JP2006344721A - Semiconductor apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体チップに搭載されると共に、半導体チップの温度を検出する半導体装置に関する。 The present invention relates to a semiconductor device that is mounted on a semiconductor chip and detects the temperature of the semiconductor chip.
従来より、例えば電気自動車等のモータをインバータ装置で駆動する場合、複数の半導体素子が並列接続されて構成されるインバータ回路に過電流が流れると、半導体素子の温度が上昇して半導体素子が破壊に至るおそれがある。このため、半導体素子の破壊が起こる前に、半導体素子をカットオフさせるなどして、半導体素子の保護を行う必要がある。そこで、半導体素子の温度をそれぞれ検出し、半導体素子を保護するようにした温度検出装置が提案されている(例えば、特許文献1参照)。 Conventionally, for example, when a motor such as an electric vehicle is driven by an inverter device, when an overcurrent flows through an inverter circuit configured by connecting a plurality of semiconductor elements in parallel, the temperature of the semiconductor elements rises and the semiconductor elements are destroyed. There is a risk of reaching. For this reason, it is necessary to protect the semiconductor element by cutting off the semiconductor element before the semiconductor element is destroyed. Thus, a temperature detection device has been proposed in which the temperature of each semiconductor element is detected and the semiconductor element is protected (see, for example, Patent Document 1).
このような温度検出装置において各半導体素子の温度を検出するため、半導体素子に温度検出用ダイオード(以下、感温ダイオードという)がそれぞれ設けられている。この感温ダイオードは半導体素子の近傍にそれぞれ配置されており、抵抗がそれぞれ直列に接続されて温度検出素子が構成されている。この抵抗は、複数の半導体素子のうちの1つが高温になった場合でも、その半導体素子に配置された温度検出素子に、定電流源からの電流が集中して流れることを防止するためのものである。そして、定電流源から温度検出素子に定電流が供給されるようになっている。 In such a temperature detection device, in order to detect the temperature of each semiconductor element, a temperature detection diode (hereinafter referred to as a temperature sensitive diode) is provided in the semiconductor element. The temperature sensitive diodes are arranged in the vicinity of the semiconductor element, and resistors are connected in series to form a temperature detecting element. This resistor is used to prevent the current from the constant current source from flowing in a concentrated manner to the temperature detection element arranged in the semiconductor element even when one of the plurality of semiconductor elements becomes high temperature. It is. A constant current is supplied from the constant current source to the temperature detecting element.
また、温度検出装置には、感温ダイオードの順方向電圧が温度に応じて変化することを利用して感温ダイオードの温度を検出する温度検出回路が備えられている。具体的には、各温度検出素子の接続点の電圧、すなわち並列接続された温度検出素子の出力電圧Tが温度検出回路に入力され、この出力電圧Tが所定温度を示す基準電圧と比較される。そして、出力電圧Tが基準電圧を超えると判定されると、温度検出回路から半導体素子の温度を示す信号が出力される。 In addition, the temperature detection device is provided with a temperature detection circuit that detects the temperature of the temperature sensing diode by utilizing the fact that the forward voltage of the temperature sensing diode changes according to the temperature. Specifically, the voltage at the connection point of each temperature detection element, that is, the output voltage T of the temperature detection element connected in parallel, is input to the temperature detection circuit, and this output voltage T is compared with a reference voltage indicating a predetermined temperature. . When the output voltage T is determined to exceed the reference voltage, a signal indicating the temperature of the semiconductor element is output from the temperature detection circuit.
以上のような構成および作動により、半導体素子の温度に応じて半導体素子が破壊されない処理を行うことができるようになっている。
しかしながら、上記従来の技術では、複数の製品において、各感温ダイオードの順方向電圧VFにばらつきが存在するが、各感温ダイオードに直列接続させた抵抗の抵抗値を各製品に対してそれぞれ同じ値に固定しているため、各感温ダイオードの順方向電圧VFのばらつきに応じて各製品の各抵抗の抵抗値をそれぞれ調整することができない。これにより、以下のような問題が生じる。 However, in the above-described conventional technology, there are variations in the forward voltage VF of each temperature sensing diode among a plurality of products, but the resistance value of the resistor connected in series with each temperature sensing diode is the same for each product. Since the value is fixed, the resistance value of each resistor of each product cannot be adjusted according to the variation in the forward voltage VF of each temperature sensitive diode. This causes the following problems.
すなわち、感温ダイオードの順方向電圧VFが例えば0.6Vのとき、半導体素子の温度が例えば100℃であったとしても、感温ダイオードそれぞれの順方向電圧VFにばらつきがある(図2参照)。このため、各感温ダイオードの順方向電圧VFがそれぞれ0.6Vであったとしても、それぞれ検出される半導体素子の温度に例えば100±25℃のばらつきが生じてしまう。 That is, when the forward voltage VF of the temperature sensing diode is 0.6 V, for example, even if the temperature of the semiconductor element is 100 ° C., for example, the forward voltage VF of each temperature sensing diode varies (see FIG. 2). . For this reason, even if the forward voltage VF of each temperature-sensitive diode is 0.6 V, the detected temperature of the semiconductor element will vary by, for example, 100 ± 25 ° C.
そして、上述のように、感温ダイオードの順方向電圧VFの電圧値に応じて半導体素子の温度を検出している。このため、複数の各製品に対し、感温ダイオードの順方向電圧VFが例えば0.6Vのとき、すなわち半導体素子の温度が100℃なったときに半導体素子を動作停止させるようにそれぞれ設定する。しかしながら、半導体素子の温度が75℃であっても各製品のうちいずれかの感温ダイオードの順方向電圧VFが0.6Vになってしまうため、その製品の半導体素子は100℃になる前に75℃になった時点で動作停止してしまうのである。また、他の製品に設置された感温ダイオードでは、半導体素子の温度が例えば110℃で順方向電圧VFが0.6Vになると、半導体素子の温度が110℃で動作停止するという場合も生じる。 As described above, the temperature of the semiconductor element is detected according to the voltage value of the forward voltage VF of the temperature sensitive diode. Therefore, for each of the plurality of products, the semiconductor element is set to stop operating when the forward voltage VF of the temperature sensitive diode is 0.6 V, for example, when the temperature of the semiconductor element reaches 100 ° C. However, even if the temperature of the semiconductor element is 75 ° C., the forward voltage VF of any one of the temperature-sensitive diodes becomes 0.6V. The operation stops when the temperature reaches 75 ° C. Further, in a temperature sensitive diode installed in another product, when the temperature of the semiconductor element is 110 ° C. and the forward voltage VF becomes 0.6V, for example, the operation may stop at the temperature of the semiconductor element of 110 ° C.
