JP2007048687A - 導電性粒子転写シート及び接続構造体 - Google Patents
導電性粒子転写シート及び接続構造体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007048687A JP2007048687A JP2005234082A JP2005234082A JP2007048687A JP 2007048687 A JP2007048687 A JP 2007048687A JP 2005234082 A JP2005234082 A JP 2005234082A JP 2005234082 A JP2005234082 A JP 2005234082A JP 2007048687 A JP2007048687 A JP 2007048687A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductive particles
- conductive
- connection
- particles
- transfer sheet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 359
- 230000035897 transcription Effects 0.000 title abstract 4
- 238000013518 transcription Methods 0.000 title abstract 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 33
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 86
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 62
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 47
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 47
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 45
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 43
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 37
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 18
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 17
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 claims description 9
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract description 13
- 239000010408 film Substances 0.000 description 56
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 21
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 18
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 17
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 16
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 15
- -1 for example Substances 0.000 description 15
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 12
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 11
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 10
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 8
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 8
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 7
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 7
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 6
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 6
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 6
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 5
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 5
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 5
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 4
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 4
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N alumane;titanium Chemical compound [AlH3].[Ti] UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 2
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYFLWBNQFMXCPA-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2-methylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C HYFLWBNQFMXCPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEXHLHNCJVXPNU-UHFFFAOYSA-N 2-(trimethoxysilylmethyl)butane-1,4-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(CN)CCN HEXHLHNCJVXPNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropylurea Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC(N)=O LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 4,4,4-trifluorobutan-2-one Chemical compound CC(=O)CC(F)(F)F BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQACOLQNOUYJCE-FYZZASKESA-N Abietic acid Natural products CC(C)C1=CC2=CC[C@]3(C)[C@](C)(CCC[C@@]3(C)C(=O)O)[C@H]2CC1 BQACOLQNOUYJCE-FYZZASKESA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- ZTXONRUJVYXVTJ-UHFFFAOYSA-N chromium copper Chemical compound [Cr][Cu][Cr] ZTXONRUJVYXVTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVGIAPSCKHLYEF-UHFFFAOYSA-N chromium;indium;oxotin Chemical compound [Cr].[In].[Sn]=O KVGIAPSCKHLYEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical group C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical class C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009998 heat setting Methods 0.000 description 1
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000004850 liquid epoxy resins (LERs) Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920006173 natural rubber latex Polymers 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000013464 silicone adhesive Substances 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229920006174 synthetic rubber latex Polymers 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/1354—Coating
- H01L2224/13599—Material
- H01L2224/136—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/13601—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
- H01L2224/13609—Indium [In] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/29198—Material with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials in the form of a matrix with a filler, i.e. being a hybrid material, e.g. segmented structures, foams
