JP2007009193A - セルロースアシレートフィルム、セルロースアシレートフィルムの製造方法、光学補償シート、偏光板および液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】高レターデーションでかつＲｅ／Ｒｔｈ比も高いセルロースアシレートフィルムを提供すること。そのようなセルロースアシレートフィルムを含む光学補償シートにより、コントラストが高く表示品位の高い偏光板及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】結晶化指数［（２θが２７°と２５°とのＸ線回折強度の比］が０．７０以上１．０２以下で、フィルム面内の弾性率が３８００ＭＰａ以上６０００ＭＰａ以下であるセルロースアシレートフィルム。支持体上にドープを流延し乾燥後フィルムを剥ぎ取り、さらに延伸処理を行うセルロースアシレートフィルムの製造方法において、剥離後延伸前のセルロースアシレートフィルムの結晶化指数が０．７０以上１．００以下とする。また、そのように製造されたセルロースアシレートフィルム。これらのセルロースアシレートフィルムを含む光学補償シート、およびそれを用いた偏光板と液晶表示装置。
【選択図】なし

Description

本発明は、セルロースアシレートフィルム、延伸によるセルロースアシレートフィルムの製造方法、光学補償シート、偏光板および液晶表示装置に関し、詳しくは、結晶化指数とフィルム面内の弾性率を特定することで光学特性に優れたセルロースアシレートフィルム、延伸前の結晶化指数を特定することで光学特性に優れた延伸によるセルロースアシレートフィルムの製造方法、該製造方法により製造されたセルロースアシレートフィルム、上記セルロースアシレートフィルムを含む光学補償シート、およびそれを用いた偏光板と液晶表示装置に関する。

セルロースアシレートフィルムは適度な透水性を有し、光学的等方性が高い（レターデーション値が低い）ことから、液晶表示装置向けの偏光板保護フィルムとして広く利用されてきた。
近年、セルロースアシレートフィルムに位相差を付与し、偏光板保護フィルムとしての機能に加えて、光学補償機能も併せ持たせる方法が提案されている。例えば、特許文献１には、平面性の高いトリアジン型化合物をセルロースアシレートに添加し、レターデーションを発現させる方法が開示されている。しかし、近年液晶テレビ用途を中心に高品位の表示装置が求められるにつれて、光学補償フィルムに対しても、より精微なレターデーション制御が要求されるようになってきている。

セルロースアシレートフィルムのレターデーション制御の課題の一つとして、正面レターデーションＲｅと厚み方向レターデーションＲｔｈの比率の制御が上げられる。セルロースアシレートへの正面レターデーションＲｅの付与は通常生産性の高いテンター延伸により行われることが一般的である。しかし、この方法では、ＲｅだけでなくＲｔｈも増大してしまい、所望のＲｅ／Ｒｔｈ比を得られないという問題を有していた。これに対して特許文献２に延伸開始時の残留溶媒量を一定の範囲に制御することによりＲｅ／Ｒｔｈ比の高いレターデーション領域の特性を有するセルロースアシレートフィルムを製造する方法が開示されている。しかし、この方法によりＲｅ／Ｒｔｈ比は大きくなるものの、コントラストが高く表示品位の高い表示装置とするにはＲｅの発現性が不足しており、表示ムラが発生しやすいという問題があり改良が求められていた。

欧州特許出願公開第９１１６５６号明細書 特開２００３−１７０４９２号公報

本発明の目的は、高レターデーションでかつＲｅ／Ｒｔｈ比も高いセルロースアシレートフィルム、特には延伸セルロースアシレートフィルムを提供することである。
本発明の別の目的は、前記セルロースアシレートフィルムを含む光学補償シートにより、コントラストが高く表示品位の高い偏光板および液晶表示装置を提供することである。

本発明の発明者らは、鋭意検討した結果、微結晶の含有率（以下結晶化指数）が低くフィルム面内の弾性率が特定範囲のセルロースアシレートフィルムを用いることにより、また結晶化指数の低いセルロースアシレートフィルムを用いて延伸処理を行うことにより、微結晶によるセルロースアシレートの配向の阻害が取り除かれ、セルロースアシレートの配向を著しく向上でき、セルロースアシレートフィルムのＲｅレターデーションを大幅に増大させうることを見出した。
すなわち、本発明の目的は以下により達成される。

[１]
下式（Ａ）で表される結晶化指数が０．７０以上１．０２以下であり、フィルム面内の任意方向の弾性率がいずれも３８００ＭＰａ以上６０００ＭＰａ以下であることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
（Ａ） 結晶化指数＝（２θが２７°のＸ線回折強度）／（２θが２５°のＸ線回折強度）
[２］
支持体上にドープを流延し乾燥した後フィルムを剥ぎ取り、さらに延伸処理を行うセルロースアシレートフィルムの製造方法において、剥離後延伸前のセルロースアシレートフィルムの結晶化指数（Ａ）が０．７０以上１．００以下であることを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。
[３］
延伸処理開始時の下記式で表される残留溶剤含量が１質量％以上４０質量％以下である[２]に記載のセルロースアシレートの製造方法。
残留溶剤含量＝（残留溶剤の質量）／（固形分の質量）
[４］
[２]〜[３]に記載の方法により製造されたことを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
[５］
前記結晶化指数が０．７５以上０．９５以下であることを特徴とする[４]に記載のセルロースアシレートフィルム。
[６］
フィルム面内の任意方向の弾性率がいずれも３８００ＭＰａ以上６０００ＭＰａ以下である[５]に記載のセルロースアシレートフィルム。
[７］
前記セルロースアシレートがセルロースアセテートであることを特徴とする[１]、[４〜[６]のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
[８］
レターデーション発現剤を含有することを特徴とする[１］、[４］〜[７］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
[９］
前記レターデーション発現剤が下記一般式（１）で表される化合物であることを特徴とする[８］に記載のセルロースアシレートフィルム。

（式中、Ａｒ¹、Ａｒ²およびＡｒ³はそれぞれ独立にアリール基または芳香族ヘテロ環を表し、Ｌ¹およびＬ²はそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表す。ｎは３以上の整数を表し、それぞれＡｒ²とＬ²は同一であっても異なっていても良い。）
[１０］
前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（２）で表される化合物であることを特徴とする[９］に記載のセルロースアシレートフィルム。

（式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³およびＲ²⁴はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ａｒ²はアリール基または芳香族ヘテロ環を表し、Ｌ²およびＬ³はそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表す。ｎは３以上の整数を表し、それぞれＡｒ²とＬ²は同一であっても異なっていても良い。）
[１１］
前記レターデーション発現剤が下記一般式（Ｉ）、一般式（II）、一般式（III）および一般式（IV）でそれぞれ表される化合物から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする[８］に記載のセルロースアシレートフィルム。
一般式（Ｉ）

（式中、Ｒ¹はオルト位および／またはメタ位に置換基を有する芳香族環、または複素環を表し、Ｒ²は置換基を有する芳香族環、または複素環を表すが、Ｒ¹がオルト位および／またはメタ位に置換基を有する芳香族環を表し、Ｒ²が置換基を有する芳香族環を表すとき、双方が同一となることはない。Ｘ¹は単結合または−ＮＲ³−を表し、Ｘ²は単結合または−ＮＲ⁴−を表し、Ｘ³は単結合または−ＮＲ⁵−を表す。Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。）
一般式（II）

（式中、Ｒ⁶はパラ位に置換基を有する芳香族環、または複素環を表し、Ｒ⁷は置換基を有する芳香族環、または複素環を表すが、Ｒ⁶がパラ位に置換基を有する芳香族環を表し、Ｒ⁷は置換基を有する芳香族環を表すとき、双方が同一となることはない。Ｘ⁴は単結合または−ＮＲ¹³−を表し、Ｘ⁵は単結合または−ＮＲ¹⁴−を表し、Ｘ⁶は単結合または−ＮＲ¹⁵−を表す。Ｒ¹³、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。）
一般式（III）

（式中、Ｒ⁸はオルト位および／またはメタ位に置換基を有する芳香族環、または複素環を表す。Ｘ⁷は単結合または−ＮＲ²³−を表し、Ｘ⁸は単結合または−ＮＲ²⁴−を表し、Ｘ⁹は単結合または−ＮＲ²⁵−を表す。Ｒ²³、Ｒ²⁴およびＲ²⁵は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。）
一般式（IV）

