JP2007014919A - Exhaust gas treatment device and exhaust gas treatment system - Google Patents

Exhaust gas treatment device and exhaust gas treatment system Download PDF

Info

Publication number
JP2007014919A
JP2007014919A JP2005201514A JP2005201514A JP2007014919A JP 2007014919 A JP2007014919 A JP 2007014919A JP 2005201514 A JP2005201514 A JP 2005201514A JP 2005201514 A JP2005201514 A JP 2005201514A JP 2007014919 A JP2007014919 A JP 2007014919A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
concentration
organic solvent
exhaust gas
gas treatment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005201514A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masashi Nishiguchi
昌志 西口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2005201514A priority Critical patent/JP2007014919A/en
Publication of JP2007014919A publication Critical patent/JP2007014919A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To miniaturize an exhaust gas treatment device and its system for treating an exhaust gas containing an organic solvent. <P>SOLUTION: An organic solvent gas is introduced in an exhaust gas treatment device 1, and the organic solvent gas contained in the exhaust gas is removed and discharged in the atmosphere. The organic solvent gas of low concentration and the organic solvent gas of high concentration introduced in the exhaust gas treatment device 1 are introduced in a low-concentration gas treatment means 2 and a high-concentration gas treatment means 3, respectively, and removed. The exhaust gas treatment device 1 comprises the low-concentration gas treatment means 2 and the high-concentration gas treatment means 3, and only one exhaust gas treatment device can cope with both the low-concentration organic solvent gas and the high-concentration organic solvent gas, and the gas of two kinds of concentration can be simultaneously treated. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、排ガス中に含まれる有機溶剤などの有害物質を除去する排ガス浄化装置に関する。特に、大気汚染の原因物質である揮発性有機化合物(VOC)を含む排ガスを放出する発生源から排ガスの発生を抑制するとともに、発生した排ガスからVOCを除去・回収する装置そのシステムに関する。   The present invention relates to an exhaust gas purification apparatus that removes harmful substances such as organic solvents contained in exhaust gas. In particular, the present invention relates to an apparatus and system for suppressing the generation of exhaust gas from a source that emits exhaust gas containing a volatile organic compound (VOC) that is a cause of air pollution, and removing and recovering VOC from the generated exhaust gas.

従来、この種のガス処理装置は、発生源に設置した局所排気装置のエンドオブパイプで処理する方式と発生源の極近傍もしくは発生源内から吸引し処理することにより発生源からの発生を抑制する方式がある。   Conventionally, this type of gas processing device has a method of processing by the end-of-pipe of a local exhaust device installed at the generation source and a method of suppressing generation from the generation source by suctioning and processing from the vicinity of the generation source or inside the generation source. There is.

前者の方式は、局所排気により周囲の空気も同時に吸引するため比較的低濃度の排ガスを処理する必要があり、活性炭やゼオライトなどの吸着剤による吸着・濃縮と濃縮後のガスを処理する方式が用いられることが多い。処理方式としては、冷却凝縮による液化回収、燃焼・触媒燃焼による分解などがある。   In the former method, ambient air is simultaneously sucked in by local exhaust, so it is necessary to process a relatively low concentration of exhaust gas. Adsorption / concentration with an adsorbent such as activated carbon and zeolite, and a method of processing the gas after concentration Often used. Treatment methods include liquefaction recovery by cooling condensation and decomposition by combustion / catalytic combustion.

また、後者の方式は、発生源の極近傍もしくは発生源内から吸引するため高濃度のガスを処理することができるため、濃縮を必要とせず処理することが可能である。   Moreover, since the latter system can process a high-concentration gas because it is sucked from the vicinity of the generation source or from the generation source, it can be processed without requiring concentration.

前者の方式の装置は、有機溶剤ガスを活性炭やゼオライトなどの吸着剤で吸着し、吸着後の実質的に有機溶剤を含まないガスを大気放出し、吸着剤が有機溶剤で飽和すると熱や圧力を用い脱着再生し、脱着した有機溶剤の濃縮ガスを冷却し液化して回収するものが知られている。   In the former system, the organic solvent gas is adsorbed with an adsorbent such as activated carbon or zeolite, and the gas that does not contain organic solvent after adsorption is released to the atmosphere. It is known that the desorbed and regenerated material is cooled and the concentrated gas of the desorbed organic solvent is cooled, liquefied and recovered.

(例えば、特許文献1)
以下、その排ガス処理装置について図9を参照しながら説明する。
(For example, Patent Document 1)
Hereinafter, the exhaust gas treatment apparatus will be described with reference to FIG.

図に示すように、従来の排ガス処理装置101は、有機溶剤ガスを吸着する吸着手段102と吸着した有機溶剤ガスを脱着する脱着手段103と脱着した有機溶剤ガスを液化する液化手段104で構成している。吸着手段102は、活性炭、ゼオライトなどの吸着剤を備え、排ガス中の有機溶剤を吸着除去する。吸着剤が飽和すると、脱着手段103によって有機溶剤を脱着し吸着剤を再生する。ここで、脱着手段103は、真空ポンプが用いられ、減圧することによって有機溶剤を脱着する。   As shown in the figure, a conventional exhaust gas treatment apparatus 101 comprises an adsorbing means 102 for adsorbing an organic solvent gas, a desorbing means 103 for desorbing the adsorbed organic solvent gas, and a liquefying means 104 for liquefying the desorbed organic solvent gas. ing. The adsorbing means 102 includes an adsorbent such as activated carbon or zeolite, and adsorbs and removes the organic solvent in the exhaust gas. When the adsorbent is saturated, the organic solvent is desorbed by the desorption means 103 to regenerate the adsorbent. Here, the desorption means 103 uses a vacuum pump and desorbs the organic solvent by reducing the pressure.

脱着した有機溶剤ガスは、液化手段104に送られ、冷却し液化する。液化手段104を通った未凝縮のガスはそのまま、排気されるか、吸着剤に再び戻される。   The desorbed organic solvent gas is sent to the liquefying means 104, cooled and liquefied. The uncondensed gas that has passed through the liquefying means 104 is exhausted as it is or returned to the adsorbent again.

後者の方式の装置は、有機溶剤ガスを冷却し飽和蒸気圧を下げて有機溶剤を凝縮させる方法や加えてガスを圧縮し有機溶剤の分圧を上げて凝縮させ液化し回収するものが知られている。また、凝縮しやすいように、事前に濃縮装置により有機溶剤ガスの濃度を高濃度にしてガス回収装置に導入されている。   The latter type of equipment is known to cool the organic solvent gas and reduce the saturated vapor pressure to condense the organic solvent, as well as to compress the gas and increase the partial pressure of the organic solvent to condense, liquefy and recover. ing. In order to easily condense, the concentration of the organic solvent gas is increased in advance by a concentrating device and introduced into the gas recovery device.

(例えば、特許文献2)
以下、その回収装置について図10を参照しながら説明する。
(For example, Patent Document 2)
Hereinafter, the recovery apparatus will be described with reference to FIG.

図に示すように、有機溶剤ガスは吸引加圧手段105である真空ポンプによってコンデンサタンク106に加圧され導入される。コンデンサタンク106は、ヒートポンプ108から冷媒により冷却されている。コンデンサタンク106に導入された有機溶剤ガスは、加圧と冷却の効果により凝集し液化する。液化した有機溶剤は、有機溶剤回収タンク107に回収される。有機溶剤回収後のガスは、コンデンサタンク106から排出される。
特開平11−71584号公報 特開2003−71239号公報
As shown in the figure, the organic solvent gas is pressurized and introduced into the capacitor tank 106 by a vacuum pump as the suction and pressurizing means 105. The condenser tank 106 is cooled by the refrigerant from the heat pump 108. The organic solvent gas introduced into the capacitor tank 106 is condensed and liquefied by the effects of pressurization and cooling. The liquefied organic solvent is recovered in the organic solvent recovery tank 107. The gas after organic solvent recovery is discharged from the capacitor tank 106.
Japanese Patent Laid-Open No. 11-71584 JP 2003-71239 A

このような排ガス処理装置では、吸着剤の使用量を少なくし、また、液化、燃焼などの処理手段を小型化して、装置を小型化するとともに、排気ガス中の有機溶剤ガスを確実に除去することが要求されている。   In such an exhaust gas treatment device, the amount of adsorbent used is reduced, the treatment means such as liquefaction and combustion are miniaturized, the device is miniaturized, and the organic solvent gas in the exhaust gas is reliably removed. It is requested.

しかしながら、従来の排ガス処理装置では、局所排気装置のエンドオブパイプに設置する方式の場合、局所排気装置の風量に対応するため吸着濃縮のための吸着剤が大量に必要になり装置が大型化していた。   However, in the case of the conventional exhaust gas treatment device installed in the end-of-pipe of the local exhaust device, a large amount of adsorbent for adsorption concentration is required in order to cope with the air volume of the local exhaust device, and the device has been enlarged. .

また、発生源の極近傍もしくは発生源内から吸引し処理する場合、高濃度のガスを処理することができるため装置は小型化できるのだが、発生源からの排出を完全に防止できないため、別途、局所排気装置とそのエンドオブパイプでの排ガス処理装置を必要とする場合があり、高濃度ガスと低濃度ガスのそれぞれの排ガス処理装置が必要であった。   In addition, when processing by sucking from the vicinity of the source or inside the source, the device can be downsized because it can process high-concentration gas, but it cannot completely prevent discharge from the source. In some cases, a local exhaust device and an exhaust gas treatment device at its end-of-pipe are required, and high-concentration gas and low-concentration gas exhaust gas treatment devices are necessary.

また、局所排気装置からの排ガスは、多量の空気で希釈されるため、比較的低濃度、たとえば、1000ppm以下である。また、発生源の極近傍もしくは発生源内からの直接吸引したガスは、比較的高濃度、たとえば%オーダーになる。このような、濃度が大きく異なるガスを処理する場合、それぞれに適した排ガス処理装置を設置しなければならない。   Further, since the exhaust gas from the local exhaust device is diluted with a large amount of air, it has a relatively low concentration, for example, 1000 ppm or less. Further, the gas sucked directly from the vicinity of the generation source or directly from the generation source has a relatively high concentration, for example,% order. When processing such gases having greatly different concentrations, it is necessary to install an exhaust gas treatment apparatus suitable for each.

本発明は、このような従来の課題を解決するものであり、1台の排ガス処理装置で発生源極近傍もしくは発生源内のガスの処理と局所排気装置の排気ガスを処理することによって、発生源からのガスの排出を低減し、局所排気装置の風量を低減して、小型の排ガス処理装置を供給するとともに、排ガス中の有機溶剤ガスを確実に除去し大気放出を防止することを目的としている。   The present invention solves such a conventional problem, and a single exhaust gas treatment device treats the gas in the vicinity of the source or within the source and the exhaust gas of the local exhaust device, thereby generating the source. The purpose is to reduce gas emissions from the air, reduce the air volume of the local exhaust device, supply a small exhaust gas treatment device, and reliably remove organic solvent gas in the exhaust gas to prevent atmospheric emission .

また、溶剤を用いた洗浄槽を発生源としその排ガスを処理する洗浄槽と排ガス処理装置のシステムにおいて、1台の排ガス処理装置で発生源極近傍もしくは発生源内のガスの処理と局所排気装置の排気ガスを処理するとともに、洗浄槽の運転条件を最適化することにより有機溶剤ガスの発生量を低減し、小型で低価格な排ガス処理装置を供給するとともに、排ガス中の有機溶剤ガスを確実に除去し大気放出を防止することを目的としている。   In addition, in a cleaning tank and exhaust gas treatment system that treats exhaust gas using a cleaning tank using a solvent as a source, treatment of gas in the vicinity of the source or within the source and the local exhaust Reduces the amount of organic solvent gas generated by treating exhaust gas and optimizing the operating conditions of the cleaning tank, supplying a small and low-priced exhaust gas treatment device, and ensuring that organic solvent gas is contained in the exhaust gas. Its purpose is to remove it and prevent atmospheric emission.

