JP2006529028A - 熱線風速計質量流量計測装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 質量流量計測装置を提供する。
【解決手段】 質量流量計測装置は、チューブ状側壁によって画成された流路、第1部分が流路内に配置され且つ第2部分が側壁の外に延びるように側壁を通って流路内に延びるプローブ、このプローブに固定されたヒーターエレメント、及び流路を通って流れる流体がヒーターエレメントと接触しないようにするシールを含む。
【選択図】 図1
【解決手段】 質量流量計測装置は、チューブ状側壁によって画成された流路、第1部分が流路内に配置され且つ第2部分が側壁の外に延びるように側壁を通って流路内に延びるプローブ、このプローブに固定されたヒーターエレメント、及び流路を通って流れる流体がヒーターエレメントと接触しないようにするシールを含む。
【選択図】 図1
Description
本発明は、流体流れを計測するための装置及び方法に関し、更に詳細には、熱線風速計を使用してガスの流れを計測するための装置及び方法に関する。
半導体製造産業では、反応チャンバにガスの状態で送出した一つ又はそれ以上の反応体の量、温度、及び圧力を正確に制御する必要がある。窒素ガス等の幾つかのプロセス(すなわち加工処理用の)反応体は、反応を生じるのに必要な温度及び圧力で制御された態様で比較的容易に送出される。しかしながら、他の反応体は高度に腐食性であったり、毒性であったり、発火性であったり、又は反応チャンバへの送出時に必要な温度及び/又は圧力で不安定であったりする。反応体は、このような特徴により、反応チャンバへ正確に且つ制御された態様で送出することは極めて困難である。
当該産業において、プロセス反応体の送出を制御するために質量流量制御装置(以下、「MCF」と呼ぶ)が広く使用されている。様々なプロセス反応体の様々な送出必要条件を取り扱うため、熱を用いるMCF及び圧力を用いるMCF二つの大きなカテゴリーが開発されてきた。質量流量制御装置は、一般的には、制御装置を通るガスの流れの速度を計測するための質量流量計測装置、制御装置を通るガスの流れを制御するためのバルブ、及び質量流量計測装置及びバルブに連結されたコンピュータを含む。コンピュータには所望の流量がプログラムされており、コンピュータは、質量流量計測装置によって計測した実際の流量と比較する。実際の流量が所望の流量と等しくない場合、コンピュータは、実際の流量が所望の流量と等しくなるまでバルブの開閉を行うようにプログラムされている。
熱を用いる質量流量制御装置は、流れチャンネルの壁からチャンネル内を層流をなして流れる流体への熱伝達速度が、流体及びチャンネル壁の温度差、流体の比熱、及び流体の質量流量の関数であるという原理に基づいて作動する。かくして、流体の性質及び流体及びチューブの温度が分かっている場合に流体(層流状態)の質量流量を決定できる。
他方、圧力を用いるMCFは、流体の流路に沿って二つの圧力リザーバを設けることによって、例えば流路の直径の制限を導入することによって粘性流れ状態を発生する。制限部は、オリフィス又はノズルを含んでいてもよい。流れ制限部の穴の上流のリザーバでは、流体は圧力がP1であり且つ密度がρ1であり、これは、周知の穴で粘性絞り流れ条件で流れを決定するために使用できる。
熱線風速計でガスの流量を計測することも周知である。熱線風速計では、ガスは、代表的には、加熱した一本のワイヤ上を通過し、ワイヤの温度を低下する。加熱したワイヤの抵抗の変化を決定し、ガスの流量と相関する。更に最新の技術は、第1熱線の下流に位置決めされた第2熱線を使用する。ガスはシステムを通過し、上流のワイヤの温度を下げ、下流のワイヤの温度を上昇する。次いで温度差を出力信号として記録する。
しかしながら、質量流量を計測するための新規であり且つ改良された装置及び方法を含む質量流量制御装置が今でも望まれている。好ましくは、新規であり且つ改良された装置及び方法は、質量流量の計測に熱線風速計を使用する。更に、新規であり且つ改良された装置及び方法は、好ましくは、計測を受けるガスと適合性の有る材料で形成され、渦による分界(vortex shedding)による悪影響を受けず、ガスの種類の影響を受けず、周囲温度の変化の影響を受けない。更に、新規であり且つ改良された装置及び方法は、好ましくは、流量の変化に迅速に応答し、広範な流量を計測できる。