- H01L2224/29298—Fillers
- H01L2224/29399—Coating material
- H01L2224/294—Coating material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/29401—Coating material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
- H01L2224/29409—Indium [In] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/0132—Binary Alloys
- H01L2924/01322—Eutectic Alloys, i.e. obtained by a liquid transforming into two solid phases
Landscapes
- Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
【解決手段】
接続端子の接続面に導電性粒子を転写するための導電性粒子転写シートであって、
支持体と該支持体の表面に形成した粘着層と該粘着層の表面に付着した導電性粒子とからなり、近接する導電性粒子同士の平均粒子間隔が導電性粒子の平均粒径の0.3〜5倍となるように導電性粒子が配列している導電性粒子転写シートを用いて、電子部品の接続端子の接続面に導電性粒子を転写し、導電性粒子が転写した接続端子の接続面を他の接続端子の接続面に接続して接続構造体を得る。
【選択図】 図1
Description
すなわち、本発明は以下のとおりである。
(2) 粘着層の厚みが導電性粒子の平均粒径の0.05倍〜0.7倍の範囲であることを特徴とする(1)記載の導電性粒子転写シート。
(3)導電性粒子の平均粒径が1μm〜50μmであることを特徴とする(1)又は(2)記載の導電性粒子転写シート。
(4)導電性粒子が、金属被覆された樹脂粒子、金属被覆された金属粒子、金属粒子、金属被覆された合金粒子、及び合金粒子からなる群から選ばれる少なくとも1種の導電性粒子であることを特徴とする(1)〜(3)のいずれか1項に記載の導電性粒子転写シート。
(5)導電性粒子転写シートが、支持体としての2軸延伸可能なフィルム上に粘着層を形成し、該粘着層の表面に導電性粒子を付着させて得た導電性粒子付着フィルムを2軸延伸して得られたものであることを特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記載の導電性粒子転写シート。
(6)支持体として2軸延伸可能なフィルムを用い、該2軸延伸可能なフィルム上に粘着層を設けて積層体を形成し、該積層体の粘着層の表面に導電性粒子を付着させて導電性粒子付着フィルムを作製し、該導電性粒子付着フィルムを、近接する導電性粒子同士の平均粒子間隔が、導電性粒子の平均粒径の0.3倍〜5倍になるように2軸延伸して保持する工程を含むことを特徴とする(1)〜(5)のいずれかに記載の導電性粒子転写シートの製造方法。
(7)(1)〜(5)のいずれか1項に記載の導電性粒子転写シートを、第1の接続端子の接続面に密着させて導電性粒子を転写し、その後、導電性粒子が転写した第1の接続端子の接続面を第2の接続端子の接続面に接続することを特徴とする接続構造体の製造方法。
(8)導電性粒子転写シートを、第1の接続端子の接続面に密着させて導電性粒子を転写するに際して、該接続面に予め粘着層を形成して、導電性粒子を転写することを特徴とする(7)に記載の接続構造体の製造方法。
(9)導電性粒子が転写した第1の接続端子の接続面を第2の接続端子の接続面に接続するに際して、絶縁性接着シートを介して、接続することを特徴とする(7)は(8)に記載の接続構造体の製造方法。
(10)(7)〜(9)のいずれかに記載の接続構造体の製造方法により製造された接続構造体。
(11)第1の接続端子及び第2の接続端子のいずれか一方の接続端子の接続面の面積に対して、導電性粒子の投影面積の和が1%〜70%の範囲にあり、かつ、転写した導電性粒子個数の単位面積あたりの標準偏差が、該単位面積あたりの転写個数の0.2倍以下であることを特徴とする接続構造体。
まず、本発明の導電性粒子転写シートにおける導電性粒子について説明する。
導電性粒子としては、金属被覆された樹脂粒子、金属被覆された金属粒子、金属粒子、金属被覆された合金粒子、及び合金粒子の中から選ばれた1種以上を用いることが好ましい。
電極端子との間で金属の相互拡散による結合形成する場合には、例えば、錫、亜鉛、銀、銅、インジウム、ビスマス等の中から選ばれる1種以上の金属、合金を被覆したものを用いることができる。接触による接続の場合には、貴金属被覆することが好ましく、ニッケル、および金をこの順に被覆したものを用いることが好ましい。
接続する微細接続端子(バンプ)硬度に応じて、より柔軟な樹脂粒子を用いて金属被覆された樹脂粒子を形成することができる。
接続するバンプ硬度がビッカース硬度で50Hv未満である場合は、ポリメタアクリレート樹脂等の柔軟な樹脂粒子を用いることが好ましい。また、バンプ硬度が50Hv以上である場合は、ベンゾグアナミン樹脂等の硬質樹脂粒子を用いることが好ましい。
導電性粒子の平均粒径及び粒度分布は、公知の方法、装置を用いて測定することができ、湿式粒度分布計、レーザー式粒度分布計等を用いることができる。あるいは、電子顕微鏡等で粒子を観察し、平均粒径、粒度分布を算出しても構わない。本発明の平均粒径及び粒度分布はレーザー式粒度分布計により求めることが出来る。