本発明の排ガス処理装置は、上記目的を達成するために、有機溶剤の発生源に設置した局所排気装置で排気した排ガスの有機溶剤ガスを処理する低濃度ガス処理手段と前記発生源の有機溶剤ガスを直接処理する高濃度ガス処理手段からなり、それぞれ個別に排ガスを導入することができる排ガス処理装置としたものである。   In order to achieve the above object, the exhaust gas treatment apparatus of the present invention comprises a low-concentration gas treatment means for treating an organic solvent gas of exhaust gas exhausted by a local exhaust device installed in a generation source of an organic solvent, and the organic solvent of the generation source The exhaust gas treatment device comprises high-concentration gas treatment means for directly treating gas, and can individually introduce exhaust gas.

この手段により、1台の装置で高濃度ガスと低濃度ガスの2種類のガス処理が可能となり、高濃度ガス処理手段により発生源の有機溶剤ガスを処理するため、局所排気装置の風量を小さくでき、そのため低濃度ガス処理手段を小型化することが可能とのなる。   By this means, two kinds of gas treatment of high concentration gas and low concentration gas can be performed with one device, and the organic solvent gas of the source is processed by the high concentration gas processing means, so the air volume of the local exhaust device is reduced. Therefore, the low-concentration gas processing means can be downsized.

また、他の手段は、低濃度ガス処理手段として排ガス中の有機溶剤ガスを吸着し、有機溶剤ガスを除去後のガスを大気放出する吸着手段と、前記吸着手段に吸着した有機溶剤ガスを脱着し、濃縮して、高濃度ガス処理手段に導入する脱着濃縮手段と高濃度ガス処理手段として前記脱着濃縮手段により濃縮した有機溶剤ガスを冷却処理して液体とする液化手段とを備えた有機溶剤ガス回収装置において、前記液化手段に高濃度の有機溶剤ガスを直接導入する高濃度ガス導入手段を備えたものである。   The other means is a low-concentration gas treatment means that adsorbs the organic solvent gas in the exhaust gas and releases the gas after removing the organic solvent gas to the atmosphere, and desorbs the organic solvent gas adsorbed on the adsorption means. And desorbing and concentrating means to be concentrated and introduced into the high-concentration gas processing means, and an organic solvent provided as a high-concentration gas processing means and a liquefying means for cooling the organic solvent gas concentrated by the desorption and concentrating means into a liquid In the gas recovery apparatus, a high concentration gas introducing means for directly introducing a high concentration organic solvent gas into the liquefying means is provided.

この手段により、高濃度ガス処理手段に低濃度ガス処理手段で処理し濃縮した有機溶剤ガスと発生源の有機溶剤ガスを導入することにより、単一の高濃度ガス処理手段でガスを処理することができ、また、高濃度ガス処理手段を液化手段として有機溶剤ガスを液化することにより、小型の装置で有機溶剤ガスを回収し再利用することが可能となる。   By this means, the organic solvent gas processed by the low concentration gas processing means and the concentrated organic solvent gas and the source organic solvent gas are introduced into the high concentration gas processing means, thereby processing the gas with a single high concentration gas processing means. In addition, by liquefying the organic solvent gas using the high-concentration gas processing means as the liquefying means, the organic solvent gas can be recovered and reused with a small apparatus.

また、他の手段は、低濃度ガス処理手段に導入する局所排気装置の排ガスの有機溶剤ガス濃度を測定し、該有機溶剤ガス濃度に応じて高濃度ガス導入手段の流量を調整する流量調整手段を備えたものである。   The other means is a flow rate adjusting means for measuring the organic solvent gas concentration of the exhaust gas of the local exhaust device to be introduced into the low concentration gas processing means and adjusting the flow rate of the high concentration gas introducing means according to the organic solvent gas concentration. It is equipped with.

この手段により、局所排気装置の排ガスの有機溶剤濃度を測定し、その濃度に応じて高濃度ガス処理手段の処理量を調節することにより、局所排気装置のガス濃度が濃くなり低濃度ガス処理手段の能力が不足することを防止でき、排ガス処理装置を小型化しても確実に排ガス処理することが可能となる。   By this means, the concentration of the organic solvent in the exhaust gas of the local exhaust device is measured, and by adjusting the processing amount of the high concentration gas processing means according to the concentration, the gas concentration of the local exhaust device becomes thicker and the low concentration gas processing means Therefore, even if the exhaust gas treatment device is downsized, the exhaust gas treatment can be reliably performed.

また、他の手段は、吸着手段内の有機溶剤濃度を高めるように、高濃度ガス導入手段により導入した高濃度ガスの一部を吸着手段に導入するものである。   Another means is to introduce a part of the high concentration gas introduced by the high concentration gas introduction means into the adsorption means so as to increase the concentration of the organic solvent in the adsorption means.

この手段により、濃縮ガスの濃度を濃くするとともに、濃度ばらつきを低減することができるので、高濃度ガス処理手段の能力を安定化することができ、小型の排ガス処理装置を提供することが可能となる。   By this means, the concentration of the concentrated gas can be increased and the variation in concentration can be reduced, so that the capability of the high concentration gas processing means can be stabilized, and a small exhaust gas processing apparatus can be provided. Become.

また、他の手段は、吸着手段内の有機溶剤濃度を最適化するように、前記吸着手段に導入する高濃度ガスの量を調整するものである。   Another means is to adjust the amount of high-concentration gas introduced into the adsorbing means so as to optimize the organic solvent concentration in the adsorbing means.

この手段により、高濃度ガスの導入による吸着手段の破過を防ぐことができるとともに、濃縮ガスの濃度をより安定化できるので、確実に有機溶剤ガスを処理できる小型の排ガス処理装置を提供することが可能となる。   By this means, it is possible to prevent breakthrough of the adsorbing means due to the introduction of high concentration gas and to further stabilize the concentration of the concentrated gas, so that a small exhaust gas treatment apparatus capable of reliably treating organic solvent gas is provided. Is possible.

また、他の手段は、有機溶剤を貯留する洗浄槽と該洗浄槽から発生する有機溶剤ガスを排ガスとして排気する局所排気装置と該局所排気装置の排ガスを低濃度ガス処理手段に導入し、前記洗浄槽内の高濃度有機溶剤ガスを高濃度ガス導入手段により高濃度ガス処理手段に導入するものである。   Further, the other means introduces the cleaning tank for storing the organic solvent, the local exhaust apparatus for exhausting the organic solvent gas generated from the cleaning tank as exhaust gas, and the exhaust gas of the local exhaust apparatus to the low concentration gas processing means, The high-concentration organic solvent gas in the cleaning tank is introduced into the high-concentration gas processing means by the high-concentration gas introduction means.

この手段により、洗浄槽からの有機溶剤の排出を低減できる排ガス処理システムを提供することが可能となる。   By this means, it is possible to provide an exhaust gas treatment system that can reduce the discharge of the organic solvent from the cleaning tank.

また、他の手段は、洗浄槽内に設置した加熱手段により貯留した有機溶剤を加熱し有機溶剤の蒸気を発生させ、前記蒸気を洗浄槽内壁に設置した冷却手段により冷却して、前記蒸気を洗浄槽内に貯留し、被洗浄物を有機溶剤への浸漬および蒸気により洗浄する洗浄装置と該洗浄装置から排出する有機溶剤ガスを処理する排ガス処理において、前記洗浄槽内の前記蒸気が貯留する位置すなわちベーパーラインより上部のガスを高濃度ガス導入手段によって高濃度ガス処理手段に導入するものである。   Further, the other means heats the organic solvent stored by the heating means installed in the cleaning tank to generate the vapor of the organic solvent, cools the vapor by the cooling means installed on the inner wall of the cleaning tank, and In the cleaning apparatus for storing the object to be cleaned in an organic solvent and cleaning it with steam, and in the exhaust gas processing for processing the organic solvent gas discharged from the cleaning apparatus, the steam in the cleaning tank is stored. The gas above the position, that is, above the vapor line, is introduced into the high concentration gas processing means by the high concentration gas introduction means.

この手段により、洗浄槽から排出される有機溶剤ガスを低減できるため局所排気装置の風量を低減でき、小型の排ガス処理装置を用いたシステムを提供することができる。   By this means, since the organic solvent gas discharged from the cleaning tank can be reduced, the air volume of the local exhaust device can be reduced, and a system using a small exhaust gas treatment device can be provided.

また、他の手段は、ベーパーラインの下部のガスを高濃度ガス導入手段によって高濃度ガス処理手段に導入する排ガス処理システムとしたものである。   Another means is an exhaust gas treatment system that introduces the gas below the vapor line into the high concentration gas treatment means by the high concentration gas introduction means.

この手段により、100%に近い濃度の有機溶剤ガスを高濃度ガス処理手段に導入できるため、高濃度ガス処理手段の能力を低減できる排ガス処理システムを提供できる。   By this means, an organic solvent gas having a concentration close to 100% can be introduced into the high-concentration gas processing means, so that it is possible to provide an exhaust gas treatment system that can reduce the capacity of the high-concentration gas processing means.

また、他の手段は、低濃度ガスの濃度を測定し洗浄槽の加熱手段と冷却手段を制御するものである。   Another means measures the concentration of the low-concentration gas and controls the heating means and cooling means of the cleaning tank.

この手段により、洗浄槽の加熱手段と冷却手段を制御することにより、排ガス処理装置の能力を超えた排気ガスが発生することを抑制することができる排ガス処理システムを提供することができる。   By this means, it is possible to provide an exhaust gas treatment system capable of suppressing the generation of exhaust gas exceeding the capacity of the exhaust gas treatment device by controlling the heating means and cooling means of the cleaning tank.

また、他の手段は、洗浄槽を設置した雰囲気温度を測定する雰囲気温度測定手段を備え、低濃度ガスの濃度と前記雰囲気温度測定手段で測定した雰囲気温度より、加熱手段と冷却手段を制御するものである。   Further, the other means includes an atmospheric temperature measuring means for measuring the atmospheric temperature in which the cleaning tank is installed, and controls the heating means and the cooling means from the concentration of the low concentration gas and the atmospheric temperature measured by the atmospheric temperature measuring means. Is.

この手段により、雰囲気温度を加熱手段と冷却手段の制御に加えることにより、より安定した洗浄槽の運転が可能となる排ガス処理システムを提供することができる。   By this means, by adding the atmospheric temperature to the control of the heating means and the cooling means, it is possible to provide an exhaust gas treatment system that enables more stable operation of the cleaning tank.

また、他の手段は、ベーパーラインの位置を検出するレベル検出手段を備え、前記レベル検出手段の信号により高濃度ガス導入手段の流量を流量調整手段によって調整することを特徴としたものである。   In addition, the other means is provided with level detecting means for detecting the position of the vapor line, and the flow rate of the high concentration gas introducing means is adjusted by the flow rate adjusting means in accordance with a signal from the level detecting means.

この手段により、ベーパーラインの位置を安定化することができるので、洗浄槽からの有機溶剤ガスの排出量を低減するとともに安定化することができる排ガス処理システムを提供することができる。   Since the position of the vapor line can be stabilized by this means, it is possible to provide an exhaust gas treatment system that can reduce and stabilize the amount of organic solvent gas discharged from the cleaning tank.

また、他の手段は、レベル検出手段の信号により、高濃度ガス導入手段の流量を流量調整手段によって調整し、同時に洗浄槽の加熱手段と冷却手段を制御することを特徴とするものである。   Another means is characterized in that the flow rate of the high-concentration gas introducing means is adjusted by the flow rate adjusting means according to the signal from the level detecting means, and at the same time, the heating means and the cooling means of the cleaning tank are controlled.