本発明は、新規であり且つ改良された質量流量計測装置において、チューブ状側壁によって画成された流路、第1部分が流路内に配置され且つ第2部分が側壁の外に延びるように側壁を通って流路内に延びるプローブ、プローブに固定されたヒーターエレメント、及び流路を通って流れる流体がヒーターエレメントと接触しないようにするシールを含む、質量流量計測装置を提供する。
本発明の一つの特徴によれば、シールは、側壁とプローブとの間に設けられ、ヒーターエレメントがプローブの第2部分に固定される。別の特徴によれば、プローブは、ステンレス鋼及びアルミニウムのうちの一方で形成されている。
本発明の追加の特徴によれば、ヒーターエレメントは、プローブの第2部分に固定された第1及び第2のヒーターエレメントを含み、第2ヒーターエレメントは、側壁から、第1ヒーターエレメントよりも遠くに位置決めされている。
本発明の別の特徴によれば、プローブは、側壁を通って流路内に延びる第1及び第2のプローブを含み、ヒーターエレメントは、第1及び第2のプローブに夫々固定された第1及び第2のヒーターエレメントを含む。本発明の一つの特徴によれば、第1及び第2のプローブのうちの一方が、流路内に、第1及び第2のプローブのうちの他方よりも大きく延びている。
本発明の別の特徴によれば、流路は、単一の入口を共有する第1及び第2の平行な流路を含み、第2流路は端壁によって閉鎖されており、プローブは、第1流路内に延びる第1プローブ及び第2流路内に延びる第2プローブを含み、ヒーターエレメントは、第1プローブに位置決めされた第1ヒーターエレメント及び第2プローブに位置決めされた第2ヒーターエレメントを含み、シールは、第1流路を通って流れる流体が第1ヒーターエレメントと接触しないようにする第1シール及び第2流路を通って流れる流体が第2ヒーターエレメントと接触しないようにする第2シールを含む。
本発明の追加の特徴によれば、流路は狭幅部分を含み、プローブは流路の狭幅部分内に延びる。
この他の特徴及び利点のうち、本発明の質量流量計測装置は、計測を受けるガスと適合性の有る材料で形成され、渦による分界による悪影響を受けず、ガスの種類の影響を受けず、周囲温度の変化の影響を受けない。更に、本発明の新規であり且つ改良された装置及び方法は、好ましくは、流量の変化に迅速に応答し、広範な流量を計測できる。
この他の特徴及び利点のうち、本発明の質量流量計測装置は、計測を受けるガスと適合性の有る材料で形成され、渦による分界による悪影響を受けず、ガスの種類の影響を受けず、周囲温度の変化の影響を受けない。更に、本発明の新規であり且つ改良された装置及び方法は、好ましくは、流量の変化に迅速に応答し、広範な流量を計測できる。
本発明の追加の特徴及び利点は、本発明を実施する上で考えられる最良の態様の単なる例示として本発明の例示の実施例を示し且つ説明した以下の詳細な説明から当業者に明らかになるであろう。理解されるように、本発明のこの他の異なる実施例が可能であり、その詳細の幾つかを様々な明らかな点で、本発明を逸脱することなく、変更できる。従って、添付図面及び以下の説明は、単なる例示であると考えられるべきであって、限定ではない。
同じ参照番号を付したエレメントが全体に亘って同様のエレメントを表す添付図面を参照する。
図1を参照すると、本発明に従って形成された質量流量計測装置10の例示の実施例は、質量流量を計測するために熱線風速計の物理学を使用する。質量流量計測装置10は、例えば、半導体製造産業でプロセス反応体の送出を制御するために質量流量制御装置の部分として使用できる。質量流量計測装置10は、全体として、チューブ状側壁14によって画成された流路12、及び側壁14を通って流路12内に延びる第1及び第2のプローブ16、18を含む。これらのプローブ16、18の第1部分16a、18aは流路12内に配置され、プローブ16、18の第2部分16b、18bは側壁14の外に延びている。装置10は、更に、第1及び第2のプローブ16、18に夫々固定された第1及び第2のヒーターエレメント20、22、及び流路12を通って流れる流体がヒーターエレメント20、22と接触しないようにするシール24、26を含む。
