JP2007057531A - 複数のcd計測ツール間の一貫した測定結果を検証する方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】SEMの据付基部全体にわたる一貫した測定結果を保証するためにCD−SEMをマッチする方法が開示され、フィールドごとの変動並びにレチクル及び露光ツールの非画一性がマッチング結果において効率よく抑制されるように、基板上の少なくとも2つの位置でレジストのフィーチャのフィーチャ・サイズを複数の走査電子顕微鏡のそれぞれを用いて測定する。
【選択図】図2
Description
20 エリア
30 エリア
40 エリア
50 エリア
101 第1フィールド
102 第2フィールド
201 エリア
301 エリア
Claims (14)
- 予め決められたフィーチャ・サイズの予め決められたフィーチャをもつ複数のフィールドに照射された感光性層を有する基板を供給するステップと、
複数のCD計測ツールの第1のもので、前記基板上の第1フィールドの中の第1エリアにある前記フィーチャ・サイズを第1に測定するステップと、
前記複数のCD計測ツールの第2のもので、第2フィールドの第2エリアにある前記フィーチャ・サイズを第2に測定するステップであって、前記第2フィールドに関する前記第2エリアの位置が、前記第1エリアの前記第1フィールドに関する位置と同じであるステップと、
第1の測定と第2の測定の結果を比較して前記複数のCD計測ツール間に一貫した測定結果が存在するかどうか判定するステップと
を含む、複数のCD計測ツール間の一貫した測定結果を検証する方法。 - 前記第1CD計測ツールが前記第2フィールドの中の第3エリアにある前記フィーチャ・サイズを測定し、前記第3エリアが、前記第1エリアの前記第1フィールドに関する前記位置より、前記第2フィールドに関して異なる位置にある、請求項1に記載の方法。
- 前記第2CD計測ツールが第4エリアにある前記第1フィールド内の前記フィーチャ・サイズを測定し、前記第4エリアが前記第3エリアの前記第2フィールドに関する位置と同じ前記第1フィールドに関する位置にある、請求項2に記載の方法。
- 前記第1及び第2CD計測ツールがそれぞれ、前記第1及び第2フィールドの中の複数のエリア内の前記フィーチャ・サイズを測定し、前記第1CD計測ツールによって前記第1フィールドで測定された前記エリアが前記第2CD計測ツールによって測定されたエリアの前記第2フィールドに関する位置と同じ前記第1フィールドに関する位置にある、請求項3に記載の方法。
- 前記エリアがインターレースされる、請求項4に記載の方法。
- 前記2つのフィールドが隣接している、請求項1に記載の方法。
- 前記2つのフィールドの間に間隔が置かれている、請求項1に記載の方法。
- 複数のフィーチャが各エリアで測定される、請求項1に記載の方法。
- 前記複数のCD計測ツールが複数の走査電子顕微鏡又は複数のスキャッタロメータである、請求項1に記載の方法。
- 予め決められたフィーチャ・サイズの予め決められたフィーチャをもつ複数のフィールド内で照射された感光性層を有する基板を提供するステップと、
複数のCD計測ツールそれぞれを用いて、前記基板上の2つのフィールドのそれぞれの中の少なくとも2つのエリア内の前記フィーチャ・サイズを測定するステップと、
前記測定結果を比較して前記複数のCD計測ツール間の一貫した測定結果が存在するかどうか判定するステップと
を含む、複数のCD計測ツール間の一貫した測定結果を検証する方法。 - 前記複数のCD計測ツールの第1のものが、前記2つのフィールドの第1フィールドの第1エリア内の前記フィーチャ・サイズを測定し、前記複数のCD計測ツールの第2のものが、前記第1エリアと同じそのフィールドに関する位置にあるエリア内の、ただし前記2つのフィールドのうちの第2フィールド内の、前記フィーチャ・サイズを測定する、請求項10に記載の方法。
- 前記複数のCD計測ツールの第1のものが、前記2つのフィールドのうちの第1フィールドの第2エリア内の前記フィーチャ・サイズを測定し、前記複数のCD計測ツールの第2のものが、前記第2エリアと同じそのフィールドに関する位置にあるエリア内の、ただし前記2つのフィールドのうちの第2フィールド内の、前記フィーチャ・サイズを測定する、請求項11に記載の方法。
- 前記複数のCD計測ツールの連続するものが測定する前記少なくとも2つのエリアが、インターレースされる、請求項10に記載の方法。
- 前記複数のCD計測ツールの第1のものが、前記2つのフィールドのうちの第1フィールド内の前記少なくとも2つのエリアのうちの第1エリアにある前記フィーチャ・サイズを測定し、前記複数のCD計測ツールのうちの第2のものが、前記第1エリアが前記第1フィールドに関するのと同じ又はほぼ同じ第2フィールドに関する位置にあるフィールド内の位置で、前記2つのフィールドのうちの第2フィールド内の前記フィーチャ・サイズを測定する、請求項10に記載の方法。
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