このように、従来の技術では、各感温ダイオードの順方向電圧VFのばらつきによって、半導体素子をそれぞれ装備した複数の製品によって半導体素子が動作停止する温度がそれぞれ異なってしまい、複数の製品において同一の温度で半導体素子をそれぞれ動作停止させることができなかった。 As described above, in the conventional technology, due to variations in the forward voltage VF of each temperature-sensitive diode, the temperature at which the semiconductor element stops operating differs depending on the plurality of products each equipped with the semiconductor element. It was not possible to stop the operation of each of the semiconductor elements at the temperature of.
なお、半導体素子の外部に抵抗を設け、この抵抗を付け替えることで抵抗値の調整を行うようにすることが考えられる。しかしながら、半導体素子と回路とを組み合わせてから、再度、半導体素子の特性を測定して抵抗の抵抗値を決定し、抵抗を付け替えるという工程が増えてしまい、好ましくない。 It is conceivable to provide a resistor outside the semiconductor element and adjust the resistance value by changing the resistor. However, it is not preferable because a step of measuring the characteristics of the semiconductor element again to determine the resistance value of the resistor after the combination of the semiconductor element and the circuit and changing the resistance is increased.
本発明は、上記点に鑑み、感温ダイオードの順方向電圧の値に応じて半導体素子の温度を検出する半導体装置において、感温ダイオードの順方向電圧VFのばらつきを半導体装置ごとに低減させることを目的とする。 In view of the above points, the present invention reduces variations in the forward voltage VF of a temperature-sensitive diode for each semiconductor device in a semiconductor device that detects the temperature of the semiconductor element according to the value of the forward voltage of the temperature-sensitive diode. With the goal.
上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、温度検出素子に対して直列接続される抵抗(31〜34、36a〜36c、37a〜37c、38a〜38c、210、220)が設けられ、温度検出素子および抵抗の両端の間の電圧が所望の範囲内となるように抵抗の抵抗値が調整されるようになっていることを特徴としている。
In order to achieve the above object, the invention according to
このように、温度検出素子に抵抗を直列接続し、温度検出素子および抵抗の両端の間の電圧が所望の範囲内になるように抵抗値を調整する。これにより、各半導体装置において、温度検出素子および抵抗の両端の間の電圧をそれぞれ共通の値とすることができ、ひいては各半導体装置における電圧のばらつきを低減させることができる。 In this manner, the resistor is connected in series to the temperature detection element, and the resistance value is adjusted so that the voltage between the temperature detection element and both ends of the resistance is within a desired range. Thereby, in each semiconductor device, the voltage between both ends of the temperature detection element and the resistor can be set to a common value, and as a result, variations in voltage in each semiconductor device can be reduced.
請求項2に記載の発明では、温度検出素子に対して直列接続される複数の抵抗(31〜34、36a〜36c、37a〜37c、38a〜38c、210、220)が設けられ、温度検出素子および複数の抵抗の両端の間の電圧が所望の範囲内になるように、前記複数の抵抗のうちいずれかが選択されるようになっていることを特徴としている。
In the invention according to
このように、複数の抵抗を設け、温度検出素子および複数の抵抗の両端の間の電圧が所望の範囲内になるような抵抗を選択する。これにより、各半導体装置において、温度検出素子および複数の抵抗の両端の間の電圧をそれぞれ共通の値とすることができ、ひいては各半導体装置における電圧のばらつきを低減させることができる。 In this way, a plurality of resistors are provided, and a resistor is selected such that the voltage between the temperature detection element and the plurality of resistors is within a desired range. Thereby, in each semiconductor device, the voltage between both ends of the temperature detection element and the plurality of resistors can be set to a common value, and as a result, voltage variation in each semiconductor device can be reduced.
請求項3に記載の発明では、温度検出素子と複数の抵抗とによって構成される経路上には、複数のパッド(10、11、41〜45、46、47a〜47c、48a〜48c、49a〜49d、81〜83)が設けられており、これらパッドのうちいずれかが用いられて、選択された抵抗と温度検出素子との間の電圧が外部に出力されるようになっていることを特徴としている。 In the third aspect of the present invention, a plurality of pads (10, 11, 41 to 45, 46, 47a to 47c, 48a to 48c, 49a to 49a) are provided on a path constituted by the temperature detection element and the plurality of resistors. 49d, 81-83), and any one of these pads is used to output the voltage between the selected resistor and the temperature detecting element to the outside. It is said.
このように、複数のパッドを設ける。これにより、温度検出素子および選択された抵抗の両端の間の電圧を外部に出力することができる。 Thus, a plurality of pads are provided. Thereby, the voltage between both ends of the temperature detection element and the selected resistor can be output to the outside.
請求項4に記載の発明では、パッド(10、41〜45)間の電圧が所望の範囲内となるように、複数の抵抗(31〜34)および配線(35)のうちいずれかが選択され、選択された抵抗もしくは配線が含まれた経路が用いられるようになっていることを特徴としている。
In the invention according to
このように、半導体装置に複数の抵抗や配線を設け、これらのうち各パッド間の電圧が所望の範囲内になるような抵抗または配線を選択する。これにより、複数の半導体装置において、それぞれ温度検出素子の出力電圧のばらつきがあったとしても、各半導体装置において各パッド間における電圧を共通の値にすることができる。したがって、複数の半導体装置において温度検出素子の出力電圧のばらつきを低減させることができる。また、複数の抵抗や配線の中から、各パッド間の電圧値が所望の値となるようなものを選択するだけであるので、電圧値の調整が個々の半導体装置単体でなされるようにすることができる。 As described above, a plurality of resistors and wirings are provided in the semiconductor device, and a resistor or wiring that selects a voltage between pads within a desired range is selected. Thereby, even if there is variation in the output voltage of the temperature detection element in each of the plurality of semiconductor devices, the voltage between the pads in each semiconductor device can be set to a common value. Therefore, variations in the output voltage of the temperature detection element can be reduced in a plurality of semiconductor devices. In addition, it is only necessary to select a resistor having a desired voltage value between the pads from among a plurality of resistors and wirings, so that the voltage value can be adjusted by each individual semiconductor device. be able to.
請求項5に記載の発明では、複数の経路のうち、選択されない抵抗もしくは配線が含まれた経路において、選択されない抵抗もしくは配線は、温度検出素子に対して電気的に切断されるようになっていることを特徴としている。
In the invention according to
このように、選択されない抵抗もしくは配線を温度検出素子に対して電気的に切断する。これにより、選択されずに残された抵抗や配線がアンテナの役割を果たしてしまい、電磁ノイズを拾ってしまうことを防止することができる。これに伴い、半導体装置や半導体装置に電気的に接続された外部回路に対する電磁ノイズの影響を低減させることができる。 In this manner, the resistor or wiring that is not selected is electrically disconnected from the temperature detection element. Thereby, it is possible to prevent the resistance and wiring left without being selected from acting as an antenna and picking up electromagnetic noise. Accordingly, the influence of electromagnetic noise on the semiconductor device and the external circuit electrically connected to the semiconductor device can be reduced.