本発明の導電性粒子転写シートは、支持体、粘着層及び導電性粒子からなる。導電性粒子転写シートは接続端子接続用である。すなわち、導電性粒子転写シートは、第1の電子部品の接続端子と第2の電子部品の接続端子を接続するために、対応する接続端子同士を導電性粒子を介して電気的に接続する際に使用するシートである。導電性粒子転写シートは、接続端子の接続面に導電性粒子を転写して用いる。
支持体の厚みは、10μm以上200μm以下であることが好ましく、50μm以上100μm以下であることがより好ましい。機械的接続強度の観点から10μm以上が好ましく、導電性粒子転写時の平滑性確保の観点から200μm以下であることが好ましい。
本発明の導電性粒子転写シートにおける粘着層の厚みは導電性粒子の平均粒径の0.05倍から0.7倍の範囲であることが好ましい。導電性粒子保持の観点から0.05倍以上であることが好ましく、転写の容易性の観点から0.7倍以下であることが好ましい。
本発明において、近接する導電性粒子とは、任意の導電性粒子を選定し、該導電性粒子に最も近い6個の導電性粒子を言う。
まず、本発明の導電性粒子転写シートを、導電性粒子が存在する面側から光学顕微鏡で拡大した写真を撮影する。次に、任意の20個の導電性粒子を選定し、そのそれぞれの導電性粒子に最も近い6個の導電性粒子との距離を測定し、全体の平均値を求めて、平均粒子間隔とする。またこのとき同時に粒子間隔の標準偏差を求めることができる。
平均粒子間隔は、導電性粒子の平均粒径の0.3〜5倍とする。好ましくは、0.5倍以上3倍以下であり、更に好ましくは、1倍以上3倍以下である。導電性粒子転写時の粒子はみ出し防止の観点から、平均粒径の0.3倍以上であることが好ましく、導電性粒子転写数確保の観点から平均粒径の5倍以下が好ましい。
また、粒子間隔の標準偏差については、導電性粒子が、導電性粒子の平均粒子間隔の0.3倍以下、更に好ましくは、0.1倍以下の平均粒子間隔の標準偏差で存在することが好ましい。
本発明の導電性粒子転写シートの製造方法としては、近接する導電性粒子同士の平均粒子間隔が導電性粒子の平均粒径の0.3〜5倍となるように導電性粒子が粘着層上に配列可能であれば、公知の方法を用いることができる。
なお、100%延伸するとは、延伸方向に沿って延伸した部分の長さが延伸前の長さの100%であることを言う。延伸方向は、任意であるが、延伸角度が90°の2軸延伸が好ましく、同時延伸が好ましい。2軸延伸の場合、各方向の延伸度合いは同じであっても異なっていても構わない。
同時2軸連続延伸装置としては、公知のものを使用することができるが、長辺側をチャック金具で固定し、それらの間隔を縦横同時に延伸することにより連続延伸するテンター型延伸機が好ましい。延伸度を調整する方式としては、スクリュー方式、パンタグラフ方式を用いることが可能だが、調整の精度の観点から、パンタグラフ方式がより好ましい。加熱しながら延伸する場合は、延伸部分の手前に予熱ゾーンを設けて、延伸部分の後方に熱固定ゾーンを設けることが好ましい。
本発明の導電性粒子転写シートを用いて第1の接続端子の接続面に密着させて導電性粒子を転写する方法としては、平滑な板上に導電性粒子転写シートを固定し、導電性粒子転写シート上の導電性粒子に接続端子を接触させて、転写する方法が好ましい。転写する方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。
粘着層としては、熱可塑性、熱硬化性、光硬化性、光熱硬化性の粘着剤、接着剤を用いることができるが、転写の観点から、硬化性の成分からなることが好ましい。
荷重としては、転写する粒子1個に対して、0.1gから10gの範囲であることが好ましく、より好ましくは、0.3gから5gの範囲であることが好ましい。
温度は、30℃から200℃の範囲であることが好ましく、より好ましくは、50℃から150℃である。
この場合は、比較的相互拡散しやすい金属、合金を選択する方が好ましく、導電性粒子表面の金属、合金が500℃以下好ましくは300℃以下の融点を有することが好ましい。金属酸化物の影響を低減するために、接続端子上に予めフラックス成分を塗布することが好ましい。フラックス成分を塗布後、導電性粒子を転写する場合は、導電性粒子転写後に、フラックス成分を洗浄することが好ましい。
本発明の接続構造体に用いる接続端子の材料としては、公知のものを用いることができる。例としては、金、金合金、銅等の金属表面にニッケル、金をこの順で被覆したもの等である。
対応する接続端子が金属系の場合は、超音波振動方式、金属間の相互拡散方式を用いることができ、対応する接続端子が金属酸化物系の場合は、圧着方式を用いることができる。圧着方式、超音波方式を用いて接続する場合は、接続部以外の部分を硬化性の樹脂等で封止することが好ましい。
導電性粒子が転写した第1の接続端子の接続面と第2の接続端子の接続面を接続するに際して、絶縁性接着シートを介して接続するのは、本件の好ましい実施形態である。この場合は、接続時の加熱により硬化性樹脂を硬化させることもできる。また、接続後に、加熱して熱硬化性樹脂を硬化することもできる。金属間の相互拡散方式の場合は、接続後に、低粘度の液状封止樹脂を用いて封止することができる。
