JP2007014919A - Exhaust gas treatment device and exhaust gas treatment system - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、排ガス中に含まれる有機溶剤などの有害物質を除去する排ガス浄化装置に関する。特に、大気汚染の原因物質である揮発性有機化合物(VOC)を含む排ガスを放出する発生源から排ガスの発生を抑制するとともに、発生した排ガスからVOCを除去・回収する装置そのシステムに関する。 The present invention relates to an exhaust gas purification apparatus that removes harmful substances such as organic solvents contained in exhaust gas. In particular, the present invention relates to an apparatus and system for suppressing the generation of exhaust gas from a source that emits exhaust gas containing a volatile organic compound (VOC) that is a cause of air pollution, and removing and recovering VOC from the generated exhaust gas.
従来、この種のガス処理装置は、発生源に設置した局所排気装置のエンドオブパイプで処理する方式と発生源の極近傍もしくは発生源内から吸引し処理することにより発生源からの発生を抑制する方式がある。 Conventionally, this type of gas processing device has a method of processing by the end-of-pipe of a local exhaust device installed at the generation source and a method of suppressing generation from the generation source by suctioning and processing from the vicinity of the generation source or inside the generation source. There is.
前者の方式は、局所排気により周囲の空気も同時に吸引するため比較的低濃度の排ガスを処理する必要があり、活性炭やゼオライトなどの吸着剤による吸着・濃縮と濃縮後のガスを処理する方式が用いられることが多い。処理方式としては、冷却凝縮による液化回収、燃焼・触媒燃焼による分解などがある。 In the former method, ambient air is simultaneously sucked in by local exhaust, so it is necessary to process a relatively low concentration of exhaust gas. Adsorption / concentration with an adsorbent such as activated carbon and zeolite, and a method of processing the gas after concentration Often used. Treatment methods include liquefaction recovery by cooling condensation and decomposition by combustion / catalytic combustion.
また、後者の方式は、発生源の極近傍もしくは発生源内から吸引するため高濃度のガスを処理することができるため、濃縮を必要とせず処理することが可能である。 Moreover, since the latter system can process a high-concentration gas because it is sucked from the vicinity of the generation source or from the generation source, it can be processed without requiring concentration.
前者の方式の装置は、有機溶剤ガスを活性炭やゼオライトなどの吸着剤で吸着し、吸着後の実質的に有機溶剤を含まないガスを大気放出し、吸着剤が有機溶剤で飽和すると熱や圧力を用い脱着再生し、脱着した有機溶剤の濃縮ガスを冷却し液化して回収するものが知られている。 In the former system, the organic solvent gas is adsorbed with an adsorbent such as activated carbon or zeolite, and the gas that does not contain organic solvent after adsorption is released to the atmosphere. It is known that the desorbed and regenerated material is cooled and the concentrated gas of the desorbed organic solvent is cooled, liquefied and recovered.
(例えば、特許文献1)
以下、その排ガス処理装置について図9を参照しながら説明する。
(For example, Patent Document 1)
Hereinafter, the exhaust gas treatment apparatus will be described with reference to FIG.
図に示すように、従来の排ガス処理装置101は、有機溶剤ガスを吸着する吸着手段102と吸着した有機溶剤ガスを脱着する脱着手段103と脱着した有機溶剤ガスを液化する液化手段104で構成している。吸着手段102は、活性炭、ゼオライトなどの吸着剤を備え、排ガス中の有機溶剤を吸着除去する。吸着剤が飽和すると、脱着手段103によって有機溶剤を脱着し吸着剤を再生する。ここで、脱着手段103は、真空ポンプが用いられ、減圧することによって有機溶剤を脱着する。
As shown in the figure, a conventional exhaust
脱着した有機溶剤ガスは、液化手段104に送られ、冷却し液化する。液化手段104を通った未凝縮のガスはそのまま、排気されるか、吸着剤に再び戻される。
The desorbed organic solvent gas is sent to the liquefying
後者の方式の装置は、有機溶剤ガスを冷却し飽和蒸気圧を下げて有機溶剤を凝縮させる方法や加えてガスを圧縮し有機溶剤の分圧を上げて凝縮させ液化し回収するものが知られている。また、凝縮しやすいように、事前に濃縮装置により有機溶剤ガスの濃度を高濃度にしてガス回収装置に導入されている。 The latter type of equipment is known to cool the organic solvent gas and reduce the saturated vapor pressure to condense the organic solvent, as well as to compress the gas and increase the partial pressure of the organic solvent to condense, liquefy and recover. ing. In order to easily condense, the concentration of the organic solvent gas is increased in advance by a concentrating device and introduced into the gas recovery device.
(例えば、特許文献2)
以下、その回収装置について図10を参照しながら説明する。
(For example, Patent Document 2)
Hereinafter, the recovery apparatus will be described with reference to FIG.
図に示すように、有機溶剤ガスは吸引加圧手段105である真空ポンプによってコンデンサタンク106に加圧され導入される。コンデンサタンク106は、ヒートポンプ108から冷媒により冷却されている。コンデンサタンク106に導入された有機溶剤ガスは、加圧と冷却の効果により凝集し液化する。液化した有機溶剤は、有機溶剤回収タンク107に回収される。有機溶剤回収後のガスは、コンデンサタンク106から排出される。
このような排ガス処理装置では、吸着剤の使用量を少なくし、また、液化、燃焼などの処理手段を小型化して、装置を小型化するとともに、排気ガス中の有機溶剤ガスを確実に除去することが要求されている。 In such an exhaust gas treatment device, the amount of adsorbent used is reduced, the treatment means such as liquefaction and combustion are miniaturized, the device is miniaturized, and the organic solvent gas in the exhaust gas is reliably removed. It is requested.
しかしながら、従来の排ガス処理装置では、局所排気装置のエンドオブパイプに設置する方式の場合、局所排気装置の風量に対応するため吸着濃縮のための吸着剤が大量に必要になり装置が大型化していた。 However, in the case of the conventional exhaust gas treatment device installed in the end-of-pipe of the local exhaust device, a large amount of adsorbent for adsorption concentration is required in order to cope with the air volume of the local exhaust device, and the device has been enlarged. .
また、発生源の極近傍もしくは発生源内から吸引し処理する場合、高濃度のガスを処理することができるため装置は小型化できるのだが、発生源からの排出を完全に防止できないため、別途、局所排気装置とそのエンドオブパイプでの排ガス処理装置を必要とする場合があり、高濃度ガスと低濃度ガスのそれぞれの排ガス処理装置が必要であった。 In addition, when processing by sucking from the vicinity of the source or inside the source, the device can be downsized because it can process high-concentration gas, but it cannot completely prevent discharge from the source. In some cases, a local exhaust device and an exhaust gas treatment device at its end-of-pipe are required, and high-concentration gas and low-concentration gas exhaust gas treatment devices are necessary.
また、局所排気装置からの排ガスは、多量の空気で希釈されるため、比較的低濃度、たとえば、1000ppm以下である。また、発生源の極近傍もしくは発生源内からの直接吸引したガスは、比較的高濃度、たとえば%オーダーになる。このような、濃度が大きく異なるガスを処理する場合、それぞれに適した排ガス処理装置を設置しなければならない。 Further, since the exhaust gas from the local exhaust device is diluted with a large amount of air, it has a relatively low concentration, for example, 1000 ppm or less. Further, the gas sucked directly from the vicinity of the generation source or directly from the generation source has a relatively high concentration, for example,% order. When processing such gases having greatly different concentrations, it is necessary to install an exhaust gas treatment apparatus suitable for each.
