JP2006351725A - 圧電アクチュエータ、圧電アクチュエータの製造方法及び液体吐出ヘッド - Google Patents
圧電アクチュエータ、圧電アクチュエータの製造方法及び液体吐出ヘッド Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 基板ホルダ84には、圧電膜が成膜される基材82が載置される。基板ホルダ84は、基板ホルダ駆動部86によって駆動され、基材82とターゲット材96とのなす角度θが可変になっている。また、基板ホルダ84は、基板ホルダ駆動部86によって、ターゲット材96に対して略垂直な回転軸AX周りに回転可能となっている。これにより、柱状の結晶体が集まった構造の圧電膜を成膜する際に、結晶体の基材82に対する傾斜角を制御できる。
【選択図】 図4
Description
Claims (10)
- 基材と、
前記基材上に形成された柱状の結晶体を含む圧電膜であって、前記結晶体の長さ方向に沿う直線と前記基材の法線とのなす角が0°より大きく、90°以下の所定の角度である圧電膜と、
を備えることを特徴とする圧電アクチュエータ。 - 前記圧電膜は、前記基材の法線方向に所定の角度以上の傾きを有する柱状の結晶体を含む複数の層から構成されており、前記複数の層の各結晶体の長さ方向に沿う直線と前記基材の法線とによって張られる平面が、前記複数の層のうち少なくとも2つの層の間において所定の角度以上を有することを特徴とする請求項1記載の圧電アクチュエータ。
- 基材と、
柱状の結晶体を含む複数の層から構成される圧電膜であって、前記結晶体の長さ方向に沿う直線と前記基材の法線とのなす角が、前記複数の層のうち少なくとも2つの層の間において異なる圧電膜と、
を備えることを特徴とする圧電アクチュエータ。 - 前記圧電膜は、前記基材上にスパッタ法、蒸着法、MOCVD法又はゾル・ゲル法によって成膜されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項記載の圧電アクチュエータ。
- 前記所定の角度は、45°以下であることを特徴とする請求項4記載の圧電アクチュエータ。
- 請求項1から5のいずれか1項記載の圧電アクチュエータを備えることを特徴とする液体吐出ヘッド。
- (a) 基材と、圧電体材料からなるターゲット材とのなす角が0°より大きく、90°以下の所定の角度となるように保持するステップと、
(b) 前記ターゲット材をスパッタして、前記基材上に前記圧電体材料を堆積させ、膜を成膜するステップと、
を備えることを特徴とする圧電アクチュエータの製造方法。 - (a) 基材と、圧電体材料からなるターゲット材とのなす角が0°より大きく、90°以下の所定の角度となるように保持するステップと、
(b) 前記ターゲット材をスパッタして、前記基材上に前記圧電体材料を堆積させ、膜を成膜するステップと、
(c) 前記基材と前記ターゲット材とを相対的に回転させるステップと、
(d) 前記ステップ(b)から(c)を繰り返して、前記基材上に複数の層からなる圧電膜を成膜するステップと、
を備えることを特徴とする圧電アクチュエータの製造方法。 - (a) 基材と、圧電体材料からなるターゲット材とのなす角が0°より大きく、90°以下の所定の角度となるように保持するステップと、
(b) 前記ターゲット材をスパッタして、前記基材上に前記圧電体材料を堆積させ、膜を成膜するステップと、
(c) 基材及び圧電体材料からなるターゲット材のなす角を変更するステップと、
(d) 前記ステップ(b)から(c)を繰り返して、前記基材上に複数の層からなる圧電膜を成膜するステップと、
を備えることを特徴とする圧電アクチュエータの製造方法。 - (a) 第1の基材上に柱状の結晶体を含む圧電膜を形成するステップと、
(b) 前記圧電膜を前記第1の基材上から剥離するステップと、
(c) 前記圧電膜に含まれる結晶体の長さ方向に対して0°より大きく、90°以下の所定の角度をなす平面に沿って前記圧電膜を切断又は研磨するステップと、
(d) 前記切断又は研磨された圧電膜を第2の基材上に貼り付けるステップと、
を備えることを特徴とする圧電アクチュエータの製造方法。
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