JP2006342428A - 非導電性の基板に直接金属被覆する方法 - Google Patents
非導電性の基板に直接金属被覆する方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006342428A JP2006342428A JP2006160572A JP2006160572A JP2006342428A JP 2006342428 A JP2006342428 A JP 2006342428A JP 2006160572 A JP2006160572 A JP 2006160572A JP 2006160572 A JP2006160572 A JP 2006160572A JP 2006342428 A JP2006342428 A JP 2006342428A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- metal
- metal salt
- solution
- metallization
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1633—Process of electroless plating
- C23C18/1646—Characteristics of the product obtained
- C23C18/165—Multilayered product
- C23C18/1653—Two or more layers with at least one layer obtained by electroless plating and one layer obtained by electroplating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/54—Electroplating of non-metallic surfaces
- C25D5/56—Electroplating of non-metallic surfaces of plastics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/28—Sensitising or activating
- C23C18/285—Sensitising or activating with tin based compound or composition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/28—Sensitising or activating
- C23C18/30—Activating or accelerating or sensitising with palladium or other noble metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/2006—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30
- C23C18/2046—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30 by chemical pretreatment
- C23C18/2073—Multistep pretreatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/22—Roughening, e.g. by etching
- C23C18/24—Roughening, e.g. by etching using acid aqueous solutions
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/18—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
- H05K3/188—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by direct electroplating
Abstract
【解決手段】(a)基板を金属含有活性化溶液に接触させ、
(b)次いで、前記活性化溶液に接触させた基板を、
(1)前記活性化溶液の金属により還元される少なくとも1つの金属を含む金属塩と、
(2)リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、およびセシウムの内の少なくと も一つの金属と錯体をつくる試剤と
から構成される金属塩溶液に接触させ、
(c)続いて、無電解または電解メッキ方法により、前記処理基板に、金属を被覆する
前記金属塩は、弗化物、塩化物、沃化物、臭化物、硝酸化物、硫化物あるいは、これらの混合から構成される塩の形態のリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、およびセシウムから構成されていることを特徴とする。
【選択図】 なし
Description
例えば、欧州特許出願EP0538006に直接金属被覆の方法が開示されている。すなわち、基板は、パラジウムと錫コロイドからなる活性溶液により、活性化され、そののち、与えられた化学反応条件の下に、不均化反応を行わせるのに十分な量のイオンを含むポスト活性化溶液に浸される。
上記の処理を施された基板は、その後酸溶液で処理される。
すなわち、技術的に大規模な実施は、設備の部材に塩の沈殿に起因する付着物ができる、といった問題をもたらす
このことは、結果として、基板に十分な被覆(コーティング)を施せないことになり、そのため、前記公知技術の操業設備では、定期的に、洗浄して、付着物を遊離させなくてはならないという、欠点があった。
