.フィルムの製膜方法(本発明の方法)
2−1.PF−1の製膜(濾過後のドープを減圧する方法)
攪拌羽根を有する1Lのガラス瓶に、下記組成の溶媒を調製し、よく攪拌しつつ、PF−1粉体(平均サイズ1mm)を徐々に添加し、全体が920gになるように仕込んだ。添加後、室温(25℃)にて1時間放置し、PF−1を膨潤させた。次に、ガラス瓶を密閉、シーソー回転式ローターで24時間撹拌を継続し、PF−1を溶解したのち、50℃に加温し、平均孔径40μmの濾紙(東洋濾紙(株)製,『#63』)で0.5MPaの圧力で加圧濾過しPF−1ドープを得た。このときの濾過面積は43cm2であり、濾過に要した時間は1時間であった。その後、このPF−1ドープをガラス瓶に入れたまま、真空配管を取り付けた真空装置(EYELA製 VOS−301SD)内に入れ、4000〜5000Paの減圧下5分間保持したところ気泡の発生を目視で確認した。その後、幅40cmの小型流延ダイを用いてガラス基板上に流延した。流延後、露点6℃の送風下、22℃で2分間、70℃で3分間乾燥させた後、フィルムをガラス基板より剥離し、内径が32cm×100cmの金属枠に枠張りをした状態でさらに140℃で30分乾燥させてフィルム試料(試料201)を得た。
得られたフィルム試料の膜厚、全光線透過率、ガラス転移温度、泡数、異物数、寸法変化率、平面性を濾過時間とともに表1に結果を示す。
[Example 1]
2. Film production method (method of the present invention)
2-1. Film formation of PF-1 (Method of reducing the dope after filtration)
In a 1 L glass bottle having a stirring blade, a solvent having the following composition was prepared, and PF-1 powder (average size 1 mm) was gradually added while stirring well, so that the whole was 920 g. After the addition, it was allowed to stand at room temperature (25 ° C.) for 1 hour to swell PF-1. Next, the glass bottle was sealed, and stirring was continued for 24 hours with a seesaw rotary rotor. After dissolving PF-1, it was heated to 50 ° C. and filtered with an average pore size of 40 μm (manufactured by Toyo Roshi Kaisha, Ltd., “# 63 ]) And pressure filtered at a pressure of 0.5 MPa to obtain a PF-1 dope. The filtration area at this time was 43 cm 2 , and the time required for filtration was 1 hour. After that, the PF-1 dope was put in a glass bottle and placed in a vacuum apparatus (VELOS-301SD manufactured by EYELA) equipped with a vacuum pipe and kept under reduced pressure of 4000 to 5000 Pa for 5 minutes. did. Then, it cast on the glass substrate using the small casting die of width 40cm. After casting, the film was dried at 22 ° C. for 2 minutes and at 70 ° C. for 3 minutes under blowing at a dew point of 6 ° C., then the film was peeled off from the glass substrate, and a metal frame with an inner diameter of 32 cm × 100 cm was framed. The film was further dried at 140 ° C. for 30 minutes to obtain a film sample (Sample 201).
The film thickness, total light transmittance, glass transition temperature, number of bubbles, number of foreign matters, dimensional change rate, and flatness of the obtained film sample are shown in Table 1 together with the filtration time.

〔組成〕
・上述の例示化合物PF−1 21質量部
(重量平均分子量65000、DSC測定によるガラス転移温度320℃)
・ジクロロメタン 79質量部
〔composition〕
-21 parts by mass of the above exemplified compound PF-1 (weight average molecular weight 65000, glass transition temperature 320 ° C. by DSC measurement)
・ 79 parts by mass of dichloromethane