請求項6に記載の発明では、複数の抵抗は、CrSiで構成されていることを特徴としている。
The invention according to
このように、複数の抵抗をCrSiで構成する。このCrSiは温度特性変化が小さい材料であるので、半導体装置の温度に関わらず所望の抵抗値を常に実現させることができる。したがって、温度精度を向上させることができる。 Thus, the plurality of resistors are made of CrSi. Since this CrSi is a material having a small temperature characteristic change, a desired resistance value can always be realized regardless of the temperature of the semiconductor device. Therefore, temperature accuracy can be improved.
請求項7に記載の発明では、温度検出素子(20)に対して直列接続される薄膜抵抗(39)が設けられ、温度検出素子と薄膜抵抗との間の電圧が所望の範囲内になるように、薄膜抵抗がトリミングされるようになっていることを特徴としている。 In the invention described in claim 7, a thin film resistor (39) connected in series to the temperature detecting element (20) is provided, so that the voltage between the temperature detecting element and the thin film resistor falls within a desired range. In addition, the thin film resistor is trimmed.
このように、薄膜抵抗をトリミングすることで、温度検出素子の電圧出力を調整する。これにより、各半導体装置において、それぞれ温度検出素子の出力電圧にばらつきがあったとしても、薄膜抵抗をそれぞれトリミングすることで、出力電圧を所望の範囲内にそれぞれ調整することができる。したがって、各半導体装置における温度検出素子の出力電圧のばらつきを低減させることができる。 In this manner, the voltage output of the temperature detection element is adjusted by trimming the thin film resistor. Thereby, even if there is variation in the output voltage of the temperature detection element in each semiconductor device, the output voltage can be adjusted within a desired range by trimming the thin film resistors. Therefore, variations in the output voltage of the temperature detection element in each semiconductor device can be reduced.
請求項8に記載の発明では、薄膜抵抗は、CrSiで構成されていることを特徴としている。
The invention according to
このように、薄膜抵抗をCrSiで構成する。これにより、請求項5と同様に、薄膜抵抗を温度特性変化のない抵抗として用いることができ、温度精度を向上させることができる。 Thus, the thin film resistor is made of CrSi. Thus, similarly to the fifth aspect, the thin film resistor can be used as a resistor having no temperature characteristic change, and the temperature accuracy can be improved.
請求項9に記載の発明では、温度検出素子に対して直列接続される抵抗(31〜34、36a〜36c、37a〜37c、38a〜38c、210、220)が設けられると共に、抵抗は温度検出素子に近接して配置され、温度検出素子および抵抗の両端の間の電圧が所望の範囲内になるように、抵抗の抵抗値が調整(または複数の抵抗のうちいずれかが選択)されるようになっていることを特徴としている。 According to the ninth aspect of the present invention, resistances (31 to 34, 36a to 36c, 37a to 37c, 38a to 38c, 210, and 220) connected in series to the temperature detection element are provided, and the resistance is temperature detection. The resistance value of the resistor is adjusted (or selected from a plurality of resistors) so that the voltage between both ends of the temperature detecting element and the resistor is within a desired range. It is characterized by becoming.
このように、温度検出素子および抵抗の両端の間の電圧が所望の範囲内になるように抵抗を調整、選択する。これにより、各半導体装置において、温度検出素子および抵抗の両端の間の電圧をそれぞれ共通の値とすることができ、ひいては各半導体装置における電圧のばらつきを低減させることができる。 Thus, the resistance is adjusted and selected so that the voltage between the temperature detection element and the resistance is within a desired range. Thereby, in each semiconductor device, the voltage between both ends of the temperature detection element and the resistor can be set to a common value, and as a result, variations in voltage in each semiconductor device can be reduced.
さらに、温度検出素子の近傍に抵抗を配置する。これにより、抵抗の温度がそれぞれ温度検出素子と同等になり、抵抗の温度特性も含めた温度調整を行うことができ、より検出精度の向上を図ることができる。 Further, a resistor is disposed in the vicinity of the temperature detection element. As a result, the temperature of the resistor becomes the same as that of the temperature detecting element, temperature adjustment including the temperature characteristic of the resistor can be performed, and the detection accuracy can be further improved.
なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものである。 In addition, the code | symbol in the bracket | parenthesis of each said means shows the correspondence with the specific means as described in embodiment mentioned later.
(第1実施形態)
以下、本発明の第1実施形態について図を参照して説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る半導体装置としての半導体チップの概略正面図である。この図に示されるように、半導体チップS1は、温度検出部100を備えて構成されている。
(First embodiment)
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic front view of a semiconductor chip as a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. As shown in this figure, the semiconductor chip S1 includes a
この半導体チップS1は、例えばシリコン基板に対して複数の半導体素子が形成されたものであり、シリコン基板がダイシングされて個々のチップに分割形成されたものである。本実施形態では、半導体チップS1において、温度検出部100以外の部分に半導体素子が作り込まれている。半導体素子としては、IGBT等のトランジスタ、ダイオード、そしてICなどの発熱する半導体素子が採用される。
