JP2007067052A - Aluminum foil for electrolytic capacitor - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、電解コンデンサの電極に用いられる電解コンデンサ用アルミニウム箔に関するものである。 The present invention relates to an aluminum foil for electrolytic capacitors used for electrodes of electrolytic capacitors.
電解コンデンサの電極に用いられるアルミニウム箔は、表面に酸化皮膜を形成してコンデンサ用電極としての機能を与えている。この電解コンデンサ用アルミニウム箔に対しては、電極として用いたときの単位面積当たりの静電容量を大きくするために、酸化皮膜の形成に先だってエッチング(例えば直流電解エッチング)によって表面を粗面化して実効表面積を増大させる粗面化処理が一般に行われている。 The aluminum foil used for the electrode of the electrolytic capacitor has a function as a capacitor electrode by forming an oxide film on the surface. The surface of the aluminum foil for electrolytic capacitors is roughened by etching (for example, direct current electrolytic etching) prior to the formation of the oxide film in order to increase the capacitance per unit area when used as an electrode. A roughening treatment for increasing the effective surface area is generally performed.
この粗面化では、アルミニウム箔の表面に微小なピットが多数形成されることで表面積が増大するので、ピットを高密度、均一に分散させて粗面化率を向上させる種々の工夫がなされている。その一つの手法としてアルミニウム箔にピットの形成を促進する成分を微量添加することが提案されている。 In this roughening, since the surface area is increased by forming a large number of minute pits on the surface of the aluminum foil, various ideas have been made to improve the roughening rate by dispersing pits in high density and evenly. Yes. As one of the methods, it is proposed to add a small amount of a component that promotes the formation of pits to the aluminum foil.
また、粗面化処理に供されるアルミニウムは、製造過程を経ることによって表面に酸化皮膜が形成されており、この酸化皮膜の性状は、初期エッチング性への影響が大きく、引いては最終でのピット分布に影響し、静電容量を左右する重要な因子である。粗面化処理に際し、この酸化皮膜は、最終的には溶解除去されてアルミニウム箔の表面にピットが形成されることになるが、その膜厚が小さすぎると、箔生地表面が溶けやすくなり、ピット発生前に表面が溶解してピット密度が小さくなり、膜厚が大きすぎると、箔生地表面が溶けにくくてエッチングピットが発生しにくくなる(特許文献1参照)。
また、粗面化処理前の表面酸化皮膜のバリヤー型酸化皮膜の厚さに着目し、該膜厚を制御することで、粗面化処理における粗面化率を向上させる方法が提案されている(特許文献2参照)。
Further, focusing on the thickness of the barrier type oxide film of the surface oxide film before the surface roughening treatment, a method for improving the surface roughening rate in the surface roughening treatment by controlling the film thickness has been proposed. (See Patent Document 2).
しかし、従来のように、微量元素の添加や酸化皮膜厚の制御、バリヤー膜厚の制御を行っても、十分に満足できる粗面化率を得ることは困難であり、粗面化率の改善によって単位面積当たりでの高い静電容量を得ることができるアルミニウム箔の開発が望まれている。
本発明は、上記事情を背景としてなされたものであり、酸化皮膜の性状をさらに適切に調整することで高い粗面化率を得ることができる電解コンデンサ用アルミニウム箔を提供することを目的とする。
However, as with conventional methods, it is difficult to obtain a sufficiently satisfactory roughening ratio even by adding trace elements, controlling the oxide film thickness, and controlling the barrier film thickness, and improving the roughening ratio. Therefore, it is desired to develop an aluminum foil capable of obtaining a high capacitance per unit area.
The present invention has been made against the background of the above circumstances, and an object thereof is to provide an aluminum foil for an electrolytic capacitor capable of obtaining a high roughening ratio by further appropriately adjusting the properties of an oxide film. .
すなわち本発明の電解コンデンサ用アルミニウム箔のうち、請求項1記載の発明は、エッチング処理に供される電解コンデンサ用アルミニウム箔であって、表面酸化皮膜におけるバリヤー膜厚と前記全膜厚との比D(D=バリヤー膜厚/全膜厚)が、下記式を満たすことを特徴とする電解コンデンサ用アルミニウム箔。
0.25≦D≦0.45 …(式)
That is, among the aluminum foils for electrolytic capacitors according to the present invention, the invention according to claim 1 is an aluminum foil for electrolytic capacitors to be subjected to an etching process, and is a ratio between the barrier film thickness in the surface oxide film and the total film thickness. An aluminum foil for electrolytic capacitors, wherein D (D = barrier film thickness / total film thickness) satisfies the following formula.