本発明は、このような従来の課題を解決するものであり、1台の排ガス処理装置で発生源極近傍もしくは発生源内のガスの処理と局所排気装置の排気ガスを処理することによって、発生源からのガスの排出を低減し、局所排気装置の風量を低減して、小型の排ガス処理装置を供給するとともに、排ガス中の有機溶剤ガスを確実に除去し大気放出を防止することを目的としている。 The present invention solves such a conventional problem, and a single exhaust gas treatment device treats the gas in the vicinity of the source or within the source and the exhaust gas of the local exhaust device, thereby generating the source. The purpose is to reduce gas emissions from the air, reduce the air volume of the local exhaust device, supply a small exhaust gas treatment device, and reliably remove organic solvent gas in the exhaust gas to prevent atmospheric emission .
また、溶剤を用いた洗浄槽を発生源としその排ガスを処理する洗浄槽と排ガス処理装置のシステムにおいて、1台の排ガス処理装置で発生源極近傍もしくは発生源内のガスの処理と局所排気装置の排気ガスを処理するとともに、洗浄槽の運転条件を最適化することにより有機溶剤ガスの発生量を低減し、小型で低価格な排ガス処理装置を供給するとともに、排ガス中の有機溶剤ガスを確実に除去し大気放出を防止することを目的としている。 In addition, in a cleaning tank and exhaust gas treatment system that treats exhaust gas using a cleaning tank using a solvent as a source, treatment of gas in the vicinity of the source or within the source and the local exhaust Reduces the amount of organic solvent gas generated by treating exhaust gas and optimizing the operating conditions of the cleaning tank, supplying a small and low-priced exhaust gas treatment device, and ensuring that organic solvent gas is contained in the exhaust gas. Its purpose is to remove it and prevent atmospheric emission.
本発明の排ガス処理装置は、上記目的を達成するために、有機溶剤の発生源に設置した局所排気装置で排気した排ガスの有機溶剤ガスを処理する低濃度ガス処理手段と前記発生源の有機溶剤ガスを直接処理する高濃度ガス処理手段からなり、それぞれ個別に排ガスを導入することができる排ガス処理装置としたものである。 In order to achieve the above object, the exhaust gas treatment apparatus of the present invention comprises a low-concentration gas treatment means for treating an organic solvent gas of exhaust gas exhausted by a local exhaust device installed in a generation source of an organic solvent, and the organic solvent of the generation source The exhaust gas treatment device comprises high-concentration gas treatment means for directly treating gas, and can individually introduce exhaust gas.
この手段により、1台の装置で高濃度ガスと低濃度ガスの2種類のガス処理が可能となり、高濃度ガス処理手段により発生源の有機溶剤ガスを処理するため、局所排気装置の風量を小さくでき、そのため低濃度ガス処理手段を小型化することが可能とのなる。 By this means, two kinds of gas treatment of high concentration gas and low concentration gas can be performed with one device, and the organic solvent gas of the source is processed by the high concentration gas processing means, so the air volume of the local exhaust device is reduced. Therefore, the low-concentration gas processing means can be downsized.
また、他の手段は、低濃度ガス処理手段として排ガス中の有機溶剤ガスを吸着し、有機溶剤ガスを除去後のガスを大気放出する吸着手段と、前記吸着手段に吸着した有機溶剤ガスを脱着し、濃縮して、高濃度ガス処理手段に導入する脱着濃縮手段と高濃度ガス処理手段として前記脱着濃縮手段により濃縮した有機溶剤ガスを冷却処理して液体とする液化手段とを備えた有機溶剤ガス回収装置において、前記液化手段に高濃度の有機溶剤ガスを直接導入する高濃度ガス導入手段を備えたものである。 The other means is a low-concentration gas treatment means that adsorbs the organic solvent gas in the exhaust gas and releases the gas after removing the organic solvent gas to the atmosphere, and desorbs the organic solvent gas adsorbed on the adsorption means. And desorbing and concentrating means to be concentrated and introduced into the high-concentration gas processing means, and an organic solvent provided as a high-concentration gas processing means and a liquefying means for cooling the organic solvent gas concentrated by the desorption and concentrating means into a liquid In the gas recovery apparatus, a high concentration gas introducing means for directly introducing a high concentration organic solvent gas into the liquefying means is provided.
この手段により、高濃度ガス処理手段に低濃度ガス処理手段で処理し濃縮した有機溶剤ガスと発生源の有機溶剤ガスを導入することにより、単一の高濃度ガス処理手段でガスを処理することができ、また、高濃度ガス処理手段を液化手段として有機溶剤ガスを液化することにより、小型の装置で有機溶剤ガスを回収し再利用することが可能となる。 By this means, the organic solvent gas processed by the low concentration gas processing means and the concentrated organic solvent gas and the source organic solvent gas are introduced into the high concentration gas processing means, thereby processing the gas with a single high concentration gas processing means. In addition, by liquefying the organic solvent gas using the high-concentration gas processing means as the liquefying means, the organic solvent gas can be recovered and reused with a small apparatus.
また、他の手段は、低濃度ガス処理手段に導入する局所排気装置の排ガスの有機溶剤ガス濃度を測定し、該有機溶剤ガス濃度に応じて高濃度ガス導入手段の流量を調整する流量調整手段を備えたものである。 The other means is a flow rate adjusting means for measuring the organic solvent gas concentration of the exhaust gas of the local exhaust device to be introduced into the low concentration gas processing means and adjusting the flow rate of the high concentration gas introducing means according to the organic solvent gas concentration. It is equipped with.
この手段により、局所排気装置の排ガスの有機溶剤濃度を測定し、その濃度に応じて高濃度ガス処理手段の処理量を調節することにより、局所排気装置のガス濃度が濃くなり低濃度ガス処理手段の能力が不足することを防止でき、排ガス処理装置を小型化しても確実に排ガス処理することが可能となる。 By this means, the concentration of the organic solvent in the exhaust gas of the local exhaust device is measured, and by adjusting the processing amount of the high concentration gas processing means according to the concentration, the gas concentration of the local exhaust device becomes thicker and the low concentration gas processing means Therefore, even if the exhaust gas treatment device is downsized, the exhaust gas treatment can be reliably performed.
また、他の手段は、吸着手段内の有機溶剤濃度を高めるように、高濃度ガス導入手段により導入した高濃度ガスの一部を吸着手段に導入するものである。 Another means is to introduce a part of the high concentration gas introduced by the high concentration gas introduction means into the adsorption means so as to increase the concentration of the organic solvent in the adsorption means.
この手段により、濃縮ガスの濃度を濃くするとともに、濃度ばらつきを低減することができるので、高濃度ガス処理手段の能力を安定化することができ、小型の排ガス処理装置を提供することが可能となる。 By this means, the concentration of the concentrated gas can be increased and the variation in concentration can be reduced, so that the capability of the high concentration gas processing means can be stabilized, and a small exhaust gas processing apparatus can be provided. Become.
また、他の手段は、吸着手段内の有機溶剤濃度を最適化するように、前記吸着手段に導入する高濃度ガスの量を調整するものである。 Another means is to adjust the amount of high-concentration gas introduced into the adsorbing means so as to optimize the organic solvent concentration in the adsorbing means.
この手段により、高濃度ガスの導入による吸着手段の破過を防ぐことができるとともに、濃縮ガスの濃度をより安定化できるので、確実に有機溶剤ガスを処理できる小型の排ガス処理装置を提供することが可能となる。 By this means, it is possible to prevent breakthrough of the adsorbing means due to the introduction of high concentration gas and to further stabilize the concentration of the concentrated gas, so that a small exhaust gas treatment apparatus capable of reliably treating organic solvent gas is provided. Is possible.
また、他の手段は、有機溶剤を貯留する洗浄槽と該洗浄槽から発生する有機溶剤ガスを排ガスとして排気する局所排気装置と該局所排気装置の排ガスを低濃度ガス処理手段に導入し、前記洗浄槽内の高濃度有機溶剤ガスを高濃度ガス導入手段により高濃度ガス処理手段に導入するものである。 Further, the other means introduces the cleaning tank for storing the organic solvent, the local exhaust apparatus for exhausting the organic solvent gas generated from the cleaning tank as exhaust gas, and the exhaust gas of the local exhaust apparatus to the low concentration gas processing means, The high-concentration organic solvent gas in the cleaning tank is introduced into the high-concentration gas processing means by the high-concentration gas introduction means.
