JP2006518878A - フォトレジスト組成物の選択的溶解速度の制御方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願について、2003年2月24日に出願した米国仮出願番号60/449,785の米国特許法第119条に基づく優先権の利益を主張する。
本発明は、一般的にはフォトレジスト組成物を形成する際に使用するポリマーの溶解速度を制御すること、より具体的にはフォトレジスト組成物中のポリマーの溶解速度を制御するためのシクロアルキル反復単位を有するポリマーおよびその組成物に関する。
フォトレジストは、その中に形成された像を下層またはサブストレートに移すために使用される感光性フィルムである。フォトレジストの層は、サブストレートおよび一般的に像を移すべき材料の層を覆って形成される。フォトレジスト層は、その後フォトマスクを通して活性線源に露光され、ここでフォトマスクは、当該活性線が不透過であるいくらかの領域と透過するその他の領域を有する。光誘起性化学変換により、そこにレリーフ像が現像されることとなる活性線に露光した領域が生じる。
ノルボルネン誘導体(以下、多環式オレフィン樹脂の形成に有用なモノマーと称す)の調製により、一般に形成されるエキソ異性体およびエンド異性体の混合物が得られる(図1を参照のこと)。一般に、本発明の態様において有用なモノマーの合成による反応混合物の精製には分別蒸留法が含まれる。当該蒸留法により回収される異なるフラクションにおいては、前述のエキソ異性体およびエンド異性体の比が異なっていることが観察される(図2を参照のこと)。そのような異性体比の差異が、当該異なるフラクションから形成されるポリマーの性質にどのような影響を及ぼすかを知るために、いくつかのフラクションの各々のホモポリマーを形成した。
により示される。文献および当該技術分野において知られたいかなる既知の酸に不安定な基も、例えば本明細書で式Aについて記載した発明などの本発明において利用されうる。
により表される。より具体的には、式A1に合致する酸に不安定な保護されたペンダント基を含むモノマーの例には、
さらに、式Aに合致するノルボルネン型モノマーは以下の式A2:
により表される。式A2に合致する例示的なノルボルネン型モノマーには、
本発明のある実施態様には、架橋可能なペンダント基を含むノルボルネン型モノマーに由来する繰り返し単位が含まれる。当該モノマーは以下の式B:
により表される。限定はされないが、好適な架橋可能な官能基には、式I:
−A−O−[−(CR** 2)q−O−]p−(CR** 2)q−OH 式I
[式中、AはC1〜C6の直鎖、分枝または環状アルキレンから選択される連結基であり、各所に示されるR**は、独立にH、メチルおよびエチルから選択され、qは独立に1〜5(ある場合には2〜5)の整数であり、およびpは0〜3の整数である]
のヒドロキシアルキルエーテルである。
−R***−Q 式II
−(CH2)nC(O)OR# 式III
−(CH2)t−C(CF3)2−O−(CH2)t−CO−(OR##) 式IV
[式IIにおいて、R***は直鎖、分枝または環状C1〜C30アルキレン、アリーレン、アラルキレン、アルカリーレン、アルケニレンまたはアルキニレン連結基であり、これらは一部がまたは完全にハロゲン化されていてもよく、Qは、ヒドロキシ、カルボン酸、アミン、チオール、イソシアネートおよびエポキシから選択される官能基である。式IIIにおいて、nは以前に定義したとおりであり、R#は光酸発生剤により開裂可能な酸に不安定な基である。最後に式IVに関して、各所に示されるtは、独立に1〜6の整数であり、R##はC1−C6直鎖または分子アルキル部分であり、ある場合においてt−ブチル基である。]
により表される。
で表される。例示的な脂環式部分には、限定はされないが、1−アダマンチルおよび1−ノルボルニル部分と同様に、無置換のシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基が含まれる。さらに、R9、R10、R11およびR12は、各々独立に、式I:
−A−O−[−(CR** 2)q−O−]p−(CR** 2)q−OH 式I
[式中、Aおよびqは前に定義されたとおりであるが、R**はハロゲンから選択される]
により表される中性置換基から選択されてもよい。