プローブ16、18は、好ましくは、流路12を通って流れるガスの種類と適合した材料で形成され、シール24、26により、ヒーターエレメント20、22がガスと接触しないようにし、かくしてヒーターエレメントはガスと適合性の材料である必要はない。装置10を半導体製造産業で使用しようとする場合、好ましくは、プローブ16、18はアルミニウム又はステンレス鋼から形成される。
図1の例示の実施例では、シール24、26が側壁14とプローブ16、18との間に設けられ、ヒーターエレメント20、22がプローブ16、18の第2部分16b、18bに固定されている。シールは、例えば、プローブ16、18と側壁14との間の溶接部24、26を含む。別の態様では、ヒーターエレメント20、22をプローブ16、18の第1部分16a、18aに固定し、材料適合性のスリーブで液密に覆ってもよい。
プローブ16、18及びヒーターエレメント20、22は、全て、コンピュータプロセッサ等の制御装置(図示せず)に接続されている。制御装置は、プローブ16、18の温度を監視し、プローブ16、18が一定の温度を保持するようにヒーターエレメント20、22にエネルギを提供し、ヒーターエレメント20、22に提供されたエネルギの量を計測し、流路12を通る質量流量を、少なくとも部分的に、ヒーターエレメント20、22に提供されたエネルギに基づいて計算する。質量流量を、少なくとも部分的に、ヒーターエレメント20、22に提供されたエネルギに基づいて計算するこのような方法は、熱線風速計の技術分野の当業者に周知の風速計の物理学によって管理される。かくして、ここには説明しない。
図1の例示の実施例では、装置10が周囲温度の変化の影響を受けないように周囲(外側)温度の変化をキャンセルするのに第2プローブ18を使用できるように、第1プローブ16が流路12内に第2プローブ18よりも大きく延びている。例えば、第1及び第2のヒーターエレメント20、22に供給されているエネルギが、流路12内に延びるプローブ16、18の量と比例しないことを制御装置が計測した場合には、制御装置は、プローブ16、18のうちの一方の温度変化が、流れの変化でなく周囲温度の変化によって引き起こされたと見なすようにプログラムされている。
図1の例示の実施例では、第1及び第2のプローブ16、18は、流路12のほぼ同じ長さ方向位置に位置決めされている。更に、第1プローブ16は流路12内で第2プローブ18と横方向で向き合って位置決めされている。この構成により、有利には、例えば、プローブ16、18が並んで配置された場合、プローブ16、18の一方に、プローブ16、18の他方から離れた渦による悪影響が加わらないようにする。
図2は、図1の質量流量計測装置10の斜視図である。この装置10は、プローブ16、18及びヒーターエレメント20、22用のハウジング28、30を含む。これらのハウジングは、側壁14の外面に固定してある。図3では、プローブハウジング28、30の部分が取り外した状態で示してあるのに対し、図4では、全てのプローブハウジングが取り外した状態で示してある。図5では、側壁14の取り付けダイアフラム34の開口部32を明らかにするためにプローブが取り外した状態で示してある。
図1に最もよく示すように、流路12はダイアフラム34によって画成された狭幅部分36を含み、プローブ16、18が流路12の狭幅部分36内に延びている。狭幅部分36によりガスの速度がプローブ16、18のところで上昇し、これによりプローブ16、18の流れに対する感度を高める。
図6は時間に対する流れのグラフであり、図1の質量流量計測装置10については線「B」で示し、従来技術の質量流量計測装置については線「A」で示し、本発明の質量流量計測装置10が、流量の変化に対し、従来技術の質量流量計測装置よりも迅速に応答することを示す。図7は、図1の質量流量計測装置10についての、様々な流れa−fに対する流れに対する差動出力のグラフであり、本発明の質量流量計測装置が広範な流量を計測できることを示す。
図1乃至図5の質量流量計測装置10についての用途の一例として、質量流量計測装置10は質量流量制御装置(MFC)に組み込むことができる。周知のように、MFCはガス源からのガスの流量を制御するための装置であり、例えば半導体ウェーハを製造するためにプロセス蒸気をプロセスチャンバに正確に送出するため、半導体製造産業で使用できる。MFCは、一般的には、質量流量計測装置10の流路を通る流れを制御するためのバルブ、及び所定の所望の流量を使用者から受け取り、質量流量計測装置10から実際の流れの表示を受け取り、実際の流量が所望の流量と等しくない場合に実際の流量を増減するためにバルブを作動するようにプログラムされた制御装置を含む。