（式中、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹はそれぞれ異なる芳香族環または複素環を表す。Ｘ¹⁰は単結合または−ＮＲ³³−を表し、Ｘ¹¹は単結合または−ＮＲ³⁴−を表し、Ｘ¹²は単結合または−ＮＲ³⁵−を表す。Ｒ³³、Ｒ³⁴およびＲ³⁵は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。）
[１２］
面内のレターデーション値（Ｒｅ）が２０〜２００ｎｍであり、厚さ方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）が７０〜４００ｎｍであることを特徴とする[１］、[４］〜[１１］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
[１３］
フィルム内の任意の６０ｍｍ×６０ｍｍ四方における配向角度の最大値と最小値の差が０度以上０．４０度以下である[１］、[４］〜[１２］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
[１４］
[１］、[４］〜[１３］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムを含むことを特徴とする光学補償シート。
[１５］
[１］、[４］〜[１３］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム上に光学異方性層を有することを特徴とする光学補償シート。
[１６］
偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、該透明保護膜の少なくとも一方が、[１４］または[１５］に記載の光学補償シートであることを特徴とする偏光板。
[１７］
液晶セルおよびその両側に配置された２枚の偏光板からなる液晶表示装置であって、少なくとも１枚の偏光板が[１６］に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
[１８］
表示モードがＶＡモードであることを特徴とする[１７］に記載の液晶表示装置。

本発明のセルロースアシレートフィルムは、高レターデーションでかつＲｅ／Ｒｔｈ比も高いという特徴を有しており、光学補償シートとして有用である。また、本発明の偏光板は、このようなセルロースアシレートフィルムを用いているため、偏光板の構成要素の数を増加することなく、偏光板に光学補償機能を追加することに成功している。さらに、これらの光学補償シートや偏光板を用いて作製した本発明の液晶表示装置は、表示品位が高い。

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

［セルロースアシレートフィルム］
（特徴）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、結晶化指数が０．７０以上１．０２以下、フィルム面内の任意方向の弾性率がいずれも３８００ＭＰａ以上６０００ＭＰａ以下であること、あるいは、支持体上にドープを流延・乾燥・剥離後、延伸前のフィルムの結晶化指数が０．７０以上１．０以下のフィルムを延伸処理することを特徴とする。セルロースアシレートフィルムの結晶化指数は、セルロースアシレートの重合度、分子量分布、添加剤（特にレターデーション発現剤）の種類や量、ドープ流延後のバンドあるいはドラム上での乾燥温度により制御することができる。
以下にレターデーション発現剤、セルロースアシレート、製膜方法の順に説明する。

（レターデーション発現剤）
本発明のセルロースアシレートフィルムに使用されるレターデーション発現剤について説明する。セルロースアシレート１００質量部に対し、レターデーション発現剤は０．０１〜２０質量部添加することが好ましく、０．１〜２０質量部添加することがより好ましく、０．５〜２０質量部添加することがさらに好ましい。

レターデーション発現剤は、セルロースアシレートに添加することによってセルロースアシレートフィルムのレターデーションを上昇させる機能を有するものであれば、その種類は特に制限されない。このうち、下記一般式（１）で表される化合物はセルロースアシレートフィルム製膜時におけるセルロースアシレートの結晶化を防止する効果があり特に好ましい。以下において一般式（１）で表される化合物について詳細に説明する。

一般式（１）中、Ａｒ¹、Ａｒ²およびＡｒ³はそれぞれ独立にアリール基または芳香族ヘテロ環を表し、Ｌ¹およびＬ²はそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表す。ｎは３以上の整数を表し、それぞれＡｒ²、Ｌ²は同一であっても異なっていても良い。

Ａｒ¹、Ａｒ²およびＡｒ³はそれぞれ独立にアリール基または芳香族ヘテロ環を表し、Ａｒ¹、Ａｒ²およびＡｒ³で表されるアリール基として好ましくは炭素数６〜３０のアリール基であり、単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。また、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。
一般式（１）中、Ａｒ¹、Ａｒ²およびＡｒ³で表されるアリール基としてより好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えばフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。

一般式（１）中、Ａｒ¹、Ａｒ²およびＡｒ³で表される芳香族ヘテロ環としては酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環であればいずれのヘテロ環でもよいが、好ましくは５ないし６員環の酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環である。また、可能な場合にはさらに置換基を有してもよい。置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。

一般式（１）中、Ａｒ¹、Ａｒ²およびＡｒ³で表される芳香族ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン環、ピロール環、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、トリアゾール環、トリアジン環、インドール環、インダゾール環、プリン環、チアゾリン環、チアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾリン環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、プテリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、テトラゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンゾトリアゾール環、テトラザインデン環、ピロロトリアゾール環、ピラゾロトリアゾール環などが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ベンズイミダゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンゾトリアゾール環である。

一般式（１）中、Ｌ¹およびＬ²は単結合または２価の連結基を表し、２価の連結基の例として好ましくは、−ＮＲ⁷−（Ｒ⁷は水素原子、置換基を有していても良いアルキル基またはアリール基を表す）で表される基、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−およびこれらの２価基を２つ以上組み合わせて得られる基を挙げることができ、その中でより好ましいものは−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ₂ＮＲ⁷−、−ＮＲ⁷ＳＯ₂−、−ＣＯＮＲ⁷−、−ＮＲ⁷ＣＯ−、−ＣＯＯ−、および−ＯＣＯ−、アルキニレン基であり、最も好ましくは−ＣＯＮＲ⁷−、−ＮＲ⁷ＣＯ−、−ＣＯＯ−、および−ＯＣＯ−、アルキニレン基である。

一般式（１）で表される化合物において、Ａｒ²はＬ¹およびＬ²と結合するがＡｒ²がフェニレン基である場合、Ｌ¹−Ａｒ²−Ｌ²およびＬ²−Ａｒ²−Ｌ²はそれぞれパラ位（１，４−位）の関係にあることが最も好ましい。

ｎは３以上の整数を表し、好ましくは３〜７であり、より好ましくは３〜５である。

一般式（１）で表される化合物のうち好ましいものは下記一般式（２）で表される化合物である。ここで一般式（２）について詳しく説明する。

Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³およびＲ²⁴はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ａｒ²はアリール基または芳香族ヘテロ環を表し、Ｌ²およびＬ³は単結合または２価の連結基を表す。ｎは３以上の整数を表し、それぞれＡｒ²、Ｌ²は同一であっても異なっていても良い。

Ａｒ²、Ｌ²、およびｎは一般式（１）の例と同一であり、Ｌ³は単結合または２価の連結基を表し、２価の連結基の例として好ましくは、−ＮＲ⁷−（Ｒ⁷は水素原子、置換基を有していても良いアルキル基またはアリール基を表す）で表される基、アルキレン基、置換アルキレン基、−Ｏ−、およびこれらの２価基を２つ以上組み合わせて得られる基であり、その中でもより好ましいものは−Ｏ−、−ＮＲ⁷−、−ＮＲ⁷ＳＯ₂−、および−ＮＲ⁷ＣＯ−である。

Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基であり、より好ましくは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基など）、炭素数６〜１２のアリール基（例えばフェニル基、ナフチル基）であり、さらに好ましくは炭素数１〜４のアルキル基である。

Ｒ²²、Ｒ²³およびＲ²⁴はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４、より好ましくはメチル基）である。

以下に前述の置換基Ｔについて説明する。
置換基Ｔとして好ましくはハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２-エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１．２．２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−３−イル）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基（置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２．２．２］オクト−２−エン−４−イル）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、p-クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ‘−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキルおよびアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、アリールおよびヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル基）を表わす。 上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていても良い。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

以下に一般式（１）および一般式（２）で表される化合物に関して具体例を挙げて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。

一般式（Ｉ）〜（IV）で表される化合物も本発明のレターデーション発現剤として好ましい。以下に一般式（Ｉ）〜（IV）で表される化合物について詳細に説明する。

一般式（Ｉ）

Ｒ¹はオルト位および／またはメタ位に置換基を有する芳香族環または複素環を表し、Ｒ²は置換基を有する芳香族環または複素環を表すが、Ｒ¹がオルト位および／またはメタ位に置換基を有する芳香族環を表し、Ｒ²が置換基を有する芳香族環を表すとき、双方が同一となることはない。Ｘ¹は単結合または−ＮＲ³−を表し、Ｘ²は単結合または−ＮＲ⁴−を表し、Ｘ³は単結合または−ＮＲ⁵−を表す。Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。

更に詳しく説明すると、Ｒ¹はオルト位および／またはメタ位に置換基を有する芳香族環または複素環を表し、Ｒ²は置換基を有する芳香族環または複素環を表す。Ｒ¹およびＲ²がそれぞれ表す芳香族環は、フェニルまたはナフチルであることが好ましく、フェニルであることが特に好ましい。Ｒ¹が表す芳香族環はオルト位および／またはメタ位に置換基を少なくとも有し、他の位置にも置換基を有していてもよい。Ｒ²が表す芳香族環はいずれかの置換位置に少なくとも一つの置換基を有する。前記置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル、シアノ、ニトロ、カルボキシル、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルオンアミド基、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基およびアシル基が含まれる。なお、Ｒ¹がオルト位および／またはメタ位に置換基を有する芳香族環を表し、Ｒ²が置換基を有する芳香族環を表すとき、双方が同一となることはない。「同一でない」とは、置換基を含めて同一でないことを意味し、例えば、同一の芳香族環であっても置換基が異なる場合、さらに置換基が同一であっても置換位置が異なる場合は、「同一でない」場合に含まれる。