α,α−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−エタノール((HFANB)80.0g、0.292mol、エンド/エキソ比は44/56)、N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート((DANFABA)0.0468g、0.0584gmMol)および合計容積が200mLとなる量のトルエンをガラス耐圧反応容器に加えた。混合物を80℃に加熱した。圧を軽減し、パラジウム触媒、パラジウム ビス(ジイソプロピルフェニルホスフィン)ジアセテート(0.0071g、0.012mMol)を加えた。反応容器をすぐに水素ガス(90psig)で再加圧し、18時間反応させた。反応混合物を冷却し、その後0.22ミクロンテフロン(登録商標)フィルターで濾過し、黒色のパラジウム金属を取り除いた。得られた濾液をヘプタンに加え、ポリマーを白色粉末として析出させた。粉末を濾過により回収し、減圧オーブン中90℃で乾燥した。収量52.5g(66%)。Mw=11,300;Mn=5440。
HFANB(19.2g、0.701mol、エンド/エキソ比は70/30)、DANFABA(0.0112g、0.0140mMol)および合計容積が47mLとなる量のトルエンをガラス耐圧反応容器に加えた。反応容器に17psigのエチレンを充填し、その後80℃に加熱した。圧力を軽減し、パラジウム触媒、パラジウム ビス(ジイソプロピルフェニルホスフィン)ジアセテート(メチレンクロリド中の0.93mMol溶液を3mL)を加えた。反応容器をすぐにエチレン(17psig)で再加圧し、20時間反応させた。反応混合物を冷却し、過剰のヘキサンを加えポリマーを析出させた。ポリマーを濾過で回収し、減圧オーブン中で80℃で乾燥した。収量9.5g(50%)。
エチレンの圧を5psigとしたことを除いて実施例2を繰り返した。収量11.4g(59%)。実施例2と同様に、ポリマーを氷酢酸および過酸化水素で処理した。収量10.5g。Mw=12900;Mn=5930。
実施例3と同じ方法で実施例3、4および5を行ったが、異なる分子量にするために異なる濃度のエチレンを用いた。収量は以下の表1に示す。実施例3と同様に、ポリマーを氷酢酸および過酸化水素で処理した。ポリマーの分子量は以下の表1に示す。
HFANB(19.2g、0.701mol、エンド/エキソ比は70/30)、DANFABA(0.0112g、0.0140mMol)および合計容積が47mLとなる量のトルエンをガラス耐圧反応容器に加えた。混合物に水素ガス(90psig)を充填した。反応混合物を80℃に加熱した。圧力を軽減し、パラジウム触媒、パラジウム ビス(ジイソプロピルフェニルホスフィン)ジアセテート(メチレンクロリド中の0.93mMol溶液を3mL)を加えた。反応容器をすぐに水素(90psig)で再加圧し、18時間反応させた。反応混合物を冷却し、その後22ミクロンのテフロン(登録商標)フィルターを通して濾過した。得られた濾液をヘプタンに加え白色粉末としてポリマーを析出させた。粉末を濾過で回収し、減圧オーブン中で80℃で乾燥した。収量11.6g(61%)。Mw=17,860;Mn=7270。
90psigの水素で反応容器を加圧する前に反応混合物に水素で15分間スパージ(sparge)したことを除いて、実施例7を繰り返した。収量9.95g(52%)。Mw=7900;Mn=4150。
モノマーのエンド/エキソ比が85/15であったことを除いて、実施例1を繰り返した。ポリマーはヘキサン中での析出により単離された。収量65.1g(80%)。Mw=8870;Mn=4880。
モノマーのエンド/エキソ比が85/15であったこと、および水素の圧力が50psigであったことを除いて、実施例9を繰り返した。ポリマーはヘキサン中での析出により単離された。収量60.6g(76%)。Mw=13600;Mn=5700。
モノマーのエンド/エキソ比が85/15であったこと、および水素の圧力が50psigであったことを除いて、実施例9を繰り返した。ポリマーはヘキサン中での析出により単離された。収量61.9g(77%)。Mw=11600;Mn=5820。
HFANB(40.0g、0.146mol、エンド/エキソ比は90/10)、DANFABA(0.0351g、0.0438mMol)、トリエチルシラン(2.31mL、14.4mMol)、エタノール(0.940mL,16.2mMol)、およびトルエン(68mL)をガラスバイアルに加えた。ボトルにセプタムで栓をし、混合物に窒素で15分間スパージした。その後混合物を80℃で加熱し、触媒、[パラジウム ビス(トリイソプロピルホスフィン)(アセトニトリル)(アセテート)][テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート](0.017g、0.0146mMol)を最小量の1,2−ジクロロエタンで加えた。混合物を18時間で反応させた。反応混合物を冷却し、ヘプタンに加え白色粉末としてポリマーを析出させた。粉末を濾過で回収し、ヘプタンで洗浄し、減圧オーブン中で100℃で乾燥した。収量30.7g(77%)。ポリマーをトルエン中に再溶解し、ヘプタン中で再度析出させ、濾過し、減圧オーブン中で100℃で乾燥した。Mw=4670;Mn=3120。