異方導電性接着シートと被着物との密着性を向上させるために、添加剤として、カップリング剤を配合することができる。該カップリング剤としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、アルミカップリング剤等を用いることができるが、シランカップリング剤が好ましい。該シランカップリング剤としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、β−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン等を用いることができる。
該カップリング剤の配合量は硬化剤および硬化性の絶縁性樹脂を合わせた成分100質量部に対して、0.01質量部から1質量部が好ましい。密着性向上の観点から0.01質量部以上が好ましく、信頼性の観点から1質量部以下が好ましい。
本発明の接続構成体を構成する接続端子を有する基板の材質は、有機基板でも無機基板でも、差し支えない。有機基板としては、ポリイミドフィルム基板、ポリアミドフィルム基板、ポリエーテルスルホンフィルム基板、エポキシ樹脂をガラスクロスに含浸させたリジッド基板、ビスマレイミド−トリアジン樹脂をガラスクロスに含浸させたリジッド基板等を用いることができる。無機基板としては、シリコン基板、ガラス基板、アルミナ基板、窒化アルミ基板等を用いることができる。配線基板の配線材料は、インジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物等の無機配線材料、金メッキ銅、クロム−銅、アルミニウム、金バンプ等の金属配線材料、アルミニウム、クロム等の金属材料でインジウム錫酸化物等の無機配線材料を覆った複合配線材料等を用いることができる。
次に、実施例および比較例によって本発明を説明する。
厚さ90μmの無延伸ポリプロピレンフィルム上に、粘着層としてニトリルゴムラテックス−メチルメタアクリレートのグラフト共重合体接着剤を4μmの厚みに塗布したものに、導電性粒子として平均粒径3.0μmの金めっきプラスチック粒子をほぼ隙間無く単層塗布した。すなわち、該導電性粒子を該フィルム幅より大きい容器内に数層以上の厚みになるよう敷き詰めたものを用意し、該導電性粒子に対して粘着剤の塗布面を下向きにして押し付けて付着させ、その後過剰な粒子を軟質ゴムからなるスクレバーで掻き落とした。
この操作を2回繰り返すことにより、隙間無く単層塗布した導電性粒子付着フィルムを得た。
このフィルムを2軸延伸装置(東洋精機製X6H−S、パンタグラフ方式のコーナーストレッチ型の2軸延伸装置)を用いて縦横にそれぞれ10個のチャックを用いて固定し135℃、120秒間予熱し、その後10%/秒の速度で200%延伸して固定した。その後、外周1cmに接着剤を塗布した15cm角のガラス板(厚み5mm)を用いて固定し導電性粒子転写シートを得た。
得られた導電性粒子転写シートの導電性粒子のうち、無作為に20個を選び、レーザー顕微鏡(キーエンス社製、VK9500、形状測定分解能0.01μm)を用いて観察した結果、平均粒子間隔は11.2μmであり、これは、平均粒径の3.7倍であった。
触針式の膜厚計で粘着層厚みを測定したところ、1μmであり、これは、導電性粒子の平均粒径の0.33倍であった。
厚さ100μmの無延伸ポリプロピレンフィルム上に実施例1と同じニトリルゴムラテックス−メチルメタアクリレートのグラフト共重合体接着剤を3μmの厚みに塗布したものに、導電性粒子として平均粒径5.0μmの金めっきプラスチック粒子を実施例1と同様の方法によりほぼ隙間無く単層塗布した導電性粒子付着フィルムを得た。
このフィルムを実施例1と同様の方法により2軸延伸装置を用いて縦横にそれぞれ120%延伸して固定した。その後、外周1cmに接着剤を塗布し、その内側をくり貫いたプラスチック板(正方形、15cm角、厚み5mm)に固定し、導電性粒子転写シートを得た。
得られた導電性粒子転写シートの導電性粒子のうち、無作為に20個を選び、レーザー顕微鏡(キーエンス社製、VK9500、形状測定分解能0.01μm)を用いて観察した結果、平均粒子間隔は8.49μmであり、これは、平均粒径の1.7倍であった。
触針式の膜厚計で粘着層厚みを測定したところ、0.7μmであり、導電性粒子の平均粒径の0.14倍であった。
厚さ100μmの無延伸ポリプロピレンフィルム上にエチレン−酢酸ビニル共重合体接着剤を3μm塗布したものに、導電性粒子として平均粒径3.2μmの金めっき銅粒子を実施例1と同様の方法によりほぼ隙間無く単層塗布した導電性粒子付着フィルムを得た。
このフィルムを実施例1と同様の方法により2軸延伸装置を用いて縦横にそれぞれ150%延伸して固定した。その後、外周1cmに接着剤を塗布し、その内側をくり貫いたプラスチック板(正方形、15cm角、厚み5mm)に固定し、導電性粒子転写シートを得た。
得られた導電性粒子転写シートの導電性粒子のうち、無作為に20個を選び、レーザー顕微鏡(キーエンス社製、VK9500、形状測定分解能0.01μm)を用いて観察した結果、導電性粒子の平均粒子間隔は6.72μmであり、これは、平均粒径の2.11倍であった。
触針式の膜厚計で粘着層厚みを測定したところ、0.49μmであり、導電性粒子の平均粒径の0.15倍であった。
厚さ10μmの無延伸ポリプロピレンフィルム上に、粘着層としてニトリルゴムラテックス−メチルメタアクリレートのグラフト共重合体接着剤を0.5μmの厚みを塗布したものに、導電性粒子として平均粒径3.0μmの金めっきプラスチック粒子をほぼ隙間無く単層塗布した。すなわち、該導電性粒子を該フィルム幅より大きい容器内に数層以上の厚みになるよう敷き詰めたものを用意し、該導電性粒子に対して粘着剤の塗布面を下向きにして押し付けて付着させ、その後過剰な粒子を軟質ゴムからなるスクレバーで掻き落とした後、外周1cmに接着剤を塗布した15cm角のガラス板(厚み5mm)を用いて固定し導電性粒子転写シートを得た。導電性粒子は密集充填されているため、平均粒子間隔の測定は困難であった。