Ｒ¹およびＲ²がそれぞれ表す複素環基は、芳香族性を有することが好ましい。芳香族性を有する複素環は、一般に不飽和複素環であり、好ましくは最多の二重結合を有する複素環である。複素環は５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、６員環であることが最も好ましい。複素環のヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子または酸素原子であることが好ましく、窒素原子であることが特に好ましい。芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環（複素環基としては、２−ピリジルまたは４−ピリジル）が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記アリール部分の置換基の例と同様である。Ｘ¹、Ｘ²およびＸ³がそれぞれ単結合である場合の複素環基は、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基であることが好ましい。窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、５員環であることが最も好ましい。複素環基は、複数の窒素原子を有していてもよい。また、複素環基は、窒素原子以外のヘテロ原子（例、Ｏ、Ｓ）を有していてもよい。以下に、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基の例を示す。

式中、Ｘ¹は単結合または−ＮＲ³−を表し、Ｘ²は単結合または−ＮＲ⁴−を表し、Ｘ³は単結合または−ＮＲ⁵−を表す。Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵がそれぞれ表すアルキル基は、環状アルキル基であっても鎖状アルキル基であってもよいが、鎖状アルキル基を表すのが好ましく、分岐を有する鎖状アルキル基よりも、直鎖状アルキル基を表すのがより好ましい。アルキル基の炭素原子数は、１〜３０であることが好ましく、１〜２０であることがより好ましく、１〜１０であることがさらに好ましく、１〜８がさらにまた好ましく、１〜６であることが最も好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ）およびアシルオキシ基（例、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ）が含まれる。

Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵がそれぞれ表すアルケニル基は、環状アルケニル基であっても鎖状アルケニル基であってもよいが、鎖状アルケニル基を表すのが好ましく、分岐を有する鎖状アルケニル基よりも、直鎖状アルケニル基を表すのがより好ましい。アルケニル基の炭素原子数は、２〜３０であることが好ましく、２〜２０であることがより好ましく、２〜１０であることがさらに好ましく、２〜８であることがさらにまた好ましく、２〜６であることが最も好ましい。アルケニル基は置換基を有していてもよい。置換基の例には、前述のアルキル基の置換基と同様である。Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵がそれぞれ表す芳香族環基および複素環基は、Ｒ¹およびＲ²がそれぞれ表す芳香族環および複素環と同様であり、好ましい範囲も同様である。芳香族環基および複素環基はさらに置換基を有していてもよく、置換基の例にはＲ¹およびＲ²の芳香族環および複素環の置換基と同様である。

一般式（II）

式中、Ｒ⁶はパラ位に置換基を有する芳香族環または複素環を表し、Ｒ⁷は置換基を有する芳香族環または複素環を表すが、Ｒ⁶がパラ位に置換基を有する芳香族環を表し、Ｒ⁷は置換基を有する芳香族環を表すとき、双方が同一となることはない。Ｘ⁴は単結合または−ＮＲ¹³−を表し、Ｘ⁵は単結合または−ＮＲ¹⁴−を表し、Ｘ⁶は単結合または−ＮＲ¹⁵−を表す。Ｒ¹³、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。

Ｒ⁶およびＲ⁷がそれぞれ表す芳香族環および複素環については、前記一般式（Ｉ）中のＲ¹およびＲ²がそれぞれ表す芳香族環および複素環と同義であり、好ましい範囲も同様である。また、置換基についても、Ｒ¹およびＲ²がそれぞれ表す芳香族環および複素環有する置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。Ｒ⁶が表す芳香族環はパラ位に置換基を少なくとも有し、他の位置にも置換基を有していてもよい。Ｒ⁷は任意の位置に置換基を少なくとも一つ有する。なお、Ｒ⁶がパラ位に置換基を有する芳香族環を表し、Ｒ⁷は置換基を有する芳香族環を表すとき、双方が同一となることはない。「同一でない」とは、置換基を含めて同一でないことを意味し、例えば、同一の芳香族環であっても置換基が異なる場合、さらに置換基が同一であっても置換位置が異なる場合は、「同一でない」場合に含まれる。

Ｘ⁴は単結合または−ＮＲ¹³−を表し、Ｘ⁵は単結合または−ＮＲ¹⁴−を表し、Ｘ⁶は単結合または−ＮＲ¹⁵−を表す。Ｒ¹³、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒ¹³、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵がそれぞれ表す置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基については、前記一般式（Ｉ）中のＲ³、Ｒ⁴およびＲ⁵がそれぞれ表す各基と同義であり、好ましい範囲も同様である。

一般式（III）

式中、Ｒ⁸はオルト位および／またはメタ位に置換基を有する芳香族環または複素環を表す。Ｘ⁷は単結合または−ＮＲ²³−を表し、Ｘ⁸は単結合または−ＮＲ²⁴−を表し、Ｘ⁹は単結合または−ＮＲ²⁵−を表す。Ｒ²³、Ｒ²⁴およびＲ²⁵は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。

Ｒ⁸が表す芳香族環および複素環については、前記一般式（Ｉ）中のＲ¹およびＲ²がそれぞれ表す芳香族環および複素環と同義であり、好ましい範囲も同様である。また、置換基についても、Ｒ¹およびＲ²がそれぞれ表す芳香族環および複素環有する置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。Ｒ⁸が表す芳香族環はオルト位および／またはメタ位に少なくとも置換基を有し、他の位置にも置換基を有していてもよい。

Ｘ⁷は単結合または−ＮＲ²³−を表し、Ｘ⁸は単結合または−ＮＲ²⁴−を表し、Ｘ⁹は単結合または−ＮＲ²⁵−を表す。Ｒ²³、Ｒ²⁴およびＲ²⁵は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒ²³、Ｒ²⁴およびＲ²⁵がそれぞれ表す置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基については、前記一般式（Ｉ）中のＲ³、Ｒ⁴およびＲ⁵がそれぞれ表す各基と同義であり、好ましい範囲も同様である。

一般式（IV）

式中、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹はそれぞれ異なる芳香族環または複素環を表す。Ｘ¹⁰は単結合または−ＮＲ³³−を表し、Ｘ¹¹は単結合または−ＮＲ³⁴−を表し、Ｘ¹²は単結合または−ＮＲ³⁵−を表す。Ｒ³³、Ｒ³⁴およびＲ³⁵は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。

Ｒ⁹、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹がそれぞれ表す芳香族環または複素環については、前記一般式（Ｉ）中のＲ¹およびＲ²がそれぞれ表す芳香族環および複素環と同義であり、好ましい範囲も同様である。置換基についても、Ｒ¹およびＲ²がそれぞれ表す芳香族環および複素環有する置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。なお、「異なる芳香族環または複素環」とは、置換基を含めて芳香族環および複素環が同一でないことを意味し、例えば、同一の芳香族環または複素環であっても置換基が異なる場合、さらに置換基が同一であっても置換位置が異なる場合は、「異なる芳香族環または複素環」に含まれる。

Ｘ¹⁰は単結合または−ＮＲ³³−を表し、Ｘ¹¹は単結合または−ＮＲ³⁴−を表し、Ｘ¹²は単結合または−ＮＲ³⁵−を表す。Ｒ³³、Ｒ³⁴およびＲ³⁵は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒ³³、Ｒ³⁴およびＲ³⁵がそれぞれ表す置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基については、前記一般式（Ｉ）中のＲ³、Ｒ⁴およびＲ⁵がそれぞれ表す各基と同義であり、好ましい範囲も同様である。

本発明の化合物の分子量は、３００〜２，０００であることが好ましい。本発明の化合物の沸点は、２６０℃以上であることが好ましい。沸点は、市販の測定装置（例えば、ＴＧ／ＤＴＡ１００、セイコー電子工業（株）製）を用いて測定できる。

以下に本発明の１，３，５−トリアジン環を有する化合物の具体例を示す。

特開平２００１−１６６１４４号公報に記載の化合物も本発明のレターデーション発現剤として好ましく用いることができる。

（セルロースアシレート）
本発明のセルロースアシレートフィルムに用いられるセルロースアシレートの原料綿は、公知の原料を用いることができる（例えば、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号）。また、セルロースアシレートの合成も公知の方法で行なうことができる（例えば、右田他、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年））。セルロースアシレートの粘度平均重合度は３００〜７００が好まし３５０〜５００が更に好ましく４００〜５００が最も好ましい。
重合度を大きくすることにより、セルロースアシレートフィルム製膜時の結晶化を抑制することができる。
また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜５．０であることが好ましく、１．５〜３．５であることがさらに好ましく、２．０〜３．０であることが最も好ましい。
分子量分布を小さくすることにより、セルロースアシレートフィルム製膜時の結晶化を抑制することができる。

