JP2007059944A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プラズマ発生空間22がプラズマ処理空間13に隣接し且つ連通しているプラズマ処理装置において、プラズマ発生空間22が分散等して形成され、且つプラズマ発生空間22内に電子を封じる磁気回路25が付設される。プラズマ成分比率の制御性がよい。プラズマ分布の均一性確保とプラズマ処理空間からプラズマ発生空間へのガス流入阻止の両立が図れる。さらに、プラズマ処理空間13を可動壁体40で囲んで、圧力制御性も高める。
【選択図】図1
Description
2 真空チャンバ本体部(真空チャンバ)
2a 吸引口
2b バッフル板
3 真空チャンバ蓋部(真空チャンバ)
4 可変バルブ(可変絞り、圧力制御機構、圧力制御手段)
4a ゲートバルブ(仕切弁)
4b 真空圧計(圧力検出器、圧力制御手段)
4c PID制御回路(圧力制御回路、圧力制御手段)
5 真空ポンプ
10 低温プラズマ
11 アノード部(平行平板の一方、第1印加回路、第1機構)
11a アッパーサポート
12 カソード部(平行平板の他方、第1印加回路、第1機構、基板支持体)
12a ローアーサポート
13 プラズマ処理空間
14 連通口
15 処理ガス供給口(第2のガス導入路)
20 高密度プラズマ
21 プラズマ発生チャンバ(隣接機構部、第2機構)
22 プラズマ発生空間
23 プラズマ用ガス送給路(第1のガス導入路)
24 コイル(第2印加回路)
25 永久磁石片(磁気回路用の磁性部材)
26 磁束線(磁気回路)
31 RF電源(第1印加回路)
32 RF電源(第2印加回路)
40,40a,40b,40c 可動壁体(可変絞り)
41 ベローズ(蛇腹、壁体駆動機構)
42 ボールネジ(進退駆動軸、壁体駆動機構)
43 サポート(支柱、壁体駆動機構)
44 モータ(電動機、壁体駆動機構)
49,49a 絞り部
49b 開口
49c 可動壁体内側面
Claims (8)
- 対向電極となる一対の平行平板間にプラズマ処理空間を形成したプラズマ処理装置において、
前記一対の平行平板のうち一方の平板に又はその隣接機構部に、前記プラズマ処理空間に隣接し且つ連通したプラズマ発生空間が環状に形成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記プラズマ発生空間を挟んで配置された磁気回路用の磁性部材が設けられていることを特徴とする請求項1に記載されたプラズマ処理装置。
- 前記磁気回路用の磁性部材が永久磁石または直流励磁コイルであることを特徴とする請求項2に記載されたプラズマ処理装置。
- プラズマの発生または強化に寄与する電界または磁界を前記プラズマ処理空間に印加する第1印加回路と、
プラズマの発生および強化に寄与する電界または磁界を前記プラズマ発生空間に印加する第2印加回路とを備えたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載されたプラズマ処理装置。 - 前記第1印加回路および前記第2印加回路は、出力が互いに独立して制御可能なものであることを特徴とする請求項4に記載されたプラズマ処理装置。
- 前記プラズマ発生空間にプラズマ用ガスを導入する第1のガス導入路と、前記プラズマ処理空間に処理ガスを導入する第2のガス導入路とが個別に設けられていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載されたプラズマ処理装置。
- 前記第2のガス導入路へは反応ガス成分を含むガスを供給すると共に前記第1のガス導入路へは非反応性ガスのみを供給するものであることを特徴とする請求項6に記載されたプラズマ処理装置。
- 上記プラズマ処理装置がデポジション処理装置またはエッチング処理装置のいずれかであることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載されたプラズマ処理装置。
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---|---|---|---|
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JP2006307098A Expired - Lifetime JP4405496B2 (ja) | 1997-02-24 | 2006-11-13 | プラズマ処理装置 |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0250853A (ja) * | 1988-08-12 | 1990-02-20 | Nec Corp | 画像形成装置 |
JP2015201653A (ja) * | 2009-09-28 | 2015-11-12 | ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation | 一体化閉じ込めリング装置およびその方法 |
JP2016122654A (ja) * | 2010-05-14 | 2016-07-07 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | Bフィールド集中装置を使用する金属シャワーヘッドを備える誘導性プラズマ源 |
JP2018517276A (ja) * | 2015-04-20 | 2018-06-28 | ユ−ジーン テクノロジー カンパニー.リミテッド | 基板処理装置 |
-
2006
- 2006-11-13 JP JP2006307098A patent/JP4405496B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH0250853A (ja) * | 1988-08-12 | 1990-02-20 | Nec Corp | 画像形成装置 |
JP2015201653A (ja) * | 2009-09-28 | 2015-11-12 | ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation | 一体化閉じ込めリング装置およびその方法 |
JP2016122654A (ja) * | 2010-05-14 | 2016-07-07 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | Bフィールド集中装置を使用する金属シャワーヘッドを備える誘導性プラズマ源 |
JP2018517276A (ja) * | 2015-04-20 | 2018-06-28 | ユ−ジーン テクノロジー カンパニー.リミテッド | 基板処理装置 |
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---|---|
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