JP2007035604A - マイクロ波プラズマ発生装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マイクロ波プラズマ発生装置を励起マイクロ波を発生するマイクロ波源と、プラズマガス源と、前記プラズマガス源からガスが供給されるプラズマ発生用の真空容器と、前記容器内に励起用のマイクロ波を導入する同軸導波管と、前記同軸導波管の外導体33に固着された第1導体21、同軸導波管中心導体32に接続されるとともに第1導体21に装着された石英板23、石英板23に固着され、マイクロ波を前記真空容器内に放出する第2導体22とからなる共振空洞を形成する平行平板ランチャー20と、により構成する。
【選択図】図3
Description
またマイクロ波励起プラズマでは、マイクロ波パワーの増加とともに密度が不連続にジャンプする密度ジャンプが起こる問題が指摘されている。
励起マイクロ波を発生するマイクロ波源と、
プラズマガス源と、
前記プラズマガス源からガスが供給されるプラズマ発生用の真空容器と、
前記容器内に励起用のマイクロ波を導入する同軸導波管と、
前記同軸導波管の外導体に固着された第1導体、前記同軸導波管中心導体に接続されるとともに前記第1導体に装着された誘電体板、前記誘電体板に固着され、マイクロ波を前記真空容器内に放出する第2導体とからなる共振空洞を形成する平行平板ランチャーと、
を具えたことを特徴とする。
本発明は、上記のマイクロ波プラズマ発生装置において、前記誘電体板を石英板としたことを特徴とする。
プラズマガス源と、
前記プラズマガス源からガスが供給されるプラズマ発生用の真空容器と、
前記容器内に励起用のマイクロ波を導入する同軸導波管と、
前記同軸導波管の外導体に固着された第1導体、前記同軸導波管中心導体の下端面に当接されるとともに前記第1導体に螺子により固定された誘電体板、前記誘電体板に螺子により固定されるとともにマイクロ波を前記真空容器内に放出する第2導体とからなる共振空洞を形成する平行平板ランチャーと、
を具えたことを特徴とする。
本発明は、上記のマイクロ波プラズマ発生装置において、前記誘電体板を石英板としたことを特徴とする。
プラズマガス源と、
前記プラズマガス源からガスが供給されるプラズマ発生用の真空容器と、
前記真空容器内に励起用のマイクロ波を導入する同軸導波管と、
前記同軸導波管の外導体に固着され、周縁部に円筒部を具えた第1導体、前記同軸導波管中心導体の下端面に当接されるとともに前記第1導体に螺子により固定され、前記第1導体の円筒部との間に空隙を形成する誘電体板、前記誘電体板に螺子により固定されるとともにマイクロ波を前記真空容器内に放出する第2導体とからなる共振空洞を形成する平行平板ランチャーと、
を具えたことを特徴とする。
本発明は、上記のマイクロ波プラズマ発生装置において、前記誘電体板を石英板としたことを特徴とする。
本発明は、マイクロ波プラズマ発生装置において、矩形導波管からマイクロ波を同軸変換し、円筒真空容器内部に挿入した当該マイクロ波ランチャーにマイクロ波を供給し、高密度プラズマを大面積かつ均一に生成することを特徴とする。
本発明は、マイクロ波プラズマ発生装置において、平行平板ランチャーの下部に一様な表面波励起マイクロ波プラズマを生成することを特徴とする。
本発明は、マイクロ波プラズマ発生装置において、平行平板ランチャー下部全域に広がる体積波励起マイクロ波プラズマを生成することを特徴とする。
本発明は、マイクロ波プラズマ発生装置において、前記マイクロ波源をパルス放電マイクロ波とすることを特徴とする。
図1は、従来のマイクロ波プラズマ発生装置の主要部の断面図である。
図2は、本発明に係るマイクロ波プラズマ発生装置の主要部の断面図である。
図3は、本発明に係るマイクロ波プラズマ発生装置のランチャー部の拡大断面図及び拡大下面図である。
第1の導体2、第2導体7の間に配置された石英板6は、共振空洞を形成する平行平板状ランチャー2を構成している。
図2において、励起マイクロ波を発生するマイクロ波源が駆動されて、同軸導波管31を通じて励起用のマイクロ波がプラズマ発生用の真空容器1に導入される。また図示しないプラズマガス源からプラズマガスが供給される。平行平板状ランチャー20は、同軸導波管31の外導体31に装着された第1の導体21、石英板23及び第2導体22を具えている。同軸導波管中心導体32は、石英板23の上面に当接している。
図3において、励起マイクロ波を発生するマイクロ波源が駆動されて、同軸導波管を通じて励起用のマイクロ波がプラズマ発生用の真空容器1に導入される。また図示しないプラズマガス源からプラズマガスが供給される。平行平板状ランチャー20は、同軸導波管の外導体33に装着された第1の導体21、石英板23及び第2導体22を具えている。同軸導波管中心導体32は、石英板23の上面に当接している石英板23は、螺子51により第1導電板21に固定される。
第2導体22は、螺子52により石英板23とともに第1導電板21に固定される。
そして直径200mmから550mmまで、該金属板の大きさを変えて、プラズマ生成特性の比較を行った。
2 平行平板状ンチャー
3 同軸導波管
4 外導体
5 同軸導波管中心導体
6 石英板
7 第2導体
8 孔
20 平行平板状ランチャー
21 第1導体
22 第2導体
23 石英板
24 円筒部
25 空隙
31 同軸導波管
32 同軸導波管中心導体
51 螺子
52 螺子
Claims (11)
- 励起マイクロ波を発生するマイクロ波源と、
プラズマガス源と、
前記プラズマガス源からガスが供給されるプラズマ発生用の真空容器と、
前記容器内に励起用のマイクロ波を導入する同軸導波管と、
前記同軸導波管の外導体に固着された第1導体、前記同軸導波管中心導体に接続されるとともに前記第1導体に装着された誘電体板、前記誘電体板に固着され、マイクロ波を前記真空容器内に放出する第2導体とからなる共振空洞を形成する平行平板ランチャーと、
を具えたことを特徴とするマイクロ波プラズマ発生装置。 - 前記誘電体板を石英板としたことを特徴とする請求項1に記載されたマイクロ波プラズマ発生装置。
- 励起マイクロ波を発生するマイクロ波源と、
プラズマガス源と、
前記プラズマガス源からガスが供給されるプラズマ発生用の真空容器と、
前記容器内に励起用のマイクロ波を導入する同軸導波管と、
前記同軸導波管の外導体に固着された第1導体、前記同軸導波管中心導体の下端面に当接されるとともに前記第1導体に螺子により固定された誘電体板、前記誘電体板に螺子により固定されるとともにマイクロ波を前記真空容器内に放出する第2導体とからなる共振空洞を形成する平行平板ランチャーと、
を具えたことを特徴とするマイクロ波プラズマ発生装置。 - 前記誘電体板を石英板としたことを特徴とする前記請求項3に記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
- 励起マイクロ波を発生するマイクロ波源と、
プラズマガス源と、
前記プラズマガス源からガスが供給されるプラズマ発生用の真空容器と、
前記真空容器内に励起用のマイクロ波を導入する同軸導波管と、
前記同軸導波管の外導体に固着され、周縁部に円筒部を具えた第1導体、前記同軸導波管中心導体の下端面に当接されるとともに前記第1導体に螺子により固定され、前記第1導体の円筒部との間に空隙を形成する誘電体板、前記誘電体板に螺子により固定されるとともにマイクロ波を前記真空容器内に放出する第2導体とからなる共振空洞を形成する平行平板ランチャーと、
を具えたことを特徴とするマイクロ波プラズマ発生装置。 - 前記誘電体板を石英板としたことを特徴とする前記請求項5に記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
- 矩形導波管からマイクロ波を同軸変換し、円筒真空容器内部に挿入した当該マイクロ波ランチャーにマイクロ波を供給し、高密度プラズマを大面積かつ均一に生成することを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
- 平行平板ランチャーを石英板表面中心部に直径20cmの第2導体の金属板を螺子で固定し、石英板周縁部には第1導体の円筒部との間に5mmの空隙を設けた構成としたことを特徴とする請求項1乃至7の何れか1項に記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
- 平行平板ランチャーの下部に一様な表面波励起マイクロ波プラズマを生成することを特徴とする請求項1乃至8の何れか1項に記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
- 平行平板ランチャー下部全域に広がる体積波励起マイクロ波プラズマを生成することを特徴とする請求項1乃至8の何れか1項に記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
- 前記マイクロ波源をパルス放電マイクロ波とすることを特徴とする請求項1乃至10の何れか1項に記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005221622A JP2007035604A (ja) | 2005-07-29 | 2005-07-29 | マイクロ波プラズマ発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005221622A JP2007035604A (ja) | 2005-07-29 | 2005-07-29 | マイクロ波プラズマ発生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2005221622A Pending JP2007035604A (ja) | 2005-07-29 | 2005-07-29 | マイクロ波プラズマ発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2007035604A (ja) |
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JP2009218083A (ja) * | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Jiima Kk | プラズマ発生装置 |
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- 2005-07-29 JP JP2005221622A patent/JP2007035604A/ja active Pending
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