該セルロースアシレートのアシル基は、特に制限は無いが、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基を用いることが好ましく、特にアセチル基が好ましい。全アシル基の置換度は１．５〜３．０が好ましく、２．５〜２．９５がさらに好ましく、２．６５〜２．９０が特に好ましい。本明細書において、アシル基の置換度とは、ＡＳＴＭ Ｄ８１７に従って算出した値である。

アシル基がアセチル基であることが最も好ましく、アシル基がアセチル基であるセルロースアセテートを用いる場合には、酢化度が５９．０〜６２．５％が好ましく、５９．０〜６１．５％がさらに好ましい。酢化度がこの範囲にあると、流延時の搬送テンションによってＲｅが所望の値より大きくなることもなく、面内ばらつきも少なく、温湿度によってレターデーション値の変化も少ない。
６位のアシル基の置換度は、Ｒｅ、Ｒｔｈのばらつきを抑制する観点から、０．９以上が好ましい。

また、セルロースの水酸基を炭素原子数が２以上のアシル基で置換して得られたセルロースアシレートからなるフィルムにおいて、２位のアシル基の置換度をＤＳ２、３位のアシル基の置換度をＤＳ３、６位のアシル基の置換度をＤＳ６とする時、下記式（１）および（２）を満たすことが好ましい。
（１） ２．０≦ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６≦３．０
（２） ０．３１０≦ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）

また、セルロースアシレートが、セルロースの水酸基がアセチル基および炭素原子数が３〜２２のアシル基で置換されたセルロースアシレートからなり、かつ該セルロースアシレートのアセチル基の置換度Ａおよび炭素原子数が３〜２２のアシル基の置換度Ｂが、下記式（３）を満たすことが好ましい。
（３） ２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０

〔セルロースアシレートフィルムの製造〕
本発明のセルロースアシレートフィルムの製造方法では、セルロースアシレート、及び有機溶媒を含むドープ液を、バンド又はドラム上に流延後、剥離されたセルロースアシレートフィルムを搬送する工程（１）、幅手の端部把持する工程（２）、幅手方向に引き延ばす工程（３）を有するセルロースアシレートフィルムの製造において、延伸開始時の残留溶媒含量が一定の範囲のセルロースアシレートフィルムを、例えば下記式（４）の条件で延伸する。
（４） １％／分≦延伸速度≦５０％／分
以下、本発明の製造方法を詳細に説明する。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ソルベントキャスト法により製造する。ソルベントキャスト法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造する。

有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステル及び炭素原子数が１〜６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。
エーテル、ケトン及びエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトン及びエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する溶媒の上記した好ましい炭素原子数範囲内であることが好ましい。

炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトールが含まれる。
炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノンが含まれる。
炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート及びペンチルアセテートが含まれる。

２種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール及び２−ブトキシエタノールが含まれる。
ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１又は２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５〜７５モル％であることが好ましく、３０〜７０モル％であることがより好ましく、３５〜６５モル％であることがさらに好ましく、４０〜６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。

本発明において有機溶媒はメチレンクロリドとアルコールを混合して用いることが好ましく、メチレンクロリドに対するアルコールの比率は１質量％以上５０質量％以下が好ましく、１０質量％以上４０質量％以下が好ましく、１２質量％以上３０質量％以下が最も好ましい。アルコールとしてはメタノール、エタノール、ｎ−ブタノールが好ましく、２種類以上のアルコールを混合して使用してもよい。

０℃以上の温度（常温又は高温）で処理することからなる一般的な方法で、セルロースアシレート溶液を調製することができる。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法及び装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。

セルロースアシレートの量は、得られる溶液中に１０〜４０質量％含まれるように調整する。セルロースアシレートの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。

セルロースアシレート溶液は、常温（０〜４０℃）でセルロースアシレートと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧及び加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、セルロースアシレートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。
加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０〜２００℃であり、さらに好ましくは８０〜１１０℃である。

各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。

加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。

容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。

容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶媒中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、又は取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。

冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にも、セルロースアシレートを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセルロースアシレートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果がある。

冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロースアシレートを撹拌しながら徐々に添加する。セルロースアシレートの量は、この混合物中に１０〜４０質量％含まれるように調整することが好ましい。セルロースアシレートの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。

次に、混合物を−１００〜−１０℃（好ましくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０〜−２０℃）中で実施できる。冷却によりセルロースアシレートと有機溶媒の混合物は固化する。

冷却速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を、冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。

さらに、これを０〜２００℃（好ましくは０〜１５０℃、さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５０℃）に加温すると、有機溶媒中にセルロースアシレートが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよく、温浴中で加温してもよい。

加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を、加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。

以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。

冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時に減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧及び減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。

なお、セルロースアセテート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）での測定によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス１０℃程度の温度で保する必要がある。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。

調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造する。ドープにはレターデーション発現剤を添加することが好ましい。

ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ドープは、表面温度が１０℃以下のドラム又はバンド上に流延することが好ましい。

ソルベントキャスト法における乾燥方法については、米国特許第２３３６３１０号、同第２３６７６０３号、同第２４９２０７８号、同第２４９２９７７号、同第２４９２９７８号、同第２６０７７０４号、同第２７３９０６９号及び同第２７３９０７０号の各明細書、英国特許第６４０７３１号及び同第７３６８９２号の各明細書、並びに特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号及び同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。バンド又はドラム上での乾燥は空気、窒素などの不活性ガスを送風することにより行うことができる。

本発明のセルロースアシレートフィルムのバンドまたはドラム上の乾燥はできるだけ低温でおこなうことが好ましい。残量溶媒含量が１０ｗｔ％以上における乾燥温度は１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がさらに好ましく、９０℃以下が最も好ましい。
上記範囲で乾燥を行うことにより、フィルム中の微結晶の生成を低減することができる。

調整したセルロースアシレート溶液（ドープ）を用いて二層以上の流延を行いフィルム化することもできる。この場合、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを作製することが好ましい。ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０％の範囲となるように濃度を調整することが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。

二層以上の複数のセルロースアシレート液を流延する場合、複数のセルロースアシレート溶液を流延することが可能で、支持体の進行方向に間隔をおいて設けられた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよい。例えば、特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、及び特開平１１−１９８２８５号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによってもフィルム化することもできる。例えば、特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、及び特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法を用いることができる。さらに特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の、高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高・低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押し出すセルロースアシレートフィルムの流延方法を用いることもできる。

また、２個の流延口を用いて、第一の流延口により支持体に成形したフィルムを剥ぎ取った後、そのフィルムの支持体面に接していた側に第二の流延を行うことにより、フィルムを作製することもできる。例えば、特公昭４４−２０２３５号公報に記載の方法を挙げることができる。

流延するセルロースアシレート溶液は同一の溶液を用いてもよいし、異なるセルロースアシレート溶液を用いてもよい。複数のセルロースアシレート層に機能をもたせるために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押し出せばよい。さらに本発明に用いられるセルロースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、紫外線吸収層、偏光層など）と同時に流延することもできる。

従来の単層液では、必要なフィルムの厚さにするためには、高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押し出すことが必要である。その場合セルロースアシレート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良となったりして問題となることが多かった。この問題の解決方法として、複数のセルロースアシレート溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に支持体上に押し出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができる。

［延伸処理］
本発明の延伸セルロースアシレートフィルムの延伸方向は幅方向、長手方向のいずれでも好ましいが、幅方向が特に好ましい。

幅方向に延伸する方法は、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号などの各公報に記載されている。長手方向の延伸の場合、例えば、フィルムの搬送ローラーの速度を調節して、フィルムの剥ぎ取り速度よりもフィルムの巻き取り速度の方を速くするとフィルムは延伸される。幅方向の延伸の場合、フィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げることによってもフィルムを延伸できる。フィルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること（好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸）もできる。

本発明のセルロースアシレートフィルムは、一定以下の残留溶剤含量で一定の延伸速度で延伸することが好ましい。延伸開始時の残留溶剤含量は１質量％以上４０質量％以下であり、１質量％以上３０質量％以下が好ましく、１質量％以上２５質量％以下がさらに好ましい。

また延伸温度は、（フィルムのガラス転移温度＋２０℃）以下が好ましく、さらに（フィルムのガラス転移温度＋１０℃）以下がさらに好ましい。
上記残留溶剤含量で延伸することにより、延伸処理時の結晶化の進行を抑制することができる。

フィルムの延伸倍率は、１％〜１００％が好ましく、５％〜９０％がさらに好ましい。なお本発明においてフィルムの延伸倍率とは、下記数式（５）で求められる数値を指すものとする。
（５） ｛（延伸後の寸法／延伸前の寸法）−１｝×１００（％）

