JP2007012971A - Semiconductor device and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、複数の材料膜が積層される半導体装置の製造方法及び半導体装置に関する。 The present invention relates to a semiconductor device manufacturing method and a semiconductor device in which a plurality of material films are stacked.
近年、半導体装置の微細化に伴い、半導体装置の層間絶縁膜に、炭素含有シリコン酸化膜(以下、SiOC膜という。)のような誘電率の低い膜が使用されている。しかし、このような低誘電率膜は、TEOS(Tetra-Ethyl-Ortho-Silicate)膜等のシリコン酸化膜のような従来の層間絶縁膜に比べて上下に形成される材料膜との密着性が低く、膜剥がれが生じやすい。このため、低誘電率膜の密着性を向上させる処理が必要となる。 In recent years, with the miniaturization of semiconductor devices, films having a low dielectric constant, such as carbon-containing silicon oxide films (hereinafter referred to as SiOC films), are used for interlayer insulating films of semiconductor devices. However, such a low dielectric constant film has an adhesive property with a material film formed above and below a conventional interlayer insulating film such as a silicon oxide film such as a TEOS (Tetra-Ethyl-Ortho-Silicate) film. Low and film peeling is likely to occur. For this reason, the process which improves the adhesiveness of a low dielectric constant film is needed.
従来から、材料膜の密着性を向上させる手法として、材料膜の表面を粗面化して表面積を増加させる手法が使用されている。このような表面の粗面化手法の1つに、例えば、カーボンブラック等からなる微細粒子を材料膜上に配置し、当該微細粒子をマスクとして材料膜のエッチングを行う技術がある(例えば、特許文献1参照。)。 Conventionally, as a technique for improving the adhesion of a material film, a technique for increasing the surface area by roughening the surface of the material film has been used. As one of such surface roughening methods, for example, there is a technique in which fine particles made of carbon black or the like are arranged on a material film, and the material film is etched using the fine particles as a mask (for example, patents). Reference 1).
以下、上記従来技術を図面に基づいて説明する。図4は、従来の半導体装置の製造工程を示す工程断面図である。ここでは、SiOC膜の密着性を高めるため、SiOC膜の下層に形成されるTEOS膜の表面を粗面化する事例を示す。 The above prior art will be described below with reference to the drawings. FIG. 4 is a process cross-sectional view illustrating a manufacturing process of a conventional semiconductor device. Here, an example is shown in which the surface of the TEOS film formed under the SiOC film is roughened in order to improve the adhesion of the SiOC film.
まず、図4(a)に示すように、BPSG(Boro-Phospho Silicate Glass)膜1と配線2が形成された図示しない半導体基板上に、TEOS膜3が形成される。次に、図4(b)に示すように、TEOS膜3の上にカーボン微細粒子12が散布される。続いて、カーボン微細粒子12をマスクとして、TEOS膜3のドライエッチングが行われる。当該エッチングにより、図4(c)に示すように、TEOS膜3の表面に凹部13が形成される。そして、図4(d)に示すように、カーボン微細粒子12が洗浄除去された後、粗面化されたTEOS膜3上にSiOC膜5が形成される(図4(e))。
First, as shown in FIG. 4A, a TEOS
以上のようにして形成されたSiOC膜5及びTEOS膜3には、通常、SiOC膜5上に形成される配線やSiOC膜5に埋込み形成される配線と、配線2とを電気的に接続するためのビアホールが形成される。このようなビアホールの形成工程では、図4(f)に示すように、まず、ビアホール形成位置に開口を有するレジストパターン6がSiOC膜5上に形成される。次に、レジストパターン6をマスクとして、SiOC膜5及びTEOS膜3が順次エッチング除去される(図4(g))。そして、アッシング等によるレジストパターン6の除去、及び洗浄が行われ、ビアホール14が完成する(図4(h))。
しかしながら、上記従来の粗面化手法では、高い吸着力を有するカーボン微細粒子12は、TEOS膜3上や当該TEOS膜3に形成された凹部13に吸着する。このため、図4(d)や図4(e)に示すように、一部のカーボン微細粒子12は、洗浄除去されることなくTEOS膜3の表面に残存してしまう。
However, in the conventional roughening method, the carbon
このような状態で、ビアホール14を形成すると、TEOS膜3上に残存しているカーボン微粒子12がビアホール14のエッチング時にマスクとなって、例えば、図4(f)に示すような、ビアホール14が狭窄する等のパターン欠陥15が発生する。このようなパターン欠陥15は、ビアホールコンタクトの抵抗を増大させるため、半導体装置の歩留まり低下の原因となる。
When the
本発明は、上記従来の課題を解決するために提案されたものであって、材料膜の粗面化を行う際に使用する微粒子に起因するパターン欠陥の発生を防止することができる半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供することを目的とする。 The present invention has been proposed in order to solve the above-described conventional problems, and is a semiconductor device capable of preventing the occurrence of pattern defects caused by fine particles used when a material film is roughened. An object is to provide a manufacturing method and a semiconductor device.