[実施例2]
2−2.PF−1の製膜(濾過後のドープを超音波処理した後、減圧する方法)
攪拌羽根を有する1Lのガラス瓶に、下記組成の溶媒を調製し、よく攪拌しつつ、PF−1粉体(平均サイズ1mm)を徐々に添加し、全体が920gになるように仕込んだ。添加後、室温(25℃)にて1時間放置し、PF−1を膨潤させた。次に、ガラス瓶を密閉、シーソー回転式ローターで24時間撹拌を継続し、PF−1を溶解したのち、50℃に加温し、平均孔径40μmの濾紙(東洋濾紙(株)製,『#63』)で0.5MPaの圧力で加圧濾過しPF−1ドープを得た。このときの濾過面積は43cm2であり、濾過に要した時間は1時間であった。このPF−1ドープを撹拌しながら超音波処理を行い、その後ガラス瓶に入れたまま、真空配管を取り付けた真空装置(EYELA製 VOS−301SD)内に入れ、4000〜5000Paの減圧下5分間静置したところ気泡の発生を目視で確認した。その後、幅40cmの小型流延ダイを用いてガラス基板上に流延した。流延後、露点6℃の送風下、22℃で2分間、70℃で3分間乾燥させた後、フィルムをガラス基板より剥離し、内径が32cm×100cmの金属枠に枠張りをした状態でさらに140℃で30分乾燥させてフィルム試料(試料202)を得た。
得られたフィルム試料の膜厚、全光線透過率、ガラス転移温度、泡数、異物数、寸法変化率、平面性を濾過時間とともに表1に結果を示す。
[Example 2]
2-2. Film formation of PF-1 (Method of reducing pressure after ultrasonic treatment of the dope after filtration)
In a 1 L glass bottle having a stirring blade, a solvent having the following composition was prepared, and PF-1 powder (average size 1 mm) was gradually added while stirring well, so that the whole was 920 g. After the addition, it was allowed to stand at room temperature (25 ° C.) for 1 hour to swell PF-1. Next, the glass bottle was sealed, and stirring was continued for 24 hours with a seesaw rotary rotor. After dissolving PF-1, it was heated to 50 ° C. and filtered with an average pore size of 40 μm (manufactured by Toyo Roshi Kaisha, Ltd., “# 63 ]) And pressure filtered at a pressure of 0.5 MPa to obtain a PF-1 dope. The filtration area at this time was 43 cm 2 , and the time required for filtration was 1 hour. This PF-1 dope is agitated while being stirred, and then placed in a glass bottle and placed in a vacuum device (VOS-301SD manufactured by EYELA) equipped with a vacuum pipe, and allowed to stand under reduced pressure of 4000 to 5000 Pa for 5 minutes. As a result, the generation of bubbles was visually confirmed. Then, it cast on the glass substrate using the small casting die of width 40cm. After casting, the film was dried at 22 ° C. for 2 minutes and at 70 ° C. for 3 minutes under blowing at a dew point of 6 ° C., then the film was peeled off from the glass substrate, and a metal frame with an inner diameter of 32 cm × 100 cm was framed. The film was further dried at 140 ° C. for 30 minutes to obtain a film sample (Sample 202).
The film thickness, total light transmittance, glass transition temperature, number of bubbles, number of foreign matters, dimensional change rate, and flatness of the obtained film sample are shown in Table 1 together with the filtration time.

〔組成〕
・上述の例示化合物PF−1 21質量部
(重量平均分子量65000、DSC測定によるガラス転移温度320℃)
・ジクロロメタン 79質量部
〔composition〕
-21 parts by mass of the above exemplified compound PF-1 (weight average molecular weight 65000, glass transition temperature 320 ° C. by DSC measurement)
・ 79 parts by mass of dichloromethane

[実施例3]
2−3.PF−1の製膜(濾過助剤を用いて濾過を行う方法)
攪拌羽根を有する1Lのガラス瓶に、下記組成の溶媒を調製し、よく攪拌しつつ、PF−1粉体(平均サイズ1mm)を徐々に添加し、全体が920gになるように仕込んだ。添加後、室温(25℃)にて1時間放置し、PF−1を膨潤させた。次に、ガラス瓶を密閉、シーソー回転式ローターで24時間撹拌を継続し、PF−1を溶解した。その後、PF−1溶液に濾過助剤としてダイカライト6000(三井金属鉱業(株)販売)を0.37g添加し均一に分散させ、50℃に加温し、平均孔径40μmの濾紙(東洋濾紙(株)製,『#63』)上にジクロロメタン1000gと3.2gのダイカライト6000との混合分散液を事前に濾過することで形成したプレコート層を通して0.5MPaの圧力で加圧濾過しPF−1ドープを得た。このときの濾過面積は43cm2であり、濾過に要した時間は1時間であった。このPF−1ドープを撹拌しながら超音波処理を行い、その後ガラス瓶に入れたまま、真空配管を取り付けた真空装置(EYELA製 VOS−301SD)内に入れ、4000〜5000Paの減圧下5分間静置したところ気泡の発生を目視で確認した。その後、幅40cmの小型流延ダイを用いてガラス基板上に流延した。流延後、露点6℃の送風下、22℃で2分間、70℃で3分間乾燥させた後、フィルムをガラス基板より剥離し、内径が32cm×100cmの金属枠に枠張りをした状態でさらに140℃で30分乾燥させてフィルム試料(試料203)を得た。
得られたフィルム試料の膜厚、全光線透過率、ガラス転移温度、泡数、異物数、寸法変化率、平面性を濾過時間とともに表1に結果を示す。
[Example 3]
2-3. Film formation of PF-1 (Method of performing filtration using a filter aid)
In a 1 L glass bottle having a stirring blade, a solvent having the following composition was prepared, and PF-1 powder (average size 1 mm) was gradually added while stirring well, so that the whole was 920 g. After the addition, it was allowed to stand at room temperature (25 ° C.) for 1 hour to swell PF-1. Next, the glass bottle was sealed, and stirring was continued for 24 hours with a seesaw rotary rotor to dissolve PF-1. Thereafter, 0.37 g of Dicalite 6000 (available from Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.) was added to the PF-1 solution as a filter aid, dispersed uniformly, heated to 50 ° C., and filter paper (Toyo filter paper (Toyo filter paper ( "# 63"), and pressure-filtered at a pressure of 0.5 MPa through a precoat layer formed by pre-filtering a mixed dispersion of 1000 g of dichloromethane and 3.2 g of Dicalite 6000. 1 dope was obtained. The filtration area at this time was 43 cm 2 , and the time required for filtration was 1 hour. This PF-1 dope is agitated while being stirred, and then placed in a glass bottle and placed in a vacuum device (VOS-301SD manufactured by EYELA) equipped with a vacuum pipe, and allowed to stand under reduced pressure of 4000 to 5000 Pa for 5 minutes. As a result, the generation of bubbles was visually confirmed. Then, it cast on the glass substrate using the small casting die of width 40cm. After casting, the film was dried at 22 ° C. for 2 minutes and at 70 ° C. for 3 minutes under blowing at a dew point of 6 ° C., then the film was peeled off from the glass substrate, and a metal frame with an inner diameter of 32 cm × 100 cm was framed. The film was further dried at 140 ° C. for 30 minutes to obtain a film sample (Sample 203).
The film thickness, total light transmittance, glass transition temperature, number of bubbles, number of foreign matters, dimensional change rate, and flatness of the obtained film sample are shown in Table 1 together with the filtration time.