上記実施例及び比較例の導電性粒子転写シートについての導電性粒子の平均粒径、その他の数値をまとめたものを表1に示す。
(絶縁性接着シート)
フェノキシ樹脂(ガラス転移温度98℃、数平均分子量14000)34g、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、25℃粘度、14000mPa・S)29g、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン0.4gを酢酸エチル−トルエンの混合溶剤(混合比1:1)に溶解し、固形分50%溶液とする。
マイクロカプセル型潜在性イミダゾール硬化剤を含有する液状エポキシ樹脂(マイクロカプセルの平均粒径5μm、活性温度125℃)37g、前記固形分50%溶液に配合分散させる。その後、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(ベースフィルム)上に塗布し、60℃で15分間送風乾燥し、膜厚18μmのフィルム状の絶縁性接着シートを得た。
縦横が1.6mm×15.1mmのシリコン片(厚み0.5mm)全面に酸化膜を形成後、外辺部から40μm内側に横74.5μm、縦120μmのアルミ薄膜(1000Å)をそれぞれが0.1μm間隔になるように長辺側に各々175個、短辺側に各々16個形成する。それらアルミ薄膜上に15μm間隔になるように横25μm、縦80μmの金バンプ(厚み15μm)をそれぞれ2個ずつ形成するために、それぞれの金バンプ配置個所の外周部から7.5μm内側に横10μm、縦85μmの開口部を残す以外の部分にポリイミドの保護膜を常法により前記開口部以外の全面に形成する。その後、前記金バンプを形成し、試験チップとする。
厚み0.7mmの無アルカリガラス上に前記アルミ薄膜上の金バンプが隣接するアルミ薄膜上の金バンプと対になる位置関係で接続されるようにインジウム錫酸化物膜(1500Å)の接続パッド(横66μm、縦120μm)を形成する。20個の金バンプが接続される毎に前記接続パッドにインジウム亜鉛酸化物薄膜の引き出し配線を形成し、引出し配線上はアルミニウム−チタン薄膜(チタン1%、3000Å)を形成し、接続評価基板とする。
厚み0.7mmの無アルカリガラス上に前記アルミ薄膜上の2個の金バンプがそれぞれ接続されるような位置関係にインジウム亜鉛酸化物膜(1500Å)の接続パッド(横65μm、縦120μm)を形成する。前記接続パッドを1個おきに5個接続できるようにインジウム亜鉛酸化物薄膜の接続配線を形成し、さらにそれらと対になり、櫛型パターンを形成するように1個おきに5個接続できるようにインジウム亜鉛酸化物薄膜の接続配線を形成する。それぞれの接続配線にインジウム亜鉛酸化物薄膜の引出し配線を形成し、引き出し配線上にアルミニウム−チタン薄膜(チタン1%、3000Å)を形成して、絶縁性評価基板とする。前記絶縁性評価基板上に、前記接続パッドがすべて覆われるように、幅2mm、長さ17mmの接着シートを仮張りし、2.5mm幅の圧着ヘッドを用いて、80℃、0.3MPa、3秒間加圧した後、ポリエチレンテレフタレートのベースフィルムを剥離する。そこへ、前記接続パッドと金バンプの位置が合うように(接続抵抗値測定方法)で作製した導電性粒子転写試験チップを載せ、200℃、10秒間1.2MPa加圧圧着し、絶縁抵抗試験基板とする。
この絶縁抵抗試験基板に定電圧定電流電源を用いて、対になる引き出し配線間に100Vの直流電圧を印加する。この配線間の絶縁抵抗を測定し、絶縁抵抗値が1MΩ以下のものを×、1MΩ以上の場合を○とする。
表2において、比較例1は、適当な導電粒子間隔を保持していなかったため、接続面に転写後、パターン面内の接続端子間に導電性粒子が詰まった。
2 粘着剤
3 支持体
4 絶縁性樹脂および硬化剤
5 接続端子
Claims (11)
- 接続端子の接続面に導電性粒子を転写するための導電性粒子転写シートであって、支持体と該支持体の表面に形成した粘着層と該粘着層の表面に付着した導電性粒子とからなり、近接する導電性粒子同士の平均粒子間隔が導電性粒子の平均粒径の0.3〜5倍となるように導電性粒子が配列していることを特徴とする導電性粒子転写シート。
- 粘着層の厚みが導電性粒子の平均粒径の0.05倍〜0.7倍の範囲であることを特徴とする請求項1記載の導電性粒子転写シート。
- 導電性粒子の平均粒径が1μm〜50μmであることを特徴とする請求項1又は2記載の導電性粒子転写シート。
- 導電性粒子が、金属被覆された樹脂粒子、金属被覆された金属粒子、金属粒子、金属被覆された合金粒子、及び合金粒子からなる群から選ばれる少なくとも1種の導電性粒子であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の導電性粒子転写シート。
- 導電性粒子転写シートが、支持体としての2軸延伸可能なフィルム上に粘着層を形成し、該粘着層の表面に導電性粒子を付着させて得た導電性粒子付着フィルムを2軸延伸して得られたものであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の導電性粒子転写シート。