この目的を達成するため、本発明は、以下の手段を採用している。まず、本発明の半導体装置の製造方法は、複数の材料膜が積層された半導体装置の製造方法を前提とする。そして、本発明の半導体装置の製造方法は、まず、第1の材料膜を形成する。当該第1の材料膜上に、第1の材料膜と同時にエッチング可能な材料からなる微粒子を分散配置する。そして、第1の材料膜を微粒子とともにエッチングし、エッチングされた第1の材料膜上に第2の材料膜を形成する。 In order to achieve this object, the present invention employs the following means. First, the semiconductor device manufacturing method of the present invention is premised on a semiconductor device manufacturing method in which a plurality of material films are stacked. In the method for manufacturing a semiconductor device of the present invention, first, a first material film is formed. Fine particles made of a material that can be etched simultaneously with the first material film are dispersed over the first material film. Then, the first material film is etched together with the fine particles, and a second material film is formed on the etched first material film.
この場合、上記第1の材料膜と上記微粒子とは、同一材料で構成されていてもよく、異なる材料で構成されていてもよい。ここで、第1の材料膜と微粒子とが異なる材料で構成される場合には、第1の材料膜と微粒子は、両者のエッチング速度が略同一となるエッチング条件でエッチングされる。 In this case, the first material film and the fine particles may be made of the same material or different materials. Here, when the first material film and the fine particles are made of different materials, the first material film and the fine particles are etched under an etching condition in which the etching rates of both are substantially the same.
本発明の半導体装置の製造方法では、微粒子をマスクとして材料膜のエッチングすることにより粗面化を行う際に、マスクである微粒子も同時にエッチングされる。このため、材料膜の表面に微粒子の直径程度の凹凸を形成する粗面化処理を行う場合には、粗面化処理完了時に微粒子は完全にエッチング除去され、粗面化処理後の材料膜表面には残留しない。したがって、材料膜上に残留した微粒子に起因するパターン欠陥の発生を抑制することができる。 In the method for manufacturing a semiconductor device of the present invention, when the surface of the material film is roughened by etching the material film using the fine particles as a mask, the fine particles that are the mask are also etched simultaneously. For this reason, when performing a roughening process that forms irregularities about the diameter of the fine particles on the surface of the material film, the fine particles are completely etched away when the roughening process is completed, and the surface of the material film after the roughening process Does not remain. Therefore, the occurrence of pattern defects due to fine particles remaining on the material film can be suppressed.
また、他の観点では、本発明は、上記製造方法により製造された半導体装置を提供することができる。 In another aspect, the present invention can provide a semiconductor device manufactured by the above manufacturing method.
本発明によれば、材料膜を粗面化する際に使用した微粒子が、粗面化処理時に消失し、粗面化処理後の材料膜表面に残留粒子として残らない。このため、パターン欠陥の発生を確実に抑制することができる。 According to the present invention, the fine particles used in roughening the material film disappear during the roughening treatment and do not remain as residual particles on the surface of the material film after the roughening treatment. For this reason, generation | occurrence | production of a pattern defect can be suppressed reliably.