〔組成〕
・上述の例示化合物PF−1 21質量部
(重量平均分子量65000、DSC測定によるガラス転移温度320℃)
・ジクロロメタン 79質量部
〔composition〕
-21 parts by mass of the above exemplified compound PF-1 (weight average molecular weight 65000, glass transition temperature 320 ° C. by DSC measurement)
・ 79 parts by mass of dichloromethane

[実施例4]
2−4.PF−1の製膜(2段階加熱処理を行う方法)
攪拌羽根を有する1Lのガラス瓶に、下記組成の溶媒を調製し、よく攪拌しつつ、PF−1粉体(平均サイズ1mm)を徐々に添加し、全体が920gになるように仕込んだ。添加後、室温(25℃)にて1時間放置し、PF−1を膨潤させた。次に、ガラス瓶を密閉、シーソー回転式ローターで24時間撹拌を継続し、PF−1を溶解した。その後、PF−1溶液に濾過助剤としてダイカライト6000(三井金属鉱業(株)販売)を0.37g添加し均一に分散させ、50℃に加温し、平均孔径40μmの濾紙(東洋濾紙(株)製,『#63』)上にジクロロメタン1000gと3.2gのダイカライト6000との混合分散液を事前に濾過することで形成したプレコート層を通して0.5MPaの圧力で加圧濾過しPF−1ドープを得た。このときの濾過面積は43cm2であり、濾過に要した時間は1時間であった。このPF−1ドープを撹拌しながら超音波処理を行い、その後ガラス瓶に入れたまま、真空配管を取り付けた真空装置(EYELA製 VOS−301SD)内に入れ、4000〜5000Paの減圧下5分間静置したところ気泡の発生を目視で確認した。その後、幅40cmの小型流延ダイを用いてガラス基板上に流延した。流延後、露点6℃の送風下、22℃で2分間、70℃で3分間乾燥させた後、フィルムをガラス基板より剥離し、内径が32cm×100cmの金属枠に枠張りをした状態でさらに140℃で30分乾燥させた。ついで枠張りをしたまま270℃、8時間、枠から外して270℃、8時間の加熱処理を行いフィルム試料(試料204)を得た。
得られたフィルム試料の膜厚、全光線透過率、ガラス転移温度、泡数、異物数、寸法変化率、平面性を濾過時間とともに表1に結果を示す。
[Example 4]
2-4. Film formation of PF-1 (method of performing two-step heat treatment)
In a 1 L glass bottle having a stirring blade, a solvent having the following composition was prepared, and PF-1 powder (average size 1 mm) was gradually added while stirring well, so that the whole was 920 g. After the addition, it was allowed to stand at room temperature (25 ° C.) for 1 hour to swell PF-1. Next, the glass bottle was sealed, and stirring was continued for 24 hours with a seesaw rotary rotor to dissolve PF-1. Thereafter, 0.37 g of Dicalite 6000 (available from Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.) was added to the PF-1 solution as a filter aid, dispersed uniformly, heated to 50 ° C., and filter paper (Toyo filter paper (Toyo filter paper ( "# 63"), and pressure-filtered at a pressure of 0.5 MPa through a precoat layer formed by pre-filtering a mixed dispersion of 1000 g of dichloromethane and 3.2 g of Dicalite 6000. 1 dope was obtained. The filtration area at this time was 43 cm 2 , and the time required for filtration was 1 hour. This PF-1 dope is agitated while being stirred, and then placed in a glass bottle and placed in a vacuum device (VOS-301SD manufactured by EYELA) equipped with a vacuum pipe, and allowed to stand under reduced pressure of 4000 to 5000 Pa for 5 minutes. As a result, the generation of bubbles was visually confirmed. Then, it cast on the glass substrate using the small casting die of width 40cm. After casting, the film was dried at 22 ° C. for 2 minutes and at 70 ° C. for 3 minutes under blowing at a dew point of 6 ° C., then the film was peeled off from the glass substrate, and a metal frame with an inner diameter of 32 cm × 100 cm was framed. Further, it was dried at 140 ° C. for 30 minutes. Next, with the frame attached, heat treatment was performed at 270 ° C. for 8 hours after removing the frame at 270 ° C. for 8 hours to obtain a film sample (sample 204).
The film thickness, total light transmittance, glass transition temperature, number of bubbles, number of foreign matters, dimensional change rate, and flatness of the obtained film sample are shown in Table 1 together with the filtration time.