この手段により、洗浄槽からの有機溶剤の排出を低減できる排ガス処理システムを提供することが可能となる。 By this means, it is possible to provide an exhaust gas treatment system that can reduce the discharge of the organic solvent from the cleaning tank.
また、他の手段は、洗浄槽内に設置した加熱手段により貯留した有機溶剤を加熱し有機溶剤の蒸気を発生させ、前記蒸気を洗浄槽内壁に設置した冷却手段により冷却して、前記蒸気を洗浄槽内に貯留し、被洗浄物を有機溶剤への浸漬および蒸気により洗浄する洗浄装置と該洗浄装置から排出する有機溶剤ガスを処理する排ガス処理において、前記洗浄槽内の前記蒸気が貯留する位置すなわちベーパーラインより上部のガスを高濃度ガス導入手段によって高濃度ガス処理手段に導入するものである。 Further, the other means heats the organic solvent stored by the heating means installed in the cleaning tank to generate the vapor of the organic solvent, cools the vapor by the cooling means installed on the inner wall of the cleaning tank, and In the cleaning apparatus for storing the object to be cleaned in an organic solvent and cleaning it with steam, and in the exhaust gas processing for processing the organic solvent gas discharged from the cleaning apparatus, the steam in the cleaning tank is stored. The gas above the position, that is, above the vapor line, is introduced into the high concentration gas processing means by the high concentration gas introduction means.
この手段により、洗浄槽から排出される有機溶剤ガスを低減できるため局所排気装置の風量を低減でき、小型の排ガス処理装置を用いたシステムを提供することができる。 By this means, since the organic solvent gas discharged from the cleaning tank can be reduced, the air volume of the local exhaust device can be reduced, and a system using a small exhaust gas treatment device can be provided.
また、他の手段は、ベーパーラインの下部のガスを高濃度ガス導入手段によって高濃度ガス処理手段に導入する排ガス処理システムとしたものである。 Another means is an exhaust gas treatment system that introduces the gas below the vapor line into the high concentration gas treatment means by the high concentration gas introduction means.
この手段により、100%に近い濃度の有機溶剤ガスを高濃度ガス処理手段に導入できるため、高濃度ガス処理手段の能力を低減できる排ガス処理システムを提供できる。 By this means, an organic solvent gas having a concentration close to 100% can be introduced into the high-concentration gas processing means, so that it is possible to provide an exhaust gas treatment system that can reduce the capacity of the high-concentration gas processing means.
また、他の手段は、低濃度ガスの濃度を測定し洗浄槽の加熱手段と冷却手段を制御するものである。 Another means measures the concentration of the low-concentration gas and controls the heating means and cooling means of the cleaning tank.
この手段により、洗浄槽の加熱手段と冷却手段を制御することにより、排ガス処理装置の能力を超えた排気ガスが発生することを抑制することができる排ガス処理システムを提供することができる。 By this means, it is possible to provide an exhaust gas treatment system capable of suppressing the generation of exhaust gas exceeding the capacity of the exhaust gas treatment device by controlling the heating means and cooling means of the cleaning tank.
また、他の手段は、洗浄槽を設置した雰囲気温度を測定する雰囲気温度測定手段を備え、低濃度ガスの濃度と前記雰囲気温度測定手段で測定した雰囲気温度より、加熱手段と冷却手段を制御するものである。 Further, the other means includes an atmospheric temperature measuring means for measuring the atmospheric temperature in which the cleaning tank is installed, and controls the heating means and the cooling means from the concentration of the low concentration gas and the atmospheric temperature measured by the atmospheric temperature measuring means. Is.
この手段により、雰囲気温度を加熱手段と冷却手段の制御に加えることにより、より安定した洗浄槽の運転が可能となる排ガス処理システムを提供することができる。 By this means, by adding the atmospheric temperature to the control of the heating means and the cooling means, it is possible to provide an exhaust gas treatment system that enables more stable operation of the cleaning tank.
また、他の手段は、ベーパーラインの位置を検出するレベル検出手段を備え、前記レベル検出手段の信号により高濃度ガス導入手段の流量を流量調整手段によって調整することを特徴としたものである。 In addition, the other means is provided with level detecting means for detecting the position of the vapor line, and the flow rate of the high concentration gas introducing means is adjusted by the flow rate adjusting means in accordance with a signal from the level detecting means.
この手段により、ベーパーラインの位置を安定化することができるので、洗浄槽からの有機溶剤ガスの排出量を低減するとともに安定化することができる排ガス処理システムを提供することができる。 Since the position of the vapor line can be stabilized by this means, it is possible to provide an exhaust gas treatment system that can reduce and stabilize the amount of organic solvent gas discharged from the cleaning tank.
また、他の手段は、レベル検出手段の信号により、高濃度ガス導入手段の流量を流量調整手段によって調整し、同時に洗浄槽の加熱手段と冷却手段を制御することを特徴とするものである。 Another means is characterized in that the flow rate of the high-concentration gas introducing means is adjusted by the flow rate adjusting means according to the signal from the level detecting means, and at the same time, the heating means and the cooling means of the cleaning tank are controlled.
この手段により、ベーパーラインの位置制御に高濃度ガス導入手段の流量に加え、洗浄槽の加熱手段と冷却手段を制御することにより、より確実にベーパーラインの位置を安定化できる排ガス処理システムを提供することができる。 By this means, in addition to the flow rate of the high-concentration gas introduction means for controlling the position of the vapor line, the heating means and cooling means of the cleaning tank are controlled to provide an exhaust gas treatment system that can stabilize the position of the vapor line more reliably. can do.
また、他の手段は、レベル検出手段によって検出したベーパーラインの位置が上昇すると警報を出力する警報出力手段を備えたものである。 The other means includes an alarm output means for outputting an alarm when the vapor line position detected by the level detection means rises.
この手段により、洗浄槽の異常を知ることができる排ガス処理システムを提供することが可能となる。 By this means, it is possible to provide an exhaust gas treatment system that can know the abnormality of the cleaning tank.
また、他の手段は、レベル検出手段によって検出したベーパーラインの位置に応じて吸入口を移動することを特徴とするものである。 Further, the other means is characterized in that the suction port is moved in accordance with the position of the vapor line detected by the level detection means.
この手段により、ベーパーラインの位置が移動した場合においても、常にベーパーラインに対して同じ位置からガスを吸引することができる排ガス処理システムを提供することができるものである。 By this means, it is possible to provide an exhaust gas treatment system capable of always sucking gas from the same position with respect to the vapor line even when the position of the vapor line is moved.
また、他の手段は、ベーパーラインの位置が変わらないように高濃度ガス導入手段の吸引量、洗浄槽の加熱手段、冷却手段の少なくとも一つを制御することを特徴とするものである。 The other means is characterized in that at least one of the suction amount of the high concentration gas introducing means, the heating means of the cleaning tank, and the cooling means is controlled so that the position of the vapor line does not change.
この手段により、ベーパーラインの位置が安定化できるため、排出ガス濃度が安定するとともに、排ガス処理装置へ導入されるガスの濃度の変動が少なくなる排ガス処理システムを提供することができるものである。 By this means, the position of the vapor line can be stabilized, so that it is possible to provide an exhaust gas treatment system in which the exhaust gas concentration is stabilized and the fluctuation of the concentration of the gas introduced into the exhaust gas treatment device is reduced.