(第1の実施形態)
以下、本発明の第1の実施形態に係る半導体装置の製造方法を、下層の材料膜であるTEOS膜上に、密着性の低い材料膜であるSiOC膜を形成する事例に基づいて、図面を参照しながら説明する。なお、図1は、本実施形態に係る半導体装置の製造工程を示す工程断面図である。また、図2は、図1に示す製造工程を経て形成された半導体装置の断面を示す概略断面図である。
(First embodiment)
Hereinafter, a method for manufacturing a semiconductor device according to the first embodiment of the present invention will be described based on an example in which a SiOC film, which is a low adhesion material film, is formed on a TEOS film, which is a lower material film. The description will be given with reference. FIG. 1 is a process cross-sectional view illustrating the manufacturing process of the semiconductor device according to the present embodiment. 2 is a schematic cross-sectional view showing a cross section of the semiconductor device formed through the manufacturing process shown in FIG.
まず、図1(a)に示すように、BPSG膜1と配線2が形成された図示しない半導体基板上に、例えば、プラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)法により、TEOS膜3が形成される。次に、TEOS膜3上に、酸化シリコンからなる微細粒子4(以下、シリカ微細粒子4という。)を含有する懸濁液が散布され、液体成分を除去する乾燥処理が行われる。これにより、図1(b)に示すように、TEOS膜3上にシリカ微細粒子4が分散配置される。
First, as shown in FIG. 1A, a TEOS
続いて、シリカ微細粒子4をマスクとして、TEOS膜3のドライエッチングが行われる。当該ドライエッチングは、例えば、容量結合型ドライエッチング装置にて、エッチングガスにCF4ガスとCHF3ガスとの混合ガスを用い、印加電力400Wとして実施することができる。このとき、シリカ微細粒子4は、TEOS膜3とともにエッチングされる。すなわち、図1(c)に示すように、シリカ微細粒子4が配置された位置ではシリカ微細粒子4がエッチングされ、シリカ微細粒子4が配置されていない位置では露出しているTEOS膜3がエッチングされる。したがって、当該エッチングにより、TEOS膜3の表面には、シリカ微細粒子4の配置に応じた凹凸が転写される。このとき、シリカ微細粒子4の大きさ(高さ)よりも大きなエッチング量となるエッチング時間にわたってエッチング処理を行うと、図1(d)に示すように、シリカ微細粒子4は、エッチング除去されて消滅し、TEOS膜3の表面に存在しなくなる。
Subsequently, the TEOS
以上のようにして、TEOS膜3の粗面化処理が行われた後、TEOS膜3上にSiOC膜5が、例えば、プラズマCVD法により形成される(図1(e))。そして、図1(f)に示すように、SiOC膜5上にビアホール形成位置に開口を有するレジストパターン6が形成され、当該レジストパターン6をマスクとして、SiOC膜5及びTEOS膜3がドライエッチングにより順次エッチング除去される(図1(g))。そして、アッシング等によるレジストパターン6の除去、及び洗浄処理が行われ、ビアホール14が完成する(図1(h))。
After the surface roughening treatment of the
この後、図2に示すように、ビアホール14内に導電体からなるコンタクトプラグ7が埋め込まれ、SiOC膜5上に、当該コンタクトプラグ7と電気的に接続される上層配線9が形成される。そして、当該上層配線9上に、層間絶縁膜としてTEOS膜10が形成され、図2に示す断面構造を有する半導体装置が形成される。
Thereafter, as shown in FIG. 2, a
以上説明したように、本実施形態の半導体装置の製造方法によれば、粗面化処理が行われる下層膜と、当該粗面化処理に使用される微細粒子とが、同一の材料で構成されているため、粗面化処理を行うと同時に微細粒子を消失させることができる。このため、ビアホール14の形成工程等の以降の加工工程において、従来のように、残留微細粒子に起因するパターン欠陥が生じることを確実に防止することができる。また、上記製造方法により形成された半導体装置は、SiOC膜5等の密着性が低い材料膜とTEOS膜3のような下層材料膜との界面に、表面積を増加させるための粗面化部8を備えるため、両材料膜間の密着性が向上されることはいうまでもない。
As described above, according to the manufacturing method of the semiconductor device of the present embodiment, the lower layer film to be roughened and the fine particles used for the roughening treatment are made of the same material. Therefore, the fine particles can be eliminated simultaneously with the roughening treatment. For this reason, it is possible to reliably prevent the occurrence of pattern defects due to the residual fine particles as in the prior art in subsequent processing steps such as the formation process of the via
