JP2007031198A - Ceramic product, and method for etching the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a ceramic product in which a projected and recessed pattern having a smooth surface can be formed without partially removing a covered glass layer, and which can improve productivity, and to provide a method for etching the same. <P>SOLUTION: The ceramic product 1 is provided with: a ceramic base material 2; and a covered glass layer 3 formed on the surface of the ceramic base material 2, wherein a projected and recessed pattern 7 is formed on the covered glass layer 3. The projected and recessed pattern 7 is formed by etching glass for etching containing 3 to 20wt.% vanadium pentoxide to base glass composing the covered glass layer 3, and performing firing under heating at 850 to 950°C. The cross-sectional shape of the surface design in the projected and recessed pattern 7 is provided with: a flat pattern central part 71; recessed parts 72 formed on both sides of the pattern central part 71; and projecting parts 73 each formed adjacently to the outside of the recessed part 72. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、表面に被覆ガラス層を形成してなるセラミックス製品及びそのエッチング方法に関する。   The present invention relates to a ceramic product having a coated glass layer formed on the surface and an etching method thereof.

セラミックス製品の表面に形成した被覆ガラス層に、種々のエッチングパターンを形成する方法としては、例えば、エッチングしない部位をマスキングした後、フッ化水素溶液等の薬液を塗布し、被覆ガラス層を部分的に溶解して、エッチングパターンを形成する部分溶解方法がある。この方法によれば、マスキングをした部位の表面が維持される一方、マスキングをしていない部位が、薬液によって腐食されることによって、エッチングパターンを形成することができる。   As a method of forming various etching patterns on the coated glass layer formed on the surface of the ceramic product, for example, after masking a portion that is not etched, a chemical solution such as a hydrogen fluoride solution is applied to partially coat the coated glass layer. There is a partial dissolution method in which an etching pattern is formed. According to this method, the surface of the masked portion is maintained, while the unmasked portion is corroded by the chemical solution, whereby an etching pattern can be formed.

また、他のエッチング方法としては、例えば、多数のセラミックス粉末等の砥粒(研磨剤)を被覆ガラス層に吹き付けてエッチングパターンを形成するサンドブラスト方法がある。この方法によれば、多数の砥粒が衝突した部位の表面に、多数の窪みが形成されることによって、エッチングパターンを形成することができる。   As another etching method, for example, there is a sand blasting method in which an etching pattern is formed by spraying abrasive grains (abrasive) such as a large number of ceramic powders on a coated glass layer. According to this method, an etching pattern can be formed by forming a large number of depressions on the surface of a site where a large number of abrasive grains collide.

しかしながら、上記従来のエッチング方法には以下の問題点があった。
すなわち、上記部分溶解方法においては、薬液によって被覆ガラス層を溶出させるため、必要以上に被覆ガラス層が溶出してしまうおそれがある。また、上記サンドブラスト方法においては、被覆ガラス層に多数の砥粒を吹き付けるため、この吹付の圧力、吹き付ける砥粒の大きさ等の調整が難しく、場合によっては、被覆ガラス層に剥離が生じるおそれがあった。
そのため、セラミックス製品の表面に、必要な厚みを維持して安定して被覆ガラス層を定着させるためには、更なる工夫が必要とされていた。
However, the conventional etching method has the following problems.
That is, in the said partial dissolution method, since a coating glass layer is eluted with a chemical | medical solution, there exists a possibility that a coating glass layer may elute more than necessary. Further, in the sandblasting method, since a large number of abrasive grains are sprayed on the coated glass layer, it is difficult to adjust the spraying pressure, the size of the abrasive grains to be sprayed, and in some cases, the coated glass layer may be peeled off. there were.
Therefore, in order to stably fix the coated glass layer on the surface of the ceramic product while maintaining the necessary thickness, further ingenuity has been required.

また、上記部分溶解方法においては、部分的にマスキングを行う必要があり、このマスキング作業に手間がかかった。また、上記サンドブラスト法においては、多数の砥粒が周囲に飛散するため、この飛散した砥粒の管理に手間がかかった。そのため、セラミックス製品の生産性を向上させるためには、更なる工夫が必要とされていた。   Moreover, in the said partial dissolution method, it was necessary to mask partially and this masking operation took time and effort. Further, in the sandblasting method, since a large number of abrasive grains are scattered around, it takes time to manage the scattered abrasive grains. Therefore, in order to improve the productivity of ceramic products, further devices have been required.

なお、特許文献1においては、陶磁器又はセラミックスからなる被装飾体に金装飾を施してなる金装飾品の製造方法が開示されている。この製造方法においては、釉ガラス層を焼き付けた被装飾体に、ブライト金ペーストよりなるブライト層と、マット金ペーストよりなるマット層とを隣接して形成し、750〜900℃で焼成して、ブライト層とマット層との境界部分にV字状溝を形成している。
しかしながら、特許文献1の技術は、セラミックス等の被装飾体に立体的な金装飾を行うための技術であり、セラミックスの表面に、必要な厚みを維持して安定して被覆ガラス層を定着させるための技術は何ら開示されていない。
Note that Patent Document 1 discloses a method for manufacturing a gold decorative product in which a decorative object made of ceramics or ceramics is decorated with gold. In this manufacturing method, a bright layer made of bright gold paste and a mat layer made of matte gold paste are formed adjacent to the object to be baked with the glaze glass layer, and baked at 750 to 900 ° C. A V-shaped groove is formed at the boundary between the bright layer and the mat layer.
However, the technique of Patent Document 1 is a technique for performing a three-dimensional gold decoration on an object to be decorated such as ceramics, and stably fixing the coated glass layer on the surface of the ceramics while maintaining a necessary thickness. No technology is disclosed for this purpose.

特開2000−26178号公報JP 2000-26178 A

本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてなされたもので、被覆ガラス層を部分的に除去することなく、表面平滑な凹凸パターンを形成することができ、生産性を向上させることができるセラミックス製品及びそのエッチング方法を提供しようとするものである。   The present invention has been made in view of such conventional problems, and is capable of forming a smooth surface uneven pattern without partially removing the coated glass layer, and can improve productivity. A product and an etching method thereof are to be provided.

第1の発明は、セラミックス基材の表面に被覆ガラス層を形成してなるセラミックス製品を準備する準備工程と、
五酸化バナジウムを3〜20wt%含むエッチング用ガラスと、有機バインダーとを混練してなるエッチングペーストを転写紙に施して、該転写紙に転写用パターンを形成するパターン形成工程と、
上記転写紙から上記転写用パターンを上記被覆ガラス層に転写して、該被覆ガラス層にエッチングパターンを形成するパターン転写工程と、
上記エッチングパターンを形成したセラミックス製品を850〜950℃の温度で加熱焼成して、エッチングを行うエッチング工程とを含むことを特徴とするセラミックス製品のエッチング方法にある(請求項1)。
The first invention provides a preparation step of preparing a ceramic product formed by forming a coated glass layer on the surface of a ceramic substrate;
A pattern forming step of applying an etching paste formed by kneading an etching glass containing 3 to 20 wt% of vanadium pentoxide and an organic binder to the transfer paper, and forming a transfer pattern on the transfer paper;
A pattern transfer step of transferring the transfer pattern from the transfer paper to the coated glass layer and forming an etching pattern on the coated glass layer;
An etching method for a ceramic product, comprising: an etching step in which the ceramic product on which the etching pattern is formed is heated and fired at a temperature of 850 to 950 ° C. to perform etching (Claim 1).