0.25 ≦ D ≦ 0.45 (formula)
請求項2記載の電解コンデンサ用アルミニウム箔の発明は、請求項1記載の発明において、前記酸化皮膜の全膜厚が30〜70Åであることを特徴とする。
The aluminum foil for electrolytic capacitor according to
請求項3記載の電解コンデンサ用アルミニウム箔の発明は、請求項1または2に記載の発明において、質量%で、Si:5〜50ppm、Fe:5〜50ppm、Cu:10〜100ppm、Pb:0.1〜5ppm、Na:0.1〜10ppmを含有し、残部がAlと不可避不純物からなる組成を有することを特徴とする。
The invention of the aluminum foil for electrolytic capacitors according to claim 3 is the invention according to
請求項4記載の電解コンデンサ用アルミニウム箔の発明は、請求項3記載の発明において、前記不可避不純物中のMn、Zn、Gaがそれぞれ10ppm以下で、かつ合計量で20ppm以下であることを特徴とする。 The invention for an aluminum foil for electrolytic capacitors according to claim 4 is characterized in that, in the invention according to claim 3, Mn, Zn, and Ga in the inevitable impurities are each 10 ppm or less and the total amount is 20 ppm or less. To do.
請求項5記載の電解コンデンサ用アルミニウム箔の発明は、請求項3または4に記載の発明において、前記不可避不純物中のZr含有量が5ppm以下であることを特徴とする。 The invention for an aluminum foil for electrolytic capacitors according to claim 5 is the invention according to claim 3 or 4, wherein the Zr content in the inevitable impurities is 5 ppm or less.
すなわち、本発明によれば、エッチング処理に供されるアルミニウム箔の表面酸化皮膜の性状が適切に設定されているので、エッチングに際し均一で高密度のピットが形成されて高い粗面化率が得られる。したがって該アルミニウム箔に表面酸化皮膜を形成して電解コンデンサ用電極として用いることにより単位面積当たりで高い静電容量が得られる。
以下に、本発明で規定した条件について説明する。
That is, according to the present invention, the properties of the surface oxide film of the aluminum foil subjected to the etching treatment are appropriately set, so that uniform and high-density pits are formed during the etching and a high roughening rate is obtained. It is done. Therefore, a high capacitance per unit area can be obtained by forming a surface oxide film on the aluminum foil and using it as an electrode for an electrolytic capacitor.
Below, the conditions prescribed | regulated by this invention are demonstrated.
0.25≦(バリヤー膜厚/全膜厚)≦0.45
エッチングに際し、箔生地が表面溶解することなく、最表面からトンネルピットが成長した形態が理想であり、酸化皮膜の耐食性はある程度必要である。ここで、上記比率が0.45を超えると、皮膜の耐食性が高過ぎ、エッチング性を抑制し、不均一形態を引き起こし、また、上記比率が0.25未満になると、耐食性が不十分で、表面溶解(全面溶解)過多となり、いずれの場合も良好な粗面化率を得ることができない。よって上記比率を0.25以上0.45以下とする。なお、望ましくは下限を0.32、上限を0.38とする。
0.25 ≦ (barrier film thickness / total film thickness) ≦ 0.45
In the etching, the form in which tunnel pits grow from the outermost surface without the foil fabric dissolving on the surface is ideal, and the corrosion resistance of the oxide film is required to some extent. Here, when the ratio exceeds 0.45, the corrosion resistance of the film is too high, the etching property is suppressed, causing a non-uniform form, and when the ratio is less than 0.25, the corrosion resistance is insufficient. Surface dissolution (overall dissolution) becomes excessive, and in any case, a good roughening rate cannot be obtained. Therefore, the ratio is set to 0.25 or more and 0.45 or less. Desirably, the lower limit is 0.32, and the upper limit is 0.38.
