JP2007047382A - Polarizing plate and liquid crystal display - Google Patents

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Hironori Umeda
博紀 梅田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polarizing plate for improving irregularity and distortion of the polarizing plate, in particular, due to drying and long time preservation while maintaining a degree of polarization and durability, and to provide a liquid crystal display superior in visibility and viewing angle characteristics using the polarizing plate. <P>SOLUTION: The polarizing plate comprises a polarizing film that uses a polyvinyl alcohol film consisting of a vinyl alcohol based polymer containing 0.01-20 mol% of a cation group contained unit and 0.5-24 mol% of an α-olefin unit of a carbon number of 4 or less, and has 5-18 μm of thickness subjected to extension and dye treatment; and a retardation plate having a retardation value Ro of 30-110 nm, Rt of 70-300 nm, and film thickness of 20-60 μm. The thickness of the polarizing plate is 70-140 μm. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は偏光板及び液晶表示装置に関し、より詳しくは薄膜であっても、十分な偏光度と耐久性を兼ね備えた偏光板、及びそれを用いた液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a polarizing plate and a liquid crystal display device, and more particularly to a polarizing plate having a sufficient degree of polarization and durability, and a liquid crystal display device using the same even if it is a thin film.

近年、液晶表示装置はパソコン用モニターのみならずTVに使用され大型化、高輝度化が進んでいる。その為高い耐久性が求められるのはもちろんのこと、高輝度化により従来は目立たなかったムラが大きな問題となってきた。発生するムラは、偏光板を作成する際に出てしまうものから、長期間の使用によって発生するものまで様々な形があるが、液晶表示装置の大型化、高輝度化はそれらを増幅する方向に働いている。   In recent years, liquid crystal display devices have been used not only for personal computer monitors but also for TVs, and have been increasing in size and brightness. For this reason, not only high durability is required, but also unevenness, which has not been noticeable in the past, has become a major problem due to the increase in luminance. There are various forms of unevenness that occur when creating polarizing plates, and those that occur after long-term use, but the increase in the size and brightness of liquid crystal display devices is the direction to amplify them. Working.

偏光板のムラを低減するためにポリビニルアルコール(以下、PVAともいう)偏光膜を薄くすることは効果があるが、従来の方法でPVA偏光膜に接着剤をつけると、偏光膜薄膜化の影響で、接着剤の水分が偏光膜へ浸透し易くなるため偏光度を落とす原因となっていた。よって既存のラインで薄膜の偏光板を作成するにはより早い乾燥が必要であるが、乾燥時間を短縮するだけでは乾燥が不十分であり、乾燥温度を上げすぎると偏光板の偏光度を落とし品質が劣化してしまう懸念がある。また、乾燥までの時間をかけ過ぎると乾燥時のムラによる歪みが発生してしまい、更に長時間使用による光漏れのムラが発生してしまい、大きな問題となってしまう。   In order to reduce the unevenness of the polarizing plate, it is effective to thin the polarizing film of polyvinyl alcohol (hereinafter also referred to as PVA). However, if an adhesive is applied to the PVA polarizing film by the conventional method, the effect of thinning the polarizing film is reduced. Therefore, the moisture content of the adhesive easily penetrates into the polarizing film, causing a decrease in the degree of polarization. Therefore, in order to create a thin film polarizing plate with an existing line, faster drying is necessary. However, drying is not sufficient just by shortening the drying time, and if the drying temperature is raised too much, the degree of polarization of the polarizing plate is reduced. There is a concern that the quality will deteriorate. Further, if it takes too much time to dry, distortion due to unevenness at the time of drying occurs, and further unevenness of light leakage due to long-time use occurs, which becomes a big problem.

特許文献1には、エチレン−ビニルアルコール系共重合体を用いた薄膜偏光膜について提案されており、偏光性能と耐水性の改善について述べられているが、上記偏光板の薄膜化によるムラの問題についてはまったく言及されていない。
特開2003−248123号公報
Patent Document 1 proposes a thin film polarizing film using an ethylene-vinyl alcohol copolymer, and describes the improvement of polarization performance and water resistance. Is not mentioned at all.
JP 2003-248123 A

本発明者はこの問題を解決する為、偏光度、耐久性といった偏光板の性質を落とすことなく偏光板のムラを抑えるために薄膜PVA偏光膜を使用できるよう検討を重ね、偏光板保護フィルムに位相差機能を持たせ、更に該偏光板を薄くすることで乾燥、経時保存による偏光板の歪みを大きく低減出来ることを見出した。   In order to solve this problem, the present inventor has repeatedly investigated that a thin film PVA polarizing film can be used in order to suppress unevenness of the polarizing plate without degrading the properties of the polarizing plate such as the degree of polarization and durability. It has been found that distortion of the polarizing plate due to drying and storage over time can be greatly reduced by providing a retardation function and further thinning the polarizing plate.

従って、本発明の目的は偏光度、耐久性を維持しながら、特に、乾燥、経時保存による偏光板のムラ、歪みを改善した偏光板、及びその偏光板を用いた視認性、視野角特性に優れた液晶表示装置を提供することにある。   Accordingly, the object of the present invention is to maintain the degree of polarization and durability, and in particular to the polarizing plate with improved unevenness and distortion of the polarizing plate due to drying and storage over time, and the visibility and viewing angle characteristics using the polarizing plate. The object is to provide an excellent liquid crystal display device.

本発明の上記課題は以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

(1)カチオン性基含有単位を0.01〜20モル%含有し、かつ炭素数4以下のα−オレフィン単位を0.5〜24モル%含有するビニルアルコール系重合体からなるポリビニルアルコールフィルムを用い延伸と染色処理を施した膜厚が5〜18μmである偏光膜と、下記式で表されるリターデーション値Roが30〜110nm、Rtが70〜300nmであり、膜厚が20〜60μmである位相差板とを有する偏光板であり、該偏光板の厚みが70〜140μmであることを特徴とする偏光板。   (1) A polyvinyl alcohol film comprising a vinyl alcohol polymer containing 0.01 to 20 mol% of a cationic group-containing unit and 0.5 to 24 mol% of an α-olefin unit having 4 or less carbon atoms. A polarizing film having a film thickness of 5 to 18 μm subjected to stretching and dyeing treatment, a retardation value Ro represented by the following formula of 30 to 110 nm, Rt of 70 to 300 nm, and a film thickness of 20 to 60 μm. A polarizing plate having a retardation plate, wherein the polarizing plate has a thickness of 70 to 140 μm.

Ro=(nx−ny)×d
Rt={(nx+ny)/2−nz}×d
(式中、nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、nyはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、nzはフィルムの厚み方向の屈折率であり、dはフィルムの厚さ(nm)である。)
(2)前記位相差板の主成分がセルロースエステルであることを特徴とする前記(1)項に記載の偏光板。
Ro = (nx−ny) × d
Rt = {(nx + ny) / 2−nz} × d
(Where nx is the refractive index in the slow axis direction in the film plane, ny is the refractive index in the fast axis direction in the film plane, nz is the refractive index in the thickness direction of the film, and d is (The thickness of the film (nm).)
(2) The polarizing plate as described in (1) above, wherein a main component of the retardation plate is a cellulose ester.

(3)前記セルロースエステルのアセチル基の置換度をXとし、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をYとした時、下記式(I)及び(II)を同時に満たすセルロースエステルであることを特徴とする前記(2)項に記載の偏光板。   (3) The cellulose ester satisfying the following formulas (I) and (II) when the substitution degree of the acetyl group of the cellulose ester is X and the substitution degree of the propionyl group or butyryl group is Y: The polarizing plate according to item (2).

式(I) 2.0≦X+Y≦2.6
式(II) 0.1≦Y≦1.2
(4)前記位相差板の一方の面とそれと反対側の面との屈折率差が5×10-4以上5×10-3以下の範囲であることを特徴とする前記(1)〜(3)項のいずれか1項に記載の偏光板。
Formula (I) 2.0 ≦ X + Y ≦ 2.6
Formula (II) 0.1 ≦ Y ≦ 1.2
(4) The refractive index difference between one surface of the retardation plate and the surface on the opposite side thereof is in the range of 5 × 10 −4 or more and 5 × 10 −3 or less. 3. The polarizing plate according to any one of items 3).

(5)前記(1)〜(4)項のいずれか1項に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いたことを特徴とする液晶表示装置。   (5) A liquid crystal display device using the polarizing plate according to any one of the above items (1) to (4) on at least one surface of a liquid crystal cell.

本発明により、偏光度、耐久性を維持しながら、特に乾燥、経時保存による偏光板のムラ、歪みを改善した偏光板、及びその偏光板を用いた視認性、視野角特性に優れた液晶表示装置を提供することが出来る。   According to the present invention, while maintaining the degree of polarization and durability, a polarizing plate in which unevenness and distortion of the polarizing plate are improved particularly by drying and storage over time, and a liquid crystal display excellent in visibility and viewing angle characteristics using the polarizing plate. A device can be provided.

以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The best mode for carrying out the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited thereto.

本発明の偏光板は、カチオン性基含有単位を0.01〜20モル%含有し、かつ炭素数4以下のα−オレフィン単位を0.5〜24モル%含有するビニルアルコール系重合体からなるポリビニルアルコールフィルムを用い延伸と染色処理を施した膜厚が5〜18μmである偏光膜と、前記式で表されるリターデーション値Roが30〜110nm、Rtが70〜300nmであり、膜厚が20〜60μmである位相差板とを有する偏光板であり、該偏光板の厚みが70〜140μmであることを特徴とする。   The polarizing plate of the present invention comprises a vinyl alcohol polymer containing 0.01 to 20 mol% of a cationic group-containing unit and 0.5 to 24 mol% of an α-olefin unit having 4 or less carbon atoms. A polarizing film having a film thickness of 5 to 18 μm subjected to stretching and dyeing treatment using a polyvinyl alcohol film, a retardation value Ro represented by the above formula of 30 to 110 nm, Rt of 70 to 300 nm, and a film thickness of It is a polarizing plate which has a retardation plate which is 20-60 micrometers, The thickness of this polarizing plate is 70-140 micrometers, It is characterized by the above-mentioned.

本発明は、前述のように偏光度、耐久性といった偏光板の性質を落とすことなく、特に乾燥、経時保存による偏光板のムラを抑えるために薄膜PVA偏光膜を使用できるよう検討を重ねたところ、上記本発明の偏光膜と、偏光板保護フィルムに位相差機能を持たせた位相差板を偏光板保護フィルムとして用いることで、全体の偏光板を薄くすることが出来、偏光板作製における乾燥、経時保存による影響を低減出来、偏光板の歪みを大きく改善出来ることを見出したものである。   As described above, the present invention has been studied so that a thin film PVA polarizing film can be used in order to suppress the unevenness of the polarizing plate due to drying and storage over time without deteriorating the properties of the polarizing plate such as the degree of polarization and durability. The polarizing plate of the present invention and a retardation plate having a retardation function in the polarizing plate protective film can be used as a polarizing plate protective film, so that the entire polarizing plate can be thinned and dried in the production of the polarizing plate. It has been found that the influence of storage over time can be reduced and the distortion of the polarizing plate can be greatly improved.

本発明の偏光板は後述するように、前記薄膜PVA偏光膜を前記位相差板と少なくとも1枚の偏光板保護フィルムとで挟持した構造を有していることが好ましい。該偏光板の厚みとは、前記薄膜PVA偏光膜、前記位相差板及び偏光板保護フィルムとを合わせた合計の厚みであり、粘着層は含まない。上記偏光板保護フィルムがハードコート層を含む場合はそれを含む。   As will be described later, the polarizing plate of the present invention preferably has a structure in which the thin film PVA polarizing film is sandwiched between the retardation plate and at least one polarizing plate protective film. The thickness of the polarizing plate is the total thickness of the thin film PVA polarizing film, the retardation plate and the polarizing plate protective film, and does not include the adhesive layer. When the said polarizing plate protective film contains a hard-coat layer, it is included.

以下、本発明を各要素毎に詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail for each element.

(偏光膜:ポリビニルアルコール系フィルム)
本発明の偏光膜に用いられるポリビニルアルコール系フィルムは、カチオン性基含有単位を0.01〜20モル%含有し、かつ炭素数4以下のα−オレフィン単位を0.5〜24モル%含有するビニルアルコール系重合体からなるPVAフィルムである。
(Polarizing film: Polyvinyl alcohol film)
The polyvinyl alcohol film used in the polarizing film of the present invention contains 0.01 to 20 mol% of a cationic group-containing unit and 0.5 to 24 mol% of an α-olefin unit having 4 or less carbon atoms. It is a PVA film made of a vinyl alcohol polymer.

本発明において、PVAフィルムの製造に用いられるPVAは、ビニルエステルとカチオン性基含有単量体および炭素数4以下のα−オレフィンとの共重合体をけん化することにより得ることができる。ビニルエステルとしては、蟻酸ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル等が挙げられるが、一般的には酢酸ビニルが用いられる。   In this invention, PVA used for manufacture of a PVA film can be obtained by saponifying a copolymer of a vinyl ester, a cationic group-containing monomer, and an α-olefin having 4 or less carbon atoms. Examples of the vinyl ester include vinyl formate, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl pivalate and the like, and generally vinyl acetate is used.

本発明において、PVAに導入されるカチオン性基含有単位は、水溶液中で解離して正電荷に帯電する化学構造単位を意味しており、このような化学構造単位を有するカチオン性基含有単量体の具体例として、例えば、トリメチル−(3−アクリルアミド−3−ジメチルプロピル)−アンモニウムクロリド、3−アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、3−メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、N−(3−アリルオキシ−2−ヒドロキシプロピル)ジメチルアミンの4級アンモニウム塩、N−(4−アリルオキシ−3−ヒドロキシブチル)ジエチルアミンの4級アンモニウム塩、さらにはアクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド等の4級アンモニウム塩等が挙げられる。PVAにおけるカチオン性基含有単位の含有量は、0.01〜20モル%であり、0.05〜10モル%がより好ましく、0.1〜5モル%が特に好ましい。カチオン性基含有単位の含有量が0.01モル%未満の場合には、カチオン性基を導入したことによる効果が発現しない。偏光膜に対する二色性染料の吸着性の観点から、カチオン性基含有単位の含有量は0.05モル%以上であるのがより好ましく、0.1モル%以上であるのが特に好ましい。また、カチオン性基含有単位の含有量が20モル%を越える場合には、このような化学構造単位を含有するPVAの製造が困難になる。偏光膜の耐水性の観点から、カチオン性基含有単位の含有量は10モル%以下であるのがより好ましく、5モル%以下であるのが特に好ましい。   In the present invention, the cationic group-containing unit introduced into PVA means a chemical structural unit that dissociates in an aqueous solution and is charged to a positive charge, and a cationic group-containing single unit having such a chemical structural unit. Specific examples of the body include, for example, trimethyl- (3-acrylamido-3-dimethylpropyl) -ammonium chloride, 3-acrylamidopropyltrimethylammonium chloride, 3-methacrylamidopropyltrimethylammonium chloride, N- (3-allyloxy-2- Quaternary ammonium salt of hydroxypropyl) dimethylamine, quaternary ammonium salt of N- (4-allyloxy-3-hydroxybutyl) diethylamine, acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N, N-dimethylacrylamide Diacetone acrylamide, N- methylol acrylamide, methacrylamide, N- methacrylamide, N- methacrylamide, quaternary ammonium salts such as N- methylol methacrylamide. The content of the cationic group-containing unit in PVA is 0.01 to 20 mol%, more preferably 0.05 to 10 mol%, and particularly preferably 0.1 to 5 mol%. When the content of the cationic group-containing unit is less than 0.01 mol%, the effect due to the introduction of the cationic group is not exhibited. From the viewpoint of the adsorptivity of the dichroic dye to the polarizing film, the content of the cationic group-containing unit is more preferably 0.05 mol% or more, and particularly preferably 0.1 mol% or more. On the other hand, when the content of the cationic group-containing unit exceeds 20 mol%, it is difficult to produce PVA containing such a chemical structural unit. From the viewpoint of the water resistance of the polarizing film, the content of the cationic group-containing unit is more preferably 10 mol% or less, and particularly preferably 5 mol% or less.

本発明において用いられる炭素数4以下のα−オレフィンとしては、エチレン、プロピレン、イソブテン、1−ブテンなどが挙げられる。これらの中でもエチレンが好ましい。PVAにおけるα−オレフィン単位の含有量は0.5〜24モル%であり、好ましくは0.8〜15モル%、特に好ましくは1〜8モル%である。α−オレフィンの含有量が0.5モル%未満の場合には、PVAをα−オレフィンにより変性した効果が現れにくく、α−オレフィンの含有量が多いほど疎水性が強くなり過ぎて、PVA自体の水溶性が乏しくなり、PVAが本来有している特長が損なわれやすく、α−オレフィンの含有量が24モル%を越えるとこの傾向が顕著になる。   Examples of the α-olefin having 4 or less carbon atoms used in the present invention include ethylene, propylene, isobutene, and 1-butene. Among these, ethylene is preferable. The content of α-olefin units in PVA is 0.5 to 24 mol%, preferably 0.8 to 15 mol%, particularly preferably 1 to 8 mol%. When the content of α-olefin is less than 0.5 mol%, the effect of modifying PVA with α-olefin is less likely to appear, and the higher the content of α-olefin, the more hydrophobic the PVA itself. The water-soluble nature of PVA becomes poor, the characteristics inherent to PVA tend to be impaired, and this tendency becomes prominent when the α-olefin content exceeds 24 mol%.

本発明において、PVAは、本発明の効果を損なわない範囲でその他の共重合可能なエチレン性不飽和単量体が共重合されていてもよい。このようなエチレン性不飽和単量体としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、(無水)フタル酸、(無水)マレイン酸、(無水)イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸またはそのナトリウム塩、ビニルスルホン酸ナトリウム、アリルスルホン酸ナトリウム、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、塩化ビニル、臭化ビニル、フッ化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン等が挙げられる。ビニルアルコール系重合体におけるエチレン性不飽和単量体単位の含有量は10モル%未満が好ましく、5モル%未満がより好ましく、2モル%未満がさらに好ましい。PVAとしては、その製造時に連鎖移動剤を使用してポリマー末端が修飾されていたり、あるいは後変性によってPVAまたはポリ酢酸ビニルが変性されたものであってもよい。   In the present invention, PVA may be copolymerized with other copolymerizable ethylenically unsaturated monomers as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such ethylenically unsaturated monomers include acrylic acid, methacrylic acid, (anhydrous) phthalic acid, (anhydrous) maleic acid, (anhydrous) itaconic acid, acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylamide-2-methylpropane. Examples thereof include sulfonic acid or a sodium salt thereof, sodium vinyl sulfonate, sodium allyl sulfonate, ethyl vinyl ether, butyl vinyl ether, vinyl chloride, vinyl bromide, vinyl fluoride, vinylidene chloride, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene and the like. The content of ethylenically unsaturated monomer units in the vinyl alcohol polymer is preferably less than 10 mol%, more preferably less than 5 mol%, and even more preferably less than 2 mol%. As the PVA, a polymer terminal may be modified using a chain transfer agent at the time of production, or PVA or polyvinyl acetate may be modified by post-modification.

本発明において用いられるPVAの重合度は、4質量%濃度の水溶液の粘度で表した場合に20mPa・s以上であることが、作製されるフィルムの強度、延伸性、偏光性能および耐久性の観点から望ましい。ただし、ここに規定している水溶液の粘度はブルックフィールド型粘度計を用い、ローターNo.1で60rpm、20℃の条件下で測定した場合の値である。PVAの重合度は、4質量%濃度の水溶液の粘度で表した場合に1000mPa・sを超えないのがよい。PVAの4質量%濃度の水溶液の粘度が1000mPa・sを超える場合には、PVAを製造するのが困難になることがある。ただし、この場合、PVA水溶液の粘度の測定に用いられるB型粘度計のローターは、高粘度のPVA水溶液に対応して、No.1〜3までのものが適宜使用される。PVAの重合度は、4質量%濃度の水溶液の粘度で表した場合に、好ましくは22〜500mPa・sであり、より好ましくは25〜250mPa・sである。   The degree of polymerization of PVA used in the present invention is 20 mPa · s or more when expressed in terms of the viscosity of an aqueous solution having a concentration of 4% by mass, from the viewpoint of strength, stretchability, polarization performance and durability of the produced film. Desirable from. However, the viscosity of the aqueous solution specified here was measured using a Brookfield viscometer, rotor No. 1 is a value measured at 60 rpm and 20 ° C. The degree of polymerization of PVA should not exceed 1000 mPa · s when expressed in terms of the viscosity of a 4% by weight aqueous solution. When the viscosity of a 4% strength by weight aqueous solution of PVA exceeds 1000 mPa · s, it may be difficult to produce PVA. However, in this case, the rotor of the B-type viscometer used for measuring the viscosity of the PVA aqueous solution corresponds to the high-viscosity PVA aqueous solution. 1 to 3 are appropriately used. The degree of polymerization of PVA is preferably 22 to 500 mPa · s, and more preferably 25 to 250 mPa · s, when expressed in terms of the viscosity of a 4 mass% aqueous solution.

本発明において使用されるPVAのビニルエステル部分の平均けん化度は、作製される偏光膜の耐久性の観点から90モル%以上が好ましく、96モル%以上がより好ましく、98モル%以上が最も好ましい。   The average saponification degree of the vinyl ester portion of the PVA used in the present invention is preferably 90 mol% or more, more preferably 96 mol% or more, and most preferably 98 mol% or more from the viewpoint of durability of the polarizing film to be produced. .

PVAフィルムを製造する方法としては、例えば、PVAを水、有機溶剤、または水と有機溶剤の混合液に溶解したPVA溶液を使用して、流延製膜法、湿式製膜法(貧溶媒中への吐出)、ゲル製膜法(PVA水溶液を一旦冷却ゲル化した後、溶媒を抽出除去し、PVAフィルムを得る方法)、およびこれらの組み合わせによる方法や、含水PVA(有機溶剤などを含んでいても良い)を溶融して行う溶融押出製膜法などを採用することができる。これらのなかでも流延製膜法および溶融押出製膜法によりPVAフィルムを製造することが、良好な偏光膜を得る観点から好ましい。   As a method for producing a PVA film, for example, using a PVA solution in which PVA is dissolved in water, an organic solvent, or a mixed liquid of water and an organic solvent, a casting film forming method, a wet film forming method (in a poor solvent) Discharge), gel film forming method (a method in which the PVA aqueous solution is once cooled and gelated, and then the solvent is extracted and removed to obtain a PVA film), and a combination of these methods, and hydrous PVA (including organic solvents) Or a melt extrusion film-forming method in which it may be melted. Among these, it is preferable from the viewpoint of obtaining a good polarizing film to produce a PVA film by a casting film forming method and a melt extrusion film forming method.

PVAフィルムを製造する際に使用されるPVAを溶解する溶剤としては、例えば、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリメチロールプロパン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、グリセリン、水などを挙げることができ、これらのうち1種または2種以上を使用することができる。これらのなかでも、ジメチルスルホキシド、水、あるいはグリセリンと水の混合溶媒が好適に使用される。   Examples of the solvent for dissolving PVA used in producing the PVA film include dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, Examples thereof include trimethylolpropane, ethylenediamine, diethylenetriamine, glycerin, water, and the like, and one or more of these can be used. Among these, dimethyl sulfoxide, water, or a mixed solvent of glycerin and water is preferably used.

PVAフィルムを製造する際に使用されるPVA溶液または含水PVAにおけるPVA濃度は、10〜70質量%が好適であり、13〜55質量%がより好適であり、15〜50質量%が最も好適である。PVA溶液または含水PVAには、必要に応じて、可塑剤、界面活性剤、二色性染料などが含有されていてもよい。   10-70 mass% is suitable for the PVA density | concentration in the PVA solution or water-containing PVA used when manufacturing a PVA film, 13-55 mass% is more suitable, and 15-50 mass% is the most suitable. is there. The PVA solution or the hydrous PVA may contain a plasticizer, a surfactant, a dichroic dye, or the like as necessary.

PVAフィルムの製造に用いられるPVA溶液または含水PVAに含有させることができる可塑剤としては、多価アルコールが好ましく用いられ、その具体例として、例えば、エチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジグリセリン、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリメチロールプロパンなどを挙げることができる。これらの多価アルコールは単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。これらの多価アルコールの中でも、延伸性の向上効果の点からジグリセリン、エチレングリコールまたはグリセリンが好適に使用される。   As the plasticizer that can be contained in the PVA solution or the hydrous PVA used for the production of the PVA film, polyhydric alcohols are preferably used. Specific examples thereof include, for example, ethylene glycol, glycerin, propylene glycol, diethylene glycol, diglycerin. , Triethylene glycol, tetraethylene glycol, trimethylolpropane and the like. These polyhydric alcohols can be used alone or in combination of two or more. Among these polyhydric alcohols, diglycerin, ethylene glycol or glycerin is preferably used from the viewpoint of the effect of improving stretchability.

多価アルコールの添加量としては、PVA100質量部に対して1〜30質量部が好ましく、3〜25質量部がより好ましく、特に5〜20質量部が最も好ましい。1質量部より少ないと、PVAフィルムの染色性および延伸性が低下する場合があり、30質量部より多いと、PVAフィルムが柔軟になりすぎて、取り扱い性が低下する場合がある。   As addition amount of a polyhydric alcohol, 1-30 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of PVA, 3-25 mass parts is more preferable, Especially 5-20 mass parts is the most preferable. If the amount is less than 1 part by mass, the dyeability and stretchability of the PVA film may be reduced. If the amount is more than 30 parts by mass, the PVA film may be too soft and the handleability may be reduced.

PVAフィルムの製造に用いられるPVA溶液または含水PVAに含有させることができる界面活性剤の種類には特に限定はないが、ノニオン性の界面活性剤が好ましい。ノニオン性界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのアルキルエーテル型、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルなどのアルキルフェニルエーテル型、ポリオキシエチレンラウレートなどのアルキルエステル型、ポリオキシエチレンラウリルアミノエーテルなどのアルキルアミン型、ポリオキシエチレンラウリン酸アミドなどのアルキルアミド型、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンエーテルなどのポリプロピレングリコールエーテル型、オレイン酸ジエタノールアミドなどのアルカノールアミド型、ポリオキシアルキレンアリルフェニルエーテルなどのアリルフェニルエーテル型などのノニオン性界面活性剤が好適である。これらの界面活性剤は単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。   There is no particular limitation on the type of surfactant that can be contained in the PVA solution or the hydrous PVA used in the production of the PVA film, but a nonionic surfactant is preferred. Nonionic surfactants include, for example, alkyl ether types such as polyoxyethylene oleyl ether, alkylphenyl ether types such as polyoxyethylene octylphenyl ether, alkyl ester types such as polyoxyethylene laurate, and polyoxyethylene laurylamino. Alkylamine type such as ether, alkylamide type such as polyoxyethylene lauric acid amide, polypropylene glycol ether type such as polyoxyethylene polyoxypropylene ether, alkanolamide type such as oleic acid diethanolamide, polyoxyalkylene allyl phenyl ether, etc. Nonionic surfactants such as allyl phenyl ether type are preferred. These surfactants can be used alone or in combination of two or more.

界面活性剤の添加量としては、PVA100質量部に対して0.01〜1質量部が好ましく、0.02〜0.5質量部がより好ましく、特に0.05〜0.3質量部が最も好ましい。0.01質量部より少ないと、PVAフィルムの延伸性および染色性の向上効果が現れにくく、1質量部より多いと、界面活性剤がPVAフィルムの表面に溶出してブロッキングの原因になり、取り扱い性が低下する場合がある。   As addition amount of surfactant, 0.01-1 mass part is preferable with respect to 100 mass parts of PVA, 0.02-0.5 mass part is more preferable, Especially 0.05-0.3 mass part is the most. preferable. If the amount is less than 0.01 parts by mass, the effect of improving the stretchability and dyeability of the PVA film is hardly exhibited. If the amount is more than 1 part by mass, the surfactant is eluted on the surface of the PVA film, causing blocking, and handling. May decrease.

PVAフィルムの製造に用いられるPVA溶液または含水PVAに含有させることができる二色性染料としては、後述する、PVAフィルムを染色する際に用いられる二色性染料を用いることができる。   As the dichroic dye that can be contained in the PVA solution or the hydrous PVA used for the production of the PVA film, a dichroic dye used when dyeing the PVA film, which will be described later, can be used.

PVAフィルムの厚さは、好ましくは5〜150μmであり、より好ましくは20〜100μmであり、さらに好ましくは30〜90μmであり、最も好ましくは35〜80μmである。   The thickness of the PVA film is preferably 5 to 150 μm, more preferably 20 to 100 μm, still more preferably 30 to 90 μm, and most preferably 35 to 80 μm.

PVAフィルムから偏光膜を製造するには、例えば、PVAフィルムを染色、一軸延伸、固定処理、乾燥処理、さらに必要に応じて熱処理を行えばよく、染色、一軸延伸、固定処理の操作の順番に特に制限はない。また、一軸延伸は二回に分けて、またはそれ以上の回数に分けて行ってもよい。   In order to produce a polarizing film from a PVA film, for example, the PVA film may be dyed, uniaxially stretched, fixed, dried, and further heat treated as necessary. There is no particular limitation. In addition, the uniaxial stretching may be performed in two times or in more times.

本発明のPVAフィルムは二色性染料を用いた染色に特に適している。本発明のPVAフィルムを用いることにより、二色性染料を用いて染色を行った場合でも、耐水性および偏光性能に優れていることに加えて、染色ムラのない偏光膜を製造することができる。二色性染料を用いてPVAフィルムを染色するにあたっては、二色性染料を含有する溶液中にPVAフィルムを浸漬させるという処理が一般的に行われているが、前記したように、PVAフィルムを製造する際に使用されるPVA溶液または含水PVAに二色性染料を添加するなどしてもよく、その処理条件および処理方法は特に制限されるものではない。   The PVA film of the present invention is particularly suitable for dyeing using a dichroic dye. By using the PVA film of the present invention, even when dyeing is performed using a dichroic dye, in addition to being excellent in water resistance and polarization performance, a polarizing film free from uneven dyeing can be produced. . In dyeing a PVA film using a dichroic dye, a treatment of immersing the PVA film in a solution containing the dichroic dye is generally performed. A dichroic dye may be added to the PVA solution or water-containing PVA used in production, and the treatment conditions and treatment method are not particularly limited.

二色性染料を含有する溶液中にPVAフィルムを浸漬させる処理は、該PVAフィルムの一軸延伸前、一軸延伸時または一軸延伸後のいずれの操作段階においても実施が可能である。ニ色性染料の具体例としては、例えば、ダイレクトブラック17、19、154;ダイレクトブラウン44、106、195、210、223;ダイレクトレッド2、23、28、31、37、39、79、81、240、242、247;ダイレクトブルー1、15、22、78、90、98、151、168、202、236、249、270;ダイレクトバイオレット9、12、51、98;ダイレクトグリーン1、85;ダイレクトイエロー8、12、44、86、87;ダイレクトオレンジ26、39、106、107などが挙げられる。これらの二色性染料を単独で使用した場合でもカラー偏光膜を得ることができるが、2種類以上の染料を組み合わせて用いることにより、380〜780nmの可視光の全波長域にわたって同一の吸収特性を有し、かつ偏光度が高い偏光膜を得ることができる。なお、ここで言う二色性染料とはヨウ素などの無機系染料を除いた、有機化合物系の染料を指している。   The treatment of immersing the PVA film in the solution containing the dichroic dye can be carried out at any operation stage before uniaxial stretching, during uniaxial stretching or after uniaxial stretching of the PVA film. Specific examples of the dichroic dye include, for example, direct black 17, 19, 154; direct brown 44, 106, 195, 210, 223; direct red 2, 23, 28, 31, 37, 39, 79, 81, 240, 242, 247; Direct Blue 1, 15, 22, 78, 90, 98, 151, 168, 202, 236, 249, 270; Direct Violet 9, 12, 51, 98; Direct Green 1, 85; Direct Yellow 8, 12, 44, 86, 87; direct orange 26, 39, 106, 107 and the like. Even when these dichroic dyes are used alone, a color polarizing film can be obtained, but by using two or more kinds of dyes in combination, the same absorption characteristics over the entire wavelength range of visible light of 380 to 780 nm. And a polarizing film having a high degree of polarization can be obtained. The dichroic dye referred to here refers to an organic compound dye excluding an inorganic dye such as iodine.