なお、上記の例では、粗面化処理が行われる材料膜、及び当該粗面化処理に使用される微細粒子の材料として、酸化シリコンを例示したが、本発明は当該材料に限定されるものではない。材料膜、及び微細粒子の材料としては、例えば、ポリシリコンや窒化シリコン等、エッチングが可能な任意の材料を使用することができる。また、上記では、粗面化処理にドライエッチングを使用したが、微細粒子が移動することのない条件下であれば、ウェットエッチングを使用することも可能である。 In the above example, silicon oxide is exemplified as the material film to be roughened and the fine particle material used for the roughening. However, the present invention is limited to the material. is not. As the material film and the material of the fine particles, for example, any material that can be etched, such as polysilicon or silicon nitride, can be used. In the above description, dry etching is used for the roughening treatment, but wet etching can be used as long as fine particles do not move.
さらに、上記ビアホール14の形成工程でのTEOS膜3のエッチングは、オーバエッチングとなるエッチング時間で行うことが好ましい。これにより、仮に、TEOS膜3上にシリカ微細粒子4が残留した場合でも、ビアホール14の形成時に残留微細粒子がエッチング除去されるため、上記効果が損なわれることはない。
Further, the etching of the
(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態に係る半導体装置の製造方法を、下層の材料膜であるシリコン窒化膜(以下、SiN膜という。)上に、密着性の低い材料膜であるSiOC膜を形成する事例に基づいて、図面を参照しながら説明する。図3は、本実施形態に係る半導体装置の製造工程を示す工程断面図である。
(Second Embodiment)
Next, in the method for manufacturing a semiconductor device according to the second embodiment of the present invention, a SiOC film that is a material film with low adhesion is formed on a silicon nitride film (hereinafter referred to as SiN film) that is a lower material film. Based on the case of forming the above, description will be made with reference to the drawings. FIG. 3 is a process cross-sectional view illustrating the manufacturing process of the semiconductor device according to the present embodiment.
まず、図3(a)に示すように、BPSG膜1と配線2が形成された図示しない半導体基板上に、例えば、プラズマCVD法によりSiN膜11が形成される。次に、SiN膜11上に、シリカ微細粒子4を含有する懸濁液が散布され、乾燥処理が行われる。これにより、図3(b)に示すように、SiN膜11上にシリカ微細粒子4が分散配置される。
First, as shown in FIG. 3A, a
続いて、シリカ微細粒子4をマスクとして、SiN膜11のドライエッチングが行われ、SiN膜11の表面にシリカ微細粒子4の配置に応じた凹凸が転写される(図3(c))。当該ドライエッチングは、例えば、容量結合型ドライエッチング装置にて、エッチングガスにCHF3ガスとO2ガスとの混合ガスを用い、印加電力400Wとして実施することができる。このとき、CHF3ガスの流量及びO2ガスの流量は、SiN膜11とシリカ微細粒子4の選択比(エッチング速度の比)が、ほぼ1となる条件に調整される。このような条件は、例えば、CHF3ガスの流量100ml/min(標準状態)、O2ガスの流量2ml/min(標準状態)である。また、このとき、シリカ微細粒子4の大きさ(高さ)よりも大きいエッチング量となるエッチング時間のエッチング処理を行うことにより、図3(d)に示すように、シリカ微細粒子4はエッチングされて消滅し、SiN膜11の粗面化処理とともに除去される。
Subsequently, the
以上のようにして、SiN膜11の粗面化処理が行われた後、SiN膜11上にSiOC膜5が形成される(図3(e))。そして、図3(f)に示すように、SiOC膜5上にビアホール形成位置に開口を有するレジストパターン6が形成され、当該レジストパターン6をマスクとして、SiOC膜5及びSiN膜11がドライエッチングにより順次エッチング除去される(図3(g))。そして、レジストパターン6の除去、及び洗浄処理が行われ、ビアホール14が完成する(図3(h))。この後、コンタクトプラグ7、上層配線9、及び、層間絶縁膜10が形成される工程は、上記第1の実施形態と同様である。