この手段により、ベーパーラインの位置制御に高濃度ガス導入手段の流量に加え、洗浄槽の加熱手段と冷却手段を制御することにより、より確実にベーパーラインの位置を安定化できる排ガス処理システムを提供することができる。   By this means, in addition to the flow rate of the high-concentration gas introduction means for controlling the position of the vapor line, the heating means and cooling means of the cleaning tank are controlled to provide an exhaust gas treatment system that can stabilize the position of the vapor line more reliably. can do.

また、他の手段は、レベル検出手段によって検出したベーパーラインの位置が上昇すると警報を出力する警報出力手段を備えたものである。   The other means includes an alarm output means for outputting an alarm when the vapor line position detected by the level detection means rises.

この手段により、洗浄槽の異常を知ることができる排ガス処理システムを提供することが可能となる。   By this means, it is possible to provide an exhaust gas treatment system that can know the abnormality of the cleaning tank.

また、他の手段は、レベル検出手段によって検出したベーパーラインの位置に応じて吸入口を移動することを特徴とするものである。   Further, the other means is characterized in that the suction port is moved in accordance with the position of the vapor line detected by the level detection means.

この手段により、ベーパーラインの位置が移動した場合においても、常にベーパーラインに対して同じ位置からガスを吸引することができる排ガス処理システムを提供することができるものである。   By this means, it is possible to provide an exhaust gas treatment system capable of always sucking gas from the same position with respect to the vapor line even when the position of the vapor line is moved.

また、他の手段は、ベーパーラインの位置が変わらないように高濃度ガス導入手段の吸引量、洗浄槽の加熱手段、冷却手段の少なくとも一つを制御することを特徴とするものである。   The other means is characterized in that at least one of the suction amount of the high concentration gas introducing means, the heating means of the cleaning tank, and the cooling means is controlled so that the position of the vapor line does not change.

この手段により、ベーパーラインの位置が安定化できるため、排出ガス濃度が安定するとともに、排ガス処理装置へ導入されるガスの濃度の変動が少なくなる排ガス処理システムを提供することができるものである。   By this means, the position of the vapor line can be stabilized, so that it is possible to provide an exhaust gas treatment system in which the exhaust gas concentration is stabilized and the fluctuation of the concentration of the gas introduced into the exhaust gas treatment device is reduced.

本発明によれば1台の排ガス処理装置で局所排気装置からの排ガス、すなわち比較的低濃度の排ガスと発生源からの排ガス、すなわち比較的高濃度の排ガスを同時に処理できるという効果のある排ガス処理装置を提供できる。   According to the present invention, an exhaust gas treatment having an effect of simultaneously treating exhaust gas from a local exhaust device, that is, exhaust gas having a relatively low concentration and exhaust gas from a source, that is, exhaust gas having a relatively high concentration, with one exhaust gas treatment device. Equipment can be provided.

また、発生源から直接ガスを処理することにより、発生源からの発生を抑制できるので、局所排気の風量を低減でき省エネになるとともに、局所排気装置の風量が小さくなるため、排ガス処理装置を小型化できるという効果のある排ガス処理装置を提供できる。   In addition, by processing the gas directly from the generation source, it is possible to suppress the generation from the generation source, so the air volume of the local exhaust can be reduced and energy saving is achieved, and the air volume of the local exhaust device is reduced, so the exhaust gas processing device is reduced in size. It is possible to provide an exhaust gas treatment apparatus having an effect of being able to be made.

また、高濃度ガス処理手段へ導入するガス濃度を安定化することにより、高濃度ガス処理手段を小型化できる効果のある排ガス処理装置を提供できる。   Further, by stabilizing the gas concentration introduced into the high concentration gas processing means, it is possible to provide an exhaust gas processing apparatus that is effective in reducing the size of the high concentration gas processing means.

また、本発明によれば洗浄槽からの排ガスを小型の排ガス処理装置で処理することができ、そして、大気汚染を低減できる効果のある洗浄槽の排ガス処理システムを提供できる。   Further, according to the present invention, the exhaust gas from the cleaning tank can be processed by a small exhaust gas processing apparatus, and an exhaust gas processing system for the cleaning tank that can reduce air pollution can be provided.

本発明請求項1記載の発明は、排ガス中の有機溶剤を除去する排ガス処理装置において、有機溶剤の発生源に設置した局所排気装置で排気した排ガスの有機溶剤ガスを処理する低濃度ガス処理手段と前記発生源の有機溶剤ガスを直接処理する高濃度ガス処理手段からなり、それぞれ個別に排ガスを導入することができる排ガス処理装置としたものであり、1台の排ガス処理装置で発生源から直接吸引したガスと、局所排気装置から排出されるガスの両方を同時に処理できるとともに、発生源から直接吸引することにより、発生源からの有機溶剤ガスの排出量を低減でき、そのため局所排気装置の風量を下げることができ、さらに、局所排気装置の風量が小さくなるので、排ガス処理装置を小型化できるという作用を有する。   The invention according to claim 1 of the present invention is a low-concentration gas processing means for processing an organic solvent gas of exhaust gas exhausted by a local exhaust device installed at a source of the organic solvent in an exhaust gas processing device for removing an organic solvent in the exhaust gas. And a high-concentration gas processing means that directly processes the organic solvent gas of the generation source, each of which is an exhaust gas processing apparatus that can individually introduce exhaust gas. Both the sucked gas and the gas exhausted from the local exhaust system can be processed at the same time, and the amount of organic solvent gas discharged from the source can be reduced by direct suction from the source. Further, since the air volume of the local exhaust device is reduced, the exhaust gas treatment device can be downsized.

また、本発明請求項2記載の発明は、低濃度ガス処理手段として排ガス中の有機溶剤ガスを吸着し、有機溶剤ガスを除去後のガスを大気放出する吸着手段と、前記吸着手段に吸着した有機溶剤ガスを脱着し、濃縮して、高濃度ガス処理手段に導入する脱着濃縮手段と高濃度ガス処理手段として前記脱着濃縮手段により濃縮した有機溶剤ガスを冷却処理して液体とする液化手段とを備えた有機溶剤ガス回収装置において、前記液化手段に高濃度の有機溶剤ガスを直接導入する高濃度ガス導入手段を備えた請求項1記載の排ガス処理装置としたものであり、低濃度ガス処理手段として、吸着手段を用いた濃縮を行い、高濃度ガス処理手段として冷却による液化手段を用いて、高濃度ガス処理手段で低濃度ガス処理手段の濃縮ガスと高濃度ガス導入手段によって導入したガスの両者を処理することにより、構成を簡略化できるという作用を有する。   The invention according to claim 2 of the present invention adsorbs the organic solvent gas in the exhaust gas as the low-concentration gas processing means, adsorbs the organic solvent gas to the atmosphere after removing the organic solvent gas, and adsorbs the adsorbing means. A desorption concentration means for desorbing, concentrating and introducing the organic solvent gas into the high concentration gas treatment means; and a liquefaction means for cooling the organic solvent gas concentrated by the desorption concentration means as a high concentration gas treatment means to form a liquid. An organic solvent gas recovery apparatus comprising: a high-concentration gas introduction device for directly introducing a high-concentration organic solvent gas into the liquefaction device, wherein the low-concentration gas treatment is performed. Concentration using adsorption means as means, liquefaction means by cooling as high-concentration gas processing means, concentrated gas and high-concentration gas introduction of low-concentration gas processing means with high-concentration gas processing means By processing both gas introduced by stages, an effect that the configuration can be simplified.

また、本発明請求項3記載の発明は、低濃度ガス処理手段に導入する局所排気装置の排ガスの有機溶剤ガス濃度を測定し、該有機溶剤ガス濃度に応じて、前記有機溶剤ガス濃度が濃くなると高濃度ガス導入手段の流量を多くし、前記有機溶剤ガス濃度が薄くなると前記高濃度ガス導入手段の流量を少なくする流量調整手段を備えた請求項2記載の排ガス処理装置としたものであり、局所排気装置からの排ガス濃度に応じて、高濃度ガス導入手段の流量を調整することにより、局所排気装置の排ガス濃度が高くなることを抑制できるため、低濃度ガス処理手段を小型化できるという作用を有する。   The invention according to claim 3 of the present invention measures the organic solvent gas concentration of the exhaust gas of the local exhaust device introduced into the low concentration gas processing means, and the organic solvent gas concentration is high according to the organic solvent gas concentration. The exhaust gas treatment device according to claim 2, further comprising a flow rate adjusting means for increasing the flow rate of the high-concentration gas introduction means and decreasing the flow rate of the high-concentration gas introduction means when the organic solvent gas concentration is reduced. By adjusting the flow rate of the high-concentration gas introduction means according to the exhaust gas concentration from the local exhaust device, it is possible to suppress the exhaust gas concentration of the local exhaust device from becoming high, so that the low-concentration gas processing means can be downsized. Has an effect.

また、本発明請求項4記載の発明は、吸着手段内の有機溶剤濃度を高めるように、高濃度ガス導入手段により導入した高濃度ガスの一部を吸着手段に導入する高濃度ガス分岐手段を備えた請求項2、3記載の排ガス処理装置としたものであり、吸着手段内の有機溶剤濃度が高くなるため、吸着手段から脱着して得られる濃縮ガスの濃度を濃くすることができるという作用を有する。   The invention according to claim 4 of the present invention further comprises a high concentration gas branching means for introducing a part of the high concentration gas introduced by the high concentration gas introduction means to the adsorption means so as to increase the concentration of the organic solvent in the adsorption means. The exhaust gas treatment apparatus according to claim 2 or 3, wherein the concentration of the organic solvent in the adsorption means becomes high, so that the concentration of the concentrated gas obtained by desorption from the adsorption means can be increased. Have

また、本発明請求項5記載の発明は、吸着手段内の有機溶剤濃度を最適化するように、前記吸着手段に導入する高濃度ガスの量を調整する流量調整手段を高濃度ガス分岐手段に備えた請求項4記載の排ガス処理装置としたものであり、流量調整手段で低濃度ガス処理手段に導入する高濃度ガスの量を調整し、必要以上の高濃度ガスが導入したことによる低濃度ガス処理手段の能力不足、および高濃度ガスの不足による濃縮ガスの濃度低下を抑制できるという作用を有する。   According to the fifth aspect of the present invention, the flow rate adjusting means for adjusting the amount of the high concentration gas introduced into the adsorption means is a high concentration gas branching means so as to optimize the organic solvent concentration in the adsorption means. The exhaust gas treatment apparatus according to claim 4 is provided, wherein the amount of the high-concentration gas introduced into the low-concentration gas treatment means is adjusted by the flow rate adjustment means, and the low-concentration due to the introduction of an unnecessarily high-concentration gas. It has the effect that it is possible to suppress the concentration reduction of the concentrated gas due to the lack of capacity of the gas processing means and the lack of high concentration gas.

また、本発明請求項6記載の発明は、請求項1〜5いずれかに記載の排ガス処理装置と有機溶剤を貯留する洗浄槽と該洗浄槽から発生する有機溶剤ガスを排気する局所排気装置を備え、該局所排気装置の排ガスを低濃度ガス処理手段に導入し、前記洗浄槽内の高濃度有機溶剤ガスを高濃度ガス導入手段により高濃度ガス処理手段に導入する排ガス処理システムとしたものであり、洗浄槽内の高濃度有機溶剤ガスを吸引処理することにより、洗浄槽から排出される有機溶剤ガスの量を低減でき、そのため、局所排気装置の風量を下げることができる。さらに、局所排気装置の風量が低減できると、低濃度ガス処理手段を小型化できるという作用を有する。   The invention according to claim 6 of the present invention includes the exhaust gas treatment apparatus according to any one of claims 1 to 5, a cleaning tank for storing an organic solvent, and a local exhaust apparatus for exhausting an organic solvent gas generated from the cleaning tank. An exhaust gas treatment system for introducing the exhaust gas of the local exhaust device into the low concentration gas treatment means and introducing the high concentration organic solvent gas in the cleaning tank into the high concentration gas treatment means by the high concentration gas introduction means. In addition, the amount of the organic solvent gas discharged from the cleaning tank can be reduced by sucking the high-concentration organic solvent gas in the cleaning tank, so that the air volume of the local exhaust device can be reduced. Further, if the air volume of the local exhaust device can be reduced, the low concentration gas processing means can be reduced in size.

