JP2006528731A - アークハンドリングによる高ピーク電力プラズマパルス電源 - Google Patents
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Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/626,330 US20040124077A1 (en) | 2002-09-25 | 2003-07-24 | High peak power plasma pulsed supply with arc handling |
PCT/US2004/023402 WO2005010228A2 (fr) | 2002-09-25 | 2004-07-20 | Alimentation pulsee pour plasma a puissance de crete elevee avec gestion d'arc |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006528731A true JP2006528731A (ja) | 2006-12-21 |
Family
ID=36168859
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006521202A Withdrawn JP2006528731A (ja) | 2003-07-24 | 2004-07-20 | アークハンドリングによる高ピーク電力プラズマパルス電源 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1654394A2 (fr) |
JP (1) | JP2006528731A (fr) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008084747A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Daihen Corp | プラズマ処理システムのアーク検出装置、アーク検出装置を実現するためのプログラム及び記憶媒体 |
JP2010512458A (ja) * | 2006-12-12 | 2010-04-22 | オーツェー・エリコン・バルザース・アーゲー | 高出力インパルス・マグネトロン・スパッタリング(hipims)を用いたrf基板バイアス |
JP2014503107A (ja) * | 2011-01-05 | 2014-02-06 | エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハ | 被覆装置中における放電検出 |
JP2014165437A (ja) * | 2013-02-27 | 2014-09-08 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
-
2004
- 2004-07-20 EP EP04778755A patent/EP1654394A2/fr not_active Withdrawn
- 2004-07-20 JP JP2006521202A patent/JP2006528731A/ja not_active Withdrawn
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2008084747A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Daihen Corp | プラズマ処理システムのアーク検出装置、アーク検出装置を実現するためのプログラム及び記憶媒体 |
US7915563B2 (en) | 2006-09-28 | 2011-03-29 | Daihen Corporation | Arc detector for plasma processing system |
JP2010512458A (ja) * | 2006-12-12 | 2010-04-22 | オーツェー・エリコン・バルザース・アーゲー | 高出力インパルス・マグネトロン・スパッタリング(hipims)を用いたrf基板バイアス |
JP2010512459A (ja) * | 2006-12-12 | 2010-04-22 | オーツェー・エリコン・バルザース・アーゲー | 高出力インパルス・マグネトロン・スパッタリング(hipims)におけるパルシング及びアーク抑制 |
JP2014503107A (ja) * | 2011-01-05 | 2014-02-06 | エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハ | 被覆装置中における放電検出 |
JP2014165437A (ja) * | 2013-02-27 | 2014-09-08 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
EP1654394A2 (fr) | 2006-05-10 |
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