〔組成〕
・上述の例示化合物PF−1 21質量部
(重量平均分子量65000、DSC測定によるガラス転移温度320℃)
・ジクロロメタン 79質量部
〔composition〕
-21 parts by mass of the above exemplified compound PF-1 (weight average molecular weight 65000, glass transition temperature 320 ° C. by DSC measurement)
・ 79 parts by mass of dichloromethane

[実施例5]
2−5.PF−7の製膜(2−4.と同じ方法)
攪拌羽根を有する1Lのガラス瓶に、下記組成の溶媒を調製し、よく攪拌しつつ、PF−7粉体(平均サイズ1mm)を徐々に添加し、全体が920gになるように仕込んだ。添加後、室温(25℃)にて1時間放置し、PF−7を膨潤させた。次に、ガラス瓶を密閉、シーソー回転式ローターで24時間撹拌を継続し、PF−7を溶解した。その後、PF−7溶液に濾過助剤としてダイカライト6000(三井金属鉱業(株)販売)を0.37g添加し均一に分散させ、50℃に加温し、平均孔径40μmの濾紙(東洋濾紙(株)製,『#63』)上にジクロロメタン1000gと3.2gのダイカライト6000との混合分散液を事前に濾過することで形成したプレコート層を通して0.5MPaの圧力で加圧濾過しPF−7ドープを得た。このときの濾過面積は43cm2であり、濾過に要した時間は1時間であった。このPF−7ドープを撹拌しながら超音波処理を行い、その後ガラス瓶に入れたまま、真空配管を取り付けた真空装置(EYELA製 VOS−301SD)内に入れ、4000〜5000Paの減圧下5分間静置したところ気泡の発生を目視で確認した。その後、幅40cmの小型流延ダイを用いてガラス基板上に流延した。流延後、露点6℃の送風下、22℃で2分間、70℃で3分間乾燥させた後、フィルムをガラス基板より剥離し、内径が32cm×100cmの金属枠に枠張りをした状態でさらに140℃で30分乾燥させた。ついで枠張りをしたまま300℃、8時間、枠から外して300℃、8時間の加熱処理を行いフィルム試料(試料205)を得た。
得られたフィルム試料の膜厚、全光線透過率、ガラス転移温度、泡数、異物数、寸法変化率、平面性を濾過時間とともに表1に結果を示す。
[Example 5]
2-5. Film formation of PF-7 (same method as 2-4)
In a 1 L glass bottle having a stirring blade, a solvent having the following composition was prepared, and PF-7 powder (average size 1 mm) was gradually added while stirring well, so that the whole was 920 g. After the addition, the mixture was left at room temperature (25 ° C.) for 1 hour to swell PF-7. Next, the glass bottle was sealed, and stirring was continued for 24 hours with a seesaw rotary rotor to dissolve PF-7. Thereafter, 0.37 g of Dicalite 6000 (available from Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.) was added to the PF-7 solution as a filter aid, dispersed uniformly, heated to 50 ° C., and filter paper having an average pore size of 40 μm (Toyo Filter Paper ( "# 63"), and pressure-filtered at a pressure of 0.5 MPa through a precoat layer formed by pre-filtering a mixed dispersion of 1000 g of dichloromethane and 3.2 g of Dicalite 6000. 7 dope was obtained. The filtration area at this time was 43 cm 2 , and the time required for filtration was 1 hour. This PF-7 dope is agitated while being stirred, and then placed in a glass bottle, placed in a vacuum apparatus (VOS-301SD manufactured by EYELA) equipped with a vacuum pipe, and allowed to stand under reduced pressure of 4000 to 5000 Pa for 5 minutes. As a result, the generation of bubbles was visually confirmed. Then, it cast on the glass substrate using the small casting die of width 40cm. After casting, the film was dried at 22 ° C. for 2 minutes and at 70 ° C. for 3 minutes under blowing at a dew point of 6 ° C., then the film was peeled off from the glass substrate, and a metal frame with an inner diameter of 32 cm × 100 cm was framed. Further, it was dried at 140 ° C. for 30 minutes. Next, the film was removed from the frame for 8 hours with the frame attached, and heat treatment was performed at 300 ° C. for 8 hours to obtain a film sample (sample 205).
The film thickness, total light transmittance, glass transition temperature, number of bubbles, number of foreign matters, dimensional change rate, and flatness of the obtained film sample are shown in Table 1 together with the filtration time.