また、本発明請求項7記載の発明は、洗浄槽内に設置した加熱手段により貯留した有機溶剤を加熱し有機溶剤の蒸気を発生させ、前記蒸気を洗浄槽内壁に設置した冷却手段により冷却して、前記蒸気を洗浄槽内に貯留し、被洗浄物を有機溶剤への浸漬および蒸気により洗浄する洗浄装置と該洗浄装置から排出する有機溶剤ガスを処理する排ガス処理において、前記洗浄槽内の前記蒸気が貯留する位置すなわちベーパーラインより上部のガスを高濃度ガス導入手段によって高濃度ガス処理手段に導入する請求項6記載の排ガス処理システムとしたものであり、洗浄槽内の有機溶剤ガス量を低減し、有機溶剤ガスの排出量をていげんできるという作用を有する。また、排出量が低減されるので小型の排ガス処理装置で排出ガスを正常化できるという作用を有する。   In the invention according to claim 7 of the present invention, the organic solvent stored by the heating means installed in the cleaning tank is heated to generate vapor of the organic solvent, and the vapor is cooled by the cooling means installed on the inner wall of the cleaning tank. In the cleaning tank, the steam is stored in the cleaning tank, and the object to be cleaned is immersed in an organic solvent and cleaned with the steam, and the exhaust gas processing for processing the organic solvent gas discharged from the cleaning apparatus. The exhaust gas treatment system according to claim 6, wherein the gas storing position, that is, the gas above the vapor line is introduced into the high concentration gas treatment means by the high concentration gas introduction means. This has the effect of reducing the amount of organic solvent gas discharged. Further, since the emission amount is reduced, the exhaust gas can be normalized with a small exhaust gas treatment device.

また、本発明請求項8記載の発明は、ベーパーラインの下部のガスを高濃度ガス導入手段によって高濃度ガス処理手段に導入する請求項7記載の排ガス処理システムとしたものであり、ベーパーラインの下部は100%に近い高濃度ガスであるため、冷却液化が比較的簡易にできるという作用を有する。   The invention according to claim 8 of the present invention is the exhaust gas treatment system according to claim 7, wherein the gas under the vapor line is introduced into the high concentration gas treatment means by the high concentration gas introduction means. Since the lower part is a high-concentration gas close to 100%, it has an effect that cooling and liquefaction can be made relatively simple.

また、本発明請求項9記載の発明は、低濃度ガスの濃度を測定し洗浄槽の加熱手段と冷却手段を制御する請求項7または8記載の排ガス処理システムとしたものであり、局所排気装置から排出されるガス濃度を測定し、濃度が高くなると有機溶剤ガスの蒸発を抑制するように加熱手段と冷却手段を制御するので、洗浄槽からの排出ガス量を低減でき、小型の排ガス処理装置で処理できるという作用を有する。   The invention according to claim 9 of the present invention is the exhaust gas treatment system according to claim 7 or 8 which measures the concentration of the low-concentration gas and controls the heating means and cooling means of the cleaning tank. Measures the concentration of gas discharged from the tank and controls the heating means and cooling means to suppress the evaporation of organic solvent gas when the concentration increases, so the amount of exhaust gas from the cleaning tank can be reduced and a small exhaust gas treatment device It has the effect that it can be processed with.

また、本発明請求項10記載の発明は、洗浄槽を設置した雰囲気温度を測定する雰囲気温度測定手段を備え、低濃度ガスの濃度と前記雰囲気温度測定手段で測定した雰囲気温度より、加熱手段と冷却手段を制御することを特徴とする請求項7〜9いずれかに記載の排ガス処理システムとしたものであり、洗浄槽からの有機溶剤の排出は、有機溶剤の蒸発によるものであり、雰囲気温度に大きく依存する、そのため、局所排気装置により排出した有機溶剤ガス濃度と雰囲気温度を測定し、洗浄槽を制御することにより、より確実に有機溶剤ガスの排出を抑制するという作用を有する。   Further, the invention according to claim 10 of the present invention is provided with an atmospheric temperature measuring means for measuring the atmospheric temperature in which the cleaning tank is installed, and from the concentration of the low concentration gas and the atmospheric temperature measured by the atmospheric temperature measuring means, the heating means The exhaust gas treatment system according to any one of claims 7 to 9, wherein the cooling means is controlled. The discharge of the organic solvent from the cleaning tank is due to evaporation of the organic solvent, and the ambient temperature. Therefore, the concentration of the organic solvent gas discharged by the local exhaust device and the ambient temperature are measured, and the cleaning tank is controlled, so that the discharge of the organic solvent gas is more reliably suppressed.

また、本発明請求項11記載の発明は、ベーパーラインの位置を検出するレベル検出手段を備え、前記レベル検出手段の信号により高濃度ガス導入手段の流量を流量調整手段によって調整することを特徴とした請求項7〜10いずれかに記載の排ガス処理システムとしたものであり、ベーパーラインの位置を検出できるため、ベーパーラインが上がってくると高濃度ガス導入手段の流量を増やすことによりベーパーラインを下げることができ、洗浄槽からの有機溶剤ガスの排出を低減することができるという作用を有する。   The invention described in claim 11 further comprises level detecting means for detecting the position of the vapor line, and the flow rate of the high concentration gas introducing means is adjusted by the flow rate adjusting means in accordance with a signal from the level detecting means. Since the position of the vapor line can be detected, the vapor line is increased by increasing the flow rate of the high concentration gas introducing means when the vapor line is raised. It has the effect | action that it can reduce and discharge | emission of the organic solvent gas from a washing tank can be reduced.

また、本発明請求項12記載の発明は、レベル検出手段の信号により、高濃度ガス導入手段の流量を流量調整手段によって調整し、同時に洗浄槽の加熱手段と冷却手段を制御することを特徴とする請求項11記載の排ガス処理システムとしたものであり、高濃度ガス導入手段の流量だけでなく、洗浄槽の加熱手段と冷却手段も制御できるため、ベーパーラインの上昇を検知すると、高濃度ガス導入手段の流量を上げ、加熱手段の能力を下げ、冷却手段の能力を上げることにより、ベーパーラインの位置を下げることができるという作用を有する。   The invention according to claim 12 of the present invention is characterized in that the flow rate of the high concentration gas introducing means is adjusted by the flow rate adjusting means according to the signal of the level detecting means, and at the same time the heating means and cooling means of the cleaning tank are controlled. The exhaust gas treatment system according to claim 11, wherein not only the flow rate of the high concentration gas introduction means but also the heating means and cooling means of the cleaning tank can be controlled. By increasing the flow rate of the introducing means, reducing the capacity of the heating means, and increasing the capacity of the cooling means, the position of the vapor line can be lowered.

また、本発明請求項13記載の発明は、レベル検出手段によって検出したベーパーラインの位置が上昇すると警報を出力する警報出力手段を備えた請求項11または12記載の排ガス処理システムとしたものであり、警報により作業者がベーパーラインの上昇により、洗浄槽の運転が異常であり、有機溶剤ガスの排出の可能性があることを知ることができ、適切な対応が可能となるという作用を有する。   The invention according to claim 13 of the present invention is the exhaust gas treatment system according to claim 11 or 12, further comprising alarm output means for outputting an alarm when the position of the vapor line detected by the level detection means rises. The alarm causes the operator to know that the operation of the cleaning tank is abnormal and the organic solvent gas may be discharged due to the rise of the vapor line, and the appropriate action can be taken.

また、本発明請求項14記載の発明は、レベル検出手段によって検出したベーパーラインの位置に応じて吸入口を移動することを特徴とする請求項11〜13いずれかに記載の排ガス処理システムとしたものであり、高濃度ガス導入手段へ導入する吸入口の洗浄槽内での位置をベーパーラインを基準に安定化されるため、吸入するガスの濃度を安定化できるという作用を有する。   The invention according to claim 14 of the present invention is the exhaust gas treatment system according to any one of claims 11 to 13, wherein the suction port is moved in accordance with the position of the vapor line detected by the level detection means. Since the position of the suction port introduced into the high concentration gas introducing means in the cleaning tank is stabilized with reference to the vapor line, the concentration of the gas to be sucked can be stabilized.

また、本発明請求項15記載の発明は、ベーパーラインの位置が変わらないように高濃度ガス導入手段の吸引量、洗浄槽の加熱手段、冷却手段の少なくとも一つを制御することを特徴とする請求項11〜13いずれかに記載の排ガス処理システムとしたものであり、ベーパーラインの位置が安定化できるため、排出ガス濃度が安定するとともに、排ガス処理装置へ導入されるガスの濃度の変動が少なくなるという作用を有する。   The invention described in claim 15 is characterized in that at least one of the suction amount of the high concentration gas introducing means, the heating means of the cleaning tank, and the cooling means is controlled so that the position of the vapor line does not change. The exhaust gas treatment system according to any one of claims 11 to 13, wherein the position of the vapor line can be stabilized, so that the exhaust gas concentration is stabilized and the concentration of the gas introduced into the exhaust gas treatment device varies. It has the effect of reducing.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

(実施の形態1)
図1は、本発明の排ガス処理装置の構成を示すブロック図である。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of the exhaust gas treatment apparatus of the present invention.

図に示すように、塗装、印刷、工業洗浄など有機溶剤を使用した施設から排出される有機溶剤ガスは、排ガス処理装置1に導入され、排ガス中に含まれる有機溶剤ガスを除去し大気放出される。ここで、排ガス処理装置1に導入されるガスは、低濃度有機溶剤ガスは、低濃度ガス処理手段2に、高濃度有機溶剤ガスは、高濃度ガス処理手段3にそれぞれ導入され除去処理を行う。ここで、低濃度有機溶剤ガスは、例えば、局所排気装置を用いて有機溶剤ガスの排出源から排出されたガスで、局所排気装置で吸引するため大気で希釈されたガスである。濃度としては、数百ppmから1%以下の濃度範囲である。   As shown in the figure, an organic solvent gas discharged from a facility using an organic solvent such as painting, printing, industrial cleaning, etc. is introduced into the exhaust gas treatment apparatus 1, and the organic solvent gas contained in the exhaust gas is removed and released into the atmosphere. The Here, the gas introduced into the exhaust gas treatment apparatus 1 is a low-concentration organic solvent gas introduced into the low-concentration gas treatment means 2 and a high-concentration organic solvent gas is introduced into the high-concentration gas treatment means 3 to perform a removal treatment. . Here, the low-concentration organic solvent gas is, for example, a gas discharged from an organic solvent gas discharge source using a local exhaust device, and is a gas diluted in the atmosphere to be sucked by the local exhaust device. The concentration ranges from several hundred ppm to 1% or less.

また、高濃度有機溶剤ガスは、例えば、発生源の極近傍もしくは発生源内から大気希釈をしないように直接吸引したガスであり、1%以上の有機溶剤ガスを含有したものである。   The high-concentration organic solvent gas is, for example, a gas sucked directly from the vicinity of the generation source or from the generation source so as not to dilute into the atmosphere, and contains 1% or more organic solvent gas.