After the surface roughening process of the
以上説明したように、本実施形態の半導体装置の製造方法によれば、粗面化処理が行われる下層膜と、当該粗面化処理に使用される微細粒子とを、エッチング速度が略同等となるエッチング条件によりエッチングすることで粗面化処理を行うため、粗面化処理中に微細粒子を消失させることができる。このため、ビアホール14の形成工程等の以降の加工工程において、従来のように、残留微細粒子に起因するパターン欠陥が生じることを確実に防止することができる。
As described above, according to the manufacturing method of the semiconductor device of the present embodiment, the lower layer film subjected to the roughening process and the fine particles used in the roughening process have substantially the same etching rate. Since the roughening treatment is performed by etching under the etching conditions, fine particles can be lost during the roughening treatment. For this reason, it is possible to reliably prevent the occurrence of pattern defects due to the residual fine particles as in the prior art in subsequent processing steps such as the formation process of the via
なお、本実施の形態では、粗面化処理が行われる材料膜の材料と、当該粗面化処理に用いる微細粒子の材料の組み合わせとして、窒化シリコンと酸化シリコンの組み合わせを例示したが、エッチング速度が略同等となるエッチング条件を有する材料の組み合わせであれば、任意の組み合わせを採用することができる。また、上記では、粗面化処理にドライエッチングを使用したが、微細粒子が移動することのないエッチング条件であれば、ウェットエッチングを使用してもよい。 In this embodiment mode, a combination of silicon nitride and silicon oxide is exemplified as a combination of a material film to be roughened and a fine particle material to be used for the roughening treatment. Any combination can be adopted as long as the combinations of materials having etching conditions that are substantially equivalent to each other. In the above, dry etching is used for the roughening treatment, but wet etching may be used as long as the etching conditions do not cause fine particles to move.
さらに、上記ビアホール14の形成工程でのSiN膜11のエッチング条件は、SiN膜11とシリカ微細粒子4とのエッチング速度が略同等となる上記条件とし、オーバエッチングとなるエッチング時間でエッチング行うことが好ましい。この条件下では、仮に、SiN膜11上にシリカ微細粒子4が残留した場合であっても、ビアホール14の形成時残留微細粒子はエッチング除去されるため、パターン欠陥の発生が防止される。
Furthermore, the etching conditions of the
以上説明したように、本発明によれば、密着性向上のための粗面化処理において、当該粗面化処理に使用する微細粒子に起因するパターン欠陥の発生を確実に防止することができる。 As described above, according to the present invention, it is possible to reliably prevent the occurrence of pattern defects due to fine particles used in the roughening process in the roughening process for improving the adhesion.
なお、上記各実施形態では、粗面化処理が行われる材料膜上に微細粒子を分散配置するために、微細粒子を含有する懸濁液を塗布する手法を採用したが、当該材料膜上に微細粒子を分散配置できる方法あれば、本方法に限らず任意の方法を使用することができる。 In each of the above embodiments, in order to disperse and arrange the fine particles on the material film on which the roughening treatment is performed, a method of applying a suspension containing fine particles is employed. Any method can be used as long as it can disperse and arrange fine particles.