〔組成〕
・上述の例示化合物PF−7 21質量部
(重量平均分子量60000、DSC測定によるガラス転移温度350℃)
・ジクロロメタン 79質量部
〔composition〕
-21 parts by mass of the above exemplified compound PF-7 (weight average molecular weight 60000, glass transition temperature 350 ° C. by DSC measurement)
・ 79 parts by mass of dichloromethane

[実施例6]
2−6.PS−4の製膜(2−4.と同じ方法)
攪拌羽根を有する1Lのガラス瓶に、下記組成の溶媒を調製し、よく攪拌しつつ、PS−4粉体(平均サイズ1mm)を徐々に添加し、全体が920gになるように仕込んだ。添加後、室温(25℃)にて1時間放置し、PS−4を膨潤させた。次に、ガラス瓶を密閉、シーソー回転式ローターで24時間撹拌を継続し、PS−4を溶解した。その後、PS−4溶液に濾過助剤としてダイカライト6000(三井金属鉱業(株)販売)を0.37g添加し均一に分散させ、50℃に加温し、平均孔径40μmの濾紙(東洋濾紙(株)製,『#63』)上にジクロロメタン1000gと3.2gのダイカライト6000との混合分散液を事前に濾過することで形成したプレコート層を通して0.5MPaの圧力で加圧濾過しPS−4ドープを得た。このときの濾過面積は43cm2であり、濾過に要した時間は1時間であった。このPS−4ドープを撹拌しながら超音波処理を行い、その後ガラス瓶に入れたまま、真空配管を取り付けた真空装置(EYELA製 VOS−301SD)内に入れ、4000〜5000Paの減圧下5分間静置したところ気泡の発生を目視で確認した。その後、幅40cmの小型流延ダイを用いてガラス基板上に流延した。流延後、露点6℃の送風下、22℃で2分間、70℃で3分間乾燥させた後、フィルムをガラス基板より剥離し、内径が32cm×100cmの金属枠に枠張りをした状態でさらに140℃で30分乾燥させた。ついで枠張りをしたまま200℃、8時間、枠から外して200℃、8時間の加熱処理を行いフィルム試料(試料206)を得た。
得られたフィルム試料の膜厚、全光線透過率、ガラス転移温度、泡数、異物数、寸法変化率、平面性を濾過時間とともに表1に結果を示す。
[Example 6]
2-6. Film formation of PS-4 (same method as 2-4)
A solvent having the following composition was prepared in a 1 L glass bottle having a stirring blade, and PS-4 powder (average size 1 mm) was gradually added while stirring well, so that the whole was 920 g. After the addition, the mixture was allowed to stand at room temperature (25 ° C.) for 1 hour to swell PS-4. Next, the glass bottle was sealed, and stirring was continued for 24 hours with a seesaw rotary rotor to dissolve PS-4. Thereafter, 0.37 g of Dicalite 6000 (Mitsui Metal Mining Co., Ltd.) as a filter aid was added to the PS-4 solution and dispersed uniformly, heated to 50 ° C., and filter paper (Toyo filter paper (Toyo filter paper ( "# 63"), and pressure-filtered at a pressure of 0.5 MPa through a precoat layer formed by pre-filtering a mixed dispersion of 1000 g of dichloromethane and 3.2 g of Dicalite 6000. 4 dopes were obtained. The filtration area at this time was 43 cm 2 , and the time required for filtration was 1 hour. The PS-4 dope is agitated while being stirred, and then placed in a glass bottle, placed in a vacuum apparatus (VOS-301SD manufactured by EYELA) equipped with a vacuum pipe, and allowed to stand under reduced pressure of 4000 to 5000 Pa for 5 minutes. As a result, the generation of bubbles was visually confirmed. Then, it cast on the glass substrate using the small casting die of width 40cm. After casting, the film was dried at 22 ° C. for 2 minutes and at 70 ° C. for 3 minutes under blowing at a dew point of 6 ° C., then the film was peeled off from the glass substrate, and a metal frame with an inner diameter of 32 cm × 100 cm was framed. Further, it was dried at 140 ° C. for 30 minutes. Next, the film sample (sample 206) was obtained by carrying out heat treatment at 200 ° C. for 8 hours after removing the frame with the frame attached, at 200 ° C. for 8 hours.
The film thickness, total light transmittance, glass transition temperature, number of bubbles, number of foreign matters, dimensional change rate, and flatness of the obtained film sample are shown in Table 1 together with the filtration time.