リチウムカーボネートの沈殿物は、生産工程に悪い影響を与える。
小さな小片の剥離は表面を荒くし、ボロボロとなって高速度屑を発生させる。そして、加熱エレメントの付着物を通して、加熱力が著しく減少する一方、消費電力は増大する。さらに、追加の過熱エレメントを使用しないと、操作温度を一定に保つことができないという問題があった。
上記目的は、少なくとも下記のステップからなる非導電性の基板(サブストレート)の金属被覆(メタライゼーション)方法によって達成される。
(a)基板を金属含有活性化溶液に接触させ、
(b)次いで、前記活性化溶液に接触させた基板を、
(1)前記活性化溶液の金属により還元される少なくとも1つの金属を含む金属塩と
(2)リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、およびセシウムの内の少なく とも一つの金属と錯体をつくる試剤と
から構成される金属塩溶液に接触させ、
(c)続いて、無電解(カレントフリー)または電解メッキ方法により、前記処理基板 に、金属を被覆(コーティング)する
前記金属塩は、弗化物、塩化物、沃化物、臭化物、硝酸化物、硫化物あるいは、これらの混合から構成される塩の形態のリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、およびセシウムから構成されていることを特徴とする。
前記前処理には、例えば、酸洗い(ピックリング)ステップが含まれる。
コアメタルは、銀、金、プラチナ、あるいはパラジウムの内の少なくとも一つであることを特徴とする。
コロイドメタルは、鉄、錫、鉛、コバルトあるいはゲルマニウムの内の少なくとも一つの金属であることを特徴とする。
活性化溶液の処理の後、処理された基板は、次に、活性化溶液の金属によって還元されることができる少なくとも1つの金属と、
リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウムおよびセシウムの内の少なくとも1つの金属と錯体をつくる試剤と
から構成される金属塩溶液に接触させる。
コロライド金属により還元される金属として、相応に高い標準電極ポテンシャルを持つ金属が用いられる。 このようにして、コロイド金属により還元される。
特にふさわしい金属として、銅、銀、金、ニッケル、パラジウム、プラチナ、ビスマス、およびそれらを混合したものが挙げられる。
すなわち、ふさわしい錯体試剤は、例えば、モノエチアノラミン、EDTA,酒石酸、乳酸、クエン酸、蓚酸、サルチル酸、塩、あるいは上記の誘導体または混合物である。
pH値をセットするために、対応する水酸化物あるいは他のアルカリ試剤及び/または緩衝物質を金属塩溶液に添加する。
このことにより、結果として、無電解(カレントフリー)または電解メッキによる、銅またはニッケルのような金属のコーティングが可能となる。
一方本発明に係る方法はまた、上述したように無電解(カレントフリー)な金属の析出方法に使用される金属塩溶液にも係わる。
このことにより、設備の付着物を特に取り除くメンテナンスによる無駄時間を少なくし、稼働率を上げることができる。
実施例1.
ABS樹脂加工物がスルホクロム溶液に接触され凹凸加工が施される。
次いで、前記加工物は、洗浄され、200mg/lのパラジウム、30g/lの22価の錫クロライドおよび300ml/lの濃縮塩化水素酸から構成されているコロイダル活性溶液で前処理される。
その後、前記加工物は2度洗浄され、次いで、下記の成分から構成されている金属塩溶液に浸され、その結果、非導電性プラスチック表面に薄い導電性フィルムが生成される。
該金属塩溶液の組成
ナトリウム水酸化物 1.0mol/l
リチウムクロライド 0.5mol/l
カリウムナトリウム酒石酸塩 0.4mol/l
銅硫酸塩 0.015mol/l
加工物は再度洗浄され、続いて、酸で表面処理された銅の電解液で、課電処理により、メタライジングされる。
前記工程を通して、ABS樹脂加工物に、実用的で装飾性のある、何の支障もない金属被覆を施すことができる。
ABS樹脂加工物がスルホクロム溶液に接触され凹凸加工が施される。
次いで、前記加工物は、洗浄され、200mg/lのパラジウム、30g/lの22価の錫クロライドおよび300ml/lの濃縮塩化水素酸から構成されているコロイダル活性溶液で前処理される。
その後、前記加工物は2度洗浄され、次いで、下記の成分から構成されている金属塩溶液に浸され、その結果、非導電性プラスチック表面に薄い導電性フィルムが生成される。
該金属塩溶液の組成
ナトリウムクロライド 0.5mol/l
リチウム水酸化物 0.5mol/l
臭化カリウム 0.5mol/l
カリウムナトリウム酒石酸塩 0.4mol/l
銅硫酸塩 0.015mol/l
加工物は再度洗浄され、続いて、酸で表面処理された銅の電解液で、課電処理により、メタライジングされる。
前記工程を通して、ABS樹脂加工物に、実用的で装飾性のある、何の支障もない金属被覆を施すことができる。
本発明の実施により、操業装置(ユニット)の一部、例えば、加熱エレメントに、僅かな付着物を最初に見出したのは、操業開始から一ヶ月後のことであった。
定期的に付着物を取り除くことは、もはや必要がなくなり、メンテナンスなどのデッドタイムを最小化することができた。
Claims (9)
- 少なくとも下記のステップから構成される、非導電性の基板(サブストレート)に金属被覆(メタライゼーション)をする方法であって、
(a)前記基板を金属含有活性化溶液に接触させ、
(b)次いで、前記活性化溶液に接触させた基板を、
(1)前記活性化溶液の金属により還元される少なくとも1つの金属を含む金属塩と
(2)リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、およびセシウムの内の少なく とも一つの金属と錯体をつくる試剤と
から構成される金属塩溶液に接触させ、
(c)続いて、無電解(カレントフリー)または電解メッキ方法により、前記処理基板 に、金属を被覆(コーティング)する