（結晶化指数）
本発明の延伸セルロースアシレートフィルムの結晶化指数はフィルムのＸ線回折強度測定により下記式（Ａ）で定義するものとする。
（Ａ） 結晶化指数＝（２θが２７°のＸ線回折強度）／（２θが２５°のＸ線回折強度）
ここでの、２θが２７°のＸ線回折強度、２θが２５°のＸ線回折強度は、それぞれ、結晶部に基づくＸ線回折強度、（非晶部＋結晶部）に基づくＸ線回折強度を意味しており、したがって、（２θが２７°のＸ線回折強度）／（２θが２５°のＸ線回折強度）の値は、微結晶の含有率に比例する値、すなわち結晶化指数を表すと考えることができる。
本発明の延伸セルロースアシレートフィルムの結晶化指数は０．７０以上１．１以下であり、好ましくは０．７５以上０．９５以下であり、さらに好ましくは０．８０以上０．９０以下である。
また延伸前のセルロースアシレートフィルムの結晶化指数は０．７０以上１．０以下が好ましく、０．７５以上０．９５以下がさらに好ましく、０．８０以上０．９０以下が最も好ましい。
上記範囲に延伸前のセルロースアシレートフィルムの結晶化指数を制御することにより、延伸時の微結晶によるセルロースアシレート分子鎖の配向阻害を低減でき、延伸セルロースアシレートフィルムの配向度を向上させることが可能となり、延伸セルロースアシレートフィルムのＲｅレターデーションを大幅に増大させることができ、高レターデーションでかつＲｅ／Ｒｔｈ比も高い延伸セルロースアシレートフィルムを提供することができる。

（可塑剤）
セルロースアシレートフィルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）、ビフェニルフォスフェートおよびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。
可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましく、３〜１５質量％であることが最も好ましい。

（紫外線吸収剤）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、紫外線吸収剤を含有してもよい。
紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。本発明のセルロースアシレートフィルムを、偏光板の保護フィルムとして用いる場合、紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、且つ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。

本発明に有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（３”，４”，５”，６”−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル］ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−［３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−［３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。

また、市販品として、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２８」｛何れもチバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製｝を好ましく使用できる。

（劣化防止剤）
セルロースアシレートフィルムには、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、劣化防止剤添加による効果が発現し、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）を抑制する観点から、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。

（マット剤微粒子）
本発明のセルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。これらの微粒子の中ではケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子サイズが１ｎｍ〜２０ｎｍであり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径は１ｎｍ〜２０ｎｍであることが好ましく、５ｎｍ〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができて、より好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットルが好ましく、１００〜２００ｇ／リットルがさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

これらの微粒子は、通常平均粒子サイズが０．０５〜２．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．０５〜２．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子サイズは０．０５μｍ〜１．０μｍが好ましく、０．１μｍ〜０．７μｍがさらに好ましく、０．１μｍ〜０．４μｍが最も好ましい。１次、２次粒子サイズはフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒子サイズとした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子サイズとする。

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６およびＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。

これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが１次平均粒子サイズが２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムのヘイズを低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。

本発明で用いるマット剤は以下の方法により調製することが好ましい。すなわち、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意したセルロースアシレート濃度が５質量％未満で分子量２００〜２０００の第１の添加剤溶液に加えて攪拌溶解した後、さらに第２の添加剤溶液を加えて攪拌溶解した後、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法が好ましい。

マット剤の表面は疎水化処理されているため、疎水的な添加剤が添加されると、マット剤の表面に添加剤が吸着され、これを核として、添加剤の凝集物が発生しやすい。相対的に親水的な添加剤を予めマット剤分散液と混合したのち、疎水的な添加剤を混合することにより、マット剤表面での添加剤の凝集を抑制することができ、ヘイズが低く、液晶表示装置に組み込んだ際の黒表示における光漏れが少なく好ましい。

マット剤分散剤と添加剤溶液の混合、およびセルロースアシレート液との混合にはインラインミキサーを使用することが好ましい。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が同量の添加量に対する濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は０．００１〜１．０質量％が好ましく、０．００５〜０．５質量％が更に好ましく、０．０１〜０．１質量％が最も好ましい。

（フィルムのレターデーション）
本明細書において、Ｒｅ、Ｒｔｈは各々、正面のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。ＲｅはＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長５９０ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈは前記Ｒｅ、正面の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長５９０ｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長５９０ｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。
本発明では、セルロースアシレートフィルムのＲｅレターデーション値を好ましくは２０〜２００ｎｍに、そしてＲｔｈレターデーション値を好ましくは７０〜４００ｎｍに調節する。また、本発明ではＲｅ／Ｒｔｈ比を好ましくは０．１〜０．８に調節する。さらに好ましくは、Ｒｅレターデーション値を３０〜１００ｎｍに、Ｒｔｈレターデーション値を１００〜３００ｎｍ、そしてＲｅ／Ｒｔｈ比を０．２５〜０．６に調節する。これらの調整はレターデーション発現剤の種類、添加量およびセルロースアシレートフィルムの延伸条件により行うことができる。

（配向角度分布）
ポリマーフィルムの配向角分布は、OPTIPRO(ＸＹ走査ステージ、ハロゲンランプ光＋５５０ｎｍ干渉フィルター)により測定することができる。この時測定面積は６０ｍｍ×６０ｍｍとし、口径３ｍｍのビームを用いて４ｍｍ間隔で測定を行える。

このようにして測定された６０ｍｍかける６０ｍｍの範囲内における配向角分布の最大値と最小値の差の好ましい範囲としては、０度以上０．４０度以下であり、より好ましくは０度以上０．３０度以下であり、さらに好ましくは０．２０度以下でる。このように、微小領域における配向角分布を改良したフィルムは、クロスニコル観察時におけるムラを著しく改良することが出来、ムラのないパネルを提供することが出来る。

なお本発明において「配向角度」とはフィルム面内の特定方向を基準として、これとポリマーフィルムの配向方向の角度を指すものではない。しかし「配向角度の最大値と最小値の差」という言う場合においては、任意ではあるが共通の方向を基準とし、これとポリマーフィルムの配向方向とのなす角度の最大値と最小値の差を指すものであるため、一義的にその値を決定することが出来る。

（弾性率）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、フィルムの製造時の搬送方向、または搬送方向と直交する方向（以下幅方向）の双方の弾性率が３８００ＭＰａ以上６０００ＭＰａ以下である。フィルムの弾性率を上記範囲に制御することにより液晶表示装置を高湿下に連続点灯した場合の光漏れを抑制することができる。

弾性率は、試料１０ｍｍ×２００ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨ、２時間調湿し、引張試験機（ストログラフーＲ２（東洋精機製））にて、初期試料長１００ｍｍ、引張速度１０ｍｍ／分で、引張初期の応力と伸びより算出することができる。

（ヘイズ）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、例えば、ヘイズ計（１００１ＤＰ型、日本電色工業（株）製）を用いて測定した値が０〜１．０であることが好ましい。さらに好ましくは、０〜０．８である。

（面状故障）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、例えば、セルロースエステルフィルムをサンプリングし、得られたフィルムの両端部３０ｃｍ幅、長さ１ｍ上に存在する３０μｍ以上の異物あるいは凝集物の数を数えて求めた値が０〜５０であることが好ましい。さらに好ましくは０〜４０、特に好ましくは０〜３０である。

（セルロースアシレートフィルムの表面処理）
セルロースアシレートフィルムの表面エネルギーを５５〜７５ｍＮ／ｍとするには、表面処理を施すことが好ましい。表面処理の例として、ケン化処理、プラズマ処理、火炎処理、および紫外線照射処理が挙げられる。ケン化処理には、酸ケン化処理およびアルカリケン化処理が含まれる。プラズマ処理にはコロナ放電処理およびグロー放電処理が含まれる。フィルムの平面性を保つために、これらの表面処理においては、セルロースアシレートフィルムの温度をガラス転移温度（Ｔｇ）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。これらの表面処理後のセルロースアセテートフィルムの表面エネルギーは５５〜７５ｍＮ／ｍであることが好ましい。
グロー放電処理は、１０^-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体は、上記のような条件においてプラズマ励起される気体であり、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類およびそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１０００ｋｅＶ下で２０〜５００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００ｋｅＶ下で２０〜３００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられる。これらの中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理でありセルロースアシレートフィルムの表面処理としては極めて有効である。

アルカリ鹸化処理は、セルロースアシレートフィルムを鹸化液の槽に直接浸漬する方法または鹸化液をセルロースアシレートフィルム塗布する方法で実施することが好ましい。塗布方法としては、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法およびＥ型塗布法を挙げることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液の透明支持体に対して塗布するために濡れ性が良く、また鹸化液溶媒によって透明支持体表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨがさらに好ましい。鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で１秒〜５分が好ましく、５秒〜５分がさらに好ましく、２０秒〜３分が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗あるいは酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。

これらの方法で得られた固体の表面エネルギーは「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社、１９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。本発明のセルロースアシレートフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。具体的には、表面エネルギーが既知である２種類の溶液をセルロースアシレートフィルムに滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。