ここで、低濃度ガス処理手段2、および高濃度ガス処理手段3は、活性炭、ゼオライト、アルミナ、シリカゲルなどの吸着剤を用いた吸着方式、高温で分解する燃焼方式、触媒を用いた触媒方式、吸収液を用いた吸収方式、オゾン、UV、プラズマによる分解、冷却、加圧冷却による冷却凝集方式、微生物や酵素を用いた生分解方式など有機溶剤を処理する当該既知の方式を用いることができ、低濃度ガス処理手段2としては、上記の方式を低濃度有機溶剤ガスに最適化し使用し、同様に高濃度ガス処理手段3としては、高濃度有機溶剤ガスに最適化して使用することができる。   Here, the low-concentration gas treatment means 2 and the high-concentration gas treatment means 3 are an adsorption method using an adsorbent such as activated carbon, zeolite, alumina, silica gel, a combustion method that decomposes at a high temperature, a catalyst method that uses a catalyst, Absorption method using absorption liquid, ozone, UV, plasma decomposition, cooling, cooling aggregation method by pressure cooling, biodegradation method using microorganisms and enzymes, and other known methods for treating organic solvents can be used. The low-concentration gas treatment means 2 can be used by optimizing the above-described method for a low-concentration organic solvent gas, and similarly the high-concentration gas treatment means 3 can be optimized for a high-concentration organic solvent gas. .

上記構成において、排ガス処理装置1には、低濃度ガス処理手段2と高濃度ガス処理手段3が備えられ、低濃度有機溶剤ガス、高濃度有機溶剤ガスのどちらのガスに対しても1台の装置で対応することが可能となり、さらに、低濃度有機溶剤ガスと高濃度有機溶剤ガスを同時に吸引して処理できるため、2種類の濃度のガスを同時に処理することができる。   In the above configuration, the exhaust gas treatment apparatus 1 includes the low concentration gas treatment means 2 and the high concentration gas treatment means 3, and one unit is provided for both the low concentration organic solvent gas and the high concentration organic solvent gas. It is possible to cope with the apparatus, and furthermore, since the low-concentration organic solvent gas and the high-concentration organic solvent gas can be sucked and processed at the same time, two kinds of concentrations of gas can be processed simultaneously.

また、有機溶剤ガスを排出する発生源において、通常、作業環境への拡散を防止するため局所排気装置が設置され、局所排気装置により発生源から排出される有機溶剤ガスを捕集し、屋外に排出している。ここで、大気汚染を防止するため、局所排気装置のエンドオブパイプに排ガス処理装置1を設置し排出される排ガス中の有機溶剤ガスを浄化している。   In addition, a local exhaust device is usually installed at the source that discharges the organic solvent gas to prevent diffusion into the work environment, and the organic solvent gas discharged from the source is collected by the local exhaust device, and is taken outdoors. It is discharging. Here, in order to prevent air pollution, the exhaust gas treatment device 1 is installed in the end of pipe of the local exhaust device to purify the organic solvent gas in the exhaust gas discharged.

一方、発生源の内部もしくは極近傍から発生する有機溶剤ガスを吸引し処理することにより、発生源からの有機溶剤ガスの発生を抑制して有機溶剤の排出を低減する方式もある。   On the other hand, there is also a method of reducing the discharge of the organic solvent by suppressing the generation of the organic solvent gas from the generation source by sucking and processing the organic solvent gas generated from the inside or near the generation source.

本発明の排ガス処理装置1は、低濃度有機溶剤ガスと高濃度有機溶剤ガスを同時に処理できるため、上記両者の方式の排ガス処理を1台の装置で行うことができる。   Since the exhaust gas treatment apparatus 1 of the present invention can treat a low-concentration organic solvent gas and a high-concentration organic solvent gas at the same time, the exhaust gas treatment of both methods can be performed by a single device.

そのため、装置の小型化が可能となる。   Therefore, the apparatus can be downsized.

(実施の形態2)
図2は、本発明の排ガス処理装置1の構成を示すブロック図である。なお、本発明実施の形態1と同一の部分には同一番号を付して説明は省略する。
(Embodiment 2)
FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of the exhaust gas treatment apparatus 1 of the present invention. The same parts as those in the first embodiment of the present invention are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図において、低濃度ガス処理手段2は、吸着手段4と脱着手段5で構成され、高濃度ガス処理手段3は、液化手段で構成している。   In the figure, the low concentration gas processing means 2 is constituted by an adsorption means 4 and a desorption means 5, and the high concentration gas processing means 3 is constituted by a liquefaction means.

吸着手段4は、例えば、活性炭、シリカゲル、ゼオライト、アルミナなどの吸着剤を備え、低濃度有機溶剤ガスを導入し、前記低濃度有機溶剤ガス中の有機溶剤ガス成分を吸着し、実質的に有機溶剤ガスを除去したガスを大気に放出する。   The adsorbing means 4 includes, for example, an adsorbent such as activated carbon, silica gel, zeolite, and alumina, introduces a low concentration organic solvent gas, adsorbs an organic solvent gas component in the low concentration organic solvent gas, and is substantially organic. Release the solvent gas to the atmosphere.

また、吸着手段4は、吸着剤を充填した吸着塔を1塔もしくは複数等切り替えて使用しても良い。さらに、吸着剤をハニカム状に成型、ハニカム状の基材に添着したし、円筒形にしたロータを用いても良い。   The adsorption means 4 may be used by switching one or more adsorption towers filled with an adsorbent. Further, the adsorbent may be molded into a honeycomb shape and attached to a honeycomb-shaped substrate, or a cylindrical rotor may be used.

脱着手段5は、吸着手段4で吸着した有機溶剤ガスを吸着剤から脱着し、吸着剤を再生するとともに脱着した有機溶剤ガスを高濃度ガス処理手段3の液化手段6に送る。また、脱着した有機溶剤ガスは、導入した低濃度有機溶剤ガスに比して濃縮されている。   The desorption means 5 desorbs the organic solvent gas adsorbed by the adsorption means 4 from the adsorbent, regenerates the adsorbent, and sends the desorbed organic solvent gas to the liquefaction means 6 of the high-concentration gas processing means 3. The desorbed organic solvent gas is concentrated as compared with the introduced low concentration organic solvent gas.

ここで、脱着手段5の吸着剤からの脱着方法は、水蒸気、加熱空気、加熱不活性ガス、吸着剤の直接加熱などの熱による脱着いわゆるTSA方式、減圧することによる脱着いわゆるPSA方式など、当該既知の方法を用いることができる。   Here, the desorption method of the desorption means 5 from the adsorbent includes desorption by heat such as steam, heated air, heated inert gas, and direct heating of the adsorbent, so-called TSA method, desorption by depressurization, so-called PSA method, etc. Known methods can be used.

つぎに、高濃度ガス処理手段3である液化手段6は、高濃度ガス導入手段7から高濃度有機溶剤ガスと脱着手段5からの濃縮ガスを導入し、冷却して有機溶剤ガスを液化する。液化した有機溶剤は、回収され再利用するか、もしくは廃棄物となる。   Next, the liquefying means 6 which is the high concentration gas processing means 3 introduces the high concentration organic solvent gas from the high concentration gas introduction means 7 and the concentrated gas from the desorption means 5 and cools to liquefy the organic solvent gas. The liquefied organic solvent is recovered and reused or becomes waste.

ここで、液化手段6は、ガスを冷却する手段であれば当該既知の方法で良い。また、冷却には、チラーを使用した冷却液、冷凍サイクルを用いた冷媒などの方式を使うことができる。   Here, the liquefying means 6 may be a known method as long as it is a means for cooling the gas. For cooling, a cooling liquid using a chiller, a refrigerant using a refrigeration cycle, or the like can be used.

また、高濃度ガス導入手段7は、パイプ等の配管とポンプや送風機からなり、発生源から高濃度有機溶剤ガスを吸引する。   The high-concentration gas introduction means 7 is composed of pipes such as pipes, a pump and a blower, and sucks the high-concentration organic solvent gas from the generation source.

次に、液化手段6で凝縮しなかったガスは、吸着手段4で処理したガスと混合し排出される。   Next, the gas that has not been condensed by the liquefying means 6 is mixed with the gas treated by the adsorption means 4 and discharged.

ここで、未凝縮のガスは、低濃度有機溶剤ガスと混合し、吸着手段4の入口に戻しても良い、また、高濃度溶剤ガスを導入してきた発生源に戻しても良い。   Here, the uncondensed gas may be mixed with the low-concentration organic solvent gas and returned to the inlet of the adsorption means 4, or may be returned to the source from which the high-concentration solvent gas has been introduced.

上記構成において、高濃度ガス処理手段3で発生源から吸引した高濃度有機溶剤ガスを処理するため発生源から排出される有機溶剤ガスの量を低減できる。そのため、局所排気装置の風量を小さくすることが可能となり、処理すべき低濃度有機溶剤ガスの量を低減できる。   In the above configuration, since the high concentration organic solvent gas sucked from the generation source is processed by the high concentration gas processing means 3, the amount of the organic solvent gas discharged from the generation source can be reduced. Therefore, the air volume of the local exhaust device can be reduced, and the amount of low-concentration organic solvent gas to be processed can be reduced.

そのため、低濃度ガス処理手段2の吸着手段4に使用する吸着剤を少なくすることができ、低濃度ガス処理手段2を小型化することができる。   Therefore, the adsorbent used for the adsorption means 4 of the low concentration gas treatment means 2 can be reduced, and the low concentration gas treatment means 2 can be miniaturized.

よって、本発明の排ガス処理装置は、高濃度有機溶剤ガスと低濃度有機溶剤ガスを1台の装置で同時に処理することにより、装置を小型化し、確実に有機溶剤ガスを含有した排気ガスを処理することが可能となる。   Therefore, the exhaust gas treatment apparatus of the present invention processes the high-concentration organic solvent gas and the low-concentration organic solvent gas simultaneously in one apparatus, thereby downsizing the apparatus and reliably processing the exhaust gas containing the organic solvent gas. It becomes possible to do.

(実施の形態3)
図3は、本発明の排ガス処理装置1の構成を示すブロック図である。なお、本発明実施の形態1、2と同一の部分には同一番号を付して説明は省略する。
(Embodiment 3)
FIG. 3 is a block diagram showing the configuration of the exhaust gas treatment apparatus 1 of the present invention. In addition, the same number is attached | subjected to the part same as Embodiment 1, 2 of this invention, and description is abbreviate | omitted.

図において、分岐手段8は、高濃度ガス導入手段7に設けられ、高濃度ガス導入手段7で吸引した高度度有機溶剤ガスの1部を分岐し、流量調整バルブ9によってその流量を調整して、低濃度ガス導入手段2に導入する。   In the figure, the branching means 8 is provided in the high concentration gas introducing means 7, branches a part of the high degree organic solvent gas sucked by the high concentration gas introducing means 7, and adjusts the flow rate by the flow rate adjusting valve 9. Then, it is introduced into the low concentration gas introduction means 2.

また、測定手段10は、低濃度ガス処理手段2に導入される低濃度有機溶剤ガスの濃度を測定し、信号を制御手段11に送る。制御手段11は、測定した低濃度有機溶剤ガスの濃度に応じて流量調整バルブ9および流量調整バルブ12を調整するものであり、当該内容がプログラムされたマイコンなどがある。   The measuring means 10 measures the concentration of the low-concentration organic solvent gas introduced into the low-concentration gas processing means 2 and sends a signal to the control means 11. The control means 11 adjusts the flow rate adjusting valve 9 and the flow rate adjusting valve 12 in accordance with the measured concentration of the low-concentration organic solvent gas, and includes a microcomputer programmed with the contents.