前記金属塩は、弗化物、塩化物、沃化物、臭化物、硝酸化物、硫化物あるいは、これらの混合から構成される塩の形態のリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、およびセシウムから構成されていることを特徴とする非導電性の基板(サブストレート)に金属被覆(メタライゼーション)をする方法。 - 前記金属含有活性化溶液は、コアとしての第一の金属(コアメタル)とそのコアをコロイド状に囲んでいる第二の金属(コロイドメタル)を備えた、金属―金属コロイドから構成され、
前記コアメタルは、銀、金、プラチナ、あるいはパラジウムからなるグループより作られ、前記コロイドメタルは、鉄、錫、鉛、コバルトあるいはゲルマニウムからなるグループより作られることを特徴とする、請求項1に記載された非導電性の基板(サブストレート)に金属被覆(メタライゼーション)をする方法。 - 前記金属塩溶液は、モノエチアノラミン、EDTA,酒石酸、乳酸、クエン酸、蓚酸、サルチル酸、塩、あるいは上記の誘導体または混合物から構成されるグループの結合からなる錯体試剤を有することを特徴とする、請求項1又は2に記載された非導電性の基板(サブストレート)に金属被覆(メタライゼーション)をする方法。
- 前記金属塩溶液のアルカリpH値が、pH10からpH14の間であることを特徴とする、請求項1〜3の何れか1項に記載された非導電性の基板(サブストレート)に金属被覆(メタライゼーション)をする方法。
- 前記金属塩溶液の適切なアルカリpH値が、pH11.5から約pH13.5の間であることを特徴とする、請求項1〜3の何れか1項に記載された非導電性の基板(サブストレート)に金属被覆(メタライゼーション)をする方法。
- 前記金属塩溶液の適切なアルカリpH値が、pH12.5から約pH13.5の間であることを特徴とする、請求項1〜3の何れか1項に記載された非導電性の基板(サブストレート)に金属被覆(メタライゼーション)をする方法。
- 前記基板(サブストレート)を前記金属塩に接触させる温度を、約20℃から約90℃の間に設定することを特徴とする、請求項1〜6の何れか1項に記載された非導電性の基板(サブストレート)に金属被覆(メタライゼーション)をする方法。
- 前記基板(サブストレート)を前記金属塩に接触させる温度を、約30℃から約80℃の間に設定することを特徴とする、請求項1〜6の何れか1項に記載された非導電性の基板(サブストレート)に金属被覆(メタライゼーション)をする方法。
- 前記基板(サブストレート)を前記金属塩に接触させる温度を、約40℃から75℃の間に設定することを特徴とする、請求項1〜6の何れか1項に記載された非導電性の基板(サブストレート)に金属被覆(メタライゼーション)をする方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102005027123 | 2005-06-10 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006342428A true JP2006342428A (ja) | 2006-12-21 |
Family
ID=37036999
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006160572A Pending JP2006342428A (ja) | 2005-06-10 | 2006-06-09 | 非導電性の基板に直接金属被覆する方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060280872A1 (ja) |
EP (1) | EP1734156B1 (ja) |
JP (1) | JP2006342428A (ja) |
KR (1) | KR20060128739A (ja) |
CN (1) | CN1876891B (ja) |
ES (1) | ES2622411T3 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010526205A (ja) * | 2007-05-03 | 2010-07-29 | アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー | 不導性基質へ金属被覆を施す方法 |
JP2013522476A (ja) * | 2010-03-19 | 2013-06-13 | エンソン インコーポレイテッド | 非導電性基板の直接金属化方法 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2305856A1 (en) * | 2009-09-28 | 2011-04-06 | ATOTECH Deutschland GmbH | Process for applying a metal coating to a non-conductive substrate |
CN107132216A (zh) * | 2016-02-29 | 2017-09-05 | 福建大北农水产科技有限公司 | 一种养殖水体氨氮快速检测试剂盒 |
CN105839159B (zh) * | 2016-05-23 | 2018-08-03 | 中山恒亿电镀有限公司 | 一种聚乙烯塑料电镀工艺 |
WO2020201387A1 (en) * | 2019-04-04 | 2020-10-08 | Atotech Deutschland Gmbh | A method for activating a surface of a non-conductive or carbon-fibres containing substrate for metallization |