セルロースアシレートフィルムに上記の表面処理を実施することにより、フィルムの表面エネルギーが５５〜７５ｍＮ／ｍであるセルロースアシレートフィルムを得ることができる。このセルロースアシレートフィルムを偏光板の透明保護膜とすることにより、偏光膜とセルロースアシレートフィルムの接着性を向上させることができる。また、本発明のセルロースアシレートフィルムをＯＣＢモードの液晶表示装置に用いる場合、本発明の光学補償シートは、セルロースアシレートフィルム上に配向膜を形成し、その上に円盤状化合物もしくは棒状液晶化合物を含む光学異方性層を設けても良い。光学異方性層は、配向膜上に円盤状化合物（もしくは棒状液晶化合物）を配向させ、その配向状態を固定することにより形成する。このようにセルロースアシレートフィルム上に光学異方性層を設ける場合、従来ではセルロースアシレートフィルムと配向膜との接着性を確保するために、両者の間にゼラチン下塗り層を設ける必要があったが、本発明の、表面エネルギーが５５〜７５ｍＮ／ｍであるセルロースアシレートフィルムを用いることにより、ゼラチン下塗り層を不要とすることができる。

［セルロースアシレートフィルムを用いた光学材料］
（光学補償シート）
以上説明した少なくとも一種のレターデーション発現剤を含んで延伸され、上記レターデーション値Ｒｅ、Ｒｔｈ、およびＲｅ／Ｒｔｈ比を満たし、膜厚が４０μｍ〜１１０μｍのセルロースアシレートフィルムは、一枚だけで光学補償シートとして機能する。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、光学補償シートとして用いることが好ましい。

（偏光板）
偏光板は、偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる。一方の保護膜として、上記のセルロースアシレートフィルムからなる光学補償シートを用いることができる。他方の保護膜は、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよい。
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
セルロースアシレートフィルムからなる光学補償シートの遅相軸と偏光膜の透過軸とは、実質的に平行になるように配置する。

（反射防止層）
偏光板の、液晶セルと反対側に配置される透明保護膜には反射防止層を設けることが好ましい。特に本発明では、（１）透明保護膜上に少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層した反射防止層、または、（２）透明保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層が好適に用いられる。以下にそれらの好ましい例を順に記載する。

（１）透明保護膜上に光散乱層と低屈折率層を設けた反射防止層
本発明の光散乱層には、マット粒子が分散しており、光散乱層のマット粒子以外の部分の素材の屈折率は１．５０〜２．００の範囲にあることが好ましく、低屈折率層の屈折率は１．３５〜１．４９の範囲にあることが好ましい。本発明においては光散乱層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えており、１層でもよいし、複数層、例えば２層〜４層で構成されていてもよい。

反射防止層は、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さＲａが０．０８〜０．４０μｍ、１０点平均粗さＲｚがＲａの１０倍以下、平均山谷距離Ｓｍが１〜１００μｍ、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が０．５μｍ以下、中心線を基準とした平均山谷距離Ｓｍの標準偏差が２０μｍ以下、傾斜角０〜５度の面が１０％以上となるように設計することで、十分な防眩性と目視での均一なマット感が達成され、好ましい。また、Ｃ光源下での反射光の色味がａ^*値−２〜２、ｂ^*値−３〜３、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内での反射率の最小値と最大値の比０．５〜０．９９であることで、反射光の色味がニュートラルとなり、好ましい。またＣ光源下での透過光のｂ^*値が０〜３とすることで、表示装置に適用した際の白表示の黄色味が低減され、好ましい。また、面光源上と本発明の反射防止フィルムの間に１２０μｍ×４０μｍの格子を挿入してフィルム上で輝度分布を測定した際の輝度分布の標準偏差が２０以下であると、高精細パネルに本発明のフィルムを適用したときのギラツキが低減され、好ましい。

本発明の反射防止層は、その光学特性として、鏡面反射率２．５％以下、透過率９０％以上、６０度光沢度７０％以下とすることで、外光の反射を抑制でき、視認性が向上するため好ましい。特に鏡面反射率は１％以下がより好ましく、０．５％以下であることが最も好ましい。ヘイズ２０％〜５０％、内部ヘイズ／全ヘイズ値０．３〜１、光散乱層までのヘイズ値から低屈折率層を形成後のヘイズ値の低下が１５％以内、くし幅０．５ｍｍにおける透過像鮮明度２０％〜５０％、垂直透過光／垂直から２度傾斜方向の透過率比が１．５〜５．０とすることで、高精細ＬＣＤパネル上でのギラツキ防止、文字等のボケの低減が達成され、好ましい。

＜低屈折率層＞
反射防止フィルムの低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４９であり、好ましくは１．３０〜１．４４の範囲にある。さらに、低屈折率層は下記数式（６）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
（６） （ｍ／４）×０．７＜ｎ1ｄ1＜（ｍ／４）×１．３
式中、ｍは正の奇数であり、ｎ1は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ1は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。

本発明の低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
本発明の低屈折率層には、低屈折率バインダーとして、含フッ素ポリマーを含む。フッ素ポリマーとしては動摩擦係数０．０３〜０．２０、水に対する接触角９０〜１２０°、純水の滑落角が７０°以下の熱または電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーが好ましい。本発明の反射防止フィルムを画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなり好ましく、５００ｇｆ以下が好ましく、３００ｇｆ以下がより好ましく、１００ｇｆ以下が最も好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難く、０．３ＧＰａ以上が好ましく、０．５ＧＰａ以上がより好ましい。

低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン）の加水分解、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。

含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。

架橋反応性付与のための構成単位としてはグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。

また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。

上記のポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号および特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。

＜光散乱層＞
光散乱層は、表面散乱および／または内部散乱による光拡散性と、フィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。従って、ハードコート性を付与するためのバインダー、光拡散性を付与するためのマット粒子、および必要に応じて高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを含んで形成される。

光散乱層の膜厚は、ハードコート性を付与する目的で、１〜１０μｍが好ましく、１．２〜６μｍがより好ましい。薄すぎるとハード性が不足し、厚すぎるとカールや脆性が悪化して加工適性が不足となる。

散乱層のバインダーとしては、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。バインダーポリマーを高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、および窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むものを選択することもできる。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、上記のエチレンオキサイド変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例えば、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例えば、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例えば、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。

高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。これらの光ラジカル開始剤等は公知のものを使用することができる。

ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。

光散乱層には、防眩性付与の目的で、フィラー粒子より大きく、平均粒子サイズが１〜１０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子が含有される。
上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ₂粒子等の無機化合物の粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、架橋アクリルスチレン粒子、シリカ粒子が好ましい。
マット粒子の形状は、球状あるいは不定形のいずれも使用できる。

また、粒子サイズの異なる２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子サイズのマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子サイズのマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。

さらに、上記マット粒子の粒子サイズ分布としては単分散であることが最も好ましく、各粒子の粒子サイズは、それぞれ同一に近ければ近いほど良い。例えば平均粒子サイズよりも２０％以上粒子サイズが大きな粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒子サイズ分布を持つマット粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布のマット剤を得ることができる。

上記マット粒子は、形成された光散乱層のマット粒子量が好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ²、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ²となるように光散乱層に含有される。
マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。

光散乱層には、層の屈折率を高めるために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、平均粒子サイズが０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。
また逆に、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いた光散乱層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒子サイズは前述の無機フィラーと同じである。
光散乱層に用いられる無機フィラーの具体例としては、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯとＳｉＯ₂等が挙げられる。ＴｉＯ₂およびＺｒＯ₂が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理またはチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機フィラーの添加量は、光散乱層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。
なお、このようなフィラーは、粒子サイズが光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。

光散乱層のバインダーおよび無機フィラーの混合物のバルクの屈折率は、１．４８〜２．００であることが好ましく、より好ましくは１．５０〜１．８０である。屈折率を上記範囲とするには、バインダーおよび無機フィラーの種類および量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。

光散乱層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を防眩層形成用の塗布組成物中に含有する。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の反射防止フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。

（２）透明保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層
基体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成から成る反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
又、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、中屈折率ハードコート層、高屈折率層および低屈折率層からなってもよい。
例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等が挙げられる。又、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例えば、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
反射防止膜のヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。又膜の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

＜高屈折率層および中屈折率層＞
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒子サイズ１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子およびマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜から成る。
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。
このような超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シランカップリング剤等：特開平１１−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８号公報、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（特開２００１−１６６１０４号公報等）、特定の分散剤併用（例えば、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６，２１０，８５８号明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等挙げられる。
マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。
更に、ラジカル重合性および／またはカチオン重合性の重合性基を少なくとも２個以上含有の多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有の有機金属化合物およびその部分縮合体組成物から選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。例えば、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の化合物が挙げられる。
又、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。
高屈折率層の屈折率は、一般に１．７０〜２．２０である。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。また、厚さは５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。

＜低屈折率層＞
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成る。低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５である。好ましくは１．３０〜１．５０である。
耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。
例えば、特開平９−２２２５０３号公報段落［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報段落［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報段落［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物が挙げられる。
シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン（例えば、サイラプレーン（チッソ（株）製等）、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が挙げられる。
架橋または重合性基を有する含フッ素および／またはシロキサンのポリマーの架橋または重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。