図8は、本発明に従って形成された質量流量計測装置50の別の例示の実施例を示す。質量流量計測装置50は、チューブ状側壁54によって画成された流路52、及びプローブ56の第1部分56aが流路52内に配置され且つプローブ56の第2部分56bが側壁54の外に延びるように側壁54を通って流路52内に延びるプローブ56を含む。装置50は、更に、プローブ56の第2部分56bに固定された第1及び第2のヒーターエレメント58、60を含む。第2ヒーターエレメント60は、側壁54から、第1ヒーターエレメント58よりも遠くに位置決めされている。二つのヒーターエレメント58、60により、装置を周囲温度の変化を受けないようにできる。シール62は、流路52を通って流れる流体がヒーターエレメント58、60と接触しないようにする。
本発明に従って形成された質量流量計測装置100の追加の例示の実施例を図9に示す。装置100は、単一の入口110を共有するチューブ状側壁106、108によって画成された第1及び第2の平行な流路102、104を含む。第2流路は、端壁112によって閉鎖されている。第1プローブ114が第1流路102内に延びており、第2プローブ116が第2流路104内に延びており、第1ヒーターエレメント118が第1プローブ114に位置決めされており、第2ヒーターエレメント120が第2プローブ116に位置決めされている。装置100は、更に、第1流路102を通って流れる流体が第1ヒーターエレメント118と接触しないようにする第1シール122、及び第2流路104を通って流れる流体が第2ヒーターエレメント120と接触しないようにする第2シール122を含む。
第2流路104が端壁112によって閉鎖されているため、第2流路104を通る流れは常にゼロである。かくして、第2プローブ116の温度は、周囲温度が変化した場合又は装置100を通過するガスの種類が変わったときにしか変化しない。かくして、図9の実施例100は、周囲温度の変化及び装置100を通過するガスの種類の影響を受けないということがわかった。
図15は、本発明に従って形成された質量流量計測装置200の別の例示の実施例を示す。質量流量計測装置200は、チューブ状側壁204によって画成された流路202、及び側壁204を通って流路202内に延びるプローブ206を含む。プローブ206の第1部分206aは流路202内に配置され、プローブ206の第2部分206bは側壁204の外に延びる。装置200は、更に、プローブ206の第2部分206bに固定された第1及び第2のヒーターエレメント208、210を含み、第2ヒーターエレメント210は、側壁204から、第1ヒーターエレメント208よりも遠くに位置決めされている。これらの二つのヒーターエレメント208、210により、装置は周囲温度の変化の影響を受けない。シール(図示せず)は、流路202を通って流れる流体がヒーターエレメント208、210と接触しないようにする。流路202は狭幅部分216を含み、プローブ206は流路202の狭幅部分216内に延びる。狭幅部分216によりガスの速度をプローブ206に亘って上昇させることにより、流れに対するプローブ206の感度を高める。
図15の装置200は、更に、プローブ206用のハウジング220及び側壁204の外面に固定されたヒーターエレメント208、210を含む。図13及び図14はハウジング220及びプローブ206を示す。ハウジング220は、ボルト等の適当なファスナ(図示せず)で互いに固定された第1部分222及び第2部分224を含む。図10、図11、及び図12に示す第1部分222は、プローブ206用の穴230を画成するファスナプレート228から延びる本体226を含む。ファスナプレート228は、ハウジング220の第1部分222を流路202の側壁204に図15に示すように固定するため、ボルト等の適当なファスナを受け入れるための開口部232を含む(側壁204は、ボルトを受け入れるためのねじ山を備えたボア236を含む)。本体226は、更に、第2部分224をハウジング220の第1部分222に固定するためのファスナを図13、図14、及び図15に示すように受け入れるための開口部234を含む。