また、上記各実施形態では、粗面化処理が行われた材料膜上に形成する密着性の低い材料膜としてSiOC膜を例示した。しかしながら、粗面化処理が行われた材料膜上に形成される材料膜の材質は、特に限定されるものではなく、絶縁膜に限らず導電膜であってもよい。 In each of the above embodiments, the SiOC film is exemplified as the material film with low adhesion formed on the material film that has been subjected to the roughening treatment. However, the material of the material film formed on the material film on which the roughening treatment has been performed is not particularly limited, and is not limited to an insulating film, and may be a conductive film.
さらに、上記各実施形態の各工程において例示した各プロセスは、本発明の効果を奏する範囲において、公知の等価なプロセスにより置換することが可能であることはいうまでもない。 Furthermore, it goes without saying that each process exemplified in each step of each of the above embodiments can be replaced by a known equivalent process as long as the effects of the present invention are achieved.
本発明は、密着性向上のための粗面化処理において、当該粗面化処理に使用する微細粒子に起因するパターン欠陥の発生を確実に防止できるという効果を有し、複数の材料膜が積層された半導体装置の製造方法、及び半導体装置として有用である。 The present invention has an effect of reliably preventing the occurrence of pattern defects due to fine particles used in the roughening treatment in the roughening treatment for improving adhesion, and a plurality of material films are laminated. It is useful as a method for manufacturing a semiconductor device and a semiconductor device.
1 BPSG膜
2 配線
3 TEOS膜
4 シリカ微細粒子(微粒子)
5 SiOC膜
6 レジストパターン
7 コンタクトプラグ
8 粗面化部
9 上層配線
10 TEOS膜
11 SiN膜
12 カーボン微細粒子
13 凹部
14 ビアホール
15 パターン欠陥
1 BPSG
5
Claims (6)
第1の材料膜を形成する工程と、
前記第1の材料膜上に、当該第1の材料膜と同時にエッチング可能な材料からなる微粒子を分散配置する工程と、
前記第1の材料膜を前記微粒子とともにエッチングする工程と、
前記エッチングされた第1の材料膜上に第2の材料膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 In a method for manufacturing a semiconductor device in which a plurality of material films are stacked,
Forming a first material film;
Dispersing and arranging fine particles made of a material that can be etched simultaneously with the first material film on the first material film;
Etching the first material film together with the fine particles;
Forming a second material film on the etched first material film;
A method for manufacturing a semiconductor device, comprising:
表面に分散配置された微粒子とともにエッチングされることにより、表面が粗面化された第1の材料膜と、
前記第1の材料膜上に形成された第2の材料膜と、
を備えたことを特徴とする半導体装置。
In a semiconductor device in which a plurality of material films are stacked,
A first material film whose surface is roughened by etching together with fine particles dispersed on the surface;
A second material film formed on the first material film;
A semiconductor device comprising:
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008311585A (en) * | 2007-06-18 | 2008-12-25 | Elpida Memory Inc | Wiring structure, semiconductor device, and their manufacturing methods |
WO2009063954A1 (en) * | 2007-11-16 | 2009-05-22 | Ulvac, Inc. | Substrate processing method and substrate processed by this method |
-
2005
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008311585A (en) * | 2007-06-18 | 2008-12-25 | Elpida Memory Inc | Wiring structure, semiconductor device, and their manufacturing methods |
WO2009063954A1 (en) * | 2007-11-16 | 2009-05-22 | Ulvac, Inc. | Substrate processing method and substrate processed by this method |
KR101159438B1 (en) * | 2007-11-16 | 2012-06-22 | 가부시키가이샤 아루박 | Substrate processing method and substrate processed by this method |
RU2459312C2 (en) * | 2007-11-16 | 2012-08-20 | Улвак, Инк. | Method of treating substrates and substrate treated using said method |
JP5232798B2 (en) * | 2007-11-16 | 2013-07-10 | 株式会社アルバック | Substrate processing method |
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