本発明によれば1台の排ガス処理装置で局所排気装置からの排ガス、すなわち比較的低濃度の排ガスと発生源からの排ガス、すなわち比較的高濃度の排ガスを同時に処理できるという効果のある排ガス処理装置を提供できる。 According to the present invention, an exhaust gas treatment having an effect of simultaneously treating exhaust gas from a local exhaust device, that is, exhaust gas having a relatively low concentration and exhaust gas from a source, that is, exhaust gas having a relatively high concentration, with one exhaust gas treatment device. Equipment can be provided.
また、発生源から直接ガスを処理することにより、発生源からの発生を抑制できるので、局所排気の風量を低減でき省エネになるとともに、局所排気装置の風量が小さくなるため、排ガス処理装置を小型化できるという効果のある排ガス処理装置を提供できる。 In addition, by processing the gas directly from the generation source, it is possible to suppress the generation from the generation source, so the air volume of the local exhaust can be reduced and energy saving is achieved, and the air volume of the local exhaust device is reduced, so the exhaust gas processing device is reduced in size. It is possible to provide an exhaust gas treatment apparatus having an effect of being able to be made.
また、高濃度ガス処理手段へ導入するガス濃度を安定化することにより、高濃度ガス処理手段を小型化できる効果のある排ガス処理装置を提供できる。 Further, by stabilizing the gas concentration introduced into the high concentration gas processing means, it is possible to provide an exhaust gas processing apparatus that is effective in reducing the size of the high concentration gas processing means.
また、本発明によれば洗浄槽からの排ガスを小型の排ガス処理装置で処理することができ、そして、大気汚染を低減できる効果のある洗浄槽の排ガス処理システムを提供できる。 Further, according to the present invention, the exhaust gas from the cleaning tank can be processed by a small exhaust gas processing apparatus, and an exhaust gas processing system for the cleaning tank that can reduce air pollution can be provided.
本発明請求項1記載の発明は、排ガス中の有機溶剤を除去する排ガス処理装置において、有機溶剤の発生源に設置した局所排気装置で排気した排ガスの有機溶剤ガスを処理する低濃度ガス処理手段と前記発生源の有機溶剤ガスを直接処理する高濃度ガス処理手段からなり、それぞれ個別に排ガスを導入することができる排ガス処理装置としたものであり、1台の排ガス処理装置で発生源から直接吸引したガスと、局所排気装置から排出されるガスの両方を同時に処理できるとともに、発生源から直接吸引することにより、発生源からの有機溶剤ガスの排出量を低減でき、そのため局所排気装置の風量を下げることができ、さらに、局所排気装置の風量が小さくなるので、排ガス処理装置を小型化できるという作用を有する。
The invention according to
また、本発明請求項2記載の発明は、低濃度ガス処理手段として排ガス中の有機溶剤ガスを吸着し、有機溶剤ガスを除去後のガスを大気放出する吸着手段と、前記吸着手段に吸着した有機溶剤ガスを脱着し、濃縮して、高濃度ガス処理手段に導入する脱着濃縮手段と高濃度ガス処理手段として前記脱着濃縮手段により濃縮した有機溶剤ガスを冷却処理して液体とする液化手段とを備えた有機溶剤ガス回収装置において、前記液化手段に高濃度の有機溶剤ガスを直接導入する高濃度ガス導入手段を備えた請求項1記載の排ガス処理装置としたものであり、低濃度ガス処理手段として、吸着手段を用いた濃縮を行い、高濃度ガス処理手段として冷却による液化手段を用いて、高濃度ガス処理手段で低濃度ガス処理手段の濃縮ガスと高濃度ガス導入手段によって導入したガスの両者を処理することにより、構成を簡略化できるという作用を有する。
The invention according to
また、本発明請求項3記載の発明は、低濃度ガス処理手段に導入する局所排気装置の排ガスの有機溶剤ガス濃度を測定し、該有機溶剤ガス濃度に応じて、前記有機溶剤ガス濃度が濃くなると高濃度ガス導入手段の流量を多くし、前記有機溶剤ガス濃度が薄くなると前記高濃度ガス導入手段の流量を少なくする流量調整手段を備えた請求項2記載の排ガス処理装置としたものであり、局所排気装置からの排ガス濃度に応じて、高濃度ガス導入手段の流量を調整することにより、局所排気装置の排ガス濃度が高くなることを抑制できるため、低濃度ガス処理手段を小型化できるという作用を有する。
The invention according to
また、本発明請求項4記載の発明は、吸着手段内の有機溶剤濃度を高めるように、高濃度ガス導入手段により導入した高濃度ガスの一部を吸着手段に導入する高濃度ガス分岐手段を備えた請求項2、3記載の排ガス処理装置としたものであり、吸着手段内の有機溶剤濃度が高くなるため、吸着手段から脱着して得られる濃縮ガスの濃度を濃くすることができるという作用を有する。
The invention according to
また、本発明請求項5記載の発明は、吸着手段内の有機溶剤濃度を最適化するように、前記吸着手段に導入する高濃度ガスの量を調整する流量調整手段を高濃度ガス分岐手段に備えた請求項4記載の排ガス処理装置としたものであり、流量調整手段で低濃度ガス処理手段に導入する高濃度ガスの量を調整し、必要以上の高濃度ガスが導入したことによる低濃度ガス処理手段の能力不足、および高濃度ガスの不足による濃縮ガスの濃度低下を抑制できるという作用を有する。
According to the fifth aspect of the present invention, the flow rate adjusting means for adjusting the amount of the high concentration gas introduced into the adsorption means is a high concentration gas branching means so as to optimize the organic solvent concentration in the adsorption means. The exhaust gas treatment apparatus according to
また、本発明請求項6記載の発明は、請求項1〜5いずれかに記載の排ガス処理装置と有機溶剤を貯留する洗浄槽と該洗浄槽から発生する有機溶剤ガスを排気する局所排気装置を備え、該局所排気装置の排ガスを低濃度ガス処理手段に導入し、前記洗浄槽内の高濃度有機溶剤ガスを高濃度ガス導入手段により高濃度ガス処理手段に導入する排ガス処理システムとしたものであり、洗浄槽内の高濃度有機溶剤ガスを吸引処理することにより、洗浄槽から排出される有機溶剤ガスの量を低減でき、そのため、局所排気装置の風量を下げることができる。さらに、局所排気装置の風量が低減できると、低濃度ガス処理手段を小型化できるという作用を有する。
The invention according to
また、本発明請求項7記載の発明は、洗浄槽内に設置した加熱手段により貯留した有機溶剤を加熱し有機溶剤の蒸気を発生させ、前記蒸気を洗浄槽内壁に設置した冷却手段により冷却して、前記蒸気を洗浄槽内に貯留し、被洗浄物を有機溶剤への浸漬および蒸気により洗浄する洗浄装置と該洗浄装置から排出する有機溶剤ガスを処理する排ガス処理において、前記洗浄槽内の前記蒸気が貯留する位置すなわちベーパーラインより上部のガスを高濃度ガス導入手段によって高濃度ガス処理手段に導入する請求項6記載の排ガス処理システムとしたものであり、洗浄槽内の有機溶剤ガス量を低減し、有機溶剤ガスの排出量をていげんできるという作用を有する。また、排出量が低減されるので小型の排ガス処理装置で排出ガスを正常化できるという作用を有する。
In the invention according to
また、本発明請求項8記載の発明は、ベーパーラインの下部のガスを高濃度ガス導入手段によって高濃度ガス処理手段に導入する請求項7記載の排ガス処理システムとしたものであり、ベーパーラインの下部は100%に近い高濃度ガスであるため、冷却液化が比較的簡易にできるという作用を有する。
The invention according to
また、本発明請求項9記載の発明は、低濃度ガスの濃度を測定し洗浄槽の加熱手段と冷却手段を制御する請求項7または8記載の排ガス処理システムとしたものであり、局所排気装置から排出されるガス濃度を測定し、濃度が高くなると有機溶剤ガスの蒸発を抑制するように加熱手段と冷却手段を制御するので、洗浄槽からの排出ガス量を低減でき、小型の排ガス処理装置で処理できるという作用を有する。
The invention according to
また、本発明請求項10記載の発明は、洗浄槽を設置した雰囲気温度を測定する雰囲気温度測定手段を備え、低濃度ガスの濃度と前記雰囲気温度測定手段で測定した雰囲気温度より、加熱手段と冷却手段を制御することを特徴とする請求項7〜9いずれかに記載の排ガス処理システムとしたものであり、洗浄槽からの有機溶剤の排出は、有機溶剤の蒸発によるものであり、雰囲気温度に大きく依存する、そのため、局所排気装置により排出した有機溶剤ガス濃度と雰囲気温度を測定し、洗浄槽を制御することにより、より確実に有機溶剤ガスの排出を抑制するという作用を有する。
Further, the invention according to claim 10 of the present invention is provided with an atmospheric temperature measuring means for measuring the atmospheric temperature in which the cleaning tank is installed, and from the concentration of the low concentration gas and the atmospheric temperature measured by the atmospheric temperature measuring means, the heating means The exhaust gas treatment system according to any one of
