JP2006521194A - スラリー処理 - Google Patents
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Abstract
本発明は、無機スラリー処理用組成物および本組成物を用いて無機スラリーを処理する方法に関し、該スラリーを実質的に均一な相中に保つ。本組成物はＴＨＰ＋塩ならびに：
（ｉ）少なくとも１つの３級窒素原子を含有するホスホン酸化化合物；
（ｉｉ）不飽和酸のホスホン酸化オリゴマー；
（ｉｉｉ）不飽和酸のホモポリマー；および
（ｉｖ）ポリリン酸
からなる群から選択される分散剤
を含む。該ＴＨＰ＋塩は、好ましくはＴＨＰＳである。
（ｉ）少なくとも１つの３級窒素原子を含有するホスホン酸化化合物；
（ｉｉ）不飽和酸のホスホン酸化オリゴマー；
（ｉｉｉ）不飽和酸のホモポリマー；および
（ｉｖ）ポリリン酸
からなる群から選択される分散剤
を含む。該ＴＨＰ＋塩は、好ましくはＴＨＰＳである。
Description
本発明は、無機スラリー処理用組成物に関し、該組成物を用いて無機スラリーを処理する方法にも関し、該スラリーを実質的に均一な相中に保つ。
本発明は、特に炭酸カルシウム主体のスラリーに言及して、この中でも特に製紙プロセスにおいて使用されるものに言及して、本明細書中において記載されるが、これに限定されるものとして解釈されるべきではない。
大部分の無機スラリーは、約７０重量％〜８０重量％の固形分を含有する。多くの無機スラリー、特に炭酸カルシウム主体のものは、バクテリアの混入に対して敏感であることが知られており、このような混入を最小限に抑えるために、該スラリーに１種以上の殺菌活性物質を加えることが、実施されてきた。
リン含有化合物、特にテトラキス（ヒドロキシ有機）ホスホニウム塩（ＴＨＰ＋塩）は、効果的な殺菌剤であることが知られている。本出願人により実施された実験作業によれば、例えば、炭酸カルシウム主体のスラリーへのテトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩（ＴＨＰＳ）溶液の添加により、バクテリア数が２時間で１０４個に抑えられるようになることが、示されている。
しかしながら、スラリーへのＴＨＰＳのみの添加が結果的に、該スラリーの瞬時の不均一な濃縮および凝集を引き起こすことも、知られている。
本出願人は、ＴＨＰ＋塩および分散剤を含む組成物の使用が、バクテリアの混入に対する継続的な保存性を提供することを見出したが、一方同時に、該スラリーは実質的に均一な相中に保たれる。
従って、第１の態様において、本発明は無機スラリー処理用組成物を提供し、本組成物は：（ａ）テトラキス（ヒドロキシ有機）ホスホニウム塩（以降ＴＨＰ＋塩）；ならびに
（ｂ）（ｉ）少なくとも１つの３級窒素原子を含有するホスホン酸化化合物；
（ｉｉ）不飽和酸のホスホン酸化オリゴマー；
（ｉｉｉ）不飽和酸のホモポリマー；および
（ｉｖ）ポリリン酸
からなる群から選択される分散剤
を含む。
（ｂ）（ｉ）少なくとも１つの３級窒素原子を含有するホスホン酸化化合物；
（ｉｉ）不飽和酸のホスホン酸化オリゴマー；
（ｉｉｉ）不飽和酸のホモポリマー；および
（ｉｖ）ポリリン酸
からなる群から選択される分散剤
を含む。
本発明によれば、該ＴＨＰ＋塩は、好ましくはテトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩である。
あるいは、該ＴＨＰ＋塩は、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム塩酸塩、同リン酸塩、同硝酸塩、または同蓚酸塩であってもよい。
（ｂ）（ｉ）タイプの分散剤の好ましい例は、ニトリロトリス（メチレンリン酸）のナトリウム塩、特に四ナトリウム塩のような、１つの３級窒素原子を持つ化合物である。
（ｂ）（ｉｉ）タイプの分散剤の好ましい例は、一般式Ｈ（ＣＨ２ＯＭ．ＣＨ２ＯＭ）ｎＰＯ３Ｍ２を持つオリゴマーであるものを包含し、式中、Ｍが、該オリゴマーが水に溶けるようなカチオン種であり、ｎが、１より大きな数である。
他の適切なオリゴマーは、本出願人の欧州特許第０ ４９１ ３９１号明細書に開示されるものである。
（ｂ）（ｉｉｉ）タイプの分散剤の好ましい例は、アクリル酸ホモポリマーであり、特に２０００〜５０００の範囲の分子量を持つホモポリマーである。
（ｂ）（ｉｖ）タイプの分散剤の好ましい例は、トリポリリン酸ナトリウムを包含する。
第２の態様において、本発明は無機スラリー処理方法を提供し、該スラリーを実質的に均一な相中に保ち、本方法は、本発明の第１の態様による組成物の有効量の、該スラリーへの添加を含む。
該無機スラリーは例えば、炭酸カルシウム主体のスラリーを含んでよい。
あるいは、該無機スラリーは、顔料スラリー、粘土スラリー、またはセメントスラリーを含んでよい。
好ましくは、前記組成物中における分散剤に対するＴＨＰ＋塩の比は（活性成分として）約２：１である。
適切には、該組成物は、該スラリー重量に基づいて１０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍの範囲の量、例えば、該スラリー重量に基づいて約７５０ｐｐｍにて、該スラリーへと加えられてよい。
本発明を、以下の実施例により、例示する。