〔組成〕
・上述の例示化合物PS−4 21質量部
(重量平均分子量63000、DSC測定によるガラス転移温度260℃)
・ジクロロメタン 79質量部
〔composition〕
-21 parts by mass of the above exemplified compound PS-4 (weight average molecular weight 63000, glass transition temperature 260 ° C. by DSC measurement)
・ 79 parts by mass of dichloromethane

Figure 2007069420
Figure 2007069420

表1中、比較例1〜3の結果からセルローストリアセテートを用いたフィルムはいずれの脱気方法を用いても泡数の少ない良好なフィルムが得られることがわかる。一方で本発明に用いることのできる高Tgポリマーを用いた比較例6〜9は、セルローストリアセテートで効果のあった脱気方法を用いても脱気処理を行わない比較例4に対して泡数低減の効果はほとんど見られなかった。一方で比較例5は低温、長時間の乾燥を行うことによって泡数低減の効果がある程度認められるが、該方法は乾燥に長時間を要する為、生産速度との両立の観点で不十分である。   In Table 1, it can be seen from the results of Comparative Examples 1 to 3 that a film using cellulose triacetate can be obtained as a good film having a small number of bubbles regardless of which degassing method is used. On the other hand, Comparative Examples 6 to 9 using a high Tg polymer that can be used in the present invention have a bubble number as compared with Comparative Example 4 in which degassing is not performed even if a degassing method effective with cellulose triacetate is used. Little reduction effect was seen. On the other hand, Comparative Example 5 shows some effect of reducing the number of bubbles by performing drying at low temperature for a long time. However, since this method requires a long time for drying, it is insufficient from the viewpoint of compatibility with production speed. .

これに対し、本発明の減圧脱気を用いた実施例1は低温、長時間の乾燥を用いなくても大幅な泡数低減の効果が認められる。さらに減圧脱気前に超音波処理を行った本発明の試料202〜206(実施例2〜6)ではほとんど泡の発生が認められないほど改善された。さらに濾過助剤を用いて濾過を行った本発明の試料203〜206(実施例3〜6)は濾過時間を長時間化する必要なく、異物数がほとんど認められなくなった。また、2段階の加熱処理を行った本発明の試料204〜206(実施例4〜6)は平面性を悪化させることなく寸法変化率を改善することが可能であることがわかる。
以上のことから、本発明により耐熱性、透明性、平面性、寸度安定性に優れ、異物、気泡の混入の少ないフィルムを生産性よく製造可能となることが分かる。
On the other hand, Example 1 using the vacuum degassing of the present invention has a significant effect of reducing the number of bubbles without using low temperature and long time drying. Furthermore, in the samples 202 to 206 (Examples 2 to 6) of the present invention in which ultrasonic treatment was performed before degassing under reduced pressure, the generation was improved so that almost no bubbles were observed. Further, the samples 203 to 206 (Examples 3 to 6) of the present invention that were filtered using a filter aid did not require a long filtration time, and the number of foreign matters was hardly recognized. Moreover, it turns out that the sample 204-206 (Examples 4-6) of this invention which performed the heat processing of 2 steps | paragraphs can improve a dimensional change rate, without deteriorating planarity.
From the above, it can be seen that the present invention makes it possible to produce a film having excellent heat resistance, transparency, flatness, and dimensional stability, and having less foreign matter and bubbles mixed in with high productivity.

Claims (9)

ポリマーを有機溶剤に溶解させたドープを支持体上に流延し乾燥させて、ガラス転移温度が250℃以上かつ全光線透過率が70%以上のフィルムを形成するフィルムの製造方法であって、
調製後の前記ドープを流延前に減圧脱気することを特徴とするフィルムの製造方法。
A method for producing a film in which a dope obtained by dissolving a polymer in an organic solvent is cast on a support and dried to form a film having a glass transition temperature of 250 ° C. or higher and a total light transmittance of 70% or higher.
A method for producing a film, wherein the prepared dope is degassed under reduced pressure before casting.
流延前の前記ドープに超音波処理を行うことを特徴とする請求項1に記載のフィルムの製造方法。   The method for producing a film according to claim 1, wherein ultrasonic treatment is performed on the dope before casting. 流延前の前記ドープを、濾過助剤を用いて濾過することを特徴とする請求項1または2に記載のフィルムの製造方法。   The method for producing a film according to claim 1 or 2, wherein the dope before casting is filtered using a filter aid. 乾燥後のフィルムに2段階の加熱処理を行うことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のフィルムの製造方法。   The method for producing a film according to any one of claims 1 to 3, wherein the dried film is subjected to two-stage heat treatment. 前記ポリマーが下記一般式(1)で表されるスピロ構造または下記一般式(2)で表されるカルド構造を含む繰り返し単位を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のフィルムの製造方法。
Figure 2007069420
〔一般式(1)中、環αは単環式または多環式の環を表し、2つの環はスピロ結合によって結合される。〕
Figure 2007069420
〔一般式(2)中、環βおよび環γは単環式または多環式の環を表し、2つの環γはそれぞれ同一若しくは異なっていてもよい。また、環βおよび環γは、環β上の1つの4級炭素原子によって連結される。〕
The polymer has a repeating unit including a spiro structure represented by the following general formula (1) or a cardo structure represented by the following general formula (2). The manufacturing method of the film of description.
Figure 2007069420
[In general formula (1), ring α represents a monocyclic or polycyclic ring, and the two rings are connected by a spiro bond. ]
Figure 2007069420
[In general formula (2), ring β and ring γ represent a monocyclic or polycyclic ring, and the two rings γ may be the same or different. Ring β and ring γ are connected by one quaternary carbon atom on ring β. ]
請求項1〜5のいずれか一項に記載のフィルムの製造方法によって製造されるフィルム。   The film manufactured by the manufacturing method of the film as described in any one of Claims 1-5. 1m2当たりの気泡の数が10個以下であることを特徴とする請求項6に記載のフィルム。 The film according to claim 6, wherein the number of bubbles per 1 m 2 is 10 or less. 70mm2当たりの5μm以上の異物の数が60個以下であることを特徴とする請求項6または7に記載のフィルム。 The film according to claim 6 or 7, wherein the number of foreign matters of 5 µm or more per 70 mm 2 is 60 or less. 200℃で5時間保持した場合の寸法変化率が±0.1%以下であることを特徴とする請求項6〜8のいずれか一項に記載のフィルム。   9. The film according to claim 6, wherein a dimensional change rate when held at 200 ° C. for 5 hours is ± 0.1% or less.
JP2005257653A 2005-09-06 2005-09-06 Method of manufacturing film, and the film Pending JP2007069420A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005257653A JP2007069420A (en) 2005-09-06 2005-09-06 Method of manufacturing film, and the film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005257653A JP2007069420A (en) 2005-09-06 2005-09-06 Method of manufacturing film, and the film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007069420A true JP2007069420A (en) 2007-03-22