また、本発明請求項11記載の発明は、ベーパーラインの位置を検出するレベル検出手段を備え、前記レベル検出手段の信号により高濃度ガス導入手段の流量を流量調整手段によって調整することを特徴とした請求項7〜10いずれかに記載の排ガス処理システムとしたものであり、ベーパーラインの位置を検出できるため、ベーパーラインが上がってくると高濃度ガス導入手段の流量を増やすことによりベーパーラインを下げることができ、洗浄槽からの有機溶剤ガスの排出を低減することができるという作用を有する。
The invention described in
また、本発明請求項12記載の発明は、レベル検出手段の信号により、高濃度ガス導入手段の流量を流量調整手段によって調整し、同時に洗浄槽の加熱手段と冷却手段を制御することを特徴とする請求項11記載の排ガス処理システムとしたものであり、高濃度ガス導入手段の流量だけでなく、洗浄槽の加熱手段と冷却手段も制御できるため、ベーパーラインの上昇を検知すると、高濃度ガス導入手段の流量を上げ、加熱手段の能力を下げ、冷却手段の能力を上げることにより、ベーパーラインの位置を下げることができるという作用を有する。
The invention according to claim 12 of the present invention is characterized in that the flow rate of the high concentration gas introducing means is adjusted by the flow rate adjusting means according to the signal of the level detecting means, and at the same time the heating means and cooling means of the cleaning tank are controlled. The exhaust gas treatment system according to
また、本発明請求項13記載の発明は、レベル検出手段によって検出したベーパーラインの位置が上昇すると警報を出力する警報出力手段を備えた請求項11または12記載の排ガス処理システムとしたものであり、警報により作業者がベーパーラインの上昇により、洗浄槽の運転が異常であり、有機溶剤ガスの排出の可能性があることを知ることができ、適切な対応が可能となるという作用を有する。 The invention according to claim 13 of the present invention is the exhaust gas treatment system according to claim 11 or 12, further comprising alarm output means for outputting an alarm when the position of the vapor line detected by the level detection means rises. The alarm causes the operator to know that the operation of the cleaning tank is abnormal and the organic solvent gas may be discharged due to the rise of the vapor line, and the appropriate action can be taken.
また、本発明請求項14記載の発明は、レベル検出手段によって検出したベーパーラインの位置に応じて吸入口を移動することを特徴とする請求項11〜13いずれかに記載の排ガス処理システムとしたものであり、高濃度ガス導入手段へ導入する吸入口の洗浄槽内での位置をベーパーラインを基準に安定化されるため、吸入するガスの濃度を安定化できるという作用を有する。
The invention according to claim 14 of the present invention is the exhaust gas treatment system according to any one of
また、本発明請求項15記載の発明は、ベーパーラインの位置が変わらないように高濃度ガス導入手段の吸引量、洗浄槽の加熱手段、冷却手段の少なくとも一つを制御することを特徴とする請求項11〜13いずれかに記載の排ガス処理システムとしたものであり、ベーパーラインの位置が安定化できるため、排出ガス濃度が安定するとともに、排ガス処理装置へ導入されるガスの濃度の変動が少なくなるという作用を有する。
The invention described in
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
(実施の形態1)
図1は、本発明の排ガス処理装置の構成を示すブロック図である。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of the exhaust gas treatment apparatus of the present invention.
図に示すように、塗装、印刷、工業洗浄など有機溶剤を使用した施設から排出される有機溶剤ガスは、排ガス処理装置1に導入され、排ガス中に含まれる有機溶剤ガスを除去し大気放出される。ここで、排ガス処理装置1に導入されるガスは、低濃度有機溶剤ガスは、低濃度ガス処理手段2に、高濃度有機溶剤ガスは、高濃度ガス処理手段3にそれぞれ導入され除去処理を行う。ここで、低濃度有機溶剤ガスは、例えば、局所排気装置を用いて有機溶剤ガスの排出源から排出されたガスで、局所排気装置で吸引するため大気で希釈されたガスである。濃度としては、数百ppmから1%以下の濃度範囲である。
As shown in the figure, an organic solvent gas discharged from a facility using an organic solvent such as painting, printing, industrial cleaning, etc. is introduced into the exhaust
また、高濃度有機溶剤ガスは、例えば、発生源の極近傍もしくは発生源内から大気希釈をしないように直接吸引したガスであり、1%以上の有機溶剤ガスを含有したものである。 The high-concentration organic solvent gas is, for example, a gas sucked directly from the vicinity of the generation source or from the generation source so as not to dilute into the atmosphere, and contains 1% or more organic solvent gas.
ここで、低濃度ガス処理手段2、および高濃度ガス処理手段3は、活性炭、ゼオライト、アルミナ、シリカゲルなどの吸着剤を用いた吸着方式、高温で分解する燃焼方式、触媒を用いた触媒方式、吸収液を用いた吸収方式、オゾン、UV、プラズマによる分解、冷却、加圧冷却による冷却凝集方式、微生物や酵素を用いた生分解方式など有機溶剤を処理する当該既知の方式を用いることができ、低濃度ガス処理手段2としては、上記の方式を低濃度有機溶剤ガスに最適化し使用し、同様に高濃度ガス処理手段3としては、高濃度有機溶剤ガスに最適化して使用することができる。 Here, the low-concentration gas treatment means 2 and the high-concentration gas treatment means 3 are an adsorption method using an adsorbent such as activated carbon, zeolite, alumina, silica gel, a combustion method that decomposes at a high temperature, a catalyst method that uses a catalyst, Absorption method using absorption liquid, ozone, UV, plasma decomposition, cooling, cooling aggregation method by pressure cooling, biodegradation method using microorganisms and enzymes, and other known methods for treating organic solvents can be used. The low-concentration gas treatment means 2 can be used by optimizing the above-described method for a low-concentration organic solvent gas, and similarly the high-concentration gas treatment means 3 can be optimized for a high-concentration organic solvent gas. .
上記構成において、排ガス処理装置1には、低濃度ガス処理手段2と高濃度ガス処理手段3が備えられ、低濃度有機溶剤ガス、高濃度有機溶剤ガスのどちらのガスに対しても1台の装置で対応することが可能となり、さらに、低濃度有機溶剤ガスと高濃度有機溶剤ガスを同時に吸引して処理できるため、2種類の濃度のガスを同時に処理することができる。
In the above configuration, the exhaust
また、有機溶剤ガスを排出する発生源において、通常、作業環境への拡散を防止するため局所排気装置が設置され、局所排気装置により発生源から排出される有機溶剤ガスを捕集し、屋外に排出している。ここで、大気汚染を防止するため、局所排気装置のエンドオブパイプに排ガス処理装置1を設置し排出される排ガス中の有機溶剤ガスを浄化している。
In addition, a local exhaust device is usually installed at the source that discharges the organic solvent gas to prevent diffusion into the work environment, and the organic solvent gas discharged from the source is collected by the local exhaust device, and is taken outdoors. It is discharging. Here, in order to prevent air pollution, the exhaust
一方、発生源の内部もしくは極近傍から発生する有機溶剤ガスを吸引し処理することにより、発生源からの有機溶剤ガスの発生を抑制して有機溶剤の排出を低減する方式もある。 On the other hand, there is also a method of reducing the discharge of the organic solvent by suppressing the generation of the organic solvent gas from the generation source by sucking and processing the organic solvent gas generated from the inside or near the generation source.