図16及び図17は図15の装置200を示すが、この装置は、流路202に装着され、プローブ206を取り囲む多孔質材料製のプラグ240を更に含む。プローブ206の周囲で流れを細砕する(break)のを補助するプラグ240は、流路を通過するガスと適合性の有る材料で形成されており、小孔又はガスを通過させるのに十分大きい貫通通路を含む。一つの例示の実施例では、プラグ240はアルミニウム又はステンレス鋼で形成されている。
かくして、本発明による新規であり且つ改良された質量流量計測装置及び形成方法を説明した。詳細には、本発明は、質量流量計測装置及び方法を提供するための新規であり且つ改良された、しかも簡単であり且つ効果的な構成を提供する。以上説明した例示の実施例は限定でなく例示であり、当業者は、本発明のその広い特徴における精神及び範囲のいずれかから、及び特許請求の範囲から逸脱することなく、様々な変更、組み合わせ、及び代替を行うことができる。ここに開示した本発明の質量流量計測装置及び方法及びその全てのエレメントは、特許請求の範囲のうちの少なくとも一つの範囲内に含まれる。ここに開示した計測装置及び方法のエレメントのうち、請求を放棄するものはない。
10 質量流量計測装置
12 流路
14 チューブ状側壁
16、18 プローブ
20、22 ヒーターエレメント
24、26 シール
12 流路
14 チューブ状側壁
16、18 プローブ
20、22 ヒーターエレメント
24、26 シール
Claims (25)
- 質量流量計測装置において、
チューブ状側壁によって画成された流路、
第1部分が前記流路内に配置され且つ第2部分が前記側壁の外に延びるように前記側壁を通って前記流路内に延びるプローブ、
前記プローブに固定されたヒーターエレメント、及び
前記流路を通って流れる流体がヒーターエレメントと接触しないようにするシールを含む、質量流量計測装置。 - 請求項1に記載の質量流量計測装置において、前記シールは、前記側壁と前記プローブとの間に設けられ、前記ヒーターエレメントは前記プローブの前記第2部分に固定される、質量流量計測装置。
- 請求項1に記載の質量流量計測装置において、前記プローブは、ステンレス鋼及びアルミニウムのうちの一方で形成されている、質量流量計測装置。
- 請求項1に記載の質量流量計測装置において、前記ヒーターエレメントは、前記プローブの前記第2部分に固定された第1及び第2のヒーターエレメントを含み、第2ヒーターエレメントは、前記側壁から、前記第1ヒーターエレメントよりも遠くに位置決めされている、質量流量計測装置。
- 請求項1に記載の質量流量計測装置において、前記プローブは、前記側壁を通って前記流路内に延びる第1及び第2のプローブを含み、前記ヒーターエレメントは、前記第1及び第2のプローブに夫々固定された第1及び第2のヒーターエレメントを含む、質量流量計測装置。
- 請求項5に記載の質量流量計測装置において、前記第1及び第2のプローブのうちの一方が、前記流路内に、前記第1及び第2のプローブのうちの他方よりも大きく延びている、質量流量計測装置。
- 請求項5に記載の質量流量計測装置において、前記第1及び第2のプローブは、前記流路のほぼ同じ長さ方向位置に位置決めされている、質量流量計測装置。
- 請求項7に記載の質量流量計測装置において、前記第1プローブは、前記流路内で前記第2プローブと横方向に向き合って位置決めされている、質量流量計測装置。
- 請求項1に記載の質量流量計測装置において、
前記流路は、単一の入口を共有する第1及び第2の平行な流路を含み、前記第2流路は端壁によって閉鎖されており、
前記プローブは、前記第1流路内に延びる第1プローブ及び前記第2流路内に延びる第2プローブを含み、
前記ヒーターエレメントは、前記第1プローブに位置決めされた第1ヒーターエレメント及び前記第2プローブに位置決めされた第2ヒーターエレメントを含み、
前記シールは、前記第1流路を通って流れる流体が前記第1ヒーターエレメントと接触しないようにする第1シール及び前記第2流路を通って流れる流体が前記第2ヒーターエレメントと接触しないようにする第2シールを含む、質量流量計測装置。 - 請求項9に記載の質量流量計測装置において、前記シールは前記側壁と前記プローブとの間に設けられ、前記ヒーターエレメントは前記プローブの前記第2部分に固定される、質量流量計測装置。