GB2587662A (en) * | 2019-10-04 | 2021-04-07 | Macdermid Inc | Prevention of unwanted plating on rack coatings for electrodeposition |
WO2023235099A1 (en) * | 2022-06-02 | 2023-12-07 | Lam Research Corporation | Removal of metal salt precipitates in an electroplating tool |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3214292A (en) * | 1962-09-12 | 1965-10-26 | Western Electric Co | Gold plating |
US3403035A (en) * | 1964-06-24 | 1968-09-24 | Process Res Company | Process for stabilizing autocatalytic metal plating solutions |
US3664933A (en) * | 1969-06-19 | 1972-05-23 | Udylite Corp | Process for acid copper plating of zinc |
BE757573A (fr) * | 1969-10-16 | 1971-04-15 | Philips Nv | Depot sans courant de cuivre flexible |
US3619243A (en) * | 1970-02-17 | 1971-11-09 | Enthone | No rerack metal plating of electrically nonconductive articles |
US3874882A (en) * | 1972-02-09 | 1975-04-01 | Shipley Co | Catalyst solution for electroless deposition of metal on substrate |
US4265943A (en) * | 1978-11-27 | 1981-05-05 | Macdermid Incorporated | Method and composition for continuous electroless copper deposition using a hypophosphite reducing agent in the presence of cobalt or nickel ions |
CA1203720A (en) * | 1981-12-30 | 1986-04-29 | Warren R. Doty | Oxidizing agent for acidic accelerator |
US4814205A (en) * | 1983-12-02 | 1989-03-21 | Omi International Corporation | Process for rejuvenation electroless nickel solution |
US4751106A (en) * | 1986-09-25 | 1988-06-14 | Shipley Company Inc. | Metal plating process |
JPH02145771A (ja) * | 1988-11-24 | 1990-06-05 | Hitachi Chem Co Ltd | 無電解銅めっき液建浴用銅濃縮液 |
US5405656A (en) * | 1990-04-02 | 1995-04-11 | Nippondenso Co., Ltd. | Solution for catalytic treatment, method of applying catalyst to substrate and method of forming electrical conductor |
EP0616053B9 (en) * | 1993-03-18 | 2010-09-15 | ATOTECH Deutschland GmbH | Self accelerating and replenishing non-formaldehyde immersion coating method |
US5843517A (en) * | 1997-04-30 | 1998-12-01 | Macdermid, Incorporated | Composition and method for selective plating |
JP3444276B2 (ja) * | 2000-06-19 | 2003-09-08 | 株式会社村田製作所 | 無電解銅めっき浴、無電解銅めっき方法および電子部品 |
US6875866B2 (en) * | 2002-02-21 | 2005-04-05 | Schering Corporation | Process for synthesis of D1 receptor antagonists |
DE10259187B4 (de) * | 2002-12-18 | 2008-06-19 | Enthone Inc., West Haven | Metallisierung von Kunststoffsubstraten und Lösung zum Beizen und Aktivieren |
DE102004026489B3 (de) * | 2004-05-27 | 2005-09-29 | Enthone Inc., West Haven | Verfahren zur Metallisierung von Kunststoffoberflächen |