The semiconductor chip S1 is formed by, for example, a plurality of semiconductor elements formed on a silicon substrate, and the silicon substrate is diced and divided into individual chips. In the present embodiment, a semiconductor element is formed in a portion other than the
温度検出部100は、半導体チップS1の温度を検出する機能を有するものであり、パッド10と、感温ダイオード20と、第1〜第4抵抗31〜34と、配線35と、パッド41〜45と、を備えて構成されている。
The
パッド10は、感温ダイオード20のカソード側に設けられたボンディングパッドである。このようなパッド10として、例えばAl(アルミニウム)が採用される。
The
感温ダイオード20は、温度に応じた電圧を出力するもの、すなわち順方向電圧VFの値が変化するものであり、半導体チップS1が作動することにより発生する熱に応じた順方向電圧VFを出力するものである。半導体チップS1が作動することによって発生する熱が半導体チップS1の中心部に集中することでもっとも高くなることが知られていることから、感温ダイオード10は半導体チップS1の中心部に位置するように配置される。
The temperature
また、図1に示されるように、感温ダイオード20が2つ直列接続された状態になっており、各感温ダイオード20は周知の半導体製造技術により半導体チップS1に作り込まれている。本実施形態では、感温ダイオード20の順方向電圧VFの規格は、例えば900〜1000mVとなっている。なお、感温ダイオード20は、本発明の温度検出素子に相当する。
As shown in FIG. 1, two temperature
第1〜第4抵抗31〜34および配線35は、感温ダイオード20の順方向電圧VFの値を半導体チップS1(製品)ごとに共通の値にすべく調整するためのものであり、半導体チップS1に作り込まれている。このような各抵抗31〜34および配線35は、感温ダイオード20のアノード側が分岐してそれぞれ接続されており、半導体チップS1の外縁部に形成されている。また、上記各抵抗31〜34として、温度特性変化が小さいCrSi(クロムシリコン)や、ポリシリコン、拡散抵抗などが用いられる。
The first to
これら各抵抗31〜34の抵抗値はそれぞれ異なった値であり、第1抵抗31の抵抗値は400Ω、第2抵抗32の抵抗値は300Ω、第3抵抗33の抵抗値は200Ω、そして第4抵抗34の抵抗値は100Ωとなっている。また、配線35の抵抗値はほとんど無視できるものである。本実施形態では、これら抵抗31〜34および配線35のうちいずれかが選択されて用いられることとなる。このことについては、後で詳しく説明する。
The resistance values of the
これら各抵抗31〜34および配線35は、感温ダイオード20が含まれた経路をそれぞれ構成している。つまり、温度検出部100には、複数の経路が設けられ、そのうちから最適な経路が用いられるのである。最適な経路とは、各経路において感温ダイオード20の順方向電圧VFが、所望の範囲内になっているものを指す。
Each of these
パッド41〜45は、第1〜第4抵抗31〜34および配線35にそれぞれ接続されたボンディングパッドである。これらパッド41〜45は、パッド10と同様に、Alにより形成されている。そして、パッド10とパッド41〜45のうちいずれかとの間の電圧値が外部回路によって検出され、半導体チップS1の温度が検出されるようになっている。
The
なお、上記温度検出部100では、各構成要素10、20、31〜35、41〜45は、半導体チップS1にパターニング形成されたAl配線によりそれぞれ電気的に接続されている。
In the
以上が、本実施形態に係る半導体チップS1の構成である。 The above is the configuration of the semiconductor chip S1 according to the present embodiment.
次に、複数の半導体チップS1に備えられた各感温ダイオード20の順方向電圧VFのばらつきを、半導体チップS1ごとに調整してばらつきを低減する方法について説明する。
Next, a method for reducing the variation by adjusting the variation in the forward voltage VF of each temperature-
まず、感温ダイオード20の温度特性について説明する。図2は、温度と感温ダイオード20の順方向電圧VFとの相関関係を示した図である。この図に示されるように、順方向電圧VFと温度との関係は比例関係にあり、感温ダイオード20の順方向電圧VFは、感温ダイオード20が受ける温度の上昇と共に下がる。なお、図2に示される関係は、1つの感温ダイオード20についての特性である。つまり。感温ダイオード20が複数直列に接続された場合の合計の順方向電圧VFは、複数倍の値となる。
First, the temperature characteristics of the temperature
例えば、感温ダイオード20が受ける温度が25℃のとき、感温ダイオード20の順方向電圧VFは例えば0.7Vとなる。しかしながら、複数の感温ダイオード20について温度特性を調べると、図2に示されるように、感温ダイオード20が25℃でありながら、各感温ダイオード20の順方向電圧VFが0.7Vを中心にばらついている。
For example, when the temperature received by the temperature
言い換えると、感温ダイオード20の順方向電圧VFに対し、例えば±25℃のばらつきが生じるのである。これにより、例えば、感温ダイオード20が受ける温度が100℃のとき、順方向電圧VFが0.6Vになるとすると、ある感温ダイオード20は75℃で順方向電圧VFが0.6Vになり、またある感温ダイオード20は125℃で順方向電圧VFが0.6Vになるのである。
In other words, for example, a variation of ± 25 ° C. occurs with respect to the forward voltage VF of the temperature
このように、各感温ダイオード20に応じて順方向電圧VFがばらついていると、低い温度で所望の順方向電圧VFに達してしまうことになる。つまり、感温ダイオード20の順方向電圧VFをモニタすることで感温ダイオード20が受ける温度を検出する場合、感温ダイオード20の順方向電圧VFが所望の電圧値となったとしても、その電圧値に対する温度が狙った温度よりも低い場合がある。
Thus, if the forward voltage VF varies according to each temperature-
そこで、各感温ダイオード20の順方向電圧VFを、図2に示される矢印のごとく各温度に対する順方向電圧VFの最大値によって形成されるライン50に揃えることで、各感温ダイオード20の順方向電圧VFのばらつきをなくし、各感温ダイオード20がそれぞれ共通の温度特性を有するようにする。なお、順方向電圧VFをその値が増加するように調整するのは、以下で詳しく説明するが、感温ダイオード20に抵抗を直列接続することでその抵抗の抵抗値に応じた電圧分を順方向電圧VFに加えることができ、容易に順方向電圧VFを調整できるからである。
Therefore, the forward voltage VF of each temperature
したがって、本実施形態では、上述のように感温ダイオード20の順方向電圧VFの規格が例えば900〜1000mVであるので、順方向電圧VFの最大値が1000mVとなるように各半導体チップS1に備えられた温度検出部100の各感温ダイオード20の順方向電圧VFを調整する。
Therefore, in this embodiment, since the standard of the forward voltage VF of the temperature
以下、各感温ダイオード20の順方向電圧VFの調整方法について、図3および図4を参照して説明する。図3は、定電流方式によって感温ダイオード20の順方向電圧VFを調整する回路図を示したものである。
Hereinafter, a method for adjusting the forward voltage VF of each temperature-
図3に示されるように、感温ダイオード20のカソード側がグランドに接続されると共に、電流源60が半導体チップS1の第1〜第4抵抗31〜34および配線35にそれぞれ対応する各パッド41〜45のうちいずれかに接続される。つまり、図3に示される接続点Aは、各パッド41〜45のうちいずれかに相当する。そして、パッド10と各パッド41〜45のうちいずれかとの間の電圧が外部回路によって検出されるようになっている。
As shown in FIG. 3, the cathode side of the temperature
また、図3には、半導体チップS1に複数形成されたトランジスタ70が模式的に示されている。このトランジスタ70のゲート(G)、エミッタ(E)、コレクタ(C)はそれぞれ外部回路と接続された状態になっている。なお、エミッタ−コレクタ間に接続されたダイオード71は、半導体チップS1に作り込まれたものではなく、外部回路に形成されたものであり、トランジスタ71を保護するためものである。