本発明のエッチング方法においては、まず、準備工程として、セラミックス基材の表面に被覆ガラス層を形成してなるセラミックス製品を準備する。
また、パターン形成工程として、エッチングペーストを転写紙に施して転写用パターンを形成する。そして、このとき用いるエッチングペーストは、五酸化バナジウム(V25)を3〜20wt%含むエッチング用ガラスと、有機バインダーとを混練してなるものとする。
このとき、転写パターンとしては、種々の装飾のパターンとすることができる。
In the etching method of the present invention, first, as a preparation step, a ceramic product formed by forming a coated glass layer on the surface of a ceramic substrate is prepared.
Further, as a pattern forming step, an etching paste is applied to the transfer paper to form a transfer pattern. Then, the etching paste used this time, the five vanadium oxide (V 2 O 5) and glass etching including 3-20 wt%, and made by kneading an organic binder.
At this time, various decorative patterns can be used as the transfer pattern.

次いで、転写工程として、転写紙における転写用パターンを、セラミックス製品における被覆ガラス層に転写してエッチングパターンとした後、エッチング工程として、当該セラミックス製品を850〜950℃の温度で加熱焼成する。
このとき、被覆ガラス層の表面にエッチングパターンのエッチングが行われ、被覆ガラス層の表面に施されたエッチングペーストは、被覆ガラス層の表面に凹凸パターンを形成して、被覆ガラス層と一体化される。
Next, as a transfer process, the transfer pattern on the transfer paper is transferred to a coated glass layer in the ceramic product to form an etching pattern, and then the ceramic product is heated and fired at a temperature of 850 to 950 ° C. as an etching process.
At this time, the etching pattern is etched on the surface of the coated glass layer, and the etching paste applied to the surface of the coated glass layer forms an uneven pattern on the surface of the coated glass layer and is integrated with the coated glass layer. The

そして、被覆ガラス層の表面に形成した凹凸パターンは、被覆ガラス層を構成するガラスの一部に溶出又は剥離等を生じることがなく、被覆ガラス層を構成するガラスを部分的に移動させることによって形成することができる。そのため、被覆ガラス層を部分的に除去することなく、表面平滑な凹凸パターンを形成することができる。
また、上記エッチングを行うために、部分的にマスキングを行う必要がなく、被覆ガラス層にエッチングパターンを形成することにより、簡単にエッチングを行うことができる。そのため、セラミックス製品の生産性を向上させることができる。
And the uneven | corrugated pattern formed in the surface of a coating glass layer does not produce elution or peeling in a part of glass which comprises a coating glass layer, but moves the glass which comprises a coating glass layer partially. Can be formed. Therefore, an uneven pattern having a smooth surface can be formed without partially removing the coated glass layer.
Moreover, in order to perform the said etching, it is not necessary to mask partially, and it can etch simply by forming an etching pattern in a covering glass layer. Therefore, productivity of ceramic products can be improved.

それ故、本発明のエッチング方法によれば、被覆ガラス層を部分的に除去することなく、表面平滑な凹凸パターンを形成することができ、セラミックス製品の生産性を向上させることができる。   Therefore, according to the etching method of the present invention, an uneven pattern having a smooth surface can be formed without partially removing the coated glass layer, and the productivity of the ceramic product can be improved.

第2の発明は、セラミックス基材の表面に被覆ガラス層を形成してなるセラミックス製品を準備する準備工程と、
五酸化バナジウムを3〜20wt%含むエッチング用ガラスと、有機バインダーとを混練してなるエッチングペーストを上記被覆ガラス層に施し、該被覆ガラス層にエッチングパターンを形成するパターン形成工程と、
上記エッチングパターンを形成したセラミックス製品を、850〜950℃の温度で加熱焼成して、エッチングを行うエッチング工程とを含むことを特徴とするセラミックス製品のエッチング方法にある(請求項3)。
The second invention provides a preparation step of preparing a ceramic product formed by forming a coated glass layer on the surface of a ceramic substrate;
A pattern forming step of applying an etching paste formed by kneading an etching glass containing 3 to 20 wt% of vanadium pentoxide and an organic binder to the coated glass layer, and forming an etching pattern on the coated glass layer;
An etching method for a ceramic product, comprising: an etching step in which the ceramic product on which the etching pattern is formed is heated and fired at a temperature of 850 to 950 ° C. to perform etching.

本発明のエッチング方法においても、まず、準備工程として、セラミックス基材の表面に被覆ガラス層を形成してなるセラミックス製品を準備する。
次いで、パターン形成工程として、エッチングペーストをセラミックス製品における被覆ガラス層に施して、エッチングパターンを形成する。そして、このとき用いるエッチングペーストは、五酸化バナジウム(V25)を3〜20wt%含むエッチング用ガラスと、有機バインダーとを混練してなるものとする。
このとき、エッチングパターンとしては、種々の装飾のパターンとすることができる。
Also in the etching method of the present invention, first, as a preparation step, a ceramic product formed by forming a coated glass layer on the surface of a ceramic substrate is prepared.
Next, as a pattern forming step, an etching paste is applied to the coated glass layer in the ceramic product to form an etching pattern. Then, the etching paste used this time, the five vanadium oxide (V 2 O 5) and glass etching including 3-20 wt%, and made by kneading an organic binder.
At this time, various decorative patterns can be used as the etching pattern.

次いで、エッチング工程として、上記セラミックス製品を850〜950℃の温度で加熱焼成する。
このとき、被覆ガラス層の表面にエッチングパターンのエッチングが行われ、被覆ガラス層の表面に施されたエッチングペーストは、被覆ガラス層の表面に凹凸パターンを形成して、被覆ガラス層と一体化される。
Next, as the etching step, the ceramic product is heated and fired at a temperature of 850 to 950 ° C.
At this time, the etching pattern is etched on the surface of the coated glass layer, and the etching paste applied to the surface of the coated glass layer forms an uneven pattern on the surface of the coated glass layer and is integrated with the coated glass layer. The

それ故、本発明のエッチング方法によっても、上記第1の発明と同様に、被覆ガラス層を部分的に除去することなく、表面平滑な凹凸パターンを形成することができ、セラミックス製品の生産性を向上させることができる。   Therefore, according to the etching method of the present invention, as in the first aspect of the invention, a surface-concave uneven pattern can be formed without partially removing the coated glass layer, thereby improving the productivity of ceramic products. Can be improved.

第3の発明は、セラミックス基材と、該セラミックス基材の表面に形成した被覆ガラス層とを備え、該被覆ガラス層に凹凸パターンを形成してなるセラミックス製品であって、
上記凹凸パターンは、上記被覆ガラス層を構成する基礎ガラスに、五酸化バナジウムを3〜20wt%含むエッチング用ガラスをエッチングしてなり、
上記凹凸パターンにおける表面図柄の断面形状は、上記エッチング用ガラスをエッチングしたことにより、平坦状の模様中心部と、該模様中心部の両脇に形成された凹部と、該凹部の外側に隣接形成された凸部とを備えていることを特徴とするセラミックス製品にある(請求項5)。
A third invention is a ceramic product comprising a ceramic substrate and a coated glass layer formed on the surface of the ceramic substrate, wherein the coated glass layer is formed with a concavo-convex pattern,
The concavo-convex pattern is formed by etching an etching glass containing vanadium pentoxide in an amount of 3 to 20 wt% on the basic glass constituting the coated glass layer,
The cross-sectional shape of the surface pattern in the concavo-convex pattern is formed by etching the etching glass to form a flat pattern central part, a concave part formed on both sides of the central part of the pattern, and an outer side of the concave part. The ceramic product is provided with a convex portion (claim 5).

本発明のセラミックス製品は、五酸化バナジウム(V25)を3〜20wt%含むエッチング用ガラスをエッチングして形成した凹凸パターンを有する被覆ガラス層を備えている。
そして、凹凸パターンにおける表面図柄の断面形状は、上記模様中心部、凹部及び凸部によって形成されている。これにより、凹凸パターンは、被覆ガラス層を構成する基礎ガラスを部分的に移動させることによって形成されている。
The ceramic product of the present invention includes a coated glass layer having a concavo-convex pattern formed by etching glass for etching containing 3 to 20 wt% of vanadium pentoxide (V 2 O 5 ).
And the cross-sectional shape of the surface pattern in an uneven | corrugated pattern is formed of the said pattern center part, a recessed part, and a convex part. Thereby, the uneven | corrugated pattern is formed by moving the base glass which comprises a covering glass layer partially.

それ故、本発明によれば、被覆ガラス層が部分的に除去されておらす、被覆ガラス層に表面平滑な凹凸パターンを有しており、生産性に優れるセラミックス製品を提供することができる。   Therefore, according to the present invention, it is possible to provide a ceramic product having a smooth surface unevenness pattern on the coated glass layer from which the coated glass layer has been partially removed, and having excellent productivity.

上述した第1〜第3の発明における好ましい実施の形態につき説明する。
上記第1〜第3の発明において、上記五酸化バナジウム(V25)を3〜20wt%含むエッチング用ガラスとしては、SiO2(シリカ)、Al23(アルミナ)及びB23(ホウ酸)を含有してなるSiO2−Al23−B23系ガラスを用いることができる。このSiO2−Al23−B23系ガラスとしては、R2O(RはLi、K、Na等を示す。)、R’O(R’はCa、Ba、Sr、Mg、Zn等を示す。)、TiO2(酸化チタン)、ZrO2(ジルコニア)、SnO(酸化すず)等を副成分として、一種又は二種以上含有するものを用いることができる。
また、エッチング用ガラスは、例えば、SiO2−Al23−B23−Li2O−K2O−ZrO2−V25の粉末とすることができる。
A preferred embodiment of the first to third inventions described above will be described.
In the first to third inventions, the etching glass containing 3 to 20 wt% of the vanadium pentoxide (V 2 O 5 ) includes SiO 2 (silica), Al 2 O 3 (alumina), and B 2 O 3. SiO 2 —Al 2 O 3 —B 2 O 3 glass containing (boric acid) can be used. Examples of the SiO 2 —Al 2 O 3 —B 2 O 3 glass include R 2 O (R represents Li, K, Na, etc.), R′O (R ′ represents Ca, Ba, Sr, Mg, Zn or the like is shown), TiO 2 (titanium oxide), ZrO 2 (zirconia), SnO (tin oxide) or the like as a subcomponent can be used containing one or more.
Further, glass etching, for example, be a powder of SiO 2 -Al 2 O 3 -B 2 O 3 -Li 2 O-K 2 O-ZrO 2 -V 2 O 5.

上記セラミックス製品は、セラミックス基材の表面に、上記ガラスとしての釉を施して焼き上げたものとすることができる。また、セラミックス基材は、ボーンチャイナ又は酸化磁器等の磁器とすることができる。また、セラミックス製品は、種々の形状のものとすることができ、例えば、食器、壺、花瓶、置物等の陶磁器とすることができる。   The ceramic product may be obtained by baking the surface of a ceramic substrate with the glass as a glass. The ceramic substrate can be a porcelain such as bone china or an oxidized porcelain. Moreover, ceramic products can be made into various shapes, for example, ceramics such as tableware, baskets, vases, and figurines.

上記ガラスの全量に対する上記五酸化バナジウムの含有量が3wt%未満である場合には、十分なエッチング(被覆ガラス層の表面に凹凸を形成すること)を行うことが困難になる。一方、ガラスの全量に対する五酸化バナジウムの含有量が20wt%を超える場合には、エッチングを行った部位の表面が濃い黄褐色に着色するおそれがある。
なお、五酸化バナジウムを20wt%以下含有するガラスによってエッチングを行った場合においても、エッチングを行った部位の表面が薄い黄褐色に着色することはある。
When the content of the vanadium pentoxide with respect to the total amount of the glass is less than 3 wt%, it is difficult to perform sufficient etching (form unevenness on the surface of the coated glass layer). On the other hand, when the content of vanadium pentoxide with respect to the total amount of glass exceeds 20 wt%, the surface of the etched part may be colored dark brown.
Even when etching is performed with glass containing vanadium pentoxide of 20 wt% or less, the surface of the etched portion may be colored light tan.

また、上記第1、第2の発明において、上記加熱焼成を行う温度が850℃未満である場合には、温度が低くて、十分なエッチング(被覆ガラス層の表面に凹凸を形成すること)を行うことが困難になる。一方、上記加熱焼成を行う温度が950℃を超える場合には、温度が高くて、被覆ガラス層が軟化するおそれがあり、被覆ガラス層の表面に形成した凹凸の鮮明度が低下するおそれがある。   Further, in the first and second inventions, when the temperature for performing the heating and baking is less than 850 ° C., the temperature is low and sufficient etching (forming unevenness on the surface of the coated glass layer) is performed. It becomes difficult to do. On the other hand, when the temperature for performing the above baking is higher than 950 ° C., the temperature is high, the coated glass layer may be softened, and the sharpness of the unevenness formed on the surface of the coated glass layer may be reduced. .

また、上記第1〜第3の発明において、上記有機バインダーとしては、例えば、樹脂を用いることができ、この樹脂としては、アクリル系樹脂、アミド系樹脂、アルキッド系樹脂、エチルセルロース系樹脂、ニトロセルロース系樹脂等を用いることができる。
また、上記第1の発明において、上記転写紙への上記エッチングペーストの施工(塗布)は、スクリーン印刷法、メタルマスク印刷法等を用いて行うことができる。また、転写紙としては、デンプン等を塗布した厚紙を使用することができる。
In the first to third inventions, as the organic binder, for example, a resin can be used. Examples of the resin include acrylic resins, amide resins, alkyd resins, ethyl cellulose resins, and nitrocellulose. A resin or the like can be used.
In the first invention, the etching paste can be applied (applied) to the transfer paper using a screen printing method, a metal mask printing method, or the like. Further, as the transfer paper, cardboard coated with starch or the like can be used.

上記第1、第2の発明において、上記準備工程において準備する上記セラミックス製品における被覆ガラス層の平均厚みは、例えば、100〜200μmとすることができる。この場合には、被覆ガラス層の厚みが薄く、従来の部分溶解法又はサンドブラスト法等によるエッチング方法では、良好にエッチングができない一方、上記第1、第2の発明によれば、被覆ガラス層の表面に、被覆ガラス層が除去されてしまった剥離部分等を生じることなく、凹凸パターンを形成することができる。
また、上記パターン形成工程又はパターン転写工程において、上記被覆ガラス層に形成するエッチングパターンの厚みは、例えば、10〜50μmとすることができる。
In the said 1st, 2nd invention, the average thickness of the coating glass layer in the said ceramic product prepared in the said preparatory process can be 100-200 micrometers, for example. In this case, the thickness of the coated glass layer is thin, and etching cannot be performed satisfactorily by conventional etching methods such as partial melting or sandblasting. On the other hand, according to the first and second inventions, A concavo-convex pattern can be formed on the surface without producing a peeled portion from which the coated glass layer has been removed.
Moreover, in the said pattern formation process or pattern transfer process, the thickness of the etching pattern formed in the said covering glass layer can be 10-50 micrometers, for example.

また、上記第1の発明においては、上記パターン形成工程においては、上記転写紙に転写用着色パターンを形成すると共に、上記転写用パターンは、上記転写用着色パターンの輪郭として形成し、上記パターン転写工程においては、上記転写紙から上記転写用パターン及び上記転写用着色パターンを上記被覆ガラス層に転写して、該被覆ガラス層に上記エッチングパターン及び着色パターンを形成することが好ましい(請求項2)。また、上記第2の発明においては、上記パターン形成工程においては、上記被覆ガラス層に着色パターンを形成すると共に、上記エッチングパターンは、上記着色パターンの輪郭として形成することが好ましい(請求項4)。   In the first aspect of the invention, in the pattern forming step, a transfer coloring pattern is formed on the transfer paper, and the transfer pattern is formed as an outline of the transfer coloring pattern. In the step, it is preferable that the transfer pattern and the transfer coloring pattern are transferred from the transfer paper to the coating glass layer to form the etching pattern and the coloring pattern on the coating glass layer. . In the second aspect of the invention, in the pattern forming step, a colored pattern is preferably formed on the coated glass layer, and the etching pattern is preferably formed as an outline of the colored pattern. .

これらの場合には、セラミックス製品における被覆ガラス層に、着色パターンにより着色模様を形成すると共に、この着色模様の輪郭部に、上記エッチングによる凹凸パターンを形成することができる。これにより、エッチングによる凹凸パターンを一層際立たせることができる。
なお、上記エッチングパターンを上記着色パターンの上に形成すると、エッチングパターンによる黄褐色によって着色パターンの彩色が変化してしまうおそれがある。
In these cases, a colored pattern can be formed on the coated glass layer of the ceramic product by a colored pattern, and an uneven pattern formed by the etching can be formed on the outline of the colored pattern. Thereby, the uneven | corrugated pattern by an etching can be made more conspicuous.
In addition, when the said etching pattern is formed on the said coloring pattern, there exists a possibility that the coloring of a coloring pattern may change with the yellowish brown by an etching pattern.

また、上記第3の発明においては、上記被覆ガラス層には、絵具により着色形成した着色模様が設けてあり、上記凹凸パターンは、上記着色模様の輪郭として形成してあることが好ましい(請求項6)。
この場合には、エッチングによる凹凸パターンを一層際立たせることができる。
In the third aspect of the invention, the coated glass layer is preferably provided with a colored pattern colored by a paint, and the uneven pattern is formed as an outline of the colored pattern. 6).
In this case, the concavo-convex pattern by etching can be made more prominent.

以下に、本発明のセラミックス製品及びそのエッチング方法にかかる実施例につき、図面と共に説明する。
(実施例1)
本例において製造するセラミックス製品1は、図1、図7に示すごとく、セラミックス基材2と、このセラミックス基材2の表面に形成した被覆ガラス層3とを備え、被覆ガラス層3に凹凸パターン7を形成してなる。
この凹凸パターン7は、被覆ガラス層3を構成する基礎ガラスに、五酸化バナジウム(V25)を3〜20wt%含むエッチング用ガラスをエッチングし、850〜950℃の温度で加熱焼成して形成してある。
Hereinafter, embodiments of the ceramic product and the etching method thereof according to the present invention will be described with reference to the drawings.
Example 1
As shown in FIGS. 1 and 7, the ceramic product 1 manufactured in this example includes a ceramic substrate 2 and a coated glass layer 3 formed on the surface of the ceramic substrate 2. 7 is formed.
This uneven pattern 7, the base glass constituting the coated glass layer 3, vanadium pentoxide (V 2 O 5) etching the etching glass containing 3-20 wt%, and firing at a temperature of 850 to 950 ° C. It is formed.

そして、図1に示すごとく、凹凸パターン7における表面図柄の断面形状は、エッチング用ガラスをエッチングしたことにより、平坦状の模様中心部71と、この模様中心部71の両脇に形成された凹部72と、この凹部72の外側に隣接形成された凸部73とを備えている。
以下に、エッチングを行って、凹凸パターン7による表面図柄を形成してなるセラミックス製品1を製造する方法につき、図1〜図8と共に詳説する。
As shown in FIG. 1, the cross-sectional shape of the surface pattern in the concavo-convex pattern 7 is obtained by etching the etching glass to form a flat pattern central portion 71 and concave portions formed on both sides of the pattern central portion 71. 72 and a convex portion 73 formed adjacent to the outside of the concave portion 72.
Hereinafter, a method for manufacturing the ceramic product 1 formed by etching to form a surface pattern by the uneven pattern 7 will be described in detail with reference to FIGS.

本例においては、以下の準備工程、パターン形成工程、パターン転写工程及びエッチング工程を行って、セラミックス製品10にエッチングを行う。
上記準備工程においては、図2に示すごとく、セラミックス基材2の表面に被覆ガラス層3を形成してなるセラミックス製品10(エッチング前のセラミックス製品)を準備する。本例の被覆ガラス層3は、SiO2−Al23−B23系ガラスからなり、セラミックス基材2は磁器である。
In this example, the ceramic product 10 is etched by performing the following preparation step, pattern formation step, pattern transfer step, and etching step.
In the preparatory step, as shown in FIG. 2, a ceramic product 10 (ceramic product before etching) formed by forming the coated glass layer 3 on the surface of the ceramic substrate 2 is prepared. Coated glass layer 3 of the present embodiment consists SiO 2 -Al 2 O 3 -B 2 O 3 based glass, the ceramic substrate 2 is porcelain.

次いで、上記パターン形成工程においては、図3に示すごとく、五酸化バナジウム(V25)を3〜20wt%含むエッチング用ガラスと、有機バインダーとを混練してなるエッチングペースト4を転写紙51に施して、この転写紙51に転写用パターン41を形成する。
具体的には、本例のエッチング用ガラスは、SiO2−Al23−B23−Li2O−K2O−ZrO2−V25のガラス粉末とし、有機バインダーは、アクリル系樹脂とした。
Next, in the pattern forming step, as shown in FIG. 3, an etching paste 4 formed by kneading an etching glass containing 3 to 20 wt% of vanadium pentoxide (V 2 O 5 ) and an organic binder is used as a transfer paper 51. Then, a transfer pattern 41 is formed on the transfer paper 51.
Specifically, the etching glass of this example is SiO 2 —Al 2 O 3 —B 2 O 3 —Li 2 O—K 2 O—ZrO 2 —V 2 O 5 glass powder, and the organic binder is: An acrylic resin was used.

また、ガラス粉末中のV25の含有量は、7.5wt%とし、ガラス粉末とアクリル系樹脂との混合割合は、重量比で等分(1:1)とした。そして、ガラス粉末とアクリル系樹脂とを調合したものを3本ロールで混練してエッチングペースト4を得た。
また、転写紙51に施す転写用パターン41は、種々の装飾のパターンとすることができるが、本例の転写用パターン41は、図8に示すごとく、図柄のエッジ部分(輪郭部分)にエッチングペースト4を施すパターンとした。
Further, the content of V 2 O 5 in the glass powder was 7.5 wt%, and the mixing ratio of the glass powder and the acrylic resin was equally divided (1: 1) by weight ratio. And what mixed glass powder and acrylic resin was knead | mixed with 3 rolls, and the etching paste 4 was obtained.
The transfer pattern 41 applied to the transfer paper 51 can be various decorative patterns, but the transfer pattern 41 of this example is etched on the edge portion (contour portion) of the design as shown in FIG. The pattern to which the paste 4 was applied was used.

また、図3に示すごとく、本例においては、スクリーン印刷法を用いて、転写紙51に転写用パターン41を形成する。すなわち、本例においては、スクリーン版8に転写用パターン41の図柄に倣って複数の開口部81を形成しておく。一方、転写紙51の表面には、転写用パターン41を形成するエッチングペースト4を当該転写紙51から剥がし易くするためのデンプンが塗布されている。
そして、スクリーン版8上に配置したエッチングペースト4を、複数の開口部81から転写紙51に落下させて、転写紙51の表面に転写用パターン41を形成する。
なお、スクリーン印刷法を用いる代わりに、例えば、メタルマスク印刷法を用いることもできる。
Further, as shown in FIG. 3, in this example, the transfer pattern 41 is formed on the transfer paper 51 by using a screen printing method. That is, in this example, a plurality of openings 81 are formed in the screen plate 8 following the pattern of the transfer pattern 41. On the other hand, starch is applied to the surface of the transfer paper 51 so that the etching paste 4 forming the transfer pattern 41 can be easily peeled off from the transfer paper 51.
Then, the etching paste 4 disposed on the screen plate 8 is dropped onto the transfer paper 51 from the plurality of openings 81 to form a transfer pattern 41 on the surface of the transfer paper 51.
For example, a metal mask printing method can be used instead of the screen printing method.

次いで、図4に示すごとく、転写紙51上の転写用パターン41を乾燥させた後、転写紙51上の転写用パターン41が崩れることを防止するために、転写紙51の表面にアクリル系樹脂52を塗布し、転写紙51の表面における転写用パターン41の全体をアクリル系樹脂52によって覆う。本例においては、転写紙51の表面における転写用パターン41の全体をアクリル系樹脂52は、アクリル系樹脂のフィルム52とした。   Next, as shown in FIG. 4, after drying the transfer pattern 41 on the transfer paper 51, an acrylic resin is applied to the surface of the transfer paper 51 in order to prevent the transfer pattern 41 on the transfer paper 51 from collapsing. 52 is applied, and the entire transfer pattern 41 on the surface of the transfer paper 51 is covered with an acrylic resin 52. In this example, the acrylic resin 52 is an acrylic resin film 52 for the entire transfer pattern 41 on the surface of the transfer paper 51.

次いで、図5、図6に示すごとく、上記パターン転写工程においては、転写紙51から転写用パターン41をセラミックス製品10における被覆ガラス層3に転写して、この被覆ガラス層3にエッチングパターン42を形成する。本例においては、水貼りスライド転写方法を用い、転写用パターン41を形成した転写紙51から、アクリル系樹脂のフィルム52によって包んだ状態の転写用パターン41を、セラミックス製品10における被覆ガラス層3に転写して、エッチングパターン42を形成した。   Next, as shown in FIGS. 5 and 6, in the pattern transfer step, the transfer pattern 41 is transferred from the transfer paper 51 to the coated glass layer 3 in the ceramic product 10, and the etching pattern 42 is applied to the coated glass layer 3. Form. In this example, the transfer pattern 41 in a state of being wrapped with an acrylic resin film 52 from the transfer paper 51 on which the transfer pattern 41 is formed using the water-attached slide transfer method is used. Then, an etching pattern 42 was formed.

次いで、エッチング工程においては、セラミックス製品10における被覆ガラス層3上のエッチングパターン42を乾燥させた後、このエッチングパターン42を形成したセラミックス製品10を850〜950℃の温度で加熱焼成して、エッチングを行う。
本例においては、エッチングパターン42を形成したセラミックス製品10を焼成炉内に配置し、焼成炉内において900℃の温度で約15分間、加熱焼成を行った。
Next, in the etching process, after the etching pattern 42 on the coated glass layer 3 in the ceramic product 10 is dried, the ceramic product 10 on which the etching pattern 42 is formed is heated and fired at a temperature of 850 to 950 ° C. I do.
In this example, the ceramic product 10 on which the etching pattern 42 was formed was placed in a firing furnace, and heated and fired at a temperature of 900 ° C. for about 15 minutes in the firing furnace.

この加熱焼成のとき、被覆ガラス層3の表面にエッチングパターン42のエッチングが行われ、被覆ガラス層3の表面に施されたエッチングペースト4は、被覆ガラス層3の表面に凹凸パターン7を形成して、被覆ガラス層3と一体化される。また、加熱焼成のときには、アクリル系樹脂のフィルム52はエッチングパターン42の表面から蒸発する。   During this heating and baking, the etching pattern 42 is etched on the surface of the coated glass layer 3, and the etching paste 4 applied to the surface of the coated glass layer 3 forms the uneven pattern 7 on the surface of the coated glass layer 3. And integrated with the covering glass layer 3. Further, at the time of heating and baking, the acrylic resin film 52 evaporates from the surface of the etching pattern 42.

こうして、図1、図7に示すごとく、凹凸パターン4を形成してなるセラミックス製品1を製造することができる。そして、形成した被覆ガラス層3の凹凸パターン7における表面図柄は、平坦状の模様中心部71と、この模様中心部71の両脇に形成された凹部72と、この凹部72の外側に隣接形成された凸部73とを備えた断面形状に形成された。また、エッチングを行って形成した凹凸パターン7の表面は、無色透明となった。   Thus, as shown in FIGS. 1 and 7, the ceramic product 1 formed with the uneven pattern 4 can be manufactured. And the surface pattern in the uneven | corrugated pattern 7 of the formed covering glass layer 3 is formed adjacent to the flat pattern center part 71, the recessed part 72 formed in the both sides of this pattern center part 71, and the outer side of this recessed part 72. It was formed in the cross-sectional shape provided with the convex part 73 made. Moreover, the surface of the uneven | corrugated pattern 7 formed by etching became colorless and transparent.

そして、被覆ガラス層3の表面に形成した凹凸パターン7は、被覆ガラス層3を構成するガラスの一部に溶出又は剥離等を生じることがなく、被覆ガラス層3を構成するガラスを部分的に移動させることによって形成することができる。そのため、被覆ガラス層3を部分的に除去することなく、表面平滑な凹凸パターン7を形成することができる。また、この凹凸パターン7は、光沢を有する状態で形成することができる。   And the uneven | corrugated pattern 7 formed in the surface of the covering glass layer 3 does not produce elution or peeling in a part of glass which comprises the covering glass layer 3, but partially forms the glass which comprises the covering glass layer 3. It can be formed by moving. Therefore, it is possible to form a concavo-convex pattern 7 having a smooth surface without partially removing the covering glass layer 3. Further, the uneven pattern 7 can be formed in a glossy state.

また、本例においては、上記エッチングを行うために、部分的にマスキングを行う必要がなく、被覆ガラス層3にエッチングパターン42を形成することにより、簡単にエッチングを行うことができる。そのため、セラミックス製品1の生産性を向上させることができる。
それ故、本例のエッチング方法によれば、被覆ガラス層3を部分的に除去することなく、表面平滑な凹凸パターン7を形成することができ、凹凸パターン7による表面図柄を形成してなるセラミックス製品1を効率的に製造することができる。
Moreover, in this example, in order to perform the said etching, it is not necessary to mask partially, and it can etch simply by forming the etching pattern 42 in the covering glass layer 3. FIG. Therefore, the productivity of the ceramic product 1 can be improved.
Therefore, according to the etching method of this example, the smooth surface uneven pattern 7 can be formed without partially removing the covering glass layer 3, and the ceramic formed by forming the surface pattern by the uneven pattern 7. The product 1 can be manufactured efficiently.

なお、図示は省略するが、上記エッチングペースト4は、転写紙51に転写用パターン41として転写紙51に一旦転写することなく、セラミックス製品1における被覆ガラス層3に直接施して、この被覆ガラス層3にエッチングパターン42を直接形成することもできる。この場合においても、スクリーン印刷法等を用いて、セラミックス製品10における被覆ガラス層3にエッチングパターン42を形成することができる。   Although not shown, the etching paste 4 is directly applied to the coated glass layer 3 in the ceramic product 1 without being temporarily transferred to the transfer paper 51 as the transfer pattern 41 on the transfer paper 51. The etching pattern 42 can be directly formed on the substrate 3. Also in this case, the etching pattern 42 can be formed in the covering glass layer 3 in the ceramic product 10 by using a screen printing method or the like.

(実施例2)
本例において製造するセラミックス製品1Aは、図9に示すごとく、その被覆ガラス層3に、絵具により着色形成した着色模様75を有しており、上記凹凸パターン7は、着色模様75の輪郭として形成したものである。
本例において、エッチングを行って、セラミックス製品10における被覆ガラス層3に凹凸パターン7による表面図柄を形成する際には、上記実施例1と同様に、上記準備工程、パターン形成工程、パターン転写工程及びエッチング工程を行う。
(Example 2)
As shown in FIG. 9, the ceramic product 1 </ b> A manufactured in this example has a colored pattern 75 colored with paint on the covering glass layer 3, and the uneven pattern 7 is formed as an outline of the colored pattern 75. It is a thing.
In this example, when etching is performed to form a surface pattern with the concavo-convex pattern 7 on the coated glass layer 3 in the ceramic product 10, the preparation step, the pattern formation step, and the pattern transfer step are performed as in the first embodiment. And an etching process.

本例のパターン形成工程においては、エッチング用ガラスとして、SiO2−Al23−B23−Li2O−K2O−ZrO2−V25のガラス粉末と、SiO2−Al23−B23−Li2O−K2O−ZrO2の希釈ガラス粉末との粉末混合物を用いた。また、ガラス粉末中のV25の含有量は、15wt%とし、ガラス粉末と希釈ガラス粉末との混合割合は、重量比で8:2とした(ガラス粉末が8重量部に対して、希釈ガラス粉末を2重量部とした)。そして、粉末混合物と、アクリル系樹脂との混合割合は、等分(1:1)として、これらを混合したものを3本ロールで混練してエッチングペースト4を得た。 In the pattern forming process of this example, as glass for etching, the glass powder of SiO 2 -Al 2 O 3 -B 2 O 3 -Li 2 O-K 2 O-ZrO 2 -V 2 O 5, SiO 2 - A powder mixture of Al 2 O 3 —B 2 O 3 —Li 2 O—K 2 O—ZrO 2 with diluted glass powder was used. Further, the content of V 2 O 5 in the glass powder was 15 wt%, and the mixing ratio of the glass powder and the diluted glass powder was 8: 2 by weight ratio (with respect to 8 parts by weight of the glass powder, 2 parts by weight of diluted glass powder). And the mixing ratio of a powder mixture and acrylic resin was equally divided (1: 1), and what mixed these was knead | mixed with 3 rolls, and the etching paste 4 was obtained.

また、本例のパターン形成工程においては、図10に示すごとく、着色顔料及び樹脂を含有してなる陶磁器用絵具ペースト6を転写紙51の上に塗布して、転写紙51の表面に種々の図柄の転写用着色パターン61を形成する。
また、本例においては、スクリーン印刷法等を用いて、転写紙51における転写用着色パターン61のエッジ部分(輪郭部分)に上記エッチングペースト4を塗布し、当該転写紙51の表面に転写用パターン41を形成する。
Further, in the pattern forming process of this example, as shown in FIG. 10, a ceramic paint paste 6 containing a color pigment and a resin is applied onto the transfer paper 51, and various kinds of paste are applied to the surface of the transfer paper 51. A colored pattern 61 for design transfer is formed.
In this example, the etching paste 4 is applied to the edge portion (contour portion) of the transfer coloring pattern 61 on the transfer paper 51 using a screen printing method or the like, and the transfer pattern is applied to the surface of the transfer paper 51. 41 is formed.

次いで、本例のパターン転写工程においては、図11に示すごとく、転写紙51から転写用パターン41及び転写用着色パターン61をセラミックス製品10における被覆ガラス層3に転写して、この被覆ガラス層3に転写用パターン41によるエッチングパターン42、及び転写用着色パターン61による着色パターン62を形成する。   Next, in the pattern transfer process of this example, as shown in FIG. 11, the transfer pattern 41 and the transfer coloring pattern 61 are transferred from the transfer paper 51 to the coated glass layer 3 in the ceramic product 10. Then, an etching pattern 42 by the transfer pattern 41 and a coloring pattern 62 by the transfer coloring pattern 61 are formed.

その後、本例のエッチング工程においては、上記実施例1と同様にして、エッチングパターン42及び着色パターン62を形成したセラミックス製品10を焼成炉内に配置し、焼成炉内において900℃の温度で約15分間、加熱焼成を行った。
こうして、図9に示すごとく、セラミックス製品10における被覆ガラス層3に、着色パターン62により形成した着色模様75を形成し、この着色模様75の輪郭として、上記模様中心部71、凹部72及び凸部73を備えた断面形状を有する凹凸パターン7を形成して、セラミックス製品1Aを製造した。
Thereafter, in the etching process of this example, the ceramic product 10 on which the etching pattern 42 and the colored pattern 62 are formed is placed in a firing furnace in the same manner as in Example 1 above, and the temperature is about 900 ° C. in the firing furnace. Heat baking was performed for 15 minutes.
Thus, as shown in FIG. 9, a colored pattern 75 formed by the colored pattern 62 is formed on the coated glass layer 3 in the ceramic product 10, and the pattern center portion 71, the concave portion 72, and the convex portion are formed as the outline of the colored pattern 75. The uneven | corrugated pattern 7 which has the cross-sectional shape provided with 73 was formed, and ceramic product 1A was manufactured.

その他、本例においても、各工程における構成及び作用効果は、上記実施例1と同様である。
それ故、本例のエッチング方法によれば、表面平滑な凹凸パターン7を着色模様75の輪郭として形成することができ、着色模様75及び凹凸パターン7による表面図柄を形成してなるセラミックス製品1Aを効率的に製造することができる。
In addition, also in this example, the configuration and the operational effects in each process are the same as those in the first embodiment.
Therefore, according to the etching method of this example, the uneven surface 7 having a smooth surface can be formed as the outline of the colored pattern 75, and the ceramic product 1A formed by forming the surface pattern by the colored pattern 75 and the uneven pattern 7 is obtained. It can be manufactured efficiently.

なお、上記陶磁器用絵具ペースト6及びエッチングペースト4は、転写紙51に転写用パターン41として転写紙51に一旦転写することなく、セラミックス製品10における被覆ガラス層3に直接施して、この被覆ガラス層3に着色パターン62及びエッチングパターン42を直接形成することもできる。   The ceramic paint paste 6 and the etching paste 4 are applied directly to the coated glass layer 3 of the ceramic product 10 without being temporarily transferred to the transfer paper 51 as the transfer pattern 41 on the transfer paper 51, and this coated glass layer. The colored pattern 62 and the etching pattern 42 can be directly formed on the substrate 3.

(比較例)
本例は、図12〜図14に示すごとく、上記実施例1、2に示したセラミックス製品1、1Aのエッチング方法の優れた作用効果と比較を行うために、従来のエッチング方法を示す例である。
本例においても、まず、セラミックス基材2の表面に被覆ガラス層3を形成してなるエッチング前のセラミックス製品10を準備する(実施例1の図2参照)。
(Comparative example)
This example is an example showing a conventional etching method in order to compare with the excellent effect of the etching method of the ceramic products 1 and 1A shown in Examples 1 and 2 as shown in FIGS. is there.
Also in this example, first, a ceramic product 10 before etching formed by forming the covering glass layer 3 on the surface of the ceramic substrate 2 is prepared (see FIG. 2 of Example 1).

次いで、図12に示すごとく、セラミックス製品10における被覆ガラス層3の表面に、所望のパターンが得られるようにマスキングテープ91によってマスキングを行った後、図13に示すごとく、被覆ガラス層3の表面に、スプレーガンから多数のアルミナ系研磨砥粒を吹き付けた。こうして、図14に示すごとく、研磨砥粒によってマスキングを行っていない部位92に多数の窪み93が形成されることによって、上記所望のパターンのエッチングを行い、セラミックス製品9を製造した。   Then, as shown in FIG. 12, the surface of the coated glass layer 3 in the ceramic product 10 is masked with a masking tape 91 so as to obtain a desired pattern, and then the surface of the coated glass layer 3 as shown in FIG. A large number of alumina abrasive grains were sprayed from a spray gun. In this way, as shown in FIG. 14, a large number of depressions 93 were formed in the portion 92 that was not masked by the abrasive grains, whereby the desired pattern was etched to produce the ceramic product 9.

しかしながら、エッチングを行った被覆ガラス層94の表面は、剥離が生じて部分的に除去されており、表面平滑性が劣化し、表面の光沢も消滅していた。
以上の結果より、上記実施例1、2に示したセラミックス製品1、1Aのエッチング方法によれば、従来のエッチング方法によってはなし得なかった表面平滑な凹凸パターン7を備えたセラミックス製品1、1Aを製造できることがわかった。
However, the surface of the coated glass layer 94 subjected to the etching was peeled off and partially removed, the surface smoothness deteriorated, and the glossiness of the surface disappeared.
From the above results, according to the etching method of the ceramic products 1 and 1A shown in Examples 1 and 2, the ceramic products 1 and 1A having the smooth surface uneven pattern 7 that could not be achieved by the conventional etching method. I found that it can be manufactured.

実施例1における、凹凸パターンによる表面図柄を形成してなるセラミックス製品を示す断面説明図。Sectional explanatory drawing which shows the ceramic product formed in the surface pattern by the uneven | corrugated pattern in Example 1. FIG. 実施例1における、セラミックス基材の表面に被覆ガラス層を形成した状態を示す断面説明図。Sectional explanatory drawing which shows the state in which the coating glass layer was formed in the surface of the ceramic base material in Example 1. FIG. 実施例1における、転写紙にエッチングペーストによる転写用パターンを形成した状態を示す断面説明図。Sectional explanatory drawing which shows the state in which the transfer pattern by the etching paste was formed in the transfer paper in Example 1. FIG. 実施例1における、転写紙の表面における転写用パターンの全体をアクリル系樹脂によって覆った状態を示す断面説明図。Sectional explanatory drawing which shows the state which covered the whole pattern for transfer in the surface of the transfer paper in Example 1 with acrylic resin. 実施例1における、転写紙から転写用パターンを被覆ガラス層に転写する状態を示す断面説明図。Sectional explanatory drawing which shows the state which transfers the pattern for transcription | transfer from the transfer paper to a covering glass layer in Example 1. FIG. 実施例1における、エッチングパターンを被覆ガラス層に形成した状態を示す断面説明図。Sectional explanatory drawing which shows the state in which the etching pattern in Example 1 was formed in the covering glass layer. 実施例1における、凹凸パターンによる表面図柄を形成してなるセラミックス製品を示す斜視説明図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective explanatory view showing a ceramic product formed with a surface pattern by a concavo-convex pattern in Example 1. 実施例1における、転写紙に施した転写用パターンを示す平面説明図。FIG. 3 is an explanatory plan view showing a transfer pattern applied to transfer paper in Example 1. 実施例2における、凹凸パターンによる表面図柄を、着色模様の輪郭として形成してなるセラミックス製品を示す断面説明図。Sectional explanatory drawing which shows the ceramic product formed in the surface pattern by the uneven | corrugated pattern in Example 2 as the outline of a colored pattern. 実施例2における、転写紙に転写用パターン及び転写用着色パターンを形成した状態を示す断面説明図。Sectional explanatory drawing which shows the state which formed the pattern for transfer and the coloring pattern for transfer in the transfer paper in Example 2. FIG. 実施例2における、エッチングパターン及び着色パターンを被覆ガラス層に転写した状態を示す断面説明図。Cross-sectional explanatory drawing which shows the state which transferred the etching pattern and the coloring pattern in Example 2 to the covering glass layer. 比較例における、被覆ガラス層の表面にマスキングを行った状態を示す断面説明図。Cross-sectional explanatory drawing which shows the state which masked the surface of the coating glass layer in a comparative example. 比較例における、被覆ガラス層の表面に多数のアルミナ系研磨砥粒を吹き付けた状態を示す断面説明図。Cross-sectional explanatory drawing which shows the state which sprayed many alumina type abrasive grains on the surface of the coating glass layer in a comparative example. 比較例における、多数の窪みによるパターンを形成したセラミックス製品を示す断面説明図。Cross-sectional explanatory drawing which shows the ceramic product in which the pattern by many depressions in the comparative example was formed.

符号の説明Explanation of symbols

1 セラミックス製品
2 セラミックス基材
3 被覆ガラス層
4 エッチングペースト
41 転写用パターン
42 エッチングパターン
51 転写紙
6 陶磁器用絵具ペースト
61 転写用着色パターン
62 着色パターン
7 凹凸パターン
71 模様中心部
72 凹部
73 凸部
75 着色模様
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Ceramic product 2 Ceramic base material 3 Coating | coated glass layer 4 Etching paste 41 Transfer pattern 42 Etching pattern 51 Transfer paper 6 Paint paste for ceramics 61 Transfer coloring pattern 62 Coloring pattern 7 Concavity and convexity pattern 71 Pattern center 72 Concavity 73 Convex 75 Colored pattern

Claims (6)

セラミックス基材の表面に被覆ガラス層を形成してなるセラミックス製品を準備する準備工程と、
五酸化バナジウムを3〜20wt%含むエッチング用ガラスと、有機バインダーとを混練してなるエッチングペーストを転写紙に施して、該転写紙に転写用パターンを形成するパターン形成工程と、
上記転写紙から上記転写用パターンを上記被覆ガラス層に転写して、該被覆ガラス層にエッチングパターンを形成するパターン転写工程と、
上記エッチングパターンを形成したセラミックス製品を850〜950℃の温度で加熱焼成して、エッチングを行うエッチング工程とを含むことを特徴とするセラミックス製品のエッチング方法。
A preparation step of preparing a ceramic product formed by forming a coated glass layer on the surface of the ceramic substrate;
A pattern forming step of applying an etching paste formed by kneading an etching glass containing 3 to 20 wt% of vanadium pentoxide and an organic binder to the transfer paper, and forming a transfer pattern on the transfer paper;
A pattern transfer step of transferring the transfer pattern from the transfer paper to the coated glass layer and forming an etching pattern on the coated glass layer;
A method for etching a ceramic product, comprising: an etching step in which the ceramic product on which the etching pattern is formed is heated and fired at a temperature of 850 to 950 ° C. to perform etching.
請求項1において、上記パターン形成工程においては、上記転写紙に転写用着色パターンを形成すると共に、上記転写用パターンは、上記転写用着色パターンの輪郭として形成し、
上記パターン転写工程においては、上記転写紙から上記転写用パターン及び上記転写用着色パターンを上記被覆ガラス層に転写して、該被覆ガラス層に上記エッチングパターン及び着色パターンを形成することを特徴とするセラミックス製品のエッチング方法。
In claim 1, in the pattern forming step, a transfer coloring pattern is formed on the transfer paper, and the transfer pattern is formed as an outline of the transfer coloring pattern.
In the pattern transfer step, the transfer pattern and the transfer coloring pattern are transferred from the transfer paper to the coating glass layer, and the etching pattern and the coloring pattern are formed on the coating glass layer. Etching method for ceramic products.
セラミックス基材の表面に被覆ガラス層を形成してなるセラミックス製品を準備する準備工程と、
五酸化バナジウムを3〜20wt%含むエッチング用ガラスと、有機バインダーとを混練してなるエッチングペーストを上記被覆ガラス層に施し、該被覆ガラス層にエッチングパターンを形成するパターン形成工程と、
上記エッチングパターンを形成したセラミックス製品を、850〜950℃の温度で加熱焼成して、エッチングを行うエッチング工程とを含むことを特徴とするセラミックス製品のエッチング方法。
A preparation step of preparing a ceramic product formed by forming a coated glass layer on the surface of the ceramic substrate;
A pattern forming step of applying an etching paste formed by kneading an etching glass containing 3 to 20 wt% of vanadium pentoxide and an organic binder to the coated glass layer, and forming an etching pattern on the coated glass layer;
An etching method for a ceramic product, comprising: an etching step in which the ceramic product on which the etching pattern is formed is heated and fired at a temperature of 850 to 950 ° C. to perform etching.
請求項3において、上記パターン形成工程においては、上記被覆ガラス層に着色パターンを形成すると共に、上記エッチングパターンは、上記着色パターンの輪郭として形成することを特徴とするセラミックス製品のエッチング方法。   4. The method for etching a ceramic product according to claim 3, wherein, in the pattern forming step, a colored pattern is formed on the coated glass layer, and the etching pattern is formed as an outline of the colored pattern. セラミックス基材と、該セラミックス基材の表面に形成した被覆ガラス層とを備え、該被覆ガラス層に凹凸パターンを形成してなるセラミックス製品であって、
上記凹凸パターンは、上記被覆ガラス層を構成する基礎ガラスに、五酸化バナジウムを3〜20wt%含むエッチング用ガラスをエッチングしてなり、
上記凹凸パターンにおける表面図柄の断面形状は、上記エッチング用ガラスをエッチングしたことにより、平坦状の模様中心部と、該模様中心部の両脇に形成された凹部と、該凹部の外側に隣接形成された凸部とを備えていることを特徴とするセラミックス製品。
A ceramic product comprising a ceramic substrate and a coated glass layer formed on the surface of the ceramic substrate, wherein the coated glass layer is formed with a concavo-convex pattern,
The concavo-convex pattern is formed by etching an etching glass containing vanadium pentoxide in an amount of 3 to 20 wt% on the basic glass constituting the coated glass layer,
The cross-sectional shape of the surface pattern in the concavo-convex pattern is formed by etching the etching glass to form a flat pattern central part, a concave part formed on both sides of the central part of the pattern, and an outer side of the concave part. A ceramic product comprising a convex portion.
請求項5において、上記被覆ガラス層には、絵具により着色形成した着色模様が設けてあり、上記凹凸パターンは、上記着色模様の輪郭として形成してあることを特徴とするセラミックス製品。   6. The ceramic product according to claim 5, wherein the coated glass layer is provided with a colored pattern colored by a paint, and the uneven pattern is formed as an outline of the colored pattern.
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