酸化皮膜厚さ(30〜70Å)
エッチング処理に供される直前のアルミニウム箔では、表面に適度な厚さの酸化皮膜が形成されていることが望ましい。この酸化皮膜厚さが30Å未満になると、表面溶解過多による粗面化率の低下が生じ、70Åを超えると局部的な溶解形態になり粗面化率の低下となるので、30〜70Åの範囲を設定する。酸化皮膜厚さは、X線光電子分析(ESCA)によって測定することができる。なお、装置構成、測定手順は本発明としては特に限定されるものではなく、常法により行うことができる。
Oxide film thickness (30 ~ 70mm)
In the aluminum foil immediately before being subjected to the etching treatment, it is desirable that an oxide film having an appropriate thickness is formed on the surface. When the thickness of the oxide film is less than 30 mm, the roughening rate is reduced due to excessive surface dissolution, and when it exceeds 70 mm, a local dissolution form is obtained and the roughening rate is reduced, so the range of 30 to 70 mm. Set. The oxide film thickness can be measured by X-ray photoelectron analysis (ESCA). In addition, an apparatus structure and a measurement procedure are not specifically limited as this invention, It can carry out by a conventional method.
バリアー膜厚:7.5〜30Å
エッチング処理に供される直前のアルミニウム箔では、酸化皮膜中でバリアー膜が適切な厚さを有しているのが望ましい。この酸化皮膜厚さが7.5Å未満になると、耐食性低下による全面溶解が生じ、30Åを超えると耐食性が高過ぎ、不均一溶解を引き起こすので、7.5〜30Åの範囲を設定する。なお、好ましい下限は10Å超である。
なお、バリヤー膜厚は、Hunter−Fowle法により酸化皮膜の破壊電圧を測定し、その結果から、14Å/Vとして算出したものである
Barrier film thickness: 7.5-30mm
In the aluminum foil immediately before being subjected to the etching treatment, it is desirable that the barrier film has an appropriate thickness in the oxide film. When this oxide film thickness is less than 7.5 mm, the entire surface is melted due to a decrease in corrosion resistance, and when it exceeds 30 mm, the corrosion resistance is too high and causes non-uniform dissolution, so a range of 7.5 to 30 mm is set. In addition, a preferable minimum is more than 10 tons.
The barrier film thickness was calculated as 14 Å / V from the breakdown voltage of the oxide film measured by the Hunter-Fowle method.
次に、本発明のアルミニウム箔の好適な組成について説明する。なお、以下の含有量はいずれも質量比で示されている。 Next, a suitable composition of the aluminum foil of the present invention will be described. In addition, all the following contents are shown by mass ratio.
Si:5〜50ppm
Siは、再結晶化に影響し、強度を付与する。ただし、少量の含有では、効果不十分である。一方、過度の含有は、必要な結晶粒が得られず、粗面化率に悪影響がある。これらのため、Siの含有量を5〜50ppmに限定する。なお、同様の理由で下限を8ppm、上限を30ppmとするのが望ましい。
Si: 5 to 50 ppm
Si affects recrystallization and imparts strength. However, the effect is insufficient when contained in a small amount. On the other hand, if the content is excessive, necessary crystal grains cannot be obtained, and the roughening rate is adversely affected. For these reasons, the Si content is limited to 5 to 50 ppm. For the same reason, it is desirable that the lower limit is 8 ppm and the upper limit is 30 ppm.
Fe:5〜50ppm
Feも、再結晶化に影響し、強度を付与する。ただし、少量の含有では、効果不十分である。一方、過度の含有は、必要な結晶粒が得られず、粗面化率に悪影響がある。これらのため、Feの含有量を5〜50ppmに限定する。なお、同様の理由で下限を8ppm、上限を30ppmとするのが望ましい。
Fe: 5 to 50 ppm
Fe also affects recrystallization and imparts strength. However, the effect is insufficient when contained in a small amount. On the other hand, if the content is excessive, necessary crystal grains cannot be obtained, and the roughening rate is adversely affected. For these reasons, the Fe content is limited to 5 to 50 ppm. For the same reason, it is desirable that the lower limit is 8 ppm and the upper limit is 30 ppm.
Cu:10〜100ppm
Cuはエッチングピットの起点となる。ただし、少量の含有では効果が不十分であり、また、過度の含有では、細かなピットが多数発生し、表面で合体し、無効溶解となる。したがって、Cuの含有量を10〜100ppmに限定する。なお、同様の理由で下限を40ppmm、上限を70ppmとするのが望ましい。
Cu: 10 to 100 ppm
Cu is the starting point of the etching pit. However, if the content is small, the effect is insufficient. If the content is excessive, many fine pits are generated and coalesced on the surface, resulting in ineffective dissolution. Therefore, the Cu content is limited to 10 to 100 ppm. For the same reason, it is desirable that the lower limit is 40 ppmm and the upper limit is 70 ppm.