ここで、測定手段10は、有機溶剤ガスの濃度を測定できるものであれば良く、半導体式のガスセンサ、FID方式、PID方式の測定器、NDIR方式の測定器などを用いることができる。制御手段11は、マイコンを含む電気回路で構成される。分岐手段8は、分岐配管を用いればよい。   Here, the measuring means 10 may be any means as long as it can measure the concentration of the organic solvent gas, and a semiconductor type gas sensor, an FID type, a PID type measuring instrument, an NDIR type measuring instrument, or the like can be used. The control means 11 is composed of an electric circuit including a microcomputer. The branch means 8 may use a branch pipe.

上記構成において、測定手段10で低濃度有機溶剤ガスの濃度を測定し、濃度が濃くなると流量調整バルブ12を開け高濃度ガス導入手段7の流量を増やし、濃度が薄くなると流量調整バルブ12を締めて、高濃度ガス導入手段7の流量を少なくするように制御手段11によって制御する。   In the above configuration, the concentration of the low-concentration organic solvent gas is measured by the measuring means 10, and when the concentration becomes high, the flow rate adjustment valve 12 is opened to increase the flow rate of the high-concentration gas introduction means 7, and when the concentration becomes low, the flow rate adjustment valve 12 is closed. Thus, the control means 11 controls the flow rate of the high-concentration gas introduction means 7 to be reduced.

これにより、低濃度ガス処理手段2に導入される低濃度有機溶剤ガスの濃度変動が緩和される。   Thereby, the concentration fluctuation | variation of the low concentration organic solvent gas introduced into the low concentration gas processing means 2 is relieved.

また、高濃度ガス導入手段7に設けた分岐手段8により高濃度有機溶剤ガスの1部を低濃度ガス処理手段2に導入する。その導入量は、制御手段11の信号を受け流量調整バルブ9で調整される。   Further, a part of the high-concentration organic solvent gas is introduced into the low-concentration gas processing means 2 by the branching means 8 provided in the high-concentration gas introduction means 7. The introduction amount is adjusted by the flow rate adjusting valve 9 in response to a signal from the control means 11.

これにより、低濃度ガス処理手段2の吸着手段4に吸着する有機溶剤の濃度を高めることが可能となり、脱着手段5によって得られる濃縮ガスの濃度を高めることができる。   This makes it possible to increase the concentration of the organic solvent adsorbed on the adsorption means 4 of the low concentration gas processing means 2 and increase the concentration of the concentrated gas obtained by the desorption means 5.

そのため、液化手段6での液化効率を向上することが可能になる。   Therefore, the liquefaction efficiency in the liquefaction means 6 can be improved.

また、流量調整手段9によって、流量を調整することにより、吸着手段4が破過してしまい、有機溶剤ガスを含むガスを放出してしまうことを抑制できる。   Further, by adjusting the flow rate by the flow rate adjusting means 9, it is possible to suppress the adsorption means 4 from being broken through and releasing the gas containing the organic solvent gas.

以上のように、吸着手段4が処理する有機溶剤ガスの濃度と量を高濃度ガス処理手段3へ導入する高濃度ガスの流量で調整し、高濃度ガスの一部を低濃度ガス処理手段に導入することによって、吸着手段4の吸着剤の性能を最適化することができるとともに、液化手段6を効率よく運転することが可能となり、装置を小型化し、有機溶剤を含む排ガスを確実に浄化することが可能となる。   As described above, the concentration and amount of the organic solvent gas processed by the adsorbing means 4 are adjusted by the flow rate of the high concentration gas introduced into the high concentration gas processing means 3, and a part of the high concentration gas is used as the low concentration gas processing means. By introducing, the performance of the adsorbent of the adsorbing means 4 can be optimized, the liquefying means 6 can be operated efficiently, the apparatus is downsized, and exhaust gas containing an organic solvent is reliably purified. It becomes possible.

(実施の形態4)
図4は、本発明の排ガス処理システムの構成を示すブロック図である。なお、本発明実施の形態1〜3と同一の部分には同一番号を付して説明は省略する。
(Embodiment 4)
FIG. 4 is a block diagram showing the configuration of the exhaust gas treatment system of the present invention. In addition, the same number is attached | subjected to the part same as Embodiment 1-3 of this invention, and description is abbreviate | omitted.

図において、洗浄槽13は、一例として一般的な2槽式の脱脂洗浄槽を示している。洗浄槽内には、有機溶剤19が貯留され、貯留部は2槽に分けられている。一方の槽には加熱手段15が設置され、有機溶剤19を沸点付近に加熱し有機溶剤蒸気17を発生している。   In the figure, the cleaning tank 13 shows a general two-tank degreasing cleaning tank as an example. The organic solvent 19 is stored in the cleaning tank, and the storage part is divided into two tanks. One tank is provided with a heating means 15 for heating the organic solvent 19 near the boiling point to generate an organic solvent vapor 17.

また、洗浄槽13の壁面には、冷却手段16が設置され、発生した有機溶剤蒸気17を冷却し液化して貯留した有機溶剤19に戻している。   Further, a cooling means 16 is installed on the wall surface of the cleaning tank 13, and the generated organic solvent vapor 17 is cooled, liquefied and returned to the stored organic solvent 19.

また、冷却手段16で冷却することにより、洗浄槽13内に有機溶剤蒸気17が貯留されるベーパーライン18が形成される。   Further, by cooling with the cooling means 16, a vapor line 18 in which the organic solvent vapor 17 is stored in the cleaning tank 13 is formed.

局所排気装置14は、洗浄槽13から発生する有機溶剤ガスを捕集し、排ガス処理装置1の低濃度ガス処理手段2に導入している。   The local exhaust device 14 collects the organic solvent gas generated from the cleaning tank 13 and introduces it into the low concentration gas processing means 2 of the exhaust gas processing device 1.

また、排ガス処理装置1の高濃度ガス導入手段7は、洗浄槽13内のベーパーライン18の上部のガスを吸引し、高濃度ガス処理手段3に導入している。   Further, the high concentration gas introduction means 7 of the exhaust gas treatment apparatus 1 sucks the gas above the vapor line 18 in the cleaning tank 13 and introduces it into the high concentration gas treatment means 3.

ここで、局所排気装置14は、ファンとダクト配管と捕集のためのフードで構成される。また、冷却手段16は、洗浄槽13の内壁に冷却水の配管を配置し、チラー等で冷却水を作る。加熱手段15は、ヒーターもしくは、ボイラーで加熱した温水を循環している。   Here, the local exhaust device 14 includes a fan, duct piping, and a hood for collection. Moreover, the cooling means 16 arrange | positions piping of cooling water on the inner wall of the washing tank 13, and makes cooling water with a chiller etc. The heating means 15 circulates hot water heated by a heater or a boiler.

上記構成において、洗浄槽13内のベーパーライン18の上部に貯留している高濃度の有機溶剤ガスを高濃度ガス導入手段7によって吸引し処理することにより、洗浄槽13から排出し局所排気装置14で吸引する有機溶剤ガスの濃度および量を低減することが可能となる。そのため、局所排気装置14の風量を小さくすることが可能となり、排ガス処理装置1の低濃度ガス処理手段2を小型化することができる。   In the above-described configuration, the high concentration organic solvent gas stored in the upper portion of the vapor line 18 in the cleaning tank 13 is sucked and processed by the high concentration gas introducing means 7 to be discharged from the cleaning tank 13 and the local exhaust device 14. The concentration and amount of the organic solvent gas sucked in can be reduced. Therefore, the air volume of the local exhaust device 14 can be reduced, and the low concentration gas processing means 2 of the exhaust gas processing device 1 can be reduced in size.

また、局所排気装置14で排出するガスを排ガス処理装置1で処理するため、大気に放出する有機溶剤を確実に処理できることになる。   Moreover, since the gas discharged | emitted with the local exhaust apparatus 14 is processed with the exhaust gas processing apparatus 1, the organic solvent discharge | released to air | atmosphere can be processed reliably.

以上のように、洗浄槽13から排出するガスを、洗浄槽内の高濃度ガスと局所排気装置からの低濃度ガスを1台の排ガス処理装置で同時に処理することにより、小型の排ガス処理装置で排出ガスを確実に処理することが可能となる。   As described above, the gas discharged from the cleaning tank 13 can be processed in a small exhaust gas processing apparatus by simultaneously processing the high concentration gas in the cleaning tank and the low concentration gas from the local exhaust apparatus with one exhaust gas processing apparatus. The exhaust gas can be reliably processed.

(実施の形態5)
図5は、本発明の排ガス処理システムの構成を示すブロック図である。なお、本発明実施の形態1〜4と同一の部分には同一番号を付して説明は省略する。
(Embodiment 5)
FIG. 5 is a block diagram showing the configuration of the exhaust gas treatment system of the present invention. In addition, the same number is attached | subjected to the part same as Embodiment 1-4 of this invention, and description is abbreviate | omitted.

図において、高濃度ガス導入手段7は、洗浄槽13内のベーパーライン18の下部に貯留している有機溶剤蒸気17を吸引する。   In the figure, the high-concentration gas introducing means 7 sucks the organic solvent vapor 17 stored in the lower part of the vapor line 18 in the cleaning tank 13.

上記構成において、100%に近い有機溶剤蒸気17を吸引することにより、液化手段6の冷却温度を上げても効率よく液化することが可能となる。例えば、有機溶剤ガスがジクロロメタンの場合、数%から数10%の濃度のガスを液化する場合、−10から−30℃に冷却しなければ十分に液化できないが、100%に近い蒸気であれば、0℃以上の温度で液化することが可能になる。   In the above configuration, by sucking the organic solvent vapor 17 close to 100%, it is possible to efficiently liquefy even if the cooling temperature of the liquefying means 6 is increased. For example, when the organic solvent gas is dichloromethane, when a gas having a concentration of several to several tens of percent is liquefied, it cannot be sufficiently liquefied unless it is cooled to -10 to -30 ° C. It becomes possible to liquefy at a temperature of 0 ° C. or higher.

(実施の形態6)
図6は、本発明の排ガス処理システムの構成を示すブロック図である。なお、本発明実施の形態1〜5と同一の部分には同一番号を付して説明は省略する。
(Embodiment 6)
FIG. 6 is a block diagram showing the configuration of the exhaust gas treatment system of the present invention. In addition, the same number is attached | subjected to the part same as Embodiment 1-5 of this invention, and description is abbreviate | omitted.

図において、排ガス処理装置1の制御手段11は、測定手段10で測定した低濃度有機溶剤ガスの濃度と雰囲気温度測定手段20で測定した雰囲気温度を受けて、流量調整バルブ12と洗浄槽13の冷却手段16と加熱手段15を制御するものであり、当該内容がプログラムされたマイコンなどがある。   In the figure, the control means 11 of the exhaust gas treatment apparatus 1 receives the concentration of the low-concentration organic solvent gas measured by the measurement means 10 and the atmospheric temperature measured by the atmospheric temperature measurement means 20, and controls the flow rate adjusting valve 12 and the cleaning tank 13. There is a microcomputer for controlling the cooling means 16 and the heating means 15 and the contents of which are programmed.

上記構成において、低濃度ガス処理手段2に導入する局所排気装置14によって捕集された低濃度有機溶剤ガスの濃度と温度を測定手段10と雰囲気温度測定手段20で測定する。有機溶剤ガスの濃度が濃くなると低濃度ガス処理手段2の能力が不足し、有機溶剤ガスを大気に放出する可能性がある。また、濃度が薄いと低濃度ガス処理手段2の能力が過剰となるとともに、脱着手段5を介して液化手段6に導入する濃縮ガスの濃度が低下し、液化手段6の液化効率が低下する可能性がある。   In the above configuration, the measurement means 10 and the ambient temperature measurement means 20 measure the concentration and temperature of the low-concentration organic solvent gas collected by the local exhaust apparatus 14 introduced into the low-concentration gas processing means 2. When the concentration of the organic solvent gas is high, the capability of the low concentration gas processing means 2 is insufficient, and the organic solvent gas may be released to the atmosphere. Further, if the concentration is low, the capability of the low-concentration gas processing means 2 becomes excessive, and the concentration of the concentrated gas introduced into the liquefying means 6 via the desorption means 5 is reduced, so that the liquefaction efficiency of the liquefying means 6 may be reduced There is sex.