0.28mL(0.177mol)のトリエチルシランのみを使用したことを除いて、実施例12を繰り返した。収量および分子量は以下の表1に示す。
1.1mL(0.0069mol)のトリエチルシランを使用したことを除いて、実施例12を繰り返した。収量および分子量は以下の表1に示す。
0.55mL(0.0034mol)のトリエチルシランのみを使用したことを除いて、実施例12を繰り返した。収量および分子量は以下の表1に示す。
HFANB(100g、0.365mol、エンド/エキソ比は78/22)、DANFABA(0.088g、0.110mMol)、トリエチルシラン(5.8mL、36mMol)、エタノール(2.3mL,40mMol)、およびトルエン(171mL)をガラスバイアルに加えた。バイアルにセプタムで栓をし、80℃で加熱し、触媒、[パラジウム ビス(トリイソプロピルホスフィン)(アセトニトリル)(アセテート)][テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート](メチレンクロリド中の0.0025M溶液を1.0mL)を加えた。混合物を18時間で反応させた。反応混合物を冷却し、少量のアセトンを加え、溶液の粘度を低下させた。反応混合物を10倍過剰量のヘキサンに加え、ポリマーを白色粉末として析出させた。粉末を濾過により回収し、減圧オーブン中で90℃で乾燥した。収量30.1g(73%)。Mw=5350;Mn=3270。
3.1mL(19mMol)のトリエチルシランを使用したことを除いて、実施例16を繰り返した。収量および分子量は以下の表1に示す。
1.8mL(11mMol)のトリエチルシランを使用したことを除いて、実施例16を繰り返した。収量および分子量は以下の表1に示す。
1.2mL(7.5mMol)のトリエチルシランを使用したことを除いて、実施例16を繰り返した。収量および分子量は以下の表1に示す。
0.89mL(5.6mMol)のトリエチルシランを使用したことを除いて、実施例16を繰り返した。収量および分子量は以下の表1に示す。
HFANB(41.1g、0.150mol、エンド/エキソ比は58/42)、DANFABA(メチレンクロリド中の0.0075M溶液を1.0mL)、トリエチルシラン(1.73g、0.0148mMol)、エタノール(0.77mL,0.017mMol)、および合計容積が100mLとなる量のトルエンをガラスバイアルに加えた。反応混合物を80℃で加熱した。パラジウム触媒、ビス(ジイソプロピルフェニルホスフィン)ジアセテート(メチレンクロリド中の0.0025M溶液を1mL)をモノマー溶液に加えた。18時間後、反応混合物を冷却し、その後ヘキサンに加え、白色粉末としてポリマーを析出させた。ポリマーを濾過により回収し、減圧オーブンで90℃で乾燥した。収量30.2g(73%)。Mw=5770;Mn=3560。
0.54mL(4.6mMol)のトリエチルシランを使用したことを除いて、実施例21を繰り返した。収量および分子量は以下の表1に示す。
0.27mL(2.3mMol)のトリエチルシランを使用したことを除いて、実施例21を繰り返した。収量および分子量は以下の表1に示す。
HFANB(51.0g、0.186mol、エンド/エキソ比は90:10)、5−ノルボルネン−2−ヒドロキシエチルエーテル((HEENB)2.36g、0.0140mol)、トリエチルシラン(2.58g、0.0222mMol)、エタノール(1.02g,0.0222mMol)、および合計容積が133mLとなる量のトルエンをガラスバイアルに加えた。反応混合物を80℃で加熱した。DANFABA(メチレンクロリド中の0.06M溶液を1.0mL)および[パラジウム ビス(トリイソプロピルホスフィン)(アセトニトリル)(アセテート)][テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート](メチレンクロリド中の0.02M溶液を1.0mL)を加えた。18時間後、反応混合物を冷却し、その後40mLのアンバーライトGT−73(Rohm and Haas)およびDiaion CRBO2(Mitsubishi Chemical)樹脂ビーズに加えた。このスラリーを一晩振盪した。樹脂ビーズを濾過により取り除き、無色の濾液を得た。濾液をロータリーエバポレーションで濃縮し、その後10倍容量のヘキサンに加え、ポリマーを析出させた。ポリマーを濾過により回収し、減圧オーブンで90℃で乾燥した。収率24.6g(46%)。Mw=4610;Mn=3260。HFANB:HEENBのモル比は、13C−NMR測定により88:12であることを確認した。