本発明の排ガス処理装置1は、低濃度有機溶剤ガスと高濃度有機溶剤ガスを同時に処理できるため、上記両者の方式の排ガス処理を1台の装置で行うことができる。
Since the exhaust
そのため、装置の小型化が可能となる。 Therefore, the apparatus can be downsized.
(実施の形態2)
図2は、本発明の排ガス処理装置1の構成を示すブロック図である。なお、本発明実施の形態1と同一の部分には同一番号を付して説明は省略する。
(Embodiment 2)
FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of the exhaust
図において、低濃度ガス処理手段2は、吸着手段4と脱着手段5で構成され、高濃度ガス処理手段3は、液化手段で構成している。 In the figure, the low concentration gas processing means 2 is constituted by an adsorption means 4 and a desorption means 5, and the high concentration gas processing means 3 is constituted by a liquefaction means.
吸着手段4は、例えば、活性炭、シリカゲル、ゼオライト、アルミナなどの吸着剤を備え、低濃度有機溶剤ガスを導入し、前記低濃度有機溶剤ガス中の有機溶剤ガス成分を吸着し、実質的に有機溶剤ガスを除去したガスを大気に放出する。 The adsorbing means 4 includes, for example, an adsorbent such as activated carbon, silica gel, zeolite, and alumina, introduces a low concentration organic solvent gas, adsorbs an organic solvent gas component in the low concentration organic solvent gas, and is substantially organic. Release the solvent gas to the atmosphere.
また、吸着手段4は、吸着剤を充填した吸着塔を1塔もしくは複数等切り替えて使用しても良い。さらに、吸着剤をハニカム状に成型、ハニカム状の基材に添着したし、円筒形にしたロータを用いても良い。 The adsorption means 4 may be used by switching one or more adsorption towers filled with an adsorbent. Further, the adsorbent may be molded into a honeycomb shape and attached to a honeycomb-shaped substrate, or a cylindrical rotor may be used.
脱着手段5は、吸着手段4で吸着した有機溶剤ガスを吸着剤から脱着し、吸着剤を再生するとともに脱着した有機溶剤ガスを高濃度ガス処理手段3の液化手段6に送る。また、脱着した有機溶剤ガスは、導入した低濃度有機溶剤ガスに比して濃縮されている。 The desorption means 5 desorbs the organic solvent gas adsorbed by the adsorption means 4 from the adsorbent, regenerates the adsorbent, and sends the desorbed organic solvent gas to the liquefaction means 6 of the high-concentration gas processing means 3. The desorbed organic solvent gas is concentrated as compared with the introduced low concentration organic solvent gas.
ここで、脱着手段5の吸着剤からの脱着方法は、水蒸気、加熱空気、加熱不活性ガス、吸着剤の直接加熱などの熱による脱着いわゆるTSA方式、減圧することによる脱着いわゆるPSA方式など、当該既知の方法を用いることができる。 Here, the desorption method of the desorption means 5 from the adsorbent includes desorption by heat such as steam, heated air, heated inert gas, and direct heating of the adsorbent, so-called TSA method, desorption by depressurization, so-called PSA method, etc. Known methods can be used.
つぎに、高濃度ガス処理手段3である液化手段6は、高濃度ガス導入手段7から高濃度有機溶剤ガスと脱着手段5からの濃縮ガスを導入し、冷却して有機溶剤ガスを液化する。液化した有機溶剤は、回収され再利用するか、もしくは廃棄物となる。 Next, the liquefying means 6 which is the high concentration gas processing means 3 introduces the high concentration organic solvent gas from the high concentration gas introduction means 7 and the concentrated gas from the desorption means 5 and cools to liquefy the organic solvent gas. The liquefied organic solvent is recovered and reused or becomes waste.
ここで、液化手段6は、ガスを冷却する手段であれば当該既知の方法で良い。また、冷却には、チラーを使用した冷却液、冷凍サイクルを用いた冷媒などの方式を使うことができる。 Here, the liquefying means 6 may be a known method as long as it is a means for cooling the gas. For cooling, a cooling liquid using a chiller, a refrigerant using a refrigeration cycle, or the like can be used.
また、高濃度ガス導入手段7は、パイプ等の配管とポンプや送風機からなり、発生源から高濃度有機溶剤ガスを吸引する。 The high-concentration gas introduction means 7 is composed of pipes such as pipes, a pump and a blower, and sucks the high-concentration organic solvent gas from the generation source.
次に、液化手段6で凝縮しなかったガスは、吸着手段4で処理したガスと混合し排出される。 Next, the gas that has not been condensed by the liquefying means 6 is mixed with the gas treated by the adsorption means 4 and discharged.
ここで、未凝縮のガスは、低濃度有機溶剤ガスと混合し、吸着手段4の入口に戻しても良い、また、高濃度溶剤ガスを導入してきた発生源に戻しても良い。 Here, the uncondensed gas may be mixed with the low-concentration organic solvent gas and returned to the inlet of the adsorption means 4, or may be returned to the source from which the high-concentration solvent gas has been introduced.
上記構成において、高濃度ガス処理手段3で発生源から吸引した高濃度有機溶剤ガスを処理するため発生源から排出される有機溶剤ガスの量を低減できる。そのため、局所排気装置の風量を小さくすることが可能となり、処理すべき低濃度有機溶剤ガスの量を低減できる。 In the above configuration, since the high concentration organic solvent gas sucked from the generation source is processed by the high concentration gas processing means 3, the amount of the organic solvent gas discharged from the generation source can be reduced. Therefore, the air volume of the local exhaust device can be reduced, and the amount of low-concentration organic solvent gas to be processed can be reduced.
そのため、低濃度ガス処理手段2の吸着手段4に使用する吸着剤を少なくすることができ、低濃度ガス処理手段2を小型化することができる。 Therefore, the adsorbent used for the adsorption means 4 of the low concentration gas treatment means 2 can be reduced, and the low concentration gas treatment means 2 can be miniaturized.
よって、本発明の排ガス処理装置は、高濃度有機溶剤ガスと低濃度有機溶剤ガスを1台の装置で同時に処理することにより、装置を小型化し、確実に有機溶剤ガスを含有した排気ガスを処理することが可能となる。 Therefore, the exhaust gas treatment apparatus of the present invention processes the high-concentration organic solvent gas and the low-concentration organic solvent gas simultaneously in one apparatus, thereby downsizing the apparatus and reliably processing the exhaust gas containing the organic solvent gas. It becomes possible to do.