本発明のPVAフィルムは、二色性染料だけではなく、ヨウ素−ヨウ化カリウムなどを使用して染色することもできる。   The PVA film of the present invention can be dyed using not only a dichroic dye but also iodine-potassium iodide.

PVAフィルムを一軸延伸するには、PVAフィルムを温水溶液中(前記した染料を含有する溶液中や後述する固定処理浴中でもよい)で延伸する湿式延伸法、または含水後のPVAフィルムを空気中で延伸する乾熱延伸法を採用することができる。延伸温度は、特に限定されないが、PVAフィルムを温水中で延伸(湿式延伸)する場合は30〜90℃が好適であり、乾熱延伸する場合は50〜180℃が好適である。また、一軸延伸による延伸倍率(一軸延伸を多段で行う場合には合計の延伸倍率)は、偏光膜の偏光性能の点から4倍以上が好ましく、特に5倍以上が好ましい。延伸倍率の上限について特に制限はないが、8倍以下であると均一な延伸が得られやすいので好ましい。   In order to uniaxially stretch the PVA film, a wet stretching method in which the PVA film is stretched in a warm aqueous solution (in a solution containing the above-described dye or in a fixing treatment bath described later), or a PVA film after being hydrated in the air. A dry heat stretching method for stretching can be employed. The stretching temperature is not particularly limited, but is preferably 30 to 90 ° C. when the PVA film is stretched (wet stretching) in warm water, and 50 to 180 ° C. is suitable for dry heat stretching. Further, the stretching ratio by uniaxial stretching (the total stretching ratio when uniaxial stretching is performed in multiple stages) is preferably 4 times or more, and particularly preferably 5 times or more from the viewpoint of the polarization performance of the polarizing film. Although there is no restriction | limiting in particular about the upper limit of a draw ratio, Since uniform extending | stretching is easy to be obtained if it is 8 times or less, it is preferable.

二色性染料が含有され、一軸延伸されたPVAフィルムは、必要に応じて、公知の方法にしたがって、ホウ酸および/またはホウ素化合物を含有する水溶液中に浸漬するなどして、固定処理が施される。この処理により、偏光膜の光線透過率、偏光度および耐久性を向上させることができる。さらには、必要に応じて、固定処理と併せて、カチオン系高分子化合物を含む水溶液によるフィックス処理を行ってもよい。   The PVA film containing the dichroic dye and uniaxially stretched is subjected to a fixing treatment, if necessary, by immersing it in an aqueous solution containing boric acid and / or boron compound according to a known method. Is done. By this treatment, the light transmittance, polarization degree and durability of the polarizing film can be improved. Furthermore, you may perform the fix process by the aqueous solution containing a cationic high molecular compound with a fixing process as needed.

一軸延伸されたフィルムは、好ましくは30〜150℃、より好ましくは50〜150℃の温度で乾燥処理(熱処理)される。   The uniaxially stretched film is preferably dried (heat treated) at a temperature of 30 to 150 ° C, more preferably 50 to 150 ° C.

本発明の偏光膜は上記延伸及び染色処理が施され、その膜厚は5〜18μmの範囲である。好ましくは7〜15μmの範囲である。従来の20μm以上の偏光膜では偏光板作製工程の乾燥、経時保存によりムラが生じ易かったが、本発明に係る位相差板と組み合わせ、偏光膜の膜厚を上記範囲にすることによりムラの改善が図られる。   The polarizing film of the present invention is subjected to the above stretching and dyeing treatment, and its film thickness is in the range of 5 to 18 μm. Preferably it is the range of 7-15 micrometers. In conventional polarizing films of 20 μm or more, unevenness was likely to occur due to drying and storage over time of the polarizing plate preparation process, but by combining with the retardation plate according to the present invention, the unevenness was improved by making the thickness of the polarizing film in the above range. Is planned.

本発明の偏光膜は、十分な機械的強度を付与するために、その両面または片面に光学的に透明でかつ機械的強度を有する偏光板保護フィルムを貼り合わせて、偏光板とする。好ましくは両面に偏光板保護フィルムが貼合されることであり、少なくとも一枚の偏光板保護フィルムが本発明に係る位相差板である。   In order to give sufficient mechanical strength, the polarizing film of the present invention is bonded to a polarizing plate protective film having optical transparency and mechanical strength on both sides or one side to form a polarizing plate. Preferably, a polarizing plate protective film is bonded to both surfaces, and at least one polarizing plate protective film is the retardation plate according to the present invention.

偏光板保護フィルムとしては、通常セルロースアセテート系フィルム、アクリル系フィルム、ポリエステル系フィルム等が使用される。中でも後述するセルロースエステル系フィルムが好ましい。   As the polarizing plate protective film, a cellulose acetate film, an acrylic film, a polyester film or the like is usually used. Among these, a cellulose ester film described later is preferable.

(位相差板及び偏光板保護フィルム)
次に、本発明の位相差板及び偏光板保護フィルムについて詳細に説明する。
(Retardation plate and polarizing plate protective film)
Next, the retardation plate and polarizing plate protective film of the present invention will be described in detail.

本発明に係る膜厚が20〜60μmである位相差板(以降、位相差フィルムともいう)と、本発明に用いられる偏光板保護フィルムは、製造が容易であること、偏光膜との接着性がよいこと、光学的に透明であること等が好ましい要件として挙げられ、中でもポリマーフィルムであることが好ましい。   The retardation film (hereinafter, also referred to as retardation film) having a film thickness of 20 to 60 μm according to the present invention and the polarizing plate protective film used in the present invention are easy to manufacture and adhesive to the polarizing film. However, it is preferable that the film is optically transparent and the like, and a polymer film is particularly preferable.

本発明でいう透明とは、可視光の透過率60%以上であることを指し、好ましくは80%以上であり、特に好ましくは90%以上である。   The term “transparent” as used in the present invention means that the visible light transmittance is 60% or more, preferably 80% or more, and particularly preferably 90% or more.

上記の性質を有していれば前記ポリマーフィルムに特に限定はないが、例えば、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム(アートン(JSR社製)、ゼオネックス、ゼオネア(以上、日本ゼオン社製))、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルムまたはガラス板等を挙げることが出来る。中でも、セルロースエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンを含む)系フィルムが好ましく、本発明においては、特にセルロースエステル系フィルムが、製造上、コスト面、透明性、接着性等の観点から好ましく用いられる。これらのフィルムは、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。   The polymer film is not particularly limited as long as it has the above properties. For example, cellulose ester films such as cellulose diacetate film, cellulose triacetate film, cellulose acetate butyrate film, and cellulose acetate propionate film, polyester Film, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyester film such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film , Ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, polycar Nate film, cycloolefin polymer film (Arton (manufactured by JSR), Zeonex, Zeonea (manufactured by Zeon)), polymethylpentene film, polyetherketone film, polyetherketoneimide film, polyamide film, fluororesin film , Nylon film, polymethyl methacrylate film, acrylic film, glass plate and the like. Among these, a cellulose ester film, a polycarbonate film, and a polysulfone (including polyether sulfone) film are preferable. In the present invention, in particular, a cellulose ester film is used in terms of production, cost, transparency, adhesiveness, and the like. Are preferably used. These films may be films produced by melt casting film formation or films produced by solution casting film formation.

本発明に用いられる偏光板保護フィルムは特にその成分に制限はないが、本発明に係る位相差フィルムの主成分として好ましいセルロースエステルは、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく、中でもセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。   The polarizing plate protective film used in the present invention is not particularly limited in its components, but the preferred cellulose ester as the main component of the retardation film according to the present invention is preferably cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, or cellulose acetate propionate. Of these, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate phthalate, and cellulose acetate propionate are preferably used.

特にアセチル基の置換度をX、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をYとした時、XとYが下記の範囲にあるセルロースの混合脂肪酸エステルを有する透明フィルム基材が好ましく用いられる。   In particular, when the substitution degree of the acetyl group is X and the substitution degree of the propionyl group or butyryl group is Y, a transparent film substrate having a mixed fatty acid ester of cellulose in which X and Y are in the following ranges is preferably used.

式(I) 2.0≦X+Y≦2.6
式(II) 0.1≦Y≦1.2
更に2.4≦X+Y≦2.6、1.4≦X≦2.3セルロースアセテートプロピオネート(総アシル基置換度=X+Y)が好ましい。中でも2.4≦X+Y≦2.6、1.7≦X≦2.3、0.1≦Y≦0.9のセルロースアセテートプロピオネート(総アシル基置換度=X+Y)が好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在している。これらのセルロースエステルは公知の方法で合成することが出来る。
Formula (I) 2.0 ≦ X + Y ≦ 2.6
Formula (II) 0.1 ≦ Y ≦ 1.2
Further, 2.4 ≦ X + Y ≦ 2.6, 1.4 ≦ X ≦ 2.3 cellulose acetate propionate (total acyl group substitution degree = X + Y) is preferable. Among them, cellulose acetate propionate (total acyl group substitution degree = X + Y) of 2.4 ≦ X + Y ≦ 2.6, 1.7 ≦ X ≦ 2.3, and 0.1 ≦ Y ≦ 0.9 is preferable. The portion not substituted with an acyl group usually exists as a hydroxyl group. These cellulose esters can be synthesized by a known method.

本発明に係る位相差フィルム及び本発明に用いられる偏光板保護フィルムとして、セルロースエステルを用いる場合、セルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ(針葉樹由来、広葉樹由来)、ケナフ等を挙げることが出来る。またそれらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することが出来る。これらのセルロースエステルは、アシル化剤が酸無水物(無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸)である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いてセルロース原料と反応させて得ることが出来る。   When the cellulose ester is used as the retardation film according to the present invention and the polarizing plate protective film used in the present invention, the cellulose used as the raw material for the cellulose ester is not particularly limited, but cotton linter, wood pulp (derived from conifers, hardwood) Origin), kenaf and the like. Moreover, the cellulose ester obtained from them can be mixed and used in arbitrary ratios, respectively. When the acylating agent is an acid anhydride (acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride), these cellulose esters use an organic solvent such as acetic acid or an organic solvent such as methylene chloride, and It can be obtained by reacting with a cellulose raw material using a protic catalyst.

アシル化剤が酸クロライド(CH3COCl、C25COCl、C37COCl)の場合には、触媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて反応が行われる。具体的には、特開平10−45804号に記載の方法等を参考にして合成することが出来る。また、本発明に用いられるセルロースエステルは各置換度に合わせて上記アシル化剤量を混合して反応させたものであり、セルロースエステルはこれらアシル化剤がセルロース分子の水酸基に反応する。セルロース分子はグルコースユニットが多数連結したものからなっており、グルコースユニットに3個の水酸基がある。この3個の水酸基にアシル基が誘導された数を置換度(モル%)という。例えば、セルローストリアセテートはグルコースユニットの3個の水酸基全てにアセチル基が結合している(実際には2.6〜3.0)。 When the acylating agent is acid chloride (CH 3 COCl, C 2 H 5 COCl, C 3 H 7 COCl), the reaction is carried out using a basic compound such as an amine as a catalyst. Specifically, it can be synthesized with reference to the method described in JP-A-10-45804. In addition, the cellulose ester used in the present invention is obtained by mixing and reacting the amount of the acylating agent in accordance with the degree of substitution. In the cellulose ester, these acylating agents react with hydroxyl groups of cellulose molecules. Cellulose molecules are composed of many glucose units linked together, and the glucose unit has three hydroxyl groups. The number of acyl groups derived from these three hydroxyl groups is called the degree of substitution (mol%). For example, cellulose triacetate has acetyl groups bonded to all three hydroxyl groups of the glucose unit (actually 2.6 to 3.0).

本発明に用いられるセルロースエステルとしては、前述のようにセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、またはセルロースアセテートプロピオネートブチレートのようなアセチル基の他にプロピオネート基またはブチレート基が結合したセルロースの混合脂肪酸エステルが特に好ましく用いられる。尚、プロピオネート基を置換基として含むセルロースアセテートプロピオネートは耐水性に優れ、液晶画像表示装置用のフィルムとして有用である。   As the cellulose ester used in the present invention, as described above, cellulose having propionate group or butyrate group in addition to acetyl group such as cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, or cellulose acetate propionate butyrate is used. The mixed fatty acid ester is particularly preferably used. Cellulose acetate propionate containing a propionate group as a substituent has excellent water resistance and is useful as a film for a liquid crystal image display device.

アシル基の置換度の測定方法はASTM−D817−96の規定に準じて測定することが出来る。   The measuring method of the substitution degree of an acyl group can be measured according to the provisions of ASTM-D817-96.

セルロースエステルの数平均分子量は、40000〜200000が、成型した場合の機械的強度が強く、かつ、適度なドープ粘度となり好ましく、更に好ましくは、50000〜150000である。また、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)が1.4〜4.5の範囲であることが好ましい。   The number average molecular weight of the cellulose ester is preferably from 40000 to 200000, since it has a high mechanical strength when molded and an appropriate dope viscosity, and more preferably from 50000 to 150,000. The weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) is preferably in the range of 1.4 to 4.5.

これらセルロースエステルは、一般的に溶液流延製膜法と呼ばれるセルロースエステル溶解液(ドープ)を、例えば、無限に移送する無端の金属ベルトまたは回転する金属ドラムの流延用支持体上に加圧ダイからドープを流延(キャスティング)し製膜する方法で製造されることが好ましい。   These cellulose esters are pressurized by applying a cellulose ester solution (dope) generally called a solution casting film forming method onto, for example, an endless metal belt for infinite transport or a support for casting of a rotating metal drum. It is preferable to manufacture the dope from a die by casting (casting).

これらドープの調製に用いられる有機溶媒としては、セルロースエステルを溶解出来、かつ、適度な沸点であることが好ましく、例えば、メチレンクロライド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセト酢酸メチル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、蟻酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等を挙げることが出来るが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物、ジオキソラン誘導体、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン、アセト酢酸メチル等が好ましい有機溶媒(即ち、良溶媒)として挙げられる。   The organic solvent used for the preparation of these dopes is preferably capable of dissolving the cellulose ester and having an appropriate boiling point, for example, methylene chloride, methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, methyl acetoacetate, acetone, tetrahydrofuran 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2 -Propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-methyl-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,2,3 , 3,3-pentafluoro-1-propanol, nitroethane, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc. It is possible, organic halogen compounds such as methylene chloride, dioxolane derivatives, methyl acetate, ethyl acetate, acetone, methyl acetoacetate, and the like are preferable organic solvents (i.e., good solvent), and as.

また、下記の製膜工程に示すように、溶媒蒸発工程において流延用支持体上に形成されたウェブ(ドープ膜)から溶媒を乾燥させる時に、ウェブ中の発泡を防止する観点から、用いられる有機溶媒の沸点としては、30〜80℃が好ましく、例えば、上記記載の良溶媒の沸点は、メチレンクロライド(沸点40.4℃)、酢酸メチル(沸点56.32℃)、アセトン(沸点56.3℃)、酢酸エチル(沸点76.82℃)等である。   Moreover, as shown in the following film forming process, it is used from the viewpoint of preventing foaming in the web when the solvent is dried from the web (dope film) formed on the casting support in the solvent evaporation process. The boiling point of the organic solvent is preferably 30 to 80 ° C. For example, the good solvent described above has a boiling point of methylene chloride (boiling point 40.4 ° C), methyl acetate (boiling point 56.32 ° C), acetone (boiling point 56.56 ° C). 3 ° C.), ethyl acetate (boiling point 76.82 ° C.) and the like.

上記記載の良溶媒の中でも溶解性に優れるメチレンクロライド或いは酢酸メチルが好ましく用いられる。   Among the good solvents described above, methylene chloride or methyl acetate, which is excellent in solubility, is preferably used.

上記有機溶媒の他に、0.1質量%〜40質量%の炭素原子数1〜4のアルコールを含有させることが好ましい。特に好ましくは5〜30質量%で前記アルコールが含まれることが好ましい。これらは上記記載のドープを流延用支持体に流延後、溶媒が蒸発を始めアルコールの比率が多くなるとウェブ(ドープ膜)がゲル化し、ウェブを丈夫にし流延用支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。   It is preferable to contain 0.1 mass%-40 mass% of C1-C4 alcohol other than the said organic solvent. It is particularly preferable that the alcohol is contained at 5 to 30% by mass. After casting the dope described above onto a casting support, the solvent starts to evaporate and the alcohol ratio increases and the web (dope film) gels, making the web strong and peeling from the casting support. It is also used as a gelling solvent for facilitating the dissolution, and when these ratios are small, it also has a role of promoting dissolution of the cellulose ester of the non-chlorine organic solvent.

炭素原子数1〜4のアルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール等を挙げることが出来る。   Examples of the alcohol having 1 to 4 carbon atoms include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, sec-butanol, tert-butanol and the like.

これらの溶媒のうち、ドープの安定性がよく、沸点も比較的低く、乾燥性もよく、かつ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。好ましくは、メチレンクロライド70質量%〜95質量%に対してエタノール5質量%〜30質量%を含む溶媒を用いることが好ましい。メチレンクロライドの代わりに酢酸メチルを用いることも出来る。このとき、冷却溶解法によりドープを調製してもよい。   Of these solvents, ethanol is preferred because it has good dope stability, relatively low boiling point, good drying properties, and no toxicity. It is preferable to use a solvent containing 5% by mass to 30% by mass of ethanol with respect to 70% by mass to 95% by mass of methylene chloride. Methyl acetate can be used in place of methylene chloride. At this time, the dope may be prepared by a cooling dissolution method.

本発明に係る位相差フィルム及び本発明に用いられる偏光板保護フィルムにセルロースエステルフィルムを用いる場合、柔軟性、透湿性、寸法安定性の観点から、下記のような可塑剤を含有するのが好ましい。可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤等を好ましく用いることが出来る。   When a cellulose ester film is used for the retardation film according to the present invention and the polarizing plate protective film used in the present invention, it is preferable to contain the following plasticizer from the viewpoint of flexibility, moisture permeability, and dimensional stability. . Examples of plasticizers include phosphate ester plasticizers, phthalate ester plasticizers, trimellitic acid ester plasticizers, pyromellitic acid plasticizers, glycolate plasticizers, citrate ester plasticizers, and polyesters. A plasticizer or the like can be preferably used.

リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリ−n−(2−エチルヘキシル)シトレート等を好ましく用いることが出来る。その他のカルボン酸エステルの例には、トリメチロールプロパントリベンゾエート、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることが出来る。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、1,4−シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることが出来る。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,4−ブチレングリコール、1,3−ブチレングリコール、1,2−ブチレングリコール等を用いることが出来る。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。   For phosphate plasticizers, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenylbiphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, etc. For phthalate ester plasticizers, diethyl phthalate, dimethoxy Ethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diphenyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, and other trimellitic acid plasticizers include tributyl trimellitate, triphenyl trimellitate, triethyl For pyromellitic acid ester plasticizers such as trimellitate, tetrabutylpyromellitate, In the case of glycolate plasticizers such as lupyromelitate and tetraethylpyromellitate, triacetin, tributyrin, ethylphthalylethyl glycolate, methylphthalylethylglycolate, butylphthalylbutylglycolate, etc. Citrate, tri-n-butyl citrate, acetyl triethyl citrate, acetyl tri-n-butyl citrate, acetyl tri-n- (2-ethylhexyl) citrate and the like can be preferably used. Examples of other carboxylic acid esters include trimethylolpropane tribenzoate, butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, dibutyl sebacate, and various trimellitic acid esters. As the polyester plasticizer, a copolymer of a dibasic acid such as an aliphatic dibasic acid, an alicyclic dibasic acid, or an aromatic dibasic acid and a glycol can be used. The aliphatic dibasic acid is not particularly limited, and adipic acid, sebacic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 1,4-cyclohexyl dicarboxylic acid and the like can be used. As the glycol, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,4-butylene glycol, 1,3-butylene glycol, 1,2-butylene glycol and the like can be used. These dibasic acids and glycols may be used alone or in combination of two or more.

これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して1質量%〜20質量%が好ましく、特に好ましくは、3質量%〜13質量%である。   The amount of these plasticizers used is preferably 1% by mass to 20% by mass and particularly preferably 3% by mass to 13% by mass with respect to the cellulose ester in terms of film performance, processability and the like.

本発明の位相差フィルムには、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。   An ultraviolet absorber is preferably used for the retardation film of the present invention.

紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。   As the ultraviolet absorber, those excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and having little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display properties.

本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。   Specific examples of the ultraviolet absorber preferably used in the present invention include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex compounds, and the like. However, it is not limited to these.

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば下記の紫外線吸収剤を具体例として挙げるが、本発明はこれらに限定されない。   Specific examples of the benzotriazole-based ultraviolet absorbers include the following ultraviolet absorbers, but the present invention is not limited thereto.

UV−1:2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−2:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−3:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−4:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−5:2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−6:2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)
UV−7:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−8:2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール(TINUVIN171、Ciba製)
UV−9:オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物(TINUVIN109、Ciba製)
また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
UV-1: 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-2: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole UV-3 : 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-4: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl)- 5-Chlorobenzotriazole UV-5: 2- (2'-hydroxy-3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole UV-6: 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol)
UV-7: 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole UV-8: 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6 (Linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol (TINUVIN171, manufactured by Ciba)
UV-9: Octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl- 4-Hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate (TINUVIN109, manufactured by Ciba)
Moreover, although the following specific example is shown as a benzophenone series ultraviolet absorber, this invention is not limited to these.

UV−10:2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン
UV−11:2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
UV−12:2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン
UV−13:ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)
本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
UV-10: 2,4-dihydroxybenzophenone UV-11: 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone UV-12: 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone UV-13: Bis (2-methoxy -4-hydroxy-5-benzoylphenylmethane)
As the ultraviolet absorber preferably used in the present invention, a benzotriazole-based ultraviolet absorber and a benzophenone-based ultraviolet absorber that are highly transparent and excellent in preventing the deterioration of the polarizing plate and the liquid crystal are preferable, and unnecessary coloring is less. A benzotriazole-based ultraviolet absorber is particularly preferably used.

また、特開2001−187825に記載されている分配係数が9.2以上の紫外線吸収剤は、長尺フィルムの面品質を向上させ、塗布性にも優れている。特に分配係数が10.1以上の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。   Moreover, the ultraviolet absorber whose distribution coefficient described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-187825 is 9.2 or more improves the surface quality of a long film, and is excellent also in applicability | paintability. In particular, it is preferable to use an ultraviolet absorber having a distribution coefficient of 10.1 or more.

また、特開平6−148430号に記載の一般式(1)または一般式(2)、特願2000−156039の一般式(3)、(6)、(7)記載の高分子紫外線吸収剤(または紫外線吸収性ポリマー)も好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤としては、PUVA−30M(大塚化学(株)製)等が市販されている。   Further, the polymer ultraviolet absorbers described in the general formula (1) or general formula (2) described in JP-A-6-148430 and the general formulas (3), (6), and (7) of Japanese Patent Application No. 2000-156039 ( Alternatively, an ultraviolet absorbing polymer) is also preferably used. As a polymer ultraviolet absorber, PUVA-30M (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) and the like are commercially available.

また、本発明に係る位相差フィルム及び本発明に用いられる偏光板保護フィルムには滑り性を付与するため、活性線硬化型樹脂を含む塗布層で記載したのと同様の微粒子を用いることが出来る。   Moreover, in order to provide slipperiness to the retardation film according to the present invention and the polarizing plate protective film used in the present invention, fine particles similar to those described in the coating layer containing an actinic radiation curable resin can be used. .

本発明に係る位相差フィルム及び本発明に用いられる偏光板保護フィルムに添加される微粒子の1次平均粒子径としては、20nm以下が好ましく、更に好ましくは、5〜16nmであり、特に好ましくは、5〜12nmである。これらの微粒子は0.1〜5μmの粒径の2次粒子を形成して位相差フィルムに含まれることが好ましく、好ましい平均粒径は0.1〜2μmであり、更に好ましくは0.2〜0.6μmである。これにより、フィルム表面に高さ0.1〜1.0μm程度の凹凸を形成し、これによってフィルム表面に適切な滑り性を与えることが出来る。   The primary average particle diameter of the fine particles added to the retardation film according to the present invention and the polarizing plate protective film used in the present invention is preferably 20 nm or less, more preferably 5 to 16 nm, and particularly preferably. 5-12 nm. These fine particles preferably form secondary particles having a particle size of 0.1 to 5 μm and are contained in the retardation film, and a preferable average particle size is 0.1 to 2 μm, more preferably 0.2 to 0.6 μm. Thereby, the unevenness | corrugation about 0.1-1.0 micrometer high can be formed in the film surface, and, thereby, appropriate slipperiness can be given to the film surface.

本発明に用いられる微粒子の1次平均粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡(倍率50万〜200万倍)で粒子の観察を行い、粒子100個を観察し、粒子径を測定しその平均値をもって、1次平均粒子径とした。   The primary average particle diameter of the fine particles used in the present invention is measured by observing the particles with a transmission electron microscope (magnification 500,000 to 2,000,000 times), observing 100 particles, measuring the particle diameter, and measuring the average. The value was taken as the primary average particle size.

微粒子の見掛比重としては、70g/リットル以上が好ましく、更に好ましくは、90〜200g/リットルであり、特に好ましくは、100〜200g/リットルである。見掛比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましく、また、本発明のように固形分濃度の高いドープを調製する際には、特に好ましく用いられる。   The apparent specific gravity of the fine particles is preferably 70 g / liter or more, more preferably 90 to 200 g / liter, and particularly preferably 100 to 200 g / liter. A larger apparent specific gravity makes it possible to make a high-concentration dispersion, which improves haze and agglomerates, and is preferable when preparing a dope having a high solid content concentration as in the present invention. Are particularly preferably used.

1次粒子の平均径が20nm以下、見掛比重が70g/リットル以上の二酸化珪素微粒子は、例えば、気化させた四塩化珪素と水素を混合させたものを1000〜1200℃にて空気中で燃焼させることで得ることが出来る。また例えばアエロジル200V、アエロジルR972V(以上、日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、それらを使用することが出来る。   Silicon dioxide fine particles having an average primary particle diameter of 20 nm or less and an apparent specific gravity of 70 g / liter or more are, for example, a mixture of vaporized silicon tetrachloride and hydrogen burned in air at 1000 to 1200 ° C. Can be obtained. For example, it is marketed by the brand name of Aerosil 200V and Aerosil R972V (above, Nippon Aerosil Co., Ltd. product), and can use them.

上記記載の見掛比重は二酸化珪素微粒子を一定量メスシリンダーに採り、この時の重さを測定し、下記式で算出したものである。   The apparent specific gravity described above is calculated by the following equation by taking a certain amount of silicon dioxide fine particles in a graduated cylinder, measuring the weight at this time.

見掛比重(g/リットル)=二酸化珪素質量(g)/二酸化珪素の容積(リットル)
本発明に用いられる微粒子の分散液を調製する方法としては、例えば以下に示すような3種類が挙げられる。
Apparent specific gravity (g / liter) = silicon dioxide mass (g) / volume of silicon dioxide (liter)
Examples of the method for preparing the fine particle dispersion used in the present invention include the following three types.

《調製方法A》
溶剤と微粒子を攪拌混合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。微粒子分散液をドープ液に加えて攪拌する。
<< Preparation Method A >>
After stirring and mixing the solvent and fine particles, dispersion is performed with a disperser. This is a fine particle dispersion. The fine particle dispersion is added to the dope solution and stirred.

《調製方法B》
溶剤と微粒子を攪拌混合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。別に溶剤に少量のセルローストリアセテートを加え、攪拌溶解する。これに前記微粒子分散液を加えて攪拌する。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する。
<< Preparation Method B >>
After stirring and mixing the solvent and fine particles, dispersion is performed with a disperser. This is a fine particle dispersion. Separately, a small amount of cellulose triacetate is added to the solvent and dissolved by stirring. The fine particle dispersion is added to this and stirred. This is a fine particle addition solution. The fine particle additive solution is sufficiently mixed with the dope solution using an in-line mixer.

《調製方法C》
溶剤に少量のセルローストリアセテートを加え、攪拌溶解する。これに微粒子を加えて分散機で分散を行う。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する。
<< Preparation Method C >>
Add a small amount of cellulose triacetate to the solvent and dissolve with stirring. Fine particles are added to this and dispersed by a disperser. This is a fine particle addition solution. The fine particle additive solution is sufficiently mixed with the dope solution using an in-line mixer.

調製方法Aは二酸化珪素微粒子の分散性に優れ、調製方法Cは二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい点で優れている。中でも、上記記載の調製方法Bは二酸化珪素微粒子の分散性と、二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい等、両方に優れている好ましい調製方法である。   Preparation method A is excellent in dispersibility of silicon dioxide fine particles, and preparation method C is excellent in that silicon dioxide fine particles are difficult to re-aggregate. Among them, the preparation method B described above is a preferable preparation method that is excellent in both dispersibility of the silicon dioxide fine particles and difficulty in reaggregation of the silicon dioxide fine particles.

《分散方法》
二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散する時の二酸化珪素の濃度は5質量%〜30質量%が好ましく、10質量%〜25質量%が更に好ましく、15〜20質量%が最も好ましい。分散濃度は高い方が、添加量に対する液濁度は低くなる傾向があり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
《Distribution method》
The concentration of silicon dioxide when the silicon dioxide fine particles are mixed with a solvent and dispersed is preferably 5% by mass to 30% by mass, more preferably 10% by mass to 25% by mass, and most preferably 15% by mass to 20% by mass. A higher dispersion concentration is preferable because liquid turbidity with respect to the added amount tends to be low, and haze and aggregates are improved.

使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。   The solvent used is preferably lower alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, isopropyl alcohol, butyl alcohol and the like. Although it does not specifically limit as solvents other than a lower alcohol, It is preferable to use the solvent used at the time of film forming of a cellulose ester.

セルロースエステルに対する二酸化珪素微粒子の添加量はセルロースエステル100質量部に対して、二酸化珪素微粒子は0.01質量部〜5.0質量部が好ましく、0.05質量部〜1.0質量部が更に好ましく、0.1質量部〜0.5質量部が最も好ましい。添加量は多い方が、動摩擦係数に優れ、添加量が少ない方が、凝集物が少なくなる。   The addition amount of silicon dioxide fine particles relative to cellulose ester is preferably 0.01 parts by mass to 5.0 parts by mass, and more preferably 0.05 parts by mass to 1.0 part by mass with respect to 100 parts by mass of cellulose ester. Preferably, 0.1 mass part-0.5 mass part is the most preferable. The larger the added amount, the better the dynamic friction coefficient, and the smaller the added amount, the less aggregates.