DE102006005684A1 (de) * | 2006-02-08 | 2007-08-23 | Enthone Inc., West Haven | Verbessertes Verfahren zur Direktmetallisierung von nicht-leitenden Substraten |
-
2006
- 2006-06-09 CN CN200610094568XA patent/CN1876891B/zh active Active
- 2006-06-09 KR KR1020060052013A patent/KR20060128739A/ko not_active Application Discontinuation
- 2006-06-09 ES ES06011977.3T patent/ES2622411T3/es active Active
- 2006-06-09 EP EP06011977.3A patent/EP1734156B1/de active Active
- 2006-06-09 JP JP2006160572A patent/JP2006342428A/ja active Pending
- 2006-06-12 US US11/423,474 patent/US20060280872A1/en not_active Abandoned
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010526205A (ja) * | 2007-05-03 | 2010-07-29 | アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー | 不導性基質へ金属被覆を施す方法 |
JP2013522476A (ja) * | 2010-03-19 | 2013-06-13 | エンソン インコーポレイテッド | 非導電性基板の直接金属化方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1876891B (zh) | 2013-07-03 |
CN1876891A (zh) | 2006-12-13 |
KR20060128739A (ko) | 2006-12-14 |
ES2622411T3 (es) | 2017-07-06 |
EP1734156A1 (de) | 2006-12-20 |
US20060280872A1 (en) | 2006-12-14 |
EP1734156B1 (de) | 2017-03-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2006342428A (ja) | 非導電性の基板に直接金属被覆する方法 | |
JP6298530B2 (ja) | 無電解ニッケルめっき液、及び無電解ニッケルめっき方法 | |
JP6622712B2 (ja) | 非導電性プラスチック表面を金属化するための組成物及び方法 | |
CA2860596C (en) | Electroless nickel plating bath | |
JP2005336614A (ja) | プラスチック表面をめっきするための方法 | |
JP6150822B2 (ja) | 非導電性プラスチック表面の金属化方法 | |
TWI658135B (zh) | 於其他金屬存在下選擇性處理銅的方法 | |
TW583349B (en) | Method for enhancing the solderability of a surface | |
KR20120081107A (ko) | 비전도성 기판에 금속 코팅을 적용하기 위한 프로세스 | |
JP2007177268A (ja) | 無電解ニッケルめっき用貴金属表面活性化液 | |
JP2009024203A (ja) | 電気銅めっき方法 | |
JP3972158B2 (ja) | 無電解パラジウムメッキ液 | |
JP5055496B2 (ja) | 無電解めっき方法 | |
KR102137300B1 (ko) | 철 붕소 합금 코팅들 및 그것의 제조 방법 | |
WO2010023895A1 (ja) | 無電解めっき用センシタイジング液および無電解めっき方法 | |
JP4230813B2 (ja) | 金めっき液 | |
CN105051254A (zh) | 供无电电镀的铜表面活化的方法 | |
JP2018066060A (ja) | 無電解ニッケルめっき浴 | |
JP2023538951A (ja) | パラジウムで活性化することなく銅上に無電解ニッケルを析出させる方法 | |
JP2003293143A (ja) | パラジウム触媒洗浄剤とパラジウム触媒の洗浄方法、及び該洗浄剤を使用した電子部品のめっき方法、並びに電子部品 | |
JP2002180260A (ja) | 無電解ニッケルめっきによるニッケル被膜の形成方法 | |
US20080116076A1 (en) | Method and composition for direct metallization of non-conductive substrates | |
JPH0250990B2 (ja) | ||
JP2004323872A (ja) | 無電解めっき浴 | |
TW202132219A (zh) | 無氰化物之置換鍍金液組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20081105 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090304 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090604 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090708 |