Pb:0.1〜5ppm
Pbは、エッチングピットの起点になる。ただし、少量の含有では効果が不十分であり、また、過度の含有では、表面溶解過多となり、粗面化率に悪影響が表れる。したがって、Pbの含有量を0.1〜5ppmに限定する。なお、同様の理由で下限を0.2ppm、上限を2ppmとするのが望ましい。
Pb: 0.1-5 ppm
Pb becomes the starting point of the etching pit. However, if the content is small, the effect is insufficient. If the content is excessive, the surface is excessively dissolved, and the roughening rate is adversely affected. Therefore, the Pb content is limited to 0.1 to 5 ppm. For the same reason, it is desirable to set the lower limit to 0.2 ppm and the upper limit to 2 ppm.
Na:0.1〜10ppm
Naは表面溶解性を増加させるが、少量では効果が不十分であり、また、過剰に含有すると表面溶解過多となり、エッチングに際しピットが良好に形成されず、また腐食促進をする。これらの理由によりNaの含有量を0.1〜10ppmとする。なお、同様の理由で下限を1ppm、上限を5ppmとするのが望ましい。
Na: 0.1 to 10 ppm
Na increases the surface solubility, but the effect is insufficient in a small amount. If it is excessively contained, the surface is excessively dissolved, pits are not formed well during etching, and corrosion is promoted. For these reasons, the Na content is set to 0.1 to 10 ppm. For the same reason, it is desirable to set the lower limit to 1 ppm and the upper limit to 5 ppm.
Mn、Zn、Gaの一種以上:≦10ppm、かつMn+Zn+Ga≦20ppm
これらの元素は、含有量が多いほど、バルクの溶解性が増加し、無効溶解を促進するため、極力低減するほうが良く、それぞれ10ppmを許容含有量とし、かつ合計量が20ppmを超えないようにするのが望ましい。
One or more of Mn, Zn, and Ga: ≦ 10 ppm, and Mn + Zn + Ga ≦ 20 ppm
As these elements increase in content, the bulk solubility increases and promotes ineffective dissolution. Therefore, it is better to reduce them as much as possible, so that the allowable content is 10 ppm and the total amount does not exceed 20 ppm. It is desirable to do.
Zr:≦5ppm
Zrは、ピットの発生を抑制し、不均一なピット形態を助長する為、極力少ない方が良いので、5ppmを許容含有量とするのが望ましい。
Zr: ≦ 5 ppm
Since Zr suppresses the generation of pits and promotes a non-uniform pit form, it is preferable that Zr be as small as possible.
以上説明したように、本発明の電解コンデンサ用アルミニウム箔によれば、エッチング処理に供される電解コンデンサ用アルミニウム箔であって、表面酸化皮膜におけるバリヤー膜厚と前記全膜厚との比D(D=バリヤー膜厚/全膜厚)が、0.25≦D≦0.45を満たすので、エッチングに際し、ピットが均等かつ高密度で形成され、良好な粗面化率が得られる。この結果、該アルミニウム箔を電解コンデンサ用電極に用いることで、単位面積当たりの静電容量が高いコンデンサを得られる。 As described above, according to the aluminum foil for electrolytic capacitors of the present invention, it is an aluminum foil for electrolytic capacitors that is subjected to an etching process, and a ratio D ( (D = barrier film thickness / total film thickness) satisfies 0.25 ≦ D ≦ 0.45, so that the pits are formed uniformly and at high density during etching, and a good roughening rate is obtained. As a result, a capacitor having a high capacitance per unit area can be obtained by using the aluminum foil as an electrode for an electrolytic capacitor.