Family

ID=37931306

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005257653A Pending JP2007069420A (en) 2005-09-06 2005-09-06 Method of manufacturing film, and the film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007069420A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009061617A (en) * 2007-09-05 2009-03-26 Fujifilm Corp Solution film forming method and apparatus
JP2009061619A (en) * 2007-09-05 2009-03-26 Fujifilm Corp Solution film forming method and apparatus
JP2012196809A (en) * 2011-03-18 2012-10-18 Fujifilm Corp Forming method of polyester resin film
JP2013254822A (en) * 2012-06-06 2013-12-19 Hitachi Chemical Co Ltd Method of manufacturing optical semiconductor device
JP2017048160A (en) * 2015-09-04 2017-03-09 日立化成株式会社 Fibroin solution, fibroin nano thin film, nano thin film sheet and method for producing the same, and transfer method
CN109256470A (en) * 2018-09-17 2019-01-22 电子科技大学 A kind of organic solar batteries preparation method based on ultrasonication spin coating proceeding

Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07228707A (en) * 1994-02-22 1995-08-29 Mitsubishi Chem Corp Carbon fiber-reinforced resin composite material
JPH0976257A (en) * 1995-09-19 1997-03-25 Sekisui Chem Co Ltd Preparation of resin film
JPH09118758A (en) * 1996-08-05 1997-05-06 Asahi Chem Ind Co Ltd Aromatic polyamide film and its production
WO1998058987A1 (en) * 1997-06-20 1998-12-30 Nippon Zeon Co., Ltd. Polymer film and film capacitor
JPH11302364A (en) * 1998-04-22 1999-11-02 Unitika Ltd Polyarylate and its film
JP2002088244A (en) * 2000-04-21 2002-03-27 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Curable composition, composition for optical material, optical material, liquid crystal display device, transparent electroconductive film and their manufacturing method
JP2002145998A (en) * 2000-11-14 2002-05-22 Ferrania Spa Optical film comprising polyarylate containing bis(hydroxyphenyl)fluorene-ortho-disubstituted bisphenol
JP2002210818A (en) * 2001-01-22 2002-07-31 Toray Ind Inc Method for manufacturing thermoplastic resin oriented sheet
JP2003064195A (en) * 2001-08-27 2003-03-05 Showa Highpolymer Co Ltd Heat-resistant transparent film and method for producing the same
JP2003141936A (en) * 2001-11-02 2003-05-16 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Transparent conductive film
JP2003168800A (en) * 2001-11-30 2003-06-13 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Thin film transistor substrate
JP2003200445A (en) * 2002-01-09 2003-07-15 Fuji Photo Film Co Ltd Solution film forming method
JP2004059639A (en) * 2002-07-25 2004-02-26 Jsr Corp Cycloolefin addition polymer film or sheet
JP2004074662A (en) * 2002-08-21 2004-03-11 Jsr Corp Method for manufacturing cycloolefin addition polymer film or sheet and film or sheet
JP2004107629A (en) * 2002-07-19 2004-04-08 Fuji Photo Film Co Ltd Method for casting film from solution
JP2004137449A (en) * 2002-05-09 2004-05-13 Sumitomo Chem Co Ltd Aromatic polysulfon resin, solution composition containing the same and film obtained by forming the same
JP2005219282A (en) * 2004-02-04 2005-08-18 Jsr Corp Film manufacturing method