FIG. 3 schematically shows a plurality of
そして、上記回路構成において各感温ダイオード20の順方向電圧VFの調整が行われる。まず、上述のように、各感温ダイオード20の順方向電圧VFは900〜1000mVである。本実施形態では、このように幅のある順方向電圧VFに対し、各感温ダイオード20の順方向電圧VFがそれぞれ980〜1000mV(つまり、990±10mV)になるようにする。この様子を図4に示す。図4は、各感温ダイオード20の順方向電圧VFを調整する様子を示したものである。
In the circuit configuration described above, the forward voltage VF of each temperature
図4に示されるように、各感温ダイオード20の順方向電圧VFは900〜1000mVであるので、順方向電圧VFを980〜1000mVの狭い範囲に調整する。このため、順方向電圧VFが980〜1000mVの範囲にない場合、感温ダイオード20に第1〜第4抵抗31〜34を直列接続し、上記範囲に満たない電圧分を加算する。
As shown in FIG. 4, since the forward voltage VF of each temperature-
例えば、感温ダイオード20の順方向電圧VFが900〜920mVの範囲内にある場合、80mVの電圧分を生じさせる抵抗を感温ダイオード20に直列接続することで、順方向電圧VFを980〜1000mVの範囲内に調整することができる。同様に、感温ダイオード20の順方向電圧VFが920〜940mV、940〜960mV、960〜980mVの各範囲内にある場合、60mV、40mV、20mVをそれぞれ生じさせる抵抗を感温ダイオード20に直列接続するようにすれば良い。
For example, when the forward voltage VF of the temperature
一方、順方向電圧VFが980〜1000mVの範囲内にある場合、抵抗を接続する必要はないので、感温ダイオード20に配線35を直列接続する。
On the other hand, when the forward voltage VF is in the range of 980 to 1000 mV, it is not necessary to connect a resistor, so the
具体的には、所定の温度環境下において、以下のようにして順方向電圧VFが調整される。まず、図1に示される半導体チップS1が用意され、パッド10がグランド接続される。また、感温ダイオード20を作動させるための電流源60が例えばパッド41に接続される。そして、パッド10とパッド41との間の電圧が測定される。測定された電圧値が980〜1000mVの範囲内にないときには、電流源60がパッド42に接続され、パッド10とパッド42との間の電圧値が測定される。このように、順方向電圧VFの値が上記範囲内にない場合、電流源60がパッド41〜45に順次接続されていき、順方向電圧VFが980〜1000mVの範囲内に収まるように第1〜第4抵抗31〜34および配線35のうちいずれかが選択される。すなわち、選択された抵抗または配線と感温ダイオード20とによる経路が構成される。
Specifically, the forward voltage VF is adjusted as follows under a predetermined temperature environment. First, the semiconductor chip S1 shown in FIG. 1 is prepared, and the
上記と同様にして、複数の半導体チップS1に対して感温ダイオード20の順方向電圧VFがそれぞれ980〜1000mVの範囲内になるように第1〜第4抵抗31〜34および配線35のうちいずれかが選択されていく。これにより、複数の半導体チップS1において、各感温ダイオード20の順方向電圧VFにばらつきがあったとしても、各半導体チップS1においてそのばらつきを低減でき、半導体チップS1ごとに共通の順方向電圧VFの値とすることができる。
In the same manner as described above, any one of the first to
こうして各抵抗31〜34および配線35のうちいずれかが選択された各半導体チップS1はそれぞれ回路基板に搭載され、回路基板に形成された電気回路とパッド41〜45のうち選択されたものおよびパッド10とにそれぞれワイヤボンディングされる。なお、ワイヤボンディングに用いられるワイヤには、AlやAu(金)が採用される。
Thus, each of the semiconductor chips S1 in which any one of the
以上説明したように、本実施形態では、半導体チップS1内に複数の抵抗31〜34および配線35を設け、これらのうち各パッド10、41〜45間の電圧が所望の範囲内になるような抵抗または配線を選択する。これにより、各半導体チップS1において、感温ダイオード20と選択された抵抗もしくは配線との間の電圧をそれぞれ共通の値とすることができ、ひいては各半導体チップS1における感温ダイオード20の順方向電圧VFのばらつきを低減させることができる。
As described above, in the present embodiment, the plurality of
また、複数のパッド10、41〜45を設けているため、感温ダイオード20と選択された抵抗もしくは配線との間の電圧を外部に容易に出力することができる。
Further, since the plurality of
さらに、複数の抵抗31〜34や配線35の中から、各パッド10、41〜45間の電圧値が所望の値となるようなものを選択するだけであるので、順方向電圧VFの調整が個々の半導体装置チップS1でなされるようにすることができる。
Furthermore, since only a voltage having a desired voltage value between the
そして、本実施形態では、複数の抵抗31〜34を温度特性変化がCrSiで構成している。これにより、半導体チップS1の温度に関わらず所望の抵抗値を常に実現させることができる。したがって、温度精度を向上させることができる。
In this embodiment, the plurality of
(第2実施形態)
本実施形態では、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明する。本実施形態では、第1〜第4抵抗31〜34および配線35のうち最適なものを選択する方式が定電圧方式であることが第1実施形態と異なる。なお、本実施形態で用いられる図において、上記第1実施形態で用いられた図に示される構成要素に同一もしくは均等である部分には、説明の簡略化を図るべく、同一符号を付してある。
(Second Embodiment)
In the present embodiment, only different parts from the first embodiment will be described. The present embodiment is different from the first embodiment in that a method of selecting an optimal one of the first to
図5は、定電圧方式によって感温ダイオード20の順方向電圧VFを調整する回路図を示したものである。この図に示されるように、定電圧方式では、第1〜第4抵抗31〜34のうちいずれかに所定電圧VCCが印加されるようになっている。また、第1〜第4抵抗31〜34および配線35と、感温ダイオード20のアノード側との接続点Aの電圧値が外部回路によって検出されるようになっている。すなわち、図5に示される接続点Bは、図1に示されるパッド45の電位に相当する。
FIG. 5 shows a circuit diagram for adjusting the forward voltage VF of the temperature
このような回路構成において、印加電圧VCCが各抵抗31〜34のうちいずれかに印加されることで電流IFが流れ、接続点B(すなわち、パッド45)とパッド10との間の電圧が検出される。そして、感温ダイオード20の順方向電圧VFが980〜1000mVの範囲内となるように、第1〜第4抵抗31〜34のうちいずれかが選択される。なお、どの抵抗31〜34も当てはまらない場合には、パッド45とパッド10との間の電圧が検出され、その電圧値が上記範囲内にあるならば配線35が選択される。
In such a circuit configuration, when the applied voltage VCC is applied to any one of the
このように、定電圧方式によっても、各抵抗31〜35および配線35の中から最適なものを選択することができ、各半導体チップS1の感温ダイオード20の順方向電圧VFのばらつきを低減させることができる。
As described above, even by the constant voltage method, an optimum one can be selected from the
(第3実施形態)
本実施形態では、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明する。本実施形態では、半導体チップにおいて、感温ダイオード20のアノード側に接続される複数の抵抗がそれぞれ直列接続されると共に、各抵抗に接続されるパッドが1つであることが第1実施形態と異なる。なお、本実施形態で用いられる図において、上記第1実施形態で用いられた図に示される構成要素に同一もしくは均等である部分には、説明の簡略化を図るべく、同一符号を付してある。