また、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。

低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されても良い。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。

（３）反射防止層の他の層
さらに、ハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。

＜ハードコート層＞
ハードコート層は、反射防止層を設けた透明保護膜に物理強度を付与するために、透明支持体の表面に設ける。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。
ハードコート層は、光および／または熱の硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成されることが好ましい。
硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、又加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。
ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等記載のものが挙げられる。

高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。
ハードコート層は、平均粒子サイズ０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層（後述）を兼ねることもできる。
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。又、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

＜帯電防止層＞
帯電防止層を設ける場合には体積抵抗率が１０^-8（Ωｃｍ^-3）以下の導電性を付与することが好ましい。吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、カチオンポリマー、アニオンポリマー、コロイダルシリカ等の使用により１０^-8（Ωｃｍ^-3）の体積抵抗率の付与は可能であるが、温湿度依存性が大きく、低湿では十分な導電性を確保できない問題がある。そのため、導電性層素材としては金属酸化物が好ましい。金属酸化物には着色しているものがあるが、これらの金属酸化物を導電性層素材として用いるとフィルム全体が着色してしまい好ましくない。着色のない金属酸化物を形成する金属としてＺｎ，Ｔｉ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｓｉ，Ｍｇ，Ｂａ，Ｍｏ，Ｗ，またはＶをあげることができ、これれを主成分とした金属酸化物を用いることが好ましい。具体的な例としては、ＺｎＯ，ＴｉＯ₂，ＳｎＯ₂，Ａｌ₂Ｏ₃，Ｉｎ₂Ｏ₃，ＳｉＯ₂，ＭｇＯ，ＢａＯ，ＭｏＯ₃，Ｖ₂Ｏ₅等、あるいはこれらの複合酸化物がよく、特にＺｎＯ，ＴｉＯ₂，およびＳｎＯ₂が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばＺｎＯに対してはＡｌ，Ｉｎ等の添加物、ＳｎＯ₂に対してはＳｂ，Ｎｂ，ハロゲン元素等の添加、またＴｉＯ₂に対してはＮｂ，ＴＡ等の添加が効果的である。更にまた、特公昭５９−６２３５号公報に記載の如く、他の結晶性金属粒子あるいは繊維状物（例えば酸化チタン）に上記の金属酸化物を付着させた素材を使用しても良い。尚、体積抵抗値と表面抵抗値は別の物性値であり単純に比較することはできないが、体積抵抗値で１０^-8（Ωｃｍ^-3）以下の導電性を確保するためには、該導電層が概ね１０^-10（Ω／□）以下の表面抵抗値を有していればよく更に好ましくは１０^-8（Ω／□）である。導電層の表面抵抗値は帯電防止層を最表層としたときの値として測定されることが必要であり、本明細書に記載の積層フィルムを形成する途中の段階で測定することができる。

［液晶表示装置］
本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は、液晶表示装置に有利に用いられる。本発明の偏光板は、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。このうち、ＯＣＢモードまたはＶＡモードに好ましく用いることができる。

ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置である。ＯＣＢモードの液晶セルは、米国特許第４，５８３，８２５号、同５，４１０，４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。

ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
ＯＣＢモードおよびＶＡモードの液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に二枚の偏光板を配置してもよいし、ＶＡモードの場合、偏光板をセルのバックライト側に配置してもよい。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

［実施例１］ セルロースアシレートフィルム１０１の作製
＜セルロースアシレート溶液０１の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液０１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液０１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル化度２．８０、重合度４２０のセルロースアセテート
１００．０質量部
トリフェニルフォスフェート（可塑剤） ６．０質量部
ビフェニルフォスフェート（可塑剤） ３．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

＜マット剤溶液１１の調製＞
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液１１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液１１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、
日本アエロジル（株）製） ２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７５．０質量部
メタノール（第２溶媒） １２．７質量部
セルロースアシレート溶液０１ １０．３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

＜レターデーション発現剤溶液２１の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、レターデーション発現剤溶液２１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
レターデーション発現剤溶液２１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
レターデーション発現剤（Ａ−７） １０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ６７．２質量部
メタノール（第２溶媒） １０．０質量部
セルロースアシレート溶液０１ １２．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

上記マット剤溶液１１の１．３質量部とレターデーション発現剤溶液２１の７．８質量部をそれぞれ濾過後にインラインミキサーを用いて混合し、さらにセルロースアシレート溶液０１を９１．１質量部加えて、インラインミキサーを用いて混合し、バンド流延機を用いて流延し、７０℃で残留溶剤含量２５％まで乾燥し、フィルムを剥ぎ取った。１４０℃の雰囲気温度で残留溶剤含量１５％のフィルムをテンターを用いて延伸倍率１５％で横延伸したのち、１４０℃で３０秒間保持した。延伸開始時の残留溶剤含量は１０％であった。その後、クリップを外して１３０℃で４０分間乾燥させ、セルロースアシレートフィルム１０１を製造した。作製されたセルロースアシレートフィルム１０１の残留溶剤量は０．１％であり、膜厚は７９μｍであった。

［実施例２〜７］ セルロースアシレートフィルム１０２〜１０７の作製
セルロースアシレートの種類、レターデーション発現剤の種類／量、バンド上乾燥温度、延伸処理開始時の残留溶剤含量、及び延伸倍率を表１のものに変更した以外は実施例１のセルロースアシレートフィルム１０１と同様にしてセルロースアシレートフィルム１０２〜１０７を作製した。なお、各実施例２〜７の延伸開始時の残留溶剤含量は２０〜４０％の範囲内であった。

［比較例１〜２］ セルロースアシレートフィルム２０１〜２０２の作製
実施例１のセルロースアシレートフィルム１０１の作製においてセルロースアシレートの種類、レターデーション発現剤の種類／量、バンド上乾燥温度、及び延伸倍率を表１のものに変更した以外は実施例１と同様にして、比較例のセルロースアシレートフィルム２０１〜２０２を作製した。なお、延伸開始時の残留溶剤含量は、比較例１では２９％、比較例２では２０％であった。

（フィルム物性値の測定）
作製した各セルロースアセテートフィルムについて、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲｔｈレターデーション値を測定した。
また、延伸前及び延伸後のフィルムの結晶化指数、延伸後のフィルムの弾性率及び配向角分布を以下のとおり測定した。結果を表２に示す。

フィルムの結晶化指数の測定：
理学電機（株）製“ＲＡＰＩＤ Ｒ−ＡＸＩＳ”により、Ｘ線源にはＣｕを回転対陰極として用い、５０ｋＶ−１００ｍＡでＸ線を発生させた。コリメーターは０．８ｍｍφ、フィルム試料は透過試料台を用いて固定した。また、露光時間は１８０秒とした。このようにして２θ＝２５°及び２７°における回折強度を読み取り、下記式（Ａ）により結晶化指数を求めた。
（Ａ） 結晶化指数＝（２θが２７°のＸ線回折強度）／（２θが２５°のＸ線回折強度）

フィルムの弾性率の測定
弾性率は、試料１０ｍｍ×２００ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨ、２時間調湿し、引張試験機（ストログラフＲ２（東洋精機製））にて、初期試料長１００ｍｍ、引張速度１０ｍｍ／分で、引張初期の応力と伸びより算出した。

フィルムの配向角分布の測定
ポリマーフィルムの配向角分布は、ＯＰＴＩＰＲＯ（ＸＹ走査ステージ、ハロゲンランプ光＋５５０ｎｍ干渉フィルター）により測定した。測定面積は６０ｍｍ×６０ｍｍとし、口径３ｍｍのビームを用いて４ｍｍ間隔で測定を行なった。このようにして測定された６０ｍｍ×６０ｍｍの範囲内における配向角分布の最大値と最小値からその差を求めた。

表２の結果から本発明のセルロースアシレートフィルムは比較例のセルロースアシレートフィルムと比べて、レターデーションが大きく、かつＲｅ／Ｒｔｈ比が大きく好ましいことがわかった。

［実施例８］ 偏光板１０１の作製
（セルロースアシレートフィルムの鹸化処理）
実施例１で作製されたセルロースアシレートフィルム１０１を、１．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で２分間浸漬し、次いで室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した後、再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、セルロースアシレートフィルム１０１の表面を鹸化し、以下の偏光板試料作製に供した。
また、市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）を同条件で鹸化し、以下の偏光板試料作製に供した。

（偏光子の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素を吸着させて偏光子を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記で鹸化処理したセルロースアシレートフィルム１０１を偏光子の片側に貼り付けた。偏光子の透過軸とセルロースアシレートフィルムの遅相軸とは平行になるように配置した。
さらに上記で鹸化処理したセルローストリアセテートフィルムを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側に貼り付けた。このようにして偏光板１０１を作製した。