Patent Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07228707A (en) * 1994-02-22 1995-08-29 Mitsubishi Chem Corp Carbon fiber-reinforced resin composite material
JPH0976257A (en) * 1995-09-19 1997-03-25 Sekisui Chem Co Ltd Preparation of resin film
JPH09118758A (en) * 1996-08-05 1997-05-06 Asahi Chem Ind Co Ltd Aromatic polyamide film and its production
WO1998058987A1 (en) * 1997-06-20 1998-12-30 Nippon Zeon Co., Ltd. Polymer film and film capacitor
JPH11302364A (en) * 1998-04-22 1999-11-02 Unitika Ltd Polyarylate and its film
JP2002088244A (en) * 2000-04-21 2002-03-27 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Curable composition, composition for optical material, optical material, liquid crystal display device, transparent electroconductive film and their manufacturing method
JP2002145998A (en) * 2000-11-14 2002-05-22 Ferrania Spa Optical film comprising polyarylate containing bis(hydroxyphenyl)fluorene-ortho-disubstituted bisphenol
JP2002210818A (en) * 2001-01-22 2002-07-31 Toray Ind Inc Method for manufacturing thermoplastic resin oriented sheet
JP2003064195A (en) * 2001-08-27 2003-03-05 Showa Highpolymer Co Ltd Heat-resistant transparent film and method for producing the same
JP2003141936A (en) * 2001-11-02 2003-05-16 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Transparent conductive film
JP2003168800A (en) * 2001-11-30 2003-06-13 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Thin film transistor substrate
JP2003200445A (en) * 2002-01-09 2003-07-15 Fuji Photo Film Co Ltd Solution film forming method
JP2004137449A (en) * 2002-05-09 2004-05-13 Sumitomo Chem Co Ltd Aromatic polysulfon resin, solution composition containing the same and film obtained by forming the same
JP2004107629A (en) * 2002-07-19 2004-04-08 Fuji Photo Film Co Ltd Method for casting film from solution
JP2004059639A (en) * 2002-07-25 2004-02-26 Jsr Corp Cycloolefin addition polymer film or sheet
JP2004074662A (en) * 2002-08-21 2004-03-11 Jsr Corp Method for manufacturing cycloolefin addition polymer film or sheet and film or sheet
JP2005219282A (en) * 2004-02-04 2005-08-18 Jsr Corp Film manufacturing method

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009061617A (en) * 2007-09-05 2009-03-26 Fujifilm Corp Solution film forming method and apparatus
JP2009061619A (en) * 2007-09-05 2009-03-26 Fujifilm Corp Solution film forming method and apparatus
KR101594955B1 (en) * 2007-09-05 2016-02-17 후지필름 가부시키가이샤 Solution casting process and apparatus
JP2012196809A (en) * 2011-03-18 2012-10-18 Fujifilm Corp Forming method of polyester resin film
JP2013254822A (en) * 2012-06-06 2013-12-19 Hitachi Chemical Co Ltd Method of manufacturing optical semiconductor device
JP2017048160A (en) * 2015-09-04 2017-03-09 日立化成株式会社 Fibroin solution, fibroin nano thin film, nano thin film sheet and method for producing the same, and transfer method
CN109256470A (en) * 2018-09-17 2019-01-22 电子科技大学 A kind of organic solar batteries preparation method based on ultrasonication spin coating proceeding

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4624152B2 (en) Plastic film, gas barrier film, and image display element using the same
CN106461836B (en) Phase difference film, circularly polarizing plate, and image display device
JP2004205773A (en) Polarizing plate and its manufacturing method, and liquid crystal display device using the same
KR101627011B1 (en) Method for producing optical film, optical film, and image display
JP2005068314A (en) Optical cellulose acylate film, and method for manufacturing the same
WO2015037456A1 (en) Optical film, transparent conductive film, touch panel, surface protection film and display device
TWI781090B (en) Optical laminate and image display device using the same
JP2007069420A (en) Method of manufacturing film, and the film
WO2015093307A1 (en) Multilayer polyester film and polarizing plate using same
WO2016152384A1 (en) Method for producing obliquely stretched film
JP2002303722A (en) Optical compensation sheet
JPWO2016147840A1 (en) Manufacturing method of obliquely stretched film
TWI644131B (en) Polarizing plate, manufacturing method of polarizing plate and liquid crystal display device
TWI537129B (en) Acylated cellulose film, polarizing plate and liquid crystal display device
JP2006239884A (en) Steam barrier film and optical display material using the same
JP5948750B2 (en) Antiglare film, method for producing antiglare film, polarizing plate and stereoscopic image display device
JP4662703B2 (en) Cellulose acylate dope and method for producing cellulose acylate film
JPWO2016152381A1 (en) Manufacturing method of obliquely stretched film
JP2014224169A (en) Cyclic olefin copolymer and cyclic olefin copolymer film
WO2015147115A1 (en) (meth)acrylic resin composition, film, polarization-plate protective film, polarization plate, and liquid crystal display
JP2006321835A (en) Cellulose mixed ester film and method for producing the same
JP2004315605A (en) Cellulose acylate film, its manufacturing method, polarizing plate-protecting film, liquid crystal display device, and silver halide photographic photosensitive material
JP2006096806A (en) Cellulose acylate film and optical film and image display device produced by using the same
TWI730966B (en) Multilayer laminated film
JP2006206695A (en) Cellulose ester film and method for producing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20061211

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080125

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100826

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100831

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110118