- 支持体として2軸延伸可能なフィルムを用い、該2軸延伸可能なフィルム上に粘着層を設けて積層体を形成し、該積層体の粘着層の表面に導電性粒子を付着させて導電性粒子付着フィルムを作製し、該導電性粒子付着フィルムを、近接する導電性粒子同士の平均粒子間隔が、導電性粒子の平均粒径の0.3倍〜5倍になるように2軸延伸して保持する工程を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の導電性粒子転写シートの製造方法。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の導電性粒子転写シートを、第1の接続端子の接続面に密着させて導電性粒子を転写し、その後、導電性粒子が転写した第1の接続端子の接続面を第2の接続端子の接続面に接続することを特徴とする接続構造体の製造方法。
- 導電性粒子転写シートを、第1の接続端子の接続面に密着させて導電性粒子を転写するに際して、該接続面に予め粘着層を形成して、導電性粒子を転写することを特徴とする請求項7に記載の接続構造体の製造方法。
- 導電性粒子が転写した第1の接続端子の接続面を第2の接続端子の接続面に接続するに際して、絶縁性接着シートを介して、接続することを特徴とする請求項7又は8に記載の接続構造体の製造方法。
- 請求項7〜9のいずれか1項に記載の接続構造体の製造方法により製造された接続構造体。
- 第1の接続端子及び第2の接続端子のいずれか一方の接続端子の接続面の面積に対して、導電性粒子の投影面積の和が1%〜70%の範囲にあり、かつ、転写した導電性粒子個数の単位面積あたりの標準偏差が、該単位面積あたりの転写個数の0.2倍以下であることを特徴とする接続構造体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005234082A JP4958417B2 (ja) | 2005-08-12 | 2005-08-12 | 導電性粒子転写シート及び接続構造体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005234082A JP4958417B2 (ja) | 2005-08-12 | 2005-08-12 | 導電性粒子転写シート及び接続構造体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007048687A true JP2007048687A (ja) | 2007-02-22 |
JP4958417B2 JP4958417B2 (ja) | 2012-06-20 |
Family
ID=37851334
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005234082A Active JP4958417B2 (ja) | 2005-08-12 | 2005-08-12 | 導電性粒子転写シート及び接続構造体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4958417B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010140924A (ja) * | 2008-12-09 | 2010-06-24 | Panasonic Corp | 電子部品実装構造および電子部品実装方法 |
WO2014002893A1 (ja) * | 2012-06-25 | 2014-01-03 | 株式会社村田製作所 | 異方性導電シート、および、それを用いた電極接合方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02117980A (ja) * | 1988-08-29 | 1990-05-02 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | 導電性接着テープ |
JPH0574846A (ja) * | 1991-07-14 | 1993-03-26 | Sony Chem Corp | 電気的接続方法 |
JPH10321678A (ja) * | 1997-05-14 | 1998-12-04 | Ricoh Co Ltd | 導電粒子配列方法及び導電粒子配列テープ |
JP2002076607A (ja) * | 2000-08-25 | 2002-03-15 | Sekisui Chem Co Ltd | 微粒子の転写・配置方法、微粒子配置フィルム、導電接続フィルム、及び、導電接続構造体 |
WO2005054388A1 (ja) * | 2003-12-04 | 2005-06-16 | Asahi Kasei Emd Corporation | 異方導電性接着シート及び接続構造体 |
-
2005
- 2005-08-12 JP JP2005234082A patent/JP4958417B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02117980A (ja) * | 1988-08-29 | 1990-05-02 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | 導電性接着テープ |
JPH0574846A (ja) * | 1991-07-14 | 1993-03-26 | Sony Chem Corp | 電気的接続方法 |
JPH10321678A (ja) * | 1997-05-14 | 1998-12-04 | Ricoh Co Ltd | 導電粒子配列方法及び導電粒子配列テープ |
JP2002076607A (ja) * | 2000-08-25 | 2002-03-15 | Sekisui Chem Co Ltd | 微粒子の転写・配置方法、微粒子配置フィルム、導電接続フィルム、及び、導電接続構造体 |