［実施例９］ 偏光板１０２〜１０７の作製
セルロースアシレートフィルム１０２〜１０７についても実施例８と同様にして偏光板１０２〜１０７を作製した。

［比較例３］ 偏光板２０１〜２０２の作製
セルロースアシレートフィルム２０１〜２０２についても実施例８と同様にして偏光板２０１〜２０２を作製した。

［実施例１０］ ＶＡ液晶表示装置１０１〜１０７の作製
図１の液晶表示装置を作製した。すなわち、観察方向（上）から上側偏光板３０、ＶＡモード液晶セル３１（上基板、液晶層、下基板）、下側偏光板３２を積層し、さらにバックライト光源を配置した。以下の例では、上側偏光板３０に市販品の偏光板（ＨＬＣ２−５６１８、（株）サンリッツ製）を用いて、下側偏光板３２に上で製造した偏光板を使用した。

（液晶セルの作製）
液晶セルは、基板間のセルギャップを３．６μｍとし、負の誘電率異方性を有する液晶材料（ＭＬＣ６６０８、メルク社製）を基板間に滴下注入して封入し、基板間に液晶層を形成して作製した。液晶層のレターデーション（すなわち、記液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄ）を３００ｎｍとした。なお、液晶材料は垂直配向するように配向させた。

（液晶表示装置の作製）
上記の垂直配向型液晶セル３１を使用した液晶表示装置（図１）の上側偏光板３０に、市販品のスーパーハイコントラスト品（ＨＬＣ２−５６１８、（株）サンリッツ製）を、下側偏光板３２に、実施例８で作製した偏光板１０１ないし実施例９で作製した偏光板１０２〜１０７を本発明のセルロースアシレートフィルム１０１〜１０７が液晶セル側となるように、粘着剤を介して、ＶＡモードセル３１の観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けて液晶表示装置１０１〜１０７を作製した。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。

［比較例４］ ＶＡ液晶表示装置２０１〜２０２の作製
下側偏光板３２に、比較例３で作製した偏光板２０１〜２０２を用いること以外は、実施例１０と同様にして、液晶表示装置２０１〜２０２を作製した。

（評価）
以下のようにして、各液晶装置のコントラストを測定した。
得られた液晶表示装置に白画像および黒画像を表示させ、輝度計（商品名ＥｚＣｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩ社製）により、ＸＹＺ表示系におけるＹ値、ｘ値、ｙ値を測定し、白画像におけるＹ値（Ｙｗ）と黒画像におけるＹ値（Ｙｂ）とから、コントラスト比を、Ｙｗ／Ｙｂとして求めた。そして、表示画面の法線を基準として全方位に０〜８０°の範囲で傾斜させた方向から測定し視角によるコントラスト変化を評価した。また、目視により表示ムラを観察した。
この結果、本発明のセルロースアシレートフィルムを含む偏光板を使用したＶＡモード液晶表示装置１０１〜１０７は、比較例の液晶表示装置２０１〜２０２に対してコントラストが高く、かつ表示ムラが少なく好ましいことがわかった。
さらに、本発明の液晶表示装置１０１及び１０７と比較例の液晶表示装置２０２を３０℃８０％ＲＨの環境下１０００時間連続して表示させ、表示ムラの発生を観察した。本発明の液晶表示装置１０１及び１０７は表示ムラが発生せず、良好な表示性能を示したのに対し、比較例の液晶表示装置２０２は周辺部に白いムラが発生した。

本発明の液晶表示装置の一例を示す模式図である。

符号の説明

３０ 上側偏光板
３１ ＶＡモード液晶セル
３２ 下側偏光板
３３ セルロースアシレートフィルム
３４ 偏光子

Claims (18)

1. 下式（Ａ）で表される結晶化指数が０．７０以上１．０２以下であり、フィルム面内の任意方向の弾性率がいずれも３８００ＭＰａ以上６０００ＭＰａ以下であることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
   （Ａ） 結晶化指数＝（２θが２７°のＸ線回折強度）／（２θが２５°のＸ線回折強度）
2. 支持体上にドープを流延し乾燥した後フィルムを剥ぎ取り、さらに延伸処理を行うセルロースアシレートフィルムの製造方法において、剥離後延伸前のセルロースアシレートフィルムの結晶化指数（Ａ）が０．７０以上１．００以下であることを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。
3. 延伸処理開始時の下記式で表される残留溶剤含量が１質量％以上４０質量％以下である請求項２に記載のセルロースアシレートの製造方法。
   残留溶剤含量＝（残留溶剤の質量）／（固形分の質量）
4. 請求項２〜３に記載の方法により製造されたことを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
5. 前記結晶化指数が０．７５以上０．９５以下であることを特徴とする請求項４に記載のセルロースアシレートフィルム。
6. フィルム面内の任意方向の弾性率がいずれも３８００ＭＰａ以上６０００ＭＰａ以下である請求項５に記載のセルロースアシレートフィルム。
7. 前記セルロースアシレートがセルロースアセテートであることを特徴とする請求項１、４〜６のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
8. レターデーション発現剤を含有することを特徴とする請求項１、４〜７のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
9. 前記レターデーション発現剤が下記一般式（１）で表される化合物であることを特徴とする請求項８に記載のセルロースアシレートフィルム。
   

   

   （式中、Ａｒ¹、Ａｒ²およびＡｒ³はそれぞれ独立にアリール基または芳香族ヘテロ環を表し、Ｌ¹およびＬ²はそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表す。ｎは３以上の整数を表し、それぞれＡｒ²とＬ²は同一であっても異なっていても良い。）
10. 前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（２）で表される化合物であることを特徴とする請求項９に記載のセルロースアシレートフィルム。
    

    

    （式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³およびＲ²⁴はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ａｒ²はアリール基または芳香族ヘテロ環を表し、Ｌ²およびＬ³はそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表す。ｎは３以上の整数を表し、それぞれＡｒ²とＬ²は同一であっても異なっていても良い。）
11. 前記レターデーション発現剤が下記一般式（Ｉ）、一般式（II）、一般式（III）および一般式（IV）でそれぞれ表される化合物から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項８に記載のセルロースアシレートフィルム。
    一般式（Ｉ）
    

    

    （式中、Ｒ¹はオルト位および／またはメタ位に置換基を有する芳香族環、または複素環を表し、Ｒ²は置換基を有する芳香族環、または複素環を表すが、Ｒ¹がオルト位および／またはメタ位に置換基を有する芳香族環を表し、Ｒ²が置換基を有する芳香族環を表すとき、双方が同一となることはない。Ｘ¹は単結合または−ＮＲ³−を表し、Ｘ²は単結合または−ＮＲ⁴−を表し、Ｘ³は単結合または−ＮＲ⁵−を表す。Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。）
    一般式（II）
    

    

    （式中、Ｒ⁶はパラ位に置換基を有する芳香族環、または複素環を表し、Ｒ⁷は置換基を有する芳香族環、または複素環を表すが、Ｒ⁶がパラ位に置換基を有する芳香族環を表し、Ｒ⁷は置換基を有する芳香族環を表すとき、双方が同一となることはない。Ｘ⁴は単結合または−ＮＲ¹³−を表し、Ｘ⁵は単結合または−ＮＲ¹⁴−を表し、Ｘ⁶は単結合または−ＮＲ¹⁵−を表す。Ｒ¹³、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。）
    一般式（III）
    

    

    （式中、Ｒ⁸はオルト位および／またはメタ位に置換基を有する芳香族環、または複素環を表す。Ｘ⁷は単結合または−ＮＲ²³−を表し、Ｘ⁸は単結合または−ＮＲ²⁴−を表し、Ｘ⁹は単結合または−ＮＲ²⁵−を表す。Ｒ²³、Ｒ²⁴およびＲ²⁵は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。）
    一般式（IV）
    

    

    （式中、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹はそれぞれ異なる芳香族環または複素環を表す。Ｘ¹⁰は単結合または−ＮＲ³³−を表し、Ｘ¹¹は単結合または−ＮＲ³⁴−を表し、Ｘ¹²は単結合または−ＮＲ³⁵−を表す。Ｒ³³、Ｒ³⁴およびＲ³⁵は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。）
12. 面内のレターデーション値（Ｒｅ）が２０〜２００ｎｍであり、厚さ方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）が７０〜４００ｎｍであることを特徴とする請求項１、４〜１１のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
13. フィルム内の任意の６０ｍｍ×６０ｍｍ四方における配向角度の最大値と最小値の差が０度以上０．４０度以下である請求項１、４〜１２のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
14. 請求項１、４〜１３のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムを含むことを特徴とする光学補償シート。
15. 請求項１、４〜１３のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム上に光学異方性層を有することを特徴とする光学補償シート。
16. 偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、該透明保護膜の少なくとも一方が、請求項１４または１５に記載の光学補償シートであることを特徴とする偏光板。
17. 液晶セルおよびその両側に配置された２枚の偏光板からなる液晶表示装置であって、少なくとも１枚の偏光板が請求項１６に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
18. 表示モードがＶＡモードであることを特徴とする請求項１７に記載の液晶表示装置。

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