(Third embodiment)
In the present embodiment, only different parts from the first embodiment will be described. In the present embodiment, in the semiconductor chip, a plurality of resistors connected to the anode side of the temperature-
図6は、本発明の第3実施形態に係る半導体チップの概略正面図である。この図に示されるように、半導体チップS2において、感温ダイオード20のアノード側に複数の抵抗36a〜36cが接続されている。これら抵抗36a〜36cははしご状にそれぞれ構成され、パッド46に接続されている。
FIG. 6 is a schematic front view of a semiconductor chip according to the third embodiment of the present invention. As shown in this figure, a plurality of
そして、パッド46とパッド10との間の電圧値が、上記第1実施形態で示された範囲内に収まるような接続形態となるように、例えば図6の「×」印の部分がトリミングカットされる。このように、各抵抗36a〜36cをそれぞれ接続する配線をトリミングすることによってパッド46とパッド10との間の電圧、すなわち感温ダイオード20の順方向電圧VFを調整するようにしても良い。以上のようにして、最適な経路を構成することも可能である。
Then, for example, a portion marked with “x” in FIG. 6 is trimmed so that the voltage value between the
(第4実施形態)
本実施形態では、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明する。本実施形態では、各抵抗および配線のうちいずれかが選択された後、使用しない抵抗がアンテナの役割を果たしてしまい、電磁ノイズを拾ってしまわないようにすることが第1実施形態と異なる。なお、本実施形態で用いられる図において、上記第1実施形態で用いられた図に示される構成要素に同一もしくは均等である部分には、説明の簡略化を図るべく、同一符号を付してある。
(Fourth embodiment)
In the present embodiment, only different parts from the first embodiment will be described. This embodiment is different from the first embodiment in that after any one of the resistors and wirings is selected, a resistor that is not used plays the role of an antenna and does not pick up electromagnetic noise. In the drawings used in the present embodiment, parts that are the same or equivalent to the components shown in the drawings used in the first embodiment are denoted by the same reference numerals for the sake of simplicity. is there.
図7は、第4実施形態において、半導体チップS1に形成された各抵抗31〜34をそれぞれ接続する配線の一部をカットする様子を示した図である。この図に示されるように、例えば感温ダイオード20に第4抵抗34を直列接続することとなった場合、第1〜第3抵抗31〜33は、以後、使用しないこととなる。これら第1〜第3抵抗31〜33が第4抵抗34に接続されたままであると、使用されない抵抗31〜34がアンテナの役割を果たし、電磁ノイズを拾ってパッド44とパッド10との間の回路に影響を及ぼす可能性がある。
FIG. 7 is a diagram illustrating a state in which a part of the wiring connecting the
そこで、本実施形態では、使用しない各抵抗31〜33を独立させ、感温ダイオード20を含む回路に影響を及ぼさないようにするのである。したがって、図7に示されるように、例えば「×」印で示された部分の配線を例えばトリミングによってカットする。こうして、使用されない各抵抗31〜33のアンテナ機能を防止することができる。このように、使用しない抵抗31〜33の影響を除去するような処理を施しても構わない。
Therefore, in the present embodiment, the
以上説明したように、本実施形態では、選択されない抵抗もしくは配線を感温ダイオード20に対して電気的に切断することを特徴としている。これにより、選択されずに残された抵抗や配線がアンテナの役割を果たしてしまい、電磁ノイズを拾ってしまうことを防止することができ、ひいては半導体装置や半導体装置に電気的に接続された外部回路に対する電磁ノイズの影響を低減させることができる。以上のようにして、不要な経路の影響を低減させることも可能である。
As described above, the present embodiment is characterized in that a resistor or wiring that is not selected is electrically disconnected from the temperature
(第5実施形態)
本実施形態では、上記実施形態と異なる部分についてのみ説明する。本実施形態では、感温ダイオード20を含む回路と、感温ダイオード20の順方向電圧VFを調整する抵抗を含む回路と、をそれぞれ独立に設け、最適な抵抗のみをワイヤで接続するようにしたことが上記実施形態と異なる。なお、本実施形態で用いられる図において、上記第1実施形態で用いられた図に示される構成要素に同一もしくは均等である部分には、説明の簡略化を図るべく、同一符号を付してある。
(Fifth embodiment)
In the present embodiment, only different portions from the above embodiment will be described. In this embodiment, a circuit including the
図8は、本発明の第5実施形態に係る半導体チップの概略正面図である。この図に示されるように、半導体チップS3は、感温ダイオード20の両端に設けられたパッド10、11と、それぞれ抵抗値が異なる複数の抵抗37a〜37cと、各抵抗37a〜37cの両端にそれぞれ接続された各パッド47a〜47c、48a〜48cと、を備えて構成されている。
FIG. 8 is a schematic front view of a semiconductor chip according to the fifth embodiment of the present invention. As shown in this figure, the semiconductor chip S3 includes
このような構成を有する半導体チップS3において、上記実施形態と同様に、感温ダイオード20の順方向電圧VFを調整するため、最適な抵抗37a〜37cが選択される。本実施形態では、例えば抵抗37bが選択されたとする。このような場合、パッド11とパッド47bがワイヤボンディングされ、パッド48bが外部回路にワイヤボンディングされる。これにより、使用しなかった抵抗によるノイズの影響を考慮する必要がなくなる。このように、使用する抵抗のみにワイヤボンディングする構造であっても良い。以上のように、最適な抵抗を含む経路を選択し、感温ダイオード20が含まれる経路に接続することで、感温ダイオード20の順方向電圧VFが所望の範囲内となる経路を構成することができる。
In the semiconductor chip S3 having such a configuration,
(第6実施形態)
本実施形態では、上記実施形態と異なる部分についてのみ説明する。本実施形態では、感温ダイオード20のアノード側に、抵抗とパッドとを交互に直列接続していることが上記実施形態と異なる。なお、本実施形態で用いられる図において、上記第1実施形態で用いられた図に示される構成要素に同一もしくは均等である部分には、説明の簡略化を図るべく、同一符号を付してある。
(Sixth embodiment)
In the present embodiment, only different portions from the above embodiment will be described. This embodiment is different from the above embodiment in that resistors and pads are alternately connected in series on the anode side of the temperature-