- 請求項1に記載の質量流量計測装置において、前記流路は狭幅部分を含み、前記プローブは前記流路の前記狭幅部分内に延びる、質量流量計測装置。
- 請求項1に記載の質量流量計測装置を含む質量流量制御装置において、
前記質量流量計測装置を通る質量流量を制御するためのバルブ、及び
前記質量流量計測装置及び前記バルブに接続され、所望の流量を受け取り、この所望の流量を前記質量流量計測装置によって計測された実際の流量と比較し、実際の流量が所望の流量と等しくない場合、実際の流量が所望の流量と等しくなるまで前記バルブを作動するようにプログラムされたプロセッサを更に含む、質量流量制御装置。 - 質量流量を計測するための方法において、
チューブ状側壁で流路を画成することと、
第1部分が前記流路内に配置され且つ第2部分が前記側壁の外に延びるようにプローブを前記側壁を通して前記流路内に延ばすことと、
前記プローブの温度を監視することと、
ヒーターエレメントをプローブに固定することと、
前記プローブを一定温度に保持するように前記ヒーターエレメントにエネルギを提供することと、
前記ヒーターエレメントに提供されたエネルギの量を計測することと、
前記流路を通る質量流量を、少なくとも部分的に、前記ヒーターエレメントに提供されたエネルギに基づいて計算することと、
前記流路を通って流れる流体が前記ヒーターエレメントと接触しないようにするシールを提供することとを含む、方法。 - 請求項13に記載の方法において、前記シールは前記側壁と前記プローブとの間に設けられ、前記ヒーターエレメントは前記プローブの第2部分に固定される、方法。
- 請求項13に記載の方法において、前記ヒーターエレメントは、前記プローブの前記第2部分に固定された第1及び第2のヒーターエレメントを含み、前記第2ヒーターエレメントは、前記側壁から、前記第1ヒーターエレメントよりも遠くに位置決めされている、方法。
- 請求項13に記載の方法において、前記プローブは、前記側壁を通って前記流路内に延びる第1及び第2のプローブを含み、前記ヒーターエレメントは、前記第1及び第2のプローブに夫々固定された第1及び第2のヒーターエレメントを含む、方法。
- 請求項16に記載の方法において、前記第1及び第2のプローブの一方が、前記流路内に、前記第1及び第2のプローブのうちの他方よりも大きく延びている、方法。
- 請求項16に記載の方法において、前記第1及び第2のプローブは、前記流路内のほぼ同じ長さ方向位置のところに位置決めされている、方法。
- 請求項1に記載の方法において、
前記流路は、単一の入口を共有する第1及び第2の平行な流路を含み、前記第2流路は端壁によって閉鎖されており、
前記プローブは、前記第1流路内に延びる第1プローブ及び前記第2流路内に延びる第2プローブを含み、
前記ヒーターエレメントは、前記第1プローブに位置決めされた第1ヒーターエレメント及び前記第2プローブに位置決めされた第2ヒーターエレメントを含み、
前記シールは、前記第1流路を通って流れる流体が前記第1ヒーターエレメントと接触しないようにする第1シール及び前記第2流路を通って流れる流体が前記第2ヒーターエレメントと接触しないようにする第2シールを含む、方法。 - 請求項13に記載の方法において、前記流路は狭幅部分を含み、前記プローブは前記流路の前記狭幅部分内に延びる、方法。
- 請求項13に記載の方法において、前記プローブは、ステンレス鋼及びアルミニウムのうちの一方で形成されている、方法。
- 請求項13に記載の方法において、計測を受ける流体に対して多孔質の材料でできたプラグが前記流路に位置決めされ、前記プローブが前記多孔質材料内に延びている、方法。
- 請求項22に記載の方法において、前記プラグは、ステンレス鋼及びアルミニウムのうちの一方で形成されている、方法。
- 請求項1に記載の質量流量計測装置において、計測を受ける流体に対して多孔質の材料でできたプラグが前記流路に位置決めされ、前記プローブが前記多孔質材料内に延びている、質量流量計測装置。
- 請求項24に記載の質量流量計測装置において、前記プラグは、ステンレス鋼及びアルミニウムのうちの一方で形成されている、質量流量計測装置。
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