(実施の形態3)
図3は、本発明の排ガス処理装置1の構成を示すブロック図である。なお、本発明実施の形態1、2と同一の部分には同一番号を付して説明は省略する。
(Embodiment 3)
FIG. 3 is a block diagram showing the configuration of the exhaust
図において、分岐手段8は、高濃度ガス導入手段7に設けられ、高濃度ガス導入手段7で吸引した高度度有機溶剤ガスの1部を分岐し、流量調整バルブ9によってその流量を調整して、低濃度ガス導入手段2に導入する。
In the figure, the branching
また、測定手段10は、低濃度ガス処理手段2に導入される低濃度有機溶剤ガスの濃度を測定し、信号を制御手段11に送る。制御手段11は、測定した低濃度有機溶剤ガスの濃度に応じて流量調整バルブ9および流量調整バルブ12を調整するものであり、当該内容がプログラムされたマイコンなどがある。
The measuring means 10 measures the concentration of the low-concentration organic solvent gas introduced into the low-concentration gas processing means 2 and sends a signal to the control means 11. The control means 11 adjusts the flow
ここで、測定手段10は、有機溶剤ガスの濃度を測定できるものであれば良く、半導体式のガスセンサ、FID方式、PID方式の測定器、NDIR方式の測定器などを用いることができる。制御手段11は、マイコンを含む電気回路で構成される。分岐手段8は、分岐配管を用いればよい。 Here, the measuring means 10 may be any means as long as it can measure the concentration of the organic solvent gas, and a semiconductor type gas sensor, an FID type, a PID type measuring instrument, an NDIR type measuring instrument, or the like can be used. The control means 11 is composed of an electric circuit including a microcomputer. The branch means 8 may use a branch pipe.
上記構成において、測定手段10で低濃度有機溶剤ガスの濃度を測定し、濃度が濃くなると流量調整バルブ12を開け高濃度ガス導入手段7の流量を増やし、濃度が薄くなると流量調整バルブ12を締めて、高濃度ガス導入手段7の流量を少なくするように制御手段11によって制御する。
In the above configuration, the concentration of the low-concentration organic solvent gas is measured by the measuring means 10, and when the concentration becomes high, the flow
これにより、低濃度ガス処理手段2に導入される低濃度有機溶剤ガスの濃度変動が緩和される。 Thereby, the concentration fluctuation | variation of the low concentration organic solvent gas introduced into the low concentration gas processing means 2 is relieved.
また、高濃度ガス導入手段7に設けた分岐手段8により高濃度有機溶剤ガスの1部を低濃度ガス処理手段2に導入する。その導入量は、制御手段11の信号を受け流量調整バルブ9で調整される。
Further, a part of the high-concentration organic solvent gas is introduced into the low-concentration gas processing means 2 by the branching
これにより、低濃度ガス処理手段2の吸着手段4に吸着する有機溶剤の濃度を高めることが可能となり、脱着手段5によって得られる濃縮ガスの濃度を高めることができる。 This makes it possible to increase the concentration of the organic solvent adsorbed on the adsorption means 4 of the low concentration gas processing means 2 and increase the concentration of the concentrated gas obtained by the desorption means 5.
そのため、液化手段6での液化効率を向上することが可能になる。 Therefore, the liquefaction efficiency in the liquefaction means 6 can be improved.
また、流量調整手段9によって、流量を調整することにより、吸着手段4が破過してしまい、有機溶剤ガスを含むガスを放出してしまうことを抑制できる。 Further, by adjusting the flow rate by the flow rate adjusting means 9, it is possible to suppress the adsorption means 4 from being broken through and releasing the gas containing the organic solvent gas.
以上のように、吸着手段4が処理する有機溶剤ガスの濃度と量を高濃度ガス処理手段3へ導入する高濃度ガスの流量で調整し、高濃度ガスの一部を低濃度ガス処理手段に導入することによって、吸着手段4の吸着剤の性能を最適化することができるとともに、液化手段6を効率よく運転することが可能となり、装置を小型化し、有機溶剤を含む排ガスを確実に浄化することが可能となる。 As described above, the concentration and amount of the organic solvent gas processed by the adsorbing means 4 are adjusted by the flow rate of the high concentration gas introduced into the high concentration gas processing means 3, and a part of the high concentration gas is used as the low concentration gas processing means. By introducing, the performance of the adsorbent of the adsorbing means 4 can be optimized, the liquefying means 6 can be operated efficiently, the apparatus is downsized, and exhaust gas containing an organic solvent is reliably purified. It becomes possible.
(実施の形態4)
図4は、本発明の排ガス処理システムの構成を示すブロック図である。なお、本発明実施の形態1〜3と同一の部分には同一番号を付して説明は省略する。
(Embodiment 4)
FIG. 4 is a block diagram showing the configuration of the exhaust gas treatment system of the present invention. In addition, the same number is attached | subjected to the part same as Embodiment 1-3 of this invention, and description is abbreviate | omitted.
図において、洗浄槽13は、一例として一般的な2槽式の脱脂洗浄槽を示している。洗浄槽内には、有機溶剤19が貯留され、貯留部は2槽に分けられている。一方の槽には加熱手段15が設置され、有機溶剤19を沸点付近に加熱し有機溶剤蒸気17を発生している。
In the figure, the
また、洗浄槽13の壁面には、冷却手段16が設置され、発生した有機溶剤蒸気17を冷却し液化して貯留した有機溶剤19に戻している。
Further, a cooling means 16 is installed on the wall surface of the
また、冷却手段16で冷却することにより、洗浄槽13内に有機溶剤蒸気17が貯留されるベーパーライン18が形成される。
Further, by cooling with the cooling means 16, a
局所排気装置14は、洗浄槽13から発生する有機溶剤ガスを捕集し、排ガス処理装置1の低濃度ガス処理手段2に導入している。
The
また、排ガス処理装置1の高濃度ガス導入手段7は、洗浄槽13内のベーパーライン18の上部のガスを吸引し、高濃度ガス処理手段3に導入している。
Further, the high concentration gas introduction means 7 of the exhaust
ここで、局所排気装置14は、ファンとダクト配管と捕集のためのフードで構成される。また、冷却手段16は、洗浄槽13の内壁に冷却水の配管を配置し、チラー等で冷却水を作る。加熱手段15は、ヒーターもしくは、ボイラーで加熱した温水を循環している。
Here, the
上記構成において、洗浄槽13内のベーパーライン18の上部に貯留している高濃度の有機溶剤ガスを高濃度ガス導入手段7によって吸引し処理することにより、洗浄槽13から排出し局所排気装置14で吸引する有機溶剤ガスの濃度および量を低減することが可能となる。そのため、局所排気装置14の風量を小さくすることが可能となり、排ガス処理装置1の低濃度ガス処理手段2を小型化することができる。
In the above-described configuration, the high concentration organic solvent gas stored in the upper portion of the
また、局所排気装置14で排出するガスを排ガス処理装置1で処理するため、大気に放出する有機溶剤を確実に処理できることになる。
Moreover, since the gas discharged | emitted with the
以上のように、洗浄槽13から排出するガスを、洗浄槽内の高濃度ガスと局所排気装置からの低濃度ガスを1台の排ガス処理装置で同時に処理することにより、小型の排ガス処理装置で排出ガスを確実に処理することが可能となる。
As described above, the gas discharged from the
(実施の形態5)
図5は、本発明の排ガス処理システムの構成を示すブロック図である。なお、本発明実施の形態1〜4と同一の部分には同一番号を付して説明は省略する。
(Embodiment 5)
FIG. 5 is a block diagram showing the configuration of the exhaust gas treatment system of the present invention. In addition, the same number is attached | subjected to the part same as Embodiment 1-4 of this invention, and description is abbreviate | omitted.
図において、高濃度ガス導入手段7は、洗浄槽13内のベーパーライン18の下部に貯留している有機溶剤蒸気17を吸引する。
In the figure, the high-concentration
上記構成において、100%に近い有機溶剤蒸気17を吸引することにより、液化手段6の冷却温度を上げても効率よく液化することが可能となる。例えば、有機溶剤ガスがジクロロメタンの場合、数%から数10%の濃度のガスを液化する場合、−10から−30℃に冷却しなければ十分に液化できないが、100%に近い蒸気であれば、0℃以上の温度で液化することが可能になる。
In the above configuration, by sucking the organic
(実施の形態6)
図6は、本発明の排ガス処理システムの構成を示すブロック図である。なお、本発明実施の形態1〜5と同一の部分には同一番号を付して説明は省略する。
(Embodiment 6)
FIG. 6 is a block diagram showing the configuration of the exhaust gas treatment system of the present invention. In addition, the same number is attached | subjected to the part same as Embodiment 1-5 of this invention, and description is abbreviate | omitted.