図9は、本発明の第6実施形態に係る半導体チップの概略正面図である。この図に示されるように、半導体チップS4には、感温ダイオード20のアノード側に複数のパッド49a〜49dと複数の抵抗38a〜38cとが交互に直列接続された状態なっている。
FIG. 9 is a schematic front view of a semiconductor chip according to the sixth embodiment of the present invention. As shown in this figure, in the semiconductor chip S4, a plurality of
このような構造において、上記実施形態と同様に感温ダイオード20の順方向電圧VFを調整する最適な抵抗が選択されると、その抵抗に接続されたパッドが外部回路とワイヤボンディングされる。例えば、抵抗38aと抵抗38bとの合成抵抗が選択された場合、パッド49bおよびパッド10が外部回路にワイヤボンディングされる。このように、各抵抗38a〜38cとパッド49a〜49dとをそれぞれ直列接続するようにしたものであっても構わない。以上のようにして、感温ダイオード20の順方向電圧VFを調整する経路を選択することも可能である。
In such a structure, when an optimum resistor for adjusting the forward voltage VF of the temperature-
(第7実施形態)
本実施形態では、上記実施形態と異なる部分についてのみ説明する。本実施形態では、感温ダイオード20のアノード側に薄膜抵抗を接続し、この薄膜抵抗をトリミングまたはレーザカットすることで薄膜抵抗の抵抗値を変化させて順方向電圧VFを調整するようにしたことが上記実施形態と異なる。なお、本実施形態で用いられる図において、上記第1実施形態で用いられた図に示される構成要素に同一もしくは均等である部分には、説明の簡略化を図るべく、同一符号を付してある。
(Seventh embodiment)
In the present embodiment, only different portions from the above embodiment will be described. In this embodiment, a thin film resistor is connected to the anode side of the temperature
図10は、本発明の第7実施形態に係る半導体チップの概略正面図である。この図に示されるように、半導体チップS5において、感温ダイオード20のアノード側に薄膜抵抗39が接続され、さらに、薄膜抵抗39において感温ダイオード20とは反対側にパッド80が接続されている。この薄膜抵抗39は、上記第1実施形態で用いられた各抵抗31〜34と同じ材質で形成されたものである。
FIG. 10 is a schematic front view of a semiconductor chip according to the seventh embodiment of the present invention. As shown in this figure, in the semiconductor chip S5, a
このような構成において、外部回路によってパッド10、80間の電圧値が測定される。そして、感温ダイオード20の順方向電圧VFが上記実施形態に示された範囲内になるように、薄膜抵抗39がトリミングまたはレーザカットされて順方向電圧VFが調整される。
In such a configuration, the voltage value between the
以上説明したように、本実施形態では、薄膜抵抗39をトリミングまたはレーザカットすることで抵抗値を変化させて感温ダイオード20の順方向電圧VFを調整することを特徴としている。これにより、各半導体チップS5において、それぞれ感温ダイオード20の順方向電圧VFにばらつきがあったとしても、それぞれの薄膜抵抗39をトリミングすることで、順方向電圧VFをそれぞれ所望の範囲内に調整することができる。したがって、各半導体チップS5における感温ダイオード20の順方向電圧VFのばらつきを低減させることができる。このように、感温ダイオード20と薄膜抵抗39とによって構成される経路において、複数の経路を設ける必要もなく、薄膜抵抗39の抵抗値を調整するだけで順方向電圧VFを調整することも可能である。
As described above, the present embodiment is characterized in that the forward voltage VF of the temperature
(第8実施形態)
本実施形態では、上記実施形態と異なる部分についてのみ説明する。本実施形態では、感温ダイオード20に近接させて抵抗を配置したことが上記実施形態と異なる。なお、本実施形態で用いられる図において、上記第1実施形態で用いられた図に示される構成要素に同一もしくは均等である部分には、説明の簡略化を図るべく、同一符号を付してある。
(Eighth embodiment)
In the present embodiment, only different portions from the above embodiment will be described. This embodiment is different from the above embodiment in that a resistor is arranged close to the temperature
図11および図12は、本実施形態に係る半導体チップの概略正面図であり、図11は抵抗210、220が配置される領域91、92を模式的に示した図、図12は具体的な回路の一例を示した図である。ここで、図11において、四角形状の半導体チップS6の任意の辺に平行な方向をx軸(図11では紙面左右方向)とし、x軸に垂直な方向をy軸(図11では例えば紙面上下方向)と定義する。
11 and 12 are schematic front views of the semiconductor chip according to the present embodiment. FIG. 11 is a diagram schematically showing
図11に示されるように、本実施形態に係る半導体チップS6において、感温ダイオード20は、半導体チップS6のほぼ中央に配置されている。この感温ダイオード20は、x軸方向に長さX、y軸方向に長さYで形成される四角形状の第1領域91内に配置されている。
As shown in FIG. 11, in the semiconductor chip S6 according to the present embodiment, the temperature-
また、第1領域91を囲う四角形状の第2領域92が設けられている。第2領域92は、具体的に、x軸方向の長さが9X、y軸方向の長さが9Yで形成される四角形状になっている。そして、第2領域92のうちy軸方向に平行な各辺からそれぞれ4X、x軸方向に平行な各辺からそれぞれ4Yの場所に第1領域91が配置されている。
Further, a quadrangular
そして、第2領域92内において第1領域91を除いた領域に、抵抗210、220の一部が少なくとも含まれるように、抵抗210、220が半導体チップS6内に配置されるのである。
Then, the
図12には、具体的な回路図が示されている。図12に示されるように、半導体チップS6において第1領域91内に感温ダイオード20が配置されている。また、この感温ダイオード20に直列接続された抵抗210や、この抵抗210に接続された抵抗220は、第2領域92内に配置されている。そして、抵抗220や各接点C、Dから引き伸ばされた配線にパッド81〜83がそれぞれ接続されている。
FIG. 12 shows a specific circuit diagram. As shown in FIG. 12, the temperature
このように、感温ダイオード20に近傍に抵抗210、220を配置することで、各抵抗210、220の温度がそれぞれ感温ダイオード20と同等になり、各抵抗210、220の温度特性も含めた温度調整を行うことができ、より検出精度の向上を図ることができる。上述のように、半導体チップS6はその中央の温度がもっとも高くなり、外縁部ほど温度が下がるため、温度特性を有する抵抗を用いる場合、上記配置方法は特に有効である。
Thus, by arranging the
(他の実施形態)
上記各実施形態では、感温ダイオード20は各半導体チップS1〜S5の温度を検出するとされているが、例えばコンデンサやコイル、電子部品等、発熱する部品に対してもこの感温ダイオード20を装備させても構わない。
(Other embodiments)
In each of the above embodiments, the temperature
上記各実施形態では、例えば図1に示されるように、温度検出部100に用いられる感温ダイオード20の数は2個であるが、この数に限定されるものではなく、いくつ用いても構わない。
In each of the above embodiments, for example, as shown in FIG. 1, the number of the temperature
上記各実施形態では、各抵抗は3〜5種接続することになっているが、2つ以上あればいくつでも構わない。 In the above embodiments, 3 to 5 types of resistors are connected, but any number of resistors may be used as long as there are two or more.