分散機は通常の分散機が使用出来る。分散機は大きく分けてメディア分散機とメディアレス分散機に分けられる。二酸化珪素微粒子の分散にはメディアレス分散機がヘイズが低く好ましい。メディア分散機としてはボールミル、サンドミル、ダイノミルなどが挙げられる。メディアレス分散機としては超音波型、遠心型、高圧型などがあるが、本発明においては高圧分散装置が好ましい。高圧分散装置は、微粒子と溶媒を混合した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断や高圧状態など特殊な条件を作りだす装置である。高圧分散装置で処理する場合、例えば、管径1〜2000μmの細管中で装置内部の最大圧力条件が9.807MPa以上であることが好ましい。更に好ましくは19.613MPa以上である。またその際、最高到達速度が100m/秒以上に達するもの、伝熱速度が420kJ/時間以上に達するものが好ましい。   As the disperser, a normal disperser can be used. Dispersers can be broadly divided into media dispersers and medialess dispersers. For dispersing silicon dioxide fine particles, a medialess disperser is preferred because of its low haze. Examples of the media disperser include a ball mill, a sand mill, and a dyno mill. Examples of the medialess disperser include an ultrasonic type, a centrifugal type, and a high pressure type. In the present invention, a high pressure disperser is preferable. The high pressure dispersion device is a device that creates special conditions such as high shear and high pressure by passing a composition in which fine particles and a solvent are mixed at high speed through a narrow tube. When processing with a high-pressure dispersion apparatus, for example, the maximum pressure condition inside the apparatus is preferably 9.807 MPa or more in a thin tube having a tube diameter of 1 to 2000 μm. More preferably, it is 19.613 MPa or more. Further, at that time, those having a maximum reaching speed of 100 m / second or more and those having a heat transfer speed of 420 kJ / hour or more are preferable.

上記のような高圧分散装置には、Microfluidics Corporation社製超高圧ホモジナイザ(商品名マイクロフルイダイザ)或いはナノマイザ社製ナノマイザがあり、他にもマントンゴーリン型高圧分散装置、例えば、イズミフードマシナリ製ホモジナイザ、三和機械(株)社製UHN−01等が挙げられる。   Examples of the high-pressure dispersion apparatus include an ultra-high pressure homogenizer (trade name: Microfluidizer) manufactured by Microfluidics Corporation or a nanomizer manufactured by Nanomizer, and a Manton Gorin type high-pressure dispersion apparatus such as a homogenizer manufactured by Izumi Food Machinery. And UHN-01 manufactured by Sanwa Machinery Co., Ltd.

また、微粒子を含むドープを流延支持体に直接接するように流延することが、滑り性が高く、ヘイズが低いフィルムが得られるので好ましい。   In addition, casting a dope containing fine particles so as to be in direct contact with the casting support is preferable because a film having high slip properties and low haze can be obtained.

また、流延後に剥離して乾燥されロール状に巻き取られた後、ハードコート層や反射防止層等の機能性薄膜が設けられる。加工若しくは出荷されるまでの間、汚れや静電気によるゴミ付着等から製品を保護するために通常、包装加工がなされる。この包装材料については、上記目的が果たせれば特に限定されないが、フィルムからの残留溶媒の揮発を妨げないものが好ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリエステル、ポリプロピレン、ナイロン、ポリスチレン、紙、各種不織布等が挙げられる。繊維がメッシュクロス状になったものは、より好ましく用いられる。   Moreover, after peeling and drying after casting, and winding up in a roll shape, functional thin films, such as a hard-coat layer and an antireflection layer, are provided. Until processing or shipment, packaging is usually performed in order to protect the product from dirt, static electricity, and the like. The packaging material is not particularly limited as long as the above purpose can be achieved, but a material that does not hinder volatilization of the residual solvent from the film is preferable. Specific examples include polyethylene, polyester, polypropylene, nylon, polystyrene, paper, various non-woven fabrics, and the like. Those in which the fibers are mesh cloth are more preferably used.

(本発明の位相差フィルム及び本発明に用いられる偏光板保護フィルムの製造方法)
次に、本発明の位相差フィルム及び本発明に用いられる偏光板保護フィルムの製造方法について詳細に説明する。
(Production method of retardation film of the present invention and polarizing plate protective film used in the present invention)
Next, the manufacturing method of the retardation film of this invention and the polarizing plate protective film used for this invention is demonstrated in detail.

本発明の位相差フィルム及び本発明に用いられる偏光板保護フィルムの製造は、セルロースエステル及び前記可塑剤などの添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状若しくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸する工程、更に乾燥する工程、得られたフィルムを更に熱処理する工程、冷却後巻き取る工程により行われる。本発明の位相差フィルムは固形分中に好ましくはセルロースエステルを70〜95質量%含有するものである。   Production of the retardation film of the present invention and the polarizing plate protective film used in the present invention is a step of preparing a dope by dissolving an additive such as cellulose ester and the plasticizer in a solvent, and forming the dope into a belt shape or a drum shape. The process of casting on a metal support, the process of drying the cast dope as a web, the process of peeling off from the metal support, the process of stretching, the process of further drying, the process of further heat-treating the resulting film, after cooling It is performed by a winding process. The retardation film of the present invention preferably contains 70 to 95% by mass of cellulose ester in the solid content.

ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減出来て好ましいが、セルロースエステルの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、10〜35質量%が好ましく、更に好ましくは、15〜25質量%である。   The process for preparing the dope will be described. The concentration of cellulose ester in the dope is preferably higher because the drying load after casting on the metal support can be reduced. However, if the concentration of cellulose ester is too high, the load during filtration increases and the filtration accuracy increases. Becomes worse. As a density | concentration which makes these compatible, 10-35 mass% is preferable, More preferably, it is 15-25 mass%.

本発明のドープで用いられる溶剤は、単独で用いても2種以上を併用してもよいが、セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースエステルの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が70〜98質量%であり、貧溶剤が2〜30質量%である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースエステルのアシル基置換度によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いる時には、セルロースエステルの酢酸エステル(アセチル基置換度2.4)、セルロースアセテートプロピオネートでは良溶剤になり、セルロースの酢酸エステル(アセチル基置換度2.8)では貧溶剤となる。   The solvent used in the dope of the present invention may be used alone or in combination of two or more. However, it is preferable from the viewpoint of production efficiency that a good solvent and a poor solvent of cellulose ester are mixed and used. The more solvent is preferable from the viewpoint of solubility of the cellulose ester. The preferable range of the mixing ratio of the good solvent and the poor solvent is 70 to 98% by mass for the good solvent and 2 to 30% by mass for the poor solvent. With a good solvent and a poor solvent, what dissolve | melts the cellulose ester to be used independently is defined as a good solvent, and what poorly swells or does not melt | dissolve is defined as a poor solvent. Therefore, depending on the acyl group substitution degree of the cellulose ester, the good solvent and the poor solvent change. For example, when acetone is used as the solvent, the cellulose ester acetate ester (acetyl group substitution degree 2.4) and cellulose acetate propionate are good. As a solvent, cellulose acetate (acetyl group substitution degree 2.8) is a poor solvent.

本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライドまたは酢酸メチルが挙げられる。   Although the good solvent used for this invention is not specifically limited, Organic halogen compounds, such as a methylene chloride, dioxolanes, acetone, methyl acetate, methyl acetoacetate, etc. are mentioned. Particularly preferred is methylene chloride or methyl acetate.

また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、n−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水が0.01〜2質量%含有していることが好ましい。   Moreover, although the poor solvent used for this invention is not specifically limited, For example, methanol, ethanol, n-butanol, cyclohexane, cyclohexanone, etc. are used preferably. Moreover, it is preferable that 0.01-2 mass% of water contains in dope.

上記記載のドープを調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることが出来る。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱出来る。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースエステルを貧溶剤と混合して湿潤或いは膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。   A general method can be used as a method of dissolving the cellulose ester when preparing the dope described above. When heating and pressurization are combined, it is possible to heat above the boiling point at normal pressure. It is preferable to stir and dissolve while heating at a temperature that is equal to or higher than the boiling point of the solvent at normal pressure and that the solvent does not boil under pressure, in order to prevent the generation of massive undissolved materials called gels and mamacos. Moreover, after mixing a cellulose ester with a poor solvent and making it wet or swell, the method of adding a good solvent and melt | dissolving is also used preferably.

加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。   The pressurization may be performed by a method of injecting an inert gas such as nitrogen gas or a method of increasing the vapor pressure of the solvent by heating. Heating is preferably performed from the outside. For example, a jacket type is preferable because temperature control is easy.

溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースエステルの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は45〜120℃であり、60〜110℃がより好ましく、70℃〜105℃が更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。   The heating temperature with the addition of a solvent is preferably higher from the viewpoint of the solubility of the cellulose ester, but if the heating temperature is too high, the required pressure increases and the productivity deteriorates. A preferable heating temperature is 45 to 120 ° C, more preferably 60 to 110 ° C, and still more preferably 70 ° C to 105 ° C. The pressure is adjusted so that the solvent does not boil at the set temperature.

若しくは冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチルなどの溶媒にセルロースエステルを溶解させることが出来る。   Alternatively, a cooling dissolution method is also preferably used, whereby the cellulose ester can be dissolved in a solvent such as methyl acetate.

次に、このセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生しやすいという問題がある。このため絶対濾過精度0.008mm以下の濾材が好ましく、0.001〜0.008mmの濾材がより好ましく、0.003〜0.006mmの濾材が更に好ましい。   Next, this cellulose ester solution is filtered using a suitable filter medium such as filter paper. As the filter medium, it is preferable that the absolute filtration accuracy is small in order to remove insoluble matters and the like. However, if the absolute filtration accuracy is too small, there is a problem that the filter medium is likely to be clogged. For this reason, a filter medium with an absolute filtration accuracy of 0.008 mm or less is preferable, a filter medium with 0.001 to 0.008 mm is more preferable, and a filter medium with 0.003 to 0.006 mm is still more preferable.

濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することが出来るが、ポリプロピレン、テフロン(登録商標)等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースエステルに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。   There are no particular restrictions on the material of the filter medium, and ordinary filter media can be used. However, plastic filter media such as polypropylene and Teflon (registered trademark), and metal filter media such as stainless steel do not drop off fibers. preferable. It is preferable to remove and reduce impurities, particularly bright spot foreign matter, contained in the raw material cellulose ester by filtration.

輝点異物とは、2枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間にセルロースエステルフィルムを置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点(異物)のことであり、径が0.01mm以上である輝点数が200個/cm2以下であることが好ましい。より好ましくは100個/cm2以下であり、更に好ましくは50個/m2以下であり、更に好ましくは0〜10個/cm2以下である。また、0.01mm以下の輝点も少ない方が好ましい。 A bright spot foreign substance is when two polarizing plates are placed in a crossed Nicol state, a cellulose ester film is placed between them, light is applied from the side of one polarizing plate, and observed from the side of the other polarizing plate. It is a point (foreign matter) where light from the opposite side appears to leak, and the number of bright spots having a diameter of 0.01 mm or more is preferably 200 / cm 2 or less. More preferably 100 / cm 2 or less, more preferably 50 or / m 2 or less, more preferably 0 to 10 / cm 2 or less. Further, it is preferable that the number of bright spots of 0.01 mm or less is small.

ドープの濾過は通常の方法で行うことが出来るが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差(差圧という)の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は45〜120℃であり、45〜70℃がより好ましく、45〜55℃であることが更に好ましい。   The dope can be filtered by an ordinary method, but the method of filtering while heating at a temperature not lower than the boiling point of the solvent at normal pressure and in a range where the solvent does not boil under pressure is the filtration pressure before and after filtration. The increase in the difference (referred to as differential pressure) is small and preferable. A preferred temperature is 45 to 120 ° C, more preferably 45 to 70 ° C, and still more preferably 45 to 55 ° C.

濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は1.6MPa以下であることが好ましく、1.2MPa以下であることがより好ましく、1.0MPa以下であることが更に好ましい。   A smaller filtration pressure is preferred. The filtration pressure is preferably 1.6 MPa or less, more preferably 1.2 MPa or less, and further preferably 1.0 MPa or less.

ここで、ドープの流延について説明する。   Here, the dope casting will be described.

流延(キャスト)工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は1〜4mとすることが出来る。流延工程の金属支持体の表面温度は−50℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速く出来るので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては0〜100℃で適宜決定され、5〜30℃が更に好ましい。或いは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。   The metal support in the casting (casting) step preferably has a mirror-finished surface, and a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting is preferably used as the metal support. The cast width can be 1 to 4 m. The surface temperature of the metal support in the casting step is set to −50 ° C. to a temperature at which the solvent boils and does not foam. A higher temperature is preferable because the web can be dried faster, but if it is too high, the web may foam or flatness may deteriorate. The preferable support temperature is appropriately determined at 0 to 100 ° C, and more preferably 5 to 30 ° C. Alternatively, it is also a preferable method that the web is gelled by cooling and peeled from the drum in a state containing a large amount of residual solvent. The method for controlling the temperature of the metal support is not particularly limited, and there are a method of blowing hot air or cold air, and a method of contacting hot water with the back side of the metal support. It is preferable to use warm water because heat transfer is performed efficiently, so that the time until the temperature of the metal support becomes constant is short. When using warm air, considering the temperature drop of the web due to the latent heat of vaporization of the solvent, while using warm air above the boiling point of the solvent, there may be cases where wind at a temperature higher than the target temperature is used while preventing foaming. . In particular, it is preferable to perform drying efficiently by changing the temperature of the support and the temperature of the drying air during the period from casting to peeling.

セルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は10〜150質量%が好ましく、更に好ましくは20〜40質量%または60〜130質量%であり、特に好ましくは、20〜30質量%または70〜120質量%である。   In order for the cellulose ester film to exhibit good flatness, the residual solvent amount when peeling the web from the metal support is preferably 10 to 150% by mass, more preferably 20 to 40% by mass or 60 to 130% by mass. Especially preferably, it is 20-30 mass% or 70-120 mass%.

本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。   In the present invention, the amount of residual solvent is defined by the following formula.

残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100
尚、Mはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である。
Residual solvent amount (% by mass) = {(MN) / N} × 100
M is the mass of a sample collected during or after the production of the web or film, and N is the mass after heating M at 115 ° C. for 1 hour.

また、セルロースエステルフィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量が0.5質量%以下となるまで乾燥される。   Moreover, in the drying process of the cellulose ester film, the web is peeled off from the metal support, further dried, and dried until the residual solvent amount is 0.5% by mass or less.

フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式(上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式)やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。   In the film drying process, generally, a roll drying method (a method in which a plurality of rolls arranged on the upper and lower sides are alternately passed through and dried) or a tenter method is used while drying the web.

流延支持体から剥離する際に、剥離張力及びその後の搬送張力によって縦方向に延伸することも出来る。例えば剥離張力を210N/m以上で剥離することが好ましく、特に好ましくは220〜300N/mである。   When peeling from the casting support, the film can be stretched in the longitudinal direction by the peeling tension and the subsequent conveying tension. For example, it is preferable to peel at a peeling tension of 210 N / m or more, and particularly preferably 220 to 300 N / m.

本発明に係る位相差フィルムを作製する為の延伸工程(テンター工程ともいう)の一例を、図2を用いて説明する。   An example of a stretching process (also referred to as a tenter process) for producing the retardation film according to the present invention will be described with reference to FIG.

図2において、工程Aでは、図示されていないウェブ搬送工程D0から搬送されてきたウェブを把持する工程であり、次の工程Bにおいて、図1に示すような延伸角度でウェブが幅手方向(ウェブの進行方向と直交する方向)に延伸され、工程Cにおいては、延伸が終了し、ウェブを把持したまま搬送する工程である。   In FIG. 2, step A is a step of gripping the web conveyed from the web conveyance step D0 (not shown). In the next step B, the web is stretched in the width direction (at the stretching angle as shown in FIG. In the process C, the stretching is completed and the web is transported while being held.

流延支持体からウェブを剥離した後から工程B開始前及び/または工程Cの直後に、ウェブ幅方向の端部を切り落とすスリッターを設けることが好ましい。特に、A工程開始直前にウェブ端部を切り落とすスリッターを設けることが好ましい。幅手方向に同一の延伸を行った際、特に工程B開始前にウェブ端部を切除した場合とウェブ端部を切除しない条件とを比較すると、前者がより配向角の分布を改良する効果が得られる。   It is preferable to provide a slitter that cuts off the end in the web width direction after the web is peeled from the casting support and before the start of step B and / or immediately after step C. In particular, it is preferable to provide a slitter that cuts off the end of the web immediately before the start of step A. When the same stretching is performed in the width direction, particularly when the web edge is cut before the start of the process B and the condition in which the web edge is not cut is compared, the former has an effect of improving the distribution of the orientation angle. can get.

これは、残留溶媒量の比較的多い剥離から幅手延伸工程Bまでの間での長手方向の意図しない延伸を抑制した効果であると考えられる。   This is considered to be an effect of suppressing unintended stretching in the longitudinal direction from the peeling with a relatively large amount of residual solvent to the width stretching step B.

テンター工程において、配向角分布を改善するため意図的に異なる温度を持つ区画を作ることも好ましい。また、異なる温度区画の間にそれぞれの区画が干渉を起こさないように、ニュートラルゾーンを設けることも好ましい。   In the tenter process, it is also preferable to intentionally create compartments with different temperatures in order to improve the orientation angle distribution. It is also preferable to provide a neutral zone between different temperature zones so that the zones do not interfere with each other.

尚、延伸操作は多段階に分割して実施してもよく、流延方向、幅手方向に二軸延伸を実施することが好ましい。また、二軸延伸を行う場合にも同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。   The stretching operation may be performed in multiple stages, and it is preferable to perform biaxial stretching in the casting direction and the width direction. Also, when biaxial stretching is performed, simultaneous biaxial stretching may be performed or may be performed stepwise. In this case, stepwise means that, for example, stretching in different stretching directions can be sequentially performed, stretching in the same direction is divided into multiple stages, and stretching in different directions is added to any one of the stages. Is also possible.

金属支持体より剥離したウェブを乾燥させながら搬送し、更にウェブの両端をピン或いはクリップ等で把持するテンター方式で幅方向に延伸を行うことが本発明の効果を得るために特に好ましく、これによって所定の位相差を付与することが出来る。この時幅方向のみに延伸してもよいし、同時2軸延伸することも好ましい。好ましい延伸倍率は1.05〜2倍が好ましく、好ましくは1.15〜1.5倍である。同時2軸延伸の際に縦方向に収縮させてもよく、0.8〜0.99、好ましくは0.9〜0.99となるように収縮させてもよい。好ましくは、横方向延伸及び縦方向の延伸若しくは収縮により面積が1.12倍〜1.44倍となっていることが好ましく、1.15倍〜1.32倍となっていることが好ましい。これは縦方向の延伸倍率×横方向の延伸倍率で求めることが出来る。   In order to obtain the effect of the present invention, it is particularly preferable that the web peeled from the metal support is conveyed while being dried, and further stretched in the width direction by a tenter method in which both ends of the web are gripped by pins or clips. A predetermined phase difference can be given. At this time, it may be stretched only in the width direction, or simultaneous biaxial stretching is also preferred. The preferred draw ratio is preferably 1.05 to 2 times, and preferably 1.15 to 1.5 times. In the case of simultaneous biaxial stretching, the film may be contracted in the longitudinal direction, or may be contracted so as to be 0.8 to 0.99, preferably 0.9 to 0.99. Preferably, the area is preferably 1.12 times to 1.44 times and more preferably 1.15 times to 1.32 times due to transverse stretching and longitudinal stretching or shrinkage. This can be determined by the draw ratio in the longitudinal direction × the draw ratio in the transverse direction.

また、本発明における「延伸方向」とは、延伸操作を行う場合の直接的に延伸応力を加える方向という意味で使用する場合が通常であるが、多段階に二軸延伸される場合に、最終的に延伸倍率の大きくなった方(即ち、通常遅相軸となる方向)の意味で使用されることもある。   Further, the “stretch direction” in the present invention is usually used to mean a direction in which a stretching stress is directly applied when performing a stretching operation, but in the case of being biaxially stretched in multiple stages, In some cases, it is used in the sense of the one having a higher draw ratio (that is, the direction usually serving as the slow axis).

ウェブを幅手方向に延伸する場合には、ウェブの幅手方向で光学遅相軸の分布(以下、配向角分布)が悪くなることはよく知られている。RtとRoの値を一定比率とし、かつ、配向角分布を良好な状態で幅手延伸を行うため、工程A、B、Cで好ましいウェブ温度の相対関係が存在する。工程A、B、C終点でのウェブ温度をそれぞれTa℃、Tb℃、Tc℃とすると、Ta≦Tb−10であることが好ましい。また、Tc≦Tbであることが好ましい。Ta≦Tb−10かつ、Tc≦Tbであることが更に好ましい。   When the web is stretched in the width direction, it is well known that the optical slow axis distribution (hereinafter, orientation angle distribution) deteriorates in the width direction of the web. In order to perform widthwise stretching with the values of Rt and Ro being a constant ratio and with a good orientation angle distribution, there is a preferred web temperature relative relationship in steps A, B, and C. When the web temperatures at the end points of Steps A, B, and C are Ta ° C., Tb ° C., and Tc ° C., respectively, it is preferable that Ta ≦ Tb−10. Moreover, it is preferable that Tc ≦ Tb. More preferably, Ta ≦ Tb−10 and Tc ≦ Tb.

工程Bでのウェブ昇温速度は、配向角分布を良好にするために、0.5〜10℃/秒の範囲が好ましい。   In order to improve the orientation angle distribution, the web heating rate in step B is preferably in the range of 0.5 to 10 ° C./second.

工程Bでの延伸時間は、短時間である方が好ましい。但し、ウェブの均一性の観点から、最低限必要な延伸時間の範囲が規定される。具体的には1〜10秒の範囲であることが好ましく、4〜10秒がより好ましい。また、工程Bの温度は40〜180℃、好ましくは100〜160℃である。   The stretching time in step B is preferably a short time. However, the minimum required stretching time range is defined from the viewpoint of web uniformity. Specifically, the range is preferably 1 to 10 seconds, and more preferably 4 to 10 seconds. Moreover, the temperature of the process B is 40-180 degreeC, Preferably it is 100-160 degreeC.

上記テンター工程において、熱伝達係数は一定でもよいし、変化させてもよい。熱伝達係数としては、41.9〜419×103J/m2hrの範囲の熱伝達係数を持つことが好ましい。更に好ましくは、41.9〜209.5×103J/m2hrの範囲であり、41.9〜126×103J/m2hrの範囲が最も好ましい。 In the tenter process, the heat transfer coefficient may be constant or changed. The heat transfer coefficient preferably has a heat transfer coefficient in the range of 41.9 to 419 × 10 3 J / m 2 hr. More preferably, in the range of 41.9~209.5 × 10 3 J / m 2 hr, and most preferably a range of 41.9~126 × 10 3 J / m 2 hr.

上記工程Bでの幅手方向への延伸速度は、一定で行ってもよいし、変化させてもよい。延伸速度としては、50〜500%/minが好ましく、更に好ましくは100〜400%/min、200〜300%/minが最も好ましい。   The stretching speed in the width direction in step B may be constant or may be changed. The stretching speed is preferably 50 to 500% / min, more preferably 100 to 400% / min, and most preferably 200 to 300% / min.

テンター工程において、雰囲気の幅手方向の温度分布が少ないことが、ウェブの均一性を高める観点から好ましく、テンター工程での幅手方向の温度分布は、±5℃以内が好ましく、±2℃以内がより好ましく、±1℃以内が最も好ましい。上記温度分布を少なくすることにより、ウェブの幅手での温度分布も小さくなることが期待出来る。   In the tenter process, it is preferable that the temperature distribution in the width direction of the atmosphere is small from the viewpoint of improving the uniformity of the web. The temperature distribution in the width direction in the tenter process is preferably within ± 5 ° C, and within ± 2 ° C Is more preferable, and within ± 1 ° C. is most preferable. By reducing the temperature distribution, it can be expected that the temperature distribution at the width of the web is also reduced.

工程Cに於いて、幅方向に緩和することが好ましい。具体的には、前工程の延伸後の最終的なウェブ幅に対して95〜99.5%の範囲になるようにウェブ幅を調整することが好ましい。   In step C, it is preferable to relax in the width direction. Specifically, it is preferable to adjust the web width so that the final web width after stretching in the previous step is in the range of 95 to 99.5%.

テンター工程で処理した後、更に後乾燥工程(以下、工程D1)を設けるのが好ましい。50〜160℃で行うのが好ましい。更に好ましくは、80〜140℃の範囲であり、最も好ましくは110〜130℃の範囲である。   After the treatment in the tenter process, it is preferable to further provide a post-drying process (hereinafter referred to as process D1). It is preferable to carry out at 50-160 degreeC. More preferably, it is the range of 80-140 degreeC, Most preferably, it is the range of 110-130 degreeC.

工程D1で、ウェブの幅方向の雰囲気温度分布が少ないことは、ウェブの均一性を高める観点から好ましい。±5℃以内が好ましく、±2℃以内がより好ましく、±1℃以内が最も好ましい。   In step D1, it is preferable that the atmospheric temperature distribution in the width direction of the web is small from the viewpoint of improving the uniformity of the web. Within ± 5 ° C is preferable, within ± 2 ° C is more preferable, and within ± 1 ° C is most preferable.

工程D1でのウェブ搬送張力は、ドープの物性、剥離時及び工程D0での残留溶媒量、工程D1での温度などに影響を受けるが、120〜200N/mが好ましく、140〜200N/mが更に好ましい。140〜160N/mが最も好ましい。   The web conveyance tension in the step D1 is affected by the physical properties of the dope, at the time of peeling and the residual solvent amount in the step D0, the temperature in the step D1, etc., but is preferably 120 to 200 N / m, preferably 140 to 200 N / m. Further preferred. 140 to 160 N / m is most preferable.

工程D1での搬送方向へウェブの伸びを防止する目的で、テンションカットロールを設けることが好ましい。   It is preferable to provide a tension cut roll for the purpose of preventing the web from stretching in the transport direction in step D1.

ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことが出来るが、簡便さの点で熱風で行うことが好ましい。   The means for drying the web is not particularly limited, and can be generally performed with hot air, infrared rays, a heating roll, microwave, or the like, but is preferably performed with hot air in terms of simplicity.

ウェブの乾燥工程における乾燥温度は30〜160℃で段階的に高くしていくことが好ましい。   The drying temperature in the web drying step is preferably increased stepwise from 30 to 160 ° C.

本発明の位相差フィルムを作製するためには、乾燥後の熱処理工程にてフィルムに0.5kPa以上10kPa以下の圧力を厚さ方向に付与することが好ましく、例えばニップロールにより圧力を均一に加えることが好ましい。厚さ方向に圧力を付与する際は充分に乾燥が終了していることが好ましく、その際に0.5kPa以上10kPa以下の圧力をフィルム両面から加えることにより、位相差フィルムの自由体積や全自由体積パラメータを制御することが出来る。具体的には平行な二本のニップロールでフィルムに圧力をかける方法である。またカレンダーロールのような方法によってもよい。加圧する際の温度は105〜155℃であることが好ましい。   In order to produce the retardation film of the present invention, it is preferable to apply a pressure of 0.5 kPa or more and 10 kPa or less to the film in the thickness direction in the heat treatment step after drying. For example, the pressure is uniformly applied by a nip roll. Is preferred. When the pressure is applied in the thickness direction, it is preferable that the drying is sufficiently completed. At that time, by applying a pressure of 0.5 kPa to 10 kPa from both sides of the film, the free volume and total freedom of the retardation film are applied. Volume parameters can be controlled. Specifically, the pressure is applied to the film with two parallel nip rolls. A method such as a calendar roll may be used. It is preferable that the temperature at the time of pressurization is 105-155 degreeC.

所定の熱処理の後、巻き取り前にスリッターを設けて端部を切り落とすことが良好な巻姿を得るため好ましい。更に、幅手両端部にはナーリング加工をすることが好ましい。   After the predetermined heat treatment, it is preferable to provide a slitter and cut off the end portion before winding to obtain a good winding shape. Furthermore, it is preferable to knurling both ends of the width.

ナーリング加工は、加熱されたエンボスロールを押し当てることにより形成することが出来る。エンボスロールには細かな凹凸が形成されており、これを押し当てることでフィルムに凹凸を形成し、端部を嵩高くすることが出来る。   The knurling process can be formed by pressing a heated embossing roll. Fine embossing is formed on the embossing roll. By pressing this embossing roll, unevenness can be formed on the film and the end can be made bulky.

本発明の位相差フィルム及び本発明に用いられる偏光板保護フィルムの幅手両端部のナーリングの高さは4〜20μm、幅5〜20mmが好ましい。   The height of the knurling at both lateral ends of the retardation film of the present invention and the polarizing plate protective film used in the present invention is preferably 4 to 20 μm and a width of 5 to 20 mm.

また、本発明においては、上記のナーリング加工は、フィルムの製膜工程において乾燥終了後、巻き取りの前に設けることが好ましい。   In the present invention, the knurling process is preferably provided after the drying in the film forming process and before winding.

また、共流延法によって多層構成とした位相差フィルムも好ましく用いることが出来る。位相差フィルムが多層構成の場合でも可塑剤を含有する層を有しており、それがコア層、スキン層、若しくはその両方であってもよい。   A retardation film having a multilayer structure by a co-casting method can also be preferably used. Even when the retardation film has a multilayer structure, it has a layer containing a plasticizer, which may be a core layer, a skin layer, or both.

本発明に係る位相差フィルムの表面の中心線平均粗さ(Ra)は0.001〜1μmであることが好ましい。   The center line average roughness (Ra) of the surface of the retardation film according to the present invention is preferably 0.001 to 1 μm.

本発明に係る位相差フィルムフィルムの面内方向における下記式で定義されるリターデーションRoは30〜110nmであり、50〜100nmであることが更に好ましい。また、厚み方向のリターデーションRtは70〜300nmであり、100〜250nmであることが更に好ましい。   The retardation Ro defined by the following formula in the in-plane direction of the retardation film according to the present invention is 30 to 110 nm, and more preferably 50 to 100 nm. The retardation Rt in the thickness direction is 70 to 300 nm, and more preferably 100 to 250 nm.

Ro、Rt或いは位相差フィルムの幅手方向と遅相軸とのなす角θ0(°)は自動複屈折率計を用いて測定することが出来る。自動複屈折率計KOBRA−21ADH(王子計測機器(株)製)を用いて、23℃、55%RHの環境下で、セルロースエステルフィルムの590nmにおける複屈折率測定を行い、屈折率nx、ny、nzを求め、下記式に従ってRo、Rtを算出した。   The angle θ0 (°) formed by Ro, Rt or the width direction of the retardation film and the slow axis can be measured using an automatic birefringence meter. Using an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments), the birefringence measurement at 590 nm of the cellulose ester film is performed in an environment of 23 ° C. and 55% RH, and the refractive indexes nx and ny , Nz, and Ro and Rt were calculated according to the following formula.

Ro=(nx−ny)×d
Rt={(nx+ny)/2−nz}×d
(式中、nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、nyはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、nzはフィルムの厚み方向の屈折率であり、dはフィルムの厚さ(nm)である。)
本発明に用いられる偏光板保護フィルムのリターデーションRoは20nm以下であることが好ましく、リターデーションRtは50nm以下であることが好ましい。
Ro = (nx−ny) × d
Rt = {(nx + ny) / 2−nz} × d
(Where nx is the refractive index in the slow axis direction in the film plane, ny is the refractive index in the fast axis direction in the film plane, nz is the refractive index in the thickness direction of the film, and d is (The thickness of the film (nm).)
The retardation Ro of the polarizing plate protective film used in the present invention is preferably 20 nm or less, and the retardation Rt is preferably 50 nm or less.

本発明に係る位相差フィルムは、その厚さが20〜60μmである。一般に位相差フィルムの膜厚は厚い方が位相差を大きくし易いが、本発明では偏光板保護フィルムに位相差機能を持たせ、更に薄膜の位相差フィルムを用いることで、偏光板全体の膜厚を低減し偏光板作製における乾燥、経時保存の影響を低減出来、偏光板の歪みを大きく低減出来たのである。   The retardation film according to the present invention has a thickness of 20 to 60 μm. In general, the thicker the retardation film, the easier it is to increase the retardation. However, in the present invention, the polarizing plate protective film is provided with a retardation function, and by using a thin retardation film, the entire polarizing film is formed. By reducing the thickness, the influence of drying and storage over time in the production of the polarizing plate could be reduced, and the distortion of the polarizing plate could be greatly reduced.