これら実施例において、Ｓｅｔａｃａｒｂとして商業上知られている７５％炭酸カルシウムスラリーを：
実施例１：ＴＨＰ＋塩のみ
実施例２：ＴＨＰ＋塩および（ｂ）（ｉ）タイプの分散剤
実施例３：ＴＨＰ＋塩および（ｂ）（ｉｉ）タイプの分散剤
を用いて、処理した。
実施例１：ＴＨＰ＋塩のみ
実施例２：ＴＨＰ＋塩および（ｂ）（ｉ）タイプの分散剤
実施例３：ＴＨＰ＋塩および（ｂ）（ｉｉ）タイプの分散剤
を用いて、処理した。
使用された各添加剤の量およびその結果を、以下の表に記す。
表の注釈
（ａ）テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩水溶液（約７５％）、ＴＯＬＣＩＤＥ（登録商標）−ＰＳ７５として市販。
（ｂ）（ｉ）ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）四ナトリウム塩水溶液、ＢＲＩＱＵＥＳＴ（登録商標）３０１−３２Ｓとして市販。
（ｂ）（ｉｉ）ポリアクリル酸ホモポリマー、分子量２０００〜５０００、ＢＥＶＡＬＯＩＤ（登録商標）２１１として市販。
（ａ）テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩水溶液（約７５％）、ＴＯＬＣＩＤＥ（登録商標）−ＰＳ７５として市販。
（ｂ）（ｉ）ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）四ナトリウム塩水溶液、ＢＲＩＱＵＥＳＴ（登録商標）３０１−３２Ｓとして市販。
（ｂ）（ｉｉ）ポリアクリル酸ホモポリマー、分子量２０００〜５０００、ＢＥＶＡＬＯＩＤ（登録商標）２１１として市販。
Claims (18)
- （ａ）テトラキス（ヒドロキシ有機）ホスホニウム塩（以降ＴＨＰ＋塩）；ならびに
（ｂ）（ｉ）少なくとも１つの３級窒素原子を含有するホスホン酸化化合物；
（ｉｉ）不飽和酸のホスホン酸化オリゴマー；
（ｉｉｉ）不飽和酸のホモポリマー；および
（ｉｖ）ポリリン酸
からなる群から選択される分散剤
を含む、無機スラリー処理用組成物。 - 前記ＴＨＰ＋塩が、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩である、請求項１に記載の組成物。
- 前記ＴＨＰ＋塩が、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム塩酸塩、同リン酸塩、同硝酸塩、または同蓚酸塩である、請求項１に記載の組成物。
- 分散剤（ｂ（ｉ））が、１つの３級窒素原子を含有するホスホン酸化化合物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
- 分散剤（ｂ（ｉ））が、ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）のナトリウム塩である、請求項４に記載の組成物。
- 前記塩が、四ナトリウム塩である、請求項５に記載の組成物。
- 分散剤（ｂ（ｉｉ））が、マレイン酸のホスホン酸化オリゴマーである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
- 前記オリゴマーが、一般式Ｈ（ＣＨ２ＯＭ．ＣＨ２ＯＭ）ｎＰＯ３Ｍ２を持ち、式中、Ｍが、該オリゴマーが水に溶けるようなカチオン種であり、ｎが、１より大きな数である、請求項７に記載の組成物。
- 分散剤（ｂ（ｉｉｉ））が、アクリル酸のホモポリマーである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
- 前記ホモポリマーが、２０００〜５０００の範囲の分子量を持つ、請求項９に記載の組成物。
- 分散剤（ｂ（ｉｖ））が、ナトリウムトリポリリン酸である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
- 無機スラリー処理方法であって、該スラリーを実質的に均一な相中に保ち、該スラリーへの請求項１〜１１のいずれか１項に記載の組成物の有効量の添加を含む方法。
- 前記組成物中における分散剤に対するＴＨＰ＋塩の比が（活性成分として）約２：１である、請求項１２に記載の方法。
- 前記組成物が、前記スラリー重量に基づいて１０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍの範囲の量にて、該スラリーへと加えられる、請求項１２または１３に記載の方法。
- 前記組成物が、前記スラリー重量に基づいて約７５０ｐｐｍの量にて、該スラリーへと加えられる、請求項１４に記載の方法。
- 前記スラリーが、炭酸カルシウム主体のスラリーを含む、請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の方法。
- 前記スラリーが、顔料スラリー、粘土スラリー、またはセメントスラリーを含む、請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の方法。
- 実施例に関連して本明細書中において実質的に記載される、無機スラリー処理方法。
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