上記各実施形態では、感温ダイオード20の順方向電圧VFを調整するための各抵抗31〜34、36a〜36c、37a〜37c、38a〜38c、薄膜抵抗39、配線35およびそれらに対応する各バッド41〜45、46、47a〜47c、48a〜48c、49a〜49d、80が感温ダイオード20のアノード側に設けられているが、これらは感温ダイオード20のカソード側に設けられても構わない。
In each of the above embodiments, the
上記各実施形態では、各パッド10、41〜45、46、47a〜47c、48a〜48c、49a〜49d、80と外部回路との電気的接続はワイヤボンディングによりなされているが、バンプによって電気的に接続するようにしても構わない。
In each of the embodiments described above, each
上記第8実施形態では、各領域91、92は回路設計上好ましい四角形状になっているが、領域の形状はどんな形状であっても構わない。例えば円弧状の領域であっても良い。また、第1領域91に対して第2領域92のサイズは感温ダイオードサイズの上下左右側に4倍とし、感温ダイオード20に接続された抵抗の一部が少なくとも配置されることで感温ダイオード20とこれに接続された抵抗の温度をほぼ同等にすることが可能であるが、回路の温度要求精度に応じてこのサイズはこれに限定されるものではなく、回路設計上もっとも好ましいサイズにすれば良い。
In the eighth embodiment, each of the
100…温度検出部、10、11、41〜45、46、47a〜47c、48a〜48c、49a〜49d、80〜83…パッド、20…感温ダイオード、
31〜34、36a〜36c、37a〜37c、38a〜38c、210、220…抵抗、
35…配線、39…薄膜抵抗、91、92…第1、第2領域。
DESCRIPTION OF
31-34, 36a-36c, 37a-37c, 38a-38c, 210, 220 ... resistance,
35 ... wiring, 39 ... thin film resistor, 91, 92 ... first and second regions.
Claims (9)
前記温度検出素子に対して直列接続される抵抗(31〜34、36a〜36c、37a〜37c、38a〜38c、210、220)が設けられ、前記温度検出素子および前記抵抗の両端の間の電圧が所望の範囲内となるように前記抵抗の抵抗値が調整されるようになっていることを特徴とする半導体装置。 In a semiconductor device provided with a temperature detection element (20) that outputs a voltage according to the temperature of heat generated by the semiconductor element being formed and the semiconductor element is activated,
Resistances (31-34, 36a-36c, 37a-37c, 38a-38c, 210, 220) connected in series to the temperature detection element are provided, and a voltage between the temperature detection element and both ends of the resistance The semiconductor device is characterized in that the resistance value of the resistor is adjusted so as to be within a desired range.
前記温度検出素子に対して直列接続される複数の抵抗(31〜34、36a〜36c、37a〜37c、38a〜38c、210、220)が設けられ、前記温度検出素子および前記複数の抵抗の両端の間の電圧が所望の範囲内になるように、前記複数の抵抗のうちいずれかが選択されるようになっていることを特徴とする半導体装置。 In a semiconductor device provided with a temperature detection element (20) that outputs a voltage according to the temperature of heat generated by the semiconductor element being formed and the semiconductor element is activated,
A plurality of resistors (31 to 34, 36a to 36c, 37a to 37c, 38a to 38c, 210, 220) connected in series to the temperature detecting element are provided, and both ends of the temperature detecting element and the plurality of resistors are provided. One of the plurality of resistors is selected so that the voltage between the two is within a desired range.
前記温度検出素子から分岐してそれぞれ接続された複数の抵抗(31〜34)および配線(35)と、前記複数の抵抗および前記配線にそれぞれ対応して設けられたパッド(41〜45)と、前記温度検出素子において前記複数の抵抗および前記配線とは反対側に設けられたパッド(10)と、が備えられ、前記パッド間に前記温度検出素子が含まれた経路が複数構成されており、
前記パッド間の電圧が所望の範囲内となるように、前記複数の抵抗および前記配線のうちいずれかが選択され、選択された抵抗もしくは配線が含まれた経路が用いられるようになっていることを特徴とする半導体装置。 In a semiconductor device provided with a temperature detection element (20) that outputs a voltage according to the temperature of heat generated by the semiconductor element being formed and the semiconductor element is activated,
A plurality of resistors (31 to 34) and wirings (35) branched from the temperature detecting element and connected respectively; pads (41 to 45) provided corresponding to the plurality of resistors and the wirings; A pad (10) provided on the side opposite to the plurality of resistors and the wiring in the temperature detection element, and a plurality of paths including the temperature detection element between the pads are configured,
One of the plurality of resistors and the wiring is selected so that the voltage between the pads is within a desired range, and a path including the selected resistance or wiring is used. A semiconductor device characterized by the above.
前記温度検出素子に対して直列接続される薄膜抵抗(39)が設けられ、前記温度検出素子と前記薄膜抵抗との間の電圧が所望の範囲内になるように、前記薄膜抵抗がトリミングされるようになっていることを特徴とする半導体装置。 In a semiconductor device provided with a temperature detection element (20) that outputs a voltage according to the temperature of heat generated by the semiconductor element being formed and the semiconductor element is activated,
A thin film resistor (39) connected in series to the temperature detecting element is provided, and the thin film resistor is trimmed so that a voltage between the temperature detecting element and the thin film resistor is within a desired range. A semiconductor device characterized by that.
前記温度検出素子に対して直列接続される抵抗(31〜34、36a〜36c、37a〜37c、38a〜38c、210、220)が設けられると共に、前記抵抗は前記温度検出素子に近接して配置され、前記温度検出素子および前記抵抗の両端の間の電圧が所望の範囲内になるように、前記抵抗の抵抗値が調整されるようになっていることを特徴とする半導体装置。 In a semiconductor device provided with a temperature detection element (20) that outputs a voltage according to the temperature of heat generated by the semiconductor element being formed and the semiconductor element is activated,
Resistors (31 to 34, 36a to 36c, 37a to 37c, 38a to 38c, 210, and 220) connected in series to the temperature detecting element are provided, and the resistors are arranged close to the temperature detecting element. And a resistance value of the resistor is adjusted so that a voltage between both ends of the temperature detecting element and the resistor falls within a desired range.
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