本発明に用いられる偏光板保護フィルムの厚さには特に制限はないが、本発明の偏光板の厚みが70〜140μmの範囲であるため、自ずと薄膜フィルムであることが好ましい。好ましくは位相差フィルムと同様に20〜60μmの範囲である。   Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of the polarizing plate protective film used for this invention, Since the thickness of the polarizing plate of this invention is the range of 70-140 micrometers, it is naturally preferable that it is a thin film. Preferably it is the range of 20-60 micrometers like a phase difference film.

透湿性は、JIS Z 0208(25℃、90%RH)に準じて測定した値として、200g/m2・24時間以下であることが好ましく、更に好ましくは、10〜180g/m2・24時間以下であり、特に好ましくは、160g/m2・24時間以下である。特には、膜厚20μm〜60μmで透湿性が上記範囲内であることが好ましい。 Moisture permeability, JIS Z 0208 (25 ℃, RH 90%) as a value measured according to is preferably not more than 200g / m 2 · 24 hours, more preferably, 10~180g / m 2 · 24 hours Or less, particularly preferably 160 g / m 2 · 24 hours or less. In particular, it is preferable that the film thickness is 20 μm to 60 μm and the moisture permeability is within the above range.

本発明の位相差フィルムは、その一方の面とそれと反対側の面(フィルム表面、裏面ともいう)との屈折率差が、5×10-4以上5×10-3以下の範囲であることが好ましい。これは薄膜偏光板にすると、偏光板のコシが弱くなり液晶セルに貼合する際に気泡の発生や位置ズレが発生し易くなる。その為、位相差フィルムに意図的なカールをつけて偏光板にコシを与えることにより、液晶セルに貼合する際の上記故障を低減することが出来る。 The retardation film of the present invention has a refractive index difference between one surface and the opposite surface (also referred to as film surface or back surface) of 5 × 10 −4 or more and 5 × 10 −3 or less. Is preferred. When this is a thin film polarizing plate, the stiffness of the polarizing plate becomes weak, and bubbles are likely to be generated or misaligned when bonded to a liquid crystal cell. Therefore, the above-mentioned failure at the time of pasting to a liquid crystal cell can be reduced by giving an intentional curl to a retardation film and giving a stiffness to a polarizing plate.

本発明の位相差フィルム及び本発明に用いられる偏光板保護フィルムは、具体的には、100m〜5000m程度のものを示し、通常、ロール状で提供される形態のものである。また、本発明の位相差フィルムの幅は1m以上であることが好ましく、更に好ましくは1.4m以上であり、特に1.4〜4mであることが好ましい。   Specifically, the retardation film of the present invention and the polarizing plate protective film used in the present invention are about 100 m to 5000 m, and are usually provided in a roll shape. In addition, the width of the retardation film of the present invention is preferably 1 m or more, more preferably 1.4 m or more, and particularly preferably 1.4 to 4 m.

また、本発明に用いられる偏光板保護フィルムは視認側に好ましく配置されるフィルムであり、少なくとも一方の面に下記機能性層を設けることが好ましい。   Moreover, the polarizing plate protective film used for this invention is a film arrange | positioned preferably at the visual recognition side, and it is preferable to provide the following functional layer in at least one surface.

(ハードコート層)
本発明に用いられる前記偏光板保護フィルムに機能性層としてハードコート層が設けられていることが好ましい。
(Hard coat layer)
The polarizing plate protective film used in the present invention is preferably provided with a hard coat layer as a functional layer.

本発明に用いられるハードコート層は、少なくとも偏光板保護フィルムの一方の面に設けられる。本発明の偏光板保護フィルムは、該ハードコート層上に、反射防止層(高屈折率層、低屈折率層等)が設けられ反射防止フィルムを構成することが好ましい。   The hard coat layer used in the present invention is provided on at least one surface of the polarizing plate protective film. The polarizing plate protective film of the present invention preferably comprises an antireflection film in which an antireflection layer (high refractive index layer, low refractive index layer, etc.) is provided on the hard coat layer.

ハードコート層としては、活性線硬化樹脂層が好ましく用いられる。   As the hard coat layer, an actinic radiation curable resin layer is preferably used.

活性線硬化樹脂層とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。活性線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させてハードコート層が形成される。活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が好ましい。   The actinic radiation curable resin layer refers to a layer mainly composed of a resin that cures through a crosslinking reaction or the like by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays or electron beams. As the actinic radiation curable resin, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used, and a hard coat layer is formed by curing by irradiation with actinic radiation such as ultraviolet rays or electron beams. Typical examples of the actinic radiation curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, and a resin curable by ultraviolet irradiation is preferable.

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。   As the ultraviolet curable resin, for example, an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, or an ultraviolet curable epoxy resin is preferable. Used.

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る。例えば、特開昭59−151110号に記載のものを用いることが出来る。   UV curable acrylic urethane resins generally include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylates) in products obtained by reacting polyester polyols with isocyanate monomers or prepolymers. It can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, those described in JP-A-59-151110 can be used.

例えば、ユニディック17−806(大日本インキ(株)製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン(株)製)1部との混合物等が好ましく用いられる。   For example, a mixture of 100 parts Unidic 17-806 (Dainippon Ink Co., Ltd.) and 1 part Coronate L (Nihon Polyurethane Co., Ltd.) is preferably used.

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることが出来、特開昭59−151112号に記載のものを用いることが出来る。   Examples of UV curable polyester acrylate resins include those that are easily formed when 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxy acrylate monomers are generally reacted with polyester polyols. JP-A-59-151112 Can be used.

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることが出来、特開平1−105738号に記載のものを用いることが出来る。   Specific examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin include an epoxy acrylate as an oligomer, a reactive diluent and a photoreaction initiator added thereto, and reacted to form an oligomer. The thing as described in 105738 can be used.

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。   Specific examples of UV curable polyol acrylate resins include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, etc. I can list them.

これら紫外線硬化性樹脂の光反応開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。光増感剤と共に使用してもよい。上記光反応開始剤も光増感剤として使用出来る。また、エポキシアクリレート系の光反応開始剤の使用の際、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。紫外線硬化樹脂組成物に用いられる光反応開始剤また光増感剤は該組成物100質量部に対して0.1〜15質量部であり、好ましくは1〜10質量部である。   Specific examples of the photoreaction initiator of these ultraviolet curable resins include benzoin and derivatives thereof, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and the like. You may use with a photosensitizer. The photoinitiator can also be used as a photosensitizer. In addition, when using an epoxy acrylate photoinitiator, a sensitizer such as n-butylamine, triethylamine, or tri-n-butylphosphine can be used. The photoreaction initiator or photosensitizer used in the ultraviolet curable resin composition is 0.1 to 15 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the composition.

樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることが出来る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、1,4−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることが出来る。   Examples of the resin monomer include general monomers such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, vinyl acetate, and styrene as monomers having one unsaturated double bond. In addition, monomers having two or more unsaturated double bonds include ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, divinylbenzene, 1,4-cyclohexane diacrylate, 1,4-cyclohexyldimethyl adiacrylate, and the above trimethylolpropane. Examples thereof include triacrylate and pentaerythritol tetraacryl ester.

本発明において使用し得る紫外線硬化樹脂の市販品としては、アデカオプトマーKR・BYシリーズ:KR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B(旭電化(株)製);コーエイハードA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(広栄化学(株)製);セイカビームPHC2210(S)、PHC X−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(大日精化工業(株)製);KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(ダイセル・ユーシービー(株)製);RC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(大日本インキ化学工業(株)製);オーレックスNo.340クリヤ(中国塗料(株)製);サンラッドH−601、RC−750、RC−700、RC−600、RC−500、RC−611、RC−612(三洋化成工業(株)製);SP−1509、SP−1507(昭和高分子(株)製);RCC−15C(グレース・ジャパン(株)製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(東亞合成(株)製)等を適宜選択して利用出来る。   Commercially available UV curable resins that can be used in the present invention include ADEKA OPTMER KR / BY series: KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B (Asahi Denka ( Co., Ltd.); Koeihard A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T-102, D-102, NS -101, FT-102Q8, MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (manufactured by Guangei Chemical Co., Ltd.); Seica Beam PHC2210 (S), PHC X-9 (K-3), PHC2213, DP -10, DP-20, DP-30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, SCR900 (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) KRM7033, KRM7039, KRM7130, KRM7131, UVECRYL29201, UVECRYL29202 (manufactured by Daicel UCB); RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC-5031, RC-5100, RC-5102, RC-5120 RC-5122, RC-5152, RC-5171, RC-5180, RC-5181 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.); 340 clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.); Sunrad H-601, RC-750, RC-700, RC-600, RC-500, RC-611, RC-612 (Sanyo Chemical Industries, Ltd.); SP -1509, SP-1507 (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.); RCC-15C (manufactured by Grace Japan Co., Ltd.), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), etc. Can be selected as appropriate.

また、具体的化合物例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。   Specific examples of compounds include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, and the like. .

これらの活性線硬化樹脂層はグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法で塗設することが出来る。   These actinic ray curable resin layers can be coated by a known method such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, or an ink jet method.

紫外線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化させ、硬化皮膜層を形成する為の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。これらの光源は空冷若しくは水冷方式のものが好ましく用いられる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は好ましくは、5〜150mJ/cm2であり、特に好ましくは20〜100mJ/cm2である。 As a light source for curing an ultraviolet curable resin by a photocuring reaction to form a cured coating layer, any light source that generates ultraviolet rays can be used without any limitation. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. These light sources are preferably air-cooled or water-cooled. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation amount of active rays is preferably 5 to 150 mJ / cm 2 , particularly preferably 20 to 100 mJ / cm 2 .

また照射部には窒素パージにより酸素濃度を0.01%〜2%に低減することが好ましい。   Further, it is preferable to reduce the oxygen concentration to 0.01% to 2% by nitrogen purge in the irradiated portion.

また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は30〜300N/mが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、若しくは2軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性が優れたフィルムを得ることが出来る。   Moreover, when irradiating actinic radiation, it is preferable to carry out while applying tension | tensile_strength in the conveyance direction of a film, More preferably, it is performing applying tension | tensile_strength also in the width direction. The tension to be applied is preferably 30 to 300 N / m. The method for applying the tension is not particularly limited, and the tension may be applied in the conveying direction on the back roll, or the tension may be applied in the width direction or the biaxial direction by a tenter. This makes it possible to obtain a film having further excellent flatness.

紫外線硬化樹脂層組成物塗布液の有機溶媒としては、例えば、炭化水素類(トルエン、キシレン、)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル)、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中から適宜選択し、或いはこれらを混合し利用出来る。プロピレングリコールモノアルキルエーテル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)等を5質量%以上、より好ましくは5〜80質量%以上含有する上記有機溶媒を用いるのが好ましい。   Examples of the organic solvent for the UV curable resin layer composition coating solution include hydrocarbons (toluene, xylene), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl). Ketone), esters (methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate), glycol ethers, other organic solvents, or a mixture thereof. Propylene glycol monoalkyl ether (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) or propylene glycol monoalkyl ether acetate ester (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) is 5% by mass or more, more preferably 5 to 80%. It is preferable to use the organic solvent containing at least mass%.

また、紫外線硬化樹脂層組成物塗布液には、特にシリコン化合物を添加することが好ましい。例えば、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが好ましく添加される。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば、1000〜100000、好ましくは、2000〜50000が適当であり、数平均分子量が1000未満では、塗膜の乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が100000を越えると、塗膜表面にブリードアウトしにくくなる傾向にある。   In addition, it is particularly preferable to add a silicon compound to the ultraviolet curable resin layer composition coating solution. For example, polyether-modified silicone oil is preferably added. The number average molecular weight of the polyether-modified silicone oil is, for example, 1000 to 100000, preferably 2000 to 50000. If the number average molecular weight is less than 1000, the drying property of the coating film decreases, and conversely, the number average When the molecular weight exceeds 100,000, it tends to be difficult to bleed out to the coating surface.

シリコン化合物の市販品としては、DKQ8−779(ダウコーニング社製商品名)、SF3771、SF8410、SF8411、SF8419、SF8421、SF8428、SH200、SH510、SH1107、SH3749、SH3771、BX16−034、SH3746、SH3749、SH8400、SH3771M、SH3772M、SH3773M、SH3775M、BY−16−837、BY−16−839、BY−16−869、BY−16−870、BY−16−004、BY−16−891、BY−16−872、BY−16−874、BY22−008M、BY22−012M、FS−1265(以上、東レ・ダウコーニングシリコーン社製商品名)、KF−101、KF−100T、KF351、KF352、KF353、KF354、KF355、KF615、KF618、KF945、KF6004、シリコーンX−22−945、X22−160AS(以上、信越化学工業社製商品名)、XF3940、XF3949(以上、東芝シリコーン社製商品名)、ディスパロンLS−009(楠本化成社製)、グラノール410(共栄社油脂化学工業(株)製)、TSF4440、TSF4441、TSF4445、TSF4446、TSF4452、TSF4460(GE東芝シリコーン製)、BYK−306、BYK−330、BYK−307、BYK−341、BYK−344、BYK−361(ビックケミ−ジャパン社製)日本ユニカー(株)製のLシリーズ(例えばL7001、L−7006、L−7604、L−9000)、Yシリーズ、FZシリーズ(FZ−2203、FZ−2206、FZ−2207)等が挙げられ、好ましく用いられる。   Commercially available silicon compounds include DKQ8-779 (trade name, manufactured by Dow Corning), SF3771, SF8410, SF8411, SF8419, SF8421, SF8428, SH200, SH510, SH1107, SH3749, SH3771, BX16-034, SH3746, SH3749, SH8400, SH3771M, SH3772M, SH3773M, SH3775M, BY-16-837, BY-16-839, BY-16-869, BY-16-870, BY-16-004, BY-16-891, BY-16 872, BY-16-874, BY22-008M, BY22-012M, FS-1265 (above, product names manufactured by Toray Dow Corning Silicone), KF-101, KF-100T, KF351, KF3 2, KF353, KF354, KF355, KF615, KF618, KF945, KF6004, Silicone X-22-945, X22-160AS (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), XF3940, XF3949 (trade name, manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) ), Disparon LS-009 (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.), Granol 410 (manufactured by Kyoeisha Yushi Chemical Co., Ltd.), TSF4440, TSF4441, TSF4445, TSF4446, TSF4452, TSF4460 (manufactured by GE Toshiba Silicone), BYK-306, BYK- 330, BYK-307, BYK-341, BYK-344, BYK-361 (manufactured by BYK-Japan) L series (for example, L7001, L-7006, L-7604, L-9000) manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd. Y Over's, FZ series (FZ-2203, FZ-2206, FZ-2207) and the like, it is preferably used.

これらの成分は基材や下層への塗布性を高める。積層体最表面層に添加した場合には、塗膜の撥水、撥油性、防汚性を高めるばかりでなく、表面の耐擦り傷性にも効果を発揮する。これらの成分は、塗布液中の固形分成分に対し、0.01〜3質量%の範囲で添加することが好ましい。   These components enhance the applicability to the substrate and the lower layer. When added to the outermost surface layer of the laminate, it not only improves the water repellency, oil repellency and antifouling properties of the coating film, but also exhibits an effect on the scratch resistance of the surface. These components are preferably added in a range of 0.01 to 3% by mass with respect to the solid component in the coating solution.

紫外線硬化性樹脂組成物塗布液の塗布方法としては、前述のものを用いることが出来る。塗布量はウェット膜厚として0.1〜30μmが適当で、好ましくは、0.5〜15μmである。また、ドライ膜厚としては0.1〜20μm、好ましくは1〜10μmである。   As a coating method of the ultraviolet curable resin composition coating solution, the above-described methods can be used. The coating amount is suitably 0.1 to 30 μm, preferably 0.5 to 15 μm, as the wet film thickness. The dry film thickness is 0.1 to 20 μm, preferably 1 to 10 μm.

紫外線硬化性樹脂組成物は塗布乾燥中または後に、紫外線を照射するのがよく、前記の5〜150mJ/cm2という活性線の照射量を得る為の照射時間としては、0.1秒〜5分程度がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率または作業効率の観点から0.1〜10秒がより好ましい。 The ultraviolet curable resin composition is preferably irradiated with ultraviolet rays during or after coating and drying, and the irradiation time for obtaining the active ray irradiation amount of 5 to 150 mJ / cm 2 is from 0.1 seconds to 5 seconds. Minutes are good, and 0.1 to 10 seconds is more preferable from the viewpoint of curing efficiency or work efficiency of the ultraviolet curable resin.

また、これら活性線照射部の照度は50〜150mW/cm2であることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the illuminance of these active ray irradiation parts is 50-150 mW / cm < 2 >.

こうして得た硬化樹脂層に、ブロッキングを防止する為、また対擦り傷性等を高める為、或いは防眩性や光拡散性を持たせる為また屈折率を調整する為に無機化合物或いは有機化合物の微粒子を加えることも出来る。   In order to prevent blocking, to improve scratch resistance, to give antiglare property or light diffusibility, and to adjust the refractive index in the cured resin layer thus obtained, fine particles of an inorganic compound or an organic compound Can also be added.

本発明に用いられるハードコート層に微粒子を添加することは好ましく、使用される無機微粒子としては、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることが出来る。特に、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウムなどが好ましく用いられる。   It is preferable to add fine particles to the hard coat layer used in the present invention, and as the inorganic fine particles used, silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, Examples include calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. In particular, silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide and the like are preferably used.

また有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、或いはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等紫外線硬化性樹脂組成物に加えることが出来る。特に好ましくは、架橋ポリスチレン粒子(例えば、綜研化学製SX−130H、SX−200H、SX−350H)、ポリメチルメタクリレート系粒子(例えば、綜研化学製MX150、MX300)が挙げられる。   The organic fine particles include polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin powder. Polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, or polyfluoroethylene resin powder can be added to the ultraviolet curable resin composition. Particularly preferred are cross-linked polystyrene particles (for example, SX-130H, SX-200H, SX-350H, manufactured by Soken Chemical) and polymethyl methacrylate-based particles (for example, MX150, MX300, manufactured by Soken Chemical).

これらの微粒子粉末の平均粒径としては、0.005〜5μmが好ましく0.01〜1μmであることが特に好ましい。紫外線硬化樹脂組成物と微粒子粉末との割合は、樹脂組成物100質量部に対して、0.1〜30質量部となるように配合することが望ましい。   The average particle diameter of these fine particle powders is preferably 0.005 to 5 μm, and particularly preferably 0.01 to 1 μm. As for the ratio of a ultraviolet curable resin composition and fine particle powder, it is desirable to mix | blend so that it may be 0.1-30 mass parts with respect to 100 mass parts of resin compositions.

紫外線硬化樹脂層は、JIS B 0601で規定される中心線平均粗さ(Ra)が1〜50nmのクリアハードコート層であるか、若しくはRaが0.1〜1μm程度の防眩層であることが好ましい。特に防眩層の場合は、後述する反射防止層の塗設により防眩性反射防止フィルムが形成され、該フィルムを組み込むことにより液晶表示装置の視認性を一層向上することが可能となる。中心線平均粗さ(Ra)は光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばWYKO社製RST/PLUSを用いて測定することが出来る。   The ultraviolet curable resin layer is a clear hard coat layer having a center line average roughness (Ra) defined by JIS B 0601 of 1 to 50 nm or an antiglare layer having an Ra of about 0.1 to 1 μm. Is preferred. In particular, in the case of an antiglare layer, an antiglare antireflection film is formed by coating an antireflection layer described later, and the visibility of the liquid crystal display device can be further improved by incorporating the film. The center line average roughness (Ra) is preferably measured with an optical interference type surface roughness measuring instrument, and can be measured using, for example, RST / PLUS manufactured by WYKO.

また、本発明に用いられるハードコート層には帯電防止剤を含有させることも好ましく、帯電防止剤としては、例えば、Sn、Ti、In、Al、Zn、Si、Mg、Ba、Mo、W及びVからなる群から選択される少なくとも一つの元素を主成分として含有し、かつ、体積抵抗率が107Ω・cm以下であるような導電性材料が好ましい。 The hard coat layer used in the present invention preferably contains an antistatic agent. Examples of the antistatic agent include Sn, Ti, In, Al, Zn, Si, Mg, Ba, Mo, W and A conductive material containing at least one element selected from the group consisting of V as a main component and having a volume resistivity of 10 7 Ω · cm or less is preferable.

前記帯電防止剤としては、上記の元素を有する金属酸化物、複合酸化物等が挙げられる。   Examples of the antistatic agent include metal oxides and composite oxides having the above elements.

金属酸化物の例としては、例えば、ZnO、TiO2、SnO2、Al23、In23、SiO2、MgO、BaO、MoO2、V25等、或いはこれらの複合酸化物が好ましく、特にZnO、In23、TiO2及びSnO2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばZnOに対してはAl、In等の添加、TiO2に対してはNb、Ta等の添加、またSnO2に対しては、Sb、Nb、ハロゲン元素等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は0.01〜25mol%の範囲が好ましいが、0.1〜15mol%の範囲が特に好ましい。また、これらの導電性を有するこれら金属酸化物粉体の体積抵抗率は107Ω・cm以下、特に105Ω・cm以下である。 Examples of metal oxides include, for example, ZnO, TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, MoO 2 , V 2 O 5 , or complex oxides thereof. ZnO, In 2 O 3 , TiO 2 and SnO 2 are particularly preferable. Examples of containing different atoms include, for example, addition of Al and In to ZnO, addition of Nb and Ta to TiO 2 , and addition of Sb, Nb and halogen elements to SnO 2 . Addition is effective. The amount of these different atoms added is preferably in the range of 0.01 to 25 mol%, particularly preferably in the range of 0.1 to 15 mol%. In addition, the volume resistivity of these metal oxide powders having conductivity is 10 7 Ω · cm or less, particularly 10 5 Ω · cm or less.

(反射防止層)
本発明に用いられる偏光板保護フィルムは、上記ハードコート層上に、機能性層として更に反射防止層を設けることが好ましい。特に中空微粒子を含有する低屈折率層であることが好ましい。
(Antireflection layer)
The polarizing plate protective film used in the present invention is preferably provided with an antireflection layer as a functional layer on the hard coat layer. In particular, a low refractive index layer containing hollow fine particles is preferable.

(低屈折率層)
本発明に用いられる低屈折率層は、中空微粒子を含有することが好ましく、その他に珪素アルコキシド、シランカップリング剤、硬化剤等を含有することがより好ましい。
(Low refractive index layer)
The low refractive index layer used in the present invention preferably contains hollow fine particles, and more preferably contains a silicon alkoxide, a silane coupling agent, a curing agent and the like.

〈中空微粒子〉
低屈折率層には下記の中空微粒子が含有されることが好ましい。
<Hollow particles>
The low refractive index layer preferably contains the following hollow fine particles.

ここでいう中空微粒子は、(1)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、又は(2)内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体又は多孔質物質で充填された空洞粒子である。尚、低屈折率層用塗布液には(1)複合粒子又は(2)空洞粒子のいずれかが含まれていればよく、また双方が含まれていてもよい。   The hollow fine particles referred to here are (1) composite particles composed of porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, or (2) hollow inside, and the content is a solvent, gas or Cavity particles filled with a porous material. In addition, the coating liquid for low refractive index layers should just contain either (1) composite particle | grains or (2) cavity particle | grains, and may contain both.

尚、空洞粒子は、内部に空洞を有する粒子であり、空洞は粒子壁で囲まれている。空洞内には、調製時に使用した溶媒、気体又は多孔質物質等の内容物で充填されている。このような無機微粒子の平均粒子径が5〜300nm、好ましくは10〜200nmの範囲にあることが望ましい。使用される無機微粒子は、形成される透明被膜の厚さに応じて適宜選択され、形成される低屈折率層等の透明被膜の膜厚の2/3〜1/10の範囲にあることが望ましい。これらの無機微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール)及びケトン(例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、ケトンアルコール(例えばジアセトンアルコール)が好ましい。   The hollow particles are particles having cavities inside, and the cavities are surrounded by particle walls. The cavity is filled with contents such as a solvent, a gas, or a porous material used at the time of preparation. It is desirable that the average particle size of such inorganic fine particles is in the range of 5 to 300 nm, preferably 10 to 200 nm. The inorganic fine particles used are appropriately selected according to the thickness of the transparent film to be formed, and may be in the range of 2/3 to 1/10 of the film thickness of the formed transparent film such as a low refractive index layer. desirable. These inorganic fine particles are preferably used in a state of being dispersed in an appropriate medium in order to form a low refractive index layer. As the dispersion medium, water, alcohol (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol), ketone (for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), and ketone alcohol (for example, diacetone alcohol) are preferable.

複合粒子の被覆層の厚さ又は空洞粒子の粒子壁の厚さは、1〜20nm、好ましくは2〜15nmの範囲にあることが望ましい。複合粒子の場合、被覆層の厚さが1nm未満の場合は、粒子を完全に被覆することが出来ないことがあり、低屈折率の効果が十分得られないことがある。また、被覆層の厚さが20nmを越えると、複合粒子の多孔性(細孔容積)が低下し低屈折率の効果が十分得られなくなることがある。また空洞粒子の場合、粒子壁の厚さが1nm未満の場合は、粒子形状を維持出来ないことがあり、また厚さが20nmを越えても、低屈折率の効果が十分に現れないことがある。   The thickness of the coating layer of the composite particles or the thickness of the particle walls of the hollow particles is desirably in the range of 1 to 20 nm, preferably 2 to 15 nm. In the case of composite particles, when the thickness of the coating layer is less than 1 nm, the particles may not be completely covered, and the low refractive index effect may not be sufficiently obtained. On the other hand, when the thickness of the coating layer exceeds 20 nm, the porosity (pore volume) of the composite particles may be lowered, and the low refractive index effect may not be sufficiently obtained. In the case of hollow particles, when the particle wall thickness is less than 1 nm, the particle shape may not be maintained, and even if the thickness exceeds 20 nm, the effect of low refractive index may not be sufficiently exhibited. is there.

前記複合粒子の被覆層又は空洞粒子の粒子壁は、シリカを主成分とすることが好ましい。また複合粒子の被覆層又は空洞粒子の粒子壁には、シリカ以外の成分が含まれていてもよく、具体的には、Al23、B23、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P23、Sb23、MoO3、ZnO2、WO3などが挙げられる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、CaF2、NaF、NaAlF6、MgFなどからなるものが挙げられる。このうち特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。シリカ以外の無機化合物としては、Al23、B23、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P23、Sb23、MoO3、ZnO2、WO3等との1種又は2種以上を挙げることが出来る。このような多孔質粒子では、シリカをSiO2で表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算(MOX)で表した時のモル比MOX/SiO2が、0.0001〜1.0、好ましくは0.001〜0.3の範囲にあることが望ましい。多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が0.0001未満のものは得ることが困難であり、得られたとしても導電性を発現しない。また、多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が、1.0を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が小さく、かつ屈折率の低い粒子を得られないことがある。 The coating layer of the composite particles or the particle wall of the hollow particles preferably contains silica as a main component. The coating layer of the composite particle or the particle wall of the hollow particle may contain a component other than silica, specifically, Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2. and CeO 2, P 2 O 3, Sb 2 O 3, MoO 3, ZnO 2, WO 3 and the like. Examples of the porous particles constituting the composite particles include those made of silica, those made of silica and an inorganic compound other than silica, and those made of CaF 2 , NaF, NaAlF 6 , MgF, and the like. Among these, porous particles made of a composite oxide of silica and an inorganic compound other than silica are particularly preferable. Examples of inorganic compounds other than silica include Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. 1 type or 2 types or more can be mentioned. In such porous particles, the molar ratio MOX / SiO 2 when the silica is represented by SiO 2 and the inorganic compound other than silica is represented by oxide (MOX) is 0.0001 to 1.0, preferably It is desirable to be in the range of 0.001 to 0.3. It is difficult to obtain a porous particle having a molar ratio MOX / SiO 2 of less than 0.0001, and even if it is obtained, conductivity is not exhibited. On the other hand, if the molar ratio MOX / SiO 2 of the porous particles exceeds 1.0, the ratio of silica decreases, so that particles having a small pore volume and a low refractive index may not be obtained.

このような多孔質粒子の細孔容積は、0.1〜1.5ml/g、好ましくは0.2〜1.5ml/gの範囲であることが望ましい。細孔容積が0.1ml/g未満では、十分に屈折率の低下した粒子が得られず、1.5ml/gを越えると微粒子の強度が低下し、得られる被膜の強度が低下することがある。   The pore volume of such porous particles is desirably in the range of 0.1 to 1.5 ml / g, preferably 0.2 to 1.5 ml / g. If the pore volume is less than 0.1 ml / g, particles having a sufficiently reduced refractive index cannot be obtained. If the pore volume exceeds 1.5 ml / g, the strength of the fine particles is lowered, and the strength of the resulting coating may be lowered. is there.

尚、このような多孔質粒子の細孔容積は水銀圧入法によって求めることが出来る。また、空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に使用した溶媒、気体、多孔質物質等が挙げられる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使用される粒子前駆体の未反応物、使用した触媒等が含まれていてもよい。また多孔質物質としては、前記多孔質粒子で例示した化合物からなるものが挙げられる。これらの内容物は、単一の成分からなるものであってもよいが、複数成分の混合物であってもよい。   Incidentally, the pore volume of such porous particles can be determined by a mercury intrusion method. Examples of the contents of the hollow particles include a solvent, a gas, and a porous substance used at the time of preparing the particles. The solvent may contain an unreacted particle precursor used when preparing the hollow particles, the catalyst used, and the like. Moreover, what consists of the compound illustrated by the said porous particle as a porous substance is mentioned. These contents may be composed of a single component or may be a mixture of a plurality of components.

このような無機微粒子の製造方法としては、例えば特開平7−133105号公報の段落番号[0010]〜[0033]に開示された複合酸化物コロイド粒子の調製方法が好適に採用される。具体的に、複合粒子が、シリカ、シリカ以外の無機化合物とからなる場合、以下の第1〜第3工程から無機化合物粒子は製造される。   As a method for producing such inorganic fine particles, for example, the method for preparing composite oxide colloidal particles disclosed in paragraphs [0010] to [0033] of JP-A-7-133105 is suitably employed. Specifically, when the composite particles are composed of silica and an inorganic compound other than silica, the inorganic compound particles are produced from the following first to third steps.

第1工程:多孔質粒子前駆体の調製
第1工程では、予め、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料のアルカリ水溶液を個別に調製するか、又は、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料との混合水溶液を調製しておき、この水溶液を目的とする複合酸化物の複合割合に応じて、pH10以上のアルカリ水溶液中に攪拌しながら徐々に添加して多孔質粒子前駆体を調製する。
First Step: Preparation of Porous Particle Precursor In the first step, an alkali aqueous solution of a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica is separately prepared in advance, or a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica are prepared in advance. A mixed aqueous solution is prepared, and this aqueous solution is gradually added to an aqueous alkaline solution having a pH of 10 or more while stirring according to the composite ratio of the target composite oxide to prepare a porous particle precursor.

シリカ原料としては、アルカリ金属、アンモニウム又は有機塩基のケイ酸塩を用いる。アルカリ金属のケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム(水ガラス)やケイ酸カリウムが用いられる。有機塩基としては、テトラエチルアンモニウム塩等の第4級アンモニウム塩、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアミン類を挙げることが出来る。尚、アンモニウムのケイ酸塩又は有機塩基のケイ酸塩には、ケイ酸液にアンモニア、第4級アンモニウム水酸化物、アミン化合物等を添加したアルカリ性溶液も含まれる。   As the silica raw material, alkali metal, ammonium or organic base silicate is used. As an alkali metal silicate, sodium silicate (water glass) or potassium silicate is used. Examples of the organic base include quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium salt, and amines such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine. The ammonium silicate or the organic base silicate includes an alkaline solution obtained by adding ammonia, a quaternary ammonium hydroxide, an amine compound or the like to a silicic acid solution.

また、シリカ以外の無機化合物の原料は、アルカリ可溶の前記導電性化合物が用いられる。   Moreover, the alkali-soluble conductive compound is used as a raw material for inorganic compounds other than silica.

これらの水溶液の添加と同時に混合水溶液のpH値は変化するが、このpH値を所定の範囲に制御するような操作は特に必要ない。水溶液は、最終的に、無機酸化物の種類及びその混合割合によって定まるpH値となる。このときの水溶液の添加速度にはとくに制限はない。また、複合酸化物粒子の製造に際して、シード粒子の分散液を出発原料と使用することも可能である。当該シード粒子としては、特に制限はないが、SiO2、Al23、TiO2又はZrO2等の無機酸化物又はこれらの複合酸化物の微粒子が用いられ、通常、これらのゾルを用いることが出来る。更に前記の製造方法によって得られた多孔質粒子前駆体分散液をシード粒子分散液としてもよい。シード粒子分散液を使用する場合、シード粒子分散液のpHを10以上に調整したのち、該シード粒子分散液中に前記化合物の水溶液を、上記したアルカリ水溶液中に攪拌しながら添加する。この場合も、必ずしも分散液のpH制御を行う必要はない。このようにして、シード粒子を用いると、調製する多孔質粒子の粒径コントロールが容易であり、粒度の揃ったものを得ることが出来る。 Although the pH value of the mixed aqueous solution changes simultaneously with the addition of these aqueous solutions, an operation for controlling the pH value within a predetermined range is not particularly required. The aqueous solution finally has a pH value determined by the type of inorganic oxide and the mixing ratio thereof. There is no restriction | limiting in particular in the addition rate of the aqueous solution at this time. Further, in the production of composite oxide particles, a dispersion of seed particles can be used as a starting material. The seed particles are not particularly limited, but inorganic oxides such as SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 or ZrO 2 or fine particles of these composite oxides are used. Usually, these sols are used. I can do it. Furthermore, the porous particle precursor dispersion obtained by the above production method may be used as a seed particle dispersion. When the seed particle dispersion is used, the pH of the seed particle dispersion is adjusted to 10 or more, and then the aqueous solution of the compound is added to the above-described alkaline aqueous solution while stirring. Also in this case, it is not always necessary to control the pH of the dispersion. In this way, when seed particles are used, it is easy to control the particle size of the porous particles to be prepared, and particles with uniform particle sizes can be obtained.

上記したシリカ原料及び無機化合物原料はアルカリ側で高い溶解度を有する。しかしながら、この溶解度の大きいpH領域で両者を混合すると、ケイ酸イオン及びアルミン酸イオン等のオキソ酸イオンの溶解度が低下し、これらの複合物が析出して微粒子に成長したり、或いは、シード粒子上に析出して粒子成長が起こる。従って、微粒子の析出、成長に際して、従来法のようなpH制御は必ずしも行う必要がない。   The silica raw material and inorganic compound raw material described above have high solubility on the alkali side. However, when both are mixed in this highly soluble pH region, the solubility of oxo acid ions such as silicate ions and aluminate ions decreases, and these composites precipitate and grow into fine particles, or seed particles. Particle growth occurs by depositing on the top. Therefore, it is not always necessary to perform pH control as in the conventional method for precipitation and growth of fine particles.

第1工程におけるシリカとシリカ以外の無機化合物との複合割合は、シリカに対する無機化合物を酸化物(MOx)に換算し、MOx/SiO2のモル比が、0.05〜2.0、好ましくは0.2〜2.0の範囲内にあることが望ましい。この範囲内において、シリカの割合が少なくなる程、多孔質粒子の細孔容積が増大する。しかしながら、モル比が2.0を越えても、多孔質粒子の細孔の容積は殆ど増加しない。他方、モル比が0.05未満の場合は、細孔容積が小さくなる。空洞粒子を調製する場合、MOx/SiO2のモル比は、0.25〜2.0の範囲内にあることが望ましい。 The composite ratio of silica and inorganic compound other than silica in the first step is that the inorganic compound relative to silica is converted to oxide (MOx), and the molar ratio of MOx / SiO 2 is 0.05 to 2.0, preferably It is desirable to be within the range of 0.2 to 2.0. Within this range, the pore volume of the porous particles increases as the proportion of silica decreases. However, even when the molar ratio exceeds 2.0, the pore volume of the porous particles hardly increases. On the other hand, when the molar ratio is less than 0.05, the pore volume becomes small. When preparing hollow particles, the molar ratio of MOx / SiO 2 is preferably in the range of 0.25 to 2.0.

第2工程:多孔質粒子からのシリカ以外の無機化合物の除去
第2工程では、前記第1工程で得られた多孔質粒子前駆体から、シリカ以外の無機化合物(珪素と酸素以外の元素)の少なくとも一部を選択的に除去する。具体的な除去方法としては、多孔質粒子前駆体中の無機化合物を鉱酸や有機酸を用いて溶解除去したり、或いは、陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去する。
Second step: Removal of inorganic compound other than silica from porous particles In the second step, inorganic compounds other than silica (elements other than silicon and oxygen) are obtained from the porous particle precursor obtained in the first step. At least a portion is selectively removed. As a specific removal method, the inorganic compound in the porous particle precursor is dissolved and removed using a mineral acid or an organic acid, or is contacted with a cation exchange resin for ion exchange removal.

尚、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体は、珪素と無機化合物構成元素が酸素を介して結合した網目構造の粒子である。このように多孔質粒子前駆体から無機化合物(珪素と酸素以外の元素)を除去することにより、一層多孔質で細孔容積の大きい多孔質粒子が得られる。また、多孔質粒子前駆体から無機酸化物(珪素と酸素以外の元素)を除去する量を多くすれば、空洞粒子を調製することが出来る。   The porous particle precursor obtained in the first step is a particle having a network structure in which silicon and an inorganic compound constituent element are bonded via oxygen. By removing the inorganic compound (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor in this way, porous particles having a larger porosity and a larger pore volume can be obtained. Further, if the amount of removing the inorganic oxide (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor is increased, the hollow particles can be prepared.

また、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去するに先立って、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体分散液に、シリカのアルカリ金属塩を脱アルカリして得られるケイ酸液或いは加水分解性の有機珪素化合物を添加してシリカ保護膜を形成することが好ましい。シリカ保護膜の厚さは0.5〜15nmの厚さであればよい。尚シリカ保護膜を形成しても、この工程での保護膜は多孔質であり厚さが薄いので、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することは可能である。   In addition, prior to removing inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor, a silicic acid solution obtained by removing the alkali metal salt of silica from the porous particle precursor dispersion obtained in the first step. Alternatively, it is preferable to form a silica protective film by adding a hydrolyzable organosilicon compound. The thickness of the silica protective film may be 0.5 to 15 nm. Even if the silica protective film is formed, the protective film in this step is porous and thin, so that it is possible to remove inorganic compounds other than silica described above from the porous particle precursor.

このようなシリカ保護膜を形成することによって、粒子形状を保持したまま、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することが出来る。また、後述するシリカ被覆層を形成する際に、多孔質粒子の細孔が被覆層によって閉塞されてしまうことがなく、このため細孔容積を低下させることなく後述するシリカ被覆層を形成することが出来る。尚、除去する無機化合物の量が少ない場合は粒子が壊れることがないので必ずしも保護膜を形成する必要はない。   By forming such a silica protective film, inorganic compounds other than silica described above can be removed from the porous particle precursor while maintaining the particle shape. Moreover, when forming the silica coating layer described later, the pores of the porous particles are not blocked by the coating layer, and therefore, the silica coating layer described later is formed without reducing the pore volume. I can do it. Note that when the amount of the inorganic compound to be removed is small, it is not always necessary to form a protective film because the particles are not broken.

また空洞粒子を調製する場合は、このシリカ保護膜を形成しておくことが望ましい。空洞粒子を調製する際には、無機化合物を除去すると、シリカ保護膜と、該シリカ保護膜内の溶媒、未溶解の多孔質固形分とからなる空洞粒子の前駆体が得られ、該空洞粒子の前駆体に後述の被覆層を形成すると、形成された被覆層が、粒子壁となり空洞粒子が形成される。   When preparing hollow particles, it is desirable to form this silica protective film. When preparing the hollow particles, the inorganic compound is removed to obtain a hollow particle precursor comprising a silica protective film, a solvent in the silica protective film, and an undissolved porous solid, and the hollow particles When a coating layer to be described later is formed on the precursor, the formed coating layer becomes a particle wall to form hollow particles.

上記シリカ保護膜形成のために添加するシリカ源の量は、粒子形状を保持出来る範囲で少ないことが好ましい。シリカ源の量が多過ぎると、シリカ保護膜が厚くなり過ぎるので、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去することが困難となることがある。シリカ保護膜形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、一般式RnSi(OR′)4-n〔R、R′:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2又は3〕で表されるアルコキシシランを用いることが出来る。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。 The amount of the silica source added for forming the silica protective film is preferably small as long as the particle shape can be maintained. If the amount of the silica source is too large, the silica protective film becomes too thick, and it may be difficult to remove inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor. The hydrolyzable organic silicon compound used for the silica protective film formed of the general formula R n Si (OR ') 4 -n [R, R': an alkyl group, an aryl group, a vinyl group, such as acrylic group An alkoxysilane represented by a hydrocarbon group, n = 0, 1, 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.

添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリ又は酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子の分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を無機酸化物粒子の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることが出来る。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることが出来る。   As an addition method, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilane, pure water, and alcohol is added to the dispersion of the porous particles, and the alkoxysilane is hydrolyzed. The produced silicic acid polymer is deposited on the surface of the inorganic oxide particles. At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

多孔質粒子前駆体の分散媒が、水単独、又は有機溶媒に対する水の比率が高い場合には、ケイ酸液を用いてシリカ保護膜を形成することも可能である。ケイ酸液を用いる場合には、分散液中にケイ酸液を所定量添加し、同時にアルカリを加えてケイ酸液を多孔質粒子表面に沈着させる。尚、ケイ酸液と上記アルコキシシランを併用してシリカ保護膜を作製してもよい。   In the case where the dispersion medium of the porous particle precursor is water alone or the ratio of water to the organic solvent is high, it is possible to form a silica protective film using a silicic acid solution. When a silicic acid solution is used, a predetermined amount of the silicic acid solution is added to the dispersion, and at the same time an alkali is added to deposit the silicic acid solution on the surface of the porous particles. In addition, you may produce a silica protective film using a silicic acid liquid and the said alkoxysilane together.

第3工程:シリカ被覆層の形成
第3工程では、第2工程で調製した多孔質粒子分散液(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体分散液)に加水分解性の有機珪素化合物又はケイ酸液等を加えることにより、粒子の表面を加水分解性有機珪素化合物又はケイ酸液等の重合物で被覆してシリカ被覆層を形成する。
Third step: Formation of silica coating layer In the third step, a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution is added to the porous particle dispersion prepared in the second step (in the case of hollow particles, a hollow particle precursor dispersion). Is added to coat the surface of the particles with a polymer such as a hydrolyzable organosilicon compound or a silicic acid solution to form a silica coating layer.

シリカ被覆層形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、前記したような一般式RnSi(OR′)4-n〔R、R′:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2又は3〕で表されるアルコキシシランを用いることが出来る。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。 The hydrolyzable organic silicon compound used for the silica coating layer formed, the above-mentioned such general formula R n Si (OR ') 4 -n [R, R': an alkyl group, an aryl group, a vinyl group, An alkoxysilane represented by a hydrocarbon group such as an acryl group, n = 0, 1, 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.

添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリ又は酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることが出来る。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることが出来る。   As an addition method, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilanes, pure water, and alcohol is used as a dispersion of the porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursor). In addition, the silicic acid polymer produced by hydrolyzing alkoxysilane is deposited on the surface of the porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors). At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)の分散媒が水単独、又は有機溶媒との混合溶媒であって、有機溶媒に対する水の比率が高い混合溶媒の場合には、ケイ酸液を用いて被覆層を形成してもよい。ケイ酸液とは、水ガラス等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液をイオン交換処理して脱アルカリしたケイ酸の低重合物の水溶液である。   When the dispersion medium of the porous particles (cavity particle precursor in the case of hollow particles) is water alone or a mixed solvent with an organic solvent and the mixed solvent has a high ratio of water to the organic solvent, a silicate solution You may form a coating layer using. The silicic acid solution is an aqueous solution of a low silicic acid polymer obtained by dealkalizing an aqueous solution of an alkali metal silicate such as water glass by ion exchange treatment.

ケイ酸液は、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中に添加され、同時にアルカリを加えてケイ酸低重合物を多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)表面に沈着させる。尚、ケイ酸液を上記アルコキシシランと併用して被覆層形成用に使用してもよい。被覆層形成用に使用される有機珪素化合物又はケイ酸液の添加量は、コロイド粒子の表面を十分被覆出来る程度であればよく、最終的に得られるシリカ被覆層の厚さが1〜20nmとなるように量で、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中で添加される。また前記シリカ保護膜を形成した場合はシリカ保護膜とシリカ被覆層の合計の厚さが1〜20nmの範囲となるような量で、有機珪素化合物又はケイ酸液は添加される。   The silicic acid solution is added to the dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors), and at the same time, alkali is added to make the low-silicic acid polymer into porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors). ) Deposit on the surface. A silicic acid solution may be used in combination with the alkoxysilane for forming a coating layer. The addition amount of the organosilicon compound or silicic acid solution used for forming the coating layer only needs to be sufficient to cover the surface of the colloidal particles, and the finally obtained silica coating layer has a thickness of 1 to 20 nm. In such an amount, it is added in a dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursor) in a dispersion. When the silica protective film is formed, the organosilicon compound or the silicate solution is added in such an amount that the total thickness of the silica protective film and the silica coating layer is in the range of 1 to 20 nm.

次いで、被覆層が形成された粒子の分散液を加熱処理する。加熱処理によって、多孔質粒子の場合は、多孔質粒子表面を被覆したシリカ被覆層が緻密化し、多孔質粒子がシリカ被覆層によって被覆された複合粒子の分散液が得られる。また空洞粒子前駆体の場合、形成された被覆層が緻密化して空洞粒子壁となり、内部が溶媒、気体又は多孔質固形分で充填された空洞を有する空洞粒子の分散液が得られる。   Next, the dispersion liquid of the particles on which the coating layer is formed is heat-treated. By the heat treatment, in the case of porous particles, the silica coating layer covering the surface of the porous particles is densified, and a dispersion of composite particles in which the porous particles are coated with the silica coating layer is obtained. In the case of the hollow particle precursor, the formed coating layer is densified to form hollow particle walls, and a dispersion of hollow particles having cavities filled with a solvent, gas, or porous solid content is obtained.

このときの加熱処理温度は、シリカ被覆層の微細孔を閉塞出来る程度であれば特に制限はなく、80〜300℃の範囲が好ましい。加熱処理温度が80℃未満ではシリカ被覆層の微細孔を完全に閉塞して緻密化出来ないことがあり、また処理時間に長時間を要してしまうことがある。また加熱処理温度が300℃を越えて長時間処理すると緻密な粒子となることがあり、低屈折率の効果が得られないことがある。   The heat treatment temperature at this time is not particularly limited as long as it can close the fine pores of the silica coating layer, and is preferably in the range of 80 to 300 ° C. When the heat treatment temperature is less than 80 ° C., the fine pores of the silica coating layer may not be completely closed and densified, and the treatment time may take a long time. Further, when the heat treatment temperature exceeds 300 ° C. for a long time, fine particles may be formed, and the effect of low refractive index may not be obtained.

このようにして得られた無機微粒子の屈折率は、1.44未満と低い。このような無機微粒子は、多孔質粒子内部の多孔性が保持されているか、内部が空洞であるので、屈折率が低くなるものと推察される。   The refractive index of the inorganic fine particles thus obtained is as low as less than 1.44. Such inorganic fine particles are presumed to have a low refractive index because the porosity inside the porous particles is maintained or the inside is hollow.

本発明に用いられる低屈折率層には中空微粒子の他に、アルコキシ珪素化合物の加水分解物及びそれに続く縮合反応により形成される縮合物を含むことが好ましい。特に、下記一般式(1)及び/又は(2)で表されるアルコキシ珪素化合物又はその加水分解物を調整したSiO2ゾルを含有することが好ましい。 The low refractive index layer used in the present invention preferably contains a hydrolyzate of an alkoxysilicon compound and a condensate formed by a subsequent condensation reaction in addition to the hollow fine particles. In particular, it is preferable to contain a SiO 2 sol prepared by adjusting an alkoxysilicon compound represented by the following general formula (1) and / or (2) or a hydrolyzate thereof.

一般式(1) R1−Si(OR2)3
一般式(2) Si(OR2)4
(式中、R1はメチル基、エチル基、ビニル基、又はアクリロイル基、メタクリロイル基、アミノ基若しくはエポキシ基を含む有機基を、R2はメチル基又はエチル基を示す)
珪素アルコキシド、シランカップリング剤の加水分解は、珪素アルコキシド、シランカップリング剤を適当な溶媒中に溶解して行う。使用する溶媒としては、例えば、メチルエチルケトンなどのケトン類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールブタノールなどのアルコール類、酢酸エチルなどのエステル類、或いはこれらの混合物が挙げられる。
General formula (1) R1-Si (OR2) 3
General formula (2) Si (OR2) 4
(In the formula, R1 represents a methyl group, an ethyl group, a vinyl group, or an organic group containing an acryloyl group, a methacryloyl group, an amino group or an epoxy group, and R2 represents a methyl group or an ethyl group)
Hydrolysis of the silicon alkoxide and silane coupling agent is performed by dissolving the silicon alkoxide and silane coupling agent in a suitable solvent. Examples of the solvent to be used include ketones such as methyl ethyl ketone, alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol butanol, esters such as ethyl acetate, and mixtures thereof.

上記珪素アルコキシド又はシランカップリング剤を溶媒に溶解した溶液に、加水分解に必要な量より若干多い量の水を加え、15〜35℃、好ましくは20℃〜30℃の温度で1〜48時間、好ましくは3〜36時間攪拌を行う。   To the solution obtained by dissolving the silicon alkoxide or the silane coupling agent in a solvent, an amount of water slightly larger than that required for hydrolysis is added, and the temperature is 15 to 35 ° C., preferably 20 to 30 ° C. for 1 to 48 hours. The stirring is preferably performed for 3 to 36 hours.

上記加水分解においては、触媒を用いることが好ましく、このような触媒としては塩酸、硝酸、硫酸又は酢酸などの酸が好ましく用いられる。これらの酸は0.001N〜20.0N、好ましくは0.005〜5.0N程度の水溶液にして用いる。該触媒水溶液中の水分は加水分解用の水分とすることが出来る。   In the hydrolysis, a catalyst is preferably used. As such a catalyst, an acid such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid or acetic acid is preferably used. These acids are used in an aqueous solution of about 0.001N to 20.0N, preferably about 0.005 to 5.0N. The water in the catalyst aqueous solution can be water for hydrolysis.

アルコキシ珪素化合物を所定の時間加水分解反応させ、調製されたアルコキシ珪素加水分解液を溶剤で希釈し、必要な他の添加剤等を混合して、低屈折率層用塗布液を調製し、これを基材例えばフィルム上に塗布、乾燥することで低屈折率層を基材上に形成することが出来る。   The alkoxy silicon compound is hydrolyzed for a predetermined time, the prepared alkoxy silicon hydrolyzed solution is diluted with a solvent, and other necessary additives are mixed to prepare a coating solution for a low refractive index layer. The low refractive index layer can be formed on the base material by applying and drying on a base material such as a film.

〈アルコキシ珪素化合物〉
本発明において低屈折率層塗布液の調製に用いられるアルコキシ珪素化合物(以後アルコキシシランともいう)としては、下記一般式(3)で表されるものが好ましい。
<Alkoxy silicon compound>
In the present invention, the alkoxysilicon compound (hereinafter also referred to as alkoxysilane) used for the preparation of the low refractive index layer coating solution is preferably represented by the following general formula (3).

一般式(3) R4−nSi(OR′)n
前記一般式中、R′はアルキル基であり、Rは水素原子又は1価の置換基を表し、nは3又は4を表す。
General formula (3) R4-nSi (OR ') n
In the general formula, R ′ represents an alkyl group, R represents a hydrogen atom or a monovalent substituent, and n represents 3 or 4.

R′で表されるアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の基が挙げられ、置換基を有していてもよく、置換基としてはアルコキシシランとしての性質を示すものであれば特に制限はなく、例えば、フッ素などのハロゲン原子、アルコキシ基等により置換されていてもよいが、より好ましくは非置換のアルキル基であり、特にメチル基、エチル基が好ましい。   Examples of the alkyl group represented by R ′ include groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, which may have a substituent, and the substituent exhibits properties as an alkoxysilane. If it is, there is no restriction | limiting in particular, For example, although you may substitute by halogen atoms, such as a fluorine, an alkoxy group, etc., More preferably, it is an unsubstituted alkyl group, and especially a methyl group and an ethyl group are preferable.

Rで表される1価の置換基としては特に制限されないが、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、芳香族複素環基、シリル基等が挙げられる。中でも好ましいのは、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基である。また、これらは更に置換されていてもよい。Rの置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子、アミノ基、エポキシ基、メルカプト基、ヒドロキシル基、アセトキシ基等が挙げられる。   The monovalent substituent represented by R is not particularly limited, and examples thereof include an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an aromatic heterocyclic group, and a silyl group. Of these, an alkyl group, a cycloalkyl group, and an alkenyl group are preferable. These may be further substituted. Examples of the substituent for R include a halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom, an amino group, an epoxy group, a mercapto group, a hydroxyl group, and an acetoxy group.

前記一般式で表されるアルコキシシランの好ましい例として、具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン(TEOS)、テトラn−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラn−ブトキシシラン、テトラt−ブトキシシラン、テトラキス(メトキシエトキシ)シラン、テトラキス(メトキシプロポキシ)シラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、n−ブチルトリメトキシシラン、i−ブチルトリメトキシシラン、n−へキシルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、アセトキシトリエトキシシラン、(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)トリメトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、ペンタフルオロフェニルプロピルトリメトキシシラン、更に、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等が挙げられる。   As preferable examples of the alkoxysilane represented by the general formula, specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane (TEOS), tetra n-propoxy silane, tetraisopropoxy silane, tetra n-butoxy silane, tetra t- Butoxysilane, tetrakis (methoxyethoxy) silane, tetrakis (methoxypropoxy) silane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane , N-butyltrimethoxysilane, i-butyltrimethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 2- (3,4- (Poxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, acetoxytriethoxysilane, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) trimethoxysilane, ( 3,3,3-trifluoropropyl) trimethoxysilane, (3,3,3-trifluoropropyl) trimethoxysilane, pentafluorophenylpropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, phenyltri Examples include methoxysilane, vinyltrimethoxysilane, and vinyltriethoxysilane.

また、これらの化合物が部分的に縮合した多摩化学製シリケート40、シリケート45、シリケート48、Mシリケート51のような数量体のケイ素化合物でもよい。   Alternatively, quantified silicon compounds such as silicate 40, silicate 45, silicate 48, and M silicate 51 manufactured by Tama Chemical, in which these compounds are partially condensed may be used.

前記アルコキシシランは、加水分解重縮合が可能な珪素アルコキシド基を有しているため、これらのアルコキシシランを加水分解、縮合によって、架橋して、高分子化合物のネットワーク構造が形成され、これを低屈折率層塗布液として用い、基材上に塗布して、乾燥させることで均一な酸化珪素を含有する層が基材上に形成される。   Since the alkoxysilane has a silicon alkoxide group that can be hydrolyzed and polycondensed, these alkoxysilanes are crosslinked by hydrolysis and condensation to form a network structure of the polymer compound. A layer containing uniform silicon oxide is formed on the base material by applying it on the base material and drying it as a refractive index layer coating solution.

加水分解反応は、公知の方法により行うことが出来、疎水的なアルコキシシランと水が混和しやすいように、所定量の水とメタノール、エタノール、アセトニトリルのような親水性の有機溶媒を共存させ溶解・混合したのち、加水分解触媒を添加して、アルコキシシランを加水分解、縮合させる。通常、10℃〜100℃で加水分解、縮合反応させることで、ヒドロキシル基を2個以上有する液状のシリケートオリゴマーが生成し加水分解液が形成される。加水分解の程度は、使用する水の量により適宜調節することが出来る。   The hydrolysis reaction can be carried out by a known method and dissolved in the presence of a predetermined amount of water and a hydrophilic organic solvent such as methanol, ethanol or acetonitrile so that the hydrophobic alkoxysilane and water can be easily mixed. -After mixing, a hydrolysis catalyst is added to hydrolyze and condense the alkoxysilane. Usually, by carrying out hydrolysis and condensation reaction at 10 ° C. to 100 ° C., a liquid silicate oligomer having two or more hydroxyl groups is generated, and a hydrolyzed solution is formed. The degree of hydrolysis can be appropriately adjusted depending on the amount of water used.

本発明においては、アルコキシシランに水と共に添加する溶媒としては、メタノール、エタノールが安価であること、得られる被膜の特性が優れ硬度が良好であることから好ましい。イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、オクタノール等も用いることが出来るが、得られた被膜の硬度が低くなる傾向にある。溶媒量は加水分解前のテトラアルコキシシラン100質量部に対して50〜400質量部、好ましくは100〜250質量部である。   In the present invention, as a solvent to be added to alkoxysilane together with water, methanol and ethanol are preferable because they are inexpensive and the properties of the resulting film are excellent and the hardness is good. Although isopropanol, n-butanol, isobutanol, octanol, and the like can be used, the hardness of the obtained film tends to be low. The amount of the solvent is 50 to 400 parts by mass, preferably 100 to 250 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the tetraalkoxysilane before hydrolysis.

このようにして加水分解液を調製し、これを溶剤によって希釈し、必要に応じて添加剤を添加して、低屈折率層塗布液を形成するに必要な成分と混合し、低屈折率層塗布液とする。   In this way, a hydrolyzed solution is prepared, diluted with a solvent, and if necessary, an additive is added and mixed with components necessary to form a low refractive index layer coating solution. A coating solution is used.

〈加水分解触媒〉
加水分解触媒としては、酸、アルカリ、有機金属、金属アルコキシド等を挙げることが出来るが、本発明においては硫酸、塩酸、硝酸、次亜塩素酸、ホウ酸等の無機酸或いは有機酸が好ましく、特に硝酸、酢酸などのカルボン酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、メチルスルホン酸等が好ましく、これらの内特に硝酸、酢酸、クエン酸又は酒石酸等が好ましく用いられる。上記クエン酸や酒石酸の他に、レブリン酸、ギ酸、プロピオン酸、リンゴ酸、コハク酸、メチルコハク酸、フマル酸、オキサロ酢酸、ピルビン酸、2−オキソグルタル酸、グリコール酸、D−グリセリン酸、D−グルコン酸、マロン酸、マレイン酸、シュウ酸、イソクエン酸、乳酸等も好ましく用いられる。
<Hydrolysis catalyst>
Examples of the hydrolysis catalyst include acids, alkalis, organic metals, metal alkoxides, etc. In the present invention, inorganic acids or organic acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, hypochlorous acid, and boric acid are preferable. In particular, carboxylic acids such as nitric acid and acetic acid, polyacrylic acid, benzenesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, methylsulfonic acid and the like are preferable, and among these, nitric acid, acetic acid, citric acid, tartaric acid and the like are preferably used. In addition to the citric acid and tartaric acid, levulinic acid, formic acid, propionic acid, malic acid, succinic acid, methyl succinic acid, fumaric acid, oxaloacetic acid, pyruvic acid, 2-oxoglutaric acid, glycolic acid, D-glyceric acid, D- Gluconic acid, malonic acid, maleic acid, oxalic acid, isocitric acid, lactic acid and the like are also preferably used.

この中で、乾燥時に酸が揮発して、膜中に残らないものが好ましく、沸点が低いものがよい。従って、酢酸、硝酸が特に好ましい。   Of these, those which volatilize the acid during drying and do not remain in the film are preferred, and those having a low boiling point are preferred. Therefore, acetic acid and nitric acid are particularly preferable.

添加量は、用いるアルコキシ珪素化合物(例えばテトラアルコキシシラン)100質量部に対して0.001〜10質量部、好ましくは0.005〜5質量部がよい。また、水の添加量については部分加水分解物が理論上100%加水分解し得る量以上であればよく、100〜300%相当量、好ましくは100〜200%相当量を添加するのがよい。   The added amount is 0.001 to 10 parts by mass, preferably 0.005 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the alkoxysilicon compound (for example, tetraalkoxysilane) to be used. In addition, the amount of water added may be equal to or greater than the amount that the partial hydrolyzate can theoretically hydrolyze to 100%, and an amount equivalent to 100 to 300%, preferably an amount equivalent to 100 to 200% is added.

上記アルコキシシランを加水分解する際には、下記無機微粒子を混合することが好ましい。   When the alkoxysilane is hydrolyzed, the following inorganic fine particles are preferably mixed.

加水分解を開始してから所定の時間加水分解液を放置して加水分解の進行が所定の程度に達した後用いる。放置する時間は、上述の加水分解そして縮合による架橋が所望の膜特性を得るのに十分な程度進行する時間である。具体的には用いる酸触媒の種類にもよるが、例えば、酢酸では室温で15時間以上、硝酸では2時間以上が好ましい。熟成温度は熟成時間に影響を与え、一般に高温では熟成が早く進むが、100℃以上に加熱するとゲル化が起こるので、20〜60℃の加熱、保温が適切である。   The hydrolysis solution is allowed to stand for a predetermined time after the start of hydrolysis, and used after the progress of hydrolysis reaches a predetermined level. The standing time is a time during which the above-described crosslinking by hydrolysis and condensation proceeds sufficiently to obtain desired film characteristics. Specifically, depending on the type of acid catalyst used, for example, acetic acid is preferably 15 hours or more at room temperature, and nitric acid is preferably 2 hours or more. The aging temperature affects the aging time. Generally, the aging proceeds quickly at high temperatures, but when heated to 100 ° C. or higher, gelation occurs, so heating at 20 to 60 ° C. and keeping the temperature are appropriate.

このようにして加水分解、縮合により形成したシリケートオリゴマー溶液に上記中空微粒子、添加剤を加え、必要な希釈を行って、低屈折率層塗布液を調製し、これを前述したフィルム上に塗布して、乾燥することで、低屈折率層として優れた酸化珪素膜を含有する層を形成することが出来る。   The above-mentioned hollow fine particles and additives are added to the silicate oligomer solution formed by hydrolysis and condensation in this way, and necessary dilution is performed to prepare a low refractive index layer coating solution, which is applied onto the above-described film. By drying, a layer containing an excellent silicon oxide film as a low refractive index layer can be formed.

また、本発明においては、上記のアルコキシシランの他に、例えばエポキシ基、アミノ基、イソシアネート基、カルボキシル基等の官能基を有するシラン化合物(モノマー、オリゴマー、ポリマー)等により変性した変性物であってもよく、単独で使用又は併用することも可能である。   In the present invention, in addition to the above alkoxysilane, for example, a modified product modified with a silane compound (monomer, oligomer, polymer) having a functional group such as an epoxy group, an amino group, an isocyanate group, or a carboxyl group. It may be used alone or in combination.

〈フッ素化合物〉
本発明に用いられる低屈折率層は中空微粒子とフッ素化合物を含有することも好ましく、バインダーマトリックスとして、熱又は電離放射線により架橋する含フッ素樹脂(以下、「架橋前の含フッ素樹脂」ともいう)を含むことが好ましい。該含フッ素樹脂を含むことにより良好な防汚性反射防止フィルムを提供することが出来る。
<Fluorine compound>
The low refractive index layer used in the present invention preferably contains hollow fine particles and a fluorine compound, and as a binder matrix, a fluorine-containing resin that is crosslinked by heat or ionizing radiation (hereinafter also referred to as “fluorine-containing resin before crosslinking”). It is preferable to contain. By including the fluorine-containing resin, a good antifouling antireflection film can be provided.