WO2005054388A1 (ja) * | 2003-12-04 | 2005-06-16 | Asahi Kasei Emd Corporation | 異方導電性接着シート及び接続構造体 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010140924A (ja) * | 2008-12-09 | 2010-06-24 | Panasonic Corp | 電子部品実装構造および電子部品実装方法 |
WO2014002893A1 (ja) * | 2012-06-25 | 2014-01-03 | 株式会社村田製作所 | 異方性導電シート、および、それを用いた電極接合方法 |
CN104221223A (zh) * | 2012-06-25 | 2014-12-17 | 株式会社村田制作所 | 各向异性导电片材以及使用其的电极接合方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4958417B2 (ja) | 2012-06-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4822322B2 (ja) | 異方導電性接着シートの製造方法 | |
JP4993880B2 (ja) | 異方導電性接着シート及び微細接続構造体 | |
KR970008547B1 (ko) | 전기 전도의 압감성 접착 테이프 | |
JP4789738B2 (ja) | 異方導電性フィルム | |
JP2007232627A (ja) | 微細回路検査用異方導電性フィルム | |
TW200810243A (en) | Conducting particles placement sheet and anisotropic conductive film | |
JPH02117980A (ja) | 導電性接着テープ | |
JP2010199087A (ja) | 異方性導電膜及びその製造方法、並びに、接合体及びその製造方法 | |
JP2007224111A (ja) | 異方導電性接着シート及びその製造方法 | |
JP5152815B2 (ja) | 異方導電性接着シート及び微細接続構造体 | |
JP5225766B2 (ja) | 異方導電性接着シート及び微細接続構造体 | |
JP4993877B2 (ja) | 異方導電性接着シート及び微細接続構造体 | |
JP4994653B2 (ja) | 異方導電性接着シート | |
JP2006032335A (ja) | 異方導電性接着フィルム | |
JP4958417B2 (ja) | 導電性粒子転写シート及び接続構造体 | |
JP4766943B2 (ja) | 回路接着シートとその製造方法、及び、微細接続構造体とその接続方法 | |
JP5445558B2 (ja) | 異方導電性接着シート及び接続方法 | |
JP4925405B2 (ja) | 接続構造体の製造方法 | |
JP2005194413A (ja) | 回路接続用接着フィルム及び回路接続構造体 | |
JP2007224112A (ja) | 異方導電性接着シート及びその製造方法 | |
JP5370694B2 (ja) | 接続構造体 | |
JP2009238635A (ja) | 接合体及びその製造方法、並びに、異方性導電材料及びその製造方法 | |
JP4045471B2 (ja) | 電子部品実装法 | |
JP5228869B2 (ja) | 回路接続用接着フィルム、及び回路部材の位置識別用のマークを認識する方法 | |
JP5164257B2 (ja) | 接続構造体の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080624 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20090401 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100729 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100804 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100908 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110204 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110401 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110829 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120316 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120319 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150330 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4958417 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |