JP2007019440A - 電子光学機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 結像面20に至る光路7上に結像面20に隣接して設けられたローパスフィルタ4を有する電子光学機器であって、ローパスフィルタ4の少なくとも結像面20とは反対側の面4aに、金属酸化物を含む導電体又は半導電体からなる低表面抵抗膜6が形成されていることを特徴とする電子光学機器。
【選択図】 図1
Description
(1) 結像面に至る光路上に前記結像面に隣接して設けられたローパスフィルタを有する電子光学機器であって、前記ローパスフィルタの少なくとも前記結像面とは反対側の面に、金属酸化物を含む導電体又は半導電体からなる低表面抵抗膜が形成されていることを特徴とする電子光学機器。
(2) 上記(1) に記載の電子光学機器において、前記結像面に光学像を電気信号に変換して出力する撮像素子が設けられていることを特徴とする電子光学機器。
(3) 上記(1) 又は(2) に記載の電子光学機器において、前記金属酸化物が五酸化アンチモン,インジウム酸化錫及びアンチモンドープ酸化錫からなる群から選ばれた少なくとも一種からなることを特徴とする電子光学機器。
(4) 上記(1)〜(3) のいずれかに記載の電子光学機器において、前記低表面抵抗膜の表面抵抗が1×104〜1×1013Ω/□であることを特徴とする電子光学機器。
(5) 上記(1)〜(4) のいずれかに記載の電子光学機器において、前記低表面抵抗膜が湿式成膜法により形成されたことを特徴とする電子光学機器。
(6) 上記(1)〜(5) のいずれかに記載の電子光学機器において、前記ローパスフィルタの少なくとも一面に反射防止膜が形成されていることを特徴とする電子光学機器。
(7) 上記(6) に記載の電子光学機器において、前記反射防止膜が湿式成膜法により形成されたことを特徴とする電子光学機器。
(8) 上記(1)〜(7) のいずれかに記載の電子光学機器において、前記ローパスフィルタの少なくとも一面に撥水撥油性膜が形成されていることを特徴とする電子光学機器。
(9) 上記(8) に記載の電子光学機器において、前記撥水撥油性膜はフッ素系樹脂であることを特徴とする電子光学機器。
(10) 上記(8) 又は(9) に記載の電子光学機器において、前記撥水撥油性膜の膜厚は1〜50 nmであることを特徴とする電子光学機器。
(11) 上記(8)〜(10) のいずれかに記載の電子光学機器において、前記撥水撥油性膜が湿式成膜法により形成されたことを特徴とする電子光学機器。
低表面抵抗膜6は、金属酸化物を含む導電体又は半導電体からなる。金属酸化物としては、透明性を有する導電性酸化物であれば特に限定されないが、五酸化アンチモン(Sb2O5),インジウム酸化錫(ITO)又はアンチモンドープ酸化錫(ATO)、又はこれらの組合せが好ましい。
反射防止膜7を形成する材料は特に限定されず、SiO2、TiO2、MgF2、SiN、CeO2、ZrO2等を用いることができる。反射防止膜7が多層膜の場合、同一の材料による多層膜であっても異なる材料による多層膜であってもよい。例えば、屈折率の異なる複数の膜を適宜組合せることにより、反射防止効率をより高めることが可能である。反射防止膜7はゾル−ゲル法等の湿式成膜法により形成するのが好ましい。
撥水撥油性膜8はフッ素系樹脂からなるのが好ましい。フッ素系樹脂は表面摩擦抵抗が小さく、表面を軽く擦るだけで、表面を傷つけることなく汚れを拭き取ることができる。フッ素系樹脂は非結晶性であるのが好ましい。非結晶性のフッ素系樹脂からなる層は優れた透明性を有するうえに、ファンデルワールス力、電気映像力等の粒子を付着させる力が小さく、付着した粒子を容易に除去できると言った特性を有する。非結晶性のフッ素系樹脂の具体例として、シリコーン系のフッ素系樹脂、フルオロオレフィン系の共重合体、含フッ素脂肪族環構造を有する重合体、及びフッ素化アクリレート系の共重合体が挙げられる。
γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン50 gを0.01 N塩酸で加水分解重合させたものにSb2O5ゾル[AMT130、日産化学工業(株)製]50 g及びエタノール10 gを加えて低表面抵抗膜コート液1を作製した。
1000 nmコートした後、140℃で1時間加熱し、低表面抵抗膜6を形成した。それを反射防止膜コート液に浸漬し、20 mm/分で引き上げ、140℃で20分間加熱し、反射防止膜を形成した。さらにそれを撥水撥油性液に浸漬し、300 mm/分で引き上げ、室温で24時間乾燥し、撥水撥油性膜を形成した。得られた低表面抵抗ローパスフィルタ4の表面抵抗は6×1010 Ω/□であった。表面にタバコの灰を接触させ持ち上げたときの灰の付着具合、水に対する接触角、全透過率、及び表面に油性マジックで書いた文字をキムワイプで擦ったときの文字の消え具合及び表面の傷の状態を表1に示す。
γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン50 gを0.01 N塩酸で加水分解させたものにアンチモンドープ酸化錫(ATO)ゾル[固形分20%、触媒化成工業(株)製]50 g及びエタノール10 gを加えて低表面抵抗膜コート液2を作製した。
リチウムナイオベートからなるローパスフィルタ4を使用した以外は、実施例1と同様の条件で、低表面抵抗ローパスフィルタ4を作製した。表面抵抗は6×1010 Ω/□であった。表面にタバコの灰を接触させ持ち上げたときの灰の付着具合、水に対する接触角、全透過率、及び表面に油性マジックで書いた文字をキムワイプで擦ったときの文字の消え具合及び表面の傷の状態を表1に示す。
リチウムナイオベートからなるローパスフィルタ4を使用した以外は、実施例2と同様の条件で、低表面抵抗ローパスフィルタ4を作製した。表面抵抗は1×108 Ω/□であった。表面にタバコの灰を接触させ持ち上げたときの灰の付着具合、水に対する接触角、全透過率、及び表面に油性マジックで書いた文字をキムワイプで擦ったときの文字の消え具合及び表面の傷の状態を表1に示す。
実施例1で用いた水晶からなるローパスフィルタの両面に、SiO2とTiO2とを蒸着方式で交互に5層コートし、多層膜からなる反射防止膜を形成した。表面抵抗は1×1015 Ω/□であった。表面にタバコの灰を接触させ持ち上げたときの灰の付着具合、水に対する接触角、全透過率、及び表面に油性マジックで書いた文字をキムワイプで擦ったときの文字の消え具合及び表面の傷の状態を表1に示す。
実施例3で用いたリチウムナイオベートからなるローパスフィルタの両面に、SiO2とTiO2とを蒸着方式で交互に5層コートし、多層膜からなる反射防止膜を形成した。表面抵抗は1×1015 Ω/□であった。表面にタバコの灰を接触させ持ち上げたときの灰の付着具合、水に対する接触角、全透過率、及び表面に油性マジックで書いた文字をキムワイプで擦ったときの文字の消え具合及び表面の傷の状態を表1に示す。
2・・・撮像素子
20・・・結像面
3a,3b・・・3n・・・レンズ
4・・・ローパスフィルタ
5・・・光路
6・・・低表面抵抗膜
7・・・反射防止膜
8・・・撥水撥油性膜
Claims (11)
- 結像面に至る光路上に前記結像面に隣接して設けられたローパスフィルタを有する電子光学機器であって、前記ローパスフィルタの少なくとも前記結像面とは反対側の面に、金属酸化物を含む導電体又は半導電体からなる低表面抵抗膜が形成されていることを特徴とする電子光学機器。
- 請求項1に記載の電子光学機器において、前記結像面に光学像を電気信号に変換して出力する撮像素子が設けられていることを特徴とする電子光学機器。
- 請求項1又は2に記載の電子光学機器において、前記金属酸化物が五酸化アンチモン,インジウム酸化錫及びアンチモンドープ酸化錫からなる群から選ばれた少なくとも一種からなることを特徴とする電子光学機器。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の電子光学機器において、前記低表面抵抗膜の表面抵抗が1×104〜1×1013Ω/□であることを特徴とする電子光学機器。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の電子光学機器において、前記低表面抵抗膜が湿式成膜法により形成されたことを特徴とする電子光学機器。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の電子光学機器において、前記ローパスフィルタの少なくとも一面に反射防止膜が形成されていることを特徴とする電子光学機器。
- 請求項6に記載の電子光学機器において、前記反射防止膜が湿式成膜法により形成されたことを特徴とする電子光学機器。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の電子光学機器において、前記ローパスフィルタの少なくとも一面に撥水撥油性膜が形成されていることを特徴とする電子光学機器。
- 請求項8に記載の電子光学機器において、前記撥水撥油性膜はフッ素系樹脂であることを特徴とする電子光学機器。
- 請求項8又は9に記載の電子光学機器において、前記撥水撥油性膜の膜厚は1〜50 nmであることを特徴とする電子光学機器。
- 請求項8〜10のいずれかに記載の電子光学機器において、前記撥水撥油性膜が湿式成膜法により形成されたことを特徴とする電子光学機器。
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