架橋前の含フッ素樹脂としては、含フッ素ビニルモノマーと架橋性基付与のためのモノマーから形成される含フッ素共重合体を好ましく挙げることが出来る。上記含フッ素ビニルモノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えば、ビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。架橋性基付与のためのモノマーとしては、グリシジルメタクリレートや、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルグリシジルエーテル等のように分子内に予め架橋性官能基を有するビニルモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有するビニルモノマー(例えば、(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシアルキルビニルエーテル、ヒドロキシアルキルアリルエーテル等)が挙げられる。後者は共重合の後、ポリマー中の官能基と反応する基ともう1つ以上の反応性基を持つ化合物を加えることにより、架橋構造を導入出来ることが特開平10−25388号、同10−147739号に記載されている。架橋性基の例には、アクリロイル、メタクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロール及び活性メチレン基等が挙げられる。含フッ素共重合体が、加熱により反応する架橋基、若しくは、エチレン性不飽和基と熱ラジカル発生剤若しくはエポキシ基と熱酸発生剤等の相み合わせにより、加熱により架橋する場合、熱硬化型であり、エチレン性不飽和基と光ラジカル発生剤若しくは、エポキシ基と光酸発生剤等の組み合わせにより、光(好ましくは紫外線、電子ビーム等)の照射により架橋する場合、電離放射線硬化型である。   Preferred examples of the fluorine-containing resin before crosslinking include a fluorine-containing copolymer formed from a fluorine-containing vinyl monomer and a monomer for imparting a crosslinkable group. Specific examples of the fluorine-containing vinyl monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3 -Dioxoles, etc.), (meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemical), M-2020 (manufactured by Daikin), etc.), fully or partially fluorinated vinyl ethers, etc. Is mentioned. As monomers for imparting a crosslinkable group, glycidyl methacrylate, vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, vinyl glycidyl ether, and other vinyl monomers having a crosslinkable functional group in advance in the molecule. , Vinyl monomers having a carboxyl group, hydroxyl group, amino group, sulfonic acid group, etc. (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, hydroxyalkyl vinyl ether, hydroxyalkyl allyl) Ether, etc.). The latter can introduce a crosslinked structure after copolymerization by adding a compound that reacts with a functional group in the polymer and one or more reactive groups. No. 147739. Examples of the crosslinkable group include acryloyl, methacryloyl, isocyanate, epoxy, aziridine, oxazoline, aldehyde, carbonyl, hydrazine, carboxyl, methylol, and active methylene group. When the fluorine-containing copolymer is cross-linked by heating by a cross-linking group that reacts by heating, or a combination of an ethylenically unsaturated group and a thermal radical generator or an epoxy group and a thermal acid generator, the thermosetting type In the case of crosslinking by irradiation with light (preferably ultraviolet rays, electron beams, etc.) by a combination of an ethylenically unsaturated group and a photo radical generator, or an epoxy group and a photo acid generator, etc., it is an ionizing radiation curable type. .

また上記モノマー加えて、含フッ素ビニルモノマー及び架橋性基付与のためのモノマー以外のモノマーを併用して形成された含フッ素共重合体を架橋前の含フッ素樹脂として用いてもよい。併用可能なモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等)、スチレン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、アクリルアミド類(N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることが出来る。また、含フッ素共重合体中に、滑り性、防汚性付与のため、ポリオルガノシロキサン骨格や、パーフルオロポリエーテル骨格を導入することも好ましい。これは、例えば末端にアクリル基、メタクリル基、ビニルエーテル基、スチリル基等を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルと上記のモノマーとの重合、末端にラジカル発生基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルによる上記モノマーの重合、官能基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルと、含フッ素共重合体との反応等によって得られる。   Further, in addition to the above monomers, a fluorine-containing copolymer formed by using a monomer other than the fluorine-containing vinyl monomer and the monomer for imparting a crosslinkable group may be used as the fluorine-containing resin before crosslinking. The monomer that can be used in combination is not particularly limited. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-acrylic acid 2- Ethyl hexyl), methacrylates (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyl toluene, α-methylstyrene, etc.), vinyl ethers (methyl vinyl ether) Etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.), acrylamides (N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, etc.), methacrylamides, Ronitoriru derivatives and the like can be mentioned. In addition, it is also preferable to introduce a polyorganosiloxane skeleton or a perfluoropolyether skeleton into the fluorinated copolymer in order to impart slipperiness and antifouling properties. For example, polyorganosiloxane or perfluoropolyether having an acrylic group, methacrylic group, vinyl ether group, styryl group or the like at the terminal is polymerized with the above monomer, and polyorganosiloxane or perfluoropolyester having a radical generating group at the terminal. It can be obtained by polymerization of the above monomers with ether, reaction of a polyorganosiloxane or perfluoropolyether having a functional group with a fluorine-containing copolymer, or the like.

架橋前の含フッ素共重合体を形成するために用いられる上記各モノマーの使用割合は、含フッ素ビニルモノマーが好ましくは20〜70モル%、より好ましくは40〜70モル%、架橋性基付与のためのモノマーが好ましくは1〜20モル%、より好ましくは5〜20モル%、併用されるその他のモノマーが好ましくは10〜70モル%、より好ましくは10〜50モル%の割合である。   The proportion of each of the above monomers used to form the fluorinated copolymer before crosslinking is preferably 20 to 70 mol%, more preferably 40 to 70 mol%, more preferably 40 to 70 mol% of the fluorinated vinyl monomer. The amount of the monomer is preferably 1 to 20 mol%, more preferably 5 to 20 mol%, and the other monomer used in combination is preferably 10 to 70 mol%, more preferably 10 to 50 mol%.

含フッ素共重合体は、これらモノマーをラジカル重合開始剤の存在下で、溶液重合、塊状重合、乳化重合、懸濁重合法等の手段により重合することにより得ることが出来る。   The fluorine-containing copolymer can be obtained by polymerizing these monomers in the presence of a radical polymerization initiator by means such as solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization.

架橋前の含フッ素樹脂は、市販されており使用することが出来る。市販されている架橋前の含フッ素樹脂の例としては、サイトップ(旭硝子製)、テフロン(登録商標)AF(デュポン製)、ポリフッ化ビニリデン、ルミフロン(旭硝子製)、オプスター(JSR製)等が挙げられる。   The fluorine-containing resin before crosslinking is commercially available and can be used. Examples of commercially available fluorine-containing resins before cross-linking include Cytop (Asahi Glass), Teflon (registered trademark) AF (DuPont), polyvinylidene fluoride, Lumiflon (Asahi Glass), OPSTAR (JSR), etc. Can be mentioned.

架橋した含フッ素樹脂を構成成分とする低屈折率層は、動摩擦係数が0.03〜0.15の範囲、水に対する接触角が90〜120度の範囲にあることが好ましい。   The low refractive index layer containing a cross-linked fluororesin as a constituent component preferably has a dynamic friction coefficient in the range of 0.03 to 0.15 and a contact angle with water in the range of 90 to 120 degrees.

〈添加剤〉
低屈折率層塗布液には更に必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤などの添加剤を含有させても良い。シランカップリング剤は前記一般式(2)で表される化合物である。
<Additive>
If necessary, the low refractive index layer coating solution may further contain additives such as a silane coupling agent and a curing agent. The silane coupling agent is a compound represented by the general formula (2).

具体的には、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−(2−アミノエチルアミノプロピル)トリメトキシシラン等が挙げられる。   Specific examples include vinyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and 3- (2-aminoethylaminopropyl) trimethoxysilane.

硬化剤としては、酢酸ナトリウム、酢酸リチウム等の有機酸金属塩が挙げられ、特に酢酸ナトリウムが好ましい。珪素アルコキシシラン加水分解溶液に対する添加量は、加水分解溶液中に存在する固形分100質量部に対して0.1〜1質量部程度の範囲が好ましい。   Examples of the curing agent include organic acid metal salts such as sodium acetate and lithium acetate, and sodium acetate is particularly preferable. The amount of addition to the silicon alkoxysilane hydrolysis solution is preferably in the range of about 0.1 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the solid content present in the hydrolysis solution.

また、本発明に用いられる低屈折率層の塗布液には各種のレベリング剤、界面活性剤、シリコーンオイル等の低表面張力物質を添加することが好ましい。   Moreover, it is preferable to add low surface tension substances such as various leveling agents, surfactants, and silicone oils to the coating solution for the low refractive index layer used in the present invention.

シリコーンオイルとしては、具体的な商品としては、日本ユニカー(株)社のL−45、L−9300、FZ−3704、FZ−3703、FZ−3720、FZ−3786、FZ−3501、FZ−3504、FZ−3508、FZ−3705、FZ−3707、FZ−3710、FZ−3750、FZ−3760、FZ−3785、FZ−3785、Y−7499、信越化学社のKF96L、KF96、KF96H、KF99、KF54、KF965、KF968、KF56、KF995、KF351、KF352、KF353、KF354、KF355、KF615、KF618、KF945、KF6004、FL100等がある。   Specific examples of the silicone oil include L-45, L-9300, FZ-3704, FZ-3703, FZ-3720, FZ-3786, FZ-3501, and FZ-3504 of Nippon Unicar Co., Ltd. , FZ-3508, FZ-3705, FZ-3707, FZ-3710, FZ-3750, FZ-3760, FZ-3785, FZ-3785, Y-7499, Shin-Etsu Chemical KF96L, KF96, KF96H, KF99, KF54 , KF965, KF968, KF56, KF995, KF351, KF352, KF353, KF354, KF355, KF615, KF618, KF945, KF6004, FL100 and the like.

これらの成分は基材や下層への塗布性を高める。積層体最表面層に添加した場合には、塗膜の撥水、撥油性、防汚性を高めるばかりでなく、表面の耐擦り傷性にも効果を発揮する。これらの成分は添加量が多過ぎると塗布時にハジキの原因となるため、塗布液中の固形分成分に対し、0.01〜3質量%の範囲で添加することが好ましい。   These components enhance the applicability to the substrate and the lower layer. When added to the outermost surface layer of the laminate, it not only improves the water repellency, oil repellency and antifouling properties of the coating film, but also exhibits an effect on the scratch resistance of the surface. When these components are added in an excessive amount, they cause repelling during coating. Therefore, it is preferable to add them in a range of 0.01 to 3% by mass with respect to the solid component in the coating solution.

〈溶媒〉
低屈折率層を塗設する際の塗布液に使用する溶媒は、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、ブタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類;エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセルソルブ、ジエチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;N−メチルピロリドン、ジメチルフォルムアミド、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、水等が挙げられ、それらを単独又は2種以上混合して使用することが出来る。
<solvent>
Solvents used in the coating solution for coating the low refractive index layer are alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol and butanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone; benzene, toluene, Aromatic hydrocarbons such as xylene; glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, hexylene glycol; ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethyl carbitol, butyl carbitol, diethyl cellosolve, diethyl carbitol, propylene glycol monomethyl Examples include glycol ethers such as ether; N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, methyl lactate, ethyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, water, etc., and these may be used alone or in combination of two or more. That.

〈塗布方法〉
低屈折率層の塗布方法としては、ディッピング、スピンコート、ナイフコート、バーコート、エアードクターコート、ブレードコート、スクイズコート、リバースロールコート、グラビアロールコート、カーテンコート、スプレーコート、ダイコート等の公知の塗布方法又は公知のインクジェット法を用いることが出来、連続塗布又は薄膜塗布が可能な塗布方法が好ましく用いられる。塗布量はウェット膜厚で0.1〜30μmが適当で、好ましくは0.5〜15μmである。塗布速度は10〜80m/minが好ましい。
<Application method>
As a method of applying the low refractive index layer, known methods such as dipping, spin coating, knife coating, bar coating, air doctor coating, blade coating, squeeze coating, reverse roll coating, gravure roll coating, curtain coating, spray coating, die coating, etc. A coating method or a known inkjet method can be used, and a coating method capable of continuous coating or thin film coating is preferably used. The coating amount is suitably 0.1 to 30 μm, preferably 0.5 to 15 μm in terms of wet film thickness. The coating speed is preferably 10 to 80 m / min.

本発明の組成物を基材に塗布する際、塗布液中の固形分濃度や塗布量を調整することにより、層の膜厚及び塗布均一性等をコントロールすることが出来る。   When the composition of the present invention is applied to a substrate, the thickness of the layer, coating uniformity, and the like can be controlled by adjusting the solid content concentration and the coating amount in the coating solution.

本発明では、更に下記中屈折率層、高屈折率層を設け、複数の層を有する反射防止層を形成することも好ましい。   In the present invention, it is also preferable to further provide the following medium refractive index layer and high refractive index layer to form an antireflection layer having a plurality of layers.

本発明に用いることの出来る反射防止層の構成例を下記に示すが、これらに限定されるものではない。   Although the structural example of the antireflection layer which can be used for this invention is shown below, it is not limited to these.

セルロースエステルフィルム/ハードコート層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/ハードコート層/中屈折率層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/帯電防止層/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/ハードコート層/帯電防止層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
帯電防止層/セルロースエステルフィルム/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
(中屈折率層、高屈折率層)
中屈折率層、高屈折率層は所定の屈折率層が得られれば構成成分に特に制限はないが、下記屈折率の高い金属酸化物微粒子、バインダ等よりなることが好ましい。その他に添加剤を含有しても良い。中屈折率層の屈折率は1.55〜1.75であることが好ましく、高屈折率層の屈折率は1.75〜2.20であることが好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の厚さは、5nm〜1μmであることが好ましく、10nm〜0.2μmであることが更に好ましく、30nm〜0.1μmであることが最も好ましい。塗布は前記低屈折率層の塗布方法と同様にして行うことが出来る。
Cellulose ester film / hard coat layer / low refractive index layer Cellulose ester film / hard coat layer / medium refractive index layer / low refractive index layer Cellulose ester film / hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer Cellulose ester film / Hard coat layer / Medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Cellulose ester film / Antistatic layer / Hard coat layer / Medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Cellulose ester film / Hard coat Layer / antistatic layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer antistatic layer / cellulose ester film / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer cellulose ester film / Hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer (medium refractive index layer, high refractive index layer)
The medium refractive index layer and the high refractive index layer are not particularly limited as long as a predetermined refractive index layer is obtained, but are preferably composed of metal oxide fine particles, a binder and the like having the following high refractive index. In addition, you may contain an additive. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.55 to 1.75, and the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.75 to 2.20. The thickness of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 5 nm to 1 μm, more preferably 10 nm to 0.2 μm, and most preferably 30 nm to 0.1 μm. The coating can be performed in the same manner as the coating method for the low refractive index layer.

〈金属酸化物微粒子〉
金属酸化物微粒子は特に限定されないが、例えば、二酸化チタン、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化ジルコニウム(ジルコニア)、酸化亜鉛、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、五酸化アンチモン、酸化インジウム−スズ(ITO)、酸化鉄、等を主成分として用いることが出来る。また、これらの混合物でもよい。二酸化チタンを用いる場合は二酸化チタンをコアとし、シェルとしてアルミナ、シリカ、ジルコニア、ATO、ITO、五酸化アンチモン等で被覆させたコア/シェル構造を持った金属酸化物粒子を用いることが光触媒活性の抑制の点で好ましい。
<Metal oxide fine particles>
Although metal oxide fine particles are not particularly limited, for example, titanium dioxide, aluminum oxide (alumina), zirconium oxide (zirconia), zinc oxide, antimony-doped tin oxide (ATO), antimony pentoxide, indium-tin oxide (ITO), Iron oxide or the like can be used as a main component. A mixture of these may also be used. When titanium dioxide is used, photocatalytic activity can be achieved by using metal oxide particles having a core / shell structure in which titanium dioxide is the core and the shell is coated with alumina, silica, zirconia, ATO, ITO, antimony pentoxide, or the like. It is preferable in terms of suppression.

金属酸化物微粒子の屈折率は1.80〜2.60であることが好ましく、1.90〜2.50であることが更に好ましい。金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒径は5nm〜200nmであるが、10〜150nmであることが更に好ましい。粒径が小さ過ぎると金属酸化物微粒子が凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘイズが上昇し好ましくない。無機微粒子の形状は、米粒状、針状、球形状、立方体状、紡錘形状或いは不定形状であることが好ましい。   The refractive index of the metal oxide fine particles is preferably 1.80 to 2.60, more preferably 1.90 to 2.50. The average particle diameter of the primary particles of the metal oxide fine particles is 5 nm to 200 nm, more preferably 10 to 150 nm. If the particle size is too small, the metal oxide fine particles tend to aggregate and the dispersibility deteriorates. If the particle size is too large, the haze increases, which is not preferable. The shape of the inorganic fine particles is preferably a rice grain shape, a needle shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape or an indefinite shape.

金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理してもよい。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でも後述するシランカップリング剤が最も好ましい。二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。   The metal oxide fine particles may be surface-treated with an organic compound. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Among these, the silane coupling agent described later is most preferable. Two or more kinds of surface treatments may be combined.

金属酸化物の種類、添加比率を適切に選択することによって、所望の屈折率を有する高屈折率層、中屈折率層を得ることが出来る。   By appropriately selecting the kind and addition ratio of the metal oxide, a high refractive index layer and a medium refractive index layer having a desired refractive index can be obtained.

〈バインダ〉
バインダは塗膜の成膜性や物理特性の向上のために添加される。バインダとしては例えば、前述の電離放射線硬化型樹脂、アクリルアミド誘導体、多官能アクリレート、アクリル樹脂又はメタクリル樹脂などを用いることが出来る。
<Binder>
The binder is added to improve the film formability and physical properties of the coating film. As the binder, for example, the aforementioned ionizing radiation curable resin, acrylamide derivative, polyfunctional acrylate, acrylic resin or methacrylic resin can be used.

(金属化合物、シランカップリング剤)
その他の添加剤として金属化合物、シランカップリング剤などを添加しても良い。金属化合物、シランカップリング剤はバインダとして用いることも出来る。
(Metal compounds, silane coupling agents)
As other additives, a metal compound, a silane coupling agent, or the like may be added. Metal compounds and silane coupling agents can also be used as binders.

金属化合物としては下記一般式式(4)で表される化合物又はそのキレート化合物を用いることが出来る。   As the metal compound, a compound represented by the following general formula (4) or a chelate compound thereof can be used.

一般式(4):AnMBx−n
式中、Mは金属原子、Aは加水分解可能な官能基又は加水分解可能な官能基を有する炭化水素基、Bは金属原子Mに共有結合又はイオン結合した原子団を表す。xは金属原子Mの原子価、nは2以上でx以下の整数を表す。
General formula (4): AnMBx-n
In the formula, M represents a metal atom, A represents a hydrolyzable functional group or a hydrocarbon group having a hydrolyzable functional group, and B represents an atomic group covalently or ionically bonded to the metal atom M. x represents the valence of the metal atom M, and n represents an integer of 2 or more and x or less.

加水分解可能な官能基Aとしては、例えば、アルコキシル基、クロル原子等のハロゲン、エステル基、アミド基等が挙げられる。上記式(4)に属する金属化合物には、金属原子に直接結合したアルコキシル基を2個以上有するアルコキシド、又は、そのキレート化合物が含まれる。好ましい金属化合物としては、屈折率や塗膜強度の補強効果、取り扱い易さ、材料コスト等の観点から、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、ケイ素アルコキシド又はそれらのキレート化合物を挙げることが出来る。チタンアルコキシドは反応速度が速くて屈折率が高く、取り扱いも容易であるが、光触媒作用があるため大量に添加すると耐光性が劣化する。ジルコニウムアルコキシドは屈折率が高いが白濁し易いため、塗布する際の露点管理等に注意しなければならない。ケイ素アルコキシドは反応速度が遅く、屈折率も低いが、取り扱いが容易で耐光性に優れる。シランカップリング剤は無機微粒子と有機ポリマーの両方と反応することが出来るため、強靱な塗膜を作ることが出来る。また、チタンアルコキシドは紫外線硬化樹脂、金属アルコキシドの反応を促進する効果があるため、少量添加するだけでも塗膜の物理的特性を向上させることが出来る。   Examples of the hydrolyzable functional group A include halogens such as alkoxyl groups and chloro atoms, ester groups and amide groups. The metal compound belonging to the above formula (4) includes an alkoxide having two or more alkoxyl groups bonded directly to a metal atom, or a chelate compound thereof. Preferable metal compounds include titanium alkoxides, zirconium alkoxides, silicon alkoxides, and chelate compounds thereof from the viewpoints of the effect of reinforcing the refractive index and coating film strength, ease of handling, material cost, and the like. Titanium alkoxide has a high reaction rate and a high refractive index and is easy to handle. However, since it has a photocatalytic action, its light resistance deteriorates when added in a large amount. Zirconium alkoxide has a high refractive index but tends to become cloudy, so care must be taken in dew point management during coating. Silicon alkoxide has a slow reaction rate and a low refractive index, but is easy to handle and has excellent light resistance. Since the silane coupling agent can react with both the inorganic fine particles and the organic polymer, a tough coating film can be formed. Moreover, since titanium alkoxide has the effect of accelerating the reaction of the ultraviolet curable resin and metal alkoxide, the physical properties of the coating film can be improved by adding a small amount.

チタンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−iso−プロポキシチタン、テトラ−n−プロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタン、テトラ−sec−ブトキシチタン、テトラ−tert−ブトキシチタン等が挙げられる。   Examples of the titanium alkoxide include tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetra-iso-propoxy titanium, tetra-n-propoxy titanium, tetra-n-butoxy titanium, tetra-sec-butoxy titanium, tetra-tert-butoxy titanium, and the like. Is mentioned.

ジルコニウムアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラ−iso−プロポキシジルコニウム、テトラ−n−プロポキシジルコニウム、テトラ−n−ブトキシジルコニウム、テトラ−sec−ブトキシジルコニウム、テトラ−tert−ブトキシジルコニウム等が挙げられる。   Examples of the zirconium alkoxide include tetramethoxy zirconium, tetraethoxy zirconium, tetra-iso-propoxy zirconium, tetra-n-propoxy zirconium, tetra-n-butoxy zirconium, tetra-sec-butoxy zirconium, tetra-tert-butoxy zirconium and the like. Is mentioned.

ケイ素アルコキシド及びシランカップリング剤は下記一般式(5)で表される化合物である。   The silicon alkoxide and the silane coupling agent are compounds represented by the following general formula (5).

一般式(5):RmSi(OR′)n
式中、Rはアルキル基(好ましくは炭素数1〜10のアルキル基)、又は、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニル基、水酸基、カルボキシル基、アルコキシル基等の反応性基を表し、R′はアルキル基(好ましくは炭素数1〜10のアルキル基)を表し、m+nは4である。
Formula (5): RmSi (OR ′) n
In the formula, R is an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms), or a reaction such as a vinyl group, a (meth) acryloyl group, an epoxy group, an amide group, a sulfonyl group, a hydroxyl group, a carboxyl group, or an alkoxyl group. R ′ represents an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms), and m + n is 4.

具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−(2−アミノエチルアミノプロピル)トリメトキシシラン等が挙げられる。   Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, tetrapenta Ethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane , Γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3- (2-aminoethylaminopropyl) trimethoxysilane and the like.

遊離の金属化合物に配位させてキレート化合物を形成するのに好ましいキレート化剤としては、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、アセチルアセトン、アセト酢酸エチル等であって分子量1万以下のものを挙げることが出来る。これらのキレート化剤を用いることにより、水分の混入等に対しても安定で、塗膜の補強効果にも優れるキレート化合物を形成出来る。   Preferred chelating agents for forming a chelate compound by coordination with a free metal compound include alkanolamines such as diethanolamine and triethanolamine, glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol and propylene glycol, acetylacetone and acetoacetic acid. Examples thereof include ethyl and the like having a molecular weight of 10,000 or less. By using these chelating agents, it is possible to form a chelate compound that is stable against moisture mixing and is excellent in the effect of reinforcing the coating film.

金属化合物の添加量は、中屈折率組成物では金属酸化物に換算して5質量%未満であることが好ましく、高屈折率組成物では金属酸化物に換算して20質量%未満であることが好ましい。   The addition amount of the metal compound is preferably less than 5% by mass in terms of metal oxide in the medium refractive index composition, and less than 20% by mass in terms of metal oxide in the high refractive index composition. Is preferred.

〈偏光板〉
本発明の偏光板について述べる。
<Polarizer>
The polarizing plate of the present invention will be described.

本発明の偏光板は、厚みが70〜140μmであることが特徴である。該偏光板は、前述のように、本発明に係る薄膜PVA偏光膜を前記位相差板と少なくとも1枚の偏光板保護フィルムとで挟持した構造を有していることが好ましい。該偏光板の厚みとは、前記薄膜PVA偏光膜、前記位相差板及び偏光板保護フィルムとを合わせた合計の厚みであり、粘着層は含まず、上記偏光板保護フィルムがハードコート層を含む場合はそれを含む。   The polarizing plate of the present invention is characterized by a thickness of 70 to 140 μm. As described above, the polarizing plate preferably has a structure in which the thin film PVA polarizing film according to the present invention is sandwiched between the retardation plate and at least one polarizing plate protective film. The thickness of the polarizing plate is the total thickness of the thin film PVA polarizing film, the retardation plate, and the polarizing plate protective film, does not include the adhesive layer, and the polarizing plate protective film includes the hard coat layer. If you include it.

本発明の効果を得る上で、偏光板の厚みは上記範囲であることが必須であるが、好ましくは80〜120μmの範囲である。厚みが70μm未満であると偏光板のコシが低下し、液晶セルに貼合する際に、皺、気泡の巻き込み等の故障が発生し易い。厚みが140μmを超えると、乾燥、経時保存による偏光板のムラ、歪みが発生する為、好ましくない。   In order to obtain the effect of the present invention, the thickness of the polarizing plate is essential to be in the above range, but is preferably in the range of 80 to 120 μm. When the thickness is less than 70 μm, the stiffness of the polarizing plate is reduced, and failure such as wrinkles and entrainment of bubbles is likely to occur when bonding to a liquid crystal cell. When the thickness exceeds 140 μm, unevenness and distortion of the polarizing plate due to drying and storage over time are generated, which is not preferable.

偏光板は一般的な方法で作製することが出来る。本発明の位相差フィルムをアルカリ鹸化処理し、処理した位相差フィルムを、本発明に係る偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面にも本発明の位相差フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。本発明の位相差フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムには市販のセルロースエステルフィルムを用いることも出来る。例えば、市販のセルロースエステルフィルムとして、KC8UX2M、KC4UX、KC5UX、KC4UY、KC8UY、KC12UR、KC8UX−RHA(以上、コニカミノルタオプト(株)製)等が好ましく用いられる。   The polarizing plate can be produced by a general method. The retardation film of the present invention is preferably subjected to alkali saponification treatment, and the treated retardation film is preferably bonded to at least one surface of the polarizing film according to the present invention using a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution. The retardation film of the present invention may be used on the other surface, or another polarizing plate protective film may be used. With respect to the retardation film of the present invention, a commercially available cellulose ester film can be used as the polarizing plate protective film used on the other surface. For example, as a commercially available cellulose ester film, KC8UX2M, KC4UX, KC5UX, KC4UY, KC8UY, KC12UR, KC8UX-RHA (manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.) and the like are preferably used.

或いは更にディスコチック液晶、棒状液晶、コレステリック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることも好ましい。例えば、特開2003−98348記載の方法で光学異方性層を形成することが出来る。また、本発明に用いられる偏光板保護フィルムが反射防止層付き偏光板保護フィルムである場合、反射防止性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることも出来る。   Alternatively, it is also preferable to use a polarizing plate protective film that also serves as an optical compensation film having an optical anisotropic layer formed by aligning liquid crystal compounds such as discotic liquid crystal, rod-shaped liquid crystal, and cholesteric liquid crystal. For example, the optically anisotropic layer can be formed by the method described in JP-A-2003-98348. Moreover, when the polarizing plate protective film used for this invention is a polarizing plate protective film with an anti-reflective layer, it can also obtain the polarizing plate which is excellent in anti-reflective property and has the stable viewing angle expansion effect.

偏光膜は一軸方向(通常は長手方向)に延伸されているため、偏光板を高温高湿の環境下に置くと延伸方向(通常は長手方向)は縮み、延伸と垂直方向(通常は幅方向)には伸びる。偏光板保護用フィルムの膜厚が薄くなるほど偏光板の伸縮率は大きくなり、特に偏光膜の延伸方向の収縮量が大きい。通常、偏光膜の延伸方向は偏光板保護用フィルムの流延方向(MD方向)と貼り合わせるため、偏光板保護用フィルムを薄膜化する場合は、特に流延方向の伸縮率を抑えることが重要である。本発明の位相差フィルムは寸法安定に優れる為、このような偏光板保護フィルムとして好適に使用される。   Since the polarizing film is stretched in a uniaxial direction (usually the longitudinal direction), when the polarizing plate is placed in a high-temperature and high-humidity environment, the stretching direction (usually the longitudinal direction) shrinks, and the direction perpendicular to the stretching (usually the width direction) ) Will grow. As the thickness of the polarizing plate protective film becomes thinner, the expansion / contraction ratio of the polarizing plate increases, and in particular, the amount of contraction in the stretching direction of the polarizing film increases. Normally, the stretching direction of the polarizing film is bonded to the casting direction (MD direction) of the polarizing plate protective film. Therefore, when making the polarizing plate protective film thin, it is particularly important to suppress the stretching rate in the casting direction. It is. Since the retardation film of the present invention is excellent in dimensional stability, it is suitably used as such a polarizing plate protective film.

即ち60℃、90%RHの条件での耐久性試験によっても波打ち状のむらが増加することはなく、久性試験後に視野角特性が変動することなく良好な視認性を提供することが出来る。   That is, even in the durability test under the conditions of 60 ° C. and 90% RH, the wavy unevenness does not increase, and good visibility can be provided without changing the viewing angle characteristics after the durability test.

偏光板は、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成することが出来る。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶セルへ貼合する面側に用いられる。   The polarizing plate can be constituted by further bonding a protective film on one surface of the polarizing plate and a separate film on the other surface. The protective film and the separate film are used for the purpose of protecting the polarizing plate at the time of shipping the polarizing plate and at the time of product inspection. In this case, the protect film is bonded for the purpose of protecting the surface of the polarizing plate, and is used on the side opposite to the surface where the polarizing plate is bonded to the liquid crystal plate. Moreover, a separate film is used in order to cover the contact bonding layer bonded to a liquid crystal board, and is used for the surface side which bonds a polarizing plate to a liquid crystal cell.

この偏光板を用いることによって、高い表示性能の液晶表示装置を提供することが出来る。特に、直下型バックライトを使用した液晶表示装置において、環境変動が少なく、画面周辺部の光漏れが低減された液晶表示装置を得ることが出来る。   By using this polarizing plate, a liquid crystal display device with high display performance can be provided. In particular, in a liquid crystal display device using a direct type backlight, it is possible to obtain a liquid crystal display device in which environmental fluctuation is small and light leakage at the periphery of the screen is reduced.