図において、排ガス処理装置1の制御手段11は、測定手段10で測定した低濃度有機溶剤ガスの濃度と雰囲気温度測定手段20で測定した雰囲気温度を受けて、流量調整バルブ12と洗浄槽13の冷却手段16と加熱手段15を制御するものであり、当該内容がプログラムされたマイコンなどがある。
In the figure, the control means 11 of the exhaust
上記構成において、低濃度ガス処理手段2に導入する局所排気装置14によって捕集された低濃度有機溶剤ガスの濃度と温度を測定手段10と雰囲気温度測定手段20で測定する。有機溶剤ガスの濃度が濃くなると低濃度ガス処理手段2の能力が不足し、有機溶剤ガスを大気に放出する可能性がある。また、濃度が薄いと低濃度ガス処理手段2の能力が過剰となるとともに、脱着手段5を介して液化手段6に導入する濃縮ガスの濃度が低下し、液化手段6の液化効率が低下する可能性がある。
In the above configuration, the measurement means 10 and the ambient temperature measurement means 20 measure the concentration and temperature of the low-concentration organic solvent gas collected by the
そこで、低濃度ガス処理手段2に導入する低濃度有機溶剤ガスの濃度の変動を抑制するため、測定手段10で測定した濃度に応じて、制御手段11により洗浄槽13の加熱手段15の能力もしくは温度と冷却手段16の能力もしくは温度を調整する。さらに、制御手段11には、雰囲気温度測定手段20による雰囲気温度を入力し、前述の冷却手段16と加熱手段15の制御に用いる。ここで、雰囲気温度測定手段20は、サーミスタや熱伝対、白金測温抵抗体などを用いることが出来る。
Therefore, in order to suppress fluctuations in the concentration of the low-concentration organic solvent gas introduced into the low-concentration gas processing means 2, the control means 11 can control the capability of the heating means 15 in the
ここで、有機溶剤ガス濃度が高い場合は、加熱手段15の温度を下げて有機溶剤蒸気17の発生量を下げ、冷却手段16の温度を下げて洗浄槽13からの有機溶剤ガスの排出を低減する。逆に、濃度が低い場合は、加熱手段15の温度を上げ、冷却手段16の温度を上げることによって濃度を上げることができる。
Here, when the concentration of the organic solvent gas is high, the temperature of the heating means 15 is lowered to lower the generation amount of the organic
また、雰囲気温度測定手段20によって測定した雰囲気温度を制御手段11の制御に加味することによってより正確な制御が可能となる。 In addition, more accurate control is possible by adding the atmospheric temperature measured by the atmospheric temperature measuring means 20 to the control of the control means 11.
以上のように、低濃度ガス処理手段2に導入される低濃度有機溶剤ガスの濃度を、洗浄槽13の運転条件を制御することによって安定化することにより、排ガス処理装置の小型化が可能となるとともに、有機溶剤ガスを確実に処理することが可能となる。
As described above, by stabilizing the concentration of the low-concentration organic solvent gas introduced into the low-concentration gas treatment means 2 by controlling the operating conditions of the
(実施の形態7)
図7は、本発明の排ガス処理システムの構成を示すブロック図である。なお、本発明実施の形態1〜6と同一の部分には同一番号を付して説明は省略する。
(Embodiment 7)
FIG. 7 is a block diagram showing the configuration of the exhaust gas treatment system of the present invention. In addition, the same number is attached | subjected to the part same as Embodiment 1-6 of this invention, and description is abbreviate | omitted.
図において、レベル検知手段21は、洗浄槽13内のベーパーライン18の位置を測定し制御手段11に信号を送る。また、警報手段22は、レベル検知手段21で検出した信号より、制御手段11でベーパーライン18のレベルが上昇したことを判断し、警報を外部に出力する。
In the figure, the level detection means 21 measures the position of the
ここで、レベル検知手段21は、ベーパーライン18を検出できる方法であれば良く。超音波、赤外線などによる位置検出方法、有機溶剤蒸気の結露を検出する方法などを用いることができる。また、警報手段22は、ブザーやLED、ランプなど警報を使用者に知らせる方法であれば何を用いても良い。
Here, the level detection means 21 may be any method that can detect the
上記構成において、レベル検知手段21でベーパーライン18の位置を検出し、測定手段10で測定した濃度に加え、ベーパーライン18の位置に応じて、加熱手段15、冷却手段16、流量調整バルブ12を制御するため、より正確なベーパーライン18の位置の制御が可能となり、洗浄槽13からの有機溶剤ガスの排出を安定化できるため、小型の排ガス処理装置で確実に処理を行うことが可能となる。
In the above configuration, the position of the
(実施の形態8)
図8は、本発明の排ガス処理システムの構成を示すブロック図である。なお、本発明実施の形態1〜7と同一の部分には同一番号を付して説明は省略する。
(Embodiment 8)
FIG. 8 is a block diagram showing the configuration of the exhaust gas treatment system of the present invention. In addition, the same number is attached | subjected to the part same as Embodiment 1-7 of this invention, and description is abbreviate | omitted.
図において、吸込口移動手段23は、レベル検知手段21の信号を制御手段11より受け、高濃度ガス導入手段7の洗浄槽13からの吸込み口をベーパーライン18の位置に応じて上下方向に移動する。
In the figure, the suction port moving means 23 receives the signal of the level detecting means 21 from the control means 11 and moves the suction port from the
ここで、吸込口移動手段23は、モータを用いた機構で構成することができる。 Here, the suction port moving means 23 can be configured by a mechanism using a motor.
上記構成において、ベーパーラインの位置が移動した場合においても、レベル検知手段21でベーパーラインの位置を検出し、吸込み口を吸込口移動手段23により移動するため、例えば、吸込み口をベーパーライン18の上部の雰囲気に設置する場合、ベーパーラインが上昇することにより、吸込み口がベーパーライン18の下部になり、高濃度の有機溶剤蒸気17が高濃度ガス処理3に導入され、処理ができなくなる。しかしながら、ベーパーライン18が上昇したことを検知して、吸込み口を移動することにより、高濃度ガス処理手段3には、常に安定した濃度のガスを導入することが可能となる。
In the above configuration, even when the position of the vapor line is moved, the level detection means 21 detects the position of the vapor line and the suction port is moved by the suction
そのため、高濃度ガス処理手段3を小型化できるとともに、たとえ、ベーパーライン18が移動したとしても確実に処理できる排ガス処理装置を供給することが可能となる。
Therefore, it is possible to reduce the size of the high-concentration gas processing means 3 and supply an exhaust gas processing apparatus that can reliably process even if the
印刷や塗装、接着、化学製品製造、工業用洗浄などの揮発性有機溶剤を排出する施設に取り付ける排出ガス処理装置や排ガス処理システムとして有用である。 It is useful as an exhaust gas treatment device or exhaust gas treatment system that is installed in facilities that emit volatile organic solvents such as printing, painting, adhesion, chemical product manufacturing, and industrial cleaning.
1 排ガス処理装置
2 低濃度ガス処理手段
3 高濃度ガス処理手段
4 吸着手段
5 脱着手段
6 液化手段
7 高濃度ガス導入手段
8 分岐手段
9 流量調整バルブ
10 測定手段
11 制御手段
12 流量調整バルブ
13 洗浄槽
14 局所排気装置
15 加熱手段
16 冷却手段
17 有機溶剤蒸気
18 ベーパーライン
19 有機溶剤
20 雰囲気温度測定手段
21 レベル検知手段
22 警報手段
23 吸込口移動手段
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