以下に、本発明の一実施形態を説明する。
好適には本発明の成分となるように調製された例えば99.9%以上のアルミニウム材を用意する。該アルミニウム材は、常法により得ることができ、本発明としては特にその製造方法が限定されるものではない。例えば、半連続鋳造によって得たスラブを熱間圧延したものを用いることができ、その他に連続鋳造により得られる高純度アルミニウム材を対象とするものであってもよい。上記熱間圧延または連続鋳造圧延によって例えば数mm厚程度のシート材とする。このシート材に対し冷間圧延を行い、アルミニウム箔を得る。なお、製造工程の中途(例えば、冷間圧廷途中あるいは冷間圧廷終了後)に適宜脱脂や洗浄処理を加えてもよく、また冷間圧廷の途中で適宜中間焼鈍を加えても差し支えない。
上記洗浄により、図1に示すようにアルミニウム箔1の表面に形成される酸化皮膜2のうち、バリヤー膜2aの膜厚は影響を受けないものの、非バリヤー膜2bの膜厚が減少し、結果的に酸化皮膜2の全厚さが減少する。これにより、D=バリヤー膜厚/酸化皮膜全膜厚が変化(増加)するので、洗浄処理の洗浄程度を調整することでD値を調整することができる。なお、洗浄処理における洗浄液の種別、洗浄方法等は本発明としては特に限定されるものではなく、既知のものにより行うことができる。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described.
For example, an aluminum material of 99.9% or more prepared to be a component of the present invention is prepared. The aluminum material can be obtained by a conventional method, and the production method is not particularly limited in the present invention. For example, a hot-rolled slab obtained by semi-continuous casting can be used, and a high-purity aluminum material obtained by continuous casting may be used. For example, a sheet material having a thickness of about several mm is formed by the hot rolling or continuous casting rolling. This sheet material is cold-rolled to obtain an aluminum foil. It should be noted that degreasing or cleaning treatment may be added as appropriate during the manufacturing process (for example, during or after the cold press), or intermediate annealing may be added as appropriate during the cold press. Absent.
As a result of the cleaning, the film thickness of the
最終冷間圧延後には、通常は最終焼鈍熱処理を行う。また、この最終焼鈍前に脱脂、洗浄処理を行なうことができる。この際にバリヤー膜厚は影響を受けないものの、酸化皮膜の全厚さが減少してD値が変化(増加)するので、洗浄処理の洗浄程度を調整することでD値を調整することができる。なお、洗浄処理における洗浄液の種別、洗浄方法等は本発明としては特に限定されるものではなく、既知のものにより行うことができる。 After the final cold rolling, a final annealing heat treatment is usually performed. In addition, degreasing and cleaning can be performed before the final annealing. At this time, although the barrier film thickness is not affected, the total thickness of the oxide film decreases and the D value changes (increases). Therefore, the D value can be adjusted by adjusting the cleaning degree of the cleaning process. it can. Note that the type of cleaning liquid, the cleaning method, and the like in the cleaning process are not particularly limited in the present invention, and can be performed using known ones.
なお、最終焼鈍の加熱条件等は常法などにより定めることができる。ただし、該焼鈍における温度が高い程、バリヤー膜厚、全膜厚ともに増大するが、これら膜で増加率が異なる。そのバランスを採ることでD値を調整することができる。最終焼鈍の焼鈍温度は、530℃超〜580℃が望ましく、さらに550℃超〜570℃の範囲がさらに望ましい。
また、最終焼鈍は、多くの場合、不活性ガス雰囲気中で行われるが、還元ガス、または還元ガスを含む雰囲気で最終焼鈍を行うのが望ましい。
上記行程における洗浄や最終焼鈍での調整によって上記D値を0.25〜0.45の値に調整することができる。
In addition, the heating conditions of final annealing can be defined by a conventional method. However, the higher the temperature in annealing, the higher the barrier film thickness and the total film thickness. However, the increase rate differs between these films. The D value can be adjusted by taking the balance. The annealing temperature of the final annealing is desirably more than 530 ° C. to 580 ° C., and more desirably more than 550 ° C. to 570 ° C.
Further, in most cases, the final annealing is performed in an inert gas atmosphere, but it is desirable to perform the final annealing in a reducing gas or an atmosphere containing a reducing gas.
The D value can be adjusted to a value of 0.25 to 0.45 by adjustment in the cleaning and final annealing in the process.
上記各工程を経て得られたアルミニウム箔には、その後、エッチング処理がなされる。エッチング処理は、塩酸を主体とする電解液を用いた電解エッチング等によって行われる。本発明としてはこのエッチング処理の具体的条件等について特に限定されるものではなく、常法に従って行うことができるが、主として直流エッチングが適用される。
エッチング処理においては、好適な酸化皮膜の性状によって箔にピットが高密度かつ均等に形成され、高い粗面化率が得られる。この箔を常法により電解コンデンサに電極として組み込むことにより静電容量の高いコンデンサが得られる。
The aluminum foil obtained through the above steps is then subjected to an etching process. The etching process is performed by electrolytic etching using an electrolytic solution mainly composed of hydrochloric acid. The present invention is not particularly limited with respect to specific conditions and the like of this etching treatment, and can be performed according to a conventional method, but DC etching is mainly applied.
In the etching process, the pits are formed on the foil with high density and evenness by a suitable property of the oxide film, and a high roughening rate is obtained. A capacitor having a high capacitance can be obtained by incorporating this foil as an electrode in an electrolytic capacitor by a conventional method.
本発明は中高圧電解コンデンサの陽極として使用するのが好適であるが、本発明としてはこれに限定されるものではなく、より化成電圧の低いコンデンサ用としても使用することができ、また電解コンデンサの陰極用の材料として使用することもできる。 The present invention is preferably used as an anode of a medium-high voltage electrolytic capacitor. However, the present invention is not limited to this, and can be used for a capacitor having a lower formation voltage. It can also be used as a cathode material.
表1に示す成分(その他は不純物)を有する純度99.9%以上のアルミニウム合金を用意し、熱間圧延、冷間圧延を経て110μm厚の高純度アルミニウム箔を製造した。このアルミニウム箔に対し、冷間圧延終了後に、表2の条件で洗浄、最終焼鈍を行なった。 An aluminum alloy with a purity of 99.9% or more having the components shown in Table 1 (other impurities) was prepared, and a high-purity aluminum foil having a thickness of 110 μm was manufactured through hot rolling and cold rolling. The aluminum foil was washed and finally annealed under the conditions shown in Table 2 after the end of cold rolling.
得られた供試材についてESCAによって表面酸化皮膜の全厚さを測定した。また、Hunter−Fowle法(*Hunter−Fowle法:0.5M−ホウ酸、0.05M−ホウ砂水溶液(22℃±2℃)、掃引速度0.7V/min)により酸化皮膜の破壊電圧を測定し、その結果から、14Å/Vとしてバリヤー膜厚を算出し、D値とともに表1に示した。 About the obtained test material, the total thickness of the surface oxide film was measured by ESCA. Moreover, the breakdown voltage of the oxide film is determined by the Hunter-Fowle method (* Hunter-Fowle method: 0.5 M boric acid, 0.05 M boric acid aqueous solution (22 ° C. ± 2 ° C.), sweep rate 0.7 V / min). The barrier film thickness was calculated from the measurement result as 14 V / V and shown in Table 1 together with the D value.
これらのアルミニウム箔に、さらに、以下の条件でエッチングを行いアルミニウム箔を粗面化した。
すなわち、75℃HCl 1M、H2SO4 3M溶液中で200mA/cm2の直流電流を120秒印加後、80℃のHCl 2M溶液中で50mA/cm2直流電流を600秒印加した。
次いで、各エッチング箔を1cm×5cmのサイズに切り出し、80℃ホウ酸80g/l溶液にて300Vの化成を行い、150g/lアジビン酸溶液中にて静電容量を測定した。
No.1の静電容量を基準にして相対的な評価(百分率)をし、その結果を表2に示した。
These aluminum foils were further etched under the following conditions to roughen the aluminum foil.
That is, a direct current of 200 mA / cm 2 was applied for 120 seconds in a 75 ° C. HCl 1M and H 2 SO 4 3M solution, and then a 50 mA / cm 2 direct current was applied for 600 seconds in an 80 ° C. HCl 2M solution.
Next, each etching foil was cut into a size of 1 cm × 5 cm, formed at 300 ° C. with an 80 g / l solution of boric acid at 80 ° C., and the capacitance was measured in a 150 g / l adipic acid solution.
No. The relative evaluation (percentage) was made based on the capacitance of 1 and the results are shown in Table 2.
上記表から明らかなように、本願発明のアルミニウム箔は、コンデンサ用電極として用いた際に良好な静電容量が得られている。 As is apparent from the above table, the aluminum foil of the present invention has a good electrostatic capacity when used as a capacitor electrode.
1 アルミニウム箔
2 酸化皮膜
2a 非バリヤー膜
2b バリヤー膜
1
Claims (5)
0.25≦D≦0.45 …(式) An aluminum foil for electrolytic capacitors to be subjected to an etching process, wherein the ratio D (D = barrier film thickness / total film thickness) of the barrier film thickness and the total film thickness in the surface oxide film satisfies the following formula: A characteristic aluminum foil for electrolytic capacitors.
0.25 ≦ D ≦ 0.45 (formula)
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