そこで、低濃度ガス処理手段2に導入する低濃度有機溶剤ガスの濃度の変動を抑制するため、測定手段10で測定した濃度に応じて、制御手段11により洗浄槽13の加熱手段15の能力もしくは温度と冷却手段16の能力もしくは温度を調整する。さらに、制御手段11には、雰囲気温度測定手段20による雰囲気温度を入力し、前述の冷却手段16と加熱手段15の制御に用いる。ここで、雰囲気温度測定手段20は、サーミスタや熱伝対、白金測温抵抗体などを用いることが出来る。   Therefore, in order to suppress fluctuations in the concentration of the low-concentration organic solvent gas introduced into the low-concentration gas processing means 2, the control means 11 can control the capability of the heating means 15 in the cleaning tank 13 according to the concentration measured by the measurement means 10 or The temperature and the capacity or temperature of the cooling means 16 are adjusted. Further, the control means 11 is inputted with the atmosphere temperature by the atmosphere temperature measuring means 20 and used for controlling the cooling means 16 and the heating means 15 described above. Here, the ambient temperature measuring means 20 may be a thermistor, a thermocouple, a platinum resistance temperature detector, or the like.

ここで、有機溶剤ガス濃度が高い場合は、加熱手段15の温度を下げて有機溶剤蒸気17の発生量を下げ、冷却手段16の温度を下げて洗浄槽13からの有機溶剤ガスの排出を低減する。逆に、濃度が低い場合は、加熱手段15の温度を上げ、冷却手段16の温度を上げることによって濃度を上げることができる。   Here, when the concentration of the organic solvent gas is high, the temperature of the heating means 15 is lowered to lower the generation amount of the organic solvent vapor 17, and the temperature of the cooling means 16 is lowered to reduce the discharge of the organic solvent gas from the cleaning tank 13. To do. Conversely, when the concentration is low, the concentration can be increased by raising the temperature of the heating means 15 and raising the temperature of the cooling means 16.

また、雰囲気温度測定手段20によって測定した雰囲気温度を制御手段11の制御に加味することによってより正確な制御が可能となる。   In addition, more accurate control is possible by adding the atmospheric temperature measured by the atmospheric temperature measuring means 20 to the control of the control means 11.

以上のように、低濃度ガス処理手段2に導入される低濃度有機溶剤ガスの濃度を、洗浄槽13の運転条件を制御することによって安定化することにより、排ガス処理装置の小型化が可能となるとともに、有機溶剤ガスを確実に処理することが可能となる。   As described above, by stabilizing the concentration of the low-concentration organic solvent gas introduced into the low-concentration gas treatment means 2 by controlling the operating conditions of the cleaning tank 13, the exhaust gas treatment device can be downsized. In addition, the organic solvent gas can be reliably processed.

(実施の形態7)
図7は、本発明の排ガス処理システムの構成を示すブロック図である。なお、本発明実施の形態1〜6と同一の部分には同一番号を付して説明は省略する。
(Embodiment 7)
FIG. 7 is a block diagram showing the configuration of the exhaust gas treatment system of the present invention. In addition, the same number is attached | subjected to the part same as Embodiment 1-6 of this invention, and description is abbreviate | omitted.

図において、レベル検知手段21は、洗浄槽13内のベーパーライン18の位置を測定し制御手段11に信号を送る。また、警報手段22は、レベル検知手段21で検出した信号より、制御手段11でベーパーライン18のレベルが上昇したことを判断し、警報を外部に出力する。   In the figure, the level detection means 21 measures the position of the vapor line 18 in the cleaning tank 13 and sends a signal to the control means 11. The alarm means 22 determines from the signal detected by the level detection means 21 that the level of the vapor line 18 has increased by the control means 11 and outputs an alarm to the outside.

ここで、レベル検知手段21は、ベーパーライン18を検出できる方法であれば良く。超音波、赤外線などによる位置検出方法、有機溶剤蒸気の結露を検出する方法などを用いることができる。また、警報手段22は、ブザーやLED、ランプなど警報を使用者に知らせる方法であれば何を用いても良い。   Here, the level detection means 21 may be any method that can detect the vapor line 18. A position detection method using ultrasonic waves, infrared rays, or the like, a method for detecting condensation of organic solvent vapor, or the like can be used. The alarm means 22 may be any method that informs the user of an alarm, such as a buzzer, LED, or lamp.

上記構成において、レベル検知手段21でベーパーライン18の位置を検出し、測定手段10で測定した濃度に加え、ベーパーライン18の位置に応じて、加熱手段15、冷却手段16、流量調整バルブ12を制御するため、より正確なベーパーライン18の位置の制御が可能となり、洗浄槽13からの有機溶剤ガスの排出を安定化できるため、小型の排ガス処理装置で確実に処理を行うことが可能となる。   In the above configuration, the position of the vapor line 18 is detected by the level detection means 21, and in addition to the concentration measured by the measurement means 10, the heating means 15, the cooling means 16, and the flow rate adjustment valve 12 are set according to the position of the vapor line 18. Therefore, the position of the vapor line 18 can be more accurately controlled, and the discharge of the organic solvent gas from the cleaning tank 13 can be stabilized, so that the treatment can be reliably performed with a small exhaust gas treatment apparatus. .

(実施の形態8)
図8は、本発明の排ガス処理システムの構成を示すブロック図である。なお、本発明実施の形態1〜7と同一の部分には同一番号を付して説明は省略する。
(Embodiment 8)
FIG. 8 is a block diagram showing the configuration of the exhaust gas treatment system of the present invention. In addition, the same number is attached | subjected to the part same as Embodiment 1-7 of this invention, and description is abbreviate | omitted.

図において、吸込口移動手段23は、レベル検知手段21の信号を制御手段11より受け、高濃度ガス導入手段7の洗浄槽13からの吸込み口をベーパーライン18の位置に応じて上下方向に移動する。   In the figure, the suction port moving means 23 receives the signal of the level detecting means 21 from the control means 11 and moves the suction port from the cleaning tank 13 of the high concentration gas introducing means 7 in the vertical direction according to the position of the vapor line 18. To do.

ここで、吸込口移動手段23は、モータを用いた機構で構成することができる。   Here, the suction port moving means 23 can be configured by a mechanism using a motor.

上記構成において、ベーパーラインの位置が移動した場合においても、レベル検知手段21でベーパーラインの位置を検出し、吸込み口を吸込口移動手段23により移動するため、例えば、吸込み口をベーパーライン18の上部の雰囲気に設置する場合、ベーパーラインが上昇することにより、吸込み口がベーパーライン18の下部になり、高濃度の有機溶剤蒸気17が高濃度ガス処理3に導入され、処理ができなくなる。しかしながら、ベーパーライン18が上昇したことを検知して、吸込み口を移動することにより、高濃度ガス処理手段3には、常に安定した濃度のガスを導入することが可能となる。   In the above configuration, even when the position of the vapor line is moved, the level detection means 21 detects the position of the vapor line and the suction port is moved by the suction port moving means 23. When installed in the upper atmosphere, when the vapor line rises, the suction port becomes the lower part of the vapor line 18, and the high-concentration organic solvent vapor 17 is introduced into the high-concentration gas treatment 3, so that the treatment cannot be performed. However, by detecting that the vapor line 18 has risen and moving the suction port, it is possible to always introduce a stable concentration of gas into the high concentration gas processing means 3.

そのため、高濃度ガス処理手段3を小型化できるとともに、たとえ、ベーパーライン18が移動したとしても確実に処理できる排ガス処理装置を供給することが可能となる。   Therefore, it is possible to reduce the size of the high-concentration gas processing means 3 and supply an exhaust gas processing apparatus that can reliably process even if the vapor line 18 moves.

印刷や塗装、接着、化学製品製造、工業用洗浄などの揮発性有機溶剤を排出する施設に取り付ける排出ガス処理装置や排ガス処理システムとして有用である。   It is useful as an exhaust gas treatment device or exhaust gas treatment system that is installed in facilities that emit volatile organic solvents such as printing, painting, adhesion, chemical product manufacturing, and industrial cleaning.

本発明の実施の形態1の構成を示すブロック図The block diagram which shows the structure of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態2の構成を示すブロック図The block diagram which shows the structure of Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態3の構成を示すブロック図The block diagram which shows the structure of Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態4の構成を示すブロック図The block diagram which shows the structure of Embodiment 4 of this invention. 本発明の実施の形態5の構成を示すブロック図The block diagram which shows the structure of Embodiment 5 of this invention. 本発明の実施の形態6の構成を示すブロック図The block diagram which shows the structure of Embodiment 6 of this invention. 本発明の実施の形態7の構成を示すブロック図The block diagram which shows the structure of Embodiment 7 of this invention 本発明の実施の形態8の構成を示すブロック図The block diagram which shows the structure of Embodiment 8 of this invention. 従来の排ガス処理装置の構成を示すブロック図Block diagram showing the configuration of a conventional exhaust gas treatment device 従来のガス回収装置の構成を示すブロック図Block diagram showing the configuration of a conventional gas recovery device

符号の説明Explanation of symbols

1 排ガス処理装置
2 低濃度ガス処理手段
3 高濃度ガス処理手段
4 吸着手段
5 脱着手段
6 液化手段
7 高濃度ガス導入手段
8 分岐手段
9 流量調整バルブ
10 測定手段
11 制御手段
12 流量調整バルブ
13 洗浄槽
14 局所排気装置
15 加熱手段
16 冷却手段
17 有機溶剤蒸気
18 ベーパーライン
19 有機溶剤
20 雰囲気温度測定手段
21 レベル検知手段
22 警報手段
23 吸込口移動手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Exhaust gas processing apparatus 2 Low concentration gas processing means 3 High concentration gas processing means 4 Adsorption means 5 Desorption means 6 Liquefaction means 7 High concentration gas introduction means 8 Branch means 9 Flow control valve 10 Measuring means 11 Control means 12 Flow control valve 13 Cleaning Tank 14 Local exhaust device 15 Heating means 16 Cooling means 17 Organic solvent vapor 18 Vapor line 19 Organic solvent 20 Atmospheric temperature measuring means 21 Level detecting means 22 Alarm means 23 Suction port moving means

Claims (15)