モノマーのエンド/エキソ比が70:30であることを除いて、実施例24を繰り返した。収量19.9g(37%)。Mw=6740;Mn=4580。HFANB:HEENBのモル比は、13C−NMR測定により86:14であることを確認した。
モノマーのエンド/エキソ比が58:42であることを除いて、実施例24を繰り返した。収量20.9g(39%)。Mw=7140;Mn=4590。HFANB:HEENBのモル比は、13C−NMR測定により87:13であることを確認した。
実施例1〜23のいくつかのポリマーから形成されたポリマーフィルムの水系現像液における溶解速度論を検討するために、水晶振動子微量天秤(QCM)を使用した。この検討に使用した水晶振動子は、約5MHzの固有振動数を有した。Maxtek TPS−550センサープローブおよびPI−70ドライバーを、Phillips PM6654プログラマブル高解像度周波数カウンタおよびIBM PCに接続して使用した。特注のLabViewソフトウエアプログラムにより装置を制御し、データを収集した。ポリマーをポリエチレングリコールメチルエーテルアセテート(1/5 wt/wt)に溶解し、溶液を0.2μmで濾過した。ポリマーフィルムを1”石英ディスク上に回転成形により調製し、60秒間130℃で焼成し、その後被覆されたディスクをQCMプローブに装着した。0.26Nテトラメチルアンモニウム ヒドロキシド(TMAH)(CD−26)中で、ポリマーの溶解は、大体時間に対して直線であり、厚さ−現像時間のプロットの傾きから速度(Å/秒)を計算することが可能であった。
実施例24、25および26のコポリマーを、固形分が20〜25%の量となるようPGMEAに溶解した。
溶解速度測定は、反射率測定型溶解速度モニターを使用して行い、特注のLab−Viewシステムを使用し、単一波長対時間、干渉分光計データを使用してデータ回収および制御を行った。現像液は水性テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(Shipley、TMAH2.38%)であった。サンプルはパドル法により現像し、その際、現像液のアリコートをフィルム上にのせ、時間に対するフィルムの厚みを測定した。厚さ対時間のプロットの直線の傾きから溶解速度が得られ、Å/秒で表された。この測定の結果を表2に示す。
ポリ(t−ブチル 2−トリフルオロメチルアクリレート−コ−5−[(1,1’,1’−トリフルオロ−2’−トリフルオロメチル−2’−ヒドロキシ)プロピル]ノルボルナン−2−イルビニルエーテル)(P(TBTFMA−VENBHFA)コポリマー)およびHFANBホモポリマー(1/1 wt/wt)(実施例12、15、16、19、21および23)を、各々同量をプロピレングリコールメチルエーテルアセテートに溶解することによりブレンドし、10重量%ポリマー溶液を作成した。ジ−t−ブチルフェニルヨードニウム パーフルオロオクタンスルホネート(4%)およびテトラブチルアンモニウムヒドロキシド(0.15%)をポリマー溶液に加えた。溶液を濾過した(0.2μm)。その後溶液をスピンキャストし、得られたフィルムを130℃で60秒間焼成し、クロム・オン・グラスのバイナリーマスクを通して、193nmの放射に露光させ、露光後、130℃で90秒間焼成し、その後購入可能な0.26Nテトラメチルアンモニウムヒドロキシド溶液で現像した。
表2
Claims (3)
- 望ましいエキソモルパーセントを有する1以上の繰り返し単位の多環式オレフィン誘導型を含むフォトレジスト組成物。
- 望ましいエキソモルパーセントを有する多環式オレフィンから誘導された繰り返し単位を含むポリマー樹脂を提供することを含む、フォトレジスト組成物のイメージング性能を向上させる方法。
- 望ましいエキソモルパーセントを有する多環式オレフィンから誘導された繰り返し単位を含む、フォトレジスト組成物用のポリマー樹脂を提供することを含む、フォトレジスト組成物の選択的溶解速度の制御方法。
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