〈表示装置〉
本発明の偏光板を表示装置に用いることによって、種々の視認性に優れた本発明の表示装置を作製することが出来る。本発明の位相差フィルムはSTN、TN、OCB、HAN、VA(MVA、PVA)、IPSなどの各種駆動方式の液晶表示装置に用いることが出来る。好ましくはVA(MVA,PVA)型液晶表示装置である。特に画面が30型以上の大画面の液晶表示装置であっても、環境変動が少なく、画面周辺部の光漏れが低減された液晶表示装置を得ることが出来る。特に、本発明の位相差フィルムを用いて製造された液晶表示装置の群では、光漏れが発生する頻度を低減することが出来る。
<Display device>
By using the polarizing plate of the present invention for a display device, the display device of the present invention having various visibility can be manufactured. The retardation film of the present invention can be used for liquid crystal display devices of various drive systems such as STN, TN, OCB, HAN, VA (MVA, PVA), and IPS. A VA (MVA, PVA) type liquid crystal display device is preferable. In particular, even a large-screen liquid crystal display device having a 30-inch or larger screen can provide a liquid crystal display device with little environmental fluctuation and reduced light leakage at the periphery of the screen. In particular, in the group of liquid crystal display devices manufactured using the retardation film of the present invention, the frequency of occurrence of light leakage can be reduced.

また、本発明の偏光板を用いた液晶表示装置に用いられるバックライトはサイドライト型であっても直下型であっても、これらを組み合わせたものであってもよいが、直下型バックライトであることが好ましい。特に好ましい直下型バックライトは、赤色(R)LED、緑色(G)LED、及び青色(B)LEDを有するカラー液晶表示装置用LEDバックライトであって、例えば、上記赤色(R)LEDのピーク波長が610nm以上であり、上記緑色(G)LEDのピーク波長が530±10nmの範囲内であり、上記青色(B)LEDのピーク波長が480nm以下であるものが好ましく用いられる。ピーク波長が上記範囲内の緑色(G)LEDの種類としては、例えば、DG1112H(スタンレー電気(株)製)、UG1112H(スタンレー電気(株)製)、E1L51−3G(豊田合成(株)製)、E1L49−3G(豊田合成(株)製)、NSPG500S(日亜化学工業(株)製)等が挙げられる。赤色(R)LEDとして用いられるLEDの種類としては、例えばFR1112H(スタンレー電気(株)製)、FR5366X(スタンレー電気(株)製)、NSTM515AS(日亜化学工業(株)製)、GL3ZR2D1COS(シャープ(株)製)、GM1JJ35200AE(シャープ(株)製)等が挙げられる。青色(B)LEDとして用いられるLEDの種類としては、DB1112H(スタンレー電気(株)製)、DB5306X(スタンレー電気(株)製)、E1L51−3B(豊田合成(株)製)、E1L4E−SB1A(豊田合成(株)製)、NSPB630S(日亜化学工業(株)製)、NSPB310A(日亜化学工業(株)製)等が挙げられる。
上述した3色のLEDを組み合わせてバックライトとすることが出来る。或いは白色LEDを用いることも出来る。
In addition, the backlight used in the liquid crystal display device using the polarizing plate of the present invention may be a sidelight type, a direct type, or a combination of these. Preferably there is. A particularly preferred direct type backlight is an LED backlight for a color liquid crystal display device having a red (R) LED, a green (G) LED, and a blue (B) LED, for example, the peak of the red (R) LED. Preferably, the wavelength is 610 nm or more, the peak wavelength of the green (G) LED is in the range of 530 ± 10 nm, and the peak wavelength of the blue (B) LED is 480 nm or less. Examples of types of green (G) LEDs having a peak wavelength within the above range include DG1112H (manufactured by Stanley Electric Co., Ltd.), UG1112H (manufactured by Stanley Electric Co., Ltd.), and E1L51-3G (manufactured by Toyoda Gosei Co., Ltd.). E1L49-3G (manufactured by Toyoda Gosei Co., Ltd.), NSPG500S (manufactured by Nichia Chemical Co., Ltd.), and the like. The types of LEDs used as red (R) LEDs include, for example, FR1112H (manufactured by Stanley Electric Co., Ltd.), FR5366X (manufactured by Stanley Electric Co., Ltd.), NSTM515AS (manufactured by Nichia Corporation), GL3ZR2D1COS (Sharp) GM1JJ35200AE (manufactured by Sharp Corporation) and the like. As types of LEDs used as blue (B) LEDs, DB1112H (manufactured by Stanley Electric Co., Ltd.), DB5306X (manufactured by Stanley Electric Co., Ltd.), E1L51-3B (manufactured by Toyoda Gosei Co., Ltd.), E1L4E-SB1A (manufactured by Stanley Electric Co., Ltd.) Toyoda Gosei Co., Ltd.), NSPB630S (Nichia Chemical Co., Ltd.), NSPB310A (Nichia Chemical Co., Ltd.), and the like.
A backlight can be formed by combining the above-described three-color LEDs. Alternatively, a white LED can be used.

このほか、直下型バックライト(若しくは直下方式)としては、特開2001−281656に記載の直下型バックライトや、特開2001−305535記載のLED等の点状光源を使用した直下型バックライト、特開2002−311412記載の直下方式のバックライトなどが挙げられるが特にこれらのみに限定されるわけではない。   In addition, as a direct type backlight (or direct type), a direct type backlight described in JP-A No. 2001-281656, a direct type backlight using a point light source such as an LED described in JP-A No. 2001-305535, Examples include a direct type backlight described in JP-A-2002-311412, but are not limited thereto.

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中の「%」および「部」は、特に断りのない限りそれぞれ「質量%」および「質量部」を表す。実施例中の二色性比は以下の方法により評価した。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, “%” and “part” represent “% by mass” and “part by mass”, respectively, unless otherwise specified. The dichroic ratio in the examples was evaluated by the following method.

二色性比:偏光膜の偏光性能を評価する指標として二色性比を使用した。この二色性比は、日本電子機械工業会規格(EIAJ)LD−201−1983に準拠し、分光光度計を用いて、C光源、2度視野にて測定・計算して得た透過率Ts(%)と偏光度P(%)を使用して下記の式から求めた。
二色性比=log(Ts/100−(Ts/100)×P/100)/log(Ts/100+(Ts/100)×P/100)
実施例1
《偏光膜の作製》
(偏光膜1の作製)
カチオン性基含有単位(3−メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロリド単位)を0.3モル%、エチレン単位を2.5モル%含有し、酢酸ビニル部分のケン化度99.2モル%、4%水溶液の20℃におけるブルックフィールド型粘度(ロータNo.1使用)が38mPa・sであるPVAにグリセリンを12%および水を添加し、湯浴上で水分率85%の水溶液を調製した。この水溶液をスリットから表面温度70℃のロール上に吐出させて、乾燥後熱処理を行い、厚さ75μmのPVAフィルムを得た。このPVAフィルムの膨潤性の程度を確認するために、該PVAフィルムを攪拌下に30℃の蒸留水中で10分間膨潤させたところ、膨潤度は180%であった。前記PVAフィルムを、一軸延伸、染色、固定処理、乾燥の順番で連続的に処理して、偏光膜を作製した。すなわち、PVAフィルムを4%のホウ酸水溶液中(浴温度55℃)に浸漬し、次いで一軸延伸して6倍に延伸し、延伸された状態のまま0.65%の二色性染料(ダイレクトスカイブルー6B)水溶液(浴温度40℃)に1分間浸漬して染料を吸着させ、次いで4%のホウ酸水溶液中(浴温度35℃)で4分間処理後、50℃の熱風乾燥を行って偏光膜を得た。偏光膜の厚さは15μmであった。なお、偏光膜の製造に用いられたPVAフィルムの膨潤度(PVAフィルムを攪拌下に30℃の蒸留水中で10分間膨潤させた)は185%であった。得られた偏光膜の両面に、表面をけん化処理したトリアセチルセルロースフィルムをPVA117H((株)クラレ製)水溶液を用いて貼り合わせ、偏光板を作製した。偏光板の透過率、偏光度、二色性比を測定し表1に示した。
Dichroic ratio: The dichroic ratio was used as an index for evaluating the polarizing performance of the polarizing film. This dichroic ratio is a transmittance Ts obtained by measuring and calculating with a spectrophotometer in a C light source and a two-degree field of view in accordance with the Japan Electronic Machinery Manufacturers Association (EIAJ) LD-201-1983. (%) And polarization degree P (%) were used to obtain the following formula.
Dichroic ratio = log (Ts / 100− (Ts / 100) × P / 100) / log (Ts / 100 + (Ts / 100) × P / 100)
Example 1
<Production of polarizing film>
(Preparation of polarizing film 1)
Cationic group-containing unit (3-methacrylamideamidopropyltrimethylammonium chloride unit) 0.3 mol%, ethylene unit 2.5 mol%, saponification degree of vinyl acetate part 99.2 mol%, 4% aqueous solution 12% of glycerin and water were added to PVA having a Brookfield viscosity (using rotor No. 1) of 38 mPa · s at 20 ° C., and an aqueous solution having a water content of 85% was prepared on a hot water bath. This aqueous solution was discharged from a slit onto a roll having a surface temperature of 70 ° C., followed by heat treatment after drying to obtain a PVA film having a thickness of 75 μm. In order to confirm the degree of swelling of the PVA film, the PVA film was swollen in distilled water at 30 ° C. for 10 minutes with stirring, and the degree of swelling was 180%. The PVA film was continuously processed in the order of uniaxial stretching, dyeing, fixing treatment, and drying to prepare a polarizing film. That is, the PVA film was immersed in 4% boric acid aqueous solution (bath temperature 55 ° C.), then uniaxially stretched and stretched 6 times, and 0.65% dichroic dye (direct Sky Blue 6B) Immerse in an aqueous solution (bath temperature 40 ° C.) for 1 minute to adsorb the dye, then treat in 4% boric acid aqueous solution (bath temperature 35 ° C.) for 4 minutes, then dry with hot air at 50 ° C. A polarizing film was obtained. The thickness of the polarizing film was 15 μm. The swelling degree of the PVA film used for the production of the polarizing film (the PVA film was swollen in distilled water at 30 ° C. for 10 minutes with stirring) was 185%. A triacetyl cellulose film whose surface was saponified was bonded to both surfaces of the obtained polarizing film using an aqueous solution of PVA117H (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) to prepare a polarizing plate. The transmittance, polarization degree, and dichroism ratio of the polarizing plate were measured and shown in Table 1.

(偏光膜2の作製)
カチオン性基含有単位(3−メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロリド単位)を2.0モル%、エチレン単位を4.5モル%含有し、酢酸ビニル部分のケン化度98.7モル%、4%水溶液の20℃におけるブルックフィールド型粘度(ロータNo.1使用)が25mPa・sであるPVAを原料として用いて、厚さ75μmのPVAフィルムを得たこと、および二色性染料(ダイレクトスカイブルー6B)水溶液の濃度を0.5%にした以外は実施例1と同様にして、偏光膜、さらには偏光板を製造した。得られた偏光膜の厚さは13μmであった。偏光板の透過率、偏光度、二色性比を測定し表1に示した。
(Preparation of polarizing film 2)
A cationic group-containing unit (3-methacrylamidopropyltrimethylammonium chloride unit) is contained in an amount of 2.0 mol%, an ethylene unit is contained in an amount of 4.5 mol%, and the degree of saponification of the vinyl acetate moiety is 98.7 mol%, 4% aqueous solution. A PVA film having a Brookfield viscosity at 20 ° C. (using rotor No. 1) of 25 mPa · s was used as a raw material, and a 75 μm thick PVA film was obtained, and a dichroic dye (Direct Sky Blue 6B) A polarizing film and further a polarizing plate were produced in the same manner as in Example 1 except that the concentration of the aqueous solution was 0.5%. The thickness of the obtained polarizing film was 13 μm. The transmittance, polarization degree, and dichroism ratio of the polarizing plate were measured and shown in Table 1.

(偏光膜3の作製)
実施例2において用いたのと同様のPVAフィルムを用い、これを一軸延伸、染色、固定処理、乾燥の順番で連続的に処理して、偏光膜を作製した。すなわち、PVAフィルムを、75℃の空気中で乾式法により一軸延伸して8倍に延伸を行い、延伸された状態のまま0.5%の二色性染料(ダイレクトスカイブルー6B)水溶液(浴温度40℃)に1分間浸漬して染料を吸着させ、次いで4%のホウ酸水溶液中(浴温度35℃)で4分間処理後、50℃の熱風乾燥を行って偏光膜を得た。偏光膜の厚さは5μmであった。その後、得られた偏光膜の両面に、表面をけん化処理したトリアセチルセルロースフィルムをPVA117H((株)クラレ製)水溶液を用いて貼り合わせ、偏光板を作製した。偏光板の透過率、偏光度、二色性比を測定し表1に示した。
(Preparation of polarizing film 3)
A PVA film similar to that used in Example 2 was used, and this was continuously processed in the order of uniaxial stretching, dyeing, fixing treatment, and drying to produce a polarizing film. That is, the PVA film was uniaxially stretched in air at 75 ° C. by a dry method and stretched 8 times, and a 0.5% dichroic dye (direct sky blue 6B) aqueous solution (bath) in the stretched state. The dye was adsorbed by immersion for 1 minute in a temperature of 40 ° C., then treated for 4 minutes in a 4% aqueous boric acid solution (bath temperature 35 ° C.) and then dried with hot air at 50 ° C. to obtain a polarizing film. The thickness of the polarizing film was 5 μm. Then, the triacetylcellulose film which saponified the surface was bonded together on both surfaces of the obtained polarizing film using PVA117H (made by Kuraray Co., Ltd.) aqueous solution, and the polarizing plate was produced. The transmittance, polarization degree, and dichroism ratio of the polarizing plate were measured and shown in Table 1.

(偏光膜4の作製)
カチオン性基含有単位(3−メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロリド単位)を2.0モル%、エチレン単位を5.2モル%含有し、酢酸ビニル部分のケン化度98.9モル%、4%水溶液の20℃におけるブルックフィールド型粘度(ロータNo.1使用)が17mPa・sであるPVAを原料として用い、厚さ75μmのPVAフィルムを得たこと以外は実施例2と同様にして、偏光膜、さらには偏光板を製造した。得られた偏光膜の厚さは14μmであった。偏光板の透過率、偏光度、二色性比を測定し表1に示した。
(Preparation of polarizing film 4)
A cationic group-containing unit (3-methacrylamidopropyltrimethylammonium chloride unit) is contained in an amount of 2.0 mol%, an ethylene unit is contained in an amount of 5.2 mol%, and the degree of saponification of the vinyl acetate portion is 98.9 mol%, a 4% aqueous solution. In the same manner as in Example 2, except that a PVA film having a Brookfield viscosity at 20 ° C. (using rotor No. 1) of 17 mPa · s was used as a raw material and a 75 μm-thick PVA film was obtained, Furthermore, a polarizing plate was produced. The thickness of the obtained polarizing film was 14 μm. The transmittance, polarization degree, and dichroism ratio of the polarizing plate were measured and shown in Table 1.

(偏光膜5の作製)
カチオン性基含有単位(3−アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロリド単位)を2.0モル%、エチレン単位を4.7モル%含有し、酢酸ビニル部分のケン化度98.6モル%、4%水溶液の20℃におけるブルックフィールド型粘度(ロータNo.1使用)が26mPa・sであるPVAを原料として用い、厚さ75μmのPVAフィルムを得たこと以外は実施例2と同様にして、偏光膜、さらには偏光板を製造した。得られた偏光膜の厚さは18μmであった。偏光板の透過率、偏光度、二色性比を測定し表1に示した。
(Preparation of polarizing film 5)
It contains 2.0 mol% of a cationic group-containing unit (3-acrylamidopropyltrimethylammonium chloride unit) and 4.7 mol% of an ethylene unit, and the saponification degree of the vinyl acetate portion is 98.6 mol% and 4% of an aqueous solution. Using a PVA film having a Brookfield viscosity at 20 ° C. (using rotor No. 1) of 26 mPa · s as a raw material and obtaining a 75 μm-thick PVA film, a polarizing film, Produced a polarizing plate. The thickness of the obtained polarizing film was 18 μm. The transmittance, polarization degree, and dichroism ratio of the polarizing plate were measured and shown in Table 1.

(偏光膜6の作製:比較例)
カチオン性基含有単位(3−メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロリド単位)を1.0モル%、エチレン単位を2.5モル%含有し、酢酸ビニル部分のケン化度99.0モル%、4%水溶液の20℃におけるブルックフィールド型粘度(ロータNo.1使用)が27mPa・sであるPVAを原料として用いた以外は実施例1と同様にして、厚さ80μmのPVAフィルム、さらには偏光膜および偏光板を製造した。得られた偏光膜の厚さは20μmであった。偏光板の透過率、偏光度、二色性比を測定し表1に示した。
(Preparation of polarizing film 6: comparative example)
A cationic group-containing unit (3-methacrylamidopropyltrimethylammonium chloride unit) is contained in an amount of 1.0 mol%, an ethylene unit is contained in an amount of 2.5 mol%, and the degree of saponification of the vinyl acetate moiety is 99.0 mol%, 4% aqueous solution. A PVA film having a thickness of 80 μm, a polarizing film, and a polarizing film, except that PVA having a Brookfield viscosity at 20 ° C. (using rotor No. 1) of 27 mPa · s was used as a raw material. A board was produced. The thickness of the obtained polarizing film was 20 μm. The transmittance, polarization degree, and dichroism ratio of the polarizing plate were measured and shown in Table 1.

(偏光膜7の作製:比較例)
PVA−HC((株)クラレ製、無変性、酢酸ビニル部分のケン化度99.9モル%、4%水溶液の20℃におけるブルックフィールド型粘度(ロータNo.1使用)が25mPa・s)のPVAを原料として用いて、厚さ75μmのPVAフィルムを得たこと、および二色性染料(ダイレクトスカイブルー6B)水溶液の濃度を1.0%にした以外は実施例1と同様にして、偏光膜、さらには偏光板を製造した。得られた偏光膜の厚さは15μmであった。偏光板の透過率、偏光度、二色性比を測定し表1に示した。
(Preparation of polarizing film 7: comparative example)
PVA-HC (manufactured by Kuraray Co., Ltd., unmodified, saponification degree of vinyl acetate part 99.9 mol%, Brookfield type viscosity at 20 ° C. of 4% aqueous solution (using rotor No. 1) of 25 mPa · s) Polarization was performed in the same manner as in Example 1 except that a PVA film having a thickness of 75 μm was obtained using PVA as a raw material and that the concentration of the aqueous solution of the dichroic dye (direct sky blue 6B) was 1.0%. A film and further a polarizing plate were produced. The thickness of the obtained polarizing film was 15 μm. The transmittance, polarization degree, and dichroism ratio of the polarizing plate were measured and shown in Table 1.

(偏光膜:比較例)
カチオン性基含有単位(3−アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロリド単位)を0.2モル%含有し、酢酸ビニル部分のケン化度99.6モル%、4%水溶液の20℃におけるブルックフィールド型粘度(ロータNo.1使用)が27mPa・sであるPVAを原料として用いた以外は実施例2と同様にして、厚さ75μmのPVAフィルムを得、さらに偏光膜および偏光板を製造した。得られた偏光膜の厚さは18μmであった。偏光板の透過率、偏光度、二色性比を測定し表1に示した。
(Polarizing film: Comparative example)
Brookfield type viscosity (rotor) at 20 ° C. of a cationic group-containing unit (3-acrylamidopropyltrimethylammonium chloride unit) containing 0.2 mol%, saponification degree of vinyl acetate part 99.6 mol%, 4% aqueous solution A PVA film having a thickness of 75 μm was obtained in the same manner as in Example 2 except that PVA having a No. 1 use of 27 mPa · s was used as a raw material, and a polarizing film and a polarizing plate were further produced. The thickness of the obtained polarizing film was 18 μm. The transmittance, polarization degree, and dichroism ratio of the polarizing plate were measured and shown in Table 1.

Figure 2007047382
Figure 2007047382

《位相差フィルムの作製》
(位相差フィルム101の作製)
セルロースエステルについては、表2に示す置換度及び置換基の種類を変化させたものを用いた。
<< Production of retardation film >>
(Preparation of retardation film 101)
About the cellulose ester, what changed the substitution degree and the kind of substituent which are shown in Table 2 was used.

Figure 2007047382
Figure 2007047382

〈微粒子分散液〉
微粒子(アエロジルR972V(日本アエロジル株式会社製)) 11質量部
(一次粒子の平均径16nm、見掛け比重90g/リットル)
エタノール 89質量部
以上をディゾルバーで50分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。
<Fine particle dispersion>
Fine particles (Aerosil R972V (produced by Nippon Aerosil Co., Ltd.)) 11 parts by mass (average diameter of primary particles 16 nm, apparent specific gravity 90 g / liter)
89 parts by mass of ethanol or more was stirred and mixed with a dissolver for 50 minutes, and then dispersed with Manton Gorin.

〈微粒子添加液〉
メチレンクロライドを入れた溶解タンクにセルロースエステルAを添加し、加熱して完全に溶解させた後、これを安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過した。濾過後のセルロースエステル溶液を充分に攪拌しながら、ここに上記微粒子分散液をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線(株)製のファインメットNFで濾過し、微粒子添加液を調製した。
<Fine particle additive solution>
Cellulose ester A was added to a dissolution tank containing methylene chloride and heated to completely dissolve, and this was then added to Azumi filter paper No. 3 manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd. Filtered using 244. While finely stirring the filtered cellulose ester solution, the fine particle dispersion was slowly added thereto. Further, the particles were dispersed by an attritor so that the secondary particles had a predetermined particle size. This was filtered through Finemet NF manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd. to prepare a fine particle additive solution.

メチレンクロライド 99質量部
セルロースエステルA 4質量部
微粒子分散液 11質量部
下記組成の主ドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースエステルAを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し、更に可塑剤及び紫外線吸収剤を添加、溶解させた。これを安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、主ドープ液を調製した。
Methylene chloride 99 parts by weight Cellulose ester A 4 parts by weight Fine particle dispersion 11 parts by weight A main dope solution having the following composition was prepared. First, methylene chloride and ethanol were added to the pressure dissolution tank. Cellulose ester A was added to a pressurized dissolution tank containing a solvent while stirring. This was heated and stirred to completely dissolve, and a plasticizer and an ultraviolet absorber were further added and dissolved. This was designated as Azumi Filter Paper No. The main dope solution was prepared by filtration using 244.

主ドープ液100質量部と微粒子添加液5質量部となるように加えて、インラインミキサー(東レ静止型管内混合機 Hi−Mixer、SWJ)で十分に混合し、次いでベルト流延装置を用い、幅2mのステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体上で、残留溶媒量が110%になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体から剥離した。剥離の際に張力をかけて縦(MD)延伸倍率が1.1倍となるように延伸し、次いで、テンターでウェブ両端部を把持し、幅手(TD)方向の延伸倍率が1.3倍となるように延伸した。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持し、幅方向の張力を緩和させた後幅保持を解放し、更に125℃に設定された第3乾燥ゾーンで30分間搬送させて乾燥を行い、幅1.5m、かつ端部に幅1cm、高さ8μmのナーリングを有する膜厚60μmの位相差フィルム101を作製した。   In addition to adding 100 parts by mass of the main dope solution and 5 parts by mass of the fine particle additive solution, mix thoroughly with an in-line mixer (Toray static type in-pipe mixer Hi-Mixer, SWJ), and then use a belt casting device to It was cast uniformly on a 2 m stainless steel band support. On the stainless steel band support, the solvent was evaporated until the residual solvent amount became 110%, and the stainless steel band support was peeled off. When peeling, the film is stretched so that the longitudinal (MD) stretch ratio is 1.1 times, and then both ends of the web are held by a tenter, and the stretch ratio in the width (TD) direction is 1.3. It extended | stretched so that it might become double. After stretching, hold for several seconds while maintaining its width, release the width holding after relaxing the tension in the width direction, further carry for 30 minutes in the third drying zone set at 125 ° C., and perform drying, A retardation film 101 having a film thickness of 60 μm having a width of 1.5 m, a knurling having a width of 1 cm at the end and a height of 8 μm was produced.

〈主ドープ液の組成〉
メチレンクロライド 390質量部
エタノール 80質量部
セルロースエステルA 100質量部
可塑剤:トリメチロールプロパントリベンゾエート 5質量部
可塑剤:エチルフタリルエチルグリコレート 5.5質量部
紫外線吸収剤:チヌビン109(チバスペシャルティケミカルズ(株)製)
1質量部
紫外線吸収剤:チヌビン171(チバスペシャルティケミカルズ(株)製)
1質量部
ドープ液の組成(セルロースエステル)、膜厚を表3に記載のように変更した以外は、上記と同様にして位相差フィルム102〜108を作製した。
<Composition of main dope solution>
Methylene chloride 390 parts by weight Ethanol 80 parts by weight Cellulose ester A 100 parts by weight Plasticizer: Trimethylolpropane tribenzoate 5 parts by weight Plasticizer: Ethylphthalyl ethyl glycolate 5.5 parts by weight Ultraviolet absorber: Tinuvin 109 (Ciba Specialty Chemicals) (Made by Co., Ltd.)
1 part by mass UV absorber: Tinuvin 171 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
1 part by mass Retardation films 102 to 108 were produced in the same manner as described above except that the composition (cellulose ester) of the dope solution and the film thickness were changed as shown in Table 3.

得られた位相差フィルム101〜108について、下記測定により面内リターデーション値Ro、厚み方向のリターデーション値Rt及び表裏面の屈折率を測定し、結果を表3に示した。   With respect to the obtained retardation films 101 to 108, the in-plane retardation value Ro, the retardation value Rt in the thickness direction, and the refractive index of the front and back surfaces were measured by the following measurements, and the results are shown in Table 3.

〈リターデーション値の測定〉
Ro=(nx−ny)×d
Rt=((nx+ny)/2−nz)×d
(式中、nx、ny、nzはそれぞれ屈折率楕円体の主軸x、y、z方向の屈折率を表し、かつ、nx、nyはフィルム面内方向の屈折率を、nzはフィルムの厚み方向の屈折率を表す。また、nx>nyであり、dはフィルムの厚み(nm)を表す。)
アッベ屈折率計(1T)に偏光板付き接眼鏡を付け、分光光源を用いて位相差フィルムの両方の面のフィルム面内の一方向とそれに直行する方向およびフィルム面に垂直方向の屈折率を測定し、それらからの平均値より平均屈折率を求めた。また、市販のマイクロメーターを用いてフィルムの厚さを測定した。
<Measurement of retardation value>
Ro = (nx−ny) × d
Rt = ((nx + ny) / 2−nz) × d
(In the formula, nx, ny, and nz represent the refractive indexes in the principal axis x, y, and z directions of the refractive index ellipsoid, respectively, and nx and ny represent the refractive index in the film in-plane direction, and nz represents the thickness direction of the film. (In addition, nx> ny, and d represents the thickness (nm) of the film.)
Attach eyepiece with polarizing plate to Abbe refractometer (1T), and use a spectral light source to measure the refractive index in one direction in the film surface of both sides of the retardation film, the direction perpendicular to it and the direction perpendicular to the film surface. The average refractive index was determined from the average value obtained by measurement. Moreover, the thickness of the film was measured using a commercially available micrometer.

自動複屈折計KOBRA−21ADH(王子計測機器(株)製)を用いて、23℃、55%RHの環境下24時間放置したフィルムにおいて、同環境下、波長が590nmにおけるフィルムのリターデーション測定を行った。上述の平均屈折率と膜厚を上記式に入力し、面内リターデーション値(Ro)及び厚み方向のリターデーション値(Rt)の値を得た。   Using an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments), film retardation measurement at a wavelength of 590 nm was performed under the same environment for 24 hours in an environment of 23 ° C. and 55% RH. went. The above-mentioned average refractive index and film thickness were input into the above formula to obtain in-plane retardation value (Ro) and thickness direction retardation value (Rt).

〈表裏面の屈折率の測定〉
23℃55%RHの環境で試料(フィルム)を24時間放置し、同じ環境にてアッベ屈折率計(1T)を用いて位相差フィルムの表面及び裏面の平均屈折率を測定した。ここでフィルム表面とはドープを流延する際のステンレスバンド支持体とは反対の面であり、フィルム裏面とはドープを流延する際のステンレスバンド支持体側の面をいう。
<Measurement of refractive index of front and back surfaces>
The sample (film) was allowed to stand for 24 hours in an environment of 23 ° C. and 55% RH, and the average refractive index of the front and back surfaces of the retardation film was measured using an Abbe refractometer (1T) in the same environment. Here, the film surface is the surface opposite to the stainless steel band support when casting the dope, and the film back surface is the surface on the stainless steel band support side when casting the dope.

Figure 2007047382
Figure 2007047382

《偏光板保護フィルムの作製》
(偏光板保護フィルム201の作製)
(二酸化珪素分散液)
アエロジル972V(日本アエロジル(株)製) 12質量部
(一次粒子の平均径16nm、見掛け比重90g/リットル)
エタノール 88質量部
以上をディゾルバーで30分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。二酸化珪素分散液に88質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで30分間撹拌混合し、二酸化珪素分散希釈液を作製した。
<< Production of polarizing plate protective film >>
(Preparation of polarizing plate protective film 201)
(Silicon dioxide dispersion)
Aerosil 972V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 12 parts by mass (average primary particle diameter 16 nm, apparent specific gravity 90 g / liter)
88 parts by mass of ethanol or more was stirred and mixed with a dissolver for 30 minutes, and then dispersed with Manton Gorin. 88 parts by mass of methylene chloride was added to the silicon dioxide dispersion while stirring, and the mixture was stirred and mixed for 30 minutes with a dissolver to prepare a silicon dioxide dispersion dilution.

(インライン添加液の作製)
チヌビン109(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 11質量部
チヌビン171(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 5質量部
メチレンクロライド 100質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、濾過した。
(Production of in-line additive solution)
Tinuvin 109 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 11 parts by mass Tinuvin 171 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts by mass Methylene chloride 100 parts by mass Dissolved and filtered.

これに二酸化珪素分散希釈液を36質量部、撹拌しながら加えて、さらに30分間撹拌した後、セルロースアセテートプロピオネート(アセチル基置換度1.9、プロピオニル基置換度0.8)6質量部を撹拌しながら加えて、さらに60分間撹拌した後、アドバンテック東洋(株)のポリプロピレンワインドカートリッジフィルターTCW−PPS−1Nで濾過し、インライン添加液を調製した。   To this, 36 parts by mass of the silicon dioxide dispersion diluted solution was added with stirring, and further stirred for 30 minutes, and then 6 parts by mass of cellulose acetate propionate (acetyl group substitution degree 1.9, propionyl group substitution degree 0.8). Was added with stirring, and the mixture was further stirred for 60 minutes, and then filtered through a polypropylene wind cartridge filter TCW-PPS-1N manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd. to prepare an in-line additive solution.

(ドープ液の調製)
セルロースエステル(リンター綿から合成されたセルローストリアセテート)
100質量部
(Mn=148000、Mw=310000、Mw/Mn=2.1、アセチル基置換度2.92)
トリメチロールプロパントリベンゾエート 5.0質量部
エチルフタリルエチルグリコレート 5.5質量部
メチレンクロライド 440質量部
エタノール 40質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.24を使用して濾過し、ドープ液を調製した。
(Preparation of dope solution)
Cellulose ester (cellulose triacetate synthesized from linter cotton)
100 parts by mass (Mn = 148000, Mw = 310000, Mw / Mn = 2.1, acetyl group substitution degree 2.92)
Trimethylolpropane tribenzoate 5.0 parts by weight Ethylphthalylethyl glycolate 5.5 parts by weight Methylene chloride 440 parts by weight Ethanol 40 parts by weight The above is put into a closed container, heated and stirred, and completely dissolved. Azumi Filter Paper No. manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd. No. 24 was used for filtration to prepare a dope solution.