排ガス中の有機溶剤を除去する排ガス処理装置において、有機溶剤の発生源に設置した局所排気装置で排気した排ガスの有機溶剤ガスを処理する低濃度ガス処理手段と前記発生源の有機溶剤ガスを直接処理する高濃度ガス処理手段からなり、それぞれ個別に排ガスを導入することができる排ガス処理装置。 In an exhaust gas treatment apparatus for removing organic solvent in exhaust gas, a low-concentration gas treatment means for treating the organic solvent gas of exhaust gas exhausted by a local exhaust device installed in the organic solvent generation source and the organic solvent gas of the generation source directly An exhaust gas treatment apparatus comprising high-concentration gas treatment means for treatment and capable of individually introducing exhaust gas. 低濃度ガス処理手段として排ガス中の有機溶剤ガスを吸着し、有機溶剤ガスを除去後のガスを大気放出する吸着手段と、前記吸着手段に吸着した有機溶剤ガスを脱着し、濃縮して、高濃度ガス処理手段に導入する脱着濃縮手段と高濃度ガス処理手段として前記脱着濃縮手段により濃縮した有機溶剤ガスを冷却処理して液体とする液化手段とを備えた有機溶剤ガス回収装置において、前記液化手段に高濃度の有機溶剤ガスを直接導入する高濃度ガス導入手段を備えた請求項1記載の排ガス処理装置。 As the low-concentration gas treatment means, the organic solvent gas in the exhaust gas is adsorbed and the gas after the organic solvent gas is removed is released into the atmosphere, and the organic solvent gas adsorbed on the adsorption means is desorbed, concentrated, and concentrated. In the organic solvent gas recovery apparatus, comprising: a desorption concentration means to be introduced into the concentration gas treatment means; and a liquefaction means for cooling the organic solvent gas concentrated by the desorption concentration means as a high concentration gas treatment means to form a liquid. The exhaust gas treatment apparatus according to claim 1, further comprising high concentration gas introduction means for directly introducing high concentration organic solvent gas into the means. 低濃度ガス処理手段に導入する局所排気装置の排ガスの有機溶剤ガス濃度を測定し、該有機溶剤ガス濃度に応じて、前記有機溶剤ガス濃度が濃くなると高濃度ガス導入手段の流量を多くし、前記有機溶剤ガス濃度が薄くなると前記高濃度ガス導入手段の流量を少なくする流量調整手段を備えた請求項2記載の排ガス処理装置。 Measure the organic solvent gas concentration of the exhaust gas of the local exhaust device to be introduced into the low concentration gas processing means, and according to the organic solvent gas concentration, increase the flow rate of the high concentration gas introduction means when the organic solvent gas concentration is high, The exhaust gas treatment apparatus according to claim 2, further comprising a flow rate adjusting unit configured to reduce a flow rate of the high concentration gas introducing unit when the organic solvent gas concentration is reduced. 吸着手段内の有機溶剤濃度を高めるように、高濃度ガス導入手段により導入した高濃度ガスの一部を吸着手段に導入する高濃度ガス分岐手段を備えた請求項2または3記載の排ガス処理装置。 The exhaust gas treatment apparatus according to claim 2 or 3, further comprising a high concentration gas branching means for introducing a part of the high concentration gas introduced by the high concentration gas introduction means into the adsorption means so as to increase the concentration of the organic solvent in the adsorption means. . 吸着手段内の有機溶剤濃度を最適化するように、前記吸着手段に導入する高濃度ガスの量を調整する流量調整手段を高濃度ガス分岐手段に備えた請求項4記載の排ガス処理装置。 The exhaust gas treatment apparatus according to claim 4, wherein the high-concentration gas branching unit includes a flow rate adjusting unit that adjusts the amount of the high-concentration gas introduced into the adsorption unit so as to optimize the organic solvent concentration in the adsorption unit. 請求項1〜5いずれかに記載の排ガス処理装置と有機溶剤を貯留する洗浄槽と該洗浄槽から発生する有機溶剤ガスを排ガスとして排気する局所排気装置を備え、該局所排気装置の排ガスを低濃度ガス処理手段に導入し、前記洗浄槽内の高濃度有機溶剤ガスを高濃度ガス導入手段により高濃度ガス処理手段に導入する排ガス処理システム。 An exhaust gas treatment device according to any one of claims 1 to 5, a cleaning tank for storing an organic solvent, and a local exhaust device for exhausting an organic solvent gas generated from the cleaning tank as an exhaust gas, the exhaust gas of the local exhaust device being reduced An exhaust gas treatment system which is introduced into the concentration gas treatment means and introduces the high concentration organic solvent gas in the cleaning tank into the high concentration gas treatment means by the high concentration gas introduction means. 洗浄槽内に設置した加熱手段により貯留した有機溶剤を加熱し有機溶剤の蒸気を発生させ、前記蒸気を洗浄槽内壁に設置した冷却手段により冷却して、前記蒸気を洗浄槽内に貯留し、被洗浄物を有機溶剤への浸漬および蒸気により洗浄する洗浄装置と該洗浄装置から排出する有機溶剤ガスを処理する排ガス処理において、前記洗浄槽内の前記蒸気が貯留する位置すなわちベーパーラインより上部のガスを高濃度ガス導入手段によって高濃度ガス処理手段に導入する請求項6記載の排ガス処理システム。 The organic solvent stored by the heating means installed in the cleaning tank is heated to generate an organic solvent vapor, the vapor is cooled by the cooling means installed on the inner wall of the cleaning tank, and the vapor is stored in the cleaning tank, In a cleaning apparatus for cleaning an object to be cleaned with an organic solvent and cleaning with steam and an exhaust gas processing for processing an organic solvent gas discharged from the cleaning apparatus, a position where the steam is stored in the cleaning tank, that is, above the vapor line The exhaust gas treatment system according to claim 6, wherein the gas is introduced into the high concentration gas treatment means by the high concentration gas introduction means. ベーパーラインの下部のガスを高濃度ガス導入手段によって高濃度ガス処理手段に導入する請求項7記載の排ガス処理システム。 The exhaust gas treatment system according to claim 7, wherein the gas below the vapor line is introduced into the high concentration gas treatment means by the high concentration gas introduction means. 低濃度ガスの濃度を測定し洗浄槽の加熱手段と冷却手段を制御する請求項7または8記載の排ガス処理システム。 The exhaust gas treatment system according to claim 7 or 8, wherein the concentration of the low concentration gas is measured to control the heating means and the cooling means of the cleaning tank. 洗浄槽を設置した雰囲気温度を測定する雰囲気温度測定手段を備え、低濃度ガスの濃度と前記雰囲気温度測定手段で測定した雰囲気温度より、加熱手段と冷却手段を制御することを特徴とする請求項7〜9いずれかに記載の排ガス処理システム。 An atmosphere temperature measuring means for measuring the atmosphere temperature in which the cleaning tank is installed is provided, and the heating means and the cooling means are controlled from the concentration of the low concentration gas and the atmosphere temperature measured by the atmosphere temperature measuring means. The exhaust gas treatment system according to any one of 7 to 9. ベーパーラインの位置を検出するレベル検出手段を備え、前記レベル検出手段の信号により高濃度ガス導入手段の流量を流量調整手段によって調整することを特徴とした請求項7〜10いずれかに記載の排ガス処理システム。 The exhaust gas according to any one of claims 7 to 10, further comprising level detection means for detecting a position of the vapor line, wherein the flow rate of the high-concentration gas introduction means is adjusted by the flow rate adjustment means in accordance with a signal from the level detection means. Processing system. レベル検出手段の信号により、高濃度ガス導入手段の流量を流量調整手段によって調整し、同時に洗浄槽の加熱手段と冷却手段を制御することを特徴とする請求項11記載の排ガス処理システム。 12. The exhaust gas treatment system according to claim 11, wherein the flow rate of the high-concentration gas introduction means is adjusted by the flow rate adjustment means based on the signal of the level detection means, and at the same time, the heating means and cooling means of the cleaning tank are controlled. レベル検出手段によって検出したベーパーラインの位置が上昇すると警報を出力する警報出力手段を備えた請求項11または12記載の排ガス処理システム。 The exhaust gas treatment system according to claim 11 or 12, further comprising alarm output means for outputting an alarm when the position of the vapor line detected by the level detection means rises. レベル検出手段によって検出したベーパーラインの位置に応じて吸入口を移動することを特徴とする請求項11〜13いずれかに記載の排ガス処理システム。 The exhaust gas treatment system according to any one of claims 11 to 13, wherein the suction port is moved in accordance with the position of the vapor line detected by the level detection means. ベーパーラインの位置が変わらないように高濃度ガス導入手段の吸引量、洗浄槽の加熱手段、冷却手段の少なくとも一つを制御することを特徴とする請求項11〜13いずれかに記載の排ガス処理システム。 The exhaust gas treatment according to any one of claims 11 to 13, wherein at least one of the suction amount of the high concentration gas introducing means, the heating means of the cleaning tank, and the cooling means is controlled so that the position of the vapor line does not change. system.
JP2005201514A 2005-07-11 2005-07-11 Exhaust gas treatment device and exhaust gas treatment system Pending JP2007014919A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005201514A JP2007014919A (en) 2005-07-11 2005-07-11 Exhaust gas treatment device and exhaust gas treatment system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005201514A JP2007014919A (en) 2005-07-11 2005-07-11 Exhaust gas treatment device and exhaust gas treatment system

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007014919A true JP2007014919A (en) 2007-01-25

Family

ID=37752524

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005201514A Pending JP2007014919A (en) 2005-07-11 2005-07-11 Exhaust gas treatment device and exhaust gas treatment system

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007014919A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021132347A1 (en) * 2019-12-25 2021-07-01 東洋紡株式会社 Organic solvent recovery system
WO2021132346A1 (en) * 2019-12-25 2021-07-01 東洋紡株式会社 Organic solvent recovery system
CN115006963A (en) * 2022-06-29 2022-09-06 南大恩洁优环境技术(江苏)股份公司 System and process for recycling cryogenic solvent from waste gas in pharmaceutical industry
CN114929364B (en) * 2019-12-25 2024-05-17 东洋纺Mc株式会社 Organic solvent recovery system

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021132347A1 (en) * 2019-12-25 2021-07-01 東洋紡株式会社 Organic solvent recovery system
WO2021132346A1 (en) * 2019-12-25 2021-07-01 東洋紡株式会社 Organic solvent recovery system
CN114867542A (en) * 2019-12-25 2022-08-05 东洋纺株式会社 Organic solvent recovery system
CN114929364A (en) * 2019-12-25 2022-08-19 东洋纺株式会社 Organic solvent recovery system
CN114929364B (en) * 2019-12-25 2024-05-17 东洋纺Mc株式会社 Organic solvent recovery system
CN114867542B (en) * 2019-12-25 2024-05-17 东洋纺Mc株式会社 Organic solvent recovery system
CN115006963A (en) * 2022-06-29 2022-09-06 南大恩洁优环境技术(江苏)股份公司 System and process for recycling cryogenic solvent from waste gas in pharmaceutical industry

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007105657A (en) Gas treatment apparatus
JP5506396B2 (en) Ozone concentrator
KR102202900B1 (en) Apparatus for recovery of volatile organic compounds and method for recovery of volatile organic compounds
JP6332599B2 (en) Water treatment system
JP2011031159A (en) Organic solvent recovery system
JP2006247595A (en) Apparatus for adsorption and concentration
JP2019136640A (en) Method for determining performance recovery possibility of active charcoal, active charcoal regeneration method and active charcoal reuse system
JP6393965B2 (en) Wastewater treatment system
JP2007014919A (en) Exhaust gas treatment device and exhaust gas treatment system
CN101352640A (en) Exhaust air deodorization device and method
JP2016140843A (en) Voc solvent recovery apparatus and method for the same
JP2007000733A5 (en)
JP6565357B2 (en) Concentrator and organic solvent recovery system
JP2013132582A (en) Organic solvent-containing gas treatment system
CN203061024U (en) Organic waste gas adsorption and steam stripping recovery and treatment device
JP2006272187A (en) Exhaust-gas treatment apparatus
KR20190122391A (en) System for processing volatile organic compounds in painting shop
JPH1157372A (en) Method of recovering hydrocarbon vapor using cooling condensation
JP2007260605A (en) Gas treatment apparatus
JP7236888B2 (en) Operation method of vacuum desorption type volatile organic compound recovery equipment
JP2017056383A (en) Carbon dioxide recovery device and carbon dioxide recovery method
JP2006088001A (en) Concentration method of volatile organic gas and volatile organic gas concentration device
KR101134520B1 (en) A Recovery and Preservation Apparatus of CO2 Discharged by the Incineration Facilities
KR20220049549A (en) Volatile Organic Compound Reduction Device
JP2008238050A (en) Movable exhaust gas treating apparatus and exhaust gas treatment method