製膜ライン中で日本精線(株)製のファインメットNFでドープ液を濾過した。インライン添加液ライン中で、日本精線(株)製のファインメットNFでインライン添加液を濾過した。濾過したドープ液を100質量部に対し、濾過したインライン添加液を2質量部加えて、インラインミキサー(東レ静止型管内混合機 Hi−Mixer、SWJ)で十分混合し、次いで、ベルト流延装置を用い、温度35℃、1.8m幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が120%になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。剥離したセルロースエステルのウェブを35℃で溶媒を蒸発させ、1.65m幅にスリットし、その後、テンターでTD方向(フィルムの搬送方向と直交する方向)に1.05倍に延伸しながら、135℃の乾燥温度で、乾燥させた。このときテンターで延伸を始めたときの残留溶剤量は30%であった。   The dope solution was filtered with Finemet NF manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd. in the film production line. In the inline additive solution line, the inline additive solution was filtered with Finemet NF manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd. Add 2 parts by weight of the filtered in-line additive to 100 parts by weight of the filtered dope solution, mix thoroughly with an in-line mixer (Toray static type in-pipe mixer Hi-Mixer, SWJ), and then use a belt casting apparatus. Used at a temperature of 35 ° C. and a width of 1.8 m and uniformly cast on a stainless steel band support. With the stainless steel band support, the solvent was evaporated until the residual solvent amount became 120%, and then peeled off from the stainless steel band support. The peeled cellulose ester web was evaporated at 35 ° C., slit to 1.65 m width, and then stretched by 1.05 times in the TD direction (direction perpendicular to the film transport direction) with a tenter. Drying was performed at a drying temperature of ° C. At this time, the residual solvent amount when starting stretching with a tenter was 30%.

その後、110℃、120℃の乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、1.5m幅にスリットし、フィルム両端に幅15mm、平均高さ10μmのナーリング加工を施し、平均膜厚が80μmの偏光板保護フィルム201を作製した。   Then, drying is completed while transporting a drying zone of 110 ° C. and 120 ° C. with a number of rolls, slitting to a width of 1.5 m, and knurling of a width of 15 mm and an average height of 10 μm is performed on both ends of the film, and the average film thickness Produced a polarizing plate protective film 201 having a thickness of 80 μm.

リターデーション値の測定をしたところ、Ro、Rtが各々3nm、20nmであり本発明で言う位相差フィルムではなかった。   When the retardation value was measured, Ro and Rt were 3 nm and 20 nm, respectively, and it was not a retardation film referred to in the present invention.

(偏光板保護フィルム202の作製)
平均膜厚を60μmに変更した以外は偏光板保護フィルム1の作製と同様にして、1.5m幅、平均膜厚60μmの偏光板保護フィルム202を作製した。
(Preparation of polarizing plate protective film 202)
A polarizing plate protective film 202 having a width of 1.5 m and an average film thickness of 60 μm was prepared in the same manner as the polarizing plate protective film 1 except that the average film thickness was changed to 60 μm.

リターデーション値は、Ro、Rtが各々2nm、17nmであり本発明で言う位相差フィルムではなかった。   The retardation values were Ro and Rt of 2 nm and 17 nm, respectively, and were not retardation films as referred to in the present invention.

(偏光板保護フィルム203の作製)
平均膜厚を40μmに変更した以外は偏光板保護フィルム1の作製と同様にして、1.5m幅、平均膜厚40μmの偏光板保護フィルム203を作製した。
(Preparation of polarizing plate protective film 203)
A polarizing plate protective film 203 having a width of 1.5 m and an average film thickness of 40 μm was prepared in the same manner as the polarizing plate protective film 1 except that the average film thickness was changed to 40 μm.

リターデーション値は、Ro、Rtが各々1nm、15nmであり本発明で言う位相差フィルムではなかった。   The retardation values were Ro and Rt of 1 nm and 15 nm, respectively, and were not retardation films as referred to in the present invention.

《偏光板の作製》
〈偏光板の作製〉
下記工程1〜5に従って上記作製した偏光膜1〜8を、上記作製した位相差フィルム101〜108及び偏光板保護フィルム201〜203により挟持するように、下記表4に記載の組み合わせで貼合して偏光板1〜26を作製した。
<Production of polarizing plate>
<Preparation of polarizing plate>
The polarizing films 1 to 8 prepared according to the following steps 1 to 5 are bonded together in the combinations shown in Table 4 below so as to be sandwiched between the prepared retardation films 101 to 108 and the polarizing plate protective films 201 to 203. Thus, polarizing plates 1 to 26 were produced.

工程1:60℃の2モル/Lの水酸化ナトリウム溶液に90秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光膜と貼合する側を鹸化した位相差フィルム及び偏光板保護フィルムを得た。   Step 1: It was immersed in a 2 mol / L sodium hydroxide solution at 60 ° C. for 90 seconds, then washed with water and dried to obtain a retardation film and a polarizing plate protective film in which the side to be bonded to the polarizing film was saponified.

工程2:前記偏光膜を固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤槽中に1〜2秒浸漬した。   Step 2: The polarizing film was immersed in a polyvinyl alcohol adhesive tank having a solid content of 2% by mass for 1 to 2 seconds.

工程3:工程2で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程1で処理した位相差フィルム及び偏光板保護フィルムの上にのせて配置した。   Step 3: Excess adhesive adhered to the polarizing film in Step 2 was gently wiped off and placed on the retardation film and polarizing plate protective film treated in Step 1.

工程4:工程3で積層した位相差フィルムと偏光膜と裏面側偏光板保護フィルムを圧力20〜30N/cm2、搬送スピードは約2m/分で貼合した。 Step 4: the retardation film and the polarizing film and the back face side-polarizing plate protective film pressure 20-30 N / cm 2 were laminated in step 3, the conveying speed was pasted at approximately 2m / min.

工程5:工程4で作製した偏光膜と位相差フィルム及び偏光板保護フィルムとを貼り合わせた試料を80℃の乾燥機中にて5分間乾燥し、偏光板1〜26を作製した。   Process 5: The sample which bonded together the polarizing film produced in the process 4, the phase difference film, and the polarizing plate protective film was dried in 80 degreeC dryer for 5 minutes, and the polarizing plates 1-26 were produced.

《液晶表示装置の作製》
液晶パネルを以下のようにして作製し、偏光板及び液晶表示装置としての特性を評価した。
<Production of liquid crystal display device>
A liquid crystal panel was produced as follows, and the characteristics as a polarizing plate and a liquid crystal display device were evaluated.

SONY製20型ディスプレイKLV−20AP2の予め貼合されていた両面の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板1〜26をそれぞれ液晶セルのガラス面に貼合した。   The polarizing plates on both sides of the Sony 20-type display KLV-20AP2 previously bonded were peeled off, and the prepared polarizing plates 1 to 26 were bonded to the glass surfaces of the liquid crystal cells, respectively.

その際、偏光板の貼合の向きは、前記位相差フィルムの面が液晶セル側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置1〜26を各々作製した。   At that time, the direction of bonding of the polarizing plate is performed so that the surface of the retardation film is on the liquid crystal cell side and the absorption axis is directed in the same direction as the polarizing plate previously bonded, Liquid crystal display devices 1 to 26 were produced respectively.

Figure 2007047382
Figure 2007047382

《評価》
(偏光膜劣化:偏光度変化)
上記方法で作製した偏光板について先ず平行透過率と直交透過率を測定し、下記式にしたがって偏光度を算出した。その後各々の偏光板を60℃、90%の条件下で1000時間の強制劣化後、再度平行透過率と直交透過率を測定し、下記式に従って偏光度を算出した。偏光度変化量を下記式により求めた。
<Evaluation>
(Polarization film deterioration: polarization degree change)
For the polarizing plate produced by the above method, first, the parallel transmittance and the orthogonal transmittance were measured, and the degree of polarization was calculated according to the following formula. Thereafter, each polarizing plate was subjected to forced degradation for 1000 hours under the conditions of 60 ° C. and 90%, and then the parallel transmittance and the orthogonal transmittance were measured again, and the degree of polarization was calculated according to the following formula. The amount of change in polarization degree was determined by the following formula.

偏光度P(%)=((H0−H90)/(H0+H90))1/2×100
偏光度変化量=P0−P1000
H0 :平行透過率
H90:直交透過率
P0 :強制劣化前の偏光度
P1000:強制劣化1000時間後の偏光度
(偏光板寸法安定性)
偏光板の歪みを評価する目的で下記条件で偏光板寸法安定性を評価した。
Polarization degree P (%) = ((H0−H90) / (H0 + H90)) 1/2 × 100
Polarization degree change = P0−P1000
H0: parallel transmittance H90: orthogonal transmittance P0: degree of polarization before forced degradation P1000: degree of polarization after 1000 hours of forced degradation (polarizer dimensional stability)
In order to evaluate the distortion of the polarizing plate, the dimensional stability of the polarizing plate was evaluated under the following conditions.

偏光板を23℃、55%RHの部屋で24時間調湿後、同部屋で、偏光板表面にフィルムの長手方向及び幅手方向に100mm間隔で2個の十文字の印を付けその寸法を正確に計りその距離をaとし、60℃、90%RHで120時間の処理を行い、再び23℃、55%RHの部屋で24時間調湿して2個の印の間の距離をカセトメーターで測定しその値をbとして、下記式により偏光板寸法安定性を寸法変化率として求めた。   After conditioning the polarizing plate in a room at 23 ° C and 55% RH for 24 hours, in the same room, mark the surface of the polarizing plate with two crosses at 100 mm intervals in the longitudinal direction and the width direction of the film to accurately measure the dimensions. And measure the distance between the two marks with a categorometer, treating it for 60 hours at 60 ° C and 90% RH, adjusting the humidity again in a room at 23 ° C and 55% RH for 24 hours. Then, with the value as b, the dimensional stability of the polarizing plate was obtained as a dimensional change rate by the following formula.

寸法変化率(%)=〔(b−a)/a〕×100
(光漏れ)
上記作製した各液晶表示装置について、熱による劣化を見るために60℃の条件で300時間処理した後、23℃、55%RHに戻した。その後、電源を入れてバックライトを点灯させてから2時間後の黒表示時の光漏れを目視で下記基準で評価した。
Dimensional change rate (%) = [(ba) / a] × 100
(Light leakage)
Each of the produced liquid crystal display devices was treated for 300 hours at 60 ° C. in order to see deterioration due to heat, and then returned to 23 ° C. and 55% RH. Then, after turning on the power and turning on the backlight, light leakage at the time of black display after 2 hours was visually evaluated according to the following criteria.

◎:光漏れがまったくない
○:弱い光漏れが1〜2箇所ある
△:強い光漏れが1〜2箇所ある
×:強い光漏れが3箇所以上ある。
A: There is no light leakage. O: There are 1 to 2 weak light leaks. Δ: There are 1 to 2 strong light leaks. X: There are 3 or more strong light leaks.

光漏れは○以上の評価であれば、実用上問題ない。   If the light leakage is evaluated as ◯ or higher, there is no practical problem.

(視認性の評価)
上記作製した各液晶表示装置について、60℃、90%RHの条件で100時間放置した後、23℃、55%RHに戻した。その結果、表示装置の表面を観察すると本発明の偏光板を用いたものは、平面性に優れていたのに対し、比較の表示装置は細かい波打ち状のムラが認められ、長時間見ていると目が疲れやすかった。
(Visibility evaluation)
About each produced said liquid crystal display device, after leaving for 100 hours on 60 degreeC and 90% RH conditions, it returned to 23 degreeC and 55% RH. As a result, when the surface of the display device was observed, the one using the polarizing plate of the present invention was excellent in flatness, whereas the comparative display device was observed for a long time because fine wavy unevenness was observed. And eyes were easy to get tired.

◎:表面に波打ち状のムラは全く認められない
○:表面にわずかに波打ち状のムラが認められる
△:表面に細かい波打ち状のムラがやや認められる
×:表面に細かい波打ち状のムラが認められる
以上の評価結果を下記表5に示す。
A: No wavy unevenness is observed on the surface. O: A slight wavy unevenness is observed on the surface. Δ: A slight wavy unevenness is slightly observed on the surface. X: A fine wavy unevenness is observed on the surface. The above evaluation results are shown in Table 5 below.

Figure 2007047382
Figure 2007047382

上表から、本発明の偏光膜1〜5を用い、本発明の膜厚、リターデーションの範囲を有する位相差フィルム101〜103、105〜107を組み合わせ、偏光板の厚みとして70〜140μmに調整された、本発明の偏光板及び液晶表示装置7〜12、14〜23は、偏光板の偏光度変化、偏光板の歪みに優れ、かつ液晶表示装置として、光漏れ、視認性に優れていることが明らかである。   From the above table, the polarizing films 1 to 5 of the present invention are used, the retardation films 101 to 103 and 105 to 107 having the ranges of the film thickness and retardation of the present invention are combined, and the thickness of the polarizing plate is adjusted to 70 to 140 μm. The polarizing plate and the liquid crystal display devices 7 to 12 and 14 to 23 of the present invention are excellent in the polarization degree change of the polarizing plate and the distortion of the polarizing plate, and are excellent in light leakage and visibility as a liquid crystal display device. It is clear.

特に、偏光板の厚みが80〜120μmに調整された偏光板及び液晶表示装置14〜23は上記特性が更に優れ好ましいことが分かる。   In particular, it is understood that the polarizing plate and the liquid crystal display devices 14 to 23 whose thickness is adjusted to 80 to 120 μm are more excellent and preferable.

実施例2
実施例1で作製した偏光板11、12を各々液晶セルの一方の面に貼合し、該液晶セルの反対の面には下記偏光板27を作製して各々貼合し、実施例1と同様にして本発明の液晶表示装置27、28を作製した。
Example 2
The polarizing plates 11 and 12 prepared in Example 1 were each bonded to one surface of the liquid crystal cell, and the following polarizing plate 27 was prepared and bonded to the opposite surface of the liquid crystal cell. Similarly, liquid crystal display devices 27 and 28 of the present invention were produced.

(偏光板27の作製)
実施例1の偏光板の作製と同様にして、偏光膜1を本発明で言う位相差フィルムでない偏光板保護フィルム203で両面から挟持するように貼合して、偏光板27を作製した。
(Preparation of polarizing plate 27)
In the same manner as the production of the polarizing plate of Example 1, the polarizing film 1 was bonded so as to be sandwiched from both sides by the polarizing plate protective film 203 which is not a retardation film according to the present invention, and a polarizing plate 27 was produced.

《評価》
(視野角評価)
視野角評価は、上記で得られた本発明の偏光板を貼合した液晶パネルを、ELDIM社製EZ−contrastを用いて視野角を測定した。
<Evaluation>
(Viewing angle evaluation)
For viewing angle evaluation, the viewing angle of the liquid crystal panel bonded with the polarizing plate of the present invention obtained above was measured using EZ-contrast manufactured by ELDIM.

視野角の評価としては、液晶パネルの白表示と黒表示時のコントラスト比が10以上、および反転を起こす領域を示すパネル面に対する法線方向からの傾き角の範囲を評価した。その結果、本発明の液晶表示装置27、28は、極めて高い視野角改善特性を有しており、一枚の位相差フィルムの使用で十分な光学補償が出来ることが分かった。   As the evaluation of the viewing angle, the contrast ratio between the white display and the black display of the liquid crystal panel was 10 or more, and the range of the tilt angle from the normal direction with respect to the panel surface indicating the region causing the inversion was evaluated. As a result, it was found that the liquid crystal display devices 27 and 28 of the present invention have extremely high viewing angle improvement characteristics, and sufficient optical compensation can be achieved by using a single retardation film.

実施例3
(反射防止層付き偏光板保護フィルムの作製)
上記作製した偏光板保護フィルム201〜203を用いて、下記手順により各々反射防止層付き偏光板保護フィルムを作製した。
Example 3
(Preparation of polarizing plate protective film with antireflection layer)
Using the above-prepared polarizing plate protective films 201 to 203, polarizing plate protective films with an antireflection layer were prepared by the following procedure.

反射防止層を構成する各層の屈折率は下記方法で測定した。   The refractive index of each layer constituting the antireflection layer was measured by the following method.

(屈折率)
各屈折率層の屈折率は、各層を単独で下記作製したハードコートフィルム上に塗設したサンプルについて、分光光度計の分光反射率の測定結果から求めた。分光光度計はU−4000型(日立製作所製)を用いて、サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、5度正反射の条件にて可視光領域(400nm〜700nm)の反射率の測定を行った。
(Refractive index)
The refractive index of each refractive index layer was determined from the measurement result of the spectral reflectance of a spectrophotometer for a sample in which each layer was coated on the hard coat film prepared below. The spectrophotometer uses U-4000 type (manufactured by Hitachi, Ltd.), and after roughening the back side of the measurement side of the sample, light absorption treatment is performed with black spray to prevent reflection of light on the back side. The reflectance in the visible light region (400 nm to 700 nm) was measured under the condition of regular reflection at 5 degrees.

(金属酸化物微粒子の粒径)
使用する金属酸化物微粒子の粒径は電子顕微鏡観察(SEM)にて各々100個の微粒子を観察し、各微粒子に外接する円の直径を粒子径としてその平均値を粒径とした。
(Particle size of metal oxide fine particles)
As for the particle diameter of the metal oxide fine particles used, 100 fine particles were observed with an electron microscope (SEM), the diameter of a circle circumscribing each fine particle was taken as the particle diameter, and the average value was taken as the particle diameter.

《ハードコート層の形成》
上記作製した偏光板保護フィルム201〜203上に、下記のハードコート層用塗布液を孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、90℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が100mW/cm2で、照射量を0.1J/cm2として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚5μmのハードコート層を形成しハードコートフィルムを作製した。
<< Formation of hard coat layer >>
On the produced polarizing plate protective films 201 to 203, the following hard coat layer coating solution is filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a hard coat layer coating solution, which is then used with a micro gravure coater. After coating at 90 ° C. and drying at 90 ° C., a hard coat layer having a dry film thickness of 5 μm is cured by using an ultraviolet lamp to cure the coating layer with an irradiance of 100 mW / cm 2 and an irradiation amount of 0.1 J / cm 2. To form a hard coat film.

(ハードコート層塗布液)
下記材料を攪拌、混合しハードコート層塗布液とした。
(Hard coat layer coating solution)
The following materials were stirred and mixed to obtain a hard coat layer coating solution.

アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 220質量部
イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 20質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 110質量部
酢酸エチル 110質量部
《反射防止層付き偏光板保護フィルムの作製》
上記作製したハードコートフィルム上に、下記のように高屈折率層、次いで、低屈折率層の順に反射防止層を塗設し、反射防止層付き偏光板保護フィルムを作製した。
Acrylic monomer: KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, Nippon Kayaku) 220 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 20 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 110 parts by mass Ethyl acetate 110 parts by mass << Antireflection layer Preparation of protective film with polarizing plate >>
On the hard coat film produced as described above, an antireflection layer was applied in the order of a high refractive index layer and then a low refractive index layer as described below to produce a polarizing plate protective film with an antireflection layer.

《反射防止層の形成:高屈折率層》
ハードコートフィルム上に、下記高屈折率層塗布組成物を押し出しコーターで塗布し、80℃で1分間乾燥させ、次いで紫外線を0.1J/cm2照射して硬化させ、更に100℃で1分熱硬化させ、厚さが78nmとなるように高屈折率層を設けた。
<Formation of antireflection layer: high refractive index layer>
On the hard coat film, the following high refractive index layer coating composition was applied with an extrusion coater, dried at 80 ° C. for 1 minute, then cured by irradiation with ultraviolet rays of 0.1 J / cm 2 , and further at 100 ° C. for 1 minute. A high refractive index layer was provided so as to have a thickness of 78 nm by thermosetting.

この高屈折率層の屈折率は1.62であった。   The refractive index of this high refractive index layer was 1.62.

〈高屈折率層塗布組成物〉
金属酸化物微粒子のイソプロピルアルコール溶液(固形分20%、ITO粒子、粒径5nm) 55質量部
金属化合物:Ti(OBu)4(テトラ−n−ブトキシチタン) 1.3質量部
電離放射線硬化型樹脂:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 3.2質量部
光重合開始剤:イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製)
0.8質量部
直鎖ジメチルシリコーン−EOブロックコポリマー(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 1.5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 120質量部
イソプロピルアルコール 240質量部
メチルエチルケトン 40質量部
《反射防止層の形成:低屈折率層》
前記高屈折率層上に下記の低屈折率層塗布組成物を押出しコーターで塗布し、100℃で1分間乾燥させた後、紫外線ランプにて紫外線を0.1J/cm2照射して硬化させ、耐熱性プラスチックコアに巻き長2500mで巻き取り、次いで80℃3日間の加熱処理を行い反射防止層付き偏光板保護フィルム301〜303を作製した。
<High refractive index layer coating composition>
Isopropyl alcohol solution of metal oxide fine particles (solid content 20%, ITO particles, particle size 5 nm) 55 parts by mass Metal compound: Ti (OBu) 4 (tetra-n-butoxytitanium) 1.3 parts by mass Ionizing radiation curable resin : Dipentaerythritol hexaacrylate 3.2 parts by mass Photopolymerization initiator: Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
0.8 parts by mass 10% propylene glycol monomethyl ether solution of linear dimethyl silicone-EO block copolymer (FZ-2207, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) 1.5 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 120 parts by mass Isopropyl alcohol 240 parts by mass Methyl ethyl ketone 40 parts by mass << Formation of antireflection layer: low refractive index layer >>
The following low refractive index layer coating composition is applied onto the high refractive index layer by an extrusion coater, dried at 100 ° C. for 1 minute, and then cured by irradiating with an ultraviolet lamp at 0.1 J / cm 2. The film was wound around a heat-resistant plastic core at a winding length of 2500 m, and then heat-treated at 80 ° C. for 3 days to prepare polarizing plate protective films 301 to 303 with an antireflection layer.

なお、この低屈折率層の厚さ95nm、屈折率は1.37であった。   The low refractive index layer had a thickness of 95 nm and a refractive index of 1.37.

(低屈折率層塗布組成物の調製)
〈テトラエトキシシラン加水分解物Aの調製〉
テトラエトキシシラン289gとエタノール553gを混和し、これに0.15%酢酸水溶液157gを添加し、25℃のウォーターバス中で30時間攪拌することで加水分解物Aを調製した。
(Preparation of low refractive index layer coating composition)
<Preparation of tetraethoxysilane hydrolyzate A>
Hydrolyzate A was prepared by mixing 289 g of tetraethoxysilane and 553 g of ethanol, adding 157 g of 0.15% aqueous acetic acid solution thereto, and stirring in a water bath at 25 ° C. for 30 hours.

テトラエトキシシラン加水分解物A 110質量部
中空シリカ系微粒子(下記P−2) 30質量部
KBM503(シランカップリング剤、信越化学(株)製) 4質量部
直鎖ジメチルシリコーン−EOブロックコポリマー(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 3質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 400質量部
イソプロピルアルコール 400質量部
〈中空シリカ系微粒子(P−2)分散液の調製〉
平均粒径5nm、SiO2濃度20質量%のシリカゾル100gと純水1900gの混合物を80℃に加温した。この反応母液のpHは10.5であり、同母液にSiO2として0.98質量%のケイ酸ナトリウム水溶液9000gとAl23として1.02質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液9000gとを同時に添加した。その間、反応液の温度を80℃に保持した。反応液のpHは添加直後、12.5に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20質量%のSiO2・Al23核粒子分散液を調製した。(工程(a))
この核粒子分散液500gに純水1700gを加えて98℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液(SiO2濃度3.5質量%)3000gを添加して第1シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。(工程(b))
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度13質量%になった第1シリカ被覆層を形成した核粒子分散液500gに純水1125gを加え、更に濃塩酸(35.5%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、pH3の塩酸水溶液10Lと純水5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第1シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したSiO2・Al23多孔質粒子の分散液を調製した(工程(c))。上記多孔質粒子分散液1500gと、純水500g、エタノール1,750g及び28%アンモニア水626gとの混合液を35℃に加温した後、エチルシリケート(SiO228質量%)104gを添加し、第1シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第2シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20質量%の中空シリカ系微粒子(P−2)の分散液を調製した。
Tetraethoxysilane hydrolyzate A 110 parts by mass Hollow silica-based fine particles (P-2 below) 30 parts by mass KBM503 (silane coupling agent, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 4 parts by mass Linear dimethyl silicone-EO block copolymer (FZ) -2207, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) 10% propylene glycol monomethyl ether solution 3 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 400 parts by mass Isopropyl alcohol 400 parts by mass <Preparation of dispersion of hollow silica fine particles (P-2)>
A mixture of 100 g of silica sol having an average particle diameter of 5 nm and a SiO 2 concentration of 20% by mass and 1900 g of pure water was heated to 80 ° C. The pH of this reaction mother liquor was 10.5, and 9000 g of 0.98 mass% sodium silicate aqueous solution as SiO 2 and 9000 g of 1.02 mass% sodium aluminate aqueous solution as Al 2 O 3 were simultaneously added to the mother liquor. did. Meanwhile, the temperature of the reaction solution was kept at 80 ° C. The pH of the reaction solution rose to 12.5 immediately after the addition and hardly changed thereafter. After completion of the addition, the reaction solution was cooled to room temperature and washed with an ultrafiltration membrane to prepare a SiO 2 .Al 2 O 3 core particle dispersion having a solid content concentration of 20% by mass. (Process (a))
1700 g of pure water is added to 500 g of this core particle dispersion and heated to 98 ° C., and while maintaining this temperature, a silicic acid solution (SiO 2) obtained by dealkalizing a sodium silicate aqueous solution with a cation exchange resin. A dispersion of core particles in which 3000 g (concentration of 3.5% by mass) was added to form a first silica coating layer was obtained. (Process (b))
Next, 1125 g of pure water is added to 500 g of the core particle dispersion liquid that has been washed with an ultrafiltration membrane to form a first silica coating layer having a solid content concentration of 13% by mass, and concentrated hydrochloric acid (35.5%) is further added dropwise. The pH was adjusted to 1.0 and dealumination was performed. Next, the aluminum salt dissolved in the ultrafiltration membrane was separated while adding 10 L of hydrochloric acid aqueous solution of pH 3 and 5 L of pure water, and SiO 2 · Al from which some of the constituent components of the core particles forming the first silica coating layer were removed. A dispersion of 2 O 3 porous particles was prepared (step (c)). A mixture of 1500 g of the above porous particle dispersion, 500 g of pure water, 1,750 g of ethanol, and 626 g of 28% ammonia water is heated to 35 ° C., and then 104 g of ethyl silicate (SiO 2 28 mass%) is added. The surface of the porous particles on which the first silica coating layer was formed was coated with a hydrolyzed polycondensate of ethyl silicate to form a second silica coating layer. Subsequently, a dispersion of hollow silica-based fine particles (P-2) having a solid content concentration of 20% by mass in which the solvent was replaced with ethanol using an ultrafiltration membrane was prepared.

この中空シリカ系微粒子の第1シリカ被覆層の厚さは3nm、平均粒径は47nm、MOx/SiO2(モル比)は0.0017、屈折率は1.28であった。ここで、平均粒径は動的光散乱法により測定した。 The thickness of the first silica coating layer of the hollow silica-based fine particles was 3 nm, the average particle size was 47 nm, MOx / SiO 2 (molar ratio) was 0.0017, and the refractive index was 1.28. Here, the average particle diameter was measured by a dynamic light scattering method.

得られた反射防止層付き偏光板保護フィルム301〜303と、実施例1で作製した偏光膜1〜8、及び位相差フィルム101〜108を用いて、実施例1の偏光板1〜26、液晶表示装置1〜26の構成に各々対応するように、実施例1と同様にして偏光板301〜326、液晶表示装置301〜326を作製した。本発明の偏光板はハードコート層を設けたがいずれも偏光板の厚みが70〜140μm以内であった。   Using the obtained polarizing plate protective films 301 to 303 with an antireflection layer, the polarizing films 1 to 8 and the retardation films 101 to 108 prepared in Example 1, the polarizing plates 1 to 26 of Example 1 and the liquid crystal Polarizing plates 301 to 326 and liquid crystal display devices 301 to 326 were produced in the same manner as in Example 1 so as to correspond to the configurations of the display devices 1 to 26, respectively. Although the polarizing plate of this invention provided the hard-coat layer, the thickness of the polarizing plate was all within 70-140 micrometers.

得られた偏光板、液晶表示装置について、実施例1と同様にして、偏光膜劣化、偏光板寸法安定性、光漏れ、視認性の評価を実施したところ、実施例1を再現し、本発明の偏光板、液晶表示装置は各々優れた特性を有していた。更に、反射防止層付き偏光板保護フィルム301〜303を用いたことにより、画面への周囲の写り込みも大幅に低減出来、また対傷性も向上していた。   The obtained polarizing plate and liquid crystal display device were evaluated in the same manner as in Example 1 for polarizing film deterioration, polarizing plate dimensional stability, light leakage, and visibility. Each of the polarizing plate and the liquid crystal display device had excellent characteristics. Furthermore, by using the polarizing plate protective films 301 to 303 with the antireflection layer, the reflection of the surroundings on the screen can be greatly reduced, and the scratch resistance is improved.

延伸工程での延伸角度を説明する図である。It is a figure explaining the extending | stretching angle in an extending | stretching process. 本発明に用いられるテンター工程の1例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the tenter process used for this invention.

Claims (5)

カチオン性基含有単位を0.01〜20モル%含有し、かつ炭素数4以下のα−オレフィン単位を0.5〜24モル%含有するビニルアルコール系重合体からなるポリビニルアルコールフィルムを用い延伸と染色処理を施した膜厚が5〜18μmである偏光膜と、下記式で表されるリターデーション値Roが30〜110nm、Rtが70〜300nmであり、膜厚が20〜60μmである位相差板とを有する偏光板であり、該偏光板の厚みが70〜140μmであることを特徴とする偏光板。
Ro=(nx−ny)×d
Rt={(nx+ny)/2−nz}×d
(式中、nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、nyはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、nzはフィルムの厚み方向の屈折率であり、dはフィルムの厚さ(nm)である。)
Stretching using a polyvinyl alcohol film comprising a vinyl alcohol polymer containing 0.01 to 20 mol% of a cationic group-containing unit and 0.5 to 24 mol% of an α-olefin unit having 4 or less carbon atoms A retardation film having a dyed film thickness of 5 to 18 μm, a retardation value Ro represented by the following formula of 30 to 110 nm, an Rt of 70 to 300 nm, and a film thickness of 20 to 60 μm. A polarizing plate comprising a plate, wherein the polarizing plate has a thickness of 70 to 140 μm.
Ro = (nx−ny) × d
Rt = {(nx + ny) / 2−nz} × d
(Where nx is the refractive index in the slow axis direction in the film plane, ny is the refractive index in the fast axis direction in the film plane, nz is the refractive index in the thickness direction of the film, and d is (The thickness of the film (nm).)
前記位相差板の主成分がセルロースエステルであることを特徴とする請求項1に記載の偏光板。 The polarizing plate according to claim 1, wherein a main component of the retardation plate is a cellulose ester. 前記セルロースエステルのアセチル基の置換度をXとし、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をYとした時、下記式(I)及び(II)を同時に満たすセルロースエステルであることを特徴とする請求項2に記載の偏光板。
式(I) 2.0≦X+Y≦2.6
式(II) 0.1≦Y≦1.2
The cellulose ester satisfying the following formulas (I) and (II) when the substitution degree of the acetyl group of the cellulose ester is X and the substitution degree of the propionyl group or butyryl group is Y: 2. The polarizing plate according to 2.
Formula (I) 2.0 ≦ X + Y ≦ 2.6
Formula (II) 0.1 ≦ Y ≦ 1.2
前記位相差板の一方の面とそれと反対側の面との屈折率差が5×10-4以上5×10-3以下の範囲であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の偏光板。 The refractive index difference between one surface of the retardation plate and the surface on the opposite side thereof is in the range of 5 × 10 −4 or more and 5 × 10 −3 or less. The polarizing plate as described in a term. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いたことを特徴とする液晶表示装置。 A liquid crystal display device comprising the polarizing plate according to claim 1 on at least one surface of a liquid crystal cell.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2012114762A1 (en) * 2011-02-24 2012-08-30 コニカミノルタオプト株式会社 Vertical alignment liquid-crystal display device and manufacturing method thereof

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